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JP2002293031A - 光記録媒体および該光記録媒体を用いた光記録再生方法 - Google Patents

光記録媒体および該光記録媒体を用いた光記録再生方法

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Publication number
JP2002293031A
JP2002293031A JP2001101992A JP2001101992A JP2002293031A JP 2002293031 A JP2002293031 A JP 2002293031A JP 2001101992 A JP2001101992 A JP 2001101992A JP 2001101992 A JP2001101992 A JP 2001101992A JP 2002293031 A JP2002293031 A JP 2002293031A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
recording medium
optical recording
compound
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001101992A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Sato
勉 佐藤
Yasunobu Ueno
泰伸 植野
Isao Niimura
勲 新村
Mitsutoshi Anzai
光利 安西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hodogaya Chemical Co Ltd
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Hodogaya Chemical Co Ltd
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hodogaya Chemical Co Ltd, Ricoh Co Ltd filed Critical Hodogaya Chemical Co Ltd
Priority to JP2001101992A priority Critical patent/JP2002293031A/ja
Publication of JP2002293031A publication Critical patent/JP2002293031A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来システムに比べて、短波長に発振波長を
有する半導体レーザーを用いる高密度光ディスクシステ
ムに適用可能な耐光性、保存安定性に優れた光記録媒体
用の記録材料を提供するとともに、現状システムで記
録、再生が可能でかつ次世代の高密度光ディスクシステ
ムにおいても再生可能なCD−R媒体用の記録材料の提
供。 【解決手段】 基板上に直接又は下引き層を介して少な
くとも記録層を設けてなる光記録媒体において、記録層
が下記構造式(I)および/または(II)で示される化
合物と金属化合物の配位化合物の少なくとも1種を含有
してなる層であることを特徴とする光記録媒体。 【化1】 【化2】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、700nm以下の
波長で記録再生が可能な記録材料を用いた高密度光記録
媒体に関するものである。
【0002】
【従来技術】基板上に反射層を有する光記録媒体として
コンパクトディスク(CD)規格に対応した記録可能な
CD(CD−R)が商品化されている。記録層に波長7
70〜830nmのレーザ光を照射し、記録層に物理的
あるいは化学的な変化を起こさせ、その反射光を検出す
ることにより情報を記録再生する。最近、より短波長の
半導体レーザの開発が進み、波長630〜685nmの
赤色半導体レーザが実用化され、記録再生用レーザの短
波長化によりビーム径をより小さくすることが可能とな
り、より高密度の光記録媒体が作製されている。現在の
追記型光ディスクシステム(WORM、CD−R)は、
使用レーザの発振波長が770〜790nmにあり、光
記録媒体は上記波長で記録、再生が可能なように設定さ
れている。今後、情報量の増大に伴ない、記録媒体の大
容量化への流れは必須である。従って記録、再生に用い
るレーザ波長が短波長化することも必然的に起こってく
ることが容易に予想される。しかしながら、耐光性、保
存安定性に優れ700nm以下のレーザを用いた光ピッ
クアップで記録、再生が可能な記録材料は、未だ開発さ
れていないのが現状である。現在のCD−Rディスクシ
ステムは、使用レーザの発振波長が770〜790nm
で、記録、再生が行なえるように構成されている。この
システムも同様に、大容量化、記録、再生波長の短波長
化は必須である。現在のCD及びCD−ROMは、基板
自体の凹凸上にAlがコーティングしてあり、Alの反
射率の波長依存性が小さいため、将来、レーザ波長が短
波長化されても再生は可能である。しかしながら、CD
−Rは記録層に680〜750nmに最大吸収波長を有
する色素を用い、その光学定数及び膜厚構成から770
〜790nmに高い反射率が得られる様に設定してある
ため、700nm以下の波長域では反射率が極めて低
く、レーザ波長の短波長化には対応できず、現在のCD
−Rシステムで記録、再生している情報が、将来のシス
テムでは再生出来ないという事態を招く。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来シ
ステムに比べて、短波長に発振波長を有する半導体レー
ザを用いる高密度光ディスクシステムに適用可能な耐光
性、保存安定性に優れた光記録媒体用の記録材料を提供
するとともに、現状のシステムで記録、再生が可能でか
つ次世代の高密度光ディスクシステムにおいても再生可
能なCD−R媒体用の記録材料を提供することを目的と
する。また、本発明は上記DVDシステムに比べて、短
波長に発振波長を有する青色半導体レーザを用いる高密
度光ディスクシステムに適用可能な有機溶剤に対する溶
解性が高く、耐光性、保存安定性に優れた光記録媒体用
の記録材料、及び現状のDVDシステムで記録、再生が
可能で、かつ次世代の高密度光ディスクシステムにおい
ても再生のみは可能なDVD−R記録媒体の記録材料、
および該記録材料を用いた記録再生方法を提供すること
を目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者等は前記課題を
解決するための手段について鋭意検討した結果、特定の
アゾ金属キレート色素を主成分とする記録層とすること
により、発振波長700nm以下の半導体レーザを用い
る高密度光ディスクシステムに適用可能なことを見出
し、さらに本発明の化合物を現在のCD−R用記録材料
として用いられている有機色素と混合することにより現
状のシステムで記録再生が出来、上記高密度レーザー光
でも再生可能であることを見出し本発明に至った。
【0005】本発明の光記録媒体の記録層に用いる有機
色素化合物としては、下記構造式(I)および/または
(II)で示される化合物と金属化合物との配位化合物が
挙げられる。
【化3】 (式中、X、X、X、Xは水素原子、ハロゲン
原子、ニトロ基、スルホンアミド基、炭素数1〜5のア
ルキル基またはアルコキシ基を表わし、X、X、X
、Xはそれぞれ同じであっても異なっていてもよ
い。R、Rはそれぞれ独立して水素原子、置換基を
有していても良い炭素数1〜8のアルキル基またはアリ
ール基を表わす。)
【化4】 〔式中、X、X、X、Xは水素原子、ハロゲン
原子、ニトロ基、スルホンアミド基、炭素数1〜5のア
ルキル基またはアルコキシ基を表わし、X、X、X
、Xはそれぞれ同じであっても異なっていてもよ
い。Y、Y、Y、Y、Y、Yは水素原子、
置換基を有していても良い炭素数1〜8のアルキル基、
置換基を有していても良いアリール基、アミノ基、置換
基を有していても良いアルキルアミノ基、アセチル基、
アセチルアミノ基、ヒドロキシ基またはカルボキシル基
を表わし、それぞれ同じであっても異なっていてもよ
い。A、Bはそれぞれ独立して、−OH、−OCH
−NH、−SH、−NHR(Rは、炭素数1〜3
の低級アルキル基)または−COOHを表わす。〕
【0006】これらの化合物の一般的な合成法として
は、アニリン誘導体を酸の存在下で亜硝酸ナトリウムを
加えてジアゾ化し、これにN,N′−ジアルキルアニリ
ン誘導体を加えてカップリングすればよい。次いで得ら
れたモノアゾ染料を、水やエチレングリコール等の溶媒
中で金属化合物を加えて加熱撹拌することにより金属配
位化合物を得ることが出来る。前記配位可能な金属化合
物としては、銅、銀、金、ニッケル、パラジウム、亜
鉛、クロム、マソガン、鉄、コバルト、ルテニウム、ロ
ジウム、イリジウム、白金、モリブデン、タングステン
などの有機無機塩化合物であり、好適にはクロム、鉄、
コバルト、ニッケル、亜鉛、銅化合物である。本発明の
光記録媒体の構成としては図1に示す追記型光ディスク
の構造(図1のものを2枚貼り合わせたいわゆるエアー
サンドイッチ構造としても良く、密着貼り合わせ構造と
しても良い)、図2に示す高反射率構造(CD−R構造
としても良く、密着貼り合わせ構造としても良い)、あ
るいは図3に示す2枚の基板間に記録層を設ける構造
(DVD−R構造)としても良い。
【0007】以下、本発明の光記録媒体の構成とその構
成部材について詳細に説明する。 <記録層>記録層は、レーザ光の照射により何らかの光
学的変化を生じさせ、その変化により情報を記録するも
のであって、この記録層中には本発明の前記構造式
(I)または(II)で示される化合物と金属化合物との
配位化合物(色素)の少なくとも1種を含有しているこ
とが必要であり、記録層の形成に当たって2種以上の組
み合わせで用いても良い。さらに、本発明の上記配位化
合物(色素)は、光学特性、記録感度、信号特性などの
向上の目的で他の有機色素及び金属、金属化合物と混合
又は積層化して用いても良い。他の有機色素の例として
は、ポリメチン色素、ナフタロシアニン系、フタロシア
ニン系、スクアリリウム系、クロコニウム系、ピリリウ
ム系、ナフトキノン系、アントラキノン系(インダンス
レン系)、キサンテン系、トリフェニルメタン系、アズ
レン系、テトラヒドロコリン系、フェナンスレン系、ト
リフェノチアジン系各染料及び、金属錯体化合物などが
挙げられる。金属、金属化合物の例としてはIn、T
e、Bi、Se、Sb、Ge、Sn、Al、Be、Te
、SnO、As、Cd、などが挙げられ、それぞれ
を分散混合あるいは積層の形態で用いることができる。
【0008】特に前記本発明の配位化合物(色素)と6
80nm〜750nmに最大吸収波長を有する色素とを
混合することにより、現在のDVDシステムで記録、再
生が可能で、かつ青色レーザで再生可能なDVD−R媒
体を構成することができる。前記680nm〜750n
mに最大吸収波長を有する色素としては、DVD−Rに
使用可能な色素をそのまま使用できる。また、上記染料
中に高分子材料、例えばアイオノマー樹脂、ポリアミ
ド、ビニル系樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴム
などの種々の材料もしくはシランカップリング剤などを
分散混合しても良いし、特性改良の目的で安定剤(例え
ば遷移金属錯体)、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止
剤、界面活性剤、可塑剤などを一緒に用いてもよい。
【0009】記録層の形成は、蒸着、スパッタリング、
CVDまたは溶剤塗布などの通常の手段によって行うこ
とができる。塗布法を用いる場合には上記染料などを有
機溶剤に溶解して、スプレー、ローラーコーティング、
ディピング、スピンコーティングなどの慣用のコーティ
ング法によって行うことが出来る。用いられる有機溶媒
としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール
などのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサノンなどのケトン類、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミ
ド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、エ
チレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル
類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、クロロ
ホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、四塩化炭素、
トリクロロエタンなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類、
ベンゼン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼン、などの芳香族類、メトキシエタノール、エトキ
シエタノールなどのセロソルブ類、ヘキサン、ペンタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの炭化
水素類などが挙げられる。記録層の膜厚は、100Å〜
10μm、好ましくは200〜2000Åが適当であ
る。
【0010】次に、本発明で使用される前記一般式
(I)および(II)に相当する具体的化合物として、下
記化合物No.1〜32および41〜68を示す。ただ
し、本発明で使用する化合物はこれらに限定されるもの
ではない。
【化5】
【0011】
【表1】
【0012】
【表2】
【0013】
【表3】
【0014】
【表4】
【0015】
【表5】
【0016】
【表6】
【0017】
【表7】
【0018】
【表8】
【0019】
【化6】
【0020】
【表9】
【0021】
【表10】
【0022】
【表11】
【0023】
【表12】
【0024】
【表13】
【0025】
【表14】
【0026】上記配位化合物(色素)の少なくとも1種
と混合される680〜750nmに最大吸収波長を有す
る好ましい色素としては、次のi〜iiiのものが挙げら
れる。 i.下式(1)で示されるシアニン色素
【化7】 (式中、R、R:炭素数1〜3のアルキル基。 R、R:置換基を有していても良い炭素数1〜6の
アルキル基。 X:酸アニオン。 さらに、ベンゼン環は他の芳香族環と縮合されていても
良く、アルキル基、ハロゲン、アルコキシ基、アシル基
で置換されていても良い。)
【0027】ii.下式(2)または(3)で示されるフ
タロシアニン色素
【化8】 (式中、M:Ni、Pd、Cu、Zn、Co、Mn、
Fe、TiO、VO。X〜X:α位の−OR、−S
R、又は水素原子であって、全てが水素原子となること
はない。 R:置換基を有していても良い炭素数3〜12の直鎖ア
ルキル基、置換基を有していても良い分岐アルキル基、
置換基を有していても良いシクロアルキル基、又は置換
基を有していても良いアリール基。ベンゼン環は、前記
〜X以外に置換基を有していても良く、その場合
のベンゼン環の置換基は水素又はハロゲンである。)
【0028】
【化9】 (式中、M:Si、Ge、In、Snを表す。 X〜X12:α位の−OR、−SR、又は水素原子で
あって、全てが水素原子となることはない。Rは前記
(2)に同じ。 Y、Y:−OSiRaRbRc、−OCORa、−
OPORaRb。 Ra、Rb、Rc:炭素数1〜10のアルキル基、アリ
ール基。 ベンゼン環は前記X〜X12以外に置換基を有してい
ても良く、その場合のベンゼン環の置換基は水素又はハ
ロゲンである。)
【0029】iii.アゾ金属キレート化合物 下式(4)で示されるアゾ系化合物と金属とのアゾ金属
キレート化合物の1種又は2種以上であり、金属の好ま
しい例としてはNi、Pt、Pd、Co、Cu、Znな
どが挙げられる。
【化10】 (式中、Aはそれが結合している炭素原子及び窒素原子
と一緒になって複素環を形成する残基を表わし、Bはそ
れが結合している2つの炭素原子と一緒になって芳香族
環又は、複素環を形成する残基を表わす。Xは活性水素
を有する基を表わす。)
【0030】本発明の配位化合物(色素)と680nm
〜750nmに最大吸収波長を有する色素との混合比
(重量比)は、前者:後者=10:100〜90:10
0、好ましくは40:100〜20:100とし、記録
層の厚みは、500Å〜5μm、好ましくは1000〜
5000Åとする。
【0031】<基板>基板は、基板側より記録再生を行
なう場合のみ使用レーザに対して透明とし、記録層側か
ら記録再生を行なう場合は透明である必要はない。基板
材料としては、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリアミ
ド、ポリカーボネート、ポリオレフィン、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリイミドなどのプラスチック、ガ
ラス、セラミック、金属などを用いることができる。な
お、基板の表面にトラッキング用の案内溝や案内ピッ
ト、さらにアドレス信号などのプリフォーマットなどが
形成されていても良い。
【0032】<下引き層>下引き層は、(a)接着性の
向上、(b)水又はガスなどのバリアー、(c)記録層
の保存安定性の向上、(d)反射率の向上、(e)溶剤
からの基板の保護、(f)案内溝、案内ピット、プレフ
ォーマットの形成などを目的として使用される。(a)
の目的に対しては、アイオノマー樹脂、ポリアミド、ビ
ニル系樹脂、天然樹脂、天然高分子、シリコーン、液状
ゴム等の種々の高分子物質、及びシランカップリング剤
等を用いることができ、(b)及び(c)の目的に対し
ては、前記高分子材料以外に、SiO、MgF、S
iO、TiO、ZnO、TiN、SiN等の無機化合
物、Zn、Cu、Ni、Cr、Ge、Se、Au、A
g、Al等の金属又は半金属を用いることができる。ま
た(d)の目的に対しては、Al、Ag等の金属や、メ
チン染料、キサンテン系染料等の金属光沢を有する有機
薄膜を用いることができ、(e)及び(f)の目的に対
しては、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂等
を用いることができる。下引き層の膜厚は、0.01〜
30μm、好ましくは0.05〜10μmとする。
【0033】<金属反射層>反射層材料としては、単体
で高反射率の得られる腐食され難い金属や半金属等が挙
げられ、具体例としては、Au、Ag、Cr、Ni、A
l、Fe、Sn等が挙げられるが、反射率や生産性の点
からAu、Ag、Alが最も好ましい。また、これらの
金属や半金属は単独でも2種の合金として用いてもよ
い。反射層の形成法としては、蒸着、スッパタリング等
が挙げられ、膜厚は50〜5000Å、好ましくは10
0〜3000Åとする。
【0034】<保護層、基板表面ハードコート層>保護
層又は基板面ハードコート層は、(a)記録層(反射吸
収層)の傷、ホコリ、汚れ等からの保護、(b)記録層
(反射吸収層)の保存安定性の向上、(c)反射率の向
上、等を目的として使用される。材料としては、前記中
間層に示したものを用いることができる。また、無機材
料としてSiO、SiO等も用いることができ、有機
材料としてポリメチルアクリレート、ポリカーボネー
ト、エポキシ樹脂、ポリスチレン、ポリエステル、ビニ
ル樹脂、セルロース、脂肪族炭化水素樹脂、芳香属炭化
水素樹脂、天然ゴム、スチレンブタジエン樹脂、クロロ
プレンゴム、ワックス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジ
ン等の熱軟化性、熱溶融性樹脂も用いることができる。
前記材料のうち保護層又は基板表面ハードコート層に最
も好ましいのは生産性に優れた紫外線硬化樹脂である。
保護層又は基板面ハードコート層の膜厚は、0.01〜
30μm、好ましくは0.05〜10μmとする。本発
明において、前記中間層、保護層及び基板面ハードコー
ト層には、記録層の場合と同様に、安定剤、分散剤、難
燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤等を含有
させることができる。
【0035】<接着層>透明な高分子化合物が使用でき
る。本発明で特に好ましいのは、紫外線硬化型接着剤、
ホットメルト型(熱溶融型)接着剤、または粘着材であ
る。紫外線硬化型接着剤は、紫外線照射によってラジカ
ル重合を開始して硬化する接着剤である。その組成は、
一般的に(1)アクリル系オリゴマー、(2)アクリル
系モノマー、(3)光重合開始剤、(4)重合禁止剤か
らなるもので、オリゴマーはポリエステル系、ポリウレ
タン系、エポキシ系アクリル酸エステル等で、光重合開
始剤はベンゾフェノン、ベンゾインエーテル等が使用で
きる。ホットメルト型接着剤は、液状接着剤が溶剤揮散
や反応によって硬化し接着力が発現するのに対し、常温
固体の熱可塑性樹脂の熱溶融、冷却固化の物理変化によ
り接着力が発現するものである。ホットメルト接着剤と
しては、EVA、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリ
ウレタン系等を用いることができる。粘着材は、常温で
粘弾性を持ち、被着材と基材の両方に強く接着し、接着
後も長期間凝集力を持つものである。粘着材としては、
ポリビニルエーテル、ポリイソブチレン、SBR、ブチ
ルゴム、クロロプレンゴム、塩ビ−酢ビ共重合体、塩化
ゴム、ポリビニルブチラール等を用いることができる。
【0036】
【実施例】以下、本発明の参考例、実施例および比較例
を示す。但し、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。
【0037】参考例 〔化合物(1)のニッケル配位化
合物合成方法〕 水150mlに15.4gの4−ニトロ−2−アミノフ
ェノールを仕込み、撹拌しなから35%塩酸23.6g
を注加した。10℃以下に冷却しながら、水20ml、
亜硝酸ナトリウム7.2gの水溶液を加え、同温度でさ
らに2時間撹拌した後、過剰の亜硝酸をスルフアミン酸
により分解させ、ジアゾニウム液を調整した。次に、水
150mlに、3−ヒドロキシ−N,N′−ジエチルア
ニリン17.1gを仕込み、撹拌しながら24%カセイ
ソーダ20g、酢酸ソーダ13.6gを加えて溶解し
た。この中に砕氷を加え、10℃以下に保ちながら前記
ジアゾニウム液を注加しカップリング反応を行い、反応
終了後、濾別してウットモノアゾ染料を得た。続いてこ
のウットモノアゾ染料をエチレングリコール150ml
に分散させ、これに塩化ニッケル7gを水50mlに溶
解した溶液を加えた。カセイソーダでpHを8〜10に
調整し、90〜100℃で約10時間反応させてクロム
錯塩染料を得た。得られたニッケル配位化合物は、過剰
の無機塩やアミン等の不純物を含むので、各種溶媒によ
る洗浄、再結晶、またはカラムクロマトグラム等により
精製して使用することが好ましい。
【0038】実施例1 深さ1400Å、半値幅0.38μm、トラックピッチ
1.0μmの案内溝を有する、厚さ0.6mmの射出成
形ポリカーボネート基板上に、化合物No.2のメチル
セロソルブ溶液をスピンナー塗布して厚さ530Åの記
録層を形成し、光記録媒体を得た。
【0039】実施例2〜5 実施例1で用いた化合物No.2に代えて、化合物N
o.26、43、51、59を用いた点以外は実施例1
と全く同様にして光記録媒体を得た。
【0040】比較例1 実施例1で用いた化合物No.2に代えて、次に示す化
合物(T)を用いた点以外は実施例1と全く同様にして
光記録媒体を得た。化合物(T)はCD−Rに使用され
ている色素である。
【化11】
【0041】上記実施例1〜5および比較例1の光記録
媒体について、下記の条件で評価試験を行なった。結果
を表15に示す。 〈記録条件〉 ・レーザ発振波長:635nm ・記録周波数:3.75MHz ・記録線速:3.0m/sec 〈再生条件〉 ・レーザ発振波長:635nm ・再パワー:0.5〜0.7mWの連続光 ・スキャニングバンド幅:30KHz 〈耐光テスト条件〉 ・耐光テスト:4万Lux、Xe光、20時間連続照射 ・保存テスト:85℃ 85% 720時間放置
【0042】
【表15】
【0043】実施例6 深さ1600Å、半値幅0.38μm、トラックピッチ
0.8μmの案内溝を有する厚さ0.6mmの射出成形
ポリカーボネート基板上に、化合物例No.1を、メチ
ルシクロヘキサン、2−メトキシエタノール、メチルエ
チルケトン及びテトラヒドロフランの混合溶媒に溶解し
た液をスピンナー塗布し、厚さ680Åの有機色素層を
形成し、次いで、スパッタ法により厚さ2000Åの銀
の反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリ
マーからなる厚さ5μmの保護層を設けて光記録媒体を
得た。
【0044】実施例7〜11 実施例6で用いた化合物No.1に代えて、化合物N
o.18、21、32、58、62を用いた点以外は実
施例6と全く同様にして光記録媒体を得た。
【0045】比較例2 実施例6で用いた化合物No.1に代えて、比較例1の
化合物(T)を用いた点以外は実施例6と全く同様にし
て光記録媒体を得た。
【0046】比較例3 実施例6で用いた化合物No.1に代えて、下式(U)
の化合物を用いた点以外は実施例6と全く同様にして光
記録媒体を得た。下式(U)の化合物はCD−Rに使用
されている色素である。
【化12】 {式中、RはOCH〔CH(CHの基を表わ
す。}
【0047】上記実施例6〜11および比較例2〜3の
光記録媒体について、下記の条件で評価試験を行なっ
た。結果を表16に示す。 〈記録条件〉 ・レーザ発振波長:635nm ・記録周波数:3.75MHz ・記録線速:3.0m/sec 〈再生条件〉 ・レーザ発振波長:635nm ・再生パワー:0.5〜0.7mWの連続光 ・スキャニングバンド幅:30KHz
【0048】
【表16】
【0049】実施例12 深さ1000Å、半値幅0.40μm、トラックピッチ
0.1μmの案内溝を有する厚さ1.2mmの射出成形
ポリカーボネート基板上に、化合物No.1と比較例1
の化合物(T)との重量比1:0.7の混合物をメチル
シクロヘキサン、2−メトキシエタノール、メチルエチ
ルケトンおよびテトラヒドロフランの混合溶媒に溶解し
た液をスピンナー塗布し、厚さ1600Åの有機色素層
を形成し、次いで、スパッタ法により厚さ2000Åの
金の反射層を設け、さらにその上にアクリル系フォトポ
リマーからなる厚さ5μmの保護層を設けて光記録媒体
を得た。
【0050】実施例13〜14 実施例12で用いた化合物No.1に代えて、化合物N
o.18、59を用いた点以外は実施例12と全く同様
にして光記録媒体を得た。
【0051】実施例15〜16 実施例12で用いた化合物No.1に代えて、化合物N
o.2、62と前記比較例3の化合物(U)の混合物を
用いた点以外は実施例12と全く同様にして光記録媒体
を得た。
【0052】比較例4〜5 実施例12で用いた化合物No.1に代えて、前記比較
例1の化合物(T)のみ、および比較例3の化合物
(U)のみを用いた点以外は実施例12と同様にして光
記録媒体を得た。
【0053】上記実施例12〜16および比較例4〜5
の光記録媒体について、レーザ発振波長780nm、記
録周波数3.75MHz、記録線速1.4m/secで
記録し、また、レーザ発振波長635nmおよび780
nm、再生パワー:0.5〜0.7mWの連続光、スキ
ャニングバンド幅:30KHzの半導体レーザの連続光
で再生した。その結果を表17に示す。
【0054】
【表17】
【0055】
【効果】本発明で使用する配位化合物(色素)は、塗布
によるコーティングが可能で、耐光性、保存安定性に優
れており、該化合物を用いることにより工業的に生産可
能な青色レーザ対応高密度光ディスクを提供できる。請
求項1の発明により、700nm以下の波長域のレーザ
光で記録、再生が可能な耐光性、保存安定性に優れた光
記録媒体を提供できる。請求項2の発明により、現状シ
ステムでのCD−Rとして使用でき、かつ次世代の高密
度光ディスクシステムとなっても、記録された情報を再
生可能な光記録媒体を提供できる。請求項3および請求
項4の発明は、請求項2の光記録媒体の最適構成であっ
て、高品位の信号特性を持つ記録が可能となる。請求項
5の発明により、生産性の高い、高反射率、高密度記録
が可能な光記録媒体を提供できる。請求項6の発明によ
り、高密度の記録、再生が可能となる。請求項7の発明
により、現状システムでのCD−Rとして使用でき、か
つ次世代の高密度光ディスクシステムとなっても、記録
された情報の再生が可能な記録、再生方法を提供でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】通常の追記型光記録媒体の構成の模式的断面図
である。 (a)基板1上に記録層2を有する型のものを示す図で
ある。 (b)前記(a)の基板1上に下引き層3を有する型の
ものを示す図である。 (c)前記(b)の記録層2上に保護層4を有する型の
ものを示す図である。 (d)前記(c)の基板1裏面にハードコート層5を有
する型のものを示す図である。
【図2】高反射率光記録媒体(CD−R)の媒体構成の
模式的断面図である。 (a)基板1上に記録層2、金属反射層6および保護層
4を有する型のものを示す図である。 (b)前記(a)の基板1上に下引き層3を有する型の
ものを示す図である。 (c)前記(b)の基板1裏面にハードコート層5を有
する型のものを示す図である。
【図3】大容量高反射率光記録媒体(DVD−R)用の
媒体構成の模式的断面図である。 (a)基板1上に記録層2、金属反射層6、接着剤層9
および基板8を有する型のものを示す図である。 (b)前記(a)の基板1上に下引き層3を有する型の
ものを示す図である。 (c)前記(b)の基板1の裏面にハードコート層5を
有し、かつ基板8上面にハードコート層5を有する型の
ものを示す図である。 (d)基板1に半透明反射層7、接着剤層9、記録層
2、金属反射層6および基板8を有する型のものを示す
図である。
【符号の説明】
1 基板(下基板) 2 記録層 3 下引き層 4 保護層 5 ハードコート層 6 金属反射層 7 半透明反射層 8 基板(上基板) 9 接着剤層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09B 45/22 G11B 7/004 Z G11B 7/004 7/24 516 7/24 516 538E 538 B41M 5/26 Y (72)発明者 植野 泰伸 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 新村 勲 神奈川県川崎市幸区堀川町66番2 興和川 崎西口ビル11階 保土谷化学工業株式会社 内 (72)発明者 安西 光利 神奈川県川崎市幸区堀川町66番2 興和川 崎西口ビル11階 保土谷化学工業株式会社 内 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA12 EA32 EA40 EA48 FA01 FA12 FA14 FA23 FA37 FB42 FB43 GA07 5D029 JA04 JB47 JC03 JC17 5D090 AA01 BB03 CC12 DD02 FF08 FF11

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に直接又は下引き層を介して少な
    くとも記録層を設けてなる光記録媒体において、記録層
    が下記構造式(I)および/または(II)で示される化
    合物と金属化合物との配位化合物(色素)の少なくとも
    1種を含有してなる層であることを特徴とする光記録媒
    体。 【化1】 (式中、X、X、X、Xは水素原子、ハロゲン
    原子、ニトロ基、スルホンアミド基、炭素数1〜5のア
    ルキル基またはアルコキシ基を表わし、X、X、X
    、Xはそれぞれ同じであっても異なっていてもよ
    い。R、Rはそれぞれ独立して水素原子、置換基を
    有していても良い炭素数1〜8のアルキル基またはアリ
    ール基を表わす。) 【化2】 〔式中、X、X、X、Xは水素原子、ハロゲン
    原子、ニトロ基、スルホンアミド基、炭素数1〜5のア
    ルキル基またはアルコキシ基を表わし、X、X、X
    、Xはそれぞれ同じであっても異なっていてもよ
    い。Y、Y、Y、Y、Y、Yは水素原子、
    置換基を有していても良い炭素数1〜8のアルキル基、
    置換基を有していても良いアリール基、アミノ基、置換
    基を有していても良いアルキルアミノ基、アセチル基、
    アセチルアミノ基、ヒドロキシ基またはカルボキシル基
    を表わし、それぞれ同じであっても異なっていてもよ
    い。A、Bはそれぞれ独立して、−OH、−OCH
    −NH、−SH、−NHR(Rは、炭素数1〜3
    の低級アルキル基)または−COOHを表わす。〕
  2. 【請求項2】 前記記録層が前記配位化合物の少なくと
    も1種と680〜750nmに最大吸収波長を有する色
    素との混合層からなるものである請求項1記載の光記録
    媒体。
  3. 【請求項3】 前記金属化合物がCr、Fe、Niおよ
    びZnよりなる群から選ばれた少なくとも1種の金属の
    化合物である請求項1または2記載の光記録媒体。
  4. 【請求項4】 前記680〜750nmに最大吸収波長
    を有する色素がトリメチンのシアニン色素、ポルフィラ
    ジン色素およびアゾ金属キレート化合物よりなる群から
    選ばれた少なくとも1種の色素である請求項2または3
    記載の光記録媒体。
  5. 【請求項5】 さらに、Al、AgまたはAuからなる
    反射層を有する請求項1〜4のいずれかに記載の光記録
    媒体。
  6. 【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載の光記録
    媒体に対し、630〜690nmの再生波長で再生する
    ことを特徴とする記録再生方法。
  7. 【請求項7】 請求項1〜5のいずれかに記載の光記録
    媒体に対し、770〜810nmの記録波長で記録し、
    770〜810nmおよび630〜685nmの再生波
    長で再生することを特徴とする記録再生方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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