JP2002290024A - Flux coating method and flux coating device - Google Patents
Flux coating method and flux coating deviceInfo
- Publication number
- JP2002290024A JP2002290024A JP2001085375A JP2001085375A JP2002290024A JP 2002290024 A JP2002290024 A JP 2002290024A JP 2001085375 A JP2001085375 A JP 2001085375A JP 2001085375 A JP2001085375 A JP 2001085375A JP 2002290024 A JP2002290024 A JP 2002290024A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flux
- tank
- solvent
- amount
- concentration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000004907 flux Effects 0.000 title claims abstract description 253
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 83
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 32
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical group CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000007865 diluting Methods 0.000 claims description 6
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 abstract description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 6
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 29
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 19
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100038080 B-cell receptor CD22 Human genes 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000884305 Homo sapiens B-cell receptor CD22 Proteins 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 生産性に優れる方法でフラックスの濃度をほ
ぼ一定に保てるフラックス塗布方法及びフラックス塗布
装置を提供することにある。
【解決手段】 フラックス塗布方法は、原液が揮発性の
溶剤で薄められてなるフラックス20に、ハンダ付け母
材12を浸漬し、浸漬工程に伴って変化したフラックス
20の濃度を戻すのに必要な量の溶剤を自動的に補充す
ることを含み、濃度を戻すのに必要な量は、予め行われ
た測定に基づいて決められる。
(57) [Problem] To provide a flux coating method and a flux coating apparatus capable of maintaining a flux concentration almost constant by a method excellent in productivity. SOLUTION: The flux coating method is necessary for immersing a soldering base material 12 in a flux 20 in which a stock solution is diluted with a volatile solvent, and for returning the concentration of the flux 20 changed during the immersion process. The amount required to return the concentration, including automatically replenishing the amount of solvent, is determined based on previously performed measurements.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、フラックス塗布方
法及びフラックス塗布装置に関する。The present invention relates to a flux coating method and a flux coating apparatus.
【0002】[0002]
【発明の背景】導電部材同士の接合においては、ハンダ
を介して両者を接合する場合が多い。その場合、例え
ば、導電部材にハンダを塗布する前に、フラックスを塗
布することが知られている。フラックスは、原液が溶剤
で薄められてできている。そして、フラックスは、ハン
ダを良好な状態で塗布するため、導電部材を浸漬させる
ごとに、常に一定の濃度に保たれていることが好まし
い。BACKGROUND OF THE INVENTION When joining conductive members, they are often joined via solder. In that case, for example, it is known to apply a flux before applying the solder to the conductive member. The flux is made by diluting a stock solution with a solvent. The flux is preferably maintained at a constant concentration every time the conductive member is immersed in order to apply the solder in a good condition.
【0003】従来、フラックスの濃度を一定に保つた
め、導電部材を浸漬させる前に、フラックスの濃度を実
際に測定し、その測定結果に基づいて適量の原液又は溶
剤を補充していた。これによれば、フラックス塗布工程
を行っている間に、実際にフラックスの濃度を測定する
ので、その間、工程を中断する必要があり、生産性が良
いとはいえなかった。Conventionally, in order to keep the flux concentration constant, the flux concentration was actually measured before the conductive member was immersed, and an appropriate amount of a stock solution or solvent was replenished based on the measurement result. According to this, the flux concentration is actually measured while the flux applying step is being performed, so that the step has to be interrupted during that time, and the productivity cannot be said to be good.
【0004】本発明はこの問題点を解決するためのもの
であり、その目的は、生産性に優れる方法でフラックス
の濃度をほぼ一定に保てるフラックス塗布方法及びフラ
ックス塗布装置を提供することにある。An object of the present invention is to solve this problem, and an object of the present invention is to provide a flux coating method and a flux coating apparatus capable of maintaining a substantially constant flux concentration by a method excellent in productivity.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】(1)本発明に係るフラ
ックス塗布方法は、原液が揮発性の溶剤で薄められてな
るフラックスに、ハンダ付け母材を浸漬し、前記浸漬工
程に伴って変化した前記フラックスの濃度を戻すのに必
要な量の前記溶剤を自動的に補充することを含み、前記
濃度を戻すのに必要な量は、予め行われた測定に基づい
て決められる。(1) In a flux coating method according to the present invention, a soldering base material is immersed in a flux obtained by diluting an undiluted solution with a volatile solvent, and the flux changes with the immersion step. Automatically replenishing the amount of the solvent necessary to return the concentration of the flux, wherein the amount required to return the concentration is determined based on previously performed measurements.
【0006】本発明によれば、予め行われた測定に基づ
いて、必要な量の溶剤を自動的に補充するので、工程中
に実際に濃度を測定しなくても、フラックスの濃度を元
に戻すことができる。そのため、生産性に優れた方法
で、所定の濃度に保たれたフラックスを塗布することが
できる。According to the present invention, the required amount of solvent is automatically replenished based on the measurement performed in advance, so that the flux concentration can be determined based on the flux concentration without actually measuring the concentration during the process. You can go back. Therefore, a flux maintained at a predetermined concentration can be applied by a method excellent in productivity.
【0007】(2)このフラックス塗布方法において、
前記溶剤の補充量は、バルブの開口時間にほぼ比例し、
前記補充工程で、前記バルブの開口時間を制御してもよ
い。(2) In this flux coating method,
The replenishment amount of the solvent is almost proportional to the opening time of the valve,
In the refilling step, the opening time of the valve may be controlled.
【0008】これによれば、バルブの開口時間を制御す
ることで溶剤の補充量を調整するので、簡単に必要な量
の溶剤を補充することができる。According to this, the amount of solvent to be replenished is adjusted by controlling the opening time of the valve, so that the required amount of solvent can be easily replenished.
【0009】(3)このフラックス塗布方法において、
前記フラックスは、フラックス槽に入れられ、前記フラ
ックス槽は、それよりも外周が小さく、かつ、底の浅い
フラックス補助槽を内側に有し、前記フラックス補助槽
は、前記フラックス槽の上下にシフト可能であって、下
部にシフトしたときに前記フラックス槽の前記フラック
スで満たされ、上部にシフトしたときに前記フラックス
槽の第1の液面よりも高い位置に第2の液面を有し、前
記浸漬工程で、前記フラックス補助槽が上部にシフトし
たときに、前記母材を前記第2の液面に浸漬させてもよ
い。(3) In this flux coating method,
The flux is put into a flux tank, and the flux tank has a smaller outer circumference and a shallow bottom flux auxiliary tank inside, and the flux auxiliary tank can be shifted up and down the flux tank. Having a second liquid level at a position higher than a first liquid level of the flux tank when shifted upward and filled with the flux of the flux tank when shifted upward. In the immersion step, when the flux auxiliary tank shifts upward, the base material may be immersed in the second liquid level.
【0010】これによれば、母材を浸漬させる第2の液
面は、母材を浸漬させるごとに一定の高さに配置される
ので、母材の所定の部分に正確にフラックスを塗布する
ことができる。また、フラックス補助槽を上下にシフト
させることによって、原液と溶剤を均一に混ぜ合わせる
ことができる。したがって、フラックスを、その成分を
偏らせずに、母材に塗布することができる。[0010] According to this, the second liquid level on which the base material is immersed is arranged at a constant height every time the base material is immersed, so that the flux is applied accurately to a predetermined portion of the base material. be able to. Also, by shifting the flux auxiliary tank up and down, the stock solution and the solvent can be uniformly mixed. Therefore, the flux can be applied to the base material without biasing its components.
【0011】(4)このフラックス塗布方法において、
前記母材は、テープに形成された配線であってもよい。(4) In this flux coating method,
The base material may be a wiring formed on a tape.
【0012】(5)このフラックス塗布方法において、
前記溶剤は、イソプロピルアルコールであってもよい。(5) In this flux coating method,
The solvent may be isopropyl alcohol.
【0013】(6)本発明に係るフラックス塗布装置
は、原液が揮発性の溶剤で薄められてなるフラックスが
入れられたフラックス槽と、前記フラックス槽に前記溶
剤を補充する溶剤補充手段と、を含み、前記溶剤補充手
段は、ハンダ付け母材を浸漬することに伴って変化する
前記フラックスの濃度を戻すのに必要な量の前記溶剤を
自動的に補充し、前記濃度を戻すのに必要な量は、予め
行われた測定に基づいて決められる。(6) The flux coating apparatus according to the present invention comprises: a flux tank containing a flux obtained by diluting an undiluted solution with a volatile solvent; and a solvent replenishing means for replenishing the flux tank with the solvent. Wherein the solvent replenishing means automatically replenishes an amount of the solvent necessary to return the concentration of the flux which changes as the soldering base material is immersed, and the amount necessary to return the concentration. The amount is determined based on previously performed measurements.
【0014】本発明によれば、予め行われた測定に基づ
いて、必要な量の溶剤を自動的に補充するので、工程中
に実際に濃度を測定しなくても、フラックスの濃度を元
に戻せる装置を提供することができる。そのため、生産
性に優れた方法で、所定の濃度に保たれたフラックスを
塗布することができる。According to the present invention, the required amount of the solvent is automatically replenished based on the measurement performed in advance, so that the flux concentration can be determined based on the flux concentration without actually measuring the concentration during the process. A device that can be returned can be provided. Therefore, a flux maintained at a predetermined concentration can be applied by a method excellent in productivity.
【0015】(7)このフラックス塗布装置において、
前記溶剤補充手段は、バルブを含み、前記バルブは、そ
の開口時間が前記溶剤の補充量にほぼ比例してもよい。(7) In this flux coating device,
The solvent replenishing means may include a valve, and the opening time of the valve may be substantially proportional to the replenishing amount of the solvent.
【0016】これによれば、バルブの開口時間を制御す
ることで溶剤の補充量を調整するので、簡単に必要な量
の溶剤を補充することができる。According to this, the replenishment amount of the solvent is adjusted by controlling the opening time of the valve, so that the required amount of the solvent can be easily replenished.
【0017】(8)このフラックス塗布装置において、
前記フラックス槽は、それよりも外周が小さく、かつ、
底の浅いフラックス補助槽を内側に有し、前記フラック
ス補助槽は、前記フラックス槽の上下にシフト可能であ
って、下部にシフトしたときに前記フラックス槽の前記
フラックスで満たされ、前記母材を浸漬するときに上部
にシフトして、前記フラックス槽の第1の液面よりも高
い位置に第2の液面を有してもよい。(8) In this flux coating device,
The flux tank has a smaller outer circumference, and
A flux auxiliary tank having a shallow bottom is provided inside, and the flux auxiliary tank can be shifted up and down of the flux tank, and when shifted downward, is filled with the flux of the flux tank and fills the base material. When immersing, the second liquid level may be shifted to the upper part and higher than the first liquid level of the flux tank.
【0018】これによれば、母材を浸漬させる第2の液
面は、母材を浸漬させるごとに一定の高さに配置される
ので、母材の所定の部分に正確にフラックスを塗布する
ことができる。また、フラックス補助槽が上下にシフト
することによって、原液と溶剤を均一に混ぜ合わせるこ
とができる。したがって、フラックスを、その成分を偏
らせずに、母材に塗布する装置を提供することができ
る。According to this, the second liquid level on which the base material is immersed is arranged at a constant height every time the base material is immersed, so that the flux is applied accurately to a predetermined portion of the base material. be able to. Further, by shifting the flux auxiliary tank up and down, the stock solution and the solvent can be uniformly mixed. Therefore, it is possible to provide an apparatus for applying the flux to the base material without biasing its components.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について図面を参照して説明する。ただし、本発明は、
以下の実施の形態に限定されるものではない。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the present invention
The present invention is not limited to the following embodiment.
【0020】(第1の実施の形態)図1〜図3(C)
は、本発明を適用した第1の実施の形態に係るフラック
ス塗布方法及びフラックス塗布装置を説明するための図
である。本実施の形態では、配線12が形成されたテー
プ10を用意し、配線12(ハンダ付け母材)をフラッ
クス20に浸漬させる。なお、ハンダ付け母材は、本実
施の形態で示す配線12に限定されず、その他の導電部
材であってもよい。(First Embodiment) FIGS. 1 to 3C
FIG. 1 is a diagram for explaining a flux coating method and a flux coating device according to a first embodiment to which the present invention is applied. In the present embodiment, the tape 10 on which the wiring 12 is formed is prepared, and the wiring 12 (a soldering base material) is immersed in the flux 20. Note that the soldering base material is not limited to wiring 12 shown in the present embodiment, and may be another conductive member.
【0021】テープ10は、可撓性を有する配線基板で
ある。テープ10は、COF(ChipOn Film)用基板又
はTAB(Tape Automated Bonding)用基板(フィルム
キャリアテープ)などであってもよい。テープ10は、
ポリイミド樹脂などで形成されることが多い。The tape 10 is a flexible wiring board. The tape 10 may be a substrate for COF (ChipOn Film) or a substrate for TAB (Tape Automated Bonding) (film carrier tape). Tape 10
Often formed of polyimide resin or the like.
【0022】テープ10は、その表面に、所定の形状で
引き廻された複数の配線12を有する。配線12は、銅
などの導電材料で形成される。各配線12の少なくとも
一部は、メッキされていてもよい。テープ10に形成さ
れた各配線12の一部は、ハンダ付け母材となる。各配
線12は、テープ10の端部に至るように形成され、各
配線12の電極となる端部(ハンダ付け母材)をフラッ
クス20に浸漬させる。例えば、各配線12の端部が位
置するテープ10の端部を、フラックス20に浸漬させ
る。The tape 10 has on its surface a plurality of wires 12 routed in a predetermined shape. The wiring 12 is formed of a conductive material such as copper. At least a part of each wiring 12 may be plated. A part of each wiring 12 formed on the tape 10 becomes a soldering base material. Each wiring 12 is formed so as to reach an end of the tape 10, and an end (solder base material) serving as an electrode of each wiring 12 is immersed in the flux 20. For example, the end of the tape 10 where the end of each wiring 12 is located is immersed in the flux 20.
【0023】テープ10には、少なくとも1つの半導体
チップ(図示しない)が設けられてもよい。半導体チッ
プは、テープ10の中央部に設けられることが多い。T
AB技術が適用される場合、テープ10にデバイスホー
ルが設けられ、その内側に半導体チップが配置される。
そして、配線12の一部は、デバイスホールの内側に突
出し、半導体チップと電気的に接続される。あるいは、
半導体チップは、テープ10上にフェースダウン実装さ
れてもよい。The tape 10 may be provided with at least one semiconductor chip (not shown). The semiconductor chip is often provided at the center of the tape 10. T
When the AB technology is applied, a device hole is provided in the tape 10, and a semiconductor chip is disposed inside the device hole.
Then, a part of the wiring 12 protrudes inside the device hole and is electrically connected to the semiconductor chip. Or,
The semiconductor chip may be mounted face down on the tape 10.
【0024】テープ10は、電子部品に接続されていて
もよい。詳しくは、テープ10の配線12は、電子部品
の図示しない電極に接続されていてもよい。テープ10
は、フラックス20に浸漬する側とは反対の端部におい
て、電子部品に接続されている。The tape 10 may be connected to an electronic component. Specifically, the wiring 12 of the tape 10 may be connected to an electrode (not shown) of the electronic component. Tape 10
Is connected to the electronic component at the end opposite to the side immersed in the flux 20.
【0025】電子部品は、液晶パネル14であってもよ
い。液晶パネル14は、2枚の基板(例えばガラス基
板)の間に液晶が封止されて構成されている。そして、
いずれかの基板に設けられた電極に、テープ10の各配
線12の一部(例えば電極となる端部)が接合されてい
る。図2に示す例では、1つの液晶パネル14に、1つ
のテープ10が接続されている。あるいは、1つの液晶
パネル14の1つの辺の端部に、複数のテープ10が接
続されてもよい。The electronic component may be a liquid crystal panel 14. The liquid crystal panel 14 is configured such that liquid crystal is sealed between two substrates (for example, a glass substrate). And
A part of each wiring 12 of the tape 10 (for example, an end serving as an electrode) is joined to an electrode provided on one of the substrates. In the example shown in FIG. 2, one tape 10 is connected to one liquid crystal panel 14. Alternatively, a plurality of tapes 10 may be connected to an end of one side of one liquid crystal panel 14.
【0026】図2に示すように、テープ10は、治具1
6を使用して取り扱う。詳しくは、液晶パネル14を治
具16で固定する。図示する例では、治具16は、液晶
パネル14の面を両側から覆うように挟む。その場合、
テープ10の端部を治具16の外側に露出させる。これ
によって、治具16を使用して、配線12の端部をフラ
ックス20に浸漬させることが可能になる。As shown in FIG. 2, the tape 10 is
Handle using 6. Specifically, the liquid crystal panel 14 is fixed with a jig 16. In the illustrated example, the jig 16 is sandwiched so as to cover the surface of the liquid crystal panel 14 from both sides. In that case,
The end of the tape 10 is exposed outside the jig 16. Thus, the end of the wiring 12 can be immersed in the flux 20 using the jig 16.
【0027】1つの治具16には、1つ又は複数の液晶
パネル14が取り付けられてもよい。図2に示すよう
に、複数の液晶パネル14が取り付けられる場合、各テ
ープ10の端部は、治具16の同じ向きに配置される。
そして、各テープ10の治具16から露出する端部は、
互いに先端部が同じ高さになるように配置される。な
お、治具16に取り付けた複数のテープ10を1単位と
して、順番にフラックス20に浸漬させてもよい。One or a plurality of liquid crystal panels 14 may be attached to one jig 16. As shown in FIG. 2, when a plurality of liquid crystal panels 14 are attached, the end of each tape 10 is arranged in the same direction of the jig 16.
The end of each tape 10 exposed from the jig 16 is
The tips are arranged so that their tips are at the same height. The plurality of tapes 10 attached to the jig 16 may be sequentially immersed in the flux 20 as one unit.
【0028】図2に示す例では、複数の液晶パネル14
は、その面が平面的に重ならない方向に並べて治具16
に固定されている。あるいは、複数の液晶パネル14
は、その面が平面的に重なる方向に並べて固定されても
よい。なお、液晶パネル14は、2次元的に並べて治具
16に固定されてもよい。In the example shown in FIG.
The jigs 16 are arranged side by side in such a direction that
Fixed to. Alternatively, a plurality of liquid crystal panels 14
May be fixed side by side in a direction in which their planes overlap. The liquid crystal panels 14 may be two-dimensionally arranged and fixed to the jig 16.
【0029】フラックス20は、良好な状態でハンダを
設けるために、配線12に表面処理を施すための溶液で
ある。この表面処理によって、例えば、配線12の酸化
膜を除去したり、ハンダの濡れ性を高めてハンダが配線
12によくなじむようにすることができる。The flux 20 is a solution for subjecting the wiring 12 to a surface treatment in order to provide solder in a good condition. By this surface treatment, for example, the oxide film of the wiring 12 can be removed, or the wettability of the solder can be increased, so that the solder can be well adapted to the wiring 12.
【0030】フラックス20は、原液が溶剤で薄められ
てできている。原液は、ロジン樹脂などを含むものであ
ってもよい。溶剤は、揮発性を有するものであることが
多い。溶剤は、イソプロピルアルコール(IPA)であ
ってもよい。そして、原液と溶剤の混合比率は、所定の
規格範囲内の値にすることが好ましい。すなわち、フラ
ックス20の濃度は、所定の濃度であることが好まし
い。なお、フラックス20は、活性剤などのその他の成
分を含んでもよい。The flux 20 is formed by diluting a stock solution with a solvent. The stock solution may include a rosin resin or the like. The solvent is often volatile. The solvent may be isopropyl alcohol (IPA). The mixing ratio of the stock solution and the solvent is preferably set to a value within a predetermined standard range. That is, the concentration of the flux 20 is preferably a predetermined concentration. Note that the flux 20 may include other components such as an activator.
【0031】図1、図3(A)〜図3(C)に示すよう
に、本実施の形態に係るフラックス塗布装置は、フラッ
クス20が入れられたフラックス槽22と、フラックス
槽22に溶剤を補充する溶剤補充手段と、を有する。図
示する例では、フラックス槽22は、その内側にフラッ
クス補助槽24を有する。フラックス補助槽24は、フ
ラックス槽22よりも外周が小さく、かつ、底が浅くな
っている。そして、フラックス補助槽24にも、フラッ
クス20が入れられている。As shown in FIGS. 1 and 3 (A) to 3 (C), the flux coating apparatus according to the present embodiment comprises a flux tank 22 containing a flux 20, and a solvent in the flux tank 22. Solvent replenishing means for replenishing. In the illustrated example, the flux tank 22 has a flux auxiliary tank 24 inside thereof. The flux auxiliary tank 24 has a smaller outer circumference and a shallower bottom than the flux tank 22. The flux 20 is also put in the flux auxiliary tank 24.
【0032】フラックス補助槽24は、フラックス槽2
2の内側でフラックス20中に浮いた状態になってお
り、上下にシフト可能になっている。フラックス補助槽
24は、フラックス槽22の上部又は下部に、それぞれ
決められた高さにシフトするようになっている。フラッ
クス補助槽24は、シリンダによって上下にシフトする
ようになっていてもよい。なお、治具16はフラックス
補助槽24の上方から降下され、配線12はフラックス
補助槽24のフラックス20に浸漬される。The flux auxiliary tank 24 is provided for the flux tank 2
It is floating in the flux 20 inside 2 and can be shifted up and down. The flux auxiliary tank 24 shifts to a predetermined height above or below the flux tank 22. The auxiliary flux tank 24 may be shifted up and down by a cylinder. Note that the jig 16 is lowered from above the auxiliary flux tank 24, and the wiring 12 is immersed in the flux 20 of the auxiliary flux tank 24.
【0033】図3(B)に示すように、フラックス補助
槽24は、フラックス槽22の下部にシフトしたとき
に、フラックス槽22のフラックス20で満たされる。
すなわち、フラックス補助槽24は、その許容量の最大
量で満たされる。言い換えると、フラックス補助槽24
は、フラックス槽22のフラックス20の液面(図3
(B)参照)よりも低い位置にシフトして、フラックス
20が補給される。これによって、配線12にフラック
ス20を塗布して、フラックス補助槽24の液面27
(図3(A)参照)が下がっても、フラックス補助槽2
4に簡単にフラックス20を補給することができる。As shown in FIG. 3B, the flux auxiliary tank 24 is filled with the flux 20 of the flux tank 22 when shifting to the lower part of the flux tank 22.
That is, the flux auxiliary tank 24 is filled with the maximum allowable amount. In other words, the flux auxiliary tank 24
Is the liquid level of the flux 20 in the flux tank 22 (FIG. 3).
(See (B)), and the flux 20 is supplied. As a result, the flux 20 is applied to the wiring 12 and the liquid level 27 of the flux auxiliary tank 24 is
(See FIG. 3 (A).)
4, the flux 20 can be easily supplied.
【0034】図3(C)に示すように、フラックス補助
槽24は、フラックス槽22の上部にシフトしたとき
に、フラックス槽22の第1の液面26よりも高い位置
に第2の液面28を有する。フラックス補助槽24は、
フラックス20が最大量で補給された後、フラックス槽
22の上部にシフトする。そして、配線12は、フラッ
クス補助槽24が上部にシフトしたときに浸漬される。
そのため、配線12を、常に一定の高さに設定される第
2の液面28に浸漬させることができる。すなわち、フ
ラックス槽22のフラックス20の量が減少しても、い
つも一定の高さに設定した液面28に、配線12を浸漬
させることができる。したがって、配線12の所定の部
分に、正確にフラックス20を設けることができる。As shown in FIG. 3 (C), when the flux auxiliary tank 24 is shifted to the upper part of the flux tank 22, the second liquid level is higher than the first liquid level 26 of the flux tank 22. 28. The flux auxiliary tank 24
After the flux 20 has been replenished in the maximum amount, it shifts to the upper part of the flux tank 22. Then, the wiring 12 is immersed when the flux auxiliary tank 24 shifts upward.
Therefore, the wiring 12 can be immersed in the second liquid surface 28 which is always set at a constant height. That is, even if the amount of the flux 20 in the flux tank 22 decreases, the wiring 12 can always be immersed in the liquid surface 28 set at a constant height. Therefore, the flux 20 can be accurately provided at a predetermined portion of the wiring 12.
【0035】また、フラックス補助槽24が上下にシフ
トすることによって、フラックス槽22のフラックス2
0を混ぜることができる。すなわち、フラックス20
を、その成分(原液又は溶剤など)が偏ることなく、均
一な状態にすることができる。そのため、配線12に、
各成分が均一に混ぜられたフラックスを塗布することが
できる。The flux auxiliary tank 24 shifts up and down, so that the flux 2
0 can be mixed. That is, the flux 20
Can be made in a uniform state without unevenness in its components (stock solution or solvent). Therefore, the wiring 12
A flux in which each component is uniformly mixed can be applied.
【0036】溶剤補充手段は、開閉自在なバルブ30を
含む。図1に示す例では、溶剤補充手段は、溶剤の補充
する量を制御する制御部34と、溶剤が入れられたタン
ク36と、をさらに含む。制御部34は、バルブ30の
開閉や、バルブ30に送り込む溶剤の単位時間あたりの
補充量などを制御できるようになっている。The solvent replenishing means includes a valve 30 which can be opened and closed. In the example shown in FIG. 1, the solvent replenishing means further includes a control unit 34 for controlling the amount of replenishing the solvent, and a tank 36 containing the solvent. The control unit 34 can control the opening / closing of the valve 30 and the amount of replenishment of the solvent fed to the valve 30 per unit time.
【0037】本実施の形態では、溶剤の補充量は、フラ
ックス塗布の工程を行う前に予め行われた測定に基づい
て決められる。ここで、フラックス20の濃度は、配線
12を浸漬することに伴って変化する。詳しくは、フラ
ックス20の濃度は、配線12を浸漬することに伴って
濃くなる。その理由は、時間経過に伴い溶剤が原液より
も多く揮発することなどが挙げられる。そこで、定期的
に必要な量の溶剤を補充して、フラックス20の濃度を
戻す。In the present embodiment, the replenishment amount of the solvent is determined based on a measurement performed in advance before performing the flux coating step. Here, the concentration of the flux 20 changes as the wiring 12 is immersed. Specifically, the concentration of the flux 20 increases as the wiring 12 is immersed. The reason is, for example, that the solvent volatilizes more than the stock solution with the passage of time. Therefore, the concentration of the flux 20 is returned by periodically replenishing a necessary amount of the solvent.
【0038】フラックス20の濃度を戻すのに必要な量
を測定する手段は、実際に濃度を測定してもよい。例え
ば、1度に浸漬する配線12を、X回、フラックス20
に浸漬させた後、フラックス20の濃度を測定してもよ
い。そして、濃度の変化から溶剤の補充量を計算して、
配線12をX回浸漬させた後に補充する溶剤の量を決め
てもよい。あるいは、上述の測定から、配線12をY回
(Y≠X)浸漬させた後に補充する溶剤の量を計算して
決めてもよい。The means for measuring the amount required to return the concentration of the flux 20 may actually measure the concentration. For example, the wiring 12 to be immersed at one time is changed X times by flux 20
After immersion, the concentration of the flux 20 may be measured. Then, calculate the replenishment amount of the solvent from the change in concentration,
The amount of the solvent to be replenished after the wiring 12 is immersed X times may be determined. Alternatively, the amount of the solvent to be replenished after the wiring 12 is immersed Y times (Y ≠ X) may be calculated and determined from the above measurement.
【0039】バルブ30には、ニードル32が設けられ
ている。その場合、ニードル32によって溶剤を吐出さ
せる。ニードル32は、所定の径を有しており、その径
に応じて吐出量を調整することができる。また、バルブ
30は、制御部34によって、溶剤の吐出量を調整でき
るようになっている。さらに、バルブ30に溶剤を一定
の量で送り込むために、溶剤のタンク36内は一定の圧
力で加圧されていることが好ましい。なお、補充する溶
剤の量は、ニードル32、タンク36の圧力などの他
に、配線12のフラックス20に浸漬させる部分の面
積、周囲の温度及び湿度などを考慮することが好まし
い。The valve 30 is provided with a needle 32. In that case, the solvent is discharged by the needle 32. The needle 32 has a predetermined diameter, and the discharge amount can be adjusted according to the diameter. Further, the valve 30 is configured so that the discharge amount of the solvent can be adjusted by the control unit 34. Further, in order to feed the solvent into the valve 30 in a constant amount, the inside of the solvent tank 36 is preferably pressurized at a constant pressure. The amount of the solvent to be replenished is preferably determined in consideration of the area of the portion of the wiring 12 immersed in the flux 20, the ambient temperature and the humidity, in addition to the pressure of the needle 32 and the tank 36.
【0040】制御部34は、記憶部(図示しない)を有
する。そして、その記憶部に、予め行われた測定に基づ
いて決められる溶剤の補充する量を記憶させてもよい。
その場合、制御部34は、記憶部に記憶されたデータに
基づいて、バルブ30を自動制御する。あるいは、記憶
部に、溶剤の補充する量が計算される基準となるデータ
(例えばX回浸漬後のフラックス20の濃度など)を記
憶させて、制御部34の演算処理部(図示しない)でそ
のデータを演算して、バルブ30を自動制御してもよ
い。The control section 34 has a storage section (not shown). Then, the storage unit may store the replenishing amount of the solvent determined based on the measurement performed in advance.
In that case, the control unit 34 automatically controls the valve 30 based on the data stored in the storage unit. Alternatively, data (for example, the concentration of the flux 20 after immersion X times) serving as a reference for calculating the replenishing amount of the solvent is stored in the storage unit, and the calculation processing unit (not shown) of the control unit 34 stores the data. The valve 30 may be automatically controlled by calculating data.
【0041】溶剤の補充する量は、バルブ30の開口時
間にほぼ比例するようになっている。これによって、バ
ルブ30の開口時間を制御することによって、溶剤の補
充量を調整することができる。バルブ30の開口時間
は、制御部36によって自動制御すればよい。その場
合、溶剤の補充する量を満たすだけの開口時間を、制御
部36の記憶部に記憶させ、そのデータに基づいてバル
ブ30を自動制御してもよい。The amount of the solvent to be replenished is approximately proportional to the opening time of the valve 30. Thus, by controlling the opening time of the valve 30, the replenishment amount of the solvent can be adjusted. The opening time of the valve 30 may be automatically controlled by the control unit 36. In this case, the opening time that satisfies the replenishing amount of the solvent may be stored in the storage unit of the control unit 36, and the valve 30 may be automatically controlled based on the data.
【0042】本実施の形態に係るフラックス塗布装置に
よれば、予め行われた測定に基づいて、必要な量の溶剤
を自動的に補充するので、工程中に実際に濃度を測定し
なくても、フラックス20の濃度を元に戻せる装置を提
供することができる。そのため、工程中に濃度を測定す
るためのコントローラも不必要であり、低コストの装置
を提供することができる。また、溶剤は、自動的に補充
されるので、配線12のフラックス塗布の工程を中断さ
せることがない。したがって、生産性に優れた方法で簡
単にフラックスを塗布することができる。According to the flux coating apparatus according to the present embodiment, the necessary amount of the solvent is automatically replenished based on the measurement performed in advance, so that it is not necessary to actually measure the concentration during the process. , A device that can restore the concentration of the flux 20 can be provided. Therefore, a controller for measuring the concentration during the process is not required, and a low-cost apparatus can be provided. Further, since the solvent is automatically replenished, the step of applying the flux to the wiring 12 is not interrupted. Therefore, flux can be easily applied by a method excellent in productivity.
【0043】本実施の形態に係るフラックス塗布装置
は、上述のように構成されており、以下に製造方法につ
いて説明する。The flux coating apparatus according to the present embodiment is configured as described above, and the manufacturing method will be described below.
【0044】図1に示すように、テープ10の配線12
の端部を、フラックス20に浸漬する。図示する例で
は、1回の浸漬で、1つの治具16に取り付けられた複
数のテープ10の配線12にフラックス20を塗布す
る。As shown in FIG. 1, the wiring 12 of the tape 10
Is immersed in the flux 20. In the illustrated example, the flux 20 is applied to the wirings 12 of the plurality of tapes 10 attached to one jig 16 by one dipping.
【0045】図1に示すように、まず、1回目に浸漬す
る複数のテープ10を、フラックス補助槽24のフラッ
クス20に浸漬させる。詳しくは、治具16を所定の高
さまで降下させて、複数のテープ10の端部を一斉にフ
ラックス20に浸漬させる。このとき、フラックス補助
槽24は、フラックス槽22の上部にシフトしている。
フラックス補助槽24には、許容量が最大量のフラック
ス20が入れられている。その結果、複数のテープ10
の端部は、フラックス槽22の第1の液面26よりも、
高い位置にある第2の液面28に浸漬される。複数のテ
ープ10の端部は、一定の時間(例えば数秒)、フラッ
クス20に浸漬させた後、治具16を上昇させてフラッ
クス20から引き上げる。こうして、配線12の端部
に、フラックス20を設ける。As shown in FIG. 1, a plurality of tapes 10 to be dipped for the first time are dipped in a flux 20 of a flux auxiliary tank 24. Specifically, the jig 16 is lowered to a predetermined height, and the ends of the plurality of tapes 10 are simultaneously immersed in the flux 20. At this time, the flux auxiliary tank 24 has shifted to the upper part of the flux tank 22.
The flux auxiliary tank 24 contains the flux 20 having the maximum allowable amount. As a result, a plurality of tapes 10
Is higher than the first liquid level 26 of the flux tank 22.
It is immersed in the second liquid level 28 at a high position. The ends of the plurality of tapes 10 are immersed in the flux 20 for a predetermined time (for example, several seconds), and then the jig 16 is lifted up from the flux 20. Thus, the flux 20 is provided at the end of the wiring 12.
【0046】その後、図1の矢印に示すように、治具1
6を、溶融ハンダ40が入れられたハンダ槽42の上方
に搬送する。そして、治具16を降下させて、複数のテ
ープ10の端部を、溶融ハンダ40に浸漬させる。詳し
くは、テープ10のうち、フラックス20に浸漬させた
部分を、溶融ハンダ40に浸漬させる。こうして、配線
12の端部にハンダを設ける。なお、ハンダ槽42は、
加熱されることによって、固体のハンダを、液体の溶融
ハンダ40に保っている。Thereafter, as shown by the arrow in FIG.
6 is transported above a solder tank 42 in which the molten solder 40 is placed. Then, the jig 16 is lowered, and the ends of the plurality of tapes 10 are immersed in the molten solder 40. Specifically, a portion of the tape 10 immersed in the flux 20 is immersed in the molten solder 40. Thus, the solder is provided at the end of the wiring 12. In addition, the solder tank 42
By being heated, the solid solder is kept in the liquid molten solder 40.
【0047】1回目に浸漬する複数のテープ10をハン
ダ槽42へ搬送させた後、2回目に浸漬する複数のテー
プ10をフラックス20に浸漬させる準備をする。本実
施の形態で示す例では、その間、フラックス槽22に溶
剤を補充し、かつ、フラックス補助槽24を上下に往復
するようにシフトさせる工程を行う。After the plurality of tapes 10 to be immersed for the first time are transported to the solder tank 42, a preparation is made to immerse the plurality of tapes 10 to be immersed for the second time in the flux 20. In the example shown in the present embodiment, a process of replenishing the solvent in the flux tank 22 and shifting the flux auxiliary tank 24 up and down is performed during that time.
【0048】フラックス槽22への溶剤の補充は、上述
の溶剤補充手段を使用して行ってもよい。バルブ30
は、上述に説明した通り、開口時間にほぼ比例して溶剤
を吐出する量が決まる。そして、バルブ30は、予め行
われた測定によって、決められた溶剤を補充する量を満
たすだけの時間、開口するようになっている。バルブ3
0を、2回目の浸漬までに、1回限り開口させてもよ
く、あるいは複数回開口させてもよい。複数回開口させ
る場合は、その合計の時間が、予め決められた溶剤の補
充する量を満たすだけの時間になるように設定する。な
お、バルブ30の先端に取り付けられたニードル32
は、フラックス槽22の内側であってフラックス補助槽
24の外側に配置する。The replenishment of the solvent into the flux tank 22 may be performed by using the above-described solvent replenishing means. Valve 30
As described above, the amount of the solvent to be discharged is determined almost in proportion to the opening time. Then, the valve 30 is opened for a time sufficient to satisfy the amount of replenishing the solvent determined by the measurement performed in advance. Valve 3
0 may be opened only once before the second immersion, or may be opened a plurality of times. When the openings are made a plurality of times, the total time is set so as to satisfy a predetermined amount of the solvent to be replenished. The needle 32 attached to the tip of the valve 30
Are disposed inside the flux tank 22 and outside the flux auxiliary tank 24.
【0049】上述の溶剤を補充する工程とほぼ同時に、
フラックス補助槽24をシフトさせる。Almost simultaneously with the step of replenishing the solvent described above,
The flux auxiliary tank 24 is shifted.
【0050】フラックス補助槽24は、複数のテープ1
0を浸漬させる間、フラックス槽22の上部に配置され
ている。そして、1回目の複数のテープ10を浸漬させ
ることによって、フラックス20は消費される。そのた
め、図3(A)に示すように、浸漬後のフラックス補助
槽24の液面27の高さは、浸漬前よりも下がってしま
う。The flux auxiliary tank 24 contains a plurality of tapes 1
0 is immersed in the upper part of the flux tank 22 during immersion. Then, the flux 20 is consumed by immersing the plurality of tapes 10 for the first time. Therefore, as shown in FIG. 3A, the height of the liquid surface 27 of the flux auxiliary tank 24 after immersion is lower than before the immersion.
【0051】そこで、図3(B)に示すように、フラッ
クス補助槽24を下部にシフトさせる。詳しくは、フラ
ックス補助槽24を、フラックス槽22の液面よりも低
い位置にシフトさせる。これによって、フラックス補助
槽24にフラックス20を満タンになるように補給す
る。Therefore, as shown in FIG. 3B, the flux auxiliary tank 24 is shifted downward. Specifically, the flux auxiliary tank 24 is shifted to a position lower than the liquid level of the flux tank 22. Thus, the flux auxiliary tank 24 is replenished with the flux 20 so as to be full.
【0052】その後、図3(C)に示すように、再びフ
ラックス補助槽24を上部にシフトさせる。フラックス
補助槽24は、1回目の複数のテープ10を浸漬させる
ときに配置した高さにシフトさせる。フラックス補助槽
24は、一旦、下部にシフトされてフラックス20が最
大量で補給されるので、第2の液面28を1回目の複数
のテープ10を浸漬させたときと、同じ位置に設定する
ことができる。Thereafter, as shown in FIG. 3C, the flux auxiliary tank 24 is shifted upward again. The flux auxiliary tank 24 is shifted to the height set when the plurality of tapes 10 are dipped for the first time. Since the flux auxiliary tank 24 is once shifted downward and supplied with the maximum amount of the flux 20, the second liquid level 28 is set to the same position as when the plurality of tapes 10 were dipped for the first time. be able to.
【0053】これによれば、配線12を浸漬させる第2
の液面28は、配線12を浸漬させるごとに一定の高さ
に配置されるので、配線12の所定の部分に正確にフラ
ックス20を塗布することができる。また、フラックス
補助槽24を上下にシフトさせることによって、原液と
溶剤を均一に混ぜ合わせることができる。したがって、
フラックス20を、その成分を偏らせずに、配線12に
塗布することができる。According to this, the second in which the wiring 12 is immersed
The liquid level 28 is arranged at a constant height each time the wiring 12 is immersed, so that the flux 20 can be applied accurately to a predetermined portion of the wiring 12. Further, by shifting the flux auxiliary tank 24 up and down, the undiluted solution and the solvent can be uniformly mixed. Therefore,
The flux 20 can be applied to the wiring 12 without biasing its components.
【0054】上述とは別に、フラックス補助槽24をシ
フトさせる工程は、溶剤を補充する工程の後に行っても
よい。これによれば、溶剤をフラックス槽22に補充し
た後に、フラックス補助槽24をシフトするので、補充
した溶剤をフラックス20に均一に混ぜ合わせることが
できる。あるいは、フラックス補助槽24をシフトさせ
る工程は、溶剤を補充する工程の前であってもよい。Apart from the above, the step of shifting the flux auxiliary tank 24 may be performed after the step of replenishing the solvent. According to this, the flux auxiliary tank 24 is shifted after the solvent is supplied to the flux tank 22, so that the supplied solvent can be uniformly mixed with the flux 20. Alternatively, the step of shifting the flux auxiliary tank 24 may be before the step of replenishing the solvent.
【0055】その後、上部にシフトしたフラックス補助
槽24の第2の液面28に、2回目に浸漬する複数のテ
ープ10を浸漬させ、その後、1回目と同様にして、溶
融ハンダ24に浸漬させて、配線12の端部にハンダを
塗布する。また、原液は、複数回の配線12を処理する
ごとに、定期的にフラックス槽22に補充すればよい。Thereafter, the plurality of tapes 10 to be dipped for the second time are dipped in the second liquid level 28 of the flux auxiliary tank 24 shifted upward, and then dipped in the molten solder 24 in the same manner as in the first time. Then, solder is applied to the end of the wiring 12. The undiluted solution may be periodically replenished to the flux tank 22 each time the wiring 12 is processed a plurality of times.
【0056】なお、上述の例では、1回の配線12を浸
漬させ終えた後に、溶剤を補充し、フラックス補助槽2
4を上下にシフトさせる例を示したが、本実施の形態は
これに限定されない。すなわち、複数回の配線12を浸
漬させ終えた後に、溶剤を補充してもよい。その場合、
フラックス補助槽24は、1回の配線12を浸漬させ終
えた後に上下にシフトさせてもよく、あるいは溶剤を補
充した後のみに上下にシフトさせてもよい。In the above-described example, after one dipping of the wiring 12 is completed, the solvent is replenished and the flux auxiliary tank 2 is immersed.
Although an example in which 4 is shifted up and down has been described, the present embodiment is not limited to this. That is, the solvent may be replenished after the wiring 12 has been dipped a plurality of times. In that case,
The flux auxiliary tank 24 may be shifted up and down after one dipping of the wiring 12, or may be shifted up and down only after replenishing the solvent.
【0057】本実施の形態に係るフラックス塗布方法に
よれば、予め行われた測定に基づいて、必要な量の溶剤
を自動的に補充するので、工程中に実際に濃度を測定し
なくても、フラックス20の濃度を元に戻すことができ
る。また、溶剤を自動的に補充することができるので、
配線12のフラックス塗布の工程を中断させることがな
い。したがって、生産性に優れた方法で簡単にフラック
スを塗布することができる。According to the flux coating method of the present embodiment, the necessary amount of the solvent is automatically replenished based on the measurement performed in advance, so that it is not necessary to actually measure the concentration during the process. , The concentration of the flux 20 can be restored. Also, since the solvent can be automatically refilled,
There is no interruption in the process of applying the flux to the wiring 12. Therefore, flux can be easily applied by a method excellent in productivity.
【0058】(第2の実施の形態)図4及び図5は、本
発明を適用した第2の実施の形態に係るフラックス塗布
方法を示す図である。本実施の形態では、上述の実施の
形態で示したフラックス塗布装置を使用することができ
る。(Second Embodiment) FIGS. 4 and 5 are views showing a flux coating method according to a second embodiment to which the present invention is applied. In the present embodiment, the flux coating device described in the above embodiment can be used.
【0059】図5に示すように、1つの液晶パネル54
に複数のテープ(例えば第1及び第2のテープ50、5
1)が接続されてもよい。その場合、各テープ(例えば
第1及び第2のテープ50、51)は、液晶パネル54
の異なる辺に沿った端部に接続されてもよい。例えば、
液晶パネル54の1つの辺の端部に第1のテープ50が
接続され、その辺の隣の辺の端部に第2のテープ51が
接続されてもよい。第1のテープ50には第1の配線5
2が形成され、第2のテープ51には第2の配線53が
形成されている。なお、テープ、配線及び液晶パネルの
形態は、上述の実施の形態で説明した内容を適用するこ
とができる。As shown in FIG. 5, one liquid crystal panel 54
A plurality of tapes (for example, first and second tapes 50, 5
1) may be connected. In that case, each tape (for example, the first and second tapes 50 and 51) is
May be connected to ends along different sides. For example,
The first tape 50 may be connected to an end of one side of the liquid crystal panel 54, and the second tape 51 may be connected to an end of a side next to the side. The first tape 50 has a first wiring 5
2 is formed, and the second wiring 53 is formed on the second tape 51. Note that the contents described in the above embodiment can be applied to the form of the tape, the wiring, and the liquid crystal panel.
【0060】図4に示す例では、複数の液晶パネル54
は、その面が平面的に重なる方向に並べて、1つの治具
56に固定されている。その場合、治具56の外側に第
1及び第2のテープ50、51の端部を露出させる。そ
して、第1及び第2のテープ50、51の端部は、治具
56の同じ向きに配置されることが好ましい。これによ
れば、治具56を液晶パネル54が並ぶ方向を軸方向と
して回転させることによって、複数の第1のテープ50
又は複数の第2のテープ51のいずれかを、液面の側に
向かせることができる。また、複数の第1のテープ50
の端部又は複数の第2のテープ51の端部は、互いに先
端部が同じ高さになるように配置される。なお、上述と
は別に、1つの治具56には、1つの液晶パネル54が
取り付けられてもよい。In the example shown in FIG.
Are fixed to one jig 56 in such a manner that the surfaces thereof are arranged in a plane overlapping direction. In that case, the ends of the first and second tapes 50 and 51 are exposed outside the jig 56. The ends of the first and second tapes 50 and 51 are preferably arranged in the same direction of the jig 56. According to this, by rotating the jig 56 with the direction in which the liquid crystal panels 54 are aligned as the axial direction, the plurality of first tapes 50 are rotated.
Alternatively, any one of the plurality of second tapes 51 can be directed to the liquid surface side. Also, a plurality of first tapes 50
Or the ends of the plurality of second tapes 51 are arranged such that the leading ends thereof are at the same height. In addition, separately from the above, one liquid crystal panel 54 may be attached to one jig 56.
【0061】図5に示すように、治具56をフラックス
補助槽24の上方に配置し、治具56を所定の高さまで
降下させて、複数の第1のテープ50の端部を一斉にフ
ラックス20に浸漬させる。このとき、フラックス補助
槽24は、フラックス槽22の上部にシフトしている。
複数の第1のテープ50の端部は、一定時間、フラック
ス20に浸漬させた後、治具56を上昇させてフラック
ス20から引き上げる。こうして、第1の配線52の所
定の部分に、正確にフラックス20を設けることができ
る。As shown in FIG. 5, the jig 56 is disposed above the flux auxiliary tank 24, the jig 56 is lowered to a predetermined height, and the end portions of the plurality of first tapes 50 are simultaneously fluxed. 20. At this time, the flux auxiliary tank 24 has shifted to the upper part of the flux tank 22.
After the ends of the plurality of first tapes 50 are immersed in the flux 20 for a certain period of time, the jig 56 is lifted up from the flux 20. In this manner, the flux 20 can be accurately provided at a predetermined portion of the first wiring 52.
【0062】その後、図5の矢印に示すように、治具5
6を、溶融ハンダ40が入れられたハンダ槽42の上方
に搬送する。そして、治具56を降下させて、複数の第
1のテープ10の端部を、溶融ハンダ40に浸漬させ
る。複数の第1のテープ50の端部は、一定時間、溶融
ハンダ40に浸漬させた後、治具56を上昇させて溶融
ハンダ40から引き上げる。こうして、第1の配線52
の端部にハンダを設ける。Thereafter, as shown by the arrow in FIG.
6 is transported above a solder tank 42 in which the molten solder 40 is placed. Then, the jig 56 is lowered to immerse the ends of the plurality of first tapes 10 in the molten solder 40. After the end portions of the plurality of first tapes 50 are immersed in the molten solder 40 for a certain period of time, the jig 56 is lifted up from the molten solder 40. Thus, the first wiring 52
Is provided with solder at the end.
【0063】その後、治具56を、フラックス補助槽2
4の上方に搬送する。そして、治具56を複数の液晶パ
ネル54が並ぶ方向を軸方向として回転させ、複数の第
2のテープ51を、フラックス20の液面の側に向かせ
る。このとき、第1のテープ50の向きも変わるが、第
1のテープ50の第1の配線52には、ハンダが流れな
い(又は流れにくい)程度に硬化しているので、液状の
フラックスが流れ落ちるという問題は生じない。したが
って、第1及び第2の配線52、53の所定の部分に、
正確にハンダを設けることが可能になる。その後は、複
数の第2のテープ51の端部を、フラックス20に浸漬
させてから、溶融ハンダ40に浸漬させる。Thereafter, the jig 56 is moved to the auxiliary flux tank 2.
4 is transported above. Then, the jig 56 is rotated with the direction in which the plurality of liquid crystal panels 54 are aligned as an axial direction, and the plurality of second tapes 51 are directed toward the liquid surface side of the flux 20. At this time, the direction of the first tape 50 also changes, but the first wiring 52 of the first tape 50 is hardened so that the solder does not flow (or hardly flows), so that the liquid flux flows down. The problem does not arise. Therefore, at predetermined portions of the first and second wirings 52 and 53,
It is possible to accurately provide solder. After that, the ends of the plurality of second tapes 51 are dipped in the flux 20 and then dipped in the molten solder 40.
【0064】そして、2回目に浸漬する治具56に取り
付けた複数の第1のテープ50をフラックス20に浸漬
させる前に、フラックス槽22に溶剤を補充し、かつ、
フラックス補助槽24を上下に往復するようにシフトさ
せる。それらについては、上述の実施の形態で説明した
通りである。なお、フラックス槽22に溶剤を補充し、
かつ、フラックス補助槽24を上下に往復するようにシ
フトさせる工程は、1回目の治具56に取り付けた複数
の第1のテープ50の端部をフラックス20に浸漬させ
終えた後、複数の第2のテープ51の端部を浸漬させる
前に行ってもよい。Before dipping the plurality of first tapes 50 attached to the jig 56 to be dipped for the second time into the flux 20, the flux tank 22 is replenished with a solvent, and
The flux auxiliary tank 24 is shifted so as to reciprocate up and down. These are as described in the above embodiment. In addition, the solvent is replenished to the flux tank 22,
In addition, the step of shifting the flux auxiliary tank 24 so as to reciprocate up and down is performed after the ends of the plurality of first tapes 50 attached to the first jig 56 are immersed in the flux 20, This may be performed before the end of the second tape 51 is dipped.
【0065】なお、本実施の形態は、可能な限り上述の
実施の形態で説明した内容を含む。This embodiment includes the contents described in the above embodiments as much as possible.
【0066】本実施の形態に係るフラックス塗布方法に
よれば、1つの液晶パネル54に複数のテープ(例えば
第1及び第2のテープ50、51)が接続される形態で
あっても、各配線(第1及び第2の配線52、53)の
一部に生産性良くハンダを設けることができる。According to the flux applying method according to the present embodiment, even if a plurality of tapes (for example, first and second tapes 50 and 51) are connected to one liquid crystal panel 54, each wiring Solder can be provided in a part of the (first and second wirings 52, 53) with high productivity.
【図1】図1は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係るフラックス塗布方法及びフラックス塗布装置を説明
するための図である。FIG. 1 is a view for explaining a flux applying method and a flux applying apparatus according to a first embodiment to which the present invention is applied.
【図2】図2は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係るフラックス塗布方法及びフラックス塗布装置を説明
するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a flux applying method and a flux applying apparatus according to a first embodiment to which the present invention is applied.
【図3】図3(A)〜図3(C)は、本発明を適用した
第1の実施の形態に係るフラックス塗布方法及びフラッ
クス塗布装置を説明するための図である。FIGS. 3A to 3C are views for explaining a flux coating method and a flux coating apparatus according to a first embodiment to which the present invention is applied.
【図4】図4は、本発明を適用した第2の実施の形態に
係るフラックス塗布方法及びフラックス塗布装置を説明
するための図である。FIG. 4 is a view for explaining a flux applying method and a flux applying apparatus according to a second embodiment to which the present invention is applied.
【図5】図5は、本発明を適用した第2の実施の形態に
係るフラックス塗布方法及びフラックス塗布装置を説明
するための図である。FIG. 5 is a view for explaining a flux applying method and a flux applying apparatus according to a second embodiment to which the present invention is applied.
10 テープ 12 配線 14 液晶パネル 16 治具 20 フラックス 22 フラックス槽 24 フラックス補助槽 26 第1の液面 28 第2の液面 30 バルブ 40 溶融ハンダ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Tape 12 Wiring 14 Liquid crystal panel 16 Jig 20 Flux 22 Flux tank 24 Flux auxiliary tank 26 First liquid level 28 Second liquid level 30 Valve 40 Melting solder
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4D075 AB02 AB13 AB36 AB41 AB54 AB55 CA47 DA03 DA34 DB06 DB53 DC19 DC21 DC24 EA07 EA60 EC30 4F040 AA02 AA12 AB20 AC02 BA42 BA44 CC02 CC03 CC14 4F042 AA02 AA06 BA17 CA01 CA05 CB02 CB08 CB27 5E319 CD22 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4D075 AB02 AB13 AB36 AB41 AB54 AB55 CA47 DA03 DA34 DB06 DB53 DC19 DC21 DC24 EA07 EA60 EC30 4F040 AA02 AA12 AB20 AC02 BA42 BA44 CC02 CC03 CC14 4F042 AA02 AA06 BA17 CA01 CA05 CB02 5319 CD22
Claims (8)
ラックスに、ハンダ付け母材を浸漬し、 前記浸漬工程に伴って変化した前記フラックスの濃度を
戻すのに必要な量の前記溶剤を自動的に補充することを
含み、 前記濃度を戻すのに必要な量は、予め行われた測定に基
づいて決められるフラックス塗布方法。1. A soldering base material is immersed in a flux obtained by diluting an undiluted solution with a volatile solvent, and an amount of the solvent necessary for returning the concentration of the flux changed during the immersion step is removed. A flux application method, comprising automatically replenishing, wherein the amount required to return the concentration is determined based on previously performed measurements.
いて、 前記溶剤の補充量は、バルブの開口時間にほぼ比例し、 前記補充工程で、前記バルブの開口時間を制御するフラ
ックス塗布方法。2. The flux applying method according to claim 1, wherein the replenishing amount of the solvent is substantially proportional to an opening time of the valve, and the opening time of the valve is controlled in the refilling step.
塗布方法において、 前記フラックスは、フラックス槽に入れられ、 前記フラックス槽は、それよりも外周が小さく、かつ、
底の浅いフラックス補助槽を内側に有し、 前記フラックス補助槽は、前記フラックス槽の上下にシ
フト可能であって、下部にシフトしたときに前記フラッ
クス槽の前記フラックスで満たされ、上部にシフトした
ときに前記フラックス槽の第1の液面よりも高い位置に
第2の液面を有し、 前記浸漬工程で、前記フラックス補助槽が上部にシフト
したときに、前記母材を前記第2の液面に浸漬させるフ
ラックス塗布方法。3. The flux coating method according to claim 1, wherein the flux is put into a flux tank, and the outer circumference of the flux tank is smaller than that of the flux tank.
A flux auxiliary tank having a shallow bottom is provided inside, and the flux auxiliary tank can be shifted up and down of the flux tank. When the flux auxiliary tank is shifted downward, it is filled with the flux of the flux tank and shifted upward. A second liquid level at a position higher than the first liquid level of the flux tank, and when the flux auxiliary tank shifts upward in the immersion step, the base material is moved to the second liquid level. A flux coating method that immerses the liquid surface.
のフラックス塗布方法において、 前記母材は、テープに形成された配線であるフラックス
塗布方法。4. The flux applying method according to claim 1, wherein the base material is a wiring formed on a tape.
のフラックス塗布方法において、 前記溶剤は、イソプロピルアルコールであるフラックス
塗布方法。5. The flux coating method according to claim 1, wherein the solvent is isopropyl alcohol.
ラックスが入れられたフラックス槽と、 前記フラックス槽に前記溶剤を補充する溶剤補充手段
と、 を含み、 前記溶剤補充手段は、ハンダ付け母材を浸漬することに
伴って変化する前記フラックスの濃度を戻すのに必要な
量の前記溶剤を自動的に補充し、 前記濃度を戻すのに必要な量は、予め行われた測定に基
づいて決められるフラックス塗布装置。6. A flux tank containing a flux obtained by diluting an undiluted solution with a volatile solvent, and a solvent replenishing means for replenishing the flux tank with the solvent, wherein the solvent replenishing means includes soldering. The amount of the solvent necessary to return the concentration of the flux that changes with the immersion of the base material is automatically replenished, and the amount required to return the concentration is based on a measurement performed in advance. Flux coating equipment determined by
いて、 前記溶剤補充手段は、バルブを含み、 前記バルブは、その開口時間が前記溶剤の補充量にほぼ
比例するフラックス塗布装置。7. The flux applying device according to claim 6, wherein the solvent replenishing means includes a valve, and the opening time of the valve is approximately proportional to the replenishing amount of the solvent.
ス塗布装置において、 前記フラックス槽は、それよりも外周が小さく、かつ、
底の浅いフラックス補助槽を内側に有し、 前記フラックス補助槽は、前記フラックス槽の上下にシ
フト可能であって、下部にシフトしたときに前記フラッ
クス槽の前記フラックスで満たされ、前記母材を浸漬す
るときに上部にシフトして、前記フラックス槽の第1の
液面よりも高い位置に第2の液面を有するフラックス塗
布装置。8. The flux coating device according to claim 6, wherein the flux tank has a smaller outer periphery than the flux tank, and
A flux auxiliary tank having a shallow bottom is provided on the inside, and the flux auxiliary tank can be shifted up and down of the flux tank, and when shifted downward, is filled with the flux of the flux tank and fills the base material. A flux coating apparatus which shifts upward when immersed and has a second liquid level higher than a first liquid level in the flux tank.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001085375A JP2002290024A (en) | 2001-03-23 | 2001-03-23 | Flux coating method and flux coating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001085375A JP2002290024A (en) | 2001-03-23 | 2001-03-23 | Flux coating method and flux coating device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002290024A true JP2002290024A (en) | 2002-10-04 |
Family
ID=18940894
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001085375A Withdrawn JP2002290024A (en) | 2001-03-23 | 2001-03-23 | Flux coating method and flux coating device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002290024A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006263564A (en) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Ricoh Elemex Corp | Liquid discharge nozzle and flux coating device using it |
| US8544713B2 (en) | 2008-12-27 | 2013-10-01 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Apparatus and method of coating flux |
| US8980770B2 (en) | 2006-11-06 | 2015-03-17 | Hexcel Composites Limited | Composite materials |
-
2001
- 2001-03-23 JP JP2001085375A patent/JP2002290024A/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006263564A (en) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Ricoh Elemex Corp | Liquid discharge nozzle and flux coating device using it |
| US8980770B2 (en) | 2006-11-06 | 2015-03-17 | Hexcel Composites Limited | Composite materials |
| US9603229B2 (en) | 2006-11-06 | 2017-03-21 | Hexcel Composites Limited | Composite materials |
| US8544713B2 (en) | 2008-12-27 | 2013-10-01 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Apparatus and method of coating flux |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69631428T2 (en) | SYSTEM AND METHOD FOR COATING THE BASE OF FLIP CHIPS | |
| US20200286748A1 (en) | Lid attach process and dispenser head | |
| US4967313A (en) | Electronic circuit and method of production thereof | |
| JPH05185762A (en) | Mask for creamy solder printing and soldering method of electric component using the mask | |
| JP3353814B2 (en) | Apparatus and method for enhancing stability of dispensed molten solder droplets | |
| JP2002290024A (en) | Flux coating method and flux coating device | |
| US5827951A (en) | Solderability test system | |
| Blackwell | Surface mount technology | |
| TW201110252A (en) | Method for manufacturing tight pitch, flip chip integrated circuit packages | |
| US6708871B2 (en) | Method for forming solder connections on a circuitized substrate | |
| JPH0648699B2 (en) | High density integrated circuit support and selective tinning apparatus for conductors of the support | |
| US10861714B2 (en) | Heating of a substrate for epoxy deposition | |
| JP6182873B2 (en) | Measuring method of contact angle of underfill resin | |
| Blackwell | 2. 4 Substrate Design Guidelines. 2.8 2. 5 Thermal Design Considerations 2.10 | |
| JP3374998B2 (en) | Flux coating method and apparatus | |
| JPH0760881B2 (en) | Solder application method for semiconductor devices | |
| Tuominen et al. | Qualification of flip chip fluxes by wetting balance and surface insulation resistance tests | |
| JP2603100B2 (en) | Method of manufacturing electronic component tower substrate | |
| JPH0927661A (en) | Wiring board | |
| JP2005262247A (en) | Flux coating apparatus and flux coating method | |
| JPH0123779Y2 (en) | ||
| JP2003110231A (en) | Wiring board, soldering method and solder-bonded structure | |
| Lanin et al. | Chapter 3. Solderability of Materials and Electronic Components | |
| JPH10146553A (en) | Adhesive coating device | |
| JPH06326451A (en) | Soldering method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080603 |