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JP2002289988A - Wiring board and method of cutting wiring board - Google Patents

Wiring board and method of cutting wiring board

Info

Publication number
JP2002289988A
JP2002289988A JP2001091253A JP2001091253A JP2002289988A JP 2002289988 A JP2002289988 A JP 2002289988A JP 2001091253 A JP2001091253 A JP 2001091253A JP 2001091253 A JP2001091253 A JP 2001091253A JP 2002289988 A JP2002289988 A JP 2002289988A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cutting
wiring
circuit board
line
cut
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001091253A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsunori Wakao
克則 若生
Masanori Takahashi
正則 高橋
Michio Hayakawa
美智雄 早川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Fujitsu Miyagi Electronics Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Fujitsu Miyagi Electronics Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd, Fujitsu Miyagi Electronics Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2001091253A priority Critical patent/JP2002289988A/en
Publication of JP2002289988A publication Critical patent/JP2002289988A/en
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は所定の切断位置で切断処理されるこ
とにより個片化される配線基板及びこの配線基板を用い
た半導体装置の製造方法に関し、設備コストの低減を図
りつつ切断位置に形成された配線を確実に切断すること
を課題とする。 【解決手段】 切断ライン11の形成位置にメッキライ
ン12Aが形成されており、切断ライン11にて切断処
理され個片化される際、メッキライン12Aが切断除去
される構成とされた配線基板であって、メッキライン1
2Aのパターン形状をジグザグ形状またはジグザグ形状
に類似したパターンとする。
(57) Abstract: The present invention relates to a wiring board that is cut into pieces by being cut at a predetermined cutting position and a method for manufacturing a semiconductor device using the wiring board, and reduces the equipment cost. It is another object to surely cut a wiring formed at a cutting position while cutting. SOLUTION: A plating board 12A is formed at a position where a cutting line 11 is formed, and the plating line 12A is cut and removed when cut and singulated by the cutting line 11. Oh, plating line 1
The pattern shape of 2A is a zigzag shape or a pattern similar to the zigzag shape.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は配線基板及び半導体
装置の製造方法に係り、特に所定の切断位置で切断処理
されることにより個片化される配線基板、及びこの配線
基板を用いた半導体装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a wiring substrate and a semiconductor device, and more particularly to a wiring substrate which is cut into pieces by cutting at a predetermined cutting position, and a semiconductor device using the wiring substrate. And a method for producing the same.

【0002】例えば、リジッド基板或いはフレキシブル
基板等の回路基板に半導体チップを搭載し、この半導体
チップを封止樹脂で封止した後に、回路基板と共に封止
樹脂をブレードにより切断し、これにより個片化された
半導体装置を製造する製造方法が知られている。
For example, a semiconductor chip is mounted on a circuit board such as a rigid board or a flexible board, and the semiconductor chip is sealed with a sealing resin. Then, the sealing resin is cut together with the circuit board by a blade. 2. Description of the Related Art A manufacturing method for manufacturing a semiconductor device is known.

【0003】ブレードにより切断処理は機械的な処理で
あるため、必然的に切断位置に誤差が生じる。よって、
切断位置に誤差が生じても、機能的に支障を生じること
なく配線基板を切断しうる方法が望まれている。
[0003] Since the cutting process by the blade is a mechanical process, an error is necessarily generated in the cutting position. Therefore,
Even if an error occurs in the cutting position, there is a demand for a method capable of cutting the wiring board without functionally impairing.

【0004】[0004]

【従来の技術】一般に、回路基板上に半導体チップを搭
載した構成の半導体装置は、生産性の向上等を図るた
め、いわゆる多数個取りを行なうことが行なわれてい
る。図1は、この種の半導体装置の製造方法に用いる回
路基板1を示している。回路基板1には複数の半導体チ
ップ(図に現れず)が配設されており、この半導体チッ
プは封止樹脂2により一括的に樹脂封止されている
(尚、図において、切断ライン3により画成される矩形
部分が半導体装置4である)。この回路基板1は、切断
処理装置(ダイサー)のブレードで切断ライン3を切断
することにより個片化され、これにより、図2に示す半
導体装置4が製造される。
2. Description of the Related Art Generally, in a semiconductor device having a structure in which a semiconductor chip is mounted on a circuit board, so-called multi-cavity processing is performed in order to improve productivity and the like. FIG. 1 shows a circuit board 1 used in this type of semiconductor device manufacturing method. A plurality of semiconductor chips (not shown in the figure) are disposed on the circuit board 1, and these semiconductor chips are collectively resin-sealed with a sealing resin 2 (in FIG. The defined rectangular portion is the semiconductor device 4). The circuit board 1 is cut into individual pieces by cutting the cutting line 3 with a blade of a cutting processing device (dicer), whereby the semiconductor device 4 shown in FIG. 2 is manufactured.

【0005】図3は、半導体チップを搭載する前の状態
の回路基板1を示している。同図に示すように、回路基
板1には各半導体装置の形成領域内に所定のパターンで
装置用配線7が形成されている。この装置用配線7は、
半導体チップと半田ボール5とを電気的に接続する機能
等を奏する。この装置用配線7は、腐食防止等の観点か
ら通常メッキ処理が実施される。この配線に対するメッ
キ処理は、電解メッキ法を用いて実施される。
FIG. 3 shows the circuit board 1 before a semiconductor chip is mounted. As shown in FIG. 1, device wirings 7 are formed in a predetermined pattern on a circuit board 1 in a formation region of each semiconductor device. This device wiring 7 is
It has a function of electrically connecting the semiconductor chip and the solder balls 5 and the like. This device wiring 7 is usually plated from the viewpoint of corrosion prevention and the like. The plating process for the wiring is performed using an electrolytic plating method.

【0006】この際、回路基板に多数形成される半導体
装置の領域毎に給電して電解メッキを行なうのではメッ
キ処理が煩雑化するため、回路基板1に形成されている
全ての装置用配線7を引き出し配線(以下、メッキライ
ン6という)で接続し、このメッキライン6を用いて一
括的に装置用配線7に対して電解メッキ処理することが
行なわれている。
At this time, if the power is supplied to each of the regions of the semiconductor device formed on the circuit board to perform the electrolytic plating, the plating process becomes complicated, so that all the device wirings 7 formed on the circuit board 1 are formed. Are connected by a lead-out wiring (hereinafter, referred to as a plating line 6), and the plating wiring 6 is used to collectively perform electrolytic plating on the device wiring 7.

【0007】しかしながら、このメッキライン6は装置
用配線7に対する電解メッキ処理においては必要である
が、個々の半導体装置4に個片化された場合には不要な
配線となる。このため、図4及び図5に示すように、半
導体装置4を個片化する際に回路基板1を切断する切断
ライン3にメッキライン6を配設し、切断ライン3を切
断する際に同時にメッキライン6を切断し、これにより
個々の半導体装置4の装置用配線7を電気的に独立させ
ることが行なわれている。従来、このメッキライン6
は、直線状の切断ライン3内に位置するよう直線状に形
成されていた。
However, this plating line 6 is necessary in the electrolytic plating process for the device wiring 7, but becomes unnecessary wiring when it is divided into individual semiconductor devices 4. For this reason, as shown in FIGS. 4 and 5, the plating line 6 is provided on the cutting line 3 for cutting the circuit board 1 when the semiconductor device 4 is singulated, and simultaneously when the cutting line 3 is cut. The plating line 6 is cut so that the device wiring 7 of each semiconductor device 4 is electrically independent. Conventionally, this plating line 6
Was formed linearly so as to be located in the linear cutting line 3.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、切断しよう
としている回路基板1は、例えば封止樹脂2を設けてい
る場合には封止樹脂2の収縮、また封止樹脂2の形成後
の樹脂収縮、及び切断処理装置の精度(切断精度、位置
決め精度等)等の問題より、必ずしも安定して切断でき
ず、切断ずれを起こす可能性がある。 従来では、上記
のようにメッキライン6が直線状であったため、切断ず
れが発生した場合にはメッキライン6を切り残してしま
い、切断後も装置用配線7がシートするおそれがあっ
た。
When the sealing resin 2 is provided, for example, the circuit board 1 to be cut shrinks, and the resin shrinks after the sealing resin 2 is formed. In addition, due to problems such as the accuracy of the cutting processing device (cutting accuracy, positioning accuracy, etc.), cutting cannot always be performed stably, and cutting deviation may occur. Conventionally, since the plating line 6 is linear as described above, the plating line 6 is left uncut when a cutting deviation occurs, and there is a risk that the device wiring 7 will be sheeted even after the cutting.

【0009】具体例を図6及び図7を用いて説明する。
図6は切断ずれが発生しない切断状態を示しており、図
7は切断ずれが発生した場合の切断状態を示している。
図6に示すように、切断ずれが発生していない場合に
は、メッキライン6の形成位置で切断処理が実施され、
よってメッキライン6は完全に除去された構成となって
いる。このため、製造された各個片化後基板8にはメッ
キライン6は残存せず、各装置用配線7はそれぞれ電気
的に分離された状態となっている。
A specific example will be described with reference to FIGS.
FIG. 6 shows a cutting state in which a cutting shift does not occur, and FIG. 7 shows a cutting state in which a cutting shift occurs.
As shown in FIG. 6, when no cutting displacement has occurred, a cutting process is performed at the position where the plating line 6 is formed,
Therefore, the plating line 6 is completely removed. For this reason, the plating line 6 does not remain on the manufactured individualized substrate 8, and each device wiring 7 is in an electrically separated state.

【0010】これに対し、切断ずれが発生すると、切断
ライン3の位置がメッキライン6の形成位置に対してず
れてしまう。いま、切断ライン3が図5に実施線で示す
正規位置から矢印X1方向に変位し、図中破線で示す位
置にずれてしまった場合を想定する。この状態で切断処
理を実施すると、図7に示すように、個片化後基板8B
では装置用配線7は分離されるが、個片化後基板8Aに
おいてはメッキライン6が残存してしまい、装置用配線
7はメッキライン6によりショートした状態を維持して
しまう。
On the other hand, if a cutting shift occurs, the position of the cutting line 3 shifts with respect to the position where the plating line 6 is formed. Now, it is assumed that the cutting line 3 is displaced from the normal position shown by the execution line in FIG. 5 in the direction of the arrow X1 and shifted to the position shown by the broken line in the drawing. When the cutting process is performed in this state, as shown in FIG.
In this case, the device wiring 7 is separated, but the plating line 6 remains on the substrate 8A after singulation, and the device wiring 7 remains short-circuited by the plating line 6.

【0011】図7に示すようなメッキライン6の残存を
防止するためには、切断ライン3Aの精度、即ち切断処
理装置による切断位置の精度τ1(以下、この精度を必
要精度という)を高める必要がある。必要精度τ1は、
回路基板1の切断幅(この切断幅は、切断にブレードを
用いた場合には、ブレードの刃幅となる)をAとし、メ
ッキライン6の幅をBとした場合、τ1=A−Bで表す
ことができる。また、切断処理装置に許容される公差を
α1とした場合、切断ライン3は図4に矢印X1方向に
ずれる場合と矢印X2方向にずれる場合があるため、こ
の公差α1はα1=τ1/2=(A−B)/2となる。
In order to prevent the plating line 6 from remaining as shown in FIG. 7, it is necessary to increase the accuracy of the cutting line 3A, that is, the accuracy τ1 of the cutting position by the cutting processing device (hereinafter, this accuracy is referred to as required accuracy). There is. The required accuracy τ1 is
When the cutting width of the circuit board 1 (this cutting width is the blade width of the blade when a blade is used for cutting) is A, and when the width of the plating line 6 is B, τ1 = AB Can be represented. If the tolerance allowed for the cutting apparatus is α1, the cutting line 3 may be shifted in the direction of arrow X1 or shifted in the direction of arrow X2 in FIG. (AB) / 2.

【0012】また、回路基板1として両面基板を用いた
場合には、表面と裏面にそれぞれ形成された配線の表裏
ずれも考慮する必要がある。更に、回路基板1としてフ
レキシブル基板(FPC)を用いた場合には、基板に形
成された配線パターンと、位置決め基準となる孔との位
置ずれも考慮する必要がある。これらの配線の誤差(以
下、配線の位置誤差Cという)も上記の必要精度に反映
させようとした場合、必要精度τ1はτ1=A−B−C
となり、公差α1はα1=τ1/2=(A−B−C)/
2となる。
When a double-sided board is used as the circuit board 1, it is necessary to consider the misalignment of the wiring formed on the front and back surfaces. Further, when a flexible board (FPC) is used as the circuit board 1, it is necessary to consider a positional shift between a wiring pattern formed on the board and a hole serving as a positioning reference. If these wiring errors (hereinafter referred to as wiring position errors C) are also to be reflected in the above required accuracy, the required accuracy τ1 is τ1 = A−B−C
And the tolerance α1 is α1 = τ1 / 2 = (ABC) /
It becomes 2.

【0013】ここで、上記した各式に、回路基板1の切
断に通常用いられる数値を代入してみる。通常、ブレー
ドの刃幅が200μmであり、またメッキライン6の幅
は70mであり、位置誤差Cは40μm程度であるた
め、必要精度τ1は90μmとなる。よって、切断処理
装置に許容される公差α1は、α1=45μmと非常に
小さな値となる。
Here, numerical values usually used for cutting the circuit board 1 are substituted into the above-mentioned equations. Usually, the blade width of the blade is 200 μm, the width of the plating line 6 is 70 m, and the position error C is about 40 μm, so that the required accuracy τ1 is 90 μm. Therefore, the tolerance α1 allowed for the cutting apparatus is a very small value of α1 = 45 μm.

【0014】この公差α1を満足するためには、非常に
高価な高精度の切断処理装置を用いる必要があり、設備
コストが上昇してしまう。また、この公差α1を満足さ
せないと、図7に示したように切断後にメッキライン6
が残存し、装置用配線7がショートしてしまうという問
題点があった。
In order to satisfy the tolerance α1, it is necessary to use a very expensive high-precision cutting apparatus, which increases equipment costs. If the tolerance α1 is not satisfied, as shown in FIG.
Remains, and there is a problem that the device wiring 7 is short-circuited.

【0015】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、設備コストの低減を図りつつ、切断位置に形成さ
れた配線を確実に切断しうる配線基板及び配線基板の切
断方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and provides a wiring board and a method of cutting a wiring board which can surely cut a wiring formed at a cutting position while reducing equipment costs. The purpose is to:

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明では、次に述べる各手段を講じたことを特徴
とするものである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present invention is characterized by taking the following means.

【0017】請求項1記載の発明は、切断位置に配線が
形成されており、前記切断位置にて切断処理されること
により前記配線が切断されると共に個片化される配線基
板であって、前記配線が、ジグザグ形状またはジグザグ
形状に類似した配線パターンで形成されていることを特
徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a wiring board in which wiring is formed at a cutting position, and the wiring is cut and singulated by being cut at the cutting position. The wiring is formed in a zigzag shape or a wiring pattern similar to the zigzag shape.

【0018】上記発明によれば、切断位置に形成された
配線の配線パターンが、ジグザグ形状またはジグザグ形
状に類似した形状とされているため、切断位置で回路基
板を切断し個片化した際、切断位置に形成された配線を
確実に切断することができる。よって、個片化された各
配線基板内において、切断位置に形成された配線に接続
された他の配線同士がショートすることを防止すること
ができる。
According to the above invention, since the wiring pattern of the wiring formed at the cutting position is formed in a zigzag shape or a shape similar to the zigzag shape, when the circuit board is cut into individual pieces at the cutting position, The wiring formed at the cutting position can be reliably cut. Therefore, in each of the individualized wiring boards, it is possible to prevent other wirings connected to the wiring formed at the cutting position from short-circuiting.

【0019】また、請求項2記載の発明は、請求項1記
載の配線基板において、前記切断位置に形成された配線
は、電解メッキ用配線であることを特徴とするものであ
る。
According to a second aspect of the present invention, in the wiring board according to the first aspect, the wiring formed at the cutting position is a wiring for electrolytic plating.

【0020】電解メッキ用配線は、回路基板の製造過程
において必要であるが、個片化された際には不要なもの
となるため、本発明の適用が有効である。
Although the wiring for electrolytic plating is necessary in the process of manufacturing the circuit board, it is unnecessary when the wiring is divided into individual pieces, so that the application of the present invention is effective.

【0021】また、請求項3記載の発明は、請求項1記
載の回路基板を、切断装置を用いて前記切断位置で切断
する回路基板の切断方法であって、前記ジグザグ形状ま
たは該ジグザグ形状に類似した配線パターンの振幅Eと
し、前記切断装置に設けられた切断幅をAとした場合、
α={(E−A)/2}+Aにより求められる公差αを満
足するよう切断処理を行なうことを特徴とするものであ
る。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for cutting a circuit board according to the first aspect of the present invention, wherein the circuit board is cut at the cutting position by using a cutting device, wherein the zigzag shape or the zigzag shape is formed. Assuming that the amplitude E of a similar wiring pattern is E and the cutting width provided in the cutting device is A,
The cutting process is performed so as to satisfy the tolerance α obtained by α = {(EA) / 2} + A.

【0022】上記の発明によれば、配線パターンの振幅
E及び切断幅Aに基づき算出された公差αを満足するよ
う切断処理を実施するため、切断位置に形成された配線
を精度よく切断することができる。
According to the above invention, the cutting process is performed so as to satisfy the tolerance α calculated based on the amplitude E and the cutting width A of the wiring pattern, so that the wiring formed at the cutting position can be cut accurately. Can be.

【0023】また、請求項4記載の発明は、請求項1記
載の回路基板を、切断装置を用いて前記切断位置で切断
する回路基板の切断方法であって、前記ジグザグ形状ま
たは該ジグザグ形状に類似した配線パターンの振幅Eと
し、前記切断装置に設けられた切断幅をAとし、前記配
線の形状誤差をFとし、前記配線の位置誤差をCとした
場合、α=[{(E−2F)−A}/2]+A−Cにより求
められる公差αを満足するよう切断処理を行なうことを
特徴とするものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of cutting a circuit board according to the first aspect of the present invention, wherein the circuit board is cut at the cutting position by using a cutting device, wherein the zigzag shape or the zigzag shape is formed. Assuming that the amplitude E of the similar wiring pattern is E, the cutting width provided in the cutting device is A, the shape error of the wiring is F, and the position error of the wiring is C, α = [{(E−2F ) -A} / 2] + AC, the cutting process is performed so as to satisfy the tolerance α.

【0024】上記の発明によれば、配線パターンの振幅
E、切断幅Aに加え、配線の形状誤差F及び位置誤差C
をも考慮して算出された公差αを満足するよう切断処理
を実施するため、切断位置に形成された配線をより精度
よく切断することができる。
According to the above invention, in addition to the wiring pattern amplitude E and the cutting width A, the wiring shape error F and the position error C
In addition, since the cutting process is performed so as to satisfy the tolerance α calculated in consideration of the above, the wiring formed at the cutting position can be cut with higher accuracy.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面と共に説明する。図8乃至図12は、本発明の一
実施例である回路基板10Aを説明するための図であ
る。図8は回路基板10Aの切断ライン11近傍を拡大
して示す平面図である。また、図9は回路基板10Aの
略全体を示す平面図である。また、図10及び図11は
回路基板10Aを個片化した状態を示す図である。更
に、図12は回路基板10Aの表面及び裏面に形成され
た装置用配線13を共に示す図である。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 8 to 12 are diagrams for explaining a circuit board 10A according to one embodiment of the present invention. FIG. 8 is an enlarged plan view showing the vicinity of the cutting line 11 of the circuit board 10A. FIG. 9 is a plan view showing substantially the entire circuit board 10A. FIGS. 10 and 11 are views showing a state where the circuit board 10A is divided into individual pieces. FIG. 12 is a view showing both the device wiring 13 formed on the front and back surfaces of the circuit board 10A.

【0026】回路基板10Aは例えばリジット基板(例
えば、ガラス繊維とエポキシ樹脂を組み合わせたFR−
R等)であり、半導体装置のインターポーザとして用い
られるものである。図8に示すように、回路基板10A
には所定のパターンで装置用配線13が形成されてい
る。また、本実施例の回路基板10Aは、図8に示すよ
うに、表面及び裏面にそれぞれ装置用配線13が形成さ
れている。同図において、一点鎖線で示すのが裏面に形
成された装置用配線13である。
The circuit board 10A is made of, for example, a rigid board (for example, FR-Fiber which combines glass fiber and epoxy resin).
R etc.), which is used as an interposer of a semiconductor device. As shown in FIG. 8, the circuit board 10A
The device wiring 13 is formed in a predetermined pattern. Further, as shown in FIG. 8, the circuit board 10A of this embodiment has device wirings 13 formed on the front surface and the back surface, respectively. In the figure, what is indicated by a dashed line is the device wiring 13 formed on the back surface.

【0027】本実施例の回路基板10Aも、生産性の向
上等を図るため、いわゆる多数個取りを行なう構成とさ
れている。このため、回路基板10Aには複数の半導体
装置形成領域23が形成されており(図9参照)、この
各半導体装置形成領域23は後に切断される切断ライン
11により画成されている。
The circuit board 10A of the present embodiment is also configured to perform so-called multi-cavity in order to improve productivity and the like. Therefore, a plurality of semiconductor device formation regions 23 are formed on the circuit board 10A (see FIG. 9), and each of the semiconductor device formation regions 23 is defined by a cutting line 11 to be cut later.

【0028】本実施例では、回路基板10Aを切断する
切断処理装置としてブレードを有したダイサーを用いる
が、切断ライン11の幅寸法はブレードの幅寸法と等し
く設定されている。以下、この切断ライン11の幅寸法
(即ち、ブレードの幅寸法)を切断幅Aというものとす
る。通常、この切断幅Aは、200μm程度である。
In this embodiment, a dicer having a blade is used as a cutting apparatus for cutting the circuit board 10A, but the width of the cutting line 11 is set to be equal to the width of the blade. Hereinafter, the width of the cutting line 11 (that is, the width of the blade) is referred to as a cutting width A. Usually, the cutting width A is about 200 μm.

【0029】一方、上記した装置用配線13は、腐食防
止等の観点から通常メッキ処理が実施される。この配線
に対するメッキ処理は、電解メッキ法を用いて実施され
る。この際、回路基板10Aに複数形成される半導体装
置形成領域23毎に給電して電解メッキを行なうのでは
メッキ処理が煩雑化する。
On the other hand, the above-mentioned device wiring 13 is usually plated from the viewpoint of corrosion prevention and the like. The plating process for the wiring is performed using an electrolytic plating method. At this time, if power is supplied to each of the plurality of semiconductor device forming regions 23 formed on the circuit board 10A to perform electrolytic plating, the plating process becomes complicated.

【0030】このため、回路基板10Aに形成されてい
る全ての装置用配線13をメッキライン12Aで接続
し、このメッキライン12Aを用いて一括的に複数の装
置用配線13に対して電解メッキ処理することが行なわ
れている。
For this reason, all the device wirings 13 formed on the circuit board 10A are connected by plating lines 12A, and a plurality of device wirings 13 are collectively subjected to electrolytic plating using the plating lines 12A. Is being done.

【0031】本実施例では、このメッキライン12Aの
配線パターンをジグザグ形状としたことを特徴とするも
のである。図8に示すように、本実施例においては、メ
ッキライン12Aは鋸歯状の配線パターンとされてい
る。
The present embodiment is characterized in that the wiring pattern of the plating line 12A has a zigzag shape. As shown in FIG. 8, in the present embodiment, the plating line 12A has a sawtooth wiring pattern.

【0032】以下、このジグザグ形状とされたメッキラ
イン12Aをジグザグ状メッキライン12Aというもの
とする。また、鋸歯状のジグザグ形状とされることによ
り、ジグザグ状メッキライン12AにはV字状の角部2
4が形成されるが、隣接する一対の角部24の図中矢印
X1,X2方向の離間距離を振幅Eというものとする。
Hereinafter, the zigzag plating line 12A is referred to as a zigzag plating line 12A. In addition, the zigzag shape of the sawtooth shape allows the zigzag plating line 12A to have a V-shaped corner portion 2.
4, the distance between the pair of adjacent corners 24 in the directions of arrows X1 and X2 in the drawing is referred to as amplitude E.

【0033】一方、前記したようにジグザグ状メッキラ
イン12Aは装置用配線13に対する電解メッキ処理に
おいては必要であるが、回路基板10Aを個片化した後
は不要となる配線となる。このため、本実施例では、切
断ライン11をジグザグ状メッキライン12Aの振幅E
の範囲内に配設した構成としている。具体的には、切断
ライン11は、その中心線11A(図8に一点鎖線で示
す)がジグザグ状メッキライン12Aの振幅Eの1/2
の位置になるよう、即ちジグザグ状メッキライン12A
の振幅中心と、切断ライン11の中心は一致するよう設
定されている。
On the other hand, as described above, the zigzag plating line 12A is necessary in the electrolytic plating process on the device wiring 13, but becomes unnecessary after the circuit board 10A is divided into individual pieces. For this reason, in the present embodiment, the cutting line 11 is changed to the amplitude E of the zigzag plating line 12A.
Is arranged within the range. Specifically, the cutting line 11 has a center line 11A (indicated by a dashed line in FIG. 8) having a half of the amplitude E of the zigzag plating line 12A.
, That is, the zigzag plating line 12A
And the center of the cutting line 11 are set to coincide.

【0034】この構成とすることにより、切断ライン1
1をブレードで切断し回路基板10Aを個片化する際、
合わせてジグザグ状メッキライン12Aも切断され、図
10に示すように、個片化された各個片化後基板15の
装置用配線13を電気的に独立ことができる。
With this configuration, the cutting line 1
When cutting the circuit board 10A into individual pieces by cutting 1 with a blade,
At the same time, the zigzag-shaped plating line 12A is also cut, and as shown in FIG. 10, the device wiring 13 of the singulated substrate 15 can be electrically independent.

【0035】ところで、先に説明したように、回路基板
10Aは、例えば半導体チップ0封止する封止樹脂を設
けている場合には、封止樹脂2の収縮、切断処理装置
(ダイサー)の切断精度や位置決め精度等の問題より、
切断ライン11がジグザグ状メッキライン12Aの振幅
中心位置から位置ずれを起こす可能性がある。従来で
は、メッキライン6が直線形状であったため、切断処理
装置(ダイサー)に要求される公差α1が小さく、これ
により設備費の高騰或いはメッキライン6の切り残しが
発生していたことは前述した通りである。
By the way, as described above, when the circuit board 10A is provided with, for example, a sealing resin for sealing the semiconductor chip 0, the sealing resin 2 contracts and the cutting device (dicer) cuts off. Due to problems such as accuracy and positioning accuracy,
There is a possibility that the cutting line 11 may be displaced from the amplitude center position of the zigzag plating line 12A. Conventionally, since the plating line 6 has a linear shape, the tolerance α1 required for the cutting processing device (dicer) is small, which causes a rise in equipment cost or an uncut portion of the plating line 6. It is on the street.

【0036】これに対して本実施例では、ジグザグ状メ
ッキライン12Aの配線パターンがジグザグ形状とされ
ているため、切断ライン11で回路基板10Aを切断し
た際、ジグザグ状メッキライン12Aを確実に切断する
ことができ、個片化された各個片化後基板15内におい
て装置用配線13同士がショートすることを防止するこ
とができる。また、回路基板10Aの切断を行なう切断
処理装置に要求される公差を大きくすることができ、設
備コストの低減を図ることができる。以下、その理由に
ついて説明する。
On the other hand, in the present embodiment, the zigzag plating line 12A has a zigzag wiring pattern. Therefore, when the circuit board 10A is cut along the cutting line 11, the zigzag plating line 12A is reliably cut. Therefore, it is possible to prevent the device wirings 13 from being short-circuited in the singulated substrate 15. Further, the tolerance required for the cutting processing device for cutting the circuit board 10A can be increased, and the equipment cost can be reduced. Hereinafter, the reason will be described.

【0037】切断処理後において、図8に示すようなジ
グザグ状メッキライン12Aの残存を防止するために要
求される切断ライン11の精度、即ち切断処理装置によ
る切断位置の精度τ2(必要精度)は、切断幅A及び振
幅Eからτ2=E−Aで求められる。また、切断処理時
に守るべき公差をα2とした場合、切断ライン11は図
8に矢印X1方向にずれる場合と矢印X2方向にずれる
場合があるため、この公差α2はα2=(τ2/2)+
A={(E−A)/2}+Aとなる。
After the cutting process, the accuracy of the cutting line 11 required to prevent the zigzag plating line 12A from remaining as shown in FIG. 8, that is, the accuracy τ2 (required accuracy) of the cutting position by the cutting processing device is as follows. Τ2 = EA from the cutting width A and the amplitude E. If the tolerance to be maintained during the cutting process is α2, the cutting line 11 may be shifted in the direction of the arrow X1 in FIG. 8 or may be shifted in the direction of the arrow X2, so that the tolerance α2 is α2 = (τ2 / 2) +
A = {(EA) / 2} + A.

【0038】いま、ジグザグ状メッキライン12Aの振
幅Eを300μm、切断幅Aを200μmすると、α2
=250μmとなる。従って、従来の直線状のメッキラ
イン6の時に要求される公差α1(前記の例では45μ
m)に対し、公差α2(=250μm)を大幅に上昇さ
せることができる。これにより、加工精度の低い切断処
理装置でも、ジグザグ状メッキライン12Aを確実に切
断し装置用配線13を独立させることができるため、設
備コストの低減を図りつつ装置用配線13にショートが
発生することを防止することができる。
Now, when the amplitude E of the zigzag plating line 12A is 300 μm and the cutting width A is 200 μm, α2
= 250 μm. Therefore, the tolerance α1 required for the conventional linear plating line 6 (45 μm in the above example).
m), the tolerance α2 (= 250 μm) can be greatly increased. As a result, the zigzag plating line 12 </ b> A can be reliably cut and the device wiring 13 can be made independent even in a cutting processing device with low processing accuracy, so that a short circuit occurs in the device wiring 13 while reducing equipment costs. Can be prevented.

【0039】一方、上記したように本実施例に係る回路
基板10Aは、図12に示すように、表面及び裏面にそ
れぞれ装置用配線13が形成されている。よって、表面
に形成された装置用配線13と、裏面に形成された装置
用配線13との間に位置ずれがある場合には、公差α1
を求める場合には、この位置ずれをも考慮する必要があ
る。更に、本実施例では回路基板10Aとしてリジッド
基板を用いているが、回路基板10Aとしてフレキシブ
ル基板(FPC)を用いた場合には、基板に形成された
配線パターンと、位置決め基準となる孔との位置ずれも
考慮する必要がある。以下、これらの配線の誤差を配線
の位置誤差Cという。
On the other hand, as described above, in the circuit board 10A according to the present embodiment, as shown in FIG. 12, the device wiring 13 is formed on each of the front surface and the back surface. Therefore, when there is a displacement between the device wiring 13 formed on the front surface and the device wiring 13 formed on the back surface, the tolerance α1
, It is necessary to consider this displacement. Further, in the present embodiment, a rigid board is used as the circuit board 10A. However, when a flexible board (FPC) is used as the circuit board 10A, the wiring pattern formed on the board and the hole serving as a positioning reference are used. It is necessary to consider the displacement. Hereinafter, these wiring errors are referred to as wiring position errors C.

【0040】また、ジグザグ状メッキライン12Aを形
成する際、ライン形状が複雑なジグザグ状であるため、
V字状の角部24が鋭角とはならず、湾曲してコーナー
部14Bが形成されることがある(図8における左側2
つのV字状の角部にはコーナー部14Bが形成されてい
る)。このコーナー部14Bが形成されていると、ジグ
ザグ状メッキライン12Aの振幅Eに誤差が発生してし
まう(以下、この誤差を配線の形状誤差Fという)。
When the zigzag plating line 12A is formed, the line shape is a complicated zigzag shape.
The V-shaped corner portion 24 may not be an acute angle but may be curved to form a corner portion 14B (left side 2 in FIG. 8).
Corner portions 14B are formed at the two V-shaped corner portions). If the corner portion 14B is formed, an error occurs in the amplitude E of the zigzag plating line 12A (hereinafter, this error is referred to as a wiring shape error F).

【0041】上記した配線の位置誤差C及び配線の形状
誤差Fをも考慮した場合、切断処理装置に許容される公
差α3は、α3=[{(E−2F)−A}/2]+A−Cと
なる。従って、この公差α3を満足する切断処理装置を
用いることにより、装置用配線13を確実に独立させる
ことができる。
In consideration of the wiring position error C and the wiring shape error F, the tolerance α3 allowed for the cutting apparatus is α3 = [{(E−2F) −A} / 2] + A−. C. Therefore, by using a cutting processing device that satisfies the tolerance α3, the device wiring 13 can be reliably made independent.

【0042】具体的には、ジグザグ状メッキライン12
Aの振幅Eを300μm、切断幅Aを200μm、配線
の位置誤差Cを40μm、配線の形状誤差Fを30μm
すると、切断処理装置に許容される公差α3はα3=1
80μmとなる。よって、配線の位置誤差C及び配線の
形状誤差Fをも考慮した場合も、従来の直線状のメッキ
ライン6の時に要求される公差α1(45μm)に対
し、公差α3(=180μm)を大幅に上昇させること
ができる。
Specifically, the zigzag plating line 12
The amplitude E of A is 300 μm, the cutting width A is 200 μm, the wiring position error C is 40 μm, and the wiring shape error F is 30 μm.
Then, the tolerance α3 allowed for the cutting apparatus is α3 = 1.
80 μm. Therefore, when the wiring position error C and the wiring shape error F are also taken into consideration, the tolerance α3 (= 180 μm) is greatly increased compared to the tolerance α1 (45 μm) required for the conventional linear plating line 6. Can be raised.

【0043】このように、配線の形状誤差F及び配線の
位置誤差Cを考慮して公差α3及び振幅Eを設定するこ
とにより、回路基板10Aの切断処理時において、ジグ
ザグ状メッキライン12Aをより精度よく切断すること
ができる。従って、切断処理後において、装置用配線1
3がショートすることを確実に防止することができる。
As described above, by setting the tolerance α3 and the amplitude E in consideration of the wiring shape error F and the wiring position error C, the zigzag plating line 12A can be more accurately formed during the cutting process of the circuit board 10A. Can be cut well. Therefore, after the cutting process, the device wiring 1
3 can be reliably prevented from being short-circuited.

【0044】尚、上記した実施例では、メッキラインを
鋸歯状のジグザグ形状とした。しかしながら、ジグザグ
状メッキライン12Aの形状は必ずしも鋸歯状とする必
要はなく、例えば図13に示すように矩形波状のジグザ
グ状メッキライン12Bとしてもよく、また所定の振幅
Eを得られる形状であれば他の形状(この形状をジグザ
グ形状に類似した配線パターンという)としてもよい。
In the above-described embodiment, the plating line is formed in a sawtooth zigzag shape. However, the shape of the zigzag plating line 12A does not necessarily have to be a saw-tooth shape, and may be, for example, a rectangular zigzag plating line 12B as shown in FIG. Other shapes (this shape is called a wiring pattern similar to a zigzag shape) may be used.

【0045】図14は、本発明を半導体装置22の製造
方法に適用した例を示している。図14(A)は、封止
樹脂19が配設された回路基板10Cを固定テーブル1
8に固定した状態を示している。回路基板10Cには認
識マーク20が形成されており、この認識マーク20を
カメラ21で検出することにより、切断処理装置による
切断位置の位置決めが行なわれる。
FIG. 14 shows an example in which the present invention is applied to a method for manufacturing a semiconductor device 22. FIG. 14A shows a case where the circuit board 10 </ b> C on which the sealing resin 19 is provided is fixed to the fixing table 1.
8 shows the state fixed. A recognition mark 20 is formed on the circuit board 10C, and by detecting the recognition mark 20 with the camera 21, the cutting position is determined by the cutting processing device.

【0046】回路基板10Cと切断処理装置との位置決
め処理が実施されると、切断処理装置はブレード25を
回転させ、図14(B)に示すように、既定の切断ライ
ン11に沿って回路基板10C及び封止樹脂19を一括
的に切断する。これにより、図14(C)に示す半導体
装置22が製造される。
When the positioning process between the circuit board 10C and the cutting processing device is performed, the cutting processing device rotates the blade 25 and, as shown in FIG. 10C and the sealing resin 19 are cut at once. Thus, the semiconductor device 22 shown in FIG. 14C is manufactured.

【0047】尚、回路基板の表裏面の双方に配線を形成
する場合には、上記した例では配線の位置誤差Cも考慮
して公差α3を求めた。しかしながら、表裏面における
配線の位置誤差Cが問題となるのは、切断処理装置で認
識を行なう面(図14に示す面26)の反対側の面(図
14に示す面27)である。このため、この面27に対
してのみ本発明を適用することも可能である。この場
合、面26に形成された配線と、面27に形成された配
線の位置ずれを考慮する必要がなくなるため、切断処理
装置が守るべき公差α4は切断幅Aとジグザグ状メッキ
ラインの幅Bのみにより求められる。具体的には、切断
処理装置が守るべき公差α4は、α4=(A−B)/2
により求めることができる。
In the case where wiring is formed on both the front and back surfaces of the circuit board, in the above example, the tolerance α3 was determined in consideration of the wiring position error C. However, the position error C of the wiring on the front and back surfaces poses a problem on the surface (the surface 27 shown in FIG. 14) opposite to the surface (the surface 26 shown in FIG. 14) on which recognition is performed by the cutting apparatus. Therefore, it is also possible to apply the present invention only to this surface 27. In this case, since there is no need to consider the positional deviation between the wiring formed on the surface 26 and the wiring formed on the surface 27, the tolerance α4 to be maintained by the cutting processing apparatus is the cutting width A and the width B of the zigzag plating line. Only required by. Specifically, the tolerance α4 to be maintained by the cutting apparatus is α4 = (A−B) / 2
Can be obtained by

【0048】[0048]

【発明の効果】上述の如く本発明によれば、切断位置で
回路基板を切断し個片化した際、切断位置に形成された
配線を確実に切断することができるため、個片化された
各配線基板内において、切断位置に形成された配線に接
続された他の配線同士がショートすることを防止するこ
とができる。
As described above, according to the present invention, when the circuit board is cut and cut into pieces at the cutting position, the wiring formed at the cutting position can be cut without fail. In each wiring board, it is possible to prevent other wirings connected to the wiring formed at the cutting position from short-circuiting.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の一例である回路基板を説明するための図
である。
FIG. 1 is a diagram for explaining a circuit board which is an example of a related art.

【図2】図1に示す回路基板から製造された半導体装置
を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a semiconductor device manufactured from the circuit board shown in FIG.

【図3】従来の一例である回路基板の詳細構造を説明す
るための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a detailed structure of a circuit board as an example of the related art.

【図4】ブレードの幅A、メッキラインの幅Bと公差α
の関係を示す図である。
FIG. 4 shows blade width A, plating line width B and tolerance α.
FIG.

【図5】従来の一例である回路基板の切断ライン近傍を
拡大して示す図である。
FIG. 5 is an enlarged view showing the vicinity of a cutting line of a circuit board as an example of the related art.

【図6】従来の回路基板を適正に切断した状態を示す図
である。
FIG. 6 is a view showing a state in which a conventional circuit board is appropriately cut.

【図7】従来の回路基板で発生する問題点を説明するた
めの図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a problem that occurs in a conventional circuit board.

【図8】本発明の一実施例である回路基板の切断ライン
近傍を拡大して示す図である。
FIG. 8 is an enlarged view showing the vicinity of a cutting line of a circuit board according to an embodiment of the present invention.

【図9】本発明の一実施例である回路基板を示す平面図
である。
FIG. 9 is a plan view showing a circuit board according to one embodiment of the present invention.

【図10】本発明の一実施例である回路基板を切断した
状態を示す図である(その1)。
FIG. 10 is a view showing a state in which a circuit board according to an embodiment of the present invention is cut (part 1).

【図11】本発明の一実施例である回路基板を切断した
状態を示す図である(その2)。
FIG. 11 is a view showing a state where a circuit board according to an embodiment of the present invention is cut (part 2).

【図12】回路基板の表裏に配線が形成されている場合
に発生する位置誤差を説明するための図である。
FIG. 12 is a diagram for explaining a position error that occurs when wiring is formed on the front and back of the circuit board.

【図13】本発明の変形例である回路基板の切断ライン
近傍を拡大して示す図である。
FIG. 13 is an enlarged view showing the vicinity of a cutting line of a circuit board according to a modification of the present invention.

【図14】本発明を適用した半導体装置の製造方法を説
明するための図である。
FIG. 14 is a diagram illustrating a method for manufacturing a semiconductor device to which the present invention is applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10A〜10C 回路基板 11 切断ライン 12A,12B ジグザグ状メッキライン 13 装置用配線 14A,14B コーナー部 15,15A,15B 個片化後基板 18 固定テーブル 19 封止樹脂 20 認識マーク 21 カメラ 22 半導体装置 Reference Signs List 10A to 10C Circuit board 11 Cutting line 12A, 12B Zigzag plating line 13 Device wiring 14A, 14B Corner portion 15, 15A, 15B Substrate after singulation 18 Fixed table 19 Sealing resin 20 Recognition mark 21 Camera 22 Semiconductor device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 若生 克則 宮城県柴田郡村田町大字村田字西ケ丘1番 地の1 株式会社富士通宮城エレクトロニ クス内 (72)発明者 高橋 正則 宮城県柴田郡村田町大字村田字西ケ丘1番 地の1 株式会社富士通宮城エレクトロニ クス内 (72)発明者 早川 美智雄 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 Fターム(参考) 5E338 AA16 BB31 CC01 CC04 CC06 CD03 CD12 CD17 EE11 EE32 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Katsunori Wakuo No. 1 Nishigaoka, Murata-cho, Shibata-gun, Miyagi-gun, Miyagi Prefecture 1 Fujitsu-Miyagi Electronics Co., Ltd. (72) Inventor Masanori Takahashi Shibata-gun, Miyagi Fujitsu Miyagi Electronics Co., Ltd. (72) Inventor Michio Hayakawa 4-1-1, Kamidadanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture F-term (reference) 5E338 AA16 BB31 CC01 CC04 CC06 CD03 CD12 CD17 EE11 EE32

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 切断位置に配線が形成されており、前記
切断位置にて切断処理されることにより前記配線が切断
されると共に個片化される配線基板であって、 前記配線が、ジグザグ形状またはジグザグ形状に類似し
た配線パターンで形成されていることを特徴とする配線
基板。
1. A wiring board in which wiring is formed at a cutting position, and the wiring is cut and singulated by being cut at the cutting position, wherein the wiring has a zigzag shape. Alternatively, a wiring board formed of a wiring pattern similar to a zigzag shape.
【請求項2】 請求項1記載の配線基板において、 前記切断位置に形成された配線は、電解メッキ用配線で
あることを特徴とする配線基板。
2. The wiring board according to claim 1, wherein the wiring formed at the cutting position is a wiring for electrolytic plating.
【請求項3】 請求項1記載の回路基板を、切断装置を
用いて前記切断位置で切断する回路基板の切断方法であ
って、 前記ジグザグ形状または該ジグザグ形状に類似した配線
パターンの振幅Eとし、前記切断装置に設けられた切断
幅をAとした場合、 α={(E−A)/2}+Aにより求められる公差αを満
足するよう切断処理を行なうことを特徴とする回路基板
の切断方法。
3. A method for cutting a circuit board according to claim 1, wherein said circuit board is cut at said cutting position by using a cutting device, wherein said zigzag shape or an amplitude E of a wiring pattern similar to said zigzag shape is used. Wherein a cutting width provided in the cutting device is A, a cutting process is performed so as to satisfy a tolerance α obtained by α = {(E−A) / 2} + A. Method.
【請求項4】 請求項1記載の回路基板を、切断装置を
用いて前記切断位置で切断する回路基板の切断方法であ
って、 前記ジグザグ形状または該ジグザグ形状に類似した配線
パターンの振幅Eとし、前記切断装置に設けられた切断
幅をAとし、前記配線の形状誤差をFとし、前記配線の
位置誤差をCとした場合、 α=[{(E−2F)−A}/2]+A−Cにより求められ
る公差αを満足するよう切断処理を行なうことを特徴と
する回路基板の切断方法。
4. The method for cutting a circuit board according to claim 1, wherein the circuit board is cut at the cutting position using a cutting device, wherein the zigzag shape or the wiring pattern similar to the zigzag shape has an amplitude E. When the cutting width provided in the cutting device is A, the shape error of the wiring is F, and the positional error of the wiring is C, α = [{(E−2F) −A} / 2] + A A method for cutting a circuit board, comprising: performing a cutting process so as to satisfy a tolerance α obtained by -C.
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JP2009206183A (en) * 2008-02-26 2009-09-10 Fujitsu Media Device Kk Electronic component and its manufacturing method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100797670B1 (en) * 2006-06-12 2008-01-23 삼성전기주식회사 Plating line formation method of printed circuit board
JP2009206183A (en) * 2008-02-26 2009-09-10 Fujitsu Media Device Kk Electronic component and its manufacturing method
US8153476B2 (en) 2008-02-26 2012-04-10 Taiyo Yuden Co., Ltd. Electronic component and method of manufacturing the same

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