JP2002289349A - Manufacturing method of organic EL display device - Google Patents
Manufacturing method of organic EL display deviceInfo
- Publication number
- JP2002289349A JP2002289349A JP2001090950A JP2001090950A JP2002289349A JP 2002289349 A JP2002289349 A JP 2002289349A JP 2001090950 A JP2001090950 A JP 2001090950A JP 2001090950 A JP2001090950 A JP 2001090950A JP 2002289349 A JP2002289349 A JP 2002289349A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic
- color
- substrate
- opening
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/20—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning
- H10K71/231—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by etching of existing layers
- H10K71/233—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by etching of existing layers by photolithographic etching
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】製造歩留まりを改善することが可能であるとと
もに、表示品位の良好な有機EL表示装置の製造方法を
提供することを目的とする。
【解決手段】第1基板100の一主面上における表示エ
リア内に、アノード電極104を形成し、各色の有機E
L素子を区画する隔壁130を形成し、表示エリアの外
周に隔壁130より高い支柱501を形成し、隔壁13
0によって区画された有機EL素子に対応するサイズの
開口部APを有するシャドウマスクMを支柱501に配
置し、第1基板100に対して角度の異なる位置からシ
ャドウマスクMの同一の開口部APを介してそれぞれ異
なる色の色材料を堆積し、各色の有機EL素子における
有機発光層を形成する、ことを特徴とする。
(57) [Summary] An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an organic EL display device capable of improving the manufacturing yield and having good display quality. An anode electrode is formed in a display area on one main surface of a first substrate, and an organic electrode of each color is formed.
The partition 130 for partitioning the L element is formed, and a column 501 higher than the partition 130 is formed on the outer periphery of the display area.
A shadow mask M having an opening AP of a size corresponding to the organic EL element partitioned by 0 is arranged on the support 501, and the same opening AP of the shadow mask M is positioned at a different angle with respect to the first substrate 100. Color materials of different colors are deposited through the respective layers to form an organic light emitting layer in the organic EL element of each color.
Description
【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、有機EL(エレ
クトロルミネッセンス)表示装置に係り、特に、製造歩
留まりを改善することが可能な有機EL表示装置の製造
方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic EL (electroluminescence) display device, and more particularly to a method of manufacturing an organic EL display device capable of improving a manufacturing yield.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、平面表示装置として、有機EL表
示装置が注目されている。この有機EL表示装置は、自
発光性素子であるため、視野角が広く、バックライトを
必要とせず薄型化が可能であり、消費電力が抑えられ、
且つ応答速度が速いといった特徴を有している。2. Description of the Related Art In recent years, an organic EL display device has attracted attention as a flat display device. Since this organic EL display device is a self-luminous element, it has a wide viewing angle, can be made thin without requiring a backlight, and has low power consumption.
In addition, it has a feature that the response speed is fast.
【0003】この有機EL表示装置は、一方の基板にア
ノード電極とカソード電極との間に発光能を有する有機
化合物を含む有機発光層を挟持した有機EL素子をマト
リクス状に配置することによって構成される。この有機
EL素子は、水分に対して非常に敏感であり、わずかな
水分(1ppm程度)でも破壊され、表示デバイスとし
ての表示性能を維持することができなくなるおそれがあ
る。[0003] This organic EL display device is constituted by arranging, in a matrix, organic EL elements each having an organic light emitting layer containing an organic compound having a light emitting ability interposed between an anode electrode and a cathode electrode on one substrate. You. This organic EL element is very sensitive to moisture, and may be destroyed even by a small amount of moisture (about 1 ppm), so that the display performance as a display device may not be maintained.
【0004】このため、有機EL素子における有機発光
層の積層工程は、蒸着プロセスによって行われるのが一
般的である。[0004] Therefore, the step of laminating the organic light emitting layer in the organic EL element is generally performed by a vapor deposition process.
【0005】通常、赤(R)、緑(G)、青(B)の3
色の有機EL素子を形成する場合、各画素の発光領域と
略同一形状の開口部が1色分配列されたシャドウマスク
を用意し、まず、赤色に対応した画素とこのシャドウマ
スクの開口部とをアライメントし、両者がずれないよう
に固定した後、赤色に発光する色材料を蒸着する。[0005] Usually, three colors of red (R), green (G) and blue (B) are used.
In the case of forming a color organic EL element, a shadow mask in which openings of substantially the same shape as the light emitting region of each pixel are arranged for one color is prepared. First, a pixel corresponding to red and an opening of this shadow mask are formed. Are aligned and fixed so that they do not shift, and a color material that emits red light is deposited.
【0006】続いて、同一のシャドウマスクを用いて、
真空を破らずに緑色に対応した画素とこのシャドウマス
クの開口部とをアライメントし、両者がずれないように
固定した後、緑色に発光する色材料を蒸着する。続い
て、同一のシャドウマスクを用いて、真空を破らずに青
色に対応した画素とこのシャドウマスクの開口部とをア
ライメントし、両者がずれないように固定した後、青色
に発光する色材料を蒸着する。Subsequently, using the same shadow mask,
A pixel corresponding to green and an opening of the shadow mask are aligned without breaking the vacuum, and both are fixed so as not to be displaced. Then, a color material that emits green light is deposited. Subsequently, using the same shadow mask, the pixel corresponding to blue and the opening of the shadow mask are aligned without breaking the vacuum, and fixed so that they do not shift. Evaporate.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】上述したように、有機
EL表示装置における有機発光層の積層工程において
は、各色ごとにシャドウマスクと各色の画素の発光領域
とを高精度にアライメントする必要がある。真空中にお
いて高精度のアライメントをするために製造装置が高価
になり、且つ、アライメントのために要する時間が長く
なり、製造歩留まりを低下させるといった問題がある。As described above, in the step of laminating the organic light emitting layers in the organic EL display device, it is necessary to align the shadow mask and the light emitting region of the pixel of each color with high precision for each color. . There is a problem that a manufacturing apparatus becomes expensive to perform high-precision alignment in a vacuum, and a time required for the alignment becomes long, thereby lowering a manufacturing yield.
【0008】また、各色ごとにアライメントのずれが生
じると、色ごとに表示特性が異なり、表示品位を劣化さ
せるといった問題が生じる。[0008] Further, if the misalignment occurs for each color, the display characteristics differ for each color, causing a problem of deteriorating the display quality.
【0009】この発明は、上述した問題点に鑑みなされ
たものであって、その目的は、製造歩留まりを改善する
ことが可能であるとともに、表示品位の良好な有機EL
表示装置の製造方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has as its object to improve the production yield and to provide an organic EL device having good display quality.
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a display device.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、請求項1に記載の有機EL表示装置の
製造方法は、基板の一主面上における表示エリア内に、
アノード電極とカソード電極との間に有機発光層を挟持
した複数色の有機EL素子を配置した有機EL表示装置
の製造方法において、各色の有機EL素子を区画する隔
壁を形成し、前記表示エリアの外周に前記隔壁より高い
支柱を形成し、前記隔壁によって区画された有機EL素
子に対応するサイズの開口部を有するマスクを前記支柱
に配置し、基板に対して角度の異なる位置から前記マス
クの同一の開口部を介してそれぞれ異なる色の色材料を
堆積し、各色の有機EL素子における有機発光層を形成
する、ことを特徴とする。According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an organic EL display device, the method comprising:
In a method for manufacturing an organic EL display device in which organic EL elements of a plurality of colors with an organic light emitting layer sandwiched between an anode electrode and a cathode electrode, a partition partitioning the organic EL elements of each color is formed. A column higher than the partition is formed on the outer periphery, and a mask having an opening having a size corresponding to the organic EL element partitioned by the partition is arranged on the column, and the same mask is positioned at a different angle with respect to the substrate. Color materials of different colors are deposited through the openings to form organic light emitting layers in the organic EL elements of each color.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】以下、この発明の有機EL表示装
置の製造方法の一実施の形態について図面を参照して説
明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of a method for manufacturing an organic EL display device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0012】図1に示すように、有機EL表示装置は、
2つの薄膜トランジスタすなわちTFT10及び20
と、補助容量素子30と、有機EL素子すなわち発光部
40とを備えている。有機EL素子40は、TFT10
を介して選択され、有機EL素子40に対する励起電力
は、TFT20により制御される。As shown in FIG. 1, the organic EL display device comprises:
Two thin film transistors, TFTs 10 and 20
, An auxiliary capacitance element 30 and an organic EL element, that is, a light emitting section 40. The organic EL element 40 includes a TFT 10
, And the excitation power for the organic EL element 40 is controlled by the TFT 20.
【0013】このような有機EL表示装置は、有機EL
素子40の行方向に沿って配置された複数の走査線Y
と、有機EL素子40の列方向に沿って配置された複数
の信号線Xとを備えている。TFT10及び20は、走
査線Yと信号線Xとの交差部近傍に配置されている。T
FT20は、有機EL素子40と直列に接続されてい
る。また、補助容量素子30は、TFT10と直列に、
且つTFT20と並列に接続されている。[0013] Such an organic EL display device is an organic EL display device.
A plurality of scanning lines Y arranged along the row direction of the element 40
And a plurality of signal lines X arranged along the column direction of the organic EL element 40. The TFTs 10 and 20 are arranged near the intersection between the scanning line Y and the signal line X. T
The FT 20 is connected in series with the organic EL element 40. The auxiliary capacitance element 30 is connected in series with the TFT 10,
Further, it is connected in parallel with the TFT 20.
【0014】すなわち、TFT10のゲート電極は、走
査線Yに接続され、ソース領域は、信号線Xに接続さ
れ、ドレイン領域は、補助容量素子30の一端及びTF
T20のゲート電極に接続されている。TFT20のソ
ース領域は、電源供給線Pに接続され、ドレイン領域
は、有機EL素子40のアノード電極に接続されてい
る。補助容量素子30の他端は、電源供給線Pに接続さ
れている。That is, the gate electrode of the TFT 10 is connected to the scanning line Y, the source region is connected to the signal line X, and the drain region is connected to one end of the auxiliary capacitance element 30 and the TF.
It is connected to the gate electrode of T20. The source region of the TFT 20 is connected to the power supply line P, and the drain region is connected to the anode electrode of the organic EL element 40. The other end of the auxiliary capacitance element 30 is connected to the power supply line P.
【0015】TFT10は、対応走査線Yを介して選択
されたときに対応信号線Xの駆動信号をTFT20及び
補助容量素子30に供給し、TFT20の駆動を制御す
る。TFT20は、駆動信号に基づいて電源供給線Pか
ら有機EL素子40に駆動電流を供給する。The TFT 10 supplies a driving signal of the corresponding signal line X to the TFT 20 and the auxiliary capacitance element 30 when selected via the corresponding scanning line Y, and controls the driving of the TFT 20. The TFT 20 supplies a drive current to the organic EL element 40 from the power supply line P based on the drive signal.
【0016】図2は、有機EL表示装置の構造を概略的
に示す断面図であり、ここでは、特に1画素分の有機E
L素子すなわち発光部の構造を示している。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the structure of an organic EL display device.
The structure of the L element, that is, the light emitting unit, is shown.
【0017】図2に示すように、有機EL表示装置1
は、第1基板100と、この第1基板に所定の間隔をお
いて対向して配置された第2基板200と、を備えてい
る。この第1基板100と第2基板200とは、シール
材300によって貼り合わされ、第1基板100と第2
基板200との間に密閉空間400を形成している。有
機EL素子40を構成する積層体40は、密閉空間40
0内に収容されている。As shown in FIG. 2, the organic EL display device 1
Includes a first substrate 100 and a second substrate 200 which is arranged to face the first substrate at a predetermined interval. The first substrate 100 and the second substrate 200 are bonded together with a sealant 300, and the first substrate 100 and the second substrate 200 are bonded together.
A closed space 400 is formed between the substrate 200 and the substrate 200. The stacked body 40 constituting the organic EL element 40 includes a closed space 40
0.
【0018】第1基板100は、例えばガラス基板など
の透明な絶縁性基板である。この第1基板100は、有
機EL素子40を構成する積層体を形成するために、T
FT20と、絶縁層102を介してTFT20のドレイ
ン領域にコンタクトしたアノード電極104と、アノー
ド電極104上に配置された有機EL層110と、アノ
ード電極104との間に有機EL層110を挟持するカ
ソード電極112と、カソード電極112を覆うカバー
メタル114を備えている。1画素分の有機EL素子4
0は、格子状に配置された隔壁130によって区画され
ている。The first substrate 100 is a transparent insulating substrate such as a glass substrate. The first substrate 100 is used to form a laminate that constitutes the organic EL element 40.
An FT 20, an anode electrode 104 in contact with a drain region of the TFT 20 via an insulating layer 102, an organic EL layer 110 disposed on the anode electrode 104, and a cathode sandwiching the organic EL layer 110 between the anode electrode 104 An electrode 112 and a cover metal 114 covering the cathode electrode 112 are provided. Organic EL element 4 for one pixel
0 is defined by partition walls 130 arranged in a lattice.
【0019】TFT20は、アモルファスシリコンまた
はポリシリコンの半導体薄膜を有している。アノード電
極104は、透明な絶縁膜102上に配置され、透明な
導電性部材、例えばインジウム−ティン−オキサイド
(ITO)によって形成されている。The TFT 20 has a semiconductor thin film of amorphous silicon or polysilicon. The anode electrode 104 is disposed on the transparent insulating film 102 and is formed of a transparent conductive member, for example, indium-tin-oxide (ITO).
【0020】有機EL層110は、ホール輸送層106
及び発光層108を含んでいる。すなわち、ホール輸送
層106は、アノード電極104上に配置され、芳香族
アミン誘導体やポリチオフェン誘導体、ポリアニリン誘
導体などの薄膜によって形成されている。発光層108
は、ホール輸送層106上に配置され、赤(R)、緑
(G)、または青(B)に発光する有機化合物によって
形成されている。この発光層108は、例えばAlq3
(アルミキノリ錯体)によって形成された薄膜を含み積
層構造や、PPV(ポリパラフェニレンビニレン)やポ
リフルオレン誘導体またはその前駆体などを積層して構
成されている。The organic EL layer 110 includes a hole transport layer 106
And a light emitting layer 108. That is, the hole transport layer 106 is disposed on the anode electrode 104 and is formed of a thin film of an aromatic amine derivative, a polythiophene derivative, a polyaniline derivative, or the like. Light emitting layer 108
Are formed on the hole transport layer 106 and are formed of an organic compound that emits red (R), green (G), or blue (B) light. The light emitting layer 108 is made of, for example, Alq 3
It has a laminated structure including a thin film formed by (aluminum quinolium complex), a PPV (polyparaphenylene vinylene), a polyfluorene derivative or a precursor thereof, and the like.
【0021】カソード電極112は、有機EL層110
上に配置され、電子注入の機能を果たす材料によって形
成された反射電極である。カソード電極112は、例え
ばバリウム、カルシウム、バリウム−イッテルビウムな
どを蒸着することによって形成される。この有機EL層
110は、カソード電極112からの電子注入効率を向
上するために、発光層108とカソード電極112との
間に電子輸送層を含んで構成しても良い。The cathode electrode 112 is formed of the organic EL layer 110
It is a reflective electrode formed of a material disposed thereon and performing the function of electron injection. The cathode electrode 112 is formed, for example, by depositing barium, calcium, barium-ytterbium, or the like. The organic EL layer 110 may include an electron transport layer between the light emitting layer 108 and the cathode electrode 112 in order to improve the efficiency of injecting electrons from the cathode electrode 112.
【0022】カバーメタル114は、カソード電極11
2上に配置され、例えばアルミニウムを蒸着することに
よって形成されている。The cover metal 114 is formed on the cathode electrode 11.
2 and is formed by evaporating aluminum, for example.
【0023】このように構成された有機EL素子40で
は、アノード電極104とカソード電極114との間に
挟持された発光層108に電子及びホールを注入し、こ
れらを再結合させることにより励起子を生成し、この励
起子の失活時に生じる所定波長の光放出により発光す
る。In the organic EL device 40 having the above-described structure, electrons and holes are injected into the light emitting layer 108 sandwiched between the anode electrode 104 and the cathode electrode 114, and the electrons and holes are recombined to generate excitons. It is generated and emits light by light emission of a predetermined wavelength generated when the exciton is deactivated.
【0024】次に、この有機EL表示装置の製造方法に
ついて説明する。Next, a method of manufacturing the organic EL display device will be described.
【0025】すなわち、図3の(a)に示すように、ま
ず、金属膜及び絶縁膜の成膜とパターニングとを繰り返
し、第1基板100の表示エリア内に、薄膜トランジス
タすなわちTFT20を形成する。また、同時に、第1
基板100に、各種電極配線を形成し、縦480ピクセ
ル、横640×3(R、G、B)ピクセル、合計約92
万画素を有したアレイ基板を形成する。That is, as shown in FIG. 3A, first, the formation and patterning of a metal film and an insulating film are repeated to form a thin film transistor, that is, a TFT 20 in the display area of the first substrate 100. At the same time, the first
Various electrode wirings are formed on the substrate 100, and 480 pixels vertically and 640 × 3 (R, G, B) pixels horizontally, and a total of about 92 pixels
An array substrate having 10,000 pixels is formed.
【0026】続いて、図3の(b)に示すように、CV
D法により、第1基板100上に透明な絶縁膜102、
例えば酸化シリコン膜を成膜する。さらに、エッチング
により、この絶縁膜102にTFT20のドレイン領域
まで貫通するコンタクトホール102aを形成する。Subsequently, as shown in FIG.
By a method D, a transparent insulating film 102 is formed on the first substrate 100,
For example, a silicon oxide film is formed. Further, a contact hole 102a penetrating to the drain region of the TFT 20 is formed in the insulating film 102 by etching.
【0027】続いて、図3の(c)に示すように、各画
素に対応して、透明な電極部材、例えばITOを配置し
てアノード電極104を形成する。このアノード電極1
04は、ITOを基板全面に堆積した後にフォトエッチ
ングプロセスによりパターニングすることによって形成
しても良いし、各画素に対応してITOをマスクスパッ
タ法で堆積することによって形成しても良い。Subsequently, as shown in FIG. 3C, a transparent electrode member, for example, ITO is arranged corresponding to each pixel to form an anode electrode 104. This anode electrode 1
04 may be formed by depositing ITO over the entire surface of the substrate and then patterning it by a photoetching process, or may be formed by depositing ITO by a mask sputtering method corresponding to each pixel.
【0028】続いて、図3の(d)に示すように、各画
素間の電気的なショートを防ぐために、各画素を囲むよ
うに格子状に隔壁130を形成する。この隔壁130
は、紫外線硬化型アクリル樹脂レジストを配置した後、
フォトリソグラフィ工程によってパターニングし、さら
に、220℃で30分間ベーク処理することによって形
成される。Subsequently, as shown in FIG. 3D, partition walls 130 are formed in a lattice shape so as to surround each pixel in order to prevent an electrical short between the pixels. This partition 130
After placing the UV curable acrylic resin resist,
It is formed by patterning by a photolithography process and further baking at 220 ° C. for 30 minutes.
【0029】続いて、図4の(a)に示すように、各画
素のアノード電極104上に有機EL層110を形成す
る。この実施の形態では、アノード電極104上に、ま
ず、ホール輸送層106を形成する。このホール輸送層
106は、例えばストライプ状のシャドウマスクを用い
て、各色ごとの画素に芳香族アミン誘導体などの材料を
直接蒸着することによって形成される。続いて、ホール
輸送層106上に、発光層108を積層する。この発光
層108は、同一のシャドウマスクを用いて、各色ごと
の画素に赤、緑、青の各色を発光する発光層108を直
接蒸着することによって形成される。Subsequently, as shown in FIG. 4A, an organic EL layer 110 is formed on the anode electrode 104 of each pixel. In this embodiment, first, a hole transport layer 106 is formed on the anode electrode 104. The hole transport layer 106 is formed by, for example, directly depositing a material such as an aromatic amine derivative on pixels for each color using a stripe-shaped shadow mask. Subsequently, the light-emitting layer 108 is stacked on the hole transport layer 106. The light-emitting layer 108 is formed by directly depositing the light-emitting layer 108 that emits each color of red, green, and blue on pixels of each color using the same shadow mask.
【0030】続いて、図4の(b)に示すように、有機
EL層110上に、カソード電極112を形成し、続け
てカソード電極112上にカバーメタル114を形成す
る。この実施の形態では、真空チャンバ内において、ま
ず、有機EL層110上にバリウム単体を蒸着すること
によってカソード電極112を形成する。続いて、カソ
ード電極112上にアルミニウム単体または合金を蒸着
することによってカバーメタル114を形成する。Subsequently, as shown in FIG. 4B, a cathode electrode 112 is formed on the organic EL layer 110, and subsequently, a cover metal 114 is formed on the cathode electrode 112. In this embodiment, first, in the vacuum chamber, the cathode electrode 112 is formed by depositing barium alone on the organic EL layer 110. Subsequently, a cover metal 114 is formed on the cathode electrode 112 by depositing aluminum alone or an alloy.
【0031】続いて、図4の(c)に示すように、封止
を行うための第2基板200の外周に沿って紫外線硬化
型のシール材300を塗布し、窒素ガスやアルゴンガス
などの不活性ガス雰囲気中において、有機EL素子40
を備えた第1基板100と貼り合わせる。これにより、
有機EL素子40は、不活性ガス雰囲気の密閉空間40
0内に封入される。その後、紫外線を照射して、シール
材300を硬化する。Subsequently, as shown in FIG. 4C, a UV-curable sealing material 300 is applied along the outer periphery of the second substrate 200 for sealing, and a nitrogen gas, an argon gas or the like is applied. In an inert gas atmosphere, the organic EL element 40
Is bonded to the first substrate 100 provided with. This allows
The organic EL element 40 is a closed space 40 in an inert gas atmosphere.
0. After that, the sealing material 300 is cured by irradiating ultraviolet rays.
【0032】このようにして形成したカラー表示型アク
ティブマトリクス有機EL表示装置は、実質的な厚さが
第1基板及び第2基板の厚みしかないにもかかわらず、
素子寿命に優れ、信頼性の高いものとなった。The color display type active matrix organic EL display device thus formed has a thickness substantially equal to that of the first substrate and the second substrate.
The device life was excellent and the reliability was high.
【0033】ところで、上述した有機EL表示装置の製
造方法において、有機EL層110を形成するプロセス
について、図5の(a)乃至(c)を参照してより詳細
に説明する。すなわち、この実施の形態では、同一のシ
ャドウマスクを用いて、基板に対して角度の異なる位置
からそれぞれ異なる色の色材料を堆積することにより有
機EL層を形成している。The process for forming the organic EL layer 110 in the above-described method for manufacturing an organic EL display device will be described in more detail with reference to FIGS. That is, in this embodiment, the organic EL layer is formed by depositing color materials of different colors from different angles on the substrate using the same shadow mask.
【0034】まず、図3の(d)に示したようにフォト
リソグラフィ工程により隔壁130を形成した第1基板
100の表示エリアの外周に、シャドウマスクMを支持
する支柱501を配置する。この支柱501は、感光性
ポリイミド樹脂をスクリーン印刷することによって形成
される。なお、この支柱501は、隔壁130と同一の
工程で同一の材料をパターニングして形成しても良い。First, as shown in FIG. 3D, columns 501 for supporting the shadow mask M are arranged on the outer periphery of the display area of the first substrate 100 on which the partition walls 130 have been formed by the photolithography process. The support 501 is formed by screen-printing a photosensitive polyimide resin. Note that the support column 501 may be formed by patterning the same material in the same step as the partition 130.
【0035】続いて、隔壁130によって区画された有
機EL素子の発光領域に対応するサイズの開口部APを
有するシャドウマスクMを支柱に配置する。このとき、
シャドウマスクMは、その開口部APが例えば緑色用の
有機EL素子の発光領域に対応するように位置合わせし
て固定される。Subsequently, a shadow mask M having an opening AP having a size corresponding to the light emitting region of the organic EL element partitioned by the partition 130 is disposed on the support. At this time,
The shadow mask M is positioned and fixed so that the opening AP thereof corresponds to, for example, the light emitting region of the organic EL element for green color.
【0036】続いて、真空蒸着装置により、図5の
(a)に示すように、第1基板100の法線Oに対して
第1の角度θ1だけ傾いた方向からシャドウマスクMの
開口部APを介してホール輸送層及び赤色に発光する有
機材料を連続して蒸着する。これにより、赤色画素60
0Rの発光領域に、ホール輸送層106及び赤色発光層
108を順に積層する。Subsequently, as shown in FIG. 5A, the opening AP of the shadow mask M is inclined by a first angle θ1 with respect to the normal O of the first substrate 100 by a vacuum evaporation apparatus. Through which a hole transport layer and an organic material emitting red light are continuously deposited. Thereby, the red pixel 60
The hole transport layer 106 and the red light emitting layer 108 are sequentially stacked in the light emitting region of 0R.
【0037】続いて、真空蒸着装置により、図5の
(b)に示すように、第1基板100の法線Oに平行な
方向からシャドウマスクMの開口部APを介してホール
輸送層及び緑色に発光する有機材料を連続して蒸着す
る。これにより、緑色画素600Gの発光領域に、ホー
ル輸送層106及び緑色発光層108を順に積層する。Subsequently, as shown in FIG. 5B, the hole transport layer and the green color are passed through the opening AP of the shadow mask M from the direction parallel to the normal line O of the first substrate 100 by a vacuum deposition apparatus. An organic material that emits light is continuously deposited. Thus, the hole transport layer 106 and the green light emitting layer 108 are sequentially stacked in the light emitting region of the green pixel 600G.
【0038】続いて、真空蒸着装置により、図5の
(c)に示すように、第1基板100の法線Oに対して
第2の角度θ2だけ傾いた方向からシャドウマスクMの
開口部APを介してホール輸送層及び青色に発光する有
機材料を連続して蒸着する。これにより、青色画素60
0Bの発光領域に、ホール輸送層106及び青色発光層
108を順に積層する。Subsequently, as shown in FIG. 5C, the opening AP of the shadow mask M is inclined from the direction inclined by the second angle θ2 with respect to the normal O of the first substrate 100 as shown in FIG. Through which a hole transport layer and an organic material that emits blue light are continuously deposited. Thereby, the blue pixel 60
The hole transport layer 106 and the blue light emitting layer 108 are sequentially stacked in the light emitting region of 0B.
【0039】すなわち、赤色画素600R及び青色画素
600Bは、それぞれ隔壁130を介して緑色画素60
0Gに隣接して配置されている。このため、緑色画素6
00Gについては、第1基板100の法線Oに平行な方
向からホール輸送層及び発光層を積層する。また、赤色
画素600Rについては、第1基板100の法線Oに対
して第1の角度だけ傾いた方向からホール輸送層及び発
光層を積層する。さらに、青色画素600Bについて
は、第1基板100の法線Oに対して第2の角度だけ傾
いた方向からホール輸送層及び発光層を積層する。これ
ら第1の角度θ1及び第2の角度θ2は、所定の基準線
すなわち基板の法線Oについて対称な角度である。That is, the red pixel 600R and the blue pixel 600B are respectively connected to the green pixel 60
It is arranged adjacent to 0G. Therefore, the green pixel 6
For 00G, a hole transport layer and a light emitting layer are stacked from a direction parallel to the normal O of the first substrate 100. For the red pixel 600R, the hole transport layer and the light emitting layer are stacked from a direction inclined by a first angle with respect to the normal O of the first substrate 100. Further, for the blue pixel 600B, the hole transport layer and the light emitting layer are stacked from a direction inclined by a second angle with respect to the normal O of the first substrate 100. The first angle θ1 and the second angle θ2 are symmetrical with respect to a predetermined reference line, that is, a normal line O of the substrate.
【0040】例えば、各色の画素に対応したアノード電
極104のピッチを(P+K)、隔壁130の高さを
H、隔壁130の底面の幅をK、支柱501の高さを
(H+G)、シャドウマスクMの開口部APの幅を(P
+2Δ)としたとき、 θ1=−tan−1(G/(P+K)) θ2=+tan−1(G/(P+K)) となる。なお、この実施の形態では、隔壁130の高さ
H=2μmであり、隔壁130の底面幅K=20μmで
あり、アノード電極104のピッチ(P+K)=60μ
mであり、支柱501の高さ(H+G)=42μmであ
った。For example, the pitch of the anode electrode 104 corresponding to each color pixel is (P + K), the height of the partition 130 is H, the width of the bottom surface of the partition 130 is K, the height of the support 501 is (H + G), and the shadow mask The width of the opening AP of M is (P
+ 2Δ), θ1 = −tan −1 (G / (P + K)) θ2 = + tan −1 (G / (P + K)) In this embodiment, the height H of the partition 130 is 2 μm, the bottom width K of the partition 130 is 20 μm, and the pitch (P + K) of the anode electrodes 104 is 60 μm.
m, and the height (H + G) of the column 501 was 42 μm.
【0041】真空蒸着装置において、ホール輸送層及び
発光層の蒸着源の位置を固定した場合、赤色画素600
Rにおける有機EL層の蒸着時にはシャドウマスクMを
備えた第1基板100を蒸着源と平行な水平面に対して
θ1の角度だけ傾け、緑色画素600Gにおける有機E
L層の蒸着時には第1基板100を水平面に平行とし、
青色画素600Bにおける有機EL層の蒸着時には第1
基板100を水平面に対してθ2の角度だけ傾ける。In a vacuum evaporation apparatus, when the positions of the evaporation sources of the hole transport layer and the light emitting layer are fixed, the red pixel 600
When the organic EL layer is deposited at R, the first substrate 100 provided with the shadow mask M is tilted by an angle of θ1 with respect to a horizontal plane parallel to the deposition source, and the organic E layer at the green pixel 600G is rotated.
At the time of deposition of the L layer, the first substrate 100 is parallel to a horizontal plane,
When the organic EL layer is deposited on the blue pixel 600B, the first
The substrate 100 is inclined by an angle θ2 with respect to the horizontal plane.
【0042】これにより、一度だけ位置合わせしたシャ
ドウマスクMを用いて、同一の開口部を介して、隣接し
て配置された3色の画素にそれぞれ対応する色の有機E
L層を積層することが可能となる。Thus, using the shadow mask M that has been aligned only once, through the same opening, the organic E of the color corresponding to each of the three color pixels arranged adjacent to each other.
L layers can be stacked.
【0043】なお、シャドウマスクMの開口部APの幅
(P+2Δ)は、図5の(a)及び(c)に示したよう
に第1基板100を傾けたときに略1画素分の幅とな
り、図5の(b)に示したように第1基板100を配置
したときには1画素分より若干幅広になるように設定さ
れている。これは、各色の画素に確実に有機EL層を蒸
着するためである。このとき、緑色画素600Gに蒸着
した有機EL層は、発光領域のみでなく隔壁130上に
も蒸着されるが、隔壁130が各色の画素を確実に分離
するような幅に形成されているため、隔壁130上に蒸
着された有機EL層が発光に寄与することがない。した
がって、見かけ上の発光領域の面積は、各色の画素につ
いてすべて同一にすることができる。The width (P + 2Δ) of the opening AP of the shadow mask M is approximately one pixel width when the first substrate 100 is inclined as shown in FIGS. 5A and 5C. When the first substrate 100 is arranged as shown in FIG. 5B, the width is set to be slightly wider than one pixel. This is to ensure that the organic EL layer is deposited on each color pixel. At this time, the organic EL layer deposited on the green pixel 600G is deposited not only on the light emitting region but also on the partition 130. However, since the partition 130 is formed to have a width to surely separate pixels of each color, The organic EL layer deposited on the partition 130 does not contribute to light emission. Therefore, the apparent area of the light emitting region can be the same for all the pixels of each color.
【0044】上述したように、この発明の有機EL表示
装置の製造方法によれば、シャドウマスクの開口部と所
定の色の画素における発光領域とを1度だけ位置合わせ
した後に固定し、それぞれ角度の異なる位置から同一の
シャドウマスクの開口部を介してそれぞれ異なる色の色
材料を堆積することにより、各色の有機EL層を形成し
ている。As described above, according to the method of manufacturing an organic EL display device of the present invention, the opening of the shadow mask and the light emitting area of the pixel of a predetermined color are aligned once, fixed, and then fixed. The organic EL layers of the respective colors are formed by depositing color materials of different colors from different positions through the openings of the same shadow mask.
【0045】このため、従来と比較してシャドウマスク
の位置合わせに要する時間を短縮することが可能とな
り、製造歩留まりを改善することが可能となる。また、
上述したような製造方法によって各色の有機EL層を形
成するため、各色ごとにシャドウマスクの位置ずれが生
じることがなく、色ごとに表示特性が異なるといった問
題を解消することが可能となる。For this reason, it is possible to shorten the time required for positioning the shadow mask as compared with the related art, and it is possible to improve the production yield. Also,
Since the organic EL layers of each color are formed by the above-described manufacturing method, it is possible to eliminate the problem that the displacement of the shadow mask does not occur for each color and the display characteristics are different for each color.
【0046】なお、この発明は、上述した実施の形態だ
けに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で様々に変形可能である。The present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified without departing from the gist thereof.
【0047】[0047]
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、製造歩留まりを改善することが可能であるととも
に、表示品位の良好な有機EL表示装置の製造方法を提
供することができる。As described above, according to the present invention, it is possible to improve the manufacturing yield and to provide a method of manufacturing an organic EL display device having good display quality.
【図1】図1は、この発明の一実施の形態にかかる有機
EL表示装置の構成を概略的に示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram schematically showing a configuration of an organic EL display device according to one embodiment of the present invention.
【図2】図2は、図1に示した有機EL表示装置の1画
素分の構造を概略的に示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view schematically showing a structure of one pixel of the organic EL display device shown in FIG.
【図3】図3の(a)乃至(d)は、この発明の有機E
L表示装置の製造方法を説明するための図である。3 (a) to 3 (d) show the organic E of the present invention.
It is a figure for explaining the manufacturing method of an L display.
【図4】図4の(a)乃至(c)は、この発明の有機E
L表示装置の製造方法を説明するための図である。4 (a) to 4 (c) show the organic E of the present invention.
It is a figure for explaining the manufacturing method of an L display.
【図5】図5の(a)乃至(c)は、この発明の有機E
L表示装置の製造方法における有機EL層の蒸着方法を
説明するための図である。5 (a) to 5 (c) show the organic E of the present invention.
It is a figure for explaining a vapor deposition method of an organic EL layer in a manufacturing method of an L display.
1…有機EL表示装置 10、20…TFT 30…補助容量素子 40…有機EL素子 100…第1基板 104…アノード電極 110…有機EL層 112…カソード電極 114…カバーメタル 200…第2基板 300…シール材 501…支柱 600(R、G、B)…画素 M…シャドウマスク AP…開口部 O…基板法線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL display device 10, 20 ... TFT 30 ... Auxiliary capacitance element 40 ... Organic EL element 100 ... 1st substrate 104 ... Anode electrode 110 ... Organic EL layer 112 ... Cathode electrode 114 ... Cover metal 200 ... 2nd substrate 300 ... Sealing material 501: Support column 600 (R, G, B): Pixel M: Shadow mask AP: Opening O: Substrate normal
Claims (6)
アノード電極とカソード電極との間に有機発光層を挟持
した複数色の有機EL素子を配置した有機EL表示装置
の製造方法において、 各色の有機EL素子を区画する隔壁を形成し、 前記表示エリアの外周に前記隔壁より高い支柱を形成
し、 前記隔壁によって区画された有機EL素子に対応するサ
イズの開口部を有するマスクを前記支柱に配置し、 基板に対して角度の異なる位置から前記マスクの同一の
開口部を介してそれぞれ異なる色の色材料を堆積し、各
色の有機EL素子における有機発光層を形成する、 ことを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。In a display area on one main surface of a substrate,
In a method of manufacturing an organic EL display device in which an organic EL element of a plurality of colors having an organic light emitting layer sandwiched between an anode electrode and a cathode electrode, a partition partitioning the organic EL elements of each color is formed, A column having a height higher than that of the partition wall is formed on the outer periphery, and a mask having an opening having a size corresponding to the organic EL element partitioned by the partition wall is arranged on the column. Wherein different color materials are deposited through the openings to form organic light emitting layers in the organic EL elements of each color.
機EL素子に対応するように位置合わせして配置され、 第1の色の色材料を基板の法線に平行な方向から前記マ
スクの開口部を介して堆積することを特徴とする請求項
1に記載の有機EL表示装置の製造方法。2. The mask according to claim 1, wherein the opening is positioned so as to correspond to the organic EL element of the first color, and the color material of the first color is arranged in a direction parallel to a normal line of the substrate. 2. The method according to claim 1, wherein the deposition is performed through an opening of the mask.
1の角度だけ傾けた方向から前記マスクの開口部を介し
て堆積し、第3の色の色材料を基板の法線に対して第2
の角度だけ傾けた方向から前記マスクの開口部を介して
堆積し、前記第1の角度及び前記第2の角度は、基板の
法線に対して対称な角度であることを特徴とする請求項
1または2に記載の有機EL表示装置の製造方法。3. A color material of a second color is deposited through an opening of the mask from a direction inclined by a first angle with respect to a normal of the substrate, and a color material of a third color is deposited on the substrate. Second to normal
And depositing through the opening of the mask from a direction inclined by an angle of (a), wherein the first angle and the second angle are angles symmetric with respect to a normal line of the substrate. 3. The method for manufacturing an organic EL display device according to 1 or 2.
機EL素子に対応するように位置合わせして配置され、 前記隔壁の高さをH及び底面の幅をKとし、各色の有機
EL素子のピッチを(P+K)とし、前記支柱の高さを
(H+G)とし、前記マスクの開口部の幅を(P+2
Δ)としたとき、 第1の色の色材料を基板の法線に平行な方向から前記マ
スクの開口部を介して堆積し、 第2の色の色材料を基板の法線に対してθ=−tan
−1(G/(P+K))だけ傾いた方向から前記マスク
の同一開口部を介して堆積し、 第3の色の色材料を基板の法線に対してθ=+tan
−1(G/(P+K))だけ傾いた方向から前記マスク
の同一開口部を介して堆積することを特徴とする請求項
1に記載の有機EL表示装置の製造方法。4. The mask is arranged so that an opening thereof corresponds to an organic EL element of a first color. The height of the partition wall is H and the width of a bottom surface is K. The pitch of the organic EL element is (P + K), the height of the support is (H + G), and the width of the opening of the mask is (P + 2).
Δ), the color material of the first color is deposited through the opening of the mask from a direction parallel to the normal line of the substrate, and the color material of the second color is θ with respect to the normal line of the substrate. = -Tan
−1 (G / (P + K)), deposited through the same opening of the mask from a direction inclined by (G / (P + K)), and a third color material is θ = + tan with respect to the normal to the substrate.
2. The method according to claim 1, wherein the deposition is performed through the same opening of the mask from a direction inclined by −1 (G / (P + K)). 3.
の色の有機EL素子は、それぞれ前記隔壁を介して前記
第1の色の有機EL素子に隣接して配置されたことを特
徴とする請求項3または4に記載の有機EL表示装置の
製造方法。5. The organic EL element of the second color and the organic EL element of the third color.
5. The method according to claim 3, wherein the organic EL elements of the first color are arranged adjacent to the organic EL elements of the first color with the partition walls interposed therebetween. 6. .
て堆積されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれ
か1項に記載の有機EL表示装置の製造方法。6. The method for manufacturing an organic EL display device according to claim 1, wherein the color materials of the respective colors are deposited by vapor deposition.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001090950A JP2002289349A (en) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | Manufacturing method of organic EL display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001090950A JP2002289349A (en) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | Manufacturing method of organic EL display device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002289349A true JP2002289349A (en) | 2002-10-04 |
Family
ID=18945660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001090950A Pending JP2002289349A (en) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | Manufacturing method of organic EL display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002289349A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100393908C (en) * | 2003-03-07 | 2008-06-11 | 精工爱普生株式会社 | Mask and method for manufacturing the same, mask manufacturing apparatus, and method for forming film of light emitting material |
-
2001
- 2001-03-27 JP JP2001090950A patent/JP2002289349A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100393908C (en) * | 2003-03-07 | 2008-06-11 | 精工爱普生株式会社 | Mask and method for manufacturing the same, mask manufacturing apparatus, and method for forming film of light emitting material |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1681363B (en) | self-illuminating display | |
| JP4489472B2 (en) | Organic electroluminescence display device | |
| US7629740B2 (en) | Display device with stacked layer body | |
| US7612498B2 (en) | Display element, optical device, and optical device manufacturing method | |
| CN103681746B (en) | Organic light-emitting display device and its manufacturing method | |
| US7817119B2 (en) | Display device and method of manufacturing the display device | |
| JP4574342B2 (en) | Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof | |
| US20020076847A1 (en) | Method of attaching layer material and forming layer in predetermined pattern on substrate using mask | |
| CN115295561A (en) | Display panel, display device and manufacturing method | |
| JP4651916B2 (en) | Method for manufacturing light emitting device | |
| EP2251906B1 (en) | Method of fabricating organic light emitting diode display | |
| CN1710999A (en) | Electro-luminescent display device | |
| KR100477565B1 (en) | A method for manufacturing the array substrate for flat panel display device and a method for manufacturing the flat panel display device | |
| CN1454034A (en) | Organic electroluminescent display device | |
| CN102428756A (en) | Method for manufacturing organic electroluminescent display apparatus | |
| JP5478954B2 (en) | Organic electroluminescence display device | |
| CN100539786C (en) | Organic electroluminescence display device and manufacturing method thereof | |
| CN1750721A (en) | Dual panel-type organic electroluminescent display device and method for manufacturing the same | |
| CN111788865B (en) | Organic EL display device | |
| JP4643138B2 (en) | Display device and manufacturing method thereof | |
| CN112753060B (en) | Display device and method for manufacturing the same | |
| JP2007213999A (en) | Organic EL device manufacturing method and organic EL device | |
| JP2005353398A (en) | Display element, optical device, and optical device manufacturing method | |
| US8004184B2 (en) | Electro-luminescent display device | |
| JP2003217834A (en) | Self-luminous display device and method of manufacturing the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20070514 |