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JP2002287712A - Liquid crystal panel and manufacturing method thereof - Google Patents

Liquid crystal panel and manufacturing method thereof

Info

Publication number
JP2002287712A
JP2002287712A JP2001092133A JP2001092133A JP2002287712A JP 2002287712 A JP2002287712 A JP 2002287712A JP 2001092133 A JP2001092133 A JP 2001092133A JP 2001092133 A JP2001092133 A JP 2001092133A JP 2002287712 A JP2002287712 A JP 2002287712A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
signal line
crystal panel
pixel electrode
storage capacitor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001092133A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeki Matsuoka
茂樹 松岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2001092133A priority Critical patent/JP2002287712A/en
Publication of JP2002287712A publication Critical patent/JP2002287712A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
  • Liquid Crystal Display Device Control (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a TFT liquid crystal panel in which the uniformity of the gray scale due to the viewing angle characteristics of the gray scale or the wavelength dispersion of light can be avoided. SOLUTION: An offset voltage is applied on a pixel electrode 14 by the capacitance coupling through a storage capacitance 15 by changing the voltage on the gate signal line 11 among at least four potentials including the on and off potentials, and the size of the storage capacitance 15 is made to mutually differ for every specified number of rows or columns.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜トランジスタ
ー(Thin Film Transistor、以下
TFT)を駆動素子として液晶を動作させる液晶パネル
に関し、詳細には、TFTを駆動素子とする液晶パネル
の階調均一性の向上に関するものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a liquid crystal panel which operates a liquid crystal by using a thin film transistor (TFT) as a driving element, and more particularly, to the uniformity of gradation of a liquid crystal panel using a TFT as a driving element. It relates to the improvement of.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、フラットパネルを用いた据え置き
モニターや壁掛けTV等に対する急速な市場要求が起こ
っており、液晶パネル開発のキーポイントはCRTやP
DP並の大型化となっている。しかしながら、こうした
用途においては大型化と同時にCRT並みの高性能/高
画質が要求されており、大型液晶パネルの開発には以下
のような画質上の問題があった。
2. Description of the Related Art In recent years, a rapid market demand has arisen for a stationary monitor using a flat panel, a wall-mounted TV, and the like.
It is as large as a DP. However, in such applications, a large size and a high performance / high image quality comparable to a CRT are required at the same time, and the development of a large liquid crystal panel has the following image quality problems.

【0003】まず、液晶パネルの大型化に伴い、一視点
から画面全体を眺める見込み角が拡大するため、液晶パ
ネルの視角特性のために画面上下間で輝度差が生じる問
題があった。特にTN(Twisted Nemati
c)モードのTFT液晶パネルの場合、画面上下間の階
調特性の視角依存性が大きいため、見込み角約5°〜3
0°においても画面上下方向に輝度差が生じる。
[0003] First, as the size of the liquid crystal panel increases, the prospective angle of viewing the entire screen from one viewpoint increases, and there is a problem that a difference in brightness occurs between the upper and lower parts of the screen due to the viewing angle characteristics of the liquid crystal panel. Especially TN (Twisted Nemati)
In the case of the c) mode TFT liquid crystal panel, since the viewing angle dependence of the gradation characteristics between the upper and lower parts of the screen is large, the expected angle is about 5 ° to 3 °.
Even at 0 °, a luminance difference occurs in the vertical direction of the screen.

【0004】一方、視覚特性を大幅に改善するため、T
FT液晶パネルの動作モードをTNモードからIPS
(In Plane Switching)モードに変
えることが提案され、既に実用化されている。このモー
ドはTFT基板上で横電界を発生させることにより液晶
を基板水平方向に駆動するものであり、基板垂直方向に
駆動するTNモードに比較して視角特性が大幅に改善さ
れる。したがって、IPSモードを用いれば、液晶パネ
ルを大型化による画面上下間で輝度差の問題は解消する
ことができる。
On the other hand, in order to greatly improve visual characteristics, T
Change the operation mode of FT liquid crystal panel from TN mode to IPS
(In Plane Switching) mode has been proposed and has already been put to practical use. In this mode, the liquid crystal is driven in the horizontal direction of the substrate by generating a horizontal electric field on the TFT substrate. The viewing angle characteristics are greatly improved as compared with the TN mode in which the liquid crystal is driven in the vertical direction of the substrate. Therefore, if the IPS mode is used, the problem of the luminance difference between the top and bottom of the screen due to the enlargement of the liquid crystal panel can be solved.

【0005】しかし、IPSモードの液晶パネルにおい
ては、ノーマリブラックのパネル構成のため、階調特性
の波長依存性が大きいという問題があった。階調特性、
即ち液晶パネル透過率と印加電圧の関係は、液晶層のリ
タデーション(複屈折)値に依存するが、液晶層のリタ
デーションは光の波長によって変化してしまう。このた
め、赤、緑、青色の画素間で階調特性が大きく変化し、
特に透過率の高い(輝度の明るい)階調部分で色により
階調が反転する問題が生じてしまう。
However, in the IPS mode liquid crystal panel, there is a problem that the wavelength characteristic of the gradation characteristic is large due to the normally black panel configuration. Gradation characteristics,
That is, the relationship between the liquid crystal panel transmittance and the applied voltage depends on the retardation (birefringence) value of the liquid crystal layer, but the retardation of the liquid crystal layer changes depending on the wavelength of light. For this reason, the gradation characteristic greatly changes between the red, green, and blue pixels,
In particular, there is a problem in that the gradation is inverted depending on the color in the gradation part with high transmittance (bright luminance).

【0006】また、TNモード及びIPSモードのいず
れにおいても、画面サイズの大型化に伴いゲート信号線
やソース信号線の配線抵抗、容量が増大する。そのた
め、入力された駆動信号波形は、入力側と終端側とで歪
みが生じる(波形形状が一致しない)。その結果、TF
Tを駆動させるON電圧波形にもなまりが生じ、ON電
圧不足、能力不足、時間不足によりクロストークが発生
する。さらに、大型化によりTFT形状・大きさの面内
不均一が生じる(プロセス、設備的要因)。その結果、
寄生容量が画面内で不均一となり、フリッカーが発生す
る。
In both the TN mode and the IPS mode, the wiring resistance and capacitance of the gate signal lines and the source signal lines increase as the screen size increases. Therefore, the input drive signal waveform is distorted between the input side and the terminal side (the waveform shapes do not match). As a result, TF
The ON voltage waveform for driving T also becomes dull, and crosstalk occurs due to insufficient ON voltage, insufficient capacity, and insufficient time. Furthermore, in-plane non-uniformity of the shape and size of the TFT occurs due to the increase in size (process and equipment factors). as a result,
The parasitic capacitance becomes non-uniform in the screen, and flicker occurs.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
解決するためになされたものであり、階調の視野角特性
や光波長分散に伴う階調不均一性を解消することのでき
るTFT液晶パネルを提供することを目的とする。ま
た、画面サイズの大型化に伴うフリッカやクロストーク
の発生を抑制することができるTFT液晶パネルを提供
することも目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and has a TFT which can eliminate non-uniformity in gradation due to viewing angle characteristics and light wavelength dispersion. It is intended to provide a liquid crystal panel. It is another object of the present invention to provide a TFT liquid crystal panel capable of suppressing the occurrence of flicker and crosstalk due to an increase in screen size.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本件発明に係る液晶パネルは、(1)ゲート信号線
又は共通電極線の電位を変動させることにより蓄積容量
を介して画素電極にオフセット電圧を印加する容量結合
駆動を行い、(2)従来は各画素ごとに均一に形成され
ていた蓄積容量を、画素の画面位置や表示色等によって
異ならせることにより、液晶パネルの画面位置や表示色
ごとの階調不均一を補正するものである。
In order to achieve the above object, a liquid crystal panel according to the present invention comprises the following steps: (1) changing the potential of a gate signal line or a common electrode line to a pixel electrode via a storage capacitor; Capacitive coupling drive for applying an offset voltage is performed. (2) By changing the storage capacity conventionally formed uniformly for each pixel depending on the screen position, display color, etc. of the pixel, the screen position of the liquid crystal panel is improved. This is for correcting unevenness of gradation for each display color.

【0009】まず、本件発明に係る液晶パネルの第1の
特徴である容量結合駆動について一般的な液晶パネルの
構造を参照しながら説明する。図8は、TNモードのT
FT液晶パネルに用いられる一般的なTFT基板の画素
部の構造を示す上面図である。画素電極84がマトリッ
クス状に配列され、その各行にゲート信号線81が形成
され、各列にソース信号線82が形成されている。ゲー
ト信号線81とソース信号線82の交差部には薄膜トラ
ンジスタが形成され、ドレイン電極83を介して画素電
極84に接続している。各画素電極84に接続して蓄積
容量85が形成されており、各蓄積容量は前段のゲート
信号線81に接続している。
First, the capacitive coupling drive, which is the first feature of the liquid crystal panel according to the present invention, will be described with reference to the structure of a general liquid crystal panel. FIG. 8 shows T in the TN mode.
It is a top view which shows the structure of the pixel part of the general TFT substrate used for FT liquid crystal panels. Pixel electrodes 84 are arranged in a matrix, a gate signal line 81 is formed in each row, and a source signal line 82 is formed in each column. A thin film transistor is formed at the intersection of the gate signal line 81 and the source signal line 82, and is connected to the pixel electrode 84 via the drain electrode 83. A storage capacitor 85 is formed by connecting to each pixel electrode 84, and each storage capacitor is connected to the gate signal line 81 in the preceding stage.

【0010】図8に示すTFT基板の一画素分の等価回
路は図12のようになる。図12において、121はn
−1段目のゲート信号線、122はn段目のゲート信号
線、123はソース信号線、124は薄膜トランジス
タ、125は画素電極、126は蓄積容量Cst、12
7は画素部における液晶の容量、128は薄膜トランジ
スタのドレイン電極とゲート信号線の間に形成された寄
生容量Cgdを表す。図12に示すように、画素電極1
25とゲート線121及び122の間は容量126及び
128によって結合されている。また、薄膜トランジス
タ124は画素電極への書き込み時間を除いてオフ状態
にある。このためゲート線121及び122の電位が変
動すると、画素電極125にはゲート線121及び12
2の電位変動を補償するようなオフセット電圧が加わ
る。
FIG. 12 shows an equivalent circuit for one pixel of the TFT substrate shown in FIG. In FIG. 12, 121 is n
-1st gate signal line, 122 is an nth gate signal line, 123 is a source signal line, 124 is a thin film transistor, 125 is a pixel electrode, 126 is a storage capacitor Cst, 12
Reference numeral 7 denotes a capacitance of the liquid crystal in the pixel portion, and reference numeral 128 denotes a parasitic capacitance Cgd formed between the drain electrode of the thin film transistor and the gate signal line. As shown in FIG.
25 and gate lines 121 and 122 are coupled by capacitors 126 and 128. Further, the thin film transistor 124 is in an off state except for a writing time to the pixel electrode. Therefore, when the potential of the gate lines 121 and 122 fluctuates, the gate lines 121 and 12
An offset voltage that compensates for the potential fluctuation of No. 2 is applied.

【0011】容量結合駆動とは、n−1段目のゲート信
号線121の電位を薄膜トランジスタのオン電位及びオ
フ電位を含む4つの電位間で変動させることにより、n
段目の画素電極125に蓄積容量126を介して容量結
合によるオフセット電圧を積極的に印加して、液晶12
7に加わる実効電圧を高めるものである。容量結合駆動
を行う場合におけるゲート信号線及び画素電極の電圧波
形の一例を図13に示す。図13において、131及び
132はn−1段目及びn段目のゲート信号線の電位を
表し、133は画素電極の電位を表す。ゲート信号線
は、オン電位及びオフ電位に加えて正のバイアス電位V
ge(+)及び負のバイアス電位Vge( −)の合計4
つの電位を取る。ゲート線の電位131及び132を、
例えば図10に示すようなタイミングで変化させると、
画素電極の電位133の振幅Vpは大略次の式の通りと
なる。
[0011] Capacitive coupling drive means that the potential of the gate signal line 121 of the (n-1) th stage is varied between four potentials including the ON potential and the OFF potential of the thin film transistor, thereby forming n
By positively applying an offset voltage due to capacitive coupling to the pixel electrode 125 of the stage through the storage capacitor 126, the liquid crystal 12
7 to increase the effective voltage. FIG. 13 shows an example of the voltage waveform of the gate signal line and the pixel electrode in the case of performing the capacitive coupling drive. In FIG. 13, 131 and 132 represent the potentials of the gate signal lines of the (n-1) th and nth stages, and 133 represents the potential of the pixel electrode. The gate signal line has a positive bias potential V in addition to the ON potential and the OFF potential.
ge (+) and the negative bias potential Vge ( −) total 4
Take one potential. The potentials 131 and 132 of the gate lines are
For example, if the timing is changed as shown in FIG.
The amplitude Vp of the potential 133 of the pixel electrode is approximately expressed by the following equation.

【数1】 (1)式において、右辺の第1項(=Vs)はソース信
号線から書きこまれた電圧をあらわし、右辺第2項は蓄
積容量を介して印加されたオフセット電圧を表す。
(1)式からわかるように、容量結合駆動を行うことに
より、液晶に加わる実効電圧をオフセット電圧分だけ高
くすることができる。
(Equation 1) In Equation (1), the first term on the right side (= Vs) represents the voltage written from the source signal line, and the second term on the right side represents the offset voltage applied via the storage capacitor.
As can be seen from equation (1), by performing the capacitive coupling drive, the effective voltage applied to the liquid crystal can be increased by the offset voltage.

【0012】また、図9に示すように蓄積容量95をゲ
ート線91ではなく共通電極線96との間に形成した場
合には、ゲート信号線91に代えて共通電極線96の電
位を変動させることによっても容量結合駆動を行うこと
ができる。この場合は、共通電極線96の電位を正のバ
イアス電位Vge(+)及び負のバイアス電位Vge
(−)の合計2つの電位の間で変化させる。例えば、共
通電極線96の電位を1フィールドごとにVge(+)
とVge(−)の間で反転させ、n段目のゲート信号線
がオフになった後にn段目の共通電極線の電位が反転す
るようにする。これにより、(1)式と同じオフセット
電圧を加えることができる。
When the storage capacitor 95 is formed between the common electrode line 96 instead of the gate line 91 as shown in FIG. 9, the potential of the common electrode line 96 is changed instead of the gate signal line 91. This also enables capacitive coupling drive. In this case, the potential of the common electrode line 96 is changed to the positive bias potential Vge (+) and the negative bias potential Vge.
The potential is changed between a total of two potentials (−) . For example, the potential of the common electrode line 96 is set to Vge (+) for each field.
And Vge (−) , so that the potential of the common electrode line of the nth stage is inverted after the gate signal line of the nth stage is turned off. As a result, the same offset voltage as in equation (1) can be applied.

【0013】さらに、図10及び図11に示すようなI
PSモード液晶パネルにおいても、次のような方法によ
って容量結合駆動を行うことができる。TNモード液晶
パネルではフィルタ基板に設けられた対向電極と画素電
極の間で基板垂直方向に電圧を印加するのに対し、IP
Sモード液晶パネルは、TFT基板に設けられた共通電
極と画素電極の間で基板水平方向に電圧を印加する点が
異なる。しかし、IPSモード液晶パネルにおいて容量
結合駆動を行う方法は、TNモード液晶パネルと全く同
様である。例えば、図10に示すIPSモード液晶パネ
ルは蓄積容量105はゲート信号線101に接続されて
いるが、この場合はゲート信号線101の電位を薄膜ト
ランジスタのオン電位及びオフ電位に加えて正のバイア
ス電位V ge(+)及び負のバイアス電位Vge(−)
の合計4つの電位の間で変化させることにより容量結合
駆動を行うことができる。また、図11に示すIPSモ
ード液晶パネルは蓄積容量115が共通電極線116と
の間に形成されているが、この場合は共通電極線116
の電位を正のバイアス電位Vge(+)及び負のバイア
ス電位Vge(−)の合計2つの電位の間で変化させる
ことにより、容量結合駆動を行うことができる。
Further, as shown in FIG. 10 and FIG.
The following method is also used for the PS mode liquid crystal panel.
Thus, capacitive coupling driving can be performed. TN mode liquid crystal
In the panel, the counter electrode and the pixel electrode provided on the filter substrate
A voltage is applied between the poles in the vertical direction of the substrate,
The S-mode liquid crystal panel has a common power supply provided on the TFT substrate.
The point that voltage is applied in the horizontal direction of the substrate between the pole and the pixel electrode is
different. However, the capacity of the IPS mode liquid crystal panel is
The coupling drive method is exactly the same as the TN mode liquid crystal panel.
It is like. For example, an IPS mode liquid crystal panel shown in FIG.
The storage capacitor 105 is connected to the gate signal line 101
However, in this case, the potential of the gate signal line 101 is set to a thin film transistor.
Positive vias in addition to transistor on and off potentials
Potential V ge (+)And the negative bias potential Vge (-)
Capacitive coupling by changing between a total of four potentials
Driving can be performed. The IPS module shown in FIG.
In the liquid crystal panel, the storage capacitor 115 is connected to the common electrode line 116.
Are formed between the common electrode lines 116 in this case.
To the positive bias potential Vge (+)And negative vias
Potential Vge (-)Between two potentials
Thus, capacitive coupling driving can be performed.

【0014】尚、容量結合駆動を行うためのバイアス電
位は正及び負の2つを設定することが必要であるが、さ
らに2つ以上のバイアス電位を設けても構わない。
It is necessary to set two positive and negative bias potentials for performing the capacitive coupling drive. However, two or more bias potentials may be provided.

【0015】次に、本件発明に係る液晶パネルの第2の
特徴である、蓄積容量を画素の画面位置や表示色等によ
って異ならせる点について説明する。上記式(1)に示
したように、容量結合駆動におけるオフセット電圧の大
きさは蓄積容量の大きさC に比例する。従って、画
素の画面位置や表示色等によって蓄積容量の大きさを異
ならせることにより、各画素に加わるオフセット電圧の
大きさを個別に制御して、画素間の階調不均一を補正す
ることができる。
Next, a description will be given of a second feature of the liquid crystal panel according to the present invention, namely, the point that the storage capacity is made different depending on the screen position and display color of the pixel. As shown in the above formula (1), the magnitude of the offset voltage in the capacitive coupling driving is proportional to the magnitude C s t of the storage capacitor. Therefore, by varying the magnitude of the storage capacitance depending on the screen position, display color, and the like of the pixel, the magnitude of the offset voltage applied to each pixel can be individually controlled to correct non-uniform gradation between pixels. it can.

【0016】例えば、液晶パネルの見込み角によって視
野角特性に基づく画面上下間の輝度差が生じている場合
には、蓄積容量の大きさを、行ごとに、画面上から下へ
向かって漸次変化させることによって輝度差を補正する
ことができる。ノーマリホワイトパネルにおいて、画面
上部が暗く画面下部が明るい場合には、各行に形成する
蓄積容量の大きさを画面上から下へ向かって漸次増加さ
せる。画面上部が明るく画面下部が暗い場合には、その
逆に画面上から下へ向かって漸次減少させる。
For example, when a luminance difference between the top and bottom of the screen based on the viewing angle characteristic occurs due to the expected angle of the liquid crystal panel, the magnitude of the storage capacity is gradually changed from top to bottom for each row. By doing so, the luminance difference can be corrected. In a normally white panel, when the upper part of the screen is dark and the lower part of the screen is bright, the size of the storage capacity formed in each row is gradually increased from the top to the bottom of the screen. If the upper part of the screen is bright and the lower part of the screen is dark, on the other hand, it gradually decreases from the top to the bottom of the screen.

【0017】また、液晶層のリタデーションの波長分散
によって表示色ごとの階調不均一が生じている場合は、
各画素の蓄積容量の大きさを、その画素の表示色に応じ
て変化させることにより表示色間の階調差を補正するこ
とができる。例えば、各画素が赤、緑、青の3原色のい
ずれかを表示しており、リタデーションの波長分散によ
り赤>緑>青の順に印加電圧がみかけ上高くなっている
場合は、青>緑>赤の順に蓄積容量を大きくする。
In the case where nonuniform gradation occurs for each display color due to the wavelength dispersion of the retardation of the liquid crystal layer,
By changing the size of the storage capacitance of each pixel according to the display color of that pixel, the gradation difference between the display colors can be corrected. For example, when each pixel displays one of the three primary colors of red, green, and blue, and the applied voltage is apparently higher in the order of red>green> blue due to the wavelength dispersion of the retardation, blue>green> Increase the storage capacity in the order of red.

【0018】また、本件発明に係る液晶パネルにおい
て、従来は各画素ごとに均一に形成されていたTFTの
設計寸法を、画素の画面位置によって異ならせることに
より、液晶パネルのクロストーク、フリッカを補正する
ことが好ましい。即ち、画面内の入力側と終端側とで入
力駆動波形が変化してクロストークが発生する場合に
は、変化する分が補正できるように、TFT形状を最適
化設計し、画面内終端側でON能力不足になる部分で
は、W/Lを増加させて、不足能力分を補正できるよう
にする。また、プロセス、設備的要因により、画面内の
寄生容量(Cgd面積)が変化してフリッカが発生する
場合には、その面積変化する分布に合わせて、TFTの
Cgd面積を予め最適化設計し形成する。尚、画面内で
Cgdが大きく形成されてしまう部分では、その変化分
補正したCgd面積が形成されるように小さくしてお
く。その逆もある。
Further, in the liquid crystal panel according to the present invention, crosstalk and flicker of the liquid crystal panel are corrected by changing the design dimensions of the TFT which is conventionally formed uniformly for each pixel depending on the screen position of the pixel. Is preferred. That is, when the input drive waveform changes between the input side and the end side in the screen and crosstalk occurs, the TFT shape is optimized and designed so that the change can be corrected. In a portion where the ON capability is insufficient, the W / L is increased so that the insufficient capability can be corrected. Further, when the parasitic capacitance (C gd area) in the screen changes due to process or equipment factors and flickers occur, the Cgd area of the TFT is optimized and designed in advance according to the distribution of the area change. Form. In a portion where the Cgd is formed large in the screen, the Cgd area is corrected so as to form a Cgd area corrected for the change. The reverse is also true.

【0019】尚、画素ごとの蓄積容量の大きさは、蓄積
容量を形成するためのフォトマスクの形状によって個別
に制御することができる。例えば、画素電極に接続した
容量形成用電極とゲート信号線との間に蓄積容量を形成
する場合には、容量形成用電極がゲート信号線と重なる
面積をフォトマスク上で変えることにより、蓄積容量の
大きさを変化させることができる。同様に、TFTのW
/L及びCgdの大きさもフォトマスクの形状によって
個別に制御できる。
Incidentally, the size of the storage capacitor for each pixel can be individually controlled by the shape of a photomask for forming the storage capacitor. For example, in the case where a storage capacitor is formed between a capacitance forming electrode connected to a pixel electrode and a gate signal line, the area where the capacitance forming electrode overlaps the gate signal line is changed on a photomask, so that the storage capacitance is changed. Can be changed. Similarly, the TFT W
The magnitudes of / L and Cgd can also be individually controlled by the shape of the photomask.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下本発明について図面を参照し
ながら説明する。 実施の形態1.図1は、本発明の実施の形態1に係る液
晶パネルにおけるTFT基板の画素部を示す上面図であ
る。本実施の形態では、蓄積容量をゲート信号線上に形
成したTNモード液晶パネルにおいて、液晶パネルの見
込み角によって生ずる画面上下間の輝度差を補正するた
めの構成を示す。尚、ここではノーマリホワイト表示の
TNモード液晶パネルにおいて画面上部が暗く、画面下
部が明るい場合を例に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings. Embodiment 1 FIG. FIG. 1 is a top view showing a pixel portion of a TFT substrate in the liquid crystal panel according to Embodiment 1 of the present invention. In the present embodiment, a configuration for correcting a luminance difference between a top and a bottom of a screen caused by an expected angle of the liquid crystal panel in a TN mode liquid crystal panel having a storage capacitor formed on a gate signal line is described. Here, a case where the upper part of the screen is dark and the lower part of the screen is bright in a TN mode liquid crystal panel of normally white display will be described as an example.

【0021】TFT基板の画素部には、画面電極14が
マトリックス状に形成され、各行ごとにゲート信号線1
1が、各列ごとにソース信号線12が形成されている。
ゲート信号線11とソース信号線12が交差する部分
に、ゲート信号線11をゲート電極、ソース信号線12
をソース電極として薄膜トランジスタが形成され、ドレ
イン電極13を介して画素電極14と電気的に接続して
いる。
In a pixel portion of the TFT substrate, screen electrodes 14 are formed in a matrix, and a gate signal line 1 is provided for each row.
1, a source signal line 12 is formed for each column.
The gate signal line 11 is connected to the gate electrode and the source signal line 12 at a portion where the gate signal line 11 and the source signal line 12 intersect.
Is formed as a source electrode, and is electrically connected to the pixel electrode 14 via the drain electrode 13.

【0022】画素電極14には、蓄積容量形成用の電極
15が接続され、電極15が前段のゲート線11と絶縁
膜を介して重なることにより蓄積容量が形成されてい
る。蓄積容量形成用の電極15は、ゲート電極11との
重なり面積が行ごとに漸次増加するように形成されてい
る。これにより各画素の蓄積容量は、画素の行ごとに、
画面上から下に向かって漸次増加する。
An electrode 15 for forming a storage capacitor is connected to the pixel electrode 14. The storage capacitor is formed by overlapping the electrode 15 with the previous gate line 11 via an insulating film. The storage capacitor forming electrode 15 is formed such that the overlapping area with the gate electrode 11 gradually increases for each row. This allows the storage capacity of each pixel to be:
It gradually increases from the top to the bottom of the screen.

【0023】本実施の形態に係る液晶パネルは、各画素
電極14に蓄積容量に比例したオフセット電圧がかかる
ように容量結合駆動され、ゲート信号線11は、オン電
位、オフ電位、正のバイアス電位Vge(+)及び負の
バイアス電位Vge(−)の合計4つの電位間を図10
に示す波形で変化する。したがって、各行の画素電極1
4に印加されるオフセット電圧が画面上から下に向かっ
て順次大きくなり、画面上下間の輝度差が補正される。
尚、画面上下方向のオフセット電圧量の傾きは、ゲート
信号線11のバイアス電位の高さVge(+)及びV
ge(−)によって変化する。したがって、ゲート信号
線11のバイアス電位の設定を調整することにより、画
面上下方向の階調の補正量を最適化することができる。
The liquid crystal panel according to the present embodiment is capacitively coupled so that an offset voltage proportional to the storage capacitance is applied to each pixel electrode 14, and the gate signal line 11 is turned on, off, and positively biased. FIG. 10 shows the relationship between a total of four potentials of Vge (+) and the negative bias potential Vge (−) .
The waveform changes as shown in FIG. Therefore, the pixel electrode 1 of each row
The offset voltage applied to 4 gradually increases from the top to the bottom of the screen, and the luminance difference between the top and bottom of the screen is corrected.
Note that the inclination of the offset voltage amount in the vertical direction of the screen is determined by the heights Vge (+) and Vge of the bias potential of the gate signal line 11.
Ge (-) . Therefore, by adjusting the setting of the bias potential of the gate signal line 11, the correction amount of the gradation in the vertical direction of the screen can be optimized.

【0024】本実施の形態によれば、各ゲート信号線毎
のオフセット印可電圧量を最適化して、画面上下間(ゲ
ート信号線毎)の見込み角による階調特性の違い(輝度
差)が低減でき、大型TFT−LCDに於ける性能・品
質課題の1つの改善ができる。
According to the present embodiment, the offset application voltage amount for each gate signal line is optimized, and the difference in the gradation characteristics (luminance difference) due to the expected angle between the upper and lower sides of the screen (for each gate signal line) is reduced. As a result, one of the performance and quality issues in the large TFT-LCD can be improved.

【0025】実施の形態2.図2は、本発明の実施の形
態2に係る液晶パネルにおけるTFT基板の画素部を示
す上面図である。本実施の形態は、蓄積容量を共通電極
線上に形成したTNモード液晶パネルにおいて、液晶パ
ネルの見込み角によって生ずる画面上下間の輝度差を補
正するための構成を示す。尚、実施の形態1と同様に、
ノーマリホワイト表示のTNモード液晶パネルにおいて
画面上部が暗く、画面下部が明るい場合を例に説明す
る。
Embodiment 2 FIG. 2 is a top view showing a pixel portion of a TFT substrate in a liquid crystal panel according to Embodiment 2 of the present invention. This embodiment shows a configuration for correcting a luminance difference between the upper and lower portions of a screen caused by an expected angle of a liquid crystal panel in a TN mode liquid crystal panel having a storage capacitor formed on a common electrode line. Incidentally, as in the first embodiment,
An example in which the upper part of the screen is dark and the lower part of the screen is bright in a TN mode liquid crystal panel of normally white display will be described.

【0026】TFT基板の画素部には、実施の形態1と
同様に画面電極24、ゲート信号線21、ソース信号線
22、及びドレイン電極23が形成されており、さら
に、ゲート信号線21と平行して独立した共通電極線2
6が画素電極24の下部に形成されている。画素電極2
4とその下部に形成された共通電極線26の間は絶縁層
が形成されており、画素電極24と共通電極線26の重
なり合った領域25が蓄積容量となる。
In the pixel portion of the TFT substrate, a screen electrode 24, a gate signal line 21, a source signal line 22, and a drain electrode 23 are formed as in the first embodiment. And independent common electrode line 2
6 is formed below the pixel electrode 24. Pixel electrode 2
An insulating layer is formed between the pixel electrode 4 and the common electrode line 26 formed thereunder, and a region 25 where the pixel electrode 24 and the common electrode line 26 overlap serves as a storage capacitor.

【0027】共通電極線26は、画素電極24と重なり
合った領域25の面積が画面上から下に向かって行ごと
に漸次増加するように形成されている。これにより各画
素の蓄積容量は、画素の行ごとに、画面上から下に向か
って漸次増加する。
The common electrode line 26 is formed such that the area of the region 25 overlapping the pixel electrode 24 gradually increases from the top of the screen to the bottom for each row. Thereby, the storage capacity of each pixel gradually increases from the top of the screen to the bottom for each row of pixels.

【0028】本実施の形態に係る液晶パネルは、各画素
電極24に蓄積容量に比例したオフセット電圧がかかる
ように容量結合駆動され、共通電極線26は、正のバイ
アス電位Vge(+)及び負のバイアス電位V
ge(−)の電位間を変化する。したがって、各行の画
素電極24に印加されるオフセット電圧が画面上から下
に向かって順次大きくなり、画面上下間の輝度差が補正
される。尚、画面上下方向のオフセット電圧量の傾きは
共通電極線26のバイアス電位の高さによって変化する
ため、共通電極線26のバイアス電位を調整することに
より画面上下方向の階調の補正量を最適化することがで
きる。
The liquid crystal panel according to the present embodiment is driven by capacitive coupling so that an offset voltage proportional to the storage capacitance is applied to each pixel electrode 24, and the common electrode line 26 has a positive bias potential Vge (+) and Negative bias potential V
It changes between the potentials of ge (-) . Therefore, the offset voltage applied to the pixel electrodes 24 in each row increases sequentially from the top to the bottom of the screen, and the luminance difference between the top and bottom of the screen is corrected. Since the inclination of the amount of offset voltage in the vertical direction of the screen changes depending on the height of the bias potential of the common electrode line 26, the amount of gradation correction in the vertical direction of the screen is optimized by adjusting the bias potential of the common electrode line 26. Can be

【0029】実施の形態3.図3は、本発明の実施の形
態3に係る液晶パネルにおけるTFT基板の画素部を示
す上面図である。本実施の形態では、蓄積容量をゲート
信号線上に形成したIPSモード液晶パネルにおいて、
液晶層のリタデーションの波長依存性によって生じる表
示色の異なる画素間の階調差を補正するための構成を示
す。尚、ここではノーマリブラック表示のIPSモード
液晶パネルにおいて赤>緑>青の順に階調が明るくなっ
ている場合を例に説明する。
Embodiment 3 FIG. 3 is a top view showing a pixel portion of a TFT substrate in a liquid crystal panel according to Embodiment 3 of the present invention. In the present embodiment, in an IPS mode liquid crystal panel in which a storage capacitor is formed on a gate signal line,
4 shows a configuration for correcting a gradation difference between pixels of different display colors caused by the wavelength dependence of the retardation of the liquid crystal layer. Here, an example in which the gray level becomes brighter in the order of red>green> blue in the normally black display IPS mode liquid crystal panel will be described.

【0030】TFT基板の画素部には、画面電極34が
マトリックス状に形成され、各行ごとにゲート信号線3
1及び共通電極線36が、各列ごとにソース信号線32
が形成されている。ゲート信号線11とソース信号線1
2が交差する部分に、ゲート信号線11をゲート電極、
ソース信号線12をソース電極、画素電極34の一部を
ドレイン電極として薄膜トランジスタが形成されてい
る。画素電極34は絶縁層を介して前段のゲート信号線
31に重なるように形成されており、画素電極34とゲ
ート信号線31の重なった領域35A〜35Cが蓄積容
量となる。IPSモードパネルにおいては、画素電極3
4と共通電極36の間に印加する電圧によって液晶を基
板水平方向に駆動する。
In the pixel portion of the TFT substrate, screen electrodes 34 are formed in a matrix, and the gate signal lines 3 are provided for each row.
1 and the common electrode line 36 are connected to the source signal line 32 for each column.
Are formed. Gate signal line 11 and source signal line 1
The gate signal line 11 is connected to the gate electrode at the intersection of
A thin film transistor is formed using the source signal line 12 as a source electrode and a part of the pixel electrode 34 as a drain electrode. The pixel electrode 34 is formed so as to overlap the preceding gate signal line 31 via an insulating layer, and the regions 35A to 35C where the pixel electrode 34 and the gate signal line 31 overlap each other serve as storage capacitors. In the IPS mode panel, the pixel electrode 3
The liquid crystal is driven in the horizontal direction of the substrate by a voltage applied between the common electrode 4 and the common electrode 36.

【0031】図3に示すTFT基板において、各画素電
極34A〜34Cは3列を1組として各列が赤、緑、青
の3色を表示する。このために、各列ごとに表示色に対
応した映像信号がソース信号線32から供給され、TF
T基板に対向して貼り合わされるカラーフィルタ基板に
は図7に示すように3色の色層である赤72A、緑72
B、青72Cが縦ストライプ状に形成される。
In the TFT substrate shown in FIG. 3, each of the pixel electrodes 34A to 34C displays three colors of red, green, and blue in a set of three columns. For this purpose, a video signal corresponding to the display color is supplied from the source signal line 32 for each column,
As shown in FIG. 7, the color filter substrate bonded to the T substrate has three color layers, red 72A and green 72, respectively.
B and blue 72C are formed in a vertical stripe shape.

【0032】画素電極34A〜34Cとゲート信号線3
1と重なった領域35A〜35Cは、表示色に対応して
面積が異なるように形成される。即ち、相対向する対向
基板の赤、緑、青の3色各々に該当するソース信号線毎
に、該当画素の蓄積容量の形状を35A、35B、35
Cと変更させる。例えば、画素電極34A、34B及び
34Cが各々赤、緑及び青色を表示している場合には、
重なり領域の面積は35C>35B>35Cの順とす
る。
The pixel electrodes 34A to 34C and the gate signal line 3
The regions 35A to 35C overlapping 1 are formed so as to have different areas corresponding to the display colors. That is, for each source signal line corresponding to each of the three colors of red, green, and blue of the opposing substrates, the shape of the storage capacitor of the corresponding pixel is changed to 35A, 35B, 35
Change to C. For example, when the pixel electrodes 34A, 34B, and 34C display red, green, and blue, respectively,
The area of the overlapping region is in the order of 35C>35B> 35C.

【0033】本実施の形態に係る液晶パネルは、実施の
形態1のTNモード液晶パネルと同様に、各画素電極3
4に蓄積容量に比例したオフセット電圧がかかるように
容量結合駆動され、ゲート信号線31は、オン電位、オ
フ電位、正のバイアス電位V ge(+)及び負のバイア
ス電位Vge(−)の合計4つの電位間を例えば図10
に示す波形で変化する。したがって、各列の画素電極3
4に印加されるオフセット電圧が、その表示色に従って
青>緑>赤の順に大きくなり、表示色間の階調差が補正
される。尚、(1)式からもわかるように、画素に印加
される電圧Vpの表示色間の比はゲート信号線31のバ
イアス電位の高さVge(+)及びV e(−)によっ
て変化する。したがって、ゲート信号線11のバイアス
電位の設定を調整することにより、表示色間の階調の補
正量を最適化することができる。
The liquid crystal panel according to the present embodiment is
As with the TN mode liquid crystal panel of mode 1, each pixel electrode 3
4 so that an offset voltage proportional to the storage capacity is applied
Driven by capacitive coupling, the gate signal line 31
Potential, positive bias potential V ge (+)And negative vias
Potential Vge (-)Between the four potentials shown in FIG.
The waveform changes as shown in FIG. Therefore, the pixel electrode 3 of each column
4 is applied according to the display color.
Increases in the order of blue> green> red, and corrects the gradation difference between display colors
Is done. Incidentally, as can be seen from the equation (1), the voltage is applied to the pixel.
The ratio between the display colors of the applied voltage Vp is
Height V of ias potentialge (+)And Vg e (-)By
Change. Therefore, the bias of the gate signal line 11
By adjusting the potential setting, the gradation between display colors can be compensated.
Positive quantities can be optimized.

【0034】本実施の形態によると、赤、緑、青各色の
該当ソース信号線毎にオフセット印可電圧量を最適化し
て、各色での階調性を調整・最適化できる。これによ
り、各色の階調特性が向上し、大型TFT−LCDの設
計に於ける性能・品質課題の1つの改善ができる。
According to the present embodiment, the offset application voltage amount can be optimized for each source signal line of each color of red, green, and blue, and the gradation of each color can be adjusted and optimized. As a result, the gradation characteristics of each color are improved, and one of the performance and quality issues in designing a large-sized TFT-LCD can be improved.

【0035】尚、本実施の形態においては、3色の表示
色ごとに蓄積容量による補正を行ったが、3色のうちの
階調ずれの大きな1色についてのみ蓄積容量を異ならせ
ても良い。
In the present embodiment, the correction by the storage capacity is performed for each of the three display colors, but the storage capacity may be made different only for one of the three colors having a large gradation shift. .

【0036】実施の形態4.本実施の形態では、TFT
−LCDのパネル構成がIPS(In Plane Switching)
モード液晶で、蓄積容量を共通(対向)電極線上に形成
した液晶パネルに本件発明を適用する場合を例を示す。
図4は、本発明の実施の形態4に係る液晶パネルにおけ
るTFT基板の画素部を示す上面図である。実施の形態
3と同様に、、表示色の異なる画素間の階調差を補正す
るための構成を示す。ノーマリブラック表示のIPSモ
ード液晶パネルにおいて赤>緑>青の順に階調が明るく
なっている場合を例に説明する。
Embodiment 4 FIG. In this embodiment mode, the TFT
-LCD panel configuration is IPS (In Plane Switching)
An example in which the present invention is applied to a liquid crystal panel in which a storage capacitor is formed on a common (opposite) electrode line in a mode liquid crystal will be described.
FIG. 4 is a top view showing a pixel portion of a TFT substrate in a liquid crystal panel according to Embodiment 4 of the present invention. As in the third embodiment, a configuration for correcting a gradation difference between pixels having different display colors will be described. An example will be described in which the gray level becomes brighter in the order of red>green> blue in the normally black display IPS mode liquid crystal panel.

【0037】まず、IPSモード液晶パネルの動作につ
いて説明する。複数個のTFT画素を形成する場合に、
XYマトリクス状にXY方向信号線とX方向共通(対
向)電極線と全て同一のTFT部と及び全て同一の蓄積
容量部(付加容量部)が形成される。X方向信号線とし
てゲート信号電極線41、Y方向信号線としてソース信
号電極線42、及びX方向に共通(対向)電極線46が
形成され、これらXY信号線41及び42と電気的に接
続された電極がTFT部である。TFT部は、41及び
42の両者の一部と、これらと容量を介して接続するド
レイン電極44から構成されている。蓄積容量部45A
〜45Cは、共通(対向)電極線46と容量を介して電
気的に接続し、且つドレイン電極44と電気的に接続
(又は、44の1部分とも言える)している。尚、IP
Sモードの場合の画素電極部分(ブラックマトリクス開
口部)は、ドレイン電極44と共通(対向)電極線46
の1部分である。又、IPSモードの場合の一般的なパ
ネル構成は、ノーマリーブラック(液晶にかける電圧が
無印可状態で、液晶パネル内を光が透過しない)であ
る。又、IPSモードの場合、対向電極は上述のように
アレイ基板側に形成され(共通(対向)電極を指す)、
液晶にかける電圧は水平(ドレイン電極部と共通(対
向)電極間)に印可される。
First, the operation of the IPS mode liquid crystal panel will be described. When forming a plurality of TFT pixels,
In the XY matrix, the same TFT portion and the same storage capacitor portion (additional capacitor portion) as the XY direction signal line and the X direction common (opposite) electrode line are all formed. A gate signal electrode line 41 is formed as an X direction signal line, a source signal electrode line 42 is formed as a Y direction signal line, and a common (opposite) electrode line 46 is formed in the X direction, and are electrically connected to these XY signal lines 41 and 42. The electrode is the TFT part. The TFT portion includes a part of both 41 and 42 and a drain electrode 44 connected to these parts via a capacitor. Storage capacity section 45A
45C are electrically connected to the common (opposite) electrode line 46 via a capacitor, and are electrically connected to the drain electrode 44 (or to a part of 44). In addition, IP
In the case of the S mode, the pixel electrode portion (black matrix opening) is common (opposed) to the drain electrode 44 and the electrode line 46.
It is one part of. A typical panel configuration in the case of the IPS mode is normally black (in which no voltage is applied to the liquid crystal and no light passes through the liquid crystal panel). In the case of the IPS mode, the counter electrode is formed on the array substrate side as described above (refers to a common (counter) electrode),
The voltage applied to the liquid crystal is applied horizontally (between the drain electrode and the common (opposed) electrode).

【0038】整理すれば、TFT基板の画素部には、実
施の形態3と同様に、画素電極44がマトリックス状に
形成され、各行ごとにゲート信号線41及び共通電極線
46が、各列ごとにソース信号線42が形成されてい
る。画素電極44の一部は薄膜トランジスタのドレイン
電極となっている。本実施の形態において、画素電極4
4は絶縁層を介して共通電極線46に重なるように形成
されており、重なった領域45A〜45C蓄積容量とな
る。
In summary, pixel electrodes 44 are formed in a matrix on the pixel portion of the TFT substrate as in the third embodiment, and a gate signal line 41 and a common electrode line 46 are provided for each row, and for each column. A source signal line 42 is formed. Part of the pixel electrode 44 is a drain electrode of the thin film transistor. In the present embodiment, the pixel electrode 4
Numeral 4 is formed so as to overlap with the common electrode line 46 via the insulating layer, and serves as an overlapping area 45A to 45C storage capacitance.

【0039】図4に示すTFTにおいて、各画素電極4
4A〜44Cは3列を一組として各列が赤、緑、青の3
色を表示する。このために、各列ごとに表示色に対応し
た映像信号がソース信号線42から供給され、TFT基
板に対向して貼り合わされるカラーフィルタ基板には図
7に示すように3色の色層である72A〜72Cが形成
される。
In the TFT shown in FIG.
4A to 44C have three rows as a set, and each row has three colors of red, green, and blue.
Show colors. For this purpose, a video signal corresponding to a display color is supplied from each source column from the source signal line 42 for each column, and a color filter substrate which is bonded to face the TFT substrate has three color layers as shown in FIG. Some 72A-72C are formed.

【0040】領域45A〜45Cは、表示色に対応して
面積が異なるように形成される。即ち、相対向する対向
基板の赤、緑、青の3色各々に該当するソース信号線毎
に、該当画素の蓄積容量の形状を45A、45B、45
Cと変化させる。例えば、画素電極45A、45B、4
5Cが各々赤、緑、青を表示している場合には、重なり
領域の面積は45A>45B>45Cの順とする。
The areas 45A to 45C are formed to have different areas corresponding to the display colors. That is, for each source signal line corresponding to each of the three colors of red, green, and blue of the opposing substrates, the shape of the storage capacitor of the corresponding pixel is set to 45A, 45B, and 45.
Change to C. For example, the pixel electrodes 45A, 45B, 4
When 5C is displaying red, green, and blue, respectively, the area of the overlapping region is in the order of 45A>45B> 45C.

【0041】本実施の形態に係る液晶パネルは、共通電
極線46には一定電圧が印加されるが、各画素電極44
には蓄積容量に比例したオフセット電圧がかかるように
駆動されている。したがって、各列の画素電極44に印
加されるオフセット電圧が、その表示色に従って青>緑
>赤の順に大きくなり、表示色間の階調差が補正され
る。
In the liquid crystal panel according to the present embodiment, although a constant voltage is applied to the common electrode line 46, each pixel electrode 44
Are driven so as to apply an offset voltage proportional to the storage capacity. Therefore, the offset voltage applied to the pixel electrodes 44 in each column increases in the order of blue>green> red according to the display color, and the gradation difference between the display colors is corrected.

【0042】つまり、45A、45B、45Cの面積を
最適に設計することで、各色での階調性を調整・最適化
できる。これにより、各色の階調特性が向上し、大型T
FT−LCDの設計における性能・品質課題の1つの改
善ができる。
That is, by optimally designing the areas of 45A, 45B, and 45C, the gradation of each color can be adjusted and optimized. As a result, the gradation characteristics of each color are improved, and a large T
One of the performance and quality issues in FT-LCD design can be improved.

【0043】尚、本実施の形態においては、3色の表示
色ごとの蓄積容量による補正を行ったが、3色のうちの
階調ずれの大きな1色についてのみ蓄積容量を異ならせ
ても良い。
In this embodiment, the correction is performed using the storage capacity for each of the three display colors. However, the storage capacity may be changed only for one of the three colors having a large gradation shift. .

【0044】実施の形態5.次に、本発明の第5の実施
形態について図5を参照しながら説明する。図5は、マ
トリクス状に複数個のTFT素子及び画素が形成された
アレイ基板の拡大平面図であり、TFT−LCDのパネ
ル構成がTNモードで、蓄積容量をゲート信号線上に形
成した例を示している。XYマトリクス内の各ゲート信
号線56毎に、該当画素の蓄積容量部の形状・位置を5
5A、55B、55Cと変更させていると同時に、ドレ
イン電極部の位置・形状も53A、53B、53Cと変
更させている。これより、各ゲート信号線毎で、該当画
素へのオフセット印可電圧量を変更できると同時に、ド
レイン電極部−ゲート信号線間に生じる寄生容量(Cg
d)も変更できる(蓄積容量Cstの変更分だけ、逆に
寄生容量Cgdを変更する)。そして、このオフセット
印可電圧量によって、視角依存性による階調特性の変更
・最適化が可能となると同時に、画素容量(液晶容量と
蓄積容量と寄生容量の和)の均一性が保たれる事によっ
て、ゲート信号線毎の信号波形の歪み等の低減が可能と
なる。
Embodiment 5 FIG. Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 is an enlarged plan view of an array substrate in which a plurality of TFT elements and pixels are formed in a matrix, and shows an example in which a TFT-LCD panel configuration is in a TN mode and a storage capacitor is formed on a gate signal line. ing. For each gate signal line 56 in the XY matrix, the shape and position of the storage capacitor portion
5A, 55B, and 55C, and at the same time, the position and shape of the drain electrode portion are also changed to 53A, 53B, and 53C. Thus, the amount of offset application voltage to the corresponding pixel can be changed for each gate signal line, and at the same time, the parasitic capacitance (Cg) generated between the drain electrode portion and the gate signal line.
d) can also be changed (conversely, the parasitic capacitance Cgd is changed by the change in the storage capacitance Cst). The offset application voltage allows the gradation characteristics to be changed and optimized based on the viewing angle dependency, while maintaining the uniformity of the pixel capacitance (the sum of the liquid crystal capacitance, the storage capacitance, and the parasitic capacitance). In addition, it is possible to reduce the distortion of the signal waveform for each gate signal line.

【0045】したがって、第5の実施の形態によると、
上述の各ゲート信号線毎のオフセット印可電圧量の最適
化、及びゲート信号波形の歪みの低減によって、画面上
下間(ゲート信号線毎)の見込み角による階調特性の違
い(輝度差)が低減し、且つフリッカーやクロストーク
等が低減できる。そのため、大型TFT−LCDに於け
る性能・品質課題の上述2つ以上の同時改善ができる。
Therefore, according to the fifth embodiment,
By optimizing the amount of applied offset voltage for each gate signal line and reducing the distortion of the gate signal waveform as described above, the difference in the gradation characteristics (luminance difference) due to the expected angle between the top and bottom of the screen (for each gate signal line) is reduced. And flicker, crosstalk, and the like can be reduced. Therefore, it is possible to simultaneously improve the performance and quality issues of the large-sized TFT-LCD by the above two or more.

【0046】実施の形態6.次に、本発明の第6の実施
形態について図6を参照しながら説明する。すなわち、
図6は、マトリクス状に複数個のTFT素子及び画素が
形成されたアレイ基板の拡大平面図である。TFT−L
CDのパネル構成がIPSモードで、蓄積容量をゲート
信号線上に形成した例を示している。相対向する対向基
板の赤、緑、青の3色各々に該当するソース信号線毎
に、該当画素の蓄積容量部の形状・位置を65A、65
B、65Cと変更させていると同時に、ドレイン電極部
の位置・形状も63A、63B、63Cと変更させてい
る。これより、3色各々に該当するソース信号線毎に、
該当画素へのオフセット印可電圧量を変更できると同時
に、ドレイン電極部−ゲート信号線間に生じる寄生容量
も変更できる(蓄積容量の変更分だけ、逆に寄生容量を
変更する)。そして、このオフセット印可電圧量によっ
て、赤、緑、青各色の階調特性の変更・最適化が可能と
なると同時に、(第5の実施の形態同様に)画素容量の
均一性が保たれる事によって、ゲート信号線毎の信号波
形の歪み等の低減が可能となる。
Embodiment 6 FIG. Next, a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. That is,
FIG. 6 is an enlarged plan view of an array substrate on which a plurality of TFT elements and pixels are formed in a matrix. TFT-L
An example is shown in which a CD has a panel configuration in an IPS mode and storage capacitance is formed on a gate signal line. For each source signal line corresponding to each of the three colors of red, green, and blue of the opposing substrates, the shape and position of the storage capacitor portion of the corresponding pixel are set to 65A, 65A.
B and 65C, and at the same time, the position and shape of the drain electrode portion are also changed to 63A, 63B and 63C. Thus, for each source signal line corresponding to each of the three colors,
The amount of the offset voltage applied to the corresponding pixel can be changed, and at the same time, the parasitic capacitance generated between the drain electrode portion and the gate signal line can be changed (conversely, the amount of change in the storage capacitance changes the parasitic capacitance). The offset application voltage allows the change and optimization of the gradation characteristics of each of the red, green, and blue colors, while maintaining the uniformity of the pixel capacitance (similar to the fifth embodiment). This makes it possible to reduce the distortion of the signal waveform for each gate signal line.

【0047】したがって、第6の実施の形態によると、
上述の赤、緑、青各色の該当ソース信号線毎のオフセッ
ト印可電圧量の最適化、及びゲート信号波形の歪みの低
減によって、各色の階調特性が向上し、且つフリッカー
やクロストーク等が低減できる。そのため、大型TFT
−LCDに於ける性能・品質課題の上述2つ以上の同時
改善ができる。
Therefore, according to the sixth embodiment,
By optimizing the amount of offset voltage applied to each source signal line for each of the red, green, and blue colors and reducing the distortion of the gate signal waveform, the gradation characteristics of each color are improved, and flicker and crosstalk are reduced. it can. Therefore, large TFT
-Simultaneous improvement of the above two or more of performance / quality issues in LCD can be achieved.

【0048】尚、上記実施の形態1、2、5ではTNモ
ードを例に示したが、同様の構成をIPSモードにも適
用することができる。また、本実施の形態3、4、6で
はIPSモードを例に示したが、TNモードにも適用す
ることができる。また、実施の形態5の例では蓄積容量
をゲート信号線上に形成しているが、共通電極線を配置
して蓄積容量をこの共通電極線上に形成しても良い。実
施の形態6の例では蓄積容量をゲート信号線上に形成し
ているが、共通電極線上に形成しても良い。
In the first, second, and fifth embodiments, the TN mode is described as an example, but the same configuration can be applied to the IPS mode. In the third, fourth, and sixth embodiments, the IPS mode has been described as an example, but the present invention can also be applied to the TN mode. Although the storage capacitor is formed on the gate signal line in the example of the fifth embodiment, a common electrode line may be provided and the storage capacitor may be formed on this common electrode line. Although the storage capacitor is formed on the gate signal line in the example of the sixth embodiment, it may be formed on the common electrode line.

【0049】また、上記実施の形態では、1行ごと、又
は1列ごとに蓄積容量等の大きさを変更したが、数行ご
と又は数列ごとに蓄積容量等の大きさを変更しても良
い。
In the above embodiment, the size of the storage capacity is changed for each row or each column. However, the size of the storage capacity may be changed for every several rows or every several columns. .

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明によれば、容量結合駆動を行い、
蓄積容量を画素の画面位置や表示色等によって異ならせ
ることにより、液晶パネルの画面位置や表示色ごとの階
調不均一を補正して、画像均一性に優れたTFT液晶パ
ネルを提供することができる。
According to the present invention, capacitive coupling drive is performed,
It is possible to provide a TFT liquid crystal panel with excellent image uniformity by correcting the non-uniformity of gradation for each screen position and display color of the liquid crystal panel by making the storage capacitance different depending on the pixel screen position and display color. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 図1は、本発明の実施の形態1に係る液晶パ
ネルのTFT基板を示す拡大平面図である。
FIG. 1 is an enlarged plan view showing a TFT substrate of a liquid crystal panel according to Embodiment 1 of the present invention.

【図2】 図2は、本発明の実施の形態2に係る液晶パ
ネルのTFT基板を示す拡大平面図である。
FIG. 2 is an enlarged plan view showing a TFT substrate of a liquid crystal panel according to Embodiment 2 of the present invention.

【図3】 図3は、本発明の実施の形態3に係る液晶パ
ネルのTFT基板を示す拡大平面図である。
FIG. 3 is an enlarged plan view showing a TFT substrate of a liquid crystal panel according to Embodiment 3 of the present invention.

【図4】 図4は、本発明の実施の形態4に係る液晶パ
ネルのTFT基板を示す拡大平面図である。
FIG. 4 is an enlarged plan view showing a TFT substrate of a liquid crystal panel according to Embodiment 4 of the present invention.

【図5】 図5は、本発明の実施の形態5に係る液晶パ
ネルのTFT基板を示す拡大平面図である。
FIG. 5 is an enlarged plan view showing a TFT substrate of a liquid crystal panel according to Embodiment 5 of the present invention.

【図6】 図6は、本発明の実施の形態6に係る液晶パ
ネルのTFT基板を示す拡大平面図である。
FIG. 6 is an enlarged plan view showing a TFT substrate of a liquid crystal panel according to Embodiment 6 of the present invention.

【図7】 図7は、カラーフィルタの一例を示す拡大平
面図である。
FIG. 7 is an enlarged plan view illustrating an example of a color filter.

【図8】 図8は、従来のTNモード液晶パネルのTF
T基板の一例を示す拡大平面図である。
FIG. 8 shows a TF of a conventional TN mode liquid crystal panel.
It is an enlarged plan view showing an example of a T substrate.

【図9】 図9は、従来のTNモード液晶パネルのTF
T基板の別の一例を示す拡大平面図である。
FIG. 9 shows a TF of a conventional TN mode liquid crystal panel.
It is an enlarged plan view which shows another example of a T substrate.

【図10】 図10は、従来のIPSモード液晶パネル
のTFT基板の一例を示す拡大平面図である。
FIG. 10 is an enlarged plan view showing an example of a TFT substrate of a conventional IPS mode liquid crystal panel.

【図11】 図11は、従来のIPSモード液晶パネル
のTFT基板の別の一例を示す拡大平面図である。
FIG. 11 is an enlarged plan view showing another example of a TFT substrate of a conventional IPS mode liquid crystal panel.

【図12】 図12は、TFT液晶パネルの等価回路を
示す回路図である。
FIG. 12 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of a TFT liquid crystal panel.

【図13】 図13は、容量結合駆動の駆動波形の一例
を示すタイミングチャート図である。
FIG. 13 is a timing chart illustrating an example of a drive waveform of the capacitive coupling drive.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11、21、31、41、51、61 ゲート信号線、 12、22、32、42、52、62 ソース信号線、 13、23、33、43、53A〜C、63A〜C ド
レイン電極、 14、24、34、44、54、64 画素電極、 15、25、35A〜C、45A〜C、55A〜C、6
5A〜C 蓄積容量
11, 21, 31, 41, 51, 61 gate signal line, 12, 22, 32, 42, 52, 62 source signal line, 13, 23, 33, 43, 53A-C, 63A-C drain electrode, 14, 24, 34, 44, 54, 64 pixel electrodes, 15, 25, 35A-C, 45A-C, 55A-C, 6
5A-C storage capacity

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09G 3/20 621 G09G 3/20 621M 622 622C 624 624B 624D 641 641P Fターム(参考) 2H092 GA14 JA24 JA29 JA37 JA41 JB67 NA01 QA07 2H093 NA16 NA31 NA51 NC34 ND06 ND10 ND15 NF05 5C006 AA16 AA22 AC11 AC22 AC25 AF42 AF46 BB16 BF37 BF43 FA18 FA22 FA23 FA37 FA55 FA56 5C080 AA10 BB05 CC03 DD04 DD06 DD28 EE29 EE30 FF11 JJ04 JJ06 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G09G 3/20 621 G09G 3/20 621M 622 622C 624 624B 624D 641 641P F-term (Reference) 2H092 GA14 JA24 JA29 JA37 JA37 JA41 JB67 NA01 QA07 2H093 NA16 NA31 NA51 NC34 ND06 ND10 ND15 NF05 5C006 AA16 AA22 AC11 AC22 AC25 AF42 AF46 BB16 BF37 BF43 FA18 FA22 FA23 FA37 FA55 FA56 5C080 AA10 BB05 CC03 DD04 DD06 DD28 EE29 EJ30 EJ30 JJ30 EJ30 EJ30

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶を挟んで対向する一対の基板の一方
に、マトリックス状に配置された画素電極と、前記画素
電極の各行ごとに配置されたゲート信号線と、前記画素
電極の各列ごとに配置されたソース信号線と、前記ゲー
ト信号線とソース信号線の交差部に配置され前記画素電
極に接続する薄膜トランジスタと、前記画素電極に接続
する蓄積容量とを有する液晶パネルにおいて、 前記蓄積容量を前記ゲート信号線に接続し、 前記ゲート信号線をオン電位及びオフ電位を含む少なく
とも4つの電位間で変化させることにより、前記蓄積容
量を介して容量結合によるオフセット電圧を前記画素電
極に印加し、 前記蓄積容量の大きさを、所定数の行ごと又は列ごとに
異ならしめたことを特徴とする液晶パネル。
1. A pixel electrode disposed in a matrix on one of a pair of substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween, a gate signal line disposed for each row of the pixel electrode, and a column for each pixel electrode. A liquid crystal panel, comprising: a source signal line disposed at a cross section; a thin film transistor disposed at an intersection of the gate signal line and the source signal line; and a storage capacitor connected to the pixel electrode; and a storage capacitor connected to the pixel electrode. Is connected to the gate signal line, and by changing the gate signal line between at least four potentials including an ON potential and an OFF potential, an offset voltage due to capacitive coupling is applied to the pixel electrode via the storage capacitor. A liquid crystal panel, wherein the size of the storage capacitor is different for each of a predetermined number of rows or columns.
【請求項2】 液晶を挟んで対向する一対の基板の一方
に、マトリックス状に配置された画素電極と、前記画素
電極の各行ごとに配置されたゲート信号線及び共通信号
線と、前記画素電極の各列ごとに配置されたソース信号
線と、前記ゲート信号線とソース信号線の交差部に配置
され前記画素電極に接続する薄膜トランジスタと、前記
画素電極に接続する蓄積容量とを有する液晶パネルにお
いて、 前記蓄積容量を前記共通信号線に接続し、 前記共通信号線を少なくとも2つの電位間で変化させる
ことにより、前記蓄積容量を介して容量結合によるオフ
セット電圧を前記画素電極に印加し、 前記蓄積容量の大きさを、所定数の行ごと又は列ごとに
異ならしめたことを特徴とする液晶パネル。
2. A pixel electrode disposed in a matrix on one of a pair of substrates opposed to each other with a liquid crystal interposed therebetween, a gate signal line and a common signal line disposed for each row of the pixel electrode, and the pixel electrode A liquid crystal panel having a source signal line arranged for each column, a thin film transistor arranged at an intersection of the gate signal line and the source signal line, connected to the pixel electrode, and a storage capacitor connected to the pixel electrode. Connecting the storage capacitor to the common signal line, changing the common signal line between at least two potentials, applying an offset voltage due to capacitive coupling to the pixel electrode via the storage capacitor, A liquid crystal panel wherein the size of the capacity is made different for each of a predetermined number of rows or columns.
【請求項3】 前記蓄積容量の大きさを、所定数の行ご
とに、画面上から下へ向かって漸次増加又は減少せしめ
たことを特徴とする請求項1又は2記載の液晶パネル。
3. The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the size of the storage capacitor is gradually increased or decreased from the top to the bottom of the screen for every predetermined number of rows.
【請求項4】 前記蓄積容量の大きさを、前記画素電極
の表示色に応じて異ならしめたことを特徴とする請求項
1又は2記載の液晶パネル。
4. The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the size of the storage capacitor is changed according to the display color of the pixel electrode.
【請求項5】 さらに、前記ゲート信号線の信号終端側
に配置された画素に接続する前記薄膜トランジスタのW
/Lを、他の薄膜トランジスタに比べて増加させたこと
を特徴とする請求項1又は2記載の液晶パネル。
5. The thin film transistor connected to a pixel disposed on the signal terminal side of the gate signal line.
3. The liquid crystal panel according to claim 1, wherein / L is increased as compared with other thin film transistors.
【請求項6】 さらに、前記薄膜トランジスタのドレイ
ン電極が、該薄膜トランジスタにゲート信号を供給する
前記ゲート配線との間に形成する寄生容量の大きさを、
画面内で異ならせたことを特徴とする請求項1又は2記
載の液晶パネル。
6. The size of a parasitic capacitance formed between a drain electrode of the thin film transistor and the gate wiring for supplying a gate signal to the thin film transistor,
3. The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the liquid crystal panel is different in a screen.
【請求項7】 前記蓄積容量の大きさを、該蓄積容量を
形成するためのフォトマスクの形状によって制御するこ
とを特徴とする請求項1又は2記載の液晶パネルの製造
方法。
7. The method according to claim 1, wherein the size of the storage capacitor is controlled by a shape of a photomask for forming the storage capacitor.
【請求項8】 請求項1乃至6にいずれか1項に記載の
液晶パネルを有する画像表示装置。
8. An image display device comprising the liquid crystal panel according to claim 1.
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