JP2002275205A - 表面に周期性の皺模様を有する樹脂成形物の製造方法 - Google Patents
表面に周期性の皺模様を有する樹脂成形物の製造方法Info
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 27
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 title abstract description 106
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims abstract description 79
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 77
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 65
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 61
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 claims description 18
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 8
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 93
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 93
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 14
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 8
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 96
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 26
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 24
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 21
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 17
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- -1 acrylate compound Chemical class 0.000 description 14
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 14
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- DTCQGQSGPULSES-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[4-[2-[4-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OCCOCCOC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OCCOCCOC(=O)C=C)C=C1 DTCQGQSGPULSES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 3
- 239000000326 ultraviolet stabilizing agent Substances 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 2
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- OYDNMGZCIANYBE-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropan-2-yl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(CO)COC(=O)C=C OYDNMGZCIANYBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNQULYDFCRJTKV-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrol-1-yl) acetate Chemical compound CC(=O)ON1C(=O)C=CC1=O CNQULYDFCRJTKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC1=CC=CC=C1 HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFPTZRHYJDFANN-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxy-5-prop-2-enoyloxypentyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)CCCOC(=O)C=C ZFPTZRHYJDFANN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPQOXMCRYWDRSB-UHFFFAOYSA-N 1-(2-chlorophenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound ClC1=CC=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O KPQOXMCRYWDRSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUFUXAHBRPMOFG-UHFFFAOYSA-N 1-(4-anilinonaphthalen-1-yl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C1=CC=CC=C11)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 DUFUXAHBRPMOFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUKLCKVOVCZYKF-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)ethyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CCN1C(=O)C=CC1=O PUKLCKVOVCZYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHAFTEHSHIKWBJ-UHFFFAOYSA-L 1-[2-[4-[2-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)ethyl]-1,4-diazoniabicyclo[2.2.2]octan-1-yl]ethyl]pyrrole-2,5-dione;dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].O=C1C=CC(=O)N1CC[N+]1(CC2)CC[N+]2(CCN2C(C=CC2=O)=O)CC1 PHAFTEHSHIKWBJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IPJGAEWUPXWFPL-UHFFFAOYSA-N 1-[3-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC(N2C(C=CC2=O)=O)=C1 IPJGAEWUPXWFPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPBULBYTUKYWDO-UHFFFAOYSA-N 1-[3-(diethylamino)propyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound CCN(CC)CCCN1C(=O)C=CC1=O XPBULBYTUKYWDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQGZJQNZNONGKY-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 AQGZJQNZNONGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMXVRDUHYVYNTG-UHFFFAOYSA-N 1-[5-(dimethylamino)-4-methyl-2-oxochromen-3-yl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound CC=1C=2C(N(C)C)=CC=CC=2OC(=O)C=1N1C(=O)C=CC1=O RMXVRDUHYVYNTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCFIKBMPEOEIED-UHFFFAOYSA-N 1-acridin-9-ylpyrrole-2,5-dione Chemical group O=C1C=CC(=O)N1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 NCFIKBMPEOEIED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMPIBHISOFMVMB-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-3,4-dichloropyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C(Cl)=C(Cl)C(=O)N1CC1=CC=CC=C1 AMPIBHISOFMVMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CC1=CC=CC=C1 MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNPCNDJVEUEFBO-UHFFFAOYSA-N 1-butylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCN1C(=O)C=CC1=O JNPCNDJVEUEFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJLLJZNSZJHXQN-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCCCCN1C(=O)C=CC1=O SJLLJZNSZJHXQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCOLXFOZKYRROA-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1N(OC)C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 QCOLXFOZKYRROA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLEWDCPFCNLJEY-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound CCC(=O)N1CCOCC1 DLEWDCPFCNLJEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXKWRQLPBHVBRP-UHFFFAOYSA-N 1-pyren-1-ylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=C(C=C2)C3=C4C2=CC=CC4=CC=C13 YXKWRQLPBHVBRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 1
- BRLVZIYXQOFFAW-UHFFFAOYSA-N 2-(1-prop-2-enoyloxypropan-2-yloxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O BRLVZIYXQOFFAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQWWMKDFZUMMU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethyl)butanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CCOC(=O)C=C IEQWWMKDFZUMMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDEIVOHRTZOREU-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethanol pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1.O=C1NC(=O)C=C1.OCCOCCOCCO ZDEIVOHRTZOREU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHZCQTZIDIVCPI-UHFFFAOYSA-N 3,4-bis(2,4,5-trimethylthiophen-3-yl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound CC1=C(C)SC(C)=C1C1=C(C=2C(=C(C)SC=2C)C)C(=O)NC1=O OHZCQTZIDIVCPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORINIFVNZFZTBF-UHFFFAOYSA-N 3,4-dichloro-1-(2,6-diethylphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound CCC1=CC=CC(CC)=C1N1C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O ORINIFVNZFZTBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYLVKNRHZBMPIQ-UHFFFAOYSA-N 3-[5-(2,5-dioxopyrrol-3-yl)-5-methylcyclohexa-1,3-dien-1-yl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound C=1C=CC(C)(C=2C(NC(=O)C=2)=O)CC=1C1=CC(=O)NC1=O BYLVKNRHZBMPIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VISOTGQYFFULBK-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-4-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C(=O)NC(O)=C1C1=CC=CC=C1 VISOTGQYFFULBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMSVFCGGVBWUJL-UHFFFAOYSA-N 4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)-2-hydroxybenzoic acid Chemical compound C1=C(O)C(C(=O)O)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O SMSVFCGGVBWUJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGGVALXERJRIRO-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-2-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-1H-pyrazol-5-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C=1C(=NN(C=1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2)O MGGVALXERJRIRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002430 Fibre-reinforced plastic Polymers 0.000 description 1
- 101100340530 Homo sapiens MTIF3 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100257194 Homo sapiens SMIM8 gene Proteins 0.000 description 1
- 101000631695 Homo sapiens Succinate dehydrogenase assembly factor 3, mitochondrial Proteins 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N N-ethyl-succinimide Natural products CCN1C(=O)CCC1=O GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N N-ethylmaleimide Chemical compound CCN1C(=O)C=CC1=O HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100024789 Small integral membrane protein 8 Human genes 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 102100028996 Succinate dehydrogenase assembly factor 3, mitochondrial Human genes 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 description 1
- 102100039649 Translation initiation factor IF-3, mitochondrial Human genes 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZTQQYMRXDUHDO-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-[4-[2-[4-(2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OCC(O)COC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OCC(O)COC(=O)C=C)C=C1 VZTQQYMRXDUHDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHZMUXQJTGRNHT-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-cyanatophenyl)propan-2-yl]phenyl] cyanate Chemical compound C=1C=C(OC#N)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC#N)C=C1 AHZMUXQJTGRNHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000805 composite resin Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229920003244 diene elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011151 fibre-reinforced plastic Substances 0.000 description 1
- 238000000445 field-emission scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- IPENDKRRWFURRE-UHFFFAOYSA-N fluoroimide Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1N1C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O IPENDKRRWFURRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 238000007603 infrared drying Methods 0.000 description 1
- 230000009878 intermolecular interaction Effects 0.000 description 1
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- VSQYNPJPULBZKU-UHFFFAOYSA-N mercury xenon Chemical compound [Xe].[Hg] VSQYNPJPULBZKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N n-methylmaleimide Chemical compound CN1C(=O)C=CC1=O SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 1
- 229920001490 poly(butyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000012783 reinforcing fiber Substances 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000000807 solvent casting Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 比較的厚い膜厚の塗膜でも、表面に微細な皺
模様を有する十分に硬化した塗膜が得られ、また透明性
を示しながらも、表面がつや消し状態(無反射)である
成形物や、均質に白濁化した磨りガラス状の成形物を与
える、表面に周期性の皺模様を有する樹脂成形物の製造
方法を提供する。 【解決手段】 (A)光架橋重合性化合物、(B)鎖状
重合体、及び(C)2つの波長W1とW2(250nm
<W1<W2<410nm)で光吸収性を示しW1では
3000(L・mol-1・cm-1)以上のモル吸光係数
を、且つW2では150〜5(L・mol-1・cm-1)
のモル吸光係数を有する光重合開始剤とを含む光硬化性
樹脂組成物に、該組成物の粘度が100000Pa・s
以下となる温度で、波長W1とW2での光強度が各々1
0mW/cm2以上である活性光線を照射し、該組成物
を1段階で硬化させる、表面に周期性の皺模様を有する
樹脂成形物の製造方法。
模様を有する十分に硬化した塗膜が得られ、また透明性
を示しながらも、表面がつや消し状態(無反射)である
成形物や、均質に白濁化した磨りガラス状の成形物を与
える、表面に周期性の皺模様を有する樹脂成形物の製造
方法を提供する。 【解決手段】 (A)光架橋重合性化合物、(B)鎖状
重合体、及び(C)2つの波長W1とW2(250nm
<W1<W2<410nm)で光吸収性を示しW1では
3000(L・mol-1・cm-1)以上のモル吸光係数
を、且つW2では150〜5(L・mol-1・cm-1)
のモル吸光係数を有する光重合開始剤とを含む光硬化性
樹脂組成物に、該組成物の粘度が100000Pa・s
以下となる温度で、波長W1とW2での光強度が各々1
0mW/cm2以上である活性光線を照射し、該組成物
を1段階で硬化させる、表面に周期性の皺模様を有する
樹脂成形物の製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面にシワ模様を
有する塗膜の形成法に関するものであり、本発明は、建
材、車両等の内装、ガラス装飾、電気電子機器のハウジ
ングなどの表面処理や塗装において、塗膜あるいは成形
物の表面に微細な皺を形成させることにより、光拡散効
果、意匠性や美観の向上を図る目的で使用されたり、比
較的大きな皺模様を形成させて均質に白濁化させること
により、記録用紙用の受理層や導波板などとして使用さ
れる。
有する塗膜の形成法に関するものであり、本発明は、建
材、車両等の内装、ガラス装飾、電気電子機器のハウジ
ングなどの表面処理や塗装において、塗膜あるいは成形
物の表面に微細な皺を形成させることにより、光拡散効
果、意匠性や美観の向上を図る目的で使用されたり、比
較的大きな皺模様を形成させて均質に白濁化させること
により、記録用紙用の受理層や導波板などとして使用さ
れる。
【0002】
【従来の技術】従来から、成型品の意匠性や美観の向上
を図る目的で、種々の表面処理剤により被塗物の表面を
光の拡散効果により艶消し状態にする試みは、従来から
塗料やインキ中に艶消し顔料等を混入させたり、塗面、
表面のブラスト処理などの方法で古くから行われてい
る。
を図る目的で、種々の表面処理剤により被塗物の表面を
光の拡散効果により艶消し状態にする試みは、従来から
塗料やインキ中に艶消し顔料等を混入させたり、塗面、
表面のブラスト処理などの方法で古くから行われてい
る。
【0003】しかし、艶消し顔料を塗料樹脂、インク等
に混入する方法では、硬化塗膜の光透過率が減少し、必
然的に塗膜が不透明になる欠点を有していた。また、ブ
ラスト処理は、処理工程が煩雑で生産性に問題があっ
た。また、硬化性、生産性に優れる紫外線硬化型樹脂を
使用する場合には、窒素雰囲気下で紫外線照射を行い、
皺を発生させる方法により艶消しを行う方法が知られて
いる。しかしながら、窒素雰囲気下における紫外線照射
は窒素費用に加え、特殊な装置を必要とするため、コス
ト高になるという問題があった。
に混入する方法では、硬化塗膜の光透過率が減少し、必
然的に塗膜が不透明になる欠点を有していた。また、ブ
ラスト処理は、処理工程が煩雑で生産性に問題があっ
た。また、硬化性、生産性に優れる紫外線硬化型樹脂を
使用する場合には、窒素雰囲気下で紫外線照射を行い、
皺を発生させる方法により艶消しを行う方法が知られて
いる。しかしながら、窒素雰囲気下における紫外線照射
は窒素費用に加え、特殊な装置を必要とするため、コス
ト高になるという問題があった。
【0004】特開平6?312495号公報には、30
0nm以下の紫外線により皺を発生させる方法が開示さ
れている。しかし、単に短波長の紫外線照射では、皺が
形成される系が限られ、また皺の寸法や構造の制御が難
しく、薄い塗膜状成形物しか得られない等の問題があっ
た。また、特開平9-53024号公報には、水酸基を
有するアクリレート化合物を用いる方法が開示されてい
る。しかし、この方法は特定の化合物に対する方法であ
り、広範な種類の活性光線架橋重合性化合物に対しては
適応できないという問題があった。
0nm以下の紫外線により皺を発生させる方法が開示さ
れている。しかし、単に短波長の紫外線照射では、皺が
形成される系が限られ、また皺の寸法や構造の制御が難
しく、薄い塗膜状成形物しか得られない等の問題があっ
た。また、特開平9-53024号公報には、水酸基を
有するアクリレート化合物を用いる方法が開示されてい
る。しかし、この方法は特定の化合物に対する方法であ
り、広範な種類の活性光線架橋重合性化合物に対しては
適応できないという問題があった。
【0005】また、特開昭55?5997号公報には、
酸素雰囲気中で低強度の紫外線で塗膜内部を硬化させた
後、高強度の紫外線照射で塗膜表面を硬化させることに
より艶消し表面を得る方法が開示されている。しかし、
この方法では、形成される塗膜表面の皺の大きさや深さ
をコントロールできない問題や、紫外線を2段階で照射
するあるために、コスト高になる問題があった。
酸素雰囲気中で低強度の紫外線で塗膜内部を硬化させた
後、高強度の紫外線照射で塗膜表面を硬化させることに
より艶消し表面を得る方法が開示されている。しかし、
この方法では、形成される塗膜表面の皺の大きさや深さ
をコントロールできない問題や、紫外線を2段階で照射
するあるために、コスト高になる問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、種々の光架橋重合性化合物に応用可能な、
且つ、比較的厚い膜厚の塗膜でも、表面に微細な皺模様
を有する十分に硬化した塗膜が得られ、また透明性を示
しながらも、表面がつや消し状態(無反射)である成形
物や、均質に白濁化した磨りガラス状の成形物を与え
る、表面に周期性の皺模様を有する樹脂成形物の製造方
法を提供することにある。
する課題は、種々の光架橋重合性化合物に応用可能な、
且つ、比較的厚い膜厚の塗膜でも、表面に微細な皺模様
を有する十分に硬化した塗膜が得られ、また透明性を示
しながらも、表面がつや消し状態(無反射)である成形
物や、均質に白濁化した磨りガラス状の成形物を与え
る、表面に周期性の皺模様を有する樹脂成形物の製造方
法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題を
解決するため鋭意検討した結果、光架橋重合性化合物と
鎖状重合体と特定の吸光特性を有する光重合開始剤から
なる光硬化性樹脂組成物に活性光線を照射することによ
り、周期性を持つ皺模様が塗膜表面に形成されることを
見出し本発明を完成するに到った。
解決するため鋭意検討した結果、光架橋重合性化合物と
鎖状重合体と特定の吸光特性を有する光重合開始剤から
なる光硬化性樹脂組成物に活性光線を照射することによ
り、周期性を持つ皺模様が塗膜表面に形成されることを
見出し本発明を完成するに到った。
【0008】即ち、本発明は、(A)光架橋重合性化合
物、(B)鎖状重合体、及び(C)2つの波長W1とW
2(250nm<W1<W2<410nm)で光吸収性
を示し、W1では3000(L・mol-1・cm-1)以
上のモル吸光係数を、且つW2では150〜5(L・m
ol-1・cm-1)のモル吸光係数を有する光重合開始剤
とを含む光硬化性樹脂組成物に、該組成物の粘度が10
0000Pa・s以下となる温度で、波長W1とW2で
の光強度が各々10mW/cm2以上である活性光線を
照射し、該組成物を1段階で硬化させる、表面に周期性
の皺模様を有する樹脂成形物の製造方法である。
物、(B)鎖状重合体、及び(C)2つの波長W1とW
2(250nm<W1<W2<410nm)で光吸収性
を示し、W1では3000(L・mol-1・cm-1)以
上のモル吸光係数を、且つW2では150〜5(L・m
ol-1・cm-1)のモル吸光係数を有する光重合開始剤
とを含む光硬化性樹脂組成物に、該組成物の粘度が10
0000Pa・s以下となる温度で、波長W1とW2で
の光強度が各々10mW/cm2以上である活性光線を
照射し、該組成物を1段階で硬化させる、表面に周期性
の皺模様を有する樹脂成形物の製造方法である。
【0009】本発明の製造方法では、(A)光架橋重合
性化合物と(B)鎖状重合体との混合重量比が、好まし
くは(A):(B)=(90:10)〜(20:80)
であり、且つ(A)光架橋重合性化合物100重量部に
対して、(C)光重合開始剤を好ましくは15重量部以
下を使用することを特徴とする。
性化合物と(B)鎖状重合体との混合重量比が、好まし
くは(A):(B)=(90:10)〜(20:80)
であり、且つ(A)光架橋重合性化合物100重量部に
対して、(C)光重合開始剤を好ましくは15重量部以
下を使用することを特徴とする。
【0010】更に本発明の製造方法では、2つの波長W
1とW2が、250nm<W1<310nm、350n
m<W2<410nmである光重合開始剤を含む光硬化
性樹脂組成物の厚さ100±20μmの平行光透過率が
260〜380nmの間にある波長W(nm)を境に7
0%以上から20%以下まで低下するものであり、且つ
波長W1での平行光透過率が20%以下、波長W2での
平行光透過率が70%以上であることを特徴とし、更に
波長W(nm)〜500nmの波長領域でモル吸光係数
が1000(L・mol-1・cm-1)以下である光重合
開始剤を用いることが好ましい。
1とW2が、250nm<W1<310nm、350n
m<W2<410nmである光重合開始剤を含む光硬化
性樹脂組成物の厚さ100±20μmの平行光透過率が
260〜380nmの間にある波長W(nm)を境に7
0%以上から20%以下まで低下するものであり、且つ
波長W1での平行光透過率が20%以下、波長W2での
平行光透過率が70%以上であることを特徴とし、更に
波長W(nm)〜500nmの波長領域でモル吸光係数
が1000(L・mol-1・cm-1)以下である光重合
開始剤を用いることが好ましい。
【0011】また本発明の製造方法は、用いる(B)鎖
状重合体が、特に、ポリスルホン系重合体、芳香族ポリ
エステル系重合体、スチレン共重合体、フェノキシ樹脂
からなる群から選らばれる1種以上であることを特徴と
する。
状重合体が、特に、ポリスルホン系重合体、芳香族ポリ
エステル系重合体、スチレン共重合体、フェノキシ樹脂
からなる群から選らばれる1種以上であることを特徴と
する。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の光硬化性樹脂組成物の成
形物の表面に、周期的な皺模様が形成される原因は不明
であるが、恐らく波長W1の短波長の紫外線により光硬
化性樹脂組成物の成形物表面部に薄い皮膜が形成され、
次いで波長W2の長波長の紫外線により光硬化性樹脂組
成物の成形物内部が硬化する際に体積収縮が生じ、体積
収縮の際の弾性不安定性により周期的な皺模様が形成さ
れると考えられる。
形物の表面に、周期的な皺模様が形成される原因は不明
であるが、恐らく波長W1の短波長の紫外線により光硬
化性樹脂組成物の成形物表面部に薄い皮膜が形成され、
次いで波長W2の長波長の紫外線により光硬化性樹脂組
成物の成形物内部が硬化する際に体積収縮が生じ、体積
収縮の際の弾性不安定性により周期的な皺模様が形成さ
れると考えられる。
【0013】周期的な皺模様が形成されるか否か、或い
は皺模様の大きさや深さなどは、表面部の皮膜の厚さや
弾性率、光硬化性樹脂組成物の粘度や体積収縮率や収縮
速度などに依存すると考えられる。ここで、本発明の周
期的な皺模様とは、表面に形成される皺、つまり凸凹に
周期性が見られるものを言い、凹部分と隣の凹部分の距
離(以後、この距離を単に「皺間距離」と呼ぶ)が周期
的なものをいう。
は皺模様の大きさや深さなどは、表面部の皮膜の厚さや
弾性率、光硬化性樹脂組成物の粘度や体積収縮率や収縮
速度などに依存すると考えられる。ここで、本発明の周
期的な皺模様とは、表面に形成される皺、つまり凸凹に
周期性が見られるものを言い、凹部分と隣の凹部分の距
離(以後、この距離を単に「皺間距離」と呼ぶ)が周期
的なものをいう。
【0014】本発明の皺間距離を一つ一つ測定すると、
ある程度のばらつきがあるが、連続する10個の皺間距
離のばらつきは、10個の皺間距離平均値の30%以下
である。これらは、好ましくは20%以下、特に好まし
くは10%以下である。皺間距離のばらつきを小さくす
ることにより、透明性が良くてつや消し(無反射)の成
形物が得られ、又、しっとりとした風合いに優れたつや
消し状態が得られる。
ある程度のばらつきがあるが、連続する10個の皺間距
離のばらつきは、10個の皺間距離平均値の30%以下
である。これらは、好ましくは20%以下、特に好まし
くは10%以下である。皺間距離のばらつきを小さくす
ることにより、透明性が良くてつや消し(無反射)の成
形物が得られ、又、しっとりとした風合いに優れたつや
消し状態が得られる。
【0015】本発明の皺模様の周期性は表面のある一方
向だけに周期性を持つものを含み、更に、長細い皺が寄
り合った構造を有するときは近傍の皺間距離の間にのみ
周期性を示すものも含まれる。また、皺間距離の平均値
を相関長と呼ぶが、本発明の製造方法による成形物の皺
模様の相関長は0.2〜50μm、好ましくは0.4〜2
0μmのものである。50μmを越えると周期性が悪く
なり、0.2μm未満であると皺の深さが小さくなりす
ぎて、つや消しなどの光学特性を生じないため好ましく
ない。
向だけに周期性を持つものを含み、更に、長細い皺が寄
り合った構造を有するときは近傍の皺間距離の間にのみ
周期性を示すものも含まれる。また、皺間距離の平均値
を相関長と呼ぶが、本発明の製造方法による成形物の皺
模様の相関長は0.2〜50μm、好ましくは0.4〜2
0μmのものである。50μmを越えると周期性が悪く
なり、0.2μm未満であると皺の深さが小さくなりす
ぎて、つや消しなどの光学特性を生じないため好ましく
ない。
【0016】本発明の製造方法で得られる樹脂成形物
は、光学的に高度に透明なものから、白濁化したものま
で得ることができる。樹脂成形物の透明性は主に皺の深
さと相関し、皺の深さが浅くなると、つや消しでありな
がら透明性が向上する。透明性を有する樹脂成形物の場
合、艶消しフィルムや塗膜として好ましく使用される。
一方、表面の皺の深さが深くなると樹脂成形物の透明性
は失われ、均質に白濁化した磨りガラス状の成形物とな
り使用される。
は、光学的に高度に透明なものから、白濁化したものま
で得ることができる。樹脂成形物の透明性は主に皺の深
さと相関し、皺の深さが浅くなると、つや消しでありな
がら透明性が向上する。透明性を有する樹脂成形物の場
合、艶消しフィルムや塗膜として好ましく使用される。
一方、表面の皺の深さが深くなると樹脂成形物の透明性
は失われ、均質に白濁化した磨りガラス状の成形物とな
り使用される。
【0017】透明性の高い成形物を得るためには、皺の
深さは0.05〜20μmが好ましく、特に0.1〜10
μmが好ましい。0.05μm未満では艶消し表面との
効果が表れ難く、20μmを越えると皺模様の周期性が
失われる為に好ましくない。表面の皺の深さは、塗膜断
面の電子顕微鏡観察やレーザー顕微鏡による方法、皺の
深さが浅い場合には接触法の表面粗さ計やトンネル顕微
鏡などによっても知ることができる。
深さは0.05〜20μmが好ましく、特に0.1〜10
μmが好ましい。0.05μm未満では艶消し表面との
効果が表れ難く、20μmを越えると皺模様の周期性が
失われる為に好ましくない。表面の皺の深さは、塗膜断
面の電子顕微鏡観察やレーザー顕微鏡による方法、皺の
深さが浅い場合には接触法の表面粗さ計やトンネル顕微
鏡などによっても知ることができる。
【0018】本発明の表面に周期的な皺模様を有する樹
脂成形物は、フィルムや塗膜の形状物に適している。本
発明の製造方法によれば、フィルムや塗膜の厚みが比較
的、厚くても表面の皺構造は形成されるが、紫外線硬化
樹脂の特長を生かす点から、厚みは好ましくは1mm以
下、更に好ましくは0.5mm以下、特に好ましくは0.
3mm以下である。また膜厚の下限は1μmが好まし
く、特に2μm以上であることが好ましい。膜厚が1μ
m未満では皺模様が形成し難くなって好ましくない。
脂成形物は、フィルムや塗膜の形状物に適している。本
発明の製造方法によれば、フィルムや塗膜の厚みが比較
的、厚くても表面の皺構造は形成されるが、紫外線硬化
樹脂の特長を生かす点から、厚みは好ましくは1mm以
下、更に好ましくは0.5mm以下、特に好ましくは0.
3mm以下である。また膜厚の下限は1μmが好まし
く、特に2μm以上であることが好ましい。膜厚が1μ
m未満では皺模様が形成し難くなって好ましくない。
【0019】本発明に使用される(A)光架橋重合性化
合物は、紫外線や可視光線などの活性光線により重合し
架橋重合体となる化合物で、ラジカル重合性、アニオン
重合性、カチオン重合性等任意のものであってよい。光
架橋重合性化合物は、通常、光重合開始剤の存在下で活
性光線により架橋重合するものが使用されるが、光重合
開始剤の非存在下で架橋重合するものも使用することが
できる。
合物は、紫外線や可視光線などの活性光線により重合し
架橋重合体となる化合物で、ラジカル重合性、アニオン
重合性、カチオン重合性等任意のものであってよい。光
架橋重合性化合物は、通常、光重合開始剤の存在下で活
性光線により架橋重合するものが使用されるが、光重合
開始剤の非存在下で架橋重合するものも使用することが
できる。
【0020】光架橋重合性化合物としては、重合性の炭
素−炭素二重結合を分子内に2つ以上有するものが好ま
しく、中でも、反応性の高い(メタ)アクリル系化合物
やビニルエーテル類、また光重合開始剤の不存在下でも
硬化する自己光架橋重合性化合物としてマレイミド系化
合物が好ましく用いられる。
素−炭素二重結合を分子内に2つ以上有するものが好ま
しく、中でも、反応性の高い(メタ)アクリル系化合物
やビニルエーテル類、また光重合開始剤の不存在下でも
硬化する自己光架橋重合性化合物としてマレイミド系化
合物が好ましく用いられる。
【0021】光架橋重合性化合物は、単独で用いること
も、2種類以上を混合して用いることもできる。また、
単独では本発明の樹脂成形物を形成し得ず、他の成分と
混合使用した場合にのみ可能なもの、例えば、固体状の
化合物であっても良い。また、硬度、反応性などを制御
するために、単独では架橋重合体を与えない単官能の光
重合性化合物を混合使用することもできる。
も、2種類以上を混合して用いることもできる。また、
単独では本発明の樹脂成形物を形成し得ず、他の成分と
混合使用した場合にのみ可能なもの、例えば、固体状の
化合物であっても良い。また、硬度、反応性などを制御
するために、単独では架橋重合体を与えない単官能の光
重合性化合物を混合使用することもできる。
【0022】光架橋重合性化合物として好ましく使用す
ることができる(メタ)アクリル系単量体としては、例
えば、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,
6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,8
−オクタンジオールジ(メタ)アクリレート、2,2’
−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシポリエチレン
オキシフェニル)プロパン、2,2’−ビス(4−(メ
タ)アクリロイルオキシポリプロピレンオキシフェニ
ル)プロパン、ヒドロキシジピバリン酸ネオペンチルグ
リコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル
ジアクリレート、
ることができる(メタ)アクリル系単量体としては、例
えば、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,
6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,8
−オクタンジオールジ(メタ)アクリレート、2,2’
−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシポリエチレン
オキシフェニル)プロパン、2,2’−ビス(4−(メ
タ)アクリロイルオキシポリプロピレンオキシフェニ
ル)プロパン、ヒドロキシジピバリン酸ネオペンチルグ
リコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル
ジアクリレート、
【0023】ビス(アクロキシエチル)ヒドロキシエチ
ルイソシアヌレート、N−メチレンビスアクリルアミド
の如き2官能単量体;トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)
アクリレート、トリス(アクロキシエチル)イソシアヌ
レート、カプロラクトン変性トリス(アクロキシエチ
ル)イソシアヌレートの如き3官能単量体;ペンタエリ
スリトールテトラ(メタ)アクリレートの如き4官能単
量体;ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ートの如き6官能単量体などが挙げられる。
ルイソシアヌレート、N−メチレンビスアクリルアミド
の如き2官能単量体;トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)
アクリレート、トリス(アクロキシエチル)イソシアヌ
レート、カプロラクトン変性トリス(アクロキシエチ
ル)イソシアヌレートの如き3官能単量体;ペンタエリ
スリトールテトラ(メタ)アクリレートの如き4官能単
量体;ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ートの如き6官能単量体などが挙げられる。
【0024】また光架橋重合性化合物として、架橋重合
性の重合性オリゴマー(プレポリマーとも呼ばれる)を
用いることもでき、例えば、重量平均分子量が500〜
50000のものが挙げられる。そのような架橋重合性
の重合性オリゴマーしては、例えば、エポキシ樹脂の
(メタ)アクリル酸エステル、ポリエーテル樹脂の(メ
タ)アクリル酸エステル、ポリブタジエン樹脂の(メ
タ)アクリル酸エステル、分子末端に(メタ)アクリロ
イル基を有するポリウレタン樹脂等が挙げられる。
性の重合性オリゴマー(プレポリマーとも呼ばれる)を
用いることもでき、例えば、重量平均分子量が500〜
50000のものが挙げられる。そのような架橋重合性
の重合性オリゴマーしては、例えば、エポキシ樹脂の
(メタ)アクリル酸エステル、ポリエーテル樹脂の(メ
タ)アクリル酸エステル、ポリブタジエン樹脂の(メ
タ)アクリル酸エステル、分子末端に(メタ)アクリロ
イル基を有するポリウレタン樹脂等が挙げられる。
【0025】自己光架橋重合性化合物であるマレイミド
系の架橋重合性の光架橋重合性化合物としては、例え
ば、4,4’−メチレンビス(N−フェニルマレイミ
ド)、2,3−ビス(2,4,5−トリメチル−3−チ
エニル)マレイミド、1,2−ビスマレイミドエタン、
1,6−ビスマレイミドヘキサン、トリエチレングリコ
ールビスマレイミド、N,N’−m−フェニレンジマレ
イミド、m−トリレンジマレイミド、N,N’−1,4
−フェニレンジマレイミド、N,N’−ジフェニルメタ
ンジマレイミド、N,N’−ジフェニルエーテルジマレ
イミド、
系の架橋重合性の光架橋重合性化合物としては、例え
ば、4,4’−メチレンビス(N−フェニルマレイミ
ド)、2,3−ビス(2,4,5−トリメチル−3−チ
エニル)マレイミド、1,2−ビスマレイミドエタン、
1,6−ビスマレイミドヘキサン、トリエチレングリコ
ールビスマレイミド、N,N’−m−フェニレンジマレ
イミド、m−トリレンジマレイミド、N,N’−1,4
−フェニレンジマレイミド、N,N’−ジフェニルメタ
ンジマレイミド、N,N’−ジフェニルエーテルジマレ
イミド、
【0026】N,N’−ジフェニルスルホンジマレイミ
ド、1,4−ビス(マレイミドエチル)−1,4−ジア
ゾニアビシクロ−[2,2,2]オクタンジクロリド、
4,4’−イソプロピリデンジフェニル=ジシアナート
・N,N’−(メチレンジ−p−フェニレン)ジマレイ
ミドの如き2官能マレイミド;N−(9−アクリジニ
ル)マレイミドの如きマレイミド基とマレイミド基以外
の重合性官能基とを有するマレイミド等が挙げられる。
ド、1,4−ビス(マレイミドエチル)−1,4−ジア
ゾニアビシクロ−[2,2,2]オクタンジクロリド、
4,4’−イソプロピリデンジフェニル=ジシアナート
・N,N’−(メチレンジ−p−フェニレン)ジマレイ
ミドの如き2官能マレイミド;N−(9−アクリジニ
ル)マレイミドの如きマレイミド基とマレイミド基以外
の重合性官能基とを有するマレイミド等が挙げられる。
【0027】マレイミド系の架橋重合性オリゴマーとし
ては、例えば、ポリテトラメチレングリコールマレイミ
ドカプリエート、ポリテトラメチレングリコールマレイ
ミドアセテートの如きポリテトラメチレングリコールマ
レイミドアルキレート、などが挙げられる。
ては、例えば、ポリテトラメチレングリコールマレイミ
ドカプリエート、ポリテトラメチレングリコールマレイ
ミドアセテートの如きポリテトラメチレングリコールマ
レイミドアルキレート、などが挙げられる。
【0028】光架橋重合性化合物は、分子内に2〜6個
の(メタ)アクリロイル基又はマレイミド基を有するも
のが好ましく、分子量(分子量分布を有するものである
場合には平均分子量)が100〜1000の化合物であ
るものが好ましい。分子量がこの範囲を越えると、得ら
れる樹脂成形物の強度が低下する傾向にある。
の(メタ)アクリロイル基又はマレイミド基を有するも
のが好ましく、分子量(分子量分布を有するものである
場合には平均分子量)が100〜1000の化合物であ
るものが好ましい。分子量がこの範囲を越えると、得ら
れる樹脂成形物の強度が低下する傾向にある。
【0029】単官能の光重合性化合物は光硬化性樹脂組
成物の粘度調整剤などとして使用することが可能であ
る。単官能の光重合性化合物として使用することができ
る単官能(メタ)アクリル系単量体としては、公知慣用
の、例えば、メチルメタクリレート、アルキル(メタ)
アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ア
ルコキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、フェノキシジアルキル(メタ)アクリレート、フェ
ノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、
アルキルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)ア
クリレート、
成物の粘度調整剤などとして使用することが可能であ
る。単官能の光重合性化合物として使用することができ
る単官能(メタ)アクリル系単量体としては、公知慣用
の、例えば、メチルメタクリレート、アルキル(メタ)
アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ア
ルコキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、フェノキシジアルキル(メタ)アクリレート、フェ
ノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、
アルキルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)ア
クリレート、
【0030】ノニルフェノキシポリプロピレングリコー
ル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレート、グリセロールアクリレートメタクリレー
ト、ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒ
ドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−
アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、エチレンオキサイド変性フタル酸アクリレ
ート、
ル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレート、グリセロールアクリレートメタクリレー
ト、ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒ
ドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−
アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、エチレンオキサイド変性フタル酸アクリレ
ート、
【0031】ω−アルコキシカプロラクトンモノアクリ
レート、2−アクリロイルオキシプロピルハイドロジェ
ンフタレート、2−アクリロイルオキシエチルコハク
酸、アクリル酸ダイマー、2−アクリロイスオキシプロ
ピリヘキサヒドロハイドロジェンフタレート、フッ素置
換アルキル(メタ)アクリレート、塩素置換アルキル
(メタ)アクリレート、シラノ基を有する(メタ)アク
リレートなどが挙げられる。
レート、2−アクリロイルオキシプロピルハイドロジェ
ンフタレート、2−アクリロイルオキシエチルコハク
酸、アクリル酸ダイマー、2−アクリロイスオキシプロ
ピリヘキサヒドロハイドロジェンフタレート、フッ素置
換アルキル(メタ)アクリレート、塩素置換アルキル
(メタ)アクリレート、シラノ基を有する(メタ)アク
リレートなどが挙げられる。
【0032】単官能の光重合性化合物として使用できる
単官能マレイミド系単量体としては、例えば、N−メチ
ルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−ブチルマレ
イミド、N−ドデシルマレイミドの如きN−アルキルマ
レイミド;N−シクロヘキシルマレイミドの如きN−脂
環族マレイミド;N−ベンジルマレイミド;N−フェニ
ルマレイミド、N−(アルキルフェニル)マレイミド、
N−ジアルコキシフェニルマレイミド、N−(2−クロ
ロフェニル)マレイミド、
単官能マレイミド系単量体としては、例えば、N−メチ
ルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−ブチルマレ
イミド、N−ドデシルマレイミドの如きN−アルキルマ
レイミド;N−シクロヘキシルマレイミドの如きN−脂
環族マレイミド;N−ベンジルマレイミド;N−フェニ
ルマレイミド、N−(アルキルフェニル)マレイミド、
N−ジアルコキシフェニルマレイミド、N−(2−クロ
ロフェニル)マレイミド、
【0033】2,3−ジクロロ−N−(2,6−ジエチ
ルフェニル)マレイミド、2,3−ジクロロ−N−(2
−エチル−6−メチルフェニル)マレイミドの如きN−
(置換又は非置換フェニル)マレイミド;N−ベンジル
−2,3−ジクロロマレイミド、N−(4’−フルオロ
フェニル)−2,3−ジクロロマレイミドの如きハロゲ
ンを有するマレイミド;ヒドロキシフェニルマレイミド
の如き水酸基を有するマレイミド;N−(4−カルボキ
シ−3−ヒドロキシフェニル)マレイミドの如きカルボ
キシ基を有するマレイミド;
ルフェニル)マレイミド、2,3−ジクロロ−N−(2
−エチル−6−メチルフェニル)マレイミドの如きN−
(置換又は非置換フェニル)マレイミド;N−ベンジル
−2,3−ジクロロマレイミド、N−(4’−フルオロ
フェニル)−2,3−ジクロロマレイミドの如きハロゲ
ンを有するマレイミド;ヒドロキシフェニルマレイミド
の如き水酸基を有するマレイミド;N−(4−カルボキ
シ−3−ヒドロキシフェニル)マレイミドの如きカルボ
キシ基を有するマレイミド;
【0034】N−メトキシフェニルマレイミドの如きア
ルコキシ基を有するマレイミド;N−[3−(ジエチル
アミノ)プロピル]マレイミドの如きアミノ基を有する
マレイミド;N−(1−ピレニル)マレイミドの如き多
環芳香族マレイミド;N−(ジメチルアミノ−4−メチ
ル−3−クマリニル)マレイミド、N−(4−アニリノ
−1−ナフチル)マレイミドの如き複素環を有するマレ
イミド等が挙げられる。
ルコキシ基を有するマレイミド;N−[3−(ジエチル
アミノ)プロピル]マレイミドの如きアミノ基を有する
マレイミド;N−(1−ピレニル)マレイミドの如き多
環芳香族マレイミド;N−(ジメチルアミノ−4−メチ
ル−3−クマリニル)マレイミド、N−(4−アニリノ
−1−ナフチル)マレイミドの如き複素環を有するマレ
イミド等が挙げられる。
【0035】本発明に使用する(B)鎖状重合体は、後
述する活性光線を照射する温度域で、使用する(A)光
架橋重合性化合物と均一に混合するものであり、且つ、
使用する活性光線に対して不活性なものである。活性光
線に対して不活性とは、架橋や分解反応が実質的に生じ
ないものをいう。本発明において、鎖状重合体とは、架
橋重合体でない重合体をいい、直鎖状重合体と枝分かれ
重合体を含む。本発明で使用する鎖状重合体は、非晶性
であっても結晶性であってもよい。勿論、鎖状重合体
は、単独で用いることもできるし、二種類以上を混合し
て使用することもできる。
述する活性光線を照射する温度域で、使用する(A)光
架橋重合性化合物と均一に混合するものであり、且つ、
使用する活性光線に対して不活性なものである。活性光
線に対して不活性とは、架橋や分解反応が実質的に生じ
ないものをいう。本発明において、鎖状重合体とは、架
橋重合体でない重合体をいい、直鎖状重合体と枝分かれ
重合体を含む。本発明で使用する鎖状重合体は、非晶性
であっても結晶性であってもよい。勿論、鎖状重合体
は、単独で用いることもできるし、二種類以上を混合し
て使用することもできる。
【0036】本発明の樹脂複合体で使用できる(B)鎖
状重合体としては、例えば、ポリスチレン、ポリ?α?メ
チルスチレン、スチレン/マレイン酸共重合体、スチレ
ン/アクリロニトリル共重合体、スチレン/メチルメタ
クリレート共重合体の如きスチレン系重合体;ポルスル
ホンやポリエーテルスルホンの如きポリスルホン系重合
体;ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレ
ート、ポリメチルアクリレートの如きポリ(メタ)アク
リレート系重合体;ポリアクリロニトリル系重合体;ポ
リマレイミド系重合体;
状重合体としては、例えば、ポリスチレン、ポリ?α?メ
チルスチレン、スチレン/マレイン酸共重合体、スチレ
ン/アクリロニトリル共重合体、スチレン/メチルメタ
クリレート共重合体の如きスチレン系重合体;ポルスル
ホンやポリエーテルスルホンの如きポリスルホン系重合
体;ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレ
ート、ポリメチルアクリレートの如きポリ(メタ)アク
リレート系重合体;ポリアクリロニトリル系重合体;ポ
リマレイミド系重合体;
【0037】ビスフェノールAタイプポリカーボネー
ト、ビスフェノールZタイプポリカーボネート等のポリ
カーボネート系重合体;ニトロセルロース、酢酸セルロ
ース、エチルセルロースの如きセルロース誘導体;ポリ
酢酸ビニル、エチレン?酢酸ビニル共重合体の如き酢酸
ビニル系重合体;熱可塑性ポリウレタン系重合体;ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン
や塩素化ポリプロピレンの如き塩素含有重合体;ポリア
ミド系重合体;ポリ乳酸系重合体;ポリイミド系重合
体;ポリフェニレンオキサイド;
ト、ビスフェノールZタイプポリカーボネート等のポリ
カーボネート系重合体;ニトロセルロース、酢酸セルロ
ース、エチルセルロースの如きセルロース誘導体;ポリ
酢酸ビニル、エチレン?酢酸ビニル共重合体の如き酢酸
ビニル系重合体;熱可塑性ポリウレタン系重合体;ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン
や塩素化ポリプロピレンの如き塩素含有重合体;ポリア
ミド系重合体;ポリ乳酸系重合体;ポリイミド系重合
体;ポリフェニレンオキサイド;
【0038】ポリフェニレンサルファイド/ポリスルホ
ン共重合体の如きポリエーテル系やポリチオエーテル系
重合体;テレフタル酸やイソフタル酸などより得られる
芳香族ポリエステル系重合体;ポリカプロラクトンの如
きポリエステル系重合体;フェノキシ樹脂;ポリエチレ
ングリコール系重合体、ポリビニルピロリドン系重合
体;ポリビニルホルマールやポリビニルブチラールの如
きビニルアセタール系重合体;ブタジエンゴム、アクリ
ロニトリロ?ブタジエンゴム、スチレン?ブタジエンゴム
の如きジエン系ゴム;クロロプレンゴム、イソプレンゴ
ムの如きプレン系ゴム;アクリルゴムの如き未架橋ゴム
などが挙げられる。
ン共重合体の如きポリエーテル系やポリチオエーテル系
重合体;テレフタル酸やイソフタル酸などより得られる
芳香族ポリエステル系重合体;ポリカプロラクトンの如
きポリエステル系重合体;フェノキシ樹脂;ポリエチレ
ングリコール系重合体、ポリビニルピロリドン系重合
体;ポリビニルホルマールやポリビニルブチラールの如
きビニルアセタール系重合体;ブタジエンゴム、アクリ
ロニトリロ?ブタジエンゴム、スチレン?ブタジエンゴム
の如きジエン系ゴム;クロロプレンゴム、イソプレンゴ
ムの如きプレン系ゴム;アクリルゴムの如き未架橋ゴム
などが挙げられる。
【0039】本発明に用いられる(B)鎖状重合体は、
これらの中でも、スチレン/マレイン酸共重合体、スチ
レン/アクリロニトリル共重合体、スチレン/メチルメ
タクリレート共重合体の如きスチレン系重合体、ポルス
ルホンの如きポリスルホン系重合体、ポリカーボネート
系重合体、芳香族ポリエステル系重合体、フェノキシ樹
脂などが特に好ましい。
これらの中でも、スチレン/マレイン酸共重合体、スチ
レン/アクリロニトリル共重合体、スチレン/メチルメ
タクリレート共重合体の如きスチレン系重合体、ポルス
ルホンの如きポリスルホン系重合体、ポリカーボネート
系重合体、芳香族ポリエステル系重合体、フェノキシ樹
脂などが特に好ましい。
【0040】(A)光架橋重合性化合物と(B)鎖状重
合体の混合重量比は、(光架橋重合性化合物:鎖状重合
体)=(90:10)〜(20:80)が好ましく、特
に(80:20)〜(25:75)が好ましい。鎖状重
合体の割合がこの範囲以外では周期的な皺模様が形成さ
れ難くなるために好ましくない。
合体の混合重量比は、(光架橋重合性化合物:鎖状重合
体)=(90:10)〜(20:80)が好ましく、特
に(80:20)〜(25:75)が好ましい。鎖状重
合体の割合がこの範囲以外では周期的な皺模様が形成さ
れ難くなるために好ましくない。
【0041】本発明では、鎖状重合体を使用し、その使
用量を制御することで、周期的な皺模様を形成させるこ
とが可能となり、皺の深さや皺の大きさを容易に制御す
ることが可能となる。これについては実施例で詳しく示
している。光架橋重合性化合物は重合時に大きく体積収
縮するが、鎖状重合体は体積収縮が小さく、体積収縮す
るものとしないものが含まれるため表面に皺構造が生じ
やすいと推定される。
用量を制御することで、周期的な皺模様を形成させるこ
とが可能となり、皺の深さや皺の大きさを容易に制御す
ることが可能となる。これについては実施例で詳しく示
している。光架橋重合性化合物は重合時に大きく体積収
縮するが、鎖状重合体は体積収縮が小さく、体積収縮す
るものとしないものが含まれるため表面に皺構造が生じ
やすいと推定される。
【0042】また、本製造方法において、光硬化性樹脂
組成物を光照射により硬化させる時に、光架橋重合性化
合物の架橋重合体と鎖状高分子の相分離が生じる場合が
多く、相分離が生じる場合に良好な表面の皺が形成され
る。また、相分離を生じさせるための制御可能な因子が
多いため、皺の構造制御も容易である。即ち、(B)鎖
状重合体の使用量が増加するほど、皺の大きさは小さく
なる傾向が見られる。また、鎖状重合体の使用量を少な
くするほど、皺の深さが浅くなる傾向が見られる。
組成物を光照射により硬化させる時に、光架橋重合性化
合物の架橋重合体と鎖状高分子の相分離が生じる場合が
多く、相分離が生じる場合に良好な表面の皺が形成され
る。また、相分離を生じさせるための制御可能な因子が
多いため、皺の構造制御も容易である。即ち、(B)鎖
状重合体の使用量が増加するほど、皺の大きさは小さく
なる傾向が見られる。また、鎖状重合体の使用量を少な
くするほど、皺の深さが浅くなる傾向が見られる。
【0043】本発明に使用される活性光線としては、2
50nmから410nmの間の、少なくとも2つの波長
領域(W1とW2)で光強度が10mW/cm2以上、
好ましくは20mW/cm2以上、特に好ましくは30
mW/cm2以上となる光源が用いられ、紫外線、可視
光線、赤外線の如き光線が挙げられるが、取り扱い性や
装置価格の面から、紫外線或いは可視光線が好ましく、
特に紫外線が好ましい。
50nmから410nmの間の、少なくとも2つの波長
領域(W1とW2)で光強度が10mW/cm2以上、
好ましくは20mW/cm2以上、特に好ましくは30
mW/cm2以上となる光源が用いられ、紫外線、可視
光線、赤外線の如き光線が挙げられるが、取り扱い性や
装置価格の面から、紫外線或いは可視光線が好ましく、
特に紫外線が好ましい。
【0044】その光源としては、200〜600nmの
波長領域でスペクトルを発生する放電ランプや無電極ラ
ンプなどが使用できる。ランプとしては、水銀ランプが
好ましく用いられ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、
メタルハライドランプ、スーパーメタルハライドランプ
が挙げられる。無電極ランプとしては、キセノンランプ
やキセノン-水銀ランプなどが好ましく用いられる。
波長領域でスペクトルを発生する放電ランプや無電極ラ
ンプなどが使用できる。ランプとしては、水銀ランプが
好ましく用いられ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、
メタルハライドランプ、スーパーメタルハライドランプ
が挙げられる。無電極ランプとしては、キセノンランプ
やキセノン-水銀ランプなどが好ましく用いられる。
【0045】これら紫外線源は特定の波長に高強度の輝
線を有し、この輝線を利用することが特に好ましい。紫
外線源の種類により、紫外線スペクトルがほぼ決まって
いるために、紫外線強度は365nm付近の輝線の強度
を測定することで、それ以外の輝線強度を推測すること
ができる。
線を有し、この輝線を利用することが特に好ましい。紫
外線源の種類により、紫外線スペクトルがほぼ決まって
いるために、紫外線強度は365nm付近の輝線の強度
を測定することで、それ以外の輝線強度を推測すること
ができる。
【0046】本発明の製造方法には、250nm<W1
<W2<410nmの関係にある波長W1(nm)とW
2(nm)において、短波長側のW1でモル吸光係数が
3000(L・mol-1・cm-1)以上、好ましく40
00(L・mol-1・cm-1)以上であり、且つ長波長
側のW2でモル吸光係数が150〜5(L・mol-1・
cm-1)、好ましくは100〜8(L・mol-1・cm
-1)となる光重合開始剤を用いる。
<W2<410nmの関係にある波長W1(nm)とW
2(nm)において、短波長側のW1でモル吸光係数が
3000(L・mol-1・cm-1)以上、好ましく40
00(L・mol-1・cm-1)以上であり、且つ長波長
側のW2でモル吸光係数が150〜5(L・mol-1・
cm-1)、好ましくは100〜8(L・mol-1・cm
-1)となる光重合開始剤を用いる。
【0047】短波長側W1でモル吸光係数が3000
(L・mol-1・cm-1)未満、及び長波長側W2でモ
ル吸光係数が150〜5(L・mol-1・cm-1)の範
囲以外では良好に皺模様が形成されなくなり好ましくな
い。短波長側のW1でのモル吸光係数が3000(L・
mol-1・cm-1)未満である場合には、良好な皮膜が
形成されなくなり、長波長域W2でのモル吸光係数が1
50〜5(L・mol-1・cm-1)の範囲以外では成型
体内部の硬化速度が低下するために、体積収縮が良好に
生じなくなって、皺模様が形成されなくなると推測され
る。
(L・mol-1・cm-1)未満、及び長波長側W2でモ
ル吸光係数が150〜5(L・mol-1・cm-1)の範
囲以外では良好に皺模様が形成されなくなり好ましくな
い。短波長側のW1でのモル吸光係数が3000(L・
mol-1・cm-1)未満である場合には、良好な皮膜が
形成されなくなり、長波長域W2でのモル吸光係数が1
50〜5(L・mol-1・cm-1)の範囲以外では成型
体内部の硬化速度が低下するために、体積収縮が良好に
生じなくなって、皺模様が形成されなくなると推測され
る。
【0048】紫外線源として、水銀ランプを使用する場
合は、254nm付近、302nm付近、313nm付
近、365nm付近、405nm付近のスペクトルのい
ずれか、特に好ましくは254nm付近、302nm付
近、313nm付近、365nm付近のスペクトルのい
ずれかが利用される。そのため、これらの波長がW1と
W2となるように、光重合開始剤を選択することが好ま
しい。
合は、254nm付近、302nm付近、313nm付
近、365nm付近、405nm付近のスペクトルのい
ずれか、特に好ましくは254nm付近、302nm付
近、313nm付近、365nm付近のスペクトルのい
ずれかが利用される。そのため、これらの波長がW1と
W2となるように、光重合開始剤を選択することが好ま
しい。
【0049】また、後述する光硬化性樹脂組成物の光透
過率が50%となる波長W〜500nmの波長領域でモ
ル吸光係数が1000(L・mol-1・cm-1)、特に
800(L・mol-1・cm-1)以下である光重合開始
剤が好ましく用いられる。この範囲を越えると、成形物
表面に形成される皮膜が厚くなって皺模様が形成されな
くなる場合があるため好ましくない。
過率が50%となる波長W〜500nmの波長領域でモ
ル吸光係数が1000(L・mol-1・cm-1)、特に
800(L・mol-1・cm-1)以下である光重合開始
剤が好ましく用いられる。この範囲を越えると、成形物
表面に形成される皮膜が厚くなって皺模様が形成されな
くなる場合があるため好ましくない。
【0050】本発明の製造方法に用いられる、上述の光
重合開始剤は、例えば、ラジカル重合開始剤、アニオン
重合開始剤、カチオン重合開始剤であって良い。このよ
うな光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン
(254nmで15000(L・mol-1・cm-1)、
313nmで140(L・mol-1・cm-1)、365
nmで90(L・mol-1・cm-1))のようなベンゾ
フェノン類、1?ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン(254nmで6800(L・mol-1・c
m-1)、313nmで90(L・mol-1・cm-1)、
365nmで20(L・mol-1・cm-1))、
重合開始剤は、例えば、ラジカル重合開始剤、アニオン
重合開始剤、カチオン重合開始剤であって良い。このよ
うな光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン
(254nmで15000(L・mol-1・cm-1)、
313nmで140(L・mol-1・cm-1)、365
nmで90(L・mol-1・cm-1))のようなベンゾ
フェノン類、1?ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン(254nmで6800(L・mol-1・c
m-1)、313nmで90(L・mol-1・cm-1)、
365nmで20(L・mol-1・cm-1))、
【0051】2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニ
ルプロパン−1−オン(254nmで6670(L・m
ol-1・cm-1)、313nmで90(L・mol-1・
cm-1)、365nmで12(L・mol-1・c
m-1))の如きアセトフェノン類;ベンジルジメチルケ
タール(254nmで12100(L・mol-1・cm
-1)、365nmで95(L・mol-1・cm-1))の
如きベンゾイン類などが挙げられる。これらは単独、又
は混合して使用できる。
ルプロパン−1−オン(254nmで6670(L・m
ol-1・cm-1)、313nmで90(L・mol-1・
cm-1)、365nmで12(L・mol-1・c
m-1))の如きアセトフェノン類;ベンジルジメチルケ
タール(254nmで12100(L・mol-1・cm
-1)、365nmで95(L・mol-1・cm-1))の
如きベンゾイン類などが挙げられる。これらは単独、又
は混合して使用できる。
【0052】また光重合開始剤は光硬化性樹脂組成物に
溶解あるいは分散した状態で用いることができるが、光
硬化性樹脂組成物に溶解するものであることが好まし
い。光重合開始剤の使用量は、使用する光重合開始剤の
種類などにより異なるため、一概には規定できないが、
通常、光架橋重合性化合物100重量部に対して、0.
1〜15重量部の範囲が好ましく、0.2〜10重量部
の範囲が特に好ましい。
溶解あるいは分散した状態で用いることができるが、光
硬化性樹脂組成物に溶解するものであることが好まし
い。光重合開始剤の使用量は、使用する光重合開始剤の
種類などにより異なるため、一概には規定できないが、
通常、光架橋重合性化合物100重量部に対して、0.
1〜15重量部の範囲が好ましく、0.2〜10重量部
の範囲が特に好ましい。
【0053】光重合開始剤量が光架橋重合性化合物10
0重量部に対して、15重量部を越えると、成形物表面
に形成される皮膜が厚くなって皺模様が形成されなくな
る場合があるため好ましくない。また、光重合開始剤量
が0.1重量部未満では塗膜が十分に硬化されず好まし
くない。但し、例えば、マレイミド化合物のように、光
架橋重合性化合物が光重合開始剤を兼ねる場合や、活性
光線架橋重合性化合物と共重合する光重合開始剤である
場合にはこの限りではない。
0重量部に対して、15重量部を越えると、成形物表面
に形成される皮膜が厚くなって皺模様が形成されなくな
る場合があるため好ましくない。また、光重合開始剤量
が0.1重量部未満では塗膜が十分に硬化されず好まし
くない。但し、例えば、マレイミド化合物のように、光
架橋重合性化合物が光重合開始剤を兼ねる場合や、活性
光線架橋重合性化合物と共重合する光重合開始剤である
場合にはこの限りではない。
【0054】本発明では、光重合開始剤の使用量によ
り、皺の大きさを制御することが可能となる場合があ
る。この場合、光重合開始剤量が多くなるほど、皺の大
きさは小さくなる傾向が見られる。また塗膜表面の硬化
度を高める目的で、活性光線の照射を低酸素濃度雰囲気
で行うことも好ましい。低酸素濃度雰囲気としては、窒
素気流中、二酸化炭素気流中、アルゴン気流中、真空又
は減圧雰囲気が好ましい。
り、皺の大きさを制御することが可能となる場合があ
る。この場合、光重合開始剤量が多くなるほど、皺の大
きさは小さくなる傾向が見られる。また塗膜表面の硬化
度を高める目的で、活性光線の照射を低酸素濃度雰囲気
で行うことも好ましい。低酸素濃度雰囲気としては、窒
素気流中、二酸化炭素気流中、アルゴン気流中、真空又
は減圧雰囲気が好ましい。
【0055】本発明の製造方法に用いる光硬化性樹脂組
成物は、2つの波長W1とW2(250nm<W1<3
10nm、350nm<W2<410nm)で光吸収性
を示し、且つW1では3000(L・mol-1・c
m-1)以上のモル吸光係数を、W2では150〜5(L
・mol-1・cm-1)のモル吸光係数を有する光重合開
始剤を含み、光硬化性樹脂組成物の厚さ100±20μ
mの平行光透過率が260〜380nmの間で70%以
上から20%以下まで変化するものであり、且つ波長W
1での平行光透過率が20%以下、波長W2での平行光
透過率が70%以上のものである。
成物は、2つの波長W1とW2(250nm<W1<3
10nm、350nm<W2<410nm)で光吸収性
を示し、且つW1では3000(L・mol-1・c
m-1)以上のモル吸光係数を、W2では150〜5(L
・mol-1・cm-1)のモル吸光係数を有する光重合開
始剤を含み、光硬化性樹脂組成物の厚さ100±20μ
mの平行光透過率が260〜380nmの間で70%以
上から20%以下まで変化するものであり、且つ波長W
1での平行光透過率が20%以下、波長W2での平行光
透過率が70%以上のものである。
【0056】厚さ100±20μmでの平行光透過率が
260〜380nmにある波長Wで50%となり、該波
長Wを境に平行光透過率が70%以上から20%以下ま
で低下するもので、波長W1での平行光透過率が20%
以下、好ましく10%以下、特に好ましくは5%以下で
あり、波長W2での平行光透過率は70%以上、特に好
ましくは80%以上であるものが好ましく用いられる。
波長W(nm)は波長W1と波長W2の間にあり、特に
好ましくは280〜370nmの範囲である。
260〜380nmにある波長Wで50%となり、該波
長Wを境に平行光透過率が70%以上から20%以下ま
で低下するもので、波長W1での平行光透過率が20%
以下、好ましく10%以下、特に好ましくは5%以下で
あり、波長W2での平行光透過率は70%以上、特に好
ましくは80%以上であるものが好ましく用いられる。
波長W(nm)は波長W1と波長W2の間にあり、特に
好ましくは280〜370nmの範囲である。
【0057】表面に皺模様が形成される理由は不明であ
るが、表面層のみに薄い硬化皮膜が形成され、次いで、
内部が硬化する際に体積収縮が生じ、表面に皺模様が形
成されるものと推測される。硬化は表面部近傍だけに形
成され、しかも表面部の皮膜の形成と内部の硬化には一
定の時間差がなければならないため、従来の製造方法で
は、表面に皮膜を形成させる工程と、内部を硬化させる
工程の2つの工程が必要であった。
るが、表面層のみに薄い硬化皮膜が形成され、次いで、
内部が硬化する際に体積収縮が生じ、表面に皺模様が形
成されるものと推測される。硬化は表面部近傍だけに形
成され、しかも表面部の皮膜の形成と内部の硬化には一
定の時間差がなければならないため、従来の製造方法で
は、表面に皮膜を形成させる工程と、内部を硬化させる
工程の2つの工程が必要であった。
【0058】また、従来の方法では、高圧水銀ランプや
キセノンランプなどのように連続スペクトル性が強い活
性光源を使用する場合には、表面部だけに硬化皮膜を形
成させることが難しく、皺模様が形成されない問題があ
ったり、皺の大きさや深さを制御できないなどの問題が
あった。しかし、本発明ではW1とW2の間にある波長
W(nm)で光硬化性樹脂組成物の光透過率が大きく変
化することを利用することにより、1段階の光照射で
も、連続性の強い光源を使用する場合にも、目的とする
皺模様を形成させることが可能となる。
キセノンランプなどのように連続スペクトル性が強い活
性光源を使用する場合には、表面部だけに硬化皮膜を形
成させることが難しく、皺模様が形成されない問題があ
ったり、皺の大きさや深さを制御できないなどの問題が
あった。しかし、本発明ではW1とW2の間にある波長
W(nm)で光硬化性樹脂組成物の光透過率が大きく変
化することを利用することにより、1段階の光照射で
も、連続性の強い光源を使用する場合にも、目的とする
皺模様を形成させることが可能となる。
【0059】恐らく、短波長側の波長W1での光硬化性
樹脂組成物の光透過率が小さいために、高エネルギーの
紫外線を高効率で吸収し塗膜を素早く形成することは表
面近傍でのみ可能となり、その結果、表面近傍に薄い皮
膜が形成され、次いで、長波長側の波長W2の相対的に
低エネルギーの紫外線で塗膜内部が硬化される為に、1
段階の光照射で目的とする皺模様が形成されると推測さ
れる。そのため、短波長側の波長W1での光硬化性樹脂
組成物の光透過率はできるだけ低く、反対に長波長側の
波長W2での光透過率はできるだけ高いものが好まし
い。
樹脂組成物の光透過率が小さいために、高エネルギーの
紫外線を高効率で吸収し塗膜を素早く形成することは表
面近傍でのみ可能となり、その結果、表面近傍に薄い皮
膜が形成され、次いで、長波長側の波長W2の相対的に
低エネルギーの紫外線で塗膜内部が硬化される為に、1
段階の光照射で目的とする皺模様が形成されると推測さ
れる。そのため、短波長側の波長W1での光硬化性樹脂
組成物の光透過率はできるだけ低く、反対に長波長側の
波長W2での光透過率はできるだけ高いものが好まし
い。
【0060】このような光硬化性樹脂組成物は、使用す
る光重合性化合物や光重合開始剤の種類や使用量を調製
することや、紫外線吸収剤や紫外線安定剤などの紫外線
吸収能を有する低分子化合物や紫外線吸収能を有する鎖
状重合体を添加することにより調製することができる。
る光重合性化合物や光重合開始剤の種類や使用量を調製
することや、紫外線吸収剤や紫外線安定剤などの紫外線
吸収能を有する低分子化合物や紫外線吸収能を有する鎖
状重合体を添加することにより調製することができる。
【0061】紫外線吸収能を持つ低分子化合物として
は、短波長側で低光透過率であり、長波長側で高光透過
率である、光透過率が大きく変化する波長域が波長領域
260〜380nm、特に好ましくは280〜370n
mの波長域にある化合物を選択して用いることが可能で
あり、このような化合物としては、紫外線吸収剤や紫外
線安定剤などとして通常使用されている化合物、例え
ば、サルチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外
線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノ
アクリレート系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外
線安定剤などが挙げられる。
は、短波長側で低光透過率であり、長波長側で高光透過
率である、光透過率が大きく変化する波長域が波長領域
260〜380nm、特に好ましくは280〜370n
mの波長域にある化合物を選択して用いることが可能で
あり、このような化合物としては、紫外線吸収剤や紫外
線安定剤などとして通常使用されている化合物、例え
ば、サルチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外
線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノ
アクリレート系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外
線安定剤などが挙げられる。
【0062】紫外線吸収能を持つ低分子化合物の使用量
は、上述した光学特性の光硬化性樹脂組成物が得られる
だけの量が使用されるが、通常、光重合性化合物100
重量部に対して、10重量%以下が好ましく、特に5重
量%以下が好ましい。10重量%を越えると硬化性が低
下したり、力学的性質が損なわれるなどの問題があり好
ましくない。
は、上述した光学特性の光硬化性樹脂組成物が得られる
だけの量が使用されるが、通常、光重合性化合物100
重量部に対して、10重量%以下が好ましく、特に5重
量%以下が好ましい。10重量%を越えると硬化性が低
下したり、力学的性質が損なわれるなどの問題があり好
ましくない。
【0063】また、紫外線吸収能を有する鎖状重合体を
使用することも可能である。このような鎖状重合体とし
ては、短波長域で低透過率、長波長域で高透過率となる
ような、光透過率が大きく変化する波長領域が260〜
380nm、特に好ましくは280〜270nmの範囲
にある鎖状重合体が好ましく用いられ、このような鎖状
重合体としては、ポルスルホンやポリエーテルスルホン
の如きポリスルホン系重合体、ポリマレイミド系重合
体、ポリアリレートなどの芳香族ポリエステル、ポリイ
ミド系重合体、フェノキシ樹脂、スチレン共重合体など
が挙げられる。
使用することも可能である。このような鎖状重合体とし
ては、短波長域で低透過率、長波長域で高透過率となる
ような、光透過率が大きく変化する波長領域が260〜
380nm、特に好ましくは280〜270nmの範囲
にある鎖状重合体が好ましく用いられ、このような鎖状
重合体としては、ポルスルホンやポリエーテルスルホン
の如きポリスルホン系重合体、ポリマレイミド系重合
体、ポリアリレートなどの芳香族ポリエステル、ポリイ
ミド系重合体、フェノキシ樹脂、スチレン共重合体など
が挙げられる。
【0064】本発明の光硬化性樹脂組成物には、その他
の成分、例えば、フッ素系化合物、シリコーンなどの滑
剤;色素、顔料、蛍光色素などの着色剤;酸化防止剤;
エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂;防黴剤;抗菌剤;無
機や有機の粉末;強化繊維等を混合あるいは共重合の形
で含有させることができる。また、繊維強化プラスチッ
ク、ラミネートシートなどの複合体とすることも可能で
ある。
の成分、例えば、フッ素系化合物、シリコーンなどの滑
剤;色素、顔料、蛍光色素などの着色剤;酸化防止剤;
エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂;防黴剤;抗菌剤;無
機や有機の粉末;強化繊維等を混合あるいは共重合の形
で含有させることができる。また、繊維強化プラスチッ
ク、ラミネートシートなどの複合体とすることも可能で
ある。
【0065】光架橋重合性化合物、鎖状重合体と光重合
開始剤、必要に応じて使用する紫外線吸収能を有する低
分子化合物が均一に混合した光硬化性樹脂組成物を得る
方法は、これら成分を直接(加熱)混合する方法や、光
架橋重合性化合物と光硬化性樹脂組成物のその他の成分
が共に均質に混合する共通溶媒を用いて、光架橋重合性
化合物と光硬化性樹脂組成物のその他の成分と溶媒との
均質混合溶液を調製した後、該均質混合溶液を基板など
に塗布し溶媒キャスト法により溶媒を除去して均一に混
合した光硬化性樹脂組成物を得る方法などが可能であ
る。
開始剤、必要に応じて使用する紫外線吸収能を有する低
分子化合物が均一に混合した光硬化性樹脂組成物を得る
方法は、これら成分を直接(加熱)混合する方法や、光
架橋重合性化合物と光硬化性樹脂組成物のその他の成分
が共に均質に混合する共通溶媒を用いて、光架橋重合性
化合物と光硬化性樹脂組成物のその他の成分と溶媒との
均質混合溶液を調製した後、該均質混合溶液を基板など
に塗布し溶媒キャスト法により溶媒を除去して均一に混
合した光硬化性樹脂組成物を得る方法などが可能であ
る。
【0066】溶剤を用いる場合には、使用する溶剤は、
揮発、抽出などの何らかの方法で除去可能なものであれ
ば任意であるが、揮発性溶剤であることが好ましい。揮
発性溶剤は沸点が150℃以下であることが好ましく、
120℃以下であることが更に好ましい。
揮発、抽出などの何らかの方法で除去可能なものであれ
ば任意であるが、揮発性溶剤であることが好ましい。揮
発性溶剤は沸点が150℃以下であることが好ましく、
120℃以下であることが更に好ましい。
【0067】このような溶剤としては、例えば、塩化メ
チレン、クロロホルム、トリクロロエタン、テトラクロ
ロエタンの如き塩素系溶剤;メタノール、エタノールの
如きアルコール系溶媒;アセトン、2−ブタノンの如き
ケトン系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチルの如きエステル
系溶剤;ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラ
ヒドロフランの如きエーテル系溶剤;トルエン、シクロ
ヘキサンの如き炭化水素系溶剤;蟻酸の如き酸;クロロ
フェノールの如きフェノール類;液化二酸化炭素、液化
アンモニアの如き液化ガス;超臨界二酸化炭素の如き超
臨界流体などが挙げられる。
チレン、クロロホルム、トリクロロエタン、テトラクロ
ロエタンの如き塩素系溶剤;メタノール、エタノールの
如きアルコール系溶媒;アセトン、2−ブタノンの如き
ケトン系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチルの如きエステル
系溶剤;ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラ
ヒドロフランの如きエーテル系溶剤;トルエン、シクロ
ヘキサンの如き炭化水素系溶剤;蟻酸の如き酸;クロロ
フェノールの如きフェノール類;液化二酸化炭素、液化
アンモニアの如き液化ガス;超臨界二酸化炭素の如き超
臨界流体などが挙げられる。
【0068】溶剤除去方法も任意であるが、揮発による
除去であることが好ましい。揮発方法も任意であり、例
えば、風乾、熱風乾燥、赤外線乾燥、真空乾燥などであ
り得る。
除去であることが好ましい。揮発方法も任意であり、例
えば、風乾、熱風乾燥、赤外線乾燥、真空乾燥などであ
り得る。
【0069】光硬化性樹脂組成物は、塗膜状、フィルム
状(シート状、リボン状などを含む)、繊維状、注型
物、含浸物などの任意の形状に賦形される。但し、活性
光線により硬化可能な形状であることが必要である。例
えば、活性光線が到達可能な厚みである必要があり、賦
形物が被服物で被われている場合には、被服物は使用す
る活性光線を透過させるものである必要がある。賦形方
法も任意であり、例えば、塗布、流延、浸漬、注型、含
浸、押し出し等であり得る。
状(シート状、リボン状などを含む)、繊維状、注型
物、含浸物などの任意の形状に賦形される。但し、活性
光線により硬化可能な形状であることが必要である。例
えば、活性光線が到達可能な厚みである必要があり、賦
形物が被服物で被われている場合には、被服物は使用す
る活性光線を透過させるものである必要がある。賦形方
法も任意であり、例えば、塗布、流延、浸漬、注型、含
浸、押し出し等であり得る。
【0070】光硬化性樹脂組成物の調製が溶媒を使用す
る方法である場合には、賦形は溶媒除去の前であって
も、後であっても、同時であっても、また、一部除去の
後であっても良い。光硬化性樹脂組成物の粘度が高い場
合や、賦形物が塗膜やフィルムのような厚みの小さいも
のである場合には、賦形後に溶剤除去を行なうことが好
ましい。
る方法である場合には、賦形は溶媒除去の前であって
も、後であっても、同時であっても、また、一部除去の
後であっても良い。光硬化性樹脂組成物の粘度が高い場
合や、賦形物が塗膜やフィルムのような厚みの小さいも
のである場合には、賦形後に溶剤除去を行なうことが好
ましい。
【0071】本発明の表面に周期的な皺模様を有する樹
脂成形物の製造方法は、上述した光架橋重合性化合物、
鎖状重合体、光重合開始剤、及び必要に応じて紫外線吸
収剤とを含む光硬化性樹脂組成物に活性光線を照射し光
硬化性樹脂組成物を硬化させることにより得られるもの
である。
脂成形物の製造方法は、上述した光架橋重合性化合物、
鎖状重合体、光重合開始剤、及び必要に応じて紫外線吸
収剤とを含む光硬化性樹脂組成物に活性光線を照射し光
硬化性樹脂組成物を硬化させることにより得られるもの
である。
【0072】(A)光架橋重合性化合物と(B)鎖状重
合体を含む光硬化性樹脂組成物は、活性光線照射前は均
一に混合しているが、活性光線照射により(A)光架橋
重合性化合物の分子量が増加すると相溶性が低下するた
め、活性光線の照射条件によっては(A)光架橋重合性
化合物の硬化物と(B)鎖状重合体は相分離する。本発
明では、(A)光架橋重合性化合物と(B)鎖状重合体
が相分離する条件(温度、粘度)下で活性光線を照射す
ることが特に好ましい。
合体を含む光硬化性樹脂組成物は、活性光線照射前は均
一に混合しているが、活性光線照射により(A)光架橋
重合性化合物の分子量が増加すると相溶性が低下するた
め、活性光線の照射条件によっては(A)光架橋重合性
化合物の硬化物と(B)鎖状重合体は相分離する。本発
明では、(A)光架橋重合性化合物と(B)鎖状重合体
が相分離する条件(温度、粘度)下で活性光線を照射す
ることが特に好ましい。
【0073】相分離が誘発される活性光線の照射条件
は、使用する(A)光架橋重合性化合物と(B)鎖状重
合体の組み合わせ(相溶性)やブレンドする比率により
異なり、一概には規定できない。一般的には低粘度、高
温度で活性光線を照射することにより相分離が誘発され
るが、相溶性の高い組み合わせの場合、より低粘度、よ
り高温度で活性光線を照射する必要があり、相溶性の低
い組み合わせの場合には、比較的高粘度、比較的低温度
でも相分離が誘発され、周期的な皺模様が形成される。
また、鎖状重合体量が多くなるほど比較的高粘度でも相
分離が誘発され、周期的な皺模様が形成される傾向があ
る。
は、使用する(A)光架橋重合性化合物と(B)鎖状重
合体の組み合わせ(相溶性)やブレンドする比率により
異なり、一概には規定できない。一般的には低粘度、高
温度で活性光線を照射することにより相分離が誘発され
るが、相溶性の高い組み合わせの場合、より低粘度、よ
り高温度で活性光線を照射する必要があり、相溶性の低
い組み合わせの場合には、比較的高粘度、比較的低温度
でも相分離が誘発され、周期的な皺模様が形成される。
また、鎖状重合体量が多くなるほど比較的高粘度でも相
分離が誘発され、周期的な皺模様が形成される傾向があ
る。
【0074】本発明の活性光線の照射は、光硬化性樹脂
組成物の粘度が100000Pa・s以下、特に好まし
くは50000(Pa・s)以下の状態で活性光線を照
射し光硬化性樹脂組成物を硬化させることが好ましい。
粘度が100000Pa・sを越えると、好ましい皺模
様が形成されない。粘度の最小値は、通常、0.001
Pa・s以上、特に好ましくは0.01Pa・s以上で
ある。粘度が0.001Pa・s未満では皺模様の周期
性が低下するため好ましくない。
組成物の粘度が100000Pa・s以下、特に好まし
くは50000(Pa・s)以下の状態で活性光線を照
射し光硬化性樹脂組成物を硬化させることが好ましい。
粘度が100000Pa・sを越えると、好ましい皺模
様が形成されない。粘度の最小値は、通常、0.001
Pa・s以上、特に好ましくは0.01Pa・s以上で
ある。粘度が0.001Pa・s未満では皺模様の周期
性が低下するため好ましくない。
【0075】一般的に、鎖状重合体を多く用いた場合、
粘度が高くても皺模様が形成される傾向が見られるが、
鎖状重合体の使用量が少ない場合には、より低粘度とし
なければ皺模様が得られなくなる傾向が見られる。この
ような粘度を得る方法は、活性光線の照射温度を変化さ
せたり、低粘度の単官能の光重合性化合物を使用するな
どの方法が可能である。
粘度が高くても皺模様が形成される傾向が見られるが、
鎖状重合体の使用量が少ない場合には、より低粘度とし
なければ皺模様が得られなくなる傾向が見られる。この
ような粘度を得る方法は、活性光線の照射温度を変化さ
せたり、低粘度の単官能の光重合性化合物を使用するな
どの方法が可能である。
【0076】(A)光架橋重合性化合物の硬化物と
(B)鎖状重合体が相分離していることは、透過型或い
は走査型電子顕微鏡による直接的な観察や、ガラス転移
温度の測定、核磁気共鳴吸収法による分子間相互作用の
ようすなどを測定する高分子ブレンドのテキストなどに
記載されている一般的な方法で知ることができる。
(B)鎖状重合体が相分離していることは、透過型或い
は走査型電子顕微鏡による直接的な観察や、ガラス転移
温度の測定、核磁気共鳴吸収法による分子間相互作用の
ようすなどを測定する高分子ブレンドのテキストなどに
記載されている一般的な方法で知ることができる。
【0077】本発明の樹脂成形物では活性光線の照射温
度により皺の大きさや深さを制御することができる。一
般的に、照射温度を高くするほど、皺の大きさが大きく
なり、皺の深さも深くなる傾向が見られる。但し、照射
温度がある温度以上になる皺の深さは飽和する傾向が見
られ、この温度は使用する樹脂の種類、ブレンド組成比
などにより異なる。本発明では活性光線の照射温度は生
産上の理由から、0〜250℃が好ましく、10〜20
0℃が特に好ましい。
度により皺の大きさや深さを制御することができる。一
般的に、照射温度を高くするほど、皺の大きさが大きく
なり、皺の深さも深くなる傾向が見られる。但し、照射
温度がある温度以上になる皺の深さは飽和する傾向が見
られ、この温度は使用する樹脂の種類、ブレンド組成比
などにより異なる。本発明では活性光線の照射温度は生
産上の理由から、0〜250℃が好ましく、10〜20
0℃が特に好ましい。
【0078】
【実施例】以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説
明する。しかしながら、本発明は以下の実施例の範囲に
限定されるものではない。
明する。しかしながら、本発明は以下の実施例の範囲に
限定されるものではない。
【0079】なお、以下の実施例において、紫外線源と
して、160Wのメタルハライドランプ(アイグラフィ
ックス製)を用いた。365nmでの紫外線照射強度は
約70mW/cm2であった。また、紫外線照射時間は
特に条件として記載しない限り通常90秒間とし、表面
は空気開放下とした。
して、160Wのメタルハライドランプ(アイグラフィ
ックス製)を用いた。365nmでの紫外線照射強度は
約70mW/cm2であった。また、紫外線照射時間は
特に条件として記載しない限り通常90秒間とし、表面
は空気開放下とした。
【0080】(粘度の測定)光硬化性樹脂組成物の粘度
はレオメトリックス社製の動的粘弾性測定装置RDS?
IIを使用し測定した。直径25mmφのパラレルプレ
ートを使用し、サンプル厚1.5mmとした。複素粘性
率の周波数分散を測定し、周波数=0への外挿値を求
め、粘度とした。
はレオメトリックス社製の動的粘弾性測定装置RDS?
IIを使用し測定した。直径25mmφのパラレルプレ
ートを使用し、サンプル厚1.5mmとした。複素粘性
率の周波数分散を測定し、周波数=0への外挿値を求
め、粘度とした。
【0081】(光透過率の測定)日本電色工業株式会社
製の濁度計「NDH?300A」を用いて、光硬化性樹
脂組成物の平行光透過率を測定した。フィルムの厚みは
約100μmとした。
製の濁度計「NDH?300A」を用いて、光硬化性樹
脂組成物の平行光透過率を測定した。フィルムの厚みは
約100μmとした。
【0082】(ガラス転移温度の測定)ガラス転移温度
は動的粘弾性測定(レオメトリックス株式会社製のRS
A-II)により求めた。毎分2℃で昇温し、1Hzで
測定した。ガラス転移温度はtanδのピーク温度とし
た。
は動的粘弾性測定(レオメトリックス株式会社製のRS
A-II)により求めた。毎分2℃で昇温し、1Hzで
測定した。ガラス転移温度はtanδのピーク温度とし
た。
【0083】(電子顕微鏡観察)走査型電子顕微鏡(S
EM)は日立製作所株式会社製のFE-SEM S−8
00、TEMは日本電子工業株式会社製のJEM−20
0CX、走査型レーザー顕微鏡はレーザーテック株式会
社製の1LM15を用いた。
EM)は日立製作所株式会社製のFE-SEM S−8
00、TEMは日本電子工業株式会社製のJEM−20
0CX、走査型レーザー顕微鏡はレーザーテック株式会
社製の1LM15を用いた。
【0084】[実施例1]光架橋重合性化合物として、
「ニューフロンティア BPE−4」(第一工業製薬株
式会社製のエチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ
アクリレート;以下、「BPE4」と省略する。)5
g、光重合開始剤として、「イルガキュア184」(チ
バ・ガイギー社製の1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン)0.1g及び鎖状重合体として、「ユーデ
ル 3703」(アムコ株式会社製のポリサルホン;以
下、「PSF」と省略する。)5gを塩化メチレン50
gに溶解させて均質混合溶液(1)を得た。
「ニューフロンティア BPE−4」(第一工業製薬株
式会社製のエチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ
アクリレート;以下、「BPE4」と省略する。)5
g、光重合開始剤として、「イルガキュア184」(チ
バ・ガイギー社製の1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン)0.1g及び鎖状重合体として、「ユーデ
ル 3703」(アムコ株式会社製のポリサルホン;以
下、「PSF」と省略する。)5gを塩化メチレン50
gに溶解させて均質混合溶液(1)を得た。
【0085】このようにして得た均質混合溶液(1)を
ガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均一混合液
の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組成物
(1)を得た。該光硬化性樹脂組成物の光透過率を測定
したところ、340〜310nmで、平行光透過率が約
90からほぼ0%まで低下した。また、310nm以下
の波長では平行光透過率はほぼ0%、350nm以上の
波長では平行光透過率は80%以上であった。また、光
硬化性樹脂組成物(1)の150℃での粘度は約600
(Pa・s)であった。
ガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均一混合液
の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組成物
(1)を得た。該光硬化性樹脂組成物の光透過率を測定
したところ、340〜310nmで、平行光透過率が約
90からほぼ0%まで低下した。また、310nm以下
の波長では平行光透過率はほぼ0%、350nm以上の
波長では平行光透過率は80%以上であった。また、光
硬化性樹脂組成物(1)の150℃での粘度は約600
(Pa・s)であった。
【0086】なお、イルガキュア184のモル吸光係数
は365nmで20(L mol-1cm-1)、313n
mで90(L mol-1 cm-1)、302nmで12
0(L mol-1 cm-1)、254nmで6800
(L mol-1 cm-1)、405nm以上ではほぼゼ
ロであった。-1
は365nmで20(L mol-1cm-1)、313n
mで90(L mol-1 cm-1)、302nmで12
0(L mol-1 cm-1)、254nmで6800
(L mol-1 cm-1)、405nm以上ではほぼゼ
ロであった。-1
【0087】光硬化性樹脂組成物(1)の塗膜を150
℃に保持し、表面を空気中に解放した状態で紫外線を照
射した。白濁化した硬化塗膜(約100μm)が得られ
た。硬化塗膜の光透過率は約30%であった。
℃に保持し、表面を空気中に解放した状態で紫外線を照
射した。白濁化した硬化塗膜(約100μm)が得られ
た。硬化塗膜の光透過率は約30%であった。
【0088】硬化塗膜を光学顕微鏡で観察したところ、
相関長が約7μmの周期的な模様が観察された。更に、
走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、硬化塗膜の表面
を観察したところ、相関長がほぼ同じ7μmの周期性を
持つ皺模様が観察された。尚、硬化塗膜の基板面には皺
模様は観察できなかった。皺の距離のばらつきを測定し
たところ、ばらつきは1μm以下であった。また、走査
型レーザー顕微鏡により測定した皺の深さは約2.5μ
mであった。
相関長が約7μmの周期的な模様が観察された。更に、
走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、硬化塗膜の表面
を観察したところ、相関長がほぼ同じ7μmの周期性を
持つ皺模様が観察された。尚、硬化塗膜の基板面には皺
模様は観察できなかった。皺の距離のばらつきを測定し
たところ、ばらつきは1μm以下であった。また、走査
型レーザー顕微鏡により測定した皺の深さは約2.5μ
mであった。
【0089】図1に実施例1で得られた光学顕微鏡写真
を示す。右下のスケールは50μmである。図の白い部
分が皺の窪み部分である。透過型電子顕微鏡(TEM)
で塗膜断面を観察したところ、50〜80nmの網目状
の相分離構造が観察された。また、ガラス転移温度(T
g)は88℃と148℃に明確に2つ現れた。
を示す。右下のスケールは50μmである。図の白い部
分が皺の窪み部分である。透過型電子顕微鏡(TEM)
で塗膜断面を観察したところ、50〜80nmの網目状
の相分離構造が観察された。また、ガラス転移温度(T
g)は88℃と148℃に明確に2つ現れた。
【0090】[比較例1]光硬化性樹脂組成物(1)を
用いて、光硬化性樹脂組成物(1)とほぼ同じ光透過特
性を持つガラス板を用いて320nm以下の波長をカッ
トした紫外線を用いたこと以外は、実施例1と同様な方
法で硬化塗膜を得た。実施例1と同様な方法で硬化塗膜
表面を観察したが、全く皺模様は観察されなかった。
用いて、光硬化性樹脂組成物(1)とほぼ同じ光透過特
性を持つガラス板を用いて320nm以下の波長をカッ
トした紫外線を用いたこと以外は、実施例1と同様な方
法で硬化塗膜を得た。実施例1と同様な方法で硬化塗膜
表面を観察したが、全く皺模様は観察されなかった。
【0091】[比較例2]光硬化性樹脂組成物(1)を
用いて、紫外線を照射する照射温度を室温(25℃)と
した以外は、実施例1と同様な方法で硬化塗膜を得た。
実施例1と同様な方法で硬化塗膜表面を観察したが、全
く皺模様は観察されなかった。光硬化性樹脂組成物
(1)の室温での粘度は測定不能であり、少なくとも1
00000(Pa・s)以上であった。TEMで塗膜の
構造を観察したが、相構造は全く観察されなかった。動
的粘弾性測定により、塗膜のガラス転移温度を測定した
ところ、ガラス転移温度は61℃に一つだけ観察され、
塗膜は相分離していないことが示された。
用いて、紫外線を照射する照射温度を室温(25℃)と
した以外は、実施例1と同様な方法で硬化塗膜を得た。
実施例1と同様な方法で硬化塗膜表面を観察したが、全
く皺模様は観察されなかった。光硬化性樹脂組成物
(1)の室温での粘度は測定不能であり、少なくとも1
00000(Pa・s)以上であった。TEMで塗膜の
構造を観察したが、相構造は全く観察されなかった。動
的粘弾性測定により、塗膜のガラス転移温度を測定した
ところ、ガラス転移温度は61℃に一つだけ観察され、
塗膜は相分離していないことが示された。
【0092】[比較例3]光硬化性樹脂組成物(1)の
代わりにBPE4(5g)とイルガキュア184(0.
1g)を用いたこと以外は、実施例1と同様な方法で硬
化塗膜を得た。実施例1と同様な方法で硬化塗膜表面を
観察したが、全く皺模様は観察されなかった。
代わりにBPE4(5g)とイルガキュア184(0.
1g)を用いたこと以外は、実施例1と同様な方法で硬
化塗膜を得た。実施例1と同様な方法で硬化塗膜表面を
観察したが、全く皺模様は観察されなかった。
【0093】[比較例4]光硬化性樹脂組成物(1)に
おいて、光重合開始剤として、イルガキュア184の代
わりに、ビス(2,4,6?トリメチルベンゾイル)?フ
ェニルフォスフィンオキサイド「イルガキュア819」
を用いたこと以外は、実施例1と同じ条件で硬化塗膜を
作成した。実施例1と同様な方法で硬化塗膜表面を観察
したが、全く皺模様は観察されなかった。
おいて、光重合開始剤として、イルガキュア184の代
わりに、ビス(2,4,6?トリメチルベンゾイル)?フ
ェニルフォスフィンオキサイド「イルガキュア819」
を用いたこと以外は、実施例1と同じ条件で硬化塗膜を
作成した。実施例1と同様な方法で硬化塗膜表面を観察
したが、全く皺模様は観察されなかった。
【0094】なお、イルガキュア819のモル吸光係数
は405nmで380(L mol -1 cm-1)、36
5nmで1000(L mol-1 cm-1)、313n
mで6300(L mol-1 cm-1)、302nmで
7600(L mol-1 cm-1)、254nmで82
00(L mol-1 cm-1)であり、低波長領域の光
吸収が大きいために皺模様が形成されなかったものと考
えられる。
は405nmで380(L mol -1 cm-1)、36
5nmで1000(L mol-1 cm-1)、313n
mで6300(L mol-1 cm-1)、302nmで
7600(L mol-1 cm-1)、254nmで82
00(L mol-1 cm-1)であり、低波長領域の光
吸収が大きいために皺模様が形成されなかったものと考
えられる。
【0095】[比較例5]光硬化性樹脂組成物(1)に
おいて、光重合開始剤として、イルガキュア184の代
わりに、2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-
モルフォリノプロパン-1?オン「イルガキュア907」
を用いたこと以外は、実施例1と同じ条件で硬化塗膜を
作成した。実施例1と同様な方法で硬化塗膜表面を観察
したが、全く皺模様は観察されなかった。
おいて、光重合開始剤として、イルガキュア184の代
わりに、2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-
モルフォリノプロパン-1?オン「イルガキュア907」
を用いたこと以外は、実施例1と同じ条件で硬化塗膜を
作成した。実施例1と同様な方法で硬化塗膜表面を観察
したが、全く皺模様は観察されなかった。
【0096】なお、イルガキュア907のモル吸光係数
は405nmでほぼゼロ、365nmで200(L m
ol-1 cm-1)、313nmで16000(L mo
l-1cm-1)、302nmで17000(L mol-1
cm-1)、254nmで1100(L mol-1 c
m-1)あった。
は405nmでほぼゼロ、365nmで200(L m
ol-1 cm-1)、313nmで16000(L mo
l-1cm-1)、302nmで17000(L mol-1
cm-1)、254nmで1100(L mol-1 c
m-1)あった。
【0097】[比較例6]光硬化性樹脂組成物(1)に
おいて、光重合開始剤として、イルガキュア184を1
g(20重量部)使用して、実施例1と同じ条件で硬化
塗膜を作成した。実施例1と同様な方法で硬化塗膜表面
を観察したが、全く皺模様は観察されなかった。
おいて、光重合開始剤として、イルガキュア184を1
g(20重量部)使用して、実施例1と同じ条件で硬化
塗膜を作成した。実施例1と同様な方法で硬化塗膜表面
を観察したが、全く皺模様は観察されなかった。
【0098】[実施例2]光硬化性樹脂組成物(1)を
用いて、紫外線を照射する照射温度を120℃とした以
外は、実施例1と同様な方法で硬化塗膜を得た。実施例
1と同様な方法で硬化塗膜表面を観察したところ、相関
長が3μmの周期性を持った皺模様が観察された。皺の
深さは約0.2μmであり、硬化塗膜は透明性を持って
いた。光硬化性樹脂組成物(1)の120℃での粘度は
約2000(Pa・s)であった。TEMで塗膜の相構
造を観察したところ、0.1μm以下の大きさの相構造
が観察された。ガラス転移温度は85℃と136℃に明
確に2つ現れた。
用いて、紫外線を照射する照射温度を120℃とした以
外は、実施例1と同様な方法で硬化塗膜を得た。実施例
1と同様な方法で硬化塗膜表面を観察したところ、相関
長が3μmの周期性を持った皺模様が観察された。皺の
深さは約0.2μmであり、硬化塗膜は透明性を持って
いた。光硬化性樹脂組成物(1)の120℃での粘度は
約2000(Pa・s)であった。TEMで塗膜の相構
造を観察したところ、0.1μm以下の大きさの相構造
が観察された。ガラス転移温度は85℃と136℃に明
確に2つ現れた。
【0099】[実施例3]光硬化性樹脂組成物(1)に
おいて、光重合開始剤として、イルガキュア184の代
わりに、2?ヒドロキシ-2-メチル-1?フェニル-1?プロ
パン-1?オン「ダロキュア1173」を用いたこと以外
は、実施例1と同じ条件で硬化塗膜を作成した。実施例
1と同様な方法で硬化塗膜表面を観察したところ、相関
長が11μmの周期性を持った皺模様が観察された。
おいて、光重合開始剤として、イルガキュア184の代
わりに、2?ヒドロキシ-2-メチル-1?フェニル-1?プロ
パン-1?オン「ダロキュア1173」を用いたこと以外
は、実施例1と同じ条件で硬化塗膜を作成した。実施例
1と同様な方法で硬化塗膜表面を観察したところ、相関
長が11μmの周期性を持った皺模様が観察された。
【0100】ダロキュア1173のモル吸光係数は40
5nmでほぼゼロ、365nmで12(L mol-1
cm-1)、313nmで90(L mol-1 c
m-1)、302nmで130(L mol-1 c
m-1)、254nmで6670(L mol-1 c
m-1)であった。
5nmでほぼゼロ、365nmで12(L mol-1
cm-1)、313nmで90(L mol-1 c
m-1)、302nmで130(L mol-1 c
m-1)、254nmで6670(L mol-1 c
m-1)であった。
【0101】[実施例4]光架橋重合性化合物として、
「BPE−4」5g、イルガキュア184を0.1g及
び鎖状重合体として、「芳香族ポリエステル」(ポリア
リレート U?ポリマー U−100、ユニチカ株式会社
製;以下、「PAr」と省略する。)5gを塩化メチレ
ン80gに溶解させて均質混合溶液(2)を得た。
「BPE−4」5g、イルガキュア184を0.1g及
び鎖状重合体として、「芳香族ポリエステル」(ポリア
リレート U?ポリマー U−100、ユニチカ株式会社
製;以下、「PAr」と省略する。)5gを塩化メチレ
ン80gに溶解させて均質混合溶液(2)を得た。
【0102】このようにして得た均質混合溶液(2)を
ガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均一混合液
の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組成物
(2)を得た。該光硬化性樹脂組成物の光透過率を測定
したところ、360〜340nmで、平行光透過率が約
90からほぼ0%まで低下した。また、340nm以下
の波長では平行光透過率はほぼ0%、360nm以上の
波長では平行光透過率は約90%であった。また、光硬
化性樹脂組成物(2)の150℃での粘度は約1000
(Pa・s)であった。
ガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均一混合液
の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組成物
(2)を得た。該光硬化性樹脂組成物の光透過率を測定
したところ、360〜340nmで、平行光透過率が約
90からほぼ0%まで低下した。また、340nm以下
の波長では平行光透過率はほぼ0%、360nm以上の
波長では平行光透過率は約90%であった。また、光硬
化性樹脂組成物(2)の150℃での粘度は約1000
(Pa・s)であった。
【0103】光硬化性樹脂組成物(2)の塗膜を150
℃に保持し表面を空気中に解放した状態で紫外線を照射
した。白濁化した硬化塗膜(約80μm)が得られた。
硬化塗膜の光透過率は約35%であった。SEMを用い
て、硬化塗膜の表面を観察したところ、相関長が5μm
程度の周期性を持つ皺模様が観察された。尚、硬化塗膜
の基板面には皺模様は観察できなかった。皺の距離のば
らつきを測定したところ、ばらつきは1μm以下であっ
た。皺の深さは約0.5μmであった。TEMで塗膜の
相構造を観察したところ、0.1μm以下の網目状の相
構造が明確に観察された。
℃に保持し表面を空気中に解放した状態で紫外線を照射
した。白濁化した硬化塗膜(約80μm)が得られた。
硬化塗膜の光透過率は約35%であった。SEMを用い
て、硬化塗膜の表面を観察したところ、相関長が5μm
程度の周期性を持つ皺模様が観察された。尚、硬化塗膜
の基板面には皺模様は観察できなかった。皺の距離のば
らつきを測定したところ、ばらつきは1μm以下であっ
た。皺の深さは約0.5μmであった。TEMで塗膜の
相構造を観察したところ、0.1μm以下の網目状の相
構造が明確に観察された。
【0104】[実施例5]光架橋重合性化合物として、
「BPE−4」7g、光重合開始剤として、「イルガキ
ュア184」0.14g及び鎖状重合体として、「PS
F」3gを塩化メチレン50gに溶解させて均質混合溶
液(3)を得た。このようにして得た均質混合溶液
(3)をガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均
一混合液の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組
成物(3)を得た。
「BPE−4」7g、光重合開始剤として、「イルガキ
ュア184」0.14g及び鎖状重合体として、「PS
F」3gを塩化メチレン50gに溶解させて均質混合溶
液(3)を得た。このようにして得た均質混合溶液
(3)をガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均
一混合液の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組
成物(3)を得た。
【0105】該光硬化性樹脂組成物の光透過率を測定し
たところ、320〜340nmで、平行光透過率が約9
0からほぼ0%まで低下した。また、320nm以下の
波長では平行光透過率はほぼ0%、340nm以上の波
長では平行光透過率は約90%であった。また、光硬化
性樹脂組成物(3)の150℃での粘度は約50(Pa
・s)であった。光硬化性樹脂組成物(3)の塗膜を1
50℃に保持し表面を空気中に解放した状態で紫外線を
照射した。白濁化した硬化塗膜(約100μm)が得ら
れた。硬化塗膜の光透過率は10%以下であった。
たところ、320〜340nmで、平行光透過率が約9
0からほぼ0%まで低下した。また、320nm以下の
波長では平行光透過率はほぼ0%、340nm以上の波
長では平行光透過率は約90%であった。また、光硬化
性樹脂組成物(3)の150℃での粘度は約50(Pa
・s)であった。光硬化性樹脂組成物(3)の塗膜を1
50℃に保持し表面を空気中に解放した状態で紫外線を
照射した。白濁化した硬化塗膜(約100μm)が得ら
れた。硬化塗膜の光透過率は10%以下であった。
【0106】光学顕微鏡を用いて、硬化塗膜の表面を観
察したところ、相関長が12μm程度の周期性を持つ皺
模様が観察された。皺の距離のばらつきを測定したとこ
ろ、ばらつきは1μm以下であった。TEMで塗膜の相
構造を観察したところ、0.2μm程度の大きさの網目
状の相構造が明確に観察された。
察したところ、相関長が12μm程度の周期性を持つ皺
模様が観察された。皺の距離のばらつきを測定したとこ
ろ、ばらつきは1μm以下であった。TEMで塗膜の相
構造を観察したところ、0.2μm程度の大きさの網目
状の相構造が明確に観察された。
【0107】[実施例6]光架橋重合性化合物として、
「BPE−4」3g、光重合開始剤として、「イルガキ
ュア184」0.06g及び鎖状重合体として、「PS
F」7gを塩化メチレン70gに溶解させて均質混合溶
液(4)を得た。このようにして得た均質混合溶液
(4)をガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均
一混合液の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組
成物(4)を得た。
「BPE−4」3g、光重合開始剤として、「イルガキ
ュア184」0.06g及び鎖状重合体として、「PS
F」7gを塩化メチレン70gに溶解させて均質混合溶
液(4)を得た。このようにして得た均質混合溶液
(4)をガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均
一混合液の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組
成物(4)を得た。
【0108】該光硬化性樹脂組成物の光透過率を測定し
たところ、320〜340nmで、平行光透過率が約9
0からほぼ0%まで低下した。また、320nm以下の
波長では平行光透過率はほぼ0%、340nm以上の波
長では平行光透過率は約90%であった。また、光硬化
性樹脂組成物(4)の150℃での粘度は約5000
(Pa・s)であった
たところ、320〜340nmで、平行光透過率が約9
0からほぼ0%まで低下した。また、320nm以下の
波長では平行光透過率はほぼ0%、340nm以上の波
長では平行光透過率は約90%であった。また、光硬化
性樹脂組成物(4)の150℃での粘度は約5000
(Pa・s)であった
【0109】光硬化性樹脂組成物(4)の塗膜を180
℃に保持し表面を空気中に解放した状態で紫外線を照射
した。白濁化した硬化塗膜(約100μm)が得られ
た。光学顕微鏡を用いて、硬化塗膜の表面を観察したと
ころ、相関長が4μm程度の周期性を持つ皺模様が観察
された。皺の距離のばらつきを測定したところ、ばらつ
きは1μm以下であった。TEMで塗膜の相構造を観察
したところ、0.1μm程度の網目状の相構造が観察さ
れた。
℃に保持し表面を空気中に解放した状態で紫外線を照射
した。白濁化した硬化塗膜(約100μm)が得られ
た。光学顕微鏡を用いて、硬化塗膜の表面を観察したと
ころ、相関長が4μm程度の周期性を持つ皺模様が観察
された。皺の距離のばらつきを測定したところ、ばらつ
きは1μm以下であった。TEMで塗膜の相構造を観察
したところ、0.1μm程度の網目状の相構造が観察さ
れた。
【0110】[実施例7及び8]実施例1の光硬化性樹
脂組成物において、光重合開始剤の「イルガキュア18
4」の使用量を0.05g(0.5重量部、実施例7)と
0.3g(6重量部、実施例8)とした以外は、実施例
1と同じ条件で硬化塗膜を作成した。
脂組成物において、光重合開始剤の「イルガキュア18
4」の使用量を0.05g(0.5重量部、実施例7)と
0.3g(6重量部、実施例8)とした以外は、実施例
1と同じ条件で硬化塗膜を作成した。
【0111】光学顕微鏡を用いて、硬化塗膜の表面を観
察したところ、実施例7及び8の両方の塗膜表面に周期
的な皺模様が形成された。しかし、相関長は異なり、実
施例7では15μm程度、実施例8では2μm程度であ
った。光重合開始剤量により、皺模様の大きさを制御可
能なことが判る。TEMで塗膜の相構造を観察したとこ
ろ、ともに0.1μm以下の網目状の相構造が観察され
た。
察したところ、実施例7及び8の両方の塗膜表面に周期
的な皺模様が形成された。しかし、相関長は異なり、実
施例7では15μm程度、実施例8では2μm程度であ
った。光重合開始剤量により、皺模様の大きさを制御可
能なことが判る。TEMで塗膜の相構造を観察したとこ
ろ、ともに0.1μm以下の網目状の相構造が観察され
た。
【0112】[実施例9]光架橋重合性化合物として、
「BPE−4」5g、光重合開始剤として、「イルガキ
ュア184」0.1g、及び鎖状重合体として、ポリス
チレン(大日本インキ化学工業株式会社製のDIC−ス
チレン GR4500;以下、「PS」と称する)5g
を塩化メチレン50gに溶解させて均質混合溶液(5)
を得た。
「BPE−4」5g、光重合開始剤として、「イルガキ
ュア184」0.1g、及び鎖状重合体として、ポリス
チレン(大日本インキ化学工業株式会社製のDIC−ス
チレン GR4500;以下、「PS」と称する)5g
を塩化メチレン50gに溶解させて均質混合溶液(5)
を得た。
【0113】このようにして得た均質混合溶液(5)を
ガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均一混合液
の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組成物
(5)を得た。該光硬化性樹脂組成物の光透過率を測定
したところ、330〜290nmで、平行光透過率が約
90からほぼ0%まで低下した。また、310nm付近
の波長では平行光透過率は20%以下、340nm以上
の波長では平行光透過率は約90%であった。
ガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均一混合液
の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組成物
(5)を得た。該光硬化性樹脂組成物の光透過率を測定
したところ、330〜290nmで、平行光透過率が約
90からほぼ0%まで低下した。また、310nm付近
の波長では平行光透過率は20%以下、340nm以上
の波長では平行光透過率は約90%であった。
【0114】光硬化性樹脂組成物(5)の塗膜を180
℃に保持し表面を空気中に解放した状態で紫外線を照射
した。白濁化した硬化塗膜(約100μm)が得られ
た。硬化塗膜を光学顕微鏡で観察したところ、相関長が
約10μmの周期的な模様が観察された。皺のばらつき
を測定したところ、ばらつきは1μm以下であった。ま
た、走査型レーザー顕微鏡により測定した皺の深さは約
1μmであった。透過型電子顕微鏡(TEM)で塗膜断
面を観察したところ、0.1μm以下の網目状の相分離
構造が観察された。
℃に保持し表面を空気中に解放した状態で紫外線を照射
した。白濁化した硬化塗膜(約100μm)が得られ
た。硬化塗膜を光学顕微鏡で観察したところ、相関長が
約10μmの周期的な模様が観察された。皺のばらつき
を測定したところ、ばらつきは1μm以下であった。ま
た、走査型レーザー顕微鏡により測定した皺の深さは約
1μmであった。透過型電子顕微鏡(TEM)で塗膜断
面を観察したところ、0.1μm以下の網目状の相分離
構造が観察された。
【0115】[実施例10]光架橋重合性化合物とし
て、「BPE−4」5g、光重合開始剤として、「イル
ガキュア184」0.1g、及び鎖状重合体として、芳
香族ポリエステル(東洋紡株式会社製のバイロン?20
0)5gを塩化メチレン50gに溶解させて均質混合溶
液(6)を得た。
て、「BPE−4」5g、光重合開始剤として、「イル
ガキュア184」0.1g、及び鎖状重合体として、芳
香族ポリエステル(東洋紡株式会社製のバイロン?20
0)5gを塩化メチレン50gに溶解させて均質混合溶
液(6)を得た。
【0116】このようにして得た均質混合溶液(6)を
ガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均一混合液
の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組成物
(6)を得た。該光硬化性樹脂組成物の光透過率を測定
したところ、330〜320nmで平行光透過率が約9
0からほぼ0%まで低下した。また、310nm以下の
波長では平行光透過率はほぼゼロ、340nm以上の波
長では平行光透過率は約90%であった。
ガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均一混合液
の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組成物
(6)を得た。該光硬化性樹脂組成物の光透過率を測定
したところ、330〜320nmで平行光透過率が約9
0からほぼ0%まで低下した。また、310nm以下の
波長では平行光透過率はほぼゼロ、340nm以上の波
長では平行光透過率は約90%であった。
【0117】光硬化性樹脂組成物(6)の塗膜を100
℃に保持し表面を空気中に解放した状態で紫外線を照射
した。白濁化した硬化塗膜(約100μm)が得られ
た。硬化塗膜を光学顕微鏡で観察したところ、相関長が
約10μmの周期的な模様が観察された。皺のばらつき
を測定したところ、ばらつきは1μm以下であった。ま
た、走査型レーザー顕微鏡により測定した皺の深さは約
0.5μmであった。透過型電子顕微鏡(TEM)で塗
膜断面を観察したところ、0.1μm以下の網目状の相
分離構造が観察された。
℃に保持し表面を空気中に解放した状態で紫外線を照射
した。白濁化した硬化塗膜(約100μm)が得られ
た。硬化塗膜を光学顕微鏡で観察したところ、相関長が
約10μmの周期的な模様が観察された。皺のばらつき
を測定したところ、ばらつきは1μm以下であった。ま
た、走査型レーザー顕微鏡により測定した皺の深さは約
0.5μmであった。透過型電子顕微鏡(TEM)で塗
膜断面を観察したところ、0.1μm以下の網目状の相
分離構造が観察された。
【0118】[実施例11]光架橋重合性化合物とし
て、ジシクロペンタニルジアクリレート(カヤラッドR
−684、日本化薬株式会社製;以下、「R684」と
省略する。)5g、光重合開始剤として、「イルガキュ
ア184」0.1g、及び鎖状重合体として、フェノキ
シ樹脂(PKHH、ユニオン・カーバイド株式会社製)
5gを塩化メチレン50gに溶解させて均質混合溶液
(7)を得た。
て、ジシクロペンタニルジアクリレート(カヤラッドR
−684、日本化薬株式会社製;以下、「R684」と
省略する。)5g、光重合開始剤として、「イルガキュ
ア184」0.1g、及び鎖状重合体として、フェノキ
シ樹脂(PKHH、ユニオン・カーバイド株式会社製)
5gを塩化メチレン50gに溶解させて均質混合溶液
(7)を得た。
【0119】このようにして得た均質混合溶液(7)を
ガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均一混合液
の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組成物
(7)を得た。該光硬化性樹脂組成物の光透過率を測定
したところ、330〜300nmで、平行光透過率が約
90からほぼ0%まで低下した。また、310nm付近
の波長では平行光透過率は10%以下、340nm以上
の波長では平行光透過率は約90%であった。また、光
硬化性樹脂組成物(7)の150℃での粘度は約100
(Pa・s)であった。
ガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均一混合液
の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組成物
(7)を得た。該光硬化性樹脂組成物の光透過率を測定
したところ、330〜300nmで、平行光透過率が約
90からほぼ0%まで低下した。また、310nm付近
の波長では平行光透過率は10%以下、340nm以上
の波長では平行光透過率は約90%であった。また、光
硬化性樹脂組成物(7)の150℃での粘度は約100
(Pa・s)であった。
【0120】光硬化性樹脂組成物(7)の塗膜を150
℃に保持し表面を空気中に解放した状態で紫外線を照射
した。白濁化した硬化塗膜(約100μm)が得られ
た。光学顕微鏡を用いて、硬化塗膜の表面を観察したと
ころ、相関長が5μm程度の周期性を持つ皺模様が観察
された。皺の距離のばらつきを測定したところ、ばらつ
きは0.5μm以下であった。TEMで塗膜断面を観察
したところ、0.1μm以下の網目状の相分離構造が観
察された。
℃に保持し表面を空気中に解放した状態で紫外線を照射
した。白濁化した硬化塗膜(約100μm)が得られ
た。光学顕微鏡を用いて、硬化塗膜の表面を観察したと
ころ、相関長が5μm程度の周期性を持つ皺模様が観察
された。皺の距離のばらつきを測定したところ、ばらつ
きは0.5μm以下であった。TEMで塗膜断面を観察
したところ、0.1μm以下の網目状の相分離構造が観
察された。
【0121】[実施例12]光架橋重合性化合物とし
て、ビスフェノールAエポキシジアクリレート(エポキ
シエステル 3000A、共栄社化学株式会社製)5
g、光重合開始剤として、「イルガキュア184」0.
1g及び鎖状重合体として、フェノキシ樹脂5gを塩化
メチレン60gに溶解させて均質混合溶液(8)を得
た。
て、ビスフェノールAエポキシジアクリレート(エポキ
シエステル 3000A、共栄社化学株式会社製)5
g、光重合開始剤として、「イルガキュア184」0.
1g及び鎖状重合体として、フェノキシ樹脂5gを塩化
メチレン60gに溶解させて均質混合溶液(8)を得
た。
【0122】このようにして得た均質混合溶液(8)を
ガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均一混合液
の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組成物
(8)を得た。該光硬化性樹脂組成物の光透過率を測定
したところ、330〜300nmで平行光透過率が約9
0からほぼ0%まで低下した。また、310nm付近の
波長では平行光透過率は10%以下、340nm以上の
波長では平行光透過率は約90%であった。また、光硬
化性樹脂組成物(8)の150℃での粘度は約2000
(Pa・s)であった。
ガラス板上に塗布した後、溶媒を揮発させ、均一混合液
の未硬化の無色透明な塗膜状の光硬化性樹脂組成物
(8)を得た。該光硬化性樹脂組成物の光透過率を測定
したところ、330〜300nmで平行光透過率が約9
0からほぼ0%まで低下した。また、310nm付近の
波長では平行光透過率は10%以下、340nm以上の
波長では平行光透過率は約90%であった。また、光硬
化性樹脂組成物(8)の150℃での粘度は約2000
(Pa・s)であった。
【0123】光硬化性樹脂組成物(8)の塗膜を150
℃に保持し表面を空気中に解放した状態で紫外線を照射
した。白濁化した硬化塗膜(約100μm)が得られ
た。光学顕微鏡を用いて、硬化塗膜の表面を観察したと
ころ、相関長8μm程度の周期性を持つ皺模様が観察さ
れた。皺の距離のばらつきを測定したところ、ばらつき
は1μm以下であった。TEMで塗膜断面を観察したと
ころ、0.1μm以下の網目状の相分離構造が観察され
た。
℃に保持し表面を空気中に解放した状態で紫外線を照射
した。白濁化した硬化塗膜(約100μm)が得られ
た。光学顕微鏡を用いて、硬化塗膜の表面を観察したと
ころ、相関長8μm程度の周期性を持つ皺模様が観察さ
れた。皺の距離のばらつきを測定したところ、ばらつき
は1μm以下であった。TEMで塗膜断面を観察したと
ころ、0.1μm以下の網目状の相分離構造が観察され
た。
【0124】
【発明の効果】本発明は、広範な光重合化合物の組成物
に適用でき、皺の寸法や深さなどの構造の制御が可能で
あるため、得られる成形物の光学特性などの制御が容易
であり、且つ、成形物の厚みの制約が少ない。また、高
い透明性を有しながら表面がつや消し(無反射)の成形
物や反対に塗膜内部は透明であるが表面部分が均質に白
濁化した形成物等の種々の意匠性に優れた、表面に周期
性の皺模様を有する樹脂成形物の製造方法を提供する。
に適用でき、皺の寸法や深さなどの構造の制御が可能で
あるため、得られる成形物の光学特性などの制御が容易
であり、且つ、成形物の厚みの制約が少ない。また、高
い透明性を有しながら表面がつや消し(無反射)の成形
物や反対に塗膜内部は透明であるが表面部分が均質に白
濁化した形成物等の種々の意匠性に優れた、表面に周期
性の皺模様を有する樹脂成形物の製造方法を提供する。
【図1】 実施例1で得られた、本発明の表面に周期性
の皺模様を有する樹脂成形物の光学顕微鏡写真である。
の皺模様を有する樹脂成形物の光学顕微鏡写真である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09D 4/00 C09D 4/00 5/00 5/00 Z 5/28 5/28 201/00 201/00 Fターム(参考) 4D075 BB42Z BB46Z BB92Z BB93Z BB94Z BB96Z CB02 CB03 CB06 CB21 DA04 DA06 DA23 DB13 DB20 DC01 DC11 DC18 DC21 DC24 DC27 DC38 EA07 EA10 EA21 EB07 EB12 EB13 EB14 EB15 EB19 EB20 EB22 EB24 EB32 EB35 EB37 EB38 EB39 EB44 EB47 EB51 EB52 EB56 EC37 EC54 4F073 AA06 BA18 BA19 BA27 BA32 CA46 4J011 PA65 PA88 PA90 PA98 PB30 QA03 QA12 QA13 QA15 QA19 QA22 QA23 QA24 QA27 QA38 QA39 QB04 QB15 QB16 QB19 QB24 RA01 RA03 RA07 RA09 RA10 SA02 SA22 SA32 SA61 SA62 UA01 WA02 4J038 CC021 CC022 DD061 DD062 DF061 DF062 DK011 DK012 FA091 FA092 FA111 FA112 FA121 FA122 FA131 FA132 FA151 FA152 FA171 FA172 FA231 FA232 FA251 FA252 FA271 FA272 FA281 FA282 KA03 NA01 PA17 PC08
Claims (6)
- 【請求項1】 (A)光架橋重合性化合物、(B)鎖状
重合体、及び(C)2つの波長W1とW2(250nm
<W1<W2<410nm)で光吸収性を示し、W1で
は3000(L・mol-1・cm-1)以上のモル吸光係
数を、且つW2では150〜5(L・mol-1・c
m-1)のモル吸光係数を有する光重合開始剤とを含む光
硬化性樹脂組成物に、該組成物の粘度が100000P
a・s以下となる温度で、波長W1とW2での光強度が
各々10mW/cm2以上である活性光線を照射し、該
組成物を1段階で硬化させる、表面に周期性の皺模様を
有する樹脂成形物の製造方法。 - 【請求項2】 (A)光架橋重合性化合物と(B)鎖状
重合体との混合重量比が(A):(B)=(90:1
0)〜(20:80)である請求項1に記載の樹脂成形
物の製造方法。 - 【請求項3】 (A)光架橋重合性化合物100重量部
に対して、(C)光重合開始剤15重量部以下を使用す
ることを特徴とする請求項1又は2に記載の樹脂形成物
の製造方法。 - 【請求項4】 2つの波長W1とW2が、250nm<
W1<310nm、350nm<W2<410nmであ
る光重合開始剤を含む光硬化性樹脂組成物の厚さ100
±20μmの平行光透過率が260〜380nmの間に
ある波長W(nm)を境に70%以上から20%以下ま
で低下するものであり、且つ波長W1での平行光透過率
が20%以下、波長W2での平行光透過率が70%以上
である請求項1〜3のいずれか1つに記載の樹脂形成物
の製造方法。 - 【請求項5】 波長W(nm)〜500nmの波長領域
でモル吸光係数が1000(L・mol-1・cm-1)以
下である光重合開始剤を用いることを特徴とする請求項
4に記載の樹脂形成物の製造方法。 - 【請求項6】 (B)鎖状重合体が、ポリスルホン系重
合体、芳香族ポリエステル系重合体、スチレン共重合
体、フェノキシ樹脂からなる群から選らばれる1種以上
である請求項1〜5のいずれか1つに記載の樹脂形成物
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001080470A JP2002275205A (ja) | 2001-03-21 | 2001-03-21 | 表面に周期性の皺模様を有する樹脂成形物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001080470A JP2002275205A (ja) | 2001-03-21 | 2001-03-21 | 表面に周期性の皺模様を有する樹脂成形物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002275205A true JP2002275205A (ja) | 2002-09-25 |
Family
ID=18936751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001080470A Pending JP2002275205A (ja) | 2001-03-21 | 2001-03-21 | 表面に周期性の皺模様を有する樹脂成形物の製造方法 |
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|---|---|
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-
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