JP2002274077A

JP2002274077A - パターン形成体およびパターン形成方法

Info

Publication number: JP2002274077A
Application number: JP2001395028A
Authority: JP
Inventors: Hironori Kobayashi; 弘典小林; Hironori Kamiyama; 弘徳上山; Shinichi Hikosaka; 眞一彦坂; Manabu Yamamoto; 学山本
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1997-08-08
Filing date: 2001-12-26
Publication date: 2002-09-25

Abstract

(57)【要約】【課題】光触媒を使用したパターン形成体を提供す
る。【解決手段】基体上に光触媒含有層を有し、光触媒含
有層は、パターンの露光によって光触媒の作用によって
濡れ性が変化する物質を含有する層、光触媒含有層上
に、パターンの露光によって光触媒の作用によって濡れ
性が変化する物質の含有層、基材上に光触媒含有層を有
し光触媒含有層上にパターンの露光によって光触媒の作
用により分解除去される層を有するか、もしくは基材上
に、光触媒、パターンの露光によって光触媒の作用によ
り分解される物質、および結着剤からなる組成物層を有
し、露光によって濡れ性を変化させることによってパタ
ーンを記録するパターン形成体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、印刷をはじめとし
て各種の用途に使用可能な新規なパターン形成体および
パターン形成方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】基材上に、周囲とは異なる特性を有する
領域を形成したパターン形成体に関するものである。パ
ターン形成体が図案、画像、文字等の印刷に利用する場
合には、パターンは印刷インクを転写する際にインクを
受容もしくは反発する部分を意味する。また、本発明の
パターン形成体は、印刷用途以外にも利用することがで
き、その場合のパターンは、濡れ性の変化に応じてパタ
ーン形成体上に形成されたパターン状の層および転写さ
れた層を意味する。

【０００３】印刷を例に挙げて説明すると、印刷方法の
一種である平版印刷に使用する平版印刷版は、平版上に
インクを受容する親油性部位と、印刷インクを受容しな
い部位を形成し、親油性部位に印刷すべきインクの画像
を形成し、形成した画像を紙等に転写して印刷してい
る。

【０００４】こうした印刷では、印刷版原版に、文字、
図形等のパターンを形成して印刷版を作製して印刷機に
装着して使用している。代表的な平版印刷版であるオフ
セット印刷用の印刷版原版には、数多くのものが提案さ
れている。

【０００５】オフセット印刷用の印刷版は、印刷版原版
にパターンを描いたマスクを介して露光して現像する方
法、あるいは電子写真方式によって直接に露光して印刷
版原版上に直接に製版する方法等によって作製すること
ができる。電子写真式のオフセット印刷版原版は、導電
性基材上に酸化亜鉛等の光導電性粒子および結着樹脂を
主成分とした光導電層を設けた感光体として、電子写真
方式によって露光し、感光体表面に親油性の高い画像を
形成させ、続いて不感脂化液で処理し非画像部分を親水
化することによってオフセット原版を得る方法によって
作製されている。親水性部分は水等によって浸漬して疎
油性とされ、親油性の画像部分に印刷インクが受容され
て紙等に転写される。

【０００６】また、こうした水の浸漬によって疎油性の
部位を形成する方法に代えて、水等の浸漬によらずとも
高度に疎油性の部位を形成することによって、インクを
受容する部位とインクを受容しない部位を形成する乾式
平板印刷用の印刷版原版も用いられている。

【０００７】また、レーザーの照射によって、インクに
対して受容性の高い部位と、撥インク性の部位を形成す
ることが可能な、ヒートモード記録材料を用いた平版印
刷原版を作製する方法も提案されている。ヒートモード
記録材料は、現像等の工程が不要で、単にレーザー光に
よって画像を形成するのみで印刷版を製造することがで
きるという特徴を有しているが、レーザーの強度の調
整、レーザーにより変質した固体状物質の残留物の処理
の間題、耐刷性などに課題があった。

【０００８】また、高精細なパターンを形成する方法と
して、基材上に塗布したフォトレジスト層にパターンの
露光を行い、露光後のフォトレジストの現像後、さらに
エッチングを行ったり、フォトレジストに機能性を有す
る物質を用いて、フォトレジストの露光によって目的と
するパターンを直接形成する等のフォトリソグラフィー
による方法が知られている。

【０００９】フォトリソグラフィーによる高精細パター
ンの形成は、液晶表示装置等に用いられるカラーフィル
ターの着色パターンの形成、マイクロレンズの形成、精
細な電気回路基板の製造、パターンの露光に使用するク
ロムマスクの製造等に用いられているが、これらの方法
によっては、フォトレジストを用いると共に、露光後に
液体現像液によって現像を行ったり、エッチングを行う
必要があるので、廃液を処理する必要が生じる等の問題
点があり、またフォトレジストして機能性の物質を用い
た場合には、現像の際に使用されるアルカリ液等によっ
て劣化する等の問題点もあった。

【００１０】カラーフィルタ等の高精細なパターンを印
刷等によって形成することも行われているが、印刷で形
成されるパターンには、位置精度等の問題があり、高精
細なパターンの形成は困難であった。

【００１１】また、本発明者等は、このような問題点を
解決するために、光触媒の作用によって濡れ性が変化す
る物質を用いてパターンを形成するパターン形成体およ
びパターン形成方法を既に、特願平９−２１４８４５号
として提案しているが、本発明は、このような光触媒を
用いたパターン形成体および形成方法において、特性の
より優れたパターン形成体およびパターン形成方法を提
供するものである。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規なパタ
ーン形成体およびパターン形成方法を提供することを課
題とするものであり、印刷版原版に使用すれば、従来の
印刷版原版の有する問題点を解決することが可能な、新
規な印刷版原版を提供することができるパターン形成体
を提供することを課題とするものであり、各種の機能性
素子の形成に用いれば、特性の優れた機能性素子を提供
することができるパターン形成体およびパターン形成方
法を提供することを課題とするものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、光学的にパタ
ーンを形成するパターン形成体において、基材上に光触
媒含有層を有し、光触媒含有層は、パターンの露光によ
って光触媒の作用により濡れ性が変化する物質を含有す
るパターン形成体である。

【００１４】光学的にパターンを形成するパターン形成
体において、基材上に光触媒含有層を有し、光触媒含有
層上に、パターンの露光によって光触媒の作用により分
解除去される層を有するパターン形成体である。

【００１５】光学的にパターンを形成するパターン形成
体において、基材上に光触媒含有層を有し、光触媒含有
層上に、パターンの露光によって光触媒の作用により濡
れ性が変化する物質の含有層を有するパターン形成体で
ある。

【００１６】光学的にパターンを形成するパターン形成
体において、光触媒、パターンの露光によって光触媒の
作用により分解される物質、および結着剤からなる組成
物層を有するパターン形成体である。

【００１７】光触媒を含有する層がシロキサン結合を有
する化合物を含有する前記のパターン形成体である。

【００１８】光触媒を含有する層がシリコーンを含有す
る前記のパターン形成体である。

【００１９】シリコーンのケイ素原子にフルオロアルキ
ル基が結合している前記のパターン形成体である。

【００２０】シリコーンがオルガノアルコキシシランを
含む組成物から得られたものである前記のパターン形成
体である。

【００２１】シリコーンが反応性シリコーン化合物を含
む組成物から得られたものである前記のパターン形成体
である。

【００２２】パターン形成体が印刷版原版である前記の
パターン形成体である。

【００２３】また、光学的にパターンを形成する方法に
おいて、基材上に光触媒の作用により濡れ性が変化する
物質を含有した光触媒含有層を設けたパターン形成体、
基材上に形成した光触媒含有層上に光触媒の作用により
濡れ性が変化する物質の含有層を形成したパターン形成
体、基材上に光触媒含有層を有し光触媒含有層上にパタ
ーンの露光によって光触媒の作用により分解除去される
層を有するパターン形成体、もしくは基材上に、光触
媒、パターンの露光によって光触媒の作用により分解さ
れる物質、および結着剤からなる組成物層を形成したパ
ターン形成体にパターンの露光をし、光触媒の作用によ
って表面の濡れ性を変化させるパターン形成方法であ
る。

【００２４】光触媒含有層に対するパターン露光は、光
描画照射により行う前記のパターン形成方法である。

【００２５】光触媒含有層に対するパターン露光は、フ
ォトマスクを介した露光によって行う前記のパターン形
成方法である。

【００２６】光触媒含有層に対するパターン露光は、パ
ターン形成体を加熱しながら行う前記のパターン形成方
法である。

【００２７】基材上に前記のパターン形成体を有し、前
記のパターン露光によって得られた該パターン形成体の
パターンに対応した部位上に機能性層が配置された素子
である。

【００２８】パターン形成体上に前記のパターン露光に
よって得られた該パターン形成体のパターンに対応した
部位上に形成された機能性層を、他の基材上に転写する
ことによって形成した素子である。

【００２９】基材上に前記のパターン形成体を有し、前
記のパターン露光によって得られた該パターン形成体の
パターンに対応した部位上に機能性層を形成する素子作
製方法である。

【００３０】パターン形成体上に、前記のパターン露光
によって得られた該パターン形成体のパターンに対応し
た部位上に機能性層を、他の基材上に転写することによ
って基材上に機能性層を形成した素子作製方法である。

【００３１】パターン形成体の全面に機能性層用組成物
を積層する工程、未露光部の反撥作用によって露光部の
濡れ性の変化した部位上のみにパターン状に機能性層を
形成する工程を有する前記の素子作製方法である。

【００３２】パターン形成体の全面に機能性層用組成物
を積層する工程、未露光部の機能性層を除去することに
よってパターン状に機能性層を形成する工程を有する前
記の素子作製方法である。

【００３３】パターン形成体の全面に機能性層用組成物
を積層する工程、未露光部の反撥作用によって露光部の
濡れ性の変化した部位上のみにパターン状に機能性層を
形成する工程を有する前記の素子作製方法である。

【００３４】パターン形成体の全面に機能性層用組成物
を積層する工程、未露光部の機能性層を除去することに
よってパターン状に機能性層を形成する工程を有する前
記の素子作製方法である。

【００３５】パターン形成体への機能性層の形成が、機
能性層用組成物の塗布による前記の素子作製方法であ
る。

【００３６】パターン形成体への機能性層の形成が、機
能性層用組成物のノズルからの吐出による前記の素子作
製方法である。

【００３７】パターン形成体への機能性層の形成が、機
能性層用組成物塗布フィルムからの熱または圧力による
転写による前記の素子作製方法である。

【００３８】パターン形成体への機能性層の形成が、真
空を利用した成膜による前記の素子作製方法である。

【００３９】パターン形成体への機能性層の形成が、無
電解めっきを利用した成膜による前記の素子作製方法で
ある。

【００４０】

【発明の実施の形態】本発明は、光の照射によって近傍
の物質に化学変化を起こすことが可能な光触媒の作用を
用いて、パターンを形成するパターン形成体およびパタ
ーン形成方法である。本発明において、パターンは、図
案、画像、文字等の印刷に利用する場合には印刷インク
を転写する際にインクを受容もしくは反発する部分を意
味する。また、本発明のパターン形成体は印刷用途以
外に利用することができる。この場合には、パターン
は、濡れ性の変化に応じてパターン形成体上に形成され
た周囲とは特性が異なる領域、およびそれらが他の基材
上に転写された転写物である場合も意味する。

【００４１】本発明の酸化チタンに代表される光触媒に
よる作用機構は、必ずしも明確なものではないが、光の
照射によって生成したキャリアが、近傍の化合物との直
接反応あるいは酸素、水の存在下で生じた活性酸素種に
よって、有機物の化学構造に変化を及ぼすものと考えら
れている。

【００４２】このような光触媒の作用を用いて、油性汚
れを光照射によって分解し、油性汚れを親水化して水に
よって洗浄可能なものとしたり、ガラス等の表面に親水
性膜を形成して防曇性を付与したり、あるいはタイル等
の表面に光触媒の含有層を形成して空気中の浮遊菌の数
を減少させるいわゆる抗菌タイル等が提案されている。

【００４３】本発明では、光触媒の作用により濡れ性が
変化する物質、光触媒の作用により分解除去される層、
光触媒の作用により濡れ性が変化する物質の含有層、あ
るいは光触媒の作用により分解される物質と結着剤から
なる組成物を有する層等を用いてパターン形成部の印刷
インクやトナー等との受容性、あるいはパターンが形成
されていない部分との撥インク性等を高めることによっ
てパターン形成体を得たものである。

【００４４】本発明のパターン形成体およびパターン形
成方法に使用することができる光触媒としては、光半導
体として知られている酸化チタン（ＴｉＯ₂ ）、酸化亜
鉛（ＺｎＯ）、酸化すず（ＳｎＯ₂）、チタン酸ストロ
ンチウム（ＳｒＴｉＯ₃）、酸化タングステン（Ｗ
Ｏ₃）、酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）、酸化鉄（Ｆｅ
₂Ｏ₃）のような金属酸化物を挙げることができるが、特
に酸化チタンが好ましい。酸化チタンは、バンドギャッ
プエネルギーが高く、化学的に安定であり、毒性もな
く、入手も容易である。

【００４５】酸化チタンとしては、アナターゼ型とルチ
ル型のいずれも使用することができるが、アナターゼ型
酸化チタンが好ましい。

【００４６】アナターゼ型チタンとしては、粒径が小さ
いものの方が光触媒反応が効率的に起こるので好まし
い。平均粒径が５０ｎｍ以下のものが好ましく、より好
ましくは２０ｎｍ以下のものが好ましい。例えば、塩酸
解膠型のアナターゼ型チタニアゾル（石原産業製ＳＴ
Ｓ−０２、平均結晶子径７ｎｍ）、硝酸解膠型のアナタ
ーゼ型チタニアゾル（日産化学、ＴＡ−１５、平均結晶
子径１２ｎｍ）を挙げることができる。

【００４７】本発明の光触媒を含有する層は、光触媒を
結着剤中に分散させて形成することができる。光触媒
は、結着剤をも光励起により分解するおそれがあるた
め、結着剤は光触媒の光酸化作用に対する十分な抵抗性
を有する必要がある。また、パターン形成体を印刷版と
して利用することを考慮すると耐刷性、耐摩耗性も要求
される。

【００４８】したがって、結着剤としては、主骨格がシ
ロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−）を有するシリコーン樹脂
を使用することができる。

【００４９】また、シリコーン樹脂は、ケイ素原子に有
機基が結合しており、実施例中において詳述するよう
に、光触媒を光励起すれば、シリコーン分子のケイ素原
子に結合した有機基は光触媒作用により酸素含有基に置
換されて濡れ性が向上するので、濡れ性が変化する物質
としての機能も示す。

【００５０】シリコーン樹脂としては、一般式Ｙ_nＳｉ
Ｘ_4-n（ｎ＝１〜３）で表されるケイ素化合物の１種ま
たは２種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物を使
用することができる。Ｙは、アルキル基、フルオロアル
キル基、ビニル基、アミノ基、あるいはエポキシ基を挙
げることができ、Ｘはハロゲン、メトキシル基、エトキ
シル基、またはアセチル基を挙げることができる。

【００５１】具体的には、メチルトリクロルシラン、メ
チルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシ
ラン、メチルトリｔ−ブトキシシラン；エチルトリクロ
ルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソ
プロポキシシラン、エチルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ
−プロピルトリクロルシラン、ｎ−プロピルトリブロム
シラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピ
ルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリイソプロポキ
シシラン、ｎ−プロピルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−
ヘキシルトリクロルシラン、ｎ−ヘキシルトリブロムシ
ラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシル
トリエトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリイソプロポキシ
シラン、ｎ−ヘキシルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−デ
シルトリクロルシラン、ｎ−デシルトリブロムシラン、
ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキ
シシラン、ｎ−デシルトリイソプロポキシシラン、ｎ−
デシルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−オクタデシルトリ
クロルシラン、ｎ−オクタデシルトリブロムシラン、ｎ
−オクタデシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシル
トリエトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリイソプロポ
キシシラン、ｎ−オクタデシルトリｔ−ブトキシシラ
ン；フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェ
ニルトリｔ−ブトキシシラン；ジメトキシジエトキシシ
ラン；ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロムシラ
ン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン；ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジブロム
シラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエ
トキシシラン；フェニルメチルジクロルシラン、フェニ
ルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメトキシシ
ラン、フェニルメチルジエトキシシラン；トリクロルヒ
ドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメトキシヒ
ドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイソプロ
ポキシヒドロシラン、トリｔ−ブトキシヒドロシラン；
ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラン、ビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリｔ−ブト
キシシラン；γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリｔ−ブトキシシラン；γ−
メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリｔ−ブトキシシラ
ン；γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリｔ−ブトキシシラン；
γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
ｔ−ブトキシシラン；β−（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン；及
び、それらの部分加水分解物；及びそれらの混合物を使
用することができる。

【００５２】結着剤層としてオルガノアルコキシシラン
からなるものを用いる場合には、その少なくとも１０〜
３０重量％が２官能性シリコーン前駆体の例えばジアル
コキシジメチルシランから構成されるものを用いること
がより好ましい。オルガノアルコキシシランをゾルゲル
法等に使用する場合には、３官能性シリコーン前駆体で
あるトリアルコキシメチルシラン等を主成分としたもの
を用いることによって架橋密度を向上させることができ
るが、本発明のように濡れ性を相違させる場合には、ジ
メチルシロキサン成分を多く含んだものの方がメチルシ
ロキサン成分を含んだものよりも、撥油性を向上させる
ことができる。

【００５３】また、シリコーン分子は、ケイ素原子に結
合したオルガノ基としてフルオロアルキル基を含有して
も良い。この場合には、未露光部の臨界表面張力が更に
低下する。したがって、インキおよび機能性層用組成物
と未露光部との反撥性が向上し、インキまたは機能性層
用組成物の付着を妨げる機能が増すとともに、インキ、
あるいは機能性層用組成物として使用可能な物質の選択
肢が増加することとなる。

【００５４】具体的には、下記のフルオロアルコキシシ
ランの１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分
解縮合物から形成される。またフルオロアルキル基を含
有する化合物としては、下記の化合物を挙げることがで
き、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られ
ているものを使用しても良い。ＣＦ₃（ＣＦ₂）₃ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₉ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ （ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₄ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ （ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₆ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ （ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₈ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ ＣＦ₃（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ CF₃（ＣＦ₂）₃（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₃ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₉ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂ （ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₄ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣ
Ｈ₃）₂ （ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₆ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣ
Ｈ₃）₂ （ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₈ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣ
Ｈ₃）₂ ＣＦ₃（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₃（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄ＳｉＣＨ₃（ＯＣ
Ｈ₃）₂ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄ＳｉＣＨ₃（ＯＣ
Ｈ₃）₂ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄ＳｉＣＨ₃（ＯＣ
Ｈ₃）₂ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₃ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₉ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃ ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇ＳＯ₂Ｎ（Ｃ₂Ｈ₅）ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓ
ｉ（ＯＣＨ₃）₃ 更に良好なインキおよび機能性層組成物との反撥性を提
供するためには、反応性の線状シリコーン、好ましくは
ジメチルポリシロキサンを低架橋密度で架橋することに
より得られるシリコーンが好ましい。代表的には、以下
に示す繰り返し単位を有するものを用いて、架橋反応さ
せたものが好ましい。

【００５５】

【化１】

【００５６】ただし、ｎは２以上の整数である。Ｒ¹、
Ｒ²はそれぞれ炭素数１〜１０の置換もしくは非置換の
アルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキ
ル基である。また、Ｒ¹、Ｒ²が、メチル基のものが表面
エネルギーが最も小さくなるので好ましく、モル比でメ
チル基が６０％以上であることが好ましい。

【００５７】また、分子量は、５００〜１００００００
のものが好ましく、分子量が小さいと、相対的にＲ¹、
Ｒ²の量が少ないので、撥油性等が発揮されにくい。ま
た、分子量が大きすぎると、相対的に、末端のＸ、Ｙの
割合が少なくなるので、架橋密度が小さくなってしまう
という問題点がある。

【００５８】また、Ｘ、Ｙは、以下の基から選ばれ、Ｘ
とＹは同じでも異なっていても良く、Ｒは、炭素数が１
０以下の炭化水素鎖である。

【００５９】

【化２】

【００６０】本発明に用いる反応性変性シリコーンは、
縮合して架橋を行うもの、架橋剤を用いて架橋を行うも
ののいずれも用いることができる。架橋反応を縮合によ
って行う場合には、カルボン酸のすず、亜鉛、鉛、カル
シウム、マンガン塩、好ましくはラウリル酸塩や、塩化
白金酸を触媒として添加しても良い。

【００６１】架橋剤を用いて架橋反応をする場合には、
架橋剤として一般的に用いられているイソシアネートを
挙げることができ、好ましくは以下の化合物を挙げるこ
とができる。

【００６２】

【化３】

【００６３】また、反応性シリコーン化合物として、水
性エマルジョン型のものを用いても良い。水性エマルジ
ョン型の化合物は、水性溶媒を用いるので、取り扱いが
容易である。

【００６４】また、本発明の結着剤として使用する反応
性シリコーン化合物とともに、ジメチルポリシロキサン
のような架橋反応をしない安定なオルガノシロキサン化
合物を混合することによって撥油性を高めても良い。

【００６５】この場合には、反応性シリコーン化合物を
含む組成物から得られた層に含まれるシロキサンの６０
重量％以上が、反応性シリコーン化合物から得られたも
のであることが好ましく、６０重量％より少ないとジメ
チルシロキサンが少なくなり撥水性が劣るので好ましく
ない。

【００６６】また、結着剤としては、無定形シリカ前駆
体を用いることができ、一般式ＳｉＸ₄ で表され、Ｘは
ハロゲン、メトキシ基、エトキシ基またはアセチル基等
であるケイ素化合物、それらの加水分解物であるシラノ
ール、または平均分子量３０００以下のポリシロキサン
が好ましい。

【００６７】具体的には、テトラエトキシシラン、テト
ライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラ
ン、テトラブトキシシラン、テトラメトキシシラン等が
挙げられる。また、この場合には、無定形シリカの前駆
体と光触媒の粒子とを非水性溶媒中に均一に分散させ、
基材上に空気中の水分により加水分解させてシラノール
を形成させた後、常温で脱水縮重合することにより光触
媒含有膜を形成できる。シラノールの脱水縮重合を１０
０℃以上で行えば、シラノールの重合度が増し、膜表面
の強度を向上できる。また、これらの結着剤は、単独あ
るいは２種以上を混合して用いることができる。

【００６８】また、結着剤を使用せず、酸化チタン単体
での成膜も可能である。この場合には、基材上に無定形
チタニアを形成し、次いで焼成により結晶性チタニアに
相変化させる。無定形チタニアは、例えば四塩化チタ
ン、硫酸チタン等のチタンの無機塩の加水分解、脱水縮
合、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタ
ン、テトラ−ｎ−プロポキシチタン、テトラブトキシチ
タン、テトラメトキシチタン等の有機チタン化合物を酸
存在下において加水分解、脱水縮合によって得ることが
できる。

【００６９】次いで、４００℃〜５００℃における焼成
によってアナターゼ型チタニアに変成し、６００℃〜７
００℃の焼成によってルチル型チタニアに変成すること
がする。

【００７０】また、オルガノシロキサン、無定形シリカ
の少なくともいずれかと光触媒とを含む層において、光
触媒の量は、５重量％〜６０重量％であることが好まし
く、２０重量％〜４０重量％であることがより好まし
い。

【００７１】光触媒、結着剤は、溶剤中に分散して塗布
液を調製して塗布することができる。使用することがで
きる溶剤としては、エタノール、イソプロパノール等の
アルコール系の有機溶剤を挙げることができる。

【００７２】また、チタン系、アルミニウム系、ジルコ
ニウム系、クロム系のカップリング剤も使用することが
できる。

【００７３】光触媒を含んだ塗布液は、スプレーコー
ト、ディップコート、ロールコート、ビードコートなど
の方法により基材に塗布することができる。また結着剤
として紫外線硬化型の成分を含有している場合には、紫
外線を照射して硬化処理を行うことにより、基材上に光
触媒を含有した組成物の層を形成することができる。

【００７４】アナターゼ型チタニアは励起波長が３８０
ｎｍ以下にあり、このような光触媒の場合には光触媒の
励起は紫外線により行うことが必要である。紫外線を発
するものとしては水銀ランプ、メタルハライドランプ、
キセノンランプ、エキシマランプ、エキシマレーザー、
ＹＡＧレーザー、その他の紫外線光源を使用することが
でき、照度、照射量等を変えることにより、膜表面の濡
れ性を変化させることができる。

【００７５】また、露光をレーザー等の微細なビームで
行う場合には、マスクを使用することなく直接に所望の
パターンを描画することができるが、その他の光源の場
合には、所望のパターンを形成したマスクを使用して光
照射してパターンを形成する。パターン形成用のマスク
は、蒸着用マスクのように金属板に形成されたもの、ガ
ラス板に金属クロムで形成されたフォトマスク、あるい
は印刷用途では、製版用フィルム等を使用することがで
きる。

【００７６】本発明のパターン形成体は、クロム、白
金、パラジウム等の金属イオンのドーピング、蛍光物質
の添加、感光性色素の添加によって、可視およびその他
の波長に感受性を有するようにすることができる。例え
ば、シアニン色素、カルボシアニン色素、ジカルボシア
ニン色素、ヘミシアニン色素等のシアニン色素を挙げる
ことができ、他の有用な色素としては、クリスタルバイ
オレット、塩基性フクシンなどのトリフェニルメタン色
素等のジフェニルメタン色素、ローダミンＢの様なキサ
ンテン色素、ビクトリアブルー、ブリリアントグリー
ン、マラカイトグリーン、メチレンブルー、ピリリウム
塩、ベンゾピリリウム塩、トリメチンベンゾピリリウム
塩、トリアリルカルボニウム塩等が挙げられる。

【００７７】本発明のパターン形成体の露光の際にマス
クを使用する場合には、マスクを光触媒含有層と密着露
光することにより解像度は高くなるが、感度が著しく低
下するために、１００μｍ前後の間隔を設けて露光する
ことが好ましい。

【００７８】また、マスクとパターン形成体との間隙へ
空気を吹き付けながら露光することにより、反応が促進
されて感度も向上し、更に中心部と周辺部の位置の違い
による不均一を防止することができる。また、パターン
形成体を加熱しながら露光することによって感度を上昇
することができる。縮小光学系を用いてマスクパターン
の画像を縮小する縮小投影露光方法を用いることによっ
て、微細なパターンを形成することもできる。

【００７９】本発明のパターン形成体に使用することが
できる基材としては、パターン形成体あるいはパターン
が形成された素子の用途に応じて、ガラス、アルミニウ
ム、およびその合金等の金属、プラスチック、織物、不
織布等を挙げることができる。また、本発明のパター
ン形成体は、光触媒含有層組成物の塗布前に、接着性向
上、表面粗度の改善、光触媒の作用による基材の劣化防
止、光触媒活性低下防止等を目的として基材上にプライ
マー層を形成しても良い。プライマー層としては、シロ
キサン構造を主成分とする樹脂、フッ素樹脂、エポキシ
樹脂、ポリウレタン樹脂等を挙げることができる。

【００８０】本発明のパターン形成体の一つの実施形態
としては、図１（Ａ）に示すように、パターン形成体１
は、基材２上に直接に、あるいはプライマー層３を形成
した後に光触媒含有組成物層４１を形成しても良い。図
１（Ｂ）に示すようにパターン情報を記録するために、
所定のパターン５の露光６を行い、図１（Ｃ）に示すよ
うに光触媒７の作用によって、シリコーン化合物のアル
キル鎖をＯＨ基とし、露光したパターンに応じて疎水性
であった表面に親水性部位８を形成し、疎水性部位９と
の濡れ性の相違によってパターン情報を記録するもので
ある。

【００８１】また、本発明のパターン形成体の第２の実
施形態としては、図２（Ａ）に示すように、基材２上
に、プライマー層３を積層し、光触媒を含有する光触媒
含有組成物層４２を形成し、さらに光触媒含有組成物層
上に、光を照射した際に光触媒の作用によって濡れ性が
変化する濡れ性変化物質層１０を形成したものである。
図２（Ｂ）に示すように、パターン５を用いて露光６
し、図２（Ｃ）に示すようにパターンに応じて濡れ性が
異なる部位１１を形成して、パターン情報を記録するも
のである。

【００８２】第２の実施形態の場合には、光触媒含有組
成物層は、結着剤の前駆体等に光触媒を分散した組成物
を、加水分解あるいは部分加水分解した光触媒組成物層
を形成し、次いで、疎水性の有機物からなる薄膜を形成
する方法が挙げられ、光触媒単体での成膜も可能であ
る。有機物の薄膜は、溶液の塗布、表面グラフト処理、
界面活性剤処理、ＰＶＤ、ＣＶＤ等の気相による成膜法
を用いることができる。

【００８３】有機物としては、低分子化合物、高分子化
合物、界面活性剤等で、光触媒によって濡れ性が変化す
るものを用いることができる。

【００８４】具体的には、光触媒の作用により有機基が
水酸基に変化する、シラン化合物で、シランカップリン
グ剤、クロロシラン、アルコキシシラン、あるいはこれ
らの２種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物を挙
げることができる。

【００８５】また、第３の実施形態としては、図３
（Ａ）に示すように、基材２上に、光触媒含有組成物層
４３を形成し、さらに光触媒含有組成物層上に、光を照
射した際に光触媒の作用によって分解除去される物質層
１２を形成し、図３（Ｂ）に示すようにパターン５を用
いて露光６し、図３（Ｃ）に示すようにパターンに応じ
て濡れ性が異なる部位１３を形成してパターン情報を記
録するものである。

【００８６】第３の実施形態の場合には、光触媒含有組
成物層は、結着剤の前駆体等に光触媒を分散した組成物
を加水分解、あるいは部分加水分解した光触媒組成物層
を形成し、次いで疎水性の有機物からなる薄膜を形成す
る方法が挙げられ、光触媒単体での成膜も可能である。
有機物の薄膜は、溶液の塗布、表面グラフト処理、界面
活性剤処理、ＰＶＤ、ＣＶＤ等の気相中での成膜法を用
いて形成することができる。

【００８７】具体的には、日本サーファクタント工業
製：ＮＩＫＫＯＬＢＬ、ＢＣ、ＢＯ、ＢＢの各シリー
ズ等の炭化水素系、デュポン社：ＺＯＮＹＬＦＳＮ、
ＦＳＯ、旭硝子：サーフロンＳ−１４１、１４５、大日
本インキ：メガファックＦ−１４１、１４４、ネオス：
フタージェントＦ−２００、Ｆ２５１、ダイキン工業
ユニダインＤＳ−４０１、４０２、スリーエム：フロラ
ードＦＣ−１７０、１７６等のフッ素系あるいはシリコ
ーン系の非イオン界面活性剤を挙げることができるが、
カチオン系、アニオン系、両性界面活性剤を用いること
ができる。

【００８８】また、界面活性剤以外にも、ポリビニルア
ルコール、不飽和ポリエステル、アクリル樹脂、ポリエ
チレン、ジアリルフタレート、エチレンプロピレンジエ
ンモノマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリウレ
タン、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニ
ル、ポリアミド、ポリイミド、スチレンブタジエンゴ
ム、クロロプレンゴム、ポリプロピレン、ポリブチレ
ン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ナイロン、ポリエ
ステル、ポリブタジエン、ポリベンズイミダゾール、ポ
リアクリルニトリル、エピクロルヒドリン、ポリサルフ
ァイド、ポリイソプレン等のオリゴマー、ポリマーを挙
げることができる。

【００８９】また、第４の実施形態は、図４（Ａ）に示
すように、基材２上に、プライマー層３を形成し、次い
で光触媒、結着剤および、光を照射した際に光触媒の作
用によって分解する疎水性部分１４と親水性部位１５か
らなる光触媒分解性物質１６を含有する光触媒含有組成
物層４４を形成したものである。光触媒含有組成物層に
代えて光触媒と光触媒分解性物質のみからなる層を形成
しても良い。そして、図４（Ｂ）に示すような所定のパ
ターン５で露光６する。その結果、図４（Ｃ）に示すよ
うに、所定の部分に存在する疎水性部分１４と親水性部
位１５からなる光触媒による分解性物質１６を光触媒の
作用によって分解し、表面の濡れ性を露光６したパター
ンに応じて変化した部位１７を形成して、パターン情報
を記録するものである。

【００９０】表面の濡れ性を変化させる物質としては、
界面活性剤のように、光触媒含有組成物層の濡れ性を、
その種類、添加量に応じて任意に設定することが可能な
物質を添加することが好ましい。

【００９１】濡れ性を変化させることができる物質とし
ては、界面活性剤が好ましく、具体的には、日本サーフ
ァクタント工業製：ＮＩＫＫＯＬＢＬ、ＢＣ、ＢＯ、
ＢＢの各シリーズ等の炭化水素系、デュポン社：ＺＯＮ
ＹＬＦＳＮ、ＦＳＯ、旭硝子：サーフロンＳ−１４
１、１４５、大日本インキ：メガファックＦ−１４１、
１４４、ネオス：フタージェントＦ−２００、Ｆ２５
１、ダイキン工業ユニダインＤＳ−４０１、４０２、
スリーエム：フロラードＦＣ−１７０、１７６等のフッ
素系あるいはシリコーン系の非イオン界面活性剤を挙げ
ることができるが、カチオン系、アニオン系、両性界面
活性剤を用いることができる。

【００９２】また、界面活性剤以外にも、ポリビニルア
ルコール、不飽和ポリエステル、アクリル樹脂、ポリエ
チレン、ジアリルフタレート、エチレンプロピレンジエ
ンモノマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリウレ
タン、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニ
ル、ポリアミド、ポリイミド、スチレンブタジエンゴ
ム、クロロプレンゴム、ポリプロピレン、ポリブチレ
ン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ナイロン、ポリエ
ステル、ポリブタジエン、ポリベンズイミダゾール、ポ
リアクリルニトリル、エピクロルヒドリン、ポリサルフ
ァイド、ポリイソプレン等のオリゴマー、ポリマーを挙
げることができる。

【００９３】また、光触媒は５ないし６０重量％、無定
形シリカ９５ないし４０重量％、光触媒の作用によって
濡れ性が変化する物質は、０．１ないし５５重量％の組
成物を用いることが好ましい。

【００９４】本発明のパターン形成体は、組成物中の光
触媒の作用によって表面エネルギーが変化し、濡れ性が
変化した部位は、印刷インキの受容性が変化しているの
で、印刷版として使用することができる。

【００９５】そして、本発明のパターン形成体を印刷版
原版とした場合には、湿式現像等の必要がなく、光露光
と同時に印刷版の作製が完了するという特徴を有してい
る。また、本発明のパターン形成体へのパターン形成
は、製版フィルム等を介して露光を行っても良いし、レ
ーザー等で直接描画を行っても良い。

【００９６】また、印刷版原版を作製する場合には、オ
フセット印刷版として一般に用いられているアルミニウ
ムなどの基材を用いることができるが、織布、不織布な
どからなるスクリーン上に光触媒含有組成物層を塗布
し、露光によってパターンを形成しても良い。また、基
材がプラスチックなど光触媒の光酸化作用により劣化す
る怖れのあるものは予め基材上にシリコーン、フッ素樹
脂などを被覆して保護層を形成しても良く、基材の形状
は、シート状、リボン状、ロール状等の任意の形態のも
のを用いることができる。

【００９７】また、組成物中に光によって変色するスピ
ロピラン等のフォトクロミック材料あるいは光触媒の作
用により分解される有機色素等を混合することにより、
形成されたパターンを可視化しても良い。

【００９８】また、未露光部を印刷インキ受容性、かつ
湿し水反撥性に設計すると通常の湿し水を用いたオフセ
ット印刷版としても使用できる。

【００９９】本発明のパターン形成体が、パターンが積
層された素子に使用される場合には、パターン形成体の
表面の濡れ性を調整することにより、様々な基材上に様
々な機能性層をパターン状に形成することができる。機
能性とは、光学的（光選択吸収、反射性、透光性、偏光
性、光選択透過性、非線形光学性、蛍光あるいはリン光
等のルミネッセンス、フォトクロミック性等）、磁気的
（硬磁性、軟磁性、非磁性、透磁性等）、電気・電子的
（導電性、絶縁性、圧電性、焦電性、誘電性等）、化学
的（吸着性、脱着性、触媒性、吸水性、吸油性、イオン
伝導性、酸化還元性、電気化学特性、エレクトロクロミ
ック性等）、機械的（耐摩擦性等）、熱的（伝熱性、断
熱性、赤外線放射性等）、生体機能（生体適合性、抗血
栓性等）等の特性を意味する。

【０１００】機能性素子は、機能性層用組成物をパター
ン形成体上に塗布することによって作製することができ
る。機能性層用組成物としては、パターンを形成したパ
ターン形成体の未露光部が撥水あるいは撥油等の反撥性
を示し、露光部にのみ濡れる組成物を用いることができ
る。この場合には、パターン形成体の未露光部は、臨界
表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下で、好ましくは３０ｍＮ／
ｍ以下であることが望ましい。好ましい物質としては、
シリコーン樹脂、フルオロカーボン基を有するシリコー
ン樹脂等が挙げられる。また、機能性層用組成物は、パ
ターン形成体の未露光部での臨界表面張力以上の表面張
力を示す材料からなることが望ましい。

【０１０１】この場合、機能性層用組成物としては、紫
外線硬化型モノマー等に代表される溶剤で希釈していな
い液状組成物や、溶剤で希釈した液体状組成物などが挙
げられる。溶剤で希釈した液体状組成物の場合には、溶
剤が水、エチレングリコール等の高表面張力を示すもの
が好ましい。

【０１０２】また、機能性層用組成物としての粘度が低
いほど短時間にパターン形成が可能となる。ただし、溶
剤で希釈した液体状組成物の場合には、パターン形成時
に溶剤の揮発による粘度の上昇、表面張力の変化が起こ
るため、溶剤が低揮発性であることが望ましい。

【０１０３】機能性層用組成物は、ディップコート、ロ
ールコート、ブレードコート等の塗布手段、インクジェ
ット等を含むノズル吐出手段、無電解めっき等の手段を
用いて形成される。また、機能性層用組成物の結着剤と
して紫外線、熱、電子線等で硬化する成分を含有してい
る場合には、硬化処理を行うことにより、基体上にパタ
ーン形成体を介して様々な機能を有する層をパターン状
に形成することができる。

【０１０４】また、全面に機能性層を形成した後、露光
部あるいは未露光部と機能性層の界面の接着力差を利用
し、例えば粘着テープを密着した後に粘着テープを引き
剥がすことによる剥離、空気の吹き付け、溶剤による処
理等の後処理によって未露光部上の機能性層を除去し、
パターン化することができる。

【０１０５】また、未露光部、露光部はそれぞれ、完全
に機能性層を反撥あるいは付着する必要はなく、付着力
の違いによって付着量の異なるパターンが形成できる。

【０１０６】また、機能性層は、ＰＶＤ、ＣＶＤ等の真
空成膜手段を用いても形成される。たとえ、全面に積層
された場合にも、露光部あるいは未露光部と機能性層の
接着力の違いを利用すれば、例えば粘着テープによる剥
離、空気の吹き付け、溶剤処理等の後処理によってパタ
ーン化することができる。また、真空成膜手段による場
合には、パターン形成体の全面に積層する方法のみでは
なく、露光部あるいは未露光部との反応性を利用して、
露光部あるいは未露光部に選択的に機能性層を形成して
も良い。

【０１０７】機能性層用組成物としては、パターン形成
体上に層形成することによってのみで、機能性層として
の特性を示すものはもちろん、層形成のみでは機能性層
としての特性を示さず、層形成の後に薬剤により処理、
紫外線、熱等による処理等が必要なものも含む。

【０１０８】次に、本発明のパターン形成体を用いて作
製することができる素子について説明する。

【０１０９】液晶表示装置等に用いられるカラーフィル
ターは、赤、緑、青等の複数の着色画素が形成された高
精細なパターンを有しているが、本発明のパターン形成
体を適用することによって高精細なカラーフィルターを
製造することができる。例えば、透明ガラス基板上に形
成された光触媒含有層上に、パターン露光後にカラーフ
ィルター形成用の着色剤含有組成物を塗布すると、露光
部の濡れ性の変化によって、露光部のみに着色剤含有組
成物が塗布されるので、着色剤含有組成物の使用量を減
少させることができる。また、パターン上のみに着色剤
含有組成物層が形成されるので、着色剤含有組成物とし
て感光性樹脂組成物を用いるならば、塗布後の光硬化処
理のみで、現像等を行うことなく高解像度のカラーフィ
ルターを可能である。

【０１１０】また、マイクロレンズの製造に本発明のパ
ターン形成体を用いることができる。例えば、透明基材
上に積層された光触媒含有層上に円形に露光を行い、濡
れ性が変化した円形のパターンを形成する。次いで、濡
れ性が変化した部位上にレンズ形成用組成物を滴下する
と、露光部のみに濡れ広がり、更に滴下することによ
り、液滴の接触角を変化させることができる。硬化すれ
ば、様々な形状あるいは焦点距離のものが得られるの
で、高精細なマイクロレンズを得ることが可能である。

【０１１１】また、無電解めっきによる金属膜形成方法
に本発明のパターン形成体を用いることによって所望の
パターンの金属膜を形成することができる。

【０１１２】例えば、本発明のパターン形成体に光照射
によって所定の親水性化したパターンを形成し、次い
で、化学めっきの前処理液によって親水性化した部分の
処理を行った後に化学めっき液に浸漬して所望の金属を
パターンを形成することができる。この方法によれば、
レジストパターンを形成することなく、金属のパターン
を形成することができるので、プリント基板や電子回路
素子等を製造することができる。

【０１１３】また、真空成膜技術を用いた金属等のパタ
ーンを形成する方法に本発明のパターン形成体を用いる
ことができる。

【０１１４】例えば、光照射によって接着性の大きなパ
ターンを作製し、次いで真空下で金属成分を加熱して蒸
着して、アルミニウムなどの金属成分をパターン形成体
の全面に蒸着して、金属の薄膜を形成する。パターンを
形成した部分とそうでない部分では金属の薄膜の付着強
度に違いが生じるので、薄膜表面に粘着剤を押し当てて
剥離する方法、薬剤によって剥離する方法等によってパ
ターン状の金属の薄膜を形成することができる。

【０１１５】粘着剤を用いて剥離する場合には、薄膜表
面に、粘着剤を塗布したシートの粘着面を接触した後
に、粘着剤を塗布したシートを剥がすと、パターン形成
部とパターンを形成していない部分の接着性の相違によ
ってパターン形成部分以外の薄膜は剥離し、金属のパタ
ーンが形成できる。この方法によれば、レジストのパタ
ーンを形成することなく金属のパターンを形成すること
が可能であり、印刷法によるよりも高精細なパターンを
有する、プリント基板や電子回路素子等を作製すること
ができる。

【０１１６】以下に図面を参照して、本発明の素子の作
製方法を説明する。

【０１１７】図９に、本発明の素子の作製方法の一例を
説明する図であり、断面を説明する図である。

【０１１８】図９（Ａ）のパターン露光工程において、
Ａ１に示すように、基材２上に光触媒含有層４を設けた
パターン形成体１に、フォトマスク２０を用いて形成す
べき素子のパターンに応じた露光６、あるいはＡ２に示
すようにパターン形成体１に紫外線域の波長のレーザ２
１等を用いて直接に描画して、パターン形成体上の表面
に濡れ性が異なる部位１３を形成する。

【０１１９】次いで、図９（Ｂ）の全面成膜工程で、Ｂ
１で示すようなブレードコータ２２を用いた塗布、ある
いはＢ２に示すようなスピンコータ２３を用いた塗布、
Ｂ３で示す蒸着、ＣＶＤ等の真空を利用した成膜手段２
４によって、パターン形成体の全面に機能性層２５を形
成する。

【０１２０】パターン形成体上に形成された機能性層２
５は、パターン形成体の露光によって生じた表面エネル
ギーの違いによって、露光部と未露光部では接着力が相
違している。

【０１２１】次いで、図９（Ｃ）の剥離工程で、粘着テ
ープ２６の粘着面を密着した後に、端部より引き剥がす
ことによって、未露光部に形成された機能性層を剥がす
方法、空気噴射ノズル２７から空気を噴射する方法、あ
るいは剥離用薬剤によって、接着力が小さな部分から機
能性層を除去することによって、機能性層２８を形成す
る。

【０１２２】図１０は、本発明の素子の作製方法の他の
実施例を説明する図であり、断面を説明する図である。

【０１２３】図９と同様に、図１０（Ａ）で示すような
方法で、パターン形成体１上に、機能性層２５を形成す
る。次いで、図１０（Ｂ）で示すように、素子形成用基
材２９を密着する。

【０１２４】次いで、図１０（Ｃ）に示すように、素子
形成用基材２９上に機能性層２５を転写して機能性層２
８を有する素子を形成する。

【０１２５】図１１は、本発明の素子の作製方法の他の
実施例を説明する図であり、断面を説明する図である。

【０１２６】図１１（Ａ）で示すように、基材２上に光
触媒含有層４を設けたパターン形成体１に、フォトマス
ク２０を用いて形成すべき素子のパターンに応じた露光
６を行い濡れ性が変化した部位１３を形成する。

【０１２７】次いで、図１１（Ｂ）に示すように、シー
ト３０上に熱溶融性組成物層３１を形成した熱転写体３
２の熱溶融性の組成物層の形成面をパターン形成体の露
光面に密着する。

【０１２８】次いで、図１１（Ｃ）に示すように、熱転
写体３２のシート側から加熱板３３を押し当てる。

【０１２９】次いで、図１１（Ｄ）に示すように、冷却
後に熱転写体３２を引き剥がし、最後に図１１（Ｅ）に
示すようなパターン５を形成した。

【０１３０】図１２は、本発明の素子の作製方法の他の
実施例を説明する図であり、断面を説明する図である。

【０１３１】図１２（Ａ）に示すように、パターン形成
体１にフォトマスク２０を用いて露光をし、露光によっ
て未露光部と濡れ性が変化した部位１３を形成した。

【０１３２】図１２（Ｂ）に示すように、吐出ノズル３
５から、円形のパターンに向けて紫外線硬化性樹脂組成
物３６を吐出する。

【０１３３】図１２（Ｃ）に示すように、未露光部と露
光部の濡れ性の相違によって、露光部に吐出した紫外線
硬化性樹脂組成物は、界面張力の相違によって盛り上が
る。

【０１３４】次いで、図１２（Ｄ）に示すように、硬化
用紫外線３７を照射することによってマイクロレンズ３
８を形成することができる。

【０１３５】

【実施例】以下に、実施例を示し本発明を説明する。

【０１３６】実施例１グラスカＨＰＣ７００２（日本合成ゴム）３０ｇ、アル
キルアルコキシシランであるグラスカＨＰＣ４０２Ｈ
（日本合成ゴム）１０ｇを混合し、撹拌装置によって５
分間撹拌した。この溶液をスピンコーティング法によ
り、面積が７．５ｃｍ²のガラスからなる基材に塗布
し、１５０℃の温度で１０分間乾燥し、厚さ２μｍのナ
トリウムイオンブロック層を形成した。

【０１３７】次に、グラスカＨＰＣ７００２（日本合成
ゴム）１５ｇ、グラスカＨＰＣ４０２Ｈ（日本合成ゴ
ム）５ｇ、チタニアゾル（日産化学製ＴＡ−１５）を
混合した。この溶液をスピンコーティング法により、ナ
トリウムイオンブロック層を形成した基材上に塗布し
た。これを１５０℃の温度で１０分間乾燥することによ
り、加水分解、重縮合反応を進行させ、光触媒がオルガ
ノポリシロキサンによって強固に固定した厚さ３μｍの
光触媒含有層を有するパターン形成体を作製した。

【０１３８】得られたパターン形成体にキセノンランプ
を６．６ｍＷ／ｃｍ²の照度で紫外線照射を行い、水に
対する接触角の経時変化を接触角測定器（協和界面科学
製ＣＡ−Ｚ型）により測定した。結果を図５に示す。図
より、接触角が徐々に減少し１０°以下となることがわ
かる。また、格子状のマスクを介して紫外線照射するこ
とにより、キセノンランプで６．６ｍＷ／ｃｍ²の照度
で６時間照射し、照射部９°、未照射部１０２°の濡れ
性が異なるパターンの形成を行うことができた。

【０１３９】実施例２厚さ０．１５ｍｍの脱脂したアルミニウム板上に、プラ
イマー層形成用組成物（関西ペイント製カンコート９
０Ｔ−２５−３０９４）の２０重量％ジメチルホルムア
ミド溶液を塗布し、２００℃において１分間乾燥し、３
μｍのプライマー層を得た。このプライマー層上に実施
例１記載の光触媒含有層を形成し、水なし印刷版原版を
得た。

【０１４０】次いで、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー（３５５ｎ
ｍラムダフィジックＳｔａｒＬｉｎｅ）を用い、記
録エネルギーは、３００ｍＪ／ｃｍ²としてパターン形
成を行った。得られた印刷版をオフセット印刷機（アル
ファー技研製アルファーニューエース）に取り付け、
水なし印刷用インキ（ザ・インクテック製インクテッ
クウォーターレスＳ藍）を用いて、５０００枚／時の印
刷速度でコート紙に印刷を行ったところ２万枚の良好な
印刷物が得られた。

【０１４１】また、レーザーに代えて、１７５線／イン
チで、２％から９８％の網点を有するグラデーションネ
ガフイルムを介してキセノンランプにより露光した点を
除いて同様にして印刷を行ったところ良好な印刷物が得
られた。

【０１４２】実施例３シリカゾルであるグラスカＨＰＣ７００２（日本合成ゴ
ム）３ｇ、アルキルアルコキシシランであるＨＰＣ４０
２Ｈ（日本合成ゴム）１ｇを混合し、５分間攪拌した。
この溶液をスピンコーティング法により面積が７．５ｃ
ｍ²のガラス製の基材に塗布し、膜厚２μｍのナトリウ
ムイオンブロック層を形成した。

【０１４３】次にイソプロピルアルコール３ｇ、シリカ
ゾル（日本合成ゴム製グラスカＨＰＣ７００２）０．
７５ｇ、アルキルアルコキシシラン（日本合成ゴム製
グラスカＨＰＣ４０２Ｈ）０．２５ｇ、フルオロアルコ
キシシラン（トーケムプロダクツ製ＭＦ−１６０Ｅ：
Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−エ
チルパーフルオロオクタンスルホンアミドのイソプロピ
ルエーテル５０重量％溶液）０．１５ｇを混合した。得
られた分散液を２０分間、１００℃に保持しながら攪拌
した。その後、酸化チタン（石原産業製酸化チタン塗
布用液ＳＴ−Ｋ０１：固形分濃度１０重量％）を２ｇ
添加し、さらに３０分間攪拌した。

【０１４４】この分散液を先に作製したナトリウムブロ
ック層を形成した基材にスピンコーティング法により塗
布した。これを１５０℃の温度で１０分間乾燥すること
により、加水分解、重縮合反応を進行させ、光触媒がオ
ルガノポリシロキサンによって強固に固定化された膜厚
３μｍの光触媒含有層を形成した。得られた光触媒含有
層の表面の平均粗さを触針法により測定したところ、Ｒ
ａ＝２ｎｍであった。

【０１４５】また、格子状のマスクを介して高圧水銀灯
を７０ｍＷ／ｃｍ²の照度で２分間紫外線照射をおこな
い、水およびｎ−オクタンに対する接触角を接触角測定
器（協和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）により測定した結果を
表４に示す。

【０１４６】実施例４実施例３と同様の方法でナトリウムイオンブロック層を
作製し、次にイソプロピルアルコール３ｇ、オルガノシ
ラン（東芝シリコーン製ＴＳＬ８１１３）０．４ｇ、フ
ルオロアルコキシシラン（トーケムプロダクツ製ＭＦ
−１６０Ｅ：Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピ
ル］−Ｎ−エチルパーフルオロオクタンスルホンアミド
のイソプロピルエーテル５０重量％溶液）０．１５ｇ、
酸化チタン（石原産業製酸化チタン塗布用液ＳＴ−
Ｋ０１：固形分濃度１０重量％）を２ｇ添加混合した。
得られた分散液を２０分間、１００℃に保ちながら攪拌
した。この分散液をスピンコーティング法によりナトリ
ウムイオンブロック層を形成した基材上に塗布した。こ
れを１５０℃の温度で１０分間乾燥させることにより加
水分解、重縮合反応を進行させ、光触媒がオルガノシロ
キサン中に強固に固定化された厚さ３μｍの光触媒含有
層を形成することができた。得られた光触媒含有層の表
面の平均粗さを、実施例３と同様に、触針法により測定
したところ、Ｒａ＝２ｎｍであった。また、光触媒含有
層上に格子状のマスクを介して高圧水銀灯を７０ｍｗ／
ｃｍ²の照度で２分間紫外線照射を行い、水およびｎ−
オクタンに対する接触角を接触角測定器（協和界面科学
製ＣＡ−Ｚ型）により測定した結果を表４に示す。

【０１４７】実施例５ポリカーボネート基材上に、実施例４に記載と同様にス
ピンコートによって厚さ０．３μｍの光触媒含有層を形
成し、光触媒含有層上に、５０ｌｐ／ｍｍの解像度のチ
ャートマスクを介して高圧水銀灯を７０ｍＷ／ｃｍ²の
照度で２分間紫外線照射を行った。

【０１４８】得られた光触媒含有層上に、表面張力が既
知の種々の液体を滴下して、接触角を接触角測定器（協
和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）によって測定し、Ｚｉｓｍ
ａｎプロットによって臨界表面張力を求めたところ、未
露光部の臨界表面張力は１４．６ｍＮ／ｍ、露光部では
７２．３ｍＮ／ｍであった。

【０１４９】次いで、水なし平版インキ（ザ・インクテ
ック製インクテックウォーターレスＳ藍）をＲＩテス
ター（石川島産業機械製ＲＩ−２型）を用いて、露光
済み光触媒含有層上に全面塗布した。図６に示すよう
に、未露光部は、撥油性によりインキがはじき、露光部
のみに選択的に塗布され、透明なポリカーボネートの基
材２上に光触媒層４を介して５０ｌｐ／ｍｍの藍色スト
ライプ状のパターン１８が得られた。

【０１５０】実施例６シリカゾルであるグラスカＨＰＣ７００２（日本合成ゴ
ム）３ｇ、アルキルアルコキシシランであるＨＰＣ４０
２Ｈ（日本合成ゴム）１ｇを混合し、５分間攪拌した。
この溶液をスピンコーティング法により厚さ０．１５ｍ
ｍの脱脂したアルミニウム板上に塗布し、膜厚２μｍの
プライマー層を得た。

【０１５１】次いで、このプライマー層上に、実施例３
および４記載の光触媒含有層を形成し、水なし印刷版原
版を得た。

【０１５２】次いで、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー（３５５ｎ
ｍラムダフィジックＳｔａｒＬｉｎｅ）を用い、記
録エネルギーは、２００ｍＪ／ｃｍ²としてパターン形
成を行った。得られた印刷版をオフセット印刷基（アル
ファー技研製アルファーニューエース）に取り付け、
水なし印刷用インキ（ザ・インクテック製インクテッ
クウォーターレスＳ藍）を用いて、５０００枚／時の印
刷速度でコート紙に印刷を行ったところ２万枚の良好な
印刷物が得られた。

【０１５３】また、レーザーに代えて、１７５線／イン
チで、２％から９８％の網点を有するグラデーションネ
ガパターンを介して高圧水銀灯を７０ｍＷ／ｃｍ²の照
度で２分間紫外線照射を行って同様に印刷特性を評価し
たところ良好な印刷物が得られた。

【０１５４】実施例７実施例３と同様の方法でナトリウムイオンブロック層を
作製し、次にイソプロピルアルコール３ｇ、オルガノシ
ラン（東芝シリコーン製ＴＳＬ８１１３）２．２ｇ、フ
ルオロアルコキシシラン（トーケムプロダクツ製ＭＦ
−１６０Ｅ：Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピ
ル］−Ｎ−エチルパーフルオロオクタンスルホンアミド
のイソプロピルエーテル５０重量％溶液）０．１５ｇ、
酸化チタン粉末（石原産業製ＳＴ−２１平均粒径２
０ｎｍ）０．２ｇを混合した。得られた分散液を２０分
間、１００℃に保ちながら攪拌した。この分散液をスピ
ンコーティング法によりナトリウムイオンブロック層を
形成した基材上に塗布した。これを１５０℃の温度で１
０分間乾燥させることにより加水分解、重縮合反応を進
行させ、光触媒がオルガノシロキサン中に強固に固定化
された厚さ３μｍの光触媒含有層を形成することができ
た。得られた光触媒含有層の表面の平均粗さを、触針法
により測定したところ、Ｒａ＝４ｎｍであった。また、
光触媒含有層上に格子状のマスクを介して、高圧水銀灯
を７０ｍＷ／ｃｍ²の照度で５分間紫外線照射を行い、
水およびｎ−オクタンに対する接触角を接触角測定器
（協和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）により測定した結果を
表４に示す。

【０１５５】実施例８実施例７に記載の方法で作製した厚さ０．３μｍの光触
媒含有層に、大きさが１５０×３００μｍの遮光層が３
０μｍ間隔で配置されたマスクを介して高圧水銀灯を７
０ｍＷ／ｃｍ²の照度で５分間紫外線照射を行った。

【０１５６】得られた光触媒含有層上に、表面張力が既
知の種々の液体を滴下して、接触角を接触角測定器（協
和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）によって測定し、Ｚｉｓｍ
ａｎプロットによって臨界界面張力を求めたところ、未
露光部の臨界表面張力は１５．４ｍＮ／ｍ、露光部では
７３．３ｍＮ／ｍであった。

【０１５７】次いで、カーボンブラック（三菱化学製
＃９５０）４ｇ、ポリビニルアルコール（日本合成化学
製ゴーセノールＡＨ−２６）０．７ｇ、水９５．３
ｇを混合し、加熱溶解して、１２０００ｒｐｍで遠心分
離して１μｍのガラス製フィルタで濾過し、遮光性組成
物を得た。

【０１５８】得られた遮光性組成物の表面張力を表面張
力計（協和界面科学製ＰＤ−Ｚ型）で測定したとこ
ろ、３７．５ｍＮ／ｍであった。

【０１５９】これをブレードコーターによって、ブレー
ド間隙４０μｍ、速度０．６ｍ／分で露光済み光触媒層
上に全面塗布した。図７に示すように、未露光部は遮光
性組成物をはじき、露光部のみに選択的に塗布され、１
００℃で３０分間加熱することにより、ガラスからなる
基材２上に光触媒層４を介して格子状の遮光性パターン
１９が得られた。

【０１６０】実施例９実施例３と同様の方法でナトリウムイオンブロック層を
作製し、次にイソプロピルアルコール３ｇ、オルガノシ
ラン（東芝シリコーン製ＴＳＬ８１１３）２．２ｇ、フ
ルオロアルコキシシラン（トーケムプロダクツ製ＭＦ
−１６０Ｅ：Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピ
ル］−Ｎ−エチルパーフルオロオクタンスルホンアミド
のイソプロピルエーテル５０重量％溶液）０．１５ｇ、
酸化チタン粉末（石原産業製ＳＴ−２１平均粒径２
０ｎｍ）０．２ｇを混合した。得られた分散液を２０分
間、１００℃に保ちながら撹拌した。この分散液をスピ
ンコーティング法によりナトリウムイオンブロック層を
形成した基体上に塗布した。これを１５０℃の温度で１
０分間乾燥させることにより加水分解、重縮合反応を進
行させ、光触媒がオルガノシロキサン中に強固に固定化
された厚さ３μｍの光触媒含有層を形成することができ
た。得られた光触媒含有層の表面の平均粗さを、実施例
１と同様に、触針法により測定したところ、Ｒａ＝４ｎ
ｍであった。また、光触媒含有層上に格子状のマスクを
介して、高圧水銀灯を７０ｍＷ／ｃｍ ²の照度で５分間
紫外線照射を行い、水およびｎ−オクタンに対する接触
角を接触角測定器（協和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）によ
り測定した結果を表４に示す。

【０１６１】実施例１０実施例３と同様の方法でガラス基材上にナトリウムイオ
ンブロック層を形成した。次いで、実施例９と同様の方
法で光触媒含有層を形成し、実施例９と同様の方法で露
光を行った。

【０１６２】未露光部および露光部をＸ線光電子分光装
置（Ｖ．Ｇ．Ｓｉｅｎｔｉｆｉｃ社ＥＳＣＡＬＡＢ２２
０−Ｉ−ＸＬ）によって元素分析を行った。シャリーの
バックグラウンド補正、スコフィールドの相対感度係数
補正により定量計算を行い、得られた結果をＳｉを１０
０とした場合の重量による相対値で表１に示す。

【０１６３】

【表１】

【０１６４】露光により、炭素およびフッ素量の割合が
減少し、酸素の割合が増加することを示しており、実施
例９の結果から、水に対する接触角が減少していること
を考慮すれば、露光の結果、ケイ素原子に結合していた
メチル基、フルオロアルキル基等の有機基が、水酸基等
の酸素含有基に置換されたものと考えられる。

【０１６５】実施例１１実施例３と同様の方法でナトリウムイオンブロック層を
作製し、次にイソプロピルアルコール３ｇ、オルガノシ
ラン（東芝シリコーン製ＴＳＬ８１１３）０．４ｇ、フ
ルオロアルコキシシラン（トーケムプロダクツ製ＭＦ
−１６０Ｅ：Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピ
ル］−Ｎ−エチルパーフルオロオクタンスルホンアミド
のイソプロピルエーテル５０重量％溶液）０．７５ｇ、
酸化チタン（石原産業製酸化チタン塗布用液ＳＴ−
Ｋ０１：固形分濃度１０重量％）２ｇを混合した。得ら
れた分散液を６０分間、１００℃に保ちながら攪拌し
た。この分散液をスピンコーティング法によりナトリウ
ムイオンブロック層を形成した基体上に塗布した。これ
を１５０℃の温度で１０分間乾燥させることにより加水
分解、重縮合反応を進行させ、光触媒がオルガノシロキ
サン中に強固に固定化された厚さ３μｍの光触媒含有層
を形成することができた。また、光触媒含有層上に格子
状のマスクを介して高圧水銀灯を７０ｍＷ／ｃｍ²の照
度で１０分間紫外線照射を行い、水およびｎ−オクタン
に対する接触角を接触角測定器（協和界面科学製ＣＡ
−Ｚ型）により測定した結果を表４に示す。

【０１６６】実施例１２実施例４と同様の方法で、厚さ０．３μｍの光触媒含有
層を形成した。１００μｍのピッチの遮光層を有するマ
スクを介して、高圧水銀灯を７０ｍＷ／ｃｍ²の照度で
２分間紫外線照射を行った。カラーフィルターの着色画
素形成用の感光性樹脂組成物をディスペンサー（ＥＦＤ
社製１５００ＸＬ）によって滴下すると露光部に濡れ
広がり、画素を形成することができた。

【０１６７】実施例１３イソプロピルアルコール３ｇ、オルガノシラン（東芝シ
リコーン製ＴＳＬ８１１３）０．３ｇ、フルオロアルコ
キシシラン（トーケムプロダクツ製ＭＦ−１６０Ｅ：
Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−エ
チルパーフルオロオクタンスルホンアミドのイソプロピ
ルエーテル５０重量％溶液）０．４５ｇ、酸化チタン
（石原産業製酸化チタン塗布用液ＳＴ−Ｋ０１：固
形分濃度１０重量％）２ｇを混合した。得られた分散液
を２０分間、１００℃に保ちながら攪拌した。この分散
液をスピンコーティング法により厚さ０．３ｍｍのアル
ミニウム基材上に塗布した。これを１５０℃の温度で１
０分間乾燥させることにより加水分解、重縮合反応を進
行させ、光触媒がオルガノシロキサン中に強固に固定化
された厚さ０．５μｍの光触媒含有層を形成した。

【０１６８】得られたパターン形成体を熱板上で種々の
温度に加熱した状態で、超高圧水銀灯（ウシオ電機製
ＵＸＭ−３５００、ＭＬ−４０Ｄ型ランプハウス）か
ら、熱線を取り除いて、２４１ｎｍ〜２７１ｎｍの紫外
光のみを、８．１ｍＷ／ｃｍ²の強度で３００秒間照射
し、水に対する接触角を接触角測定器（協和界面科学製
ＣＡ−Ｚ型）により測定した結果を表２に示すように、
加熱によって光触媒反応が促進されることを示してい
る。

【０１６９】

【表２】

【０１７０】実施例１４実施例３と同様の方法で、縦１０ｃｍ、横１０ｃｍの石
英ガラス上に、光触媒含有層を形成した。光透過部の大
きさが１５０μｍ×３００μｍで、３０μｍの間隔に配
置されたネガ型のフォトマスクを、パターン形成体上
に、密着および１００μｍの間隙を設けて配置して高圧
水銀灯で、３２０ｎｍ〜３９０ｎｍの紫外光を７０ｍＷ
／ｃｍ²の照度で２分間照射した後に、水に対する接触
角を接触角測定器（協和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）によ
り測定し、結果を表３に示す。

【０１７１】

【表３】

【０１７２】実施例１５実施例１４と同様に１００μｍの間隙を設けるととも
に、パターン形成体の露光面上に空気を吹き付けた状態
で同様に露光すると、露光部は７０秒間で、水の接触角
が５゜以下となった。

【０１７３】実施例１６縦１０ｃｍ、横１０ｃｍ、厚さ０．１ｃｍのガラス基材
上に、実施例１０と同様に、プライマー層、光触媒含有
層を形成した。縦、横が１００μｍの遮光部を２０μｍ
の間隔で形成したフォトマスクを介して、高圧水銀灯か
ら、３２０ｎｍ〜３９０ｎｍの紫外光を７０ｍＷ／ｃｍ
²の照度で７分間照射した。

【０１７４】次いで、厚さ１０μｍのポリエステルフィ
ルム上に、熱溶融性インキ層として、以下の組成カーボンブラック（三菱化学工業製＃２５）：２０重量部エチレン−酢酸ビニル共重合体（三井デュポンポリケミカル製）：１０重量部カルナバワックス：１０重量部パラフィンワックス（日本精蝋製ＨＮＰ−１１）：６０重量部からなる熱溶融性インキ組成物層を形成したインキリボ
ンをパターン露光した光触媒含有層上に密着させて、９
０℃に加熱した後に、１５０ｍｍ／秒の速度で、７０度
の角度でインキリボンを引き剥がした。

【０１７５】パターン形成体の未露光部にはインキは付
着せず、露光部のみにインキが転写され、遮光性のパタ
ーンを形成することができた。

【０１７６】実施例１７縦１０ｃｍ、横１０ｃｍ、厚さ０．１ｃｍのガラス基材
上に、実施例１０と同様に、プライマー層、光触媒含有
層を形成したパターン形成体を作製した。得られたパタ
ーン形成体に５μｍの幅の線を線幅と同じ間隔を設けて
形成したフォトマスクを介して、高圧水銀灯から、３２
０〜３９０ｎｍの紫外光を７０ｍＷ／ｃｍ²の照度で７
分間照射した。

【０１７７】次いで、光照射したパターン形成体を化学
めっき用のセンシタイザー液（上村工業製ガラス・セ
ラミック用Ｓ−１０Ｘ）を希釈した１２．５ｍｌ／ｌの
濃度の液に２５℃において２０秒間揺動しながら浸漬し
た後に、水洗後、還元触媒付与液（上村工業製パラジ
ウムコロイド触媒Ａ−１０Ｘ）を希釈した１２．５ｍ
ｌ／ｌの濃度の液に２５℃において２０秒間揺動しなが
ら浸漬した後に、８０℃の無電解ニッケルめっき液（上
村工業製ニムデンＬＰＸ）に１時間揺動浸漬処理する
ことによって、露光部に膜厚０．５μｍのニッケル層を
形成することができた。

【０１７８】更に、９０℃の無電解金めっき浴（上村工
業製ＥＬＧＢ５１１）に、５分間揺動しながら浸漬し
て、ニッケルパターン上に厚さ０．１μｍの金層を形成
し、更に６０℃の厚付用無電解金めっき浴（上村工業製
ＧＯＢＥＬ２Ｍ）に１時間揺動しながら浸漬して、膜
厚２μｍの金を形成した。

【０１７９】実施例１８縦１０ｃｍ、横１０ｃｍ、厚さ０．１ｃｍの石英ガラス
基材上に、実施例４と同様の組成物をスピンコートして
膜厚０．４μｍの光触媒層を形成した。次いで、開口部
が２３μｍ×１２μｍの長方形のパターンを形成したフ
ォトマスクを介して水銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ²
の照度で９０秒間露光し、光触媒含有層上に表面エネル
ギーの高い長方形のパターンが形成された透明基材を得
た。

【０１８０】次いで、得られた透明基材の全面に真空度
１×１０^-5Ｔｏｒｒ、蒸着速度１ｎｍ／秒の速度で以下
の化学構造式を有するペリレン系顔料の薄膜を真空蒸着
した。次いで、薄膜の表面をアセトンにて洗浄したとこ
ろ、露光部と未露光部の接着性の違いにより、未露光部
のみ蒸着膜が剥離し、２３μｍ×１２μｍの長方形の赤
色顔料の長方形のパターンを形成することができた。

【０１８１】

【化４】

【０１８２】実施例１９厚さ１００μｍのポリイミドフィルム上に、実施例４と
同様の組成物をスピンコートして膜厚０．４μｍの光触
媒含有層を形成した。これに、幅５０μｍで描画された
回路パターンを有するネガ型フォトマスクを介して、水
銀ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ²の照度で９０秒間露光
し、光触媒含有層上に表面エネルギーの高い部分が形成
された透明基材を得た。

【０１８３】次いで、得られた透明基材の全面に真空度
１×１０^-5Ｔｏｒｒ、蒸着速度４ｎｍ／秒の速度でアル
ミニウムを真空蒸着した。次いで、アルミニウム薄膜の
表面を、セロハン粘着テープ（セキスイ製ＪＩＳＺ
１５２２）によって１３５度、３００ｍｍ／秒の速度で
引き剥がしたところ、露光部と未露光部のアルミニウム
薄膜の接着性の違いにより露光部と未露光部のアルミニ
ウム薄膜と透明基材との接着性の違いにより、未露光部
のみ蒸着膜が剥離し、幅５０μｍ、膜厚０．１μｍの幅
の回路の形成された回路パターンを得ることができた。

【０１８４】実施例２０石英ガラス上に、実施例４と同様の組成物をスピンコー
トして膜厚０．３μｍの光触媒含有層を形成した。光触
媒含有層上に開口部直径５ｍｍのマスクを介して、水銀
ランプにより７０ｍＷ／ｃｍ²の照度で２分間紫外線照
射を行った。

【０１８５】得られた光触媒含有層上に、表面張力が既
知の種々の液体を滴下して、接触角を接触角測定器（協
和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）によって測定して、Ｚｉｓｍ
ａｎプロットによって臨界表面張力を求めたところ、未
露光部の臨界界面張力は、１４．６ｍＮ／ｍ、露光部で
は７２．３ｍＮ／ｍであった。

【０１８６】次いで、紫外線硬化型モノマー（荒川工業
製ビームセット７７０）１００重量部、硬化開始剤
（チバスペシャリティケミカルズ製イルガキュア１７０
０）５重量部を混合した組成物を作製した。

【０１８７】得られた紫外線硬化型モノマー組成物の表
面張力を表面張力計（協和界面科学製ＰＤ−Ｚ型）に
よって測定したところ、３５ｍＮ／ｍであった。また、
粘度を粘度計（秩父小野田製ＣＪＶ５０００）にて測
定したところ、４．３ｍＰａ・秒であった。この紫外線
硬化型モノマーを、露光済みの光触媒含有層上にスピン
コートによって全面塗布した。

【０１８８】未露光部は、紫外線硬化型モノマー組成物
を反撥し、露光部のみに選択的に塗布された。次いで、
高圧水銀灯により７０ｍＷ／ｃｍ²の照度で３分間紫外
線照射したところ、紫外線で硬化した樹脂の直径５ｍｍ
の円形パターンが得られた。

【０１８９】比較例１市販のオフセット印刷用原版でサーマルプレートＰｅａ
ｒｌｄｒｙ（Ｐｒｅｓｓｔｅｋ製）を用いて実施例３
と同様に特性を評価をし、その結果を表４に示す。

【０１９０】比較例２市販のオフセット印刷用原版で水なしオフセット版Ｈ
ＧＩＩ（東レ製）を用いて実施例３と同様に特性を評価
をし、その結果を表４に示す。

【０１９１】比較例３フルオロアルキルシランを用いなかった点を除き実施例
４と同様の方法で光触媒含有層を形成し、実施例４と同
様にして光触媒含有層の特性を評価し、その結果を表４
に示す。

【０１９２】比較例４実施例３と同様の方法でナトリウムイオンブロック層を
作製し、次にイソプロピルアルコール３ｇ、オルガノシ
ラン（東芝シリコーン製ＴＳＬ８１１３）２．２ｇ、フ
ルオロアルコキシシラン（トーケムプロダクツ製ＭＦ
−１６０Ｅ：Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピ
ル］−Ｎ−エチルパーフルオロオクタンスルホンアミド
のイソプロピルエーテル５０重量％溶液）０．１５ｇ、
酸化チタン粉末（石原産業製ＳＴ−４１平均粒径５
０ｎｍ）０．２ｇを混合した。得られた分散液を２０分
間、１００℃に保ちながら攪拌した。この分散液をスピ
ンコーティング法によりナトリウムイオンブロック層を
形成した基体上に塗布した。これを１５０℃の温度で１
０分間乾燥させることにより加水分解、重縮合反応を進
行させ、光触媒がオルガノシロキサン中に強固に固定化
された厚さ３μｍの光触媒含有層を形成することができ
た。得られた光触媒含有層の表面の平均粗さを、実施例
１と同様に、触針法により測定したところ、Ｒａ＝３０
ｍであった。また、光触媒含有層上に格子状のマスクを
介して高圧水銀灯を７０ｍＷ／ｃｍ²の照度で５分間紫
外線照射を行い、水およびｎ−オクタンに対する接触角
を接触角測定器（協和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）により
測定した結果を表４に示す。

【０１９３】

【表４】

【０１９４】実施例２１厚さ０．１５ｍｍの脱脂したアルミニウム板上に、プラ
イマー層形成用組成物（関西ペイント製カンコート９
０Ｔ−２５−３０９４）の２０重量％ジメチルホルムア
ミド溶液を塗布し、２００℃において１分間乾燥し、３
μｍのプライマー層を得た。

【０１９５】次いで、イソプロピルアルコール３ｇ、オ
ルガノシラン（東芝シリコーン製ＴＳＬ８１１３）４．
２ｇ、酸化チタン粉末（石原産業製ＳＴ−０１平均
粒径７ｎｍ）０．２ｇを混合した。得られた分散液を６
０分間、１００℃に保ちながら攪拌した。この分散液を
スピンコーティング法によりプライマー層を形成した基
体上に塗布した。これを１５０℃の温度で５分間乾燥さ
せることにより加水分解、重縮合反応を進行させ、膜形
成を行った。

【０１９６】次いで、高圧水銀灯を７０ｍＷ／ｃｍ²の
照度で１０分間紫外線照射を行い、水およびｎ−オクタ
ンに対する接触角を接触角測定器（協和界面科学製Ｃ
Ａ−Ｚ型）により測定した結果を表５に示す。

【０１９７】

【表５】

【０１９８】また、この水あり平版印刷版原版に１７５
線／インチで２％から９８％の網点を有するグラデーシ
ョンポジマスクを介して上記水銀ランプにより露光し、
パターンを形成した。

【０１９９】次いで、得られた印刷版をオフセット印刷
機（アルファー技研製アルファーニューエース）に取
り付け、印刷インキ（ザ・インクテック製エイクロス
紅）および湿し水（日研化学製クリーンエッチ液２０
倍水希釈）を用いて５０００枚／時の印刷速度で、コー
ト紙に印刷を行ったところ２万枚の良好な印刷物が得ら
れた。

【０２００】実施例２２テトラエトキシシランＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄の２．７ｇ、
エタノール３８．７ｇ、２Ｎ塩酸４．５ｇを混合し、１
０分間撹拌した。この溶液をスピンコーティング法によ
り、基材に塗布し、８０℃の温度で３０分間乾燥し、厚
さ０．２μｍのナトリウムイオンブロック層を形成し
た。

【０２０１】テトラエトキシシランＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄
０．６２ｇ、チタニアゾル（日産化学製ＴＡ−１
５）０．９６ｇ、エタノール２６．８９ｇ、純水０．３
２ｇを混合し、１０分間撹拌した。この分散液をスピン
コーティング法により、ナトリウムイオンブロック層を
形成した基材上に塗布した。これを１５０℃の温度で３
０分間乾燥することにより、加水分解、重縮合反応を進
行させ、高表面エネルギーであり、光触媒がシリカ中に
強固に固定された厚さ０．２μｍの光触媒含有組成物層
を作製し、試料１とした。

【０２０２】次に、オリーブ油をシクロヘキサノンに溶
解した５重量％の濃度の溶液をスピンコーティング法に
より試料１の光触媒含有組成物層上に、塗布量が１ｇ／
ｍ²となるように塗布し、８０℃の温度で１０分間乾燥
し、低表面エネルギーの有機物層を作製し、試料２とし
た。

【０２０３】得られた試料１および試料２に水銀灯を２
３０ｍＷ／ｃｍ²の照度で５分間紫外線照射を行い、水
に対する接触角を接触角測定器（協和界面科学製ＣＡ
−Ｚ型）により測定した。結果を表６に示す。試料２の
有機物層が光触媒作用により、分解除去され、有機物の
塗布前の試料１の状態に戻ることがわかり、親水性を有
する層を形成した試料１については、光照射の前後にお
いて、ほとんど濡れ性には変化しなかった。

【０２０４】

【表６】

【０２０５】また、試料１表面上にポリビニルアルコー
ル（日本合成化学製ゴーセノールＡＨ−２６）２重量
％水溶液を厚さ０．２μｍでスピンコーターにより塗布
後、８０℃で４５分間加熱し膜形成を行った。次いで、
水銀灯により２３０ｍＷ／ｃｍ² の照度で８分間紫外線
照射を行い、水の接触角を接触角測定器（協和界面科学
製ＣＡ−Ｚ型）により測定したところ、露光前は６２
゜、露光後は５゜以下であった。

【０２０６】実施例２３両末端水酸基ポリジメチルシロキサン（重合度７００）
９４．９９重量％、メチルトリアセトキシシラン５重量
％、ジブチル錫ジラウリルレート０．０１重量％をアイ
ソパーＥ（エクソン社製）に溶解した５重量％の濃度の
溶液をスピンコーティング法により実施例２２に記載の
試料１上に膜厚０．２μｍとなるように塗布し、１００
℃の温度で１０分間乾燥し膜形成した。

【０２０７】次いで、水銀灯で５０ｍＷ／ｃｍ²の照度
で１分間照射したところ、水の接触角にして１３０゜か
ら５゜以下に濡れ性が変化した。

【０２０８】厚さ０．１５ｍｍの脱脂したアルミニウム
板上に、プライマー層形成用組成物（関西ペイント製
カンコート９０Ｔ−２５−３０９４）の２０重量％ジメ
チルホルムアミド溶液を塗布し、２００℃において１分
間乾燥し、３μｍのプライマー層を得た。

【０２０９】次いで、このプライマー層の上に、実施例
２２記載の光触媒含有層および濡れ性の変化する物質層
を形成し、水なし印刷版原版を得た。

【０２１０】次いで、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー（３５５ｎ
ｍラムダフィジックＳｔａｒＬｉｎｅ）を用い、記
録エネルギーは、２００ｍＪ／ｃｍ²としてパターン形
成を行った。得られた印刷版をオフセット印刷機（アル
ファー技研製アルファーニューエース）に取り付け、
水なし印刷用インキ（ザ・インクテック製インクテッ
クウォーターレスＳ黄）を用いて、５０００枚／時の印
刷速度でコート紙に印刷を行ったところ２万枚の良好な
印刷物が得られた。

【０２１１】実施例２４縦１０ｃｍ、横１０ｃｍ、厚さ０．１ｃｍのソーダライ
ムガラス基材上に、実施例２２と同様のナトリウムブロ
ック層を形成した。得られた層上に、テトラエトキシチ
タン（Ｔｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄）１ｇ、エタノール９ｇ、塩
酸０．１ｇを混合した溶液をスピンコーティングによっ
て塗布した。

【０２１２】次いで、１５０℃で１０分間の加熱を行
い、厚さ０．１μｍの無定形チタニア層を形成した。無
定形チタニア層を４００℃で１０分間の加熱を行って、
アナターゼ型チタニア層に相変化させた。

【０２１３】次いで、チタニア層上に実施例２３と同様
の濡れ性が変化する層を形成し、５０ｌｐ／ｍｍの解像
度のチャートマスクを介して水銀灯で５０ｍＷ／ｃｍ²
の照度で２分間照射した。

【０２１４】次いで、水なし印刷用インキ（ザ・インク
テック製インクテックウォーターレスＳ黄）を、ＲＩ
テスター（石川島産業機械製ＲＩ−２型）を用いて、
得られた露光済みパターン形成体上に全面塗布した。そ
の結果、未露光部は撥油性によりインキをはじき、露光
部のみに選択的に塗布されたた黄色のパターンが得られ
た。

【０２１５】実施例２５実施例１と同様の方法でナトリウムイオンブロック層を
有するガラス基材を作製した。次に、界面活性剤（日本
サーファクタント工業製ＢＬ−２）０．１４ｇ、テト
ラエトキシシランＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄ ０．６２ｇ、チ
タニアゾル（日産化学製ＴＡ−１５）０．９６ｇ、エ
タノール２６．８９ｇ、水０．３２ｇを混合し、１０分
間攪拌した。この分散液をスピンコーティング法によ
り、厚さ０．２μｍのナトリウムイオンブロック層を有
する基材上に塗布した。

【０２１６】次いで、１５０℃の温度で３０分間乾燥す
ることにより、加水分解、重縮合反応を進行させ、光触
媒および界面活性剤がシリカ中に強固に固定された厚さ
０．２μｍの光触媒含有組成物層を作製した。得られた
試料に、キセノンランプを３ｍＷ／ｃｍ²の照度で紫外
線照射を行い、水に対する接触角の経時変化を接触角測
定器（協和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）により測定した。
結果を図８に示す。図より、照射前６３゜であった接触
角が照射時間とともに減少し、約８０分間で６゜まで下
がることが確認された。

【０２１７】実施例２６シリカゾルであるグラスカＨＰＣ７００２（日本合成ゴ
ム）３ｇ、アルキルアルコキシシランであるＨＰＣ４０
２Ｈ（日本合成ゴム）１ｇを混合し、５分間攪拌した。
この溶液をスピンコーティング法により厚さ０．１５ｍ
ｍのアルミニウム製の基材に塗布し、膜厚２μｍのプラ
イマー層を形成した。

【０２１８】次いで、プライマー層上に実施例２３記載
の光触媒含有層を形成し、印刷版原版を得た。

【０２１９】得られた印刷版原版を水あり平版印刷版原
版として、１７５線／インチで２％から９８％の網点を
有するグラデーションポジフイルムを介して上記キセノ
ンランプにより露光し、パターンの形成をした。

【０２２０】次いで得られた印刷版をオフセット印刷機
（アルファー技研製アルファーニューエース）に取り
付け、オフセット印刷用インキ（ザ・インクテック製
エイクロス紅）および湿し水を用いて、５０００枚／時
の印刷速度でコート紙に印刷を行ったところ２万枚の良
好な印刷物が得られた。

【０２２１】実施例２７石英ガラス製の透明基材上に、実施例４と同様の組成物
をスピンコーティングによって膜厚０．４μｍの光触媒
含有層を形成した。次いで、開口部直径９ｍｍの円形パ
ターンを有するマスクを介して水銀灯により７０ｍＷ／
ｃｍ²の照度で９０秒間露光し、表面に濡れ性の高い円
形パターンが施された透明基材を得た。

【０２２２】水溶性紫外線硬化性エステルアクリレート
樹脂（荒川工業製ＡＱ−７）１０００ｇ、硬化開始剤
（チバスペシャリティケミカルズ製イルガキュア１８
４）５０ｇ、水２５ｇを混合し、３分間攪拌した。得ら
れた混合液をマイクロシリンジにて、透明基材上に形成
された濡れ性の異なる円形パターンの中心に３０μｌを
滴下した。

【０２２３】次いで、水銀灯により７０ｍＷ／ｃｍ²の
照度で１０秒間照射して、直径９ｍｍ、焦点距離４５ｍ
ｍのレンズを作製した。

【０２２４】実施例２８石英ガラス製の透明基材上に、実施例４と同様の組成物
をスピンコーティングによって膜厚０．４μｍの光触媒
含有層を形成した。次いで、開口部直径１ｍｍの円形パ
ターンを有するマスクを介して水銀灯により７０ｍＷ／
ｃｍ²の照度で９０秒間露光し、表面に濡れ性の高い円
形パターンが施された透明基材を得た。

【０２２５】水溶性紫外線硬化性エステルアクリレート
樹脂（荒川工業製ＡＱ−７）１０００ｇ、硬化開始剤
（チバスペシャリティケミカルズ製イルガキュア１８
４）５０ｇ、水１２５ｇを混合し、３分間攪拌した。得
られた混合液をスピンコーティングによって、透明基材
上に形成された濡れ性の異なる円形パターン上に膜厚２
０μｍの厚さで塗布したところ、円形部分のみに混合液
が付着した。次いで、水銀灯により７０ｍＷ／ｃｍ²の
照度で３秒間照射して、直径１ｍｍ、焦点距離２．５ｍ
ｍのレンズを作製した。

【０２２６】実施例２９厚さ０．２３ｍｍの脱脂したアルミニウム板をプライマ
ー（関西ペイント製金属用プライマー塗料カンコート
９０Ｔ−２５−３０９４）２０重量％ジメチルホルムア
ミド溶液を塗布し、２００℃で１分間乾燥し、３μｍの
プライマー層を形成した。

【０２２７】次いで、このプライマー層の上に、両末端
ＯＨ変性ポリジメチルシロキサン（信越化学製Ｘ−２
２−１６０ＡＳ官能基当量１１２）９ｇ、架橋剤（ポ
リイソシアネート日本ポリウレタン製コロネート
Ｌ）１ｇ、ジラウリル酸ブチル錫０．０５ｇ、酸化チタ
ン粉末（石原産業ＳＴ−０１粒径７ｎｍ）１ｇ、
１，４−ジオキサン５ｇ、イソプロパノール５ｇからな
る組成物を塗布し、１２０℃で２分間乾燥し、厚さ１μ
ｍの光触媒含有層を形成し、印刷版原版を得た。得られ
た光触媒含有層の表面の平均粗さを触針法により測定し
たところ、Ｒａ＝２ｎｍであった。

【０２２８】次いで、２４８ｎｍのエキシマーレーザを
２００ｍＪ／ｃｍ²の強度で照射し、パターンを形成
し、光触媒反応を起こした。

【０２２９】この照射部に水及びｎ−オクタンに対する
接触角を接触角測定器（協和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）に
より測定したところ濡れ性の差違を確認することができ
た。その測定結果を表７に示す。

【０２３０】実施例３０実施例２９で作製した印刷版をオフセット印刷機（小森
スプリント４色機）に取りつけ、印刷インキ（大日本イ
ンキ化学工業製ドライオカラー藍インキ）を用いてコー
ト紙に印刷を行ったところ良好な印刷物が得られた。

【０２３１】実施例３１実施例２９と同様の方法で、厚さ０．２３ｍｍのアルミ
ニウム基板上に、プライマー層を形成し、次いで、この
プライマー層の上に、両末端ＯＨ変性ポリジメチルシロ
キサン（信越化学製Ｘ−２２−１６０ＡＳ）８ｇ、ポ
リジメチルシロキサン（信越化学製ＫＦ９６）１ｇ、
架橋剤（ポリイソシアネート日本ポリウレタン製コ
ロネートＬ）１ｇ、ジラウリン酸ジブチル錫０．０５
ｇ、酸化チタン粉末（石原産業ＳＴ−０１粒径７ｎ
ｍ）１ｇ、トルエン５ｇ、イソプロパノール５ｇからな
る組成物を塗布し、１５０℃で２分間乾燥し、厚さ１μ
ｍの光触媒含有層を形成し、印刷版原版を得た。

【０２３２】得られた光触媒含有層の表面の平均粗さを
触針法により測定したところ、Ｒａは２ｎｍであった。

【０２３３】次いで、２４８ｎｍのエキシマーレーザを
２００ｍＪ／ｃｍ²の強度で照射し、パターンを形成
し、光触媒反応を起こした。

【０２３４】光照射部の水及びｎ−オクタンに対する接
触角を接触角測定器（協和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）によ
り測定したところ濡れ性の差違を確認することができ
た。その測定結果を表７に示す。

【０２３５】また、実施例３０と同様に、印刷版をオフ
セット印刷機（小森スプリント４色機）に取りつけ、印
刷インキ（大日本インキ化学工業製ドライオカラー藍イ
ンキ）を用いてコート紙に印刷を行ったところ良好な印
刷物が得られた。

【０２３６】実施例３２シリカゾル（日本合成ゴム製グラスカＨＰＣ７００
２）３ｇ、アルキルアルコキシシラン（日本合成ゴム製
ＨＰＣ４０２Ｈ）１ｇを混合し、５分間撹拌した。こ
の溶液をスピンコーティング法により面積が７．５ｃｍ
²のガラス製の基材に塗布し、膜厚２μｍのナトリウム
イオンブロック層を形成した。

【０２３７】次にイソプロピルアルコール３ｇ、シリカ
ゾル（日本合成ゴム製グラスカＨＰＣ７００２）０．
７５ｇ、アルキルアルコキシシラン（日本合成ゴム製
グラスカＨＰＣ４０２Ｈ）０．２５ｇ、フルオロアルコ
キシシラン（トーケムプロダクツ製ＭＦ−１６０Ｅ：
Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−エ
チルパーフルオロオクタンスルホンアミドのイソプロピ
ルエーテル５０重量％溶液）０．１５ｇを混合した。得
られた分散液を２０分間、１００℃に保持しながら撹拌
した。その後、酸化チタン（石原産業製酸化チタン塗
布用液ＳＴ−Ｋ０１：固形分濃度１０重量％）を２ｇ
添加し、さらに３０分間撹拌した。

【０２３８】この分散液を先に作製したナトリウムブロ
ック層を形成した基材上にスピンコーティング法により
塗布した。これを１５０℃の温度で１０分間乾燥するこ
とにより、加水分解、重縮合反応を進行させ、光触媒が
オルガノポリシロキサンによって強固に固定化された膜
厚３μｍの光触媒含有層を形成した。

【０２３９】次いで、光触媒含有層上に、両末端ＯＨ変
性ポリジメチルシロキサン（信越化学製Ｘ−２２−１
６０ＡＳ）１ｇ、シリカゾル（日本合成ゴム製グラス
カＨＰＣ７００２）２ｇ、アルキルアルコキシシラン
（日本合成ゴム製ＨＰＣ４０２Ｈ）１ｇを混合し５分
間攪拌した分散液を塗布し、これを１５０℃の温度で２
０分間乾燥し、乾燥膜厚が０．５μｍのパターン形成体
を得た。

【０２４０】得られたパターン形成体の表面の平均粗さ
を触針法により測定したところ、Ｒａ＝２ｎｍであっ
た。

【０２４１】次いで、３６５ｎｍのＹＡＧレーザを２０
０ｍＪ／ｃｍ²の強度で照射し、パターンを形成し、光
触媒反応を起こした。

【０２４２】光照射部の水及びｎ−オクタンに対する接
触角を接触角測定器（協和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）によ
り測定し、測定結果を表７に示す。

【０２４３】また、実施例２７と同様に、印刷用原版を
オフセット印刷機（小森スプリント４色機）に取りつ
け、印刷インキ（大日本インキ化学工業製ドライオカラ
ー藍インキ）を用いてコート紙に印刷を行ったところ良
好な印刷物が得られた。

【０２４４】実施例３３実施例２９と同様の方法で、厚さ０．２３ｍｍのアルミ
ニウム基板上に、プライマー層を形成し、このプライマ
ー層の上に、エマルジョン型の付加反応型ポリジメチル
シロキサン（信越化学製ＫＭ−７６８有効成分３０
％）０．７６ｇ、水１．３４ｇ、酸化チタンゾル（石原
産業ＳＴＳ−０１粒径７ｎｍ）１ｇ、付加反応型用
触媒（ＰＭ−６Ａ）０．００８ｇ、付加反応型用触媒
（ＰＭ−６Ｂ）０．０１２ｇを混合して、塗布後１６０
℃で１分間乾燥し、厚さ１μｍの光触媒含有層を得た。

【０２４５】また、マスクを密着させ高圧水銀灯を７０
ｍｗ／ｃｍ²の照度で１０分間紫外線照射をおこない、
光触媒反応をさせた後に、水およびｎ−オクタンに対す
る接触角を接触角測定器（協和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）
により測定した結果を表７に示す。

【０２４６】実施例３４厚さ０．２３ｍｍの脱脂したアルミニウム板上にプライ
マー（関西ペイント製金属用プライマー塗料カンコー
ト９０Ｔ−２５−３０９４）２０重量％ジメチルホルム
アミド溶液を塗布し、２００℃で１分間乾燥し、３μｍ
のプライマー層を形成した。

【０２４７】シリカゾル（日本合成ゴム製グラスカＨ
ＰＣ７００２）３ｇ、アルキルアルコキシシラン（日本
合成ゴム製ＨＰＣ４０２Ｈ）１ｇを混合し、攪拌機に
より５分間攪拌した。先に形成したプライマー層上にこ
の溶液をブレードコーターで塗布し、１００℃で１０分
間乾燥を行った。

【０２４８】次にイソプロピルアルコール３ｇ、シリカ
ゾル（日本合成ゴム製グラスカＨＰＣ７００２固形
分１２％）０．７５ｇ、アルキルアルコキシシラン（日
本合成ゴム製ＨＰＣ４０２Ｈ固形分５０％）０．２
５ｇ、フルオロアルコキシシラン（トーケムプロダクツ
製ＭＦ−１６０Ｅ：Ｎ−［３−（トリメトキシシリ
ル）プロピル］−Ｎ−エチルパーフルオロオクタンスル
ホンアミドのイソプロピルエーテル５０重量％溶液）
０．１５ｇ、ジメトキシジメチルシラン（東芝シリコー
ン製ＴＳＬ８１１２）０．１５ｇを混合した。この溶
液を２０分、１００℃に保ちながら攪件した。その後、
酸化チタン塗布溶液（石原産業製ＳＴ−Ｋ０１：固形
分濃度１０％）２ｇを添加し、更に３０分間攪拌し、得
られた分散液をスピンコーティングにより塗布した。

【０２４９】次いで、１５０℃で１０分間乾燥すること
により、加水分解、重縮合反応を進行させ、光触媒がオ
ルガノポリシロキサンによって強固に固定化された膜厚
３μｍの層を形成してパターン形成体を得た。

【０２５０】形成された層中のジメチルシロキサン単位
は４０％であった。また、得られたパターン形成体を触
針法により測定したところ表面粗さＲａは２ｎｍであっ
た。

【０２５１】次いで、このパターン形成体に格子状のマ
スクを介して高圧水銀灯で７０ｍＷ／ｃｍ²の照度で５
分間紫外線照射を行い、水及びｎ−オクタンに対する接
触角を接触角測定器（協和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）によ
り測定した結果を表１に示す。また、パターンを形成
したパターン形成体をオフセット印刷機（小森スプリン
ト４色機）に取付けて、水なし印刷インク（大日本イン
キ化学工業製ドライオカラー藍インク）を用いてコー
ト紙に印刷を行ったところ良好な印刷物が得られた。

【０２５２】実施例３５実施例３４と同様の方法で作製したパターン形成体に、
３５５ｎｍのＹＡＧレーザーを２００ｍＪ／ｃｍ²の強
度でパターン状に照射して光触媒反応を行った。光照
射部の水およびｎ−オクタンに対する接触角を接触角測
定器（協和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）により測定した結果
を表７に示す。

【０２５３】また、パターンを形成したパターン形成体
をオフセット印刷機（小森スプリント４色機）に取付け
て、水なし印刷インク（大日本インキ化学工業製ドラ
イオカラー藍インク）を用いてコート紙に印刷を行った
ところ良好な印刷物が得られた。

【０２５４】実施例３６光触媒含有層に用いたジメトキシジメチルシラン（東芝
シリコーン製ＴＳＬ８１１２）の量を０．０３ｇとし
て、ジメチルシロキサン単位を１０％とした点を除き実
施例３１と同様にしてパターン形成体を作製し、実施例
３１と同様に評価をし、その結果を表７に示す。

【０２５５】また、実施例３１と同様にしてコート紙に
印刷を行ったところ地汚れがない良好な印刷物が得られ
た。

【０２５６】実施例３７厚さ０．２３ｍｍの脱脂したアルミニウム板上にプライ
マー（関西ペイント製金属用プライマー塗料カンコー
ト９０Ｔ−２５−３０９４）２０重量％ジメチルホルム
アミド溶液を塗布し、２００℃で１分間乾燥し、３μｍ
のプライマー層を形成した。

【０２５７】シリカゾル（日本合成ゴム製グラスカＨ
ＰＣ７００２）３ｇ、アルキルアルコキシシラン（日本
合成ゴム製ＨＰＣ４０２Ｈ）１ｇを混合し、攪拌機に
より５分間攪拌した。先に形成したプライマー層上にこ
の溶液をブレードコーターで塗布し、１００℃で１０分
間乾燥を行った。

【０２５８】次にイソプロピルアルコール３ｇ、シリカ
ゾル（日本合成ゴム製グラスカＨＰＣ７００２）０．
７５ｇ、アルキルアルコキシシラン（日本合成ゴム製
ＨＰＣ４０２Ｈ）０．２５ｇ、フルオロアルコキシシラ
ン（トーケムプロダクツ製ＭＦ−１６０Ｅ：Ｎ−［３−
（トリメトキシシリル）プロピル］−Ｎ−エチルパーフ
ルオロオクタンスルホンアミドのイソプロピルエーテル
５０重量％溶液）０．１５ｇ、ジメトキシジメチルシラ
ン０．３０ｇを混合した。この溶液を２０分間、１００
℃に保ちながら攪件した。その後、酸化チタン塗布溶液
（石原産業製ＳＴ−Ｋ０１：固形分濃度１０％）２ｇを
添加し、更に３０分間攪拌し、得られた分散液をスピン
塗布によって塗布した。

【０２５９】さらに、得られた層上に、イソプロピルア
ルコール３ｇ、シリカゾル（日本合成ゴム製グラスカ
ＨＰＣ７００２）３ｇ、アルキルアルコキシシラン（日
本合成ゴム製ＨＰＣ４０２Ｈ）１ｇを混合し、５分間
攪件した。得られた分散液を塗布して０．２μｍの塗布
層を形成しパターン形成体を得た。

【０２６０】次いで、得られたパターン形成体に格子状
のマスクを介してＹＡＧレーザーで２００ｍＪ／ｃｍ²
のエネルギー密度で露光を行ってパターンを形成した印
刷版を作製した。水及びｎ−オクタンに対する接触角を
接触角測定器（協和界面科学製ＣＡ−Ｚ型）により測定
した結果を表１に示す。

【０２６１】また、パターンを形成したパターン形成体
をオフセット印刷機（小森スプリント４色機）に取付け
て、水なし印刷インク（大日本インキ化学工業製ドラ
イオカラー藍インク）を用いてコート紙に印刷を行った
ところ良好な印刷物が得られた。

【０２６２】比較例５基材をプライマーによって処理しなかった点を除き、実
施例２９と同様に刷版済みの印刷版を作製し、実施例３
０と同様に印刷機に取り付けたところアルミ基材から部
分的に光触媒含有層が剥がれ落ち密着性が不十分であっ
た。また、カッターによってクロスカットをしたメンデ
ィングテープ（住友スリーエム社製スコッチメンディン
グテープ）によって剥離試験をおこなったところプライ
マー層があるものは剥離を起こさないが、プライマー層
がないものは剥離を起こした。

【０２６３】比較例６市販のオフセット印刷用原版でサーマルプレートＰｅａ
ｒｌｄｒｙ（Ｐｒｅｓｓｔｅｋ製）を用いて実施例２
９と同様に特性を評価をし、その結果を表７に示す。

【０２６４】比較例７市販のオフセット印刷用原版で水なしオフセット版Ｈ
ＧＩＩ（東レ製）を用いて実施例２９と同様に特性を評
価をし、その結果を表７に示す。

【０２６５】比較例８光触媒含有層に用いたジメトキシジメチルシラン（東芝
シリコーン製ＴＳＬ８１１２）の量を０．２ｇとし
て、ジメチルシロキサン単位を５０％とした点を除き実
施例３４と同様にしてパターン形成体を作製し、光触媒
含有層の表面の膜面を触針法によって測定したところ表
面粗さＲａは５００ｎｍであり、光触媒含有層の表面が
乱れ、印刷用の版面を作製することができなかった。

【０２６６】比較例９光触媒含有層に用いたジメトキシジメチルシラン（東芝
シリコーン製ＴＳＬ８１１２）の量を０．０１ｇとし
て、ジメチルシロキサン単位を５％とした点を除き実施
例３１と同様にしてパターン形成体を作製し、実施例３
１と同様に評価をし、その結果を表７に示す。また、触
針法によって測定した表面粗さＲａは、５０ｎｍであっ
た。

【０２６７】また、実施例３４と同様にしてコート紙に
印刷を行ったところ地汚れが生じた。

【０２６８】

【表７】

【０２６９】

【発明の効果】本発明のパターン形成体は、基材上に光
触媒含有組成物層を形成したので、光照射の際の光触媒
の作用により、表面の濡れ性を変化させることによっ
て、パターンの形成が可能であるので、現像等の工程を
経ずに、パターンの形成が可能であり、印刷版原版、機
能性素子をはじめとした多くの用途に使用することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の一実施例を説明する図であ
る。

【図２】図２は、本発明の他の実施例を説明する図であ
る。

【図３】図３は、本発明の他の実施例を説明する図であ
る。

【図４】図４は、本発明の他の実施例を説明する図であ
る。

【図５】図５は、本発明のパターン形成用材料の光照射
時間と濡れ性の関係を説明する図である。

【図６】図６は、本発明の他の実施例を説明する図であ
る。

【図７】図７は、本発明の他の実施例を説明する図であ
る。

【図８】図８は、本発明のパターン形成用材料の光照射
時間と濡れ性の関係を説明する図である。

【図９】図９は、本発明の素子の作製方法の一実施例を
説明する図である。

【図１０】図１０は、本発明の素子の作製方法の他の実
施例を説明する図である。

【図１１】図１１は、本発明の素子の作製方法の他の実
施例を説明する図である。

【図１２】図１２は、本発明の素子の作製方法の他の実
施例を説明する図である。

【符号の説明】

１…パターン形成体、２…基材、３…プライマー層、
４，４１，４２，４３，４４…光触媒含有層、５…パタ
ーン、６…露光、７…光触媒、８…親水性部位、９…疎
水性部位、１０…濡れ性変化物質層、１１…濡れ性が異
なる部位、１２…分解除去される物質層、１３…濡れ性
が異なる部位、１４…疎水性部分、１５…親水性部位、
１６…光触媒分解性物質、１７…パターンに応じて変化
した部位、１８…ストライプ状のパターン、１９…格子
状の遮光性パターン、２０…フォトマスク、２１…レー
ザ、２２…ブレードコータ、２３…スピンコータ、２４
…真空を利用した成膜手段、２５…機能性層、２６…粘
着テープ、２７…空気噴射ノズル、２８…機能性層、２
９…素子形成用基材、３０…シート、３１…熱溶融性組
成物層、３２…熱転写体、３４…加熱板、３５…吐出ノ
ズル、３６…紫外線硬化性樹脂組成物、３８…硬化用紫
外線、３８…マイクロレンズ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号特願平10−85955 (32)優先日平成10年３月31日(1998．3．31) (33)優先権主張国日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号特願平10−86293 (32)優先日平成10年３月31日(1998．3．31) (33)優先権主張国日本（ＪＰ） (72)発明者彦坂眞一東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内 (72)発明者山本学東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内Ｆターム(参考） 2H025 AB03 AC01 AD01 AD03 BB00 BH03 CB32 CB41 2H084 AA30 AA40 AE03 BB02 CC05 2H096 AA06 BA13 HA07 LA30 2H114 AA05 AA11 AA14 AA22 BA01 DA08 DA15 DA23 DA38 DA39 DA52 DA57 DA72 DA73 EA03 EA06 FA16 GA34 GA38

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光学的にパターンを形成するパターン形
成体において、基材上に光触媒含有層を有し、光触媒含
有層は、パターンの露光によって光触媒の作用により濡
れ性が変化する物質を含有することを特徴とするパター
ン形成体。
【請求項２】光学的にパターンを形成するパターン形
成体において、基材上に光触媒含有層を有し、光触媒含
有層上に、パターンの露光によって光触媒の作用により
分解除去される層を有することを特徴とするパターン形
成体。
【請求項３】光学的にパターンを形成するパターン形
成体において、基材上に光触媒含有層を有し、光触媒含
有層上に、パターンの露光によって光触媒の作用により
濡れ性が変化する物質の含有層を有することを特徴とす
るパターン形成体。
【請求項４】光学的にパターンを形成するパターン形
成体において、光触媒、パターンの露光によって光触媒
の作用により分解される物質、および結着剤からなる組
成物層を有することを特徴とするパターン形成体。
【請求項５】光触媒を含有する層がシロキサン結合を
有する化合物を含有することを特徴とする請求項１ない
し４のいずれか１項に記載のパターン形成体。
【請求項６】光触媒を含有する層がシリコーンを含有
することを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項
に記載のパターン形成体。
【請求項７】シリコーンのケイ素原子にフルオロアル
キル基が結合していることを特徴とする請求項６記載の
パターン形成体。
【請求項８】シリコーンがオルガノアルコキシシラン
を含む組成物から得られたものであることを特徴とする
請求項６ないし７のいずれか１項に記載のパターン形成
体。
【請求項９】シリコーンが反応性シリコーン化合物を
含む組成物から得られたものであることを特徴とする請
求項６ないし７のいずれか１項に記載のパターン形成
体。
【請求項１０】パターン形成体が印刷版原版であるこ
とを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載のパ
ターン形成体。
【請求項１１】光学的にパターンを形成する方法にお
いて、基材上に光触媒の作用により濡れ性が変化する物
質を含有した光触媒含有層を設けたパターン形成体、基
材上に形成した光触媒含有層上に光触媒の作用により濡
れ性が変化する物質の含有層を形成したパターン形成
体、基材上に光触媒含有層を有し光触媒含有層上にパタ
ーンの露光によって光触媒の作用により分解除去される
層を有するパターン形成体、もしくは基材上に、光触
媒、パターンの露光によって光触媒の作用により分解さ
れる物質、および結着剤からなる組成物層を形成したパ
ターン形成体にパターンの露光をし、光触媒の作用によ
って表面の濡れ性を変化させることを特徴とするパター
ン形成方法。
【請求項１２】光触媒含有層に対するパターン露光
は、光描画照射により行うことを特徴とする請求項１１
記載のパターン形成方法。
【請求項１３】光触媒含有層に対するパターン露光
は、フォトマスクを介した露光によって行うことを特徴
とする請求項１１記載のパターン形成方法。
【請求項１４】光触媒含有層に対するパターン露光
は、パターン形成体を加熱しながら行うことを特徴とす
る請求項１１ないし１３のいずれかに記載のパターン形
成方法。
【請求項１５】基材上に請求項１ないし９のいずれか
に記載のパターン形成体を有し、請求項１１ないし１４
のいずれかのパターン露光によって得られた該パターン
形成体のパターンに対応した部位上に機能性層が配置さ
れたことを特徴とする素子。
【請求項１６】パターン形成体上に請求項１１ないし
１４のいずれかのパターン露光によって得られた該パタ
ーン形成体のパターンに対応した部位上に形成された機
能性層を、他の基材上に転写することによって形成した
ものであることを特徴とする素子。
【請求項１７】基材上に請求項１ないし９のいずれか
に記載のパターン形成体を有し、請求項１１ないし１４
のいずれかのパターン露光によって得られた該パターン
形成体のパターンに対応した部位上に機能性層を形成す
ることを特徴とする素子作製方法。
【請求項１８】パターン形成体上に、請求項１１ない
し１４のいずれかのパターン露光によって得られた該パ
ターン形成体のパターンに対応した部位上に機能性層
を、他の基材上に転写することによって基材上に機能性
層を形成したことを特徴とする素子作製方法。
【請求項１９】パターン形成体の全面に機能性層用組
成物を積層する工程、未露光部の反撥作用によって露光
部の濡れ性の変化した部位上のみにパターン状に機能性
層を形成する工程を有することを特徴とする請求項１７
記載の素子作製方法。
【請求項２０】パターン形成体の全面に機能性層用組
成物を積層する工程、未露光部の機能性層を除去するこ
とによってパターン状に機能性層を形成する工程を有す
ることを特徴とする請求項１７記載の素子作製方法。
【請求項２１】パターン形成体の全面に機能性層用組
成物を積層する工程、未露光部の反撥作用によって露光
部の濡れ性の変化した部位上のみにパターン状に機能性
層を形成する工程を有することを特徴とする請求項１８
記載の素子作製方法。
【請求項２２】パターン形成体の全面に機能性層用組
成物を積層する工程、未露光部の機能性層を除去するこ
とによってパターン状に機能性層を形成する工程を有す
ることを特徴とする請求項１８記載の素子作製方法。
【請求項２３】パターン形成体への機能性層の形成
が、機能性層用組成物の塗布によることを特徴とする請
求項１９ないし２２に記載の素子作製方法。
【請求項２４】パターン形成体への機能性層の形成
が、機能性層用組成物のノズルからの吐出によることを
特徴とする請求項１９ないし２２に記載の素子作製方
法。
【請求項２５】パターン形成体への機能性層の形成
が、機能性層用組成物塗布フィルムからの熱または圧力
による転写によることを特徴とする請求項１９ないし２
２に記載の素子作製方法。
【請求項２６】パターン形成体への機能性層の形成
が、真空を利用した成膜によることを特徴とする請求項
１９ないし２２に記載の素子作製方法。
【請求項２７】パターン形成体への機能性層の形成
が、無電解めっきを利用した成膜によることを特徴とす
る請求項１９ないし２２に記載の素子作製方法。