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JP2002271030A - Printed wiring board and method of manufacturing printed wiring board - Google Patents

Printed wiring board and method of manufacturing printed wiring board

Info

Publication number
JP2002271030A
JP2002271030A JP2001070224A JP2001070224A JP2002271030A JP 2002271030 A JP2002271030 A JP 2002271030A JP 2001070224 A JP2001070224 A JP 2001070224A JP 2001070224 A JP2001070224 A JP 2001070224A JP 2002271030 A JP2002271030 A JP 2002271030A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
wiring board
printed wiring
capacitor
resin substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001070224A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4869486B2 (en
Inventor
Seiji Shirai
誠二 白井
Katsutoshi Ito
克敏 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibiden Co Ltd filed Critical Ibiden Co Ltd
Priority to JP2001070224A priority Critical patent/JP4869486B2/en
Publication of JP2002271030A publication Critical patent/JP2002271030A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4869486B2 publication Critical patent/JP4869486B2/en
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • H10W90/724

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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ループインダクタンスを低減できるプリント
配線板及び該プリント配線板の製造方法を提案する。 【解決手段】 プリント配線板10のコア基板30内
に、チップコンデンサ20を配設する。これにより、I
Cチップ90とチップコンデンサ20との距離が短くな
り、ループインダクタンスを低減することが可能とな
る。また、メタライズからなる電極21、22の表面に
導電性ペースト26が塗布されているため、電極21、
22の表面の接続抵抗を低減でき、特に、表面の凹凸を
無くすため、接着材料36との密着性を高めることがで
きる。
(57) Abstract: A printed wiring board capable of reducing loop inductance and a method of manufacturing the printed wiring board are proposed. A chip capacitor is provided in a core substrate of a printed wiring board. This allows I
The distance between the C chip 90 and the chip capacitor 20 is reduced, and the loop inductance can be reduced. Also, since the conductive paste 26 is applied to the surfaces of the electrodes 21 and 22 made of metallized,
The connection resistance on the adhesive material 36 can be increased because the connection resistance on the surface of the substrate 22 can be reduced, and in particular, the unevenness on the surface can be eliminated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、ICチップなど
の電子部品を載置するプリント基板及びその製造方法に
関し、特にコンデンサを内蔵するプリント配線板及びそ
の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed circuit board on which electronic components such as IC chips are mounted and a method of manufacturing the same, and more particularly to a printed wiring board having a built-in capacitor and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、パッケージ基板用のプリント配線
板では、ICチップへの電力の供給を円滑にする等の目
的のため、チップコンデンサを表面実装することがあ
る。
2. Description of the Related Art At present, in a printed wiring board for a package substrate, a chip capacitor is sometimes mounted on a surface for the purpose of, for example, smoothly supplying power to an IC chip.

【0003】チップコンデンサからICチップまでの配
線のリアクタンス分は周波数に依存するため、ICチッ
プの駆動周波数の増加に伴い、チップコンデンサを表面
実装させても十分な効果を得ることができなかった。こ
のため、本出願人は、特願平11−248311号に
て、コア基板に凹部を形成し、凹部にチップコンデンサ
を収容させる技術を提案した。また、コンデンサを基板
に埋め込む技術としては、特開平6−326472号、
特開平7−263619号、特開平10−256429
号、特開平11−45955号、特開平11−1269
78号、特開平11−312868号等がある。
Since the reactance of the wiring from the chip capacitor to the IC chip depends on the frequency, a sufficient effect cannot be obtained even if the chip capacitor is surface-mounted with the increase in the driving frequency of the IC chip. For this reason, the present applicant has proposed a technique in Japanese Patent Application No. 11-248311 in which a recess is formed in a core substrate and a chip capacitor is accommodated in the recess. Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-326472 discloses a technique for embedding a capacitor in a substrate.
JP-A-7-263519, JP-A-10-256429
JP-A-11-45555, JP-A-11-1269
No. 78 and JP-A-11-31868.

【0004】特開平6−326472号には、ガラスエ
ポキシからなる樹脂基板に、コンデンサを埋め込む技術
が開示されている。この構成により、電源ノイズを低減
し、かつ、チップコンデンサを実装するスペースが不要
になり、絶縁性基板を小型化できる。また、特開平7−
263619号には、セラミック、アルミナなどの基板
にコンデンサを埋め込む技術が開示されている。この構
成により、電源層及び接地層の間に接続することで、配
線長を短くし、配線のインダクタンスを低減している。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-326472 discloses a technique for embedding a capacitor in a resin substrate made of glass epoxy. With this configuration, power supply noise is reduced, and a space for mounting a chip capacitor is not required, and the size of the insulating substrate can be reduced. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open
No. 263619 discloses a technique for embedding a capacitor in a substrate made of ceramic, alumina, or the like. With this configuration, by connecting between the power supply layer and the ground layer, the wiring length is shortened and the wiring inductance is reduced.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た特開平6−326472号、特開平7−263619
号は、ICチップからコンデンサの距離をあまり短くで
きず、ICチップの更なる高周波数領域においては、現
在必要とされるようにインダクタンスを低減することが
できなかった。特に、樹脂製の多層ビルドアップ配線板
においては、セラミックから成るコンデンサと、樹脂か
らなるコア基板及び層間樹脂絶縁層の熱膨張率の違いか
ら、チップコンデンサの端子とビアとの間に断線、チッ
プコンデンサと層間樹脂絶縁層との間で剥離、層間樹脂
絶縁層にクラックが発生し、長期に渡り高い信頼性を達
成することができなかった。
However, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-326472 and Japanese Patent Application Laid-open No.
Cannot reduce the distance between the IC chip and the capacitor too much, and could not reduce the inductance as required at present in the higher frequency range of the IC chip. In particular, in the case of a resin-made multilayer build-up wiring board, disconnection between a terminal of a chip capacitor and a via due to a difference in the coefficient of thermal expansion between a capacitor made of ceramic and a core substrate made of resin and an interlayer resin insulating layer. Peeling occurred between the capacitor and the interlayer resin insulation layer, cracks occurred in the interlayer resin insulation layer, and high reliability could not be achieved for a long period of time.

【0006】一方、特願平11−248311号の発明
では、コンデンサの配設位置ずれがあったとき、コンデ
ンサの端子とビアとの接続が正確にできず、コンデンサ
からICチップへの電力供給ができなくなる恐れがあっ
た。
On the other hand, in the invention of Japanese Patent Application No. 11-248311, when there is a displacement in the arrangement of the capacitor, the connection between the terminal of the capacitor and the via cannot be made accurately, and the power supply from the capacitor to the IC chip is not possible. There was a fear that it would not be possible.

【0007】本発明は、上述した課題を解決するために
なされたものであり、その目的は、コンデンサを内蔵
し、接続信頼性を高めたプリント配線板及びプリント配
線板の製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a printed wiring board having a built-in capacitor and improved connection reliability, and a method of manufacturing the printed wiring board. It is in.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上述した問題を解決する
ため、請求項1では、コンデンサを収容するコア基板
に、層間樹脂絶縁層と導体回路とを交互に積層してなる
プリント配線板であって、前記コンデンサを収容するコ
ア基板が、第1の樹脂基板と、コンデンサを収容する開
口を有する第2の樹脂基板と、第3の樹脂基板とを、接
着板を介在させて積層してなり、前記コンデンサのメタ
ライズからなる電極の表面には、導電性ペーストが塗布
されていることを技術的特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a printed wiring board in which an interlayer resin insulating layer and a conductive circuit are alternately laminated on a core substrate containing a capacitor. The core substrate for housing the capacitor is formed by laminating a first resin substrate, a second resin substrate having an opening for housing the capacitor, and a third resin substrate with an adhesive plate interposed therebetween. A technical feature is that a conductive paste is applied to the surface of the electrode formed by metallizing the capacitor.

【0009】また、請求項16のプリント配線板の製造
方法は、少なくとも以下(a)〜(d)の工程を備える
ことを技術的特徴とする: (a)第1の樹脂基板に、導体パッド部を形成する工
程; (b)前記第1の樹脂基板の前記導体パッド部に、導電
性接着剤を介してメタライズ電極の上に導電性ペースト
を塗布したコンデンサを接続する工程; (c)第3の樹脂基板と、前記コンデンサを収容する開
口を有する第2の樹脂基板と、前記第1の樹脂基板と
を、前記第1の樹脂基板の前記コンデンサを前記第2の
樹脂基板の前記開口に収容させ、且つ、第3の樹脂基板
にて前記第2の樹脂基板の前記開口を塞ぐように、接着
板を介在させて積層する工程; (d)前記第1の樹脂基板、前記第2の樹脂基板、及
び、前記第3の樹脂基板を加熱加圧してコア基板とする
工程。
A technical feature of a method of manufacturing a printed wiring board according to the present invention is characterized in that the method includes at least the following steps (a) to (d): (a) a conductive pad is provided on a first resin substrate; Forming a portion; (b) connecting a capacitor coated with a conductive paste on a metallized electrode via a conductive adhesive to the conductive pad portion of the first resin substrate; 3 and a second resin substrate having an opening for accommodating the capacitor, and the first resin substrate, by connecting the capacitor of the first resin substrate to the opening of the second resin substrate. (C) laminating the third resin substrate with an adhesive plate interposed therebetween so as to close the opening of the second resin substrate; and (d) the first resin substrate and the second resin substrate. Heat the resin substrate and the third resin substrate Step of pressing to form a core substrate.

【0010】請求項1のプリント配線板、及び、請求項
19のプリント配線板の製造方法では、コア基板内にコ
ンデンサを収容することが可能となり、ICチップとコ
ンデンサとの距離が短くなるため、プリント配線板のル
ープインダクタンスを低減できる。また、樹脂基板を積
層してなるためコア基板に十分な強度を得ることができ
る。更に、コア基板の両面に第1樹脂基板、第3樹脂基
板を配設することでコア基板を平滑に構成するため、コ
ア基板の上に層間樹脂絶縁層および導体回路を適切に形
成することができ、プリント配線板の不良品発生率を低
下させることができる。
According to the printed wiring board of the first aspect and the method of manufacturing the printed wiring board of the nineteenth aspect, the capacitor can be accommodated in the core substrate, and the distance between the IC chip and the capacitor is reduced. The loop inductance of the printed wiring board can be reduced. Further, since the resin substrate is laminated, sufficient strength can be obtained for the core substrate. Furthermore, since the first resin substrate and the third resin substrate are provided on both surfaces of the core substrate to make the core substrate smooth, it is necessary to appropriately form an interlayer resin insulating layer and a conductive circuit on the core substrate. As a result, the defective product occurrence rate of the printed wiring board can be reduced.

【0011】コア基板上に層間樹脂絶縁層を設けて、該
層間樹脂絶縁層にバイアホールもしくはスルーホールを
施して、導電層である導体回路を形成するビルドアップ
法によって形成する回路を意味している。それらには、
セミアディティブ法、フルアディティブ法のいずれかを
用いることができる。
A circuit formed by a build-up method in which an interlayer resin insulating layer is provided on a core substrate, a via hole or a through hole is formed in the interlayer resin insulating layer, and a conductive circuit as a conductive layer is formed. I have. They include
Either a semi-additive method or a full-additive method can be used.

【0012】空隙には、樹脂を充填させることが望まし
い。コンデンサ、コア基板間の空隙をなくすことによっ
て、内蔵されたコンデンサが、挙動することが小さくな
るし、コンデンサを起点とする応力が発生したとして
も、該充填された樹脂により緩和することができる。ま
た、該樹脂には、コンデンサとコア基板との接着やマイ
グレーションの低下させるという効果も有する。
It is desirable to fill the void with a resin. By eliminating the gap between the capacitor and the core substrate, the built-in capacitor is less likely to behave, and even if a stress originating from the capacitor is generated, the stress can be reduced by the filled resin. The resin also has the effect of reducing adhesion and migration between the capacitor and the core substrate.

【0013】また、コンデンサのメタライズからなる電
極の表面に導電性ペーストが塗布されているため、メタ
ライズからなり表面の抵抗の高い電極の電気接続性を改
善することができる。また、メタライズからなる電極
は、表面に凹凸があり、導電性接着剤で直接接続を取っ
ても、完全に密着することができないが、導電性ペース
トにより凹凸を無くすことができ、密着性を高め、接続
抵抗を下げることができる。また、メタライズからなる
電極が、周囲の樹脂層と導電性ペーストを介して接触す
るため、電極と樹脂層との熱膨張差による応力の発生を
抑え、樹脂層のクラックや剥離が無くなる。
Further, since the conductive paste is applied to the surface of the metallized electrode of the capacitor, the electrical connectivity of the metallized electrode having a high surface resistance can be improved. The metallized electrode has irregularities on the surface and cannot be completely adhered even if it is directly connected with a conductive adhesive.However, the irregularity can be eliminated by the conductive paste to improve the adhesion. , Connection resistance can be reduced. In addition, since the metallized electrode is in contact with the surrounding resin layer via the conductive paste, the generation of stress due to the difference in thermal expansion between the electrode and the resin layer is suppressed, and cracks and peeling of the resin layer are eliminated.

【0014】請求項2では、コンデンサの電極の導電性
ペースト上に金属層を設けてあるため、電極でのマイグ
レーションの発生を防止することができ、また、接続抵
抗を更に低減することができる。メタライズからなる電
極は、表面に凹凸があり、導電性接着剤で直接接続を取
っても、完全に密着することができないが、導電性ペー
ストを塗布し、更に、金属層を設けることで凹凸を完全
に無くすことができ、密着性を高め、接続抵抗を下げる
ことができる。
According to the second aspect, since the metal layer is provided on the conductive paste of the electrode of the capacitor, it is possible to prevent the occurrence of migration at the electrode and to further reduce the connection resistance. The metallized electrode has irregularities on the surface and cannot be completely adhered even if it is directly connected with a conductive adhesive.However, applying a conductive paste and further providing a metal layer can reduce irregularities. It can be completely eliminated, adhesion can be enhanced, and connection resistance can be reduced.

【0015】請求項3では、コンデンサの表面に、粗化
処理を施す。これにより、セラミックからなるチップコ
ンデンサと樹脂からなる接着層、層間樹脂絶縁層との密
着性が高くなり、ヒートサイクル試験を実施しても界面
での接着層、層間樹脂絶縁層の剥離が発生することがな
い。
According to a third aspect, the surface of the capacitor is subjected to a roughening treatment. Thereby, the adhesion between the chip capacitor made of ceramic and the adhesive layer made of resin and the interlayer resin insulating layer is increased, and the adhesive layer and interlayer resin insulating layer are separated at the interface even when the heat cycle test is performed. Nothing.

【0016】請求項4では、コンデンサの表面に、シラ
ンカップリング、樹脂被膜の塗布等の濡れ性改善処理を
施す。これにより、セラミックからなるチップコンデン
サと樹脂からなる接着層、層間樹脂絶縁層との密着性が
高くなり、ヒートサイクル試験を実施しても界面での接
着層、層間樹脂絶縁層の剥離が発生することがない。
In the present invention, the surface of the capacitor is subjected to a wettability improving treatment such as silane coupling or application of a resin film. Thereby, the adhesion between the chip capacitor made of ceramic and the adhesive layer made of resin and the interlayer resin insulating layer is increased, and the adhesive layer and interlayer resin insulating layer are separated at the interface even when the heat cycle test is performed. Nothing.

【0017】請求項5では、接着板が心材に熱硬化性樹
脂を含浸させてなるため、コア基板に高い強度を持たせ
ることができる。
According to the fifth aspect, since the adhesive plate is formed by impregnating the core material with a thermosetting resin, the core substrate can have high strength.

【0018】請求項6では、、第1、第2、第3樹脂基
板は、心材に樹脂を含浸させてなるため、コア基板に高
い強度を持たせることができる。
According to the sixth aspect, the first, second, and third resin substrates are obtained by impregnating the core material with a resin, so that the core substrate can have high strength.

【0019】請求項7では、コア基板内に複数個のコン
デンサを収容するため、コンデンサの高集積化が可能と
なる。
According to the seventh aspect, since a plurality of capacitors are accommodated in the core substrate, high integration of the capacitors becomes possible.

【0020】請求項8では、第2の樹脂基板に導体回路
が形成されているため、基板の配線密度を高め、層間樹
脂絶縁層の層数を減らすことができる。
In the eighth aspect, since the conductive circuit is formed on the second resin substrate, the wiring density of the substrate can be increased, and the number of interlayer resin insulating layers can be reduced.

【0021】請求項9では、基板内に収容したコンデン
サに加えて表面にコンデンサを配設してある。プリント
配線板内にコンデンサが収容してあるために、ICチッ
プとコンデンサとの距離が短くなり、ループインダクタ
ンスを低減し、瞬時に電源を供給することができ、一
方、プリント配線板の表面にもコンデンサが配設してあ
るので、大容量のコンデンサを取り付けることができ、
ICチップに大電力を容易に供給することが可能とな
る。
In the ninth aspect, a capacitor is provided on the surface in addition to the capacitor housed in the substrate. Since the capacitor is housed in the printed wiring board, the distance between the IC chip and the capacitor is shortened, the loop inductance is reduced, and power can be supplied instantaneously. Because a capacitor is provided, a large-capacity capacitor can be attached.
Large power can be easily supplied to the IC chip.

【0022】請求項10では、表面のコンデンサの静電
容量は、内層のコンデンサの静電容量以上であるため、
高周波領域における電源供給の不足がなく、所望のIC
チップの動作が確保される。
According to the tenth aspect, since the capacitance of the capacitor on the surface is larger than the capacitance of the capacitor in the inner layer,
There is no shortage of power supply in the high frequency range, and the desired IC
The operation of the chip is ensured.

【0023】請求項11では、表面のコンデンサのイン
ダクタンスは、内層のコンデンサのインダクタンス以上
であるため、高周波領域における電源供給の不足がな
く、所望のICチップの動作が確保される。
According to the eleventh aspect, since the inductance of the capacitor on the surface is equal to or greater than the inductance of the capacitor in the inner layer, there is no shortage of power supply in a high frequency region, and a desired operation of the IC chip is ensured.

【0024】請求項12では、絶縁性接着剤の熱膨張率
を、収容層よりも小さく、即ち、セラミックからなるコ
ンデンサに近いように設定してある。このため、ヒート
サイクル試験において、コア基板とコンデンサとの間に
熱膨張率差から内応力が発生しても、コア基板にクラッ
ク、剥離等が生じ難く、高い信頼性を達成できる。
In the twelfth aspect, the coefficient of thermal expansion of the insulating adhesive is set to be smaller than that of the housing layer, that is, close to that of a capacitor made of ceramic. For this reason, in the heat cycle test, even if internal stress is generated due to a difference in the coefficient of thermal expansion between the core substrate and the capacitor, cracks, peeling, and the like hardly occur on the core substrate, and high reliability can be achieved.

【0025】請求項13では、外縁の内側に電極の形成
されたチップコンデンサを用いるため、バイアホールを
経て導通を取っても外部電極が大きく取れ、アライメン
トの許容範囲が広がるために、接続不良がなくなる。
According to the thirteenth aspect, since a chip capacitor having an electrode formed inside the outer edge is used, a large external electrode can be obtained even when conduction is established through a via hole, and the allowable range of alignment is widened. Disappears.

【0026】請求項14では、マトリクス状に電極が形
成されたコンデンサを用いるので、大判のチップコンデ
ンサをコア基板に収容することが容易になる。そのた
め、静電容量を大きくできるので、電気的な問題を解決
することができる。さらに、種々の熱履歴などを経ても
プリント配線板に反りが発生し難くなる。
In the fourteenth aspect, since a capacitor having electrodes formed in a matrix is used, it is easy to accommodate a large chip capacitor in the core substrate. Therefore, the capacitance can be increased, so that an electrical problem can be solved. Further, even after various thermal histories, the printed wiring board is less likely to warp.

【0027】請求項15では、コンデンサに多数個取り
用のチップコンデンサを複数連結させてもよい。それに
よって、静電容量を適宜調整することができ、適切にI
Cチップを動作させることができる。
In the fifteenth aspect, a plurality of chip capacitors for multi-cavity may be connected to the capacitor. As a result, the capacitance can be adjusted appropriately, and I
The C chip can be operated.

【0028】本発明のにおいて層間樹脂絶縁層、接続層
として使用する樹脂フィルムは、酸または酸化剤に可溶
性の粒子(以下、可溶性粒子という)が酸または酸化剤
に難溶性の樹脂(以下、難溶性樹脂という)中に分散し
たものである。なお、本発明で使用する「難溶性」「可
溶性」という語は、同一の酸または酸化剤からなる溶液
に同一時間浸漬した場合に、相対的に溶解速度の早いも
のを便宜上「可溶性」と呼び、相対的に溶解速度の遅い
ものを便宜上「難溶性」と呼ぶ。
In the present invention, the resin film used as the interlayer resin insulating layer and the connecting layer is made of a resin (hereinafter, referred to as a soluble particle) which is soluble in an acid or an oxidizing agent. (Referred to as a soluble resin). The terms "sparingly soluble" and "soluble" used in the present invention are referred to as "soluble" for convenience when those immersed in a solution comprising the same acid or oxidizing agent for the same time have a relatively high dissolution rate. Those having a relatively low dissolution rate are referred to as "poorly soluble" for convenience.

【0029】上記可溶性粒子としては、例えば、酸また
は酸化剤に可溶性の樹脂粒子(以下、可溶性樹脂粒
子)、酸または酸化剤に可溶性の無機粒子(以下、可溶
性無機粒子)、酸または酸化剤に可溶性の金属粒子(以
下、可溶性金属粒子)等が挙げられる。これらの可溶性
粒子は、単独で用いても良いし、2種以上併用してもよ
い。
Examples of the soluble particles include resin particles soluble in an acid or an oxidizing agent (hereinafter referred to as “soluble resin particles”), inorganic particles soluble in an acid or an oxidizing agent (hereinafter referred to as “soluble inorganic particles”), and an acid or an oxidizing agent. Soluble metal particles (hereinafter referred to as “soluble metal particles”) and the like. These soluble particles may be used alone or in combination of two or more.

【0030】上記可溶性粒子の形状は特に限定されず、
球状、破砕状等が挙げられる。また、上記可溶性粒子の
形状は、一様な形状であることが望ましい。均一な粗さ
の凹凸を有する粗化面を形成することができるからであ
る。
The shape of the soluble particles is not particularly limited.
Spherical, crushed and the like. The shape of the soluble particles is desirably a uniform shape. This is because a roughened surface having unevenness with a uniform roughness can be formed.

【0031】上記可溶性粒子の平均粒径としては、0.
1〜10μmが望ましい。この粒径の範囲であれば、2
種類以上の異なる粒径のものを含有してもよい。すなわ
ち、平均粒径が0.1〜0.5μmの可溶性粒子と平均
粒径が1〜3μmの可溶性粒子とを含有する等である。
これにより、より複雑な粗化面を形成することができ、
導体回路との密着性にも優れる。なお、本発明におい
て、可溶性粒子の粒径とは、可溶性粒子の一番長い部分
の長さである。
The average particle size of the soluble particles is 0.1.
1 to 10 μm is desirable. Within this particle size range, 2
More than one kind of particles having different particle sizes may be contained. That is, it contains soluble particles having an average particle size of 0.1 to 0.5 μm and soluble particles having an average particle size of 1 to 3 μm.
Thereby, a more complicated roughened surface can be formed,
Excellent adhesion to conductor circuits. In the present invention, the particle size of the soluble particles is the length of the longest portion of the soluble particles.

【0032】上記可溶性樹脂粒子としては、熱硬化性樹
脂、熱可塑性樹脂等からなるものが挙げられ、酸あるい
は酸化剤からなる溶液に浸漬した場合に、上記難溶性樹
脂よりも溶解速度が速いものであれば特に限定されな
い。上記可溶性樹脂粒子の具体例としては、例えば、エ
ポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフ
ェニレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂等から
なるものが挙げられ、これらの樹脂の一種からなるもの
であってもよいし、2種以上の樹脂の混合物からなるも
のであってもよい。
Examples of the soluble resin particles include those made of a thermosetting resin, a thermoplastic resin, and the like. When immersed in a solution containing an acid or an oxidizing agent, the soluble resin particles have a higher dissolution rate than the hardly soluble resin. If it is, there is no particular limitation. Specific examples of the soluble resin particles include, for example, those made of epoxy resin, phenol resin, polyimide resin, polyphenylene resin, polyolefin resin, fluororesin, and the like, and may be made of one of these resins. Alternatively, it may be composed of a mixture of two or more resins.

【0033】また、上記可溶性樹脂粒子としては、ゴム
からなる樹脂粒子を用いることもできる。上記ゴムとし
ては、例えば、ポリブタジエンゴム、エポキシ変性、ウ
レタン変性、(メタ)アクリロニトリル変性等の各種変
性ポリブタジエンゴム、カルボキシル基を含有した(メ
タ)アクリロニトリル・ブタジエンゴム等が挙げられ
る。これらのゴムを使用することにより、可溶性樹脂粒
子が酸あるいは酸化剤に溶解しやすくなる。つまり、酸
を用いて可溶性樹脂粒子を溶解する際には、強酸以外の
酸でも溶解することができ、酸化剤を用いて可溶性樹脂
粒子を溶解する際には、比較的酸化力の弱い過マンガン
酸塩でも溶解することができる。また、クロム酸を用い
た場合でも、低濃度で溶解することができる。そのた
め、酸や酸化剤が樹脂表面に残留することがなく、後述
するように、粗化面形成後、塩化パラジウム等の触媒を
付与する際に、触媒が付与されなたかったり、触媒が酸
化されたりすることがない。
As the soluble resin particles, resin particles made of rubber can be used. Examples of the rubber include polybutadiene rubber, various modified polybutadiene rubbers such as epoxy-modified, urethane-modified, (meth) acrylonitrile-modified, and (meth) acrylonitrile-butadiene rubber containing a carboxyl group. By using these rubbers, the soluble resin particles are easily dissolved in an acid or an oxidizing agent. In other words, when dissolving the soluble resin particles using an acid, an acid other than a strong acid can be dissolved, and when dissolving the soluble resin particles using an oxidizing agent, permanganese having a relatively weak oxidizing power is used. Acid salts can also be dissolved. Even when chromic acid is used, it can be dissolved at a low concentration. Therefore, the acid or the oxidizing agent does not remain on the resin surface, and as described later, when a catalyst such as palladium chloride is applied after forming the roughened surface, the catalyst is not applied or the catalyst is oxidized. Or not.

【0034】上記可溶性無機粒子としては、例えば、ア
ルミニウム化合物、カルシウム化合物、カリウム化合
物、マグネシウム化合物およびケイ素化合物からなる群
より選択される少なくとも一種からなる粒子等が挙げら
れる。
Examples of the soluble inorganic particles include particles made of at least one selected from the group consisting of aluminum compounds, calcium compounds, potassium compounds, magnesium compounds and silicon compounds.

【0035】上記アルミニウム化合物としては、例え
ば、アルミナ、水酸化アルミニウム等が挙げられ、上記
カルシウム化合物としては、例えば、炭酸カルシウム、
水酸化カルシウム等が挙げられ、上記カリウム化合物と
しては、炭酸カリウム等が挙げられ、上記マグネシウム
化合物としては、マグネシア、ドロマイト、塩基性炭酸
マグネシウム等が挙げられ、上記ケイ素化合物として
は、シリカ、ゼオライト等が挙げられる。これらは単独
で用いても良いし、2種以上併用してもよい。
Examples of the aluminum compound include alumina and aluminum hydroxide. Examples of the calcium compound include calcium carbonate and
Examples of the potassium compound include potassium carbonate.Examples of the magnesium compound include magnesia, dolomite, and basic magnesium carbonate.Examples of the silicon compound include silica and zeolite. Is mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

【0036】上記可溶性金属粒子としては、例えば、
銅、ニッケル、鉄、亜鉛、鉛、金、銀、アルミニウム、
マグネシウム、カルシウムおよびケイ素からなる群より
選択される少なくとも一種からなる粒子等が挙げられ
る。また、これらの可溶性金属粒子は、絶縁性を確保す
るために、表層が樹脂等により被覆されていてもよい。
Examples of the soluble metal particles include, for example,
Copper, nickel, iron, zinc, lead, gold, silver, aluminum,
Examples include particles made of at least one selected from the group consisting of magnesium, calcium, and silicon. These soluble metal particles may have a surface layer coated with a resin or the like in order to ensure insulation.

【0037】上記可溶性粒子を、2種以上混合して用い
る場合、混合する2種の可溶性粒子の組み合わせとして
は、樹脂粒子と無機粒子との組み合わせが望ましい。両
者とも導電性が低くいため樹脂フィルムの絶縁性を確保
することができるとともに、難溶性樹脂との間で熱膨張
の調整が図りやすく、樹脂フィルムからなる層間樹脂絶
縁層にクラックが発生せず、層間樹脂絶縁層と導体回路
との間で剥離が発生しないからである。
When two or more of the above-mentioned soluble particles are used in combination, the combination of the two types of soluble particles to be mixed is preferably a combination of resin particles and inorganic particles. Both have low conductivity, so that the insulation of the resin film can be ensured, and thermal expansion can be easily adjusted with the poorly soluble resin, and no crack occurs in the interlayer resin insulation layer made of the resin film. This is because peeling does not occur between the interlayer resin insulating layer and the conductor circuit.

【0038】上記難溶性樹脂としては、層間樹脂絶縁層
に酸または酸化剤を用いて粗化面を形成する際に、粗化
面の形状を保持できるものであれば特に限定されず、例
えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、これらの複合体等
が挙げられる。また、これらの樹脂に感光性を付与した
感光性樹脂であってもよい。感光性樹脂を用いることに
より、層間樹脂絶縁層に露光、現像処理を用いてバイア
ホール用開口を形成することできる。これらのなかで
は、熱硬化性樹脂を含有しているものが望ましい。それ
により、めっき液あるいは種々の加熱処理によっても粗
化面の形状を保持することができるからである。
The hardly soluble resin is not particularly limited as long as it can maintain the shape of the roughened surface when the roughened surface is formed using an acid or an oxidizing agent in the interlayer resin insulating layer. Examples thereof include thermosetting resins, thermoplastic resins, and composites thereof. Further, a photosensitive resin obtained by imparting photosensitivity to these resins may be used. By using a photosensitive resin, an opening for a via hole can be formed in an interlayer resin insulating layer by using exposure and development processes. Among these, those containing a thermosetting resin are desirable. Thereby, the shape of the roughened surface can be maintained even by the plating solution or various heat treatments.

【0039】上記難溶性樹脂の具体例としては、例え
ば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、
ポリフェニレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂
等が挙げられる。これらの樹脂は単独で用いてもよい
し、2種以上を併用してもよい。さらには、1分子中
に、2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂がより
望ましい。前述の粗化面を形成することができるばかり
でなく、耐熱性等にも優れてるため、ヒートサイクル条
件下においても、金属層に応力の集中が発生せず、金属
層の剥離などが起きにくいからである。
Specific examples of the hardly soluble resin include, for example, epoxy resin, phenol resin, polyimide resin,
Examples thereof include polyphenylene resin, polyolefin resin, and fluorine resin. These resins may be used alone or in combination of two or more. Further, an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule is more desirable. Not only can the above-described roughened surface be formed, but also excellent in heat resistance, etc., even under heat cycle conditions, stress concentration does not occur in the metal layer, and peeling of the metal layer does not easily occur. Because.

【0040】上記エポキシ樹脂としては、例えば、クレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂、アルキルフェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノールF型エポキシ
樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエ
ン型エポキシ樹脂、フェノール類とフェノール性水酸基
を有する芳香族アルデヒドとの縮合物のエポキシ化物、
トリグリシジルイソシアヌレート、脂環式エポキシ樹脂
等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、2種
以上を併用してもよい。それにより、耐熱性等に優れる
ものとなる。
Examples of the epoxy resin include cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, alkylphenol novolak type epoxy resin, biphenol F type epoxy resin, and naphthalene type epoxy resin. Resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, epoxidized product of condensate of phenols and aromatic aldehyde having phenolic hydroxyl group,
Triglycidyl isocyanurate, alicyclic epoxy resin and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Thereby, it becomes excellent in heat resistance and the like.

【0041】本発明で用いる樹脂フィルムにおいて、上
記可溶性粒子は、上記難溶性樹脂中にほぼ均一に分散さ
れていることが望ましい。均一な粗さの凹凸を有する粗
化面を形成することができ、樹脂フィルムにバイアホー
ルやスルーホールを形成しても、その上に形成する導体
回路の金属層の密着性を確保することができるからであ
る。また、粗化面を形成する表層部だけに可溶性粒子を
含有する樹脂フィルムを用いてもよい。それによって、
樹脂フィルムの表層部以外は酸または酸化剤にさらされ
ることがないため、層間樹脂絶縁層を介した導体回路間
の絶縁性が確実に保たれる。
In the resin film used in the present invention, the soluble particles are desirably substantially uniformly dispersed in the hardly-soluble resin. It is possible to form a roughened surface with unevenness of uniform roughness, and even if via holes and through holes are formed in the resin film, it is possible to secure the adhesion of the metal layer of the conductor circuit formed thereon. Because you can. Alternatively, a resin film containing soluble particles only in the surface layer forming the roughened surface may be used. Thereby,
Since the portions other than the surface layer of the resin film are not exposed to the acid or the oxidizing agent, the insulation between the conductor circuits via the interlayer resin insulating layer is reliably maintained.

【0042】上記樹脂フィルムにおいて、難溶性樹脂中
に分散している可溶性粒子の配合量は、樹脂フィルムに
対して、3〜40重量%が望ましい。可溶性粒子の配合
量が3重量%未満では、所望の凹凸を有する粗化面を形
成することができない場合があり、40重量%を超える
と、酸または酸化剤を用いて可溶性粒子を溶解した際
に、樹脂フィルムの深部まで溶解してしまい、樹脂フィ
ルムからなる層間樹脂絶縁層を介した導体回路間の絶縁
性を維持できず、短絡の原因となる場合がある。
In the above resin film, the amount of the soluble particles dispersed in the poorly soluble resin is desirably 3 to 40% by weight based on the resin film. If the amount of the soluble particles is less than 3% by weight, it may not be possible to form a roughened surface having desired irregularities. If the amount exceeds 40% by weight, the soluble particles may be dissolved using an acid or an oxidizing agent. In addition, there is a case where the resin film is melted to a deep portion of the resin film and the insulation between the conductor circuits via the interlayer resin insulating layer made of the resin film cannot be maintained, which may cause a short circuit.

【0043】上記樹脂フィルムは、上記可溶性粒子、上
記難溶性樹脂以外に、硬化剤、その他の成分等を含有し
ていることが望ましい。上記硬化剤としては、例えば、
イミダゾール系硬化剤、アミン系硬化剤、グアニジン系
硬化剤、これらの硬化剤のエポキシアダクトやこれらの
硬化剤をマイクロカプセル化したもの、トリフェニルホ
スフィン、テトラフェニルホスフォニウム・テトラフェ
ニルボレート等の有機ホスフィン系化合物等が挙げられ
る。
The resin film desirably contains a curing agent and other components in addition to the soluble particles and the hardly-soluble resin. As the curing agent, for example,
Imidazole-based curing agents, amine-based curing agents, guanidine-based curing agents, epoxy adducts of these curing agents and microcapsules of these curing agents, and organic materials such as triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium, and tetraphenylborate. Phosphine compounds and the like can be mentioned.

【0044】上記硬化剤の含有量は、樹脂フィルムに対
して0.05〜10重量%であることが望ましい。0.
05重量%未満では、樹脂フィルムの硬化が不十分であ
るため、酸や酸化剤が樹脂フィルムに侵入する度合いが
大きくなり、樹脂フィルムの絶縁性が損なわれることが
ある。一方、10重量%を超えると、過剰な硬化剤成分
が樹脂の組成を変性させることがあり、信頼性の低下を
招いたりしてしまうことがある。
The content of the curing agent is desirably 0.05 to 10% by weight based on the resin film. 0.
If the amount is less than 05% by weight, the resin film is insufficiently cured, so that the degree of penetration of the acid or the oxidizing agent into the resin film is increased, and the insulating property of the resin film may be impaired. On the other hand, when the content exceeds 10% by weight, an excessive curing agent component may modify the composition of the resin, which may cause a decrease in reliability.

【0045】上記その他の成分としては、例えば、粗化
面の形成に影響しない無機化合物あるいは樹脂等のフィ
ラーが挙げられる。上記無機化合物としては、例えば、
シリカ、アルミナ、ドロマイト等が挙げられ、上記樹脂
としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアクリル樹
脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリフェニレン樹脂、メラ
ニン樹脂、オレフィン系樹脂等が挙げられる。これらの
フィラーを含有させることによって、熱膨脹係数の整合
や耐熱性、耐薬品性の向上などを図りプリント配線板の
性能を向上させることができる。
The other components include, for example, fillers such as inorganic compounds or resins which do not affect the formation of the roughened surface. As the inorganic compound, for example,
Examples of the resin include silica, alumina, and dolomite. Examples of the resin include a polyimide resin, a polyacryl resin, a polyamideimide resin, a polyphenylene resin, a melanin resin, and an olefin resin. By incorporating these fillers, the performance of the printed wiring board can be improved by matching the thermal expansion coefficient, improving heat resistance and chemical resistance, and the like.

【0046】また、上記樹脂フィルムは、溶剤を含有し
ていてもよい。上記溶剤としては、例えば、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、
酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートやトル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素等が挙げられる。こ
れらは単独で用いてもよいし、2種類以上併用してもよ
い。
Further, the resin film may contain a solvent. As the solvent, for example, acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone,
Ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. These may be used alone or in combination of two or more.

【0047】[0047]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について図
を参照して説明する。先ず、本発明の第1実施形態に係
るプリント配線板の構成について、図7及び図8を参照
して説明する。図7は、プリント配線板10の断面を示
し、図8は、図7に示すプリント配線板10にICチッ
プ90を搭載し、ドータボード95側へ取り付けた状態
を示している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, the configuration of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 7 shows a cross section of the printed wiring board 10, and FIG. 8 shows a state where the IC chip 90 is mounted on the printed wiring board 10 shown in FIG.

【0048】図7に示すように、プリント配線板10
は、複数個のチップコンデンサ20を収容するコア基板
30と、ビルドアップ配線層80A、80Bとからな
る。ビルドアップ配線層80A、80Bは、樹脂層40
及び層間樹脂絶縁層140、240からなる。上側の樹
脂層40には、導体回路58及びバイアホール60が形
成され、上側及び下側の層間樹脂絶縁層140には、導
体回路158及びバイアホール160が形成され、上側
及び下側の層間樹脂絶縁層240には、導体回路258
及びバイアホール260が形成されている。層間樹脂絶
縁層240の上には、ソルダーレジスト層70が形成さ
れている。ビルドアップ配線層80Aとビルドアップ配
線層80Bとは、コア基板30に形成されたスルーホー
ル56を介して接続されている。
As shown in FIG. 7, the printed wiring board 10
Is composed of a core substrate 30 accommodating a plurality of chip capacitors 20, and build-up wiring layers 80A and 80B. The build-up wiring layers 80A and 80B are
And interlayer resin insulating layers 140 and 240. A conductor circuit 58 and a via hole 60 are formed in the upper resin layer 40, and a conductor circuit 158 and a via hole 160 are formed in the upper and lower interlayer resin insulation layers 140. The insulating layer 240 includes a conductor circuit 258
And via holes 260 are formed. A solder resist layer 70 is formed on interlayer resin insulation layer 240. The build-up wiring layer 80A and the build-up wiring layer 80B are connected via a through hole 56 formed in the core substrate 30.

【0049】チップコンデンサ20は、図13(A)に
示すように第1電極21と第2電極22と、第1、第2
電極に挟まれた誘電体23とから成り、誘電体23に
は、第1電極21側に接続された第1導電膜24と、第
2電極22側に接続された第2導電膜25とが複数枚対
向配置されている。第1電極21と第2電極22の表面
には、導電性ペースト26を被覆させてある。
The chip capacitor 20 includes a first electrode 21 and a second electrode 22 as shown in FIG.
A first conductive film 24 connected to the first electrode 21 side and a second conductive film 25 connected to the second electrode 22 side. A plurality of sheets are arranged facing each other. The surfaces of the first electrode 21 and the second electrode 22 are coated with a conductive paste 26.

【0050】ここで、第1電極21及び第2電極22
は、Ni、Pb、又はAg金属のメタライズからなる。
導電性ペースト26は、Cu、Ni又はAg等の金属粒
子を含むペーストからなる。ここで、金属粒子の粒径
は、0.1〜10μmが望ましく、特に、1〜5μmが
最適である。導電性ペーストとしては、金属粒子に、エ
ポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、ポリフェニレンスルフ
ィド(PPS)樹脂を加えた有機系導電性ペーストが望
ましい。この導電性ペースト26の厚みは、1〜30μ
mが望ましい。1μm未満では、電極表面の凹凸を無く
すことができず、一方、30μmを越えても、特に効果
が向上しないからである。ここで、5〜20μmの厚み
が最も望ましい。なお、2種類以上の径の異なる粒子を
配合したペーストを用いることもでき、更に、2種類以
上の径の異なる金属ペーストを被覆することも可能であ
る。
Here, the first electrode 21 and the second electrode 22
Consists of a metallization of Ni, Pb or Ag metal.
The conductive paste 26 is made of a paste containing metal particles such as Cu, Ni or Ag. Here, the particle size of the metal particles is desirably 0.1 to 10 μm, and most preferably 1 to 5 μm. As the conductive paste, an organic conductive paste obtained by adding a thermosetting resin such as an epoxy resin or a polyphenylene sulfide (PPS) resin to metal particles is preferable. The thickness of the conductive paste 26 is 1 to 30 μm.
m is desirable. If the thickness is less than 1 μm, unevenness on the electrode surface cannot be eliminated, while if it exceeds 30 μm, the effect is not particularly improved. Here, a thickness of 5 to 20 μm is most desirable. Note that a paste in which two or more kinds of particles having different diameters are mixed can be used, and further, a metal paste having two or more kinds of different diameters can be coated.

【0051】第1実施形態では、コンデンサ20のメタ
ライズからなる電極21,22の表面に導電性ペースト
26が塗布されてるため、メタライズからなり表面の抵
抗の高い電極21,22の電気接続性を改善することが
できる。また、メタライズからなる電極21、22は、
表面に凹凸があり、接着材料36で直接接続を取って
も、完全に密着することができないが、導電性ペースト
26により凹凸を無くすことができ、密着性を高め、接
続抵抗を下げることができる。また、メタライズからな
る電極21、22が、樹脂充填材となるプリプレグ38
a、38b及びコア基板30と導電性ペースト26を介
して接触するため、電極21、22と樹脂充填材及びコ
ア基板30との熱膨張差による応力の発生を抑え、樹脂
充填材の剥離や、コア基板30でのクラックの発生が無
くなる。
In the first embodiment, since the conductive paste 26 is applied to the surfaces of the electrodes 21 and 22 made of metallized capacitor 20, the electrical connection between the electrodes 21 and 22 made of metallized and having high resistance is improved. can do. The electrodes 21 and 22 made of metallized
Although there is unevenness on the surface, even if a direct connection is made with the adhesive material 36, complete adhesion cannot be achieved. However, unevenness can be eliminated by the conductive paste 26, thereby improving adhesion and reducing connection resistance. . Also, the electrodes 21 and 22 made of metallization are used as prepregs 38 serving as a resin filler.
a, 38b, and the core substrate 30 are in contact with each other via the conductive paste 26, so that the generation of stress due to the difference in thermal expansion between the electrodes 21, 22 and the resin filler and the core substrate 30 is suppressed, and the resin filler is separated, The occurrence of cracks in the core substrate 30 is eliminated.

【0052】図8に示すように、上側のビルドアップ配
線層80Aには、ICチップ90のパッド92P1,9
2P2へ接続するための半田バンプ76Uが配設されて
いる。一方、下側のビルドアップ配線層80Bには、ド
ータボード95のパッド94P1、94P2へ接続する
ための半田バンプ76Dが配設されている。
As shown in FIG. 8, pads 92P1, 9 of IC chip 90 are provided on upper build-up wiring layer 80A.
A solder bump 76U for connection to 2P2 is provided. On the other hand, on the lower build-up wiring layer 80B, solder bumps 76D for connection to the pads 94P1 and 94P2 of the daughter board 95 are provided.

【0053】ICチップ90の接地用パッド92P1
は、バンプ76U−導体回路258−バイアホール26
0−導体回路158−バイアホール160−導体回路5
8−バイアホール60を介してチップコンデンサ20の
第1電極21へ接続されている。一方、ドータボード9
5の接地用パッド94P1は、バンプ76D−バイアホ
ール260−導体回路158−バイアホール160−ス
ルーホール56−導体回路58−バイアホール60を介
してチップコンデンサ20の第1電極21へ接続されて
いる。
Grounding pad 92P1 of IC chip 90
Means bump 76U-conductor circuit 258-via hole 26
0-conductor circuit 158-via hole 160-conductor circuit 5
It is connected to the first electrode 21 of the chip capacitor 20 via the 8-via hole 60. Meanwhile, daughter board 9
The fifth grounding pad 94P1 is connected to the first electrode 21 of the chip capacitor 20 via the bump 76D-via hole 260-conductor circuit 158-via hole 160-through hole 56-conductor circuit 58-via hole 60. .

【0054】ICチップ90の電源用パッド92P2
は、バンプ76U−バイアホール260−導体回路15
8−バイアホール160−導体回路58−バイアホール
60を介してチップコンデンサ20の第2電極22へ接
続されている。一方、ドータボード95の電源用パッド
94P2は、バンプ76D−バイアホール260−導体
回路158−バイアホール160−スルーホール56−
バイアホール60を介してチップコンデンサ20の第2
電極22へ接続されている。なお、図示しないが、IC
チップの信号用パッドは、プリント配線板の導体回路、
バイアホール、及び、スルーホールを介して、ドータボ
ードの信号用パッドに接続されている。
Power supply pad 92P2 of IC chip 90
Means bump 76U-via hole 260-conductor circuit 15
It is connected to the second electrode 22 of the chip capacitor 20 via the 8-via hole 160-the conductor circuit 58-the via hole 60. On the other hand, the power supply pad 94P2 of the daughter board 95 has a bump 76D, a via hole 260, a conductor circuit 158, a via hole 160, a through hole 56,
The second connection of the chip capacitor 20 through the via hole 60
It is connected to the electrode 22. Although not shown, an IC
Chip signal pads are printed circuit board conductor circuits,
It is connected to signal pads on the daughter board via via holes and through holes.

【0055】図7に示すように、本実施形態のコア基板
30は、チップコンデンサ20を接続する導電パッド部
34が片面に形成された第1樹脂基板30aと、第1樹
脂基板30aに接着用樹脂層(接着板)38aを介して
接続された第2樹脂基板30bと、第2樹脂基板30b
に接着用樹脂層(接着板)38bを介して接続された第
3樹脂基板30cとからなる。第2樹脂基板30bに
は、チップコンデンサ20を収容可能な開口30Bが形
成されている。
As shown in FIG. 7, the core substrate 30 of the present embodiment has a first resin substrate 30a having a conductive pad portion 34 connected to the chip capacitor 20 formed on one side, and a first resin substrate 30a for bonding to the first resin substrate 30a. A second resin substrate 30b connected via a resin layer (adhesive plate) 38a and a second resin substrate 30b
And a third resin substrate 30c connected to the third resin substrate via an adhesive resin layer (adhesive plate) 38b. An opening 30 </ b> B that can accommodate the chip capacitor 20 is formed in the second resin substrate 30 b.

【0056】これにより、コア基板30内にチップコン
デンサ20を収容することができるため、ICチップ9
0とチップコンデンサ20との距離が短くなるため、プ
リント配線板10のループインダクタンスを低減でき
る。また、第1樹脂基板30a、第2樹脂基板30b、
第3樹脂基板30cを積層してなるので、コア基板30
に十分な強度を得ることができる。更に、コア基板30
の両面に第1樹脂基板30a、第3樹脂基板30cを配
設することでコア基板30を平滑に構成するため、コア
基板30の上に樹脂層40,140、240および導体
回路58、158、258を適切に形成することがで
き、プリント配線板の不良品発生率を低下させることが
できる。
As a result, the chip capacitor 20 can be accommodated in the core substrate 30, so that the IC chip 9
Since the distance between 0 and the chip capacitor 20 becomes shorter, the loop inductance of the printed wiring board 10 can be reduced. Also, the first resin substrate 30a, the second resin substrate 30b,
Since the third resin substrate 30c is laminated, the core substrate 30
Sufficient strength can be obtained. Further, the core substrate 30
The first resin substrate 30a and the third resin substrate 30c are disposed on both surfaces of the core substrate 30 so that the core substrate 30 can be formed smoothly. Therefore, the resin layers 40, 140, 240 and the conductor circuits 58, 158, 258 can be formed appropriately, and the defective product occurrence rate of the printed wiring board can be reduced.

【0057】更に、本実施形態では、図1(D)に示す
ように第1樹脂基板30aとチップコンデンサ20との
間に絶縁性接着剤34を介在させてある。ここで、接着
剤34の熱膨張率を、コア基板30よりも小さく、即
ち、セラミックからなるチップコンデンサ20に近いよ
うに設定してある。このため、ヒートサイクル試験にお
いて、コア基板及び接着層40とチップコンデンサ20
との間に熱膨張率差から内応力が発生しても、コア基板
にクラック、剥離等が生じ難く、高い信頼性を達成でき
る。また、マイグレーションの発生を防止することも出
来る。
Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 1D, an insulating adhesive 34 is interposed between the first resin substrate 30a and the chip capacitor 20. Here, the coefficient of thermal expansion of the adhesive 34 is set to be smaller than that of the core substrate 30, that is, close to the chip capacitor 20 made of ceramic. Therefore, in the heat cycle test, the core substrate and the adhesive layer 40 and the chip capacitor 20
Even if internal stress is generated due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the core substrate and the core substrate, cracks, peeling, and the like hardly occur on the core substrate, and high reliability can be achieved. Further, occurrence of migration can be prevented.

【0058】引き続き、図7を参照して上述したプリン
ト配線板の製造方法について、図1〜図7を参照して説
明する。
Next, a method of manufacturing the printed wiring board described above with reference to FIG. 7 will be described with reference to FIGS.

【0059】(1)厚さ0.1mmのガラスクロス等の
心材にBT(ビスマレイミドトリアジン)樹脂を含浸さ
せて硬化させた第1樹脂基板30aの片面に銅箔32が
ラミネートされている銅張積層板を出発材料とする(図
1(A)参照)。次に、この銅貼積層板の銅箔32側
を、パターン状にエッチングすることにより、第1樹脂
基板30aの片面に導電パッド部34を形成する(図1
(B)参照)。
(1) A copper-clad laminate in which a copper foil 32 is laminated on one surface of a first resin substrate 30a obtained by impregnating a core material such as a glass cloth having a thickness of 0.1 mm with a BT (bismaleimide triazine) resin and curing the resin. A laminate is used as a starting material (see FIG. 1A). Next, a conductive pad portion 34 is formed on one surface of the first resin substrate 30a by etching the copper foil 32 side of the copper-clad laminate in a pattern.
(B)).

【0060】なお、コア基板をセラミックやAINなど
の基板を用いることはできなかった。該基板は外形加工
性が悪く、コンデンサを収容することができないことが
あり、樹脂で充填させても空隙が生じてしまうためであ
る。
Note that a substrate made of ceramic, AIN, or the like could not be used as the core substrate. This is because the substrate has poor external formability, and may not be able to accommodate a capacitor, and may cause voids even when filled with resin.

【0061】(2)その後、導電パッド部34に、印刷
機を用いて半田ペースト、導電性ペースト等の接着材料
36を塗布する(図1(C)参照)。このとき、塗布以
外にも、ポッティングなどをしてもよい。半田ペースト
としては、Sn/Pb、Sn/Sb、Sn/Ag、Sn
/Ag/Cuのいずれかを用いることができる。そし
て、導電パッド34間に充填剤33を配設する(図1
(D)参照)。これにより、後述するようにチップコン
デンサ20と第1樹脂基板30aとの隙間を充填するこ
とが可能となる。次に、導電パッド部34に複数個のセ
ラミックから成るチップコンデンサ20を載置し、接着
材料36を介して、導電パッド部34にチップコンデン
サ20を接続する(図2(A)参照)。チップコンデン
サ20は、1個でも複数個でもよいが、複数個のチップ
コンデンサ20を用いることにより、コンデンサの高集
積化が可能となる。
(2) Thereafter, an adhesive material 36 such as a solder paste or a conductive paste is applied to the conductive pad portion 34 using a printing machine (see FIG. 1C). At this time, potting may be performed in addition to the application. Examples of the solder paste include Sn / Pb, Sn / Sb, Sn / Ag, and Sn.
Any of / Ag / Cu can be used. Then, a filler 33 is disposed between the conductive pads 34 (FIG. 1).
(D)). This makes it possible to fill the gap between the chip capacitor 20 and the first resin substrate 30a as described later. Next, the chip capacitors 20 made of a plurality of ceramics are placed on the conductive pad portions 34, and the chip capacitors 20 are connected to the conductive pad portions 34 via the adhesive material 36 (see FIG. 2A). One or a plurality of chip capacitors 20 may be used, but using a plurality of chip capacitors 20 enables high integration of the capacitors.

【0062】(3)次に、ガラスクロス等の心材にエポ
キシ樹脂を含浸させたプリプレグ(接着用樹脂層)38
a、38b及びガラスクロス等の心材にBT樹脂を含浸
させて硬化させた第2樹脂基板30b(厚さ0.4m
m)、第3の樹脂基板30c(厚さ0.1mm)を用意
する。プリプレグ38a及び第2樹脂基板30bには、
チップコンデンサ20を収容可能な通孔38A、30B
を形成しておく。まず、第3樹脂基板30cの上にプリ
プレグ38bを介して第2樹脂基板30bを載置する。
次に、第2樹脂基板30bの上にプリプレグ38aを介
して、第1樹脂基板30aを反転して載置する。即ち、
第1樹脂基板30aに接続されたチップコンデンサ20
がプリプレグ38a側を向き、第2樹脂基板30bに形
成された通孔にチップコンデンサ20が収容できるよう
に重ね合わせる(図2(B)参照)。これにより、コア
基板30内にチップコンデンサ20を収容することが可
能となり、ループインダクタンスを低減させたプリント
配線板を提供することができる。
(3) Next, a prepreg (adhesive resin layer) 38 in which a core material such as glass cloth is impregnated with an epoxy resin.
a, 38b and a core material such as glass cloth impregnated with a BT resin and cured to form a second resin substrate 30b (0.4 m thick).
m), a third resin substrate 30c (0.1 mm thick) is prepared. The prepreg 38a and the second resin substrate 30b include:
Through holes 38A, 30B capable of accommodating chip capacitor 20
Is formed. First, the second resin substrate 30b is mounted on the third resin substrate 30c via the prepreg 38b.
Next, the first resin substrate 30a is inverted and placed on the second resin substrate 30b via the prepreg 38a. That is,
Chip capacitor 20 connected to first resin substrate 30a
Are oriented so as to face the prepreg 38a side so that the chip capacitor 20 can be accommodated in the through hole formed in the second resin substrate 30b (see FIG. 2B). Thereby, the chip capacitor 20 can be accommodated in the core substrate 30, and a printed wiring board with reduced loop inductance can be provided.

【0063】(4)そして、重ね合わせた基板を熱プレ
スを用いて加圧プレスすることにより、第1、第2、第
3樹脂基板30a、30b、30cを多層状に一体化
し、複数個のチップコンデンサ20を有するコア基板3
0を形成する(図2(C)参照)。ここでは、先ず、加
圧されることでプリプレグ38a、38bからエポキシ
樹脂(絶縁性樹脂)を周囲に押し出し、開口30Bとチ
ップコンデンサ20との間の隙間を充填させる。更に、
加圧と同時に加熱されることで、エポキシ樹脂が硬化
し、プリプレグ38a、38bを接着用樹脂として介在
させることで、第1樹脂基板30aと第2樹脂基板30
bと第3樹脂基板30cとを強固に接着させる。なお、
本実施形態では、プリプレグから出るエポキシ樹脂によ
り、開口30B内の隙間を充填したが、この代わりに、
開口30B内に充填材を配置しておくことも可能であ
る。ここで、コア基板30の両面が平滑な第1樹脂基板
30a、第3樹脂基板30cなので、コア基板30の平
滑性が損なわれず、後述する工程で、コア基板30の上
に樹脂層40および導体回路58を適切に形成すること
ができ、プリント配線板の不良品発生率を低下させるこ
とができる。また、コア基板30に十分な強度を得るこ
とができる。
(4) Then, the first, second, and third resin substrates 30a, 30b, and 30c are integrated in a multilayer shape by pressing the superposed substrates by using a hot press. Core substrate 3 having chip capacitor 20
0 is formed (see FIG. 2C). Here, first, the epoxy resin (insulating resin) is extruded from the prepregs 38a and 38b to the surroundings by being pressurized to fill the gap between the opening 30B and the chip capacitor 20. Furthermore,
The epoxy resin is cured by being heated at the same time as the pressurization, and the prepregs 38a and 38b are interposed as adhesive resins, so that the first resin substrate 30a and the second resin substrate 30 are interposed.
b and the third resin substrate 30c are firmly bonded. In addition,
In the present embodiment, the gap in the opening 30B is filled with the epoxy resin coming out of the prepreg.
It is also possible to arrange a filler in the opening 30B. Here, since the first resin substrate 30a and the third resin substrate 30c have smooth surfaces on both sides of the core substrate 30, the smoothness of the core substrate 30 is not impaired, and the resin layer 40 and the conductor The circuit 58 can be formed appropriately, and the occurrence rate of defective products on the printed wiring board can be reduced. Further, sufficient strength can be obtained for the core substrate 30.

【0064】(5)上記工程を経た基板30に、後述す
る熱硬化型樹脂フィルムを温度50〜150℃まで昇温
しながら圧力5kg/cm2で真空圧着ラミネートし、
層間樹脂絶縁層40を設ける(図2(D)参照)。真空
圧着時の真空度は、10mmHgである。
(5) A thermosetting resin film, which will be described later, is vacuum-press-laminated on the substrate 30 having undergone the above steps at a pressure of 5 kg / cm 2 while the temperature is raised to a temperature of 50 to 150 ° C.
An interlayer resin insulating layer 40 is provided (see FIG. 2D). The degree of vacuum during vacuum compression is 10 mmHg.

【0065】(6)次いで、第1樹脂基板30a側の層
間樹脂絶縁層40及び第1樹脂基板30aに、レーザに
より導体パッド部34へ至るバイアホール用開口42を
形成する(図3(A)参照)。
(6) Next, a via hole opening 42 is formed in the interlayer resin insulation layer 40 on the first resin substrate 30a side and the first resin substrate 30a by laser to reach the conductor pad portion 34 (FIG. 3A). reference).

【0066】(7)そして、コア基板30にドリル又は
レーザにより、スルーホール用貫通孔44を形成する
(図3(B)参照)。この後、酸素プラズマを用いてデ
スミア処理を行う。あるいは、過マンガン酸などの薬液
によるデスミヤ処理を行ってもよい。
(7) Then, through holes 44 for through holes are formed in the core substrate 30 by using a drill or a laser (see FIG. 3B). Thereafter, desmear treatment is performed using oxygen plasma. Alternatively, desmear treatment with a chemical such as permanganate may be performed.

【0067】(8)次に、日本真空技術株式会社製のS
V−4540を用いてプラズマ処理を行い、コア基板3
0の全表面に粗化面46を形成する。この際、不活性ガ
スとしてはアルゴンガスを使用し、電力200W、ガス
圧0.6Pa、温度70℃の条件で、2分間プラズマ処
理を実施する。その後、Ni及びCuをターゲットにし
たスパッタリングを行い、Ni/Cu金属層48を層間
樹脂絶縁層40の表面に形成する(図3(C)参照)。
ここでは、スパッタを用いているが、無電解めっきによ
り、銅、ニッケル等の金属層を形成してもよい。また、
場合によってはスパッタで形成した後に、無電解めっき
膜を形成させてもよい。酸あるいは酸化剤によって粗化
処理を施してもよい。また、粗化層は、0.1〜5μm
が望ましい。
(8) Next, S manufactured by Japan Vacuum Engineering Co., Ltd.
Plasma processing is performed using V-4540, and core substrate 3
A roughened surface 46 is formed on the entire surface of 0. At this time, argon gas is used as an inert gas, and plasma processing is performed for 2 minutes under the conditions of power 200 W, gas pressure 0.6 Pa, and temperature 70 ° C. After that, sputtering using Ni and Cu as targets is performed to form a Ni / Cu metal layer 48 on the surface of the interlayer resin insulating layer 40 (see FIG. 3C).
Here, sputtering is used, but a metal layer such as copper or nickel may be formed by electroless plating. Also,
In some cases, the electroless plating film may be formed after the formation by sputtering. Roughening treatment may be performed with an acid or an oxidizing agent. The roughened layer has a thickness of 0.1 to 5 μm.
Is desirable.

【0068】(9)次に、Ni/Cu金属層48の表面
に感光性ドライフィルムを貼り付け、マスクを載置し
て、露光・現像処理し、所定パターンのレジスト50を
形成する(図3(D)参照)。そして、電解めっき液に
コア基板30を浸漬し、Ni/Cu金属層48を介して
電流を流し、レジスト50非形成部に以下の条件で電解
めっきを施し、電解めっき膜52を形成する(図4
(A)参照)。
(9) Next, a photosensitive dry film is stuck on the surface of the Ni / Cu metal layer 48, a mask is placed, and exposure and development are performed to form a resist 50 having a predetermined pattern (FIG. 3). (D)). Then, the core substrate 30 is immersed in an electrolytic plating solution, an electric current is passed through the Ni / Cu metal layer 48, and an electrolytic plating is performed on the non-formed portion of the resist 50 under the following conditions to form an electrolytic plated film 52 (FIG. 4
(A)).

【0069】 〔電解めっき水溶液〕 硫酸 2.24 mol/l 硫酸銅 0.26 mol/l 添加剤(アトテックジャパン製、カパラシドHL) 19.5 ml/l 〔電解めっき条件〕 電流密度 1A/dm2 時間 120分 温度 22±2℃[Aqueous electrolytic plating solution] Sulfuric acid 2.24 mol / l Copper sulfate 0.26 mol / l Additive (manufactured by Atotech Japan, Capparaside HL) 19.5 ml / l [Electroplating conditions] Current density 1 A / dm 2 Time 120 minutes Temperature 22 ± 2 ℃

【0070】(10)レジスト50を5%NaOHで剥
離除去した後、そのレジスト50下のNi−Cu合金層
48を硝酸および硫酸と過酸化水素の混合液を用いるエ
ッチングにて溶解除去し、Ni−Cu合金層48と電解
めっき膜52からなる厚さ16μmのスルーホール56
及び導体回路58(バイアホール60を含む)を形成す
る。そして、基板を水洗いし、乾燥した後、エッチング
液を基板の両面にスプレイで吹きつけて、スルーホール
56及び導体回路58(バイアホール60を含む)の表
面をエッチングすることにより、スルーホール56及び
導体回路58(バイアホール60を含む)の全表面に粗
化面62を形成する(図4(B)参照)。エッチング液
として、イミダゾール銅(II)錯体10重量部、グリ
コール酸7重量部、塩化カリウム5重量部およびイオン
交換水78重量部を混合したものを使用する。
(10) After removing and removing the resist 50 with 5% NaOH, the Ni—Cu alloy layer 48 under the resist 50 is dissolved and removed by etching using a mixed solution of nitric acid, sulfuric acid, and hydrogen peroxide. 16-μm-thick through-hole 56 formed of a Cu alloy layer 48 and an electrolytic plating film 52
And a conductor circuit 58 (including the via hole 60). Then, after the substrate is washed with water and dried, an etching solution is sprayed on both surfaces of the substrate by spraying to etch the surfaces of the through-hole 56 and the conductor circuit 58 (including the via-hole 60). A roughened surface 62 is formed on the entire surface of the conductor circuit 58 (including the via hole 60) (see FIG. 4B). As an etching solution, a mixture of 10 parts by weight of an imidazole copper (II) complex, 7 parts by weight of glycolic acid, 5 parts by weight of potassium chloride, and 78 parts by weight of ion-exchanged water is used.

【0071】(11)エポキシ系樹脂を主成分とする樹
脂充填剤64を、スルーホール56内に充填し、加熱乾
燥を行う。(図4(C)参照)。
(11) A resin filler 64 containing an epoxy resin as a main component is filled in the through hole 56, and is dried by heating. (See FIG. 4C).

【0072】(12)その後、(5)の工程で用いた熱
硬化型樹脂フィルムを温度50〜150℃まで昇温しな
がら圧力5kg/cm2で真空圧着ラミネートし、層間
樹脂絶縁層140を設ける(図4(D)参照)。真空圧
着時の真空度は、10mmHgである。
(12) Thereafter, the thermosetting resin film used in the step (5) is vacuum-press-laminated at a pressure of 5 kg / cm 2 while raising the temperature to a temperature of 50 to 150 ° C., and an interlayer resin insulating layer 140 is provided. (See FIG. 4D). The degree of vacuum during vacuum compression is 10 mmHg.

【0073】(13)次いで、層間樹脂絶縁層140に
レーザによりバイアホール用開口142を形成する(図
5(A)参照)。
(13) Next, a via hole opening 142 is formed in the interlayer resin insulating layer 140 by laser (see FIG. 5A).

【0074】(14)その後、(8)〜(10)の工程
を繰り返すことにより、層間樹脂絶縁層140上に、N
i−Cu合金層148と電解めっき膜152からなる厚
さ16μmの導体回路158(バイアホール160を含
む)及び粗化面162を形成する(図5(B)参照)。
(14) Thereafter, the steps (8) to (10) are repeated, so that N
A 16 μm-thick conductor circuit 158 (including the via hole 160) and a roughened surface 162 composed of the i-Cu alloy layer 148 and the electrolytic plating film 152 are formed (see FIG. 5B).

【0075】(15)さらに(12)〜(14)の工程
を繰り返すことにより、上層に層間樹脂絶縁層240及
び導体回路258(バイアホール260を含む)、粗化
面262を形成する(図5(C)参照)。
(15) Further, by repeating the steps (12) to (14), an interlayer resin insulating layer 240, a conductor circuit 258 (including a via hole 260) and a roughened surface 262 are formed as upper layers (FIG. 5). (C)).

【0076】(16)次に、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル(DMDG)に60重量%の濃度になるよ
うに溶解させた、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(日本化薬社製)のエポキシ基50%をアクリル化した
感光性付与のオリゴマー(分子量4000)46.67
重量部、メチルエチルケトンに溶解させた80重量%の
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル社製、商
品名:エピコート1001)15重量部、イミダゾール
硬化剤(四国化成社製、商品名:2E4MZ−CN)
1.6重量部、感光性モノマーである多官能アクリルモ
ノマー(共栄化学社製、商品名:R604)3重量部、
同じく多価アクリルモノマー(共栄化学社製、商品名:
DPE6A)1.5重量部、分散系消泡剤(サンノプコ
社製、商品名:S−65)0.71重量部を容器にと
り、攪拌、混合して混合組成物を調整し、この混合組成
物に対して光重量開始剤としてベンゾフェノン(関東化
学社製)2.0重量部、光増感剤としてのミヒラーケト
ン(関東化学社製)0.2重量部を加えて、粘度を25
℃で2.0Pa・sに調整したソルダーレジスト組成物
(有機樹脂絶縁材料)を得る。なお、粘度測定は、B型
粘度計(東京計器社製、DVL−B型)で60rpmの
場合はローターNo.4、6rpmの場合はローターN
o.3によった。
(16) Next, a cresol novolak type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) dissolved in diethylene glycol dimethyl ether (DMDG) so as to have a concentration of 60% by weight was used. Oligomer for imparting properties (molecular weight 4000) 46.67
15 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (trade name: Epicoat 1001 manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) of 80% by weight dissolved in methyl ethyl ketone, imidazole hardener (trade name: 2E4MZ-CN)
1.6 parts by weight, 3 parts by weight of a polyfunctional acrylic monomer (manufactured by Kyoei Chemical Co., trade name: R604) as a photosensitive monomer,
Similarly, polyvalent acrylic monomer (manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd., trade name:
1.5 parts by weight of DPE6A) and 0.71 part by weight of a dispersant antifoaming agent (manufactured by San Nopco, trade name: S-65) are placed in a container, stirred and mixed to prepare a mixed composition. Of benzophenone (manufactured by Kanto Kagaku) and 0.2 parts by weight of Michler's ketone (manufactured by Kanto Kagaku) as a photosensitizer were added to give a viscosity of 25.
A solder resist composition (organic resin insulating material) adjusted to 2.0 Pa · s at ° C is obtained. The viscosity was measured using a B-type viscometer (DVL-B type, manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd.) at 60 rpm with rotor No. 4, and at 6 rpm with rotor N.
According to o.3.

【0077】(17)次に、基板30の両面に、上記ソ
ルダーレジスト組成物を20μmの厚さで塗布し、70
℃で20分間、70℃で30分間の条件で乾燥処理を行
った後、ソルダーレジスト開口部のパターンが描画され
た厚さ5mmのフォトマスクをソルダーレジスト層70
に密着させて1000mJ/cm2の紫外線で露光し、
DMTG溶液で現像処理し、開口71を形成する(図6
(A)参照)。
(17) Next, the solder resist composition is applied on both sides of the substrate 30 to a thickness of 20 μm,
After performing a drying process under the conditions of 20 ° C. for 20 minutes and 70 ° C. for 30 minutes, a 5 mm-thick photomask on which a pattern of the solder resist opening is drawn is applied to the solder resist layer 70.
And exposed to ultraviolet light of 1000 mJ / cm 2 ,
An opening 71 is formed by developing with a DMTG solution (FIG. 6).
(A)).

【0078】(18)次に、ソルダーレジスト層(有機
樹脂絶縁層)70を形成した基板を、塩化ニッケル
(2.3×10-1mol/l)、次亞リン酸ナトリウム
(2.8×10-1mol/l)、クエン酸ナトリウム
(1.6×10-1mol/l)を含むpH=4.5の無
電解ニッケルめっき液に20分間浸漬して、開口部71
に厚さ5μmのニッケルめっき層72を形成する。さら
に、その基板を、シアン化金カリウム(7.6×10-3
mol/l)、塩化アンモニウム(1.9×10-1mo
l/l)、クエン酸ナトリウム(1.2×10-1mol
/l)、次亜リン酸ナトリウム(1.7×10-1mol
/l)を含む無電解めっき液に80℃の条件で7.5分
間浸漬して、ニッケルめっき層72上に厚さ0.03μ
mの金めっき層74を形成する(図6(B)参照)。
(18) Next, the substrate on which the solder resist layer (organic resin insulating layer) 70 has been formed is coated with nickel chloride (2.3 × 10 -1 mol / l) and sodium hypophosphite (2.8 × 10 -1 mol / l). 10 -1 mol / l) and an electroless nickel plating solution having a pH of 4.5 containing sodium citrate (1.6 × 10 -1 mol / l) for 20 minutes.
Then, a nickel plating layer 72 having a thickness of 5 μm is formed. Further, the substrate was subjected to potassium gold cyanide (7.6 × 10 −3).
mol / l), ammonium chloride (1.9 × 10 -1 mo)
1 / l), sodium citrate (1.2 × 10 -1 mol)
/ L), sodium hypophosphite (1.7 × 10 -1 mol)
/ L) is immersed for 7.5 minutes at 80 ° C. in an electroless plating solution containing
An m-th gold plating layer 74 is formed (see FIG. 6B).

【0079】(19)この後、ソルダーレジスト層70
の開口部71に、はんだペーストを印刷して、200℃
でリフローすることにより、はんだバンプ(半田体)7
6U、76Dを形成する。これにより、半田バンプ76
U、76Dを有するプリント配線板10を得ることがで
きる(図7参照)。
(19) Thereafter, the solder resist layer 70
The solder paste is printed on the opening 71 of
Reflow solder bumps (solder bodies) 7
6U and 76D are formed. Thereby, the solder bumps 76
The printed wiring board 10 having U and 76D can be obtained (see FIG. 7).

【0080】次に、上述した工程で完成したプリント配
線板10へのICチップ90の載置および、ドータボー
ド95への取り付けについて、図8を参照して説明す
る。完成したプリント配線板10の半田バンプ76Uに
ICチップ90の半田パッド92P1、92P2が対応
するように、ICチップ90を載置し、リフローを行う
ことでICチップ90の取り付けを行う。同様に、プリ
ント配線板10の半田バンプ76Dにドータボード95
のパッド94P1、94P2が対応するように、リフロ
ーすることで、ドータボード95へプリント配線板10
を取り付ける。
Next, mounting of the IC chip 90 on the printed wiring board 10 completed in the above-described steps and mounting on the daughter board 95 will be described with reference to FIG. The IC chip 90 is placed so that the solder pads 92P1 and 92P2 of the IC chip 90 correspond to the solder bumps 76U of the completed printed wiring board 10, and the IC chip 90 is mounted by performing reflow. Similarly, a daughter board 95 is attached to the solder bump 76D of the printed wiring board 10.
Are reflowed so that the pads 94P1 and 94P2 correspond to the printed wiring board 10
Attach.

【0081】引き続き、本発明の第1実施形態の改変例
に係るプリント配線板について、図9を参照して説明す
る。改変例のプリント配線板は、上述した第1実施形態
とほぼ同様である。但し、この改変例のプリント配線板
では、導電性ピン84が配設され、該導電性ピン84を
介してドータボードとの接続を取るように形成されてい
る。
Next, a printed wiring board according to a modification of the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board of the modified example is substantially the same as the above-described first embodiment. However, in the printed wiring board of this modified example, the conductive pins 84 are provided, and are formed so as to be connected to the daughter board via the conductive pins 84.

【0082】図13(B)に第1改変例に係るチップコ
ンデンサ20の断面を示す。第1実施形態では、コンデ
ンサの表面に粗化処理を施し、樹脂との密着性を高めた
が、改変例では、この代わりに、ポリイミド膜23bを
形成しておくことで、表面濡れ性を改善してある。ポリ
イミド膜の代わりに、コンデンサの表面にシランカップ
リング処理を施すことも可能である。
FIG. 13B shows a cross section of a chip capacitor 20 according to a first modification. In the first embodiment, the surface of the capacitor is subjected to a roughening treatment to improve the adhesiveness with the resin, but in a modified example, a polyimide film 23b is formed instead to improve the surface wettability. I have. Instead of the polyimide film, the surface of the capacitor may be subjected to a silane coupling treatment.

【0083】また、第1改変例では、導電性ペースト2
6の上に、無電解銅めっき膜28a及び電解銅めっき膜
28bからなる複合金属膜28を形成されている。複合
金属膜28の厚みは、0.1〜10μmが望ましく、1
〜5μmが最適である。複合金属膜の代わりに、1層の
金属膜を形成することも可能である。
In the first modification, the conductive paste 2
6, a composite metal film 28 composed of an electroless copper plating film 28a and an electrolytic copper plating film 28b is formed. The thickness of the composite metal film 28 is desirably 0.1 to 10 μm.
55 μm is optimal. Instead of a composite metal film, it is also possible to form a single-layer metal film.

【0084】第1改変例では、コンデンサ20の電極2
1,22の導電性ペースト26上に金属層28を設けて
あるため、電極21、22でのマイグレーションの発生
を防止することができ、また、接続抵抗を更に低減する
ことができる。メタライズからなる電極21、22は、
表面に凹凸があり、接着材料36で直接接続を取って
も、完全に密着することができないが、導電性ペースト
26を塗布し、更に、金属層28を設けることで凹凸を
完全に無くすことができ、密着性を高め、接続抵抗を下
げることができる。
In the first modification, the electrode 2 of the capacitor 20
Since the metal layer 28 is provided on the conductive pastes 1 and 22, the occurrence of migration at the electrodes 21 and 22 can be prevented, and the connection resistance can be further reduced. The electrodes 21 and 22 made of metallized
Although there is unevenness on the surface, even if a direct connection is made with the adhesive material 36, it cannot be completely adhered. However, it is possible to completely eliminate the unevenness by applying the conductive paste 26 and further providing the metal layer 28. It is possible to increase the adhesion and lower the connection resistance.

【0085】また、上述した第1実施形態では、コア基
板30に収容されるチップコンデンサ20のみを備えて
いたが、第1改変例では、表面及び裏面に大容量のチッ
プコンデンサ86が実装されている。
In the first embodiment described above, only the chip capacitor 20 housed in the core substrate 30 is provided. However, in the first modification, a large-capacity chip capacitor 86 is mounted on the front and back surfaces. I have.

【0086】ICチップは、瞬時的に大電力を消費して
複雑な演算処理を行う。ここで、ICチップ側に大電力
を供給するために、改変例では、プリント配線板に電源
用のチップコンデンサ20及びチップコンデンサ86を
備えてある。このチップコンデンサによる効果につい
て、図12を参照して説明する。
The IC chip instantaneously consumes a large amount of power and performs complicated arithmetic processing. Here, in order to supply a large electric power to the IC chip side, in a modified example, a chip capacitor 20 and a chip capacitor 86 for power supply are provided on the printed wiring board. The effect of the chip capacitor will be described with reference to FIG.

【0087】図12は、縦軸にICチップへ供給される
電圧を、横軸に時間を取ってある。ここで、二点鎖線C
は、電源用コンデンサを備えないプリント配線板の電圧
変動を示している。電源用コンデンサを備えない場合に
は、大きく電圧が減衰する。破線Aは、表面にチップコ
ンデンサを実装したプリント配線板の電圧変動を示して
いる。上記二点鎖線Cと比較して電圧は大きく落ち込ま
ないが、ループ長さが長くなるので、律速の電源供給が
十分に行えていない。即ち、電力の供給開始時に電圧が
降下している。また、二点鎖線Bは、図8を参照して上
述したチップコンデンサを内蔵するプリント配線板の電
圧降下を示している。ループ長さは短縮できているが、
コア基板30に容量の大きなチップコンデンサを収容す
ることができないため、電圧が変動している。ここで、
実線Eは、図9を参照して上述したコア基板内のチップ
コンデンサ20を、また表面に大容量のチップコンデン
サ86を実装する改変例のプリント配線板の電圧変動を
示している。ICチップの近傍にチップコンデンサ20
を、また、大容量(及び相対的に大きなインダクタン
ス)のチップコンデンサ86を備えることで、電圧変動
を最小に押さえている。
FIG. 12 shows the voltage supplied to the IC chip on the vertical axis and the time on the horizontal axis. Here, the two-dot chain line C
Indicates voltage fluctuation of a printed wiring board without a power supply capacitor. When the power supply capacitor is not provided, the voltage greatly decreases. A broken line A indicates a voltage fluctuation of a printed wiring board having a chip capacitor mounted on the surface. Although the voltage does not drop much as compared with the two-dot chain line C, the rate-limiting power supply cannot be performed sufficiently because the loop length is long. That is, the voltage drops at the start of power supply. The two-dot chain line B indicates the voltage drop of the printed wiring board having the chip capacitor described above with reference to FIG. Although the loop length has been shortened,
Since a large-capacity chip capacitor cannot be accommodated in the core substrate 30, the voltage fluctuates. here,
A solid line E indicates the voltage fluctuation of the printed wiring board of the modification in which the chip capacitor 20 in the core substrate described above with reference to FIG. 9 and the large-capacity chip capacitor 86 are mounted on the surface. A chip capacitor 20 near the IC chip
And a large-capacity (and relatively large inductance) chip capacitor 86 minimizes voltage fluctuations.

【0088】次に、本発明の第2実施形態に係るプリン
ト配線板について、図11を参照して説明する。この第
2実施形態のプリント配線板の構成は、上述した第1実
施形態とほぼ同様である。但し、第2実施形態のプリン
ト配線板210では、第1樹脂基板30a、第3樹脂基
板30cの片面に導体回路35が形成され、チップコン
デンサ20を収容する開口30Bを設けた第2樹脂基板
30bの両面に、導体回路37が形成されている。この
第2実施形態では、第1樹脂基板30a、第3樹脂基板
30cの片面に導体回路35が形成され、第2樹脂基板
30bの両面に導体回路37が形成されているため、配
線密度を高めることができ、ビルドアップする層間樹脂
絶縁層の層数を減らすことができる利点がある。なお、
電極には、第1実施形態と同様に導電性ペースト、ある
いは、第1実施形態の第1改変例と同様に導電性ペース
ト及び複合金属層が形成されている。
Next, a printed wiring board according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The configuration of the printed wiring board of the second embodiment is substantially the same as that of the above-described first embodiment. However, in the printed wiring board 210 of the second embodiment, the conductor circuit 35 is formed on one surface of the first resin substrate 30a and the third resin substrate 30c, and the second resin substrate 30b having the opening 30B for accommodating the chip capacitor 20 is provided. The conductor circuit 37 is formed on both surfaces of the substrate. In the second embodiment, the conductor circuit 35 is formed on one surface of the first resin substrate 30a and the third resin substrate 30c, and the conductor circuit 37 is formed on both surfaces of the second resin substrate 30b. This has the advantage that the number of interlayer resin insulation layers to be built up can be reduced. In addition,
The electrode is formed with a conductive paste as in the first embodiment, or a conductive paste and a composite metal layer as in the first modification of the first embodiment.

【0089】本発明の第2実施形態に係るプリント配線
板の製造工程について、図10及び図11を参照して説
明する。
The manufacturing process of the printed wiring board according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0090】(1)厚さ0.1mmのガラスクロス等の
心材にBT(ビスマレイミドトリアジン)樹脂を含浸さ
せて硬化させた第1樹脂基板30aを用意する。第1樹
脂基板30aには、片面に導電パッド部34、もう一方
の面に導体回路35が形成されている。次に、導電パッ
ド部34に複数個のチップコンデンサ20を半田、導電
性ペースト等の接着材料36を介して載置し、チップコ
ンデンサ20を導電パッド部34に接続する(図10
(A)参照)。
(1) A first resin substrate 30a in which a core material such as a glass cloth having a thickness of 0.1 mm is impregnated with a BT (bismaleimide triazine) resin and cured is prepared. The first resin substrate 30a has a conductive pad portion 34 formed on one surface and a conductive circuit 35 formed on the other surface. Next, a plurality of chip capacitors 20 are mounted on the conductive pad portions 34 via an adhesive material 36 such as solder or conductive paste, and the chip capacitors 20 are connected to the conductive pad portions 34 (FIG. 10).
(A)).

【0091】(2)次に、ガラスクロス等の心材にエポ
キシ樹脂を含浸させたプリプレグ(接着用樹脂層)38
a、38b及びガラスクロス等の心材にBT樹脂を含浸
させて硬化させた第2樹脂基板30b(厚さ0.4m
m)、第3樹脂基板30c(厚さ0.1mm)を用意す
る。プリプレグ38a及び第2樹脂基板30bには、チ
ップコンデンサ20を収容可能な通孔38A、30Bを
形成しておく。また、第2樹脂基板30bの両面に導体
回路37を形成し、第3樹脂基板30cの片面に導体回
路35を形成しておく。まず、第3樹脂基板30cの導
体回路35が形成されていない面に、プリプレグ38b
を介して第2樹脂基板30bを載置する。第2樹脂基板
30bの上にプリプレグ38aを介して、第1樹脂基板
30aを反転して載置する。即ち、第1樹脂基板30a
に接続されたチップコンデンサ20が第2樹脂基板30
bに形成された開口30Bへ収容されるように重ね合わ
せる(図10(B)参照)。
(2) Next, a prepreg (adhesive resin layer) 38 in which a core material such as glass cloth is impregnated with an epoxy resin.
a, 38b and a core material such as glass cloth impregnated with a BT resin and cured to form a second resin substrate 30b (0.4 m thick).
m), a third resin substrate 30c (0.1 mm thick) is prepared. In the prepreg 38a and the second resin substrate 30b, through holes 38A and 30B capable of accommodating the chip capacitor 20 are formed. Further, the conductor circuits 37 are formed on both surfaces of the second resin substrate 30b, and the conductor circuits 35 are formed on one surface of the third resin substrate 30c. First, the prepreg 38b is placed on the surface of the third resin substrate 30c where the conductor circuit 35 is not formed.
The second resin substrate 30b is placed via the. The first resin substrate 30a is inverted and placed on the second resin substrate 30b via the prepreg 38a. That is, the first resin substrate 30a
The chip capacitor 20 connected to the second resin substrate 30
b) so as to be accommodated in the opening 30B formed in the opening b (see FIG. 10B).

【0092】(3)そして、重ね合わせた基板を熱プレ
スを用いて加圧プレスすることにより、第1、第2、第
3樹脂基板30a、30b、30cを多層状に一体化
し、複数個のチップコンデンサ20を有するコア基板3
0を形成する(図10(C)参照)。先ず、加圧される
ことでプリプレグ38a、38bからエポキシ樹脂(絶
縁性樹脂)を周囲に押し出し、開口30Bとチップコン
デンサ20との間の隙間を充填させる。更に、加圧と同
時に加熱されることで、エポキシ樹脂が硬化し、プリプ
レグ38a、38bを接着用樹脂として介在させること
で、第1樹脂基板30aと第2樹脂基板30bと第3樹
脂基板30cとを強固に接着させる。
(3) Then, the first, second, and third resin substrates 30a, 30b, and 30c are integrated into a multi-layer by pressing the superposed substrates using a hot press. Core substrate 3 having chip capacitor 20
0 is formed (see FIG. 10C). First, an epoxy resin (insulating resin) is extruded from the prepregs 38a and 38b to the surroundings by being pressurized to fill a gap between the opening 30B and the chip capacitor 20. Further, the epoxy resin is cured by being heated at the same time as the pressurization, and the prepregs 38a and 38b are interposed as adhesive resins, so that the first resin substrate 30a, the second resin substrate 30b, and the third resin substrate 30c Is firmly adhered.

【0093】(4)上記工程を経た基板に、熱硬化型樹
脂フィルムを温度50〜150℃まで昇温しながら圧力
5kg/cm2で真空圧着ラミネートし、層間樹脂絶縁
層40を設ける(図10(D)参照)。真空圧着時の真
空度は、10mmHgである。
(4) A thermosetting resin film is vacuum-press-laminated on the substrate having undergone the above steps at a pressure of 5 kg / cm 2 while raising the temperature to a temperature of 50 to 150 ° C. to provide an interlayer resin insulating layer 40 (FIG. 10). (D)). The degree of vacuum during vacuum compression is 10 mmHg.

【0094】(5)次いで、基板30の上面及び下面
に、レーザにより導体パッド部34及び導体回路35、
37に接続するバイアホール用開口42を形成する(図
10(E)参照)。以降の工程は、上述した第1実施形
態の(7)〜(19)と同様であるため説明を省略す
る。
(5) Next, on the upper and lower surfaces of the substrate 30, the conductor pad portions 34 and the conductor circuits 35,
A via hole opening 42 to be connected to 37 is formed (see FIG. 10E). Subsequent steps are the same as steps (7) to (19) in the first embodiment described above, and thus description thereof is omitted.

【0095】引き続き、本発明の第3実施形態に係るプ
リント配線板の構成について図14を参照して説明す
る。この第3実施形態のプリント配線板の構成は、上述
した第1実施形態とほぼ同様である。但し、コア基板3
0への収容されるチップコンデンサ20が異なる。図1
4は、チップコンデンサの平面図を示している。図14
(A)は、多数個取り用の裁断前のチップコンデンサを
示し、図中で一点鎖線は、裁断線を示している。上述し
た第1実施形態のプリント配線板では、図14(B)に
平面図を示すようにチップコンデンサの側縁に第1電極
21及び第2電極22を配設してある。図14(C)
は、第3実施形態の多数個取り用の裁断前のチップコン
デンサを示し、図中で一点鎖線は、裁断線を示してい
る。第3実施形態のプリント配線板では、図14(D)
に平面図を示すようにチップコンデンサの側縁の内側に
第1電極21及び第2電極22を配設してある。なお、
電極には、第1実施形態と同様に導電性ペースト、ある
いは、第1実施形態の第1改変例と同様に導電性ペース
ト及び複合金属層が形成されている。
Next, the configuration of the printed wiring board according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The configuration of the printed wiring board of the third embodiment is substantially the same as that of the above-described first embodiment. However, the core substrate 3
The chip capacitors 20 housed to 0 are different. Figure 1
4 shows a plan view of the chip capacitor. FIG.
(A) shows a chip capacitor for multi-piece cutting before cutting, and a dashed line in the drawing shows a cutting line. In the printed wiring board of the first embodiment described above, the first electrode 21 and the second electrode 22 are provided on the side edges of the chip capacitor as shown in the plan view of FIG. FIG. 14 (C)
Represents a chip capacitor for multi-piece cutting according to the third embodiment before cutting, and a dashed line in the drawing indicates a cutting line. In the printed wiring board of the third embodiment, FIG.
As shown in the plan view, a first electrode 21 and a second electrode 22 are provided inside the side edge of the chip capacitor. In addition,
The electrode is formed with a conductive paste as in the first embodiment, or a conductive paste and a composite metal layer as in the first modification of the first embodiment.

【0096】この第3実施形態のプリント配線板では、
外縁の内側に電極の形成されたチップコンデンサ20を
用いるため、容量の大きなチップコンデンサを用いるこ
とができる。
In the printed wiring board according to the third embodiment,
Since the chip capacitor 20 having the electrode formed inside the outer edge is used, a large-capacity chip capacitor can be used.

【0097】引き続き、第3実施形態の第1改変例に係
るプリント配線板図15を参照して説明する。図15
は、第1改変例に係るプリント配線板のコア基板に収容
されるチップコンデンサ20の平面図を示している。上
述した第1実施形態では、複数個の小容量のチップコン
デンサをコア基板に収容したが、第1改変例では、大容
量の大判のチップコンデンサ20をコア基板に収容して
ある。ここで、チップコンデンサ20は、第1電極21
と第2電極22と、誘電体23と、第1電極21へ接続
された第1導電膜24と、第2電極22側に接続された
第2導電膜25と、第1導電膜24及び第2導電膜25
へ接続されていないチップコンデンサの上下面の接続用
の電極27とから成る。この電極27を介してICチッ
プ側とドータボード側とが接続されている。
Next, a printed wiring board according to a first modification of the third embodiment will be described with reference to FIG. FIG.
Shows a plan view of the chip capacitor 20 housed in the core substrate of the printed wiring board according to the first modification. In the above-described first embodiment, a plurality of small-capacity chip capacitors are housed in the core substrate. In the first modification, a large-capacity large-format chip capacitor 20 is housed in the core substrate. Here, the chip capacitor 20 is connected to the first electrode 21.
, The second electrode 22, the dielectric 23, the first conductive film 24 connected to the first electrode 21, the second conductive film 25 connected to the second electrode 22, the first conductive film 24 and the first conductive film 24. 2 conductive film 25
And the connection electrodes 27 on the upper and lower surfaces of the chip capacitor not connected to the chip capacitor. The IC chip side and the daughter board side are connected via the electrodes 27.

【0098】この第1改変例のプリント配線板では、大
判のチップコンデンサ20を用いるため、容量の大きな
チップコンデンサを用いることができる。また、大判の
チップコンデンサ20を用いるため、ヒートサイクルを
繰り返してもプリント配線板に反りが発生することがな
い。なお、電極には、第1実施形態と同様に導電性ペー
スト、あるいは、第1実施形態の第1改変例と同様に導
電性ペースト及び複合金属層が形成されている。
In the printed wiring board of the first modified example, since the large-sized chip capacitor 20 is used, a large-capacity chip capacitor can be used. Further, since the large chip capacitor 20 is used, the printed wiring board does not warp even if the heat cycle is repeated. Note that a conductive paste is formed on the electrode as in the first embodiment, or a conductive paste and a composite metal layer are formed as in the first modification of the first embodiment.

【0099】図16を参照して第2改変例に係るプリン
ト配線板について説明する。図16(A)は、多数個取
り用の裁断前のチップコンデンサを示し、図中で一点鎖
線は、通常の裁断線を示し、図16(B)は、チップコ
ンデンサの平面図を示している。図16(B)に示すよ
うに、この第2改変例では、多数個取り用のチップコン
デンサを複数個(図中の例では3枚)連結させて大判で
用いている。
A printed wiring board according to a second modification will be described with reference to FIG. FIG. 16A shows a chip capacitor before cutting for multi-cavity production, in which a dashed line indicates a normal cutting line, and FIG. 16B shows a plan view of the chip capacitor. . As shown in FIG. 16B, in the second modification, a plurality of (three in the example in the figure) multi-chip chip capacitors are connected and used in a large format.

【0100】この第2改変例では、大判のチップコンデ
ンサ20を用いるため、容量の大きなチップコンデンサ
を用いることができる。また、大判のチップコンデンサ
20を用いるため、ヒートサイクルを繰り返してもプリ
ント配線板に反りが発生することがない。なお、電極に
は、第1実施形態と同様に導電性ペースト、あるいは、
第1実施形態の第1改変例と同様に導電性ペースト及び
複合金属層が形成されている。
In the second modification, a large-sized chip capacitor 20 is used, so that a large-capacity chip capacitor can be used. Further, since the large chip capacitor 20 is used, the printed wiring board does not warp even if the heat cycle is repeated. In addition, as in the first embodiment, a conductive paste or
The conductive paste and the composite metal layer are formed as in the first modification of the first embodiment.

【0101】上述した第3実施形態では、チップコンデ
ンサをプリント配線板に内蔵させたが、チップコンデン
サの代わりに、セラミック板に導電体膜を設けてなる板
状のコンデンサを用いることも可能である。
In the above-described third embodiment, the chip capacitor is built in the printed wiring board. However, instead of the chip capacitor, it is also possible to use a plate-like capacitor in which a conductor film is provided on a ceramic plate. .

【0102】[0102]

【発明の効果】本発明の製造方法により、コア基板内に
コンデンサを収容することが可能となり、ICチップと
コンデンサとの距離が短くなるため、プリント配線板の
ループインダクタンスを低減できる。また、樹脂基板を
積層してなるためコア基板に十分な強度を得ることがで
きる。更に、コア基板の両面に第1樹脂基板、第3樹脂
基板を配設することでコア基板を平滑に構成するため、
コア基板の上に層間樹脂絶縁層および導体回路を適切に
形成することができ、プリント配線板の不良品発生率を
低下させることができる。また、コンデンサのメタライ
ズからなる電極の表面に導電性ペーストが塗布されてい
るため、メタライズからなり表面の抵抗の高い電極の電
気接続性を改善することができる。また、メタライズか
らなる電極は、表面に凹凸があり、導電性接着剤で直接
接続を取っても、完全に密着することができないが、導
電性ペーストにより凹凸を無くすことができ、密着性を
高め、接続抵抗を下げることができる。また、メタライ
ズからなる電極が、周囲の樹脂層と導電性ペーストを介
して接触するため、電極と樹脂層との熱膨張差による応
力の発生を抑え、樹脂層のクラックや剥離が無くなる。
また、コンデンサを銅によって被覆されている場合に
も、マイグレーションの発生を防止することができる。
According to the manufacturing method of the present invention, the capacitor can be accommodated in the core substrate, and the distance between the IC chip and the capacitor is shortened, so that the loop inductance of the printed wiring board can be reduced. Further, since the resin substrate is laminated, sufficient strength can be obtained for the core substrate. Furthermore, since the first resin substrate and the third resin substrate are provided on both surfaces of the core substrate to make the core substrate smooth,
The interlayer resin insulating layer and the conductor circuit can be appropriately formed on the core substrate, and the defective product occurrence rate of the printed wiring board can be reduced. In addition, since the conductive paste is applied to the surface of the metallized electrode of the capacitor, the electrical connectivity of the metallized electrode having a high surface resistance can be improved. The metallized electrode has irregularities on the surface and cannot be completely adhered even if it is directly connected with a conductive adhesive.However, the irregularity can be eliminated by the conductive paste to improve the adhesion. , Connection resistance can be reduced. In addition, since the metallized electrode is in contact with the surrounding resin layer via the conductive paste, the generation of stress due to the difference in thermal expansion between the electrode and the resin layer is suppressed, and cracks and peeling of the resin layer are eliminated.
Also, even when the capacitor is covered with copper, the occurrence of migration can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(A)、(B)、(C)、(D)は、本発明の
第1実施形態に係るプリント配線板の製造工程図であ
る。
FIGS. 1A, 1B, 1C, and 1D are manufacturing process diagrams of a printed wiring board according to a first embodiment of the present invention.

【図2】(A)、(B)、(C)、(D)は、本発明の
第1実施形態に係るプリント配線板の製造工程図であ
る。
FIGS. 2A, 2B, 2C, and 2D are manufacturing process diagrams of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図3】(A)、(B)、(C)、(D)は、本発明の
第1実施形態に係るプリント配線板の製造工程図であ
る。
FIGS. 3A, 3B, 3C, and 3D are manufacturing process diagrams of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図4】(A)、(B)、(C)、(D)は、本発明の
第1実施形態に係るプリント配線板の製造工程図であ
る。
FIGS. 4A, 4B, 4C, and 4D are manufacturing process diagrams of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図5】(A)、(B)、(C)は、本発明の第1実施
形態に係るプリント配線板の製造工程図である。
FIGS. 5A, 5B, and 5C are manufacturing process diagrams of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図6】(A)、(B)は、本発明の第1実施形態に係
るプリント配線板の製造工程図である。
FIGS. 6A and 6B are manufacturing process diagrams of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の
断面図である。
FIG. 7 is a sectional view of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図8】図7中のプリント配線板にICチップを搭載
し、ドータボードへ取り付けた状態を示す断面図であ
る。
8 is a cross-sectional view showing a state where an IC chip is mounted on the printed wiring board in FIG. 7 and attached to a daughter board.

【図9】本発明の第1実施形態の改変例に係るプリント
配線板にICチップを搭載した状態を示す断面図であ
る。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state in which an IC chip is mounted on a printed wiring board according to a modification of the first embodiment of the present invention.

【図10】(A)、(B)、(C)、(D)、(E)
は、本発明の第2実施形態に係るプリント配線板の製造
工程図である。
FIG. 10 (A), (B), (C), (D), (E)
FIG. 7 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the second embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第2実施形態に係るプリント配線板
の断面図である。
FIG. 11 is a sectional view of a printed wiring board according to a second embodiment of the present invention.

【図12】ICチップへの供給電圧と時間との変化を表
すグラフである。
FIG. 12 is a graph showing changes in supply voltage to an IC chip and time.

【図13】(A)は、第1実施形態のチップコンデンサ
の断面図であり、(B)は、第1実施形態の第1改変例
のチップコンデンサの断面図である。
FIG. 13A is a cross-sectional view of a chip capacitor according to the first embodiment, and FIG. 13B is a cross-sectional view of a chip capacitor according to a first modification of the first embodiment.

【図14】(A)、(B)、(C)、(D)は、第3実
施形態のプリント配線板のチップコンデンサの平面図で
ある。
FIGS. 14A, 14B, 14C, and 14D are plan views of a chip capacitor of a printed wiring board according to a third embodiment.

【図15】第3実施形態に係るプリント配線板のチップ
コンデンサの平面図である。
FIG. 15 is a plan view of a chip capacitor of a printed wiring board according to a third embodiment.

【図16】第3実施形態の改変例に係るプリント配線板
のチップコンデンサの平面図である。
FIG. 16 is a plan view of a chip capacitor of a printed wiring board according to a modification of the third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 チップコンデンサ 21 第1電極 22 第2電極 23 誘電体 23a 粗化面 23b ポイリミド膜 26 導電性ペースト 28a 無電解銅めっき膜 28b 電解銅めっき膜 28 複合金属膜 30 コア基板 30a 第1樹脂基板 30b 第2樹脂基板 30c 第3樹脂基板 30B 開口 34 導体パッド部 35 導体回路 36 接着材料 37 導体回路 38a、38b 接着用樹脂層(接着板) 40 層間樹脂絶縁層 56 スルーホール 58 導体回路 60 バイアホール 70 ソルダーレジスト層 71 開口部 72 ニッケルめっき層 74 金めっき層 76U、76D 半田バンプ 80A、80B ビルドアップ配線層 90 ICチップ 92P1、92P2 半田パッド(ICチップ側) 94P1、94P2 半田パッド(ドータボード側) 95 ドータボード 96 導電性接続ピン 140 層間樹脂絶縁層 158 導体回路 160 バイアホール 240 層間樹脂絶縁層 258 導体回路 260 バイアホール Reference Signs List 20 chip capacitor 21 first electrode 22 second electrode 23 dielectric 23a roughened surface 23b polyimid film 26 conductive paste 28a electroless copper plating film 28b electrolytic copper plating film 28 composite metal film 30 core substrate 30a first resin substrate 30b first 2 resin substrate 30c third resin substrate 30B opening 34 conductive pad portion 35 conductive circuit 36 adhesive material 37 conductive circuit 38a, 38b bonding resin layer (bonding plate) 40 interlayer resin insulating layer 56 through hole 58 conductive circuit 60 via hole 70 solder Resist layer 71 Opening 72 Nickel plating layer 74 Gold plating layer 76U, 76D Solder bump 80A, 80B Build-up wiring layer 90 IC chip 92P1, 92P2 Solder pad (IC chip side) 94P1, 94P2 Solder pad (daughter board side) 95 Daughter board Lead 96 Conductive connection pin 140 Interlayer resin insulation layer 158 Conductor circuit 160 Via hole 240 Interlayer resin insulation layer 258 Conductor circuit 260 Via hole

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E336 AA04 AA08 BB03 BB15 BC26 CC32 CC36 CC43 CC53 CC55 EE07 EE08 EE17 GG05 GG09 GG11 GG16 5E346 AA02 AA05 AA06 AA12 AA15 AA22 AA32 AA41 BB16 BB20 CC08 CC32 DD02 DD22 DD33 EE06 EE18 EE31 EE32 EE33 EE35 EE38 FF04 FF07 FF12 FF45 GG15 GG17 GG18 GG19 GG25 GG27 GG28 HH02 HH11 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page F term (reference) 5E336 AA04 AA08 BB03 BB15 BC26 CC32 CC36 CC43 CC53 CC55 EE07 EE08 EE17 GG05 GG09 GG11 GG16 5E346 AA02 AA05 AA06 AA12 AA15 AA22 AA32 AA41 BB16 EE31 DD32 CC32 EE33 EE35 EE38 FF04 FF07 FF12 FF45 GG15 GG17 GG18 GG19 GG25 GG27 GG28 HH02 HH11

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 コンデンサを収容するコア基板に、層間
樹脂絶縁層と導体回路とを交互に積層してなるプリント
配線板であって、 前記コンデンサを収容するコア基板が、第1の樹脂基板
と、コンデンサを収容する開口を有する第2の樹脂基板
と、第3の樹脂基板とを、接着板を介在させて積層して
なり、 前記コンデンサのメタライズからなる電極の表面には、
導電性ペーストが塗布されていることを特徴とするプリ
ント配線板。
1. A printed wiring board comprising an interlayer resin insulating layer and a conductor circuit alternately laminated on a core substrate containing a capacitor, wherein the core substrate containing the capacitor comprises a first resin substrate and a first resin substrate. A second resin substrate having an opening for accommodating a capacitor, and a third resin substrate are laminated with an adhesive plate interposed therebetween.
A printed wiring board to which a conductive paste is applied.
【請求項2】 前記コンデンサの電極の導電性ペースト
上に金属層を設けたことを特徴とする請求項1に記載の
プリント配線板。
2. The printed wiring board according to claim 1, wherein a metal layer is provided on the conductive paste of the electrodes of the capacitor.
【請求項3】 前記コンデンサの表面に、粗化処理を施
したことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の
プリント配線板。
3. The printed wiring board according to claim 1, wherein the surface of the capacitor is subjected to a roughening treatment.
【請求項4】 前記コンデンサの表面に、表面の濡れ性
改善処理を施したことを特徴とする請求項1または請求
項2に記載のプリント配線板。
4. The printed wiring board according to claim 1, wherein the surface of the capacitor is subjected to a surface wettability improving treatment.
【請求項5】 前記接着板は、心材に熱硬化性樹脂を含
浸させてなることを特徴とする請求項1〜請求項4のい
ずれか1に記載のプリント配線板。
5. The printed wiring board according to claim 1, wherein the adhesive plate is formed by impregnating a core material with a thermosetting resin.
【請求項6】 前記第1、第2、第3樹脂基板は、心材
に樹脂を含浸させてなることを特徴とする請求項1〜請
求項5のいずれか1に記載のプリント配線板。
6. The printed wiring board according to claim 1, wherein the first, second, and third resin substrates are obtained by impregnating a core material with a resin.
【請求項7】 前記コンデンサは、複数個であることを
特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1に記載のプ
リント配線板。
7. The printed wiring board according to claim 1, wherein a plurality of the capacitors are provided.
【請求項8】 前記第2の樹脂基板に導体回路が形成さ
れていることを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれ
か1に記載のプリント配線板の製造方法。
8. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein a conductive circuit is formed on the second resin substrate.
【請求項9】 前記プリント配線板の表面にコンデンサ
を実装したことを特徴とする請求項1〜請求項8の内1
に記載のプリント配線板。
9. The printed circuit board according to claim 1, wherein a capacitor is mounted on a surface of the printed wiring board.
A printed wiring board according to claim 1.
【請求項10】 前記表面のチップコンデンサの静電容
量は、内層のチップコンデンサの静電容量以上であるこ
とを特徴とする請求項9に記載のプリント配線板。
10. The printed wiring board according to claim 9, wherein the capacitance of the chip capacitor on the front surface is equal to or larger than the capacitance of the chip capacitor in the inner layer.
【請求項11】 前記表面のチップコンデンサのインダ
クタンスは、内層のチップコンデンサのインダクタンス
以上であることを特徴とする請求項9に記載のプリント
配線板。
11. The printed wiring board according to claim 9, wherein the inductance of the chip capacitor on the surface is equal to or greater than the inductance of the chip capacitor in the inner layer.
【請求項12】 前記第1の樹脂基板と、前記コンデン
サとは、絶縁性接着剤で接合され、絶縁性接着剤は、前
記第1の樹脂基板よりも熱膨張率が小さいことを特徴と
する請求項1に記載のプリント配線板。
12. The method according to claim 1, wherein the first resin substrate and the capacitor are joined with an insulating adhesive, and the insulating adhesive has a smaller coefficient of thermal expansion than the first resin substrate. The printed wiring board according to claim 1.
【請求項13】 前記コンデンサとして、外縁の内側に
電極が形成されたチップコンデンサを用いたことを特徴
とする請求項1〜請求項12の内1に記載のプリント配
線板。
13. The printed wiring board according to claim 1, wherein a chip capacitor having an electrode formed inside an outer edge is used as the capacitor.
【請求項14】 前記コンデンサとして、マトリクス状
に電極を形成されたチップコンデンサを用いたことを特
徴とする請求項1〜請求項13の内1に記載のプリント
配線板
14. The printed wiring board according to claim 1, wherein a chip capacitor having electrodes formed in a matrix is used as said capacitor.
【請求項15】 前記コンデンサとして、多数個取り用
のチップコンデンサを複数個連結させて用いたことを特
徴とする請求項1〜請求項14の内1に記載のプリント
配線板。
15. The printed wiring board according to claim 1, wherein a plurality of chip capacitors for multi-cavity are connected and used as the capacitor.
【請求項16】 少なくとも以下(a)〜(d)の工程
を備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法: (a)第1の樹脂基板に、導体パッド部を形成する工
程; (b)前記第1の樹脂基板の前記導体パッド部に、導電
性接着剤を介してメタライズ電極の上に導電性ペースト
を塗布したコンデンサを接続する工程; (c)第3の樹脂基板と、前記コンデンサを収容する開
口を有する第2の樹脂基板と、前記第1の樹脂基板と
を、前記第1の樹脂基板の前記コンデンサを前記第2の
樹脂基板の前記開口に収容させ、且つ、第3の樹脂基板
にて前記第2の樹脂基板の前記開口を塞ぐように、接着
板を介在させて積層する工程; (d)前記第1の樹脂基板、前記第2の樹脂基板、及
び、前記第3の樹脂基板を加熱加圧してコア基板とする
工程。
16. A method of manufacturing a printed wiring board, comprising at least the following steps (a) to (d): (a) forming a conductive pad portion on a first resin substrate; (b) A) connecting a capacitor having a conductive paste applied onto a metallized electrode via a conductive adhesive to the conductive pad portion of the first resin substrate; (c) a third resin substrate and the capacitor A second resin substrate having an opening for accommodating the first resin substrate and the capacitor of the first resin substrate in the opening of the second resin substrate, and a third resin substrate. A step of laminating the resin substrate with an adhesive plate interposed therebetween so as to cover the opening of the second resin substrate; (d) the first resin substrate, the second resin substrate, and the third To heat and press the resin substrate of .
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