JP2002268569A - Optical filter - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 87
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims abstract description 96
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 claims abstract description 34
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 164
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 120
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 67
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 39
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 36
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 24
- -1 phosphorus compound Chemical class 0.000 claims description 24
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 19
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 9
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 4
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 31
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 32
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 30
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 30
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 26
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 16
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 13
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- IDCBOTIENDVCBQ-UHFFFAOYSA-N TEPP Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OP(=O)(OCC)OCC IDCBOTIENDVCBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 8
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 5
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 5
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000001044 red dye Substances 0.000 description 3
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- 238000001004 secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000004125 X-ray microanalysis Methods 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 238000004969 ion scattering spectroscopy Methods 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYAKNSNAABYQBU-UHFFFAOYSA-N 2h-dibenzofuran-1-one Chemical compound O1C2=CC=CC=C2C2=C1C=CCC2=O JYAKNSNAABYQBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100033041 Carbonic anhydrase 13 Human genes 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 101000867860 Homo sapiens Carbonic anhydrase 13 Proteins 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920012266 Poly(ether sulfone) PES Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 241000277331 Salmonidae Species 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N bakuchiol Chemical compound CC(C)=CCC[C@@](C)(C=C)\C=C\C1=CC=C(O)C=C1 LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012796 inorganic flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 1
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole-5,6-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)C(=O)N=C21 FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000000979 retarding effect Effects 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- YPMOSINXXHVZIL-UHFFFAOYSA-N sulfanylideneantimony Chemical compound [Sb]=S YPMOSINXXHVZIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005486 sulfidation Methods 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000012209 synthetic fiber Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N thorium dioxide Chemical compound O=[Th]=O ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003452 thorium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N trans-dipyrrin Chemical compound C=1C=CNC=1/C=C1\C=CC=N1 OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 1
- 238000004402 ultra-violet photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000004013 vacuum ultra-violet photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
- 230000005428 wave function Effects 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Fireproofing Substances (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ用光
学フィルターに関するものであり、さらに詳しくはプラ
ズマディスプレイパネルに好適に用いられる光学フィル
ターに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical filter for a display, and more particularly to an optical filter suitably used for a plasma display panel.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、社会が高度化するに従って、光エ
レクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩している。
その中で、画像を表示するディスプレイは、従来のテレ
ビジョン装置用に加えて、コンピューターモニター用等
として需要が増加しつつある。その中でも、ディスプレ
イの大型化及び薄型化に対する市場要求は高まる一方で
ある。最近、大型かつ薄型化を実現することが可能であ
るディスプレイとして、プラズマディスプレイパネル
(PDP)が注目されている。プラズマディスプレイパ
ネルは、原理上、強い近赤外線と電磁波を装置外に放出
する。この近赤外線は、特に800〜1100nmの波
長域においてコードレス電話や赤外線方式のリモートコ
ントローラー等の誤動作を引き起こす原因となる。ま
た、電磁波は計器に障害を及ぼす他、最近では電磁波が
人体に障害を及ぼすとの報告もある。このため、電磁波
放出に関して世界的に法規制が進む方向にあり、日本で
は、VCCI(Voluntaly Control C
ouncil for Interference b
y data processing equipme
nt electronic office mach
ine)による規制、米国では、FCC(Federa
l Communication Commissio
n)などの規制がある。2. Description of the Related Art In recent years, as society has become more sophisticated, optoelectronics-related components and equipment have remarkably advanced.
Among them, a display for displaying an image is increasing in demand for a computer monitor and the like in addition to a conventional television device. Among them, market demands for larger and thinner displays are increasing. 2. Description of the Related Art Recently, a plasma display panel (PDP) has attracted attention as a display that can be made large and thin. The plasma display panel emits strong near-infrared rays and electromagnetic waves outside the device in principle. This near-infrared ray causes a malfunction of a cordless telephone, an infrared remote controller, and the like, particularly in a wavelength range of 800 to 1100 nm. In addition, electromagnetic waves cause damage to instruments, and recently there have been reports that electromagnetic waves cause damage to the human body. For this reason, regulations on the emission of electromagnetic waves are on a global trend, and in Japan, VCCI (Voluntary Control C)
owncil for Interference b
y data processing equipme
nt electronic office match
ine), in the United States, FCC (Federa)
l Communication Commissio
n).
【0003】上記、近赤外線及び電磁波放出を抑えるた
めに、近年近赤外線及び電磁波遮蔽用光学フィルターに
対する要請が高まっている。近赤外線遮蔽に関しては、
従来近赤外線吸収色素を用いて作製された近赤外吸収フ
ィルムを用いることが知られている。この形態として
は、(1)樹脂に近赤外吸収色素を混練することによっ
て作製した透明高分子フィルム(2)樹脂または樹脂モ
ノマー/有機溶媒の樹脂濃厚液に近赤外吸収色素を分
散、溶解させキャスティング法により作製した高分子フ
ィルム、(3)樹脂バインダーと有機系溶媒近赤外吸収
色素を加え、塗料として透明高分子フィルム上にコーテ
ィングしたもの、(4)近赤外吸収色素を含有する粘着
材と透明高分子フィルムを貼り合せたものなどが一般的
である。また、近赤外線遮蔽機能に関しては近赤外吸収
色素以外の方法として、後述する透明導電膜を用いる方
法もある。In order to suppress the emission of near-infrared rays and electromagnetic waves, there has recently been an increasing demand for optical filters for shielding near-infrared rays and electromagnetic waves. As for near infrared shielding,
Conventionally, it is known to use a near-infrared absorbing film produced using a near-infrared absorbing dye. In this embodiment, (1) a transparent polymer film prepared by kneading a resin with a near-infrared absorbing dye; (2) a near-infrared absorbing dye dispersed and dissolved in a resin or a resin concentrate of a resin monomer / organic solvent; A polymer film prepared by a casting method, (3) a resin binder and an organic solvent near-infrared absorbing dye added thereto, coated as a coating on a transparent polymer film, and (4) a near-infrared absorbing dye. A material obtained by laminating an adhesive and a transparent polymer film is generally used. As for the near-infrared shielding function, there is a method using a transparent conductive film described later as a method other than the near-infrared absorbing dye.
【0004】一方、電磁波遮蔽に関しては、一般に実用
化されている光学フィルターとして、透明導電層に導電
性メッシュを用いる方法と透明導電膜を用いる方法の2
種に大別されるが、どちらもディスプレイ表面を導電性
の高い材料で覆い、電磁波遮蔽効果を図るものである。
電磁波遮蔽能は、導電性材料の面抵抗値が低いほど優れ
る。On the other hand, with respect to electromagnetic wave shielding, there are two types of optical filters that are generally put into practical use: a method using a conductive mesh for a transparent conductive layer and a method using a transparent conductive film.
Although roughly classified into types, both of them cover the display surface with a highly conductive material to achieve an electromagnetic wave shielding effect.
The lower the sheet resistance of the conductive material, the better the electromagnetic wave shielding ability.
【0005】導電性メッシュタイプは基体となるフィル
ム上に細く金属を格子状に配置させたものであり、一般
に、金属メッシュ、合成繊維や金属繊維に金属被覆した
もの、エッチングによって金属膜を格子状のパタンに形
成したものなどが用いられる。この導電性メッシュタイ
プは、導電性に優れることから高い電磁波遮断能を持つ
が、透明性が低い、モワレ像が生じるなどの問題があ
る。さらに、導電性メッシュ自体は近赤外遮蔽機能を有
していないため、前述の近赤外吸収色素と組み合わせて
光学フィルターとするのが一般的である。[0005] The conductive mesh type is a thin film in which a metal is arranged in a grid on a film serving as a substrate. Generally, a metal mesh, a synthetic fiber or a metal fiber coated with a metal, or a metal film is formed in a grid by etching. And the like formed in the above pattern are used. This conductive mesh type has high electro-magnetic wave shielding ability due to its excellent conductivity, but has problems such as low transparency and generation of moiré image. Furthermore, since the conductive mesh itself does not have a near-infrared shielding function, an optical filter is generally used in combination with the above-mentioned near-infrared absorbing dye.
【0006】一方、透明導電膜タイプは、透明導電性薄
膜を基体全面に配置したものであり、電磁波遮蔽能は導
電性メッシュタイプに比べ若干劣るが、透明性に優れる
ことから、ディスプレイ用フィルターとして好適に用い
ることができる。また、透明導電膜タイプの光学フィル
ターでは、透明性の維持と低抵抗化、耐久性向上を目的
として、低抵抗の金属薄膜層と透明高屈折率薄膜層とを
交互に積層する構成が提案されている。金属薄膜層は同
時に近赤外線遮蔽機能も有するため、この点においても
ディスプレイ用フィルターとして好適である。なお、金
属薄膜層には比抵抗が低い銀からなる金属薄膜が好適に
用いられる。On the other hand, the transparent conductive film type is one in which a transparent conductive thin film is disposed on the entire surface of a substrate. Electromagnetic wave shielding ability is slightly inferior to that of a conductive mesh type, but because of its excellent transparency, it is used as a display filter. It can be suitably used. In addition, for a transparent conductive film type optical filter, a configuration in which a low-resistance metal thin film layer and a transparent high-refractive-index thin film layer are alternately laminated is proposed for the purpose of maintaining transparency, reducing resistance, and improving durability. ing. Since the metal thin film layer also has a near-infrared shielding function at the same time, it is also suitable for this point as a display filter. Note that a metal thin film made of silver having a low specific resistance is preferably used for the metal thin film layer.
【0007】また、プラズマディスプレイパネル用光学
フィルターでは、視認性を上げるためにその表面に反射
防止機能や防眩性機能を付与することが一般的である。
これには通常反射防止フィルム(ARフィルム)や防眩
性フィルム(AGフィルム)が用いられる。さらに、こ
の光学フィルターでは、物体色のニュートラルグレイ
化、色温度の向上、色再現範囲の拡大、ディスプレイか
らの不要発光の吸収などを目的として、その構成の一部
に色素を含有させた調色処理を行うこともある。従来の
プラズマディスプレイパネル用光学フィルターは、以上
述べたような機能付与とパネル本体の保護を目的とし
て、通常パネルの前面にガラスもしくは樹脂板を置き、
その板上に各種機能フィルムを貼り合わせたタイプが用
いられている。In general, an optical filter for a plasma display panel is generally provided with an antireflection function or an antiglare function on the surface thereof in order to enhance visibility.
For this, an antireflection film (AR film) or an antiglare film (AG film) is usually used. In addition, this optical filter has a toning that contains a dye in a part of its structure for the purpose of neutralizing the color of the object, improving the color temperature, expanding the color reproduction range, absorbing unnecessary light emission from the display, etc. Processing may be performed. Conventional plasma display panel optical filters are usually placed with a glass or resin plate on the front of the panel for the purpose of providing the functions described above and protecting the panel body,
A type in which various functional films are bonded on the board is used.
【0008】しかしながら、このような前面板型フィル
ターをパネル表示部から離して設置する場合には、ディ
スプレイ表面の外光反射と前面板の外光反射により反射
映像が2重となり、画面の視認性を低下させることがあ
る。また、前面板型フィルターは、プラズマディスプレ
イパネルの薄型軽量化、低コスト化に対し大きな障害と
なっている。そこで、前面板を除去し、ディスプレイパ
ネル上に光学フィルターフィルムを直接貼り合わせるこ
とが特開平10−156991、特開平10−1888
22、2000−98131などで提案されている。However, when such a front panel type filter is installed away from the panel display unit, the reflected image is doubled by the external light reflection on the display surface and the external light reflection on the front panel, and the visibility of the screen is increased. May be reduced. Further, the front plate type filter is a major obstacle to the reduction in thickness, weight, and cost of the plasma display panel. Therefore, it is necessary to remove the front plate and directly bond the optical filter film on the display panel as disclosed in JP-A-10-156991 and JP-A-10-1888.
22, 2000-98131.
【0009】プラズマディスプレイパネルは電気機器で
あり、火災発生時の延焼防止のため、部材の難燃化が強
く求められる。従来の前面板型フィルターでは、圧倒的
な体積を占める基板に、ガラスもしくは難燃性を持った
樹脂板材料を使用することによってフィルター全体の難
燃性を得ている。従って、基板に貼り合せるフィルムに
は、特に難燃性は要求されず、主に視認性を中心とした
光学特性と生産コストにを重視した部材選定が行われて
いる。一方、直接貼り合わせ型のフィルターでは、全体
の難燃性に寄与する基板がないため、使用するフィルム
自体の難燃性が重要となる。[0009] The plasma display panel is an electric device, and in order to prevent the spread of fire in the event of a fire, it is strongly required that the member be made nonflammable. In a conventional front plate type filter, the entire filter is provided with flame retardancy by using glass or a resin plate material having flame retardancy for a substrate occupying an overwhelming volume. Therefore, the film to be bonded to the substrate is not particularly required to have flame retardancy, and members are selected mainly with emphasis on optical characteristics mainly on visibility and production cost. On the other hand, in a direct bonding type filter, since there is no substrate that contributes to the overall flame retardancy, the flame retardancy of the film used is important.
【0010】一般に、ディスプレイ用の反射防止フィル
ムは、反射防止性能が高いことから、ベースフィルム材
にトリアセチルセルロース(TAC)が好適に用いられ
ているが、このトリアセチルセルロースに難燃性を付与
することは困難とされている。また、本発明の利用分野
における各機能を有した透明高分子フィルムには、ポリ
エチレンテレフタレート(PET)フィルムが好適に使
われるが、このポリエチレンテレフタレートフィルムも
未処理状態では難燃性に乏しいため、安全性を重視する
場合には、何らかの難燃化処理が必要となる。なお、従
来透明高分子フィルムの難燃化には、コスト性に優れた
臭素系難燃剤をはじめとするハロゲン系の難燃剤が広く
用いられているが、環境への影響やリサイクルなどの問
題から、将来は使用物質の規制見直しが予想される。さ
らに、直接貼り合せ型のフィルターでは、基板がなくな
るため、外力に対する耐衝撃性向上などの安全性につい
ても考慮する必要がある。In general, an antireflection film for a display is preferably made of triacetylcellulose (TAC) as a base film material because of its high antireflection performance. It is difficult to do. In addition, a polyethylene terephthalate (PET) film is preferably used as the transparent polymer film having various functions in the application field of the present invention. When importance is placed on the property, some flame retarding treatment is required. Conventionally, halogenated flame retardants such as brominated flame retardants, which are excellent in cost performance, have been widely used for flame retardancy of transparent polymer films, but due to environmental impact and problems such as recycling. In the future, it is anticipated that regulations on substances used will be reviewed. Further, since the direct bonding type filter has no substrate, it is necessary to consider safety such as improvement of impact resistance against external force.
【0011】このように、プラズマディスプレイパネル
への直接貼り合わせ用光学フィルターにおいては、従来
の前面板型フィルターとは異なり、使用するフィルム
は、難燃性を含めた総合的な選定評価を行う必要があ
る。As described above, in the optical filter for direct bonding to the plasma display panel, unlike the conventional front plate type filter, it is necessary to conduct comprehensive selection evaluation including the flame retardancy of the film to be used. There is.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
の従来技術を鑑み、プラズマディスプレイパネルから発
生する近赤外線や電磁波を遮蔽する従来機能に加え、実
用上の安全性向上を図ることができる直接貼り合せ型の
光学フィルターを提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned prior art, an object of the present invention is to improve the practical safety in addition to the conventional function of shielding near infrared rays and electromagnetic waves generated from a plasma display panel. An object of the present invention is to provide a direct bonding type optical filter that can be used.
【0013】すなわち、本発明は、(1)透明高分子フ
ィルムと粘着材層とを交互に各1枚以上積層して、最下
層に離型フィルム付の粘着材層を設けた光学フィルター
であって、UL規格94に規定される垂直燃焼試験にお
いて前記透明高分子フィルムの燃焼継続時間が30秒未
満であることを特徴とする光学フィルター、(2) リ
ン系化合物もしくは水和金属化合物を主成分とする難燃
剤を含有する透明高分子フィルムを使用することを特徴
とする(1)に記載の光学フィルター、(3)積層構成
中に使用される粘着材の少なくとも一つに、リン系化合
物もしくは水和金属化合物を主成分とする難燃剤を添加
することを特徴とする(1)又は(2)に記載の光学フ
ィルター、(4)機能透明層(E)を有する透明高分子
フィルム(A)と、近赤外遮蔽機能と電磁波遮蔽機能の
少なくともひとつの機能を有する透明高分子フィルム
(B)とを積層した構成からなる(1)乃至(3)いず
れかに記載の光学フィルター、(5)機能透明層(E)
を有する透明高分子フィルム(A)と、近赤外遮蔽機能
と電磁波遮蔽機能の少なくともひとつの機能を有する透
明高分子フィルム(B)と、全体厚さ嵩上げ用の透明高
分子フィルム(C)を積層した構成からなる、(1)乃
至(3)いずれかに記載の光学フィルター、(6)近赤
外遮蔽機能と電磁波遮蔽機能の少なくともひとつの機能
を有し、さらにフィルムの主面上に機能透明層(E)を
有する透明高分子フィルム(D)と、全体厚さ嵩上げ用
の透明高分子フィルム(C)を積層した構成からなる、
(1)乃至(3)いずれかに記載の光学フィルター、
(7)機能透明層(E)が、反射防止性、防眩性、ハー
ドコート性、帯電防止性、防汚性、ガスバリヤ性、UV
カット性から選択される少なくともひとつの機能を有す
る(4)乃至(6)いずれかに記載の光学フィルター、
(8)近赤外遮蔽機能と電磁波遮蔽機能の少なくともひ
とつの機能を有する透明高分子フィルム(B)と(D)
の少なくともひとつの主面上に、面抵抗0.01〜30
Ω/□の透明導電層(F)と電極(G)を形成すること
を特徴とする(4)乃至(7)いずれかに記載の光学フ
ィルター、(9)透明導電層(F)が、透明高屈折率薄
膜層(a)と銀または銀合金からなる金属薄膜層(b)
との積層構成より形成され、その構成が、a/b/a、
a/b/a/b/a、a/b/a/b/a/b/a、a
/b/a/b/a/b/a/b/aのいずれかであるこ
とを特徴とする(8)に記載の光学フィルター、(1
0) 透明高屈折率薄膜層(a)の少なくとも一つが、
インジウム、スズ、亜鉛のうち、少なくとも1種以上を
主成分とする酸化物からなることを特徴とする(9)に
記載の光学フィルター、(11)透明導電層(F)の一
部もしくは全てが導電性メッシュからなることを特徴と
する(8)に記載の光学フィルター、(12)透明高分
子フィルム、粘着材層の少なくともひとつが、色素を1
種以上含有することを特徴とする(1)乃至11いずれ
かに記載の光学フィルター、(13)(1)乃至(1
2)いずれかに記載の光学フィルターの離型フィルムを
剥がして表示部前面に貼り合わせたプラズマディスプレ
イパネル。に関するものである。That is, the present invention relates to (1) an optical filter in which a transparent polymer film and an adhesive layer are alternately laminated by at least one each, and a lowermost layer is provided with an adhesive layer with a release film. An optical filter, characterized in that the burning duration of the transparent polymer film is less than 30 seconds in a vertical burning test specified in UL Standard 94, (2) a phosphorus-based compound or a hydrated metal compound as a main component. (1) an optical filter according to (1), wherein a transparent polymer film containing a flame retardant is used; (3) a phosphorus compound or (1) The optical filter according to (1) or (2), further comprising a flame retardant containing a hydrated metal compound as a main component, and (4) a transparent polymer film (A) having a functional transparent layer (E). When, The optical filter according to any one of (1) to (3), which has a configuration in which a transparent polymer film (B) having at least one of a near-infrared shielding function and an electromagnetic wave shielding function is laminated, and (5) a transparent function. Layer (E)
(A), a transparent polymer film (B) having at least one of a near-infrared shielding function and an electromagnetic wave shielding function, and a transparent polymer film (C) for raising the overall thickness. (1) The optical filter according to any one of (1) to (3), which has a laminated structure, and (6) has at least one of a near-infrared shielding function and an electromagnetic wave shielding function, and further has a function on a main surface of the film. A transparent polymer film (D) having a transparent layer (E) and a transparent polymer film (C) for raising the overall thickness are laminated.
(1) The optical filter according to any one of (1) to (3),
(7) The functional transparent layer (E) has an antireflection property, an antiglare property, a hard coat property, an antistatic property, an antifouling property, a gas barrier property, and UV.
The optical filter according to any one of (4) to (6), which has at least one function selected from cut properties.
(8) Transparent polymer films (B) and (D) having at least one of a near-infrared shielding function and an electromagnetic wave shielding function
A sheet resistance of 0.01 to 30 on at least one main surface of
The optical filter according to any one of (4) to (7), wherein a transparent conductive layer (F) of Ω / □ and an electrode (G) are formed. (9) The transparent conductive layer (F) is transparent. High refractive index thin film layer (a) and metal thin film layer made of silver or silver alloy (b)
And a / b / a,
a / b / a / b / a, a / b / a / b / a / b / a, a
/ B / a / b / a / b / a / b / a, wherein the optical filter according to (8), wherein (1)
0) at least one of the transparent high refractive index thin film layers (a) is
The optical filter according to (9), wherein the optical filter is made of an oxide mainly containing at least one of indium, tin, and zinc, and (11) a part or all of the transparent conductive layer (F). (8) The optical filter according to (8), wherein at least one of the transparent polymer film and the pressure-sensitive adhesive layer contains one dye.
(13) The optical filter according to any one of (1) to (11), which contains at least one species.
2) A plasma display panel in which the release film of the optical filter according to any of the above is peeled off and bonded to the front of the display unit. It is about.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、光学フィル
ターを構成する全ての透明高分子高分子フィルムを、U
L規格94に規定される垂直燃焼試験において、燃焼継
続時間30秒未満となる難燃性材料を使用することで、
直接貼り合せ型光学フィルターの利点である軽量薄型化
や視認性改善効果を維持しつつ、実用上の安全性を図れ
ることを見出し本発明に至った。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, all transparent polymer films constituting the optical filter have been produced by U.S. Pat.
By using a flame-retardant material having a combustion duration of less than 30 seconds in a vertical combustion test specified in L Standard 94,
The present inventors have found that practical safety can be achieved while maintaining the advantages of the direct-bonding type optical filter such as light weight and thinness and the effect of improving visibility.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を各構
成要素毎に説明する。[透明高分子フィルム] 本発明
に用いられる透明高分子フィルムの材料は、難燃性を有
し、かつ透明性があれば特に制限はない。ここで、難燃
性があるとはUL規格94VTM−2以上の条件を満足
するものをいう。このUL規格は、アメリカの機関Unde
rwriters’ Laboratories Inc.によって定められたもの
であり、その試験法は試料となるフィルムを円筒状に巻
き、垂直に保持して下端に着火する方法であり、燃焼時
間、燃焼時の滴下物の有無等で難燃性の判定を行うもの
である。また、ここで透明性があるとは、波長400〜
700(nm)の光線透過率が50(%)以上であるこ
とをいう。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below for each component. [Transparent polymer film] The material of the transparent polymer film used in the present invention is not particularly limited as long as it has flame retardancy and is transparent. Here, "flame retardant" refers to a material that satisfies the UL standard of 94 VTM-2 or higher. This UL standard is an American organization Unde
Specified by rwriters' Laboratories Inc. The test method is to wrap the sample film in a cylindrical shape, hold it vertically, and ignite the lower end. And the like to determine the flame retardancy. Further, the term "transparent" means that the wavelength is 400 to
It means that the light transmittance at 700 (nm) is 50 (%) or more.
【0016】ベースとなる材料を具体的に例示すると、
ポリイミド、ポリスルフォン(PSF)、ポリエーテル
スルフォン(PES)、ポリエチレンテレフタレート
(PET)、ポリメチレンメタクリレート(PMM
A)、ポリカーボネート(PC)、ポリプロピレン(P
P)等が挙げられる。中でもポリエチレンテレフタレー
ト(PET)は、特に好適に用いられる。Specific examples of the base material include:
Polyimide, polysulfone (PSF), polyethersulfone (PES), polyethylene terephthalate (PET), polymethylene methacrylate (PMM
A), polycarbonate (PC), polypropylene (P
P) and the like. Among them, polyethylene terephthalate (PET) is particularly preferably used.
【0017】フィルムを難燃化させる方法として、 (1)ポリマー分子中にリン、ハロゲンなどを付与し、
原料樹脂自体を難燃化する方法。 (2)原料樹脂に各種難燃剤を添加する方法 (3)フィルム表面に難燃性組成物を塗布する方法 などが考えられるが、特にこれに限定されるものではな
い。また、難燃剤としては、臭素系難燃剤、塩素系難燃
剤、リン系難燃剤、アルミニウム、マグネシウムなどの
水和金属を用いた無機系難燃剤があるが、特にこれに限
定されるものではない。ただし、環境への影響から、ハ
ロゲン系の難燃剤よりも、リン系、水和金属系の難燃剤
を用いることが好適である。As a method for making a film flame-retardant, (1) phosphorus, halogen or the like is added to polymer molecules;
A method of making the raw resin itself flame-retardant. (2) A method of adding various flame retardants to the raw material resin (3) A method of applying a flame retardant composition to the film surface, etc., but is not particularly limited thereto. Examples of the flame retardant include bromine-based flame retardants, chlorine-based flame retardants, phosphorus-based flame retardants, inorganic flame retardants using hydrated metals such as aluminum and magnesium, but are not particularly limited thereto. . However, it is preferable to use a phosphorus-based or hydrated metal-based flame retardant rather than a halogen-based flame retardant from the influence on the environment.
【0018】透明高分子フィルムの厚さは、ある程度の
機械的強度があれば特に指定はないが、本発明の利用分
野などのように、高い透明性を要求される用途では、厚
さ250μm程度までが一般的である。また、厚さが5
0μm以下では強度が不足するため、透明高分子フィル
ムの厚さは、50〜250μm、好ましくは75〜20
0μmが好適である。ただし、光学用途フィルムなど、
高透明性が重要となる用途では、一般に100μm前後
のフィルムが使用されることが多い。[粘着材] 本発
明における粘着材とは、透明高分子フィルムと透明高分
子フィルムとを貼り合せたり、光学フィルターをディス
プレイ表面に貼り合せたりするためのものであり、でき
るだけ透明なものが好ましい。ここで透明であるとは、
波長400〜700(nm)における透過率が50
(%)以上であることをいう。使用可能な粘着材を具体
的に例示すると、アクリル系粘着材、シリコン系粘着
材、ウレタン系粘着材、ポリビニルブチラール粘着材
(PVB)、エチレンー酢酸ビニル系粘着材(EVA)
等である。中でもアクリル系粘着材は、透明性及び耐熱
性に優れるために特に好適に用いられる。The thickness of the transparent polymer film is not particularly limited as long as it has a certain level of mechanical strength. However, for applications requiring high transparency, such as the application field of the present invention, the thickness is about 250 μm. Until is common. Also, if the thickness is 5
Since the strength is insufficient at 0 μm or less, the thickness of the transparent polymer film is 50 to 250 μm, preferably 75 to 20 μm.
0 μm is preferred. However, such as optical films
In applications where high transparency is important, generally a film of about 100 μm is often used. [Adhesive] The adhesive in the present invention is used for laminating a transparent polymer film and a transparent polymer film or laminating an optical filter to the display surface, and is preferably as transparent as possible. Here, being transparent means
The transmittance at a wavelength of 400 to 700 (nm) is 50
(%) Or more. Specific examples of usable adhesives include acrylic adhesives, silicone adhesives, urethane adhesives, polyvinyl butyral adhesives (PVB), and ethylene-vinyl acetate adhesives (EVA).
And so on. Above all, acrylic pressure-sensitive adhesives are particularly preferably used because of their excellent transparency and heat resistance.
【0019】粘着材には、調色の為に色素を含有させる
場合が多い。色素は、可視領域に所望の吸収波長を有す
る一般の染料または顔料で良く、その種類は特に限定さ
れるものではない。例えば、アントラキノン系、フタロ
シアニン系、メチン系、アゾメチン系、オキサジン系、
アゾ系、スチリル系、クマリン系、ポルフィリン系、ジ
ベンゾフラノン系、ジケトピロロピロール系、ローダミ
ン系、キサンテン系、ピロメテン系等の一般に市販され
ている色素が挙げられる。その種類・濃度は、色素の吸
収波長・吸収係数、透明導電薄膜層の色調及び電磁波シ
ールド体に要求される透過特性・透過率、そして分散さ
せる媒体または塗膜の種類・厚さから決まり、特に限定
されるものではない。In many cases, the adhesive contains a pigment for toning. The dye may be a general dye or pigment having a desired absorption wavelength in the visible region, and the type thereof is not particularly limited. For example, anthraquinone, phthalocyanine, methine, azomethine, oxazine,
Commonly available dyes such as azo, styryl, coumarin, porphyrin, dibenzofuranone, diketopyrrolopyrrole, rhodamine, xanthene, and pyrromethene are exemplified. The type and concentration are determined by the absorption wavelength and absorption coefficient of the dye, the color tone of the transparent conductive thin film layer, the transmission characteristics and transmittance required of the electromagnetic wave shield, and the type and thickness of the medium or coating film to be dispersed. It is not limited.
【0020】粘着材の形態は、大きく分けてシート状の
ものと液状のものに分けられる。シート状粘着材は、通
常、感圧型であり、貼り付ける一方の部材に粘着材をラ
ミネートした後に、さらにもう一方の部材をラミネート
する事によって二つの部材の貼り合わせを行う。液状粘
着材は、塗布貼り合わせ後に室温放置または加熱により
硬化させるものであり、液状粘着材の塗布方法として
は、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート
法、ロールコート法等が挙げられ、粘着材の種類、粘
度、塗布量等から考慮選定される。粘着材の厚みに特に
制限はないが、0.5〜50μm、好ましくは、1〜3
0μmである。粘着材を用いて貼り合わせを行った後
は、貼り合わせた時に入り込んだ気泡を脱法させたり、
透明粘着材に固溶させ、さらには部材間の密着力を向上
させるために、加圧、加温条件下にて養生を行なっても
構わない。この時、加圧条件としては、一般的に0.0
01から2MPa程度であり、加温条件としては、各部
材の耐熱性にも依るが、一般的には室温以上、80℃以
下である。The form of the adhesive is roughly divided into a sheet-like material and a liquid-like material. The sheet-like pressure-sensitive adhesive is usually of a pressure-sensitive type, and after laminating the pressure-sensitive adhesive on one member to be pasted, the other member is further laminated to bond the two members together. The liquid adhesive is cured by leaving it at room temperature or heating after application and bonding. Examples of the method of applying the liquid adhesive include a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, and a roll coating method. It is selected in consideration of the type of material, viscosity, application amount, etc. Although the thickness of the adhesive is not particularly limited, it is 0.5 to 50 μm, preferably 1 to 3 μm.
0 μm. After bonding using an adhesive, degassing the bubbles that entered when bonding,
Curing may be performed under pressure and heating conditions in order to form a solid solution in the transparent adhesive material and further improve the adhesion between the members. At this time, the pressure condition is generally 0.0
The heating temperature is generally from room temperature to 80 ° C., although it depends on the heat resistance of each member.
【0021】また、使用する粘着材自体にも難燃性が付
与されていることが好ましい。ただし、難燃性の付与に
関しては、粘着材に本来必要とされる粘着力、耐久性、
透明性への影響を考慮する必要がある。また、透明高分
子フィルムと同様に、非ハロゲン系のリン系、水和金属
系の難燃剤を使用することがより好ましい。[機能性透
明層]本発明における機能性透明層は、反射防止性、防
眩性、ハードコート性、帯電防止性、防汚性、ガスバリ
ヤ性、UVカット性から選択される少なくともひとつの
機能を有するもので、これは塗布または印刷または従来
公知の各種成膜法により形成された機能膜でも、それを
有する透明基体であってもよい。また、ひとつの機能性
透明層が複数の機能を有しても、各機能を持った機能性
透明層が複数積層されたものであったもよい。Further, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive itself used is also provided with flame retardancy. However, regarding the provision of flame retardancy, the adhesive strength, durability,
The impact on transparency needs to be considered. Further, similarly to the transparent polymer film, it is more preferable to use a non-halogen-based phosphorus-based or hydrated metal-based flame retardant. [Functional transparent layer] The functional transparent layer in the present invention has at least one function selected from antireflection properties, antiglare properties, hard coat properties, antistatic properties, antifouling properties, gas barrier properties, and UV cut properties. This may be a functional film formed by coating or printing or conventionally known various film forming methods, or a transparent substrate having the functional film. Further, one functional transparent layer may have a plurality of functions, or a plurality of functional transparent layers having each function may be laminated.
【0022】本発明における反射防止性とは、透明高分
子フィルム上に反射防止層を形成することにより発現す
る機能であり、これが形成されている面の可視光線反射
率が0.1%以上、5%以下、好ましくは0.1%以
上、3%以下の性能であることが望ましい。反射防止膜
が形成されている面の可視光線反射率は、反対面(反射
防止層が形成されていない面)をサンドペーパーで荒ら
し、黒色塗装等により、反対面の反射をなくして、反射
防止層が形成されている面のみで起こる反射光を測定す
ることにより知ることができる。The anti-reflection property in the present invention is a function exhibited by forming an anti-reflection layer on a transparent polymer film, and the surface on which this is formed has a visible light reflectance of 0.1% or more. The performance is desirably 5% or less, preferably 0.1% or more and 3% or less. The visible light reflectance of the surface on which the anti-reflection film is formed can be reduced by sanding the opposite surface (the surface on which the anti-reflection layer is not formed) with sandpaper and eliminating the reflection on the opposite surface by black paint etc. It can be known by measuring reflected light generated only on the surface on which the layer is formed.
【0023】反射防止層としては、具体的には、可視光
域において屈折率が1.5以下、好適には、1.4以下
と低いフッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、
シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を、例えば1/4波
長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金
属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物窒化
物、硫化物等の無機化合物又はシリコン系樹脂やアクリ
ル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を2層以上
多層積層したものがある。単層形成したものは、製造が
容易であるが、反射防止性が多層積層に比べ劣る。多層
積層したものは、広い波長領域にわたって反射防止能を
有し、基体フィルムの光学特性による光学設計の制限が
少ない。これら無機化合物薄膜の形成には、スパッタリ
ング、イオンプレーティング、イオンピームアシスト、
真空蒸着、室式塗工法等、従来公知の方法を用いればよ
い。As the antireflection layer, specifically, a fluorine-based transparent polymer resin or magnesium fluoride having a refractive index of 1.5 or less, preferably 1.4 or less in the visible light region,
Silicon resin or silicon oxide thin film formed as a single layer with an optical thickness of, for example, 1/4 wavelength, metal oxides, fluorides, silicides, borides, carbide nitrides, sulfides having different refractive indices There are two or more thin films of an inorganic compound such as an organic compound or an organic compound such as a silicon-based resin, an acrylic resin, or a fluorine-based resin. Although a single layer is easy to manufacture, the antireflection property is inferior to that of a multilayer laminate. The multilayer laminate has an antireflection function over a wide wavelength range, and there is little restriction on optical design due to the optical characteristics of the base film. Sputtering, ion plating, ion beam assist,
A conventionally known method such as vacuum evaporation and a room-type coating method may be used.
【0024】本発明における防眩性とは、透明高分子フ
ィルムの表面上に、0.1〜10μm程度の微少な凹凸
を形成することにより発現する機能であり、具体的に
は、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹
脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等
の熱硬化型または光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、
アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散
させインキ化したものを、バーコート法、リバースコー
ト法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート
法等によって透明高分子フィルム上に塗布硬化させるこ
とによって形成する方法が一般的である。粒子の平均粒
径は、1〜40μmである。また、アクリル系樹脂、シ
リコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アル
キド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹
脂を基体に塗布し、所望のヘイズ又は表面状態を有する
型を押しつけ硬化する事によっても防眩性を得ることが
できる。さらには、ガラス板をフッ酸等でエッチングす
るように、基体フィルムを薬剤処理することによっても
防眩性を得ることができる。この場合は、処理時間、薬
剤のエッチング性により、ヘイズを制御することができ
る。上記、防眩性フィルムにおいては、適当な凹凸が表
面に形成されていれば良く、作製方法は、上記に挙げた
方法に限定されるものではない。防眩性フィルムのヘイ
ズは、0.5%以上20%以下であり、好ましくは、1
%以上10%以下である。ヘイズが小さすぎると防眩能
が不十分であり、ヘイズが大きすぎると平行光線透過率
が低くなり、ディスプレイ視認性が悪くなる。この防眩
性フィルムは、多くの場合、ニュートンリング防止フィ
ルムとして用いることができる。The anti-glare property in the present invention is a function that is manifested by forming fine irregularities of about 0.1 to 10 μm on the surface of a transparent polymer film. , Silicon-based resins, melamine-based resins, urethane-based resins, alkyd-based resins, thermosetting or light-curing resins such as fluororesins, silica, melamine,
By coating and curing on a transparent polymer film by bar coating method, reverse coating method, gravure coating method, die coating method, roll coating method, etc., a dispersion of particles of an inorganic compound or organic compound such as acryl and made into an ink is applied. The method of forming is common. The average particle size of the particles is 1 to 40 μm. Further, a thermosetting or photocurable resin such as an acrylic resin, a silicon resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, or a fluorine resin is applied to the substrate, and a mold having a desired haze or surface state is provided. Can be hardened by pressing to obtain anti-glare properties. Furthermore, anti-glare properties can also be obtained by treating the base film with a chemical, such as etching a glass plate with hydrofluoric acid or the like. In this case, the haze can be controlled by the processing time and the etching property of the chemical. In the above-mentioned anti-glare film, it is only necessary that appropriate irregularities are formed on the surface, and the production method is not limited to the above-mentioned method. The haze of the antiglare film is from 0.5% to 20%, preferably 1%.
% Or more and 10% or less. If the haze is too small, the antiglare performance is insufficient, and if the haze is too large, the parallel light transmittance is reduced, and the visibility of the display deteriorates. This antiglare film can be used as an anti-Newton ring film in many cases.
【0025】上記に述べた反射防止性もしくは防眩性を
持った透明高分子フィルムには、表面の硬度または密着
性を増す等の理由でハードコート層を設けることもでき
る。ハードコート層材料としては、主にアクリレート樹
脂またはメタクリレート樹脂が用いられるが、特にこれ
に限定されるものではない。またハードコート層の形成
には、紫外線硬化法または重合転写法が用いられる場合
が多いが、特にこれに限定されるものではない。重合転
写法は、対象となる材料が、メタクリレート樹脂等セル
キャスト重合物に限定されるが、連続製版方式によって
非常に生産性良く、ハードコート層を形成することがで
きる。このため、重合転写法によるメタクリレート樹脂
層形成は、最も好適に用いられるハードコート層形成手
法である。また、反射防止フィルム及び防眩性フィルム
には、上記ハードコート性以外にも、帯電防止性、防汚
性、ガスバリヤ性、UVカット性などの機能を付与する
ことも可能である。[近赤外遮蔽機能]本発明における近
赤外遮蔽機能とは、ディスプレイ表面から装置外へ放出
される近赤外線、特に800〜1100nmの波長域の
ものを遮蔽する機能であり、その方法は透明高分子フィ
ルムもしくは粘着材中に近赤外吸収色素を含有させる方
法と、透明高分子フィルム上に金属反射層を含む透明導
電性薄膜を形成する方法との2種に大別されるが、その
どちらであってもかまわない。The above-mentioned transparent polymer film having anti-reflection property or anti-glare property may be provided with a hard coat layer for the purpose of increasing the surface hardness or adhesion. As the hard coat layer material, an acrylate resin or a methacrylate resin is mainly used, but it is not particularly limited to this. In addition, an ultraviolet curing method or a polymerization transfer method is often used for forming the hard coat layer, but is not particularly limited thereto. In the polymerization transfer method, the target material is limited to a cell cast polymer such as a methacrylate resin. However, the hard coat layer can be formed with very high productivity by a continuous plate making method. For this reason, the formation of the methacrylate resin layer by the polymerization transfer method is the most suitably used method of forming a hard coat layer. The antireflection film and the antiglare film can be provided with functions such as antistatic properties, antifouling properties, gas barrier properties, and UV cut properties, in addition to the hard coat properties described above. [Near-Infrared Shielding Function] The near-infrared shielding function in the present invention is a function of shielding near-infrared rays emitted from the display surface to the outside of the device, particularly those in a wavelength range of 800 to 1100 nm. The method is broadly divided into two types: a method of including a near-infrared absorbing dye in a polymer film or an adhesive, and a method of forming a transparent conductive thin film including a metal reflective layer on a transparent polymer film. It does not matter which one.
【0026】[電磁波遮蔽機能]本発明において、電磁波
遮蔽機能とは、ディスプレイ表面から装置外へ放出され
る電磁波を遮蔽する機能をいい、放射表面を導電性の高
い導電体、すなわち透明導電層で覆うことにより発現す
る機能である。透明導電層としては、導電性メッシュタ
イプと透明導電膜タイプの2種に大別できるが、そのど
ちらであってもかまわない。導電性メッシュタイプは面
抵抗が透明導電膜に比べ低いことから、特に高い電磁波
遮蔽機能を要求される用途に用いられる。一方、透明導
電膜タイプは、電磁波遮蔽機能は導電性メッシュタイプ
に若干劣るものの、近赤外遮蔽機能を同時に有すること
からディスプレイ用光学フィルターの用途では好適に用
いられる。[Electromagnetic Wave Shielding Function] In the present invention, the electromagnetic wave shielding function refers to a function of shielding electromagnetic waves emitted from the display surface to the outside of the device. The radiation surface is made of a highly conductive conductor, that is, a transparent conductive layer. It is a function that is revealed by covering. The transparent conductive layer can be roughly classified into two types, that is, a conductive mesh type and a transparent conductive film type. Either of them may be used. Since the conductive mesh type has a lower sheet resistance than that of the transparent conductive film, it is used for applications requiring particularly high electromagnetic wave shielding function. On the other hand, although the transparent conductive film type has an electromagnetic wave shielding function slightly inferior to the conductive mesh type, it also has a near-infrared shielding function at the same time, and thus is suitably used for an optical filter for a display.
【0027】[透明導電膜] 本発明における透明導電
膜は、透明高屈折率薄膜層(a)と銀または銀の合金か
らなる金属薄膜層(b)との積層体であり、電磁波及び
近赤外線を遮蔽する機能を有する。透明高屈折率薄膜層
(a)に用いられる材料としては、できるだけ透明性に
優れたものであることが好ましい。ここで透明性に優れ
るとは、膜厚100nm程度の薄膜を形成したときに、
その薄膜の波長400〜700nmの光に対する透過率
が60%以上であることを指す。また、高屈折率材料と
は、550nmの光に対する屈折率が、1.4以上の材
料である。透明高屈折率薄膜層用に好適に用いることが
できる材料を例示すると、インジウムとスズとの酸化物
(ITO)、カドミウムとスズとの酸化物(CTO)、
酸化アルミニウム(Al2O3)、酸化亜鉛(Zn
O2)、亜鉛とアルミニウムとの酸化物(AZO)、酸
化マグネシウム(Mg0)、酸化トリウム(Th
02)、酸化スズ(SnO2)、酸化ランタン(La
O2)、酸化シリコン(SiO2)、酸化インジウム(I
n2O3)、酸化ニオブ(Nb2O3)、酸化アンチモン
(Sb2O3)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化セ
シウム(CeO2)、酸化チタン(TiO2)、酸化ビス
マス(BiO 2)等である。また、透明高屈折率硫化物
を用いても良い。具体的に例示すると、硫化亜鉛(Zn
S)、硫化カドミウム(CdS)、硫化アンチモン(S
b2S3)等があげられる。透明高屈折率材料としては、
中でも、ITO、TiO2、ZnOが特に好ましい。I
TO及びZnO2は、導電性を持つ上に、可視領域にお
ける屈折率が、2.0程度と高くさらに可視領域にほと
んど吸収を持たない。TiO2は、絶縁物であり、可視
領域にわずかな吸収を持つが、可視光に対する屈折率が
2.3程度と大きい。[Transparent Conductive Film] The transparent conductive film of the present invention
The film is made of a transparent high refractive index thin film layer (a) and silver or a silver alloy.
A laminate with the metal thin film layer (b) made of
It has a function to block near infrared rays. Transparent high refractive index thin film layer
The material used in (a) should be as transparent as possible
Preferably, it is excellent. Excellent transparency here
Means that when a thin film having a thickness of about 100 nm is formed,
Transmittance of the thin film for light having a wavelength of 400 to 700 nm
Is 60% or more. In addition, high refractive index materials
Is a material having a refractive index of 1.4 or more for 550 nm light.
Fees. Suitable for transparent high refractive index thin film layer
Examples of possible materials include oxides of indium and tin.
(ITO), oxide of cadmium and tin (CTO),
Aluminum oxide (AlTwoOThree), Zinc oxide (Zn
OTwo), Oxides of zinc and aluminum (AZO), acids
Magnesium oxide (Mg0), thorium oxide (Th
0Two), Tin oxide (SnO)Two), Lanthanum oxide (La
OTwo), Silicon oxide (SiOTwo), Indium oxide (I
nTwoOThree), Niobium oxide (NbTwoOThree), Antimony oxide
(SbTwoOThree), Zirconium oxide (ZrO)Two), Oxide
Cium (CeO)Two), Titanium oxide (TiO)Two), Bis oxide
Trout (Bio Two). Also, transparent high refractive index sulfide
May be used. Specifically, zinc sulfide (Zn
S), cadmium sulfide (CdS), antimony sulfide (S
bTwoSThree) And the like. As a transparent high refractive index material,
Among them, ITO, TiOTwo, ZnO are particularly preferred. I
TO and ZnOTwoHas conductivity and is in the visible range
Refractive index is as high as about 2.0, and almost in the visible region.
Almost no absorption. TiOTwoIs an insulator and visible
Although it has a slight absorption in the region, the refractive index for visible light is
It is as large as about 2.3.
【0028】銀または銀の合金からなる薄膜は、他の金
属薄膜に比較して、比抵抗が低く、光透過性が優れるの
で好適に用いられる。特に銀は、比抵抗が、1.59×
10 -6(Ω・cm)であり、あらゆる材料の中で最も電気
伝導性に優れる上に薄膜の可視光線透過率が優れるた
め、最も好適に用いられる。但し、銀は、薄膜とした時
に安定性を欠き、硫化や塩素化を受け易いという問題を
持つため、安定性を向上させるために、銀の替わりに銀
と銅の合金または銀とパラジウムの合金または銀と白金
の合金等を用いてもよい。A thin film made of silver or a silver alloy is
Low specific resistance and excellent light transmission compared to metal thin films
Is preferably used. In particular, silver has a specific resistance of 1.59 ×
10 -6(Ω · cm), the most electric of all materials
Excellent conductivity and excellent visible light transmittance of thin film
Therefore, it is most preferably used. However, when silver is used as a thin film
Lacks stability and is susceptible to sulfidation and chlorination.
To improve stability, use silver instead of silver
And copper alloy or silver and palladium alloy or silver and platinum
May be used.
【0029】透明導電膜の好ましい透過率は、40%以
上、99%以下、より好ましくは、50%以上、99%
以下、さらに好ましくは、60%以上、99%以下であ
る。また、好ましい表面抵抗値は、0.2(Ω /□)
以上、100(Ω /□)以下、好ましくは、0.2
(Ω /□)以上、10(Ω /□)以下、さらに好まし
くは、0.2(Ω /□)以上、3(Ω /□)以下、さ
らにより好ましくは、0.2(Ω /□)以上、0.5
(Ω /□)以下である。The transmittance of the transparent conductive film is preferably 40% or more and 99% or less, more preferably 50% or more and 99% or less.
Or less, more preferably 60% or more and 99% or less. A preferable surface resistance value is 0.2 (Ω / □).
Not less than 100 (Ω / □), preferably 0.2
(Ω / □) or more and 10 (Ω / □) or less, more preferably 0.2 (Ω / □) or more and 3 (Ω / □) or less, still more preferably 0.2 (Ω / □). 0.5 or more
(Ω / □) or less.
【0030】上記、透明高屈折率薄膜層(a)と銀また
は銀合金からなる金属薄膜層(b)とを透明高分子フィ
ルム上に、図6と図7の断面図に示したように交互に積
層する事によって透明導電膜フィルムが得られる。この
ように、通常は透明高分子フィルム上に形成した透明導
電膜フィルムの形態で使用するが、透明導電膜を形成す
る透明高分子フィルムは、反射防止機能もしくは防眩性
機能を持ったフィルムであってもよい。透明透明高屈折
率薄膜層及び銀または銀合金からなる金属薄膜層の形成
には、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ
リング法等の従来公知の手法によればよい。The transparent high refractive index thin film layer (a) and the metal thin film layer (b) made of silver or a silver alloy are alternately formed on a transparent polymer film as shown in the sectional views of FIGS. A transparent conductive film is obtained. As described above, usually, the transparent polymer film formed on the transparent polymer film is used, but the transparent polymer film forming the transparent conductive film is a film having an antireflection function or an antiglare function. There may be. The transparent transparent high refractive index thin film layer and the metal thin film layer made of silver or silver alloy may be formed by a conventionally known method such as a vacuum evaporation method, an ion plating method, and a sputtering method.
【0031】銀または銀合金からなる金属薄膜層の形成
には、真空蒸着法またはスパッタリング法が、好適に用
いられる。真空蒸着法では、所望の金属を蒸着源として
使用し、抵抗加熱、電子ビーム加熱等により、加熱蒸着
させることで、簡便に銀または銀合金からなる金属薄膜
を形成することができる。また、スパッタリング法を用
いる場合は、ターゲットに所望の金属材料を用いて、ス
パッタリングガスにアルゴン、ネオン等の不活性ガスを
使用し、直流スパッタリング法や高周波スパッタリング
法を用いて銀または銀合金からなる金属薄膜を形成する
ことができる。成膜速度を上昇させるために、直流マグ
ネトロンスパッタリング法や高周波マグネトロンスパッ
タリング法が用いられることも多い。透明高屈折率薄膜
層及び銀または銀合金薄膜層の厚さは、最終的に得られ
る透明導電性薄膜層の特性から決定される。通常は、透
明高屈折率薄膜層は、5〜100(nm)程度、銀また
は銀合金薄膜層は、5〜50(nm)程度である。For forming a metal thin film layer made of silver or a silver alloy, a vacuum evaporation method or a sputtering method is suitably used. In the vacuum evaporation method, a metal thin film made of silver or a silver alloy can be easily formed by using a desired metal as an evaporation source and performing heating evaporation by resistance heating, electron beam heating, or the like. In addition, when using a sputtering method, using a desired metal material as a target, using an inert gas such as argon or neon as a sputtering gas, and using a direct current sputtering method or a high frequency sputtering method to be made of silver or a silver alloy. A metal thin film can be formed. In order to increase the deposition rate, a DC magnetron sputtering method or a high-frequency magnetron sputtering method is often used. The thicknesses of the transparent high refractive index thin film layer and the silver or silver alloy thin film layer are determined from the properties of the finally obtained transparent conductive thin film layer. Usually, the transparent high refractive index thin film layer has a thickness of about 5 to 100 (nm), and the silver or silver alloy thin film layer has a thickness of about 5 to 50 (nm).
【0032】上記の方法により作製した、光学フィルタ
ーの層構成及び各層の状態は、断面の光学顕微鏡測定、
走査型電子顕微鏡(SEM)測定、透過型電子顕微鏡測
定(TEM)を用いて調べることができる。透明導電膜
フィルムの薄膜層の表面原子組成は、オージェ電子分光
法(AES)、蛍光X線法(XRF)、X線マイクロア
ナライシス法(XMA)、荷電粒子励起X線分析法(R
BS)、X線光電子分光法(XPS)、真空紫外光電子
分光法(UPS)、赤外吸収分光法(IR)、ラマン分
光法、2次イオン質量分析法(SIMS)、低エネルギ
ーイオン散乱分光法(ISS)等により測定できる。ま
た、膜中の原子組成及び膜厚は、オージェ電子分光法
(AES)や2次イオン質量分析(SIMS)を深さ方
向に実施することによって調べることができる。The layer structure and the state of each layer of the optical filter manufactured by the above method were measured by an optical microscope on a cross section.
It can be examined using a scanning electron microscope (SEM) measurement and a transmission electron microscope measurement (TEM). The surface atomic composition of the thin film layer of the transparent conductive film is determined by Auger electron spectroscopy (AES), X-ray fluorescence (XRF), X-ray microanalysis (XMA), and charged particle excitation X-ray analysis (R
BS), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), vacuum ultraviolet photoelectron spectroscopy (UPS), infrared absorption spectroscopy (IR), Raman spectroscopy, secondary ion mass spectroscopy (SIMS), low energy ion scattering spectroscopy (ISS). Further, the atomic composition and the film thickness in the film can be examined by performing Auger electron spectroscopy (AES) or secondary ion mass spectrometry (SIMS) in the depth direction.
【0033】透明導電膜フィルム上に防眩性フィルムや
反射防止フィルム等を貼り合わせてある場合は、それを
剥がした後、上記の手法で調べればよい。[電極] 本
発明における電極は、透明導電層で吸収された電磁波を
電流として外部に取り出すためのものであり、透明導電
層に導電性材料を接触させて得られるものである。電極
は、透明導電層に電気的に接続されるように配置された
ものであれば、表面に形成されていても、断面に形成さ
れていてもかまわず、また、特に透明である必要もな
い。用いる導電材料及び形態に特に指定はないが、通常
はペースト状のものを塗布乾燥させたり、金属テープを
貼りつけたりして形成する方法が好適に行われる。導電
ペーストとしては、銀ペースト、導電テープとしては銅
性のテープが一般的である。粘着力が必要な場合には、
粘着材に銀や銅などの導電性粒子を分散させて用いれば
良い。また、電極をフィルター上のどの位置に形成する
かどうかについては特に指定はなく、外周部全周でも、
向かい合う2辺のみでもよい。When an antiglare film, an antireflection film, or the like is bonded on the transparent conductive film, the film may be peeled off, and then examined by the above method. [Electrode] The electrode in the present invention is for extracting the electromagnetic wave absorbed by the transparent conductive layer to the outside as a current, and is obtained by bringing a conductive material into contact with the transparent conductive layer. The electrodes may be formed on the surface, may be formed on the cross section, and need not be particularly transparent as long as they are arranged so as to be electrically connected to the transparent conductive layer. . Although there is no particular limitation on the conductive material and form to be used, a method in which a paste-like material is applied and dried, or a metal tape is attached thereto is usually preferably used. A silver paste is generally used as the conductive paste, and a copper tape is generally used as the conductive tape. If you need adhesion,
A conductive particle such as silver or copper may be dispersed in an adhesive and used. Also, there is no particular designation as to where the electrodes are formed on the filter, and even on the entire outer periphery,
Only two sides facing each other may be used.
【0034】[製造方法] 本発明における光学フィル
ターフィルムの製造方法としては、難燃性とともに各種
機能を有する透明高分子フィルム同士を粘着材を介して
貼り合せることが一般的である。例えば、反射防止フィ
ルムもしくは防眩性フィルムと、近赤外線遮蔽フィル
ム、電磁波遮蔽フィルムとを貼り合せることにより容易
に作製が可能である。また、耐衝撃性を向上させるため
に、更に嵩上げ用の透明高分子フィルムを、反射防止フ
ィルムもしくは防眩性フィルムの機能性透明層と反対面
に貼り合せることも可能である。フィルムへの粘着材の
貼り合せ及び粘着材を介してのフィルム同士の貼り合せ
は、通常ロールツーロール方式で行なれるが、特にこの
方法に限定されるわけではなく、枚葉状に切断したフィ
ルムに順次フィルムを貼り合せていくことも可能であ
る。また、フィルム全体の厚さが0.3mm以上となる
場合には、その剛性によりロールへの巻き取りが困難に
なるため、フィルム同士の貼り合わせ工程のうちその一
部は枚葉方式とすることが好ましい。[Manufacturing Method] As a manufacturing method of the optical filter film in the present invention, it is common to bond transparent polymer films having various functions together with flame retardancy via an adhesive. For example, it can be easily manufactured by laminating an antireflection film or an antiglare film, a near-infrared shielding film, and an electromagnetic wave shielding film. Further, in order to improve the impact resistance, a transparent polymer film for raising the volume can be further attached to the surface of the antireflection film or the antiglare film opposite to the functional transparent layer. The bonding of the adhesive to the film and the bonding of the films through the adhesive are usually performed by a roll-to-roll method, but are not particularly limited to this method. It is also possible to laminate films sequentially. When the thickness of the entire film is 0.3 mm or more, winding on a roll is difficult due to its rigidity. Therefore, part of the film bonding process should be a single-wafer method. Is preferred.
【0035】透明導電層への電極形成方法には特に指定
はないが、透明導電層上へ各種機能性フィルムを透明導
電層が一部剥き出しとなるように内貼りし、その剥き出
し部に電極を形成する方法が好適に行われる。また、透
明導電層を透明高分子フィルム上へ形成したフィルムを
ロールの状態で用意し、ロールツーロールでフィルムを
送る過程で端部に電極を付与する方法も考えられる。こ
の場合、電極がペースト状であれば通常のロールコート
法を用いれば良く、テープ状であればロールツーロール
方式で貼り合わせれば良い。ロールの両端部に電極が形
成されたフィルムを一定長さに切断してすることによ
り、長方形の向い合う2辺に電極の形成された光学フィ
ルターを作製することができる。このような構成であれ
ば、ロールツーロール方式で電極を形成したり、ロール
状態のまま電極を形成したりすることができるため、非
常に生産効率良く光学フィルターを作製することができ
る。また、長方形の向い合う2辺以外の部分に加えてさ
らに別の部分に電極が形成されていたり、向い合う2辺
における一部分に電極が形成されていない部分が存在し
ても構わない。The method for forming the electrode on the transparent conductive layer is not particularly specified, but various functional films are internally applied on the transparent conductive layer so that the transparent conductive layer is partially exposed, and the electrode is formed on the exposed portion. The forming method is suitably performed. Alternatively, a method in which a film in which a transparent conductive layer is formed on a transparent polymer film is prepared in a roll state, and an electrode is applied to an end portion in a process of feeding the film by roll-to-roll is also conceivable. In this case, if the electrodes are in a paste form, a normal roll coating method may be used, and if the electrodes are in a tape form, they may be bonded by a roll-to-roll method. By cutting a film having electrodes formed on both ends of a roll into a predetermined length, an optical filter having electrodes formed on two opposing sides of a rectangle can be manufactured. With such a configuration, since the electrodes can be formed by a roll-to-roll method or the electrodes can be formed in a roll state, an optical filter can be manufactured with extremely high production efficiency. Further, in addition to a portion other than the two opposing sides of the rectangle, an electrode may be formed in another portion, or a portion where the electrode is not formed may be present in a part of the two opposing sides.
【0036】[光学フィルター]次の図を用いて光学フ
ィルターの構造について説明する。図1〜5は、本発明
におけるプラズマディスプレイパネル用光学フィルター
の一例を示す断面図である。図1においては、離型フィ
ルム10、粘着材層20の上に、難燃性及び近赤外遮蔽
機能を有する透明高分子フィルム(B)30(100μ
m)、粘着層20、難燃性及び機能透明層(E)である
防眩性機能を有する透明高分子フィルム(A)40(1
00μm)を順次積層した光学フィルターが挙げられて
いる。図2においては、離型フィルム10、粘着材層2
0の上に、難燃性を有する嵩上げ用高分子透明フィルム
(C)50(188μm)、粘着材層20、難燃性及び
最表面となる主面に機能性透明層(E)である反射防止
機能を有する赤外線遮蔽フィルム(D)60(75μ
m)を順次積層した光学フィルターが挙げられている。
図3においては、離型フィルム10、粘着材層20の上
に、難燃性を有する嵩上げ用高分子透明フィルム(C)
50(188μm)、粘着材層20、難燃性及び電磁波
遮蔽機能を有する透明高分子フィルム(B)30(75
μm)、粘着層20、難燃性及び機能性透明層(E)で
ある反射防止機能を有する透明高分子フィルム(A)4
0(75μm)を順次積層した光学フィルターが挙げら
れている。図4においては、離型フィルム10、粘着材
層20の上に、難燃性を有する嵩上げ用透明高分子フィ
ルム(C)50(188μm)、粘着材層20、難燃性
及び電磁波遮蔽機能である透明導電層(F)を有する透
明高分子フィルム(B)30(75μm)、粘着材層2
0、難燃性及び機能性透明層(E)である防眩性機能を
有する透明高分子フィルム(A)40(75μm)を順
次積層し、透明高分子フィルム(B)上に電極70が配
置された光学フィルターが挙げられている。図5におい
ては、離型フィルム10、粘着材層20の上に、難燃性
を有する嵩上げ用透明高分子フィルム(C)50(18
8μm)、粘着材層20、難燃性及び最表面となる主面
に機能性透明層(E)である反射防止機能を有する電磁
波遮蔽フィルム(D)60(188μm)を順次積層
し、電磁波遮蔽フィルム上に電極70が配置された光学
フィルターが挙げられている。図6は、図4に示した光
学フィルターにおける電磁波遮蔽フィルムの一例を示す
断面図である。図6においては、透明導電層(F)とし
て透明導電膜を利用し、透明高屈折率薄膜層(a)8
0、銀または銀合金薄膜層(b)90をa/b/a/b
/a、の構成で透明高分子フィルム300上に積層した
透明導電膜の例があげられている。図7は、図5に示し
た光学フィルターにおける反射防止機能を有する電磁波
遮蔽フィルムの一例を示す断面図である。図7において
は、透明導電層(F)として透明導電膜を利用し、透明
高屈折率薄膜層(a)80、銀または銀合金薄膜層
(b)90をa/b/a/b/a/b/a、の構成で透
明高分子フィルム600に積層した透明導電膜の例があ
げられている。また、透明導電膜を形成したフィルムの
反対側の主面には、機能透明層(E)として反射防止層
100が設けられている。図8は、図4、5に断面図を
示した、光学フィルターの平面図である。光学フィルタ
ー110の外周部分太線で示された周辺部に電極70が
形成されている。[Optical Filter] The structure of the optical filter will be described with reference to the following drawings. 1 to 5 are sectional views showing an example of the optical filter for a plasma display panel according to the present invention. In FIG. 1, a transparent polymer film (B) 30 (100 μm) having flame retardancy and near-infrared shielding function is provided on a release film 10 and an adhesive layer 20.
m), an adhesive layer 20, a transparent polymer film (A) 40 (1) having an antiglare function and being a flame retardant and functional transparent layer (E).
(00 μm) are sequentially laminated. In FIG. 2, the release film 10, the adhesive layer 2
0, a polymer transparent film for raising (F) 50 (188 μm) having flame retardancy, a pressure-sensitive adhesive layer 20, a flame-retardant and reflection which is a functional transparent layer (E) on the main surface which is the outermost surface. Infrared shielding film (D) 60 (75μ)
m) are sequentially laminated.
In FIG. 3, on the release film 10 and the adhesive layer 20, a flame-retardant polymer transparent film for raising (C) is used.
50 (188 μm), adhesive layer 20, transparent polymer film (B) 30 (75) having flame retardancy and electromagnetic wave shielding function
μm), an adhesive layer 20, a transparent polymer film (A) 4 having an antireflection function, which is a flame-retardant and functional transparent layer (E) 4
0 (75 μm) are sequentially laminated. In FIG. 4, on the release film 10 and the adhesive layer 20, a transparent polymer film (C) 50 (188 μm) for raising the flammability, the adhesive layer 20, the flame retardancy and the electromagnetic wave shielding function are provided. Transparent polymer film (B) 30 (75 μm) having a certain transparent conductive layer (F), adhesive layer 2
0, a transparent polymer film (A) 40 (75 μm) having an antiglare function as a flame-retardant and functional transparent layer (E) is sequentially laminated, and an electrode 70 is arranged on the transparent polymer film (B). Optical filters are listed. In FIG. 5, on the release film 10 and the adhesive layer 20, a transparent polymer film (C) 50 (18)
8 μm), an adhesive layer 20, an electromagnetic wave shielding film (D) 60 (188 μm) having an anti-reflection function, which is a functional transparent layer (E), is sequentially laminated on the main surface which is a flame retardant and outermost surface, and is electromagnetically shielded. An optical filter in which an electrode 70 is disposed on a film is mentioned. FIG. 6 is a sectional view showing an example of the electromagnetic wave shielding film in the optical filter shown in FIG. In FIG. 6, a transparent conductive film is used as the transparent conductive layer (F), and the transparent high refractive index thin film layer (a) 8 is used.
0, the silver or silver alloy thin film layer (b) 90 is a / b / a / b
/ A, an example of a transparent conductive film laminated on the transparent polymer film 300 is given. FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of an electromagnetic wave shielding film having an antireflection function in the optical filter shown in FIG. In FIG. 7, a transparent conductive film is used as the transparent conductive layer (F), and the transparent high-refractive-index thin film layer (a) 80 and the silver or silver alloy thin film layer (b) 90 are a / b / a / b / a. / B / a, an example of a transparent conductive film laminated on the transparent polymer film 600 is given. An antireflection layer 100 is provided as a functional transparent layer (E) on the main surface on the opposite side of the film on which the transparent conductive film is formed. FIG. 8 is a plan view of the optical filter whose sectional views are shown in FIGS. The electrode 70 is formed on the outer peripheral portion of the optical filter 110, which is indicated by a thick line.
【0037】[0037]
【実施例】次に、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例1 UL規格94のVTM−2条件を満足する帝人(株)製
ポリエチレンテレフタレートフィルム(テトロンOタイ
プ 厚さ 100μm)の一方の主面に、フィルムから
順に、ITO薄膜(膜厚:40nm)、銀薄膜(膜厚:
11nm)、ITO薄膜(膜厚:95nm)、銀薄膜
(膜厚:14nm)、ITO薄膜(膜厚:90nm)、
銀薄膜(膜厚:12nm)、ITO薄膜(膜厚:40n
m)の計7層の透明導電膜を形成し、面抵抗2.2Ω/
□の電磁波遮蔽機能を有する透明高分子フィルム(B)
を作製した。上記の電磁波遮蔽フィルムに対し、以下の
方法で粘着材層を形成した。酢酸エチル/トルエン(5
0:50wt%)溶剤に有機色素を分散・溶解させ、ア
クリル系粘着剤の希釈液とした。有機色素は、プラズマ
ディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波
長595nmに吸収極大を有する三井化学製色素PD−
319、及び、白色発光の色度を補正するための三井化
学製赤色色素PS−Red−Gが、それぞれ乾燥した粘
着材中で1150(wt)ppm、1050(wt)p
pm含有するようにアクリル系粘着剤/色素入り希釈液
を調整した。アクリル系粘着剤/色素入り希釈液(8
0:20wt%)を混合し、コンマコーターにより電磁
波遮蔽フィルム側の面に乾燥膜厚25μmに塗工の後、
乾燥、粘着面に離型フィルムをラミネートして、粘着層
を形成した。この色素入り粘着層付きの電磁波遮蔽機能
を有する透明高分子フィルム(B)を長さ960mm×
550mmの寸法に裁断した。次に、上記電磁波遮蔽フ
ィルムと同様に、UL規格94のVTM−2条件を満足
する帝人(株)製ポリエチレンテレフタレートフィルム
(テトロンOタイプ厚さ 100μm)をベース材にし
て、防眩性フィルムを作製した。すなわち、多官能メタ
クリレート樹脂に光重合開始剤を添加、さらに有機シリ
カ微粒子(平均粒径:15μm)を分散させた塗工液を
調製し、フィルムの主面上にロール・ツー・ロールで連
続的に塗工後、紫外線硬化させ、防眩性(ヘーズメータ
ー測定のヘーズ値:5%)、ハードコート性(鉛筆硬
度:2H)を有する機能透明層(E)を有する透明高分
子フィルム(A)を作製した。さらに、酢酸エチル/ト
ルエン(50:50wt%)溶剤を希釈液として、アク
リル系粘着剤と希釈液とを80:20の割合で混合し、
機能性透明層(E)とは反対の主面上に、カンマコータ
ーにより乾燥膜厚25μmに塗工後、乾燥させ、離型フ
ィルムをラミネートし透明粘着材層を形成した。この透
明粘着材付きの機能性透明層(E)を有する透明高分子
フィルム(A)を、長さ920mm×幅510mmの寸
法に裁断し、電磁波遮蔽機能を有する透明高分子フィル
ム(B)上に、透明導電層の周縁部20mmが剥きだし
になるようにフィルムを内貼りした。さらに、透明導電
層の剥きだし部を覆うように周縁部幅22mmの範囲
に、銀ペースト(三井化学(株)製MSP−600F)
をスクリーン印刷し、乾燥させ厚さ15μmの電極を形
成した。これにより、使用する透明高分子フィルムの全
ての材質が、UL規格94に規定される垂直燃焼試験に
おいて燃焼継続時間30秒未満となる光学フィルターを
得た。Next, the present invention will be described in detail with reference to examples. Example 1 On one main surface of a polyethylene terephthalate film (Tetron O type, thickness: 100 μm) manufactured by Teijin Limited satisfying the VTM-2 condition of UL standard 94, an ITO thin film (film thickness: 40 nm) was formed in order from the film. Silver thin film (film thickness:
11 nm), ITO thin film (thickness: 95 nm), silver thin film (thickness: 14 nm), ITO thin film (thickness: 90 nm),
Silver thin film (thickness: 12 nm), ITO thin film (thickness: 40 n)
m) to form a total of seven transparent conductive films, and a sheet resistance of 2.2 Ω /
□ Transparent polymer film with electromagnetic wave shielding function (B)
Was prepared. An adhesive layer was formed on the above-mentioned electromagnetic wave shielding film by the following method. Ethyl acetate / toluene (5
(0:50 wt%) An organic dye was dispersed and dissolved in a solvent to obtain a diluent of an acrylic pressure-sensitive adhesive. The organic dye is a dye PD- manufactured by Mitsui Chemicals, which has an absorption maximum at a wavelength of 595 nm for absorbing unnecessary emission emitted by the plasma display.
319 and a red dye PS-Red-G manufactured by Mitsui Chemicals for correcting the chromaticity of white light emission were 1150 (wt) ppm and 1050 (wt) p in a dried adhesive material, respectively.
The acryl-based pressure-sensitive adhesive / dilution solution containing the dye was adjusted to contain pm. Acrylic adhesive / Dilution with dye (8
0:20 wt%), and coated with a comma coater to a dry film thickness of 25 μm on the surface of the electromagnetic wave shielding film side.
A release film was laminated on the dried and adhesive surface to form an adhesive layer. The transparent polymer film (B) having the electromagnetic wave shielding function with the dye-containing adhesive layer is 960 mm long.
It was cut to a size of 550 mm. Next, similarly to the above-mentioned electromagnetic wave shielding film, an anti-glare film is produced using a polyethylene terephthalate film (Tetron O type, thickness: 100 μm) manufactured by Teijin Limited which satisfies the VTM-2 condition of UL Standard 94. did. That is, a photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin, and a coating liquid in which organic silica fine particles (average particle diameter: 15 μm) is dispersed is prepared. The coating liquid is continuously roll-to-roll on the main surface of the film. After coating, a UV-cured, transparent polymer film (A) having a functional transparent layer (E) having antiglare properties (haze value measured by a haze meter: 5%) and hard coat properties (pencil hardness: 2H) Was prepared. Further, using an ethyl acetate / toluene (50:50 wt%) solvent as a diluent, an acrylic adhesive and a diluent were mixed at a ratio of 80:20,
On the main surface opposite to the functional transparent layer (E), a 25 μm dry film thickness was applied by a comma coater, dried, and a release film was laminated to form a transparent adhesive layer. The transparent polymer film (A) having the functional transparent layer (E) with the transparent adhesive material is cut into a size of 920 mm in length × 510 mm in width, and is cut on a transparent polymer film (B) having an electromagnetic wave shielding function. Then, a film was applied so that the peripheral portion of the transparent conductive layer was exposed by 20 mm. Further, a silver paste (MSP-600F, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was applied to a region with a peripheral edge width of 22 mm so as to cover the exposed portion of the transparent conductive layer.
Was screen-printed and dried to form an electrode having a thickness of 15 μm. As a result, an optical filter was obtained in which all the materials of the used transparent polymer film had a combustion duration of less than 30 seconds in a vertical combustion test defined in UL Standard 94.
【0038】実施例2 UL規格94のVTM−2条件を満足する帝人(株)製
ポリエチレンテレフタレートフィルム(テトロンOタイ
プ 厚さ 75μm)の一方の主面に、フィルムから順
に、ITO薄膜(膜厚:40nm)、銀薄膜(膜厚:1
1nm)、ITO薄膜(膜厚:95nm)、銀薄膜(膜
厚:14nm)、ITO薄膜(膜厚:90nm)、銀薄
膜(膜厚:12nm)、ITO薄膜(膜厚:40nm)
の計7層の透明導電膜を形成し、面抵抗2.2Ω/□の
透明導電層(F)を有する透明高分子フィルム(B)を
作製した。この透明高分子フィルムの透明導電層が形成
されていない他方の主面に、次の機能性透明層をロール
・ツー・ロールで連続的に形成した。すなわち、多官能
メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにIT
O微粒子(平均粒径:10nm)を分散させたコート液
をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化によって導
電性ハードコート膜(膜厚:3μm)を形成し、その上
に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーター
にて塗工・90℃乾燥・熱硬化させ、屈折率1.4の反
射防止膜(膜厚:100nm)を形成し、ハードコート
性(JISK5400準拠の鉛筆硬度:2H)、反射防
止性(表面のRvis :2.5%)、帯電防止性(表面抵
抗:7×109 Ω/□)、防汚性を有する機能性透明層
を形成した。さらに、酢酸エチル/トルエン(50:5
0wt%)溶剤を希釈液として、アクリル系粘着剤と希
釈液とを80:20の割合で混合し、透明導電層面上
に、カンマコーターにより乾燥膜厚25μmに塗工後、
乾燥させ、離型フィルムをラミネートし透明粘着材層を
形成した。この機能性透明層と電磁波機能を有する透明
高分子フィルム(D)を長さ920mm×幅510mm
の寸法に裁断した。さらに、UL規格94のVTM−2
条件を満足する帝人(株)製ポリエチレンテレフタレー
トフィルム(テトロン Oタイプ 厚さ 188μm)
の一方の主面に、以下の方法で粘着材層を形成した。酢
酸エチル/トルエン(50:50wt%)溶剤に有機色
素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とし
た。有機色素は、プラズマディスプレイが放射する不要
発光を吸収させるための波長595nmに吸収極大を有
する三井化学製色素PD−319、及び、白色発光の色
度を補正するための三井化学製赤色色素PS−Red−
Gが、それぞれ乾燥した粘着材中で1150(wt)p
pm、1050(wt)ppm含有するようにアクリル
系粘着剤/色素入り希釈液を調整した。アクリル系粘着
剤/色素入り希釈液(80:20wt%)を混合し、コ
ンマコーターにより電磁波遮蔽フィルム側の面に乾燥膜
厚25μmに塗工の後、乾燥、粘着面に離型フィルムを
ラミネートして、粘着層を形成した。この色素入り粘着
層付きの嵩上げ用透明高分子フィルム(C)を、長さ9
20mm×幅510mmの寸法に裁断し、電磁波遮蔽機
能を有する透明高分子フィルム(B)上に、透明導電層
の周縁部20mmが剥きだしになるようにフィルムを内
貼りした。さらに、透明導電層の剥きだし部を覆うよう
に周縁部幅22mmの範囲に、銀ペースト(三井化学
(株)製MSP−600F)をスクリーン印刷し、乾燥
させ厚さ15μmの電極を形成した。これにより、使用
する透明高分子フィルムの全ての材質が、UL規格94
に規定される垂直燃焼試験において燃焼継続時間30秒
未満となる光学フィルターを得た。Example 2 On one main surface of a polyethylene terephthalate film (Tetron O type, thickness 75 μm) manufactured by Teijin Limited which satisfies the VTM-2 condition of UL standard 94, an ITO thin film (film thickness: 40 nm), silver thin film (film thickness: 1)
1 nm), ITO thin film (thickness: 95 nm), silver thin film (thickness: 14 nm), ITO thin film (thickness: 90 nm), silver thin film (thickness: 12 nm), ITO thin film (thickness: 40 nm)
The transparent polymer film (B) having a transparent conductive layer (F) having a sheet resistance of 2.2 Ω / □ was formed. On the other main surface of the transparent polymer film on which the transparent conductive layer was not formed, the next functional transparent layer was continuously formed by roll-to-roll. That is, a photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin,
A coating liquid in which O fine particles (average particle diameter: 10 nm) is dispersed is applied by a gravure coater, and a conductive hard coat film (thickness: 3 μm) is formed by ultraviolet curing, and a fluorine-containing organic compound solution is formed thereon. Is coated with a microgravure coater, dried at 90 ° C., and thermally cured to form an antireflection film (thickness: 100 nm) having a refractive index of 1.4, hard coat properties (pencil hardness according to JIS K5400: 2H), and reflection. A functional transparent layer having antistatic properties (Rvis on the surface: 2.5%), antistatic properties (surface resistance: 7 × 10 9 Ω / □), and antifouling properties was formed. Further, ethyl acetate / toluene (50: 5
0 wt%) Using a solvent as a diluent, an acrylic pressure-sensitive adhesive and a diluent were mixed at a ratio of 80:20, and coated on a transparent conductive layer surface with a comma coater to a dry film thickness of 25 μm.
After drying, the release film was laminated to form a transparent adhesive layer. This functional transparent layer and the transparent polymer film (D) having an electromagnetic wave function are 920 mm long × 510 mm wide.
Cut to dimensions. Furthermore, VTM-2 of UL standard 94
Teijin Limited polyethylene terephthalate film (Tetron O type, thickness 188μm)
An adhesive layer was formed on one of the main surfaces by the following method. The organic dye was dispersed and dissolved in a solvent of ethyl acetate / toluene (50:50 wt%) to obtain a diluted solution of an acrylic pressure-sensitive adhesive. The organic dye is a dye PD-319 manufactured by Mitsui Chemicals having an absorption maximum at a wavelength of 595 nm for absorbing unnecessary light emitted by a plasma display, and a red dye PS-manufactured by Mitsui Chemicals for correcting chromaticity of white light emission. Red-
G is 1150 (wt) p in each dried adhesive
The acryl-based pressure-sensitive adhesive / dilution-containing diluent was adjusted to contain 1050 (wt) ppm. Acrylic pressure-sensitive adhesive / dilution solution containing pigment (80:20 wt%) is mixed, coated with a comma coater to a dry film thickness of 25 μm on the electromagnetic wave shielding film side, dried, and a release film is laminated on the pressure-sensitive adhesive surface. Thus, an adhesive layer was formed. The raising transparent polymer film (C) having the dye-containing pressure-sensitive adhesive layer was applied to a length 9
The sheet was cut into a size of 20 mm x 510 mm in width, and the film was adhered on the transparent polymer film (B) having an electromagnetic wave shielding function so that the peripheral portion of the transparent conductive layer was exposed at 20 mm. Further, a silver paste (MSP-600F, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was screen-printed in a range of a peripheral portion width of 22 mm so as to cover the exposed portion of the transparent conductive layer, and dried to form an electrode having a thickness of 15 μm. Thereby, all the materials of the transparent polymer film to be used are UL standard 94
An optical filter having a combustion duration of less than 30 seconds in a vertical combustion test specified in Example 1 was obtained.
【0039】実施例3 UL規格94のVTM−2条件を満足する帝人(株)製
ポリエチレンテレフタレートフィルム(テトロン Oタ
イプ 厚さ 75μm)の主面に、厚さ7μm、孔径1
μm、ポロシティー8%の銅箔をアクリル系粘着材を用
いて貼り合せた。次に、アルカリ現像型のフォトレジス
トを銅層の上にコーティングし、プリベーク後にフォト
マスクを用いて露光、現像を行い、格子幅25μm、開
口125μm×125μmの格子パターンを透明高分子
フィルム上に設けた。さらに、塩化第二鉄溶液によるレ
ジスト非保護銅箔部のエッチング、アルカリ溶液による
レジスト除去を行い、開口率69%の導電性メッシュフ
ィルムを作製した。この導電性メッシュフィルムの視感
平均透過率は65%、面抵抗は0.07Ω/□であっ
た。さらに、上記導電性メッシュフィルムのメッシュ層
が形成されない他方の主面に、以下の方法で粘着材層を
形成した。酢酸エチル/トルエン(50:50wt%)
溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の
希釈液とした。有機色素は、プラズマディスプレイが放
射する不要発光を吸収させるための波長595nmに吸
収極大を有する三井化学製色素PD−319、及び白色
発光の色度を補正するための三井化学製赤色色素PS−
Red−G、近赤外吸収色素である三井化学(株)製S
IR−128、SIR−130、をそれぞれ乾燥した粘
着材中で1150(wt)ppm、1050(wt)p
pm、3000(wt)ppm、3000(wt)pp
m含有するようにアクリル系粘着剤/色素入り希釈液を
調整した。アクリル系粘着剤/色素入り希釈液(80:
20wt%)を混合し、コンマコーターにより電磁波遮
蔽フィルム側の面に乾燥膜厚25μmに塗工の後、乾
燥、粘着面に離型フィルムをラミネートして、粘着層を
形成した。この色素入り粘着層付きの透明導電層を有す
る透明高分子フィルム(B)を長さ960mm×550
mmの寸法に裁断した。次に、上記導電性メッシュフィ
ルムと同様に、UL規格94のVTM−2条件を満足す
る帝人(株)製ポリエチレンテレフタレートフィルム
(テトロン Oタイプ 厚さ 75μm)をベース材に
して、反射防止フィルムを作製した。すなわち、多官能
メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにIT
O微粒子(平均粒径:10nm)を分散させたコート液
をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化によって導
電性ハードコート膜(膜厚:3μm)を形成し、その上
に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーター
にて塗工・90℃乾燥・熱硬化させ、屈折率1.4の反
射防止膜(膜厚:100nm)を形成し、ハードコート
性(JISK5400準拠の鉛筆硬度:2H)、反射防
止性(表面のRvis :2.5%)、帯電防止性(表面抵
抗:7×109 Ω/□)、防汚性を有する機能透明層
(E)を有する透明高分子フィルム(A)を作製した。
さらに、酢酸エチル/トルエン(50:50wt%)溶
剤を希釈液として、アクリル系粘着剤と希釈液とを8
0:20の割合で混合し、機能性透明層(E)とは反対
の主面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚25μmに
塗工後、乾燥させ、離型フィルムをラミネートし透明粘
着材層を形成した。この透明粘着材付きの機能性透明層
(E)を有する透明高分子フィルム(A)を、長さ92
0mm×幅510mmの寸法に裁断し、導電性メッシュ
からなる透明導電層を有する透明高分子フィルム(B)
上に、透明導電層の周縁部20mmが剥きだしになるよ
うにフィルムを内貼りした。さらに、透明高分子フィル
ム(B)の反対側の主面には、嵩上げフィルムとして同
寸法(960×550mm)のUL規格94のVTM−
2条件を満足する帝人(株)製ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム(テトロン Oタイプ 厚さ 188μ
m)、および離型フィルム付き透明粘着材を貼り合せ
た。また、透明導電層の剥きだし部を覆うように周縁部
幅22mmの範囲に、銀ペースト(三井化学(株)製M
SP−600F)をスクリーン印刷し、乾燥させ厚さ1
5μmの電極を形成した。これにより、使用する透明高
分子フィルムの全ての材質が、UL規格94に規定され
る垂直燃焼試験において、燃焼継続時間30秒未満とな
る光学フィルターを得た。Example 3 A polyethylene terephthalate film (Tetron O type, thickness 75 μm) manufactured by Teijin Limited that satisfies the VTM-2 condition of UL standard 94 was formed on the main surface with a thickness of 7 μm and a hole diameter of 1 μm.
A copper foil having a thickness of 8 μm and a porosity of 8% was bonded using an acrylic adhesive. Next, a photoresist of an alkali development type is coated on the copper layer, exposed and developed using a photomask after prebaking, and a grid pattern having a grid width of 25 μm and an opening of 125 μm × 125 μm is provided on the transparent polymer film. Was. Further, etching of the resist unprotected copper foil portion with a ferric chloride solution and removal of the resist with an alkali solution were performed to prepare a conductive mesh film having an aperture ratio of 69%. The luminous average transmittance of this conductive mesh film was 65%, and the sheet resistance was 0.07Ω / □. Further, an adhesive layer was formed on the other main surface of the conductive mesh film where the mesh layer was not formed by the following method. Ethyl acetate / toluene (50: 50wt%)
An organic dye was dispersed and dissolved in a solvent to obtain a diluent of an acrylic pressure-sensitive adhesive. The organic dye is a dye PD-319 manufactured by Mitsui Chemicals having an absorption maximum at a wavelength of 595 nm for absorbing unnecessary light emitted by the plasma display, and a red dye PS-manufactured by Mitsui Chemicals for correcting chromaticity of white light emission.
Red-G, a near infrared absorbing dye manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. S
Each of IR-128 and SIR-130 was dried at 1150 (wt) ppm and 1050 (wt) p in the adhesive.
pm, 3000 (wt) ppm, 3000 (wt) pp
The diluent containing the acrylic pressure-sensitive adhesive / dye was adjusted to contain m. Acrylic adhesive / Dilution containing dye (80:
20 wt%), and applied to the surface on the side of the electromagnetic wave shielding film to a dry film thickness of 25 μm using a comma coater, and then dried and laminated with a release film on the adhesive surface to form an adhesive layer. This transparent polymer film (B) having a transparent conductive layer with a dye-containing adhesive layer was 960 mm × 550 in length.
It was cut to the size of mm. Next, similarly to the above-mentioned conductive mesh film, an anti-reflection film is produced using a polyethylene terephthalate film (Tetron O type, thickness 75 μm) manufactured by Teijin Limited satisfying the VTM-2 condition of UL standard 94. did. That is, a photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin,
A coating liquid in which O fine particles (average particle diameter: 10 nm) is dispersed is applied by a gravure coater, and a conductive hard coat film (thickness: 3 μm) is formed by ultraviolet curing, and a fluorine-containing organic compound solution is formed thereon. Is coated with a microgravure coater, dried at 90 ° C., and thermally cured to form an antireflection film (thickness: 100 nm) having a refractive index of 1.4, hard coat properties (pencil hardness according to JIS K5400: 2H), and reflection. Preparation of a transparent polymer film (A) having a functional transparent layer (E) having antistatic properties (Rvis on the surface: 2.5%), antistatic properties (surface resistance: 7 × 10 9 Ω / □), and antifouling properties did.
Further, using an ethyl acetate / toluene (50:50 wt%) solvent as a diluent, an acrylic pressure-sensitive adhesive and
The mixture was mixed at a ratio of 0:20, coated on the main surface opposite to the functional transparent layer (E) to a dry film thickness of 25 μm using a comma coater, dried, and a release film was laminated to form a transparent adhesive layer. Was formed. A transparent polymer film (A) having a functional transparent layer (E) with a transparent adhesive material was used to prepare a film having a length of 92 mm.
A transparent polymer film (B) cut into a size of 0 mm x 510 mm and having a transparent conductive layer made of a conductive mesh
A film was applied thereon such that the periphery of the transparent conductive layer was exposed at 20 mm. Further, on the opposite main surface of the transparent polymer film (B), a VTM-UL standard 94 of the same size (960 × 550 mm) as a raised film is used.
Teijin Limited polyethylene terephthalate film (Tetron O type, thickness 188μ)
m) and a transparent adhesive with a release film. In addition, a silver paste (Mitsui Chemical Co., Ltd., M) was used to cover the exposed portion of the transparent conductive layer in a range of a peripheral edge width of 22 mm.
SP-600F) is screen printed and dried to a thickness of 1
A 5 μm electrode was formed. As a result, an optical filter was obtained in which all the materials of the transparent polymer film used were less than 30 seconds in burning time in the vertical burning test specified in UL Standard 94.
【0040】比較例1 ポリエチレンテレフタレートペレットに近赤外吸収色素
である三井化学(株)製SIR−128、SIR−13
0を各0.3wt%混合し約280℃で溶融後、押出2
軸延伸により厚さ50μmの近赤外遮蔽フィルム(B)
を作製した。このフィルムは難燃剤添加などの処理して
いないため、UL規格94で規定される垂直燃焼試験に
おいて燃焼継続時間が30秒以上となり、十分な難燃性
を有しない。さらに、酢酸エチル/トルエン(50:5
0wt%)溶剤を希釈液として、アクリル系粘着剤と希
釈液とを80:20の割合で混合し、近赤外遮蔽フィル
ム面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚25μmに塗
工後、乾燥させ、粘着材層を形成し離型フィルムをラミ
ネートした。上記のように作製した近赤外遮蔽フィルム
(B)の上に、トリアセチルセルロースをベースフィル
ム(厚さ80μm)とした反射防止フィルム(A)表面
のRvis:0.9%)をラミネートし、長さ960mm×
幅550mmに裁断することによって、使用する透明高
分子フィルムいずれもが難燃性を有しない光学フィルタ
ーを得た。Comparative Example 1 Polyethylene terephthalate pellets containing near infrared absorbing dyes, SIR-128 and SIR-13, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.
0.3 wt% each and melted at about 280 ° C.
Near-infrared shielding film with a thickness of 50 μm by axial stretching (B)
Was prepared. Since this film has not been subjected to treatment such as addition of a flame retardant, the burning continuation time is 30 seconds or more in a vertical combustion test defined by UL Standard 94, and the film does not have sufficient flame retardancy. Further, ethyl acetate / toluene (50: 5
0 wt%) Using a solvent as a diluent, an acrylic pressure-sensitive adhesive and a diluent were mixed at a ratio of 80:20, coated on a near-infrared shielding film surface with a comma coater to a dry film thickness of 25 μm, and dried. Then, an adhesive layer was formed, and a release film was laminated. On the near-infrared shielding film (B) produced as described above, an antireflection film (A) having triacetyl cellulose as a base film (thickness: 80 μm) was laminated (Rvis on the surface: 0.9%), Length 960mm ×
By cutting to a width of 550 mm, an optical filter was obtained in which none of the transparent polymer films used had flame retardancy.
【0041】比較例2 UL規格94のVTM−2条件を満足する帝人(株)製
ポリエチレンテレフタレートフィルム(テトロンOタイ
プ 厚さ 75μm)の一方の主面に、フィルムから順
に、ITO薄膜(膜厚:40nm)、銀薄膜(膜厚:1
1nm)、ITO薄膜(膜厚:95nm)、銀薄膜(膜
厚:14nm)、ITO薄膜(膜厚:90nm)、銀薄
膜(膜厚:12nm)、ITO薄膜(膜厚:40nm)
の計7層の透明導電膜を形成し、面抵抗2.2Ω/□の
透明導電層(F)を有する透明高分子フィルム(B)を
作製した。さらに、酢酸エチル/トルエン(50:50
wt%)溶剤を希釈液として、アクリル系粘着剤と希釈
液とを80:20の割合で混合し、透明導電層とは反対
の主面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚25μmに
塗工後、乾燥させ、離型フィルムをラミネートし透明粘
着材層を形成した。粘着層付きの透明導電層を有する透
明高分子フィルム(B)を長さ960mm×550mm
の寸法に裁断した。次に、比較例1に示したトリアセチ
ルセルロースをベースフィルム(厚さ80μm、)とし
た反射防止フィルム(A)(表面のRvis:0.9%)
を、長さ920mm×幅510mmの寸法に裁断し、透
明導電層を有する透明高分子フィルム(B)上に、透明
導電層の周縁部20mmが剥きだしになるようにフィル
ムを内貼りした。さらに、透明導電層の剥きだし部を覆
うように周縁部幅22mmの範囲に、銀ペースト(三井
化学(株)製MSP−600F)をスクリーン印刷し、
乾燥させ厚さ15μmの電極を形成した。これにより、
使用する透明高分子フィルムの一部の材質が難燃性を有
しない光学フィルターを得た。上記のように作製した、
実施例1〜3及び比較例1〜2の光学フィルタについて
以下の3点の試験を実施した。COMPARATIVE EXAMPLE 2 A polyethylene terephthalate film (Tetron O type, thickness: 75 μm) manufactured by Teijin Limited satisfying the VTM-2 condition of UL Standard 94 was formed on one main surface of the thin film of ITO in order from the film. 40 nm), silver thin film (film thickness: 1)
1 nm), ITO thin film (thickness: 95 nm), silver thin film (thickness: 14 nm), ITO thin film (thickness: 90 nm), silver thin film (thickness: 12 nm), ITO thin film (thickness: 40 nm)
The transparent polymer film (B) having a transparent conductive layer (F) having a sheet resistance of 2.2 Ω / □ was formed. Further, ethyl acetate / toluene (50:50)
Acrylic adhesive and diluent are mixed at a ratio of 80:20 using a solvent as a diluent, and coated on a main surface opposite to the transparent conductive layer to a dry film thickness of 25 μm with a comma coater. After drying, a release film was laminated to form a transparent adhesive layer. A transparent polymer film (B) having a transparent conductive layer with an adhesive layer has a length of 960 mm × 550 mm.
Cut to dimensions. Next, an antireflection film (A) using triacetylcellulose shown in Comparative Example 1 as a base film (thickness: 80 μm) (Rvis on the surface: 0.9%)
Was cut into a size of 920 mm in length × 510 mm in width, and a film was adhered on a transparent polymer film (B) having a transparent conductive layer such that the peripheral portion of the transparent conductive layer was exposed at 20 mm. Further, a silver paste (MSP-600F manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is screen-printed in a range of a peripheral portion width of 22 mm so as to cover the exposed portion of the transparent conductive layer,
After drying, an electrode having a thickness of 15 μm was formed. This allows
An optical filter was obtained in which some of the transparent polymer films used did not have flame retardancy. Made as above,
The following three tests were performed on the optical filters of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2.
【0042】(1)反射特性評価 作製した光学フィル
ターの透光部を小片に切り出し、(株)日立製作所分光
光度計(U−3400)により、400〜800nmの
全光線反射率を測定し、そのスペクトルからプラズマデ
ィスプレイの視認性の指標となる視感平均反射率(Rvi
s)を求めた。 (2)視認性確認 作製した光学フィルターを、プラズ
マディスプレイパネル(NEC製 PX−42VP1)
表面に直接貼り合せ、1.5m離れた距離からその視認
性(画面の見えやすさ、外光反射の影響の有無など)を
確認した。 (3)垂直燃焼試験 作製した光学フィルターの透光部
を5インチ×8インチの大きさの小片に切り出し、UL
94VTM試験に則って、小片を円筒状に巻き垂直に保
持して下端より着火する垂直燃焼試験を実施した。この
試験では、接炎後の炎を伴った燃焼時間を確認し、30
秒未満であったものを合格、それ以上であったものを不
合格とした。 以上の試験結果を下記の表1にまとめた。(1) Evaluation of Reflection Characteristics The light-transmitting portion of the produced optical filter was cut into small pieces, and the total light reflectance of 400 to 800 nm was measured with a spectrophotometer (U-3400) of Hitachi, Ltd. The luminous average reflectance (Rvi
s). (2) Confirmation of visibility The prepared optical filter was used as a plasma display panel (PX-42VP1 manufactured by NEC).
It was directly bonded to the surface, and its visibility (visibility of the screen, presence or absence of influence of external light reflection, etc.) was confirmed from a distance of 1.5 m. (3) Vertical burning test The light-transmitting part of the prepared optical filter was cut out into small pieces of 5 inches x 8 inches, and UL was cut.
According to the 94VTM test, a vertical combustion test was conducted in which a small piece was wound in a cylindrical shape and held vertically to ignite from the lower end. In this test, the burning time accompanying the flame after the flame contact was confirmed, and 30
Those that took less than a second were passed, and those that were longer than that were rejected. The above test results are summarized in Table 1 below.
【表1】 [Table 1]
【0043】[0043]
【発明の効果】上記表1から明らかなように、分光光度
計により測定した視感平均反射率は、反射防止フィルム
の材質としてトリアセチルセルロールを用いた比較例1
〜2の方が低い。しかしながら、プラズマディスプレイ
に直接貼り合せた視認性確認では、難燃性ポリエチレン
テレフタレートを用いた反射防止フィルム(実施例2〜
3)との性能上の大きな差は認められなかった。また、
実施例1のように反射防止フィルムの替わりに防眩性フ
ィルムを用いる場合にも数字上の反射率は高くなるが、
反射光が散乱光であるため、視認性が大きく損なわれる
ことがなかった。実施例において視認性に比較例との有
為差が認められなかった点については、プラズマディス
プレイ表面に直接光学フィルターを貼り合せたことによ
り反射2重像が大幅に低減した効果に起因するものと推
察する。As is clear from Table 1 above, the luminous average reflectance measured by a spectrophotometer is the same as that of Comparative Example 1 using triacetylcellulose as the material of the antireflection film.
~ 2 is lower. However, in the visibility check directly bonded to the plasma display, an antireflection film using flame-retardant polyethylene terephthalate (Examples 2 to 5) was used.
No significant difference in performance from 3) was observed. Also,
Even when an antiglare film is used instead of the antireflection film as in Example 1, the numerical reflectivity is high,
Since the reflected light was scattered light, visibility was not significantly impaired. The point that no significant difference was observed in the visibility from the comparative example in the example was attributed to the effect that the reflection double image was greatly reduced by directly bonding the optical filter to the plasma display surface. Infer.
【0044】一方、垂直燃焼試験の結果から明らかなよ
うに、比較例1〜2のように難燃性を有しない透明高分
子フィルムを全てもしくは一部に使用した場合と、実施
例1〜3のように、全て難燃性を有する透明高分子フィ
ルムを光学フィルターに使用した場合とでは、その燃焼
性に大きな有為差が認められた。以上の結果から、直接
貼り合せ用光学フィルターにおいては、それを構成する
透明高分子フィルムの全てを難燃性材料に規定すること
により、視認性を損なうことなく、その安全性が大幅に
向上することが明らかとなった。本発明によれば、光学
フィルターを構成する透明高分子フィルムの全ての材質
を、UL規格94で規定される垂直燃焼試験における燃
焼継続時間30秒未満の難燃性材料とすることで、直接
貼り合せ型の長所を生かし、かつ安全性に優れた光学フ
ィルターを提供することができる。さらに、この直接貼
り合せ用光学フィルターの耐衝撃性を向上させるために
は、透明高分子フィルムの厚さを厚くするか、嵩上げ用
フィルムを付与すればよい。また、更なる難燃性の向上
が求められる場合には、粘着材中にも難燃剤を付与すれ
ばよく、環境への影響を考慮する場合には、リン系、水
和金属系などの非ハロゲン系の難燃剤を使用すればよ
い。On the other hand, as is apparent from the results of the vertical burning test, the case where the transparent polymer film having no flame retardancy was used in all or a part as in Comparative Examples 1 and 2 and the case where Examples 1 to 3 were used. As described above, a significant difference was observed in the flammability between the case where a transparent polymer film having all flame retardancy was used for the optical filter. From the above results, in the optical filter for direct bonding, by defining all of the transparent polymer film constituting it as a flame retardant material, the safety is greatly improved without impairing the visibility. It became clear. According to the present invention, all the materials of the transparent polymer film constituting the optical filter are made of a flame-retardant material having a burning duration of less than 30 seconds in a vertical burning test specified by UL Standard 94, thereby directly attaching the film. It is possible to provide an optical filter that is excellent in safety while taking advantage of the combination type. Further, in order to improve the impact resistance of the optical filter for direct bonding, the thickness of the transparent polymer film may be increased or a film for raising the height may be provided. When further improvement in flame retardancy is required, a flame retardant may be added to the adhesive, and when considering the effect on the environment, non-flammable materials such as phosphorus-based and hydrated metal-based materials may be used. A halogen-based flame retardant may be used.
図1〜図5 光学フィルターの一例を示す断面図 図6及び図7 透明導電膜の一例を示す断面図 図8 光学フィルターの一例を示す平面図 1 to 5 are cross-sectional views illustrating an example of an optical filter. FIGS. 6 and 7 are cross-sectional views illustrating an example of a transparent conductive film. FIG. 8 is a plan view illustrating an example of an optical filter.
10 離型フィルム 20 粘着層 30 難燃性及び近赤外遮蔽機能と電磁波遮蔽機能の少
なくともどちらかひとつの機能を有する透明高分子フィ
ルム(B) 40 難燃性及び機能透明層(E)を有する透明高分子
フィルム(A) 50 難燃性を有する嵩上げ用透明高分子フィルム
(C) 60 難燃性及び近赤外遮蔽機能と電磁波遮蔽機能の少
なくともひとつの機能を有し、さらにフィルムの主面上
に機能透明層(E)を有する透明高分子フィルム(D) 70 電極 80 透明高屈折率薄膜層(a) 90 銀または銀合金薄膜層(b) 300、600 難燃性を有する透明高分子フィルム 100 反射防止層 110 光学フィルターDESCRIPTION OF REFERENCE NUMERALS 10 release film 20 adhesive layer 30 transparent polymer film (B) 40 having at least one of flame retardancy and near infrared shielding function and electromagnetic wave shielding function 40 having flame retardant and functional transparent layer (E) Transparent polymer film (A) 50 Transparent polymer film for raising (F) having flame retardancy (C) 60 It has flame retardancy and at least one function of near-infrared shielding function and electromagnetic wave shielding function. Transparent polymer film (D) having functional transparent layer (E) on top 70 Electrode 80 Transparent high refractive index thin film layer (a) 90 Silver or silver alloy thin film layer (b) 300, 600 Flame retardant transparent polymer Film 100 anti-reflection layer 110 optical filter
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08K 5/49 C08K 5/49 5C058 C08L 101/00 C08L 101/00 5G435 C09K 21/02 C09K 21/02 G02B 1/11 G02B 5/28 1/10 H04N 5/72 Z 5/28 G02B 1/10 A H04N 5/72 Z (72)発明者 北河 敏久 千葉県袖ヶ浦市長浦580番32 三井化学株 式会社内 (72)発明者 福田 伸 千葉県袖ヶ浦市長浦580番32 三井化学株 式会社内 Fターム(参考) 2H048 GA07 GA09 GA19 GA24 GA36 GA60 GA61 2K009 AA04 AA12 AA15 BB11 CC03 CC09 CC24 CC26 DD02 DD06 EE03 EE05 4F100 AA01H AA02H AA17E AA25E AA28E AA33E AB24E AK01A AK01C AR00B AR00D BA02 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10B BA10C BA10D CA08B CA13 CB05 DC11E GB41 GB90 JD02A JD08A JD09A JD10A JG01E JG03A JJ07 JK12A JL06A JL13B JM02D JM02E JN01A JN01C JN01D JN06A JN18E 4H028 AA07 AA08 AA34 AB04 BA03 BA06 4J002 BB021 BG061 CF061 CG001 CM041 CN031 DA056 DE046 DH006 EW006 FD136 GF00 GP00 5C058 AA11 AB05 AB06 BA35 5G435 AA00 AA01 AA16 GG11 GG16 GG32 GG33 HH02 HH03 HH12 KK07 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08K 5/49 C08K 5/49 5C058 C08L 101/00 C08L 101/00 5G435 C09K 21/02 C09K 21/02 G02B 1/11 G02B 5/28 1/10 H04N 5/72 Z 5/28 G02B 1/10 A H04N 5/72 Z (72) Inventor Toshihisa Kitagawa 580-32 Nagaura, Sodegaura-shi, Chiba Mitsui Chemicals, Inc. 72) Inventor Shin Fukuda 580-32 Nagaura, Sodegaura-shi, Chiba Prefecture F-term in Mitsui Chemicals Co., Ltd. AA25E AA28E AA33E AB24E AK01A AK01C AR00B AR00D BA02 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10B BA10C BA10D CA08B CA13 CB05 DC11E GB41 GB90 JD02A JD08A JD09A JD10A J G01E JG03A JJ07 JK12A JL06A JL13B JM02D JM02E JN01A JN01C JN01D JN06A JN18E 4H028 AA07 AA08 AA34 AB04 BA03 BA06 4J002 BB021 BG061 CF061 CG001 CM041 CN031 DA056 DE046 DH006 EW006 FD136 GF00 GP00 5C058 AA11 AB05 AB06 BA35 5G435 AA00 AA01 AA16 GG11 GG16 GG32 GG33 HH02 HH03 HH12 KK07
Claims (13)
に各1枚以上積層して、最外層に離型フィルム付の粘着
材層を設けた光学フィルターであって、UL規格94で
規定される垂直燃焼試験において、前記透明高分子フィ
ルムの燃焼継続時間が30秒未満であることを特徴とす
る光学フィルター。1. An optical filter in which a transparent polymer film and an adhesive layer are alternately laminated at least one each, and an outermost layer is provided with an adhesive layer with a release film, which is defined by UL Standard 94. An optical filter characterized in that, in a vertical burning test performed, the burning duration of the transparent polymer film is less than 30 seconds.
主成分とする難燃剤を含有する透明高分子フィルムを使
用することを特徴とする請求項1に記載の光学フィルタ
ー。2. The optical filter according to claim 1, wherein a transparent polymer film containing a flame retardant containing a phosphorus compound or a hydrated metal compound as a main component is used.
とも一つに、リン系化合物もしくは水和金属化合物を主
成分とする難燃剤を添加することを特徴とする請求項1
又は2に記載の光学フィルター。3. A flame retardant containing a phosphorus compound or a hydrated metal compound as a main component is added to at least one of the pressure-sensitive adhesives used in the laminated structure.
Or the optical filter of 2.
ィルム(A)と、近赤外遮蔽機能と電磁波遮蔽機能の少
なくともひとつの機能を有する透明高分子フィルム
(B)とを積層した構成からなる請求項1乃至3いずれ
かに記載の光学フィルター。4. A structure in which a transparent polymer film (A) having a functional transparent layer (E) and a transparent polymer film (B) having at least one of a near-infrared shielding function and an electromagnetic wave shielding function are laminated. The optical filter according to any one of claims 1 to 3, comprising:
ィルム(A)と、近赤外遮蔽機能と電磁波遮蔽機能の少
なくともひとつの機能を有する透明高分子フィルム
(B)と、全体厚さ嵩上げ用の透明高分子フィルム
(C)を積層した構成からなる、請求項1乃至3いずれ
かに記載の光学フィルター。5. A transparent polymer film (A) having a functional transparent layer (E), a transparent polymer film (B) having at least one of a near-infrared shielding function and an electromagnetic wave shielding function, and an overall thickness The optical filter according to any one of claims 1 to 3, wherein the optical filter has a configuration in which a transparent polymer film (C) for raising a height is laminated.
くともひとつの機能を有し、さらにフィルムの主面上に
機能透明層(E)を有する透明高分子フィルム(D)
と、全体厚さ嵩上げ用の透明高分子フィルム(C)を積
層した構成からなる、請求項1乃至3いずれかに記載の
光学フィルター。6. A transparent polymer film (D) having at least one of a near-infrared shielding function and an electromagnetic wave shielding function, and further having a functional transparent layer (E) on the main surface of the film.
The optical filter according to any one of claims 1 to 3, wherein a transparent polymer film (C) for raising the overall thickness is laminated.
性、ハードコート性、帯電防止性、防汚性、ガスバリヤ
性、UVカット性から選択される少なくともひとつの機
能を有する請求項4乃至6いずれかに記載の光学フィル
ター。7. The functional transparent layer (E) has at least one function selected from the group consisting of antireflection properties, antiglare properties, hard coat properties, antistatic properties, antifouling properties, gas barrier properties, and UV cut properties. Item 7. The optical filter according to any one of Items 4 to 6.
に面抵抗0.01〜30Ω/□の透明導電層(F)を有
し、かつ電極(G)を有することを特徴とする請求項4
乃至7いずれかに記載の光学フィルター。8. The method according to claim 4, wherein at least one of the transparent polymer films has a transparent conductive layer (F) having a sheet resistance of 0.01 to 30 Ω / □ and an electrode (G).
An optical filter according to any one of claims 1 to 7.
層(a)と銀または銀合金からなる金属薄膜層(b)と
の積層構成より形成され、その構成が、a/b/a、a
/b/a/b/a、a/b/a/b/a/b/a、a/
b/a/b/a/b/a/b/aのいずれかであること
を特徴とする請求項8に記載の光学フィルター。9. The transparent conductive layer (F) is formed of a laminated structure of a transparent high-refractive-index thin film layer (a) and a metal thin film layer (b) made of silver or a silver alloy. / A, a
/ B / a / b / a, a / b / a / b / a / b / a, a /
The optical filter according to claim 8, wherein the optical filter is any one of b / a / b / a / b / a / b / a.
も一つが、インジウム、スズ、亜鉛のうち、少なくとも
1種以上を主成分とする酸化物からなることを特徴とす
る請求項9に記載の光学フィルター。10. The method according to claim 9, wherein at least one of the transparent high-refractive-index thin film layers (a) is made of an oxide containing at least one of indium, tin and zinc as a main component. Optical filter.
が導電性メッシュからなることを特徴とする請求項8に
記載の光学フィルター11. The optical filter according to claim 8, wherein a part or all of the transparent conductive layer (F) is made of a conductive mesh.
くともひとつが、色素を1種以上含有することを特徴と
する請求項1乃至11いずれかに記載の光学フィルタ
ー。12. The optical filter according to claim 1, wherein at least one of the transparent polymer film and the adhesive layer contains at least one dye.
学フィルターの離型フィルムを剥がして表示部前面に貼
り合わせたプラズマディスプレイパネル。13. A plasma display panel wherein the release film of the optical filter according to any one of claims 1 to 12 is peeled off and bonded to a front surface of a display unit.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001071527A JP2002268569A (en) | 2001-03-14 | 2001-03-14 | Optical filter |
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| JP2001071527A Withdrawn JP2002268569A (en) | 2001-03-14 | 2001-03-14 | Optical filter |
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| JP (1) | JP2002268569A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2013175283A (en) * | 2012-02-23 | 2013-09-05 | Nippon Zeon Co Ltd | Illuminating device |
-
2001
- 2001-03-14 JP JP2001071527A patent/JP2002268569A/en not_active Withdrawn
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