JP2002265392A - 活性化金属を用いる塩素化アリールの脱塩素化方法 - Google Patents
活性化金属を用いる塩素化アリールの脱塩素化方法Info
- Publication number
- JP2002265392A JP2002265392A JP2001065174A JP2001065174A JP2002265392A JP 2002265392 A JP2002265392 A JP 2002265392A JP 2001065174 A JP2001065174 A JP 2001065174A JP 2001065174 A JP2001065174 A JP 2001065174A JP 2002265392 A JP2002265392 A JP 2002265392A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- organic solvent
- chlorinated
- dechlorination
- aryl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 51
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 title claims abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000006298 dechlorination reaction Methods 0.000 title claims description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000000382 dechlorinating effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims abstract description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 6
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 5
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 abstract description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 abstract 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 abstract 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000003071 polychlorinated biphenyls Chemical class 0.000 description 8
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 5
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 4
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FPWNLURCHDRMHC-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobiphenyl Chemical group C1=CC(Cl)=CC=C1C1=CC=CC=C1 FPWNLURCHDRMHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 3
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- JBEGXWSLDJCTQZ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[(2-hydroxyphenyl)methylideneamino]ethyliminomethyl]phenol nickel Chemical compound [Ni].Oc1ccccc1C=NCCN=Cc1ccccc1O JBEGXWSLDJCTQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISDBWOPVZKNQDW-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzaldehyde Chemical group C1=CC(C=O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 ISDBWOPVZKNQDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical group [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PHXQIAWFIIMOKG-UHFFFAOYSA-N NClO Chemical compound NClO PHXQIAWFIIMOKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100219325 Phaseolus vulgaris BA13 gene Proteins 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 150000002013 dioxins Chemical class 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVGZZAHHUNAVKZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxin Chemical compound O1C=COC=C1 KVGZZAHHUNAVKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJBIZCOYFBKBIM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]propane Chemical compound COCCOCCOC(C)C RJBIZCOYFBKBIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100022005 B-lymphocyte antigen CD20 Human genes 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000897405 Homo sapiens B-lymphocyte antigen CD20 Proteins 0.000 description 1
- 101001034314 Homo sapiens Lactadherin Proteins 0.000 description 1
- 101000650817 Homo sapiens Semaphorin-4D Proteins 0.000 description 1
- 102100039648 Lactadherin Human genes 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100027744 Semaphorin-4D Human genes 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010170 biological method Methods 0.000 description 1
- 150000004074 biphenyls Chemical class 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- -1 halide salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000000813 microbial effect Effects 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000009284 supercritical water oxidation Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
Landscapes
- Fire-Extinguishing Compositions (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
いて常温・常圧の反応条件下、ポリ塩素化アリール類を
脱塩素化処理方法の提供。 【解決手段】1個またはそれ以上の塩素原子を有する塩
素化アリールを有機溶媒中、金属塩の存在下に金属と反
応させる。あるいは、有機溶媒中で金属を陽極として電
解することにより、塩素化アリール類を脱塩素化処理す
る。
Description
る塩素化アリールの脱塩素化に関する。
境中で難分解性であり生物に蓄積されやすいことから、
化学審査規制法に基づく特定化学物質に指定され、廃P
CB、PCB廃油、およびPCB汚染物等が廃棄物処理
法に基づく特別管理産業廃棄物に指定されている。これ
らの規制の結果、使用されなくなった含PCB物は、現
在、大口のみならず中小の事業所に小口で保管されてい
る。これらの廃PCBは紛失・漏洩等の保管上のリスク
から、可及的速やかに安全なレベルにまで処理されなけ
ればならない。しかし、移送中の事故による広範囲への
PCBの漏出が懸念されるため、一般の廃棄物と異な
り、大量集中処理では対応しきれないのが現状であり、
各PCB発生源や保管場所での処理が望ましい。また、
PCBが多くの中小事業所においても保管されている現
状を考えると、できるだけコンパクトな装置を用いて穏
和な条件でPCBを分解する方法が望まれる。
て存在するPCBやダイオキシン等のポリ塩素化アリー
ルの無害化処理技術として、種々の化学的・生物学的方
法が開発されている。そのようなポリ塩素化アリールの
無害化処理として、(1)高温熱分解、(2)アルカリ
分解、(3)水素化脱塩素化、(4)超臨界水酸化、
(5)紫外線・微生物分解等が知られている。これらの
無害化処理はほとんどが高温・高圧作業条件下におこな
われ、エネルギーコストも高く、処理装置には高い耐
熱、耐圧、耐アルカリ性が要求される。また、リチウム
等強い還元力を有するアルカリ金属を作用させて塩素化
アリールの脱塩素化を行う方法も報告されているが、そ
の取り扱いには格別の配慮が必要で、装置や操作が複雑
となる難点がある。
ールを一度に処理するには適している。しかし、処理す
べき廃棄物は移動困難であり、多種多様な形態で、しか
も数mg〜数kgのスケールで多くの中小の発生源・保
管所に分散管理されている現状には必ずしも適さない。
処理コストで、小規模の発生源・保管所においてポリ塩
素化アリール類を脱塩素化処理できる塩素化アリールの
脱塩素化方法を提供することを課題とする。
を解決するために、本来強い還元力を有するが環境条件
下では反応性に乏しい金属を電子源(還元剤)に取りあ
げ、これを活性化して塩素化アリールの脱塩素化に用い
ることに想到し、これにつき鋭意研究を行った。この結
果、金属と触媒量の金属塩とを組み合わせることによ
り、さらに必要ならば金属を陽極として電解することに
より、常温常圧下でも強い還元力を発現することを見出
し、本発明を完成するに至った。
れ以上の塩素原子を有する塩素化アリールを有機溶媒
中、金属塩の存在下に金属と反応させることを特徴とす
る塩素化アリールの脱塩素化方法が提供される。
として用い有機溶媒中での電解により脱塩素化反応を行
うことができる。
ミニウム、亜鉛、スズおよびマンガンからなる群の中か
ら選ばれる。
イオン化傾向の小さい金属の塩であることが好ましい。
ド、N−メチルピロリドンおよびN,N−ジメチルアセ
トアミドからなる群の中から選ばれる少なくとも1種の
極性溶媒を包含し得る。
ルの脱塩素化方法は、PCB等の塩素化アリールを簡便
かつ安全に処理し得るものであり、PCBやダイオキシ
ン等の物質処理に大きく貢献できる。
本発明の塩素化アリールの脱塩素化は、1個またはそれ
以上の塩素原子が結合した塩素化アリールを、有機溶媒
中、金属塩の存在下で、金属と反応させることによって
行われる。より具体的には、塩素化アリールと金属と触
媒量の金属塩とを有機溶媒中でかき混ぜて脱塩素化反応
を行うことができる。
ム、スズ、マンガン等を単独でまたは組み合わせて用い
ることができる。金属は、取り扱いやすさ、環境負荷の
観点からすると、好ましくは、マグネシウムおよび/ま
たはアルミニウムである。金属は、量論的な必要量から
大過剰までにわたる割合で用いることができるが、好ま
しくは、塩素化アリール1モル当たり5モル〜50モル
の割合で用いられる。
の小さい金属の塩であることが好ましく、単独でまたは
組み合わせて用いることができる。そのような金属塩に
は、ニッケル、スズ、鉛、ビスマス、チタン、鉄、コバ
ルト、銅の塩が含まれる。その具体例を挙げると、Pb
Cl2、PbBr2、SnCl2、SnCl4、BiC
l 3、BiBr3、TiCl3、TiCl4、CoCl2、
CuBr2、CuI2、NiCl2、NiBr2、NiBr
2(bpy)、NiCl2(bpy)、NiBr2(Ph3
P)3、Ni(salen)等である(ここで、Phは
フェニルを意味する)。好ましくは、NiBr2(bp
y)、NiCl2(bpy)、NiBr2(Ph3P)3、
Ni(salen)等のニッケル錯体、またはこれらの
ニッケル錯体と鉛、ビスマス、スズ、チタン等の金属の
ハロゲン化物塩との組み合わせが用いられる。金属塩の
使用量は、一般に、塩素化アリール1モル当たり20〜
0.001モルである。特に、ニッケル錯体は、単独で
用いる場合、通常、塩素化アリール1モル当たり10〜
0.001モル、好ましくは1〜0.005モルの割合
で使用することが好ましい。また、このような量的割合
のニッケル錯体と組み合わせて用いられる金属塩の添加
量は、塩素化アリールやニッケル錯体の構造や溶媒の種
類等に依存するが、通常、塩素化アリール1モル当たり
10〜0.001モル、好ましくは1〜0.01モルで
ある。
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N,N−メチルピロリジノン、ジメチルスルホキシ
ド、N,N,N,N−テトラメチルエチレンジアミン、
ジメチルジグライム等の非プロトン性極性有機溶媒が、
単独で、または他の有機溶媒との混合溶媒の形態で、好
ましく用いられる。混合溶媒に用いられる他の有機溶媒
としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシ
エタン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレング
リコール、ジグライム、ベンゼン、トルエン、メチルエ
チルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トリ
エチルアミン、ブチルアミン、エチレンジアミン等を例
示することができる。これらの有機溶媒に水を添加した
含水有機溶媒も用いることができる。
が、加温しながら反応させることもできる。用いる金属
及び金属塩に依存するが、反応は、一般に0〜100
℃、好ましくは10〜30℃で行うことができる。反応
時間は、通常、1時間〜24時間程度であるがこれに限
るものではない。
は、反応に用いる金属を陽極として電解することにより
反応を効率良く行うことができる。用いる電解装置に特
に制限はないが、陽陰極を付したビーカー型の非分離セ
ルを用いることができる。陰極としては、白金、炭素、
ステンレス、ニッケル、亜鉛、アルミニウム、鉛、ス
ズ、チタン等を用いることができる。電解溶液は、上に
詳述した金属塩及び有機溶媒を用いて調製されるが、電
流を流し易くするため、さらに支持塩を加えて電解を行
うことができる。支持塩としては、用いる溶媒に可溶
で、十分にイオンに解離するものであれば特に限定され
ないが、好ましくは、Et4NBF4、Bu4NBF4、E
t4NClO4、Bu4NClO4、Et4NOTs、Bu4
NOTs等の第4級アンモニウム塩が用いられる(ここ
で、Etはエチル、Buはブチル、Tsはトシルを意味
する)。電解は定電位条件で行うこともできるが、操作
の簡便な定電流密度条件で行うことが好ましい。電流密
度は、通常1mA/cm2〜10A/cm2、好ましくは
5mA/cm2〜500mA/cm2である。
も常温・常圧の作業条件下、簡便な操作で、数mg〜数
kg規模の塩素化アリールの脱塩素化処理に対応し得
る。本発明の方法は、PCB等の塩素化ビフェニル、ダ
イオキシン等の各種塩素化アリールを脱塩素化して、無
害なアリール化合物に変換することができる。
お、以下の実施例において、別段の指示がない限り、
「%」は、重量%を意味する。
g,0.5mmol)を量り取り、これにNiBr2(bp
y)(18mg,0.05mmol)、PbBr2(18m
g,0.05mmol)、Mg(121mg,5mmol)を加
えた。反応器をアルゴン置換した後、N,N−ジメチル
ホルムアミド(DMF)(2mL)を加え、室温(23
〜25℃)下でかき混ぜながら反応を行った。下記表1
に示す反応時間毎に反応混合物の一部(50μL)を抜
き取り、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)で分
析した。7時間反応させたところ、4−クロロビフェニ
ル1は完全に消失し、ビフェニル2(収率68%)及び
4−ホルミルビフェニル3(収率31%)が生成してい
ることが分かった。
次のようにして得た。すなわち、反応混合物を5%塩酸
に注ぎ、酢酸エチルで数回抽出した。抽出液は一つにま
とめ、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。つづいて、減圧下で溶媒を留去し、カラムクロマ
トで精製すると、ビフェニル2及び4−ホルミルビフェ
ニル3が得られた。化合物2及び化合物3の1H NM
R、IRスペクトルを以下に示す。
7.30-7.51 (m, 6H), 7.52-7.64 (m,4H); IR (CCl4) 306
5, 3033, 1598, 1483, 1432 cm-1. 化合物3:1H NMR (200 MHz, CDCl3) δ 10.06 (s, 1
H), 7.30-7.58 (m, 3H),7.58-7.67 (m, 2H), 7-67-7.80
(m, 2H), 7.92-8.01 (m, 2H).; IR (CCl4) 3065, 303
4, 2927, 2816, 2730, 1707, 1606, 1567 cm-1。
外は実施例1と同様な反応を行った。結果を表2に併記
する。
えた以外は実施例1と同様な反応を行った。結果を表3
に併記する。
おこなった。表4に示す反応条件以外は実施例1と同様
な反応を行った。結果を表4に併記する。
g,0.05mmol)、NiBr2(bpy)(56mg,1
5mmol)、PbBr2(18mg,0.05mmol)およ
びEt4NBF4(109mg,0.05mmol)を量り取
り、これにN,N−ジメチルホルムアミド(5mL)を
加え、かき混ぜて均一溶液とした。つぎに、この溶液に
アルミニウム陽極(1×1cm2)と白金陰極(1×1
cm2)とを浸し、室温(23〜25℃)下でかき混ぜ
ながら、電流を10mAに保って電解を行った。電解
中、下記表5に示す反応時間毎に電解溶液の一部(50
μL)を抜き取り、高速液体クロマトグラフィー(HP
LC)で分析した。13時間電解したところ、4−クロ
ロビフェニル1は完全に消失し、ビフェニル2(収率8
0%)が生成していることが分かった。電解混合物を5
%塩酸に注ぎ、酢酸エチルで数回抽出した。抽出液を一
つにまとめ、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。つづいて、減圧下で溶媒を留去し、カラム
クロマトグラフで精製すると、ビフェニル2(48.5
mg,収率63%)が得られた。化合物2の 1H NM
R、IRスペクトルを以下に示す。
7.30-7.51 (m, 6H), 7.52-7.64 (m,4H); IR (CCl4) 306
5, 3033, 1598, 1483, 1432 cm-1。
を行った。結果を表6に併記する。
よれば、金属と金属塩とを用い、有機溶媒中、環境条件
下、簡単な装置で、簡便な操作で塩素化アリールを脱塩
素化することができる。また、用いる金属は単独では安
定で、金属塩を添加することにより、あるいは簡単な電
解操作で初めて強い還元力を発揮するので、その取り扱
いが容易である。
り、簡便な装置で、常温・常圧の反応条件下、簡便な操
作で、塩素化アリールを脱塩素化することができる。本
発明は、数mgから数kgのスケールの脱塩素化処理に
対応できるので、比較的小規模のポリ塩素化アリールの
新しい無害化技術を提供するものであるということがで
き、従来の同種の技術を補完することが可能となる。
Claims (5)
- 【請求項1】 1個またはそれ以上の塩素原子を有する
塩素化アリールを有機溶媒中、金属塩の存在下に金属と
反応させることを特徴とする塩素化アリールの脱塩素化
方法。 - 【請求項2】 該金属を陽極として用い有機溶媒中での
電解により該反応を行うことを特徴とする請求項1に記
載の脱塩素化方法。 - 【請求項3】 該金属が、マグネシウム、アルミニウ
ム、亜鉛、スズおよびマンガンからなる群の中から選ば
れる請求項1または2に記載の脱塩素化方法。 - 【請求項4】 該金属塩が、該金属よりもイオン化傾向
の小さい金属の塩であることを特徴とする請求項1ない
し3のいずれか1項に記載の脱塩素化方法。 - 【請求項5】 有機溶媒が、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N−メチルピロリドンおよびN,N−ジメチルア
セトアミドからなる群の中から選ばれる少なくとも1種
の溶媒を包含する請求項1ないし4のいずれか1項に記
載の脱塩素化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001065174A JP3985037B2 (ja) | 2001-03-08 | 2001-03-08 | 活性化金属を用いる塩素化アリールの脱塩素化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001065174A JP3985037B2 (ja) | 2001-03-08 | 2001-03-08 | 活性化金属を用いる塩素化アリールの脱塩素化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002265392A true JP2002265392A (ja) | 2002-09-18 |
| JP3985037B2 JP3985037B2 (ja) | 2007-10-03 |
Family
ID=18923877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001065174A Expired - Lifetime JP3985037B2 (ja) | 2001-03-08 | 2001-03-08 | 活性化金属を用いる塩素化アリールの脱塩素化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3985037B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006052285A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-02-23 | Hitachi Chem Co Ltd | 臭素原子を含有する有機化合物の脱臭素化方法 |
| CN108906045A (zh) * | 2018-07-12 | 2018-11-30 | 西安凯立新材料股份有限公司 | 一种催化剂及使用该催化剂进行选择性加氢去除多氯乙酸的方法 |
-
2001
- 2001-03-08 JP JP2001065174A patent/JP3985037B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006052285A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-02-23 | Hitachi Chem Co Ltd | 臭素原子を含有する有機化合物の脱臭素化方法 |
| CN108906045A (zh) * | 2018-07-12 | 2018-11-30 | 西安凯立新材料股份有限公司 | 一种催化剂及使用该催化剂进行选择性加氢去除多氯乙酸的方法 |
| CN108906045B (zh) * | 2018-07-12 | 2021-05-04 | 西安凯立新材料股份有限公司 | 一种催化剂及使用该催化剂进行选择性加氢去除多氯乙酸的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3985037B2 (ja) | 2007-10-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Mitchell et al. | Degradation of perfluorooctanoic acid by reactive species generated through catalyzed H2O2 propagation reactions | |
| Zhang et al. | Dechlorination of polychlorinated biphenyls by electrochemical catalysis in a bicontinuous microemulsion | |
| Li et al. | Peroxymonosulfate activation over amorphous ZIF-62 (Co) glass for micropollutant degradation | |
| Su et al. | Electrochemically mediated reduction of nitrosamines by hemin-functionalized redox electrodes | |
| WO2004024634A3 (en) | Mediated electrochemical oxidation of inorganic materials | |
| Li et al. | Visible-light-mediated Barbier allylation of aldehydes and ketones via dual titanium and photoredox catalysis | |
| TWI591023B (zh) | Hydrothermal oxidation treatment of organic halogen compounds and their catalysts | |
| Hao et al. | Hydrothermal alkaline treatment (HALT) of foam fractionation concentrate derived from PFAS-contaminated groundwater | |
| Wilson et al. | Photodegradation of metolachlor: isolation, identification, and quantification of monochloroacetic acid | |
| Bera et al. | Recent advances on non-precious metal-catalysed fluorination, difluoromethylation, trifluoromethylation, and perfluoroalkylation of N-heteroarenes | |
| US20090012345A1 (en) | Process for the destruction of halogenated hydrocarbons and their homologous/analogous at ambient conditions | |
| Zhou et al. | Theoretical insight into reaction mechanisms of 2, 4-dinitroanisole with hydroxyl radicals for advanced oxidation processes | |
| CN111004100A (zh) | 一种合成全氟己酮的方法 | |
| Xia et al. | Revealing the double-edged roles of chloride ions in Fered-Fenton treatment of industrial wastewater | |
| Voigt et al. | Efficiency increased advanced oxidation processes by persalts for the elimination of pharmaceuticals in waterbodies: a short review | |
| JP2002265392A (ja) | 活性化金属を用いる塩素化アリールの脱塩素化方法 | |
| Liu et al. | MoS2 sponge co-catalytic Fenton reaction for efficient degradation of antibiotics: Performance, mechanism and reactor operation | |
| CN118932350B (zh) | 一种电化学脱氟用于合成氘代羧酸化合物的方法 | |
| JP2003306451A (ja) | マグネシウム−メタノール系での塩素化アリールの脱塩素化 | |
| Liu et al. | Chlorination of arenes via the degradation of toxic chlorophenols | |
| JP2008272594A (ja) | 活性炭吸着有機ハロゲン化物の電解還元脱ハロゲン化法 | |
| Janmanchi et al. | Highly reactive and regenerable fluorinating agent for oxidative fluorination of aromatics | |
| Zhang et al. | E-peroxone with a novel GDE decorated with hydrophobic membrane for the degradation of pyridine: Stability, byproducts and toxicity | |
| JPH03158422A (ja) | 金属の溶解方法 | |
| Elshani et al. | Lariat ether carboxylic acids, O-benzylhydroxamates and hydroxamic acids with fluorinated substituents: Synthesis, metal ion complexation and solubility in supercritical carbon dioxide |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20040716 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20040809 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20040716 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20040812 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20040810 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050330 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050621 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050805 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070220 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070420 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070612 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3985037 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |