JP2002131670A - 光走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】迷光による画像上の不具合の発生を確実に阻止
し、簡単な構成で高品質な走査処理を行うことを可能に
する。 【解決手段】レーザ光照射機構４２は、光源部５０と、
光ビーム走査部５２と、光学定盤５４とを備える。光ビ
ーム走査部５２は、ポリゴンミラー６２を構成する下側
フランジ部８２および上側フランジ部８４に反射防止処
理として黒色処理が施されるとともに、第１および第２
ｆθレンズ６４、６６を固定する板ばね８８ａ、８８
ｂ、９０ａおよび９０ｂに黒色処理が施される。光学定
盤５４の壁部には、該壁部に対するレーザ光Ｌの照射直
径以下のピッチＰで連続した凹凸形状部位９４が設けら
れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光源部から出射さ
れた光ビームを、光ビーム走査部を介して被走査体に照
射することにより、画像記録または画像読み取りを行う
光走査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、蓄積性蛍光体（輝尽性蛍光体）
を利用して、人体等の被写体の放射線画像情報を一旦記
録し、この放射線画像情報を写真フイルム等の写真感光
材料等に再生し、あるいはＣＲＴ等に可視像として出力
させるシステムが知られている。

【０００３】蓄積性蛍光体は、放射線（Ｘ線、α線、γ
線、電子線、紫外線等）の照射によりこの放射線エネル
ギの一部を蓄積し、後に可視光等の励起光の照射によっ
て、蓄積されたエネルギに応じて輝尽発光を示す蛍光体
をいう。この蓄積性蛍光体は、通常、蓄積性蛍光体シー
トとして使用されており、上記システムでは、例えば、
被写体の放射線画像情報が一旦記録された蓄積性蛍光体
シートを副走査方向に搬送しながら、該蓄積性蛍光体シ
ートに対し励起光を主走査方向（副走査方向に略直交す
る方向）に照射して前記放射線画像情報を光電的に読み
取る光走査装置が採用されている。

【０００４】さらに、上記システムでは、蓄積性蛍光体
シートから読み取られた放射線画像情報を、例えば、写
真フイルムに再生するために、前記写真フイルムを副走
査方向に搬送しながら、該写真フイルムに光ビームを主
走査方向に照射する光走査装置が採用されている。

【０００５】この種の光走査装置は、例えば、図５に示
すように、光ビームＬを出射する光源１と、この光源１
から出射された前記光ビームＬを偏向して図示しない被
走査体に照射する光ビーム走査部２とを備えている。こ
の光ビーム走査部２は、偏向用ミラー、例えば、回転多
面鏡であるポリゴンミラー３と、ｆθレンズ４と、前記
光ビームＬを略９０°偏向させるための反射ミラー５と
を設けている。光ビーム走査部２は、ケーシング６内に
設けられた光学定盤７に位置決め配置されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
光走査装置では、光ビームＬが反射ミラー５等で拡散反
射した後、ｆθレンズ４を光学定盤７に保持している板
ばね８やポリゴンミラー３の上下に設けられたフランジ
部９で反射され、反射光Ｌ１として前記反射ミラー５に
照射されるおそれがある。

【０００７】さらに、光ビームＬがポリゴンミラー３等
により、直接、光学定盤７に照射される場合や、この光
ビームＬがｆθレンズ４等で反射して前記光学定盤７に
照射される場合がある。その際、光学定盤７に照射され
た光ビームＬがこの光学定盤７の壁面で反射されて反射
ミラー５に照射されるおそれがある。

【０００８】これにより、反射光Ｌ１等が迷光として被
走査体の走査部位（あるいは近傍）に照射されてしま
い、この被走査体が蓄積性蛍光体シートであれば、読み
取り画像に前記迷光が影響して写真フイルムに再生され
る画像に筋むら等の不具合が生じ易い。一方、被走査体
が写真フイルムであれば、この写真フイルムに、直接、
記録される画像に迷光による不具合が発生し易い。従っ
て、高品質な画像情報読み取り処理や画像記録処理が遂
行されないという問題が指摘されている。

【０００９】本発明はこの種の問題を解決するものであ
り、被走査体に光ビームが照射される際、迷光による画
像上の不具合の発生を確実に阻止し、簡単な構成で高品
質な走査処理が遂行可能な光走査装置を提供することを
目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明に係る光走査装置
では、光ビーム走査部を構成する光ビーム偏向用ミラー
およびレンズ系に近接する部材に反射防止処理が施され
るとともに、光学定盤の光ビームが照射される壁部に対
応して、前記光ビームの照射直径以下のピッチで連続し
た凹凸形状部位が設けられている。これにより、光ビー
ムの光路上に不要な反射光等が迷光として存在すること
を有効に阻止し、前記迷光による画像情報読み取り処理
や画像記録処理における不具合の発生を確実に回避する
ことが可能になる。

【００１１】また、光ビーム偏向用ミラーが回転多面鏡
であり、この回転多面鏡の少なくとも一端に設けられた
フランジ部には、反射防止処理として黒色処理が施され
ている。このため、回転多面鏡のフランジ部における反
射率が大幅に低減され、簡単な構成で、迷光による画像
上の不具合の発生を有効に阻止することができる。

【００１２】さらにまた、被走査体面に照射すべき光ビ
ームの光強度に対し、前記被走査体面に到達する迷光の
光強度を０．００５％以下に調整している。これによ
り、特に、高感度な蓄積性蛍光体シートの読み取り処理
を行う際に、メインビーム以外には僅かな迷光の照射を
も阻止することができる。従って、前記迷光による筋む
ら等の発生を阻止し、高精度な画像記録処理または画像
読み取り処理が効率的に遂行される。

【００１３】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施形態に係る
光走査装置が組み込まれる画像情報読取装置１０の概略
構成説明図である。

【００１４】画像情報読取装置１０を構成する装置本体
１２内には、予め被写体の放射線画像情報が一旦記録さ
れた被走査体である蓄積性蛍光体シートＳが収容された
カセッテ１４を装填するカセッテ装填部１６と、前記放
射線画像情報が記録された前記蓄積性蛍光体シートＳに
励起光であるレーザ光（光ビーム）Ｌを照射して前記放
射線画像情報を光電的に読み取る読み取り部（光走査装
置）１８と、読み取り後に前記蓄積性蛍光体シートＳに
残存する放射線画像情報を消去する消去部２０とが組み
込まれる。

【００１５】カセッテ１４は、蓄積性蛍光体シートＳを
収容する筐体２２と、前記蓄積性蛍光体シートＳの取り
出し動作および挿入動作を行うために、前記筐体２２の
端部に開閉可能に装着される蓋体２４とを備える。カセ
ッテ装填部１６は、カセッテ１４を水平姿勢で挿入する
とともに、蓋体２４を開閉する図示しない蓋体開閉手段
と、蓄積性蛍光体シートＳを吸着保持して前記カセッテ
１４から取り出すとともに、読み取りおよび消去処理後
の前記蓄積性蛍光体シートＳを前記カセッテ１４に送り
込む吸着盤２６を備える枚葉手段２８とを設ける。

【００１６】枚葉手段２８の下流には、往復搬送系３０
を介して消去部２０および読み取り部１８が配設され
る。往復搬送系３０は、複数の互いに対をなすローラ対
３２を備えており、このローラ対３２により構成される
鉛直搬送路に消去部２０が配置され、さらに前記ローラ
対３２により構成される水平搬送路の上方に読み取り部
１８が配置される。消去部２０は、水平方向に延在する
複数の消去用光源３４を備えている。

【００１７】読み取り部１８は、蓄積性蛍光体シートＳ
を水平方向（矢印Ｘ方向）に往復搬送する副走査搬送機
構４０と、矢印Ｘ１方向に副走査搬送されている前記蓄
積性蛍光体シートＳに対し走査光としてレーザ光Ｌを略
鉛直下方向（矢印Ｙ方向）に照射して主走査するレーザ
光照射機構４２と、前記蓄積性蛍光体シートＳから発せ
られる輝尽発光光を集光し、前記蓄積性蛍光体シートＳ
に担持されている放射線画像情報を光電的に読み取る読
み取り機構４４とを備える。

【００１８】副走査搬送機構４０は、水平方向に互いに
所定間隔離間して配置される第１および第２ローラ対４
６、４８を備える。第１および第２ローラ対４６、４８
は、図示しないモータを介して同期的に回転駆動され
る。

【００１９】レーザ光照射機構４２は、図２および図３
に示すように、レーザ光Ｌを出射する光源部５０と、前
記光源部５０から出射される前記レーザ光Ｌを偏向し、
副走査搬送されている蓄積性蛍光体シートＳに対して前
記レーザ光Ｌを略鉛直方向（矢印Ｙ方向）に照射して主
走査する光ビーム走査部５２とを備え、これらが光学定
盤５４に装着されている。

【００２０】光源部５０は、光学定盤５４に固定される
ＬＤアセンブリ５６を備える。このＬＤアセンブリ５６
は、半導体レーザ５８と、この半導体レーザ５８のレー
ザ光出射側に配置されるコリメータレンズ６０とを備え
る。光源部５０と光ビーム走査部５２との間には、レー
ザ光Ｌの光路上に沿ってレンズやプリズム等の光学部品
６１ａ、６１ｂが装着されている。

【００２１】光ビーム走査部５２は、光ビーム偏向用ミ
ラー、例えば、ポリゴンミラー（回転多面鏡）６２と、
第１および第２ｆθレンズ６４、６６と、プリズムミラ
ー６８と、シリンドリカルレンズ７０と、シリンドリカ
ルミラー７２と、カバーガラス７４とを備える。

【００２２】ポリゴンミラー６２は、図３に示すよう
に、モータ７８を介して回転駆動される回転ベース８０
を備え、この回転ベース８０には、下側フランジ部８２
および上側フランジ部８４に挟持されるようにして６つ
の反射面８６が等角度間隔ずつ離間して設けられている
（図３および図４参照）。このポリゴンミラー６２の少
なくとも一端、本実施形態では、上下両端に設けられた
下側フランジ部８２および上側フランジ部８４には、反
射防止処理として、例えば、黒色処理が施されている。

【００２３】第１および第２ｆθレンズ６４、６６は、
板ばね８８ａ、８８ｂ、９０ａおよび９０ｂを介して光
学定盤５４に位置決め保持されるとともに、この板ばね
８８ａ、８８ｂ、９０ａおよび９０ｂには、反射防止処
理として黒色処理が施されている。同様に、光学部品６
１ａ、６１ｂを光学定盤５４に位置決め保持する板ばね
９２ａ、９２ｂには、反射防止処理として黒色処理が施
されている。

【００２４】光学定盤５４では、その内面側に必要に応
じて黒色処理が施されるとともに、少なくともレーザ光
Ｌが直接または第１および第２ｆθレンズ６４、６６や
プリズムミラー６８等の光学部品で反射して照射される
壁部には、凹凸形状部位９４が設けられる。この凹凸形
状部位９４は、壁部に対するレーザ光Ｌの照射直径以下
のピッチＰで連続的に設けられている。光学定盤５４の
内壁には、必要に応じてレーザ光Ｌの光路に対し副走査
方向に傾斜したテーパ面が設けられている。

【００２５】図３に示すように、光学定盤５４には、シ
リンドリカルミラー７２で反射されるレーザ光Ｌを、略
鉛直下方向（矢印Ｙ方向）に射出するための光ビーム出
射口９６が形成されており、この光ビーム出射口９６に
カバーガラス７４が装着されている。光学定盤５４の上
部には、光学部カバー９８が固着される。この光学部カ
バー９８には、光学定盤５４に係合する溝部１００が形
成され、この溝部１００に図示しないシール部材が介装
されることによって前記光学定盤５４の内部を光密に保
持している。

【００２６】読み取り部１８では、上記の反射防止処理
（例えば、黒色処理）や凹凸形状部位９４を設けること
により、蓄積性蛍光体シートＳに照射すべきレーザ光Ｌ
の光強度に対し、前記蓄積性蛍光体シートＳに到達する
迷光の光強度を０．００５％以下に調整している。

【００２７】図１に示すように、読み取り機構４４は、
レーザ光Ｌの照射によって蓄積性蛍光体シートＳから発
せられる輝尽発光光を集光する集光ガイド１０２を備
え、この集光ガイド１０２の端部にはフォトマルチプラ
イヤ１０４が接続されている。集光ガイド１０２の先端
に近接して、輝尽発光光を前記集光ガイド１０２に反射
させる反射ミラー１０６が配置される。

【００２８】このように構成される画像情報読取装置１
０の動作について、以下に説明する。

【００２９】まず、装置本体１２の上部に設けられてい
るカセッテ装填部１６にカセッテ１４が水平方向に指向
して装着される。このカセッテ１４内には、予め図示し
ない被写体の放射線画像情報が記録された蓄積性蛍光体
シートＳを収容しており、前記カセッテ装填部１６に設
けられた図示しない蓋体開閉手段の作用下に、蓋体２４
が開放される。

【００３０】次いで、枚葉手段２８が駆動されて吸着盤
２６がカセッテ１４内に移動し、この吸着盤２６により
前記カセッテ１４内の蓄積性蛍光体シートＳの被吸着面
が吸着保持される。さらに、吸着盤２６がカセッテ１４
内から往復搬送系３０側に移動し、このカセッテ１４内
の蓄積性蛍光体シートＳは、前記吸着盤２６に吸着され
て前記カセッテ１４から取り出される。カセッテ１４か
ら取り出された蓄積性蛍光体シートＳの先端がローラ対
３２に挟持されるのと略同時に、吸着盤２６による前記
蓄積性蛍光体シートＳの吸着保持が解除される。

【００３１】これにより、蓄積性蛍光体シートＳは、複
数のローラ対３２の回転作用下に鉛直下方向に向かって
搬送される。この蓄積性蛍光体シートＳは、消去部２０
を一旦通過して読み取り部１８を構成する副走査搬送機
構４０に送られる。副走査搬送機構４０では、蓄積性蛍
光体シートＳが第１および第２ローラ対４６、４８に挟
持され、前記第１および第２ローラ対４６、４８の回転
作用下に矢印Ｘ１方向に副走査搬送される。

【００３２】その際、図２に示すように、光源部５０を
構成する半導体レーザ５８からレーザ光Ｌが出射され、
このレーザ光Ｌが光学部品６１ａ、６１ｂを介してポリ
ゴンミラー６２に照射される。

【００３３】図３および図４に示すように、このポリゴ
ンミラー６２では、モータ７８の作用下に、回転ベース
８０が回転しており、前記ポリゴンミラー６２を構成す
る反射面８６によりレーザ光Ｌが反射されて偏向され
る。偏向されたレーザ光Ｌは、図２および図３に示すよ
うに、第１および第２ｆθレンズ６４、６６を透過して
プリズムミラー６８に照射され、このプリズムミラー６
８内で屈折された後、第２ｆθレンズ６６の下方に配置
されているシリンドリカルレンズ７０に入射される。こ
のシリンドリカルレンズ７０に入射されたレーザ光Ｌ
は、シリンドリカルミラー７２により鉛直下方向に反射
され、カバーガラス７４を透過して光ビーム出射口９６
から矢印Ｙ方向に導出される。

【００３４】図１に示すように、レーザ光Ｌは、矢印Ｘ
１方向に副走査搬送されている蓄積性蛍光体シートＳの
撮影面に略鉛直方向に指向して照射され、主走査が行わ
れる。このレーザ光Ｌの照射により蓄積性蛍光体シート
Ｓの撮影面から輝尽発光光が生じ、この輝尽発光光が集
光ガイド１０２を介して集光され、フォトマルチプライ
ヤ１０４により光電的に読み取られる。

【００３５】この場合、本実施形態では、光ビーム走査
部５２を構成する第１および第２ｆθレンズ６４、６６
や光学部品６１ａ、６１ｂ等を光学定盤５４に位置決め
保持している板ばね８８ａ、８８ｂ、９０ａ、９０ｂ、
９２ａおよび９２ｂ等には、反射防止処理として、例え
ば、黒色処理が施されている。このため、板ばね８８
ａ、８８ｂ、９０ａ、９０ｂ、９２ａおよび９２ｂの反
射率を、例えば、３０％から５％まで大幅に低減するこ
とができる。

【００３６】さらに、ポリゴンミラー６２では、反射面
８６を挟んで設けられている下側フランジ部８２および
上側フランジ部８４に反射防止処理として、例えば、黒
色処理が施されており、この下側フランジ部８２および
この上側フランジ部８４の反射率を、例えば、４０％か
ら５％まで大幅に削減することが可能になる。

【００３７】さらにまた、光学定盤５４の内壁面のう
ち、レーザ光Ｌが直接あるいは反射後に照射される可能
性のある壁部には、この壁部に対する前記レーザ光Ｌの
照射直径以下のピッチＰで連続した凹凸形状部位９４が
形成されている。

【００３８】これにより、半導体レーザ５８から導出さ
れたレーザ光Ｌが、光学定盤５４内で不要に反射（拡散
反射を含む）することを有効に阻止し、走査読み取り中
の蓄積性蛍光体シートＳに照射される迷光の光強度を大
幅に削減することが可能になる。従って、蓄積性蛍光体
シートＳから読み取られる放射線画像情報が迷光の影響
を受けることがなく、この読み取られた放射線画像情報
に基づいて写真フイルム（図示せず）に画像を再生する
際に、筋むら等が発生することを阻止して、高品質な画
像情報の読み取りおよび再生処理が効率的に遂行される
という効果が得られる。

【００３９】特に、本実施形態では、蓄積性蛍光体シー
トＳに照射すべきレーザ光Ｌの光強度に対し、この蓄積
性蛍光体シートＳに到達する迷光の光強度が０．００５
％以下に調整されている。このため、高感度な蓄積性蛍
光体シートＳを用いて読み取る際にも、読み取り画像上
に迷光による不具合が発生することがなく、高精度かつ
高品質な画像情報読み取り処理が可能となる。しかも、
読み取り部１８全体の構成が複雑化することがなく簡素
化されて、経済的なものとなる。

【００４０】なお、光ビーム走査部５２では、第１およ
び第２ｆθレンズ６４、６６を固定するための板ばね８
８ａ、８８ｂ、９０ａおよび９０ｂに黒色処理を施す場
合について説明したが、これに限定されるものではな
く、他のレンズ系を支持するための図示しない板ばねや
固定部材等にも同様に、反射防止処理として黒色処理を
施すことができる。また、光学定盤５４において、内壁
をレーザ光Ｌの光路に対して副走査方向に傾斜するテー
パ面を設けており、これにより蓄積性蛍光体シートＳの
走査線上に迷光が照射されることを阻止し、放射線画像
情報の読み取り処理が高精度に遂行されることになる。

【００４１】ところで、上記のように、放射線画像情報
の読み取り処理が終了した蓄積性蛍光体シートＳは、図
１に示すように、第１および第２ローラ対４６、４８が
逆方向に回転駆動されることにより、矢印Ｘ２方向に搬
送されて往復搬送系３０に受け渡される。この蓄積性蛍
光体シートＳは、鉛直上方向（矢印Ａ方向）に搬送さ
れ、消去部２０において消去用光源３４の作用下に残存
する放射線画像情報の消去が行われた後、枚葉手段２８
を介してカセッテ１４内に送り込まれる。このカセッテ
１４は、カセッテ装填部１６から取り外された後、図示
しない被写体の放射線画像の撮影に供されることにな
る。

【００４２】なお、本実施形態では、被走査体として蓄
積性蛍光体シートＳを用いて説明したが、これに限定さ
れるものではなく、写真フイルム等に画像記録を行う場
合においても、本実施形態と同様の効果が得られる。

【００４３】

【発明の効果】本発明に係る光走査装置では、光ビーム
走査部を構成する光ビーム偏向用ミラーおよびレンズ系
に近接する部材に反射防止処理が施されるとともに、光
学定盤の光ビームが照射される壁部には、該壁部に対す
る光ビームの照射直径以下のピッチで連続した凹凸形状
部位が設けられており、迷光の光強度を大幅に削減する
ことができる。これにより、被走査体からの読み取り画
像や前記被走査体への記録画像に迷光による不具合が発
生することを有効に阻止することが可能となり、簡単な
構成で、前記被走査体に対して画像読み取り処理や画像
記録処理が高精度かつ効率的に遂行される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係る光走査装置が組み込ま
れる画像情報読取装置の概略構成説明図である。

【図２】前記光走査装置を構成する光源部および光ビー
ム走査部が光学定盤に装着された状態を示す平面図であ
る。

【図３】図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線端面図である。

【図４】前記光ビーム走査部を構成するポリゴンミラー
の概略斜視図である。

【図５】従来技術に係る光走査装置の平面説明図であ
る。

【符号の説明】

１０…画像情報読取装置 １２…装置本体 １６…カセッテ装填部 １８…読み取り部 ２０…消去部 ３０…往復搬送系 ３２、４６、４８…ローラ対 ４０…副走査搬送
機構 ４２…レーザ光照射機構 ４４…読み取り機
構 ５０…光源部 ５２…光ビーム走
査部 ５４…光学定盤 ５６…ＬＤアセン
ブリ ５８…半導体レーザ ６１ａ、６１ｂ…
光学部品 ６２…ポリゴンミラー ６４、６６…ｆθ
レンズ ６８…プリズムミラー ７０…シリンドリ
カルレンズ ７２…シリンドリカルミラー ７４…カバーガラ
ス ８２…下側フランジ部 ８４…上側フラン
ジ部 ８６…反射面 ８８ａ、８８ｂ、９０ａ、９０ｂ、９２ａ、９２ｂ…板
ばね ９４…凹凸形状部位 ９８…光学部カバ
ー Ｓ…蓄積性蛍光体シート

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光ビームを出射する光源部と、 前記光源部から出射される前記光ビームを偏向して被走
   査体に照射する光ビーム走査部と、 少なくとも前記光ビーム走査部が装着される光学定盤
   と、 を備え、 前記光ビーム走査部は、光ビーム偏向用ミラーおよびレ
   ンズ系に近接する部材に反射防止処理が施されるととも
   に、 前記光学定盤は、少なくとも前記光ビームが直接または
   光学部品で反射して照射される壁部に、該壁部に対する
   前記光ビームの照射直径以下のピッチで連続した凹凸形
   状部位を設けることを特徴とする光走査装置。
2. 【請求項２】請求項１記載の光走査装置において、前記
   光ビーム偏向用ミラーは回転多面鏡であり、 前記回転多面鏡の少なくとも一端に設けられたフランジ
   部に、前記反射防止処理として黒色処理を施すことを特
   徴とする光走査装置。
3. 【請求項３】請求項１または２記載の光走査装置におい
   て、前記被走査体面に照射すべき前記光ビームの光強度
   に対し、前記被走査体面に到達する迷光の光強度を０．
   ００５％以下に調整することを特徴とする光走査装置。