JP2002127354A - オフセット印刷方法及び印刷装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】アルカリ性現像液を必要とせず、簡易に製版で
きて、かつ印刷面の画像部と非画像部の識別性が改良さ
れた実用レベルの印刷画質を有し、さらに印刷用原板を
反復して使用することも可能なオフセット印刷方法を提
供すること。 【解決手段】親水性表面を有するオフセット印刷用原板
の表面にＧ_nＪＭ_4-n (Ｇは疎水性有機基を示し、Ｊは
Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＳｎから選択される原
子価４の元素を表し、Ｍはハロゲン又はアルコキシ基を
表し、ｎは１〜３の整数を表す)で表される化合物を少
なくとも一種含有する溶液をインクジェット方式によっ
て像様に描画することによって疎水性の画像領域を形成
させて印刷を行うオフセット印刷方法及び装置。また、
印刷済みの印刷版面上のインクを洗浄除去後上記化合物
を加熱分解して、再度その印刷原版を用いる印刷原板の
再使用方法及び装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一般軽印刷分野、
とくにオフセット印刷、とりわけ簡易に印刷版を製作で
きる新規なオフセット印刷方法及び印刷原板に関するも
のである。その中でもとくに製版が簡易で、かつ印刷用
原板の反復再生使用を可能にするオフセット印刷方法、
その印刷用原板及びそれらによる印刷装置に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】オフセット印刷法は、数多くの印刷方法
の中でも印刷版の製作工程が簡単であるために、とくに
一般的に用いられてきており、現在の主要な印刷手段と
なっている。この印刷技術は、油と水の非混和性に基づ
いており、画像領域には油性材料つまりインキが、非画
像領域には湿し水が選択的に保持される。したがって印
刷される面と直接あるいはブランケットと称する中間体
を介して間接的に接触させると画像部のインキが転写さ
れて印刷が行われる。

【０００３】オフセット印刷の主な方法は、アルミニウ
ム基板を支持体としてその上にジアゾ感光層を塗設した
ＰＳ板である。ＰＳ板においては、支持体であるアルミ
ニウム基板の表面に砂目立て、陽極酸化、その他の諸処
理を施して画像領域のインキ受容能と非画像部のインキ
反発性を強め、耐刷力を向上させ、印刷面の精細化を図
るなど、簡易性に加えて耐刷力や印刷面の高精細性など
の特性も備わるに及んで一般印刷分野のもっとも一般的
で主要な印刷方法となっている。オフセット印刷法の普
及に伴って、その一層の簡易化が要望され、数多くの簡
易印刷方法が提案されている。

【０００４】その代表例がAgfa-Gevaert社から市販され
たCopyrapid オフセット印刷版をはじめ、米国特許３５
１１６５６号、特開平７−５６３５１号などでも開示さ
れている銀塩拡散転写法による印刷版作製に基づく印刷
方法であって、この方法は、１工程で転写画像を作るこ
とができて、かつその画像が親油性であるために、その
まま印刷版とすることができるので、簡易な印刷方法と
して実用されている。しかしながら、簡易とはいいなが
らこの方法もアルカリ現像液による拡散転写現像工程を
必要としている。現像液による現像工程を必要としな
い、しかも簡易な印刷方法が要望されている。

【０００５】その要望に応える方法として、最近の事務
機器の発達とＯＡ化の発展に伴って、印刷分野において
も平版印刷原板に電子写真式プリンター、感熱転写プリ
ンター、インクジェットプリンター等の種々の乾式の画
像記録方法を用いて湿式の現像などの手間のかかる処理
を行なうことなく直接に印刷版を作成するオフセット平
版印刷方式が提案されている。提案された中でも、イン
クジェットプリンターによる記録を利用する方法は、イ
ンクジェット記録が低騒音で高速印字が可能な記録方法
であるので、簡易製版への適用性が高いと考えられる。

【０００６】インクジェット記録方式としては、静電誘
引力を利用してインクを吐出させる、いわゆる電界制御
方式、ビエゾ素子の振動圧力を利用してインクを吐出さ
せる、いわゆるドロップ・オン・デマンド方式（圧力パ
ルス方式）、さらには高熱によって気泡を形成し、成長
させることによって生じる圧力を利用してインクを吐出
させる、いわゆるバブル（サーマル）ジェット方式等の
各種の記録方式が提案されており、これらの方式により
高精度な画像を得ることができる。

【０００７】これら従来の直描型平版印刷用原版上に、
インクジェット記録方式で画像形成を行なう場合に用い
るインクジェット用インクとしては、主溶媒として水を
用いる水性インクと、主溶媒として有機溶剤を用いる油
性インクとが一般に用いられている。しかしながら、水
性インクでは、版材上の画像に滲みを生じたり、乾燥が
遅いために描画速度が低下するという問題があった。こ
のような問題を軽減するために、分散媒を非水溶媒とし
た油性インクを用いる方法が特開昭５４−１１７２０３
号に開示されている。

【０００８】しかし、油性インクを用いても、実際に製
版された画像には滲みが見られ、更に印刷してみると滲
みが生じ、また印刷枚数もせいぜい数百枚程度が限度で
あり不充分であった。またこのようなインクは、高解像
度の製版画像を可能とする微少インク滴を吐出させるノ
ズルでは目詰まりを生じやすいという問題があった。さ
らに、静電吐出型のインクジェット方式では、油滴の帯
電が画像の歪みを招いて画質を損ねるという問題もあ
る。

【０００９】インクジェット方式の画像記録の製版への
応用は、油溶性インクを用いても上記の欠陥を伴うが、
さらに基本的な問題は、印刷用原板は印刷性能を最大限
に発揮するように設計されるので、インクジェット画像
の記録には、画像物質と原板表面層との接着強度が不充
分で、従って画像部の強度が弱く、耐刷性が不足しがち
である。

【００１０】また、一般的なインクジェットプリンター
用油性インクによるノズルの目詰まりを防止する試みと
して、例えば、顔料粒子の分散安定性を向上させる方法
（特開平４−２５５７３号公報、同５−２５４１３号公
報、同５−６５４４３号公報等）、インク組成物とし
て、特定の化合物を含有させる方法（特開平３−７９６
７７号公報、同３−６４３７７号公報、同４−２０２３
８６号公報、同７−１０９４３１号公報等）等が提案さ
れている。しかしながら、これらの何れも平板印刷版の
画像形成に用いた場合には、印刷時の画像の強度不足が
解決するに至らず耐刷性を満足しうるものは得られてい
ない。

【００１１】又、酸化亜鉛を含有する画像受理層をもつ
原版上に、インクジェット方式で画像形成後、不感脂化
処理して非画像部を不感脂化して印刷とする方法は、得
られる製版画質・印刷物の画質も良好で多数枚の印刷も
可能である。しかしながら、印刷版作成において不感脂
化処理液を用いること及び印刷時に湿し水として、不感
脂化処理液と同様の不感脂化成分を含有した液が必須で
あること等の湿式処理の複雑さが挙げられる。又、上記
のような成分を含有する湿し水を用いることから、使用
する印刷インクによっては、印刷インク中の成分と相互
作用し、印刷物への汚れを生じる場合もあり、多様な印
刷インクを用いたカラー印刷が行なえないという問題が
ある。

【００１２】以上に述べたように、平版の軽印刷用の製
版において、インクジェット方式の描画手段を採用する
ことは、製版作業の簡易化の面では、きわめて有望であ
りながら、支持体と画像部との接着力が弱く、耐刷性に
劣るほか、インクの目詰まりや、画像の静電気の影響に
よる画像ひずみを伴うなど上記した弱点が実用化の障害
となっている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
している課題は、上記事情に鑑みてアルカリ性現像液を
必要とせず、簡易に製版できて、かつ印刷面の画像部と
非画像部の識別性が改良された実用レベルの印刷画質を
有し、さらに印刷用原板を反復して使用することも可能
なオフセット印刷方法を提供することである。本発明の
第２の目的は、上記の印刷方法によって簡易な操作によ
って実用レベルの印刷品質の印刷を行い、かつ印刷原板
を繰り返して使用することのできる印刷装置を提供する
ことである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明者たちは、上記の
目的を達成するために、製版の簡易性に長所を有するイ
ンクジェット方式の可能性について鋭意検討を重ね、と
りわけ、画像部のインク膜と画像担持原板（支持体表面
など）との接着性の向上手段を探索したところ、後述す
るインキ受容性と基板との接着性のいずれをも満足する
化合物を見出すことができ、この化合物をインクジェッ
ト方式の製版に適用することによって、耐刷性の確保や
画像部／非画像部の識別性の向上、さらには印刷汚れの
抑制につながって、これらの印刷性能上の利点がインク
ジェット方式本来の製版簡易性と相俟って本発明の目的
を達成することができた。すなわち、本発明は下記の各
項によって示される。

【００１５】１．親水性表面を有するオフセット印刷用
原板の表面に少なくとも下記一般式(１)で表される化合
物を含有する溶液をインキとしてインクジェット方式に
よって像様に描画することによって疎水性の画像領域を
形成させ、該画像領域を印刷用インキに接触させること
によって該領域がインキを受け入れた印刷面を形成させ
て印刷を行うことを特徴とするオフセット印刷方法。 Ｇ_nＪＭ_4-n （１） 上記一般式（１）において、Ｇは疎水性有機基を示し、
ＪはＣ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＳｎから選択され
る原子価４の元素を表し、Ｍはハロゲン又はアルコキシ
基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。

【００１６】２．親水性表面を有するオフセット印刷用
原板が、光触媒能を有する印刷用原板に活性光を照射し
て表面を親水化したオフセット印刷用原板であることを
特徴とする上記１に記載のオフセット印刷方法。

【００１７】３．印刷に使用した印刷版の版面上に残存
するインキの洗浄除去と一般式(１)で表される化合物の
熱分解温度以上で版の加熱処理を施したのち、その印刷
版を印刷用原板として上記１又は２に記載の操作を反復
して印刷を行うことを特徴とする上記１又は２に記載の
印刷方法。

【００１８】４．印刷用原板の表面が、ＴｉＯ_２,ＲＴ
ｉＯ_３（Ｒはアルカリ土類金属原子）、ＡＢ_２−ｘＣ_ｘ
Ｄ_３−ｘＥ_ｘＯ_１０（Ａは水素原子又はアルカリ金属原
子、Ｂはアルカリ土類金属原子又は鉛原子、Ｃは希土類
原子、Ｄは周期律表の５Ａ族元素に属する金属原子、Ｅ
は同じく４Ａ族元素に属する金属原子、ｘは０〜２の任
意の数値を表す）、ＳｎＯ_２，Ｂｉ_２Ｏ_３，ＺｎＯ、Ｚ
ｒＯ、ＧｅＯ₂及びＦｅＯ_y（y＝１．０〜１．５）から
選ばれる金属酸化物の少なくとも一つによって構成され
ていることを特徴とする上記１〜３のいずれか１項に記
載のオフセット印刷方法。

【００１９】５．上記１〜４項のいずれか１項に記載の
方法に使用するオフセット印刷装置であって、光触媒能
を有する印刷用原板を装着した原板装着部と、該原板を
活性光の照射によってその表面を親水性化する照射手段
と、該原板にインクジェットの描画を施して疎水性の画
像領域を形成させる描画手段と、該画像領域に印刷用イ
ンキを供給して画像領域がインキを受け入れた印刷面を
形成させるインキ供給手段と，該印刷面を印刷される面
と接触させて印刷を行う印刷手段と、を有することを特
徴とするオフセット印刷装置。

【００２０】６．印刷終了後、印刷版に残存するインキ
を除去するインキ洗浄手段と洗浄した印刷版面を一般式
（１）の化合物の熱分解温度以上に加熱する加熱手段を
有することを特徴とする上記５に記載のオフセット印刷
装置。

【００２１】７．少なくとも露光手段、描画手段、イン
キ供給手段およびインキ除去手段が、版胴の周囲に配設
されてなることを特徴とする上記５又は６に記載のオフ
セット印刷装置。

【００２２】８．印刷用原板が版胴の一部を構成してお
り、少なくとも露光手段、描画手段、インキ供給手段、
インキ除去手段及び版面加熱手段が、前記版胴の周囲に
配設されてなることを特徴とする上記５〜７のいずれか
１項に記載のオフセット印刷装置。

【００２３】本発明のオフセット印刷方法は、親水性の
画像担持表面（印刷原板用表面）に一般式（１）の化合
物をインクジェット装置を用いて描画して画像領域を形
成させることを基本としている。一般式（１）の化合物
は，像様の疎水性表面を形成して印刷インキを受容し、
同時に画像担持表面（印刷用原板表面）への接着力が強
固であるので、画像領域の機械的強度も維持できて耐刷
性が確保され，かつ画像担持表面の親水性を強化できる
ので識別効果も高く，しかも汚れの少ない印刷面を形成
することができる。本発明において、親水性表面を有す
るオフセット印刷原板の親水性とは、インクジェット方
式の描画の前に親水性である必要はなく、描画を終了し
てから,印刷開始までの段階で親水性化の処理、例えば
改めて活性光への照射を行なう場合も含んでいる。

【００２４】画像担持表面は、親水性表面であれば、い
ずれの材料をも用いることができるが，好ましい態様と
しては、光触媒能を有する固体表面、例えば酸化チタン
などを用いることができる。本発明において、「光触媒
能を有する物質」とは、たとえば酸化チタンのように、
その物質の表面に特定波長の光を照射するとその表面が
親水性に変化するという光物性変化を行う物質である。
また、このようなこの光物性変化を引き起こす特定波長
の光を「活性光」と呼んでいる。

【００２５】本発明のオフセット印刷方法の別の利点
は、一般式（１）の化合物が画像担持表面との接着が強
固であるにもかかわらず、加熱することによって熱分解
して疎水性基を離脱し、表面疎水性領域が消滅するとい
う性質を有していることである。したがって、印刷終了
後、適当な溶剤を選択して印刷面に付着したインキを除
去したのち、その版を一般式（１）の化合物の熱分解温
度以上に加熱して、印刷終了後の印刷版を印刷原板に再
生して反復使用することができる。さらに、インクジェ
ット方式の直接描画機能を利用して,コンピュータ上で
作製した印刷原稿を直接描画して印刷版を作製すること
ができ、機上製版などの簡易な製版印刷方法が可能とす
ることができる。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。 〔印刷用原板材料〕本発明に用いることのできる印刷原
板材料は、前記したように,表面が親水性であれば、い
ずれも使用できる。親水性表面を有する原板材料は、例
えば親水化処理した金属板,親水性樹脂装を設けた紙や
プラスチック支持体、ガラス基板、それ自体が親水性で
ある金属酸化物や表面親水性化処理を施した金属酸化物
などが挙げられるが、特に活性光の照射を受けて表面が
親水性となるいわゆる光触媒能を有する固体材料が好ま
しい。本発明で好ましく用いる光触媒能を有する物質
は、必ずしも金属酸化物に限定されないが、印刷用原板
としての要件なども考慮すると、好ましい物質は金属酸
化物の中に多く見られる。また、この物質は、セラミッ
クや半導体の中にも見られる。光触媒能を有するセラミ
ックは、複合金属酸化物からなっており、光触媒能を有
する半導体の多くは、基底順位と伝導体が近い真正半導
体と不純物準位に依存する酸化バナジウムや酸化銅など
の仮性半導体との両方に見られる。これらセラミック及
び半導体は、本発明が利用する光触媒能の上では、他の
光触媒能を有する金属酸化物と同様であるので、それら
を「光触媒能を有する金属酸化物」に含めて以下に説明
する。

【００２７】光触媒能を有する好ましい物質は、周期律
表の第３〜６周期に属していて、かつ０及びVII Ａ族
（ハロゲン元素）族以外の元素から選ばれる金属の酸化
物からなる群の少なくとも一つによって構成されてい
る。その中でもとくに、ＴｉＯ₂ 、ＲＴｉＯ₃ （Ｒはア
ルカリ土類金属原子）、ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x Ｅ_x Ｏ
₁₀（Ａは水素原子又はアルカリ金属原子、Ｂはアルカリ
土類金属原子又は鉛原子、Ｃは希土類原子、Ｄは周期律
表の５Ａ族元素に属する金属原子、Ｅは同じく４Ａ族元
素に属する金属原子、ｘは０〜２の任意の数値を表
す）、ＳｎＯ₂ ，Ｂｉ₂ Ｏ₃ ，ＺｎＯ、ＺｒＯ、ＧｅＯ
₂及びＦｅＯ_y（y＝１．０〜１．５）から選ばれる金属
酸化物が好ましい。

【００２８】これらの金属酸化物は、いろいろの形態の
金属酸化物に見られ、単一の金属酸化物、複合酸化物の
いずれの場合もあり、また後者の場合は、固溶体、混
晶、多結晶体、非晶質固溶体、金属酸化物微結晶の混合
物のいずれからもこの特性を有するものが認められる。

【００２９】なお、本発明に用いることのできる光触媒
能を有する金属及び金属酸化物は、印刷版として使用す
る際に湿し水に対して過度に溶解してはならないので、
水に対する溶解度は、水１００ミリリットルについて１
０ｍｇ以下、好ましくは５ｍｇ以下、より好ましくは１
ｍｇ以下である。

【００３０】光触媒能を有する個々の金属酸化物につい
て説明する。金属酸化物の中でも、酸化チタンと酸化亜
鉛は好ましく、これらについてまず説明する。これら
は、いずれも本発明の印刷用原板材料として利用でき
る。特に酸化チタンが感度（つまり表面性の光変化の敏
感性）などの点で好ましい。酸化チタンは、イルメナイ
トやチタンスラグの硫酸加熱焼成、あるいは加熱塩素化
後酸素酸化など既知の任意の方法で作られたものを使用
できる。あるいは後述するように金属チタンを用いて印
刷版製作段階で真空蒸着によって酸化物皮膜とする方法
も用いることができる。

【００３１】酸化チタン又は酸化亜鉛を含有する層を原
板の表面に設けるには、たとえば、酸化チタン微結晶
又は酸化亜鉛微結晶の分散物を印刷版の原板上に塗設す
る方法、塗設したのち焼成してバインダーを減量或い
は除去する方法、印刷原板上に蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング、ＣＶＤなどの方法で酸化チ
タン（又は酸化亜鉛）膜を設ける方法、例えばチタニ
ウムブトキシドのようなチタン有機化合物を原板上に塗
布したのち、焼成酸化を施して酸化チタン層とする方法
など、既知の任意の方法を用いることができる。本発明
においては、真空蒸着又はスパッタリングによる酸化チ
タン層が特に好ましい。

【００３２】上記又はの酸化チタン微結晶を塗設す
る方法には、具体的には無定形酸化チタン微結晶分散物
を塗布したのち、焼成してアナターゼまたはルチル型の
結晶酸化チタン層とする方法、酸化チタンと酸化シリコ
ンの混合分散物を塗布して表面層を形成させる方法、酸
化チタンとオルガノシロキサンなどとの混合物を塗布し
てシロキサン結合を介して支持体と結合した酸化チタン
層を得る方法、酸化物層の中に酸化物と共存するできる
ポリマーバインダーに分散して塗布したのち、焼成して
有機成分を除去する方法などがある。酸化物微粒子のバ
インダ−には、酸化チタン微粒子に対して分散性を有
し、かつ比較的低温で焼成除去が可能なポリマーを用い
ることができる。好ましいバインダーの例としては、ポ
リエチレンなどのポリアルキレン、ポリブタジエン、ポ
リアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポ
リ酢酸ビニル、ポリ蟻酸ビニル、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリビニルアルコ
ール、部分鹸化ポリビニルアルコール、ポリスチレンな
どの疎水性バインダーが好ましく、それらの樹脂を混合
して使用してもよい。

【００３３】上記の酸化チタンの真空蒸着を行うに
は、通常真空蒸着装置内の蒸着用加熱の熱源に金属チタ
ンを置き、真空度１０^-6〜１０^-3Ｐａで全ガス圧１０^-3
〜１０ ⁰Ｐａ、酸素文圧比が３０〜９０％になるように
しながら、チタン金属を蒸発させると、蒸着面には酸化
チタンの蒸着薄膜が形成される。また、スパッタリング
による場合は、例えばスパッタ装置内にチタン金属ター
ゲットをセットしてＡｒ／Ｏ₂ 比が６０／４０（モル
比）となるようにガス圧を０．５Ｐａに調整したのち、
ＲＦパワー２００Ｗを投入してスパッタリングを行って
酸化チタン薄膜を基板上に形成させる。

【００３４】一方、本発明に酸化亜鉛層を使用する場
合、その酸化亜鉛層は既知の任意の方法で作ることがで
きる。とくに金属亜鉛板の表面を電解酸化して酸化皮膜
を形成させる方法と、真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング，ＣＶＤなどによって酸化亜鉛皮膜を
形成させる方法が好ましい。酸化亜鉛の蒸着膜は、上記
の酸化チタンの蒸着と同様に金属亜鉛を酸素ガス存在下
で蒸着して酸化膜を形成させる方法や、酸素のない状態
で亜鉛金属膜を形成させたのち、空気中で温度を約７０
０°Ｃにあげて酸化させる方法を用いることができる。
そのほか、修酸亜鉛の塗布層やセレン化亜鉛の薄層を酸
化性気流中で加熱しても得られる。

【００３５】蒸着膜の厚みは、酸化チタン層、酸化亜鉛
層いずれの場合も１〜１００００ｎｍがよく、好ましく
は１〜１０００ｎｍである。さらに好ましくは３００ｎ
ｍ以下として光干渉の歪みを防ぐのがよい。また、光活
性化作用を十分に発現させるには厚みが５ｎｍ以上ある
ことが好都合である。

【００３６】酸化チタンはいずれの結晶形のものも使用
できるが、とくにアナターゼ型のものが感度が高く好ま
しい。アナターゼ型の結晶は、酸化チタンを焼成して得
る過程の焼成条件を選ぶことによって得られることはよ
く知られている。その場合に無定形の酸化チタンやルチ
ル型酸化チタンが共存してもよいが、アナターゼ型結晶
が４０％以上、好ましくは６０％以上含むものが上記の
理由から好ましい。酸化チタンあるいは酸化亜鉛を主成
分とする層における酸化チタンあるいは酸化亜鉛の体積
率は、それぞれ３０〜１００％であり、好ましくは５０
％以上を酸化物が占めるのがよく、さらに好ましくは酸
化物の連続層つまり実質的に１００％であるのがよい。
しかしながら、表面の親水性／親油性変化特性は、酸化
亜鉛を電子写真感光層に用いるときのような著しい純度
による影響はないので、１００％に近い純度のもの（例
えば９８％）をさらに高純度化する必要はない。それ
は、本発明に利用される物性は、導電性とは関係ない膜
表面の親水性／親油性の性質変化特性、すなわち界面物
性の変化特性であることからも理解できることである。

【００３７】しかしながら、光の作用によって表面の親
水性が変化する性質を増進させるためにある種の金属を
ドーピングすることは有効な場合があり、この目的には
イオン化傾向が小さい金属のドーピングが適しており、
Ｐｔ，Ｐｄ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｏ又は
Ｃｒをドーピングするのが好ましい。また、これらの好
ましい金属を複数ドーピングしてもよい。ドーピングを
行った場合も、その注入量は酸化亜鉛や酸化チタン中の
金属成分に対して５モル％以下である。

【００３８】一方、体積率が低いと層の表面の親水性／
親油性の光応答挙動の敏感度が低下する。したがって、
層中の酸化物の体積率は、３０％以上であることが望ま
しく、とくに実質的に１００％であることが好ましい。

【００３９】次に、本発明に用いることができる別の化
合物である一般式ＲＴｉＯ₃ で示したチタン酸金属塩に
ついて記す。一般式ＲＴｉＯ₃ において、Ｒはマグネシ
ウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ベリリ
ウムなどの周期律表のアルカリ土類元素に属する金属原
子であり、とくにストロンチウムとバリウムが好まし
い。また、２種以上のアルカリ土類金属原子をその合計
が上記の式に化学量論的に整合する限り共存することが
できる。

【００４０】次に、一般式ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x Ｅ_x Ｏ₁₀
で表される化合物について説明する。この一般式におい
て、Ａは水素原子及びナトリウム、カリウム、ルビジウ
ム、セシウム、リチウムなどのアルカリ金属原子から選
ばれる１価原子で、その合計が上記の式に化学量論的に
整合する限りそれらの２種以上を共存してもよい。Ｂ
は、上記のＲと同義のアルカリ土類金属原子又は鉛原子
であり、同様に化学量論的に整合する限り２種以上の原
子が共存してもよい。Ｃは希土類原子であり、好ましく
は、スカンジウム及びイットリウム並びにランタン、セ
リウム、プラセオジウム、ネオジウム、ホルミウム、ユ
ウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ツリウム、イ
ッテルビウム、ルテチウムなどのランタノイド系元素に
属する原子であり、また、その合計が上記の式に化学量
論的に整合する限りそれらの２種以上を共存してもよ
い。Ｄは周期律表の５Ａ族元素から選ばれた一種以上
で、バナジウム、ニオブ、タンタルが挙げられる。ま
た、化学量論関係を満たす限り、２種以上の５Ａ族の金
属原子が共存してもよい。Ｅは同じくチタン、ジルコニ
ウム、ハフニウムなどの４Ａ族元素に属する金属原子で
あり、また、２種以上の４Ａ族の金属原子が共存しても
よい。ｘは０〜２の任意の数値を表す。

【００４１】ＲＴｉＯ₃ 、一般式ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x Ｅ
_x Ｏ₁₀で表される上記化合物、ＳｎＯ₂ ，Ｂｉ₂ Ｏ₃、
ＺｒＯ、ＧｅＯ₂及びＦｅＯ_y（y＝１．０〜１．５）で
示される酸化鉄系の化合物のいずれの薄膜形成にも、酸
化チタン及び酸化亜鉛を設ける前記の方法を用いること
がでる。すなわち、金属酸化物の微粒子の分散物を印
刷版の原板上に塗設する方法、塗設したのち焼成して
バインダーを減量或いは除去する方法、印刷版の原板
上に上記酸化物を各種の真空薄膜法で膜形成する方法、
例えば金属元素のアルコレートのような有機化合物を
原板上に塗布したのち、加水分解させ、さらに焼成酸化
を施して適当な厚みの金属薄膜とする方法、上記金属
元素の塩酸塩、硝酸塩などの水溶液を加熱スプレーする
方法など、既知の任意の方法を用いることができる。

【００４２】例えば、上記、の塗設方法によってチ
タン酸バリウム微粒子を塗設するには、チタン酸バリウ
ムとシリコンの混合分散物を塗布して表面層を形成させ
る方法、チタン酸バリウムとオルガノポリシロキサンま
たはそのモノマ−との混合物を塗布する方法などがあ
る。また、酸化チタンの項で述べたように、酸化物層の
中に酸化物と共存できるポリマーバインダーに分散して
塗布した後、焼成して酸化物層とすることもできる。酸
化物微粒子のバインダ−として好ましいポリマーの例
は、酸化チタン層の項で述べたものと同じである。この
方法によって、チタン酸バリウム以外にチタン酸マグネ
シウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム
又はそれらの分子間化合物、混合物も同様に薄膜形成可
能である。

【００４３】同様にして上記、の塗設方法によって
ＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂ Ｏ₁₀微粒子を塗設することも可能
である。ＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂ Ｏ₁₀微粒子は、その化学
量論に対応するＣｓ₂ ＣＯ₃,Ｌａ₂ Ｏ₃,ＮｂＯ₅,ＴｉＯ
₂ を乳鉢で微粉砕して、白金るつぼに入れ、１３０°C
で５時間焼成し、それを冷却してから乳鉢に入れて数ミ
クロン以下の微粒子に粉砕する。このＣｓＬａ₂ ＮｂＴ
ｉ₂ Ｏ₁₀微粒子を前記のチタン酸バリウムと同様にバイ
ンダーの中に分散し、塗布して薄膜を形成した。この方
法は、ＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂ Ｏ₁₀型微粒子に限らず、Ｈ
Ｃａ_1.5 Ｌａ₀₅ Ｎｂ_2.5 Ｔｉ_0.5 Ｏ₁₀，ＨＬａ₂ ＮｂＴ
ｉ₂ Ｏ₁₀など前述のＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x Ｅ_x Ｏ₁₀、（０
≦ｘ≦２）に適用される。

【００４４】上記の真空薄膜形成法を用いた光触媒能
又は高温親水性発現特性を有する金属酸化物層の形成方
法としては、一般的にはスパッタリング法あるいは真空
薄膜形成法が用いられる。スパッタリング法では、あら
かじめ単一もしくは複合型の酸化物ターゲットを準備す
る。例えば、チタン酸バリウムターゲットを用いて蒸着
膜用の支持体の温度を４５０°Ｃ以上に保ち、アルゴン
／酸素混合雰囲気中でＲＦスパッタリングを行うことに
よりチタン酸バリウム結晶薄膜が得られる。結晶性の制
御には必要に応じてポストアニーリングを３００〜９０
０°Ｃで行えばよい。本方法は前述のＲＴｉＯ₃ （Ｒは
アルカリ土類金属原子）をはじめ他の前記した金属酸化
物にも、結晶制御に最適な基板温度を調整すれば同様の
考え方で薄膜形成が可能である。例えば酸化錫薄膜を設
ける場合には基板温度１２０°Ｃ、アルゴン／酸素比５
０／５０の混合雰囲気中でＲＦスパッタリングを行うこ
とにより酸化錫結晶の本目的に沿う薄膜が得られる。

【００４５】上記の金属アルコレートを用いる方法
も、バインダーを使用しないで目的の薄膜形成が可能な
方法である。チタン酸バリウムの薄膜を形成するにはバ
リウムエトキシドとチタニウムブトキシドの混合アルコ
ール溶液を表面にＳｉＯ₂ を有するシリコン基板上に塗
布し、その表面を加水分解したのち、２００°Ｃ以上に
加熱してチタン酸バリウムの薄膜を形成することが可能
である。本方式の方法も前述した他のＲＴｉＯ₃ （Ｒは
アルカリ土類金属原子）、ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x Ｅ _x Ｏ₁₀
（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅはそれぞれ前記の定義の内容を表
す）、ＳｎＯ₂ ，ＳｉＯ₂ ，Ｂｉ₂ Ｏ₃、ＺｒＯ、Ｇｅ
Ｏ₂及びＦｅＯ_y（y＝１．０〜１．５）で示される酸化
鉄系の化合物の薄膜形成に適用することができる。

【００４６】上記によって金属酸化物薄膜を形成させ
る方法も、バインダーを含まない系の薄膜の形成が可能
である。ＳｎＯ₂ の薄膜を形成するにはＳｎＣｌ₄ の塩
酸水溶液を２００°Ｃ以上に加熱した石英又は結晶性ガ
ラス表面に吹きつけて薄膜を生成することができる。本
方式も、ＳｎＯ₂ 薄膜のほか，前述したＲＴｉＯ₃ （Ｒ
はアルカリ土類金属原子）、ＡＢ_2-x Ｃ_x Ｄ_3-x Ｅ_x Ｏ
₁₀（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅはそれぞれ前記の定義の内容を
表す）、Ｂｉ₂ Ｏ₃、ＺｒＯ、ＧｅＯ₂及びＦｅＯ_y（y＝
１．０〜１．５、例えばフェライト、四三酸化鉄、酸化
第二鉄など）で示される酸化鉄系の化合物のいずれの薄
膜形成にも適用することができる。

【００４７】金属酸化物薄膜の厚みは、上記のいずれの
場合も１〜１００００ｎｍがよく、好ましくは１０〜１
０００ｎｍである。さらに好ましくは３００ｎｍ以下と
して光干渉の歪みを防ぐのがよい。また、光活性化作用
を十分に発現させるには厚みが５ｎｍ以上あることが好
都合である。

【００４８】バインダーを使用した場合の上記光触媒能
を有する金属酸化物の薄層において、金属酸化物の体積
率は５０〜１００％であり、好ましくは９０％以上を酸
化物が占めるのがよく、さらに好ましくは酸化物の連続
層つまり実質的に１００％であるのがよい。

【００４９】そのほか、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｚ
ｒＯ、ＧｅＯ₂、ＺｒＯ、ＧｅＯ₂及びＦｅＯ_y（y＝１．
０〜１．５）で示される酸化鉄系の化合物は、それぞれ
の金属板の表面を陽極酸化して得ることもできる。とく
にＺｎＯおよびＴｉＯ₂は、陽極酸化によって容易に光
触媒能をもつ酸化物皮膜として支持体付きの形で得られ
る。陽極酸化の方法としては、たとえば、特開平６−３
５１７４号公報の３〜５頁に詳記されている方法、その
中に引用されている方法、特開昭５２−３７１０４号公
報に記載の方法及び本発明の印刷原板用のアルミニウム
支持体の陽極酸化方法として後述する方法など、公知の
適当な方法や、それに準じた方法で行われる。陽極酸化
によって原板材料を作る場合には、その酸化皮膜の厚み
は、上記した厚みでもよいが、さらに厚くてもよく、
２．０ミクロン以下、好ましくは１．０ミクロン以下で
用いられる。

【００５０】〔印刷用原板の形態〕次に本発明に使用す
る印刷用原板の形態について述べる。本発明に係わる印
刷原板は、いろいろの形態と材料を用いることができ
る。例えば、光触媒性物質又はそのたの表面親水性物質
の薄層を印刷機の版胴の基体表面に蒸着、浸漬あるいは
塗布するなど上記した方法で直接設ける方法、支持体に
担持された光触媒性物質又はそのたの表面親水性物質
や、あるいは支持体を持たない上記物質の薄板を版胴の
基体に巻き付けて印刷版とする方法などを用いることが
できる。また、勿論版胴上で製版する上記形態以外に、
一般的に行われているように、製版を行った印刷版を輪
転式あるいは平台式印刷機に装着する形態を採ってもよ
い。

【００５１】光触媒能を有する物質又はそのたの表面親
水性物質有する画像形成層が支持体上に設けられる場
合、使用される支持体は、一般式（１）の化合物を含有
する本発明用のインク画像を担持し得る、寸度的にも安
定な板状物であり、アルミニウム板、ＳＵＳ鋼板、ニッ
ケル板、銅板などの金属板が好ましく、特に可撓性（フ
レキシブル）の金属板を用いることが好ましい。また、
ポリエステル類やセルローズエステル類などのフレキシ
ブルなプラスチック支持体も用いることが出来る。防水
加工紙、ポリエチレン積層紙、含浸紙などの支持体上に
酸化物層を設けてもよく、それを印刷版として使用して
もよい。このような支持体は、光触媒能を有する物質が
支持体上に設けられる場合にも、好ましく使用される。
インク滴が帯電する静電吐出型のインクジェット装置を
用いる場合には、画像形成層表面または画像形成層と支
持体との間に公知の適当な導電層を設けたり、あるいは
支持体にアミン類、無機又は有機塩類などを含浸させて
導電性を付与することが望ましい。アルミニウム板のよ
うな金属板支持体の場合には、それ自体が導電性であ
り、どのタイプのインクジェット装置も適用可能であ
る。

【００５２】具体的には、紙、プラスチックシート（例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等のシ
ート）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅、ステンレス等）、プラスチックフィ
ルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セ
ルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポ
リビニルアセタール等）、上記のごとき金属がラミネー
ト、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィ
ルム等が挙げられる。

【００５３】好ましい支持体は、ポリエステルフィル
ム、ポリイミドフィルム、アルミニウム、又は印刷版上
で腐食しにくいＳＵＳ板であり、その中でも寸法安定性
がよく、比較的安価であるアルミニウム板とフィルムは
特に好ましい。

【００５４】好適なポリイミドフィルムは、ピロメリッ
ト酸無水物とｍ−フェニレンジアミンを重合させたの
ち、環状イミド化したポリイミド樹脂フィルムであり、
このフィルムは市販されている（例えば、東レ・デュポ
ン社製の「カプトン」を挙げることができる）。

【００５５】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしく
は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニ
ウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高
々１０重量％以下である。本発明において特に好適なア
ルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋な
アルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅か
に異元素を含有するものでもよい。このように本発明に
適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるも
のではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板
を適宜に利用することができる。本発明で用いられる金
属支持体の厚みはおよそ０．１mm〜０．６mm程度、好ま
しくは０．１５mm〜０．４mm、特に好ましくは０．２mm
〜０．３mmであり、プラスチックや加工紙などその他の
支持体の厚みはおよそ０．１mm〜２．０mm程度、好まし
くは０．２mm〜１．０mmである。

【００５６】アルミニウム支持体を用いる場合は、表面
を粗面化して用いることが好ましい。その場合、所望に
より、粗面化に先立って表面の圧延油を除去するため
の、例えば界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶
液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表
面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例え
ば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解
粗面化する方法および化学的に表面を選択溶解させる方
法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨
法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの
公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な
粗面化法としては塩酸または硝酸電解液中で交流または
直流により行うなど公知の方法を利用することができ
る。また、粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じ
てアルカリエッチング処理および中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。陽極酸化の電解質の濃度は電解質の
種類によって適宜決められる。

【００５７】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、
電流密度５〜６０Ａ/dm²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間
１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量が１．０g/m²より少ないと、耐刷性が不十分であっ
たり、平板印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印
刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」
が生じ易くなる。

【００５８】以上で本発明の印刷方法に使用する光触媒
能を有する物質を使用した印刷原板の構成について説明
したので、次に本発明に用いる印刷用原板としてとくに
好ましい光触媒能を有する物質の表面の前面親水性化に
ついて説明する。

【００５９】〔全面親水性化〕印刷用原板が光触媒能を
有する材料で作られている場合は、その表面に活性光を
像様に照射して親水性領域を形成させる。前記したよう
に、親水性化は必ずしもインクジェット方式の疎水性画
像書き込みに先立って行う必要はなく描画を先に行なっ
てもよいが、親水性化の方法はいずれの場合も変わりは
ない。その光源は、光触媒能を有する物質の感光域の波
長の光、すなわち光吸収域に相当する波長の光を発する
光源である。例えば光触媒能を有する物質が酸化チタン
の場合では、アナターゼ型が３８７ｎｍ以下，ルチル型
が４１３ｎｍ以下、酸化亜鉛は３８７ｎｍ以下に、その
他の多くの金属酸化物の場合も２５０〜３９０ｎｍの紫
外部に感光域を有しており、また、酸化亜鉛の場合は、
固有吸収波長域（紫外線領域）のほかに、既知の方法で
分光増感を行って適用できる活性光の波長領域を拡げる
こともでき、したがって使用される光源は、これらの波
長領域の光を発する光源であり、主として紫外線を発す
る光源といえる。活性光の光触媒作用によって親水性領
域の像様の分布を形成させる手段には、面露光方式、走
査方式のいずれでもよい。

【００６０】面露光方式の場合は、一様な光を原板上に
照射して、照射領域の表面を親水性化する方式である。
支持体が透明である場合は、支持体の裏側から支持体を
通して露光することもできる。面露光方式で活性光の照
射を行うのに適した光源は、水銀灯、タングステンハロ
ゲンランプ、その他のメタルハライドランプ、キセノン
放電灯などである。その露光時間は、上記の露光強度が
得られるように露光照度を勘案して決定される。

【００６１】好ましい照射光の強さは、光触媒型金属酸
化物の画像形成層の性質によって異なり、また活性光の
波長、分光分布及び光触媒能を有する物質の光吸収率に
よっても異なるが、通常は面露光強度が０．０５〜１０
０ｊｏｕｌｅ／ｃｍ² ，好ましくは０．０５〜１０ｊｏ
ｕｌｅ／ｃｍ² ，より好ましくは０．０５〜５ｊｏｕｌ
ｅ／ｃｍ² である。また、光触媒反応には相反則が成立
することが多く、例えば１０ｍＷ／ｃｍ²で１００秒の
露光を行っても、１Ｗ／ｃｍ² で１秒の露光を行って
も、同じ効果が得られる場合も多く、このような場合に
は、活性光を発光する光源の選択の幅は広くなる。

【００６２】活性光の照射を走査式露光方式によって行
なう場合には、レーザービームを時系列的な電気信号に
従った一次元又は二次元照射光として走査露光する。レ
ーザー光源は、活性光のビームを発振する公知のレーザ
ーを用いることができる。例えば、励起光として発振波
長を３２５ｎｍに有するヘリウムカドミウムレーザー、
発振波長を３５１．１〜３６３．８ｎｍに有する水冷ア
ルゴンレーザー、３３０〜４４０ｎｍに有する硫化亜鉛
／カドミウムレーザーなどを用いることができる。さら
に、紫外線レーザー、近紫外線レーザー発振が確認され
ている発振波長を３６０〜４４０ｎｍに有する窒化ガリ
ウム系のＩｎＧａＮ系量子井戸半導体レーザー、及び発
振波長を３６０〜４３０ｎｍに有する導波路ＭｇＯ−Ｌ
ｉＮｂ０ ₃ 反転ドメイン波長変換型のレーザーを使用す
ることもできる。レーザー出力が０．１〜３００Ｗのレ
ーザーで照射をすることができる。また、パルスレーザ
ーを用いる場合には、ピーク出力が１０００Ｗ、好まし
くは２０００Ｗのレーザーを照射するのが好ましい。支
持体が透明である場合は、支持体の裏側から支持体を通
して露光することもできる。レーザー項の照射によって
親水性化を行う場合は、描画の場合とは異なって、レー
ザービーム径は、絞り込む必要はなく、任意であるが、
１０〜１００μｍ程度のビーム径であることが好まし
い。

【００６３】〔疎水性画像領域の形成〕本発明の印刷方
法において、一般式（１）の化合物を含有する疎水性液
体を含有する液体をインキとしてインクジェット装置に
よって描画を行なう。この一般式（１）の化合物含有溶
液が、印刷用原板表面（画像記録面）と接触する際、通
常、印刷用原板表面の水酸基と反応して、酸素を介して
印刷用原板表面（画像記録面）に結合するか、印刷用原
板表面（画像記録面）に吸着し、印刷用原板表面に一般
式（１）の化合物により親油層が形成される。そして、
親油層が設けられた印刷用原板表面（画像記録面）が画
像領域を形成し、親水性表面領域が非画像部を形成す
る。

【００６４】本発明に使用される上記機能を有する一般
式（１）の化合物は、下記一般式（１）で表される。 Ｇ_nＪＭ_4-n （１） 一般式（１）の化合物において、Ｇは親油性有機基を示
し、ＪはＣ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＳｎから選択
される原子価４の元素を示し、Ｍはハロゲンまたはアル
コキシ基を示し、ｎは１〜３の整数を示す。一般式
（１）の化合物は、上述のように感光性平版印刷版の画
像記録層表面と接触するときにＭが空気中の水により加
水分解して水酸化されると共に画像記録層表面の水酸基
と脱水反応して酸素を介して画像記録層表面に結合乃至
吸着し、画像記録層表面に親油性有機基Ｇによる親油層
が形成される。そして、親油層が設けられた画像記録層
を像様加熱すると加熱部分の一般式（１）の化合物と画
像記録層との結合（即ち、（画像記録層の金属原子）−
酸素−Ｊ原子という結合）における酸素−Ｊ間の結合や
あるいはＧ_nＪに含まれる結合が切断されるか、一般式
（１）の化合物と画像記録層との吸着が脱着されること
により、一般式（１）の化合物が脱離乃至分解除去さ
れ、該加熱部分が親水化される。画像記録層の加熱によ
る極性変換よりも一般式（１）の化合物が吸着した状態
の極性変換が顕著に大きい。親油性有機基Ｇは、一般式
（１）の化合物に上記機能を付与し得、かつ親油層形成
の主体となる機能を担え得るものであれば特に制限はな
い。具体的には親油性有機基Ｇとしては、好ましくは炭
素数１〜３２の、更に好ましくは炭素数３〜１８のアル
キル基やアリール基が挙げられ、また、これらアルキル
基またはアリール基の水素原子がアリール基、ハロゲン
原子、エポキシ基、アミノ基、ビニル基、ビニル基、メ
タクリロキシ基、シアノ基、アルキルチオ基（例えば、
炭素数１〜８）、アルキルオキシ基（例えば、炭素数１
〜８）等で置換された置換アルキル基または置換アリー
ル基が挙げられる。

【００６５】より具体的には、アルキル基（メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、
ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシ
ル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル
基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基
等）、モノクロロアルキル基（３−クロロプロピル基、
クロロメチル基、４−クロロブチル基、２−クロロエチ
ル基、５−クロロペンチル基、６−クロロヘキシル基
等）、ポリクロロアルキル基（３，３，３−トリクロロ
プロピル基、トリクロロメチル基、トリクロロブチル
基、トリクロロエチル基、トリクロロペンチル基、３，
３，４，４，５，５，６，６，６−ノナクロロヘキシル
基等）、アセトキシメチル基、アセトキシプロピル基、
４−アミノブチル基、ベンジル基、アミノエチル基、ア
ミノプロピル基、３−アミノフェノキシ基、５−（ビシ
クロヘプテニル）基、尿素プロピル基、ビニルベンジロ
キシ基、チエニル基、フェニルチエニル基、フェノキシ
プロピル基、ビニル基、ブテニル基、オクテニル基、オ
クタジエニル基、モルフォリノプロピル基、モルフォリ
ノエチルチオプロピル基、Ｎ−メチルアミノプロピル
基、メトキシフェニル基、メタクリロキシメチル基、Ｏ
−メタクリロキシ（ポリエチレンオキシ）エチル基、エ
チルメチルケトキシミノメチル基、５，６−エポキシヘ
キシル基、γ−グリシドキシプロピル基、エポキシエチ
ル基、エポキシメチル基、グリシジル基、２−（３，４
−エポキシシクロヘキシル）基、ドコセニル基、ｏ−ト
リル基、ｐ−トリル基、ピリジノ基、ジエチルホスフェ
ートエチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−アミノプロピル
基、シクロヘキシル基、２−（３−シクロヘキセニル）
エチル基、３−シアノプロピル基、クロロプロピル基、
２−（カルボキシメチルチオ）エチル基等が挙げられ
る。

【００６６】ＪはＣ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＳｎ
から選択される原子価４の元素を示す。画像記録層主体
が酸化チタンである場合、ＪはＣ、Ｔｉが感光性平版印
刷版の再生性能に特に優れる点で好ましい。Ｍは、ハロ
ゲン原子またはアルコキシ基を示す。ハロゲン原子とし
ては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素で特に塩素が好まし
い。アルコキシ基としては、炭素数１〜１２のものが好
ましく、炭素数３〜６のものが更に好ましい。ｎが1又
は２の場合、複数のＭは互いに同一または異なるハロゲ
ン原子及び／又はアルコキシ基が置換されてもよい。ｎ
は１〜３の整数であり、好ましくは１である。

【００６７】一般式（1）の化合物の具体例としては、
メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、プ
ロピルトリクロロシラン、ブチルトリクロロシラン、ペ
ンチルトリクロロシラン、ヘキシルトリクロロシラン、
ヘプチルトリクロロシラン、オクチルトリクロロシラ
ン、ノニルトリクロロシラン、デシルトリクロロシラ
ン、ウンデシルトリクロロシラン、ドデシルトリクロロ
シラン、トリデシルトリクロロシラン、テトラデシルト
リクロロシラン、ペンタデシルトリクロロシラン、ヘキ
サデシルトリクロロシラン、ヘプタデシルトリクロロシ
ラン、オクタデシルトリクロロシラン、ノナデシルトリ
クロロシラン、エイコシルトリクロロシラン、

【００６８】ジメチルジクロロシラン、エチルメチルジ
クロロシラン、プロピルメチルジクロロシラン、ブチル
メチルジクロロシラン、ペンチルメチルジクロロシラ
ン、ヘキシルメチルジクロロシラン、ヘプチルメチルジ
クロロシラン、オクチルメチルジクロロシラン、ノニル
メチルジクロロシラン、デシルメチルジクロロシラン、
ウンデシルメチルジクロロシラン、ドデシルメチルジク
ロロシラン、トリデシルメチルジクロロシラン、テトラ
デシルメチルジクロロシラン、ペンタデシルメチルジク
ロロシラン、ヘキサデシルメチルジクロロシラン、ヘプ
タデシルメチルジクロロシラン、オクタデシルメチルジ
クロロシラン、ノナデシルメチルジクロロシラン、エイ
コシルメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラ
ン、エチルジメチルクロロシラン、プロピルジメチルク
ロロシラン、ブチルジメチルクロロシラン、ペンチルジ
メチルクロロシラン、ヘキシルジメチルクロロシラン、
ヘプチルジメチルクロロシラン、オクチルジメチルクロ
ロシラン、ノニルジメチルクロロシラン、デシルジメチ
ルクロロシラン、ウンデシルジメチルクロロシラン、ド
デシルジメチルクロロシラン、トリデシルジメチルクロ
ロシラン、テトラデシルジメチルクロロシラン、ペンタ
デシルジメチルクロロシラン、ヘキサデシルジメチルク
ロロシラン、ヘプタデシルジメチルクロロシラン、オク
タデシルジメチルクロロシラン、ノナデシルジメチルク
ロロシラン、エイコシルジメチルクロロシラン、

【００６９】アセトキシメチルトリクロロシラン、アセ
トキシエチルトリクロロシラン、アセトキシプロピルト
リクロロシラン、アセトキシブチルトリクロロシラン、
アセトキシペンチルトリクロロシラン、アセトキシヘキ
シルトリクロロシラン、アセトキシヘプチルトリクロロ
シラン、アセトキシオクチルトリクロロシラン、アセト
キシノニルトリクロロシラン、アセトキシデシルトリク
ロロシラン、アセトキシウンデシルトリクロロシラン、
アセトキシドデシルトリクロロシラン、アセトキシトリ
デシルトリクロロシラン、アセトキシテトラデシルトリ
クロロシラン、アセトキシペンタデシルトリクロロシラ
ン、アセトキシヘキサデシルトリクロロシラン、アセト
キシヘプタデシルトリクロロシラン、アセトキシオクタ
デシルトリクロロシラン、アセトキシノナデシルトリク
ロロシラン、アセトキシエイコシルトリクロロシラン、

【００７０】メチルトリエトキシシラン、エチルトリエ
トキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルト
リエトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘキ
シルトリエトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラ
ン、オクチルトリエトキシシラン、ノニルトリエトキシ
シラン、デシルトリエトキシシラン、ウンデシルトリエ
トキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、トリデシ
ルトリエトキシシラン、テトラデシルトリエトキシシラ
ン、ペンタデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルト
リエトキシシラン、ヘプタデシルトリエトキシシラン、
オクタデシルトリエトキシシラン、ノナデシルトリエト
キシシラン、エイコシルトリエトキシシラン、ジメチル
ジエトキシシラン、エチルメチルジエトキシシラン、プ
ロピルメチルジエトキシシラン、ブチルメチルジエトキ
シシラン、ペンチルメチルジエトキシシラン、ヘキシル
メチルジエトキシシラン、ヘプチルメチルジエトキシシ
ラン、オクチルメチルジエトキシシラン、ノニルメチル
ジエトキシシラン、デシルメチルジエトキシシラン、ウ
ンデシルメチルジエトキシシラン、ドデシルメチルジエ
トキシシラン、トリデシルメチルジエトキシシラン、テ
トラデシルメチルジエトキシシラン、ペンタデシルメチ
ルジエトキシシラン、ヘキサデシルメチルジエトキシシ
ラン、ヘプタデシルメチルジエトキシシラン、オクタデ
シルメチルジエトキシシラン、ノナデシルメチルジエト
キシシラン、エイコシルメチルジエトキシシラン、

【００７１】トリメチルエトキシシラン、エチルジメチ
ルエトキシシラン、プロピルジメチルエトキシシラン、
ブチルジメチルエトキシシラン、ペンチルジメチルエト
キシシラン、ヘキシルジメチルエトキシシラン、ヘプチ
ルジメチルエトキシシラン、オクチルジメチルエトキシ
シラン、ノニルジメチルエトキシシラン、デシルジメチ
ルエトキシシラン、ウンデシルジメチルエトキシシラ
ン、ドデシルジメチルエトキシシラン、トリデシルジメ
チルエトキシシラン、テトラデシルジメチルエトキシシ
ラン、ペンタデシルジメチルエトキシシラン、ヘキサデ
シルジメチルエトキシシラン、ヘプタデシルジメチルエ
トキシシラン、オクタデシルジメチルエトキシシラン、
ノナデシルジメチルエトキシシラン、エイコシルジメチ
ルエトキシシラン、

【００７２】３−クロロプロピルトリクロロシラン、ク
ロロメチルメチルジクロロシラン、４−クロロブチルジ
メチルクロロシラン、２−クロロエチルトリクロロシラ
ン、５−クロロペンチルメチルジクロロシラン、６−ク
ロロヘキシルジメチルクロロシラン、３，３，３−トリ
クロロプロピルトリクロロシラン、トリクロロメチルジ
メチルクロロシラン、トリクロロブチルメチルジクロロ
シラン、トリクロロエチルトリクロロシラン、トリクロ
ロペンチルトリクロロシラン、３，３，４，４，５，
５，６，６，６−ノナクロロヘキシルトリクロロシラ
ン、アセトキシメチルトリクロロシラン、アセトキシプ
ロピルジメチルクロロシラン、４−アミノブチルトリク
ロロシラン、ベンジルメチルジクロロシラン、アミノエ
チルジメチルクロロシラン、アミノプロピルメチルジク
ロロシラン、３−アミノフェノキシトリクロロシラン、
５−（ビシクロヘプテニル）トリクロロシラン、尿素プ
ロピルトリクロロシラン、ビニルベンジロキシトリクロ
ロシラン、チエニルトリクロロシラン、フェニルチエニ
ルジメチルクロロシラン、フェノキシプロピルトリクロ
ロシラン、ビニルジメチルクロロシラン、ブテニルメチ
ルジクロロシラン、オクテニルジメチルクロロシラン、
オクタジエニルトリクロロシラン、モルフォリノプロピ
ルジメチルクロロシラン、モルフォリノエチルチオプロ
ピルジメチルクロロシラン、Ｎ−メチルアミノプロピル
メチルジクロロシラン、メトキシフェニルメチルジクロ
ロシラン、メタクリロキシメチルメチルジクロロシラ
ン、Ｏ−メタクリロキシ（ポリエチレンオキシ）エチル
ジメチルクロロシラン、エチルメチルケトキシミノメチ
ルトリクロロシラン、５，６−エポキシヘキシルジメチ
ルクロロシラン、γ−グルシドプロピルメチルジクロロ
シラン、エポキシエチルトリクロロシラン、エポキシメ
チルジメチルクロロシラン、グリシジルメチルジクロロ
シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）トリ
クロロシラン、ドコセニルトリクロロシラン、ｏ−トリ
ルメチルジクロロシラン、ｐ−トリルメチルジクロロシ
ラン、ピリジノメチルジクロロシラン、ジエチルホスフ
ェートエチルトリクロロシラン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３
−アミノプロピルジメチルクロロシラン、シクロヘキシ
ルジメチルクロロシラン、２−（３−シクロヘキセニ
ル）エチルジメチルクロロシラン、３−シアノプロピル
ジメチルクロロシラン、クロロプロピルトリクロロシラ
ン、２−（カルボキシメチルチオ）エチルメチルジクロ
ロシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリエトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、β（３，４エポキシ
シンクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−β（アミノ
エチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−
β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロ
ロプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチ
ル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、

【００７３】３−クロロプロピルトリエトキシシラン、
クロロメチルメチルジエトキシシラン、４−クロロブチ
ルジメチルエトキシシラン、２−クロロエチルトリエト
キシシラン、５−クロロペンチルメチルジエトキシシラ
ン、６−クロロヘキシルジメチルエトキシシラン、３，
３，３−トリクロロプロピルトリエトキシシラン、トリ
クロロメチルジメチルエトキシシラン、トリクロロブチ
ルメチルジエトキシシラン、トリクロロエチルトリエト
キシシラン、トリクロロペンチルトリエトキシシラン、
３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナクロロヘキ
シルトリエトキシシラン、アセトキシメチルトリエトキ
シシラン、アセトキシプロピルジメチルエトキシシラ
ン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、ベンジルメ
チルジエトキシシラン、アミノエチルジメチルエトキシ
シラン、アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−
アミノフェノキシトリエトキシシラン、５−（ビシクロ
ヘプテニル）トリエトキシシラン、尿素プロピルトリエ
トキシシラン、ビニルベンジロキシトリエトキシシラ
ン、チエニルトリエトキシシラン、フェニルチエニルジ
メチルエトキシシラン、フェノキシプロピルトリエトキ
シシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、ブテニルメ
チルジエトキシシラン、オクテニルジメチルエトキシシ
ラン、オクタジエニルトリエトキシシラン、モルフォリ
ノプロピルジメチルエトキシシラン、モルフォリノエチ
ルチオプロピルジメチルエトキシシラン、Ｎ−メチルア
ミノプロピルメチルジエトキシシラン、メトキシフェニ
ルメチルジエトキシシラン、メタクリロキシメチルメチ
ルジエトキシシラン、Ｏ−メタクリロキシ（ポリエチレ
ンオキシ）エチルジメチルエトキシシラン、エチルメチ
ルケトキシミノメチルトリエトキシシラン、５，６−エ
ポキシヘキシルジメチルエトキシシラン、エポキシエチ
ルトリエトキシシラン、エポキシメチルジメチルエトキ
シシラン、グリシジルメチルジエトキシシラン、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）トリエトキシシラ
ン、ドコセニルトリエトキシシラン、ｏ−トリルメチル
ジエトキシシラン、ｐ−トリルメチルジエトキシシラ
ン、ピリジノメチルジエトキシシラン、ジエチルホスフ
ェートエチルトリエトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−
３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、シクロヘ
キシルジメチルエトキシシラン、２−（３−シクロヘキ
セニル）エチルジメチルエトキシシラン、３−シアノプ
ロピルジメチルエトキシシラン、クロロプロピルトリエ
トキシシラン、２−（カルボキシメチルチオ）エチルメ
チルジエトキシシラン

【００７４】ｎ−オクタデシルトリクロロメタン、ｎ−
オクタデシルトリクロロチタン、フェニルトリクロロゲ
ルマン、Ｏ−アリルオキシ（ポリエチレンオキシ）トリ
イソプロポキシチタネート、チタンイソブトキサイド、
チタンイソブトキサイド、チタンｎ−ノニルオキサイ
ド、ジルコニウムｔ−ブトキサイド、ジルコニウムｎ−
プロポキサイド、テトライソプロポキシスズ−イソプロ
パノール、その他、上記例示した反応性シリコン化合物
において、ＳｉをＣ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＳｎで置換
し得る化合物等が挙げられる。Ｓｉをほかの元素と置き
換えた構造の化合物も本発明の目的に対して効果が大き
く,特に金属元素がＴｉ，Ｚｒの場合は,効果的である
が、上記の例示化合物のＳｉそれぞれの金属又は非金属
元素に置き換えた形であるので,例示することは省略す
る。

【００７５】上記一般式（１）の化合物は、単独乃至組
み合わせて使用される。また、それらは上記一般式
（１）の化合物と同様の機能を発揮する基Ｇ、Ｊ、Ｍを
有した構造のものであれば、一般式（１）の化合物は脱
水縮合反応により、Ｊ−Ｏ結合を介してなるオリゴマー
化されたものでもよい。上記一般式（１）の化合物は、
市販のものが使用でき、例えば、信越化学工業（株）、
チッソ（株）等から入手できる。

【００７６】本発明に用いる一般式〔1〕の化合物を含
有するインキは、疎水性の像様領域を形成することが目
的なので, 一般式〔1〕の化合物のみの疎水性溶剤溶液
であってもよいが、インクジェット装置の噴射性，視認
性，液滴分散英，帯電特性などを最適化するために、有
機溶剤，界面活性剤，有機高分子化合物、色素又は顔
料、など公知のインクジェット用油溶性インキの添加物
を必要に応じて適宜加えることができる。

【００７７】本発明においては、油性インクを用いるイ
ンクジェット装置であればいずれの装置をも用いること
ができる。用いられる油性インクは、好ましくは電気抵
抗１０⁹Ω・cm以上かつ誘電率３．５以下の非水溶媒を
溶液又は分散媒として用いることができる。静電吐出型
以外の装置であれば、誘電率の上記のような制約はな
く、溶剤の選択の範囲を広げることができる。

【００７８】本発明に用いる非水溶媒として好ましくは
直鎖状もしくは分岐状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化木
素、または芳香族炭化水素、およびこれらの炭化水素の
ハロゲン置換体がある。例えばオクタン、イソオクタ
ン、デカン、イソデカン、デカリン、ノナン、ドデカ
ン、イソドデカン、シクロヘキサン、シクロオクタン、
シクロデカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチ
レン、アイソパーＥ、アイソパーＧ、アイソパーＨ、ア
イソパーＬ（アイソパー；エクソン社の商品名）、シェ
ルゾール７０、シェルゾール７１（シェルゾール；シェ
ルオイル社の商品名）、アムスコＯＭＳ、アムスコ４６
０溶剤（アムスコ；スピリッツ社の商品名）等を単独あ
るいは混合して用いる。なお、このような非水溶媒の電
気抵抗の上限値は１０¹⁶Ω・cm程度であり、誘電率の下
限値は１．８程度である。

【００７９】用いる非水溶媒の電気抵抗を上記範囲とす
るのは、電気抵抗が低くなると、インクの電気抵抗が適
正にならず、電界によるインクの吐出が悪くなるからで
あり、誘電率を上記範囲とするのは、誘電率が高くなる
とインク中で電界が緩和されやすくなり、これによりイ
ンクの吐出が悪くなりやすくなるからである。静電吐出
型以外のインクジェット装置を用いる場合は、油性イン
クを用いる装置であっても、誘電率の制約は少なく，オ
クタノール、デカノール、ＭＥＫなどの極性の比較的高
い溶剤を用いることができる。、インキが画像として着
弾後、にじみを抑制するために、２種以上の溶剤を用い
たり、以下に述べる高分子材料をや粘度調整剤あるいは
蒸発速度制御用の多の溶媒を添加することができる。そ
れらの溶剤としては、アルコール類、エーテル類、アセ
タール類、ケトン類、エステル類、脂肪酸類、アミン
類、フェノール類及び可塑性溶剤などが挙げられる。

【００８０】また、本発明においては、画像領域は一般
式〔１〕の化合物の像様部分布で形成されればよいの
で、高分子材料を存在させる必要は、必須ではないが、
インクの構成成分の性質上などの必要に応じて少量（2
質量％以下）の高分子材料を添加してもよく、添加され
る樹脂として具体的には、オレフィン重合体および共重
合体（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソ
ブチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−
アクリレート共重合体、エチレン−メタクリレート共重
合体、エチレン−メタクリル酸共重合体等）、塩化ビニ
ル共重合体（例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体）、塩化ビニリデン共重合体、アルカ
ン酸ビニル重合体および共重合体、アルカン酸アリル重
合体および共重合体、スチレンおよびその誘導体の重合
体ならびに共重合体（例えばブタジエン−スチレン共重
合体、イソプレン−スチレン共重合体、スチレン−メタ
クリレート共重合体、スチレン−アクリレート共重合体
等）、アクリロニトリル共重合体、メタクリロニトリル
共重合体、アルキルビニルエーテル共重合体、アクリル
酸エステル重合体および共重合体、メタクリル酸エステ
ル重合体および共重合体、イタコン酸ジエステル重合体
および共重合体、無水マレイン酸共重合体、アクリルア
ミド共重合体、メタクリルアミド共重合体、フェノール
樹脂、アルキド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ケトン樹
脂、ポリエステル樹脂、シリコン樹脂、アミド樹脂、水
酸基およびカルボキシル基変性ポリエスエテル樹脂、ブ
チラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ウレタン樹
脂、ロジン系樹脂、水素添加ロジン樹脂、石油樹脂、水
素添加石油樹脂、マレイン酸樹脂、テルペン樹脂、水素
添加テルペン樹脂、クロマン−インデン樹脂、環化ゴム
−メタクリル酸エステル共重合体、環化ゴム−アクリル
酸エステル共重合体、窒素原子を含有しない複素環を含
有する共重合体（複素環として例えば、フラン環、テト
ラヒドロフラン環、チオフエン環、ジオキサン環、ジオ
キソフラン環、ラクトン環、ベンゾフラン環、ベンソチ
オフェン環、１，３−ジオキセタン環等）、エポキシ樹
脂等が挙げられる。

【００８１】本発明に用いる油性インクに分散された樹
脂粒子を添加する場合，その含有量は、インク全体の
０．１〜２質量％とすることが好ましい。含有量が多く
なると，吐出へッドでのインクの目詰まりが生じやす
く、安定なインク吐出が得られ難いなどの問題がある。

【００８２】本発明に供される油性インク中には、前記
の分散樹脂粒子とともに、製版後の非画像部の光照射に
よる親水性化時に光不透明化とするために着色成分とし
て色材を含有させることが好ましい。色材としては、従
来から油性インク組成物あるいは静電写真用液体現像剤
に用いられている顔料および染料であればどれでも使用
可能である。

【００８３】顔料としては、無機顔料、有機顔料を問わ
ず、印刷の技術分野で一般に用いられているものを使用
することができる。具体的には、例えば、カーボンブラ
ック、カドミウムレッド、モリブデンレッド、クロムイ
エロー、カドミウムイエロー、チタンイエロー、酸化ク
ロム、ピリジアン、チタンコバルトグリーン、ウルトラ
マリンブルー、プルシアンブルー、コバルトブルー、ア
ゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔
料、イソインドリノン系顔料、ジオキサジン系顔料、ス
レン系顔料、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、チオイ
ンジゴ系顔料、キノフタロン系顔料、金属錯体顔料、等
の従来公知の顔料を特に限定することなく用いることが
できる。

【００８４】染料としては、アゾ染料、金属錯塩染料、
ナフトール染料、アントラキノン染料、インジゴ染料、
カーボニウム染料、キノンイミン染料、キサンテン染
料、シアニン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニトロ
ソ染料、ベンゾキノン染料、ナフトキノン染料、フタロ
シアニン染料、金属フタロシアニン染料、等の油溶性染
料が好ましい。これらの顔料および染料は、単独で用い
てもよいし、適宜組み合わせて使用することも可能であ
るが、インク全体に対して０．０１〜５重量％の範囲で
含有されることが望ましい。

【００８５】これらの色材は、分散樹脂粒子とは別に色
材自身を分散粒子として非水溶媒中に分散させてもよい
し、分散樹脂粒子中に含有させてもよい。含有させる場
合、顔料などは分散樹脂粒子の樹脂材料で被覆して樹脂
被覆粒子とする方法などが一般的であり、染料などは分
散樹脂粒子の表面部を着色して着色粒子とする方法など
が一般的である。本発明の非水溶媒中に、分散された樹
脂粒子、更には着色粒子等を含めて、これらの粒子の平
均粒径は０．１０μｍ〜１μｍが好ましい。より好まし
くは０．１５μｍ〜０．８μｍである。この粒径はＣＡ
ＰＡ−５００粒度測定装置（堀場製作所（株）製、商品
名）により求めたものである。

【００８６】本発明に用いられる非水系の描画用インキ
は、塗料または静電写真用液体現像剤の製造方法を利用
することができ、これらについては、例えば、植木憲二
監訳「塗料の流動と顔料分散」共立出版（１９７１
年）、「ソロモン、塗料の科学」、「Paint and Surfac
e Coating and Theory and Practice」、原崎勇次「コ
ーティング工学」朝倉書店（１９７１年）、原崎勇次
「コーティングの基礎科学」槙書店（１９７７年）等の
成書に記載されている。

【００８７】具体的には、例えば、英国特許第８９３４
２９号、同第９３０３８号、米国特許第１１２２３９７
号、同第３９００４１２号、同第４６０６９８９号、特
開昭６０−１７９７５１号、同６０−１８５９６３号、
特開平２−１３９６５号等に記載された方法に準じて調
製することができる。

【００８８】上述のような荷電調節剤は、担体液体であ
る分散媒１０００重量部に対して０．００１〜１．０重
量部が好ましい。更に所望により各種添加剤を加えても
よく、それら添加物の総量は、油性インクの電気抵抗に
よってその上限が規制される。即ち、分散粒子を除去し
た状態のインクの電気抵抗が１０⁹Ω・cmより低くなる
と良質の連続階調像が得られ難くなるので、各添加物の
添加量を、この限度内でコントロールすることが必要で
ある。

【００８９】次に、前記した平板印刷原版（以下「マス
ター」とも称する）上に画像を形成する方法を説明す
る。このような方法を実施する装置系としては例えば図
１に示すものがある。図１に示す装置系は油性インクを
使用するインクジェット記録装置１を有するものであ
る。

【００９０】図１のように、まず、マスター２を形成す
べき画像（図形や文章）のパターン情報を、コンピユー
タ３のような情報供給源から、バス４のような伝達手段
を通し、油性インクを使用するインクジェット記録装置
１に供給する。記録装置１のインクジェット記録用ヘッ
ド１０は、その内部に油性インクを貯え、記録装置１内
にマスター２が通過すると、前記情報に従い、インクの
微小な液滴をマスター２に吹き付ける。これにより、マ
スター２に前記パターンでインクが付着する。こうして
マスター２に画像を形成し終え、製版マスター（製版印
刷原版）を得る。

【００９１】図１の装置系におけるインクジェット記録
装置の構成例を図２および図３に示す。図２および図３
では図１と共通する部材は共通の符号を用いて示してい
る。図２はこのようなインクジェット記録装置の要部を
示す概略構成図であり、図３はヘッドの部分断面図であ
る。インクジェット記録装置に備えられているヘッド１
０は、図２、図３に示されるように、上部ユニット１０
１と下部ユニット１０２とで挟まれたスリットを有し、
その先端は吐出スリット１０ａとなっており、スリット
内には吐出電極１０ｂが配置され、スリット内には油性
インク１１が満たされた状態になっている。

【００９２】ヘッド１０では、画像のパターン情報のデ
ジタル信号に従って、吐出電極１０ｂに電圧が印加され
る。図２に示されるように、吐出電極１０ｂに対向する
形で対向電極１０ｃが設置されており、対向電極１０ｃ
上にはマスター２が設けられている。電圧の印加によ
り、吐出電極１０ｂと、対向電極１０ｃとの間には回路
が形成され、ヘッド１０の吐出スリット１０ａから油性
インク１１が吐出され対向電極１０ｃに設けられたマス
ター２上に画像が形成される。

【００９３】吐出電極１０ｂの幅は、高画質の画像形
成、例えば印字を行うためにその先端はできるだけ狭い
ことが好ましい。例えば油性インクを図３のヘッド１０
に満たし、先端が２０μｍ幅の吐出電極１０ｂを用い、
吐出電極１０ｂと対向電極１０ｃの間隔を１．５mmとし
て、この電極間に３ＫＶの電圧を０．１ミリ秒印加する
ことで４０μｍのドットの印字をマスター２上に形成す
ることができる。

【００９４】以上のようにして得られた製版原版を、お
の段階で紫外線光にて、全面光照射し、非画像部のみを
選択的に親水性の表面状態に変換してもよい。紫外線光
の光源としては、２００〜４５０nmの波長を有している
ランプであればいずれでもよい。好ましくは２５０〜３
３０nmの波長が有効に利用されるものが挙げられる。

【００９５】〔印刷〕印刷用原板は、その表面に親油性
・親水性の画像状分布を形成させたのち、現像処理する
ことなく、そのままオフセット印刷工程に送ることがで
きる。従って通常の公知の平版印刷法に比較して簡易性
を中心に多くの利点を有する。すなわち上記したように
アルカリ現像液による化学処理が不要であり、それに伴
うワイピング、ブラッシングの操作も不要であり、さら
に現像廃液の排出による環境負荷も伴わない。また、上
記したような簡易な画像記録手段から容易に印刷を行う
ことも利点である。

【００９６】平版印刷版の非画像部は、十分に親水性化
しているが、所望により、水洗水、界面活性剤等を含有
するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂
化液で後処理してもよい。本発明の画像記録材料を印刷
用版材として使用する場合の後処理としては、これらの
処理を種々組み合わせて用いることができる。その方法
としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿に
て、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバッ
ト中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーター
による塗布などが適用される。また、塗布した後でスキ
ージー、あるいは、スキージーローラーで、その塗布量
を均一にすることは、より好ましい結果を与える。整面
液の塗布量は一般に０．０３〜０．８g/m²（乾燥重量）
が適当である。この様な処理によって得られた平版印刷
版は、オフセット印刷機等にかけられ、あるいは印刷機
上で製版され、多数枚の印刷に用いられる。

【００９７】次に印刷を終えた印刷版の再生工程につい
て記す。 〔印刷用原板の再生〕印刷終了後の印刷版は疎水性の石
油系溶剤を用いて付着しているインキを洗い落とす。溶
剤としては市販の印刷用インキ溶解液として芳香族炭化
水素、例えばケロシン、アイソパ−などがあり、そのほ
かベンゾール、トルオール、キシロール、アセトン、メ
チルエチルケトン、ケロシン及びそれらの混合溶剤を用
いてもよい。画像物質が溶解しない場合には、布などを
用いて軽く拭き取る。また、トルエン／ダイクリーンの
１／１混合溶媒を用いるとよいこともある。

【００９８】洗浄済みの印刷版は、続いて印刷版面上に
疎水性領域を形成している一般式（１）の化合物の熱分
解温度以上に加熱して、この化合物を熱分解して疎水性
基を離脱させ、親水性表面を復活させ、一様の親水性表
面をもつ印刷用原板のはじめの状態に再生される。この
熱分解は、一般式（１）の化合物の種類にもよるが、２
００℃以上、多くは、ほぼ３００℃程度で起こるので，
好ましくは３５０℃に加熱するのがよい。印刷版の材料
が光触媒能を有する物質であれば、この温度は、高温親
水性発現温度にも相当する。すなわち、多くの光触媒能
を有する金属酸化物は、ある温度レベルに加熱によって
疎水性となり、さらに高温度〔高温親水性発現温度〕に
加熱すると親水性表面を回復する性質を有していて、本
発明ではこの性質も印刷用原板の再生に寄与していると
考えられる。

【００９９】インキを洗浄除去した印刷版の上記方法に
よる再生操作は、印刷インキを洗浄除去してから次の製
版作業において活性光の像様照射を行うまでの間の任意
の時期に行ってもよい。

【０１００】本発明に係わる印刷原板の反復再生可能回
数は、完全に把握できていないが、少なくとも１５回以
上であり、おそらく反面の除去不能な汚れ、修復が実際
的でない刷面の傷や、版材の機械的な変形（ひずみ）な
どによって制約されるものと思われる。

【０１０１】〔装置の態様〕本発明における印刷原板の
構成材料及び製版操作について説明した。次にこの原板
を装着して印刷を行う方法及び装置を、図によって説明
する。光触媒能を有する熱応答型物質を表面にもつ印刷
用原板は、版胴の構成部材として固定されていてもよ
く、また着脱自在であってもよい。以下図４以降の説明
では、本発明の簡易性を顕著に発揮する前者を例に、す
なわち版胴上に印刷原板が固定されている例について説
明する。

【０１０２】図４は、本発明の第１の実施形態の一例に
よるオフセット印刷装置の構成を示す図である。図４に
示すように本発明の一つの実施形態によるオフセット印
刷装置は、酸化チタンや酸化亜鉛など前記した光触媒能
を有する物質を表面に有する版胴４１と、版胴４１に対
して活性光の照射を行って原板表面を全面親水性化する
親水性化処理部４２と、全面親水性化された版胴４１に
対してインクジェット装置を用いて本発明に係る一般式
（１）の化合物を含有するインクによる描画を行って親
水性・疎水性の像様分布を形成するインクジェット描画
部４５と、その版胴４１にインキおよび湿し水を供給す
るインキ・湿し水供給部４３と、印刷終了後に版胴４１
に残存するインキを除去するインキ洗浄部４４と、洗浄
した版を一般式〔１〕の化合物の熱分解温度（作用と温
度がほぼ同じなので高温親水性発現温度と呼ぶこともあ
る）に加熱する加熱部４９と、版胴４１に保持されたイ
ンキを用紙に転写するための中間体としてのブランケッ
ト４６と、ブランケット４６とともに給送された用紙を
保持する圧胴４７とを備え、これらの部材が本体４８内
に収容されてなるものである。加熱部４９と親水性化庶
理部４２は、両方有ってもよいし、一方だけであっても
よい。

【０１０３】本形態では親水性化処理部４２に光源とし
て水銀灯を用いているが、キセノン放電灯、高照度ハロ
ゲン・タングステンランプなどの紫外線成分を含む他の
光源であってもよい。版胴の回転方向に対して直角方向
に配したスリットによって、版胴の回転に伴って版胴表
面にスリット光による全面走査露光が施される。スリッ
トの幅は必ずしも光による描画の場合のように狭い必要
はない。また、前記したようにビーム径を絞らないレー
ザー光の走査露光であってもよい。続いてインクジェッ
ト描画部４５を通過しながら、あるいは版胴の回転を止
めた状態でインクジェット描画を行ない、原板表面に像
様の親水性・疎水性分布が形成される。前者の場合に
は、描画が適切に行なわれるようにインクの吐出速度と
版胴の回転速度がきめられる。インクジェット描画後、
速やかに溶剤を乾燥除去するために加熱あるいは風乾を
可能にする乾燥器を設けてもよい。温度は、１００℃以
下で十分である。

【０１０４】インクジェット描画部４５は、画像情報を
担持した電気信号に従ってインク滴を吐出して版面に疎
水性領域を形成する。 図５は、インクジェット装置に
よる描画部４５の構成例である。編集・レイアウトＷ／
Ｓ６０において印刷すべき画像から信号化されて記録部
に入力される画像信号Ｓに基づいて、インクジェット装
置の駆動部５９が電気信号を液滴の吐出信号に変調さ
れ、液滴吐出ノズル５８から版面に向けて像様の吐出が
行なわれ、版胴１の表面に描画を行われる

【０１０５】次いで、第１の実施形態の動作について像
様の親水性化領域の形成を活性光照射部５で行う場合と
高温加熱部５で行う場合とを併せて説明する。まず、活
性光を照射して全面親水性にする親水性化処理部４２を
回転しながら通過する版胴４１の表面部分は、親水性と
なる。全面が親水性化した版胴は、インクジェット方式
の描画部４５で、画像情報で変調させた液滴の吐出によ
り、疎水性液滴の像様分布が付与され、親水性・親油性
の画像状分布が得られる。インクジェット方式の描画が
終了すると、インキ・湿し水供給部４３よりインキおよ
び湿し水が版胴４１に供給される。これにより、版胴４
１の親油性の画像領域にはインキが保持され、親水性の
非画像領域にはインキが保持されることなく湿し水が保
持される。

【０１０６】その後、ブランケット４６と圧胴４７との
間に矢印Ａに示すように用紙を供給し、版胴１に保持さ
れたインキをブランケット４６を介して用紙に転写する
ことによりオフセット印刷が行われる。

【０１０７】印刷終了後、インキ洗浄部４４により版胴
４１に残存するインキを除去し、加熱部４９でインキを
洗浄した版を一般式〔１〕の化合物の熱分解温度に加熱
して親水性表面としたのち、続いて、あるいは保存のの
ち、再び印刷用原板として使用する。保存した場合であ
っても、再生原板を親性化処理部４２を通して親水性化
することにより、版胴４１の保存中に疎水性雰囲気に触
れても、そのような履歴は消去され、一様の親水性表面
ガ確保される。

【０１０８】このように、本発明によるオフセット印刷
装置によれば、活性光の照射による全面親水性の均一表
面の形成と一般式〔１〕の化合物のインクジェット方式
による像様分布のみで版胴１に印刷画面を形成すること
ができ、これにより現像が不要でかつ印刷面の鮮鋭性が
保たれたオフセット印刷を行うことができる。また、版
胴４１を洗浄して一般式(１)で表される化合物の熱分解
温度以上で版の加熱処理を施すことにより元の状態に戻
すことができるため、版胴４１を反復使用することがで
き、これにより印刷物を低コストで提供することができ
ることとなる。さらに、印刷装置から版胴４１を取り外
す必要がないため、従来のＰＳ版のように印刷装置に組
み込む際にゴミなどが付着することもなくなり、これに
より、印刷品質を向上させることができる。

【０１０９】また、印刷用原板として版胴４１を使用
し、版胴４１の周囲に親水性化処理部４２、インキ・湿
し水供給部４３、インキ洗浄部４４および描画部４５お
よび加熱再生部４９を配設することにより、単に版胴１
を回転させるのみで、原板の全面疎水性化、活性光によ
る像様照射およびインキと湿し水の供給、さらには印刷
終了後のインキ洗浄を行うことができるため、装置をコ
ンパクトに構成することができ、これにより省スペース
化を図ることができる。

【０１１０】

【実施例】〔実施例１〕上記実施形態１による実施例を
示す。９９．５重量％アルミニウムに、銅を０．０１重
量％、チタンを０．０３重量％、鉄を０．３重量％、ケ
イ素を０．１重量％含有するＪＩＳＡ１０５０アルミニ
ウム材の厚み０．３０mm圧延板を、４００メッシュのパ
ミストン（共立窯業製）の２０重量％水性懸濁液と、回
転ナイロンブラシ（６，１０−ナイロン）とを用いてそ
の表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。これを１
５重量％水酸化ナトリウム水溶液（アルミニウム４．５
重量％含有）に浸漬してアルミニウムの溶解量が５g/m²
になるようにエッチングした後、流水で水洗した。更
に、１重量％硝酸で中和し、次に０．７重量％硝酸水溶
液（アルミニウム０．５重量％含有）中で、陽極時電圧
１０．５ボルト、陰極時電圧９．３ボルトの矩形波交番
波形電圧（電流比ｒ＝０．９０、特公昭５８−５７９６
号公報実施例に記載されている電流波形）を用いて１６
０クローン／dm²の陽極時電気量で電解粗面化処理を行
った。水洗後、３５℃の１０重量％水酸化ナトリウム水
溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が１g/m²になる
ようにエッチングした後、水洗した。次に、５０℃、３
０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした後、
水洗した。

【０１１１】さらに、３５℃の硫酸２０重量％水溶液
（アルミニウム０．８重量％含有）中で直流電流を用い
て、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。即ち電流密
度１３A/dm²で電解を行い、電解時間の調節により陽極
酸化皮膜重量２．７g/m²とした。この支持体を水洗後、
７０℃のケイ酸ナトリウムの３重量％水溶液に３０秒間
浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにして得られた
アルミニウム支持体は、マクベスＲＤ９２０反射濃度計
で測定した反射濃度は０．３０で、中心線平均粗さは
０．５８μｍであった。

【０１１２】次いでこのアルミニウム支持体を真空蒸着
装置内に入れて、全圧０．０２Ｐａになるように分圧７
０％の酸素ガスの条件下でチタン金属片を電熱加熱し
て、アルミニウム支持体上に蒸着して酸化チタン薄膜を
形成した。この薄膜の結晶成分はＸ線解析法によって無
定型／アナターゼ／ルチル結晶構造の比が１．５／６．
５／２であり、TiO₂薄膜の厚さは９０ｎｍであった。こ
れを版胴１の基体に巻き付けて機上印刷用の原板とし
た。

【０１１３】次いで、図４の親水性化処理部４２におい
て版胴を回転させながら活性光のスリット照射を行なっ
て原板表面を全面親水性とした。活性光には、ＵＳ１０
光源装置ユニレックＵＲＭ６００形式ＧＨ６０２０１Ｘ
（ウシオ電気工業（株）製）を用いて光強度１００ｍＷ
／ｃｍ² のもとで通過時間が１５秒となる回転速度で版
胴を回転させた。照射後の原板表面の水に対する接触角
をContact Angle Meter CA-D（協和界面科学（株）製）
を用いて空中水滴法で表面の水に対する接触角を測定し
たところ、いずれの照射領域も３〜６度の間にあった。

【０１１４】次ぎにトルエンに０．１質量％の濃度でｎ
−オクタデシルトリクロロシランを溶解させた描画用溶
液をインクジェット用インクカセットに充填して、これ
をインクとして図４のインクジェット描画部４５に装着
したインクジェット装置から原板表面に描画を行なっ
て，親水性表面に像様のインク(疎水性)領域を形成させ
た。原板表面の疎水性領域の水に対する接触角をContac
t Angle Meter CA-D（協和界面科学（株）製）を用いて
空中水滴法で測定したところ、いずれの部分も７８〜８
１度の間にあり、十分に疎水性であった。

【０１１５】この版胴１をサクライ社製オリバー５２片
面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部３において
湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newc
hampion Ｆグロス８５墨を用いて３０００枚印刷を行っ
た。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得られ、版胴
１の損傷も認められなかった。

【０１１６】次いで洗浄部４において、版胴１の表面を
印刷用インキ洗浄液ダイクリーンＲ（発売元；大日本イ
ンキ化学工業社）とトルエンの１／１混合液をウエスに
しみ込ませて丁寧に洗浄してインキを除去した。次いで
加熱再生部４９において版面が３５０℃になるように電
熱加熱を行ないながら、加熱部内の滞留時間が２分とな
るようにゆっくりした回転速度で版胴を回転させたの
ち、冷風にて版面を冷却して、前回と同じ方法で接触角
を測定した。版表面のどの部分も３〜６度の間にあっ
た。

【０１１７】次いで、この版胴１の表面に上記と同一の
条件で全面一様露光を行って親水性化の確実化を期した
後、上記と同じ条件でインクジェットによる描画を繰り
返した。この版胴１をサクライ社製オリバー５２片面印
刷機に使用して、インキ・湿し水供給部３において湿し
水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newchamp
ion Ｆグロス８５墨を用いて５０００枚オフセット印刷
を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得ら
れ、版胴１の損傷も認められなかった。

【０１１８】以上の繰り返しを５回実施したところ、活
性光照射後の接触角の値、加熱による接触角の回復スピ
ード及び印刷面の画像の鮮明さの変化は認められなかっ
た。この結果から、酸化チタン層をアルミニウム支持体
上に設けた印刷原板を使用し、実施形態１の印刷装置を
用いて活性光の一様照射とインクジェット方式の疎水性
画像領域の形成、印刷後のインク除去と高温親水性発現
温度への加熱によって製版印刷及び原板の反復再生使用
が可能であることが示された。

【０１１９】〔実施例２〕真空蒸着装置中に１００ミク
ロン厚みのＳＵＳ板をセットして全圧０．６５Ｐａの真
空下でセレン化亜鉛を１００ｎｍの厚みに蒸着した。こ
れを空気中６００°Ｃで２時間酸化処理してＳＵＳ板の
片面に酸化亜鉛の薄膜を形成させた。この酸化亜鉛皮膜
付き１００ミクロンＳＵＳ板を実施例１と同じく、実施
形態１の印刷装置の版胴１の基体に巻き付けて機上製版
型の原板とした。

【０１２０】次いで、実施例１と同じユニレックＵＲＭ
６００形式ＧＨ６０２０１Ｘを用いて同じ条件で、原板
表面に活性光の一様照射を行った。照射後の原板表面の
水に対する接触角をContact Angle Meter CA-Dを用いて
空中水滴法で表面の水に対する接触角を測定したとこ
ろ、いずれの照射領域も１０〜１３度の間にあった。

【０１２１】実施例１と同じ図１〜３に示した態様のイ
ンクジェット装置と、トルエンに０．１質量％の濃度で
ｎ−オクタデシルトリクロロシランを溶解させた描画用
溶液とを使用して親水性化した原板表面に疎水性表面の
像様分布を形成させた。疎水性領域の水に対する接触角
をContact Angle Meter CA-D（協和界面科学（株）製）
を用いて空中水滴法で測定したところ、いずれの部分も
９０〜９５度の間にあった。

【０１２２】この版胴１をサクライ社製オリバー５２片
面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部３において
湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newc
hampion Ｆグロス８５墨を用いて１０００枚オフセット
印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得
られ、版胴１の損傷も認められなかった。

【０１２３】次いで洗浄部４４において、版胴１の表面
を印刷用インキ洗浄液ダイクリーンＲ（発売元；大日本
インキ化学工業社）とトルエンの１／１混合液をウエス
にしみ込ませて丁寧に洗浄してインキを除去し、加熱部
４９で３５０℃に加熱した。ユニレックＵＲＭ６００形
式ＧＨ６０２０１Ｘを用いて原板表面に活性光の全面照
射を行った。照射後の原板表面の水に対する接触角をCo
ntact Angle Meter CA-Dを用いて空中水滴法で表面の水
に対する接触角を測定したところ、いずれの照射領域も
１０〜１３度の間にあった。この版胴に１回目と同じイ
ンクジェット装置と描画用溶液を用いて親水性化処理し
た原板表面に疎水性表面の像様分布を形成させた。

【０１２４】この版胴１をサクライ社製オリバー５２片
面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部３において
湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newc
hampion Ｆグロス８５墨を用いて１０００枚オフセット
印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得
られ、版胴１の損傷も認められなかった。

【０１２５】この結果から、酸化亜鉛層をＳＵＳ支持体
上に設けた印刷原板を使用し、態様１の印刷装置を用い
て活性光による全面照射と一般式（１）の化合物による
画像層形成によって印刷が可能であり、しかもインキの
洗浄除去と加熱再生のみで印刷原板を反復再生使用でき
ることが示された。

【０１２６】〔実施例３〕実施例１と同様にして陽極酸
化処理したアルミニウム支持体をＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂
Ｏ₁₀の化学量論比に相当するセシウムエトキシド、チタ
ンブトキシド、ランタンイソブトキシド、ニオブエトキ
シドを含む２０％のエタノール溶液に浸漬して表面を加
水分解したのち２８０°Ｃに加熱してアルミニウム支持
体表面にＣｓＬａ₂ ＮｂＴｉ₂ Ｏ₁₀の厚み１０００オン
グストロームの薄膜を形成させた。

【０１２７】この複合金属酸化物薄膜付きアルミニウム
支持体を版胴の基体に巻き付けて原板とした以外は、実
施例１と同じ操作による製版、印刷及びインキ洗浄除
去、一般式(１)で表される化合物の熱分解温度以上で版
の加熱再生及び再印刷を行った。ただし、今回は、加熱
温度は、３８０℃とし、版胴の回転速度を上げて加熱部
滞留時間を６０秒とした。ｎ−オクタデシルトリクロロ
シラン層が形成された疎水性領域の水に対する接触角
は、１回目及び２回目とも８５〜９０度であり、また、
活性光の照射領域の接触角は、９〜１２度であった。印
刷面の品質も１回目及び２回目とも地汚れはなく、画像
領域と非画像領域の識別性も十分であった。

【０１２８】〔実施例４〕厚み１００ミクロンのポリイ
ミド（無水ピロメリット酸・ｍ−フェニレンジアミン共
重合物）フィルム（商品名；カプトン、東レ・デュポン
社製）を真空蒸着装置内にセットし、二酸化チタンを熱
応答性金属酸化物とした原板を作製した。すなわち、上
記ポリイミド支持体をスパッタリング装置内にセット
し、全圧０．０２Ｐａで酸素分圧７０％の条件下でチタ
ン金属片を加熱して二酸化チタン薄膜を蒸着形成した。
この薄膜の結晶成分は、Ｘ線解析法によれば、無定型、
アナターゼ、ルチルの各結晶の構造比が１５／６．５／
２であった。また、二酸化チタン薄膜の暑さは９０ｎｍ
であった。これを版胴の基体に巻き付けて原板として使
用したことと、活性光の光源として７５Ｗ低圧キセノン
放電灯を光強度１２００ｍＷ／ｃｍ２の条件で使用した
以外は、実施例１と同じ製版、印刷及びインキ洗浄除
去、熱分解処理を行った。次いで再び７５Ｗ低圧キセノ
ン放電灯から全面照射を行なって、実施例と同じく再度
製版と印刷を行なった。疎水性領域の水に対する接触角
は、１回目及び２回目とも６９〜７２度であり、また、
活性光の照射領域の接触角は、１０〜１５度であった。
印刷面の品質も１回目及び２回目とも地汚れはなく、画
像領域と非画像領域の識別性も十分であった。

【０１２９】〔実施例５〕疎水性画像領域形成用の溶液
を、ヘキサデシルジメチルクロロシラン０．５％、シク
ロヘキサノール０．０２％のキシレン溶液とした以外
は、実施例１と同じ操作によって製版，印刷，原板再生
を行なった。ヘキサデシルジメチルクロロシラン層が形
成された疎水性領域の水に対する接触角は、１回目及び
２回目とも７３〜７５度であり、また、活性光の照射領
域の接触角は、８〜１１度であった。印刷面の品質も１
回目及び２回目とも地汚れはなく、画像領域と非画像領
域の識別性も十分であった。

【０１３０】〔実施例６〕疎水性画像領域形成用の溶液
を、ｎ−オクタデシルジメチルクロロチタン０．５％、
シクロヘキサノール０．０２％のキシレン溶液とした以
外は、実施例１と同じ操作によって製版，印刷，原板再
生を行なった。ｎ−オクタデシルジメチルクロロチタン
層が形成された疎水性領域の水に対する接触角は、１回
目及び２回目とも７０〜７２度であり、また、活性光の
照射領域の接触角は、１０〜１３度であった。印刷面の
品質も１回目及び２回目とも地汚れはなく、画像領域と
非画像領域の識別性も十分であった。

【０１３１】〔実施例７〕実施例６で用いた疎水性画像
領域形成用の溶液を、ｎ−オクタデシルジメチルクロロ
チタン０．５％、カーボンブラック（平均径３５ｎｍ）
０．０２％、オクチルアルコール０．０２％のキシレン
溶液とした以外は、実施例６と同じ操作によって製版，
印刷，原板再生を行なった。結果も実施例６と同様であ
った。

【０１３２】

【発明の効果】本発明の親水性表面、とくに光触媒能を
有する親水性表面に一般式（１）の化合物を含む疎水性
溶液を用いてインクジェット方式で描画を行なって疎水
性の像様領域を形成させて印刷を行なう印刷方法は，現
像処理が不要で操作が簡易な製版方法であり、かつ印刷
汚れのない鮮明な印刷画像品質が得られる。機上で製版
することも可能であり，さらに、光触媒能を有する材料
を用いた場合は，印刷済みの版をインク除去し、一般式
(１)で表される化合物の熱分解温度以上で版の加熱処理
を施すことによって使用した版を印刷用原板に再生する
こともできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に用いる装置系の一例を示す概略構成図
である。

【図２】本発明に用いるインクジェット記録装置の要部
を示す概略構成図である。

【図３】本発明に用いるインクジェット記録装置のヘッ
ドの部分断面図である。

【図４】本発明の第一の実施形態のオフセット印刷装置
の構成を示す概略図8である。

【図５】インクジェット方式による疎水性画像の描画に
係る疎水性化処理部の構成を示す概略図である。

【符号の説明】

１ インクジェット記録装置 ２ マスター ３ コンピューター ４ バス １０ ヘッド １０ａ 吐出スリット １０ｃ 対向電極 １１ 油性インク １０１ 上部ユニット １０２ 下部ユニット ４１ 版胴 ４２ 親水性化処理部 ４３ インキ・湿し水供給部 ４４ インキ洗浄部 ４５ インクジェット描画部 ４６ ブランケット ４７ 圧胴 ４８ 本体 ４９ 加熱再生部 ５７ インクジェット装置 ５８ 液滴吐出ノズル ５９ 変調・駆動部 ６０ 編集・レイアウトＷ／Ｓ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ４１Ｍ 1/06 Ｂ４１Ｎ 1/14 ２Ｈ１１４ Ｂ４１Ｎ 1/08 Ｂ４１Ｆ 31/02 Ａ 1/14 Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｚ Ｆターム(参考） 2C034 AA12 BA02 2C056 FB01 FB08 2C250 DB01 FA03 FB12 2H084 AA25 AE05 BB02 BB16 CC05 2H113 AA01 AA05 BA05 DA04 DA07 DA64 EA02 FA07 FA29 2H114 AA04 AA22 BA10 DA04 DA08 DA62 DA73 DA78 EA01 EA03 EA05 FA16 GA03 GA05 GA06 GA08 GA09 GA34 GA38

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 親水性表面を有するオフセット印刷用原
   板の表面に少なくとも下記一般式(１)で表される化合物
   を含有する溶液をインキとしてインクジェット方式によ
   って像様に描画することによって疎水性の画像領域を形
   成させ、該画像領域を印刷用インキに接触させることに
   よって該領域がインキを受け入れた印刷面を形成させて
   印刷を行うことを特徴とするオフセット印刷方法。 Ｇ_nＪＭ_4-n （１） (式中、Ｇは疎水性有機基を示し、ＪはＣ、Ｓｉ、Ｇ
   ｅ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＳｎから選択される原子価４の元素
   を表し、Ｍはハロゲン又はアルコキシ基を表し、ｎは１
   〜３の整数を表す。)
2. 【請求項２】 親水性表面を有するオフセット印刷用原
   板が、光触媒能を有する印刷用原板に活性光を照射して
   表面を親水化したオフセット印刷用原板であることを特
   徴とする請求項１に記載のオフセット印刷方法。
3. 【請求項３】 印刷に使用した印刷版の版面上に残存す
   るインキの洗浄除去と一般式(１)で表される化合物の熱
   分解温度以上で版の加熱処理を施したのち、その印刷版
   を印刷用原板として請求項１又は２に記載の操作を反復
   して印刷を行うことを特徴とする請求項１又は２に記載
   の印刷方法。
4. 【請求項４】 印刷用原板の表面が、ＴｉＯ_２、ＲＴｉ
   Ｏ_３（Ｒはアルカリ土類金属原子）、ＡＢ_２−ｘＣ_ｘＤ
   _３−ｘＥ_ｘＯ_１０（Ａは水素原子又はアルカリ金属原
   子、Ｂはアルカリ土類金属原子又は鉛原子、Ｃは希土類
   原子、Ｄは周期律表の５Ａ族元素に属する金属原子、Ｅ
   は同じく４Ａ族元素に属する金属原子、ｘは０〜２の任
   意の数値を表す）、ＳｎＯ_２，Ｂｉ_２Ｏ_３，ＺｎＯ、Ｚ
   ｒＯ、ＧｅＯ₂及びＦｅＯ_y（y＝１．０〜１．５）から
   選ばれる金属酸化物の少なくとも一つによって構成され
   ていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に
   記載のオフセット印刷方法。
5. 【請求項５】 請求項１〜４項のいずれか１項に記載の
   方法に使用するオフセット印刷装置であって、 光触媒能を有する印刷用原板を装着した原板装着部と、 該原板を活性光の照射によってその表面を親水性化する
   照射手段と、 該原板にインクジェットの描画を施して疎水性の画像領
   域を形成させる描画手段と、 該画像領域に印刷用インキを供給して画像領域がインキ
   を受け入れた印刷面を形成させるインキ供給手段と，該
   印刷面を印刷される面と接触させて印刷を行う印刷手段
   と、を有することを特徴とするオフセット印刷装置。
6. 【請求項６】 印刷終了後、印刷版に残存するインキを
   除去するインキ洗浄手段と洗浄した印刷版面を一般式
   （１）の化合物の熱分解温度以上に加熱する加熱手段と
   を有することを特徴とする請求項５に記載のオフセット
   印刷装置。
7. 【請求項７】 少なくとも露光手段、描画手段、インキ
   供給手段、インキ除去手段及び版面加熱手段が、版胴の
   周囲に配設されてなることを特徴とする請求項５又は６
   に記載のオフセット印刷装置。
8. 【請求項８】 印刷用原板が版胴の一部を構成してお
   り、少なくとも露光手段、描画手段、インキ供給手段お
   よびインキ除去手段が、前記版胴の周囲に配設されてな
   ることを特徴とする請求項５〜７のいずれか１項に記載
   のオフセット印刷装置。