JP2002122578A - 環状フェノール硫化物担持固相分離材料の製造方法及びクロマトグラフ用固定相 - Google Patents
環状フェノール硫化物担持固相分離材料の製造方法及びクロマトグラフ用固定相Info
- Publication number
- JP2002122578A JP2002122578A JP2000315385A JP2000315385A JP2002122578A JP 2002122578 A JP2002122578 A JP 2002122578A JP 2000315385 A JP2000315385 A JP 2000315385A JP 2000315385 A JP2000315385 A JP 2000315385A JP 2002122578 A JP2002122578 A JP 2002122578A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- template
- phenol sulfide
- solid phase
- cyclic phenol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- LJKQIQSBHFNMDV-UHFFFAOYSA-N 7-thiabicyclo[4.1.0]hepta-2,4-dien-6-ol Chemical compound C1=CC=CC2(O)C1S2 LJKQIQSBHFNMDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 230000005526 G1 to G0 transition Effects 0.000 title claims description 13
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 9
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000005242 carbamoyl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000004181 carboxyalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 6
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims abstract description 5
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims abstract description 4
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 claims abstract description 4
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 claims abstract description 4
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 5
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 claims abstract 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 46
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 150000008282 halocarbons Chemical group 0.000 claims description 8
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 claims description 5
- 150000003431 steroids Chemical class 0.000 claims description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N sulfurochloridic acid Chemical group OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 3
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 abstract 1
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 abstract 1
- -1 silane compound Chemical class 0.000 description 28
- HVYWMOMLDIMFJA-DPAQBDIFSA-N cholesterol Chemical compound C1C=C2C[C@@H](O)CC[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@H]([C@H](C)CCCC(C)C)[C@@]1(C)CC2 HVYWMOMLDIMFJA-DPAQBDIFSA-N 0.000 description 26
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 26
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 235000012000 cholesterol Nutrition 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 12
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 11
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 5
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000006297 carbonyl amino group Chemical group [H]N([*:2])C([*:1])=O 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004080 3-carboxypropanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C(O[H])=O 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001721 carboxyacetyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- ZRSDQBKGDNPFLT-UHFFFAOYSA-N ethanol;oxolane Chemical compound CCO.C1CCOC1 ZRSDQBKGDNPFLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000003431 oxalo group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N tetraglyme Chemical compound COCCOCCOCCOCCOC ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- OTVRYZXVVMZHHW-FNOPAARDSA-N (8s,9s,10r,13r,14s,17r)-3-chloro-10,13-dimethyl-17-[(2r)-6-methylheptan-2-yl]-2,3,4,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydro-1h-cyclopenta[a]phenanthrene Chemical compound C1C=C2CC(Cl)CC[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@H]([C@H](C)CCCC(C)C)[C@@]1(C)CC2 OTVRYZXVVMZHHW-FNOPAARDSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMSGQZDGSZOJMU-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-2-phenylbenzene Chemical group CCCCC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 RMSGQZDGSZOJMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUFLCEKSBBHCMO-UHFFFAOYSA-N 11-dehydrocorticosterone Natural products O=C1CCC2(C)C3C(=O)CC(C)(C(CC4)C(=O)CO)C4C3CCC2=C1 FUFLCEKSBBHCMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- NJBCRXCAPCODGX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-methylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CC(C)CNCC(C)C NJBCRXCAPCODGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFYSYFVPBJMHGN-ZPOLXVRWSA-N Cortisone Chemical compound O=C1CC[C@]2(C)[C@H]3C(=O)C[C@](C)([C@@](CC4)(O)C(=O)CO)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1 MFYSYFVPBJMHGN-ZPOLXVRWSA-N 0.000 description 1
- MFYSYFVPBJMHGN-UHFFFAOYSA-N Cortisone Natural products O=C1CCC2(C)C3C(=O)CC(C)(C(CC4)(O)C(=O)CO)C4C3CCC2=C1 MFYSYFVPBJMHGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000005956 Cosmos caudatus Nutrition 0.000 description 1
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-O Methylammonium ion Chemical compound [NH3+]C BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- PQBAWAQIRZIWIV-UHFFFAOYSA-N N-methylpyridinium Chemical compound C[N+]1=CC=CC=C1 PQBAWAQIRZIWIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- WZEMSIKSCALWJZ-UHFFFAOYSA-N azane;ethanol Chemical compound N.CCO.CCO WZEMSIKSCALWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 229960004544 cortisone Drugs 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 229940062233 di-isopropylammonium Drugs 0.000 description 1
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-O dibutylazanium Chemical compound CCCC[NH2+]CCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-O diethylammonium Chemical compound CC[NH2+]CC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-O ethylaminium Chemical compound CC[NH3+] QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003100 immobilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-O isopropylaminium Chemical compound CC(C)[NH3+] JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- OBYVIBDTOCAXSN-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylbutan-2-amine Chemical compound CCC(C)NC(C)CC OBYVIBDTOCAXSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CATWEXRJGNBIJD-UHFFFAOYSA-N n-tert-butyl-2-methylpropan-2-amine Chemical compound CC(C)(C)NC(C)(C)C CATWEXRJGNBIJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N schardinger α-dextrin Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(O)C2O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2CO HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-O triethanolammonium Chemical compound OCC[NH+](CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O triethylammonium ion Chemical compound CC[NH+](CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000825 ultraviolet detection Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 物質の製造、分離、分析に重要であり、かつ
産業上の基板技術である新規固相分離材料の製造方法、
並びにそのクロマトグラフ法としての利用技術を提供す
る。 【解決手段】 一般式(1) (式(1)中、Xは水素原子、炭化水素基、アシル基、
カルボキシアルキル基又はカルバモイルアルキル基であ
り、Yは水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素
基、ハロゲン原子、アシル基、水酸基、カルボキシル
基、アミド基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、スルホ
ン酸基、クロロスルホン酸基、又はアルコキシスルホニ
ルオキシ基であり、Zはスルフィド基、スルフィニル
基、又はスルホニル基であり、nは4〜8の整数であ
り、複数のX、Y及びZはそれぞれ同一であっても異な
っていてもよい)で表される環状フェノール硫化物とテ
ンプレートからなる複合体を、ゾル−ゲル法によりシリ
カゲル中に固定化した後、テンプレートを除去する。
産業上の基板技術である新規固相分離材料の製造方法、
並びにそのクロマトグラフ法としての利用技術を提供す
る。 【解決手段】 一般式(1) (式(1)中、Xは水素原子、炭化水素基、アシル基、
カルボキシアルキル基又はカルバモイルアルキル基であ
り、Yは水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素
基、ハロゲン原子、アシル基、水酸基、カルボキシル
基、アミド基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、スルホ
ン酸基、クロロスルホン酸基、又はアルコキシスルホニ
ルオキシ基であり、Zはスルフィド基、スルフィニル
基、又はスルホニル基であり、nは4〜8の整数であ
り、複数のX、Y及びZはそれぞれ同一であっても異な
っていてもよい)で表される環状フェノール硫化物とテ
ンプレートからなる複合体を、ゾル−ゲル法によりシリ
カゲル中に固定化した後、テンプレートを除去する。
Description
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、物質の製造、分
離、分析に重要であり、かつ産業上の基板技術である新
規固相分離材料の製造方法、並びにテンプレートの選択
により種々の分離分析に使用可能であるクロマトグラフ
用固定相に関する。
離、分析に重要であり、かつ産業上の基板技術である新
規固相分離材料の製造方法、並びにテンプレートの選択
により種々の分離分析に使用可能であるクロマトグラフ
用固定相に関する。
【0002】
【従来の技術】産業上重要な基盤技術である混合物の分
離分析手法として、クロマトグラフ法は、汎用的かつ省
エネルギーの簡便な手法として反応生成物の分離、組成
分析等に広く利用されている。この方法では、分離材料
としての固定相が重要であり、固定相の性能が、分離分
析性能に大きく影響する。旧来クロマトグラフ用固定相
としてはシリカゲル、イオン交換樹脂等の吸着性物質が
多用されているが、このような固定相では目的の分離性
能が得られない事が多くあり、近年ではより多元的な分
子認識材料の開発が行われている。
離分析手法として、クロマトグラフ法は、汎用的かつ省
エネルギーの簡便な手法として反応生成物の分離、組成
分析等に広く利用されている。この方法では、分離材料
としての固定相が重要であり、固定相の性能が、分離分
析性能に大きく影響する。旧来クロマトグラフ用固定相
としてはシリカゲル、イオン交換樹脂等の吸着性物質が
多用されているが、このような固定相では目的の分離性
能が得られない事が多くあり、近年ではより多元的な分
子認識材料の開発が行われている。
【0003】このような多元的な分子認識材料の開発の
一つとして、包接化合物の一種であるシクロデキストリ
ンを利用する研究が盛んに行われており、シリカゲル固
定相に固定したり、あるいは分離したい物質を高分子な
どの固定相中に固定化させ、その鋳型を固定相中に固定
化するということが検討されてきている。
一つとして、包接化合物の一種であるシクロデキストリ
ンを利用する研究が盛んに行われており、シリカゲル固
定相に固定したり、あるいは分離したい物質を高分子な
どの固定相中に固定化させ、その鋳型を固定相中に固定
化するということが検討されてきている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】包接化合物を担持させ
た材料においては、包接化合物と分離目的物質との水素
結合やCH−π相互作用、π−π相互作用等の非共有結
合相互作用を利用して、多元的な分子認識を利用するこ
とにより目的物質の分離を行っているが、弱い相互作用
を利用した分離のため、同一骨格を有する化合物群の分
離や、光学異性体分離に際して、必要な分離性能を得る
ことが困難である場合も少なくなかった。この為、相互
作用点の少ない物質や類似構造を有する化合物群の分離
を行うためには、より高い分子認識能を有する分離材料
が求められていた。
た材料においては、包接化合物と分離目的物質との水素
結合やCH−π相互作用、π−π相互作用等の非共有結
合相互作用を利用して、多元的な分子認識を利用するこ
とにより目的物質の分離を行っているが、弱い相互作用
を利用した分離のため、同一骨格を有する化合物群の分
離や、光学異性体分離に際して、必要な分離性能を得る
ことが困難である場合も少なくなかった。この為、相互
作用点の少ない物質や類似構造を有する化合物群の分離
を行うためには、より高い分子認識能を有する分離材料
が求められていた。
【0005】
【課題を解決するための手段】かかる実状において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、全く意外にも特定の
環状フェノール硫化物(ホスト分子)およびテンプレー
ト(ゲスト分子)を、ゾル−ゲル法により、シリカゲル
中に固定化し、その後包接されているテンプレートを除
去することにより、環状フェノール硫化物により形成さ
れるテンプレートの鋳型をシリカゲル担体中に固定化し
た材料を形成することを見出し、本発明を完成するに至
った。すなわち、本発明は、一般式(1)
発明者らは鋭意研究を行った結果、全く意外にも特定の
環状フェノール硫化物(ホスト分子)およびテンプレー
ト(ゲスト分子)を、ゾル−ゲル法により、シリカゲル
中に固定化し、その後包接されているテンプレートを除
去することにより、環状フェノール硫化物により形成さ
れるテンプレートの鋳型をシリカゲル担体中に固定化し
た材料を形成することを見出し、本発明を完成するに至
った。すなわち、本発明は、一般式(1)
【0006】
【化2】
【0007】(式(1)中、Xは水素原子、炭化水素
基、アシル基、カルボキシアルキル基又はカルバモイル
アルキル基であり、Yは水素原子、炭化水素基、ハロゲ
ン化炭化水素基、ハロゲン原子、アシル基、水酸基、カ
ルボキシル基、アミド基、アミノ基、ニトロ基、シアノ
基、スルホン酸基、クロロスルホン酸基、又はアルコキ
シスルホニルオキシ基であり、Zはスルフィド基、スル
フィニル基、又はスルホニル基であり、nは4〜8の整
数であり、複数のX、Y及びZはそれぞれ同一であって
も異なっていてもよい)で表される環状フェノール硫化
物とテンプレートからなる複合体を、ゾル−ゲル法によ
りシリカゲル中に固定化した後、テンプレートを除去す
ることを特徴とする環状フェノール硫化物修飾固相分離
材料の製造方法を提供するものである。また、本発明
は、上記製造方法において、テンプレートがステロイド
類である環状フェノール硫化物修飾固相分離材料の製造
方法を提供するものである。さらに、上記製造方法にお
ける環状フェノール硫化物修飾固相分離材料からなるこ
とを特徴とするクロマトグラフ用固定相を提供するもの
である。以下、本発明を詳細に説明する。
基、アシル基、カルボキシアルキル基又はカルバモイル
アルキル基であり、Yは水素原子、炭化水素基、ハロゲ
ン化炭化水素基、ハロゲン原子、アシル基、水酸基、カ
ルボキシル基、アミド基、アミノ基、ニトロ基、シアノ
基、スルホン酸基、クロロスルホン酸基、又はアルコキ
シスルホニルオキシ基であり、Zはスルフィド基、スル
フィニル基、又はスルホニル基であり、nは4〜8の整
数であり、複数のX、Y及びZはそれぞれ同一であって
も異なっていてもよい)で表される環状フェノール硫化
物とテンプレートからなる複合体を、ゾル−ゲル法によ
りシリカゲル中に固定化した後、テンプレートを除去す
ることを特徴とする環状フェノール硫化物修飾固相分離
材料の製造方法を提供するものである。また、本発明
は、上記製造方法において、テンプレートがステロイド
類である環状フェノール硫化物修飾固相分離材料の製造
方法を提供するものである。さらに、上記製造方法にお
ける環状フェノール硫化物修飾固相分離材料からなるこ
とを特徴とするクロマトグラフ用固定相を提供するもの
である。以下、本発明を詳細に説明する。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明における環状フェノール硫
化物修飾固相分離材料の製造方法としては、一般的に
は、以下に示すような方法で製造することが可能であ
る。すなわち、一般式(1)で表わされる環状フェノー
ル硫化物およびテンプレートを、担体骨格を形成するシ
ラン化合物と混合しゾル−ゲル溶液を調製した後、加熱
することによりキセロゲルを形成させ、さらにこのキセ
ロゲルを溶媒で洗浄することによりテンプレートを除去
することにより、環状フェノール硫化物修飾固相分離材
料を製造することができる。この製造方法を採ることに
より、環状フェノール硫化物をホスト分子とし、テンプ
レートをゲスト分子とする反応が生じ、ゲスト分子の鋳
型をシリカゲル担体中に固定化することができると考え
られる。
化物修飾固相分離材料の製造方法としては、一般的に
は、以下に示すような方法で製造することが可能であ
る。すなわち、一般式(1)で表わされる環状フェノー
ル硫化物およびテンプレートを、担体骨格を形成するシ
ラン化合物と混合しゾル−ゲル溶液を調製した後、加熱
することによりキセロゲルを形成させ、さらにこのキセ
ロゲルを溶媒で洗浄することによりテンプレートを除去
することにより、環状フェノール硫化物修飾固相分離材
料を製造することができる。この製造方法を採ることに
より、環状フェノール硫化物をホスト分子とし、テンプ
レートをゲスト分子とする反応が生じ、ゲスト分子の鋳
型をシリカゲル担体中に固定化することができると考え
られる。
【0009】本発明で用いる環状フェノール硫化物は上
記一般式(1)の環状フェノール硫化物である。一般式
(1)のXは水素原子、炭化水素基、アシル基、カルボ
キシアルキル基又はカルバモイルアルキル基である。X
の炭化水素基の炭素数は、1以上であれば特に制限はな
いが、好ましくは1〜6である。これらのアルキル基と
しては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、ビニ
ル、アリル、シクロヘキシル、フェニルなどが挙げられ
る。また、Xのアシル基の炭素数は、1以上であれば特
に制限はないが、好ましくは1〜7である。アシル基の
適当な例としては、ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、バレリル、オキサリル、マロニル、スク
シニル、ベンゾイル、アクリロイル、メタクリロイル、
クロトニル等が挙げられる。
記一般式(1)の環状フェノール硫化物である。一般式
(1)のXは水素原子、炭化水素基、アシル基、カルボ
キシアルキル基又はカルバモイルアルキル基である。X
の炭化水素基の炭素数は、1以上であれば特に制限はな
いが、好ましくは1〜6である。これらのアルキル基と
しては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、ビニ
ル、アリル、シクロヘキシル、フェニルなどが挙げられ
る。また、Xのアシル基の炭素数は、1以上であれば特
に制限はないが、好ましくは1〜7である。アシル基の
適当な例としては、ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、バレリル、オキサリル、マロニル、スク
シニル、ベンゾイル、アクリロイル、メタクリロイル、
クロトニル等が挙げられる。
【0010】Xのカルボキシアルキル基の炭素数は、2
以上であれば特に制限はないが、好ましくは2〜13で
ある。カルボキシアルキル基の適当な例としては、−C
H2COOH、−CH2CH2COOH、−CH(CH
3)COOH、−C(CH3)2COOH、などが挙げ
られる。Xのカルバモイルアルキル基の炭素数は、2以
上であれば特に制限はないが、好ましくは2〜13であ
る。カルバモイルアルキル基の適当な例としては、−C
H2NH2、−CH2CH2CONH2、−CH(CH
3)CONH2、−C(CH3)2CONH2、−CH
2CONH(CH3)、−CH2CONHCH(C
H3)ph等が挙げられる。一般式(1)において、X
は1分子中に4〜8個存在するが、これらのXはそれぞ
れ同一であっても異なっていても良い。
以上であれば特に制限はないが、好ましくは2〜13で
ある。カルボキシアルキル基の適当な例としては、−C
H2COOH、−CH2CH2COOH、−CH(CH
3)COOH、−C(CH3)2COOH、などが挙げ
られる。Xのカルバモイルアルキル基の炭素数は、2以
上であれば特に制限はないが、好ましくは2〜13であ
る。カルバモイルアルキル基の適当な例としては、−C
H2NH2、−CH2CH2CONH2、−CH(CH
3)CONH2、−C(CH3)2CONH2、−CH
2CONH(CH3)、−CH2CONHCH(C
H3)ph等が挙げられる。一般式(1)において、X
は1分子中に4〜8個存在するが、これらのXはそれぞ
れ同一であっても異なっていても良い。
【0011】一般式(1)のYは、水素原子、炭化水素
基、ハロゲン化炭化水素基、ハロゲン原子、アシル基、
水酸基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、ニトロ
基、シアノ基、スルホン酸基、クロロスルホン酸基、又
はアルコキシスルホニルオキシ基である。Yの炭化水素
基の炭素数は、1以上であれば特に制限されないが、好
ましくは1〜30、より好ましくは1〜18である。こ
れらの炭化水素基としては、飽和脂肪族炭化水素基、脂
環式炭化水素基、脂環式−脂肪族炭化水素基、芳香族炭
化水素基、芳香族−脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
飽和脂肪族炭化水素基の適当な具体例としては、例えば
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、イソブチル、tert-ブチル、n−ペンチル、
ネオペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、tert
-オクチル、n−ノニル、イソノニル、n−ドデシル、
及び、エチレンやプロピレン、ブチレンの重合物又は共
重合物からなる基等が挙げられる。不飽和脂肪族炭化水
素基の適当な具体例としては、例えばビニル、アリル、
イソプロペニル、2−ブテニル、及びアセチレンやブタ
ジエン、イソプレンの重合物、あるいはそれらの共重合
物からなる基等が挙げられる。
基、ハロゲン化炭化水素基、ハロゲン原子、アシル基、
水酸基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、ニトロ
基、シアノ基、スルホン酸基、クロロスルホン酸基、又
はアルコキシスルホニルオキシ基である。Yの炭化水素
基の炭素数は、1以上であれば特に制限されないが、好
ましくは1〜30、より好ましくは1〜18である。こ
れらの炭化水素基としては、飽和脂肪族炭化水素基、脂
環式炭化水素基、脂環式−脂肪族炭化水素基、芳香族炭
化水素基、芳香族−脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
飽和脂肪族炭化水素基の適当な具体例としては、例えば
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、イソブチル、tert-ブチル、n−ペンチル、
ネオペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、tert
-オクチル、n−ノニル、イソノニル、n−ドデシル、
及び、エチレンやプロピレン、ブチレンの重合物又は共
重合物からなる基等が挙げられる。不飽和脂肪族炭化水
素基の適当な具体例としては、例えばビニル、アリル、
イソプロペニル、2−ブテニル、及びアセチレンやブタ
ジエン、イソプレンの重合物、あるいはそれらの共重合
物からなる基等が挙げられる。
【0012】脂環式炭化水素基の適当な具体例として
は、例えばシクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、エ
チルシクロヘキシル等が挙げられる。脂環式−脂肪族炭
化水素基の適当な具体例としては、例えばシクロヘキシ
ルメチル、シクロヘキシルエチル等が挙げられる。芳香
族炭化水素基の適当な具体例としては、例えばフェニ
ル、ナフチル等のアリール基、メチルフェニル、ジメチ
ルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、ブ
チルフェニルなどのアルキルアリール基が挙げられる。
芳香族−脂肪族炭化水素の適当な具体例としては、例え
ばベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、フェ
ニルブチル、メチルフェニルエチル等が挙げられる。な
お、これらの炭化水素基は、ハロゲン原子、アシル基、
水酸基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基又はニト
ロ基などの官能基により置換されていても良い。
は、例えばシクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、エ
チルシクロヘキシル等が挙げられる。脂環式−脂肪族炭
化水素基の適当な具体例としては、例えばシクロヘキシ
ルメチル、シクロヘキシルエチル等が挙げられる。芳香
族炭化水素基の適当な具体例としては、例えばフェニ
ル、ナフチル等のアリール基、メチルフェニル、ジメチ
ルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、ブ
チルフェニルなどのアルキルアリール基が挙げられる。
芳香族−脂肪族炭化水素の適当な具体例としては、例え
ばベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、フェ
ニルブチル、メチルフェニルエチル等が挙げられる。な
お、これらの炭化水素基は、ハロゲン原子、アシル基、
水酸基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基又はニト
ロ基などの官能基により置換されていても良い。
【0013】また、ハロゲン化炭化水素基は、前記の炭
化水素基と同様なものにハロゲン原子が置換したものが
あげられ、好ましいものも同様である。ハロゲン原子
は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素の各原子いずれでも良
い。アシル基の炭素数は、1以上であれば特に制限はな
いが、好ましくは1〜7である。アシル基の適当な例と
しては、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、バレリル、オキサリル、マロニル、スクシニル、ベ
ンゾイル、アクリロイル、メタクリロイル、クロトニル
等が挙げられる。水酸基、カルボキシル基、アミド基、
アミノ基は、それぞれの基を構成する水素原子のうち一
部又は全部が炭化水素基で置換されていても良い。この
炭化水素基は、上記において説明したYの炭化水素基と
同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
化水素基と同様なものにハロゲン原子が置換したものが
あげられ、好ましいものも同様である。ハロゲン原子
は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素の各原子いずれでも良
い。アシル基の炭素数は、1以上であれば特に制限はな
いが、好ましくは1〜7である。アシル基の適当な例と
しては、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、バレリル、オキサリル、マロニル、スクシニル、ベ
ンゾイル、アクリロイル、メタクリロイル、クロトニル
等が挙げられる。水酸基、カルボキシル基、アミド基、
アミノ基は、それぞれの基を構成する水素原子のうち一
部又は全部が炭化水素基で置換されていても良い。この
炭化水素基は、上記において説明したYの炭化水素基と
同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【0014】スルホン酸基は、スルホン酸、又はスルホ
ン酸の金属、アンモニウム、低級アルキルアンモニウ
ム、低級アルカノールアンモニウム、もしくはピリジニ
ウム類の塩である。金属としては、アルカリ金属、アル
カリ土類金属等が使用できる。アルカリ金属としては、
ナトリウム、カリウム、バリウム、ルビジウム、セシウ
ム、フランジウムなどが挙げられる。アルカリ土類金属
としては、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ス
トロンチウム、バリウムなどが挙げられる。1分子中に
おける複数のスルホン酸基における金属種は、同一であ
ってもよく、2種以上の異なるものであってもよい。低
級アルキルアンモニウムとしては、好ましくはそのアル
キル部分が炭素数1〜12のものであり、その具体例と
しては、メチルアンモニウム、エチルアンモニウム、n
−プロピルアンモニウム、iso−プロピルアンモニウ
ム、n−ブチルアンモニウム、ジメチルアンモニウム、
ジエチルアンモニウム、ジ−n−プロピルアンモニウ
ム、ジ−iso−プロピルアンモニウム、ジ−n−ブチ
ルアンモニウム、ジ−iso−ブチルアンモニウム、ジ
−sec−ブチルアンモニウム、ジ−tert−ブチル
アンモニウム、トリメチルアンモニウム、トリエチルア
ンモニウム等が挙げられる。1分子中における複数のス
ルホン酸基における低級アルキルアンモニウムは、同一
であってもよく、2種以上の異なるものであってもよ
い。
ン酸の金属、アンモニウム、低級アルキルアンモニウ
ム、低級アルカノールアンモニウム、もしくはピリジニ
ウム類の塩である。金属としては、アルカリ金属、アル
カリ土類金属等が使用できる。アルカリ金属としては、
ナトリウム、カリウム、バリウム、ルビジウム、セシウ
ム、フランジウムなどが挙げられる。アルカリ土類金属
としては、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ス
トロンチウム、バリウムなどが挙げられる。1分子中に
おける複数のスルホン酸基における金属種は、同一であ
ってもよく、2種以上の異なるものであってもよい。低
級アルキルアンモニウムとしては、好ましくはそのアル
キル部分が炭素数1〜12のものであり、その具体例と
しては、メチルアンモニウム、エチルアンモニウム、n
−プロピルアンモニウム、iso−プロピルアンモニウ
ム、n−ブチルアンモニウム、ジメチルアンモニウム、
ジエチルアンモニウム、ジ−n−プロピルアンモニウ
ム、ジ−iso−プロピルアンモニウム、ジ−n−ブチ
ルアンモニウム、ジ−iso−ブチルアンモニウム、ジ
−sec−ブチルアンモニウム、ジ−tert−ブチル
アンモニウム、トリメチルアンモニウム、トリエチルア
ンモニウム等が挙げられる。1分子中における複数のス
ルホン酸基における低級アルキルアンモニウムは、同一
であってもよく、2種以上の異なるものであってもよ
い。
【0015】低級アルカノールアンモニウムとしては、
好ましくはそのアルキル部分が炭素数1〜10のもので
あり、その具体例としては、エタノールアンモニウム、
ジエタノールアンモニウム、トリエタノールアンモニウ
ムが挙げられる。1分子中における複数のスルホン酸基
における低級アルカノールアンモニウムは、同一であっ
てもよく、2種以上の異なるものであってもよい。ま
た、ピリジニウム類としては、ピリジニウム、N−メチ
ルピリジニウム等が挙げられる。1分子中における複数
のスルホン酸基におけるピリジニウム類は、同一であっ
てもよく、2種以上の異なるものであってもよい。
好ましくはそのアルキル部分が炭素数1〜10のもので
あり、その具体例としては、エタノールアンモニウム、
ジエタノールアンモニウム、トリエタノールアンモニウ
ムが挙げられる。1分子中における複数のスルホン酸基
における低級アルカノールアンモニウムは、同一であっ
てもよく、2種以上の異なるものであってもよい。ま
た、ピリジニウム類としては、ピリジニウム、N−メチ
ルピリジニウム等が挙げられる。1分子中における複数
のスルホン酸基におけるピリジニウム類は、同一であっ
てもよく、2種以上の異なるものであってもよい。
【0016】また、アルコキシスルホニルオキシ基のア
ルキル部分も、上記Yの炭化水素基と同様なものが挙げ
られる。一般式(1)において、Yは1分子中に4〜8
個存在するが、それらのYはそれぞれ同一であってもよ
いし、異なっていてもよい。Zは、スルフィド基、スル
フィニル基、またはスルホニル基であり、一般式(1)
においてZは1分子中に4〜8個存在するが、それらの
Zはそれぞれ同一であっても良いし、異なっていても良
い。一般式(1)中のnは、4〜8の整数である。上記
の一般式(1)の化合物は既に公知の物質であり、特開
平9−227553、特開平10−77281、特開平
10−77282、特開平10−168078、特開平
10−175971、WO98/09959に記載の方
法で合成される。本発明で用いる環状フェノール硫化物
としては、上記一般式(1)で示す環状フェノール硫化
物の1種のみを用いても良いし、2種以上の組み合わせ
でも良い。
ルキル部分も、上記Yの炭化水素基と同様なものが挙げ
られる。一般式(1)において、Yは1分子中に4〜8
個存在するが、それらのYはそれぞれ同一であってもよ
いし、異なっていてもよい。Zは、スルフィド基、スル
フィニル基、またはスルホニル基であり、一般式(1)
においてZは1分子中に4〜8個存在するが、それらの
Zはそれぞれ同一であっても良いし、異なっていても良
い。一般式(1)中のnは、4〜8の整数である。上記
の一般式(1)の化合物は既に公知の物質であり、特開
平9−227553、特開平10−77281、特開平
10−77282、特開平10−168078、特開平
10−175971、WO98/09959に記載の方
法で合成される。本発明で用いる環状フェノール硫化物
としては、上記一般式(1)で示す環状フェノール硫化
物の1種のみを用いても良いし、2種以上の組み合わせ
でも良い。
【0017】環状フェノール硫化物およびテンプレート
を接触させることにより、環状フェノール硫化物とテン
プレートからなる複合体を形成することができる。本発
明で使用するテンプレートは、環状フェノール硫化物と
包接化合物を形成するものであれば、無機化合物である
と有機化合物であるとを問わないが、例えば、炭化水素
類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、アミノ酸
類、カルボン酸類、ステロイド類等の有機化合物が挙げ
られ、ステロイド類が好ましい。その好適な具体例とし
ては、コレステロール等が挙げられる。環状フェノール
硫化物とテンプレートからなる複合体を形成は、溶媒中
で行うことが好ましい。この複合体を形成する反応の際
に使用する溶媒は、環状フェノール硫化物が溶解する溶
媒であれば基本的には何を使用しても良く、ヘキサンや
ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、塩化メ
チレン、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化
水素類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ア
セトンやメチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチ
ル等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド塩基性溶媒類などの一般的な溶媒を使用する
ことができる。
を接触させることにより、環状フェノール硫化物とテン
プレートからなる複合体を形成することができる。本発
明で使用するテンプレートは、環状フェノール硫化物と
包接化合物を形成するものであれば、無機化合物である
と有機化合物であるとを問わないが、例えば、炭化水素
類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、アミノ酸
類、カルボン酸類、ステロイド類等の有機化合物が挙げ
られ、ステロイド類が好ましい。その好適な具体例とし
ては、コレステロール等が挙げられる。環状フェノール
硫化物とテンプレートからなる複合体を形成は、溶媒中
で行うことが好ましい。この複合体を形成する反応の際
に使用する溶媒は、環状フェノール硫化物が溶解する溶
媒であれば基本的には何を使用しても良く、ヘキサンや
ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、塩化メ
チレン、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化
水素類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ア
セトンやメチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチ
ル等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド塩基性溶媒類などの一般的な溶媒を使用する
ことができる。
【0018】有機溶媒に溶解させる環状フェノール硫化
物の濃度については、特に制限はないが、好ましくは1
mM以上の濃度が好ましく、更に好ましくは5mM以上
である。濃度の上限は特になく、用いる環状フェノール
硫化物が析出しない程度であればよい。また、テンプレ
ートの濃度については特に制限はない。テンプレート
は、必ずしも溶媒に溶解している必要はないが、テンプ
レートが溶解している場合は、包接化合物を比較的短い
時間で調製することが可能である。また、環状フェノー
ル硫化物およびテンプレートを接触させる際の温度下限
は、使用する溶媒が液体である温度より高ければ良い。
接触させる際の温度の上限は特に制限ないが、使用する
溶媒の沸点あるいは沸点以下の温度であれば良い。な
お、環状フェノール硫化物およびテンプレートを溶媒の
不存在下で接触させる場合は、テンプレートは液状であ
ることが好ましく、この場合の接触温度の下限は、使用
するテンプレートが液体である温度より高ければ良く、
接触温度の上限は特に制限ないが、使用するテンプレー
トの沸点あるいは沸点以下の温度であれば良い。
物の濃度については、特に制限はないが、好ましくは1
mM以上の濃度が好ましく、更に好ましくは5mM以上
である。濃度の上限は特になく、用いる環状フェノール
硫化物が析出しない程度であればよい。また、テンプレ
ートの濃度については特に制限はない。テンプレート
は、必ずしも溶媒に溶解している必要はないが、テンプ
レートが溶解している場合は、包接化合物を比較的短い
時間で調製することが可能である。また、環状フェノー
ル硫化物およびテンプレートを接触させる際の温度下限
は、使用する溶媒が液体である温度より高ければ良い。
接触させる際の温度の上限は特に制限ないが、使用する
溶媒の沸点あるいは沸点以下の温度であれば良い。な
お、環状フェノール硫化物およびテンプレートを溶媒の
不存在下で接触させる場合は、テンプレートは液状であ
ることが好ましく、この場合の接触温度の下限は、使用
するテンプレートが液体である温度より高ければ良く、
接触温度の上限は特に制限ないが、使用するテンプレー
トの沸点あるいは沸点以下の温度であれば良い。
【0019】接触させる際に使用する環状フェノール硫
化物とテンプレートの使用量は、モル比で1:1000
〜10:1が好ましく、1:100〜2:0.5が特に
好ましい。環状フェノール硫化物とテンプレートを接触
させる方法としては、それぞれの分子が接触すればどん
な方法を用いても良く、例えば、単純に溶媒中で接触さ
せる方法、撹拌する方法、再結晶法などにより析出させ
る方法、使用する溶媒を留去する方法等が挙げられる。
また、テンプレートが包接化合物を調製させる条件温度
で液体であるものについては、テンプレートそのものに
環状フェノール硫化物を溶解させても良い。この場合
の、反応温度や環状フェノール硫化物の溶解量等の条
件、包接化合物の調製方法等は、溶媒を使用した場合と
同様である。本発明の製造方法における環状フェノール
硫化物とテンプレートの存在比率は、包接化合物を調製
する条件、テンプレートの種類によって異なるが、テン
プレート分子に対して環状フェノール硫化物が同モル以
上含まれていればよい。このように調製した、環状フェ
ノール硫化物−テンプレート混合液にシラン化合物及び
溶媒類を添加し、ゾル−ゲル溶液を調整する。使用する
シラン化合物としては、アルコキシシラン化合物および
アルキルアルコキシシラン化合物等が挙げられる。
化物とテンプレートの使用量は、モル比で1:1000
〜10:1が好ましく、1:100〜2:0.5が特に
好ましい。環状フェノール硫化物とテンプレートを接触
させる方法としては、それぞれの分子が接触すればどん
な方法を用いても良く、例えば、単純に溶媒中で接触さ
せる方法、撹拌する方法、再結晶法などにより析出させ
る方法、使用する溶媒を留去する方法等が挙げられる。
また、テンプレートが包接化合物を調製させる条件温度
で液体であるものについては、テンプレートそのものに
環状フェノール硫化物を溶解させても良い。この場合
の、反応温度や環状フェノール硫化物の溶解量等の条
件、包接化合物の調製方法等は、溶媒を使用した場合と
同様である。本発明の製造方法における環状フェノール
硫化物とテンプレートの存在比率は、包接化合物を調製
する条件、テンプレートの種類によって異なるが、テン
プレート分子に対して環状フェノール硫化物が同モル以
上含まれていればよい。このように調製した、環状フェ
ノール硫化物−テンプレート混合液にシラン化合物及び
溶媒類を添加し、ゾル−ゲル溶液を調整する。使用する
シラン化合物としては、アルコキシシラン化合物および
アルキルアルコキシシラン化合物等が挙げられる。
【0020】アルコキシシラン化合物の好適な具体例と
しては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン
等のテトラアルコキシシラン化合物が挙げられ、アルキ
ルアルコキシシラン化合物の好適な具体例としては、エ
チルトリエトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシ
ラン化合物が挙げられる。シラン化合物は、1種又は2
種以上を組み合わせて用いることができる。シラン化合
物の使用量は、環状フェノール硫化物とテンプレートか
らなる複合体100質量部に対して100〜1000質
量部が好ましく、100〜500質量部が特に好まし
い。シラン化合物の添加は、分散媒に拡散させたシラン
化合物分散液の形態で添加することが好ましい。使用す
る分散媒としては、環状フェノール硫化物とテンプレー
トからなる複合体を調整する際に使用した溶媒をそのま
ま使用してもよいし、他の分散媒を使用してもよい。使
用する分散媒としては、ヘキサンやヘプタン等の脂肪族
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジ
クロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、メタノー
ル、エタノール等のアルコール類、アセトンやメチルエ
チルケトンなどのケトン類、酢酸エチル等のエステル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド塩基
性溶媒類などの一般的な分散媒を使用することができ
る。シラン化合物分散液におけるシラン化合物の濃度
は、10〜80質量%が好ましく、20〜70質量%が
特に好ましい。
しては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン
等のテトラアルコキシシラン化合物が挙げられ、アルキ
ルアルコキシシラン化合物の好適な具体例としては、エ
チルトリエトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシ
ラン化合物が挙げられる。シラン化合物は、1種又は2
種以上を組み合わせて用いることができる。シラン化合
物の使用量は、環状フェノール硫化物とテンプレートか
らなる複合体100質量部に対して100〜1000質
量部が好ましく、100〜500質量部が特に好まし
い。シラン化合物の添加は、分散媒に拡散させたシラン
化合物分散液の形態で添加することが好ましい。使用す
る分散媒としては、環状フェノール硫化物とテンプレー
トからなる複合体を調整する際に使用した溶媒をそのま
ま使用してもよいし、他の分散媒を使用してもよい。使
用する分散媒としては、ヘキサンやヘプタン等の脂肪族
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジ
クロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、メタノー
ル、エタノール等のアルコール類、アセトンやメチルエ
チルケトンなどのケトン類、酢酸エチル等のエステル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド塩基
性溶媒類などの一般的な分散媒を使用することができ
る。シラン化合物分散液におけるシラン化合物の濃度
は、10〜80質量%が好ましく、20〜70質量%が
特に好ましい。
【0021】また、ゾル−ゲル溶液を調製する際には、
無機酸を添加するのが好ましい。無機酸の好適な具体例
としては、塩酸、硝酸などが挙げられ、また、その濃度
は0.05〜2Mであればよい。また、添加量は、反応
に応じて変化するが、一般的には、溶液の1/100〜
1/50程度の容量であればよい。ゾル−ゲル溶液を加
熱してキセロゲルを形成する際の温度は、240℃以上
であればよい。240℃以上の温度での加熱時間は、
0.5〜3時間が好ましく、特に0.5〜2時間が好ま
しい。キセロゲルを溶媒で洗浄しテンプレートを取り除
く際に使用する溶媒は、テンプレートが溶解するもので
あれば良く、ヘキサンやヘプタン等の脂肪族炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエ
タンなどのハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノ
ール等のアルコール類、アセトンやメチルエチルケトン
などのケトン類、酢酸エチル等のエステル類、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド塩基性溶媒類など
の一般的な溶媒を使用することができる。
無機酸を添加するのが好ましい。無機酸の好適な具体例
としては、塩酸、硝酸などが挙げられ、また、その濃度
は0.05〜2Mであればよい。また、添加量は、反応
に応じて変化するが、一般的には、溶液の1/100〜
1/50程度の容量であればよい。ゾル−ゲル溶液を加
熱してキセロゲルを形成する際の温度は、240℃以上
であればよい。240℃以上の温度での加熱時間は、
0.5〜3時間が好ましく、特に0.5〜2時間が好ま
しい。キセロゲルを溶媒で洗浄しテンプレートを取り除
く際に使用する溶媒は、テンプレートが溶解するもので
あれば良く、ヘキサンやヘプタン等の脂肪族炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエ
タンなどのハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノ
ール等のアルコール類、アセトンやメチルエチルケトン
などのケトン類、酢酸エチル等のエステル類、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド塩基性溶媒類など
の一般的な溶媒を使用することができる。
【0022】キセロゲルの洗浄に使用する溶媒の使用量
は、特に制限ないが、キセロゲル100質量部に対して
300〜10000質量部が好ましく、500〜500
0質量部が特に好ましい。洗浄温度は、特に制限ない
が、室温から使用する溶媒の沸点以下であればよい。洗
浄時間は、特に制限ないが、通常2〜36時間が好まし
く、5〜20時間が特に好ましい。キセロゲルを洗浄す
る際は、洗浄の効率を向上するために、キセロゲルを粉
砕した後、洗浄しても良い。キセロゲルを粉砕する大き
さについては、使用する際に使いやすい大きさに粉砕す
ればよいが、10〜80μmの範囲に粉砕すれば、カラ
ム等に充填する際のハンドリングがよい。洗浄方法は、
種々の方法が適用できるが、フラスコ等容器に入れられ
たキセロゲルと洗浄溶媒の混合物を撹拌し、その後キセ
ロゲルを分別する方法が好適に挙げられる。
は、特に制限ないが、キセロゲル100質量部に対して
300〜10000質量部が好ましく、500〜500
0質量部が特に好ましい。洗浄温度は、特に制限ない
が、室温から使用する溶媒の沸点以下であればよい。洗
浄時間は、特に制限ないが、通常2〜36時間が好まし
く、5〜20時間が特に好ましい。キセロゲルを洗浄す
る際は、洗浄の効率を向上するために、キセロゲルを粉
砕した後、洗浄しても良い。キセロゲルを粉砕する大き
さについては、使用する際に使いやすい大きさに粉砕す
ればよいが、10〜80μmの範囲に粉砕すれば、カラ
ム等に充填する際のハンドリングがよい。洗浄方法は、
種々の方法が適用できるが、フラスコ等容器に入れられ
たキセロゲルと洗浄溶媒の混合物を撹拌し、その後キセ
ロゲルを分別する方法が好適に挙げられる。
【0023】以上のようにして、環状フェノール硫化物
修飾固相分離材料を調製することができる。本発明の製
造方法により、環状フェノール硫化物により形成される
テンプレートの鋳型をシリカゲル中に固定化することが
できると考えられる。また、キセロゲルを調製する際は
予めキャピラリーカラムなどにゾル−ゲル溶液を注入し
て、カラムに充填させた状態で加熱しても良い。この場
合のシラン化合物の濃度、シラン化合物を添加する際の
溶媒種は、上記のフラスコ等容器に入れて製造する際に
使用するものと同様なものを使用すればよい。また、こ
の場合の昇温は、いきなり240℃以上に昇温するので
はなく、徐々に温度を上昇させるのが好ましい。昇温速
度は、10〜250℃の間は0.5〜5℃/分が好まし
く、1〜3℃/分が特に好ましい。
修飾固相分離材料を調製することができる。本発明の製
造方法により、環状フェノール硫化物により形成される
テンプレートの鋳型をシリカゲル中に固定化することが
できると考えられる。また、キセロゲルを調製する際は
予めキャピラリーカラムなどにゾル−ゲル溶液を注入し
て、カラムに充填させた状態で加熱しても良い。この場
合のシラン化合物の濃度、シラン化合物を添加する際の
溶媒種は、上記のフラスコ等容器に入れて製造する際に
使用するものと同様なものを使用すればよい。また、こ
の場合の昇温は、いきなり240℃以上に昇温するので
はなく、徐々に温度を上昇させるのが好ましい。昇温速
度は、10〜250℃の間は0.5〜5℃/分が好まし
く、1〜3℃/分が特に好ましい。
【0024】本発明に係る環状フェノール硫化物修飾固
相分離材料を、クロマトグラフ用固定相として使用する
場合、クロマトグラフとしては種々のクロマトグラフが
挙げられるが、例えばガスクロマトグラフ(GC)、液
体クロマトグラフ、高速液体クロマトグラフ(HPL
C)などが挙げられる。固定相として使用する際は、そ
のまま分離する化合物と接触させて用いても良いし、ま
たオープンカラムなどに充填して使用しても良い。ガス
クロマトグラフィーのキャピラリーカラム、パックドカ
ラム、高速液体クロマトグラフィーのカラムに充填して
使用しても良い。また、ガラスの基板上に焼き付けて薄
層クロマトグラフィーとして使用しても良い。また、分
離対象はテンプレートと同一の物質であっても良いし、
他の類似の物質であっても良い。
相分離材料を、クロマトグラフ用固定相として使用する
場合、クロマトグラフとしては種々のクロマトグラフが
挙げられるが、例えばガスクロマトグラフ(GC)、液
体クロマトグラフ、高速液体クロマトグラフ(HPL
C)などが挙げられる。固定相として使用する際は、そ
のまま分離する化合物と接触させて用いても良いし、ま
たオープンカラムなどに充填して使用しても良い。ガス
クロマトグラフィーのキャピラリーカラム、パックドカ
ラム、高速液体クロマトグラフィーのカラムに充填して
使用しても良い。また、ガラスの基板上に焼き付けて薄
層クロマトグラフィーとして使用しても良い。また、分
離対象はテンプレートと同一の物質であっても良いし、
他の類似の物質であっても良い。
【0025】
【実施例】 次に、本発明を製造例、実施例によりさら
に詳細に説明するが、本発明はこれらの例示によってな
んら制約されるものではない。 (製造例1)5,11,17,23−テトラ−tert
−ブチル−25,26,27,28−テトラヒドロキシ
−2,8,14,20−テトラチア[1.9.3.1.
13 ,719,13115,19]オクタコサ−1(2
5),3,5,7(28),9,11,13(27),
15,17,19(26),21,23−ドデカエン
(一般式(1)中XがH、Yがtert−ブチル基、Z
がS、n=4であるもの。)の合成。ガラス製フラスコ
中、4−t e r t-プチルフェノール45.2gに、単体
硫黄14.4g及び水酸化ナトリウム3.0gとテトラ
エチレングリコールジメチルエーテル7.60gを加
え、窒素雰囲気下攪拌しながら、4時間かけて徐々に2
30℃に加熱し、さらに2時間攪拌した。この間、反応
で生成する水及び硫化水素は除去した。この反応混合物
を室温まで冷却し、エーテル500mlを加え溶解させ
た後、1規定の硫酸水溶液で加水分解した。分液したエ
ーテル層を水洗し硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテ
ルを留去した後に得られる反応混合物を、さらにシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/クロロホル
ム)により分割し、粗生成物を得、これをクロロホルム
/アセトンから再結晶することにより、無色透明の結晶
である5,11,17,23−テトラ−tert−ブチ
ル−25,26,27,28−テトラヒドロキシ−2,
8,14,20−テトラチア[1.9.3.1.1
3,719,13115,19]オクタコサ−1(2
5),3,5,7(28),9,11,13(27),
15,17,19(26),21,23−ドデカエン2
6.5gを得た(収率45%)。
に詳細に説明するが、本発明はこれらの例示によってな
んら制約されるものではない。 (製造例1)5,11,17,23−テトラ−tert
−ブチル−25,26,27,28−テトラヒドロキシ
−2,8,14,20−テトラチア[1.9.3.1.
13 ,719,13115,19]オクタコサ−1(2
5),3,5,7(28),9,11,13(27),
15,17,19(26),21,23−ドデカエン
(一般式(1)中XがH、Yがtert−ブチル基、Z
がS、n=4であるもの。)の合成。ガラス製フラスコ
中、4−t e r t-プチルフェノール45.2gに、単体
硫黄14.4g及び水酸化ナトリウム3.0gとテトラ
エチレングリコールジメチルエーテル7.60gを加
え、窒素雰囲気下攪拌しながら、4時間かけて徐々に2
30℃に加熱し、さらに2時間攪拌した。この間、反応
で生成する水及び硫化水素は除去した。この反応混合物
を室温まで冷却し、エーテル500mlを加え溶解させ
た後、1規定の硫酸水溶液で加水分解した。分液したエ
ーテル層を水洗し硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテ
ルを留去した後に得られる反応混合物を、さらにシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/クロロホル
ム)により分割し、粗生成物を得、これをクロロホルム
/アセトンから再結晶することにより、無色透明の結晶
である5,11,17,23−テトラ−tert−ブチ
ル−25,26,27,28−テトラヒドロキシ−2,
8,14,20−テトラチア[1.9.3.1.1
3,719,13115,19]オクタコサ−1(2
5),3,5,7(28),9,11,13(27),
15,17,19(26),21,23−ドデカエン2
6.5gを得た(収率45%)。
【0026】(実施例1)製造例1で得られた環状フェ
ノール硫化物(一般式(1)において、XがH、Yがt
ert−ブチル基、ZがS、n = 4であるもの)72m
g(1.0×10− 4mol)を10mlのジメチルホル
ムアミドに溶解し、コレステロール19.3mg(5.
0×10−5mol)と混合した。別の容器にテトラメ
トキシシラン1mlとエチルトリエトキシシラン0.3
mlを混合し、先に混合した環状フェノール硫化物とコ
レステロールのジメチルホルムアミド溶液1mlを加
え、さらにメタノール0.4ml、蒸留水0.5ml、
0.1M塩酸を0.04ml加え、ゾル−ゲル溶液を調
製した。この溶液をGC用オーブンで徐々に250℃ま
で昇温し、250℃で1時間加熱してキセロゲルを形成
させた。形成したキセロゲルを20〜60μmに粉砕
し、エタノール100mlを用い、12時間撹拌洗浄す
ることによりコレステロールを洗い出した。洗浄後、キ
セロゲルをろ過し、さらにエタノール50mlで充分に
洗浄し、真空乾燥させた。
ノール硫化物(一般式(1)において、XがH、Yがt
ert−ブチル基、ZがS、n = 4であるもの)72m
g(1.0×10− 4mol)を10mlのジメチルホル
ムアミドに溶解し、コレステロール19.3mg(5.
0×10−5mol)と混合した。別の容器にテトラメ
トキシシラン1mlとエチルトリエトキシシラン0.3
mlを混合し、先に混合した環状フェノール硫化物とコ
レステロールのジメチルホルムアミド溶液1mlを加
え、さらにメタノール0.4ml、蒸留水0.5ml、
0.1M塩酸を0.04ml加え、ゾル−ゲル溶液を調
製した。この溶液をGC用オーブンで徐々に250℃ま
で昇温し、250℃で1時間加熱してキセロゲルを形成
させた。形成したキセロゲルを20〜60μmに粉砕
し、エタノール100mlを用い、12時間撹拌洗浄す
ることによりコレステロールを洗い出した。洗浄後、キ
セロゲルをろ過し、さらにエタノール50mlで充分に
洗浄し、真空乾燥させた。
【0027】(実施例2)実施例1と同様にゾル−ゲル
溶液を調製し、キャピラリー中にゾル−ゲル容液を吸引
し、昇温加熱することによってモノリスカラムを調製し
た。この際、昇温速度及び加熱時間は、以下のように行
った。室温から80℃まで毎分1℃で昇温、80℃で5
時間保った。その後、80℃から105℃まで毎分1℃
で昇温し、105℃で2時間保った。さらに、105℃
から160℃まで毎分2℃で昇温し、160℃で2時間
保ち、160℃から200℃まで毎分2℃で昇温し、2
00℃で2時間保った後、200℃から250℃まで毎
分1℃で昇温後、250℃で1時間加熱した。その後、
250℃から80℃まで毎分1℃で降温後、80℃で一
昼夜放置した。このようにして調製したモノリスカラム
をマイクロHPLCシステムに接続したのち、エタノー
ルをカラム内に流し、コレステロールを流出した。コレ
ステロールの流出は紫外可視吸光度検出器(254n
m)でモニタリングすることにより確認し、ベースライ
ンが一定になったところで洗浄を停止した。その後、エ
タノールを移動相に置換した。
溶液を調製し、キャピラリー中にゾル−ゲル容液を吸引
し、昇温加熱することによってモノリスカラムを調製し
た。この際、昇温速度及び加熱時間は、以下のように行
った。室温から80℃まで毎分1℃で昇温、80℃で5
時間保った。その後、80℃から105℃まで毎分1℃
で昇温し、105℃で2時間保った。さらに、105℃
から160℃まで毎分2℃で昇温し、160℃で2時間
保ち、160℃から200℃まで毎分2℃で昇温し、2
00℃で2時間保った後、200℃から250℃まで毎
分1℃で昇温後、250℃で1時間加熱した。その後、
250℃から80℃まで毎分1℃で降温後、80℃で一
昼夜放置した。このようにして調製したモノリスカラム
をマイクロHPLCシステムに接続したのち、エタノー
ルをカラム内に流し、コレステロールを流出した。コレ
ステロールの流出は紫外可視吸光度検出器(254n
m)でモニタリングすることにより確認し、ベースライ
ンが一定になったところで洗浄を停止した。その後、エ
タノールを移動相に置換した。
【0028】(実施例3)100mlの振とう管に、コ
レステロール100mg(2.6×10−4mol)をエ
タノール−THF(テトラヒドロフラン)(1:1(質
量比))混合溶液30mlに溶解させた溶液と実施例1
で製造した環状フェノール硫化物修飾固相1gを入れ、
1時間室温で振とうした。振とう後、環状フェノール硫
化物修飾固相をろ別し、エタノール−THF(1:1
(質量比))混合溶液10mlで洗浄、乾燥後、そのI
Rスペクトルを測定した。コレステロールのエタノール
−THF溶液に接触させる前後の環状フェノール硫化物
修飾固相のIRスペクトルを比較したところ、接触後は
1650cm−1にコレステロール由来のピークが観測
され、環状フェノール硫化物修飾固相にコレステロール
が吸着されたことが確認された。また、母液についてH
PLC測定を実施したところ、母液中にはコレステロー
ルに相当するピークは見られず、全てのコレステロール
が、環状フェノール硫化物修飾固相に吸着したことを確
認した。
レステロール100mg(2.6×10−4mol)をエ
タノール−THF(テトラヒドロフラン)(1:1(質
量比))混合溶液30mlに溶解させた溶液と実施例1
で製造した環状フェノール硫化物修飾固相1gを入れ、
1時間室温で振とうした。振とう後、環状フェノール硫
化物修飾固相をろ別し、エタノール−THF(1:1
(質量比))混合溶液10mlで洗浄、乾燥後、そのI
Rスペクトルを測定した。コレステロールのエタノール
−THF溶液に接触させる前後の環状フェノール硫化物
修飾固相のIRスペクトルを比較したところ、接触後は
1650cm−1にコレステロール由来のピークが観測
され、環状フェノール硫化物修飾固相にコレステロール
が吸着されたことが確認された。また、母液についてH
PLC測定を実施したところ、母液中にはコレステロー
ルに相当するピークは見られず、全てのコレステロール
が、環状フェノール硫化物修飾固相に吸着したことを確
認した。
【0029】(実施例4)実施例2で製造した環状フェ
ノール硫化物修飾固相を充填したカラムを用い、HPL
C法により、コレステロールの保持係数を測定したとこ
ろ、2.38であることが分かった。一方、同じ環状フ
ェノール硫化物修飾固相を充填したカラムにおいて、類
似の構造を有する塩化コレステリールの保持係数は1.
28であり、ステロイド骨格を有するものの構造が異な
るコルチゾンでは保持が認められなかった。測定条件は
以下の通りである。 [測定条件] 移動相流量 :0.3ml/min UV検出波長:225nm 移動相 :水/アセトニトリル: 75/25(容量
比) カラム温度 :35℃ 試料濃度 :1mg/ml
ノール硫化物修飾固相を充填したカラムを用い、HPL
C法により、コレステロールの保持係数を測定したとこ
ろ、2.38であることが分かった。一方、同じ環状フ
ェノール硫化物修飾固相を充填したカラムにおいて、類
似の構造を有する塩化コレステリールの保持係数は1.
28であり、ステロイド骨格を有するものの構造が異な
るコルチゾンでは保持が認められなかった。測定条件は
以下の通りである。 [測定条件] 移動相流量 :0.3ml/min UV検出波長:225nm 移動相 :水/アセトニトリル: 75/25(容量
比) カラム温度 :35℃ 試料濃度 :1mg/ml
【0030】
【発明の効果】本発明の環状フェノール硫化物修飾固相
分離材料を用いれば、種々の官能基を有する化合物を特
異的に分離・分析を行うことができる。
分離材料を用いれば、種々の官能基を有する化合物を特
異的に分離・分析を行うことができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 青山 奈央 東京都昭島市緑町5−8−21 (72)発明者 宮成 節子 埼玉県幸手市権現堂1134−2 株式会社コ スモ総合研究所研究開発センター内 (72)発明者 竹矢 晴彦 埼玉県幸手市権現堂1134−2 株式会社コ スモ総合研究所研究開発センター内 Fターム(参考) 4G066 AA22C AD01A AD01B AD06A AD06B AD13A AD13B AD15A AD15B CA56 DA07 EA13 FA07 FA21
Claims (3)
- 【請求項1】一般式(1) 【化1】 (式(1)中、Xは水素原子、炭化水素基、アシル基、
カルボキシアルキル基又はカルバモイルアルキル基であ
り、Yは水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素
基、ハロゲン原子、アシル基、水酸基、カルボキシル
基、アミド基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、スルホ
ン酸基、クロロスルホン酸基、又はアルコキシスルホニ
ルオキシ基であり、Zはスルフィド基、スルフィニル
基、又はスルホニル基であり、nは4〜8の整数であ
り、複数のX、Y及びZはそれぞれ同一であっても異な
っていてもよい)で表される環状フェノール硫化物とテ
ンプレートからなる複合体を、ゾル−ゲル法によりシリ
カゲル中に固定化した後、テンプレートを除去すること
を特徴とする環状フェノール硫化物修飾固相分離材料の
製造方法。 - 【請求項2】テンプレートがステロイド類である請求項
1記載の環状フェノール硫化物修飾固相分離材料の製造
方法。 - 【請求項3】請求項1または2記載の環状フェノール硫
化物修飾固相分離材料からなることを特徴とするクロマ
トグラフ用固定相。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000315385A JP2002122578A (ja) | 2000-10-16 | 2000-10-16 | 環状フェノール硫化物担持固相分離材料の製造方法及びクロマトグラフ用固定相 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000315385A JP2002122578A (ja) | 2000-10-16 | 2000-10-16 | 環状フェノール硫化物担持固相分離材料の製造方法及びクロマトグラフ用固定相 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002122578A true JP2002122578A (ja) | 2002-04-26 |
Family
ID=18794498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000315385A Pending JP2002122578A (ja) | 2000-10-16 | 2000-10-16 | 環状フェノール硫化物担持固相分離材料の製造方法及びクロマトグラフ用固定相 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002122578A (ja) |
-
2000
- 2000-10-16 JP JP2000315385A patent/JP2002122578A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Momotko et al. | A natural deep eutectic solvent-protonated L-proline-xylitol-based stationary phase for gas chromatography | |
| EP2853892B1 (en) | Separating agent | |
| CN101245121A (zh) | 磺胺甲恶唑分子印迹聚合物的制备方法 | |
| CN105312039A (zh) | 一种β-环糊精功能化手性固定相及其制备和应用 | |
| Feng et al. | Preparation and characterization of an L-tyrosine-derivatized β-cyclodextrin-bonded silica stationary phase for liquid chromatography | |
| CN110627693A (zh) | 一种烯丙基砜类化合物及其制备方法与应用 | |
| CN110283078A (zh) | 一种多取代的1,4二烯烃类化合物及其制备方法 | |
| CN101417227B (zh) | 硅胶键合双手性活性中心色谱填料及其应用 | |
| EP3673989B1 (en) | Ligand-immobilizing carrier, chromatography column, and target substance purification method | |
| WO2007105668A1 (ja) | イオン性液体で被覆された固定化ルイス酸触媒、及びその使用 | |
| CN102059105B (zh) | 一种类寡肽手性固定相及其制备方法 | |
| JP2002122578A (ja) | 環状フェノール硫化物担持固相分離材料の製造方法及びクロマトグラフ用固定相 | |
| CN102160994A (zh) | 一种硅胶键合刷型手性固定相、合成方法与应用 | |
| CN103664887B (zh) | 埃索美拉唑钠的制备方法 | |
| US6379552B1 (en) | Method for resolving optical isomers | |
| CN113200856B (zh) | 一种三氟甲基丙烯基类化合物及其制备方法与应用 | |
| US7875752B2 (en) | Recovery method for catalysts, reagents and co-products | |
| CN104502470A (zh) | 一种利用柱前衍生高效液相色谱法拆分r/s-3-奎宁环醇的方法 | |
| CN104513281B (zh) | 混合溶剂重结晶高效制备高纯度正辛基二茂铁的方法 | |
| CN111250069B (zh) | 硅胶色谱填料及其制备方法和应用 | |
| CN105073257A (zh) | 催化剂、和光学活性反式-1,2-硝基链烷醇化合物的制造方法 | |
| JP2019182971A (ja) | キラル固定相 | |
| CN108430626B (zh) | 催化剂、及其制备方法和光学活性反式-1,2-硝基链烷醇化合物的制备方法 | |
| JP6982262B2 (ja) | 精製方法 | |
| CN105622669B (zh) | Pd催化Suzuki偶联反应合成α‑炔基乙烯基膦酸酯的方法 |