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JP2002116376A - Floodlight, photographing device and observing device - Google Patents

Floodlight, photographing device and observing device

Info

Publication number
JP2002116376A
JP2002116376A JP2001226271A JP2001226271A JP2002116376A JP 2002116376 A JP2002116376 A JP 2002116376A JP 2001226271 A JP2001226271 A JP 2001226271A JP 2001226271 A JP2001226271 A JP 2001226271A JP 2002116376 A JP2002116376 A JP 2002116376A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
projection
pattern
projection system
light
pattern image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001226271A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yusuke Omura
祐介 大村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2001226271A priority Critical patent/JP2002116376A/en
Publication of JP2002116376A publication Critical patent/JP2002116376A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Focusing (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 焦点検出領域の拡大化の要求に伴い、良好な
結像状態を維持しつつパターン像の投影範囲を拡大しな
くてはならない。 【解決手段】 撮影系若しくは観察系の焦点状態を位相
差方式で検出するために被写体にパターン像を投影する
投光装置において、第1の方向に伸びる第1のパターン
4−Aを、被写体上の中央焦点検出領域を含み該第1の
方向に並んだ複数の位置に投影する第1の投影系Aと、
第2の方向に伸びる第2のパターン4−Bを、被写体上
の中央焦点検出領域を含み該第2の方向に並んだ複数の
位置に投影する第2の投影系Bとを設ける。
(57) [Summary] With the demand for enlargement of the focus detection area, the projection range of the pattern image must be enlarged while maintaining a good imaging state. SOLUTION: In a light projecting device that projects a pattern image on a subject in order to detect a focus state of a photographing system or an observation system by a phase difference method, a first pattern 4-A extending in a first direction is formed on the subject. A first projection system A that projects at a plurality of positions aligned in the first direction, including a central focus detection area of
A second projection system B for projecting the second pattern 4-B extending in the second direction to a plurality of positions in the second direction including the central focus detection area on the subject is provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、撮影系若しくは観
察系の焦点状態を検出するために被写体にパターン像を
投影する投光装置およびこれを用いた撮影装置や観察装
置に関し、特に被写体に投影したパターン像の反射受光
像から撮影光学系若しくは観察光学系の焦点状態を位相
差方式により検出する装置に好適な投光装置に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light projecting device for projecting a pattern image on a subject in order to detect a focus state of a photographing system or an observing system, and a photographing device and an observing device using the same. The present invention relates to a light projecting device suitable for a device for detecting a focus state of a photographing optical system or an observation optical system from a reflected light reception image of a pattern image by a phase difference method.

【0002】[0002]

【従来の技術】カメラ、シネカメラ、ビデオカメラ等の
光学機器のうちTTL方式のものは、被写体が低輝度で
あったり被写体のコントラストが低かったりする場合
に、カメラ本体やストロボ装置に内蔵された照明(投
光)装置により被写体を照明したり、照明装置に投影レ
ンズと一定模様の投光パターンを組み込んで被写体上に
パターン像を投影し、コントラストを与えて焦点検出を
行なったりするものがある。
2. Description of the Related Art Among optical devices such as cameras, cine cameras and video cameras, TTL type optical devices have a built-in illumination built into a camera body or a strobe device when the brightness of the subject is low or the contrast of the subject is low. (Light projection) There are devices that illuminate a subject with a device, or project a pattern image onto a subject by incorporating a projection lens and a fixed light projection pattern into an illumination device, and perform focus detection by giving contrast.

【0003】図12には、被写体にパターン像を投影す
るタイプの投光装置における投影系の構成を示してい
る。同図において、104は光源であり、例えばLED
より構成されている。103は投光パターン(マスク)
であり、例えば図13に示すように複数の直線状の帯か
らなる遮光部103aと透過部103bとを有してい
る。102は投影レンズである。
FIG. 12 shows the configuration of a projection system in a light projection device of the type which projects a pattern image on a subject. In the figure, reference numeral 104 denotes a light source, for example, an LED
It is composed of 103 is a light projection pattern (mask)
For example, as shown in FIG. 13, a light-shielding portion 103a and a transmissive portion 103b formed of a plurality of linear bands are provided. 102 is a projection lens.

【0004】図12において、光源104からの光のう
ち投光パターン103の透過部103bを透過した光
は、投影レンズ102を通じて被写体側に照射される。
これにより、被写体には投光パターン103に対応した
パターン像が投影される。そして、このパターン像の反
射像を位相差方式の焦点検出系(不図示)によって受光
検出し、撮影系の焦点検出を行なう。
In FIG. 12, of the light from the light source 104, the light transmitted through the transmitting portion 103b of the light projecting pattern 103 is applied to the subject side through the projection lens 102.
Thereby, a pattern image corresponding to the light projection pattern 103 is projected on the subject. Then, the reflected image of the pattern image is received and detected by a phase difference type focus detection system (not shown), and the focus of the imaging system is detected.

【0005】図14には、被写体にパターン像を投影し
たときの投光光の照射(照明)範囲および投影パターン
像を示している。同図において、点線部121内が照明
範囲であり、斜線部122で示す範囲がパターン像であ
る。
FIG. 14 shows an irradiation (illumination) range of projected light and a projected pattern image when a pattern image is projected on a subject. In the figure, the inside of a dotted line portion 121 is an illumination range, and the range indicated by a hatched portion 122 is a pattern image.

【0006】このような投光装置は、多くの場合、それ
が取り付けられる撮影装置の焦点検出範囲が撮影画面の
中心(撮影レンズの光軸中心)に位置しており、投光光
もパララックスの補正等を別とすれば被写体側の中心の
みを照明している。
In such a light projecting device, the focus detection range of the photographing device to which the light projecting device is attached is often located at the center of the photographing screen (the center of the optical axis of the photographing lens), and the projected light is also parallax Aside from the correction of the above, only the center on the object side is illuminated.

【0007】一方、近年では被写体上の複数点の焦点検
出を行う撮影装置が提案されている。このような場合に
も、上述の一定模様のパターン像を被写体側へ投影し、
被写体からの反射パターン像を検出することにより焦点
検出を行うことは、当然のことながら有効である。ま
た、撮影画面内の水平方向および垂直方向のうち一方向
だけに焦点検出領域が配置されるだけでなく、水平方向
および垂直方向の双方に焦点検出領域を配置し、画面中
央部にて2方向の焦点検出領域が交差したものが提案さ
れている。これは、被写体のコントラスト方向に限定さ
れることなく良好な焦点検出結果を得るための工夫であ
る。
[0007] On the other hand, in recent years, there has been proposed an imaging device for detecting the focus of a plurality of points on a subject. Even in such a case, the above-described pattern image of the fixed pattern is projected on the subject side,
Performing focus detection by detecting a reflection pattern image from a subject is, of course, effective. In addition, not only the focus detection area is arranged in only one of the horizontal direction and the vertical direction in the shooting screen, but also the focus detection areas are arranged in both the horizontal direction and the vertical direction, and two directions are provided at the center of the screen. Have crossed focus detection areas. This is a device for obtaining a good focus detection result without being limited to the contrast direction of the subject.

【0008】このように複数の焦点検出領域を有した
り、直交2方向に焦点検出領域を配置したりする撮影装
置に用いられる投光装置では、従来の方式の投影系によ
って上記複数の焦点検出領域に対して同時にパターン像
を投影するのは困難である。
In a light projecting device used in a photographing apparatus having a plurality of focus detection areas or arranging focus detection areas in two orthogonal directions as described above, the plurality of focus detection areas are formed by a conventional projection system. It is difficult to project a pattern image onto an area at the same time.

【0009】複数点に同時にパターン像を投影するため
には、あらかじめ大きなパターン像を作成してこれを広
範囲に結像させるか、あるいは非常に微細な模様のパタ
ーン像をきわめて短い焦点距離を有する広画角の投影レ
ンズにより広範囲に結像させることが必要となる。
In order to simultaneously project a pattern image on a plurality of points, a large pattern image is created in advance and formed in a wide area, or a very fine pattern image having a very short focal length is formed. It is necessary to form an image over a wide range using a projection lens having an angle of view.

【0010】しかし、いずれの場合にも被写体上にパタ
ーン像を良好に結像させるためには、広い画角にわたっ
て投影レンズの収差を良好に補正しなければならないた
め、コンパクトな構成でこれを実現することはかなり困
難である。またこの他にも、上述の大きなパターン像を
作成する方式では、この大きなパターン像を照明する光
源を大きくする必要が生じ、コンパクトな構成とするこ
とができないという問題もある。
However, in any case, in order to form a pattern image on a subject in a satisfactory manner, it is necessary to satisfactorily correct the aberration of the projection lens over a wide angle of view. It is quite difficult to do. In addition, in the above-described method of creating a large pattern image, it is necessary to increase the size of a light source for illuminating the large pattern image, and there is a problem that a compact configuration cannot be achieved.

【0011】さらに、上述のようにきわめて焦点距離の
短い投影レンズにより広範囲にパターン像を結像させる
方式では、投影レンズの開口を大きくすることが困難と
なり、照明光の到達距離を十分に大きくすることができ
ないという問題と、非常に微細なパターン像を作成する
ことが困難という問題もある。
Further, in the method of forming a pattern image over a wide area by the projection lens having an extremely short focal length as described above, it is difficult to increase the aperture of the projection lens, and the illumination light reaches a sufficiently long distance. In addition, there is a problem that it is impossible to perform the process, and a problem that it is difficult to form a very fine pattern image.

【0012】これらの問題を解決するため、上述の大き
なパターン像を作成する方式の照明用光源を複数とした
ものが、特開昭63−47710号公報にて提案されて
いる。しかしながら、このような構成では、上述の投影
レンズの収差補正の問題は解決できない。
In order to solve these problems, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-47710 proposes a method in which a plurality of illumination light sources of the above-described type for producing a large pattern image are used. However, such a configuration cannot solve the above-described problem of aberration correction of the projection lens.

【0013】また、本出願人は、この点に鑑み、特開平
2−101413号公報において、パターン像を投影す
る投影レンズとして、パターン像の縞長手方向に長く、
その垂直方向に短い開口形状を有する複数のレンズを用
いた焦点検出用の投光系を提案している。
In view of this point, the present applicant has disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-101413 that a projection lens for projecting a pattern image is long in the longitudinal direction of the stripe of the pattern image.
A light projection system for focus detection using a plurality of lenses having a vertically short aperture shape has been proposed.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】このように投光装置に
おいても、撮影装置側の焦点検出領域の拡大化の要求に
伴い、パターン像の投影範囲を拡大しなくてはならな
い。また、撮影画面の中心部において2方向の焦点検出
領域が交差している場合に有効なパターン像の投影方式
については提案がなされていない。
As described above, even in the light projecting device, the projection range of the pattern image must be enlarged in accordance with the demand for enlargement of the focus detection area on the photographing device side. Further, no proposal has been made on a method of projecting a pattern image that is effective when the focus detection areas in two directions intersect at the center of the shooting screen.

【0015】そこで、本発明は、特に撮影装置(又は観
察装置)が2方向の交差する焦点検出領域を備えている
場合に、交差部および交差部以外の焦点検出領域いずれ
に対しても良好にパターン像を投影可能な投光装置を提
供することを目的としている。
Therefore, the present invention is suitable for both the intersection and the focus detection area other than the intersection, particularly when the photographing apparatus (or the observation apparatus) has a focus detection area intersecting in two directions. It is an object of the present invention to provide a light projecting device capable of projecting a pattern image.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明では、撮影系若しくは観察系の焦点状態を
位相差方式で検出するために被写体にパターン像を投影
する投光装置において、第1の方向に伸びる第1のパタ
ーンを、被写体上の中央焦点検出領域を含み該第1の方
向に並んだ複数の位置に投影する第1の投影系と、第2
の方向に伸びる第2のパターンを、被写体上の中央焦点
検出領域を含み該第2の方向に並んだ複数の位置に投影
する第2の投影系とを設けている。
According to the present invention, there is provided a light projecting apparatus which projects a pattern image on a subject in order to detect a focus state of a photographing system or an observation system by a phase difference method. A first projection system for projecting a first pattern extending in a first direction onto a plurality of positions including a central focus detection area on a subject and arranged in the first direction;
And a second projection system for projecting the second pattern extending in the direction indicated by the arrow on a plurality of positions including the central focus detection area on the subject and arranged in the second direction.

【0017】これにより、少ない光源数およびコンパク
トな構成で、被写体の広い範囲に対してパターン像を良
好な結像状態を得ながら投影することが可能となり、特
に焦点検出領域が2方向に交差配置されている場合に、
交差部および交差部以外の焦点検出領域のいずれについ
ても良好な焦点検出結果を得ることを可能とする投光装
置を実現できる。
This makes it possible to project a pattern image over a wide range of a subject while obtaining a good image formation state with a small number of light sources and a compact configuration. In particular, the focus detection areas are arranged so as to intersect in two directions. If
It is possible to realize a light projecting device capable of obtaining a good focus detection result in both the intersection and the focus detection area other than the intersection.

【0018】なおこの場合、第1の投影系には第1の方
向に複数の投影光軸を有する投影光学素子を用い、第2
の投影系には第2の方向に複数の投影光軸を有する投影
光学素子を用いるのがよい。
In this case, the first projection system uses a projection optical element having a plurality of projection optical axes in the first direction,
It is preferable to use a projection optical element having a plurality of projection optical axes in the second direction.

【0019】また、第1および第2の投影系のうち一方
の投影系により投影されるパターン像の明るさと、他方
の投影系により投影されるパターン像の明るさとに差を
設けて、明るいパターン像側のコントラストを上げ、焦
点検出精度をより向上させるようにしてもよい。
Also, a difference is provided between the brightness of the pattern image projected by one of the first and second projection systems and the brightness of the pattern image projected by the other projection system, so that a bright pattern is obtained. The contrast on the image side may be increased to further improve the focus detection accuracy.

【0020】さらに、第1の投影系と前記第2の投影系
とをそれぞれ、同一特性を有する光源と、パターン像を
形成するため光源の前面に配置された同一のパターンマ
スクと、複数の投影光軸を有する同一特性の投影光学素
子とを有して構成し(すなわち、同一の投影ユニットと
して構成し)、第1の投影系と第2の投影系とを光軸方
向視において互いに90度異なる位相で配置するように
してもよい。このように同一の投影ユニットを2つ用い
ることにより、低コスト化を図ることが可能となる。
Further, each of the first projection system and the second projection system includes a light source having the same characteristics, an identical pattern mask disposed in front of the light source for forming a pattern image, and a plurality of projection systems. A projection optical element having the same characteristic having an optical axis (that is, configured as the same projection unit), and the first projection system and the second projection system are mutually 90 degrees in the optical axis direction. They may be arranged in different phases. By using two identical projection units in this manner, cost reduction can be achieved.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】(第1実施形態)図1および図2
には、本発明の第1実施形態である投光装置におけるパ
ターン像投影系の構成を示している。なお、図1は、光
軸直交方向から見た投影系の断面図であり、図2は光軸
方向(正面)から見た投影系の正面図である。
(First Embodiment) FIGS. 1 and 2
1 shows a configuration of a pattern image projection system in the light emitting device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a cross-sectional view of the projection system viewed from the direction orthogonal to the optical axis, and FIG. 2 is a front view of the projection system viewed from the direction of the optical axis (front).

【0022】また、本実施形態の投光装置は、カメラ等
の撮影装置や望遠鏡等の観察装置に搭載され(もしくは
搭載可能で)、撮影光学系や観察光学系の焦点状態を検
出するために使用される。そして、この投光装置によっ
て投影されたパターン像を用いて、撮影装置や観察装置
が備える焦点検出装置で焦点検出を行い、その結果は、
撮影装置や観察装置の制御回路に送られ、撮影光学系や
観察光学系の焦点調節制御に用いられる。
The light projecting device of the present embodiment is mounted on (or can be mounted on) a photographing device such as a camera or an observation device such as a telescope, and is used to detect the focus state of the photographing optical system or the observation optical system. used. Then, using the pattern image projected by the light projecting device, focus detection is performed by a focus detection device included in an imaging device or an observation device, and the result is
It is sent to the control circuit of the photographing device and the observation device, and is used for focus adjustment control of the photographing optical system and the observation optical system.

【0023】上記投影系は、第1投影系Aと第2投影系
Bとからなり、互いに独立した投影系となっている。
The projection system includes a first projection system A and a second projection system B, which are independent projection systems.

【0024】同図において、1−Aは第1投影系Aの光
源としてのLEDであり、その前面に水平方向(第1の
方向)に延びる第1のパターンとしての直線パターン電
極(パターンマスク)を有する。1−Bは第2投影系B
の光源としてのLEDであり、その前面に垂直方向(第
2の方向)に延びる第2のパターンとしての直線パター
ン電極(パターンマスク)を有する。
In FIG. 1, reference numeral 1-A denotes an LED as a light source of the first projection system A, and a linear pattern electrode (pattern mask) as a first pattern extending in the horizontal direction (first direction) on the front surface thereof. Having. 1-B is the second projection system B
And a linear pattern electrode (pattern mask) as a second pattern extending in the vertical direction (second direction) on the front surface of the LED.

【0025】2−Aは光源1−Aに対応する、第1投影
系Aの投影レンズ(投影光学素子)であり、2−Bは光
源1−Bに対応する、第2投影系Bの投影レンズ(投影
光学素子)である。
2-A is a projection lens (projection optical element) of the first projection system A corresponding to the light source 1-A, and 2-B is a projection lens of the second projection system B corresponding to the light source 1-B. It is a lens (projection optical element).

【0026】投影レンズ2−Aは、水平方向に長く、垂
直方向に短い開口形状を有し、図2において○印で示す
光軸を水平方向に一直線上に並ぶ形で4つ有して、LE
D1−Aからの光により形成されるパターン電極の像
(パターン像)を水平方向に4つ並ぶ形で被写体側に投
影する。
The projection lens 2-A has an opening shape that is long in the horizontal direction and short in the vertical direction, and has four optical axes indicated by circles in FIG. LE
An image (pattern image) of the pattern electrode formed by the light from D1-A is projected on the object side in a form of four in a horizontal direction.

【0027】また、投影レンズ2−Bは、垂直方向に長
く、水平方向に短い開口形状を有し、図2において○印
で示す光軸を垂直方向に一直線上に並ぶ形で3つ有し、
LED1−Bからの光により形成されるパターン電極の
像(パターン像)を垂直方向に3つ並ぶ形で被写体側に
投影する。
The projection lens 2-B has an opening shape that is long in the vertical direction and short in the horizontal direction, and has three optical axes indicated by circles in FIG. ,
An image (pattern image) of a pattern electrode formed by light from the LED 1-B is projected on the subject side in a form of three in a vertical direction.

【0028】図3には、上記投影系によって被写体側に
投影されるパターン像を示す。投影パターン像4−A
は、上記投影レンズ2−Aにより投影された4つのパタ
ーン像が水平方向に4つ並んで一連のパターン像として
形成されたものである。また、投影パターン像4−B
は、上記投影レンズ2−Bにより投影された3つのパタ
ーン像が垂直方向に3つ並んで一連のパターン像として
形成されたものである。
FIG. 3 shows a pattern image projected on the object side by the projection system. Projection pattern image 4-A
Is formed as a series of pattern images in which four pattern images projected by the projection lens 2-A are arranged side by side in the horizontal direction. Also, the projected pattern image 4-B
Is formed as a series of pattern images in which three pattern images projected by the projection lens 2-B are arranged in the vertical direction.

【0029】図4には、本実施形態の投光装置が取り付
け可能な撮影装置における焦点検出領域を示している。
画面中心部には、垂直方向および水平方向に延びる焦点
検出領域(中央焦点検出領域)5−1,5−2が十字に
交差した形状に形成されている。また、焦点検出領域5
−2から水平方向両側に2つずつ焦点検出領域5−3,
5−4,5−5,5−6が配置されており、これら水平
方向に配置された5つの焦点検出領域5−2〜5−6は
垂直方向に長く延びる形状を有している。
FIG. 4 shows a focus detection area in a photographing device to which the light projecting device of this embodiment can be attached.
At the center of the screen, focus detection areas (central focus detection areas) 5-1 and 5-2 extending in the vertical and horizontal directions are formed in a shape crossing a cross. The focus detection area 5
-2 focus detection areas 5-3 on both sides in the horizontal direction
5-4, 5-5, and 5-6 are arranged, and the five focus detection areas 5-2 to 5-6 arranged in the horizontal direction have a shape extending long in the vertical direction.

【0030】また、焦点検出領域5−1から垂直方向両
側に1つずつ焦点検出領域5−7,5−8が配置されて
おり、これら垂直方向に配置された3つの焦点検出領域
5−1,5−7,5−8は水平方向に長く延びる形状を
有している。
Also, focus detection areas 5-7 and 5-8 are arranged one by one on both sides in the vertical direction from the focus detection area 5-1. These three focus detection areas 5-1 arranged in the vertical direction are provided. , 5-7, 5-8 have a shape extending long in the horizontal direction.

【0031】図4に示した撮影装置の焦点検出装置で
は、位相差検出方式により撮影系若しくは観察系の焦点
状態を検出するが、焦点状態検出のための相関演算は各
焦点検出領域の長手方向(パターン像の長手方向に直交
する方向)に沿って行われる。
In the focus detecting device of the photographing apparatus shown in FIG. 4, the focus state of the photographing system or the observation system is detected by a phase difference detection method. The correlation calculation for detecting the focus state is performed in the longitudinal direction of each focus detection area. (A direction orthogonal to the longitudinal direction of the pattern image).

【0032】図5には、上記投影系により被写体に投影
されるパターン像と、図4に示した焦点検出領域とを重
ねて示している。パターン像4−Aは被写体における水
平方向に配置された焦点検出領域5−2〜5−6に対応
する位置に重なり、パターン像4−Bは被写体における
垂直方向に配置された焦点検出領域5−1,5−7,5
−8に対応する位置に重なる。
FIG. 5 shows the pattern image projected onto the subject by the projection system and the focus detection area shown in FIG. 4 in an overlapping manner. The pattern image 4-A overlaps the position corresponding to the focus detection areas 5-2 to 5-6 arranged in the horizontal direction in the subject, and the pattern image 4-B overlaps the focus detection area 5- in the subject in the vertical direction. 1,5-7,5
It overlaps with the position corresponding to -8.

【0033】ここで、第1および第2投影系A,Bで
は、光源であるLED1−A,1−Bとして同一特性の
ものを用いている。同一の焦点距離の投光レンズであれ
ば、投影像の明るさはレンズの投影面積に比例する(す
なわち、Fnoが小さいほど明るくなる)。このため、
LED1−Aからの光束を投影レンズ2−Aによって4
分割して形成された4つのパターン像が一連となったパ
ターン像4−Aの明るさに比べて、中央部に投光する中
心のレンズ面積を比較的大きく構成するように3分割さ
れた投影レンズ2−BによってLED1−Bからの光束
を3分割して形成された3つのパターン像が一連となっ
たパターン像4−Bの中央部の明るさの方が明るくな
る。このため、水平方向に長い焦点検出領域5−1,5
−7,5−8が受ける像信号のコントラストが上がり、
焦点検出精度が向上する。
Here, in the first and second projection systems A and B, LEDs 1-A and 1-B as light sources having the same characteristics are used. If the projection lenses have the same focal length, the brightness of the projected image is proportional to the projection area of the lens (that is, the smaller the Fno, the brighter). For this reason,
The luminous flux from the LED 1-A is converted into 4 light by the projection lens 2-A.
Projection divided into three so that the center lens area for projecting light to the central portion is relatively large compared to the brightness of the pattern image 4-A in which the four pattern images formed by division are formed as a series. The central portion of the pattern image 4-B in which three pattern images formed by dividing the light beam from the LED 1-B into three by the lens 2-B become brighter. For this reason, the focus detection areas 5-1 and 5 long in the horizontal direction are provided.
−7, 5-8 increase the contrast of the image signal received,
The focus detection accuracy is improved.

【0034】このように中心が交差している焦点検出領
域5−1,5−2を有する焦点検出装置では、水平方向
および垂直方向に投影されるパターン像の照度に差を付
けなくても焦点検出は可能であるが、本実施形態のよう
に一方のパターン像を他方のパターン像よりも明るくす
れば、上記一方のパターン像側のコントラストが上が
り、一般に焦点検出精度は向上する。
In the focus detection device having the focus detection areas 5-1 and 5-2 whose centers cross each other, the focus can be obtained even if the illuminance of the pattern images projected in the horizontal and vertical directions is not changed. Although detection is possible, if one pattern image is made brighter than the other pattern image as in the present embodiment, the contrast on the one pattern image side is increased, and the focus detection accuracy is generally improved.

【0035】(第2実施形態)図6には、本発明の第2
実施形態である投光装置におけるパターン像投影系の構
成を示している。なお、図7は、光軸直交方向から見た
投影系の断面図である。
(Second Embodiment) FIG. 6 shows a second embodiment of the present invention.
2 illustrates a configuration of a pattern image projection system in the light projection device according to the embodiment. FIG. 7 is a cross-sectional view of the projection system viewed from a direction orthogonal to the optical axis.

【0036】また、本実施形態の投光装置は、カメラ等
の撮影装置や望遠鏡等の観察装置に搭載され(もしくは
搭載可能で)、撮影光学系や観察光学系の焦点状態を検
出するために使用される。そして、この投光装置によっ
て投影されたパターン像を用いて、撮影装置や観察装置
が備える焦点検出装置で焦点検出を行い、その結果は、
撮影装置や観察装置の制御回路に送られ、撮影系や観察
系の焦点調節制御に用いられる。
The light projecting device of the present embodiment is mounted on (or can be mounted on) a photographing device such as a camera or an observation device such as a telescope to detect the focus state of the photographing optical system or the observation optical system. used. Then, using the pattern image projected by the light projecting device, focus detection is performed by a focus detection device included in an imaging device or an observation device, and the result is
It is sent to the control circuit of the photographing device or the observation device, and is used for focus adjustment control of the photographing system or the observation system.

【0037】上記投影系は、第1投影系Aと第2投影系
Bとからなり、互いに独立した投影系となっている。
The projection system comprises a first projection system A and a second projection system B, which are independent projection systems.

【0038】同図において、11−Aは第1投影系Aの
光源としてのLEDであり、その前面に水平方向に延び
る第1のパターンとしての直線パターン電極(パターン
マスク)を有する。11−Bは第2投影系Bの光源とし
てのLEDであり、その前面に垂直方向に延びる第2の
パターンとしての直線パターン電極(パターンマスク)
を有する。
In the figure, reference numeral 11-A denotes an LED as a light source of the first projection system A, and has a linear pattern electrode (pattern mask) as a first pattern extending in the horizontal direction on the front surface thereof. Reference numeral 11-B denotes an LED as a light source of the second projection system B, and a straight pattern electrode (pattern mask) as a second pattern extending in the vertical direction on the front surface thereof.
Having.

【0039】12−Aは光源11−Aに対応する、第1
投影系Aの投影レンズであり、12−Bは光源11−B
に対応する、第2投影系Bの投影レンズである。なお、
これら投影レンズ12−A,12−Bはともに、第1実
施形態の投影レンズとは異なり、1つの光軸のみを有す
る。
The first light source 12-A corresponds to the first light source 11-A.
A projection lens of the projection system A, and 12-B is a light source 11-B
Are the projection lenses of the second projection system B. In addition,
Both the projection lenses 12-A and 12-B have only one optical axis, unlike the projection lens of the first embodiment.

【0040】13−A,13−Bは投影レンズ12−
A,12−Bを通過したパターン像を複数方向に投影す
るためのプリズム部を有する投影パネル(投影光学素
子)である。なお、図7に示すように、投影パネル13
−Bは、投影パネル13−Aと直交する方向にプリズム
成分を有している。
13-A and 13-B are projection lenses 12-
A projection panel (projection optical element) having a prism unit for projecting a pattern image passing through A and 12-B in a plurality of directions. In addition, as shown in FIG.
-B has a prism component in a direction orthogonal to the projection panel 13-A.

【0041】図8には、投影パネル13−A,13−B
のプリズム部の光学作用を示している。なお、実際には
投影パネル13−Aと投影パネル13−Bとは光軸方向
視にて90度位相(プリズム部の伸びる方向)がずれて
いる。
FIG. 8 shows the projection panels 13-A and 13-B.
Shows the optical action of the prism section. Actually, the projection panel 13-A and the projection panel 13-B are shifted in phase by 90 degrees (the direction in which the prism portion extends) when viewed in the optical axis direction.

【0042】投影パネル13−Aのプリズム部は、水平
方向に異なる4つの偏向角とそれぞれが同一の面積を有
しており、投影レンズ12−Aを通過した光束を水平4
方向に同じ光量の投影像として4分割する作用を有す
る。このため、投影レンズ12−Aを通過したパターン
像は、第1実施形態と同様に、水平方向に4つ並んだパ
ターン像が水平方向に一連につながった形で被写体側に
投影される。
The prism portion of the projection panel 13-A has four deflection angles different in the horizontal direction and each has the same area.
This has the effect of dividing the image into four in the direction as a projection image of the same light quantity. Therefore, as in the first embodiment, the pattern image that has passed through the projection lens 12-A is projected on the subject side in a form in which four pattern images arranged in the horizontal direction are connected in series in the horizontal direction.

【0043】また、投影パネル13−Bのプリズム部
は、垂直方向に異なる3つの偏向角とそれぞれが同一の
面積を有しており、投影レンズ12−Bを通過した光束
を垂直3方向に同じ光量の投影像として3分割する作用
を有する。このため、投影レンズ12−Bを通過したパ
ターン像は、第1実施形態と同様に、垂直方向に3つ並
んだパターン像が垂直方向に一連につながった形で被写
体側に投影される。
Further, the prism portion of the projection panel 13-B has three deflection angles different in the vertical direction and the same area, respectively, so that the light beam passing through the projection lens 12-B is the same in the three vertical directions. This has the effect of dividing the light quantity into three as a projected image. Therefore, as in the first embodiment, the pattern image having passed through the projection lens 12-B is projected onto the subject in a form in which three vertically aligned pattern images are connected in series in the vertical direction.

【0044】なお、両投影パネル13−A,13−Bか
ら投影されるパターン像は、図3および図5に示すもの
と同様に画面中心で交差し、投影パネル13−Aにより
投影されたパターン像は被写体における水平方向に配置
された焦点検出領域5−2〜5−6に対応する位置に重
なり、投影パネル13−Bにより投影されたパターン像
は被写体における垂直方向に配置された焦点検出領域5
−2,5−7,5−8に対応する位置に重なる。
The pattern images projected from the projection panels 13-A and 13-B intersect at the center of the screen, as shown in FIGS. 3 and 5, and are projected by the projection panel 13-A. The image overlaps the position corresponding to the focus detection areas 5-2 to 5-6 arranged in the horizontal direction in the subject, and the pattern image projected by the projection panel 13-B is the focus detection area arranged in the subject in the vertical direction. 5
−2, 5-7, 5-8.

【0045】ここで、本実施形態においても、第1およ
び第2投影系A,Bでは、光源であるLED11−A,
11−Bとして同一特性のものを用いている。このた
め、LED11−Aからの光束を等しく4分割して形成
された4つのパターン像が一連となったパターン像の明
るさに比べて、LED11−Bからの光束を等しく3分
割して形成された3つのパターン像が一連となったパタ
ーン像の明るさの方が明るくなる。このため、水平方向
に長い焦点検出領域5−1,5−7,5−8が受ける像
信号のコントラストが上がり、焦点検出精度が向上す
る。さらに、本実施形態では、第1の投影系と前記第2
の投影系とをそれぞれ、同一特性を有する光源と、パタ
ーン像を形成するため光源の前面に配置された同一のパ
ターンマスクと、複数の投影光軸を有する同一特性の投
影光学素子とを用いて同一の投影ユニットとして構成
し、第1の投影系と第2の投影系とを光軸方向視におい
て互いに90度異なる位相で配置して、低コスト化を図
っている。
Here, also in this embodiment, in the first and second projection systems A and B, the LEDs 11-A, which are light sources, are used.
11-B have the same characteristics. For this reason, the luminous flux from the LED 11-B is formed by equally dividing the luminous flux from the LED 11-B into three parts, compared to the brightness of a series of pattern images formed by dividing the luminous flux from the LED 11-A into four equal parts. The brightness of the pattern image formed by combining the three pattern images becomes brighter. For this reason, the contrast of the image signal received by the focus detection areas 5-1, 5-7, and 5-8 which are long in the horizontal direction increases, and the focus detection accuracy improves. Further, in the present embodiment, the first projection system and the second
Each using a light source having the same characteristics, the same pattern mask disposed on the front surface of the light source to form a pattern image, and a projection optical element having the same characteristics having a plurality of projection optical axes. The first projection system and the second projection system are arranged as the same projection unit, and are arranged at phases different from each other by 90 degrees when viewed in the optical axis direction, thereby achieving cost reduction.

【0046】(第3実施形態)図9および図10には、
本発明の第3実施形態である投光装置におけるパターン
像投影系の構成を示している。なお、図9は、光軸直交
方向から見た投影系の断面図であり、図10は光軸方向
(正面)から見た投影系のうち光源と投影レンズのみの
正面図である。
(Third Embodiment) FIG. 9 and FIG.
14 shows a configuration of a pattern image projection system in a light projection device according to a third embodiment of the present invention. 9 is a cross-sectional view of the projection system as viewed from the direction orthogonal to the optical axis, and FIG. 10 is a front view of only the light source and the projection lens in the projection system as viewed from the direction of the optical axis (front).

【0047】また、本実施形態の投光装置は、カメラ等
の撮影装置や望遠鏡等の観察装置に搭載され(もしくは
搭載可能で)、撮影光学系や観察光学系の焦点状態を検
出するために使用される。そして、この投光装置によっ
て投影されたパターン像を用いて、撮影装置や観察装置
が備える焦点検出装置で焦点検出を行い、その結果は、
撮影装置や観察装置の制御回路に送られ、撮影系や観察
系の焦点調節制御に用いられる。
The light projecting device of the present embodiment is mounted on (or can be mounted on) a photographing device such as a camera or an observation device such as a telescope to detect the focus state of the photographing optical system or the observation optical system. used. Then, using the pattern image projected by the light projecting device, focus detection is performed by a focus detection device included in an imaging device or an observation device, and the result is
It is sent to the control circuit of the photographing device or the observation device, and is used for focus adjustment control of the photographing system or the observation system.

【0048】上記投影系は、第1投影系Aと第2投影系
Bとからなり、互いに独立した投影系となっている。
The projection system includes a first projection system A and a second projection system B, and are independent projection systems.

【0049】同図において、21−Aは第1投影系Aの
光源としてのLEDであり、その前面に水平方向に延び
る第1のパターンとしての直線パターン電極(パターン
マスク)を有する。21−Bは第2投影系Bの光源とし
てのLEDであり、その前面に垂直方向に延びる第2の
パターンとしての直線パターン電極(パターンマスク)
を有する。
In the figure, 21-A is an LED as a light source of the first projection system A, and has a linear pattern electrode (pattern mask) as a first pattern extending in the horizontal direction on the front surface thereof. Reference numeral 21-B denotes an LED as a light source of the second projection system B, and a linear pattern electrode (pattern mask) as a second pattern extending in the vertical direction on the front surface thereof.
Having.

【0050】22−Aは光源21−Aに対応する、第1
投影系Aの投影レンズであり、22−Bは光源21−B
に対応する、第2投影系Bの投影レンズである。なお、
これら投影レンズ22−A,22−Bはともに、第1実
施形態の投影レンズ2−Aと同じものであり、図10に
○印で示す4つの光軸を有する構造になっている。
The first light source 22-A corresponds to the first light source 21-A.
A projection lens of the projection system A, wherein 22-B is a light source 21-B
Are the projection lenses of the second projection system B. In addition,
These projection lenses 22-A and 22-B are the same as the projection lens 2-A of the first embodiment, and have a structure having four optical axes indicated by marks in FIG.

【0051】本実施形態では、LED21−A,21−
B(直線パターン電極を含む)および投影レンズ22−
A,22−Bとしてそれぞれ同一特性のものを用い、第
1投影系Aと第2投影系BとでLEDおよび投影レンズ
を光軸方向視において90度位相をずらして配置してい
る。このように同一構成のLEDおよび投影レンズから
なるユニットを第1投影系Aおよび第2投影系Bに用い
ることにより、焦点検出装置を低コスト化することが可
能になる。
In this embodiment, the LEDs 21-A, 21-
B (including the linear pattern electrode) and the projection lens 22-
A and 22-B having the same characteristics are used, and the LEDs and the projection lenses of the first projection system A and the second projection system B are arranged with a phase shift of 90 degrees when viewed in the optical axis direction. By using the unit including the LED and the projection lens having the same configuration for the first projection system A and the second projection system B, the cost of the focus detection device can be reduced.

【0052】23は投影レンズ22−Bにより形成され
た4つのパターン像を3つに合成するためのプリズム部
を有する合成投影パネル(合成光学素子)である。
Reference numeral 23 denotes a combined projection panel (combined optical element) having a prism unit for combining the four pattern images formed by the projection lens 22-B into three.

【0053】ここで、図11には、合成投影パネル23
の正面図および断面図を示している。合成投影パネル2
3のうち23−Aで示す部分はプリズム部のない面から
なっている。また、合成投影パネル23のうち23−B
で示す部分は、図11の下図(上図のC−C線断面図)
に示すように、2つの異なる偏向角を有するプリズム部
である。
Here, FIG. 11 shows a composite projection panel 23.
2 shows a front view and a cross-sectional view of FIG. Composite projection panel 2
The portion indicated by 23-A in 3 is a surface without a prism portion. Also, 23-B of the composite projection panel 23
The portion indicated by is the lower view of FIG. 11 (a cross-sectional view taken along line CC in the upper figure).
As shown in FIG. 7, the prism section has two different deflection angles.

【0054】このプリズム部23−Bは、投影レンズ2
−Bにより4つ形成されたパターン像を、垂直方向に3
つ分のパターン像長さとなるように再び重ね合わせる光
学作用を有する。
The prism section 23-B is provided with the projection lens 2
-B, the three pattern images formed in the vertical direction
It has an optical action of superimposing again so as to have the same pattern image length.

【0055】投影レンズ22−Aおよび合成投影パネル
23のうち無プリズム部23−Aを通過したパターン像
は、第1実施形態と同様に、水平方向に4つ並んだパタ
ーン像が水平方向に一連につながった形で被写体側に投
影される。
As in the first embodiment, the pattern images having passed through the prism-free portion 23-A of the projection lens 22-A and the combined projection panel 23 are formed by a series of four pattern images arranged in the horizontal direction. Is projected on the subject side in a form connected to.

【0056】また、投影レンズ22−Bおよび合成投影
パネル23のうちプリズム部23−Bを通過したパター
ン像は、3つ分のパターン像長さを有して一連につなが
った形で被写体側に投影される。
The pattern images of the projection lens 22-B and the combined projection panel 23 which have passed through the prism portion 23-B are connected to the subject side in a continuous form having a pattern image length of three. Projected.

【0057】なお、被写体側に投影されるパターン像
は、図3および図5に示すものと同様に画面中心で交差
し、投影パネル23−Aにより投影されたパターン像は
被写体における水平方向に配置された焦点検出領域5−
2〜5−6に対応する位置に重なり、投影パネル13−
Bにより投影されたパターン像は被写体における垂直方
向に配置された焦点検出領域5−1,5−7,5−8に
対応する位置に重なる。
The pattern images projected on the subject side intersect at the center of the screen as shown in FIGS. 3 and 5, and the pattern images projected by the projection panel 23-A are arranged in the horizontal direction on the subject. Focus detection area 5-
The projection panel 13-
The pattern image projected by B overlaps with the position corresponding to the focus detection areas 5-1, 5-7, and 5-8 arranged in the vertical direction on the subject.

【0058】ここで、本実施形態においても、第1およ
び第2投影系A,Bでは、光源であるLED21−A,
21−Bとして同一特性のものを用いている。このた
め、LED21−Aからの光束を4分割して形成された
4つのパターン像が一連となったパターン像の明るさに
比べて、LED21−Bからの光束を4分割した後、中
央部がオーバーラップする形で3つに合成して形成され
た3つ分のパターン像として形成されたパターン像の中
央部の明るさの方が明るくなる。このため、水平方向に
長い焦点検出領域5−1,5−7,5−8が受ける像信
号のコントラストが上がり、焦点検出精度が向上する。
Here, also in this embodiment, in the first and second projection systems A and B, the LEDs 21-A, which are light sources, are used.
21-B having the same characteristics is used. For this reason, compared with the brightness of the pattern image in which the four pattern images formed by dividing the light beam from the LED 21-A into four, the light beam from the LED 21-B is divided into four, The brightness of the central part of the pattern image formed as three pattern images formed by combining three in an overlapping manner becomes brighter. For this reason, the contrast of the image signal received by the focus detection areas 5-1, 5-7, and 5-8 which are long in the horizontal direction increases, and the focus detection accuracy improves.

【0059】図15は、本発明を適用した投光装置を装
着した撮影装置の主要部の構成を示している。図中、M
1は撮影レンズ5の光軸である。8は撮影装置が備える
焦点検出光学系であり、図中に不図示のファインダー光
学系に光束を導くためのクイックリターンミラー6を透
過し反射ミラー7を介して焦点検出用の光束が焦点検出
装置8に導かれる。
FIG. 15 shows a configuration of a main part of a photographing apparatus equipped with a light emitting device to which the present invention is applied. In the figure, M
1 is an optical axis of the taking lens 5. Reference numeral 8 denotes a focus detection optical system provided in the photographing apparatus. The focus detection optical system passes through a quick return mirror 6 for guiding a light beam to a finder optical system (not shown) in the figure and passes through a reflection mirror 7 for a focus detection light beam. It is led to 8.

【0060】9は撮影レンズ5の結像位置であり、フィ
ルムやCCDなどの像記録装置が配置される。像記録時
には、撮影レンズ5からの光束を結像位置9に導くため
にクイックリターンミラー6および反射ミラー7は光路
外に退避する。
Reference numeral 9 denotes an image forming position of the photographing lens 5, on which an image recording device such as a film or a CCD is arranged. At the time of image recording, the quick return mirror 6 and the reflection mirror 7 are retracted out of the optical path to guide the light beam from the photographing lens 5 to the image forming position 9.

【0061】M2は本発明による補助光投光装置の光軸
である。パターン化された光源1−Aの像が投光レンズ
2−Aにより被写体側に投影される。焦点検出時は、被
写体に投影されたパターン像が撮影レンズ5を介して焦
点検出装置8に導かれ、焦点検出が行われる。
M2 is the optical axis of the auxiliary light projecting device according to the present invention. The patterned image of the light source 1-A is projected on the subject side by the light projecting lens 2-A. At the time of focus detection, the pattern image projected on the subject is guided to the focus detection device 8 via the photographing lens 5, and focus detection is performed.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
少ない光源数およびコンパクトな構成で、被写体の広い
範囲に対してパターン像を良好な結像状態を得ながら投
影することができ、特に焦点検出領域が2方向に交差配
置されている場合に、交差部および交差部以外の焦点検
出領域のいずれについても良好な焦点検出結果を得るこ
とが可能な投光装置を実現することができる。
As described above, according to the present invention,
With a small number of light sources and a compact configuration, it is possible to project a pattern image onto a wide range of a subject while obtaining a good image-forming state. Especially when the focus detection areas are arranged in two directions, It is possible to realize a light projecting device capable of obtaining a good focus detection result in any of the focus detection areas other than the section and the intersection.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態である投光装置における
投影系の断面図。
FIG. 1 is a sectional view of a projection system in a light projection device according to a first embodiment of the invention.

【図2】上記投影系の正面図。FIG. 2 is a front view of the projection system.

【図3】上記投影系により投影されるパターン像の説明
図。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a pattern image projected by the projection system.

【図4】撮影装置の焦点検出領域を示す配置図。FIG. 4 is a layout diagram showing a focus detection area of the photographing apparatus.

【図5】上記投影系により投影されるパターン像と焦点
検出装置の焦点検出領域とを示す配置図。
FIG. 5 is a layout diagram showing a pattern image projected by the projection system and a focus detection area of a focus detection device.

【図6】本発明の第2実施形態である投光装置における
投影系の断面図。
FIG. 6 is a sectional view of a projection system in a light projection device according to a second embodiment of the invention.

【図7】上記第2実施形態における投影パネルの断面
図。
FIG. 7 is a sectional view of a projection panel according to the second embodiment.

【図8】上記第2実施形態における投影パネルの光学作
用の説明図。
FIG. 8 is an explanatory diagram of an optical function of a projection panel according to the second embodiment.

【図9】本発明の第3実施形態である投光装置における
投影系の断面図。
FIG. 9 is a sectional view of a projection system in a light emitting device according to a third embodiment of the invention.

【図10】上記第3実施形態の投影系の正面図。FIG. 10 is a front view of a projection system according to the third embodiment.

【図11】上記第3実施形態における合成投影パネルの
正面図およびC−C線断面図。
FIGS. 11A and 11B are a front view and a cross-sectional view taken along line CC of the composite projection panel according to the third embodiment.

【図12】従来の投光装置における投影系の断面図。FIG. 12 is a sectional view of a projection system in a conventional light projecting device.

【図13】上記従来の投影系における投光パターンの正
面図。
FIG. 13 is a front view of a projection pattern in the conventional projection system.

【図14】上記従来の投影系により投影されたパターン
像および投光範囲の説明図。
FIG. 14 is an explanatory diagram of a pattern image and a projection range projected by the conventional projection system.

【図15】本発明の実施形態である投光装置を装着した
撮影装置の主要部の断面図。
FIG. 15 is a cross-sectional view of a main part of a photographing apparatus equipped with a light projecting device according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A 第1の投影系 B 第2の投影系 1−A,1−B,11−A,11−B,21−A,21
−B 光源(LED) 2−A,2−B,12−A,12−B,22−A,22
−B 投影レンズ 13−A,13−B 投影パネル 4−A,4−B パターン像 5−1〜5−8 焦点検出領域 23 合成投影パネル
A first projection system B second projection system 1-A, 1-B, 11-A, 11-B, 21-A, 21
-B Light source (LED) 2-A, 2-B, 12-A, 12-B, 22-A, 22
-B Projection lens 13-A, 13-B Projection panel 4-A, 4-B Pattern image 5-1-5-8 Focus detection area 23 Synthetic projection panel

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 撮影系若しくは観察系の焦点状態を位相
差方式で検出するために被写体にパターン像を投影する
投光装置であって、 第1の方向に伸びる第1のパターンを、被写体上の中央
焦点検出領域を含み該第1の方向に並んだ複数の位置に
投影する第1の投影系と、 第2の方向に伸びる第2のパターンを、被写体上の中央
焦点検出領域を含み該第2の方向に並んだ複数の位置に
投影する第2の投影系とを有することを特徴とする投光
装置。
1. A light projecting device for projecting a pattern image on a subject in order to detect a focus state of a photographing system or an observation system by a phase difference method, wherein a first pattern extending in a first direction is projected on the subject. A first projection system that projects a plurality of positions aligned in the first direction that includes a central focus detection area, and a second pattern that extends in a second direction includes a central focus detection area on a subject. A second projection system that projects onto a plurality of positions arranged in a second direction.
【請求項2】 前記第1および第2の投影系のうち一方
の投影系により投影されるパターン像の明るさと、他方
の投影系により投影されるパターン像の明るさとに差を
設けたことを特徴とする請求項1に記載の投光装置。
2. The method according to claim 1, wherein a difference is provided between the brightness of the pattern image projected by one of the first and second projection systems and the brightness of the pattern image projected by the other projection system. The light emitting device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記第1の投影系の光源と前記第2の投
影系の光源とが同一特性を有しており、 前記第1および第2の投影系のうち一方の投影系により
投影されるパターン像の数が他方の投影系により投影さ
れるパターン像の数よりも少ないことにより、前記一方
の投影系により投影されるパターン像の明るさが、他方
の投影系により投影されるパターン像の明るさよりも明
るいことを特徴とする請求項2に記載の投光装置。
3. The light source of the first projection system and the light source of the second projection system have the same characteristic, and are projected by one of the first and second projection systems. Since the number of pattern images projected by the other projection system is smaller than the number of pattern images projected by the other projection system, the brightness of the pattern image projected by the one projection system is reduced. The light projecting device according to claim 2, wherein the light emitting device is brighter than the brightness of the light emitting device.
【請求項4】 前記第1の投影系は、前記第1の方向に
複数の投影光軸を有する投影光学素子を備え、 前記第2の投影系は、前記第2の方向に複数の投影光軸
を有する投影光学素子を備えていることを特徴とする請
求項1から3のいずれかに記載の投光装置。
4. The first projection system includes a projection optical element having a plurality of projection optical axes in the first direction, and the second projection system includes a plurality of projection lights in the second direction. 4. The light projecting device according to claim 1, further comprising a projection optical element having an axis.
【請求項5】 前記第1および第2の投影系の投影光学
素子がレンズであることを特徴とする請求項4に記載の
投光装置。
5. The light projection device according to claim 4, wherein the projection optical elements of the first and second projection systems are lenses.
【請求項6】 前記第1および第2の投影系の投影光学
素子がプリズムであることを特徴とする請求項4に記載
の投光装置。
6. The light projection device according to claim 4, wherein the projection optical elements of the first and second projection systems are prisms.
【請求項7】 前記第1の投影系と前記第2の投影系と
がそれぞれ、同一特性を有する光源と、各パターンを形
成するため前記光源の前面に配置された同一のパターン
マスクと、複数の投影光軸を有する同一特性の投影光学
素子とを有して構成されており、 前記第1の投影系と前記第2の投影系とが、光軸方向視
において互いに90度異なる位相で配置されていること
を特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の投光装
置。
7. A light source, wherein the first projection system and the second projection system have the same characteristics, an identical pattern mask arranged on the front surface of the light source to form each pattern, and And the first projection system and the second projection system are arranged at phases different from each other by 90 degrees when viewed in the optical axis direction. The light projecting device according to any one of claims 1 to 6, wherein
【請求項8】 前記第1および第2の投影系のうち一方
の投影系により投影されるパターン像の数が他方の投影
系により投影されるパターン像の数より少ない所定数と
なっており、 前記他方の投影系が、この他方の光学系の投影光学素子
により形成される複数のパターン像を前記所定数のパタ
ーン像となるよう合成して投影する合成光学素子を有す
ることを特徴する請求項1から6のいずれかに投光装
置。
8. The number of pattern images projected by one of the first and second projection systems is a predetermined number smaller than the number of pattern images projected by the other projection system, The said other projection system has a combining optical element for combining and projecting a plurality of pattern images formed by the projection optical elements of the other optical system into the predetermined number of pattern images. The light emitting device according to any one of 1 to 6.
【請求項9】 請求項1から8のいずれかに記載の投光
装置が装着可能であり、この投光装置により投影された
パターン像を用いた焦点状態の検出結果に基づいて撮影
光学系の焦点調節動作を行うことを特徴する撮影装置。
9. A light projecting device according to claim 1, wherein said light projecting device can be mounted on said photographing optical system based on a focus state detection result using a pattern image projected by said light projecting device. An imaging device for performing a focus adjustment operation.
【請求項10】 請求項1から8のいずれかに記載の投
光装置が装着可能であり、この投光装置により投影され
たパターン像を用いた焦点状態の検出結果に基づいて観
察光学系の焦点調節動作を行うことを特徴する観察装
置。
10. A light projecting device according to claim 1, wherein said light projecting device is mounted on said observation optical system based on a focus state detection result using a pattern image projected by said light projecting device. An observation device, which performs a focus adjustment operation.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006030816A (en) * 2004-07-21 2006-02-02 Canon Inc Imaging apparatus and focus shift amount correction value calculation method
JP2012058720A (en) * 2010-08-09 2012-03-22 Nikon Corp Projection unit, flash device and camera

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