[go: up one dir, main page]

JP2002100595A - ウエ−ハ剥離装置及び方法並びにこれを用いたウエ−ハ処理装置 - Google Patents

ウエ−ハ剥離装置及び方法並びにこれを用いたウエ−ハ処理装置

Info

Publication number
JP2002100595A
JP2002100595A JP2001159872A JP2001159872A JP2002100595A JP 2002100595 A JP2002100595 A JP 2002100595A JP 2001159872 A JP2001159872 A JP 2001159872A JP 2001159872 A JP2001159872 A JP 2001159872A JP 2002100595 A JP2002100595 A JP 2002100595A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
sub
plate
adhesive
suction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001159872A
Other languages
English (en)
Inventor
Michihisa Sato
道久 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Enya Systems Ltd
Original Assignee
Enya Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Enya Systems Ltd filed Critical Enya Systems Ltd
Priority to JP2001159872A priority Critical patent/JP2002100595A/ja
Publication of JP2002100595A publication Critical patent/JP2002100595A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 回路パタ−ン面を接着剤でサブプレ−トに仮
着し背面を研削した薄型化ウエ−ハを、サブプレ−トか
ら簡単に剥すようにする。 【解決手段】 保持体(7)にウエ−ハ(3)付サブプ
レ−ト(1)を保持し、接着剤を剥離可能な温度まで加
熱し溶融する。その後、真空チャック(11)を降下し、ウ
エ−ハを吸着する。この真空チャック(11)を正転、反転
し、横方向にスライドさせて、ウエ−ハ(3)をサブプ
レ−ト(1)から剥離する。サブプレ−ト(1)は、保
持体から取り出される。また、剥離したウエ−ハを連続
して洗浄乾燥し、ウエ−ハシ−トに貼り付けることもで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、薄型化したウエ−
ハをサブプレ−トから剥離するためのウエ−ハ剥離装置
及び方法及びこれを用いたウエ−ハ処理装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】近年ウエ−ハレベルCSP(Chip Size
Package )技術を発展させることによって高速、多機能
化を図った3次元積層構造の半導体装置を作ることが提
案されているが、そのためには回路パタ−ンを形成した
ウエ−ハの裏面を研削して約50μm程度に薄型化しな
ければならない。そのような裏面研削は、ウエ−ハに形
成した回路パタ−ン(デバイス)側に保持テ−プを貼り
付けて行うことが知られているが、そのような方法では
ウエ−ハの厚さを約100μm程度にしか薄型化するこ
とができない。またウエ−ハをサブプレ−トに接着剤で
仮接着した状態で研削を行うと薄型化を図ることができ
るが、背面研削されたウエ−ハは、上述のように極めて
薄いものであるから、取り扱いが面倒であり、サブプレ
−トから簡単に剥したり、搬送することがむずかしかっ
た。剥離するための方法として、アセトンやIPA(イ
ソプロピルアルコ−ル)の液中に全体を浸漬して剥離す
る方法が知られているが、剥離時間がかかり、口径の小
さいウエ−ハに適用できるだけで大きなサイズのウエ−
ハには適用することができなかった。また、約30〜1
50μm以上のウエ−ハ厚があれば、ウエ−ハの側面か
ら機械的に押したり、手作業でカミソリを用いて剥した
り、ウエ−ハを吸着して剥がすことができるが、上記の
ように薄型化したウエ−ハでは簡単に剥すことができな
い。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の解決課題は、
上記のようにサブプレ−トに貼り付けて背面を研削した
薄いウエ−ハを、短時間に該サブプレ−トから剥離で
き、その後の洗浄等も容易にできるようにしたウエ−ハ
剥離装置及び方法及びこれを用いたウエ−ハ処理装置を
提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、回路パ
タ−ン面に接着剤を塗布したウエ−ハをサブプレ−トに
貼り付け、その背面を研削して薄型化したウエ−ハを該
サブプレ−トから剥離する装置であって、該装置は、ウ
エ−ハが貼り付けられたサブプレ−トを定位置に保持す
る保持手段と、ウエ−ハとサブプレ−ト間の接着剤の接
着力を弱める接着力消失手段と、上記ウエ−ハの背面を
吸着保持する吸着手段と、該吸着手段を上記ウエ−ハに
接する位置と上記サブプレ−トから離れる位置に移動さ
せる移動手段を含むことを特徴とするウエ−ハ剥離装置
及び方法が提供され、上記課題が解決される。また、こ
のようにして剥離されたウエ−ハを洗浄乾燥してウエ−
ハシ−ト(ダイシングテ−プ)に貼り付けできるように
したウエ−ハ処理装置が提供される。
【0005】
【発明の実施の形態】図1は、サブプレ−ト(1)上に
接着剤(2)を介してウエ−ハ(3)を貼り付けた状態
の説明図を示し、該ウエ−ハ(3)の回路パタ−ン(デ
バイス)(4)側に塗布する接着剤としてはウエ−ハの
パタ−ン面を損傷することなく、よく馴染む適宜の天然
物系接着剤や合成樹脂系接着剤等を用いることができ、
またこれらの接着剤のうち、その性質に応じて剥離可能
な温度まで加熱することにより溶融して接着力が弱めら
れるものや、紫外線を照射することによって接着力が消
失するもの等の接着剤が好適に使用される。また、上記
サブプレ−トは、セラミック、サファイヤ、石英、シリ
コン等で約2mm程度の厚さに構成されている。
【0006】上記のようにサブプレ−ト(1)に貼り付
けられたウエ−ハ(3)の裏面は、図示を省いた研削装
置により削られ、ウエ−ハ自体の厚さが約30〜70μ
m程度、好ましくは約50μm程度に薄型化される。そ
の後、上記ウエ−ハ付サブプレ−トは、積層化のための
フォトリソ工程、メタル蒸着工程、不要メタル除去工
程、ハンダメッキ工程、その他の適宜の処理工程を経た
後、剥離工程に搬送される。このように、上記ウエ−ハ
の裏面は、研削面やバンプ面等の場合があり、また、後
記するようにウエ−ハの背面にウエ−ハシ−トを貼り付
けてから、剥離工程に搬入してもよい。
【0007】剥離装置(5)は、図2に示すように、ウ
エ−ハ(3)が貼り付けられたサブプレ−ト(1)を定
位置に保持する保持手段と、ウエ−ハとサブプレ−ト間
の接着剤の接着力を弱める接着力消失手段と、上記ウエ
−ハの背面を吸着保持する吸着手段と、該吸着手段を上
記ウエ−ハに接する位置と上記サブプレ−トから離れる
位置に移動させる移動手段を含んでいる。
【0008】図において、上記保持手段は、上記サブプ
レ−ト(1)が嵌着する凹部(6)を有するアルミニウ
ムその他の熱伝導性の良い金属材料で作られた保持体
(7)で構成され、該保持体(7)に設けた吸引孔
(8)…を真空吸引源(図示略)に連絡することによっ
て、上記凹部(6)に載置したサブプレ−ト(1)を吸
着保持する。なお、該凹部(6)は上記サブプレ−ト
(1)の外形に対応して形成されるが、該凹部をサブプ
レ−トよりも大きく形成しておき、該凹部の周壁に沿っ
て嵌合する調整リング(図示略)を形成し、該調整リン
グを適宜上記凹部に嵌着させることにより外形の異なる
複数のサブプレ−トに対応させることもでき、また、周
囲の適宜部位には搬送部の爪が入る挿入部(図示略)が
有る。
【0009】上記接着力消失手段は、上記ウエ−ハをサ
ブプレ−トに仮接着するのに用いた接着剤と関連して適
宜に構成することができる。図においては、接着剤とし
て天然物系接着剤を用いており、この接着剤は剥離温度
まで昇温することにより溶融し、接着力が弱められ、剥
離可能となるので、接着力消失手段として、ヒ−タ−
(9)を埋設した加温プレ−ト(10)を用いている。な
お、このヒ−タ−による温度は、温度センサ−や設定時
間により管理され、上記ウエ−ハ(3)の回路パタ−ン
(デバイス)を破壊しない温度以下で加温しなければな
らず、例えば250℃以下、好ましくは約145℃程度
にしてある。なお、接着剤の性質に応じて接着力消失手
段として接着剤を冷却する冷却装置を用いたり、接着力
を弱める紫外線照射装置を用いることができる。
【0010】上記ウエ−ハの背面を吸着保持する吸着手
段としては、真空チャック(11)が用いられている。真空
チャックはウエ−ハに対応する大きさに形成され、それ
によりそれぞれの大きさのウエ−ハを吸着保持すること
ができる。この場合、チャックのウエ−ハ吸着面の外径
を、ウエ−ハの外径よりも少し小さく、例えば約2〜2
0mm程度、好ましくは約4〜10mm程度小さく形成する
とよい。このようにすれば、後記するようにウエ−ハを
吸着保持して横方向にスライドさせる際、溶融した接着
剤がウエ−ハの周縁に押されてウエーハ上面にもり上る
ようなことがあっても、ウエ−ハとウエ−ハ吸着面間に
入り込まないようにすることができる。
【0011】1つの真空チャックで大きさの異なる複数
のウエ−ハを選択可能に吸着できるようにするには、図
3に示すようにすればよい。すなわち、チャック本体(1
2)に複数の外径のウエ−ハに対応するよう個別流路 (13
a)…,(13b)…を形成し、これらの各流路を電磁バルブ
(図示略)を介して真空吸引源若しくは圧縮空気供給源
に接続する。そして、上記各個別流路(13a),(13b) 毎
に、例えば3インチウエ−ハ(3a)に対応する吸引孔(14
a) …、4インチウエ−ハ(3b)に対応するよ吸引孔(14b)
…を開口させてある。この構成により、3インチウエ
−ハ(3a)を吸着する際は、上記個別流路(13a) を介して
真空吸引作用を吸着面(15)に生じさせ、4インチウエ−
ハ(3b)の場合は上記個別流路(13b) を介して吸着面(15)
に真空吸引作用を生じさせるようにすればよい。
【0012】上記吸着手段のウエ−ハ吸着面には、合成
ゴム、有弾性合成樹脂材料、多孔質ゴム材料等の耐熱性
弾性材料により緩衝作用を奏する緩衝部材(16)が設けら
れている。該緩衝部材(16)には、上記吸引孔(14a),(14
b) が開口しており、上記ウエ−ハ(3)は該緩衝部材
(16)の表面の吸着面に接して吸着保持され、後記するよ
うに移送され、アンロ−ダコンベア部等において上記吸
引孔から空気を噴出することにより該緩衝部材の表面の
吸着面から離れる。この際、上記のように薄型化したウ
エ−ハを損傷することなく容易に離すことができるよう
該緩衝部材の表面は、上記ウエ−ハが接着しないよう非
接着面とすることが好ましい。そのような非接着表面と
しては、例えば表面に微細な凹凸形状を設けたり、非接
着処理を施したり、非接着性の材料で緩衝部材を構成し
たりすればよい。また、上記吸着面の表面全体を覆うよ
うに通気性が良く、ウエ−ハに非接着のガ−ゼ等の布体
(16a)を設けておくと、真空チャックの吸引孔から空気
を噴出した際に確実にウエ−ハを離脱させることができ
る。
【0013】上記吸着手段を移動させる移動手段(17)
は、上記ウエ−ハに接する位置と上記サブプレ−トから
離れる位置に該吸着手段を移動させることができる機能
を有すればよいから、具体的には流体圧シリンダ、モ−
タ−シリンダ、 モ−タ−等を適宜組み合せて駆動源と
し、上記真空チャック(11)を、好ましくは移動速度を調
整できるようにして降下、上昇、水平移動等させるよう
適宜に構成してある。
【0014】ウエ−ハを移動させる際、接着剤が加熱溶
融されているので、上記ウエ−ハを上記サブプレ−トに
対して垂直方向にそのまま引き上げると、面状に広がる
上記溶融状態の接着剤層によってウエ−ハが剥離しにく
いことがある。そこで、本発明においては、上記移動手
段は、真空チャックが上記ウエ−ハを吸着保持した後、
上記サブプレ−トに沿ってウエ−ハを横方向に移動させ
るようにしてある。さらに好ましくは、ウエ−ハをチャ
ック吸着保持した段階で、該真空チャックを時計方向、
反時計方向に数度の回転角で交互に正転、反転させ接着
剤を線状に寄せ集めて接着力を弱めた後、横方向にスラ
イドすることによりウエ−ハを剥離するようにしてい
る。したがって、そのような接着剤を使用する場合には
上記移動手段は、真空チャックを回動させる機能も有す
る。
【0015】上記剥離装置の剥離部の作用及び剥離方法
を図4を参照して説明すると、裏面を研削して薄型化さ
れたウエ−ハ(3)は、サブプレ−ト(1)に天然物系
接着剤で仮接着された状態で図4(A)に示すように、
適宜のロボットや搬送ア−ムにより保持体(7)の凹部
(6)に運ばれる。この際、後工程で移動手段によりウ
エ−ハをスライドさせるとき、移動方向に対してウエー
ハの強度が弱くならない方向にウエ−ハ方向を定めて搬
入する。その後、上記加熱プレ−ト(10)からの加温によ
り接着剤が剥離温度まで加熱され溶融されると、上面か
ら真空チャック(11)が降下してくる。
【0016】上記真空チャック(11)がウエ−ハ(3)を
吸着保持すると、該真空チャック(11)は正転、反転方向
に数度回動して接着剤を略線状に集めた後、横方向にス
ライドし、サブプレ−トからウエ−ハを剥離させてアン
ロ−ダ部(図示略)へ搬出する(図4(B))。その
際、真空チャック(11)を回転、スライド後に上昇させて
ウエ−ハのアンロ−ダ部へウエ−ハを運び出すようにし
てもよい(図4(C))。その後、サブプレ−ト(1)
を、適宜のロボットや搬送ア−ム等の搬送手段によりサ
ブプレ−トのアンロ−ダ部へ取り出す(図4(D))。
【0017】上記ウエ−ハは、アンロ−ダ部へ移送され
た後、上記チャックの吸引孔に空気を供給することによ
り吸着面から離れて落下する。この際、チャックのウエ
−ハ吸着面と該ウエ−ハの間に溶融した接着剤が入り込
んでいるとウエーハの一部が接着して簡単に落下しない
おそれもあるが、上記のようにウエ−ハの外径に対して
ウエ−ハ吸着面の外径を小さく形成しておくと、溶融し
た接着剤がウエ−ハと吸着面間に入り込まず、そのよう
なおそれがない。また、上記のようにウエ−ハ吸着面に
通気性のある非接着性の布体(16a)を設けておくと、吸
引孔から空気を供給した際、一層確実にウエ−ハを落下
させることができる。
【0018】上記接着剤として紫外線照射により接着力
が消失し若しくは弱められるような合成樹脂系接着剤を
用いた場合には、上記真空チャック(11)は、ウエ−ハを
吸着した後に上昇してアンロ−ダ部へ該ウエ−ハを移送
する。搬送ア−ムが上記サブプレ−ト(1)をそのアン
ロ−ダ部へ移送し保持体の上面が開放されている間に、
次のウエ−ハ付サブプレ−トを保持体に搬入すると共に
紫外線照射装置(図示略)をその上面に移動させて紫外
線を上面から照射し、上記チャックが戻るまでの間に該
紫外線照射装置を退避させるようにすれば操作に支障が
ない。なお、紫外線照射装置を上記真空チャックと連動
させることもでき、また保持体や加熱プレ−トを石英等
の透明材料で作れば、下面側からも紫外線を照射するこ
とができる(図示略)。
【0019】図5は、剥離装置の剥離部を組み込み自動
的にウエ−ハを剥離できるようにした工程を示す説明図
である。図において、装置はフレ−ム(18)内に設けら
れ、カセットを搬入する開閉式の投入部の内側には剥離
前のウエ−ハ(3)付サブプレ−ト(1)を収納したカ
セットを保持するカセットエレベ−タ部(19)が設けら
れ、ウエ−ハ付サブプレ−トを1枚づつロ−ダコンベア
部(20)に送り出し、この位置で位置決め機構により定位
置に保持するようにしてある。該ロ−ダコンベア部(20)
に隣接して上記剥離部(21)が設けられており、上記ウエ
−ハ(3)付サブプレ−ト(1)は搬送ア−ム(22)を有
するプレ−ト搬送部(23)により上記剥離部(21)へ送られ
る。
【0020】上記剥離部(21)においては、上述したよう
にウエ−ハ(3)がサブプレ−ト(1)から剥離され、
図5においては図示を省いた上記真空チャック(11)や移
動手段(17)によりウエ−ハ(3)はアンロ−ダコンベア
部(24)へ送られる。該アンロ−ダコンベア部(24)に設け
られたアンロ−ダコンベアが回転するとウエ−ハはカセ
ットエレベ−タ部(25)のカセット内に1枚づつ収納され
る。
【0021】また、ウエ−ハが剥離されたサブプレ−ト
(1)は、上記プレ−ト搬送部(23)によってアンロ−ダ
コンベア部(26)に送られ、該アンロ−ダコンベア部(26)
のアンロ−ダコンベアによりカセットエレベ−タ部(27)
のカセット内に1枚づつ収納される。
【0022】なお、上記アンロ−ダコンベア部(24),(2
6) のアンロ−ダコンベアは、接着剤が付着しないよう
テフロン(登録商標)ロ−ラ等を対向状態に並列したコ
ンベアで構成することが好ましい。また、ウエ−ハを収
納するカセットに代えて、適宜の保護シ−トを介在させ
てウエ−ハを積層するようにしてもよい(図示略)。
【0023】ウエ−ハ付サブプレ−トを手動で剥離工程
へ供給するようにするには、図6に示すようにすればよ
い。この場合、フレ−ム(18)に形成した開閉式の投入
部の内側のロ−ダ部(28)に直接ウエ−ハ(3)付サブプ
レ−ト(1)を載置し、またウエ−ハを剥離した後、サ
ブプレ−ト(1)をプレ−ト搬送部(23)によって上記ロ
−ダ部(28)に搬出し、該ロ−ダ部から取り出す点が相違
するが、基本的には上記図5に示す構成とほぼ同一であ
る。
【0024】上記図5に示す剥離工程に引き続いてウエ
−ハやサブプレ−トを洗浄する工程を連結することもで
きる。例えば、図7に示すように上記サブプレ−トから
剥離したウエ−ハ(3)を連通して受け入れるようウエ
−ハの洗浄乾燥部(29)を接続し、また上記ウエ−ハ
(3)が剥離されたサブプレ−ト(1)を連通して受け
入れるようサブプレ−トの洗浄乾燥部(30)を接続し、そ
れぞれの洗浄乾燥部(29),(30) の最後にカセットを設け
て清浄化されたウエ−ハ及びサブプレ−トをカセット等
に収納するようにしてもよい。なお、これらの洗浄乾燥
は、接着剤除去洗浄液シャワ−、エアナイフ乾燥、純水
リンスシャワ−、エア若しくは窒素ガスナイフ乾燥等の
工程で行うことができる。
【0025】上記実施例においては、ウエ−ハをサブプ
レ−トから剥離した後ダイシング工程等にウエ−ハを運
んで処理するが、上記ウエ−ハをサブプレ−トから剥離
する前にダイシング工程で使用するウエ−ハシ−ト(ダ
イシングテ−プ)をウエ−ハに貼り付けておいてもよ
い。図8はそのような一実施例を示してあり、薄型化さ
れたウエ−ハ(3)の背面には、ウエ−ハフレ−ム(31)
に支持されたUVテ−プ等のウエ−ハシ−ト(32)が貼り
付けられて保持体(7)の凹部(6)に運ばれる。そし
て、上記図4で示す剥離工程とほぼ同様の工程でウエ−
ハ(3)の背面に貼り付けたウエ−ハシ−ト(32)側を真
空チャック(11)で吸着してウエ−ハ(3)をサブプレ−
ト(1)から剥離する。なお、この際、上記ウエ−ハシ
−ト(32)の接着剤は、剥離温度が上記ウエ−ハ(3)を
サブプレ−ト(1)に仮接着する際に用いた接着剤
(2)の剥離温度よりも高い温度のものを用いており、
それにより上記加熱プレ−トで加熱した際には上記ウエ
−ハシ−ト(32)がウエ−ハ(3)から剥離しないように
してある。剥離されたウエ−ハ(3)には、ウエ−ハシ
−ト(32)が貼られているので、ダイシング工程で図8
(D)に示すようにダイシング・ソ−(33)ですぐにカッ
トでき、処理を簡略化することができる。
【0026】図9は、さらに他の実施例を示し、サブプ
レ−トからウエ−ハを剥離し、洗浄乾燥し、ダイシング
のためのウエ−ハシ−ト貼付までの工程を連続的に行え
るようウエ−ハ剥離装置部(34)、ウエ−ハ洗浄装置部(3
5)及びウエ−ハシ−ト貼付装置部(36)を順次連設したも
のである。
【0027】上記ウエ−ハ剥離装置部(34)は、基本的に
は上記図5に示す装置とほぼ同じように構成され、ウエ
−ハ付サブプレ−ト(1)は、カセットエレベ−タ部(1
9),(19) 内のカセットに収納され、順次ロ−ダ−コンベ
ア部(20),(20) を経て授受ステ−ション(37)へ送られ、
センタリングされる。該授受ステ−ション(37)に隣接し
て設けたプレ−ト搬送部(23)の搬送ア−ム(22)により、
該ステ−ション(37)からウエ−ハ付サブプレ−ト(1)
は加熱プレ−トや真空チャック等を含む上記剥離部(21)
へ搬送され、上述のようにしてウエ−ハ(3)がサブプ
レ−ト(1)から剥離される。剥離されたウエ−ハ
(3)は、アンロ−ダコンベア部(剥離後ウエ−ハステ
−ション)(24)へ上述したようなチャック(11)を含む移
動手段(17)により移送される。また、サブプレ−ト
(1)は上記プレ−ト搬送部(23)により上記授受ステ−
ション(37)に戻され、適宜のロボットやベルトコンベア
等の移送手段によりサブプレ−ト収納カセットを有する
カセットエレベ−タ部(27),(27) へ運ばれる。なお、上
記カセットエレベ−タ部(19),(27) 等は、それぞれ複数
設けて次々と処理できるようにしてあるが、1つ若しく
は適宜数設けたり、該カセットエレベ−タ部を省略し
て、手動的に供給するようにしてもよい。なお、上記ウ
エ−ハのアンロ−ダコンベア部(24)には、溶融した接着
剤がベルトに付着しないようウエ−ハを浮上させて支持
する複数の突起を設けてあり接着剤が冷却した後該突起
を降下させて搬送ベルト上にウエ−ハを載置するように
してある。
【0028】上記ウエ−ハ洗浄装置部(35)は、ウエ−ハ
を順次洗浄するよう各種の洗浄部をシャッタ−(38)を介
して連続的に設けてある。図10に示すように、各洗浄
部は、ウエ−ハを載置するよう間隔をあけて並行して走
行する複数本のベルトコンベア(39)を有し、該ウエ−ハ
の両面に各種の洗浄液等を同時にシャワ−するよう該ベ
ルト間の上下にノズル(40),(40) を対設し、該コンベア
を左右動させて両面から同時にシャワ−洗浄する。洗浄
液は、酸、アルカリ等各種の洗浄液を用いることがで
き、図においては、第1洗浄部(41)でアセトン洗浄、第
2洗浄部(42)、第3洗浄部(43)でIPA洗浄している。
そして、第4洗浄部(44)で純水洗浄し、最後に乾燥部
(44a)で乾燥して受渡ステ−ション(45)へウエ−ハを
送る。なお、上記シャワ−等は、ウエ−ハを損傷しない
程度の弱いシャワ−圧で行い、各洗浄部から次の洗浄部
へ入る前にはエアナイフ(46)で乾燥するようにしてあ
る。また、最後の乾燥部(44a)ではウエ−ハ両面の凹
凸面内に入り込んでいる水分を充分乾燥できるよう例え
ば約30〜150℃可変の温風装置により約80℃程度
で乾燥できるようにしてある。
【0029】上記受渡ステ−ション(45)とウエ−ハシ−
ト貼付装置部(36)の間には、ウエ−ハを吸着保持してウ
エ−ハシ−ト貼付装置部(36)のウエ−ハマウント部(47)
へ送るためのマウンティングチャック(48)が移動可能に
設けられ、また該マウンティングチャック(48)が位置す
る部位の下方のベルトコンベア間には補佐チャック(49)
が上下可動に設けられている(図11)。該補佐チャッ
ク(49)は、マウンティングチャック(48)が降下したとき
上昇してウエ−ハを該マウンティングチャック(48)に吸
着させる。なお、このマウンティングチャック(48)の吸
着面には好ましくはウエ−ハに非接着性の布体を設ける
とよい。
【0030】上記受渡ステ−ション(45)には、ウエ−ハ
(3)に形成されているデバイス面及びバンプ面の状態
に応じて、該受渡ステ−ション上でウエ−ハを反転させ
るための反転装置(50)が設けられている。例えば、該受
渡ステ−ション(45)に送られてきた洗浄後のウエ−ハ
(3)が、上面にバンプ面があり、裏面側にデバイス面
があるウエ−ハのときは、該反転装置は作動せずにその
まま上記マウンティングチャック(48)がウエ−ハを吸着
する。また、ウエ−ハの上面がミラ−面で裏面側にデバ
イス面とバンプ面が形成されているときは、上記反転装
置(50)が作動し、ウエ−ハを該ステ−ション(45)上で反
転させて待機し、上記マウンティングチャック(48)で吸
着する。上記のような操作をするため、反転装置のウエ
ーハ吸着チャックは、ウエーハ反転、上下動、前後移動
の機能を有する。
【0031】上記ウエ−ハシ−ト貼付装置部(36)では、
ウエ−ハフレ−ム(31)を周辺に取り付けたウエ−ハシ−
ト(32)がウエ−ハマウント前カセット(51),(51) 内に収
納され、一枚づつロ−ダ−コンベア部(52),(52) を経て
ウエ−ハマウント部(47)へ送られてくる。該ウエ−ハマ
ウント部(47)の下面には、図12に示すようにエアスタ
ンプ(53)が設けられている。上記マウンティングチャッ
ク(48)によってウエ−ハ(3)がウエ−ハシ−ト(32)上
に送られてくると、センタリングした後、該ウエ−ハが
シ−トに接触した時点でエアスタンプが上昇し、シ−ト
にウエ−ハを貼り付ける。その後、ウエ−ハを貼り付け
たウエ−ハシ−トは、アンロ−ダコンベア部(54),(54)
へ送られ、ウエ−ハマウント後カセット(55),(55) 内に
収納される。なお、上記エアスタンプには、ウエ−ハシ
−トに付着しないよう非接着性の布体を設けることが好
ましい。
【0032】図に示すように、上記サブプレ−トから剥
離したウエ−ハを受け取るウエ−ハ剥離装置部(34)の剥
離後ウエ−ハステ−ション(アンロ−ダコンベア部)(2
4)と、洗浄乾燥した後にウエ−ハを受け取るウエ−ハ洗
浄装置部(35)の受渡ステ−ション(45)と、ウエ−ハシ−
トと受渡ステ−ションからのウエ−ハを受け取る上記ウ
エ−ハシ−ト貼付装置部(36)のウエ−ハマウント部(47)
は、上記ウエ−ハ(3)の中心が移動する移動軌跡が一
直線となるよう配置されている。したがって、上記薄型
化したウエ−ハは、常に安定した状態で移送されつつ洗
浄乾燥されてウエ−ハシ−ト(ダイシングテ−プ)に貼
り付けられ、破損するおそれを少なくすることができ
る。
【0033】
【発明の効果】本発明は上記のように構成され、サブプ
レ−トに接着剤で回路パタ−ン面を仮接着したウエ−ハ
の背面を研削し薄型化されたウエ−ハを、簡単にかつ破
壊することなくサブプレ−トから剥離することができ、
また洗浄やウエ−ハシ−トへの貼付等の工程まで連続化
するこができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ウエ−ハの回路パタ−ン面を接着剤でサブプレ
−トに仮接着した状態のウエ−ハ及びサブプレ−トの一
部省略説明図。
【図2】剥離装置の一実施例を示す断面図。
【図3】真空チャックを示し、(A)は底面からみた説
明図、(B)は断面図。
【図4】(A)〜(D)はウエ−ハをサブプレ−トから
剥離する工程を示す説明図。
【図5】剥離部を組み込んだ自動処理による一実施例の
構成図。
【図6】手動的に行う場合の一実施例を示す全体の構成
図。
【図7】洗浄乾燥工程を接続した一実施例を示す構成
図。
【図8】(A)〜(D)はウエ−ハ剥離工程の他の実施
例を示す説明図。
【図9】ウエ−ハシ−トへの貼付工程まで連続化した処
理装置の実施例を示す構成図。
【図10】図9に示す装置の洗浄装置部の説明図。
【図11】図9に示す装置の受渡ステ−ション部の説明
図。
【図12】図9に示す装置のウエ−ハマウント部の説明
図。
【符号の説明】
1 サブプレ−ト 3 ウエ−ハ 5 剥離装置 7 保持体 10 加温プレ−ト 11 真空チャック 16 緩衝部材
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成13年11月1日(2001.11.
1)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項4
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項12
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0014
【補正方法】変更
【補正内容】
【0014】ウエ−ハを移動させる際、接着剤が加熱溶
融されているので、上記ウエ−ハを上記サブプレ−トに
対して垂直方向にそのまま引き上げると、面状に広がる
上記溶融状態の接着剤層によってウエ−ハが剥離しにく
いことがある。そこで、本発明においては、上記移動手
段は、真空チャックが上記ウエ−ハを吸着保持した後、
上記サブプレ−トに沿ってウエ−ハを横方向に移動させ
るようにしてある。さらに好ましくは、ウエ−ハをチャ
ック吸着保持した段階で、該真空チャックを時計方向、
反時計方向に数度の回転角で交互に転させ接着剤を線
状に寄せ集めて接着力を弱めた後、横方向にスライドす
ることによりウエ−ハを剥離するようにしている。した
がって、そのような接着剤を使用する場合には上記移動
手段は、真空チャックを回動させる機能も有する。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0016
【補正方法】変更
【補正内容】
【0016】上記真空チャック(11)がウエ−ハ(3)を
吸着保持すると、該真空チャック(11)は時計方向、反時
方向に数度回動して接着剤を略線状に集めた後、横方
向にスライドし、サブプレ−トからウエ−ハを剥離させ
てアンロ−ダ部(図示略)へ搬出する(図4(B))。
その際、真空チャック(11)を回転、スライド後に上昇さ
せてウエ−ハのアンロ−ダ部へウエ−ハを運び出すよう
にしてもよい(図4(C))。その後、サブプレ−ト
(1)を、適宜のロボットや搬送ア−ム等の搬送手段に
よりサブプレ−トのアンロ−ダ部へ取り出す(図4
(D))。

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回路パタ−ン面に接着剤を塗布したウエ
    −ハをサブプレ−トに貼り付け、その背面を研削して薄
    型化したウエ−ハを該サブプレ−トから剥離する装置で
    あって、該装置は、ウエ−ハが貼り付けられたサブプレ
    −トを定位置に保持する保持手段と、ウエ−ハとサブプ
    レ−ト間の接着剤の接着力を弱める接着力消失手段と、
    上記ウエ−ハの背面を吸着保持する吸着手段と、該吸着
    手段を上記ウエ−ハに接する位置と上記サブプレ−トか
    ら離れる位置に移動させる移動手段を含むことを特徴と
    するウエ−ハ剥離装置。
  2. 【請求項2】 上記接着力消失手段は、接着剤を溶融さ
    せる加熱手段である請求項1に記載のウエ−ハ剥離装
    置。
  3. 【請求項3】 上記移動手段は、ウエ−ハを上記吸着手
    段が吸着した際、該吸着手段を上記サブプレ−トに沿っ
    て横方向にスライドさせる請求項1に記載のウエ−ハ剥
    離装置。
  4. 【請求項4】 上記移動手段は、吸着手段をスライドさ
    せる前に該吸着手段を正転、反転させる請求項3に記載
    のウエ−ハ剥離装置。
  5. 【請求項5】 上記接着力消失手段は、接着剤に紫外線
    を照射する紫外線照射手段である請求項1に記載のウエ
    −ハ剥離装置。
  6. 【請求項6】 上記吸着手段は、ウエ−ハの大きさに応
    じて吸着部を選択可能に設けられている請求項1ないし
    5のいずれかに記載のウエ−ハ剥離装置。
  7. 【請求項7】 上記吸着手段のウエ−ハ貼着面の外径
    は、ウエ−ハの外径よりも小さく形成されている請求項
    1に記載のウエ−ハ剥離装置。
  8. 【請求項8】 上記吸着手段のウエ−ハ貼着面の外径
    は、ウエ−ハの外径よりも2〜20mm小さい請求項7に
    記載のウエ−ハ剥離装置。
  9. 【請求項9】 上記吸着手段のウエ−ハ吸着面には、ウ
    エ−ハに非接着の表面を有する緩衝部材が設けられてい
    る請求項1に記載のウエ−ハ剥離装置。
  10. 【請求項10】 上記吸着手段のウエ−ハ吸着面には、通
    気性を有するウエ−ハに非接着の布体が設けられている
    請求項1または7に記載のウエ−ハ剥離装置。
  11. 【請求項11】 上記ウエ−ハの背面にはウエ−ハシ−ト
    が貼り付けられている請求項1に記載のウエ−ハ剥離装
    置。
  12. 【請求項12】 接着剤でサブプレ−トに貼り付けられ背
    面を研削して薄型化されたウエ−ハを有するウエ−ハ付
    サブプレ−トを加熱し、上記ウエ−ハを貼り付けている
    接着剤を剥離可能な状態に溶融し、該ウエ−ハの背面に
    チャックを降下させて該チャックで吸着保持し、該チャ
    ックを正転、反転させた後横移動させてウエ−ハをサブ
    プレ−トから剥離するウエ−ハ剥離方法。
  13. 【請求項13】 上記チャックのウエ−ハ吸着面の外径
    は、ウエ−ハの外径よりも小さい請求項12に記載のウ
    エ−ハ剥離方法。
  14. 【請求項14】 上記チャックによる吸着保持は通気性を
    有するウエ−ハに非接着の布体を介して行われる請求項
    12または13に記載のウエ−ハ剥離方法。
  15. 【請求項15】 上記ウエ−ハの背面にはウエ−ハシ−ト
    が貼り付けられている請求項12に記載のウエ−ハ剥離
    方法。
  16. 【請求項16】 上記請求項1に記載の剥離装置を含むウ
    エ−ハ剥離装置部と、該ウエ−ハ剥離装置部でサブプレ
    −トから剥離されたウエ−ハを受け取りベルト搬送しな
    がら洗浄乾燥するウエ−ハ洗浄装置部と、ウエ−ハフレ
    −ムを周縁に取り付けたウエ−ハシ−トに上記ウエ−ハ
    洗浄装置部で洗浄乾燥されたウエ−ハを貼り付けるウエ
    −ハシ−ト貼付装置を連設し、サブプレ−トから剥離さ
    れた薄型化ウエ−ハを洗浄乾燥してウエ−ハシ−トに連
    続的に貼り付けるようにしたウエ−ハ処理装置。
  17. 【請求項17】 上記サブプレ−トから剥離したウエ−ハ
    を受け取るウエ−ハ剥離装置部の剥離後ウエ−ハステ−
    ションと、洗浄乾燥した後にウエ−ハを受け取るウエ−
    ハ洗浄装置部の受渡ステ−ションと、ウエ−ハシ−トと
    受渡ステ−ションからのウエ−ハを受け取る上記ウエ−
    ハシ−ト貼付装置部のウエ−ハマウント部は上記ウエ−
    ハの中心が移動する移動軌跡が一直線となるように配置
    されていることを特徴とする請求項16に記載のウエ−
    ハ処理装置。
JP2001159872A 2000-07-21 2001-05-29 ウエ−ハ剥離装置及び方法並びにこれを用いたウエ−ハ処理装置 Pending JP2002100595A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001159872A JP2002100595A (ja) 2000-07-21 2001-05-29 ウエ−ハ剥離装置及び方法並びにこれを用いたウエ−ハ処理装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000220089 2000-07-21
JP2000-220089 2000-07-21
JP2001159872A JP2002100595A (ja) 2000-07-21 2001-05-29 ウエ−ハ剥離装置及び方法並びにこれを用いたウエ−ハ処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002100595A true JP2002100595A (ja) 2002-04-05

Family

ID=26596379

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001159872A Pending JP2002100595A (ja) 2000-07-21 2001-05-29 ウエ−ハ剥離装置及び方法並びにこれを用いたウエ−ハ処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002100595A (ja)

Cited By (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003316281A (ja) * 2002-04-22 2003-11-07 Sony Corp 薄膜デバイスの製造方法、薄膜デバイスおよび表示装置
JP2004119498A (ja) * 2002-09-24 2004-04-15 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 半導体装置の製造方法
JP2005005672A (ja) * 2003-05-16 2005-01-06 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 半導体素子の製造方法および発泡剥離装置
JP2005116679A (ja) * 2003-10-06 2005-04-28 Nitto Denko Corp 半導体ウエハの支持材からの剥離方法およびこれを用いた装置
WO2008007454A1 (fr) * 2006-07-14 2008-01-17 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Plaque de maintien, dispositif de transfert, dispositif de pelage et procédé de pelage
JP2010003748A (ja) * 2008-06-18 2010-01-07 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 支持板剥離装置
JP2010531385A (ja) * 2007-06-25 2010-09-24 ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー. 高温スピンオン仮接合用組成物
WO2012026148A1 (en) * 2010-08-23 2012-03-01 Tokyo Electron Limited Separation system, separation method, program and computer storage medium
WO2012026152A1 (en) * 2010-08-23 2012-03-01 Tokyo Electron Limited Joint system, substrate processing system, joint method, program and computer storage medium
WO2012026261A1 (ja) * 2010-08-23 2012-03-01 東京エレクトロン株式会社 剥離装置、剥離システム、剥離方法及びコンピュータ記憶媒体
WO2012093610A1 (ja) * 2011-01-07 2012-07-12 東京エレクトロン株式会社 剥離システム、剥離方法、及びコンピュータ記憶媒体
JP2012231126A (ja) * 2011-04-12 2012-11-22 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2012231127A (ja) * 2011-04-12 2012-11-22 Tokyo Electron Ltd 剥離方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、剥離装置及び剥離システム
WO2012176629A1 (ja) * 2011-06-20 2012-12-27 東京エレクトロン株式会社 剥離システム、剥離方法、及びコンピュータ記憶媒体
JP2013016579A (ja) * 2011-07-01 2013-01-24 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
WO2013011806A1 (ja) * 2011-07-15 2013-01-24 東京エレクトロン株式会社 接合システム、基板処理システム及び接合方法
JP2013045885A (ja) * 2011-08-24 2013-03-04 Mitsubishi Materials Techno Corp 半導体ウェーハの製造方法
JP2013098366A (ja) * 2011-11-01 2013-05-20 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
CN103123946A (zh) * 2011-11-17 2013-05-29 株式会社迪思科 光器件层的移换装置和激光加工机
JP2013120904A (ja) * 2011-12-08 2013-06-17 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2013140947A (ja) * 2011-12-08 2013-07-18 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2013149656A (ja) * 2012-01-17 2013-08-01 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法および剥離プログラム
JP2013149655A (ja) * 2012-01-17 2013-08-01 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法および剥離プログラム
JP2013149657A (ja) * 2012-01-17 2013-08-01 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法および剥離プログラム
JP2013179237A (ja) * 2012-02-29 2013-09-09 Disco Abrasive Syst Ltd リフトオフ装置
JP2013219390A (ja) * 2013-07-04 2013-10-24 Tokyo Electron Ltd 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2013236094A (ja) * 2013-07-04 2013-11-21 Tokyo Electron Ltd 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2014053463A (ja) * 2012-09-07 2014-03-20 Tokyo Electron Ltd 剥離システム
JP2014053465A (ja) * 2012-09-07 2014-03-20 Tokyo Electron Ltd 剥離システム
JP2014103409A (ja) * 2010-08-23 2014-06-05 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
KR101414855B1 (ko) * 2009-03-18 2014-07-03 에베 그룹 게엠베하 웨이퍼를 캐리어로부터 분리하기 위한 장치 및 방법
JP2015109360A (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 東京エレクトロン株式会社 基板保持機構及び剥離システム
JPWO2015046235A1 (ja) * 2013-09-25 2017-03-09 芝浦メカトロニクス株式会社 基板処理装置、貼合基板の剥離方法、および接着剤の除去方法
EP3421227A1 (en) * 2017-06-26 2019-01-02 General Electric Company Systems of forming a composite layup structure
KR20190004880A (ko) * 2017-07-05 2019-01-15 (주)소닉스 디스플레이모듈에 관련된 검사대상물을 검사하기 위한 인라인 검사시스템
EP2541587B1 (en) * 2010-02-25 2020-05-06 Nikon Corporation Substrate separation device, load lock device, substrate adhesion device and substrate separation method
JP2020202330A (ja) * 2019-06-12 2020-12-17 リンテック株式会社 支持装置および支持方法ならびに押圧装置および押圧方法
CN113299576A (zh) * 2020-02-21 2021-08-24 济南晶正电子科技有限公司 一种薄膜机械分离装置

Cited By (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003316281A (ja) * 2002-04-22 2003-11-07 Sony Corp 薄膜デバイスの製造方法、薄膜デバイスおよび表示装置
JP2004119498A (ja) * 2002-09-24 2004-04-15 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 半導体装置の製造方法
JP2005005672A (ja) * 2003-05-16 2005-01-06 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 半導体素子の製造方法および発泡剥離装置
JP2005116679A (ja) * 2003-10-06 2005-04-28 Nitto Denko Corp 半導体ウエハの支持材からの剥離方法およびこれを用いた装置
KR101105589B1 (ko) * 2003-10-06 2012-01-17 닛토덴코 가부시키가이샤 반도체 웨이퍼의 지지재로부터의 박리방법 및 이것을사용한 장치
WO2008007454A1 (fr) * 2006-07-14 2008-01-17 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Plaque de maintien, dispositif de transfert, dispositif de pelage et procédé de pelage
JP2010531385A (ja) * 2007-06-25 2010-09-24 ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー. 高温スピンオン仮接合用組成物
JP2010003748A (ja) * 2008-06-18 2010-01-07 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 支持板剥離装置
KR101488030B1 (ko) * 2008-06-18 2015-01-29 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 지지판 박리 장치
KR101414855B1 (ko) * 2009-03-18 2014-07-03 에베 그룹 게엠베하 웨이퍼를 캐리어로부터 분리하기 위한 장치 및 방법
EP2541587B1 (en) * 2010-02-25 2020-05-06 Nikon Corporation Substrate separation device, load lock device, substrate adhesion device and substrate separation method
JP2012069914A (ja) * 2010-08-23 2012-04-05 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
WO2012026152A1 (en) * 2010-08-23 2012-03-01 Tokyo Electron Limited Joint system, substrate processing system, joint method, program and computer storage medium
WO2012026261A1 (ja) * 2010-08-23 2012-03-01 東京エレクトロン株式会社 剥離装置、剥離システム、剥離方法及びコンピュータ記憶媒体
JP2012069900A (ja) * 2010-08-23 2012-04-05 Tokyo Electron Ltd 接合システム、基板処理システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
WO2012026148A1 (en) * 2010-08-23 2012-03-01 Tokyo Electron Limited Separation system, separation method, program and computer storage medium
US9330898B2 (en) 2010-08-23 2016-05-03 Tokyo Electron Limited Separation system, separation method, program and computer storage medium
JP2012044086A (ja) * 2010-08-23 2012-03-01 Tokyo Electron Ltd 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2014103409A (ja) * 2010-08-23 2014-06-05 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
WO2012093610A1 (ja) * 2011-01-07 2012-07-12 東京エレクトロン株式会社 剥離システム、剥離方法、及びコンピュータ記憶媒体
JP2012146756A (ja) * 2011-01-07 2012-08-02 Tokyo Electron Ltd 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2012231126A (ja) * 2011-04-12 2012-11-22 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2012231127A (ja) * 2011-04-12 2012-11-22 Tokyo Electron Ltd 剥離方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、剥離装置及び剥離システム
JP2013004845A (ja) * 2011-06-20 2013-01-07 Tokyo Electron Ltd 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
WO2012176629A1 (ja) * 2011-06-20 2012-12-27 東京エレクトロン株式会社 剥離システム、剥離方法、及びコンピュータ記憶媒体
JP2013016579A (ja) * 2011-07-01 2013-01-24 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2013026260A (ja) * 2011-07-15 2013-02-04 Tokyo Electron Ltd 接合システム、基板処理システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
WO2013011806A1 (ja) * 2011-07-15 2013-01-24 東京エレクトロン株式会社 接合システム、基板処理システム及び接合方法
JP2013045885A (ja) * 2011-08-24 2013-03-04 Mitsubishi Materials Techno Corp 半導体ウェーハの製造方法
JP2013098366A (ja) * 2011-11-01 2013-05-20 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2013110137A (ja) * 2011-11-17 2013-06-06 Disco Abrasive Syst Ltd 光デバイス層の移替装置およびレーザー加工機
CN103123946A (zh) * 2011-11-17 2013-05-29 株式会社迪思科 光器件层的移换装置和激光加工机
JP2013140947A (ja) * 2011-12-08 2013-07-18 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
US10071544B2 (en) 2011-12-08 2018-09-11 Tokyo Electron Limited Separation apparatus, separation system, and separation method
JP2013120904A (ja) * 2011-12-08 2013-06-17 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2013149655A (ja) * 2012-01-17 2013-08-01 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法および剥離プログラム
JP2013149657A (ja) * 2012-01-17 2013-08-01 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法および剥離プログラム
JP2013149656A (ja) * 2012-01-17 2013-08-01 Tokyo Electron Ltd 剥離装置、剥離システム、剥離方法および剥離プログラム
JP2013179237A (ja) * 2012-02-29 2013-09-09 Disco Abrasive Syst Ltd リフトオフ装置
JP2014053463A (ja) * 2012-09-07 2014-03-20 Tokyo Electron Ltd 剥離システム
KR101847661B1 (ko) 2012-09-07 2018-04-10 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 박리 시스템
JP2014053465A (ja) * 2012-09-07 2014-03-20 Tokyo Electron Ltd 剥離システム
JP2013219390A (ja) * 2013-07-04 2013-10-24 Tokyo Electron Ltd 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP2013236094A (ja) * 2013-07-04 2013-11-21 Tokyo Electron Ltd 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JPWO2015046235A1 (ja) * 2013-09-25 2017-03-09 芝浦メカトロニクス株式会社 基板処理装置、貼合基板の剥離方法、および接着剤の除去方法
JP2015109360A (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 東京エレクトロン株式会社 基板保持機構及び剥離システム
EP3421227A1 (en) * 2017-06-26 2019-01-02 General Electric Company Systems of forming a composite layup structure
JP2019048370A (ja) * 2017-06-26 2019-03-28 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ 複合レイアップ構造を形成するシステムおよび方法
CN109130194A (zh) * 2017-06-26 2019-01-04 通用电气公司 形成复合叠层结构的系统和方法
KR20190004880A (ko) * 2017-07-05 2019-01-15 (주)소닉스 디스플레이모듈에 관련된 검사대상물을 검사하기 위한 인라인 검사시스템
KR101987822B1 (ko) 2017-07-05 2019-06-12 (주)소닉스 디스플레이모듈에 관련된 검사대상물을 검사하기 위한 인라인 검사시스템
JP2020202330A (ja) * 2019-06-12 2020-12-17 リンテック株式会社 支持装置および支持方法ならびに押圧装置および押圧方法
CN113299576A (zh) * 2020-02-21 2021-08-24 济南晶正电子科技有限公司 一种薄膜机械分离装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002100595A (ja) ウエ−ハ剥離装置及び方法並びにこれを用いたウエ−ハ処理装置
KR101922262B1 (ko) 박리 장치, 박리 시스템 및 박리 방법
JP7224508B2 (ja) 搬送装置、および基板処理システム
EP0982762B1 (en) Wafer transfer apparatus
JP3761444B2 (ja) 半導体装置の製造方法
TWI600054B (zh) Stripping device, stripping system and stripping method
JP2002367931A (ja) ダイボンディングシート貼着装置およびダイボンディングシートの貼着方法
CN102034747B (zh) 保护带剥离方法及其装置
JP6158721B2 (ja) 洗浄装置、剥離システム、洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
CN103325715A (zh) 用于从载体中分离晶片的装置和方法
KR20140110749A (ko) 박리 장치, 박리 시스템 및 박리 방법
TW202335115A (zh) 基板處理裝置及基板處理方法
CN112349605A (zh) 保护部件形成装置
JP2006237492A (ja) ウエハ処理装置
JP3618080B2 (ja) ダイボンディングシート貼着装置およびダイボンディングシートの貼着方法
JP2004087660A (ja) ウエハのダイシングテープへの転写方法とその装置
JP2000331963A (ja) ウェーハフレームへのウェーハ取付方法と装置及びそれを組込んだ平面加工装置
JP2002353170A (ja) 半導体ウェーハの分離システム、分離方法及びダイシング装置
JP4801644B2 (ja) 基板保持装置、基板処理装置および基板処理方法
JP2004304133A (ja) ウェハ処理装置
JP2015138954A (ja) 剥離装置および剥離システム
JP5227554B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2019021674A (ja) 基板処理システム、および基板処理方法
JP6466217B2 (ja) 剥離装置及び剥離システム

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050708

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050802

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20051220