JP2002192651A - Moldings with metal coating and manufacturing method therefor - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、MID等の立体回
路板などに用いられる金属被覆成形体及びその製造方法
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metal-coated molded article used for a three-dimensional circuit board such as an MID and a method for producing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】MID等の立体回路板やセンサー部品、
反射板などは、樹脂組成物を射出成形等して樹脂成形体
を作製し、この樹脂成形体の表面に回路や反射膜となる
金属膜を形成することによって製造されている。そして
液晶ポリマー(LCP)やシンジオタクチックポリスチ
レン(SPS)は、高周波特性に優れると共に耐熱性に
優れるので、立体回路基板やセンサー部品、反射板など
を形成する樹脂成形体の材料として特に適している。し
かし、LCPやSPSはその分子に極性基がないため
に、LCPやSPSで作製した樹脂成形体の表面に金属
膜を形成しても、樹脂成形体に対する金属膜の密着力は
極めて小さい。2. Description of the Related Art Three-dimensional circuit boards such as MIDs and sensor parts,
The reflection plate and the like are manufactured by producing a resin molded body by injection molding or the like of a resin composition, and forming a metal film serving as a circuit or a reflective film on the surface of the resin molded body. Liquid crystal polymer (LCP) and syndiotactic polystyrene (SPS) have excellent high-frequency characteristics and excellent heat resistance, and are therefore particularly suitable as a material for a resin molded body forming a three-dimensional circuit board, a sensor component, a reflector, and the like. . However, since the molecules of LCP and SPS do not have a polar group, even if a metal film is formed on the surface of a resin molded product made of LCP or SPS, the adhesion of the metal film to the resin molded product is extremely small.
【0003】そこで、樹脂成形体に対する金属膜の密着
性を高めるために、樹脂成形体の表面をプラズマ処理す
ることが行なわれているが、LCPやSPSで作製した
樹脂成形体と金属膜との密着性を向上させる効果を高く
得ることは難しい。図16はポリフタルアミド(PP
A)とLCPを窒素プラズマで処理した場合の、未処理
に対する窒素プラズマ処理による金属膜のピール強度の
向上の効果を示すものであり、PPAは窒素プラズマ処
理によってピール強度が大きく向上しているが、LCP
は窒素プラズマ処理によるピール強度の向上が小さく、
必要とされる0.6N/mmのピール強度に達していな
い。これは、「化1」に示すように、PPAには化学構
造式中に極性基が多く存在するが、LCPには化学構造
式中に極性基が存在しないため、プラズマ処理によって
LCPに高密度に極性基を付与することができないから
であると考えられる。[0003] In order to enhance the adhesion of the metal film to the resin molded body, plasma treatment is performed on the surface of the resin molded body. It is difficult to obtain a high effect of improving the adhesion. FIG. 16 shows polyphthalamide (PP
This shows the effect of improving the peel strength of the metal film by the nitrogen plasma treatment with respect to the non-treatment when A) and LCP were treated with nitrogen plasma, and the peel strength of PPA was greatly improved by the nitrogen plasma treatment. , LCP
Has a small improvement in peel strength by nitrogen plasma treatment,
The required peel strength of 0.6 N / mm has not been reached. This is because, as shown in Chemical Formula 1, PPA has many polar groups in the chemical structural formula, but LCP does not have a polar group in the chemical structural formula. It is considered that a polar group cannot be provided to the polymer.
【0004】[0004]
【化1】 Embedded image
【0005】一方、例えば特開平9−193293号公
報には、他の樹脂とLCPとの複合材料から樹脂成形体
を作製したり、樹脂成形体の表面にプライマー塗料を吹
き付け塗装したりすることによって、金属膜の密着力を
得ることが試みられている。しかし、LCPに他の樹脂
を混合して得られる複合材料は、LCPの優れた高周波
特性や耐熱性などの特性が他の樹脂で損なわれるおそれ
があり、またプライマー塗料を塗装する場合、その膜厚
は少なくとも数十μm以上であり、この場合もLCPの
優れた高周波特性や耐熱性などの特性がプライマー塗料
で損なわれるおそれがあった。On the other hand, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-193293 discloses that a resin molded body is produced from a composite material of another resin and LCP, or a surface of the resin molded body is spray-coated with a primer paint. Attempts have been made to obtain adhesion of a metal film. However, the composite material obtained by mixing LCP with another resin may lose the properties of the LCP such as high-frequency characteristics and heat resistance by the other resin. The thickness is at least several tens of μm or more, and in this case also, the properties such as excellent high-frequency characteristics and heat resistance of the LCP may be damaged by the primer coating.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の点に鑑
みてなされたものであり、樹脂成形体を構成する樹脂の
特性を損なうことなく、樹脂成形体の表面に金属膜を密
着性高く形成することができる金属被覆成形体を提供す
ることを目的とするものである。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and a metal film having high adhesion to the surface of a resin molded body without impairing the properties of the resin constituting the resin molded body. It is an object of the present invention to provide a metal-coated molded body that can be formed.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
金属被覆成形体は、樹脂成形体の表面に金属膜が被覆さ
れた金属被覆成形体であって、樹脂成形体の樹脂と金属
膜との密着性よりも金属膜に対する密着性が高い樹脂を
含有する中間膜を、樹脂成形体と金属膜との間に5μm
以下の厚みで形成して成ることを特徴とするものであ
る。A metal-coated molded product according to a first aspect of the present invention is a metal-coated molded product in which a metal film is coated on a surface of a resin molded product. An intermediate film containing a resin having higher adhesiveness to a metal film than adhesiveness to a film is placed at a distance of 5 μm between the resin molded body and the metal film.
It is characterized by being formed with the following thickness.
【0008】また請求項2の発明は、請求項1におい
て、中間膜に含有される樹脂が、ポリイミド樹脂とエポ
キシ樹脂の少なくとも一方であることを特徴とするもの
である。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the resin contained in the intermediate film is at least one of a polyimide resin and an epoxy resin.
【0009】また請求項3の発明は、請求項1又は2に
おいて、中間膜を、樹脂と金属膜の金属とが混在する膜
で形成して成ることを特徴とするものである。A third aspect of the present invention is characterized in that, in the first or second aspect, the intermediate film is formed by a film in which a resin and a metal of a metal film are mixed.
【0010】また請求項4の発明は、請求項3におい
て、樹脂に対する金属の混在比率が、樹脂成形体に近い
部分で低く、金属膜に近い部分で高くなるように、徐々
に変化させて中間膜を形成して成ることを特徴とするも
のである。According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect, the mixing ratio of the metal to the resin is gradually changed so as to be low in a portion near the resin molded body and high in a portion near the metal film. It is characterized by forming a film.
【0011】また請求項5の発明は、請求項1又は2に
おいて、中間膜を、樹脂と無機物とが混在する膜で形成
して成ることを特徴とするものである。According to a fifth aspect of the present invention, in the first or second aspect, the intermediate film is formed of a film in which a resin and an inorganic material are mixed.
【0012】また請求項6の発明は、請求項5におい
て、無機物としてアルミナを用いて成ることを特徴とす
るものである。The invention of claim 6 is characterized in that, in claim 5, alumina is used as the inorganic substance.
【0013】また請求項7の発明は、請求項1又は2に
おいて、中間膜を、樹脂成形体の側の樹脂層と、金属膜
の側の金属酸化物層との二層構成に形成して成ることを
特徴とするものである。According to a seventh aspect of the present invention, in the first or second aspect, the intermediate film is formed in a two-layer structure of a resin layer on the resin molded body side and a metal oxide layer on the metal film side. It is characterized by becoming.
【0014】また請求項8の発明は、請求項7におい
て、金属酸化物層を金属膜の金属とその酸化物とが混在
する層で形成すると共に、金属に対する金属酸化物の混
在比率が、樹脂層に近い部分で高く、金属膜に近い部分
で低くなるように、徐々に変化させて金属酸化物層を形
成して成ることを特徴とするものである。According to an eighth aspect of the present invention, in the seventh aspect, the metal oxide layer is formed of a layer in which the metal of the metal film and the oxide of the metal film are mixed, and the mixing ratio of the metal oxide to the metal is resin. The metal oxide layer is formed by gradually changing the metal oxide layer so that the metal oxide layer is gradually increased so as to be higher near the layer and lower near the metal film.
【0015】本発明の請求項9に係る金属被覆成形体の
製造方法は、樹脂成形体の表面に、樹脂成形体の樹脂と
金属膜との密着性よりも金属膜に対する密着性が高い樹
脂を含有する中間膜を5μm以下の厚みで形成し、この
後に中間膜の上から樹脂成形体の表面に金属膜を形成す
ることを特徴とするものである。According to a ninth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a metal-coated molded article, a resin having higher adhesiveness to the metal film than adhesiveness between the resin of the resin molded article and the metal film is formed on the surface of the resin molded article. An intermediate film to be contained is formed with a thickness of 5 μm or less, and thereafter, a metal film is formed on the surface of the resin molded product from above the intermediate film.
【0016】また請求項10の発明は、請求項9におい
て、中間膜に含有される樹脂が、ポリイミド樹脂とエポ
キシ樹脂の少なくとも一方であることを特徴とするもの
である。A tenth aspect of the present invention is directed to the ninth aspect, wherein the resin contained in the intermediate film is at least one of a polyimide resin and an epoxy resin.
【0017】また請求項11の発明は、請求項9又は1
0において、樹脂成形体の表面で樹脂を気相重合するこ
とによって中間膜を形成することを特徴とするものであ
る。The invention of claim 11 is the invention of claim 9 or 1
0, wherein an intermediate film is formed by gas-phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded body.
【0018】また請求項12の発明は、請求項9又は1
0において、樹脂成形体の表面に樹脂液をスプレーする
ことによって中間膜を形成することを特徴とするもので
ある。The invention of claim 12 is the invention of claim 9 or 1
0, an intermediate film is formed by spraying a resin liquid on the surface of the resin molded body.
【0019】また請求項13の発明は、請求項9乃至1
2のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面をプラズマ処
理して粗面化した後、樹脂成形体の表面に中間膜を形成
することを特徴とするものである。The thirteenth aspect of the present invention relates to the ninth to the first aspects.
2. The method according to any one of 2), wherein the surface of the resin molded body is roughened by plasma treatment, and then an intermediate film is formed on the surface of the resin molded body.
【0020】また請求項14の発明は、請求項13にお
いて、樹脂成形体の表面を粗面化するプラズマ処理を、
酸素あるいはオゾンを雰囲気ガスとするプラズマで行な
うことを特徴とするものである。According to a fourteenth aspect of the present invention, in the thirteenth aspect, the plasma treatment for roughening the surface of the resin molded product is performed.
The method is characterized in that the plasma treatment is performed using oxygen or ozone as an atmospheric gas.
【0021】また請求項15の発明は、請求項9乃至1
4のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面の樹脂の分子
の結合を開裂するプラズマ処理をした後、樹脂成形体の
表面に中間膜を形成することを特徴とするものである。The invention of claim 15 is the invention of claims 9 to 1
4. The method according to any one of the items 4, wherein an intermediate film is formed on the surface of the resin molded article after performing a plasma treatment for cleaving the bond of the resin molecules on the surface of the resin molded article.
【0022】また請求項16の発明は、請求項15にお
いて、樹脂成形体の表面の樹脂の分子の結合を開裂する
プラズマ処理を、大気圧プラズマで行なうことを特徴と
するものである。The invention of claim 16 is characterized in that, in claim 15, the plasma treatment for cleaving the bonding of the molecules of the resin on the surface of the resin molded body is performed by atmospheric pressure plasma.
【0023】また請求項17の発明は、請求項9乃至1
4のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面にレーザを照
射して表面の樹脂の分子の結合を開裂するプラズマ処理
をした後、樹脂成形体の表面に中間膜を形成することを
特徴とするものである。The seventeenth aspect of the present invention relates to the ninth to the first aspects.
4. In any one of (4) and (4), after performing a plasma treatment for irradiating a laser to the surface of the resin molded body to cleave the bond of the molecules of the resin on the surface, forming an intermediate film on the surface of the resin molded body It is.
【0024】また請求項18の発明は、請求項9乃至1
4のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面にエキシマラ
ンプで紫外線を照射して表面の樹脂の分子の結合を開裂
するプラズマ処理をした後、樹脂成形体の表面に中間膜
を形成することを特徴とするものである。Further, the invention of claim 18 is the invention of claims 9 to 1
4. In any one of (4) and (4), an intermediate film is formed on the surface of the resin molded product after the surface of the resin molded product is subjected to plasma treatment by irradiating ultraviolet rays with an excimer lamp to cleave the bonding of the resin molecules on the surface. It is assumed that.
【0025】また請求項19の発明は、請求項9乃至1
8のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面で樹脂を気相
重合して中間膜を形成しながら、金属を物理蒸着して中
間膜の上に金属膜を形成することによって、樹脂と金属
が混在した中間膜を形成することを特徴とするものであ
る。Further, the invention of claim 19 is the invention of claims 9 to 1
8. In any one of 8, the resin and the metal are mixed by forming a metal film on the intermediate film by physical vapor deposition of the metal while forming the intermediate film by vapor-phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded body. Characterized in that a formed intermediate film is formed.
【0026】また請求項20の発明は、請求項19にお
いて、樹脂成形体の表面で樹脂を気相重合して中間膜を
形成しながら、金属を物理蒸着して中間膜の上に金属膜
を形成することによって、樹脂と金属が混在した中間膜
を形成するにあたって、樹脂の気相重合の比率を減らし
ながら金属の物理蒸着を増やすことによって、樹脂に対
する金属の混在比率が、樹脂成形体に近い部分で低く、
金属膜に近い部分で高くなるように、徐々に変化する中
間膜を形成することを特徴とするものである。According to a twentieth aspect of the present invention, in the nineteenth aspect, a metal film is deposited on the intermediate film by physical vapor deposition of a metal while forming an intermediate film by gas phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded product. By forming, in forming the intermediate film in which the resin and the metal are mixed, by increasing the physical vapor deposition of the metal while reducing the ratio of the gas phase polymerization of the resin, the mixing ratio of the metal to the resin is close to that of the resin molded body. Low in part,
The method is characterized in that an intermediate film that changes gradually is formed so as to increase in a portion near the metal film.
【0027】また請求項21の発明は、請求項9乃至1
8のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面で樹脂を気相
重合して中間膜を形成しながら、無機物を物理蒸着する
ことによって、樹脂と無機物が混在した中間膜を形成す
ることを特徴とするものである。The invention of claim 21 is the invention of claims 9 to 1
8. The method according to any one of 8, wherein an intermediate is formed by vapor-phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded body to form an intermediate film, and physical deposition of the inorganic material is performed to form an intermediate film in which the resin and the inorganic material are mixed. Things.
【0028】また請求項22の発明は、請求項21にお
いて、樹脂成形体の表面で樹脂を気相重合して中間膜を
形成しながら、無機物としてアルミナを物理蒸着するこ
とによって、樹脂とアルミナが混在した中間膜を形成す
ることを特徴とするものである。According to a twenty-second aspect of the present invention, the resin and the alumina are physically vapor-deposited as an inorganic substance while forming an intermediate film by gas-phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded product. It is characterized in that a mixed intermediate film is formed.
【0029】また請求項23の発明は、請求項9乃至2
2のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面に樹脂層を形
成すると共に樹脂層の表面に金属酸化物層を形成するこ
とによって、樹脂層と金属酸化物層の二層構成の中間膜
を形成することを特徴とするものである。Further, the invention of claim 23 is the invention of claims 9 to 2
2. In any one of (2), by forming a resin layer on the surface of the resin molded body and forming a metal oxide layer on the surface of the resin layer, an intermediate film having a two-layer structure of the resin layer and the metal oxide layer is formed. It is characterized by the following.
【0030】また請求項24の発明は、請求項23にお
いて、樹脂成形体の表面に樹脂層を形成した後に、反応
性スパッタリングで金属を酸化反応させながら樹脂層の
上に蒸着させて金属酸化物層を形成することによって、
樹脂層と金属酸化物層の二層構成の中間膜を形成し、引
き続いて金属を酸化させないでスパッタリングすること
によって、中間膜の金属酸化物層の表面に金属膜を形成
することを特徴とするものであるまた請求項25の発明
は、請求項24において、樹脂成形体の表面に樹脂層を
形成した後に、反応性スパッタリングで金属を酸化反応
させながら樹脂層の上に蒸着させて金属酸化物層を形成
することによって、樹脂層と金属酸化物層の二層構成の
中間膜を形成するにあたって、金属の酸化反応量を調整
しながら反応性スパッタリングをして、金属とその酸化
物とを混在させると共に、金属に対する金属酸化物の混
在比率が、樹脂層に近い部分で高く、樹脂層から遠い部
分で低くなるように徐々に変化するように金属酸化物層
を形成することを特徴とするものである。According to a twenty-fourth aspect of the present invention, in the twenty-third aspect, a metal oxide is formed by forming a resin layer on the surface of a resin molded body and depositing the metal on the resin layer while oxidizing the metal by reactive sputtering. By forming a layer,
Forming a metal film on the surface of the metal oxide layer of the intermediate film by forming a two-layered intermediate film of a resin layer and a metal oxide layer, and subsequently sputtering without oxidizing the metal; According to a twenty-fifth aspect of the present invention, in the twenty-fourth aspect, a metal oxide is formed by forming a resin layer on the surface of a resin molded body and depositing the metal on the resin layer while oxidizing the metal by reactive sputtering. In forming a two-layer intermediate film consisting of a resin layer and a metal oxide layer by forming a layer, the metal and its oxide are mixed by performing reactive sputtering while adjusting the oxidation reaction amount of the metal. And forming the metal oxide layer so that the mixture ratio of the metal oxide to the metal gradually changes so as to be high in the portion close to the resin layer and low in the portion far from the resin layer. It is an butterfly.
【0031】また請求項26の発明は、請求項9乃至2
5のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面に中間膜を形
成し、次いで中間膜の表面をプラズマ処理して粗面化し
た後、中間膜の上から樹脂成形体の表面に金属膜を形成
することを特徴とするものである。The invention of claim 26 is the invention of claims 9 to 2
In any one of 5, the intermediate film is formed on the surface of the resin molded body, and then the surface of the intermediate film is roughened by plasma treatment, and then the metal film is formed on the surface of the resin molded body from above the intermediate film. It is characterized by the following.
【0032】また請求項27の発明は、請求項9乃至2
6のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面に中間膜を形
成し、次いで中間膜の表面の樹脂の分子の結合を開裂す
る処理をした後、中間膜の上から樹脂成形体の表面に金
属膜を形成することを特徴とするものである。The invention of claim 27 is the invention of claims 9 and 2.
6. In any one of the above, after forming an intermediate film on the surface of the resin molded product and then performing a treatment of cleaving the bond of the resin molecules on the surface of the intermediate film, a metal film is formed on the surface of the resin molded product from above the intermediate film. Is formed.
【0033】また請求項28の発明は、請求項9乃至2
7のいずれかにおいて、中間膜の上から樹脂成形体の表
面に金属を物理蒸着して金属膜を形成する際に、希ガス
元素イオンのイオンビームを照射することを特徴とする
ものである。The invention of claim 28 is the invention of claims 9 to 2
7. The method according to any one of items 7, wherein when forming a metal film by physically depositing a metal on the surface of the resin molded body from above the intermediate film, an ion beam of rare gas element ions is irradiated.
【0034】また請求項29の発明は、請求項9乃至2
7のいずれかにおいて、中間膜の上から樹脂成形体の表
面に金属を物理蒸着して金属膜を形成する際に、酸素イ
オンのイオンビームを照射した後に、希ガス元素イオン
のイオンビームを照射することを特徴とするものであ
る。Further, the invention of claim 29 is the invention of claims 9 to 2
7. In any one of the above, in forming a metal film by physically depositing a metal on the surface of the resin molded body from above the intermediate film, irradiating an ion beam of a rare gas element ion after irradiating an ion beam of an oxygen ion It is characterized by doing.
【0035】[0035]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。Embodiments of the present invention will be described below.
【0036】本発明において樹脂成形体1としては、L
CPやSPSを主成分とする樹脂組成物を成形したもの
を用いることができるものであり、この樹脂成形体1の
表面に中間膜3を図1(a)のように形成した後、中間
膜3の上から樹脂成形体1の表面に金属膜2を形成する
ことによって、図1(b)のような金属被覆成形体を得
ることができるものである。In the present invention, the resin molded body 1 is L
A resin composition mainly composed of CP or SPS can be used. An intermediate film 3 is formed on the surface of the resin molded body 1 as shown in FIG. By forming the metal film 2 on the surface of the resin molding 1 from above, a metal-coated molding as shown in FIG. 1B can be obtained.
【0037】金属膜2の形成は、スパッタリング、真空
蒸着、イオンプレーティングなどの物理蒸着法(PVD
法)で行なうことができる。図2はスパッタリングによ
って金属膜2を形成する装置を示すものであり、チャン
バー11内にホルダー電極12と銅などのターゲット金
属13を配置し、ホルダー電極12とターゲット金属1
3に直流電源14を接続するようにしてある。そして表
面に中間膜3を形成した樹脂成形体1をホルダー電極1
2に保持させてセットし、真空ポンプによりチャンバー
11内を10-4Pa台まで真空引きし、アルゴンガスな
どの希ガスをチャンバー11にガス圧0.5Pa程度で
通しながら、ターゲット金属13にDCパワー3kW程
度の直流電圧を印加することによって、発生するプラズ
マPの作用で、中間膜3の上から樹脂成形体1の表面に
金属膜2を形成することができる。金属膜2の厚みは
0.5μm程度に形成することができ、得られた金属被
覆成形体をMIDなどの立体回路板として用いる場合に
は、金属膜2をエッチング加工して所望パターンにし、
これに電解メッキなどして金属を厚付けすることによっ
て、回路形成を行なうものである。The metal film 2 is formed by physical vapor deposition (PVD) such as sputtering, vacuum vapor deposition, or ion plating.
Method). FIG. 2 shows an apparatus for forming a metal film 2 by sputtering, in which a holder electrode 12 and a target metal 13 such as copper are arranged in a chamber 11, and the holder electrode 12 and the target metal 1 are placed.
3, a DC power supply 14 is connected. Then, the resin molded body 1 having the intermediate film 3 formed on the surface is placed on the holder electrode 1.
2, the inside of the chamber 11 is evacuated to a level of 10 −4 Pa by a vacuum pump, and DC gas is passed through the target metal 13 while passing a rare gas such as argon gas through the chamber 11 at a gas pressure of about 0.5 Pa. By applying a DC voltage having a power of about 3 kW, the metal film 2 can be formed on the surface of the resin molding 1 from above the intermediate film 3 by the action of the plasma P generated. The thickness of the metal film 2 can be formed to about 0.5 μm, and when the obtained metal-coated molded body is used as a three-dimensional circuit board such as a MID, the metal film 2 is etched to form a desired pattern.
A circuit is formed by thickening a metal by electrolytic plating or the like.
【0038】中間膜3は、樹脂成形体1の樹脂と金属膜
2との密着性よりも、金属膜2に対する密着性が高い樹
脂から形成されるものであり、この樹脂としては多くの
極性基を有するものであることが望ましい。多くの極性
基を有すると、極性基と金属との反応で金属膜2の密着
性を高く得ることができると共に、中間膜3の表面をプ
ラズマ処理することによって極性基を活性化して金属膜
2の密着性を一層高く得ることが可能になるものであ
る。The intermediate film 3 is formed of a resin having a higher adhesion to the metal film 2 than the adhesion between the resin of the resin molded body 1 and the metal film 2. It is desirable to have. When there are many polar groups, the adhesion of the metal film 2 can be increased by the reaction between the polar groups and the metal, and the polar groups are activated by plasma-treating the surface of the intermediate film 3 so that the metal film 2 can be activated. Can be obtained with higher adhesion.
【0039】このように金属膜2に対する密着性が高い
樹脂からなる中間膜3の上から樹脂成形体1の表面に金
属膜2を形成することによって、樹脂成形体1の表面に
対する金属膜2の密着性を中間膜3によって高く得るこ
とができるものである。そして中間膜3は、5μm以
下、より好ましくは1μm以下の膜厚で形成されるもの
である。中間膜3の厚みが厚いと、LCPやSPSで成
形される樹脂成形体1の優れた特性が中間膜3によって
損なわれることになるが、中間膜3の厚みを5μm以下
に設定することによって、中間膜3で樹脂成形体1の特
性を損ねるようなことがなくなるものである。中間膜3
の膜厚の下限は特に設定されないが、金属膜2の密着性
を向上させる効果を確保するためには、中間膜3は膜厚
が0.01μm以上あることが望ましい。As described above, by forming the metal film 2 on the surface of the resin molded body 1 from above the intermediate film 3 made of a resin having high adhesion to the metal film 2, the metal film 2 adheres to the surface of the resin molded body 1. High adhesion can be obtained by the intermediate film 3. The intermediate film 3 is formed with a thickness of 5 μm or less, more preferably 1 μm or less. If the thickness of the intermediate film 3 is large, the excellent properties of the resin molded article 1 formed by LCP or SPS will be impaired by the intermediate film 3, but by setting the thickness of the intermediate film 3 to 5 μm or less, This prevents the intermediate film 3 from impairing the properties of the resin molded body 1. Intermediate film 3
The lower limit of the film thickness is not particularly set, but in order to secure the effect of improving the adhesion of the metal film 2, the intermediate film 3 preferably has a thickness of 0.01 μm or more.
【0040】ここで、中間膜3をTi、Cr、Ni等の
活性金属で形成し、Cu等で形成される金属膜2の樹脂
成形体1に対する密着性を活性金属の中間膜3で高める
ことが従来から行なわれている。しかし、金属膜2をエ
ッチング加工して導体回路等のパターンを形成する場
合、金属膜2の下の中間膜3が金属で形成されている
と、中間膜3もエッチングする必要があり、エッチング
時間が増加したり、エッチング厚みが厚くなって微細回
路を形成することが困難になる等の問題があるが、中間
膜3を樹脂で形成する本発明の場合には、このような問
題はない。Here, the intermediate film 3 is formed of an active metal such as Ti, Cr, Ni or the like, and the adhesion of the metal film 2 formed of Cu or the like to the resin molded body 1 is enhanced by the active metal intermediate film 3. Has been performed conventionally. However, when the metal film 2 is etched to form a pattern such as a conductive circuit, if the intermediate film 3 below the metal film 2 is formed of metal, the intermediate film 3 also needs to be etched. However, there are problems such as an increase in the thickness and an increase in the etching thickness, which makes it difficult to form a fine circuit. However, in the case of the present invention in which the intermediate film 3 is formed of a resin, there is no such problem.
【0041】そして本発明において、中間膜3を形成す
る上記のような樹脂としては、ポリイミド樹脂やエポキ
シ樹脂を用いることができる。ポリイミド樹脂やエポキ
シ樹脂は極性基(官能基)を有するので金属との密着性
が高く、しかも耐熱性が高い樹脂であるので、樹脂成形
体1の耐熱性を高めるうえでも好ましい。In the present invention, a polyimide resin or an epoxy resin can be used as the resin for forming the intermediate film 3 as described above. Since the polyimide resin or the epoxy resin has a polar group (functional group) and therefore has a high adhesiveness to a metal and a high heat resistance, it is also preferable to increase the heat resistance of the resin molded body 1.
【0042】樹脂成形体1の表面に中間膜3を形成する
にあたって、本発明では上記のようにその厚みを5μm
以下と、非常に薄く形成する必要がある。例えば樹脂液
に樹脂成形体1を浸漬したり、樹脂成形体1の表面に樹
脂液をスピンコートしたりして、樹脂成形体1の表面に
中間膜3を形成する湿式工法では、このような薄い厚み
で中間膜3を形成することが難しく、また樹脂成形体1
の表面が三次元立体形状であると、このような湿式工法
では液溜まりや液流れが生じて均一な膜厚で中間膜3を
形成することが困難である。そこで本発明では、樹脂成
形体1の表面で樹脂を気相重合することによって中間膜
3を形成するようにしているものであり、樹脂成形体1
の表面に5μm以下の薄い厚みで中間膜3を形成するこ
とが可能になり、また樹脂成形体1の表面が三次元立体
形状であっても、液溜まりや液流れのような問題なく、
均一な膜厚で中間膜3を形成することが可能になるもの
である。この気相重合法としては、蒸着重合法やプラズ
マ重合法などを採用することができる。In forming the intermediate film 3 on the surface of the resin molded product 1, the thickness of the intermediate film 3 is set to 5 μm as described above.
It is necessary to form the following very thin. For example, such a wet construction method in which the resin molded body 1 is immersed in the resin liquid, or the surface of the resin molded body 1 is spin-coated with the resin liquid to form the intermediate film 3 on the surface of the resin molded body 1. It is difficult to form the intermediate film 3 with a small thickness.
If the surface has a three-dimensional three-dimensional shape, it is difficult to form the intermediate film 3 with a uniform film thickness due to liquid pooling and liquid flow in such a wet method. Therefore, in the present invention, the intermediate film 3 is formed by gas-phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded body 1.
It is possible to form the intermediate film 3 with a thin thickness of 5 μm or less on the surface of the resin molded body 1. Even if the surface of the resin molded body 1 has a three-dimensional three-dimensional shape, there is no problem such as a liquid pool or a liquid flow.
This makes it possible to form the intermediate film 3 with a uniform film thickness. As the gas phase polymerization method, a vapor deposition polymerization method, a plasma polymerization method, or the like can be employed.
【0043】ポリイミド樹脂を蒸着重合して樹脂成形体
1の表面に中間膜3を形成する装置の一例を図3に示
す。すなわちホルダー16を設けたチャンバー17内に
ロータリーポンプなどの真空ポンプ18が接続してあ
り、このチャンバー17にはさらに原料モノマーである
無水ピロメリト酸(PMDA)とオキシジアニリン(O
DA)を供給するモノマータンク19,20が接続して
ある。そしてホルダー16上に樹脂成形体1をセット
し、チャンバー17内を10Pa程度に真空引きすると
共に200℃程度に加熱し、この状態でモノマータンク
19,20からPMDAとODAをそれぞれチャンバー
17内に気化させて導入し、PMDAとODAを樹脂成
形体1の表面で反応させながら成膜したのち、300℃
程度の温度で60分程、加熱を保持して硬化させること
によって、「化2」に示す反応でポリイミド樹脂による
中間膜3を樹脂成形体1の表面に形成することができる
ものである。FIG. 3 shows an example of an apparatus for forming an intermediate film 3 on the surface of the resin molded body 1 by vapor-depositing and polymerizing a polyimide resin. That is, a vacuum pump 18 such as a rotary pump is connected to a chamber 17 in which the holder 16 is provided, and the chamber 17 further contains pyromellitic anhydride (PMDA) and oxydianiline (O
Monomer tanks 19 and 20 for supplying DA) are connected. Then, the resin molded body 1 is set on the holder 16 and the inside of the chamber 17 is evacuated to about 10 Pa and heated to about 200 ° C. In this state, PMDA and ODA are vaporized from the monomer tanks 19 and 20 into the chamber 17 respectively. To form a film while reacting PMDA and ODA on the surface of the resin molded body 1, and then forming the film at 300 ° C.
The intermediate film 3 made of the polyimide resin can be formed on the surface of the resin molded body 1 by the reaction shown in Chemical Formula 2 by curing while maintaining the heating at about the temperature for about 60 minutes.
【0044】[0044]
【化2】 Embedded image
【0045】またポリイミド樹脂をプラズマ重合して樹
脂成形体1の表面に中間膜3を形成する装置の一例を図
4に示す。すなわちチャンバー22内にホルダー電極2
3と対向電極24を配置し、ホルダー電極23と対向電
極24にマッチングボックス25とブロッキングコンデ
ンサ26を介して高周波電源27を接続するようにして
ある。このチャンバー22にはさらに原料モノマーであ
る無水ピロメリト酸(PMDA)とオキシジアニリン
(ODA)を供給するモノマータンク19,20が接続
してある。そして樹脂成形体1をホルダー電極23に保
持させてセットし、真空ポンプによりチャンバー22内
を10-4Pa台まで真空引きした後に、アルゴンガスな
どの希ガスをチャンバー22にガス圧10Pa程度で通
しながら、ホルダー電極23と対向電極24の間にRF
パワー300Wの高周波電圧を印加することによってプ
ラズマPを発生させ、モノマータンク19,20からP
MDAとODAをそれぞれ加熱・蒸発させてチャンバー
22内に導入する。このようにしてPMDAとODAの
蒸気をプラズマPで活性化させて、PMDAとODAを
樹脂成形体1の表面で反応させながら堆積させ、ポリイ
ミド樹脂による中間膜3を樹脂成形体1の表面に形成す
ることができるものである。尚、プラズマP中のイオン
が樹脂成形体1の表面に堆積中の樹脂に衝突することを
防止するため、樹脂成形体1を保持するホルダー電極2
3はアース側に接続するのが好ましい。FIG. 4 shows an example of an apparatus for forming an intermediate film 3 on the surface of a resin molded body 1 by plasma-polymerizing a polyimide resin. That is, the holder electrode 2 is placed in the chamber 22.
3 and a counter electrode 24 are arranged, and a high frequency power supply 27 is connected to the holder electrode 23 and the counter electrode 24 via a matching box 25 and a blocking capacitor 26. The chamber 22 is further connected to monomer tanks 19 and 20 for supplying pyromellitic anhydride (PMDA) and oxydianiline (ODA) as raw material monomers. Then, the resin molded body 1 is set and held by the holder electrode 23, and the inside of the chamber 22 is evacuated to a level of 10 −4 Pa by a vacuum pump, and then a rare gas such as argon gas is passed through the chamber 22 at a gas pressure of about 10 Pa. Between the holder electrode 23 and the counter electrode 24
Plasma P is generated by applying a high-frequency voltage of 300 W power, and P is generated from monomer tanks 19 and 20.
MDA and ODA are heated and evaporated, respectively, and introduced into the chamber 22. In this way, the vapors of PMDA and ODA are activated by the plasma P, and PMDA and ODA are deposited while reacting on the surface of the resin molded body 1, thereby forming an intermediate film 3 of polyimide resin on the surface of the resin molded body 1. Is what you can do. In order to prevent ions in the plasma P from colliding with the resin being deposited on the surface of the resin molded body 1, a holder electrode 2 holding the resin molded body 1 is used.
3 is preferably connected to the ground side.
【0046】樹脂成形体1の表面に樹脂の中間膜3を形
成するにあたっては、上記のように気相重合法で行なう
他に、スプレー法で樹脂の中間膜3を形成することも可
能である。スプレー法は、樹脂を溶剤等に溶解乃至分散
しておき、この樹脂液を樹脂成形体1の表面にスプレー
して成膜した後に、溶剤を気化させて乾燥することによ
って、樹脂成形体1の表面に樹脂の中間膜3を形成する
ようにしたものである。この方法を採用することによっ
て、樹脂成形体1の表面が三次元立体形状であっても、
液溜まりや液流れのような問題なく、均一な膜厚で中間
膜3を形成することが可能になるものである。またこの
スプレー工法は、上記のような蒸着重合やプラズマ重合
のような気相重合法に比べて簡易な装置で実施可能であ
る。In forming the resin intermediate film 3 on the surface of the resin molded body 1, it is possible to form the resin intermediate film 3 by a spray method in addition to the above-described gas phase polymerization method. . In the spray method, the resin is dissolved or dispersed in a solvent or the like, and the resin liquid is sprayed on the surface of the resin molded body 1 to form a film. The resin intermediate film 3 is formed on the surface. By adopting this method, even if the surface of the resin molded body 1 has a three-dimensional three-dimensional shape,
The intermediate film 3 can be formed with a uniform film thickness without problems such as a liquid pool and a liquid flow. Further, this spray method can be carried out with a simpler apparatus than a vapor phase polymerization method such as vapor deposition polymerization or plasma polymerization as described above.
【0047】また、上記のように樹脂成形体1の表面に
樹脂の中間膜3を形成するに先だって、樹脂成形体1の
表面を予めプラズマ処理して、樹脂成形体1の表面を粗
面化しておくようにしてもよい。このように樹脂成形体
1の表面をプラズマ処理して粗面化した後に中間膜3を
形成することによって、粗面によるアンカー効果で樹脂
成形体1に対する中間膜3の密着性を高め、中間膜3を
介した樹脂成形体1と金属膜2との密着性を一層向上さ
せることができるものである。Prior to forming the resin intermediate film 3 on the surface of the resin molded body 1 as described above, the surface of the resin molded body 1 is previously subjected to plasma treatment to roughen the surface of the resin molded body 1. You may keep it. By forming the intermediate film 3 after the surface of the resin molded body 1 is roughened by plasma treatment as described above, the adhesion of the intermediate film 3 to the resin molded body 1 is enhanced by the anchor effect due to the rough surface, and the intermediate film 3 is formed. 3, the adhesion between the resin molded body 1 and the metal film 2 can be further improved.
【0048】図5はプラズマ処理装置の一例を示すもの
であり、チャンバー29内にホルダー電極30を配置す
ると共にホルダー電極30にマッチングボックス25と
ブロッキングコンデンサ26を介して高周波電源27が
接続してあり、チャンバー29は接地してある。この装
置において、ホルダー電極30に樹脂成形体1をセット
し、真空ポンプによりチャンバー29内を10-4Pa台
まで真空引きした後に、雰囲気ガスをチャンバー29に
ガス圧10Pa程度で通しながら、ホルダー電極30に
RFパワー1kWの高周波電圧を印加することによっ
て、プラズマPを発生させる。雰囲気ガスとしては、窒
素ガスなどを用いることができる。そして、ホルダー電
極30に高周波電圧を印加することによって負の電圧が
樹脂成形体1にかかっており、窒素ガスを雰囲気ガスと
するプラズマP中の窒素イオンが樹脂成形体1に衝突
し、樹脂成形体1の樹脂を構成している元素の炭素や水
素が窒素イオンと反応して樹脂成形体1の表面から離脱
するエッチングがなされ、樹脂成形体1の表面に微細な
凹凸を形成して粗面化することができるものあり、また
このとき同時に窒素官能基を樹脂成形体1の表面に形成
することができるものである。FIG. 5 shows an example of a plasma processing apparatus in which a holder electrode 30 is arranged in a chamber 29 and a high frequency power supply 27 is connected to the holder electrode 30 via a matching box 25 and a blocking capacitor 26. , Chamber 29 is grounded. In this apparatus, the resin molded body 1 is set on the holder electrode 30, and the inside of the chamber 29 is evacuated to a pressure of about 10 −4 Pa by a vacuum pump. A plasma P is generated by applying a high-frequency voltage of 1 kW RF power to 30. As the atmosphere gas, a nitrogen gas or the like can be used. Then, a negative voltage is applied to the resin molded body 1 by applying a high frequency voltage to the holder electrode 30, and nitrogen ions in the plasma P using nitrogen gas as an atmospheric gas collide with the resin molded body 1, and the resin molding 1 Etching is performed in which carbon and hydrogen, which are elements constituting the resin of the resin body 1, react with nitrogen ions and are separated from the surface of the resin body 1, thereby forming fine irregularities on the surface of the resin body 1 and forming a rough surface. Some nitrogen functional groups can be simultaneously formed on the surface of the resin molded body 1 at this time.
【0049】樹脂成形体1の表面をプラズマ処理して粗
面化するにあたって、プラズマを発生させる雰囲気ガス
としては上記のような窒素ガスを用いることができる
が、この雰囲気ガスとして酸素やオゾンを用いるように
すれば、エッチング効果が大きく得られ、樹脂成形体1
の表面の粗面化を効率高く行なうことができるものであ
る。すなわち、酸素やオゾンは樹脂成形体1の樹脂中の
炭素元素と結びつき易く、一酸化炭素や二酸化炭素とし
て樹脂成形体1の表面から離脱してエッチングが容易に
起こるものである。また大気圧プラズマによるオゾン発
生を用いるようにしてもよい。When the surface of the resin molded article 1 is roughened by plasma treatment, the above-mentioned nitrogen gas can be used as an atmosphere gas for generating plasma, but oxygen or ozone is used as this atmosphere gas. By doing so, a large etching effect can be obtained, and the resin molding 1
The surface can be efficiently roughened. That is, oxygen and ozone are easily linked to the carbon element in the resin of the resin molded body 1, are separated from the surface of the resin molded body 1 as carbon monoxide and carbon dioxide, and the etching easily occurs. Ozone generation by atmospheric pressure plasma may be used.
【0050】また、上記のように樹脂成形体1の表面に
樹脂の中間膜3を形成するに先だって、樹脂成形体1の
表面の樹脂の分子の結合を開裂するプラズマ処理を行な
うようにしてもよい。このように樹脂成形体1の表面を
プラズマ処理して樹脂の分子の結合を開裂することによ
って、樹脂成形体1の表面の樹脂と中間膜3の樹脂との
結合性を高め、樹脂成形体1に対する中間膜3の密着性
を向上させることができるものであり、中間膜3を介し
た樹脂成形体1と金属膜2との密着性を一層高めること
ができるものである。上記のように樹脂成形体1の表面
をプラズマ処理して粗面化を行なう場合には、粗面化の
処理の後に、分子結合を開裂させるこの処理を行なうの
が望ましい。Prior to forming the resin intermediate film 3 on the surface of the resin molded body 1 as described above, a plasma treatment for cleaving the bond of the resin molecules on the surface of the resin molded body 1 may be performed. Good. As described above, the surface of the resin molded body 1 is subjected to the plasma treatment to cleave the bonds of the molecules of the resin, so that the bonding between the resin on the surface of the resin molded body 1 and the resin of the intermediate film 3 is improved. The adhesiveness of the intermediate film 3 to the metal film 2 can be further improved through the intermediate film 3. In the case where the surface of the resin molded body 1 is roughened by plasma treatment as described above, it is preferable to perform this treatment for breaking molecular bonds after the roughening treatment.
【0051】このプラズマ処理は図5と同様な装置を用
いて行なうことができるが、プラズマを発生させる雰囲
気ガスとしては、アルゴンなどの不活性ガスを用いるの
が好ましく、Ar+などのイオンが樹脂成形体1の表面
に作用し、表面の樹脂の分子結合を開裂させることがで
きるものである。この樹脂成形体1の表面の樹脂の分子
結合を開裂させるプラズマ処理の時間は、20〜50秒
程度が好ましい。[0051] This plasma treatment can be performed using the same device as FIG. 5, as an atmosphere gas for generating plasma, it is preferable to use an inert gas such as argon, ion resins such as Ar + It acts on the surface of the molded article 1 and can cleave molecular bonds of the resin on the surface. The time of the plasma treatment for cleaving the molecular bond of the resin on the surface of the resin molded body 1 is preferably about 20 to 50 seconds.
【0052】樹脂成形体1の表面の樹脂の分子結合を開
裂させるプラズマ処理は、減圧下で行なう他、大気圧プ
ラズマで行なうようにしてもよい。大気圧プラズマは大
気圧中で行なうことができるので、真空ポンプや真空チ
ャンバーなどを設備する必要がなく、簡易な装置で処理
を行なうことができるものである。The plasma treatment for cleaving the molecular bonds of the resin on the surface of the resin molded body 1 may be performed under reduced pressure or may be performed using atmospheric pressure plasma. Since atmospheric pressure plasma can be performed at atmospheric pressure, there is no need to provide a vacuum pump or a vacuum chamber, and processing can be performed with a simple apparatus.
【0053】樹脂成形体1の表面の樹脂の分子結合を開
裂させる処理は、レーザを樹脂成形体1の表面に照射す
ることによっても行なうことができる。すなわち、レー
ザー発振器から出力されたエキシマレーザー、アルゴン
レーザー、He−Cdレーザー等のレーザーを、樹脂成
形体1の表面に照射することによって、樹脂成形体1の
表面の樹脂の分子の結合を開裂させることができるもの
である。レーザーによる処理の場合には、大気中での処
理が可能であるため、分子結合を開裂させる処理が容易
になるものである。The treatment for cleaving the molecular bonds of the resin on the surface of the resin molding 1 can also be performed by irradiating the surface of the resin molding 1 with a laser. That is, a laser such as an excimer laser, an argon laser, or a He-Cd laser output from a laser oscillator is applied to the surface of the resin molded body 1 to cleave the bonds of the resin molecules on the surface of the resin molded body 1. Is what you can do. In the case of the treatment with a laser, treatment in the atmosphere is possible, so that the treatment for breaking molecular bonds is facilitated.
【0054】また樹脂成形体1の表面の樹脂の分子結合
を開裂させる処理は、エキシマランプで紫外線を樹脂成
形体1の表面に照射することによっても行なうことがで
きる。エキシマランプは誘電体バリア放電を利用して希
ガスあるいは希ガスハライドのエキシマを形成させ、こ
のエキシマからの自然放出光を取り出すようにしたもの
であり、紫外線領域の波長の光を発光させることができ
る。エキシマランプはレーザーを照射する装置よりも装
置を簡単・小型化して廉価にすることができるので、分
子結合を開裂させる処理を安価に行なうことができるも
のである。The treatment for cleaving the molecular bonds of the resin on the surface of the resin molded product 1 can also be performed by irradiating the surface of the resin molded product 1 with ultraviolet rays using an excimer lamp. Excimer lamps use a dielectric barrier discharge to form a rare gas or rare gas halide excimer and extract spontaneous emission light from the excimer, and emit light having a wavelength in the ultraviolet region. it can. Since the excimer lamp can be made simpler, smaller, and cheaper than a device that irradiates a laser, the process of breaking molecular bonds can be performed at low cost.
【0055】樹脂成形体1の表面に設ける中間膜3とし
ては、上記の各実施の形態のように樹脂のみで形成する
他に、図6に示すように、樹脂3aと金属3bとを混在
させた膜で中間膜3を形成することもできる。この樹脂
3aとしては既述のポリイミド樹脂やエポキシ樹脂など
を用いることができるものであり、また金属3bとして
は中間膜3の上に設ける金属膜2を構成する金属を用い
ることができるものであり、樹脂3aのマトリクス中に
金属3bの粒子を分散させたものとして中間膜3を形成
することができるものである。As the intermediate film 3 provided on the surface of the resin molded body 1, in addition to being formed of only the resin as in each of the above embodiments, as shown in FIG. 6, a resin 3a and a metal 3b are mixed. It is also possible to form the intermediate film 3 with a thin film. As the resin 3a, the above-described polyimide resin or epoxy resin can be used, and as the metal 3b, the metal constituting the metal film 2 provided on the intermediate film 3 can be used. The intermediate film 3 can be formed by dispersing particles of the metal 3b in a matrix of the resin 3a.
【0056】このように中間膜3に金属膜2を構成する
金属3bを混在させることによって、中間膜3中の金属
3bと金属膜2との一体化によって、中間膜3に対する
金属膜2の密着性を一層高めることができ、中間膜3を
介した樹脂成形体1への金属膜2の密着性をより高く得
ることができるものである。As described above, by mixing the metal 3b constituting the metal film 2 with the intermediate film 3, the metal 3b in the intermediate film 3 and the metal film 2 are integrated, so that the adhesion of the metal film 2 to the intermediate film 3 is achieved. Thus, the adhesiveness of the metal film 2 to the resin molded body 1 via the intermediate film 3 can be further improved.
【0057】上記のように樹脂3aと金属3bとを混在
させた膜で中間膜3を形成するにあたって、図7に示す
ように、樹脂3aに対する金属3bの混在比率が、樹脂
成形体1に近い部分で低く、金属膜2に近い部分で高く
なるよう、徐々に変化させ、金属3bの粒子の分布密度
が樹脂成形体1の側から金属膜2の側に向かって徐々に
増大するようにしてもよい。このようにすると、中間膜
3が樹脂成形体1に接触する部分では樹脂の比率が大き
いために、中間膜3と樹脂成形体1との密着性を高く確
保することができると同時に、中間膜3が金属膜2と接
触する部分では金属3bの比率が大きいために、中間膜
3と金属膜2との密着性をさらに高く得ることができる
ものである。尚、このものでは、中間膜3の金属膜2と
の界面付近は金属3bの密度が高いので電気絶縁性が低
く、金属膜2で回路を形成して使用する用途には不向き
である。When the intermediate film 3 is formed of a film in which the resin 3a and the metal 3b are mixed as described above, the mixing ratio of the metal 3b to the resin 3a is close to that of the resin molding 1 as shown in FIG. The distribution density of the particles of the metal 3b is gradually changed so that the distribution density of the metal 3b gradually increases from the resin molded body 1 side toward the metal film 2 side. Is also good. In this way, since the ratio of the resin is large in the portion where the intermediate film 3 comes into contact with the resin molded body 1, high adhesion between the intermediate film 3 and the resin molded body 1 can be secured, and at the same time, the intermediate film Since the ratio of the metal 3b is large in the portion where the metal film 3 contacts the metal film 2, the adhesion between the intermediate film 3 and the metal film 2 can be further improved. In this case, since the density of the metal 3b is high in the vicinity of the interface of the intermediate film 3 with the metal film 2, the electrical insulation is low, and it is not suitable for applications in which a circuit is formed using the metal film 2.
【0058】ここで、図6のような樹脂3aに金属3b
が混在した中間膜3を形成する方法について説明する。
すなわち、既述のように蒸着重合やプラズマ重合などの
気相重合で樹脂成形体1の表面に中間膜3を形成しなが
ら、同時に、真空蒸着やスパッタリングなどの物理蒸着
法(PVD法)で金属膜2を形成する処理を行なうと、
気相重合された樹脂3aと物理蒸着される金属3bがミ
ックスされながら樹脂成形体1の表面に堆積し、樹脂3
aに金属3bが混在した中間膜3を形成することができ
るものである。そして引き続いて、樹脂3aの気相重合
を停止すると共に金属3bの物理蒸着を継続することに
よって、中間膜3の上に金属膜2を形成することができ
るものである。Here, metal 3b is added to resin 3a as shown in FIG.
A method for forming the intermediate film 3 in which is mixed will be described.
That is, as described above, while forming the intermediate film 3 on the surface of the resin molded body 1 by vapor phase polymerization such as vapor deposition polymerization or plasma polymerization, at the same time, metal deposition is performed by physical vapor deposition (PVD) such as vacuum vapor deposition or sputtering. When the process for forming the film 2 is performed,
The gas-phase polymerized resin 3a and the metal 3b physically deposited are mixed and deposited on the surface of the resin molded body 1 while being mixed.
The intermediate film 3 in which the metal 3b is mixed in a can be formed. Subsequently, the metal film 2 can be formed on the intermediate film 3 by stopping the gas phase polymerization of the resin 3a and continuing the physical vapor deposition of the metal 3b.
【0059】また、このように樹脂成形体1の表面に樹
脂3aを気相重合しながら、同時に、物理蒸着法で金属
3bを蒸着することによって、樹脂3aに金属3bが混
在した中間膜3を形成するにあたって、樹脂3aの気相
重合と金属3bの蒸着の比率を、最初は樹脂3aの気相
重合の比率を高くし、次いで徐々に金属3bの蒸着の比
率を高くするように変化させることによって、図7のよ
うな、樹脂3aに対する金属3bの混在比率が、樹脂成
形体1に近い部分で低く、金属膜2に近い部分で高くな
るよう、徐々に変化する中間膜3を形成することができ
るものである。Further, while the resin 3a is vapor-phase polymerized on the surface of the resin molded body 1 and the metal 3b is simultaneously deposited by the physical vapor deposition method, the intermediate film 3 in which the resin 3a is mixed with the metal 3b is formed. In forming, the ratio between the vapor phase polymerization of the resin 3a and the vapor deposition of the metal 3b is changed so that the ratio of the vapor phase polymerization of the resin 3a is first increased, and then the ratio of the vapor deposition of the metal 3b is gradually increased. 7, the intermediate film 3 that changes gradually so that the mixing ratio of the metal 3b to the resin 3a is low in the portion near the resin molded body 1 and high in the portion near the metal film 2 Can be done.
【0060】図8は樹脂3aを蒸着重合しながら金属3
bを真空蒸着するようにした装置を示すものである。チ
ャンバー32内に銅などの蒸着金属を収容するルツボ3
3が配置してあり、その上方に樹脂成形体1を保持する
ホルダー16が配置してある。このチャンバー32には
さらに原料モノマーである無水ピロメリト酸(PMD
A)とオキシジアニリン(ODA)などを供給するモノ
マータンク19,20が接続してある。そしてホルダー
16に樹脂成形体1をセットし、チャンバー32内を1
0Pa程度に真空引きすると共に200℃程度に加熱
し、この状態でモノマータンク19,20からPMDA
とODAをそれぞれチャンバー32内に気化させて導入
して、蒸着重合を開始すると同時に、ルツボ33を加熱
して銅などの蒸着金属を蒸発させて真空蒸着を開始す
る。このように樹脂3aの蒸着重合と金属3bの真空蒸
着を同じチャンバー32内で同時に行なうことによっ
て、樹脂成形体1の表面に樹脂3aに金属3bが混在し
た図6のような中間膜3を形成することができるもので
ある。中間膜3を形成した後、原料モノマーであるPM
DAとODAのチャンバー32への導入を停止すること
によって、中間膜3の上に金属膜2を形成することがで
きる。勿論、このような蒸着重合と真空蒸着の組み合わ
せの他に、プラズマ重合とスパッタリングの組み合わせ
などであってもよい。FIG. 8 shows that the metal 3 is deposited while polymerizing the resin 3a.
3 shows an apparatus for vacuum-depositing b. Crucible 3 containing vapor deposition metal such as copper in chamber 32
3, and a holder 16 for holding the resin molded body 1 is disposed above the reference numeral 3. The chamber 32 further contains a raw material monomer, pyromellitic anhydride (PMD).
A) and monomer tanks 19 and 20 for supplying oxydianiline (ODA) and the like are connected. Then, the resin molded body 1 is set in the holder 16 and the inside of the chamber 32 is
While evacuating to about 0 Pa and heating to about 200 ° C., the PMDA
And ODA are vaporized and introduced into the chamber 32, respectively, to start vapor deposition polymerization, and at the same time, heat the crucible 33 to evaporate a metal such as copper to start vacuum vapor deposition. As described above, by performing the vapor deposition polymerization of the resin 3a and the vacuum deposition of the metal 3b simultaneously in the same chamber 32, the intermediate film 3 in which the metal 3b is mixed with the resin 3a as shown in FIG. Is what you can do. After the formation of the intermediate film 3, the raw material monomer PM
By stopping the introduction of DA and ODA into the chamber 32, the metal film 2 can be formed on the intermediate film 3. Of course, in addition to such a combination of vapor deposition polymerization and vacuum deposition, a combination of plasma polymerization and sputtering may be used.
【0061】このとき、原料モノマーであるPMDAと
ODAのチャンバー32への導入量を、最初は多く、徐
々に少なくするように変化させたり、ルツボ33の加熱
温度を最初は低く、徐々に高くなるように変化させたり
することによって、樹脂3aに対する金属3bの混在比
率が、樹脂成形体1に近い部分で低く、金属膜2に近い
部分で高くなるよう、徐々に変化する図7のような中間
膜3を形成することができるものであり、またこの場合
も、中間膜3を形成した後、原料モノマーであるPMD
AとODAのチャンバー32への導入を停止することに
よって、中間膜3の上に金属膜2を形成することができ
る。At this time, the introduction amounts of the raw material monomers PMDA and ODA into the chamber 32 are initially increased and gradually decreased, or the heating temperature of the crucible 33 is initially lowered and gradually increased. In such a manner as shown in FIG. 7, the mixing ratio of the metal 3b to the resin 3a gradually changes so as to be low in the portion near the resin molded body 1 and to be high in the portion near the metal film 2. The film 3 can be formed, and also in this case, after the intermediate film 3 is formed, PMD which is a raw material monomer is formed.
By stopping the introduction of A and ODA into the chamber 32, the metal film 2 can be formed on the intermediate film 3.
【0062】また、樹脂成形体1の表面に設ける中間膜
3としては、図9に示すように、樹脂3aと無機物3c
とを混在させた膜で形成することもできる。この樹脂3
aとしては既述のポリイミド樹脂やエポキシ樹脂などを
用いることができるものであり、また無機物3cとして
は金属の酸化物や炭化物、窒化物などを用いることがで
き、樹脂3aのマトリクス中に無機物3cの粒子を分散
させたものとして中間膜3を形成することができるもの
である。無機物3cは、中間膜3の上に設ける金属膜2
を構成する金属の酸化物や炭化物、窒化物であることが
望ましい。As shown in FIG. 9, the intermediate film 3 provided on the surface of the resin molded body 1 includes a resin 3a and an inorganic material 3c.
Can be formed as a film in which is mixed. This resin 3
As a, the above-mentioned polyimide resin or epoxy resin can be used, and as the inorganic substance 3c, a metal oxide, carbide, nitride, or the like can be used, and the inorganic substance 3c is contained in the matrix of the resin 3a. The intermediate film 3 can be formed by dispersing the above particles. The inorganic material 3c is a metal film 2 provided on the intermediate film 3.
It is desirable that the metal is oxide, carbide, or nitride.
【0063】金属の酸化物など無機物3cと金属との密
着性は、樹脂と金属との密着性よりも高いものであり、
従ってこのように中間膜3に金属の酸化物など無機物3
cを混在させることによって、中間膜3に対する金属膜
2の密着性を高めることができ、中間膜3を介した樹脂
成形体1への金属膜2の密着性を一層高く得ることがで
きるものである。また無機物3cは金属よりも樹脂との
相性が良いので、樹脂3aと金属3bが混在する中間膜
3よりも強度が高い中間膜3を形成することができるも
のである。しかも無機物3cは電気絶縁性であって、中
間膜3の電気絶縁性が低下することがなく、金属膜2で
回路を形成して使用する用途にも支障なく使用すること
ができる。The adhesion between the inorganic substance 3c such as a metal oxide and the metal is higher than the adhesion between the resin and the metal.
Accordingly, the inorganic film 3 such as a metal oxide is
By mixing c, the adhesion of the metal film 2 to the intermediate film 3 can be increased, and the adhesion of the metal film 2 to the resin molded body 1 via the intermediate film 3 can be further enhanced. is there. Further, since the inorganic substance 3c has better compatibility with the resin than the metal, it is possible to form the intermediate film 3 having higher strength than the intermediate film 3 in which the resin 3a and the metal 3b are mixed. In addition, the inorganic substance 3c is electrically insulating, so that the electric insulation of the intermediate film 3 does not decrease, and the inorganic substance 3c can be used without any trouble in forming a circuit with the metal film 2 for use.
【0064】上記の無機物3cとしてはアルミナを用い
ることができる。アルミナは銅との塗れ性が非常に高
く、金属膜2を銅で形成する場合に中間膜3と金属膜2
との密着性を特に高く得ることができるものである。し
かもアルミナは誘電体損失が非常に小さいという優れた
特性を有するので、金属被覆成形体を優れた特性の回路
板として用いることができるものである。Alumina can be used as the inorganic substance 3c. Alumina has a very high wettability with copper, and when the metal film 2 is formed of copper, the intermediate film 3 and the metal film 2
And particularly high adhesion to the film. Moreover, since alumina has an excellent property that the dielectric loss is very small, the metal-coated molded article can be used as a circuit board having excellent properties.
【0065】図9のような樹脂3aにアルミナなどの無
機物3cが混在した中間膜3を形成するにあたっては、
既述のように蒸着重合やプラズマ重合などの気相重合で
樹脂成形体1の表面に中間膜3を形成しながら、同時
に、真空蒸着やスパッタリングなどの物理蒸着法(PV
D法)で無機物3cを蒸着する処理をすることによって
行なうことができるものであり、気相重合された樹脂3
aと物理蒸着される無機物3cがミックスされながら樹
脂成形体1の表面に堆積し、樹脂3aに無機物3cが混
在した中間膜3を形成することができるものである。そ
の装置としては、既述した図8のものを用いることがで
きるものであり、ルツボ33にアルミナなどの無機物3
cを入れて、蒸着重合と真空蒸着を同じチャンバー32
内で同時に行なうようにすればよい。尚、無機物3cは
融点が高いので、真空蒸着よりもRFスパッタリングな
どのスパッタリングを行なうほうがよい。In forming the intermediate film 3 in which the inorganic material 3c such as alumina is mixed in the resin 3a as shown in FIG.
As described above, while forming the intermediate film 3 on the surface of the resin molded body 1 by vapor phase polymerization such as vapor deposition polymerization or plasma polymerization, at the same time, a physical vapor deposition method (PV
D), and can be carried out by performing a process of depositing the inorganic substance 3c by the method of the present invention.
a and the inorganic substance 3c to be physically vapor-deposited are deposited on the surface of the resin molded body 1 while being mixed, so that the intermediate film 3 in which the inorganic substance 3c is mixed in the resin 3a can be formed. The apparatus shown in FIG. 8 can be used as the apparatus, and the crucible 33 is provided with an inorganic substance such as alumina.
c, vapor deposition polymerization and vacuum deposition are performed in the same chamber 32.
May be performed at the same time. Since the inorganic substance 3c has a high melting point, it is better to perform sputtering such as RF sputtering than vacuum evaporation.
【0066】さらに、樹脂成形体1の表面に設ける中間
膜3としては、図10に示すように、樹脂層4と金属酸
化物層5との二層構成の膜で形成することもできる。樹
脂層4が樹脂成形体1の側に、金属酸化物層5が金属層
2の側にそれぞれ面するように形成されるものである。
樹脂層4は既述のポリイミド樹脂やエポキシ樹脂などで
形成することができる。また金属酸化物層5は特に限定
されるものではないが金属膜2を構成する金属の酸化物
で形成することができるものであり、金属膜2が銅で形
成される場合には酸化銅、金属膜2がアルミニウムで形
成される場合にはアルミナを用いることができる。Further, as shown in FIG. 10, the intermediate film 3 provided on the surface of the resin molded body 1 can be formed of a two-layer film composed of a resin layer 4 and a metal oxide layer 5. The resin layer 4 is formed on the resin molded body 1 side, and the metal oxide layer 5 is formed on the metal layer 2 side.
The resin layer 4 can be formed of the above-described polyimide resin, epoxy resin, or the like. The metal oxide layer 5 is not particularly limited, but can be formed of an oxide of a metal constituting the metal film 2. When the metal film 2 is formed of copper, copper oxide, When the metal film 2 is formed of aluminum, alumina can be used.
【0067】金属酸化物と金属との密着性及び金属酸化
物と樹脂との密着性は、樹脂と金属との密着性よりも高
いものであり、このように中間膜3を樹脂成形体1の側
の樹脂層4と、金属膜2の側の金属酸化物層5との二層
構成に形成することによって、樹脂成形体1と樹脂層4
との密着性が高いのは勿論、金属膜2と金属酸化物層5
との密着性及び金属酸化物層5と樹脂層4との密着性を
高く得ることができ、この結果、中間膜3を介した樹脂
成形体1への金属膜2の密着性を一層高く得ることがで
きるものである。しかも金属酸化物は電気絶縁性である
ので、中間膜3の電気絶縁性が低下することがなく、金
属膜2で回路を形成して使用する用途にも支障なく使用
することができるものである。The adhesiveness between the metal oxide and the metal and the adhesiveness between the metal oxide and the resin are higher than the adhesiveness between the resin and the metal. The resin molded body 1 and the resin layer 4 are formed by forming a two-layer structure of the resin layer 4 on the side and the metal oxide layer 5 on the side of the metal film 2.
The metal film 2 and the metal oxide layer 5
, And the metal oxide layer 5 and the resin layer 4 can have high adhesion. As a result, the adhesion of the metal film 2 to the resin molded body 1 via the intermediate film 3 can be further improved. Is what you can do. In addition, since the metal oxide is electrically insulating, the electrical insulation of the intermediate film 3 does not decrease, and the metal oxide can be used without any trouble in forming a circuit using the metal film 2. .
【0068】上記のような樹脂層4と金属酸化物層5と
の二層構成の中間膜3を作製するにあたっては、まず図
11(a)のように樹脂成形体1の表面に既述の気相重
合法などで樹脂層4を形成し、次に図11(b)のよう
に樹脂層4の上に金属酸化物層5を物理蒸着法(PVD
法)などで設けることによって、樹脂層4と金属酸化物
層5からなる二層構成の中間膜3を形成することができ
るものである。そして中間膜3の金属酸化物層5の表面
を必要に応じてプラズマ処理などをした後、この上に物
理蒸着法などで金属膜2を形成することによって、図1
1(c)のような金属被覆成形体を得ることができるも
のである。In producing the intermediate film 3 having the two-layer structure of the resin layer 4 and the metal oxide layer 5 as described above, first, as shown in FIG. A resin layer 4 is formed by a gas phase polymerization method or the like, and then a metal oxide layer 5 is formed on the resin layer 4 by physical vapor deposition (PVD) as shown in FIG.
In this case, the intermediate film 3 having a two-layer structure including the resin layer 4 and the metal oxide layer 5 can be formed. After the surface of the metal oxide layer 5 of the intermediate film 3 is subjected to plasma treatment or the like as necessary, the metal film 2 is formed thereon by a physical vapor deposition method or the like.
A metal-coated molded article as shown in FIG. 1 (c) can be obtained.
【0069】図12は金属酸化物層5をスパッタリング
で形成する装置を示すものであり、チャンバー35内に
ホルダー電極36と酸化銅やアルミナなどのターゲット
酸化物37を配置し、ホルダー電極36とターゲット酸
化物37の間にマッチングボックス25とブロッキング
コンデンサ26を介して高周波電源27を接続するよう
にしてある。そして表面に樹脂層4を形成した樹脂成形
体1をホルダー電極36に保持させてセットし、真空ポ
ンプによりチャンバー35内を10-4Pa台まで真空引
きし、アルゴンガスなどの希ガスをチャンバー35にガ
ス圧0.5Pa程度で通しながら、ターゲット酸化物3
7にRFパワー1kW程度の高周波電圧を印加すること
によって、プラズマPを発生させて、樹脂層4の表面に
金属酸化物層5を付着させ、樹脂層4と金属酸化物層5
との二層構成の中間膜3を形成することができる。FIG. 12 shows an apparatus for forming the metal oxide layer 5 by sputtering. A holder electrode 36 and a target oxide 37 such as copper oxide or alumina are arranged in a chamber 35, and the holder electrode 36 and the target A high frequency power supply 27 is connected between the oxide 37 via a matching box 25 and a blocking capacitor 26. Then, the resin molded body 1 having the resin layer 4 formed on the surface is set by holding it on the holder electrode 36, and the inside of the chamber 35 is evacuated to a pressure of 10 −4 Pa by a vacuum pump. Through the target oxide 3 at a gas pressure of about 0.5 Pa.
7, a plasma P is generated by applying a high frequency voltage of about 1 kW of RF power to cause the metal oxide layer 5 to adhere to the surface of the resin layer 4, and the resin layer 4 and the metal oxide layer 5
Thus, the intermediate film 3 having a two-layer structure can be formed.
【0070】また、樹脂層4と金属酸化物層5との二層
構成の中間膜3を作製するにあたって、金属酸化物層5
を反応性スパッタリングで形成することができる。反応
性スパッタリングは、プラズマPを発生させる雰囲気ガ
スとして反応性ガスを用いて金属をスパッタリングする
ものであり、反応性ガスとして例えば酸素を使用する
と、金属を酸素と反応させながら金属酸化物として蒸着
させることができるものである。In producing the intermediate film 3 having a two-layer structure of the resin layer 4 and the metal oxide layer 5, the metal oxide layer 5
Can be formed by reactive sputtering. Reactive sputtering is to sputter a metal using a reactive gas as an atmosphere gas for generating a plasma P. For example, when oxygen is used as a reactive gas, the metal is deposited as a metal oxide while reacting the metal with oxygen. Is what you can do.
【0071】図13は反応性スパッタリングの装置を示
すものであり、チャンバー11内にホルダー電極12と
銅などのターゲット金属13を配置し、ホルダー電極1
2とターゲット金属13に直流電源14を接続するよう
にしてある。そして表面に樹脂層4を形成した樹脂成形
体1をホルダー電極12に保持させてセットし、真空ポ
ンプによりチャンバー11内を10-4Pa台まで真空引
きし、アルゴンガスなどの不活性ガスと酸素ガスを例え
ばガス流量比1:2でチャンバー11に導入し、ガス圧
0.5Pa程度で通しながら、ターゲット金属13にD
Cパワー3kW程度の直流電圧を印加することによっ
て、プラズマPを発生させる。プラズマPの作用でター
ゲット金属13から叩き出された金属は酸素プラズマに
よって酸化され、樹脂層4の上に金属酸化物として堆積
されて、金属酸化物層5を形成することができる。この
ようにして樹脂層4と金属酸化物層5との二層構成の中
間膜3を形成することができるものであり、中間膜3を
形成した後に、酸素ガスの導入を停止すると共にアルゴ
ンガスなどの不活性ガスの導入を継続しながらスパッタ
リングを続行することによって、金属酸化物層5の上に
金属膜2を形成することができるものである。このよう
にして、雰囲気ガスを変えるだけで、同じスパッタリン
グ工程で金属酸化物層5の形成と金属膜2の形成を行な
うことができ、工数を低減することができるものであ
る。FIG. 13 shows an apparatus for reactive sputtering, in which a holder electrode 12 and a target metal 13 such as copper are arranged in a chamber 11, and a holder electrode 1 is provided.
A DC power supply 14 is connected to the target 2 and the target metal 13. Then, the resin molded body 1 having the resin layer 4 formed on the surface thereof is set and held by the holder electrode 12, and the inside of the chamber 11 is evacuated to a pressure of 10 −4 Pa by a vacuum pump. A gas is introduced into the chamber 11 at, for example, a gas flow ratio of 1: 2, and while passing at a gas pressure of about 0.5 Pa, D
The plasma P is generated by applying a DC voltage of about 3 kW of C power. The metal struck out of the target metal 13 by the action of the plasma P is oxidized by the oxygen plasma and deposited as a metal oxide on the resin layer 4 to form the metal oxide layer 5. Thus, the intermediate film 3 having a two-layer structure of the resin layer 4 and the metal oxide layer 5 can be formed. After the intermediate film 3 is formed, the introduction of oxygen gas is stopped, and The metal film 2 can be formed on the metal oxide layer 5 by continuing the sputtering while continuously introducing an inert gas such as the above. In this way, the formation of the metal oxide layer 5 and the formation of the metal film 2 can be performed in the same sputtering step only by changing the atmosphere gas, and the number of steps can be reduced.
【0072】ここで、上記のように不活性ガスと酸素ガ
スとの混合ガスを雰囲気ガスとしてプラズマPを発生さ
せて、反応性スパッタリングで金属酸化物層5を形成す
るにあたって、不活性ガスと酸素ガスとの混合比率を調
整することによって、金属5aと金属の酸化物5bとが
混在した金属酸化物層5を形成することができる。この
とき、不活性ガスと酸素ガスとの混合比率を、初期は酸
素ガスの比率を高く設定し、そして徐々に酸素の比率を
下げると共に不活性ガスの比率を上げていきながら反応
性スパッタリングを行なうことによって、図14に示す
ように、金属酸化物5b中の金属5aの混在比率が、樹
脂層4に近い部分で低く、樹脂層4から遠くなるに従っ
て徐々に高くなるように変化させて、金属酸化物層5を
形成することができるものである。この後、酸素ガスの
導入を停止して不活性ガスのみを導入しながらスパッタ
リングを続行することによって、金属酸化物層5の上に
金属膜2を形成することができるこのように形成される
金属酸化物層5は、樹脂層4の界面の部分で金属酸化物
5bの比率が高いので、樹脂層4と金属酸化物層5との
密着性を確保することができると共に、金属膜2との界
面の部分で金属5aの比率が高いので、金属膜2と金属
酸化物層5との密着性を確保することができるものであ
り、中間膜3を介した樹脂成形体1への金属膜2の密着
性を一層高く得ることができるものである。Here, as described above, the plasma P is generated using the mixed gas of the inert gas and the oxygen gas as the atmospheric gas, and the reactive gas is used to form the metal oxide layer 5 by the reactive sputtering. By adjusting the mixing ratio with the gas, the metal oxide layer 5 in which the metal 5a and the metal oxide 5b are mixed can be formed. At this time, the mixing ratio of the inert gas and the oxygen gas is initially set to a high ratio of the oxygen gas, and the reactive sputtering is performed while gradually decreasing the oxygen ratio and increasing the inert gas ratio. As a result, as shown in FIG. 14, the mixing ratio of the metal 5a in the metal oxide 5b is changed so that the mixing ratio is low near the resin layer 4 and gradually increases as the distance from the resin layer 4 increases. The oxide layer 5 can be formed. Thereafter, by stopping the introduction of the oxygen gas and continuing the sputtering while introducing only the inert gas, the metal film 2 can be formed on the metal oxide layer 5. Since the oxide layer 5 has a high ratio of the metal oxide 5b at the interface portion of the resin layer 4, the adhesion between the resin layer 4 and the metal oxide layer 5 can be ensured, and the oxide layer 5 Since the ratio of the metal 5a is high at the interface, the adhesion between the metal film 2 and the metal oxide layer 5 can be ensured, and the metal film 2 adheres to the resin molding 1 via the intermediate film 3. Can be obtained with even higher adhesion.
【0073】上記の各実施の形態のようにして樹脂成形
体1の表面に中間膜3を形成した後、中間膜3の上に金
属膜2を形成するにあたって、金属膜2の形成に先だっ
て、中間膜3の表面をプラズマ処理して、中間膜3の表
面を粗面化することができる。粗面化のためのプラズマ
処理は、既述の樹脂成形体1の表面を粗面化するプラズ
マ処理と同様に、酸素あるいはオゾンを雰囲気ガスとし
て行なうことができる。このように中間膜3の表面を粗
面化することによって、中間膜3に対する金属膜2の密
着性をアンカー効果でさらに高めることができ、中間膜
3を介した樹脂成形体1への金属膜2の密着性を一層高
く得ることができるものである。After forming the intermediate film 3 on the surface of the resin molded body 1 as in each of the above-described embodiments, when forming the metal film 2 on the intermediate film 3, prior to the formation of the metal film 2, The surface of the intermediate film 3 can be roughened by performing a plasma treatment on the surface of the intermediate film 3. The plasma treatment for roughening can be performed using oxygen or ozone as an atmospheric gas, as in the plasma treatment for roughening the surface of the resin molded body 1 described above. By roughening the surface of the intermediate film 3 in this manner, the adhesion of the metal film 2 to the intermediate film 3 can be further enhanced by an anchor effect, and the metal film on the resin molded body 1 via the intermediate film 3 can be improved. 2 can further improve the adhesion.
【0074】また、樹脂成形体1の表面に中間膜3を形
成した後、中間膜3の上に金属膜2を形成するにあたっ
て、金属膜2の形成に先だって、中間膜3の表面の樹脂
の分子の結合を開裂させる処理を行なうのが好ましい。
この分子結合を開裂させる処理は、粗面化のためのプラ
ズマ処理の後に行なわれるものであり、既述の樹脂成形
体1の樹脂の分子結合を開裂させる処理と同様に、プラ
ズマ処理、レーザ照射、紫外線照射で行なうことができ
る。このように中間膜3の表面の樹脂の分子結合を開裂
することによって、中間膜3と金属膜2との結合性を高
めて中間膜3に対する金属膜2の密着性を向上させるこ
とができるものであり、中間膜3を介した樹脂成形体1
と金属膜2との密着性を一層高めることができるもので
ある。Further, after forming the intermediate film 3 on the surface of the resin molded body 1, before forming the metal film 2 on the intermediate film 3, the resin on the surface of the intermediate film 3 is formed prior to the formation of the metal film 2. It is preferable to carry out a treatment for cleaving the bond of the molecule.
The treatment for cleaving the molecular bond is performed after the plasma treatment for roughening the surface, and is similar to the treatment for cleaving the molecular bond of the resin of the resin molded body 1, as in the plasma treatment and the laser irradiation. Can be performed by ultraviolet irradiation. By cleaving the molecular bond of the resin on the surface of the intermediate film 3 in this way, the bonding between the intermediate film 3 and the metal film 2 can be enhanced, and the adhesion of the metal film 2 to the intermediate film 3 can be improved. And the resin molded body 1 with the intermediate film 3 interposed therebetween.
And the metal film 2 can be further improved in adhesion.
【0075】また、中間膜3の上にスパッタリングなど
の物理蒸着法(PVD法)で金属を蒸着させて金属膜2
を形成するにあたって、このとき同時に、中間膜3の表
面に形成される金属膜2にアルゴンなどの希ガス元素の
イオンビームを照射するようにしてもよい。このように
希ガス元素のイオンビームを照射すると、中間膜3の表
面に堆積される金属粒子にイオンビームが高速で後方か
ら衝突して、金属粒子が中間膜3の樹脂中に叩き込まれ
て押し込まれ、中間膜3の樹脂の表層部分は樹脂と金属
とが混在された状態になる。従って中間膜3に対する金
属膜2の密着性をさらに高めることができ、中間膜3を
介した樹脂成形体1への金属膜2の密着性を一層高く得
ることができるものである。また、高速のイオンビーム
の運動エネルギーが金属粒子と中間膜3の樹脂との結合
を促進することができ、この点からも中間膜3に対する
金属膜2の密着性を高めることができるものである。A metal is deposited on the intermediate film 3 by a physical vapor deposition method (PVD method) such as sputtering.
At the same time, the metal film 2 formed on the surface of the intermediate film 3 may be irradiated with an ion beam of a rare gas element such as argon. When the ion beam of the rare gas element is irradiated in this manner, the ion beam collides with the metal particles deposited on the surface of the intermediate film 3 from behind at high speed, and the metal particles are beaten into the resin of the intermediate film 3 and pushed. As a result, the surface layer of the resin of the intermediate film 3 is in a state where the resin and the metal are mixed. Therefore, the adhesion of the metal film 2 to the intermediate film 3 can be further enhanced, and the adhesion of the metal film 2 to the resin molded body 1 via the intermediate film 3 can be further enhanced. In addition, the kinetic energy of the high-speed ion beam can promote the bonding between the metal particles and the resin of the intermediate film 3, and from this point, the adhesion of the metal film 2 to the intermediate film 3 can be enhanced. .
【0076】図15は金属膜2をスパッタリングで形成
する際にイオンビームをアシストとして照射するように
した装置を示すものであり、チャンバー11内にホルダ
ー電極12と銅などのターゲット金属13を配置し、ホ
ルダー電極12とターゲット金属13に直流電源14を
接続するようにしてある。またチャンバー11にはイオ
ンガン39が設けてあり、イオンガン39からアルゴン
などの希ガス元素のイオンビームを照射できるようにし
てある。この希ガス元素のイオンビームを照射するイオ
ンガン39としては、カウフマン型等のフィラメントタ
イプのものを用いることができる。そして表面に中間膜
3を形成した樹脂成形体1をホルダー電極12に保持さ
せてセットし、真空ポンプによりチャンバー11内を1
0-4Pa台まで真空引きし、アルゴンガスなどの希ガス
をチャンバー11にガス圧0.5Pa程度で通しなが
ら、ターゲット金属13にDCパワー3kW程度の直流
電圧を印加することによって、プラズマPを発生させ
て、中間膜3の上から樹脂成形体1の表面に金属を蒸着
させることができるが、この際に同時に、イオンガン3
9から例えば加速電圧500eV、ビーム電流150m
Aの条件でアルゴンなどの希ガス元素のイオンビームを
照射することによって、蒸着金属の粒子を中間膜3に叩
き込むアシストを行なわせることができるものである。FIG. 15 shows an apparatus for irradiating an ion beam as an assist when the metal film 2 is formed by sputtering. A holder electrode 12 and a target metal 13 such as copper are arranged in a chamber 11. A DC power supply 14 is connected to the holder electrode 12 and the target metal 13. Further, an ion gun 39 is provided in the chamber 11, and an ion beam of a rare gas element such as argon can be irradiated from the ion gun 39. As the ion gun 39 for irradiating the ion beam of the rare gas element, a filament type such as a Kauffman type can be used. Then, the resin molded body 1 having the intermediate film 3 formed on the surface is set while being held by the holder electrode 12, and the inside of the chamber 11 is
The plasma P is evacuated to the order of 0 -4 Pa, and a plasma P is applied by applying a DC voltage of about 3 kW to the target metal 13 while passing a rare gas such as argon gas through the chamber 11 at a gas pressure of about 0.5 Pa. Then, a metal can be vapor-deposited on the surface of the resin molded body 1 from above the intermediate film 3.
9 to, for example, an acceleration voltage of 500 eV and a beam current of 150 m
By irradiating an ion beam of a rare gas element such as argon under the condition A, it is possible to assist the driving of driving the particles of the deposited metal into the intermediate film 3.
【0077】また、上記のように物理蒸着法(PVD
法)で金属膜2を形成する際にイオンビームを照射して
アシストをするにあたって、イオンガン39から酸素イ
オンのイオンビームを照射するようにすると、中間膜3
の表面に堆積される金属粒子が酸素イオンと反応して金
属酸化物になった状態で、中間膜3の樹脂中に叩き込ま
れるものであり、中間膜3の樹脂の表層部分を樹脂と金
属酸化物が混在された状態にすることができる。そして
イオンガン39への酸素流量を減少すると共にアルゴン
などの希ガスを徐々に導入していって、希ガス元素イオ
ンのイオンビームの照射を増やしていくと、中間膜3に
叩き込まれる金属酸化物の量が徐々に少なくなると共に
金属の量が多くなり、中間膜3の表層で金属酸化物と金
属とを混在させることができ、中間膜3に対する金属膜
2の密着性を一層高めることが可能になるものである。
このように酸素ガスのような活性ガスを用いてイオンビ
ームを照射する場合には、イオンガン39としては、E
CR型等のノンフィラメントタイプのものを用いる必要
がある。Further, as described above, physical vapor deposition (PVD)
When assisting by irradiating an ion beam when forming the metal film 2 by the method (1), an ion beam of oxygen ions is irradiated from the ion gun 39.
The metal particles deposited on the surface of the metal film are beaten into the resin of the intermediate film 3 in a state where the metal particles have reacted with oxygen ions to form a metal oxide. Objects can be mixed. When the flow rate of oxygen to the ion gun 39 is reduced and a rare gas such as argon is gradually introduced, and the irradiation of the ion beam of rare gas element ions is increased, the metal oxide As the amount gradually decreases and the amount of metal increases, the metal oxide and the metal can be mixed in the surface layer of the intermediate film 3, and the adhesion of the metal film 2 to the intermediate film 3 can be further enhanced. It becomes.
When the ion beam is irradiated by using the active gas such as the oxygen gas, the ion gun 39 is made of E
It is necessary to use a non-filament type such as CR type.
【0078】[0078]
【発明の効果】上記のように本発明の請求項1に係る金
属被覆成形体は、樹脂成形体の表面に金属膜が被覆され
た金属被覆成形体であって、樹脂成形体の樹脂と金属膜
との密着性よりも金属膜に対する密着性が高い樹脂を含
有する中間膜を、樹脂成形体と金属膜との間に5μm以
下の厚みで形成するようにしたので、樹脂成形体の表面
に対する金属膜の密着性を、金属膜に対する密着性が高
い樹脂を含有する中間膜によって高く得ることができる
ものであり、しかも中間膜は厚みが5μm以下と薄く設
定されており、中間膜で樹脂成形体の特性を損ねるよう
なことがなくなるものである。As described above, the metal-coated molded article according to the first aspect of the present invention is a metal-coated molded article in which the surface of a resin molded article is coated with a metal film, wherein the resin and the metal of the resin molded article are mixed. Since an intermediate film containing a resin having higher adhesion to a metal film than adhesion to a film is formed with a thickness of 5 μm or less between the resin molding and the metal film, The adhesion of the metal film can be increased by an intermediate film containing a resin having high adhesion to the metal film, and the thickness of the intermediate film is set to be as thin as 5 μm or less. It does not impair the characteristics of the body.
【0079】また請求項2の発明は、請求項1におい
て、中間膜に含有される樹脂が、ポリイミド樹脂とエポ
キシ樹脂の少なくとも一方であるので、これらの樹脂は
極性基を有して金属と結合し易く、しかも耐熱性が高い
という特性を有しており、樹脂成形体の耐熱性を高める
ことができるものである。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the resin contained in the intermediate film is at least one of a polyimide resin and an epoxy resin, and these resins have a polar group and bind to a metal. It is easy to perform and has high heat resistance, so that the heat resistance of the resin molded article can be increased.
【0080】また請求項3の発明は、請求項1又は2に
おいて、中間膜を、樹脂と金属膜の金属とが混在する膜
で形成するようにしたので、中間膜に対する金属膜の密
着性を一層高めることができ、中間膜を介した樹脂成形
体への金属膜の密着性をより高く得ることができるもの
である。According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the intermediate film is formed of a film in which a resin and a metal film are mixed, so that the adhesion of the metal film to the intermediate film is improved. It is possible to further enhance the adhesion, and to obtain higher adhesion of the metal film to the resin molded body via the intermediate film.
【0081】また請求項4の発明は、請求項3におい
て、樹脂に対する金属の混在比率が、樹脂成形体に近い
部分で低く、金属膜に近い部分で高くなるように、徐々
に変化させて中間膜を形成するようにしたので、中間膜
の樹脂成形体に接触する界面では樹脂の比率が大きく、
中間膜と樹脂成形体との密着性を高く確保することがで
きると同時に、中間膜の金属膜と接触する界面では金属
の比率が大きく、中間膜と金属膜との密着性を高めるこ
とができ、中間膜を介した樹脂成形体への金属膜の密着
性をより高く得ることができるものである。According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect, the mixing ratio of the metal to the resin is gradually changed such that the mixing ratio of the metal to the resin molded body is low at a portion near the resin molded body and high at a portion near the metal film. Since the film is formed, the ratio of the resin is large at the interface in contact with the resin molded body of the intermediate film,
High adhesion between the intermediate film and the resin molded body can be ensured, and at the same time, the ratio of metal at the interface in contact with the metal film of the intermediate film is large, and the adhesion between the intermediate film and the metal film can be increased. Further, it is possible to obtain higher adhesion of the metal film to the resin molded body via the intermediate film.
【0082】また請求項5の発明は、請求項1又は2に
おいて、中間膜を、樹脂と無機物とが混在する膜で形成
するようにしたので、無機物と金属との密着性は、樹脂
と金属との密着性よりも高いものであり、中間膜に無機
物を混在させることによって、中間膜に対する金属膜の
密着性を高めることができ、中間膜を介した樹脂成形体
への金属膜の密着性を一層高く得ることができるもので
ある。According to a fifth aspect of the present invention, in the first or second aspect, the intermediate film is formed of a film in which a resin and an inorganic material are mixed. Adhesion of the metal film to the resin molded body through the intermediate film can be enhanced by mixing the inorganic substance into the intermediate film by mixing the inorganic substance into the intermediate film. Can be obtained even higher.
【0083】また請求項6の発明は、請求項5におい
て、無機物としてアルミナを用いるようにしたので、ア
ルミナは銅との塗れ性が高く、金属膜を銅で形成する場
合に中間膜と金属膜との密着性を特に高く得ることがで
きるものであり、しかもアルミナは誘電体損失が非常に
小さいという特性を有し、金属被覆成形体を優れた特性
の回路板として用いることができるものである。According to a sixth aspect of the present invention, since alumina is used as the inorganic material in the fifth aspect, alumina has a high wettability with copper, and when the metal film is formed of copper, the intermediate film and the metal film are used. And alumina can be obtained with particularly high adhesion, and alumina has a characteristic that dielectric loss is very small, and a metal-coated molded article can be used as a circuit board having excellent characteristics. .
【0084】また請求項7の発明は、請求項1又は2に
おいて、中間膜を、樹脂成形体の側の樹脂層と、金属膜
の側の金属酸化物層との二層構成に形成するようにした
ので、金属酸化物と金属との密着性及び金属酸化物と樹
脂との密着性は、樹脂と金属との密着性よりも高いもの
であり、樹脂成形体と樹脂層との密着性が高いのは勿
論、金属膜と金属酸化物層との密着性及び金属酸化物層
と樹脂層との密着性を高く得ることができ、中間膜を介
した樹脂成形体への金属膜の密着性を一層高く得ること
ができるものである。According to a seventh aspect of the present invention, in the first or second aspect, the intermediate film is formed to have a two-layer structure of a resin layer on the resin molded body side and a metal oxide layer on the metal film side. Therefore, the adhesion between the metal oxide and the metal and the adhesion between the metal oxide and the resin are higher than the adhesion between the resin and the metal, and the adhesion between the resin molded article and the resin layer is higher. Of course, the adhesion between the metal film and the metal oxide layer and the adhesion between the metal oxide layer and the resin layer can be increased, and the adhesion of the metal film to the resin molded product via the intermediate film can be obtained. Can be obtained even higher.
【0085】また請求項8の発明は、請求項7におい
て、金属酸化物層を金属膜の金属とその酸化物とが混在
する層で形成すると共に、金属酸化物の混在比率が、樹
脂層に近い部分で高く、金属膜に近い部分で低くなるよ
うに、徐々に変化させて金属酸化物層を形成するように
したので、金属酸化物層は、樹脂層との界面の部分で金
属酸化物の比率が高く、樹脂層と金属酸化物層との密着
性を確保することができると共に、金属膜との界面の部
分で金属の比率が高く、金属膜と金属酸化物層との密着
性を確保することができるものであり、中間膜を介した
樹脂成形体への金属膜の密着性を一層高く得ることがで
きるものである。The invention according to claim 8 is the invention according to claim 7, wherein the metal oxide layer is formed of a layer in which the metal of the metal film and its oxide are mixed, and the mixing ratio of the metal oxide is reduced to the resin layer. The metal oxide layer was formed by gradually changing the metal oxide layer so that it was higher near the metal film and lower near the metal film. Is high, the adhesion between the resin layer and the metal oxide layer can be secured, and the ratio of the metal at the interface with the metal film is high, and the adhesion between the metal film and the metal oxide layer can be improved. This ensures that the adhesion of the metal film to the resin molded body via the intermediate film can be further enhanced.
【0086】本発明の請求項9に係る金属被覆成形体の
製造方法は、樹脂成形体の表面に、樹脂成形体の樹脂と
金属膜との密着性よりも金属膜に対する密着性が高い樹
脂を含有する中間膜を5μm以下の厚みで形成し、この
後に中間膜の上から樹脂成形体の表面に金属膜を形成す
るようにしたので、樹脂成形体の表面に対する金属膜の
密着性を、金属膜に対する密着性が高い樹脂を含有する
中間膜によって高く得ることができるものであり、しか
も中間膜は厚みが5μm以下と薄く設定されており、中
間膜で樹脂成形体の特性を損ねるようなことがなくなる
ものである。[0086] According to a ninth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a metal-coated molded product, a resin having higher adhesiveness to the metal film than adhesiveness between the resin of the resin molded product and the metal film is formed on the surface of the resin molded product. The intermediate film to be contained was formed with a thickness of 5 μm or less, and thereafter, the metal film was formed on the surface of the resin molded product from above the intermediate film. An intermediate film containing a resin having high adhesion to the film can be obtained at a high level, and the thickness of the intermediate film is set to be as thin as 5 μm or less, and the characteristics of the resin molded article are impaired by the intermediate film. Is lost.
【0087】また請求項10の発明は、請求項9におい
て、中間膜に含有される樹脂が、ポリイミド樹脂とエポ
キシ樹脂の少なくとも一方であるので、これらの樹脂は
極性基を有して金属と結合し易く、しかも耐熱性が高い
という特性を有しており、樹脂成形体の耐熱性を高める
ことができるものである。According to a tenth aspect of the present invention, in the ninth aspect, since the resin contained in the intermediate film is at least one of a polyimide resin and an epoxy resin, these resins have a polar group and bind to a metal. It is easy to perform and has high heat resistance, so that the heat resistance of the resin molded article can be increased.
【0088】また請求項11の発明は、請求項9又は1
0において、樹脂成形体の表面で樹脂を気相重合するこ
とによって中間膜を形成するようにしたので、樹脂成形
体の表面に5μm以下の薄い厚みで中間膜を形成するこ
とが可能になり、しかも樹脂成形体の表面が三次元立体
形状であっても液溜まりや液流れのような問題なく、均
一な膜厚で中間膜を形成することが可能になるものであ
る。The invention of claim 11 is the invention of claim 9 or 1
0, the intermediate film is formed by gas-phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded body, so that it is possible to form the intermediate film with a thin thickness of 5 μm or less on the surface of the resin molded body, In addition, even if the surface of the resin molded product has a three-dimensional three-dimensional shape, it is possible to form an intermediate film with a uniform film thickness without any problem such as liquid pool or liquid flow.
【0089】また請求項12の発明は、樹脂成形体の表
面に樹脂液をスプレーすることによって中間膜を形成す
るようにしたので、樹脂成形体の表面が三次元立体形状
であっても液溜まりや液流れのような問題なく、均一な
膜厚で中間膜を形成することが可能になるものである。In the twelfth aspect of the present invention, the intermediate film is formed by spraying a resin liquid on the surface of the resin molded body. It is possible to form an intermediate film with a uniform film thickness without any problems such as liquid flow and the like.
【0090】また請求項13の発明は、請求項9乃至1
2のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面をプラズマ処
理して粗面化した後、樹脂成形体の表面に中間膜を形成
するようにしたので、粗面によるアンカー効果によって
樹脂成形体と中間膜との密着性を高めることができ、中
間膜を介した樹脂成形体と金属膜との密着性を一層向上
させることができるものである。Further, the invention of claim 13 is the invention of claims 9 to 1
2. In any one of the above, the surface of the resin molded body is roughened by plasma treatment, and then the intermediate film is formed on the surface of the resin molded body. And the adhesion between the resin molded body and the metal film via the intermediate film can be further improved.
【0091】また請求項14の発明は、請求項13にお
いて、樹脂成形体の表面を粗面化するプラズマ処理を、
酸素あるいはオゾンを雰囲気ガスとするプラズマで行な
うようにしたので、エッチング効果を大きく得ることが
でき、樹脂成形体の表面の粗面化を効率高く行なうこと
ができるものである。According to a fourteenth aspect of the present invention, in the thirteenth aspect, the plasma treatment for roughening the surface of the resin molding is performed.
Since the etching is performed with plasma using oxygen or ozone as an atmospheric gas, a large etching effect can be obtained, and the surface of the resin molded body can be efficiently roughened.
【0092】また請求項15の発明は、請求項9乃至1
4のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面の樹脂の分子
の結合を開裂するプラズマ処理をした後、樹脂成形体の
表面に中間膜を形成するようにしたので、分子結合の開
裂によって樹脂成形体の表面の樹脂と中間膜の樹脂との
結合性を高めて、樹脂成形体に対する中間膜の密着性を
向上させることができるものであり、中間膜を介した樹
脂成形体と金属膜との密着性を一層高めることができる
ものである。Further, the invention of claim 15 is the invention of claims 9 to 1
In any one of (4) and (3), after performing a plasma treatment for cleaving the bond of the resin molecules on the surface of the resin molded body, an intermediate film is formed on the surface of the resin molded body. The adhesiveness of the intermediate film to the resin molded article can be improved by increasing the bonding property between the resin on the surface of the resin and the resin of the intermediate film, and the adhesion between the resin molded article and the metal film via the intermediate film can be improved. The property can be further enhanced.
【0093】また請求項16の発明は、請求項15にお
いて、樹脂成形体の表面の樹脂の分子の結合を開裂する
プラズマ処理を、大気圧プラズマで行なうようにしたの
で、真空ポンプや真空チャンバーなどを設備する必要が
なく、簡易な装置で処理を行なうことができるものであ
る。According to a sixteenth aspect of the present invention, in the fifteenth aspect, the plasma treatment for cleaving the bonding of the resin molecules on the surface of the resin molded body is performed by atmospheric pressure plasma. It is possible to carry out the processing with a simple device without the need for providing equipment.
【0094】また請求項17の発明は、請求項9乃至1
4のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面にレーザを照
射して表面の樹脂の分子の結合を開裂するプラズマ処理
をした後、樹脂成形体の表面に中間膜を形成するように
したので、レーザによる処理は大気圧中で行なうことが
でき、真空ポンプや真空チャンバーなどを設備する必要
がなくなって、簡易な装置で処理を行なうことができる
ものである。The seventeenth aspect of the present invention relates to the ninth to the first aspects.
4. In any one of the above, after performing a plasma treatment for irradiating a laser to the surface of the resin molded body to cleave the bonding of the resin molecules on the surface, an intermediate film is formed on the surface of the resin molded body. Can be performed at atmospheric pressure, and there is no need to provide a vacuum pump or a vacuum chamber, and the processing can be performed with a simple device.
【0095】また請求項18の発明は、請求項9乃至1
4のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面にエキシマラ
ンプで紫外線を照射して表面の樹脂の分子の結合を開裂
するプラズマ処理をした後、樹脂成形体の表面に中間膜
を形成するようにしたので、エキシマランプはレーザー
を照射する装置よりも装置を簡単・小型化して廉価にす
ることができるものであり、処理を安価に行なうことが
できるものである。The invention according to claim 18 is the invention according to claims 9 to 1
In any one of 4, the surface of the resin molded body is subjected to a plasma treatment for irradiating ultraviolet rays with an excimer lamp to cleave the bonding of the molecules of the resin on the surface, and then an intermediate film is formed on the surface of the resin molded body. Therefore, an excimer lamp can be made simpler, smaller, and cheaper than a device that irradiates a laser, and can be processed at low cost.
【0096】また請求項19の発明は、請求項9乃至1
8のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面で樹脂を気相
重合して中間膜を形成しながら、金属を物理蒸着して中
間膜の上に金属膜を形成することによって、樹脂と金属
が混在した中間膜を形成するようにしたので、気相重合
と物理蒸着の特性を利用して、樹脂と金属が混在した中
間膜を容易に作製することができるものである。The nineteenth aspect of the present invention relates to the ninth to the first aspects.
8. In any of 8, the resin and the metal are mixed by forming the metal film on the intermediate film by physical vapor deposition of the metal while forming the intermediate film by vapor-phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded body. Since an intermediate film is formed in this way, an intermediate film in which a resin and a metal are mixed can be easily produced by utilizing the characteristics of gas phase polymerization and physical vapor deposition.
【0097】また請求項20の発明は、請求項19にお
いて、樹脂成形体の表面で樹脂を気相重合して中間膜を
形成しながら、金属を物理蒸着して中間膜の上に金属膜
を形成することによって、樹脂と金属が混在した中間膜
を形成するにあたって、樹脂の気相重合の比率を減らし
ながら金属の物理蒸着を増やすことによって、樹脂に対
する金属の混在比率が、樹脂成形体に近い部分で低く、
金属膜に近い部分で高くなるように、徐々に変化する中
間膜を形成するようにしたので、気相重合と物理蒸着の
特性を利用して、樹脂と金属が混在比率が徐々に変化し
た中間膜を容易に作製することができるものである。[0097] According to a twentieth aspect of the present invention, in the nineteenth aspect, a metal film is formed by physical vapor deposition of a metal while forming an intermediate film by gas-phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded product. By forming, in forming the intermediate film in which the resin and the metal are mixed, by increasing the physical vapor deposition of the metal while reducing the ratio of the gas phase polymerization of the resin, the mixing ratio of the metal to the resin is close to that of the resin molded body. Low in part,
An intermediate film that gradually changes is formed so that it becomes higher near the metal film, so the characteristics of gas-phase polymerization and physical vapor deposition are used to make the intermediate ratio of the resin and metal gradually change. A film can be easily produced.
【0098】また請求項21の発明は、請求項9乃至1
8のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面で樹脂を気相
重合して中間膜を形成しながら、無機物を物理蒸着する
ことによって、樹脂と無機物が混在した中間膜を形成す
るようにしたので、気相重合と物理蒸着の特性を利用し
て、樹脂と無機物が混在した中間膜を容易に作製するこ
とができるものである。The invention of claim 21 is the invention of claims 9 to 1
In any one of 8, while forming an intermediate film by gas-phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded body, by performing physical vapor deposition of an inorganic material, an intermediate film in which the resin and the inorganic material are mixed is formed. By utilizing the characteristics of gas phase polymerization and physical vapor deposition, an intermediate film in which a resin and an inorganic substance are mixed can be easily produced.
【0099】また請求項22の発明は、請求項21にお
いて、樹脂成形体の表面で樹脂を気相重合して中間膜を
形成しながら、無機物としてアルミナを物理蒸着するこ
とによって、樹脂とアルミナが混在した中間膜を形成す
るようにしたので、気相重合と物理蒸着の特性を利用し
て、樹脂とアルミナが混在した中間膜を容易に作製する
ことができるものである。The invention of claim 22 is the method of claim 21, wherein alumina is physically vapor-deposited as an inorganic substance while forming an intermediate film by gas-phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded product, whereby the resin and the alumina are combined. Since the mixed intermediate film is formed, the intermediate film in which the resin and the alumina are mixed can be easily manufactured by utilizing the characteristics of the gas phase polymerization and the physical vapor deposition.
【0100】また請求項23の発明は、請求項9乃至2
2のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面に樹脂層を形
成すると共に樹脂層の表面に金属酸化物層を形成するこ
とによって、樹脂層と金属酸化物層の二層構成の中間膜
を形成するようにしたので、金属酸化物と金属との密着
性及び金属酸化物と樹脂との密着性は、樹脂と金属との
密着性よりも高いものであり、樹脂成形体と樹脂層との
密着性が高いのは勿論、金属膜と金属酸化物層との密着
性及び金属酸化物層と樹脂層との密着性を高く得ること
ができ、中間膜を介した樹脂成形体への金属膜の密着性
を一層高く得ることができるものである。Also, the invention of claim 23 is the invention of claims 9 to 2
2. In any one of (2), by forming a resin layer on the surface of the resin molded body and forming a metal oxide layer on the surface of the resin layer, an intermediate film having a two-layer structure of the resin layer and the metal oxide layer is formed. Therefore, the adhesion between the metal oxide and the metal and the adhesion between the metal oxide and the resin are higher than the adhesion between the resin and the metal, and the adhesion between the resin molded body and the resin layer. Of course, the adhesion between the metal film and the metal oxide layer and the adhesion between the metal oxide layer and the resin layer can be increased, and the adhesion of the metal film to the resin molded body via the intermediate film can be obtained. It is possible to obtain higher properties.
【0101】また請求項24の発明は、請求項23にお
いて、樹脂成形体の表面に樹脂層を形成した後に、反応
性スパッタリングで金属を酸化反応させながら樹脂層の
上に蒸着させて金属酸化物層を形成することによって、
樹脂層と金属酸化物層の二層構成の中間膜を形成し、引
き続いて金属を酸化させないでスパッタリングすること
によって、中間膜の金属酸化物層の表面に金属膜を形成
するようにしたので、反応性スパッタリングの特性を利
用して金属酸化物層の形成を容易に行なうことができる
と共に、しかも雰囲気ガスを変えてスパッタリングを行
なうことによって、同じスパッタリング工程で金属酸化
物層の形成と金属膜の形成を行なうことができ、工数を
低減することができるものである。According to a twenty-fourth aspect of the present invention, in the twenty-third aspect, a metal oxide is formed by forming a resin layer on the surface of a resin molded body and depositing the metal on the resin layer while oxidizing the metal by reactive sputtering. By forming a layer,
Since a two-layered intermediate film of a resin layer and a metal oxide layer was formed, and subsequently the metal film was sputtered without being oxidized, a metal film was formed on the surface of the metal oxide layer of the intermediate film. The formation of the metal oxide layer can be easily performed by utilizing the characteristics of the reactive sputtering, and further, by performing the sputtering while changing the atmosphere gas, the formation of the metal oxide layer and the formation of the metal film in the same sputtering process. The formation can be performed, and the number of steps can be reduced.
【0102】また請求項25の発明は、請求項24にお
いて、樹脂成形体の表面に樹脂層を形成した後に、反応
性スパッタリングで金属を酸化反応させながら樹脂層の
上に蒸着させて金属酸化物層を形成することによって、
樹脂層と金属酸化物層の二層構成の中間膜を形成するに
あたって、金属の酸化反応量を調整しながら反応性スパ
ッタリングをして、金属とその酸化物とを混在させると
共に、金属酸化物の混在比率が、樹脂層に近い部分で高
く、樹脂層から遠い部分で低くなるように徐々に変化す
るように金属酸化物層を形成するようにしたので、反応
性スパッタリングの特性を利用して、金属酸化物の混在
比率が変化する金属酸化物層を容易に形成することがで
きるものである。According to a twenty-fifth aspect of the present invention, in the twenty-fourth aspect, after forming a resin layer on the surface of the resin molded product, the metal oxide is deposited on the resin layer while oxidizing the metal by reactive sputtering. By forming a layer,
In forming a two-layer intermediate film of a resin layer and a metal oxide layer, reactive sputtering is performed while adjusting the amount of oxidation reaction of the metal, and the metal and its oxide are mixed, and the metal oxide is mixed. Since the metal oxide layer is formed so that the mixing ratio is gradually changed so as to be higher in a portion closer to the resin layer and lower in a portion farther from the resin layer, utilizing the characteristics of reactive sputtering, The metal oxide layer in which the mixing ratio of the metal oxide changes can be easily formed.
【0103】また請求項26の発明は、請求項9乃至2
5のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面に中間膜を形
成し、次いで中間膜の表面をプラズマ処理して粗面化し
た後、中間膜の上から樹脂成形体の表面に金属膜を形成
するようにしたので、粗面によるアンカー効果によって
中間膜と金属膜との密着性を高めることができ、中間膜
を介した樹脂成形体と金属膜との密着性を一層向上させ
ることができるものである。The invention according to claim 26 is the invention according to claims 9 and 2.
In any one of 5, the intermediate film is formed on the surface of the resin molded body, and then the surface of the intermediate film is roughened by plasma treatment, and then the metal film is formed on the surface of the resin molded body from above the intermediate film. As a result, the adhesion between the intermediate film and the metal film can be enhanced by the anchor effect of the rough surface, and the adhesion between the resin molded body and the metal film via the intermediate film can be further improved. is there.
【0104】また請求項27の発明は、請求項9乃至2
6のいずれかにおいて、樹脂成形体の表面に中間膜を形
成し、次いで中間膜の表面の樹脂の分子の結合を開裂す
る処理をした後、中間膜の上から樹脂成形体の表面に金
属膜を形成するようにしたので、分子結合の開裂によっ
て中間膜の樹脂と金属膜との結合性を高めて、中間膜に
対する金属膜の密着性を向上させることができるもので
あり、中間膜を介した樹脂成形体と金属膜との密着性を
一層高めることができるものである。The invention of claim 27 is the invention of claims 9 to 2
6. In any one of the above, after forming an intermediate film on the surface of the resin molded product and then performing a treatment of cleaving the bond of the resin molecules on the surface of the intermediate film, a metal film Is formed, so that the bond between the resin of the intermediate film and the metal film can be enhanced by the cleavage of molecular bonds, and the adhesion of the metal film to the intermediate film can be improved. It is possible to further enhance the adhesion between the formed resin molded body and the metal film.
【0105】また請求項28の発明は、請求項9乃至2
7のいずれかにおいて、中間膜の上から樹脂成形体の表
面に金属を物理蒸着して金属膜を形成する際に、希ガス
元素イオンのイオンビームを照射するようにしたので、
物理蒸着で中間膜の表面に堆積される金属粒子がイオン
ビームによって中間膜中に叩き込まれ、中間膜の表層部
分は金属が混在された状態になるものであり、中間膜に
対する金属膜の密着性をさらに高めることができ、中間
膜を介した樹脂成形体への金属膜の密着性を一層高く得
ることができるものである。The invention of claim 28 is the invention of claims 9 to 2
7. In any one of 7, when the metal film is formed by physical vapor deposition of the metal on the surface of the resin molded body from above the intermediate film, the ion beam of the rare gas element ion is irradiated.
The metal particles deposited on the surface of the intermediate film by physical vapor deposition are driven into the intermediate film by the ion beam, and the surface layer of the intermediate film is a state in which the metal is mixed, and the adhesion of the metal film to the intermediate film And the adhesion of the metal film to the resin molded body via the intermediate film can be further improved.
【0106】また請求項29の発明は、請求項9乃至2
7のいずれかにおいて、中間膜の上から樹脂成形体の表
面に金属を物理蒸着して金属膜を形成する際に、酸素イ
オンのイオンビームを照射した後に、希ガス元素イオン
のイオンビームを照射するようにしたので、物理蒸着で
中間膜の表面に堆積される金属粒子が酸素イオンのイオ
ンビームで酸化された状態で叩き込まれ、次いで希ガス
元素イオンのイオンビームによって中間膜に叩き込まれ
る金属の量が多くなり、中間膜の表層で金属酸化物と金
属とを混在させることができ、中間膜に対する金属膜の
密着性を一層高めることが可能になるものである。Further, the invention of claim 29 is the invention of claims 9 to 2
7. In any one of the above, in forming a metal film by physically depositing a metal on the surface of the resin molded body from above the intermediate film, irradiating an ion beam of a rare gas element ion after irradiating an ion beam of an oxygen ion Therefore, metal particles deposited on the surface of the intermediate film by physical vapor deposition are struck in a state where they are oxidized by an ion beam of oxygen ions, and then the metal particles struck into the intermediate film by an ion beam of rare gas element ions. The amount increases, and the metal oxide and the metal can be mixed in the surface layer of the intermediate film, so that the adhesion of the metal film to the intermediate film can be further enhanced.
【図1】本発明の実施の形態の一例を示すものであり、
(a),(b)はそれぞれ断面図である。FIG. 1 shows an example of an embodiment of the present invention,
(A), (b) is a sectional view, respectively.
【図2】同上の実施の形態の一例に用いる、スパッタリ
ング装置の概略図である。FIG. 2 is a schematic view of a sputtering apparatus used in an example of the above embodiment.
【図3】同上の実施の形態の一例に用いる、ポリイミド
蒸着重合装置の概略図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a polyimide vapor deposition polymerization apparatus used in an example of the above embodiment.
【図4】同上の実施の形態の一例に用いる、ポリイミド
プラズマ重合装置の概略図である。FIG. 4 is a schematic view of a polyimide plasma polymerization apparatus used in an example of the above embodiment.
【図5】同上の実施の形態の一例に用いる、プラズマ処
理装置の概略図である。FIG. 5 is a schematic diagram of a plasma processing apparatus used in an example of the above embodiment.
【図6】本発明の実施の形態の他の一例を示す、一部の
拡大した断面図である。FIG. 6 is a partially enlarged cross-sectional view showing another example of the embodiment of the present invention.
【図7】本発明の実施の形態の他の一例を示す、一部の
拡大した断面図である。FIG. 7 is a partially enlarged cross-sectional view showing another example of the embodiment of the present invention.
【図8】同上の実施の形態の一例に用いる、蒸着重合と
真空蒸着を同時に行なう装置の概略図である。FIG. 8 is a schematic diagram of an apparatus for performing vapor deposition polymerization and vacuum vapor deposition simultaneously, which is used in an example of the above embodiment.
【図9】本発明の実施の形態の他の一例を示す、一部の
拡大した断面図である。FIG. 9 is a partially enlarged cross-sectional view showing another example of the embodiment of the present invention.
【図10】本発明の実施の形態の他の一例を示す断面図
である。FIG. 10 is a sectional view showing another example of the embodiment of the present invention.
【図11】本発明の実施の形態の他の一例を示すもので
あり、(a),(b),(c)はそれぞれ断面図であ
る。11 shows another example of the embodiment of the present invention, and (a), (b), and (c) are cross-sectional views, respectively.
【図12】同上の実施の形態の一例に用いる、スパッタ
リング装置の概略図である。FIG. 12 is a schematic view of a sputtering apparatus used in one example of the above embodiment.
【図13】同上の実施の形態の一例に用いる、反応性ス
パッタリング装置の概略図である。FIG. 13 is a schematic diagram of a reactive sputtering apparatus used in an example of the above embodiment.
【図14】本発明の実施の形態の他の一例を示す、一部
の拡大した断面図である。FIG. 14 is a partially enlarged cross-sectional view showing another example of the embodiment of the present invention.
【図15】本発明の実施の形態の他の一例に用いる、ス
パッタリングとイオンビーム照射を行なう装置の概略図
である。FIG. 15 is a schematic view of an apparatus for performing sputtering and ion beam irradiation used in another example of the embodiment of the present invention.
【図16】従来におけるプラズマでの未処理と処理後の
金属膜のピール強度を示すグラフである。FIG. 16 is a graph showing the peel strength of a metal film before and after treatment with plasma in the related art.
1 樹脂成形体 2 金属膜 3 中間膜 4 樹脂層 5 金属酸化物層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Resin molded object 2 Metal film 3 Intermediate film 4 Resin layer 5 Metal oxide layer
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/38 H05K 3/38 E A // C08L 101:00 C08L 101:00 (72)発明者 池川 直人 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 (72)発明者 進藤 崇 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 Fターム(参考) 4F006 AA15 AB34 AB38 AB73 BA01 CA08 DA01 DA04 EA03 4F100 AA01C AA17D AA19C AB01B AB01C AB01D AB33B AB33D AK01A AK01C AK12 AK49C AK53C BA03 BA04 BA10A BA10B BA25C CA23C CA23D EH462 EH662 EJ121 EJ541 EJ611 GB41 JK06 YY00C 4K029 AA11 BA01 BA08 BA43 BA62 BA64 BB02 CA05 CA06 CA08 CA12 FA02 FA07 5E343 AA02 AA11 BB04 BB05 BB06 CC01 CC03 CC04 CC07 CC08 EE21 EE36 FF23 GG02 GG04Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (Reference) H05K 3/38 H05K 3/38 EA // C08L 101: 00 C08L 101: 00 (72) Inventor Naoto Ikegawa Kadoma, Osaka 1048 Ichidai Kadoma Matsushita Electric Works Co., Ltd. (72) Inventor Takashi Shindo 1048 Oji Kadoma Osaka Kadoma City Matsushita Electric Works Co., Ltd.F term (reference) 4F006 AA15 AB34 AB38 AB73 BA01 CA08 DA01 DA04 EA03 4F100 AA01C AA17D AA19C AB01B AB01C AB01D AB33B AB33D AK01A AK01C AK12 AK49C AK53C BA03 BA04 BA10A BA10B BA25C CA23C CA23D EH462 EH662 EJ121 EJ541 EJ611 GB41 JK06 YY00C 4K029 AA11 BA01 CC04 FA02 ACO CC08 EE21 EE36 FF23 GG02 GG04
Claims (29)
金属被覆成形体であって、樹脂成形体の樹脂と金属膜と
の密着性よりも金属膜に対する密着性が高い樹脂を含有
する中間膜を、樹脂成形体と金属膜との間に5μm以下
の厚みで形成して成ることを特徴とする金属被覆成形
体。1. A metal-coated molded article in which a surface of a resin molded article is coated with a metal film, wherein the resin contains a resin having higher adhesion to the metal film than adhesion between the resin of the resin molded article and the metal film. A metal-coated molded article formed by forming an intermediate film with a thickness of 5 μm or less between a resin molded article and a metal film.
樹脂とエポキシ樹脂の少なくとも一方であることを特徴
とする請求項1に記載の金属被覆成形体。2. The metal-coated body according to claim 1, wherein the resin contained in the intermediate film is at least one of a polyimide resin and an epoxy resin.
する膜で形成して成ることを特徴とす請求項1又は2に
記載の金属被覆成形体。3. The metal-coated molded product according to claim 1, wherein the intermediate film is formed of a film in which a resin and a metal of a metal film are mixed.
形体に近い部分で低く、金属膜に近い部分で高くなるよ
うに、徐々に変化させて中間膜を形成して成ることを特
徴とする請求項3に記載の金属被覆成形体。4. An intermediate film is formed by gradually changing a mixing ratio of a metal to a resin so as to be low in a portion near a resin molded body and to be high in a portion near a metal film. The metal-coated molded product according to claim 3.
で形成して成ることを特徴とする請求項1又は2に記載
の金属被覆成形体。5. The metal-coated molded product according to claim 1, wherein the intermediate film is formed by a film in which a resin and an inorganic substance are mixed.
を特徴とする請求項5に記載の金属被覆成形体。6. The metal-coated molded article according to claim 5, wherein alumina is used as an inorganic substance.
金属膜の側の金属酸化物層との二層構成に形成して成る
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の金属被覆成形
体。7. An intermediate film, comprising: a resin layer on a resin molded body side;
The metal-coated molded product according to claim 1 or 2, wherein the metal-coated molded product is formed in a two-layer configuration with a metal oxide layer on a side of the metal film.
物とが混在する層で形成し、金属に対する金属酸化物の
混在比率が、樹脂層に近い部分で高く、金属膜に近い部
分で低くなるように、徐々に変化させて金属酸化物層を
形成して成ることを特徴とする請求項7に記載の金属被
覆成形体。8. A metal oxide layer is formed of a layer of a metal film in which a metal and its oxide are mixed, and the mixing ratio of the metal oxide to the metal is high near the resin layer and high near the metal film. 8. The metal-coated molded body according to claim 7, wherein a metal oxide layer is formed by gradually changing the metal oxide layer so as to become lower.
と金属膜との密着性よりも金属膜に対する密着性が高い
樹脂を含有する中間膜を5μm以下の厚みで形成し、こ
の後に中間膜の上から樹脂成形体の表面に金属膜を形成
することを特徴とする金属被覆成形体の製造方法。9. An intermediate film containing a resin having higher adhesion to a metal film than adhesion between a resin and a metal film of the resin molding with a thickness of 5 μm or less is formed on the surface of the resin molding. A method for producing a metal-coated molded article, comprising forming a metal film on a surface of a resin molded article from above an intermediate film.
ド樹脂とエポキシ樹脂の少なくとも一方であることを特
徴とする請求項9に記載の金属被覆成形体の製造方法。10. The method according to claim 9, wherein the resin contained in the intermediate film is at least one of a polyimide resin and an epoxy resin.
ることによって中間膜を形成することを特徴とする請求
項9又は10に記載の金属被覆成形体の製造方法。11. The method for producing a metal-coated molded article according to claim 9, wherein an intermediate film is formed by subjecting the resin to gas-phase polymerization on the surface of the resin molded article.
することによって中間膜を形成することを特徴とする請
求項9又は10に記載の金属被覆成形体の製造方法。12. The method according to claim 9, wherein the intermediate film is formed by spraying a resin liquid on the surface of the resin molded body.
粗面化した後、樹脂成形体の表面に中間膜を形成するこ
とを特徴とする請求項9乃至12のいずれかに記載の金
属被覆成形体の製造方法。13. The metal coating according to claim 9, wherein an intermediate film is formed on the surface of the resin molded body after the surface of the resin molded body is roughened by plasma treatment. A method for producing a molded article.
マ処理を、酸素あるいはオゾンを雰囲気ガスとするプラ
ズマで行なうことを特徴とする請求項13に記載の金属
被覆成形体の製造方法。14. The method according to claim 13, wherein the plasma treatment for roughening the surface of the resin molded body is performed with plasma using oxygen or ozone as an atmospheric gas.
を開裂するプラズマ処理をした後、樹脂成形体の表面に
中間膜を形成することを特徴とする請求項9乃至14の
いずれかに記載の金属被覆成形体の製造方法。15. The method according to claim 9, wherein an intermediate film is formed on the surface of the resin molded body after performing a plasma treatment for cleaving the bonding of the molecules of the resin on the surface of the resin molded body. A method for producing a metal-coated molded product according to the above.
を開裂するプラズマ処理を、大気圧プラズマで行なうこ
とを特徴とする請求項15に記載の金属被覆成形体の製
造方法。16. The method according to claim 15, wherein the plasma treatment for cleaving the bond of the resin molecules on the surface of the resin molded body is performed by atmospheric pressure plasma.
表面の樹脂の分子の結合を開裂するプラズマ処理をした
後、樹脂成形体の表面に中間膜を形成することを特徴と
する請求項9乃至14のいずれかに記載の金属被覆成形
体の製造方法。17. The method according to claim 1, wherein the intermediate layer is formed on the surface of the resin molded body after the surface of the resin molded body is subjected to plasma treatment by irradiating a laser beam to cleave the bonds of the molecules of the resin on the surface. 15. The method for producing a metal-coated molded product according to any one of 9 to 14.
紫外線を照射して表面の樹脂の分子の結合を開裂するプ
ラズマ処理をした後、樹脂成形体の表面に中間膜を形成
することを特徴とする請求項9乃至14のいずれかに記
載の金属被覆成形体の製造方法。18. The method according to claim 1, wherein the surface of the resin molded body is subjected to a plasma treatment for irradiating ultraviolet rays with an excimer lamp to cleave the bonding of the molecules of the resin on the surface, and then forming an intermediate film on the surface of the resin molded body. The method for producing a metal-coated molded product according to any one of claims 9 to 14.
て中間膜を形成しながら、金属を物理蒸着して中間膜の
上に金属膜を形成することによって、樹脂と金属が混在
した中間膜を形成することを特徴とする請求項9乃至1
8のいずれかに記載の金属被覆成形体の製造方法。19. A method in which a resin and a metal are mixed by forming a metal film on the intermediate film by physical vapor deposition of a metal while forming an intermediate film by gas-phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded body. 2. An intermediate film is formed.
9. The method for producing a metal-coated molded product according to any one of 8.
て中間膜を形成しながら、金属を物理蒸着して中間膜の
上に金属膜を形成することによって、樹脂と金属が混在
した中間膜を形成するにあたって、樹脂の気相重合の比
率を減らしながら金属の物理蒸着を増やすことによっ
て、樹脂に対する金属の混在比率が、樹脂成形体に近い
部分で低く、金属膜に近い部分で高くなるように、徐々
に変化する中間膜を形成することを特徴とする請求項1
9に記載の金属被覆成形体の製造方法。20. A method in which a resin and a metal are mixed by forming a metal film on the intermediate film by physical vapor deposition of a metal while forming an intermediate film by vapor-phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded body. In forming the intermediate film, by increasing the physical vapor deposition of the metal while reducing the ratio of the gas phase polymerization of the resin, the mixing ratio of the metal to the resin is low in the portion close to the resin molded body and high in the portion close to the metal film. 2. The method according to claim 1, wherein the intermediate film is formed so as to change gradually.
10. The method for producing a metal-coated molded product according to item 9.
て中間膜を形成しながら、無機物を物理蒸着することに
よって、樹脂と無機物が混在した中間膜を形成すること
を特徴とする請求項9乃至18のいずれかに記載の金属
被覆成形体の製造方法。21. An intermediate film in which a resin and an inorganic material are mixed is formed by physical vapor deposition of an inorganic material while forming an intermediate film by gas-phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded body. Item 19. The method for producing a metal-coated molded product according to any one of Items 9 to 18.
て中間膜を形成しながら、無機物としてアルミナを物理
蒸着することによって、樹脂とアルミナが混在した中間
膜を形成することを特徴とする請求項21に記載の金属
被覆成形体の製造方法。22. An intermediate film in which resin and alumina are mixed by physical vapor deposition of alumina as an inorganic substance while forming an intermediate film by vapor-phase polymerization of the resin on the surface of the resin molded body. The method for producing a metal-coated molded product according to claim 21.
と共に樹脂層の表面に金属酸化物層を形成することによ
って、樹脂層と金属酸化物層の二層構成の中間膜を形成
することを特徴とする請求項9乃至22のいずれかに記
載の金属被覆成形体の製造方法。23. A two-layer intermediate film composed of a resin layer and a metal oxide layer by forming a resin layer on the surface of a resin molded body and forming a metal oxide layer on the surface of the resin layer. The method for producing a metal-coated molded product according to any one of claims 9 to 22, characterized in that:
後に、反応性スパッタリングで金属を酸化反応させなが
ら樹脂層の上に蒸着させて金属酸化物層を形成すること
によって、樹脂層と金属酸化物層の二層構成の中間膜を
形成し、引き続いて金属を酸化させないでスパッタリン
グすることによって、中間膜の金属酸化物層の表面に金
属膜を形成することを特徴とする請求項23に記載の金
属被覆成形体の製造方法。24. After forming a resin layer on the surface of the resin molded body, the metal is oxidized by reactive sputtering, and is vapor-deposited on the resin layer to form a metal oxide layer. 24. The method according to claim 23, wherein the metal film is formed on the surface of the metal oxide layer of the intermediate film by forming an intermediate film having a two-layer structure of the oxide layer and subsequently performing sputtering without oxidizing the metal. A method for producing a metal-coated molded product according to the above.
後に、反応性スパッタリングで金属を酸化反応させなが
ら樹脂層の上に蒸着させて金属酸化物層を形成すること
によって、樹脂層と金属酸化物層の二層構成の中間膜を
形成するにあたって、金属の酸化反応量を調整しながら
反応性スパッタリングをして、金属とその酸化物とを混
在させると共に、金属酸化物の混在比率が、樹脂層に近
い部分で高く、樹脂層から遠い部分で低くなるように徐
々に変化するように金属酸化物層を形成することを特徴
とする請求項24に記載の金属被覆成形体の製造方法。25. After forming a resin layer on the surface of a resin molded body, the metal is oxidized by reactive sputtering, and is vapor-deposited on the resin layer to form a metal oxide layer. In forming an intermediate film having a two-layer structure of an oxide layer, reactive sputtering is performed while adjusting the oxidation reaction amount of the metal, and the metal and its oxide are mixed, and the mixing ratio of the metal oxide is The method for producing a metal-coated molded product according to claim 24, wherein the metal oxide layer is formed so as to gradually change so as to be higher in a portion near the resin layer and to be lower in a portion far from the resin layer.
次いで中間膜の表面をプラズマ処理して粗面化した後、
中間膜の上から樹脂成形体の表面に金属膜を形成するこ
とを特徴とする請求項9乃至25のいずれかに記載の金
属被覆成形体の製造方法。26. An intermediate film is formed on the surface of the resin molded body,
Then, after the surface of the intermediate film is roughened by plasma treatment,
The method for manufacturing a metal-coated molded product according to any one of claims 9 to 25, wherein a metal film is formed on the surface of the resin molded product from above the intermediate film.
次いで中間膜の表面の樹脂の分子の結合を開裂する処理
をした後、中間膜の上から樹脂成形体の表面に金属膜を
形成することを特徴とする請求項9乃至26のいずれか
に記載の金属被覆成形体の製造方法。27. An intermediate film is formed on a surface of the resin molded body,
27. A metal film is formed on the surface of the resin molded body from above the intermediate film after performing a process of cleaving the bond of the resin molecules on the surface of the intermediate film. The method for producing a metal-coated molded article according to the above.
属を物理蒸着して金属膜を形成する際に、希ガス元素イ
オンのイオンビームを照射することを特徴とする請求項
9乃至27のいずれかに記載の金属被覆成形体の製造方
法。28. An ion beam of rare gas element ions when a metal film is formed by physical vapor deposition of a metal on the surface of a resin molding from above the intermediate film. The method for producing a metal-coated molded product according to any one of the above.
属を物理蒸着して金属膜を形成する際に、酸素イオンの
イオンビームを照射した後に、希ガス元素イオンのイオ
ンビームを照射することを特徴とする請求項9乃至27
のいずれかに記載の金属被覆成形体の製造方法。29. When a metal film is formed by physical vapor deposition of a metal on the surface of a resin molded product from above an intermediate film, an ion beam of a rare gas element ion is irradiated after irradiation with an ion beam of oxygen ions. 28. A method according to claim 9, wherein:
The method for producing a metal-coated molded product according to any one of the above.
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