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JP2002190214A - Transparent conductive film and display device using the same - Google Patents

Transparent conductive film and display device using the same

Info

Publication number
JP2002190214A
JP2002190214A JP2000387354A JP2000387354A JP2002190214A JP 2002190214 A JP2002190214 A JP 2002190214A JP 2000387354 A JP2000387354 A JP 2000387354A JP 2000387354 A JP2000387354 A JP 2000387354A JP 2002190214 A JP2002190214 A JP 2002190214A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive film
transparent conductive
layer
transparent
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000387354A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazumichi Mori
一倫 森
Atsumi Wakabayashi
淳美 若林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Osaka Cement Co Ltd filed Critical Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Priority to JP2000387354A priority Critical patent/JP2002190214A/en
Publication of JP2002190214A publication Critical patent/JP2002190214A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Elimination Of Static Electricity (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明で優れた帯電防止効果、電磁波遮蔽効果
および反射防止効果を有し、化学的安定性も良好で、し
かも透過画像の色相が自然で視認性が良好な透明導電
膜、及び該透明導電膜を表示面に用いることで蛍光体が
脱落するおそれがない陰極線管等の表示装置を提供す
る。 【解決手段】 本発明の透明導電膜は、Ru、Au、P
tから選択された少なくとも1種からなる貴金属微粒子
を含む塗料を塗布、乾燥し、その後、500℃〜515
℃の温度で熱処理して得られた導電層を備えたことを特
徴とする。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent and excellent antistatic effect, electromagnetic wave shielding effect and antireflection effect, good chemical stability, natural color of transmitted image, and good visibility. Provided is a conductive film and a display device such as a cathode ray tube which does not have a risk of a phosphor being dropped by using the transparent conductive film for a display surface. SOLUTION: The transparent conductive film of the present invention is made of Ru, Au, P
a coating containing at least one noble metal fine particle selected from the group consisting of t and t, and then dried.
A conductive layer obtained by performing a heat treatment at a temperature of ° C.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は透明導電膜及びそれ
を用いた表示装置に関し、特に、陰極線菅のフェイスパ
ネルや、プラズマディスプレイ(PDP)、蛍光表示管
(VFD)等の平面ディスプレイの表示面に好適に用い
られ、透明で優れた帯電防止効果と電磁波遮蔽効果なら
びに反射防止効果を有し、塗膜の外観上においても違和
感を与えない自然な透過色を有し、しかも化学的安定性
に優れた透明導電膜、およびこの透明導電膜を表示面に
形成した表示装置に関するものである。
The present invention relates to a transparent conductive film and a display device using the same, and more particularly to a display surface of a flat panel display such as a cathode ray tube face panel, a plasma display (PDP), and a fluorescent display tube (VFD). It has a transparent and excellent antistatic effect, electromagnetic wave shielding effect and antireflection effect, and has a natural transmitted color that does not give a sense of incongruity even in the appearance of the coating film. The present invention relates to an excellent transparent conductive film and a display device having the transparent conductive film formed on a display surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、TVブラウン管、あるいはコンピ
ュータのディスプレイなどに用いられている表示装置の
1種である陰極線管は、赤色、緑色、青色に発光する蛍
光面に電子ビームを射突させることによって文字や画像
を表示面に映し出すものであるから、この表示面に発生
する静電気により埃が付着して視認性が低下する他、電
磁波を放射して環境に悪影響を及ぼす等の惧れがある。
また、最近では、壁掛けテレビなどとしての応用が進め
られているプラズマディスプレイ等の平面ディスプレイ
においても、静電気の発生や電磁波放射の可能性が指摘
されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a cathode ray tube, which is a kind of a display device used for a TV cathode ray tube or a computer display, emits an electron beam onto a phosphor screen which emits red, green and blue light. Since characters and images are projected on the display surface, there is a fear that static electricity generated on the display surface causes dust to adhere to the display surface, lower visibility, and radiate electromagnetic waves to adversely affect the environment.
In addition, recently, it has been pointed out that a flat display such as a plasma display, which is being applied as a wall-mounted television, may generate static electricity or emit electromagnetic waves.

【0003】そこで、これらの問題を解決するために、
スパッタ法や蒸着法によって表示装置の表示面上に透明
な金属薄膜を形成するか、あるいは、銀などの導電性微
粒子を液中に分散させた塗布液を表示面に塗布すること
によって、透明導電膜を形成することにより帯電防止お
よび/または電磁波遮蔽が図られている。また、表示面
上にこれらの薄膜を形成すると、界面反射が起って視認
性が低下するので、これを防止するために、透明導電膜
の上層および/または下層に、この透明導電膜とは屈折
率が異なる透明薄膜を形成することも行われている。
[0003] In order to solve these problems,
By forming a transparent metal thin film on the display surface of the display device by sputtering or vapor deposition, or by applying a coating liquid in which conductive particles such as silver are dispersed in the liquid, the transparent conductive film is formed. By forming a film, antistatic and / or electromagnetic wave shielding is achieved. In addition, when these thin films are formed on the display surface, interface reflection occurs and visibility deteriorates. In order to prevent this, the transparent conductive film is formed on the upper and / or lower layers of the transparent conductive film. It has also been practiced to form transparent thin films having different refractive indices.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の透明導電膜では、帯電防止効果と電磁波遮蔽効
果は期待できるものの、次に述べる様な様々な問題点が
あった。例えば、導電性微粒子として銀微粒子を用いた
場合、その光透過スペクトルに依存して透過光の400
〜500nmの波長に吸収が生じるために、導電膜が黄
色に着色し、透過画像の色相が不自然に見えるという問
題点があった。
However, although the above-mentioned conventional transparent conductive film can be expected to have an antistatic effect and an electromagnetic wave shielding effect, it has various problems as described below. For example, when silver fine particles are used as the conductive fine particles, the transmitted light of 400
Since absorption occurs at a wavelength of about 500 nm, the conductive film is colored yellow, and the hue of the transmitted image looks unnatural.

【0005】また、膜質が軟質で擦りキズなどが発生し
易いという問題点、塗布液の分散安定性が乏しく塗膜上
に銀微粒子の凝集物による欠陥が生じるという問題点が
あった。また、化学的安定性が低いために薬液中に浸漬
したり、塩水に曝されると変質し導電膜の表面抵抗値が
上昇し電磁波遮蔽効果が低下するという問題点があっ
た。また、完成後の陰極線管に導電膜形成用塗料を塗布
する場合、熱処理を行なった時に蛍光体が剥離、脱落す
るという問題点があった。
In addition, there are problems that the film quality is soft and rubbing is easily caused, and that the dispersion stability of the coating solution is poor and defects due to aggregates of silver fine particles are formed on the coating film. In addition, there is a problem in that, when immersed in a chemical solution or exposed to salt water, the conductive film deteriorates due to low chemical stability, the surface resistance of the conductive film increases, and the electromagnetic wave shielding effect decreases. In addition, when a coating material for forming a conductive film is applied to a cathode ray tube after completion, there is a problem that the phosphor is peeled off or dropped off when heat treatment is performed.

【0006】本発明は、上記の課題を解決するためにな
されたものであって、透明で優れた帯電防止効果、電磁
波遮蔽効果および反射防止効果を有し、化学的安定性も
良好で、しかも透過画像の色相が自然で視認性が良好な
透明導電膜、及び該透明導電膜を表示面に用いることで
蛍光体が脱落するおそれがない陰極線管等の表示装置を
提供することを目的とする。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and is transparent and has excellent antistatic effect, electromagnetic wave shielding effect and antireflection effect, good chemical stability, and It is an object of the present invention to provide a transparent conductive film having a natural hue of a transmitted image and good visibility, and a display device such as a cathode ray tube or the like in which a phosphor is not likely to fall off by using the transparent conductive film on a display surface. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、表示装置
の表示面に優れた視認性と電磁波遮蔽効果を付与すべ
く、貴金属微粒子を含有する塗料を塗布することにより
形成される透明導電膜について鋭意研究した結果、ルテ
ニウム(Ru)、金(Au)、白金(Pt)のうちの少
なくとも一つの貴金属微粒子が均一に分散した塗料を用
いて形成された薄膜に500℃〜515℃の温度で熱処
理を施した透明導電膜は、色調ならびに化学的安定性に
優れ、しかも優れた導電性能ならびに反射防止性能を有
するという知見を得、本発明に到達した。
Means for Solving the Problems The present inventors have proposed a transparent conductive material formed by applying a paint containing fine noble metal particles in order to impart excellent visibility and an electromagnetic wave shielding effect to the display surface of a display device. As a result of intensive studies on the film, a temperature of 500 ° C. to 515 ° C. was applied to a thin film formed using a paint in which at least one noble metal fine particle of ruthenium (Ru), gold (Au), and platinum (Pt) was uniformly dispersed. It has been found that the transparent conductive film subjected to the heat treatment in Example 1 has excellent color tone and chemical stability, and furthermore has excellent conductive performance and antireflection performance, and has reached the present invention.

【0008】すなわち、本発明の透明導電膜は、少なく
とも貴金属微粒子を含む塗料を塗布、乾燥し、その後、
500℃〜515℃の温度で熱処理してなる導電層を備
えてなることを特徴とする。前記貴金属は、Ru、A
u、Ptから選択された少なくとも1種であることが好
ましい。
That is, the transparent conductive film of the present invention is applied with a paint containing at least noble metal fine particles, dried, and then
A conductive layer formed by heat treatment at a temperature of 500 ° C. to 515 ° C. is provided. The noble metal is Ru, A
Preferably, at least one selected from u and Pt.

【0009】この透明導電膜では、貴金属微粒子、特に
Ru、Au、Ptのうちの1種を含む塗料を陰極線管の
フェイスパネル等の基材上に塗布し、乾燥後に500℃
〜515℃の温度で焼き付けて成膜すると従来の帯電防
止効果のみでなく電磁波遮蔽効果まで満たす優れた導電
性をもった膜が得られる。この透明導電膜は、反射防止
効果も有し、化学的安定性も良好である。また、透過画
像の色相が自然で視認性も良好である。
In this transparent conductive film, a paint containing noble metal fine particles, particularly one of Ru, Au, and Pt, is applied on a base material such as a face panel of a cathode ray tube, and dried at 500 ° C.
When the film is formed by baking at a temperature of about 515 ° C., a film having excellent conductivity satisfying not only the conventional antistatic effect but also the electromagnetic wave shielding effect can be obtained. This transparent conductive film also has an antireflection effect and has good chemical stability. Further, the hue of the transmission image is natural and the visibility is good.

【0010】この理由は必ずしも明確ではないが、50
0℃〜515℃の熱処理により、粒成長がおこり粒子間
の緻密性が向上しているため高い導電性能が得られ、ま
た優れた化学安定性を得ることができるためだと推測さ
れる。また、500℃〜515℃で熱処理された導電膜
は、反射スペクトルがU字型になる。すなわち可視光領
域での反射率の高低差が小さいため、結果的に反射率曲
線はブロード化し、反射色としては特定の色が強調され
ることがなく目に優しい反射色となり、さらに自然光に
近い色調をもった透過画像が得られる。
Although the reason for this is not always clear, 50
It is presumed that the heat treatment at 0 ° C. to 515 ° C. results in grain growth and improved compactness between the particles, so that high conductive performance can be obtained and excellent chemical stability can be obtained. The conductive film that has been heat-treated at 500 ° C. to 515 ° C. has a U-shaped reflection spectrum. That is, since the difference in the reflectance in the visible light region is small, the reflectance curve is broadened as a result, and the reflected color is a reflection color that is easy on the eyes without emphasizing a specific color, and is closer to natural light. A transmission image having a color tone is obtained.

【0011】ここで、熱処理温度を500℃〜515℃
に限定した理由は、熱処理温度が500℃未満では、微
粒子同士の緻密化が進まず導電性能が損なわれ、また、
反射スペクトルがV字型、すなわち可視光領域での反射
率の高低差が大きくなり、反射色としては反射率の高い
領域の色が強調されることになり、結果的に反射色が強
調された外観となるため視認性が低下するからである。
一方、熱処理温度が515℃を超えると、この透明導電
膜を成膜する際に用いられるガラス基板からイオンが溶
出するために、導電膜が侵され、膜外観は微粒子の凝集
による白化で劣化し、導電性も低下するからである。
Here, the heat treatment temperature is set at 500 ° C. to 515 ° C.
The reason is that, when the heat treatment temperature is less than 500 ° C., the fine particles do not proceed to densification and the conductive performance is impaired.
The reflection spectrum has a V-shape, that is, the difference in reflectance in the visible light region is large, and the color of the region with high reflectance is emphasized as the reflection color. As a result, the reflection color is emphasized. This is because the visibility is reduced due to the appearance.
On the other hand, if the heat treatment temperature exceeds 515 ° C., ions are eluted from the glass substrate used for forming the transparent conductive film, so that the conductive film is attacked and the film appearance is deteriorated by whitening due to aggregation of fine particles. This is because the conductivity also decreases.

【0012】前記導電層の上層および/または下層に、
前記導電層とは屈折率の異なる透明層が少なくとも1層
形成されていることが好ましい。前記透明層を形成する
ことによって、透明導電膜は反射防止性能が向上し、外
光の映り込みやヘイズが極めて少ないものとなる。
[0012] On the upper and / or lower layer of the conductive layer,
It is preferable that at least one transparent layer having a different refractive index from the conductive layer is formed. By forming the transparent layer, the anti-reflection performance of the transparent conductive film is improved, and reflection of external light and haze are extremely reduced.

【0013】本発明の表示装置は、前記いずれかの透明
導電膜が表示面に形成されていることを特徴とする。こ
の表示装置では、前記透明導電膜が表示面に形成された
ことによって、表示面の帯電が防止され、画像表示面に
挨などが付着しない。また、電磁波が遮蔽されるので各
種の電磁波障害が防止される。また、光透過性に優れて
いるので画像が明るく、透過画像の色相が自然であり、
表示面の外観が良好である。しかも化学的安定性が良好
であるから取り扱い上における制限もほとんど無くな
る。
The display device according to the present invention is characterized in that any one of the transparent conductive films is formed on a display surface. In this display device, since the transparent conductive film is formed on the display surface, charging of the display surface is prevented, and no dust or the like adheres to the image display surface. Further, since the electromagnetic waves are shielded, various electromagnetic wave disturbances are prevented. In addition, the image is bright because of excellent light transmittance, the hue of the transmitted image is natural,
The appearance of the display surface is good. In addition, since the chemical stability is good, there are almost no restrictions on handling.

【0014】前記表示面は、陰極線管のフェイスパネル
の表示面であることが好ましい。従来の表示装置では、
例えば、完成後の陰極線管に導電膜形成用塗料を塗布し
て熱処理を行なった時に、蛍光体が剥離、脱落するとい
う問題が発生するため、熱処理温度は低い方が好まし
い。一方、陰極線管組み立て前のフェイスパネルのみの
段階で透明導電膜を形成する場合、陰極線管組立時にガ
ラスフリットを用いてフェイスパネルとファンネル部を
封着させる必要があるために、500℃程度の熱処理が
必要である。したがって、透明導電膜形成材料として
は、500℃程度の温度に対して耐熱性のあるものが必
要とされる。
Preferably, the display surface is a display surface of a face panel of a cathode ray tube. In a conventional display device,
For example, when applying a paint for forming a conductive film to a completed cathode ray tube and performing a heat treatment, there is a problem that the phosphor is peeled off or dropped off. Therefore, the heat treatment temperature is preferably lower. On the other hand, when the transparent conductive film is formed only at the stage of the face panel before assembling the cathode ray tube, it is necessary to seal the face panel and the funnel portion using a glass frit at the time of assembling the cathode ray tube. is necessary. Therefore, a material having heat resistance at a temperature of about 500 ° C. is required as a transparent conductive film forming material.

【0015】本発明の場合、使用する貴金属微粒子はこ
の程度の熱では充分に安定的であり、また、あらかじめ
500℃〜515℃で熱処理を行なっているため、フェ
イスパネルとファンネル部の封着の際500℃程度で加
熱しても透明導電膜に何ら影響がない。
In the case of the present invention, the noble metal fine particles used are sufficiently stable at this level of heat, and are heat-treated at 500 ° C. to 515 ° C. in advance. At this time, heating at about 500 ° C. has no effect on the transparent conductive film.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明の透明導電膜および表示装
置の一実施の形態を好ましい具体例によって説明する。
本発明の透明導電膜における導電層は、Ru、Au、P
tから選択された少なくとも1種からなる貴金属微粒子
を含む塗料(導電層形成用塗料)を塗布、乾燥し、その
後、500℃〜515℃の温度で熱処理を施すことによ
って得られ、高い導電性と高い化学的安定性を有すると
共に、この導電層を透過した画像は、色相が自然であ
り、表示面の外観が良好である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION One embodiment of the transparent conductive film and the display device of the present invention will be described with preferred specific examples.
The conductive layer in the transparent conductive film of the present invention is made of Ru, Au, P
t is obtained by applying a coating containing at least one type of noble metal fine particles selected from t (a coating for forming a conductive layer), followed by drying, and then performing a heat treatment at a temperature of 500 ° C. to 515 ° C. In addition to having high chemical stability, an image transmitted through this conductive layer has a natural hue and has a good appearance on the display surface.

【0017】導電層形成用塗料に用いられる貴金属微粒
子の粒径は、1nm〜50nmの範囲内であることが好
ましい。ここで、粒径を上記のように限定した理由は、
貴金属微粒子の粒径が1nmを下回ると金属としての性
質が損なわれ、導電性が低下し、また、50nmを超え
ると塗料中において貴金属微粒子の凝集傾向が強くな
り、均一な塗膜の形成が困難となるからである。さら
に、貴金属微粒子の粒径が1nmを下回った場合に、酸
化物が生成するおそれがあり、微粒子の融合、緻密化が
不十分なものとなる。また、光吸収性が大となって十分
な導電性を得ようとすると透明性が失われ実用性が低下
する。
The particle size of the noble metal fine particles used in the conductive layer forming coating is preferably in the range of 1 nm to 50 nm. Here, the reason for limiting the particle size as described above is as follows.
If the particle size of the noble metal particles is less than 1 nm, the properties as a metal are impaired, and the conductivity is reduced. If the particle size exceeds 50 nm, the tendency of the noble metal particles to coagulate in the coating material becomes strong, making it difficult to form a uniform coating film. This is because Furthermore, when the particle size of the noble metal fine particles is less than 1 nm, an oxide may be generated, and the fusion and densification of the fine particles become insufficient. In addition, if the light absorbency is large and sufficient conductivity is to be obtained, the transparency is lost and the practicality is reduced.

【0018】本発明の透明導電膜は、少なくともいずれ
かの1層、例えば、導電層および/または透明層に着色
材を含有させることとしてもよい。この着色材は、透過
画像のコントラストの向上や、透過光、反射光の色彩調
整のために用いられる。
In the transparent conductive film of the present invention, at least one of the layers, for example, the conductive layer and / or the transparent layer may contain a coloring material. This coloring material is used for improving the contrast of a transmitted image and adjusting the color of transmitted light and reflected light.

【0019】前記着色材として用いることができる物質
の例としては、例えば、モノアゾピグメント、キナクリ
ドン、アイアンオキサイド・エロー、ジスアゾピグメン
ト、フタロシアニングリーン、フタロシアニンブルー、
シアニンブルー、フラバンスロンエロー、ジアンスラキ
ノリルレッド、インダンスロンブルー、チオインジゴボ
ルドー、ペリレンオレンジ、ペリレンスカーレット、ペ
リレンレッド178、ペリリレンマルーン、ジオキサジ
ンバイオレット、イソインドリンエロー、ニッケルニト
ロソエロー、マダーレーキ、銅アゾメチンエロー、アニ
リンブラック、アルカリブルー、亜鉛華、酸化チタン、
弁柄、酸化クロム、鉄黒、チタンエロ−、コバルトブル
ー、セルリアンブルー、コバルトグリーン、アルミナホ
ワイト、ビリジアン、カドミウムエロー、カドミウムレ
ッド、朱、リトポン、黄鉛、モリブデートオレンジ、ク
ロム酸亜鉛、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸カル
シウム、鉛白、群青、マンガンバイオレット、エメラル
ドグリーン、紺青、カーボンブラックなどの有機および
無機顔料、ならびにアゾ染料、アントラキノン染料、イ
ンジゴイド染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染
料、キノンイミン染料、メチン染料、キノリン染料、ニ
トロ染料、ニトロソ染料、ベンゾキノン染料、ナフトキ
ノン染料、ナフタルイミド染料、ペリノン染料などの各
種染料を挙げることができる。これらの着色材は単独
で、または2種以上を組み合わせて用いることができ
る。
Examples of the substance which can be used as the coloring material include, for example, monoazo pigment, quinacridone, iron oxide yellow, disazo pigment, phthalocyanine green, phthalocyanine blue,
Cyanine blue, flavanthrone yellow, dianthraquinolyl red, indanthrone blue, thioindigo bordeaux, perylene orange, perylene scarlet, perylene red 178, perillylene maroon, dioxazine violet, isoindolin yellow, nickel nitroso yellow, madder lake, Copper azomethine yellow, aniline black, alkali blue, zinc white, titanium oxide,
Red petal, chromium oxide, iron black, titanium erotic, cobalt blue, cerulean blue, cobalt green, alumina white, viridian, cadmium yellow, cadmium red, vermilion, lithopone, graphite, molybdate orange, zinc chromate, calcium sulfate, Organic and inorganic pigments such as barium sulfate, calcium carbonate, lead white, ultramarine, manganese violet, emerald green, navy blue, carbon black, and azo dyes, anthraquinone dyes, indigoid dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, Various dyes such as a quinoline dye, a nitro dye, a nitroso dye, a benzoquinone dye, a naphthoquinone dye, a naphthalimide dye and a perinone dye can be exemplified. These coloring materials can be used alone or in combination of two or more.

【0020】用いる着色材の種類と量は、対応する透明
導電膜の光学的な膜特性に対応して適宜選択することが
可能である。透明性薄膜の吸光度Aは、一般的には下記
の式(1)で表わされる。 A=log10(I0/I)=εCD ……(1) 式(1)中、I0:入射光、I:透過光、C:色濃度、
D:光距離、ε:モル吸光係数である。
The type and amount of the coloring material used can be appropriately selected according to the optical film characteristics of the corresponding transparent conductive film. The absorbance A of the transparent thin film is generally represented by the following equation (1). A = log 10 (I 0 / I) = εCD (1) In the formula (1), I 0 : incident light, I: transmitted light, C: color density,
D: light distance, ε: molar extinction coefficient.

【0021】本実施形態の透明導電膜では、一般に、モ
ル吸光係数がε>10の着色材が用いられる。また、着
色材の含有量は、使用する着色材のモル吸光係数に依存
して変わるが、着色材を含有した積層膜および/または
単層膜の吸光度Aが0.0004〜0.0969ab
s.の範囲内となるような含有量であることが好まし
い。これらの条件が満たされない場合、透明度および/
または反射防止効果が低下する。
In the transparent conductive film of this embodiment, a coloring material having a molar absorption coefficient of ε> 10 is generally used. The content of the coloring material varies depending on the molar extinction coefficient of the coloring material to be used, and the absorbance A of the laminated film and / or the single-layer film containing the coloring material is 0.0004 to 0.0969ab.
s. Is preferably within such a range. If these conditions are not met, the transparency and / or
Alternatively, the antireflection effect decreases.

【0022】着色材を導電層に添加する場合、その添加
量は、金属の含有量に対して20重量%以下、特に10
重量%以下とすることが好ましい。20重量%を越える
と、導電性の低下が認められ、20重量%を越えると、
電磁波遮蔽効果に支障を来すことになるからである。
When a coloring material is added to the conductive layer, the amount of the coloring material is not more than 20% by weight, especially
% By weight or less. If it exceeds 20% by weight, a decrease in conductivity is observed.
This is because the electromagnetic wave shielding effect is hindered.

【0023】本実施形態の透明導電膜では、導電層は、
前記の貴金属微粒子に加えて、平均粒径が100nm以
下のシリカ微粒子を前記貴金属微粒子に対して1重量%
〜40重量%の範囲内で含有した構成としてもよい。こ
のシリカ微粒子を含む前記導電層形成用塗料を塗布し成
膜した導電層は、膜強度が著しく向上し、スクラッチ強
度が向上する。
In the transparent conductive film of this embodiment, the conductive layer
In addition to the above-mentioned noble metal fine particles, 1% by weight of silica fine particles having an average particle size of 100 nm or less based on the noble metal fine particles.
It may be configured to be contained within the range of 4040% by weight. The conductive layer formed by applying the conductive layer forming paint containing the silica fine particles has a remarkably improved film strength and improved scratch strength.

【0024】また、導電層にシリカ微粒子を含有させる
ことによって、その上層および/または下層にこの導電
層の屈折率とは異なる屈折率を有する透明層を1層以上
形成する場合には、この透明層のシリカ系バインダー成
分との濡れ性が良いため、双方の層の密着性が向上する
という利点もあり、スクラッチ強度をいっそう改善する
ことができる。ここで、シリカ微粒子は、膜強度の向上
と導電性とを両立させる観点から、貴金属微粒子に対し
て20重量%〜40重量%の範囲内で含有させることが
更に好ましい。
When the conductive layer contains fine silica particles, one or more transparent layers having a refractive index different from the refractive index of the conductive layer are formed in the upper layer and / or the lower layer. Since the layer has good wettability with the silica binder component, there is also an advantage that the adhesion between both layers is improved, and the scratch strength can be further improved. Here, the silica fine particles are more preferably contained in the range of 20% by weight to 40% by weight with respect to the noble metal fine particles from the viewpoint of achieving both improvement in film strength and conductivity.

【0025】また前記導電層は、前記の成分の他、膜強
度や導電性の向上を目的として必要に応じて他の成分、
例えば、珪素、アルミニウム、ジルコニウム、セリウ
ム、チタン、イットリウム、亜鉛、マグネシウム、イン
ジウム、錫、アンチモン、ガリウムなどの酸化物、複合
酸化物、または窒化物、特に、インジウムや錫の酸化
物、複合酸化物または窒化物を主成分とする無機物の微
粒子や、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、ブチラール樹脂、紫
外線硬化樹脂などの有機系合成樹脂、珪素、チタン、ジ
ルコニウムなどの金属アルコキシドの加水分解物、また
はシリコーンモノマー、シリコーンオリゴマーなどの有
機・無機系バインダー成分などを含有してもよい。
In addition to the above components, the conductive layer may further contain other components as required for the purpose of improving film strength and conductivity.
For example, oxides, composite oxides, or nitrides of silicon, aluminum, zirconium, cerium, titanium, yttrium, zinc, magnesium, indium, tin, antimony, gallium, etc., especially oxides and composite oxides of indium and tin Or inorganic fine particles containing nitride as a main component, organic synthetic resins such as polyester resin, acrylic resin, epoxy resin, melamine resin, urethane resin, butyral resin, and ultraviolet curing resin, and metal alkoxides such as silicon, titanium, and zirconium. Or an organic / inorganic binder component such as a silicone monomer or silicone oligomer.

【0026】前記の少なくとも貴金属微粒子を含む導電
層形成用塗料をガラス基板等の基材上に塗布する方法と
しては、スピンコート法、ロールコート法、スプレー
法、バーコート法、ディップ法、メニスカスコート法、
グラビア印刷法などの通常の膜塗布技術がいずれも使用
可能である。これらの内、スピンコート法は、短時間、
しかも容易に均一な厚みの塗布膜を形成することができ
るので特に好ましい。
As a method of applying the above-mentioned paint for forming a conductive layer containing at least noble metal fine particles on a substrate such as a glass substrate, there are spin coating, roll coating, spraying, bar coating, dip coating, meniscus coating. Law,
Any conventional film coating technique such as gravure printing can be used. Of these, the spin coating method is used for a short time,
In addition, it is particularly preferable because a coating film having a uniform thickness can be easily formed.

【0027】帯電防止機能に加えて電磁波遮蔽効果を発
揮させるために必要な透明導電膜の導電性能は、下記の
式(2)によって表わされる。 S=50+10・log(1/ρf)+1.7t√(fρ) ……(2) 式(2)中、 S(dB) ;電磁波シールド効果 ρ(Ω・cm);導電膜の体積固有抵抗 f(MHz);電磁波周波数 t(cm) ;導電膜の膜厚 である。
The conductive property of the transparent conductive film required to exert an electromagnetic wave shielding effect in addition to the antistatic function is represented by the following equation (2). S = 50 + 10 · log (1 / ρf) + 1.7t√ (fp) (2) In the equation (2), S (dB); electromagnetic wave shielding effect ρ (Ω · cm); volume resistivity of the conductive film f (MHz); electromagnetic wave frequency t (cm); thickness of conductive film.

【0028】ここでは、上記の膜厚tは、光透過率の観
点から1μm(1×10-4cm)以下の程度とすること
が好ましいので、式(2)において膜厚tを含む項を無
視すれば、電磁波シールド効果Sは近似的に下記の式
(3)で表わすことができる。 S=50+10・log(1/ρf) ……(3) ここで、S(dB)は、値が大きいほど電磁波シールド
効果が大きい。
Here, from the viewpoint of light transmittance, it is preferable that the thickness t is not more than about 1 μm (1 × 10 −4 cm). If ignored, the electromagnetic wave shielding effect S can be approximately expressed by the following equation (3). S = 50 + 10 · log (1 / ρf) (3) Here, as the value of S (dB) increases, the electromagnetic wave shielding effect increases.

【0029】一般に、電磁波シールド効果は、S>60
dBであれば優良とみなされるが、特にディスプレイ表
面の導電膜に関しては、S>80dBの電磁波シールド
効果が望まれている。また、規制対象となる電磁波の周
波数は、一般に10kHz〜1000MHzの範囲とさ
れているので、透明導電膜の導電性としては、103Ω
・cm以下の体積固有抵抗値(ρ)が必要になる。
Generally, the electromagnetic wave shielding effect is S> 60.
If it is dB, it is considered to be excellent. In particular, regarding the conductive film on the display surface, an electromagnetic wave shielding effect of S> 80 dB is desired. Further, since the frequency of the electromagnetic wave to be regulated is generally in the range of 10 kHz to 1000 MHz, the conductivity of the transparent conductive film is 10 3 Ω.
A volume specific resistance (ρ) of not more than cm is required.

【0030】すなわち、透明導電膜の体積固有抵抗値
(ρ)は、より低いほうが、より広範囲の波数帯域の周
波数の電磁波を有効に遮蔽することができることにな
る。そこで、この条件を充たすために、透明導電膜中の
導電層の膜厚を10nm以上とし、更に、導電層中に含
まれる金属及び金属酸化物の含有率を10重量%以上と
することが好ましい。その理由は、膜厚が10nm未満
あるいは金属及び金属酸化物の含有率が10重量%未満
の場合には、導電性が低下し、実質的な電磁波遮蔽効果
を得ることが困難になるからである。
That is, the lower the volume specific resistance value (ρ) of the transparent conductive film, the more effectively the electromagnetic wave having a frequency in a wider wave number band can be shielded. Therefore, in order to satisfy this condition, it is preferable that the thickness of the conductive layer in the transparent conductive film is 10 nm or more, and the content of the metal and the metal oxide in the conductive layer is 10% by weight or more. . The reason is that when the film thickness is less than 10 nm or the content of the metal and the metal oxide is less than 10% by weight, the conductivity decreases, and it becomes difficult to obtain a substantial electromagnetic wave shielding effect. .

【0031】本実施形態の透明導電膜は、前記導電層の
上層および/または下層に、少なくとも1層の透明層が
積層されていることが好ましい。この透明層は、前記導
電層の屈折率と異なる屈折率を有するものが好ましい。
これによって、導電層を保護するばかりでなく、得られ
た透明導電膜の層間界面における外光反射を有効に除去
または軽減することができる。
In the transparent conductive film of this embodiment, it is preferable that at least one transparent layer is laminated on the upper and / or lower layer of the conductive layer. This transparent layer preferably has a refractive index different from that of the conductive layer.
This not only protects the conductive layer but also effectively removes or reduces external light reflection at the interlayer interface of the obtained transparent conductive film.

【0032】透明層を形成する素材としては、例えば、
ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ブチ
ラール樹脂などの熱可塑性、熱硬化性、または光・電子
線硬化性樹脂;珪素、アルミニウム、チタン、ジルコニ
ウムなどの金属アルコキシドの加水分解物;シリコーン
モノマーまたはシリコーンオリゴマーなど、が単独もし
くは混合して用いられる。
As a material for forming the transparent layer, for example,
Thermoplastic, thermosetting or photo / electron beam curable resins such as polyester resin, acrylic resin, epoxy resin and butyral resin; hydrolyzates of metal alkoxides such as silicon, aluminum, titanium and zirconium; silicone monomers or silicone oligomers Are used alone or in combination.

【0033】特に好ましい透明層は、膜の表面硬度が高
く、屈折率が比較的低いSiO2の薄膜である。このS
iO2薄膜を形成し得る素材の例としては、例えば、次
の分子式 M(OR)mn (ただし、MはSiであり、RはC1〜C4のアルキル基
であり、mはl〜4の整数であり、nは0または1〜3
の整数であり、かつm+nは4である)で表わされる化
合物、またはその部分加水分解物のl種またはそれ以上
の混合物を挙げることができる。
A particularly preferred transparent layer is a SiO 2 thin film having a high surface hardness and a relatively low refractive index. This S
Examples of the material capable of forming the iO 2 thin film include, for example, the following molecular formula: M (OR) m R n (where M is Si, R is a C 1 -C 4 alkyl group, and m is l And n is 0 or 1-3.
And m + n is 4), or one or more mixtures of partial hydrolysates thereof.

【0034】この分子式の化合物の例として、特に、テ
トラエトキシシラン(Si(OC254)は、薄膜形
成性、透明性、導電層との接合性、膜強度および反射防
止性能の観点から好適に用いられる。前記の透明層は、
導電層と異なる屈折率に設定できるのであれば、各種樹
脂、金属酸化物、複合酸化物、または窒化物など、また
は焼き付けによってこれらを生成することができる前駆
体などを含んでもよい。
As an example of the compound of this molecular formula, particularly, tetraethoxysilane (Si (OC 2 H 5 ) 4 ) is used in view of thin film forming property, transparency, bonding property with a conductive layer, film strength and antireflection performance. Is preferably used. The transparent layer,
As long as the refractive index can be set to be different from that of the conductive layer, it may include various resins, metal oxides, composite oxides, nitrides, or the like, or a precursor that can generate these by baking.

【0035】透明層の形成は、導電層の形成に用いた方
法と同様に、前記の成分を含む塗布液(透明層形成用塗
料)を均一に塗布して成膜する方法によって行うことが
できる。塗布法としては、スピンコート法、ロールコー
ト法、スプレー法、バーコート法、ディップ法、メニス
カスコート法、グララビア印刷法などの通常の膜塗布技
術がいずれも使用可能である。これらの内、スピンコー
ト法は、短時間で、しかも均一な厚みの薄膜を容易に形
成することができるので、特に好ましい。塗布後、塗膜
を乾操し、導電層と共に500℃〜515℃で焼き付け
ることによって透明層が得られる。
The formation of the transparent layer can be carried out in the same manner as the method used for forming the conductive layer by a method in which a coating solution containing the above-mentioned components (paint for forming a transparent layer) is uniformly applied to form a film. . As the coating method, any of ordinary film coating techniques such as spin coating, roll coating, spraying, bar coating, dipping, meniscus coating, and gravure printing can be used. Among them, the spin coating method is particularly preferable because a thin film having a uniform thickness can be easily formed in a short time. After coating, the coating film is dried and baked together with the conductive layer at 500 ° C. to 515 ° C. to obtain a transparent layer.

【0036】一般に、多層薄膜における層間界面反射防
止性能は、薄膜の屈折率と膜厚、および積層数により決
定されるため、本実施形態の透明導電膜においても、導
電層および透明層の積層数を考慮して、それぞれの導電
層および透明層の厚みを設計することにより、効果的な
反射防止効果が得られる。反射防止能を有する多層膜で
は、防止しようとする反射光の波長をλとするとき、2
層構成の反射防止膜であれば基材側から高屈折率層と低
屈折率層とをそれぞれλ/4、λ/4、またはλ/2、
λ/4の光学的膜厚とすることによって効果的に反射を
防止することができる。
In general, the interlayer interface antireflection performance of a multilayer thin film is determined by the refractive index and thickness of the thin film and the number of laminations. By considering the thickness of each conductive layer and transparent layer in consideration of the above, an effective anti-reflection effect can be obtained. In a multilayer film having antireflection capability, when the wavelength of reflected light to be prevented is λ, 2
In the case of an antireflection film having a layer structure, the high refractive index layer and the low refractive index layer are respectively λ / 4, λ / 4, or λ / 2,
By setting the optical thickness to λ / 4, reflection can be effectively prevented.

【0037】また3層構成の反射防止膜であれば、基材
側から中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層の順に
λ/4、λ/2、λ/4の光学的膜厚とすることが有効
である。特に、製造上の容易さや経済性を考慮すると、
導電層の上層に、屈折率が比較的低く、ハードコート性
を兼ね備えたSiO2膜(屈折率1.46)をλ/4の
膜厚で形成することが好ましい。
In the case of a three-layer antireflection film, an optical film of λ / 4, λ / 2, λ / 4 is formed in the order of the medium refractive index layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer from the substrate side. It is effective to make it thick. In particular, considering ease of manufacture and economics,
It is preferable to form an SiO 2 film (refractive index: 1.46) having a relatively low refractive index and also having a hard coat property with a thickness of λ / 4 on the upper layer of the conductive layer.

【0038】導電層と透明層とを含む本実施形態の透明
導電膜は、導電層および透明層の焼き付けを順次行って
もよく、また、同時に行ってもよい。例えば、導電層形
成用塗料を表示装置の表示面に塗布し、その上層に透明
層形成用塗料を塗布し、乾燥後に500℃〜515℃の
温度で一括焼き付けることによって、導電層と透明層と
を同時に形成し、低反射性の透明導電膜を形成すること
ができる。
In the transparent conductive film of this embodiment including the conductive layer and the transparent layer, the conductive layer and the transparent layer may be baked sequentially or simultaneously. For example, a conductive layer-forming paint is applied to the display surface of a display device, a transparent layer-forming paint is applied thereon, and after drying, the batch is baked at a temperature of 500 ° C. to 515 ° C. to form a conductive layer and a transparent layer. Can be formed at the same time to form a low-reflection transparent conductive film.

【0039】前記透明導電膜の最外層には、凹凸を有す
る透明層を設けることが好ましい。この凹凸層は、透明
導電膜の表面反射光を散乱させ、表示面に優れた防眩性
を与える効果がある。凹凸層の材質としては、表面硬度
と屈折率の観点からシリカが好適である。この凹凸層
は、凹凸層形成用塗料を前記透明導電膜の最外層として
前記と同様の各種コーティング法により塗布し、乾燥後
に前記の導電層や透明層と同時に、または別途に、50
0℃〜515℃の温度で焼付けて形成することができ
る。特に、凹凸層の塗布方法としては、スプレーコート
法が好適に用いられる。
It is preferable to provide a transparent layer having irregularities on the outermost layer of the transparent conductive film. The uneven layer has an effect of scattering light reflected on the surface of the transparent conductive film and giving excellent antiglare properties to the display surface. As the material of the uneven layer, silica is preferable from the viewpoint of surface hardness and refractive index. This concavo-convex layer is formed by applying a coating for forming a concavo-convex layer as the outermost layer of the transparent conductive film by the same various coating methods as described above, and after drying, at the same time as the conductive layer or the transparent layer, or separately.
It can be formed by baking at a temperature of 0 ° C to 515 ° C. In particular, as a method for applying the uneven layer, a spray coating method is preferably used.

【0040】本実施形態の表示装置は、前記の何れかの
透明導電膜が表示面上に形成されている。この表示装置
は、表示面の帯電が防止されているので画像表示面に挨
などが付着せず、電磁波が遮蔽されるので各種の電磁波
障害が防止され、光透過性に優れているので画像が明る
く、透過画像の色相が自然であり、表示面の外観が良好
であり、しかも化学的安定性が高いので取り扱い上にお
ける制限もほとんど無くなる。また導電層の他に、前記
の透明層および/または凹凸層が形成されていれば、外
光に対する優れた反射防止効果および/または防眩効果
も得られる。
In the display device of this embodiment, any one of the transparent conductive films described above is formed on the display surface. Since this display device is prevented from being charged on the display surface, it does not adhere to the image display surface, shields electromagnetic waves, prevents various electromagnetic wave disturbances, and is excellent in light transmittance, so that images can be displayed. Since it is bright, the hue of the transmitted image is natural, the appearance of the display surface is good, and the chemical stability is high, there is almost no restriction in handling. If the transparent layer and / or the uneven layer are formed in addition to the conductive layer, an excellent antireflection effect and / or an antiglare effect against external light can be obtained.

【0041】[0041]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例によって限定されるもの
ではない。実施例および比較例に共通の原液として下記
のものを調製した。 (ルテニウム水性ゾル)0.15ミリモル/lの塩化ル
テニウムを含む水溶液と0.024ミリモル/lの水素
化ホウ素ナトリウム水溶液とを混合し、得られたコロイ
ド状分散液を濃縮し、0.198モル/lのルテニウム
微粒子を含む水性ゾルを得た。ルテニウム微粒子の平均
粒径は10nmであった。
EXAMPLES The present invention will now be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The following stock solutions were prepared as common stock solutions for Examples and Comparative Examples. (Ruthenium aqueous sol) An aqueous solution containing 0.15 mmol / l ruthenium chloride and a 0.024 mmol / l aqueous sodium borohydride solution were mixed, and the obtained colloidal dispersion was concentrated to 0.198 mol. / L of an aqueous sol containing ruthenium microparticles. The average particle size of the ruthenium fine particles was 10 nm.

【0042】(透明薄膜塗料)テトラエトキシシラン
(0.8g)と0.1N塩酸(0.8g)とエチルアル
コール(98.4g)とを混合し、均一な溶液とした。 (コロイダルシリカ)日本化学工業社製「シリカドール
30」
(Transparent thin film coating) Tetraethoxysilane (0.8 g), 0.1 N hydrochloric acid (0.8 g) and ethyl alcohol (98.4 g) were mixed to form a uniform solution. (Colloidal silica) "Silica Doll 30" manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.

【0043】(実施例1) 導電層形成用塗料の調製:前記ルテニウム水性ゾル5g
にエチルセロソルブ10g及びエチルアルコール85.
0gを加えて攪拌混合し、得られた混合液を超音波分散
機(BRANSON ULTRASONICS社製「ソ
ニフアイヤー450」)で分散し、導電層形成用塗料を
調製した。
Example 1 Preparation of paint for forming conductive layer: 5 g of the above-mentioned ruthenium aqueous sol
10 g of ethyl cellosolve and 85.
0 g was added thereto, followed by stirring and mixing, and the obtained mixture was dispersed by an ultrasonic dispersing machine (“Sonifire 450” manufactured by BRANSON ULTRASONICS) to prepare a coating material for forming a conductive layer.

【0044】成膜:上記の導電層形成用塗料を陰極線管
のフェイスパネル上にスピンコーターを用いて塗布し、
乾燥後、この塗布面に前記の透明層形成用塗料を、同様
にスピンコーターを用いて塗布し、このフェイスパネル
を乾燥機に入れ、500℃で1時間焼き付け処理して透
明導電膜を形成することにより、反射防止性の透明導電
膜を有する実施例1の陰極線管を作製した。
Film formation: The above-mentioned paint for forming a conductive layer is applied on a face panel of a cathode ray tube using a spin coater.
After drying, the above-mentioned coating material for forming a transparent layer is similarly applied to the application surface using a spin coater, and the face panel is placed in a drier and baked at 500 ° C. for 1 hour to form a transparent conductive film. Thereby, the cathode ray tube of Example 1 having the antireflection transparent conductive film was produced.

【0045】(実施例2) 導電層形成用塗料の調製:前記ルテニウム水性ゾル5g
にエチルセロソルブ10g及びエチルアルコール85.
0gを加えて攪拌混合し、得られた混合液を超音波分散
機(BRANSON ULTRASONICS社製「ソ
ニフアイヤー450」)で分散し、導電層形成用塗料を
調製した。
(Example 2) Preparation of paint for forming conductive layer: 5 g of the above-mentioned ruthenium aqueous sol
10 g of ethyl cellosolve and 85.
0 g was added thereto, followed by stirring and mixing, and the obtained mixture was dispersed by an ultrasonic dispersing machine (“Sonifire 450” manufactured by BRANSON ULTRASONICS) to prepare a coating material for forming a conductive layer.

【0046】上記の導電層形成用塗料を陰極線管のフェ
イスパネル上にスピンコーターを用いて塗布し、乾燥
後、この塗布面に前記の透明層形成用塗料を、同様にス
ピンコーターを用いて塗布し、このフェイスパネルを乾
燥機に入れ、515℃で1時間焼き付け処理して透明導
電膜を形成することにより、反射防止性の透明導電膜を
有する実施例2の陰極線管を作製した。
The above-mentioned paint for forming a conductive layer is applied to the face panel of a cathode ray tube using a spin coater, and after drying, the above-mentioned paint for forming a transparent layer is applied to the application surface similarly using a spin coater. Then, the face panel was placed in a dryer and baked at 515 ° C. for 1 hour to form a transparent conductive film, thereby producing a cathode ray tube of Example 2 having an antireflective transparent conductive film.

【0047】(比較例1) 導電層形成用塗料の調整:前記ルテニウム水性ゾル5g
にエチルセロソルブ10g及びエチルアルコール85.
0gを加えて攪拌混合し、得られた混合液を超音波分散
機(BRANSON ULTRASONICS社製「ソ
ニフアイヤー450」)で分散し、導電層形成用塗料を
調製した。
Comparative Example 1 Preparation of paint for forming conductive layer: 5 g of the above aqueous ruthenium sol
10 g of ethyl cellosolve and 85.
0 g was added thereto, followed by stirring and mixing, and the obtained mixture was dispersed by an ultrasonic dispersing machine (“Sonifire 450” manufactured by BRANSON ULTRASONICS) to prepare a coating material for forming a conductive layer.

【0048】成膜:上記の導電層形成用塗料を陰極線管
のフェイスパネル上にスピンコーターを用いて塗布し、
乾燥後、この塗布面に前記の透明層形成用塗料を、同様
にスピンコーターを用いて塗布し、このフェイスパネル
を乾燥機に入れ、490℃で1時間焼き付け処理して透
明導電膜を形成することにより、反射防止性の透明導電
膜を有する比較例1の陰極線管を作製した。
Film formation: The above-mentioned paint for forming a conductive layer is applied on a face panel of a cathode ray tube using a spin coater.
After drying, the above-mentioned coating material for forming a transparent layer is similarly applied to the application surface using a spin coater, and the face panel is placed in a drier and baked at 490 ° C. for 1 hour to form a transparent conductive film. Thus, a cathode ray tube of Comparative Example 1 having an antireflection transparent conductive film was produced.

【0049】(比較例2) 導電層形成用塗料の調整:前記ルテニウム水性ゾル5g
にエチルセロソルブ10g及びエチルアルコール85.
0gを加えて攪拌混合し、得られた混合液を超音波分散
機(BRANSON ULTRASONICS社製「ソ
ニフアイヤー450」)で分散し、導電層形成用塗料を
調製した。
Comparative Example 2 Preparation of paint for forming conductive layer: 5 g of the above aqueous ruthenium sol
10 g of ethyl cellosolve and 85.
0 g was added thereto, followed by stirring and mixing, and the obtained mixture was dispersed by an ultrasonic dispersing machine (“Sonifire 450” manufactured by BRANSON ULTRASONICS) to prepare a coating material for forming a conductive layer.

【0050】成膜:上記の導電層形成用塗料を陰極線管
のフェイスパネル上にスピンコーターを用いて塗布し、
乾燥後、この塗布面に前記の透明層形成用塗料を、同様
にスピンコーターを用いて塗布し、このフェイスパネル
を乾燥機に入れ、520℃で1時間焼き付け処理して透
明導電膜を形成することにより、反射防止性の透明導電
膜を有する比較例2の陰極線管を作製した。
Film formation: The above-mentioned paint for forming a conductive layer is applied on a face panel of a cathode ray tube using a spin coater.
After drying, the above-mentioned coating material for forming a transparent layer is similarly applied to the application surface using a spin coater, and the face panel is placed in a drier and baked at 520 ° C. for 1 hour to form a transparent conductive film. Thereby, a cathode ray tube of Comparative Example 2 having an antireflection transparent conductive film was produced.

【0051】(評価試験)陰極線管上に形成された透明
導電膜の性能を下記の装置または方法で試験し、また、
外観を目視により評価した。 膜厚 :SEM観察により測定 表面抵抗 :三菱化学社製「ロレスタAP」(四端針法) 電磁波遮蔽性 :0.5MHz基準で前記式(2)により計算 耐塩水性 :塩水浸漬3日後の0.5MHz電磁波遮蔽効果
(Evaluation Test) The performance of the transparent conductive film formed on the cathode ray tube was tested by the following apparatus or method.
The appearance was visually evaluated. Film thickness: Measured by SEM observation Surface resistance: "Loresta AP" (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) (four-point needle method) Electromagnetic wave shielding property: Calculated by the above formula (2) on the basis of 0.5 MHz Salt water resistance: 0. 3 days after salt water immersion. 5MHz electromagnetic wave shielding effect

【0052】 スクラッチ試験:1kgの荷重下に、シャープペンシル先端の金属部分で膜 表面を擦り、傷の付き具合を目視により評価 ○:傷なし △:やや傷付き ×:傷付き 透過率 :東京電色社製「Automatic Haze Meter HIII DP」 ヘーズ :東京電色社製「Automatic Haze Meter HIII DP」Scratch test: Under a load of 1 kg, the surface of the membrane was rubbed with a metal part of the tip of a mechanical pencil, and the degree of damage was visually evaluated. "Automatic Haze Meter HIII DP" manufactured by Shikisha Haze: "Automatic Haze Meter HIII DP" manufactured by Tokyo Denshoku

【0053】 透過率差 :日立製作所製「U−3500」型自記分光光度計を用い、可 視光領域での最大透過率と最小透過率との差を求めた。 (可視光領域における最大−最小透過率差が小さいほど透過 率がよりフラットになり、透過画像の色相が鮮明となる。特 に10%以下では、透過画像の色彩が黒色に近づき、より高 度な鮮明さを有するようになる。) 視感反射率 :EG&GAMMASCIENTIFIC社製「MODEL C-11」Transmittance difference: The difference between the maximum transmittance and the minimum transmittance in the visible light region was determined using a “U-3500” type self-recording spectrophotometer manufactured by Hitachi, Ltd. (The smaller the maximum-minimum transmittance difference in the visible light region, the flatter the transmittance and the sharper the hue of the transmitted image. Particularly, when the difference is 10% or less, the color of the transmitted image approaches black, and the color of the transmitted image becomes higher. Luminous reflectance: “MODEL C-11” manufactured by EG & GAMMASCIENTIFIC

【0054】 反射色 :ミルタカメラ社製「CR−300」 (CIE表色系を使用し、CIE色度図における白色点(x= 0.3137,F=O.3198)からのズレの距離をΔx、Δyを用い て√(Δx2+Δy2)と表わした。これにより、√(Δx2 +Δy2)の値がより「0」に近いものほど反射色が白色、 すなわち目に優しい自然光に近いものとなる。) 視認性 :低反射性能、反射色、透過色を含む総合評価 ○:良好 ×:不良 膜欠陥 :目視による小欠点評価 ○:良好 ×:不良Reflected color: “CR-300” manufactured by Mirta Camera Co., Ltd. (using the CIE color system, the distance from the white point (x = 0.3137, F = 0.3198) in the CIE chromaticity diagram to Δx , (Δx 2 + Δy 2 ), whereby the closer the value of √ (Δx 2 + Δy 2 ) to “0”, the whiter the reflection color, that is, the closer to natural light that is easy on the eyes. Visibility: Comprehensive evaluation including low reflection performance, reflection color, and transmission color ○: Good ×: Poor Film defect: Visual small defect evaluation ○: Good ×: Poor

【0055】評価試験の結果を表1及び表2に示す。The results of the evaluation test are shown in Tables 1 and 2.

【表1】 [Table 1]

【0056】[0056]

【表2】 [Table 2]

【0057】表1、表2の結果から、実施例1、2は、
表面抵抗が5×102〜7×102Ω/□、電磁波遮蔽性
が81〜82dBと帯電防止効果、電磁波遮蔽効果に優
れた膜が得られた。さらに、実施例1、2は、視感反射
率も低く、反射色も0に近くなり、低反射で反射色も目
に優しい自然光に近い色調を持つとともに、耐塩水性に
優れ、膜欠陥もない強固な透明導電膜が得られた。
From the results in Tables 1 and 2, Examples 1 and 2
A film having a surface resistance of 5 × 10 2 to 7 × 10 2 Ω / □ and an electromagnetic wave shielding property of 81 to 82 dB was obtained, which was excellent in antistatic effect and electromagnetic wave shielding effect. Further, in Examples 1 and 2, the luminous reflectance was low, the reflection color was close to 0, the reflection color was low and the reflection color was close to natural light which was easy on the eyes, and the salt water resistance was excellent and there was no film defect. A strong transparent conductive film was obtained.

【0058】一方、比較例1は、熱処理温度が490℃
と低かったため、表面抵抗値が高くなり、電磁波遮蔽効
果が発現できなかった。また、視感反射率も高く、反射
色も大きくなっているため、電磁波遮蔽効果が不十分と
なり、また視認性についても不十分なものとなる。ま
た、比較例2は、熱処理温度が520℃と高かったた
め、基材(ガラス基板)からの溶出イオンにより膜が侵
されてしまい、結果として抵抗値が上昇するだけでな
く、塗膜の凝集により白化が生じてしまい、視認性の劣
った膜となった。
On the other hand, in Comparative Example 1, the heat treatment temperature was 490 ° C.
Therefore, the surface resistance value was high, and the electromagnetic wave shielding effect could not be exhibited. In addition, since the luminous reflectance is high and the reflection color is also large, the electromagnetic wave shielding effect becomes insufficient and the visibility becomes insufficient. In Comparative Example 2, since the heat treatment temperature was as high as 520 ° C., the film was attacked by ions eluted from the base material (glass substrate). As a result, not only the resistance value increased, but also the coating film was aggregated. Whitening occurred, resulting in a film with poor visibility.

【0059】[0059]

【発明の効果】本発明の透明導電膜は、少なくとも貴金
属微粒子を含む塗料を塗布、乾燥し、その後、500℃
〜515℃の温度で熱処理してなる導電層を備えたの
で、透明で優れた帯電防止効果、電磁波遮蔽効果および
反射防止効果を得ることができ、化学的安定性も良好で
あり、しかも透過画像の色相が自然で視認性が良好とな
る効果がある。
The transparent conductive film of the present invention is coated with a paint containing at least noble metal fine particles, dried, and then dried at 500 ° C.
Since it has a conductive layer that is heat-treated at a temperature of up to 515 ° C., it is possible to obtain transparent and excellent antistatic effect, electromagnetic wave shielding effect and antireflection effect, good chemical stability, and transmission image. Has an effect that the hue is natural and visibility is good.

【0060】本発明の表示装置は、その表示面に本発明
の透明導電膜を形成した構成としたので、表示面の帯電
を防止することができ、画像表示面に挨などが付着する
おそれがない。また、電磁波が遮蔽されるので、各種の
電磁波障害を防止することができる。また、光透過性に
優れているので、画像が明るくなり、透過画像の色相が
自然なものとなり、表示面の外観が良好になる。しかも
化学的安定性が良好であるから、取り扱い上における制
限もほとんど無くなる。
Since the display device of the present invention has a structure in which the transparent conductive film of the present invention is formed on the display surface thereof, the display surface can be prevented from being charged, and there is a possibility that dust or the like adheres to the image display surface. Absent. Further, since the electromagnetic waves are shielded, various electromagnetic wave disturbances can be prevented. Further, since the light transmittance is excellent, the image becomes bright, the hue of the transmitted image becomes natural, and the appearance of the display surface becomes good. Moreover, since the chemical stability is good, there are almost no restrictions on handling.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E321 AA04 BB23 BB32 GG05 GH01 5G067 AA70 CA03 5G307 FA01 FB02 FC08 FC09 5G435 AA01 AA03 AA16 BB02 BB03 BB06 GG32 GG33 HH03 HH12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5E321 AA04 BB23 BB32 GG05 GH01 5G067 AA70 CA03 5G307 FA01 FB02 FC08 FC09 5G435 AA01 AA03 AA16 BB02 BB03 BB06 GG32 GG33 HH03 HH12

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも貴金属微粒子を含む塗料を塗
布、乾燥し、その後、500℃〜515℃の温度で熱処
理してなる導電層を備えてなることを特徴とする透明導
電膜。
1. A transparent conductive film comprising a conductive layer formed by applying a paint containing at least noble metal fine particles, drying and then heat-treating the coating at a temperature of 500 ° C. to 515 ° C.
【請求項2】 前記貴金属は、ルテニウム、金、白金か
ら選択された少なくとも1種であることを特徴とする請
求項1記載の透明導電膜。
2. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the noble metal is at least one selected from ruthenium, gold, and platinum.
【請求項3】 前記導電層の上層および/または下層
に、前記導電層とは屈折率の異なる透明層が少なくとも
1層形成されていることを特徴とする請求項1または2
記載の透明導電膜。
3. The conductive layer according to claim 1, wherein at least one transparent layer having a refractive index different from that of the conductive layer is formed on an upper layer and / or a lower layer of the conductive layer.
The transparent conductive film according to the above.
【請求項4】 請求項1、2または3記載の透明導電膜
が表示面に形成されていることを特徴とする表示装置。
4. A display device, wherein the transparent conductive film according to claim 1, 2 or 3 is formed on a display surface.
【請求項5】 前記表示面は、陰極線管のフェイスパネ
ルの表示面であることを特徴とする請求項4記載の表示
装置。
5. The display device according to claim 4, wherein the display surface is a display surface of a face panel of a cathode ray tube.
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