JP2002189121A

JP2002189121A - カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法及び液晶装置

Info

Publication number: JP2002189121A
Application number: JP2000389322A
Authority: JP
Inventors: Tomoki Kawase; 智己川瀬; Hisashi Ariga; 久有賀; Satoru Kataue; 悟片上; Masaharu Shimizu; 政春清水; Hiroshi Kiguchi; 浩史木口
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2000-12-21
Filing date: 2000-12-21
Publication date: 2002-07-05

Abstract

(57)【要約】【課題】カラーフィルタ基板において平坦化膜材料の
消費量を減じると共に、平坦化膜の存在によってカラー
表示が暗くなるのを防止する。【解決手段】基材２上に複数の色絵素３と平坦化膜４
とを有するカラーフィルタ基板１である。平坦化膜４は
基材２の表面に部分的に設けられる。望ましくは、平坦
化膜４は隣り合う色絵素３の間の凹部を埋めるように基
材２の表面に設けられる。複数の色絵素３の高さに相違
がある場合には、低い色絵素の上にも平坦化膜４が設け
られる。基材２の全面に平坦化膜４を設けるのではない
ので、平坦化膜４の消費量を減じることができ、しかも
平坦化膜４によって光透過率が減衰する程度を小さくで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、Ｒ，Ｇ，Ｂ又は
Ｃ，Ｍ，Ｙ等といった複数の色絵素を基材上に形成して
成るカラーフィルタ基板及びその製造方法に関する。ま
た、本発明は、そのカラーフィルタ基板を用いて構成さ
れる液晶装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、携帯電話機、携帯型パーソナルコ
ンピュータ等といった電子機器に液晶装置が広く用いら
れるようになってきている。また、カラーフィルタ基板
を用いてカラー表示を行う構造の液晶装置も広く用いら
れるようになってきた。

【０００３】カラーフィルタ基板として、従来、例えば
図１９に示すように、ガラス、プラスチック等によって
形成された基材２０１の表面に、例えばＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）のそれぞれの色絵素２０２Ｒ、２０２
Ｇ、２０２Ｂを所定の配列、例えばストライプ配列、モ
ザイク配列、デルタ配列等に形成し、さらにその上に平
坦化膜２０３を形成して成る構成が知られている。

【０００４】平坦化膜２０３を形成するのは次の理由に
よる。すなわち、図１９のカラーフィルタ基板を例えば
液晶装置を構成する一方の基板として用いる場合には、
そのカラーフィルタ基板の平坦化膜２０３を形成した表
面にさらにドット状の電極や、ストライプ状の電極や、
面状の電極が形成される。それらの電極が仮に平坦でな
い面に形成されるものとすると、それらの電極が段差の
ある下地層の上に形成されることになって切れるおそれ
がある。上記平坦化膜はそのような電極切れの発生を防
止するために設けられるものである。また、液晶装置に
おけるセル厚すなわち液晶層の厚さを均一に維持する作
用をも達成する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】カラーフィルタ基板に
おける従来の平坦化膜は、基材２０１の全面に透明レジ
スト等を均一な厚さで形成すること、例えばスピンコー
ト法を用いて均一な厚さに形成することによって作製さ
れるのが一般的であった。しかしながら、このような従
来方法では、平坦化膜材料を多量に消費するので不経済
であるという問題があった。また、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色絵
素上にも平坦化膜材料が載るので光の透過率が低くなっ
てカラー表示が暗くなるという問題もあった。

【０００６】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、平坦化膜材料の消費量を減じること及び
平坦化膜の存在によってカラー表示が暗くなるのを防止
することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】（１）上記の目的を達成
するため、本発明に係るカラーフィルタ基板は、基材上
に複数の色絵素と平坦化膜とを有するカラーフィルタ基
板において、前記平坦化膜は前記基材の表面に部分的に
設けられることを特徴とする。

【０００８】この構成のカラーフィルタ基板によれば、
平坦化膜材料を基材の表面の全域に形成するのではない
ので、平坦化膜材料の消費量を低く抑えて経費を低減で
きる。また、カラーフィルタ基板の表面には平坦化膜材
料が存在しない領域が存在するので、その分だけ光の透
過率を高めることができ、その結果、明るいカラー表示
を提供できる。

【０００９】上記構成のカラーフィルタ基板において、
前記平坦化膜は前記複数の色絵素の間に設けられること
が望ましい。こうすれば、色絵素の上には平坦化膜が形
成されないので、本カラーフィルタ基板を通過する光の
透過率が平坦化膜の存在によって減じられることが無く
なり、よって、明るいカラー表示を提供できる。

【００１０】次に、上記構成のカラーフィルタ基板にお
いては、複数種類の色絵素間に高さのバラツキ、すなわ
ち厚さのバラツキが生じることがある。例えば、視覚的
に解像力に影響の大きいＧ（緑）絵素を他の色絵素より
も低くすなわち薄く形成したり、観察者の希望に応じて
特定色の色を強調するためにその特定色に対応する色絵
素を他の色絵素よりも高くすなわち厚く形成したりする
ことがある。このように複数種類の色絵素間で高さに違
いがある場合には、前記平坦化膜は前記複数の色絵素間
及びそれら色絵素の一部の上に設けられることが望まし
い。

【００１１】次に、上記構成のカラーフィルタ基板にお
いて、前記平坦化膜はアクリル樹脂、エポキシ樹脂、イ
ミド系樹脂又はフッ素系樹脂の少なくとも１つを含んで
形成されることが望ましい。

【００１２】（２）次に、本発明に係るカラーフィル
タ基板の製造方法は、基材上に複数の色絵素と平坦化膜
とを有するカラーフィルタ基板の製造方法において、前
記基材の表面に前記色絵素を形成する色絵素形成工程
と、前記基材の表面に前記平坦化膜を部分的に形成する
平坦化膜形成工程とを有することを特徴とする。

【００１３】このカラーフィルタ基板の製造方法によれ
ば、平坦化膜材料を基材の表面の全域に形成するのでは
ないので、平坦化膜材料の消費量を低く抑えて経費を低
減できる。また、カラーフィルタ基板の表面に平坦化膜
材料が存在しない領域を存在させることができるので、
その分だけ光の透過率を高めることができ、その結果、
明るいカラー表示を提供できる。

【００１４】上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法
において、前記平坦化膜形成工程では、前記平坦化膜が
前記複数の色絵素間に設けられることが望ましい。

【００１５】また、上記構成のカラーフィルタ基板の製
造方法において、前記平坦化膜はアクリル樹脂、エポキ
シ樹脂、イミド系樹脂又はフッ素系樹脂の少なくとも１
つを含んで形成されることが望ましい。

【００１６】また、上記構成のカラーフィルタ基板の製
造方法において、前記平坦化膜形成工程では、前記基材
を走査するインクジェットヘッドからの平坦化膜材料の
吐出によって形成されることが望ましい。この製造方法
は、平坦化膜を基材の表面に部分的に形成することに関
して非常に有効である。

【００１７】また、上記構成のカラーフィルタ基板の製
造方法において、前記平坦化膜形成工程ではインクジェ
ットヘッドからの平坦化膜材料の吐出量を基材の吐出部
分に対応させて制御することが望ましい。これにより、
基材の表面状態に応じて適切な量の平坦化膜材料を供給
することができる。

【００１８】また、上記構成のカラーフィルタ基板の製
造方法において、前記色絵素形成工程では隣り合う２つ
の色絵素間の幅が縦方向と横方向とで異なるように色絵
素を形成することができる。そしてその場合には、前記
平坦化膜形成工程では色絵素間の幅の変化に対応させて
インクジェットヘッドからの平坦化膜材料の吐出量を基
材の吐出部分に対応させて制御することが望ましい。こ
の方法によれば、基材の表面状態に応じて適切な量の平
坦化膜材料を供給することができる。

【００１９】また、上記構成のカラーフィルタ基板の製
造方法において、前記色絵素間形成工程では複数の色絵
素をそれらの高さが互いに異なるように形成することが
できる。そしてその場合には、前記平坦化膜形成工程で
は色絵素間の高さの変化に対応させてインクジェットヘ
ッドからの平坦化膜材料の吐出量を基材の吐出部分に対
応させて制御することが望ましい。この方法によれば、
基材の表面状態に応じて適切な量の平坦化膜材料を供給
することができる。

【００２０】次に、上記構成のカラーフィルタ基板の製
造方法においては、前記平坦化膜材料の粘度は４ｃｐｓ
〜５０ｃｐｓであることが望ましい。平坦化膜材料の粘
度が１０ｃｐｓ未満である場合には平坦化膜材料の流動
性が高過ぎて希望の成膜ができないおそれがある。ま
た、平坦化膜材料の粘度が５０ｃｐｓを超える場合に
は、インクジェットヘッドから希望量の平坦化膜材料の
吐出ができなくなるおそれがある。よって、平坦化膜材
料の粘度は４ｃｐｓ〜５０ｃｐｓであることが望まし
い。

【００２１】（３）次に、本発明に係る液晶装置は、
液晶を挟持する一対の基板と、少なくとも一方の基板に
形成されるカラーフィルタ基板とを有する液晶装置にお
いて、前記カラーフィルタ基板は、基材と、その基材の
表面に形成された複数の色絵素と、前記基材の表面に部
分的に設けられた平坦化膜とを有することを特徴とす
る。

【００２２】この液晶装置によれば、その構成要素の１
つであるカラーフィルタ基板において平坦化膜材料は基
材の表面の全域に形成されるのではないので、平坦化膜
材料の消費量を低く抑えて経費を低減できる。また、カ
ラーフィルタ基板の表面には平坦化膜材料が存在しない
領域が存在するので、その分だけ光の透過率を高めるこ
とができ、その結果、明るいカラー表示を提供できる。

【００２３】上記構成の液晶装置において、前記平坦化
膜は前記複数の色絵素の間に設けられることが望まし
い。また、上記構成の液晶装置において、前記平坦化膜
は前記複数の色絵素の間及びそれら色絵素の一部の上に
設けられることが望ましい。

【００２４】また、上記構成の液晶装置において、前記
液晶はＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶又はＴＮ
（Twisted Nematic）液晶であることが望ましい。ＳＴ
Ｎ液晶及びＴＮ液晶を用いる液晶装置では、液晶層にお
ける複屈折性を利用して表示が行われるものであり、液
晶層の厚さは表示領域の全面に関して均一であることが
望まれる。よって、カラーフィルタ基板の平坦性を確実
に確保できる本発明は、ＳＴＮ液晶やＴＮ液晶を用いる
場合に特に有利である。

【００２５】

【発明の実施の形態】（第１実施形態）図２（ａ）は本
発明に係るカラーフィルタ基板の一実施形態の平面構造
を示している。また、図１（ａ）は図２（ａ）のＩ−Ｉ
線に従った断面構造を示している。本実施形態のカラー
フィルタ基板１は、図１（ａ）に示すように、ガラス、
プラスチック等によって形成された基材２と、その基材
２の表面に形成されたブラックマスク６と、ブラックマ
スク６の無い部分に形成された複数の色絵素３と、それ
らの色絵素３の間に形成された平坦化膜４とを有する。

【００２６】ブラックマスク６は図２（ａ）において色
絵素３を形成する部分を格子穴とする格子状に形成さ
れ、色絵素３はそれらの格子穴を埋めるように形成さ
れ、さらに平坦化膜４はブラックマスク６の上であって
色絵素３を囲むように、すなわち基材２の表面に部分的
に形成される。以上の結果、複数の色絵素３は基材２の
表面にドットパターン状、本実施形態ではドット・マト
リクス状に形成される。

【００２７】ブラックマスク６は透光性のない金属材料
によって形成される、また、色絵素３は、それぞれが、
例えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のうちのいずれ
か１色の色材によって形成され、それらの各色絵素３が
所定の配列に並べられている。この配列としては、例え
ば、図３（ａ）に示すストライプ配列、図３（ｂ）に示
すモザイク配列、図３（ｃ）に示すデルタ配列等が知ら
れている。

【００２８】ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全
て同色になる配色である。モザイク配列は、縦横の直線
上に並んだ任意の３つの色絵素がＲ，Ｇ，Ｂの３色とな
る配色である。そして、デルタ配列は、色絵素の配置を
段違いにし、任意の隣接する３つの色絵素がＲ，Ｇ，Ｂ
の３色となる配色である。

【００２９】図２（ａ）において、カラーフィルタ基板
１の大きさは、例えば、対角寸法が１．８インチであ
る。また、１個の色絵素３の大きさは、例えば、３０μ
ｍ×１００μｍである。また、各色絵素３の間の間隔、
いわゆるエレメント間ピッチは、例えば、７５μｍであ
る。

【００３０】本実施形態のカラーフィルタ基板１を例え
ば液晶装置におけるカラーフィルタ基板として用いる場
合を考えれば、図１（ａ）において色絵素３の表面には
電極が設けられる。このとき、色絵素３を形成したカラ
ーフィルタ基板１の表面に凹凸があると電極に段差がで
きて、その電極が切断されるおそれがある。これに対
し、平坦化膜４を設けることにより表面が滑らかに形成
された本実施形態のカラーフィルタ基板１によれば、そ
のような電極の切断を確実に防止できる。

【００３１】本実施形態に係るカラーフィルタ基板１を
フルカラー表示のための光学要素として用いる場合に
は、Ｒ，Ｇ，Ｂ３個の色絵素３を１つのユニットとして
１つの画素を形成し、１画素内のＲ，Ｇ，Ｂのいずれか
１つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過させる
ことにより、フルカラー表示を行う。このとき、透光性
のない樹脂材料によって形成されたブラックマスク６は
色絵素３以外の部分から光が漏れるのを防止する。

【００３２】図１（ａ）に示す実施形態ではＲ色絵素３
Ｒ、Ｇ色絵素３Ｇ及びＢ色絵素３Ｂの各色絵素の高さす
なわち厚さが全て等しく設定されている。従って、カラ
ーフィルタ基板１の表面を平坦化するための平坦化膜４
は、各色絵素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの間に等しい高さで形成
される。つまり、平坦化膜４は複数の色絵素３の間に設
けられる。

【００３３】図１（ｂ）は本発明に係るカラーフィルタ
基板の他の実施形態を示している。ここに示すカラーフ
ィルタ基板１は、各色絵素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの高さが全
て同じではなく、異なる高さの色絵素が含まれることに
おいて、図１（ａ）の実施形態に係るカラーフィルタ基
板１と異なっている。具体的には、図１（ｂ）の実施形
態では、Ｒ色絵素３ＲとＢ色絵素３Ｂとの高さが等し
く、Ｇ色絵素３Ｇの高さがそれらよりも低く設定されて
いる。これは、視覚的に解像力に影響の大きいＧ色絵素
３Ｇを他の色絵素よりも低く形成するためである。

【００３４】なお、観察者の希望に応じて特定色の色を
強調するためにその特定色に対応する色絵素を他の色絵
素よりも高くすなわち厚く形成する場合にも、複数の色
絵素間で高さすなわち厚さが異なることがある。

【００３５】図１（ｂ）に示すように各色絵素３Ｒ，３
Ｇ，３Ｂ間で高さに相違がある場合には、平坦化膜４は
それらの色絵素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの間に設けられると共
に、高さの低い色絵素、本実施形態の場合はＧ色絵素３
Ｇの上にも設けられて、カラーフィルタ基板１の表面を
平坦化する。つまり、平坦化膜４は複数の色絵素の間及
びそれら色絵素の一部の上に設けられることもある。

【００３６】図１（ａ）及び図１（ｂ）のそれぞれに示
すカラーフィルタ基板１は、例えば、図２（ｂ）に示す
ような大面積のマザー基材１２から切り出される。具体
的には、まず、マザー基材１２内に設定された複数のカ
ラーフィルタ形成領域１１のそれぞれの表面にカラーフ
ィルタ基板１の１個分のパターンを形成することによ
り、個々のカラーフィルタ基板１が形成される。

【００３７】以下、図２（ａ）に示すカラーフィルタ基
板１を製造する製造方法及びその製造装置について説明
する。

【００３８】図４はカラーフィルタ基板１の製造方法を
工程順に模式的に示している。まず、ガラス、プラスチ
ック等によって形成されたマザー基材１２の表面に透光
性のない金属材料、例えばＣｒ（クロム）によってブラ
ックマスク６を矢印Ｂ方向から見て格子状パターンに形
成する。格子状パターンの格子穴の部分７は色絵素３が
形成される領域、すなわち色絵素形成領域である。この
ブラックマスク６によって形成される個々の色絵素形成
領域７の矢印Ｂ方向から見た場合の平面寸法は、例えば
３０μｍ×１００μｍ程度に形成される。

【００３９】ブラックマスク６は任意の成膜手法、例え
ばスパッタリングによって材料、例えばＣｒ等を０．１
〜０．２μｍ程度の均一な厚さで一様に形成した後、適
宜のパターニング手法、例えばフォトリソグラフィー法
によって格子状パターンに形成される（工程Ｐ１）。

【００４０】ブラックマスク６の形成後、工程Ｐ２にお
いてＲ，Ｇ，Ｂの色絵素３を形成する。色絵素３の形成
手法としては、従来から種々の方法が知られているが、
例えば顔料分散法を採用することにすれば、フォトポリ
マすなわちフォトレジストに粒径０．０５μｍ程度の顔
料を非イオン界面活性剤を用いて分散させ、これをマザ
ー基材１２の表面にスピンコート等によって塗布し、乾
燥後にパターンを露光し、現像処理を行うことにより希
望の色すなわちＲ，Ｇ，Ｂで希望のパターンの色絵素３
を形成する。

【００４１】工程Ｐ２において、符号３ＲはＲ（赤）の
色を有する色絵素材料を示し、符号３ＧはＧ（緑）の色
を有する色絵素材料を示し、そして符号３ＢはＢ（青）
の色を有する色絵素材料を示している。なお、色絵素の
形成手法としては、上記のような顔料分散法に代えて、
それぞれ周知の染色法、印刷法、電着法、その他任意の
手法を用いることができる。

【００４２】色絵素３の形成後、工程Ｐ３において平坦
化膜４を形成する。具体的には、インクジェットヘッド
２２によってマザー基材１２の表面を走査しながら、イ
ンクジェットヘッド２２に設けたノズル２７から平坦化
膜材料８を所定のタイミングでインク滴として吐出する
ことにより、図３に示したような所定配列にパターニン
グされた複数の色絵素３の間に形成された凹部、本実施
形態の場合はその底部にブラックマスク６が形成されて
いる凹部を平坦化膜材料８によって埋める。

【００４３】そしてその後、平坦化膜材料８を２００〜
２３０℃の温度に１時間保持することによる焼成処理又
は紫外線照射処理により、平坦化膜材料８を固化させ
る。これにより、色絵素３が形成されたマザー基材１２
の表面を凹凸の無い平坦面に形成する。

【００４４】１つのノズル２７からのインクすなわち平
坦化膜材料８の吐出量は、複数の色絵素３の間の間隔に
応じて表面の平坦化が達成できる適切な量に設定する。
必要ならば、インクジェットヘッド２２の走査を繰り返
してインクの吐出を繰り返して適切量の平坦化膜材料を
供給する。なお、インクジェットヘッド２２によるマザ
ー基材１２の走査方法は特別な方法に限定されるもので
なく種々に考えられる。

【００４５】そのような走査方法として、例えば、複数
のノズル２７をマザー基材１２の一辺とほぼ同じ長さに
並べてノズル列を構成し、１回の走査によってマザー基
材１２の全面に平坦化膜材料８を供給する方法や、マザ
ー基材１２の一辺よりも短い長さのノズル列を有するイ
ンクジェットヘッド２２に関してインクを吐出するため
の主走査及び主走査位置をずらせるための副走査を繰り
返して行うことによってマザー基材１２の全面にインク
を供給する方法等が考えられる。

【００４６】図５は、図４の平坦化膜形成工程Ｐ３を実
施するための装置の一例であるインクジェット装置の一
実施形態を示している。このインクジェット装置１６は
平坦化膜材料をインクの液滴として、マザー基材１２
（図２（ｂ）参照）内の各カラーフィルタ形成領域１１
内の所定位置に吐出して付着させるための装置である。

【００４７】図５において、インクジェット装置１６
は、インクジェットヘッド２２を備えたヘッドユニット
２６と、インクジェットヘッド２２の位置を制御するヘ
ッド位置制御装置１７と、マザー基材１２の位置を制御
する基板位置制御装置１８と、インクジェットヘッド２
２をマザー基材１２に対して主走査移動させる主走査駆
動装置１９と、インクジェットヘッド２２をマザー基材
１２に対して副走査移動させる副走査駆動装置２１と、
マザー基材１２をインクジェット装置１６内の所定の作
業位置へ供給する基板供給装置２３と、そしてインクジ
ェット装置１６の全般の制御を司るコントロール装置２
４とを有する。

【００４８】ヘッド位置制御装置１７、基板位置制御装
置１８、主走査駆動装置１９、そして副走査駆動装置２
１の各装置はベース９の上に設置される。また、それら
の各装置は必要に応じてカバー１４によって覆われる。

【００４９】インクジェットヘッド２２は、例えば図７
に示すように、複数、本実施形態では６個のヘッド部２
０と、それらのヘッド部２０を並べて支持する支持手段
としてのキャリッジ２５とを有する。キャリッジ２５
は、ヘッド部２０を支持すべき位置にヘッド部２０より
も少し大きい穴すなわち凹部を有し、各ヘッド部２０は
それらの穴の中に入れられ、さらにネジ、接着剤その他
の締結手段によって固定される。また、キャリッジ２５
に対するヘッド部２０の位置が正確に決められる場合に
は、特別な締結手段を用いることなく、単なる圧入によ
ってヘッド部２０を固定しても良い。

【００５０】ヘッド部２０は、図７（ｂ）に示すよう
に、複数のノズル２７を列状に並べることによって形成
されたノズル列２８を有する。ノズル２７の数は例えば
１８０個であり、ノズル２７の穴径は例えば２８μｍで
あり、ノズル２７間のノズルピッチは例えば１４１μｍ
である。図２（ａ）及び図２（ｂ）において基材２及び
マザー基材１２に対する主走査方向はＸ方向であり、そ
れに直交するＹ方向が副走査方向であり、それらのＸ方
向及びＹ方向は図７（ａ）においてインクジェットヘッ
ド２２に対して図示の通りに設定される。

【００５１】インクジェットヘッド２２はＸ方向へ平行
移動することによりマザー基材１２を主走査するが、こ
の主走査の間にインクとしての平坦化膜材料を各ヘッド
部２０内の複数のノズル２７から選択的に吐出すること
により、マザー基材１２内の所定位置に平坦化膜材料を
付着させる。また、インクジェットヘッド２２は副走査
方向Ｙへ所定距離、例えばノズル列２８の１列分の長さ
Ｌ又はその整数倍だけ平行移動することにより、インク
ジェットヘッド２２による主走査位置を所定の間隔でず
らせることができる。

【００５２】各ヘッド部２０のノズル列２８は、各ヘッ
ド部２０がキャリッジ２５に取り付けられたときに一直
線Ｚに載るように設定される。また、隣り合う各ヘッド
部２０の間隔Ｄは、隣り合う一対のヘッド部２０のそれ
ぞれに属する最端位置のノズル２７同士間の距離が個々
のヘッド部２０内のノズル列２８の長さＬに等しくなる
ように設定される。ノズル列２８に関するこのような配
置はインクジェットヘッド２２に関するＸ方向の主走査
制御及びＹ方向に関する副走査制御を簡単にするための
措置であり、ノズル列２８の配置形態すなわちヘッド部
２０のキャリッジ２５に対する配列形態は上記以外に任
意に設定可能である。

【００５３】個々のヘッド部２０は、例えば、図８
（ａ）及び図８（ｂ）に示す内部構造を有する。具体的
には、ヘッド部２０は、例えばステンレス製のノズルプ
レート２９と、それに対向する振動板３１と、それらを
互いに接合する複数の仕切部材３２とを有する。ノズル
プレート２９と振動板３１との間には、仕切部材３２に
よって複数のインク室３３と液溜り３４とが形成され
る。複数のインク室３３と液溜り３４とは通路３８を介
して互いに連通している。

【００５４】振動板３１の適所にはインク供給穴３６が
形成され、このインク供給穴３６にインク供給装置３７
が接続される。このインク供給装置３７は平坦化膜材料
Ｍをインク供給穴３６へ供給する。供給された平坦化膜
材料Ｍは液溜り３４に充満し、さらに通路３８を通って
インク室３３に充満する。

【００５５】なお、平坦化膜材料Ｍは、透光性を有する
熱硬化型樹脂又は光硬化型樹脂、場合によっては非透光
性の熱硬化型樹脂又は光硬化型樹脂であって、例えば、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド系樹脂又はフッ素
系樹脂の少なくとも１つを含んで形成できる。また、平
坦化膜材料Ｍの粘度は望ましくは４ｃｐｓ〜５０ｃｐｓ
に設定される。これは、１０ｃｐｓ未満では流動性が高
過ぎて特定形状に形成することが難しくなること及び５
０ｃｐｓを超える場合にはノズル２７から一定量を吐出
することが難しくなるからである。

【００５６】ノズルプレート２９には、インク室３３か
ら平坦化膜材料Ｍをジェット状に噴射するためのノズル
２７が設けられている。また、振動板３１のインク室３
３を形成する面の裏面には、該インク室３３に対応させ
てインク加圧体３９が取り付けられている。このインク
加圧体３９は、図８（ｂ）に示すように、圧電素子４１
並びにこれを挟持する一対の電極４２ａ及び４２ｂを有
する。圧電素子４１は電極４２ａ及び４２ｂへの通電に
よって矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、
これによりインク室３３の容積が増大する。すると、増
大した容積分に相当する平坦化膜材料Ｍが液溜り３４か
ら通路３８を通ってインク室３３へ流入する。

【００５７】次に、圧電素子４１への通電を解除する
と、該圧電素子４１と振動板３１は共に元の形状へ戻
る。これにより、インク室３３も元の容積に戻るためイ
ンク室３３の内部にある平坦化膜材料Ｍの圧力が上昇
し、ノズル２７からマザー基材１２（図２（ｂ）参照）
へ向けて平坦化膜材料Ｍが液滴８となって噴出する。な
お、ノズル２７の周辺部には、液滴８の飛行曲がりやノ
ズル２７の穴詰まり等を防止するために、例えばＮｉ−
テトラフルオロエチレン共析メッキ層から成る撥インク
層４３が設けられる。

【００５８】図６において、ヘッド位置制御装置１７
は、インクジェットヘッド２２を面内回転させるαモー
タ４４と、インクジェットヘッド２２を副走査方向Ｙと
平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ４６と、イン
クジェットヘッド２２を主走査方向Ｘと平行な軸線回り
に揺動回転させるγモータ４７と、そしてインクジェッ
トヘッド２２を上下方向へ平行移動させるＺモータ４８
とを有する。

【００５９】図５に示した基板位置制御装置１８は、図
６において、マザー基材１２を載せるテーブル４９と、
そのテーブル４９を矢印θのように面内回転させるθモ
ータ５１とを有する。また、図５に示した主走査駆動装
置１９は、図６に示すように、主走査方向Ｘへ延びるガ
イドレール５２と、パルス駆動されるリニアモータを内
蔵したスライダ５３とを有する。スライダ５３は内蔵す
るリニアモータが作動するときにガイドレール５２に沿
って主走査方向へ平行移動する。

【００６０】また、図５に示した副走査駆動装置２１
は、図６に示すように、副走査方向Ｙへ延びるガイドレ
ール５４と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵した
スライダ５６とを有する。スライダ５６は内蔵するリニ
アモータが作動するときにガイドレール５４に沿って副
走査方向Ｙへ平行移動する。

【００６１】スライダ５３やスライダ５６内においてパ
ルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパ
ルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うこ
とができ、従って、スライダ５３に支持されたインクジ
ェットヘッド２２の主走査方向Ｘ上の位置やテーブル４
９の副走査方向Ｙ上の位置等を高精細に制御できる。な
お、インクジェットヘッド２２やテーブル４９の位置制
御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボ
モータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制
御方法によって実現することもできる。

【００６２】図５に示した基板供給装置２３は、マザー
基材１２を収容する基板収容部５７と、マザー基材１２
を搬送するロボット５８とを有する。ロボット５８は、
床、地面等といった設置面に置かれる基台５９と、基台
５９に対して昇降移動する昇降軸６１と、昇降軸６１を
中心として回転する第１アーム６２と、第１アーム６２
に対して回転する第２アーム６３と、第２アーム６３の
先端下面に設けられた吸着パッド６４とを有する。吸着
パッド６４は空気吸引等によってマザー基材１２を吸着
できる。

【００６３】図５において、主走査駆動装置１９によっ
て駆動されて主走査移動するインクジェットヘッド２２
の軌跡下であって副走査駆動装置２１の一方の脇位置
に、キャッピング装置７６及びクリーニング装置７７が
配設される。また、他方の脇位置に電子天秤７８が配設
される。クリーニング装置７７はインクジェットヘッド
２２を洗浄するための装置である。電子天秤７８はイン
クジェットヘッド２２内の個々のノズル２７から吐出さ
れるインクの液滴の重量をノズルごとに測定する機器で
ある。そして、キャッピング装置７６はインクジェット
ヘッド２２が待機状態にあるときにノズル２７の乾燥を
防止するための装置である。

【００６４】インクジェットヘッド２２の近傍には、そ
のインクジェットヘッド２２と一体に移動する関係でヘ
ッド用カメラ８１が配設される。また、ベース９上に設
けた支持装置（図示せず）に支持された基板用カメラ８
２がマザー基材１２を撮影できる位置に配置される。

【００６５】図５に示したコントロール装置２４は、プ
ロセッサを収容したコンピュータ本体部６６と、入力装
置としてのキーボード６７と、表示装置としてのＣＲＴ
（Cathode Ray Tube）ディスプレイ６８とを有する。上
記プロセッサは、図９に示すように、演算処理を行うＣ
ＰＵ（Central Processing Unit）６９と、各種情報を
記憶するメモリすなわち情報記憶媒体７１とを有する。

【００６６】図５に示したヘッド位置制御装置１７、基
板位置制御装置１８、主走査駆動装置１９、副走査駆動
装置２１、そして、インクジェットヘッド２２内の圧電
素子４１（図８（ｂ）参照）を駆動するヘッド駆動回路
７２の各機器は、図９において、入出力インターフェー
ス７３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。
また、基板供給装置２３、入力装置６７、ディスプレイ
６８、電子天秤７８、クリーニング装置７７及びキャッ
ピング装置７６の各機器も入出力インターフェース７３
及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。

【００６７】メモリ７１は、ＲＡＭ（Random Access Me
mory）、ＲＯＭ（Read Only Memory）等といった半導体
メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ読取り装置、
ディスク型記憶媒体等といった外部記憶装置等を含む概
念であり、機能的には、インクジェット装置１６の動作
の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記
憶領域や、図６における主走査方向Ｘへのスライダ５３
の主走査移動量及び副走査方向Ｙへのマザー基材１２の
副走査移動量を記憶するための記憶領域や、ＣＰＵ６９
のためのワークエリアやテンポラリファイル等として機
能する領域や、その他各種の記憶領域が設定される。

【００６８】また、メモリ７１内には、図２（ａ）にお
いて平坦化膜４を形成するための位置データを記憶する
領域が含まれる。なお、図１（ａ）に示す実施形態のよ
うに各色絵素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの高さが等しくて平坦化
膜４がそれらの色絵素の間だけに設けられる場合には、
平坦化膜４を形成する領域とブラックマスク６を形成す
る領域とはほとんど同じである。他方、図１（ｂ）に示
す実施形態のように各色絵素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの高さに
相違があって低い色絵素の上にも平坦化膜４を形成する
必要がある場合には、平坦化膜４を形成する領域とブラ
ックマスク６を形成する領域との間に相違が生じる。

【００６９】図９のＣＰＵ６９は、メモリ７１内に記憶
されたプログラムソフトに従って、マザー基材１２の表
面の所定位置にインク、すなわち平坦化膜材料を吐出す
るための制御を行うものであり、具体的な機能実現部と
して、クリーニング処理を実現するための演算を行うク
リーニング演算部と、キャッピング処理を実現するため
のキャッピング演算部と、電子天秤７８（図５参照）を
用いた重量測定を実現するための演算を行う重量測定演
算部と、インクジェットによって平坦化膜材料を描画す
るための演算を行う描画演算部とを有する。

【００７０】また、描画演算部を詳しく分割すれば、イ
ンクジェットヘッド２２を描画のための初期位置へセッ
トするための描画開始位置演算部と、インクジェットヘ
ッド２２を主走査方向Ｘへ所定の速度で走査移動させる
ための制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基材
１２を副走査方向Ｙへ所定の副走査量だけずらせるため
の制御を演算する副走査制御演算部と、そして、インク
ジェットヘッド２２内の複数のノズル２７のうちのいず
れを作動させてインクすなわち平坦化膜材料を吐出する
かを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算部等
といった各種の機能演算部を有する。

【００７１】なお、本実施形態では、上記の各機能をＣ
ＰＵ６９を用いてソフト的に実現することにしたが、上
記の各機能がＣＰＵを用いない単独の電子回路によって
実現できる場合には、そのような電子回路を用いること
も可能である。

【００７２】以下、上記構成から成るインクジェット装
置１６の動作を図１０に示すフローチャートに基づいて
説明する。

【００７３】オペレータによる電源投入によってインク
ジェット装置１６が作動すると、まず、ステップＳ１に
おいて初期設定が実行される。具体的には、ヘッドユニ
ット２６や基板供給装置２３やコントロール装置２４等
が予め決められた初期状態にセットされる。

【００７４】次に、重量測定タイミングが到来すれば
（ステップＳ２でＹＥＳ）、図６のヘッドユニット２６
を主走査駆動装置１９によって図５の電子天秤７８の所
まで移動させて（ステップＳ３）、ノズル２７から吐出
されるインクの量を電子天秤７８を用いて測定する（ス
テップＳ４）。そして、個々のノズル２７のインク吐出
特性に合わせて、各ノズル２７に対応する圧電素子４１
に印加する電圧を調節する（ステップＳ５）。

【００７５】次に、クリーニングタイミングが到来すれ
ば（ステップＳ６でＹＥＳ）、ヘッドユニット２６を主
走査駆動装置１９によってクリーニング装置７７の所ま
で移動させて（ステップＳ７）、そのクリーニング装置
７７によってインクジェットヘッド２２をクリーニング
する（ステップＳ８）。

【００７６】重量測定タイミングやクリーニングタイミ
ングが到来しない場合（ステップＳ２及びＳ６でＮ
Ｏ）、あるいはそれらの処理が終了した場合には、ステ
ップＳ９において、図５の基板供給装置２３を作動させ
てマザー基材１２をテーブル４９へ供給する。具体的に
は、基板収容部５７内のマザー基材１２を吸着パッド６
４によって吸引保持し、次に、昇降軸６１、第１アーム
６２及び第２アーム６３を移動させてマザー基材１２を
テーブル４９まで搬送し、さらにテーブル４９の適所に
予め設けてある位置決めピン５０（図６参照）に押し付
ける。なお、テーブル４９上におけるマザー基材１２の
位置ズレを防止するため、空気吸引等の手段によってマ
ザー基材１２をテーブル４９に固定することが望まし
い。

【００７７】次に、図５の基板用カメラ８２によってマ
ザー基材１２を観察しながら、図６のθモータ５１の出
力軸を微小角度単位で回転させることによりテーブル４
９を微小角度単位で面内回転させてマザー基材１２を位
置決めする（ステップＳ１０）。次に、図５のヘッド用
カメラ８１によってマザー基材１２を観察しながらイン
クジェットヘッド２２によって描画を開始する位置を演
算によって決定し（ステップＳ１１）、そして、主走査
駆動装置１９及び副走査駆動装置２１を適宜に作動させ
てインクジェットヘッド２２を描画開始位置へ移動する
（ステップＳ１２）。このとき、インクジェットヘッド
２２は、図１１に示すように、各ヘッド部２０のノズル
列２８の延在方向Ｚが主走査方向Ｘと直角の方向となる
ようにセットされる。

【００７８】図１０のステップＳ１２でインクジェット
ヘッド２２が描画開始位置に置かれると、その後、ステ
ップＳ１３でＸ方向への主走査が開始され、同時にイン
クの吐出が開始される。具体的には、図６の主走査駆動
装置１９が作動してインクジェットヘッド２２が図１１
の主走査方向Ｘへ一定の速度で直線的に走査移動し、そ
の移動中、平坦化膜材料を吐出すべき領域にノズル２７
が到達したときにそのノズル２７からインクすなわち平
坦化膜材料が吐出されて該領域が埋められる。

【００７９】例えば、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色絵素の高さが図
１（ａ）のように互いに等しくて、さらにそれらの配列
が図３（ａ）に示すストライプ配列や、図３（ｂ）に示
すモザイク配列である場合には、図１１（ｂ）に示すよ
うに縦横直線状に配列された各色絵素３の間に平坦化膜
材料Ｍがドット状に供給される。

【００８０】また、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色絵素の高さが図１
（ａ）のように互いに等しくて、さらにそれらの配列が
図３（ｃ）に示すデルタ配列である場合には、図１２
（ｂ）に示すように、デルタ配列された各色絵素３の間
に平坦化膜材料Ｍがドット状に供給される。

【００８１】なお、各色絵素３の間の間隔は縦方向の間
隔と横方向の間隔との間で同じ場合もあるし、それらが
互いに相違する場合もある。縦方向間隔と横方向間隔と
が同じ場合にはノズル２７からのインクの吐出量は縦方
向と横方向とで同じに設定することができる。他方、縦
方向間隔と横方向間隔とが相違する場合には、その相違
に対応させてノズル２７からのインクの吐出量を縦方向
と横方向との間で異なるように制御することが望まし
い。

【００８２】また、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色絵素の高さが図１
（ｂ）のように互いに相違する場合には、図１１（ｂ）
や図１２（ｂ）に示すように各色絵素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ
の間に平坦化膜材料Ｍを吐出によって供給することに加
えて、高さの低い色絵素（図１（ｂ）の場合にはＧ色絵
素３Ｇ）の上にも平坦化膜材料Ｍを吐出する。なお、こ
の場合には、色絵素間の高さの変化に対応させてインク
の吐出量を制御することが望ましい。

【００８３】図１１又は図１２において、インクジェッ
トヘッド２２がマザー基材１２に対する１回の主走査を
終了すると（ステップＳ１４でＹＥＳ）、そのインクジ
ェットヘッド２２は反転移動して初期位置へ復帰する
（ステップＳ１５）。そしてさらに、インクジェットヘ
ッド２２は、副走査駆動装置２１によって駆動されて副
走査方向Ｙへ予め決められた副走査量、例えば、１個の
ヘッド部２０に属するノズル列２８の１列分の長さ又は
その整数倍だけ移動する（ステップＳ１６）。そして次
に、主走査及びインク吐出が繰り返して行われて、未だ
平坦化膜４が形成されていない領域に平坦化膜４が形成
される（ステップＳ１３）。

【００８４】なお、ステップＳ１５の復帰移動を省略し
て、１回の主走査の終了後、ただちに副走査移動を行
い、その副走査移動の終了後、前回の主走査方向と反対
方向へ主走査を行い、その主走査中にインクすなわち平
坦化膜材料Ｍの吐出を行うという吐出制御を行うことも
できる。つまり、この場合には、インクジェットヘッド
２２の往復移動の往動時と復動時の両方でインク吐出の
ための主走査を実行することになる。

【００８５】以上のようなインクジェットヘッド２２に
よる平坦化膜４の描画作業がマザー基材１２の全領域に
対して完了すると（ステップＳ１７でＹＥＳ）、ステッ
プＳ１８でマザー基材１２を基板供給装置２３によっ
て、又は別の搬送機器によって、処理後のマザー基材１
２が外部へ排出される。その後、オペレータによって処
理終了の指示がなされない限り（ステップＳ１９でＮ
Ｏ）、ステップＳ２へ戻って別のマザー基材１２に対す
る平坦化膜材料の吐着作業を繰り返して行う。

【００８６】オペレータから作業終了の指示があると
（ステップＳ１９でＹＥＳ）、ＣＰＵ６９は図５におい
てインクジェットヘッド２２をキャッピング装置７６の
所まで搬送して、そのキャッピング装置７６によってイ
ンクジェットヘッド２２に対してキャッピング処理を施
す（ステップＳ２０）。

【００８７】以上により、カラーフィルタ基板１を構成
する平坦化膜４についてのパターニングが終了し、これ
により、ストライプ配列等といった希望のＲ，Ｇ，Ｂの
ドット配列を有するカラーフィルタ基板１（図２
（ａ））が複数個形成されたマザー基材１２が製造され
る。

【００８８】なお、本カラーフィルタ基板１を液晶装置
のカラー表示のために用いるものとすれば、本カラーフ
ィルタ基板１の表面にはさらに電極や配向膜等がさらに
積層されることになる。そのような場合、電極や配向膜
等を積層する前にマザー基材１２を切断して個々のカラ
ーフィルタ基板１を切り出してしまうと、その後の電極
等の形成工程が非常に面倒になる。よって、そのような
場合には、マザー基材１２上でカラーフィルタ基板１が
完成した後に、直ぐにマザー基材１２を切断してしまう
のではなく、電極形成や配向膜形成等といった必要な付
加工程が終了した後にマザー基材１２を切断することが
望ましい。

【００８９】以上のように本実施形態に係るカラーフィ
ルタ基板及びその製造方法によれば、図１（ａ）及び図
１（ｂ）に示すように、平坦化膜４を基材２の表面の全
域に形成するのではないので、平坦化膜４の材料の消費
量を低く抑えて経費を低減できる。また、基材２の表面
全域が平坦化膜４によって覆われるのではないので、平
坦化膜４の存在によってカラー表示が暗くなるのを改善
できる。

【００９０】（第２実施形態）図１３は、図７（ｂ）に
示すヘッド部２０の改変例を示している。図７（ｂ）に
示したヘッド部２０においては、ノズル列２８が主走査
方向Ｘに関して１列だけ設けられた。これに代えて、図
１３に示すヘッド部２０ではノズル列２８が主走査方向
Ｘに関して複数列、本実施形態では２列設けられてい
る。このヘッド部２０を用いれば、図７（ａ）のキャリ
ッジ２５がＸ方向へ主走査するときに、その主走査方向
Ｘに並んだ２個のノズル２７によってインクを吐出でき
るので、平坦化膜材料の吐出量の制御の仕方を多用化で
きる。

【００９１】（第３実施形態）図１４は本発明に係るカ
ラーフィルタ基板の製造方法の他の実施形態の主要工程
を示しており、この工程は既に説明した先の実施形態に
おける図１１又は図１２で示した工程に代えて行われ
る。なお、本実施形態に係る製造方法によって製造する
カラーフィルタ基板は図１（ａ）及び図１（ｂ）に符号
“１”で示すカラーフィルタ基板とすることができる。
また、カラーフィルタ基板１は、図２（ｂ）に示すマザ
ー基材１２から切り出すことにより形成できる。

【００９２】また、カラーフィルタ基板１に形成する色
絵素の配列は図３に示すストライプ配列等のような各種
配列とすることができる。また、カラーフィルタ基板１
を形成するための工程は、図４に工程Ｐ１〜Ｐ３で示す
工程を採用できる。また、平坦化膜形成工程Ｐ３におい
て使用するインクジェット装置は図５に示す構造の装置
を採用できる。

【００９３】図１４に示す実施形態が先の実施形態と異
なる点は、図１１と比較すれば明らかなように、インク
ジェットヘッド２２をマザー基材１２に対する初期位置
すなわち主走査開始位置に置いたとき、キャリッジ２５
の全体が副走査方向Ｙに対して角度θで傾斜することに
より、６個のノズル列２８の延在方向Ｚが副走査方向Ｙ
に対して角度θで傾斜することである。

【００９４】本実施形態の構成によれば、各ヘッド部２
０は副走査方向Ｙに対して角度θの傾斜状態でＸ方向へ
主走査を行うので、各ヘッド部２０に属する複数のノズ
ル２７のノズル間ピッチをマザー基材１２上の平坦化膜
形成領域の間隔、換言すれば隣り合う色絵素３間の距離
であるエレメント間ピッチに一致させることができる。
このようにノズル間ピッチと平坦化膜形成領域間の間隔
とを幾何学的に一致させれば、ノズル列２８を副走査方
向Ｙに関して位置制御する必要がなくなるので好都合で
ある。

【００９５】（第４実施形態）図１５は本発明に係るカ
ラーフィルタ基板の製造方法のさらに他の実施形態の主
要工程を示しており、この工程も既に説明した先の実施
形態における図１１又は図１２で示した工程に代えて行
われる。なお、本実施形態に係る製造方法によって製造
するカラーフィルタ基板は図１（ａ）及び図１（ｂ）に
符号“１”で示すカラーフィルタ基板とすることができ
る。また、カラーフィルタ基板１は、図２（ｂ）に示す
マザー基材１２から切り出すことにより形成できる。

【００９６】また、カラーフィルタ基板１に形成する色
絵素の配列は図３に示すストライプ配列等のような各種
配列とすることができる。また、カラーフィルタ基板１
を形成するための工程は、図４に工程Ｐ１〜Ｐ３で示す
工程を採用できる。また、平坦化膜形成工程Ｐ３におい
て使用するインクジェット装置は図５に示す構造の装置
を採用できる。

【００９７】図１５に示す実施形態が先の実施形態と異
なる点は、図１１と比較すれば明らかなように、インク
ジェットヘッド２２をマザー基材１２に対する初期位置
すなわち主走査開始位置に置いたとき、キャリッジ２５
の全体は副走査方向Ｙに対して傾斜することはないが、
６個のヘッド部２０が個々に副走査方向Ｙに対して角度
θで傾斜することにより、各ノズル列２８の延在方向Ｚ
が副走査方向Ｙに対して角度θで傾斜することである。

【００９８】本実施形態の構成によれば、各ノズル列２
８は副走査方向Ｙに対して角度θの傾斜状態でＸ方向へ
主走査を行うので、各ノズル列２８に属する複数のノズ
ル２７のノズル間ピッチをマザー基材１２上の平坦化膜
形成領域の間隔、換言すれば隣り合う色絵素３間の距離
であるエレメント間ピッチに一致させることができる。
このようにノズル間ピッチと平坦化膜形成領域間の間隔
とを幾何学的に一致させれば、ノズル列２８を副走査方
向Ｙに関して位置制御する必要がなくなるので好都合で
ある。

【００９９】また、本実施形態では図１４のようにキャ
リッジ２５の全体を傾斜させるのではなくて、個々のヘ
ッド部２０を傾斜させるようにしてあるので、吐出対象
物であるマザー基材１２に最も近いノズル２７から最も
遠いノズル２７までの距離が図１４の場合に比べて著し
く小さくでき、それ故、Ｘ方向への主走査の時間を短縮
化できる。これにより、カラーフィルタ基板の製造時間
を短縮できる。

【０１００】（第５実施形態）図１６は本発明に係る液
晶装置の一実施形態を示している。また、図１７は図１
６におけるＸ−Ｘ線に従った液晶装置の断面構造を示し
ている。なお、本実施形態の液晶装置は、単純マトリク
ス方式でフルカラー表示を行う半透過反射方式の液晶装
置である。

【０１０１】図１６において、液晶装置１０１は、液晶
パネル１０２に半導体チップとしての液晶駆動用ＩＣ１
０３ａ及び１０３ｂを実装し、配線接続要素としてのＦ
ＰＣ（Flexible Printed Circuit）１０４を液晶パネル
１０２に接続し、さらに液晶パネル１０２の裏面側に照
明装置１０６をバックライトとして設けることによって
形成される。

【０１０２】液晶パネル１０２は、第１基板１０７ａと
第２基板１０７ｂとをシール材１０８によって貼り合わ
せることによって形成される。シール材１０８は、例え
ば、スクリーン印刷等によってエポキシ系樹脂を第１基
板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面に環状に付
着させることによって形成される。また、シール材１０
８の内部には図１７に示すように、導電性材料によって
球状又は円筒状に形成された導通材１０９が分散状態で
含まれる。

【０１０３】図１７において、第１基板１０７ａは透明
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材１１１ａを有する。この基材１１１ａの内側
表面（図１７の上側表面）には反射膜１１２が形成さ
れ、その上に絶縁膜１１３が積層され、その上に第１電
極１１４ａが矢印Ｄ方向から見てストライプ状（図１６
参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１６ａが形
成される。また、基材１１１ａの外側表面（図１７の下
側表面）には偏光板１１７ａが貼着等によって装着され
る。

【０１０４】図１６では第１電極１１４ａの配列を分か
り易く示すために、それらのストライプ間隔を実際より
も大幅に広く描いており、よって、第１電極１１４ａの
本数が少なく描かれているが、実際には、第１電極１１
４ａはより多数本が基材１１１ａ上に形成される。

【０１０５】図１７において、第２基板１０７ｂは透明
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材１１１ｂを有する。この基材１１１ｂの内側
表面（図１７の下側表面）にはカラーフィルタ１１８が
形成され、その上に第２電極１１４ｂが上記第１電極１
１４ａと直交する方向へ矢印Ｄ方向から見てストライプ
状（図１６参照）に形成され、さらにその上に配向膜１
１６ｂが形成される。また、基材１１１ｂの外側表面
（図１７の上側表面）には偏光板１１７ｂが貼着等によ
って装着される。

【０１０６】図１６では、第２電極１１４ｂの配列を分
かりやすく示すために、第１電極１１４ａの場合と同様
に、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描
いており、よって、第２電極１１４ｂの本数が少なく描
かれているが、実際には、第２電極１１４ｂはより多数
本が基材１１１ｂ上に形成される。

【０１０７】図１７において、第１基板１０７ａ、第２
基板１０７ｂ及びシール材１０８によって囲まれる間
隙、いわゆるセルギャップ内には液晶、例えばＳＴＮ
（SuperTwisted Nematic）液晶Ｌが封入されている。第
１基板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面には微
小で球形のスペーサ１１９が多数分散され、これらのス
ペーサ１１９がセルギャップ内に存在することによりそ
のセルギャップの厚さが均一に維持される。

【０１０８】第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂは互
いに直交関係に配置され、それらの交差点は図１７の矢
印Ｄ方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そ
して、そのドット・マトリクス状の各交差点が１つの絵
素ピクセルを構成する。カラーフィルタ１１８は、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色要素を矢印Ｄ方向か
ら見て所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デル
タ配列、モザイク配列等のパターンで配列させることに
よって形成されている。上記の１つの絵素ピクセルはそ
れらＲ，Ｇ，Ｂの各１つずつに対応しており、そして
Ｒ，Ｇ，Ｂの３色絵素ピクセルが１つのユニットになっ
て１画素が構成される。

【０１０９】ドット・マトリクス状に配列される複数の
絵素ピクセル、従って画素、を選択的に発光させること
により、液晶パネル１０２の第２基板１０７ｂの外側に
文字、数字等といった像が表示される。このようにして
像が表示される領域が有効画素領域であり、図１６及び
図１７において矢印Ｖによって示される平面的な矩形領
域が有効表示領域となっている。

【０１１０】図１７において、反射膜１１２はＡＰＣ合
金、Ａｌ（アルミニウム）等といった光反射性材料によ
って形成され、第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂと
の交差点である各絵素ピクセルに対応する位置に開口１
２１が形成されている。結果的に、開口１２１は図１７
の矢印Ｄ方向から見て、絵素ピクセルと同じドット・マ
トリクス状に配列されている。

【０１１１】第１電極１１４ａ及び第２電極１１４ｂ
は、例えば、透明導電材であるＩＴＯによって形成され
る。また、配向膜１１６ａ及び１１６ｂは、ポリイミド
系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形
成される。これらの配向膜１１６ａ及び１１６ｂがラビ
ング処理を受けることにより、第１基板１０７ａ及び第
２基板１０７ｂの表面上における液晶分子の初期配向が
決定される。

【０１１２】図１６において、第１基板１０７ａは第２
基板１０７ｂよりも広い面積に形成されており、これら
の基板をシール材１０８によって貼り合わせたとき、第
１基板１０７ａは第２基板１０７ｂの外側へ張り出す基
板張出し部１０７ｃを有する。そして、この基板張出し
部１０７ｃには、第１電極１１４ａから延び出る引出し
配線１１４ｃ、シール材１０８の内部に存在する導通材
１０９（図１７参照）を介して第２基板１０７ｂ上の第
２電極１１４ｂと導通する引出し配線１１４ｄ、液晶駆
動用ＩＣ１０３ａの入力用バンプ、すなわち入力用端子
に接続される金属配線１１４ｅ、そして液晶駆動用ＩＣ
１０３ｂの入力用バンプに接続される金属配線１１４ｆ
等といった各種の配線が適切なパターンで形成される。

【０１１３】本実施形態では、第１電極１１４ａから延
びる引出し配線１１４ｃ及び第２電極１１４ｂに導通す
る引出し配線１１４ｄはそれらの電極と同じ材料である
ＩＴＯ、すなわち導電性酸化物によって形成される。ま
た、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側の配
線である金属配線１１４ｅ及び１１４ｆは電気抵抗値の
低い金属材料、例えばＡＰＣ合金によって形成される。
ＡＰＣ合金は、主としてＡｇを含み、付随してＰｄ及び
Ｃｕを含む合金、例えば、Ａｇ９８％、Ｐｄ１％、Ｃｕ
１％から成る合金である。

【０１１４】液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び液晶駆動用Ｉ
Ｃ１０３ｂは、ＡＣＦ（Anisotropic Conductive Fil
m：異方性導電膜）１２２によって基板張出し部１０７
ｃの表面に接着されて実装される。すなわち、本実施形
態では基板上に半導体チップが直接に実装される構造
の、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶パネ
ルとして形成されている。このＣＯＧ方式の実装構造に
おいては、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子によ
って、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側バ
ンプと金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとが導電接続さ
れ、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの出力側バン
プと引出し配線１１４ｃ及び１１４ｄとが導電接続され
る。

【０１１５】図１６において、ＦＰＣ１０４は、可撓性
の樹脂フィルム１２３と、チップ部品１２４を含んで構
成された回路１２６と、金属配線端子１２７とを有す
る。回路１２６は樹脂フィルム１２３の表面に半田付け
その他の導電接続手法によって直接に搭載される。ま
た、金属配線端子１２７はＡＰＣ合金、Ｃｒ、Ｃｕその
他の導電材料によって形成される。ＦＰＣ１０４のうち
金属配線端子１２７が形成された部分は、第１基板１０
７ａのうち金属配線１１４ｅ及び金属配線１１４ｆが形
成された部分にＡＣＦ１２２によって接続される。そし
て、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子の働きによ
り、基板側の金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとＦＰＣ側
の金属配線端子１２７とが導通する。

【０１１６】ＦＰＣ１０４の反対側の辺端部には外部接
続端子１３１が形成され、この外部接続端子１３１が図
示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路
から伝送される信号に基づいて液晶駆動用ＩＣ１０３ａ
及び１０３ｂが駆動され、第１電極１１４ａ及び第２電
極１１４ｂの一方に走査信号が供給され、他方にデータ
信号が供給される。これにより、有効表示領域Ｖ内に配
列されたドット・マトリクス状の絵素ピクセルが個々の
ピクセルごとに電圧制御され、その結果、液晶Ｌの配向
が個々の絵素ピクセルごとに制御される。

【０１１７】図１６において、いわゆるバックライトと
して機能する照明装置１０６は、図１７に示すように、
アクリル樹脂等によって構成された導光体１３２と、そ
の導光体１３２の光出射面１３２ｂに設けられた拡散シ
ート１３３と、導光体１３２の光出射面１３２ｂの反対
面に設けられた反射シート１３４と、発光源としてのＬ
ＥＤ（Light Emitting Diode）１３６とを有する。

【０１１８】ＬＥＤ１３６はＬＥＤ基板１３７に支持さ
れ、そのＬＥＤ基板１３７は、例えば導光体１３２と一
体に形成された支持部（図示せず）に装着される。ＬＥ
Ｄ基板１３７が支持部の所定位置に装着されることによ
り、ＬＥＤ１３６が導光体１３２の側辺端面である光取
込み面１３２ａに対向する位置に置かれる。なお、符号
１３８は液晶パネル１０２に加わる衝撃を緩衝するため
の緩衝材を示している。

【０１１９】ＬＥＤ１３６が発光すると、その光は光取
込み面１３２ａから取り込まれて導光体１３２の内部へ
導かれ、反射シート１３４や導光体１３２の壁面で反射
しながら伝播する間に光出射面１３２ｂから拡散シート
１３３を通して外部へ平面光として出射する。

【０１２０】本実施形態の液晶装置１０１は以上のよう
に構成されているので、太陽光、室内光等といった外部
光が十分に明るい場合には、図１７において、第２基板
１０７ｂ側から外部光が液晶パネル１０２の内部へ取り
込まれ、その光が液晶Ｌを通過した後に反射膜１１２で
反射して再び液晶Ｌへ供給される。液晶Ｌはこれを挟持
する電極１１４ａ及び１１４ｂによってＲ，Ｇ，Ｂの絵
素ピクセルごとに配向制御されており、よって、液晶Ｌ
へ供給された光は絵素ピクセルごとに変調され、その変
調によって偏光板１１７ｂを通過する光と、通過できな
い光とによって液晶パネル１０２の外部に文字、数字等
といった像が表示される。これにより、反射型の表示が
行われる。

【０１２１】他方、外部光の光量が十分に得られない場
合には、ＬＥＤ１３６が発光して導光体１３２の光出射
面１３２ｂから平面光が出射され、その光が反射膜１１
２に形成された開口１２１を通して液晶Ｌへ供給され
る。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された
光が配向制御される液晶Ｌによって絵素ピクセルごとに
変調され、これにより、外部へ像が表示される。これに
より、透過型の表示が行われる。

【０１２２】上記構成の液晶装置１０１は、例えば、図
１８に示す製造方法によって製造される。この製造方法
において、工程Ｐ１〜工程Ｐ６の一連の工程が第１基板
１０７ａを形成する工程であり、工程Ｐ１１〜工程Ｐ１
４の一連の工程が第２基板１０７ｂを形成する工程であ
る。第１基板形成工程と第２基板形成工程は、通常、そ
れぞれが独自に行われる。

【０１２３】まず、第１基板形成工程について説明すれ
ば、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成
された大面積のマザー基材の表面に液晶パネル１０２の
複数個分の反射膜１１２をフォトリソグラフィー法等を
用いて形成し、さらにその上に絶縁膜１１３を周知の成
膜法を用いて形成し（工程Ｐ１）、次に、フォトリソグ
ラフィー法等を用いて第１電極１１４ａ及び配線１１４
ｃ，１１４ｄ，１１４ｅ，１１４ｆを形成する（工程Ｐ
２）。

【０１２４】次に、第１電極１１４ａの上に塗布、印刷
等によって配向膜１１６ａを形成し（工程Ｐ３）、さら
にその配向膜１１６ａに対してラビング処理を施すこと
により液晶の初期配向を決定する（工程Ｐ４）。次に、
例えばスクリーン印刷等によってシール材１０８を環状
に形成し（工程Ｐ５）、さらにその上に球状のスペーサ
１１９を分散する（工程Ｐ６）。以上により、液晶パネ
ル１０２の第１基板１０７ａ上のパネルパターンを複数
個分有する大面積のマザー第１基板が形成される。

【０１２５】以上の第１基板形成工程とは別に、第２基
板形成工程（図１８の工程Ｐ１１〜工程Ｐ１４）を実施
する。まず、透光性ガラス、透光性プラスチック等によ
って形成された大面積のマザー基材を用意し、その表面
に液晶パネル１０２の複数個分のカラーフィルタ１１８
を形成する（工程Ｐ１１）。このカラーフィルタの形成
工程は図４に示した製造方法を用いて行われ、その製造
方法中の平坦化膜形成工程Ｐ３は図５のインクジェット
装置１６を用いて図１１、図１２、図１４、図１５等に
示したインクジェットヘッドの制御方法に従って実行さ
れる。これらカラーフィルタの製造方法及びインクジェ
ットヘッドの制御方法は既に説明した内容と同じである
ので、それらの説明は省略する。

【０１２６】図１（ａ）又は図１（ｂ）に示すようにマ
ザー基材１２の上にブラックマスク６、色絵素３及び平
坦化膜４が形成されると、次に、フォトリソグラフィー
法によって第２電極１１４ｂが形成され（工程Ｐ１
２）、さらに塗布、印刷等によって配向膜１１６ｂが形
成され（工程Ｐ１３）、さらにその配向膜１１６ｂに対
してラビング処理が施されて液晶の初期配向が決められ
る（工程Ｐ１４）。以上により、液晶パネル１０２の第
２基板１０７ｂ上のパネルパターンを複数個分有する大
面積のマザー第２基板が形成される。

【０１２７】以上により大面積のマザー第１基板及びマ
ザー第２基板が形成された後、それらのマザー基板をシ
ール材１０８を間に挟んでアライメント、すなわち位置
合わせした上で互いに貼り合わせる（工程Ｐ２１）。こ
れにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでい
て未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体
が形成される。

【０１２８】次に、完成した空のパネル構造体の所定位
置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成し、さらに
そのスクライブ溝を基準にしてパネル構造体をブレイ
ク、すなわち切断する（工程Ｐ２２）。これにより、各
液晶パネル部分のシール材１０８の液晶注入用開口１１
０（図１６参照）が外部へ露出する状態の、いわゆる短
冊状の空のパネル構造体が形成される。

【０１２９】その後、露出した液晶注入用開口１１０を
通して各液晶パネル部分の内部に液晶Ｌを注入し、さら
に各液晶注入口１１０を樹脂等によって封止する（工程
Ｐ２３）。通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の
中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短
冊状の空パネルをチャンバー等に入れ、そのチャンバー
等を真空状態にしてからそのチャンバーの内部において
液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬し、その後、チャン
バーを大気圧に開放することによって行われる。このと
き、空パネルの内部は真空状態なので、大気圧によって
加圧される液晶が液晶注入用開口を通してパネルの内部
へ導入される。液晶注入後の液晶パネル構造体のまわり
には液晶が付着するので、液晶注入処理後の短冊状パネ
ルは工程２４において洗浄処理を受ける。

【０１３０】その後、液晶注入及び洗浄が終わった後の
短冊状のマザーパネルに対して再び所定位置にスクライ
ブ溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にして短
冊状パネルを切断することにより、複数個の液晶パネル
が個々に切り出される（工程Ｐ２５）。こうして作製さ
れた個々の液晶パネル１０２に対して図１６に示すよう
に、液晶駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂを実装し、照明
装置１０６をバックライトとして装着し、さらにＦＰＣ
１０４を接続することにより、目標とする液晶装置１０
１が完成する（工程Ｐ２６）。

【０１３１】以上に説明した液晶装置に関しては、特に
カラーフィルタ基板１１１ｂ，１１８の部分において、
図１（ａ）又は図１（ｂ）に示すように、平坦化膜４を
基材２の表面の全域に形成するのではないので、平坦化
膜４の材料の消費量を低く抑えて経費を低減できる。ま
た、基材２の表面全域が平坦化膜４によって覆われるの
ではないので、平坦化膜４の存在によってカラー表示が
暗くなるのを改善できる。つまり、有効表示領域Ｖの内
部領域で明るい表示を行うことができる。

【０１３２】また、カラーフィルタ基板１１１ｂ，１１
８の表面の平坦性を図１９に示した従来のカラーフィル
タ基板に比べてより一層高精度にすることができるの
で、液晶Ｌの層厚を平面的に均一に維持でき、この結
果、ＳＴＮ液晶やＴＮ液晶を用いる場合のように複屈折
性を利用して表示を行う際の表示品質を高く維持でき
る。また、平坦化膜４を含めたカラーフィルタ基板１の
全体の厚さを図１９に示した従来のカラーフィルタ基板
に比べて薄くできる。

【０１３３】（その他の実施形態）以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。

【０１３４】例えば、以上の説明では色絵素としてＲ，
Ｇ，Ｂを用いたが、Ｒ，Ｇ，Ｂに限定されることはな
く、例えばＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロ
ー）を採用してもかまわない。その場合にあっては、
Ｒ，Ｇ，Ｂの色絵素材料に代えて、Ｃ，Ｍ，Ｙの色を有
する色絵素材料を用いれば良い。

【０１３５】また、以上に説明した実施形態では、図７
等に示すようにインクジェットヘッド２２の中に６個の
ヘッド部２０を設けたが、ヘッド部２０の数はより少な
く又はより多くすることができる。

【０１３６】また、図２（ｂ）に示した実施形態では、
マザー基材１２の中に複数列のカラーフィルタ形成領域
１１が設定される場合を例示したが、マザー基材１２の
中に１列のカラーフィルタ形成領域１１が設定される場
合にも本発明を適用できる。また、マザー基板１２とほ
ぼ同じ大きさの又はそれよりもかなり小さい１個のカラ
ーフィルタ形成領域１１だけがそのマザー基材１２の中
に設定される場合にも本発明を適用できる。

【０１３７】また、図５及び図６に示したインクジェッ
ト装置１６では、インクジェットヘッド２２をＸ方向へ
移動させて基材１２を主走査し、基材１２を副走査駆動
装置２１によってＹ方向へ移動させることによりインク
ジェットヘッド２２によって基材１２を副走査すること
にしたが、これとは逆に、基材１２のＹ方向への移動に
よって主走査を実行し、インクジェットヘッド２２のＸ
方向への移動によって副走査を実行することもできる。

【０１３８】また、上記実施形態では、圧電素子の撓み
変形を利用してインクを吐出する構造のインクジェット
ヘッドを用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘ
ッドを用いることもできる。

【０１３９】

【発明の効果】本発明に係るカラーフィルタ基板及びそ
の製造方法並びに本発明に係る液晶装置によれば、平坦
化膜が基材の表面に部分的に設けられるので、平坦化膜
材料の消費量を減じることができ、そのため、カラーフ
ィルタ基板や液晶装置を安価に作製できる。

【０１４０】また、カラーフィルタ基板の全面に平坦化
膜を設けるのではないので、平坦化膜の存在しない領域
が存在する分だけカラー表示を明るくすることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るカラーフィルタ基板の実施形態の
１画素部分の断面構造を拡大して示す断面図であり、
（ａ）は１つの実施形態を示し、（ｂ）は他の実施形態
を示す。

【図２】（ａ）は本発明に係るカラーフィルタ基板の一
実施形態の平面図を示し、（ｂ）はそのカラーフィルタ
基板の基礎となるマザー基板の平面図を示している。

【図３】カラーフィルタ基板の表面に形成される複数種
類の色絵素の配列形態の例を示す図である。

【図４】本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の
一実施形態を示す工程図である。

【図５】図４に示す製造方法の一工程で用いられるイン
クジェット装置の一実施形態を示す斜視図である。

【図６】図５の装置の主要部を拡大して示す斜視図であ
る。

【図７】図６の装置で用いられるインクジェットヘッド
の一実施形態及びそのインクジェットヘッドに用いられ
るヘッド部の一実施形態を示す斜視図である。

【図８】インクジェットヘッドのヘッド部の内部構造を
示す図であって、（ａ）は一部破断斜視図を示し、
（ｂ）は（ａ）のＪ−Ｊ線に従った断面構造を示す。

【図９】図５のインクジェット装置に用いられる電気制
御系を示すブロック図である。

【図１０】図９の制御系によって実行される制御の流れ
を示すフローチャートである。

【図１１】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の一
実施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。

【図１２】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の他
の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。

【図１３】インクジェットヘッドのヘッド部の改変例を
示す斜視図である。

【図１４】本発明に係るカラーフィルタの製造方法のさ
らに他の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図であ
る。

【図１５】本発明に係るカラーフィルタの製造方法のさ
らに他の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図であ
る。

【図１６】本発明に係る液晶装置の一実施形態を分解状
態で示す斜視図である。

【図１７】図１６におけるＸ−Ｘ線に従って液晶装置の
断面構造を示す断面図である。

【図１８】図１６に示す液晶装置の製造方法の一実施形
態を示す工程図である。

【図１９】従来のカラーフィルタ基板の一例の一画素部
分の断面構造を示す断面図である。

【符号の説明】

１カラーフィルタ基板２基材３色絵素４平坦化膜６ブラックマスク７色絵素形成領域１１カラーフィルタ形成領域１２マザー基材１６インクジェット装置１７ヘッド位置制御装置１８基板位置制御装置１９主走査駆動装置２０ヘッド部２１副走査駆動装置２２インクジェットヘッド２５キャリッジ２６ヘッドユニット２７ノズル２８ノズル列３９インク加圧体４１圧電素子４９テーブル８１ヘッド用カメラ８２基板用カメラ１０１液晶装置１０２液晶パネル１０７ａ，１０７ｂ基板１１１ａ，１１１ｂ基材１１４ａ，１１４ｂ電極１１８カラーフィルタＬ液晶Ｍ平坦化膜材料Ｘ主走査方向Ｙ副走査方向

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者片上悟長野県諏訪市大和３丁目３番５号セイコーエプソン株式会社内 (72)発明者清水政春長野県諏訪市大和３丁目３番５号セイコーエプソン株式会社内 (72)発明者木口浩史長野県諏訪市大和３丁目３番５号セイコーエプソン株式会社内Ｆターム(参考） 2C056 EC72 FB01 FB08 2H048 BA11 BA45 BA64 BB02 BB24 BB28 BB42 2H091 FA02Y FA41Z FB02 FC01 GA08 GA09 GA16 HA07 HA10 LA12 LA16

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材上に複数の色絵素と平坦化膜とを有
するカラーフィルタ基板において、前記平坦化膜は前記
基材の表面に部分的に設けられることを特徴とするカラ
ーフィルタ基板。
【請求項２】請求項１において、前記平坦化膜は前記
複数の色絵素間に設けられることを特徴とするカラーフ
ィルタ基板。
【請求項３】請求項１において、前記平坦化膜は前記
複数の色絵素間及びそれら色絵素の一部の上に設けられ
ることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項４】請求項１から請求項３の少なくともいず
れか１つにおいて、前記平坦化膜はアクリル樹脂、エポ
キシ樹脂、イミド系樹脂又はフッ素系樹脂の少なくとも
１つを含むことを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項５】基材上に複数の色絵素と平坦化膜とを有
するカラーフィルタ基板の製造方法において、前記基材の表面に前記色絵素を形成する色絵素形成工程
と、前記基材の表面に前記平坦化膜を部分的に形成する平坦
化膜形成工程とを有することを特徴とするカラーフィル
タ基板の製造方法。
【請求項６】請求項５において、前記平坦化膜形成工
程で、前記平坦化膜は前記複数の色絵素間に設けられる
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項７】請求項５又は請求項６において、前記平
坦化膜はアクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド系樹脂又
はフッ素系樹脂の少なくとも１つを含むことを特徴とす
るカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項８】請求項５から請求項７の少なくとも１つ
において、前記平坦化膜形成工程では、前記基材を走査
するインクジェットヘッドからの平坦化膜材料の吐出に
よって平坦化膜が形成されることを特徴とするカラーフ
ィルタ基板の製造方法。
【請求項９】請求項８において、前記平坦化膜形成工
程では、インクジェットヘッドからの平坦化膜材料の吐
出量を基材の吐出部分に対応させて制御することを特徴
とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１０】請求項９において、前記色絵素形成工
程では隣り合う２つの色絵素間の幅が縦方向と横方向と
で異なるように色絵素を形成し、前記平坦化膜形成工程では色絵素間の幅の変化に対応さ
せてインクジェットヘッドからの平坦化膜材料の吐出量
を基材の吐出部分に対応させて制御することを特徴とす
るカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１１】請求項９において、前記色絵素間形成
工程では複数の色絵素をそれらの高さが互いに異なるよ
うに形成し、前記平坦化膜形成工程では色絵素間の高さの変化に対応
させてインクジェットヘッドからの平坦化膜材料の吐出
量を基材の吐出部分に対応させて制御することを特徴と
するカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１２】請求項８から請求項１１の少なくとも
いずれか１つにおいて、前記平坦化膜材料の粘度は４ｃ
ｐｓ〜５０ｃｐｓであることを特徴とするカラーフィル
タ基板の製造方法。
【請求項１３】液晶を挟持する一対の基板と、少なく
とも一方の基板に形成されるカラーフィルタ基板とを有
する液晶装置において、前記カラーフィルタ基板は、基材と、その基材の表面に
形成された複数の色絵素と、前記基材の表面に部分的に
設けられた平坦化膜とを有することを特徴とする液晶装
置。
【請求項１４】請求項１３において、前記平坦化膜は
前記複数の色絵素間に設けられることを特徴とする液晶
装置。
【請求項１５】請求項１３において、前記平坦化膜は
前記複数の色絵素間及びそれら色絵素の一部の上に設け
られることを特徴とする液晶装置。
【請求項１６】請求項１３から請求項１５の少なくと
もいずれか１つにおいて、前記液晶はＳＴＮ（Super Tw
isted Nematic）液晶又はＴＮ（Twisted Nematic）液晶
であることを特徴とする液晶装置。