JP2002170862A - Wafer holding device - Google Patents
Wafer holding deviceInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウェハーの直径にばらつきがあってもウェハ
ー把持装置に対してウェハーの中心は一定の位置になる
ように把持できるウェハー把持装置を提供する。
【解決手段】平板状の基材3と、基材3の根元部側に取
り付けられ、基材の長さ方向に進退自在な移動子4Aを
有する駆動手段4と、移動子4Aに固定された第1の把
持爪5と、基材3の先端部に進退自在に取付けられると
もに、移動子4Aにリンク機構7を介して連結された第
2の把持爪6を備え、移動子4Aを基材3の根元から先
端に進めることにより、第1および第2の把持爪5,6
を連動し、第1および第2の把持爪5,6でウェハーW
の周縁部を押圧してウェハーWを把持する。
(57) [Problem] To provide a wafer holding device capable of holding the center of a wafer at a fixed position with respect to the wafer holding device even if the diameter of the wafer varies. A driving means having a flat base member, a movable member attached to a base portion of the base member, and movable in the longitudinal direction of the base member, and fixed to the movable member. A first gripping claw 5 and a second gripping claw 6 attached to the distal end portion of the base member 3 so as to be able to advance and retreat, and connected to the moving member 4A via a link mechanism 7 are provided. 3 from the base to the tip, the first and second gripping claws 5, 6
And the first and second gripping claws 5 and 6 move the wafer W
Is pressed to grip the wafer W.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置
内、あるいは半導体製造装置間でウェハーの搬送を行う
ロボットのアーム先端部に取り付けられるウェハー把持
装置に関し、特に、ウェハーの周縁部を把持してウェハ
ーを支持するウェハー把持装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer holding device which is attached to a tip of an arm of a robot for transferring a wafer in a semiconductor manufacturing apparatus or between semiconductor manufacturing apparatuses. The present invention relates to a wafer holding device for supporting a wafer.
【0002】[0002]
【従来の技術】ウェハー搬送ロボットのアームの先端部
に取り付けられて、ウェハーの把持を行う装置として、
ウェハーの周縁部を把持してウェハーを支持するように
したものが従来から知られている。このようなウェハー
把持装置の第1の従来例を図4に示す。図において、1
はロボットアームであり、2’はロボットアーム1に取
り付けられたウェハー把持装置である。ウェハー把持装
置2’は、薄板状の基材3と、基材3に取り付けられ、
進退可能な移動子4Aを有する駆動手段4と、前記駆動
手段4の移動子4Aに固定されて、基材3の先端部側へ
ウェハー周縁部を押圧する可動爪21と、前記基材の先
端部に固定された固定爪22、22' と、基材3のウェ
ハーWの裏面と対向する面に設けた、ウェハーWの裏面
を支持する複数の支持座16とから構成されている。こ
のウェハー把持装置2’は、まず、可動爪21と固定爪
22、22' の間隔をウェハーWを挿入できる広さに広
げた状態で、可動爪21と固定爪22、22' の間にウ
ェハーWを挿入し、支持座16上に載置し、次に、前記
駆動手段4の移動子4Aを駆動して、可動爪21をウェ
ハーWの周縁部に当接してウェハーWを押し出し、さら
に、固定爪22、22' でウェハーWの周縁部を受け
て、可動爪21と固定爪22、22' の間でウェハーW
を把持するものである。次に、第2の従来例として、特
開平4−343448に記載されたウェハー把持装置を
示す。この装置は、長手方向に移動できる第1の可動指
と、第1可動指の先端部に回転自在に取り付けられ、ウ
ェハー端面に当接してウェハーを支持する支持爪と、第
1可動指と並列に設けられる第2可動指と、第2可動指
の先端部に回転自在に取り付けられ、ウェハー端面に当
接してウェハーを支持する支持爪と、第1可動指の支持
爪でウェハー端面を押して第2可動指の支持爪にウェハ
ー端面を当接し、第1および第2の可動指の前記支持爪
でウェハーを挟持する第1可動指駆動機構とを具備した
ものである。この装置によるウェハーの支持は、まず、
第1および第2可動指の支持爪の間隔を、ウェハーを挿
入できる広さに広げた状態で、第1および第2可動指の
支持爪の間にウェハーを介挿し、次に、第1可動指駆動
機構を駆動して、ウェハーに第1可動指の支持爪を接触
させて引き寄せ、さらに、第2可動指の支持爪に接触さ
せてウェハーを支持爪間で挟むようにしたものである。2. Description of the Related Art As a device for holding a wafer, which is attached to the tip of an arm of a wafer transfer robot,
2. Description of the Related Art There has been conventionally known a structure in which a peripheral portion of a wafer is gripped to support the wafer. FIG. 4 shows a first conventional example of such a wafer holding device. In the figure, 1
Is a robot arm, and 2 'is a wafer holding device attached to the robot arm 1. The wafer holding device 2 ′ is attached to a thin plate-shaped base material 3 and the base material 3,
A driving means 4 having a movable element 4A which can move forward and backward, a movable claw 21 fixed to the moving element 4A of the driving means 4 and pressing a peripheral portion of the wafer toward a front end portion of the base material 3; The base 3 includes fixed claws 22 and 22 ′ fixed to the portion, and a plurality of support seats 16 provided on a surface of the base material 3 facing the back surface of the wafer W and supporting the back surface of the wafer W. First, the wafer gripping device 2 ′ is configured such that the distance between the movable claw 21 and the fixed claws 22, 22 ′ is widened so that the wafer W can be inserted, and the wafer is held between the movable claw 21 and the fixed claws 22, 22 ′. W is inserted and placed on the support seat 16, and then, the movable member 4A of the driving means 4 is driven to push the movable claw 21 against the peripheral portion of the wafer W to push out the wafer W. The fixed nails 22 and 22 'receive the peripheral edge of the wafer W, and the movable nail 21 and the fixed nails 22 and 22'
Is to be gripped. Next, as a second conventional example, a wafer holding device described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-343448 will be described. The apparatus includes a first movable finger that can move in a longitudinal direction, a supporting claw that is rotatably attached to a tip end of the first movable finger, abuts on an end surface of the wafer and supports the wafer, and a parallel with the first movable finger. A second movable finger, a supporting claw rotatably attached to a tip end of the second movable finger, abutting against the wafer end surface to support the wafer, and a supporting claw of the first movable finger pressing the wafer end surface to form the second movable finger. (2) A first movable finger drive mechanism for abutting the wafer end surface on the support claw of the movable finger and holding the wafer between the support claws of the first and second movable fingers. The support of the wafer by this device firstly
With the spacing between the support claws of the first and second movable fingers widened to allow insertion of the wafer, the wafer is inserted between the support claws of the first and second movable fingers, and then the first movable finger is moved. By driving the finger driving mechanism, the supporting claws of the first movable finger are brought into contact with the wafer and drawn, and furthermore, are brought into contact with the supporting claws of the second movable finger so that the wafer is sandwiched between the supporting claws.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な従来のウェハー把持装置においては、次のような問題
があった。まず、第1の従来例の場合では、可動爪21
と固定爪22,22' の間隔を狭めて、ウェハーWを把
持するとき、可動爪21のみを駆動してウェハーWを固
定爪22,22' 側に押し出して把持するので、ウェハ
ーWの直径にばらつきがあると、把持したウェハーWに
よって、ウェハー支持装置の基準位置に対してウェハー
Wの中心位置がばらつく。このため、搬送先へウェハー
Wを載置したとき、ウェハーWによって載置位置に位置
ずれを生じるという問題があった。また、可動爪21と
固定爪22,22' の間隔を広げて把持状態を解除する
ときには、可動爪21のみしか移動しないので、固定爪
22,22' はウェハーWの周縁部に接触したままであ
る。このため、この状態で、搬送先にウェハーWを載置
すると、ウェハーWと固定爪22,22' が摩擦するの
で、パーティクルが発生し、ウェハーWを汚染するとい
う問題があった。第2の従来例のウェハー把持装置にお
いても、第2可動指は可動とはいうものの、第1可動指
によってウェハーが引き寄せられ、ウェハーと第2可動
指の支持爪が接触した時に受動的に可動するものなの
で、把持状態を解除した時に第2可動指の支持爪はウェ
ハーの周縁部に接触したままになるので、第1の従来例
と同様に、ウェハーと支持爪の摩擦によるパーティクル
の発生という問題があった。そこで、本発明はウェハー
の直径にばらつきがあってもウェハー把持装置に対して
ウェハーの中心は一定の位置になるように把持できるウ
ェハー把持装置を提供することを目的とする。However, the conventional wafer holding apparatus as described above has the following problems. First, in the case of the first conventional example, the movable claw 21
When the wafer W is gripped by narrowing the distance between the and the fixed claws 22 and 22 ′, only the movable claw 21 is driven to push the wafer W toward the fixed claws 22 and 22 ′ and grip the wafer W. If there is variation, the center position of the wafer W varies with respect to the reference position of the wafer support device due to the gripped wafer W. For this reason, when the wafer W is mounted on the transfer destination, there is a problem that the mounting position is shifted due to the wafer W. When the gripping state is released by widening the gap between the movable claw 21 and the fixed claws 22, 22 ', only the movable claw 21 moves, so that the fixed claws 22, 22' are kept in contact with the peripheral edge of the wafer W. is there. Therefore, if the wafer W is placed on the transfer destination in this state, the wafer W and the fixed claws 22, 22 'are rubbed with each other, so that particles are generated and the wafer W is contaminated. In the second conventional wafer holding device, the second movable finger is movable, but the wafer is drawn by the first movable finger, and is passively movable when the wafer and the supporting claw of the second movable finger come into contact with each other. Since the supporting claws of the second movable finger remain in contact with the peripheral edge of the wafer when the gripping state is released, particles are generated due to friction between the wafer and the supporting claws as in the first conventional example. There was a problem. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a wafer holding device that can hold a wafer at a fixed position with respect to the wafer holding device even if the diameter of the wafer varies.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項1に記載の発明はウェハー搬送ロボットの
先端部に取り付けられて、ウェハーの把持を行うウェハ
ー把持装置において、平板状の基材と、前記基材の根元
部側に取り付けられ、前記基材の長さ方向に進退自在な
移動子を有する駆動手段と、前記移動子に固定された第
1の把持爪と、前記基材の先端部に進退自在に取付けら
れるとともに、前記移動子にリンク機構を介して連結さ
れた第2の把持爪を備え、前記移動子を前記基材の根元
から先端に進めることにより、前記第1および第2の把
持爪を連動し、前記第1および第2の把持爪でウェハー
の周縁部を押圧して前記ウェハーを把持するようにした
ものである。また、請求項2に記載の発明は、請求項1
に記載のウェハー把持装置において、前記リンク機構
を、前記移動子に固定されるとともに、先端に長穴を開
けた連結バーと、前記基材に設けた支点ピンを中心に回
動可能で、両端に第1および第2の節点ピンを有するリ
ンクと、一端に長穴を開け、他端を前記第2の把持爪に
固定したロッドからなり、前記リンクの第1の節点ピン
は前記連結バーの先端の前記長穴に差し込まれ、前記リ
ンクの第2の節点ピンは前記ロッドの前記長穴に差し込
んだものとしたものである。また、請求項3に記載の発
明は、請求項1または2に記載のウェハー把持装置にお
いて、前記基材のウェハーの裏面と対向する面に、ウェ
ハーの裏面を支持する複数の支持座を備えた構成とした
ものである。また、請求項4に記載の発明は、請求項1
から3のいずれかに記載のウェハー把持装置において、
前記第1および第2の把持爪のウェハーと当接する面
に、V字形断面あるいは矩形断面を有する溝が形成され
た構成としたものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided a wafer holding apparatus which is attached to a tip of a wafer transfer robot and holds a wafer. A driving unit having a base member, a movable member attached to a base portion side of the base member and capable of moving back and forth in a longitudinal direction of the base member, a first gripping claw fixed to the movable member, A second gripper is attached to the tip of the material so as to be able to advance and retreat, and the movable element is connected to the movable element via a link mechanism. By moving the movable element from the base of the base material to the distal end, The first and second gripping claws are interlocked, and the first and second gripping claws press the peripheral edge of the wafer to grip the wafer. Further, the invention according to claim 2 is the same as the invention according to claim 1.
In the wafer holding device according to the above, while the link mechanism is fixed to the mover, a connection bar having a long hole at the end, and a fulcrum pin provided on the base material can be rotated about a fulcrum pin, both ends A link having first and second node pins, and a rod having an elongated hole at one end and the other end fixed to the second gripping claw, wherein the first node pin of the link is The second node pin of the link is inserted into the elongated hole of the rod, and the second node pin of the link is inserted into the elongated hole of the rod. According to a third aspect of the present invention, in the wafer holding device according to the first or second aspect, a plurality of support seats for supporting the back surface of the wafer are provided on a surface of the base material facing the back surface of the wafer. It is configured. Further, the invention described in claim 4 is the same as the claim 1.
4. The wafer holding device according to any one of items 1 to 3,
A groove having a V-shaped cross section or a rectangular cross section is formed on a surface of the first and second gripping claws which abuts on the wafer.
【0005】[0005]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図に従っ
て説明する。図1は、本発明の実施例を示す平面図であ
る。図において、1は、ウェハー搬送ロボットのロボッ
トアームであり、2はロボットアーム1の先端に取り付
けられたウェハー把持装置である。ウェハー把持装置2
は先端が二股に分かれた薄平板からなる基材3を有す
る。4は基材3の根元部側に取り付けられた駆動手段4
であり、駆動手段4は基材3の根元部から先端部に向け
て自在に進退する移動子4Aを備えている。駆動手段4
は、たとえば空気圧式のエアシリンダ、電磁式のリニア
モータ、あるいは超音波リニアモータなどを用いること
ができる。移動子4Aには、基材3の先端部側へウェハ
ーWの周縁部を押圧する第1の把持爪5が固定されてお
り、基材3の先端部側には、基材3の根元部側へウェハ
ーWの周縁部を押圧する第2の把持爪6,6' が取り付
けられている。7,7' は移動子4Aに一端を連結し、
他端を第2の把持爪6、6' に連結したリンク機構であ
る。リンク機構7,7' は、それぞれ、移動子4Aに固
定された連結バー8と、第2の把持爪6,6' に連結し
たロッド9,9’と、基材3に設けた支点ピン10,1
0’を中心に回動可能で、両端に第1および第2の節点
ピン11,11’,12,12’を有するリンク13,
13’とからなり、前記リンク13,13’の一端を前
記第1の節点ピン11,11’を前記連結バー8,8’
の先端に開けた長穴に差し込んで連結し、前記リンク1
3,13’の他端を前記第2の節点ピン12,12’を
ロッド9,9’の一端に開けた長穴に差し込んで連結し
ている。なお、第2の把持爪6,6' は、ロッド9,
9’をガイド14,14,15,15’で支持すること
により、ロッド9,9’の長手方向にのみ進退可能とな
っている。16は、基材3のウェハーWの裏面と対向す
る面に設けた、ウェハーWの裏面を支持する複数の支持
座である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 1 denotes a robot arm of a wafer transfer robot, and reference numeral 2 denotes a wafer holding device attached to a tip of the robot arm 1. Wafer holding device 2
Has a base material 3 made of a thin flat plate having a bifurcated tip. 4 is a driving means 4 attached to the base side of the substrate 3
The driving means 4 includes a movable member 4A which freely moves from the root of the base material 3 toward the front end thereof. Drive means 4
For example, a pneumatic air cylinder, an electromagnetic linear motor, an ultrasonic linear motor, or the like can be used. A first gripper 5 for pressing the peripheral portion of the wafer W toward the distal end of the base material 3 is fixed to the movable element 4A. Second gripping claws 6, 6 'for pressing the peripheral portion of the wafer W to the side are attached. 7, 7 'connects one end to the mover 4A,
This is a link mechanism having the other end connected to the second gripping claws 6, 6 '. The link mechanisms 7, 7 'respectively include a connecting bar 8 fixed to the mover 4A, rods 9, 9' connected to the second gripping claws 6, 6 ', and a fulcrum pin 10 provided on the base material 3. , 1
A link 13, which is rotatable about 0 'and has first and second nodal pins 11, 11', 12, 12 'at both ends;
13 '. One end of each of the links 13, 13' is connected to the first node pin 11, 11 'by the connecting bar 8, 8'.
Into the elongated hole at the end of the
The other ends of the third and third nodes 13 and 13 'are connected by inserting the second node pins 12 and 12' into elongated holes formed in one ends of the rods 9 and 9 '. In addition, the second gripping claws 6, 6 'are
By supporting 9 'with guides 14, 14, 15, 15', it is possible to advance and retreat only in the longitudinal direction of rods 9, 9 '. Reference numeral 16 denotes a plurality of support seats provided on a surface of the base material 3 facing the back surface of the wafer W and supporting the back surface of the wafer W.
【0006】次に、上記のように構成されたウェハー把
持装置2の動作について説明する。まず、移動子4Aの
位置を調整して、第1および第2の把持爪5,6,6'
の間にウェハーWを挿入できるように広げておく。この
状態で、ウェハーWを第1および第2の把持爪5,6,
6' の間に挿入し、支持座16上に載置して、駆動手段
4の移動子4Aを基材3の先端部側、すなわち、図1の
17Aの方向に移動させる。このとき、第1の把持爪5
は、移動子4に直接固定されているので、移動子4とと
もに17Aの方向に移動する。同時に、第2の把持爪
6,6' は、リンク機構7,7' を介して移動子4Aに
連結されているので、移動子4が17Aの方向に移動す
ると、図1の18Aの方向に移動する。よって、移動子
4Aが17Aの方向に移動するにしたがって、把持爪
5,6,6' の間隔は狭まっていき、やがて、それぞれ
の把持爪がウェハーWの周縁部と当接し、ウェハーWが
把持される。把持したウェハーの解除は、上記把持動作
の逆であり、駆動手段4の移動子4Aを基材3の根元部
側、すなわち、図1の17Bの方向に移動させると、把
持爪5,6,6' の間隔が広がり、ウェハーWの把持が
解除される。このように移動子4Aを17Aの方向に移
動させることにより、第1および第2の把持爪5,6,
6' が連動し、全ての把持爪が可動してウェハーWを把
持するので、ウェハーWが一方の把持爪側に片寄ったの
ち、把持されるということがない。したがって、ウェハ
ーWの直径にばらつきがあっても、ウェハー把持装置2
のある基準位置に対してウェハーWの中心位置は一定と
なり、搬送先へウェハーWを精度良く載置することがで
きる。さらに、ウェハーWを把持するとき、基材3に設
けた支持座16上に一旦ウェハーWを置いたのち、駆動
手段4の移動子4Aを駆動して、ウェハーWを把持する
ので、第1および第2の把持爪5,6,6' に対して、
ウェハーWの位置が常に一定に保たれ、ウェハーWを確
実に把持することができ、搬送の信頼性が向上する。ま
た、ウェハーWの把持状態を解除する際は、駆動手段4
の移動子4Aを17Bの方向に移動させることにより、
第1および第2の把持爪5,6,6' が連動し、全ての
把持爪がウェハーWから回避する。したがって、搬送先
にウェハーWを載置するとき、ウェハーWと把持爪5,
6,6' が摩擦しないので、パーティクルが発生するこ
とがなく、ウェハーWを汚染するということがない。Next, the operation of the wafer holding device 2 configured as described above will be described. First, the position of the moving element 4A is adjusted to make the first and second gripping claws 5, 6, 6 '.
The wafer W is expanded so that the wafer W can be inserted therebetween. In this state, the wafer W is held by the first and second gripping claws 5, 6,
6 ', and is placed on the support seat 16 to move the moving element 4A of the driving means 4 in the direction of the distal end of the substrate 3, that is, in the direction of 17A in FIG. At this time, the first gripper 5
Is directly fixed to the moving element 4 and moves together with the moving element 4 in the direction of 17A. At the same time, since the second gripping claws 6, 6 'are connected to the moving element 4A via the link mechanisms 7, 7', when the moving element 4 moves in the direction of 17A, it moves in the direction of 18A in FIG. Moving. Therefore, as the moving element 4A moves in the direction of 17A, the distance between the gripping claws 5, 6, and 6 'narrows, and the respective gripping claws come into contact with the peripheral portion of the wafer W, and the wafer W is gripped. Is done. The release of the gripped wafer is the reverse of the gripping operation described above. When the moving element 4A of the driving means 4 is moved toward the base of the base material 3, that is, in the direction of 17B in FIG. 6 'is widened, and the grip of the wafer W is released. By moving the moving element 4A in the direction of 17A in this manner, the first and second gripping claws 5, 6, 6 are formed.
6 'interlocks and all the gripping claws move to grip the wafer W, so that the wafer W is not gripped after leaning toward one gripping nail side. Therefore, even if the diameter of the wafer W varies, the wafer gripping device 2
The center position of the wafer W is constant with respect to a certain reference position, and the wafer W can be accurately placed on the transfer destination. Further, when the wafer W is gripped, the wafer W is once placed on the support seat 16 provided on the base material 3, and then the moving member 4A of the driving means 4 is driven to grip the wafer W. For the second gripping claws 5, 6, 6 ',
The position of the wafer W is always kept constant, the wafer W can be securely held, and the transfer reliability is improved. When the gripping state of the wafer W is released, the driving means 4
By moving the mover 4A in the direction of 17B,
The first and second gripping claws 5, 6, 6 ′ are interlocked, and all the gripping claws avoid the wafer W. Therefore, when the wafer W is placed on the transfer destination, the wafer W and the holding claws 5,
Since 6,6 'does not rub, no particles are generated and the wafer W is not contaminated.
【0007】図2はウェハー把持装置2を図1のX−X
線で切断した断面図であり、図3は、同じくY−Y線で
切断した断面図である。図2および第3図に示すよう
に、第1の把持爪5および第2把持爪6,6' のウェハ
ーWと当接する面5A,6A,6A' には、V字形断面
を有する溝を形成している。この溝はウェハーの厚さに
多少の余裕を加えた幅を持つ矩形断面を持つ溝であって
もよい。ウェハー把持装置2でウェハーWを把持するす
るとき、ウェハーWの周縁部と第1および第2の把持爪
の5,6,6' 面に形成した前記溝が係合するので、ウ
ェハーWは水平方向のみならず、垂直方向にも拘束され
る。したがって、ウェハーWの垂直方向の位置が常に一
定に保たれるとともに、ウェハーWの落下の危険性がな
くなり、搬送の信頼性が向上する。また、ウェハーWの
落下の危険性がないので、ウェハーWを垂直状態で搬送
したり、ウェハーWを反転して載置することが容易であ
る。一方、ウェハーWの把持状態を解除してウェハーW
を載置するときは、全ての把持爪がウェハーWから遠ざ
かるので、ウェハーWと把持爪5,6,6' の前記溝と
の係合もなくなる。したがってウェハーWの擦れによっ
てパーティクルが発生するという問題も起きない。FIG. 2 shows a wafer gripping device 2 taken along line XX of FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line YY similarly. As shown in FIG. 2 and FIG. 3, grooves having a V-shaped cross section are formed on the surfaces 5A, 6A, 6A 'of the first gripping claws 5 and the second gripping claws 6, 6' which are in contact with the wafer W. are doing. This groove may be a groove having a rectangular cross section having a width obtained by adding some allowance to the thickness of the wafer. When the wafer W is gripped by the wafer gripping device 2, the grooves formed on the 5, 6, and 6 'surfaces of the first and second gripping claws engage with each other, so that the wafer W is horizontal. It is restricted not only in the direction but also in the vertical direction. Therefore, the position of the wafer W in the vertical direction is always kept constant, and there is no danger of the wafer W dropping, and the reliability of the transfer is improved. In addition, since there is no danger of the wafer W dropping, it is easy to transport the wafer W in a vertical state or to turn the wafer W upside down. On the other hand, the gripping state of the wafer W is released and the wafer W is released.
Is placed, all the gripping claws move away from the wafer W, so that there is no engagement between the wafer W and the grooves of the gripping claws 5, 6, 6 '. Therefore, there is no problem that particles are generated due to the rubbing of the wafer W.
【0008】[0008]
【発明の効果】以上述べたように、本発明には次のよう
な効果がある。請求項1または2に記載の発明によれ
ば、移動子を前進させることにより、第1および第2の
把持爪が連動してウェハーを把持するので、ウェハーが
一方の把持爪側に引き寄せられて把持されるということ
がない。したがって、ウェハーの直径にばらつきがあっ
ても、ウェハー把持装置の基準位置に対してウェハーの
中心位置は一定となり、搬送先へウェハーを精度良く載
置することができる。また、ウェハーの把持状態を解除
する際は、駆動手段の移動子を後退させることにより、
第1および第2の把持爪が連動して回避する。したがっ
て、搬送先にウェハーを載置するとき、ウェハーと把持
爪の擦れがないので、パーティクルが発生することがな
く、パーティクルによるウェハーの汚染がない。請求項
3に記載の発明によれば、請求項1または2に記載の発
明の効果に加えて、ウェハーを把持するとき、基材に設
けた支持座上に一旦ウェハーを置いたのち、ウェハーを
把持することができるので、第1および第2の把持爪に
対して、ウェハーの垂直方向の位置が常に一定に保た
れ、ウェハーを確実に把持することができ、搬送の信頼
性が向上する。請求項4に記載の発明によれば、請求項
1から3のいずれかに記載の発明の効果に加えて、ウェ
ハーの周縁部を第1および第2の把持爪により把持する
とき、ウェハーの周縁部と、第1および第2の把持爪に
形成したV字形断面あるいは矩形断面を有する溝が係合
し、ウェハーは水平方向のみならず、垂直方向にも拘束
される。したがって、ウェハーの垂直方向の位置が常に
一定に保たれるとともに、ウェハーの落下の危険性がな
くなり、搬送の信頼性が向上する。またウェハーを垂直
状態で搬送したり、ウェハーを反転して載置することも
容易になる。As described above, the present invention has the following effects. According to the first or second aspect of the present invention, by moving the moving element forward, the first and second gripping claws interlock and grip the wafer, so that the wafer is drawn to one gripping nail side. There is no gripping. Therefore, even if the diameter of the wafer varies, the center position of the wafer is constant with respect to the reference position of the wafer holding device, and the wafer can be accurately placed on the transfer destination. Also, when releasing the gripping state of the wafer, by retracting the moving element of the driving means,
The first and second gripping claws interlock and avoid. Therefore, when the wafer is placed on the transfer destination, there is no friction between the wafer and the gripping claws, so that no particles are generated and no contamination of the wafer by the particles occurs. According to the invention described in claim 3, in addition to the effects of the invention described in claim 1 or 2, when the wafer is gripped, the wafer is once placed on the support seat provided on the base material, and then the wafer is removed. Since the wafer can be gripped, the position of the wafer in the vertical direction is always kept constant with respect to the first and second gripping claws, the wafer can be gripped reliably, and the transport reliability is improved. According to the invention described in claim 4, in addition to the effects of the invention described in any one of claims 1 to 3, when the peripheral portion of the wafer is gripped by the first and second gripping claws, the peripheral edge of the wafer is gripped. The portion engages with a groove having a V-shaped cross section or a rectangular cross section formed on the first and second gripping claws, and the wafer is restrained not only in the horizontal direction but also in the vertical direction. Therefore, the position of the wafer in the vertical direction is always kept constant, the danger of the wafer dropping is eliminated, and the reliability of the transfer is improved. In addition, it becomes easy to transfer the wafer in a vertical state, or to place the wafer upside down.
【図1】本発明の実施例を示すウェハー把持装置の平面
図である。FIG. 1 is a plan view of a wafer holding device according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施例を示すウェハー把持装置を図1
におけるX−X線で切った断面図である。FIG. 2 shows a wafer holding device according to an embodiment of the present invention in FIG.
FIG. 3 is a sectional view taken along line XX in FIG.
【図3】本発明の実施例を示すウェハー把持装置を図1
におけるY−Y線で切った断面図である。FIG. 3 shows a wafer holding device according to an embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a sectional view taken along line YY in FIG.
【図4】第1の従来例を示すウェハー把持装置の平面図
である。FIG. 4 is a plan view of a wafer holding device showing a first conventional example.
1:ロボットアーム 2,2’:ウェハー把持装置 3:基材 4:駆動手段 4A:移動子 5:第1の把持爪 6,6' :第2の把持爪 7,7' :リンク機構 8:連結バー 9:ロッド 10:支点ピン 11:第1の節点ピン 12:第2の節点ピン 13:リンク 14,15:ガイド 16:支持座 17A,17B:移動子、または、第1の把持爪の移動
の向き 18A,18B:第2の把持爪の移動の向き 21:可動爪 22,22' :固定爪 W:ウェハー1: Robot arm 2, 2 ': Wafer holding device 3: Base material 4: Driving means 4A: Moving element 5: First holding claw 6, 6': Second holding claw 7, 7 ': Link mechanism 8: Connection bar 9: rod 10: fulcrum pin 11: first node pin 12: second node pin 13: link 14, 15: guide 16: support seat 17A, 17B: mover or first gripping claw Movement direction 18A, 18B: Movement direction of second gripping claw 21: Movable claw 22, 22 ': Fixed claw W: Wafer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3C007 DS01 ES04 ET08 EU07 EV07 EW03 HS12 HS24 NS09 NS11 NS17 3F061 AA01 BA04 BB08 BC09 BD01 BD05 BE12 BF04 DB00 DB04 DB06 5F031 CA02 FA01 FA07 GA06 GA10 GA13 GA14 GA15 GA38 KA11 LA08 LA15 PA16 PA26 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 3C007 DS01 ES04 ET08 EU07 EV07 EW03 HS12 HS24 NS09 NS11 NS17 3F061 AA01 BA04 BB08 BC09 BD01 BD05 BE12 BF04 DB00 DB04 DB06 5F031 CA02 FA01 FA07 GA06 GA10 GA13 GA14 GA15 GA15 PA26
Claims (4)
られて、ウェハーの把持を行うウェハー把持装置におい
て、 平板状の基材と、前記基材の根元部側に取り付けられ、
前記基材の長さ方向に進退自在な移動子を有する駆動手
段と、前記移動子に固定された第1の把持爪と、前記基
材の先端部に進退自在に取付けられるとともに、前記移
動子にリンク機構を介して連結された第2の把持爪を備
え、前記移動子を前記基材の根元から先端に進めること
により、前記第1および第2の把持爪を連動し、前記第
1および第2の把持爪でウェハーの周縁部を押圧して前
記ウェハーを把持することを特徴とするウェハー把持装
置。1. A wafer holding device attached to a tip portion of a wafer transfer robot to hold a wafer, wherein the wafer holding device is attached to a flat base material and a base portion side of the base material,
A driving unit having a movable member that is movable back and forth in the length direction of the base material, a first gripping claw fixed to the movable member, and a movable member that is attached to a front end portion of the base material so as to be movable forward and backward. A second gripping claw connected to the first and second gripping claws by moving the moving element from the base of the base material to the tip of the base member, thereby interlocking the first and second gripping claws. A wafer gripping device characterized in that the wafer is gripped by pressing a peripheral portion of the wafer with a second gripping claw.
るとともに、先端に長穴を開けた連結バーと、前記基材
に設けた支点ピンを中心に回動可能で、両端に第1およ
び第2の節点ピンを有するリンクと、一端に長穴を開
け、他端を前記第2の把持爪に固定したロッドからな
り、前記リンクの第1の節点ピンは前記連結バーの先端
の前記長穴に差し込まれ、前記リンクの第2の節点ピン
は前記ロッドの前記長穴に差し込まれていることを特徴
とする請求項1に記載のウェハー把持装置。2. The link mechanism is fixed to the mover, is rotatable around a connecting bar having a long hole at a tip thereof, and a fulcrum pin provided on the base material, and has first and second ends at both ends. And a link having a second node pin, and a rod having an elongated hole at one end and the other end fixed to the second gripping claw, wherein the first node pin of the link is provided at the tip of the connection bar. The wafer holding device according to claim 1, wherein the second node pin of the link is inserted into the elongated hole, and the second node pin of the link is inserted into the elongated hole of the rod.
に、ウェハーの裏面を支持する複数の支持座を備えたこ
とを特徴とする請求項1、または、2のいずれかに記載
のウェハー把持装置。3. The wafer according to claim 1, wherein a plurality of support seats for supporting the back surface of the wafer are provided on a surface of the base material facing the back surface of the wafer. Gripping device.
と当接する面に、それぞれ、V字形断面あるいは矩形断
面を有する溝が形成されていることを特徴とする請求項
1から3のいずれかに記載のウェハー把持装置。4. The method according to claim 1, wherein the first and second gripping claws are formed with grooves having a V-shaped cross section or a rectangular cross section on a surface that contacts the wafer, respectively. The wafer holding device according to any one of the above.
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|---|---|
| JP2002170862A true JP2002170862A (en) | 2002-06-14 |
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