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JP2002158327A - Manufacturing method of electronic circuit device - Google Patents

Manufacturing method of electronic circuit device

Info

Publication number
JP2002158327A
JP2002158327A JP2000350106A JP2000350106A JP2002158327A JP 2002158327 A JP2002158327 A JP 2002158327A JP 2000350106 A JP2000350106 A JP 2000350106A JP 2000350106 A JP2000350106 A JP 2000350106A JP 2002158327 A JP2002158327 A JP 2002158327A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
conductive film
anisotropic conductive
heating
mounting substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000350106A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Yanagisawa
喜行 柳澤
Hitoshi Shibue
人志 渋江
Shigeki Kamei
重喜 亀井
Hirotaka Kobayashi
寛隆 小林
Kyoko Kiritani
恭子 桐谷
Hisaki Koyama
寿樹 小山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2000350106A priority Critical patent/JP2002158327A/en
Publication of JP2002158327A publication Critical patent/JP2002158327A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • H10W70/093
    • H10W72/073
    • H10W74/15
    • H10W90/724
    • H10W90/734

Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】異方性導電フィルムを用いて半導体装置を実装
基板上に実装するときに、半導体装置と実装基板の間か
らはみ出した異方性導電フィルム部分が半導体装置の上
面を越えないように実装できる電子回路装置の製造方法
を提供する。 【解決手段】実装基板10を基台P上に保持し、一方の
面上において電極11上に異方性導電フィルム30を設
け、バンプ21と電極11とを位置合わせして、異方性
導電フィルム30上に半導体装置20を戴置し、半導体
装置20の上面から加圧および加熱して、異方性導電フ
ィルム30を介してバンプ21と電極11とを電気的に
接続させて仮圧着させる。次に、少なくともはみ出した
異方性導電フィルム部分30aの面積分広い加熱面を有
する加熱手段H2により、はみ出した異方性導電フィル
ム部分30aを上方から抑えながら加熱して異方性導電
フィルム30を固化させて半導体装置20を固着する。
(57) Abstract: When mounting a semiconductor device on a mounting board using an anisotropic conductive film, an anisotropic conductive film portion protruding from between the semiconductor device and the mounting board has an upper surface. The present invention provides a method for manufacturing an electronic circuit device that can be mounted so as not to exceed the limit. A mounting substrate is held on a base, an anisotropic conductive film is provided on an electrode on one surface, and a bump and an electrode are aligned to form an anisotropic conductive film. The semiconductor device 20 is placed on the film 30, and the bump 21 and the electrode 11 are electrically connected to each other through the anisotropic conductive film 30 by applying pressure and heating from the upper surface of the semiconductor device 20, and are temporarily compressed. . Next, the anisotropic conductive film 30 is heated by suppressing the protruding anisotropic conductive film portion 30a from above by the heating means H2 having a heating surface wider by at least the area of the protruding anisotropic conductive film portion 30a. The semiconductor device 20 is fixed by solidification.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電子回路装置の製造
方法に関し、特に、フレキシブル基板(可撓性基板)の
両面にベアチップ状態の半導体装置を実装する電子回路
装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing an electronic circuit device, and more particularly to a method of manufacturing an electronic circuit device in which a semiconductor device in a bare chip state is mounted on both sides of a flexible substrate (flexible substrate).

【0002】[0002]

【従来の技術】デジタルビデオカメラ、デジタル携帯電
話、あるいはノートパソコンなど、携帯用電子機器の小
型化、薄型化、軽量化に対する要求は強くなる一方であ
り、これに応えるために近年のVLSIなどの半導体装
置においては3年で7割の縮小化を実現してきた一方
で、実装基板上の部品実装密度をいかに向上させるかが
重要な課題として研究および開発がなされてきた。
2. Description of the Related Art The demand for smaller, thinner, and lighter portable electronic devices, such as digital video cameras, digital mobile phones, and notebook computers, is increasing. While semiconductor devices have been reduced by 70% in three years, research and development have been made as an important issue how to increase the component mounting density on a mounting board.

【0003】従来、半導体装置のパッケージ形態として
は、DIP(Dual Inline Package)あるいはPGA(P
in Grid Array)などのプリント基板に設けたスルーホ
ールにリード線を挿入して実装するリード挿入型(TH
D:Through Hall Mount Device )や、QFP(Quad F
lat Package )あるいはTCP(Tape Carrier Packag
e)などのリード端子を基板の表面にハンダ付けして実
装する表面実装型(SMD:Surface Mount Device)が
用いられてきた。さらに、装置の小型化、高密度化のた
めに、パッケージサイズを半導体チップの大きさに限り
なく近づけたチップサイズパッケージ(CSP:Chip S
ize Package 、FBGA(Fine-Pitch BGA)とも呼ばれ
る)と呼ばれるパッケージ形態へと移行してきた。
Conventionally, as a package form of a semiconductor device, a DIP (Dual Inline Package) or PGA (P
Lead insertion type (TH) that inserts lead wires into through holes provided in a printed circuit board such as an in Grid Array
D: Through Hall Mount Device), QFP (Quad F
lat Package) or TCP (Tape Carrier Packag)
e) A surface mount device (SMD) in which lead terminals are soldered and mounted on the surface of a substrate has been used. Furthermore, to reduce the size and density of the device, a chip size package (CSP: Chip S
ize Package, also called FBGA (Fine-Pitch BGA)).

【0004】さらなる装置の小型化、高密度化を実現す
るために、裸の半導体チップ(ベアチップ)を実装基板
に実装する方法が開発された。ベアチップ実装技術に
は、半導体チップを電極形成面を上面にして実装基板上
にダイボンドし、その後ワイヤボンディングにより半導
体チップ電極と実装基板電極を電気的に接続するCOB
(Chip On Board )形態と、チップ電極に予めバンプ
(突起電極)を形成しておき、バンプ形成面を実装基板
に向けるフェースダウン方式で、バンプにより半導体チ
ップ電極と実装基板電極を電気的かつ機械的に接続する
フリップチップ形態とがある。
In order to further reduce the size and density of the device, a method of mounting a bare semiconductor chip (bare chip) on a mounting substrate has been developed. Bare chip mounting technology includes a COB in which a semiconductor chip is die-bonded on a mounting substrate with the electrode forming surface facing up, and then the semiconductor chip electrode and the mounting substrate electrode are electrically connected by wire bonding.
(Chip On Board) mode and a face-down method in which bumps (protrusion electrodes) are formed on chip electrodes in advance and the bump formation surface faces the mounting board. The bumps electrically and mechanically connect the semiconductor chip electrodes and mounting board electrodes. There is a flip-chip type that is electrically connected.

【0005】上記のフリップチップ形態において、半導
体チップにバンプを形成する方法は、大きく分けて金な
どのスタッドバンプ方式とはんだバンプ方式がある。ス
タッドバンプは、金ワイヤなどを用いたワイヤボンディ
ングにより半導体チップ上に形成され、一方はんだバン
プはメッキ方式、蒸着方式、ボール転写方式などにより
形成される。
[0005] In the above-mentioned flip chip mode, the method of forming bumps on a semiconductor chip is roughly classified into a stud bump method using gold or the like and a solder bump method. The stud bump is formed on the semiconductor chip by wire bonding using a gold wire or the like, while the solder bump is formed by a plating method, a vapor deposition method, a ball transfer method, or the like.

【0006】上記のスタッドバンプ方式などにより形成
されたバンプを有する半導体チップを、ベアチップ状態
で異方性導電フィルムを用いて実装基板上に実装する方
法が開発されている。
A method has been developed in which a semiconductor chip having bumps formed by the above-described stud bump method or the like is mounted on a mounting substrate in a bare chip state using an anisotropic conductive film.

【0007】ここで、異方性導電フィルムとは、例えば
熱硬化性樹脂などの樹脂バインダ中に導電性ボールを分
散して、フィルム状に加工したものである。異方性導電
フィルム自体には導電性はないが、例えば1対の電極間
に異方性導電フィルムを配置して両電極で押しつぶす
と、異方性導電フィルム中の導電性ボールが両電極の表
面に接触して、電極間を電気的に接続することができ
る。電極間の電気的接続が得られた状態で、樹脂バイン
ダを固化させることで、両電極を固着することが可能で
ある。
Here, the anisotropic conductive film is a film obtained by dispersing conductive balls in a resin binder such as a thermosetting resin and processing it into a film. Although the anisotropic conductive film itself has no conductivity, for example, when an anisotropic conductive film is arranged between a pair of electrodes and crushed by both electrodes, the conductive balls in the anisotropic conductive film are By contacting the surface, the electrodes can be electrically connected. By solidifying the resin binder in a state where the electrical connection between the electrodes has been obtained, both electrodes can be fixed.

【0008】図5(a)は、上記の実装方法により製造
された電子回路装置の断面図である。フレキシブル(可
撓性)実装基板10の一方の面上に第1の電極(配線)
11が形成され、他方の面上に第2の電極(配線)12
が形成されている。第1の半導体チップ20に形成され
た金スタッドバンプなどの第1のバンプ21が、第1の
電極11に接続するように、第1の異方性導電フィルム
30を介して実装されている。一方、第2の半導体チッ
プ22に形成された金スタッドバンプなどの第2のバン
プ23が、第2の電極12に接続するように、第2の異
方性導電フィルム31を介して実装されている。
FIG. 5A is a sectional view of an electronic circuit device manufactured by the above mounting method. A first electrode (wiring) is provided on one surface of the flexible (flexible) mounting substrate 10.
11 is formed, and a second electrode (wiring) 12 is formed on the other surface.
Are formed. A first bump 21 such as a gold stud bump formed on the first semiconductor chip 20 is mounted via a first anisotropic conductive film 30 so as to be connected to the first electrode 11. On the other hand, the second bump 23 such as a gold stud bump formed on the second semiconductor chip 22 is mounted via the second anisotropic conductive film 31 so as to be connected to the second electrode 12. I have.

【0009】図5(b)は、上記の第1のバンプ21
(あるいは第2のバンプ23)と第1の電極11(ある
いは第2の電極12)の接続部分を拡大した断面図であ
る。第1の異方性導電フィルム30(あるいは第2の異
方性導電フィルム31)中には、導電性ボールBが分散
されている。第1のバンプ21(あるいは第2のバンプ
23)と第1の電極11(あるいは第2の電極12)が
第1の異方性導電フィルム30(あるいは第2の異方性
導電フィルム31)を押しつぶすことで、導電性ボール
Bが第1のバンプ21(あるいは第2のバンプ23)と
第1の電極11(あるいは第2の電極12)の両方に接
触し、両者間の電気的接続がなされている。また、異方
性導電フィルムの樹脂バインダは、熱硬化などにより固
化されており、第1の半導体チップ20(あるいは第2
の半導体チップ22)が実装基板10上に固着されてい
る。
FIG. 5B shows the first bump 21.
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a connection portion between (or a second bump 23) and a first electrode 11 (or a second electrode 12). The conductive balls B are dispersed in the first anisotropic conductive film 30 (or the second anisotropic conductive film 31). The first bump 21 (or the second bump 23) and the first electrode 11 (or the second electrode 12) form the first anisotropic conductive film 30 (or the second anisotropic conductive film 31). By crushing, the conductive ball B comes into contact with both the first bump 21 (or the second bump 23) and the first electrode 11 (or the second electrode 12), and an electrical connection between the two is made. ing. The resin binder of the anisotropic conductive film is solidified by thermosetting or the like, and the first semiconductor chip 20 (or the second semiconductor chip 20 (or
Semiconductor chip 22) is fixed on the mounting substrate 10.

【0010】上記の電子回路装置の製造方法について説
明する。まず、図6(a)に示すように、一方の面上に
第1の電極(配線)11が形成され、他方の面上に第2
の電極(配線)12が形成されているフレキシブル(可
撓性)実装基板10を、第1の電極11が形成された面
を上面にして基台P上に保持する。次に、第1の電極1
1上に第1の異方性導電フィルム30を設ける。次に、
第1のバンプ21が形成された第1の半導体チップ20
を、第1のバンプ21と第1の電極11とを位置合わせ
して、第1の異方性導電フィルム30上に戴置する。
A method for manufacturing the above electronic circuit device will be described. First, as shown in FIG. 6A, a first electrode (wiring) 11 is formed on one surface, and a second electrode (wiring) 11 is formed on the other surface.
The flexible (flexible) mounting substrate 10 on which the first electrode 11 is formed is held on the base P with the surface on which the first electrode 11 is formed facing upward. Next, the first electrode 1
1, a first anisotropic conductive film 30 is provided. next,
First semiconductor chip 20 on which first bumps 21 are formed
Is placed on the first anisotropic conductive film 30 with the first bump 21 and the first electrode 11 aligned.

【0011】次に、図6(b)に示すように、ヒータヘ
ッドHにより第1の半導体チップ20の上面から加圧お
よび加熱して、第1の異方性導電フィルム30を介して
第1のバンプ21と第1の電極11とを電気的に接続さ
せ、第1の半導体チップ20を仮圧着する。このとき、
実装基板10と第1の半導体チップ20の間から、第1
の異方性導電フィルム部分30aが凸形状にはみ出す。
Next, as shown in FIG. 6B, pressure and heat are applied from the upper surface of the first semiconductor chip 20 by the heater head H to the first semiconductor chip 20 via the first anisotropic conductive film 30. The bumps 21 and the first electrodes 11 are electrically connected to each other, and the first semiconductor chip 20 is temporarily compressed. At this time,
From between the mounting substrate 10 and the first semiconductor chip 20, the first
Of the anisotropic conductive film portion 30a protrudes into a convex shape.

【0012】次に、図7(c)に示すように、第1の半
導体チップ20の上面とヒータヘッドHの加熱面との間
にフルオロエチレン系樹脂テープTを介在させながら、
第1の半導体チップ20の上面から加熱して第1の異方
性導電フィルム30を固化させて、第1の半導体チップ
20を実装基板10上に固着する。
Next, as shown in FIG. 7C, a fluoroethylene resin tape T is interposed between the upper surface of the first semiconductor chip 20 and the heating surface of the heater head H.
The first semiconductor chip 20 is fixed on the mounting board 10 by heating from the upper surface of the first semiconductor chip 20 to solidify the first anisotropic conductive film 30.

【0013】次に、図7(d)に示すように、実装基板
10を裏返して、第1の半導体チップ20側を下面と
し、実装基板の第2の電極12が形成された面を上面に
して、実装基板10を基台P上に保持する。次に、実装
基板10から見て第1の異方性導電フィルム10に対し
て面対称となる位置に、第2の電極12上に第2の異方
性導電フィルム31を設ける。次に、実装基板10から
見て第1の半導体チップ20に対して面対称となる位置
に、第2のバンプ23が形成された第2の半導体チップ
22を、第2のバンプ23と第2の電極12とを位置合
わせして、第2の異方性導電フィルム31上に戴置す
る。ここで、第2の半導体チップ22の形状は、実質的
に第1の半導体チップ20と同等な形状を有するものと
する。
Next, as shown in FIG. 7D, the mounting substrate 10 is turned over so that the first semiconductor chip 20 side is the lower surface, and the surface of the mounting substrate on which the second electrode 12 is formed is the upper surface. Thus, the mounting board 10 is held on the base P. Next, a second anisotropic conductive film 31 is provided on the second electrode 12 at a position that is plane-symmetric with respect to the first anisotropic conductive film 10 when viewed from the mounting substrate 10. Next, the second semiconductor chip 22 on which the second bump 23 is formed is placed at a position that is plane-symmetric with respect to the first semiconductor chip 20 when viewed from the mounting substrate 10. And is placed on the second anisotropic conductive film 31. Here, it is assumed that the shape of the second semiconductor chip 22 is substantially the same as that of the first semiconductor chip 20.

【0014】次に、図8(e)に示すように、ヒータヘ
ッドHにより第2の半導体チップ22の上面から加圧お
よび加熱して、第2の異方性導電フィルム31を介して
第2のバンプ23と第2の電極12とを電気的に接続さ
せ、第2の半導体チップ22を仮圧着する。このとき、
実装基板10と第2の半導体チップ22の間から、第2
の異方性導電フィルム部分31aが凸形状にはみ出す。
Next, as shown in FIG. 8E, the heater head H presses and heats the upper surface of the second semiconductor chip 22 to heat the second semiconductor chip 22 through the second anisotropic conductive film 31. The bump 23 and the second electrode 12 are electrically connected, and the second semiconductor chip 22 is provisionally pressed. At this time,
From between the mounting substrate 10 and the second semiconductor chip 22, the second
Of the anisotropic conductive film portion 31a protrudes into a convex shape.

【0015】次に、図8(f)に示すように、第2の半
導体チップ20の上面とヒータヘッドHの加熱面との間
にフルオロエチレン系樹脂テープTを介在させながら、
第2の半導体チップ22の上面から加熱して第2の異方
性導電フィルム31を固化させて、第2の半導体チップ
22を実装基板10上に固着する。
Next, as shown in FIG. 8F, a fluoroethylene resin tape T is interposed between the upper surface of the second semiconductor chip 20 and the heating surface of the heater head H.
The second semiconductor chip 22 is fixed on the mounting substrate 10 by heating from the upper surface of the second semiconductor chip 22 to solidify the second anisotropic conductive film 31.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
実装方法においては、ヒータヘッドにより半導体チップ
の上面から加圧して仮圧着するときに、実装基板と半導
体チップの間から、異方性導電フィルム部分が凸形状に
はみ出し、場合によっては、このはみ出した部分が半導
体チップの上面を越える高さとなり、上記のように実装
基板の両面上に半導体チップを実装する場合に、バンプ
と実装基板の電極との接続不良が起こることがあるとい
う問題がある。
However, in the above-described mounting method, when the heater head is pressed from the upper surface of the semiconductor chip and temporarily press-bonded, a portion of the anisotropic conductive film is provided between the mounting substrate and the semiconductor chip. Protrudes into a convex shape, and in some cases, the protruding portion has a height exceeding the upper surface of the semiconductor chip, and when mounting the semiconductor chip on both sides of the mounting board as described above, the bump and the electrode of the mounting board There is a problem that a connection failure may occur.

【0017】即ち、図9(a)に示すように、半導体チ
ップ20の仮圧着時点で実装基板10と第1の半導体チ
ップ20の間からはみ出した第1の異方性導電フィルム
部分30aが、第1の半導体チップ20の上面Fを越え
る高さとなった場合、このまま第1の半導体チップ20
の上面から加熱して第1の異方性導電フィルム30を固
化させると、使用されるヒータヘッドHの大きさが第1
の半導体チップ20の上面の面積に対して十分大きくな
く、例えばヒータヘッドHの端面と第1の半導体チップ
の端面の距離dが1mm以下、例えば0.5mm程度で
あり、はみ出した異方性導電フィルム部分を上方から抑
えることもないので、第1の異方性導電フィルム部分3
0aが第1の半導体チップ20の上面Fを越えて固化す
ることになる。
That is, as shown in FIG. 9A, the first anisotropic conductive film portion 30a which protrudes from between the mounting substrate 10 and the first semiconductor chip 20 at the time of the temporary compression of the semiconductor chip 20 is formed. If the height exceeds the upper surface F of the first semiconductor chip 20, the first semiconductor chip 20
When the first anisotropic conductive film 30 is solidified by heating from the upper surface of the heater, the size of the heater head H to be used is reduced to the first size.
The distance d between the end face of the heater head H and the end face of the first semiconductor chip is 1 mm or less, for example, about 0.5 mm, and the protruding anisotropic conductive Since the film portion is not suppressed from above, the first anisotropic conductive film portion 3
0a solidifies beyond the upper surface F of the first semiconductor chip 20.

【0018】次に、図9(b)に示すように、実装基板
10を裏返して、第1の半導体チップ20側を下面と
し、実装基板の第2の電極12が形成された面を上面に
して、実装基板10を基台P上に保持する。このとき、
固化した第1の異方性導電フィルム部分30aが第1の
半導体チップ20の上面Fを越えているために、第1の
異方性導電フィルム部分30aが基台Pにあたり、基台
Pに対して第1の半導体チップ20の上面および実装基
板10に傾きSが発生する。このような状態で、第2の
バンプ23が形成された第2の半導体チップ22を、第
2の異方性導電フィルム31上に戴置し、ヒータヘッド
Hにより第2の半導体チップ22の上面から加圧および
加熱すると、図10に示すように、基台Pが傾いている
ために第2のバンプ23と第2の電極12の間にかかる
圧力が均等とならず、この結果、一部の第2のバンプ2
3と第2の電極12の間に接続不良Xが発生してしま
う。
Next, as shown in FIG. 9B, the mounting substrate 10 is turned over so that the first semiconductor chip 20 side is the lower surface, and the surface of the mounting substrate on which the second electrode 12 is formed is the upper surface. Thus, the mounting board 10 is held on the base P. At this time,
Since the solidified first anisotropic conductive film portion 30a exceeds the upper surface F of the first semiconductor chip 20, the first anisotropic conductive film portion 30a corresponds to the base P, and As a result, an inclination S occurs on the upper surface of the first semiconductor chip 20 and the mounting substrate 10. In this state, the second semiconductor chip 22 on which the second bumps 23 are formed is placed on the second anisotropic conductive film 31, and the upper surface of the second semiconductor chip 22 is heated by the heater head H. When pressure and heat are applied, the pressure applied between the second bumps 23 and the second electrodes 12 is not uniform because the base P is inclined as shown in FIG. Second bump 2
A connection failure X occurs between the third electrode 12 and the second electrode 12.

【0019】本発明は上記の問題を鑑みなされたもので
あり、本発明は、異方性導電フィルムを用いて半導体装
置を実装基板上に実装するときに、半導体装置と実装基
板の間からはみ出した異方性導電フィルム部分が半導体
装置の上面を越えないようにして、実装基板の両面上に
半導体装置を実装する場合にもバンプと実装基板の電極
との間の接続不良の発生を防止できる電子回路装置の製
造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and the present invention provides a method for mounting a semiconductor device on a mounting substrate using an anisotropic conductive film, which protrudes from between the semiconductor device and the mounting substrate. By preventing the anisotropic conductive film portion from exceeding the upper surface of the semiconductor device, it is possible to prevent the occurrence of connection failure between the bumps and the electrodes of the mounting substrate even when the semiconductor device is mounted on both surfaces of the mounting substrate. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an electronic circuit device.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の電子回路装置の製造方法は、半導体チップ
の回路パターンに接続するように形成されたバンプを有
する半導体装置を、電極が形成された実装基板の少なく
とも一方の面上に実装する電子回路装置の製造方法であ
って、実装基板の一方の面を上面にして当該実装基板を
基台上に保持する工程と、上記一方の面上において上記
電極上に異方性導電フィルムを設ける工程と、上記バン
プと上記電極とを位置合わせして、上記異方性導電フィ
ルム上に上記半導体装置を戴置する工程と、上記半導体
装置の上面から加圧して、上記異方性導電フィルムを介
して上記バンプと上記電極とを電気的に接続させる工程
と、上記実装基板と上記半導体装置の間からはみ出した
上記異方性導電フィルム部分が上記半導体装置の上面の
高さを越えないように上方から抑えながら、上記半導体
装置の上面から加熱して上記異方性導電フィルムを固化
させて上記半導体装置を固着する工程とを有する。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing an electronic circuit device according to the present invention is directed to a method of manufacturing a semiconductor device having bumps formed so as to be connected to a circuit pattern of a semiconductor chip. A method for manufacturing an electronic circuit device to be mounted on at least one surface of a formed mounting board, wherein the step of holding the mounting board on a base with one surface of the mounting board as an upper surface, Providing an anisotropic conductive film on the electrode on a surface, aligning the bump and the electrode, and mounting the semiconductor device on the anisotropic conductive film, Pressurizing the upper surface of the substrate to electrically connect the bumps and the electrodes via the anisotropic conductive film; and forming the anisotropic conductive film protruding from between the mounting substrate and the semiconductor device. Heating from the upper surface of the semiconductor device to solidify the anisotropic conductive film and fix the semiconductor device, while suppressing the lum portion from above so as not to exceed the height of the upper surface of the semiconductor device. .

【0021】上記の本発明の電子回路装置の製造方法
は、好適には、上記半導体装置の上面から加熱して上記
異方性導電フィルムを固化させて上記半導体装置を固着
する工程においては、上記半導体装置の上面の面積より
も少なくとも上記はみ出した異方性導電フィルム部分の
面積分広い加熱面を有する加熱手段により、上記はみ出
した異方性導電フィルム部分を抑えながら、上記半導体
装置の上面から加熱する。さらに好適には、上記加熱手
段として、少なくとも上記半導体装置の端面から1mm
以上広い加熱面を有する加熱手段を用いる。あるいはさ
らに好適には、上記半導体装置の上面から加熱して上記
異方性導電フィルムを固化させて上記半導体装置を固着
する工程においては、上記半導体装置の上面と上記加熱
手段の加熱面との間にフルオロエチレン系樹脂テープを
介在させて加熱する。
In the method of manufacturing an electronic circuit device according to the present invention, preferably, the step of heating the upper surface of the semiconductor device to solidify the anisotropic conductive film and fixing the semiconductor device includes the steps of: Heating from the upper surface of the semiconductor device while suppressing the protruding anisotropic conductive film portion by a heating means having a heating surface wider by at least the area of the protruding anisotropic conductive film portion than the area of the upper surface of the semiconductor device. I do. More preferably, the heating means is at least 1 mm from an end face of the semiconductor device.
A heating means having a wide heating surface is used. Alternatively, more preferably, in the step of heating the upper surface of the semiconductor device to solidify the anisotropic conductive film and fixing the semiconductor device, the step of heating between the upper surface of the semiconductor device and the heating surface of the heating means Is heated with a fluoroethylene resin tape interposed therebetween.

【0022】上記の本発明の電子回路装置の製造方法
は、好適には、上記バンプと上記電極とを電気的に接続
させる工程が、上記半導体装置の上面から加圧および加
熱する仮圧着工程である。また、好適には、上記実装基
板として可撓性基板を用いる。
In the method of manufacturing an electronic circuit device according to the present invention, preferably, the step of electrically connecting the bumps and the electrodes is performed by a temporary pressure bonding step of pressing and heating the semiconductor device from above. is there. Preferably, a flexible substrate is used as the mounting substrate.

【0023】上記の本発明の電子回路装置の製造方法
は、可撓性基板などの実装基板の一方の面を上面にして
実装基板を基台上に保持し、一方の面上において電極上
に異方性導電フィルムを設ける。次に、バンプと電極と
を位置合わせして、異方性導電フィルム上に半導体装置
を戴置する。次に、半導体装置の上面から加圧および加
熱して、異方性導電フィルムを介してバンプと上記電極
とを電気的に接続させて仮圧着させる。次に、上記の仮
圧着工程ではみ出した異方性導電フィルム部分の面積
分、例えば半導体装置の端面から1mm以上広い加熱面
を有する加熱手段を用いて、実装基板と上記半導体装置
の間からはみ出した異方性導電フィルム部分が半導体装
置の上面の高さを越えないように上方から抑え、半導体
装置の上面と上記加熱手段の加熱面との間にフルオロエ
チレン系樹脂テープを介在させながら、半導体装置の上
面から加熱して異方性導電フィルムを固化させて半導体
装置を固着する。
In the above-described method of manufacturing an electronic circuit device according to the present invention, the mounting substrate is held on a base with one surface of the mounting substrate such as a flexible substrate facing up, and the electrodes are mounted on the electrodes on one surface. An anisotropic conductive film is provided. Next, the semiconductor device is mounted on the anisotropic conductive film by aligning the bumps and the electrodes. Next, pressure and heat are applied from the upper surface of the semiconductor device, and the bumps and the electrodes are electrically connected to each other via the anisotropic conductive film, and are temporarily compressed. Next, using a heating means having a heating surface wider than the end face of the semiconductor device by 1 mm or more by the area of the anisotropic conductive film portion protruding in the above-mentioned temporary press-bonding step, protrude from between the mounting substrate and the semiconductor device. The anisotropic conductive film portion is held down from above so as not to exceed the height of the upper surface of the semiconductor device, and the semiconductor is interposed between the upper surface of the semiconductor device and the heating surface of the heating means while a fluoroethylene resin tape is interposed therebetween. The semiconductor device is fixed by heating from the upper surface of the device to solidify the anisotropic conductive film.

【0024】上記の本発明の電子回路装置の製造方法に
よれば、異方性導電フィルムを固化させるときに、はみ
出した異方性導電フィルム部分の高さを抑えて、半導体
装置の上面を越えないようにすることが可能であり、裏
返したときの実装基板の傾きの発生を防止でき、これに
より、実装基板の両面上に半導体装置を実装する場合に
もバンプと実装基板の電極との間の接続不良の発生を防
止して電子回路装置を製造することが可能である。
According to the above-described method for manufacturing an electronic circuit device of the present invention, when the anisotropic conductive film is solidified, the height of the protruding anisotropic conductive film portion is suppressed, and the height of the protruding anisotropic conductive film portion is reduced. It is possible to prevent the mounting board from tilting when it is turned upside down, so that even when mounting the semiconductor device on both sides of the mounting board, the gap between the bump and the electrode of the mounting board can be prevented. It is possible to manufacture an electronic circuit device while preventing the occurrence of connection failure.

【0025】また、上記の目的を達成するため、本発明
の電子回路装置の製造方法は、半導体チップの回路パタ
ーンに接続するように形成されたバンプを有し、実質的
に同等な形状の第1の半導体装置および第2の半導体装
置を、電極が形成された実装基板の第1の面および第2
の面上にそれぞれ実装する電子回路装置の製造方法であ
って、実装基板の第1の電極が形成された第1の面を上
面にして当該実装基板を基台上に保持する工程と、上記
第1の面上において上記第1の電極上に第1の異方性導
電フィルムを設ける工程と、第1の半導体装置に形成さ
れた第1のバンプと上記第1の電極とを位置合わせし
て、上記第1の異方性導電フィルム上に上記第1の半導
体装置を戴置する工程と、上記第1の半導体装置の上面
から加圧して、上記第1の異方性導電フィルムを介して
上記第1のバンプと上記第1の電極とを電気的に接続さ
せる工程と、上記実装基板と上記第1の半導体装置の間
からはみ出した上記第1の異方性導電フィルム部分が上
記第1の半導体装置の上面の高さを越えないように上方
から抑えながら、上記第1の半導体装置の上面から加熱
して上記第1の異方性導電フィルムを固化させて上記第
1の半導体装置を固着する工程と、上記実装基板を裏返
して、上記第1の半導体装置側を下面とし、上記実装基
板の第2の電極が形成された第2の面を上面にして当該
実装基板を基台上に保持する工程と、上記第2の面上に
おいて、上記実装基板から見て上記第1の異方性導電フ
ィルムに対して面対称となる位置に、上記第2の電極上
に第2の異方性導電フィルムを設ける工程と、上記実装
基板から見て上記第1の半導体装置に対して面対称とな
る位置に、第2の半導体装置に形成された第2のバンプ
と上記第2の電極とを位置合わせして、上記第2の異方
性導電フィルム上に上記第2の半導体装置を戴置する工
程と、上記第2の半導体装置の上面から加圧して、上記
第2の異方性導電フィルムを介して上記第2のバンプと
上記第2の電極とを電気的に接続させる工程と、上記実
装基板と上記第2の半導体装置の間からはみ出した上記
第2の異方性導電フィルム部分が上記第2の半導体装置
の上面の高さを越えないように上方から抑えながら、上
記第2の半導体装置の上面から加熱して上記第2の異方
性導電フィルムを固化させて上記第2の半導体装置を固
着する工程とを有する。
Further, in order to achieve the above object, a method of manufacturing an electronic circuit device according to the present invention has a bump formed to be connected to a circuit pattern of a semiconductor chip and has a substantially identical shape. The first semiconductor device and the second semiconductor device are connected to a first surface and a second surface of a mounting substrate on which electrodes are formed.
A method for manufacturing an electronic circuit device to be mounted on each of the surfaces, wherein the first surface of the mounting substrate on which the first electrode is formed is an upper surface, and the mounting substrate is held on a base; Providing a first anisotropic conductive film on the first electrode on the first surface, and aligning the first bump formed on the first semiconductor device with the first electrode; Placing the first semiconductor device on the first anisotropic conductive film, and pressing the upper surface of the first semiconductor device through the first anisotropic conductive film. Electrically connecting the first bump to the first electrode by using the first anisotropic conductive film portion protruding from between the mounting substrate and the first semiconductor device. 1. While holding down from above so as not to exceed the height of the top surface of the semiconductor device, A step of heating the top surface of the first semiconductor device to solidify the first anisotropic conductive film and fixing the first semiconductor device; Holding the mounting substrate on a base with the second surface of the mounting substrate on which the second electrode is formed as an upper surface, and viewing the mounting substrate from the mounting substrate on the second surface. Providing a second anisotropic conductive film on the second electrode at a position that is plane-symmetric with respect to the first anisotropic conductive film; The second bump formed on the second semiconductor device is aligned with the second electrode at a position that is plane-symmetric with respect to the semiconductor device, and the second bump is formed on the second anisotropic conductive film. Placing the second semiconductor device on the second semiconductor device; Pressurizing to electrically connect the second bump and the second electrode via the second anisotropic conductive film; and connecting between the mounting substrate and the second semiconductor device. By heating the second anisotropic conductive film portion from the upper surface of the second semiconductor device while suppressing it from above so that the protruding second anisotropic conductive film portion does not exceed the height of the upper surface of the second semiconductor device, Solidifying the anisotropic conductive film to fix the second semiconductor device.

【0026】上記の本発明の電子回路装置の製造方法
は、好適には、上記第1の半導体装置の上面から加熱し
て上記第1の異方性導電フィルムを固化させて上記第1
の半導体装置を固着する工程においては、上記第1の半
導体装置の上面の面積よりも少なくとも上記はみ出した
第1の異方性導電フィルム部分の面積分広い加熱面を有
する加熱手段により、上記はみ出した第1の異方性導電
フィルム部分を抑えながら、上記第1の半導体装置の上
面から加熱する。さらに好適には、上記加熱手段とし
て、少なくとも上記第1の半導体装置の端面から1mm
以上広い加熱面を有する加熱手段を用いる。あるいはさ
らに好適には、上記第1の半導体装置の上面から加熱し
て上記第1の異方性導電フィルムを固化させて上記第1
の半導体装置を固着する工程においては、上記第1の半
導体装置の上面と上記加熱手段の加熱面との間にフルオ
ロエチレン系樹脂テープを介在させて加熱する。
In the method for manufacturing an electronic circuit device according to the present invention, preferably, the first anisotropic conductive film is solidified by heating from an upper surface of the first semiconductor device to thereby form the first anisotropic conductive film.
In the step of fixing the semiconductor device, the protruding portion is heated by a heating means having a heating surface at least as large as the area of the protruding first anisotropic conductive film portion than the area of the upper surface of the first semiconductor device. While suppressing the first anisotropic conductive film portion, heating is performed from the upper surface of the first semiconductor device. More preferably, the heating means is at least 1 mm from an end face of the first semiconductor device.
A heating means having a wide heating surface is used. Alternatively, more preferably, the first anisotropic conductive film is heated from the upper surface of the first semiconductor device to solidify the first anisotropic conductive film.
In the step of fixing the semiconductor device, heating is performed with a fluoroethylene resin tape interposed between the upper surface of the first semiconductor device and the heating surface of the heating means.

【0027】上記の本発明の電子回路装置の製造方法
は、好適には、上記第2の半導体装置の上面から加熱し
て上記第2の異方性導電フィルムを固化させて上記第2
の半導体装置を固着する工程においては、上記第2の半
導体装置の上面の面積よりも少なくとも上記はみ出した
第2の異方性導電フィルム部分の面積分広い加熱面を有
する加熱手段により、上記はみ出した第2の異方性導電
フィルム部分を抑えながら、上記第2の半導体装置の上
面から加熱する。さらに好適には、上記加熱手段とし
て、少なくとも上記第2の半導体装置の端面から1mm
以上広い加熱面を有する加熱手段を用いる。あるいはさ
らに好適には、上記第2の半導体装置の上面から加熱し
て上記第2の異方性導電フィルムを固化させて上記第2
の半導体装置を固着する工程においては、上記第2の半
導体装置の上面と上記加熱手段の加熱面との間にフルオ
ロエチレン系樹脂テープを介在させて加熱する。
Preferably, in the method of manufacturing an electronic circuit device according to the present invention, the second anisotropic conductive film is solidified by heating from an upper surface of the second semiconductor device.
In the step of fixing the semiconductor device, the protruding portion is heated by a heating means having a heating surface which is at least larger than the area of the upper surface of the second semiconductor device by an area of the protruding second anisotropic conductive film portion. While suppressing the second anisotropic conductive film portion, heating is performed from the upper surface of the second semiconductor device. More preferably, the heating means is at least 1 mm from the end face of the second semiconductor device.
A heating means having a wide heating surface is used. Alternatively, more preferably, the second anisotropic conductive film is heated from the upper surface of the second semiconductor device to solidify the second anisotropic conductive film.
In the step of fixing the semiconductor device, the heating is performed with a fluoroethylene resin tape interposed between the upper surface of the second semiconductor device and the heating surface of the heating means.

【0028】上記の本発明の電子回路装置の製造方法
は、好適には、上記第1のバンプと上記第1の電極とを
電気的に接続させる工程が、上記第1の半導体装置の上
面から加圧および加熱する仮圧着工程である。あるいは
好適には、上記第2のバンプと上記第2の電極とを電気
的に接続させる工程が、上記第2の半導体装置の上面か
ら加圧および加熱する仮圧着工程である。あるいは好適
には、上記実装基板として可撓性基板を用いる。
In the method for manufacturing an electronic circuit device according to the present invention, preferably, the step of electrically connecting the first bump and the first electrode includes the step of electrically connecting the first bump to the first electrode from the upper surface of the first semiconductor device. This is a temporary pressure bonding step of applying pressure and heating. Alternatively, preferably, the step of electrically connecting the second bump and the second electrode is a temporary pressure bonding step of pressing and heating the upper surface of the second semiconductor device. Alternatively, preferably, a flexible substrate is used as the mounting substrate.

【0029】上記の本発明の電子回路装置の製造方法
は、まず、実装基板の第1の電極が形成された第1の面
を上面にして実装基板を基台上に保持する。次に、第1
の面上において上記第1の電極上に第1の異方性導電フ
ィルムを設ける。次に、第1の半導体装置に形成された
第1のバンプと第1の電極とを位置合わせして、第1の
異方性導電フィルム上に第1の半導体装置を戴置する。
次に、第1の半導体装置の上面から加圧して、第1の異
方性導電フィルムを介して第1のバンプと上記第1の電
極とを電気的に接続させる。次に、実装基板と第1の半
導体装置の間からはみ出した第1の異方性導電フィルム
部分が第1の半導体装置の上面の高さを越えないように
上方から抑えながら、第1の半導体装置の上面から加熱
して第1の異方性導電フィルムを固化させて第1の半導
体装置を固着する。次に、実装基板を裏返して、第1の
半導体装置側を下面とし、実装基板の第2の電極が形成
された第2の面を上面にして基台上に保持する。次に、
第2の面上において、実装基板から見て第1の異方性導
電フィルムに対して面対称となる位置に、第2の電極上
に第2の異方性導電フィルムを設ける。次に、実装基板
から見て第1の半導体装置に対して面対称となる位置
に、第2の半導体装置に形成された第2のバンプと上記
第2の電極とを位置合わせして、第2の異方性導電フィ
ルム上に第2の半導体装置を戴置する。次に、第2の半
導体装置の上面から加圧して、第2の異方性導電フィル
ムを介して第2のバンプと第2の電極とを電気的に接続
させる。次に、実装基板と第2の半導体装置の間からは
み出した第2の異方性導電フィルム部分が第2の半導体
装置の上面の高さを越えないように上方から抑えなが
ら、第2の半導体装置の上面から加熱して第2の異方性
導電フィルムを固化させて第2の半導体装置を固着す
る。
In the above-described method of manufacturing an electronic circuit device according to the present invention, first, the mounting substrate is held on a base with the first surface of the mounting substrate on which the first electrode is formed facing upward. Next, the first
A first anisotropic conductive film is provided on the first electrode. Next, the first bump formed on the first semiconductor device is aligned with the first electrode, and the first semiconductor device is placed on the first anisotropic conductive film.
Next, pressure is applied from the upper surface of the first semiconductor device to electrically connect the first bump to the first electrode via the first anisotropic conductive film. Next, the first anisotropic conductive film portion protruding from between the mounting substrate and the first semiconductor device is suppressed from above so as not to exceed the height of the upper surface of the first semiconductor device. The first semiconductor device is fixed by heating from the upper surface of the device to solidify the first anisotropic conductive film. Next, the mounting substrate is turned upside down and held on a base with the first semiconductor device side as the lower surface and the second surface of the mounting substrate on which the second electrode is formed as the upper surface. next,
A second anisotropic conductive film is provided on the second electrode at a position on the second surface that is plane-symmetric with respect to the first anisotropic conductive film when viewed from the mounting substrate. Next, the second bump formed on the second semiconductor device is aligned with the second electrode at a position that is plane-symmetric with respect to the first semiconductor device when viewed from the mounting substrate, and The second semiconductor device is placed on the second anisotropic conductive film. Next, pressure is applied from the upper surface of the second semiconductor device to electrically connect the second bump and the second electrode via the second anisotropic conductive film. Next, while suppressing the second anisotropic conductive film portion protruding from between the mounting substrate and the second semiconductor device from above so as not to exceed the height of the upper surface of the second semiconductor device, the second semiconductor The second semiconductor device is fixed by heating from the upper surface of the device to solidify the second anisotropic conductive film.

【0030】上記の本発明の電子回路装置の製造方法に
よれば、第1の異方性導電フィルムを固化させるとき
に、はみ出した第1の異方性導電フィルム部分の高さを
抑えて、第1の半導体装置の上面を越えないようにする
ことが可能であり、裏返したときの実装基板の傾きの発
生を防止でき、これにより、実装基板の裏面上に第2の
半導体装置を実装する場合に第2のバンプと実装基板の
第2の電極との間の接続不良の発生を防止して電子回路
装置を製造することが可能である。
According to the method of manufacturing an electronic circuit device of the present invention, when the first anisotropic conductive film is solidified, the height of the protruding first anisotropic conductive film portion is suppressed, It is possible not to exceed the upper surface of the first semiconductor device, and it is possible to prevent the mounting substrate from being tilted when turned upside down, thereby mounting the second semiconductor device on the back surface of the mounting substrate. In this case, it is possible to manufacture the electronic circuit device while preventing the occurrence of a connection failure between the second bump and the second electrode of the mounting substrate.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の電子回路装置の
製造方法の実施の形態について、図面を参照して説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a method for manufacturing an electronic circuit device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0032】図1(a)は、本実施形態に係る電子回路
装置の製造方法により製造された電子回路装置の断面図
である。フレキシブル(可撓性)実装基板10の一方の
面上に第1の電極(配線)11が形成され、他方の面上
に第2の電極(配線)12が形成されている。第1の半
導体チップ20に形成された金スタッドバンプなどの第
1のバンプ21が、第1の電極11に接続するように、
第1の異方性導電フィルム30を介して実装されてい
る。一方、第2の半導体チップ22に形成された金スタ
ッドバンプなどの第2のバンプ23が、第2の電極12
に接続するように、第2の異方性導電フィルム31を介
して実装されている。
FIG. 1A is a sectional view of an electronic circuit device manufactured by the method for manufacturing an electronic circuit device according to the present embodiment. A first electrode (wiring) 11 is formed on one surface of a flexible (flexible) mounting substrate 10, and a second electrode (wiring) 12 is formed on the other surface. A first bump 21 such as a gold stud bump formed on the first semiconductor chip 20 is connected to the first electrode 11.
It is mounted via the first anisotropic conductive film 30. On the other hand, a second bump 23 such as a gold stud bump formed on the second semiconductor chip 22 is
Is mounted via the second anisotropic conductive film 31 so as to be connected to the second conductive film 31.

【0033】図1(b)は、上記の第1のバンプ21
(あるいは第2のバンプ23)と第1の電極11(ある
いは第2の電極12)の接続部分を拡大した断面図であ
る。第1の異方性導電フィルム30(あるいは第2の異
方性導電フィルム31)中には、導電性ボールBが分散
されている。第1のバンプ21(あるいは第2のバンプ
23)と第1の電極11(あるいは第2の電極12)が
第1の異方性導電フィルム30(あるいは第2の異方性
導電フィルム31)を押しつぶすことで、導電性ボール
Bが第1のバンプ21(あるいは第2のバンプ23)と
第1の電極11(あるいは第2の電極12)の両方に接
触し、両者間の電気的接続がなされている。また、異方
性導電フィルムの樹脂バインダは、熱硬化などにより固
化されており、第1の半導体チップ20(あるいは第2
の半導体チップ22)が実装基板10上に固着されてい
る。
FIG. 1B shows the first bump 21.
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a connection portion between (or a second bump 23) and a first electrode 11 (or a second electrode 12). The conductive balls B are dispersed in the first anisotropic conductive film 30 (or the second anisotropic conductive film 31). The first bump 21 (or the second bump 23) and the first electrode 11 (or the second electrode 12) form the first anisotropic conductive film 30 (or the second anisotropic conductive film 31). By crushing, the conductive ball B comes into contact with both the first bump 21 (or the second bump 23) and the first electrode 11 (or the second electrode 12), and an electrical connection between the two is made. ing. The resin binder of the anisotropic conductive film is solidified by thermosetting or the like, and the first semiconductor chip 20 (or the second semiconductor chip 20 (or
Semiconductor chip 22) is fixed on the mounting substrate 10.

【0034】ここで、実装基板10と第1の半導体チッ
プ20の間から凸形状にはみ出した第1の異方性導電フ
ィルム部分30a、および、実装基板10と第2の半導
体チップ22の間から凸形状にはみ出した第2の異方性
導電フィルム部分31aの高さは、それぞれ第1の半導
体チップ20および第2の半導体チップ22の上面Fと
同程度の高さに抑えられている。
Here, the first anisotropic conductive film portion 30a protruding from the mounting substrate 10 and the first semiconductor chip 20 to the convex shape, and from between the mounting substrate 10 and the second semiconductor chip 22. The height of the second anisotropic conductive film portion 31a protruding into the convex shape is suppressed to the same height as the upper surface F of the first semiconductor chip 20 and the second semiconductor chip 22 respectively.

【0035】上記の電子回路装置の製造方法について説
明する。まず、図2(a)に示すように、一方の面上に
第1の電極(配線)11が形成され、他方の面上に第2
の電極(配線)12が形成されているフレキシブル(可
撓性)実装基板10を、第1の電極11が形成された面
を上面にして基台P上に保持する。次に、第1の電極1
1上に第1の異方性導電フィルム30を設ける。次に、
第1のバンプ21が形成された第1の半導体チップ20
を、第1のバンプ21と第1の電極11とを位置合わせ
して、第1の異方性導電フィルム30上に戴置する。
A method for manufacturing the above electronic circuit device will be described. First, as shown in FIG. 2A, a first electrode (wiring) 11 is formed on one surface, and a second electrode (wiring) 11 is formed on the other surface.
The flexible (flexible) mounting substrate 10 on which the first electrode 11 is formed is held on the base P with the surface on which the first electrode 11 is formed facing upward. Next, the first electrode 1
1, a first anisotropic conductive film 30 is provided. next,
First semiconductor chip 20 on which first bumps 21 are formed
Is placed on the first anisotropic conductive film 30 with the first bump 21 and the first electrode 11 aligned.

【0036】次に、図2(b)に示すように、第1のヒ
ータヘッドH1により第1の半導体チップ20の上面か
ら加圧および加熱して、第1の異方性導電フィルム30
を介して第1のバンプ21と第1の電極11とを電気的
に接続させ、第1の半導体チップ20を仮圧着する。こ
のとき、実装基板10と第1の半導体チップ20の間か
ら、第1の異方性導電フィルム部分30aが凸形状には
み出す。
Then, as shown in FIG. 2B, the first anisotropic conductive film 30 is pressed and heated from the upper surface of the first semiconductor chip 20 by the first heater head H1.
Then, the first bump 21 and the first electrode 11 are electrically connected to each other, and the first semiconductor chip 20 is temporarily bonded. At this time, the first anisotropic conductive film portion 30a protrudes from between the mounting substrate 10 and the first semiconductor chip 20 into a convex shape.

【0037】次に、図3(c)に示すように、第1の半
導体チップ20の上面と第2のヒータヘッドH2の加熱
面との間にフルオロエチレン系樹脂テープTを介在させ
ながら、第1の半導体チップ20の上面から加熱して第
1の異方性導電フィルム30を固化させて、第1の半導
体チップ20を実装基板10上に固着する。このとき、
第2のヒータヘッドH2の大きさが第1の半導体チップ
20の上面の面積に対して十分大きく、例えば第2のヒ
ータヘッドH2の端面と第1の半導体チップの端面の距
離Dが1mm以上であるので、はみ出した第1の異方性
導電フィルム部分30aを上方から抑えることができ、
第1の異方性導電フィルム部分30aが第1の半導体チ
ップ20の上面Fを越えて固化するのを防止可能であ
る。
Next, as shown in FIG. 3C, while the fluoroethylene resin tape T is interposed between the upper surface of the first semiconductor chip 20 and the heating surface of the second heater head H2, The first anisotropic conductive film 30 is solidified by heating from the upper surface of the first semiconductor chip 20, and the first semiconductor chip 20 is fixed on the mounting substrate 10. At this time,
The size of the second heater head H2 is sufficiently large with respect to the area of the upper surface of the first semiconductor chip 20. For example, when the distance D between the end face of the second heater head H2 and the end face of the first semiconductor chip is 1 mm or more. Therefore, the protruding first anisotropic conductive film portion 30a can be suppressed from above,
The first anisotropic conductive film portion 30a can be prevented from solidifying beyond the upper surface F of the first semiconductor chip 20.

【0038】次に、図3(d)に示すように、実装基板
10を裏返して、第1の半導体チップ20側を下面と
し、実装基板の第2の電極12が形成された面を上面に
して、実装基板10を基台P上に保持する。このとき、
固化した第1の異方性導電フィルム部分30aが第1の
半導体チップ20の上面Fを越えていないので、基台P
に対して傾きを発生させることなく実装基板10を保持
できる。
Next, as shown in FIG. 3D, the mounting substrate 10 is turned over so that the first semiconductor chip 20 side is the lower surface, and the surface of the mounting substrate on which the second electrode 12 is formed is the upper surface. Thus, the mounting board 10 is held on the base P. At this time,
Since the solidified first anisotropic conductive film portion 30a does not exceed the upper surface F of the first semiconductor chip 20, the base P
The mounting substrate 10 can be held without causing inclination with respect to.

【0039】次に、実装基板10から見て第1の異方性
導電フィルム10に対して面対称となる位置に、第2の
電極12上に第2の異方性導電フィルム31を設ける。
次に、実装基板10から見て第1の半導体チップ20に
対して面対称となる位置に、第2のバンプ23が形成さ
れた第2の半導体チップ22を、第2のバンプ23と第
2の電極12とを位置合わせして、第2の異方性導電フ
ィルム31上に戴置する。ここで、第2の半導体チップ
22の形状は、実質的に第1の半導体チップ20と同等
な形状を有するものとする。
Next, a second anisotropic conductive film 31 is provided on the second electrode 12 at a position symmetric with respect to the first anisotropic conductive film 10 when viewed from the mounting substrate 10.
Next, the second semiconductor chip 22 on which the second bump 23 is formed is placed at a position that is plane-symmetric with respect to the first semiconductor chip 20 when viewed from the mounting substrate 10. And is placed on the second anisotropic conductive film 31. Here, it is assumed that the shape of the second semiconductor chip 22 is substantially the same as that of the first semiconductor chip 20.

【0040】次に、図4(e)に示すように、第1のヒ
ータヘッドH1により第2の半導体チップ22の上面か
ら加圧および加熱して、第2の異方性導電フィルム31
を介して第2のバンプ23と第2の電極12とを電気的
に接続させ、第2の半導体チップ22を仮圧着する。こ
のとき、実装基板10と第2の半導体チップ22の間か
ら、第2の異方性導電フィルム部分31aが凸形状には
み出す。
Next, as shown in FIG. 4 (e), the first anisotropic conductive film 31 is pressed and heated by the first heater head H1 from the upper surface of the second semiconductor chip 22.
Then, the second bump 23 and the second electrode 12 are electrically connected to each other, and the second semiconductor chip 22 is temporarily press-bonded. At this time, the second anisotropic conductive film portion 31a protrudes from between the mounting substrate 10 and the second semiconductor chip 22 into a convex shape.

【0041】次に、図4(f)に示すように、第2の半
導体チップ20の上面と第2のヒータヘッドH2の加熱
面との間にフルオロエチレン系樹脂テープTを介在させ
ながら、第2の半導体チップ22の上面から加熱して第
2の異方性導電フィルム31を固化させて、第2の半導
体チップ22を実装基板10上に固着する。このとき、
第2のヒータヘッドH2の大きさが第2の半導体チップ
22の上面の面積に対して十分大きく、例えば第2のヒ
ータヘッドH2の端面と第2の半導体チップの端面の距
離Dが1mm以上であるので、はみ出した第2の異方性
導電フィルム部分31aを上方から抑えることができ、
第2の異方性導電フィルム部分31aが第2の半導体チ
ップ22の上面Fを越えて固化するのを防止可能であ
る。
Next, as shown in FIG. 4 (f), the fluoroethylene resin tape T is interposed between the upper surface of the second semiconductor chip 20 and the heating surface of the second heater head H2. The second semiconductor chip 22 is fixed on the mounting substrate 10 by heating the upper surface of the second semiconductor chip 22 to solidify the second anisotropic conductive film 31. At this time,
The size of the second heater head H2 is sufficiently large with respect to the area of the upper surface of the second semiconductor chip 22. For example, when the distance D between the end face of the second heater head H2 and the end face of the second semiconductor chip is 1 mm or more. Therefore, the protruding second anisotropic conductive film portion 31a can be suppressed from above,
The second anisotropic conductive film portion 31a can be prevented from solidifying beyond the upper surface F of the second semiconductor chip 22.

【0042】上記の本実施形態に係る電子回路装置の製
造方法によれば、第1の異方性導電フィルムを固化させ
るときに、はみ出した第1の異方性導電フィルム部分の
高さを抑えて、第1の半導体装置の上面を越えないよう
にすることが可能であり、裏返したときの実装基板の傾
きの発生を防止でき、これにより、実装基板の裏面上に
第2の半導体装置を実装する場合に第2のバンプと実装
基板の第2の電極との間の接続不良の発生を防止して電
子回路装置を製造することが可能である。
According to the method for manufacturing an electronic circuit device according to the present embodiment, when the first anisotropic conductive film is solidified, the height of the protruding first anisotropic conductive film portion is suppressed. Therefore, it is possible to prevent the upper surface of the first semiconductor device from exceeding the upper surface of the first semiconductor device, and to prevent the mounting substrate from being tilted when it is turned upside down. In the case of mounting, it is possible to manufacture an electronic circuit device while preventing occurrence of a connection failure between the second bump and the second electrode of the mounting board.

【0043】本発明の電子回路装置の製造方法におい
て、実装基板上に実装する半導体装置としては、MOS
トランジスタ系半導体装置、バイポーラ系半導体装置、
BiCMOS系半導体装置、ロジックとメモリを搭載し
た半導体装置など、半導体装置であれば何にでも適用可
能である。
In the method for manufacturing an electronic circuit device according to the present invention, the semiconductor device mounted on the mounting substrate may be a MOS device.
Transistor-based semiconductor devices, bipolar-based semiconductor devices,
The present invention can be applied to any semiconductor device such as a BiCMOS semiconductor device and a semiconductor device having a logic and a memory.

【0044】本発明の電子回路装置の製造方法は上記の
実施の形態に限定されない。例えば、仮圧着工程におい
てにも、半導体チップの上面に対して十分に広い面積を
有するヒータヘッドを用いることもできる。また、実装
基板の一面のみに半導体チップを実装する場合にも本発
明を適用することが可能であり、はみ出した異方性導電
フィルムによって実装基板を裏返した場合の傾きの発生
を抑えることができる。また、バンプとしては、金以外
の材料を用いてもよい。また、実装する半導体装置とし
てはベアチップ状態に限らず、ウェーハレベルCSP
(Chip Size Package )などの各種のパッケージ方法で
パッケージ化された半導体装置を実装することも可能で
ある。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の
変更が可能である。
The method for manufacturing the electronic circuit device of the present invention is not limited to the above embodiment. For example, a heater head having a sufficiently large area with respect to the upper surface of the semiconductor chip can also be used in the temporary pressure bonding step. Further, the present invention can be applied to a case where the semiconductor chip is mounted on only one surface of the mounting substrate, and the occurrence of the inclination when the mounting substrate is turned over by the protruding anisotropic conductive film can be suppressed. . Further, a material other than gold may be used for the bump. Also, the semiconductor device to be mounted is not limited to a bare chip state, but may be a wafer level CSP.
It is also possible to mount a semiconductor device packaged by various packaging methods such as (Chip Size Package). In addition, various changes can be made without departing from the gist of the present invention.

【0045】[0045]

【発明の効果】上記のように、本発明の電子回路装置の
製造方法によれば、異方性導電フィルムを固化させると
きに、はみ出した異方性導電フィルム部分の高さを抑え
て、半導体装置の上面を越えないようにすることが可能
であり、裏返したときの実装基板の傾きの発生を防止で
き、これにより、実装基板の両面上に半導体装置を実装
する場合にもバンプと実装基板の電極との間の接続不良
の発生を防止して電子回路装置を製造することが可能で
ある。
As described above, according to the method of manufacturing an electronic circuit device of the present invention, when the anisotropic conductive film is solidified, the height of the protruding anisotropic conductive film portion is suppressed, and It is possible to prevent the mounting board from tilting when it is turned upside down, so that bumps and mounting boards can be prevented even when mounting semiconductor devices on both sides of the mounting board. It is possible to manufacture an electronic circuit device while preventing the occurrence of connection failure between the electrodes.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1(a)は、本実施形態に係る電子回路装置
の製造方法により製造された電子回路装置の断面図であ
り、図1(b)は、バンプと電極の接続部分を拡大した
断面図である。
FIG. 1A is a cross-sectional view of an electronic circuit device manufactured by a method of manufacturing an electronic circuit device according to an embodiment, and FIG. 1B is an enlarged view of a connection portion between a bump and an electrode. FIG.

【図2】図2は、本実施形態に係る電子回路装置の製造
方法の製造工程を示す断面図であり、(a)は第1の半
導体チップの戴置工程まで、(b)は第1の半導体チッ
プの仮圧着工程までを示す。
FIGS. 2A and 2B are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a method for manufacturing an electronic circuit device according to the present embodiment, wherein FIG. 2A is a diagram up to a mounting process of a first semiconductor chip, and FIG. Up to the temporary bonding step of the semiconductor chip.

【図3】図3は、図2の続きの工程を示す断面図であ
り、(c)は第1の異方性導電フィルムの固化工程ま
で、(d)は第2の半導体チップの戴置工程までを示
す。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a step subsequent to that of FIG. 2; FIG. 3 (c) shows a step until solidification of a first anisotropic conductive film, and FIG. The process is shown.

【図4】図4は、図3の続きの工程を示す断面図であ
り、(e)は第2の半導体チップの仮圧着工程まで、
(f)は第2の異方性導電フィルムの固化工程までを示
す。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a step that follows the step shown in FIG. 3;
(F) shows the process up to the step of solidifying the second anisotropic conductive film.

【図5】図5(a)は、従来例に係る電子回路装置の製
造方法により製造された電子回路装置の断面図であり、
図5(b)は、バンプと電極の接続部分を拡大した断面
図である。
FIG. 5A is a cross-sectional view of an electronic circuit device manufactured by a method of manufacturing an electronic circuit device according to a conventional example,
FIG. 5B is an enlarged cross-sectional view of a connection portion between the bump and the electrode.

【図6】図6は、従来例に係る電子回路装置の製造方法
の製造工程を示す断面図であり、(a)は第1の半導体
チップの戴置工程まで、(b)は第1の半導体チップの
仮圧着工程までを示す。
6A and 6B are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a method of manufacturing an electronic circuit device according to a conventional example, in which FIG. 6A illustrates up to a step of mounting a first semiconductor chip, and FIG. The steps up to the step of temporarily bonding a semiconductor chip are shown.

【図7】図7は、図6の続きの工程を示す断面図であ
り、(c)は第1の異方性導電フィルムの固化工程ま
で、(d)は第2の半導体チップの戴置工程までを示
す。
7 is a cross-sectional view showing a step subsequent to that of FIG. 6, wherein (c) shows the step of solidifying the first anisotropic conductive film, and (d) shows the mounting of the second semiconductor chip. The process is shown.

【図8】図8は、図7の続きの工程を示す断面図であ
り、(e)は第2の半導体チップの仮圧着工程まで、
(f)は第2の異方性導電フィルムの固化工程までを示
す。
8 is a cross-sectional view showing a step that follows the step shown in FIG. 7; FIG.
(F) shows the process up to the step of solidifying the second anisotropic conductive film.

【図9】図9は、従来例に係る電子回路装置の製造方法
における問題点を説明する断面図であり、(a)は第1
の異方性導電フィルムの固化工程まで、(b)は第2の
半導体チップの戴置工程までを示す。
FIG. 9 is a cross-sectional view for explaining a problem in a method of manufacturing an electronic circuit device according to a conventional example, and FIG.
(B) shows up to the step of solidifying the anisotropic conductive film, and (b) shows the step of mounting the second semiconductor chip.

【図10】図10は、図9の続きの第2の異方性導電フ
ィルムの固化工程までを示す断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing up to the step of solidifying the second anisotropic conductive film following FIG. 9;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…実装基板、11…第1の電極、12…第2の電
極、20…第1の半導体チップ、21…第1のバンプ、
22…第2の半導体チップ、23…第2のバンプ、30
…第1の異方性導電フィルム、30a…はみ出した第1
の異方性導電フィルム部分、31…第2の異方性導電フ
ィルム、31a…はみ出した第2の異方性導電フィル
ム、B…導電性ボール、F…半導体チップの上面、H…
ヒータヘッド、H1…第1のヒータヘッド、H2…第2
のヒータヘッド、P…基台、S…傾き、T…フルオロエ
チレン系樹脂テープ、X…接続不良。
10 mounting board, 11 first electrode, 12 second electrode, 20 first semiconductor chip, 21 first bump,
22 ... second semiconductor chip, 23 ... second bump, 30
... First anisotropic conductive film, 30a.
, A second anisotropic conductive film, 31a, a protruding second anisotropic conductive film, B, conductive balls, F, upper surface of a semiconductor chip, H,
Heater head, H1 ... first heater head, H2 ... second
Heater head, P: base, S: inclination, T: fluoroethylene resin tape, X: poor connection.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 亀井 重喜 大分県東国東郡国東町大字小原3319番地の 2 ソニー大分株式会社内 (72)発明者 小林 寛隆 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 桐谷 恭子 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 小山 寿樹 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5E319 AB05 BB16 CC12 5F044 LL09 RR03  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Shigeki Kamei 3319, Ohara, Kunisaki-cho, Higashikoku-gun, Oita Prefecture Inside Sony Oita Corporation (72) Inventor Hirotaka Kobayashi 6-7-35 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Kyoko Kiriya 6-35, Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation (72) Inventor Toshiki Koyama 6-35, Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Soni F term in reference (reference) 5E319 AB05 BB16 CC12 5F044 LL09 RR03

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体チップの回路パターンに接続するよ
うに形成されたバンプを有する半導体装置を、電極が形
成された実装基板の少なくとも一方の面上に実装する電
子回路装置の製造方法であって、 実装基板の一方の面を上面にして当該実装基板を基台上
に保持する工程と、 上記一方の面上において上記電極上に異方性導電フィル
ムを設ける工程と、 上記バンプと上記電極とを位置合わせして、上記異方性
導電フィルム上に上記半導体装置を戴置する工程と、 上記半導体装置の上面から加圧して、上記異方性導電フ
ィルムを介して上記バンプと上記電極とを電気的に接続
させる工程と、 上記実装基板と上記半導体装置の間からはみ出した上記
異方性導電フィルム部分が上記半導体装置の上面の高さ
を越えないように上方から抑えながら、上記半導体装置
の上面から加熱して上記異方性導電フィルムを固化させ
て上記半導体装置を固着する工程とを有する電子回路装
置の製造方法。
1. A method of manufacturing an electronic circuit device, comprising: mounting a semiconductor device having a bump formed so as to be connected to a circuit pattern of a semiconductor chip on at least one surface of a mounting substrate on which an electrode is formed. A step of holding the mounting substrate on a base with one surface of the mounting substrate as an upper surface, a step of providing an anisotropic conductive film on the electrode on the one surface, Positioning the semiconductor device on the anisotropic conductive film, and pressing from above the semiconductor device, the bump and the electrode through the anisotropic conductive film Electrically connecting, while suppressing from above the anisotropic conductive film portion protruding from between the mounting substrate and the semiconductor device so as not to exceed the height of the upper surface of the semiconductor device. Method of manufacturing an electronic circuit device and a step of fixing was heated from the top surface to solidify the anisotropic conductive film above the semiconductor device of the semiconductor device.
【請求項2】上記半導体装置の上面から加熱して上記異
方性導電フィルムを固化させて上記半導体装置を固着す
る工程においては、上記半導体装置の上面の面積よりも
少なくとも上記はみ出した異方性導電フィルム部分の面
積分広い加熱面を有する加熱手段により、上記はみ出し
た異方性導電フィルム部分を抑えながら、上記半導体装
置の上面から加熱する請求項1に記載の電子回路装置の
製造方法。
2. The step of heating the upper surface of the semiconductor device to solidify the anisotropic conductive film and fixing the semiconductor device, wherein the anisotropic conductive film at least protrudes beyond the area of the upper surface of the semiconductor device. 2. The method of manufacturing an electronic circuit device according to claim 1, wherein the heating is performed from the upper surface of the semiconductor device while suppressing the protruding anisotropic conductive film portion by a heating means having a heating surface that is wider by the area of the conductive film portion.
【請求項3】上記加熱手段として、少なくとも上記半導
体装置の端面から1mm以上広い加熱面を有する加熱手
段を用いる請求項2に記載の電子回路装置の製造方法。
3. The method for manufacturing an electronic circuit device according to claim 2, wherein said heating means has a heating surface having a heating surface wider by at least 1 mm from an end face of said semiconductor device.
【請求項4】上記半導体装置の上面から加熱して上記異
方性導電フィルムを固化させて上記半導体装置を固着す
る工程においては、上記半導体装置の上面と上記加熱手
段の加熱面との間にフルオロエチレン系樹脂テープを介
在させて加熱する請求項2に記載の電子回路装置の製造
方法。
4. A step of heating the upper surface of the semiconductor device to solidify the anisotropic conductive film and fixing the semiconductor device, wherein the step of heating the upper surface of the semiconductor device and the heating surface of the heating means is performed. 3. The method for manufacturing an electronic circuit device according to claim 2, wherein the heating is performed with a fluoroethylene resin tape interposed therebetween.
【請求項5】上記バンプと上記電極とを電気的に接続さ
せる工程が、上記半導体装置の上面から加圧および加熱
する仮圧着工程である請求項1に記載の電子回路装置の
製造方法。
5. The method for manufacturing an electronic circuit device according to claim 1, wherein the step of electrically connecting the bumps and the electrodes is a temporary pressure bonding step of pressing and heating the upper surface of the semiconductor device.
【請求項6】上記実装基板として可撓性基板を用いる請
求項1に記載の電子回路装置の製造方法。
6. The method for manufacturing an electronic circuit device according to claim 1, wherein a flexible substrate is used as said mounting substrate.
【請求項7】半導体チップの回路パターンに接続するよ
うに形成されたバンプを有し、実質的に同等な形状の第
1の半導体装置および第2の半導体装置を、電極が形成
された実装基板の第1の面および第2の面上にそれぞれ
実装する電子回路装置の製造方法であって、 実装基板の第1の電極が形成された第1の面を上面にし
て当該実装基板を基台上に保持する工程と、 上記第1の面上において上記第1の電極上に第1の異方
性導電フィルムを設ける工程と、 第1の半導体装置に形成された第1のバンプと上記第1
の電極とを位置合わせして、上記第1の異方性導電フィ
ルム上に上記第1の半導体装置を戴置する工程と、 上記第1の半導体装置の上面から加圧して、上記第1の
異方性導電フィルムを介して上記第1のバンプと上記第
1の電極とを電気的に接続させる工程と、 上記実装基板と上記第1の半導体装置の間からはみ出し
た上記第1の異方性導電フィルム部分が上記第1の半導
体装置の上面の高さを越えないように上方から抑えなが
ら、上記第1の半導体装置の上面から加熱して上記第1
の異方性導電フィルムを固化させて上記第1の半導体装
置を固着する工程と、 上記実装基板を裏返して、上記第1の半導体装置側を下
面とし、上記実装基板の第2の電極が形成された第2の
面を上面にして当該実装基板を基台上に保持する工程
と、 上記第2の面上において、上記実装基板から見て上記第
1の異方性導電フィルムに対して面対称となる位置に、
上記第2の電極上に第2の異方性導電フィルムを設ける
工程と、 上記実装基板から見て上記第1の半導体装置に対して面
対称となる位置に、第2の半導体装置に形成された第2
のバンプと上記第2の電極とを位置合わせして、上記第
2の異方性導電フィルム上に上記第2の半導体装置を戴
置する工程と、 上記第2の半導体装置の上面から加圧して、上記第2の
異方性導電フィルムを介して上記第2のバンプと上記第
2の電極とを電気的に接続させる工程と、 上記実装基板と上記第2の半導体装置の間からはみ出し
た上記第2の異方性導電フィルム部分が上記第2の半導
体装置の上面の高さを越えないように上方から抑えなが
ら、上記第2の半導体装置の上面から加熱して上記第2
の異方性導電フィルムを固化させて上記第2の半導体装
置を固着する工程とを有する電子回路装置の製造方法。
7. A mounting substrate having electrodes formed on a first semiconductor device and a second semiconductor device having substantially the same shape and having bumps formed so as to be connected to a circuit pattern of a semiconductor chip. A method of manufacturing an electronic circuit device mounted on a first surface and a second surface, respectively, wherein the first surface of the mounting substrate on which the first electrode is formed is an upper surface, and the mounting substrate is mounted on a base. Holding on the first surface, providing a first anisotropic conductive film on the first electrode on the first surface, and providing a first bump formed on a first semiconductor device with the first bump. 1
Positioning the first semiconductor device on the first anisotropic conductive film, and pressing the upper surface of the first semiconductor device to form the first semiconductor device. A step of electrically connecting the first bump and the first electrode via an anisotropic conductive film; and a step of electrically connecting the first anisotropic element protruding from between the mounting substrate and the first semiconductor device. The first conductive film is heated from the upper surface of the first semiconductor device while holding the conductive film portion from above so as not to exceed the height of the upper surface of the first semiconductor device.
Solidifying the anisotropic conductive film to fix the first semiconductor device; turning the mounting substrate upside down so that the first semiconductor device side is the lower surface, and the second electrode of the mounting substrate is formed. Holding the mounting substrate on a base with the second surface thus set as the upper surface; and, on the second surface, a surface facing the first anisotropic conductive film as viewed from the mounting substrate. In a symmetrical position,
Providing a second anisotropic conductive film on the second electrode; forming a second anisotropic conductive film on the second semiconductor device at a position that is plane-symmetric with respect to the first semiconductor device when viewed from the mounting substrate; The second
Positioning the bump and the second electrode, placing the second semiconductor device on the second anisotropic conductive film, and applying pressure from the upper surface of the second semiconductor device. Electrically connecting the second bump and the second electrode via the second anisotropic conductive film, and protruding from between the mounting substrate and the second semiconductor device. The second anisotropic conductive film is heated from the upper surface of the second semiconductor device while being suppressed from above so that the second anisotropic conductive film portion does not exceed the height of the upper surface of the second semiconductor device.
Solidifying the anisotropic conductive film and fixing the second semiconductor device.
【請求項8】上記第1の半導体装置の上面から加熱して
上記第1の異方性導電フィルムを固化させて上記第1の
半導体装置を固着する工程においては、上記第1の半導
体装置の上面の面積よりも少なくとも上記はみ出した第
1の異方性導電フィルム部分の面積分広い加熱面を有す
る加熱手段により、上記はみ出した第1の異方性導電フ
ィルム部分を抑えながら、上記第1の半導体装置の上面
から加熱する請求項7に記載の電子回路装置の製造方
法。
8. The step of heating the upper surface of the first semiconductor device to solidify the first anisotropic conductive film and fixing the first semiconductor device, The heating means having a heating surface wider by at least the area of the protruding first anisotropic conductive film portion than the area of the upper surface, while suppressing the protruding first anisotropic conductive film portion, The method for manufacturing an electronic circuit device according to claim 7, wherein heating is performed from an upper surface of the semiconductor device.
【請求項9】上記加熱手段として、少なくとも上記第1
の半導体装置の端面から1mm以上広い加熱面を有する
加熱手段を用いる請求項8に記載の電子回路装置の製造
方法。
9. The heating means may include at least the first
9. The method for manufacturing an electronic circuit device according to claim 8, wherein a heating means having a heating surface wider than the end face of the semiconductor device by 1 mm or more is used.
【請求項10】上記第1の半導体装置の上面から加熱し
て上記第1の異方性導電フィルムを固化させて上記第1
の半導体装置を固着する工程においては、上記第1の半
導体装置の上面と上記加熱手段の加熱面との間にフルオ
ロエチレン系樹脂テープを介在させて加熱する請求項8
に記載の電子回路装置の製造方法。
10. The first anisotropic conductive film is heated from the upper surface of the first semiconductor device to solidify the first anisotropic conductive film.
9. The method of fixing a semiconductor device according to claim 8, wherein the heating is performed by interposing a fluoroethylene resin tape between an upper surface of the first semiconductor device and a heating surface of the heating means.
3. The method for manufacturing an electronic circuit device according to claim 1.
【請求項11】上記第2の半導体装置の上面から加熱し
て上記第2の異方性導電フィルムを固化させて上記第2
の半導体装置を固着する工程においては、上記第2の半
導体装置の上面の面積よりも少なくとも上記はみ出した
第2の異方性導電フィルム部分の面積分広い加熱面を有
する加熱手段により、上記はみ出した第2の異方性導電
フィルム部分を抑えながら、上記第2の半導体装置の上
面から加熱する請求項7に記載の電子回路装置の製造方
法。
11. The second anisotropic conductive film is heated from the upper surface of the second semiconductor device to solidify the second anisotropic conductive film.
In the step of fixing the semiconductor device, the protruding portion is heated by a heating means having a heating surface which is at least larger than the area of the upper surface of the second semiconductor device by an area of the protruding second anisotropic conductive film portion. 8. The method of manufacturing an electronic circuit device according to claim 7, wherein the heating is performed from the upper surface of the second semiconductor device while suppressing the second anisotropic conductive film portion.
【請求項12】上記加熱手段として、少なくとも上記第
2の半導体装置の端面から1mm以上広い加熱面を有す
る加熱手段を用いる請求項11に記載の電子回路装置の
製造方法。
12. The method of manufacturing an electronic circuit device according to claim 11, wherein a heating means having a heating surface at least 1 mm wider than an end face of said second semiconductor device is used as said heating means.
【請求項13】上記第2の半導体装置の上面から加熱し
て上記第2の異方性導電フィルムを固化させて上記第2
の半導体装置を固着する工程においては、上記第2の半
導体装置の上面と上記加熱手段の加熱面との間にフルオ
ロエチレン系樹脂テープを介在させて加熱する請求項1
1に記載の電子回路装置の製造方法。
13. The second anisotropic conductive film is heated from the upper surface of said second semiconductor device to solidify said second anisotropic conductive film.
2. The step of fixing the semiconductor device according to claim 1, wherein the heating is performed by interposing a fluoroethylene resin tape between an upper surface of the second semiconductor device and a heating surface of the heating means.
2. The method for manufacturing an electronic circuit device according to item 1.
【請求項14】上記第1のバンプと上記第1の電極とを
電気的に接続させる工程が、上記第1の半導体装置の上
面から加圧および加熱する仮圧着工程である請求項7に
記載の電子回路装置の製造方法。
14. The method according to claim 7, wherein the step of electrically connecting the first bump and the first electrode is a temporary pressure bonding step of pressing and heating the upper surface of the first semiconductor device. Of manufacturing an electronic circuit device.
【請求項15】上記第2のバンプと上記第2の電極とを
電気的に接続させる工程が、上記第2の半導体装置の上
面から加圧および加熱する仮圧着工程である請求項7に
記載の電子回路装置の製造方法。
15. The method according to claim 7, wherein the step of electrically connecting the second bump and the second electrode is a temporary pressure bonding step of pressing and heating the upper surface of the second semiconductor device. Of manufacturing an electronic circuit device.
【請求項16】上記実装基板として可撓性基板を用いる
請求項7に記載の電子回路装置の製造方法。
16. The method according to claim 7, wherein a flexible substrate is used as the mounting substrate.
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