[go: up one dir, main page]

JP2002158379A - 熱電変換素子集合体、熱電モジュール及び熱電変換素子集合体の製造方法 - Google Patents

熱電変換素子集合体、熱電モジュール及び熱電変換素子集合体の製造方法

Info

Publication number
JP2002158379A
JP2002158379A JP2000354378A JP2000354378A JP2002158379A JP 2002158379 A JP2002158379 A JP 2002158379A JP 2000354378 A JP2000354378 A JP 2000354378A JP 2000354378 A JP2000354378 A JP 2000354378A JP 2002158379 A JP2002158379 A JP 2002158379A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thermoelectric conversion
conversion element
type semiconductor
thermoelectric
element assembly
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000354378A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoshi Yokogawa
清志 横川
Masanori Kuroda
正範 黒田
Takahiro Tsutsumoto
隆博 筒本
Toshio Yamaguchi
登司夫 山口
Kenichi Sunamoto
健市 砂本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DAIHAKU KOGYO KK
Akane Co Ltd
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
DAIHAKU KOGYO KK
Akane Co Ltd
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DAIHAKU KOGYO KK, Akane Co Ltd, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST filed Critical DAIHAKU KOGYO KK
Priority to JP2000354378A priority Critical patent/JP2002158379A/ja
Publication of JP2002158379A publication Critical patent/JP2002158379A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】熱電モジュールにおいて、熱電変換素子に偏荷
重が作用するおそれを低減する。 【解決手段】n型半導体6aとp型半導体6bとが交互
に電極3をもって直列に接続される熱電変換素子群が一
対のセラミックス基板4をもって挟持されている。その
うち、n型半導体6aとp型半導体6bとは、板状の熱
電変換素子集合板2内にその両板面から露出するように
しつつ埋め込まれ、電極3は、n型半導体6aとp型半
導体6bとを跨ぐようにした状態で各セラミックス基板
4と熱電変換素子集合板2との間に挟持されている。こ
れにより、偏荷重が電極3を介してn型半導体6a、p
型半導体6bに働くとしても、その荷重は、n型半導体
6a、p型半導体6bだけでなく、それらを埋め込む熱
電変換素子集合板2によっても受け止められることにな
る(荷重分散)。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱電変換素子集合
体、熱電モジュール及び熱電変換素子集合体の製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】熱電モジュールとして、ペルチェ素子を
利用したものがある。この熱電モジュール101は、原
理的には、図13に示すように、n型半導体106aと
p型半導体106bと電極103a,103b,103
cを接続した構成の下において、n型半導体106aの
下側電極103aに正の電圧、p型半導体106bの下
側電極103bに負の電圧を印加すると、上側電極10
3cからエネルギを奪って、n型半導体106aでは電
子が、p型半導体106bでは正孔が上側電極103c
から下側電極103a,103bに移動することにな
り、その上側電極103cのエネルギが下側電極103
a,103bで放出されることになる。このため、上側
電極103cが冷され、下側電極103a,103bが
暖まることになる。
【0003】具体的には、上記熱電モジュール101の
構造は、図14に示すように、n型半導体106aとp
型半導体106bとを交互に電極103をもって直列に
接続された熱電変換素子群を一対の絶縁基板104を介
して一対の金属部材(ヒートシンク)110をもって挟
持する構造となっており、その構造は、基本的には、n
型半導体106a、p型半導体106b及び電極103
を一つずつ組み合わせたものを最小の単位として、その
単位の繰り返しにより構成されることになっている。
【0004】このため、このような熱電モジュール10
1を製造するに際しては、通常、直径30〜40mmの
一方向に凝固した熱電変換材料(n型半導体材料とp型
半導体材料)を用意し、その熱電変換材料を素子長さに
相当する厚さにスライス状に切断してスライス状材料を
得、そのスライス状材料の表裏に良好な半田付け性を得
るためのNiメッキを施した後、それを多数のサイコロ
状に切断して熱電変換素子(一辺が2mm程度)を得る
こととされる。そしてその上で、そのサイコロ状の個々
の熱電変換素子は、絶縁基板104上に電極103と共
に配設され、n型半導体106aとp型半導体106b
とが交互に直列的な接続関係が得られるように組み立て
られる。
【0005】ところで、前述の熱電モジュール101の
挟持構造においては、図14に示すように、金属部材1
10を絶縁基板104にしっかりと密着させて吸熱や放
熱を効果的に行わしめるべく、ねじ109が利用されて
いる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記熱電モジ
ュール101の挟持構造にねじ109を利用した場合、
組立時等において、熱電変換素子(n型半導体106
a,p型半導体106b)に偏荷重が作用するおそれが
あり、その偏荷重が熱電変換素子に作用し続けたときに
は、熱電変換素子自体が破損するおそれがある。
【0007】また、ねじ109を利用した強固な熱電モ
ジュール101の挟持構造の下においては、熱電モジュ
ール101の作用時に、吸熱側においては、絶縁基板1
04が収縮し、放熱側においては絶縁基板104が膨張
することになり、図15に示すように、熱応力をもって
熱電変換素子に横方向に大きな力が作用し、該熱電変換
素子の寿命が短くなる傾向にある。
【0008】さらに、上記熱電モジュール101におい
ては、サイコロ状の熱電変換素子を用いることから、製
造段階において、スライス状材料からサイコロ状の熱電
変換素子を切り出さなければならず、そのサイコロ状の
熱電変換素子を切り出すに際して、材料の劈開性等に基
づき、端部が欠損する等の不良品が出て、歩留まりがあ
まり高くない状況にある。しかも、仮に、規格通り熱電
変換素子が切り出されたとしても、その切り出された個
々の熱電変換素子は、組立工程において、絶縁基板10
4上の所定個所に電極103と共に逐一配設しなければ
ならず、組立が煩雑な状況にある。
【0009】本発明は以上のような事情を勘案してなさ
れたもので、その第1の技術的課題は、熱電モジュール
において、熱電変換素子に偏荷重が作用するおそれを低
減すると共に、熱応力に基づく熱電変換素子の寿命低下
を抑制し、さらには、熱電変換素子の歩留まりの低下と
組立工程の煩雑さを解消する熱電変換素子集合体を提供
することにある。
【0010】第2の技術的課題は、上記熱電変換素子集
合体を利用した熱電モジュールを提供することにある。
【0011】第3の技術的課題は、上記熱電変換素子集
合体を効率的に製造できる熱電変換素子集合体の製造方
法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記第1の技術的課題を
達成するために本発明(請求項1の発明)にあっては、
板状の絶縁体に複数の貫通孔が形成され、前記各貫通孔
内に熱電変換素子がそれぞれ埋め込まれ、前記各熱電変
換素子が、前記各貫通孔の両端から外部に露出してい
る、ことを特徴とする熱電変換素子集合体とした構成と
してある。この請求項1の好ましい態様としては、請求
項2〜3の記載の通りとなる。
【0013】上記第2の技術的課題を達成するために本
発明(請求項4の発明)にあっては、n型半導体とp型
半導体とが交互に電極をもって直列に接続される熱電変
換素子群が一対の絶縁基板をもって挟持される熱電モジ
ュールにおいて、前記n型半導体と前記p型半導体と
が、板状の絶縁体内に該絶縁体の両板面から露出するよ
うにしつつ埋め込まれ、前記電極が、前記n型半導体と
前記p型半導体とを跨ぐようにした状態で前記各絶縁基
板と前記絶縁体との間に挟持されている構成としてあ
る。この請求項4の好ましい態様としては、請求項5〜
6の記載の通りとなる。
【0014】上記第3の技術的課題を達成するために本
発明(請求項7の発明)にあっては、同一方向に延びる
複数の充填孔を有する絶縁ブロック体を用意し、前記各
充填孔に、熱電変換素子をそれぞれ埋め込み、その後、
前記熱電変換素子を埋め込んだ絶縁ブロック体を、前記
各熱電変換素子が外部露出するように切断する、ことを
特徴とする熱電変換素子集合体の製造方法とした構成と
してある。この請求項7の好ましい態様としては、請求
項8〜10の記載の通りとなる。
【0015】
【発明の効果】請求項1に記載された発明によれば、当
該熱電変換素子集合体が板状の絶縁体に複数の貫通孔が
形成され、その各貫通孔内に熱電変換素子がそれぞれ埋
め込まれ、各熱電変換素子が、各貫通孔の両端から外部
に露出していることから、熱電モジュールにおいて当該
熱電変換素子集合体を用い、その熱電変換素子集合体に
埋め込まれた熱電変換素子を従来と同様に電極を介して
直列に接続すれば、熱電モジュール本来の機能を担保で
きることになる。その一方、組立時等において、一対の
金属部材におけるねじの締結力に基づき、挟持力とし
て、偏荷重が電極を介して働くとしても、その荷重は、
熱電変換素子だけでなく、それを埋め込む絶縁体によっ
ても受け止められることになり(荷重分散)、偏荷重が
熱電変換素子に作用することを抑制できることになる。
このため、偏荷重に基づき熱電変換素子が破損すること
を抑えることができることになる。
【0016】また、ねじを利用した強固な熱電モジュー
ルの挟持構造の下においては、熱電モジュールの使用時
に、吸熱側においては、セラミックス基板が収縮し、放
熱側においてはセラミックス基板が膨張することにな
り、その熱応力をもって横方向の力が電極を介して熱電
変換素子に作用するけれども、各熱電変換素子は、熱電
変換素子集合体に埋め込まれた状態で保持されており、
その熱応力に基づく横方向の力に対して十分に抗するこ
とができることになる。このため、熱応力に基づく熱電
変換素子の寿命低下を抑制できることになる。
【0017】さらに、熱電モジュールにおいて、熱電変
換素子を個々に用いるのではなく、絶縁体に熱電変換素
子を埋め込んだ熱電変換素子集合体として用いることか
ら、製造工程における熱電変換素子集合板の切り出し工
程において、熱電変換素子を個々に切り出すことなく、
熱電変換素子が絶縁体により保護された状態で切り出さ
れることになり、熱電変換素子の歩留まりを高めること
ができることになる。
【0018】さらにまた、熱電モジュールにおいて、熱
電変換素子を個々に用いるのではなく、予め位置関係が
決められた複数の熱電変換素子を保持する熱電変換素子
集合板を用いることから、組立工程において、個々の熱
電変換素子を逐一並べて回路を形成する必要はなくな
り、組立工程における作業性を向上させることができる
ことになる。
【0019】請求項2に記載された発明によれば、熱電
変換素子が、種類として、n型半導体とp型半導体とを
含み、そのn型半導体とp型半導体とが隣り合うように
配設されていることから、熱電モジュールの組立におい
て、電極を用いてn型半導体とp型半導体とを交互に直
列に接続することを容易にすることができることにな
る。
【0020】請求項3に記載された発明によれば、n型
半導体及びp型半導体の露出面が絶縁体の板面に対して
面一とされていることから、電極を絶縁体の板面に配設
されるだけで、n型半導体とp型半導体とを直列に接続
することができ、当該熱電モジュールの回路を簡単に形
成できることになる。しかも、電極を絶縁体の板面に配
設されるだけでn型半導体とp型半導体とが接続される
ことに基づき、n型半導体及びp型半導体に対して電極
を接着しないで接続関係を確保し、熱電モジュール使用
時における熱応力に基づく横力を、当該熱電変換素子集
合体と電極との相対的変位動により吸収できることにな
る。
【0021】請求項4に記載された発明によれば、n型
半導体とp型半導体とが交互に電極をもって直列に接続
される熱電変換素子群が一対の絶縁基板をもって挟持さ
れる熱電モジュールにおいて、n型半導体とp型半導体
とが、板状の絶縁体内に該絶縁体の両板面から露出する
ようにしつつ埋め込まれ、電極が、n型半導体とp型半
導体とを跨ぐようにした状態で各絶縁基板と絶縁体との
間に挟持されていることから、熱電変換素子としてのn
型半導体及びp型半導体を埋め込んだ前記請求項1に係
る熱電変換素子集合体を利用して熱電モジュールを構成
できることになる。
【0022】請求項5に記載された発明によれば、電極
が、n型半導体とp型半導体とに対して当接状態にある
ことから、n型半導体とp型半導体とを直列的に接続す
ることができる一方、n型半導体及びp型半導体に対し
て電極を接着しないで接続関係を確保し、熱電モジュー
ル使用時における熱応力に基づく横力を、絶縁体、n型
半導体及びp型半導体に対する電極の相対的変位動によ
り吸収できることになる。
【0023】請求項6に記載された発明によれば、電極
が、n型半導体、p型半導体の少なくとも一方に接着さ
れていることから、熱電モジュール使用時における熱応
力に基づく横力を、熱電変換素子を絶縁体に埋め込むこ
とにより支える一方、電極と、n型半導体、p型半導体
の少なくとも一方との接続関係を確実に得ることができ
ることになる。
【0024】請求項7に記載された発明によれば、同一
方向に延びる複数の充填孔を有する絶縁ブロック体を用
意し、各充填孔に、熱電変換素子をそれぞれ埋め込み、
その後、熱電変換素子を埋め込んだ絶縁ブロック体を、
各熱電変換素子が充填孔を介して外部に露出するように
切断することから、その切断によって前記請求項1に係
る熱電変換素子集合体を効率的に順次、得ることができ
ることになる。
【0025】請求項8に記載された発明によれば、各充
填孔に熱電変換素子をそれぞれ埋め込むことが、該各充
填孔に熱電変換素子材料をそれぞれ充填した後、熱電変
換素子材料を焼結することであることから、焼結体を生
成することを利用して、各充填孔に熱電変換素子を埋め
込むことができることになり、熱電変換素子を埋め込ん
だ絶縁ブロック体を簡単に得ることができることにな
る。
【0026】請求項9に記載された発明によれば、各充
填孔に熱電変換素子材料をそれぞれ充填することが、各
充填孔内に、熱電変換素子材料として、n型半導体とp
型半導体とを隣り合うように充填することであることか
ら、n型半導体とp型半導体とが隣り合うように配設さ
れている絶縁ブロック体を簡単に得ることができること
になる。
【0027】請求項10に記載された発明によれば、各
充填孔に熱電変換素子をそれぞれ埋め込むことが、熱間
押し出し成形された熱電変換素子を充填孔に入れ込むこ
とであることから、熱間押し出し成形を利用して、熱電
変換素子を埋め込んだ絶縁ブロック体を簡単に得ること
ができることになる。
【0028】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面に基づいて説明する。
【0029】図1において、符号1は、本実施形態に係
る熱電モジュールを示す。この熱電モジュール1は、熱
電変換素子集合体としての熱電変換素子集合板2と、電
極3と、一対の絶縁基板としての一対のセラミックス基
板4とから概略構成されている。
【0030】上記熱電変換素子集合板2は、図1、図2
に示すように、絶縁体としてのセラミックス保持体5
と、そのセラミックス保持体5に埋め込まれる複数の熱
電変換素子6とからなる。
【0031】上記セラミックス保持体5は、例えば約2
mm程度の厚みLの板状に形成されており、その両板面
5aは、互いに平行な平坦面を形成している。このセラ
ミックス保持体5には、その両板面5aが貫通するよう
に複数の貫通孔(充填孔)7が形成されており、その各
貫通孔7は、隣り合う貫通孔7に対して一定間隔を維持
するように規則正しく配置され、その配置パターンとし
て、本実施形態においては、図2に示すように、列をな
すパターンが採られている。
【0032】上記熱電変換素子6は、n型半導体6aと
p型半導体6bとからなる。このn型半導体6aとp型
半導体6bとは、前記貫通孔7に交互に埋め込まれてお
り、このn型半導体6a、p型半導体6bの貫通孔7か
らの露出面は、セラミックス保持体5の板面5aに対し
て面一とされている。
【0033】上記電極3は、薄板状とされて、熱電変換
素子集合板2の両板面2a(セラミックス保持体5の板
面5a)において交互に、隣り合うn型半導体6aとp
型半導体6bとの間を跨いでいる。これより、熱電変換
素子集合板2におけるn型半導体6a、p型半導体6b
の全ては、交互に直列に接続されることになり、それ
は、最終的には、外部電源に接続すべき端子8に導かれ
ることになっている。
【0034】上記一対のセラミックス基板4は、絶縁性
を確保しつつ、各電極3と、n型半導体6a、p型半導
体6bとの密着性を増加させて、各電極3と、n型半導
体6a、p型半導体6bとの接続性を向上させるべく、
ねじ9を用いた一対の金属部材10(ヒートシンク)に
基づく挟持力により、熱電変換素子集合板2の両板面側
において、該熱電変換素子集合板2と協働して各電極3
を挟持している。本実施形態においては、セラミックス
基板4と各電極3とは、単に当接している関係だけとさ
れて接着関係にはなく、また、接続すべきn型半導体6
a、p型半導体6bの少なくとも一方と電極3とは、一
体としての取り扱いが取り扱い性、作業性を向上させる
ことから、半田付けによる半田層等により接着されてい
る。勿論、この接着により接続関係も向上することにな
る。
【0035】したがって、このような熱電モジュール1
においては、熱電変換素子6(n型半導体6a、p型半
導体6b)を保持する熱電変換素子集合板2を用いるこ
とから、組立時において、一対の金属部材10における
ねじ9の締結力に基づき、挟持力として、偏荷重が電極
3を介して働くとしても、その荷重は、熱電変換素子6
だけでなくセラミックス保持体5によっても受け止めら
れることになり、偏荷重が熱電変換素子6に作用するこ
とを抑制して該熱電変換素子6が破損することを抑える
ことができることになる。
【0036】また、ねじ9を利用した強固な熱電モジュ
ール1の挟持構造の下においては、熱電モジュール1の
使用時に、吸熱側においては、セラミックス基板4が収
縮し、放熱側においてはセラミックス基板4が膨張する
ことになり、その熱応力をもって横方向の力(横力)が
電極3を介して熱電変換素子6に作用するが、各熱電変
換素子6は、熱電変換素子集合板2に埋め込まれた状態
で保持されており、その熱応力に基づく横力に対して十
分に抗することができることになる。しかも、セラミッ
クス基板4と各電極3とは、接着されず挟持力だけをも
って保持されており、熱応力に基づく横力を、セラミッ
クス基板4と各電極3との相対的変位動をもって吸収で
きることになる。勿論、この効果は、各電極3が熱電変
換素子6のいずれもと接着されず当接関係だけにあると
きには、より大きなものとなる。
【0037】さらに、熱電モジュール1において、熱電
変換素子6を個々に用いるのではなく、セラミックス保
持体5に熱電変換素子6を埋め込んだ熱電変換素子集合
板2を用いていることから、製造工程において、熱電変
換素子6を個々に切り出さずに、熱電変換素子集合板2
を切り出せばよくなり、その切り出し工程において、熱
電変換素子6がセラミックス保持体5により保護される
ことになる。これにより、端部が欠損等する不良品の出
現を抑えることができることになり、熱電変換素子6の
歩留まりを高めることができることになる。
【0038】さらにまた、熱電モジュール1において、
熱電変換素子6を個々に用いるのではなく、予め位置関
係が決められた複数の熱電変換素子6を保持する熱電変
換素子集合板2を用いることから、組立工程において、
個々の熱電変換素子6を逐一並べて回路を形成する必要
はなくなり、組立工程における作業性を向上させること
ができることになる。
【0039】このような有益な熱電変換素子集合板2
は、次のようにして製造される。
【0040】先ず、前記セラミックス保持体5の厚みL
に比して、厚みがかなり厚い点だけが異なる絶縁ブロッ
ク体としてのブロック状セラミックス体11(例えば、
厚みが50mm程度のもの)を用意する(図3、図4参
照)。セラミックス体11の厚みを厚くすることに基づ
き、後工程における切断工程において、熱電変換素子集
合板2を効率的に得ることができるようにするためであ
る。
【0041】この場合、このセラミックス体11も、前
述の配置をもって、複数の貫通孔7を有しており、その
各貫通孔7は、その延び方向において対向する両対向面
を貫通して外部に開口している。このセラミックス体1
1は、後工程における切断工程での切断し易さ、セラミ
ックス保持体5としての使用時の断熱性等を考慮して、
その構成材料として、切断し易く断熱性を有する材料を
選択したり、その切断し易さ、断熱性の観点に加えて割
れ防止の観点から、内部に空孔を存在させるようにする
こと等の工夫を施すことが好ましい。
【0042】次に、熱電変換素子材料として、n型半導
体材料6aa(例えばBi1.8Sb0.2Te2.85Se0.15 + 0.0
6mass% SbI3)、p型半導体材料6bb(例えばBi0.5Sb
1.5Te3 + 1.75mass%Se)を用意し、そのn型半導体材
料6aa、p型半導体材料6bbをセラミックス体11
の該当貫通孔7に充填して、そのn型半導体材料6a
a、p型半導体材料6bbを焼結する。熱電変換素子材
料として、n型半導体材料6aa、p型半導体材料6b
bを用意するのは、熱電モジュール1の構成要素である
n型半導体6aとp型半導体6bとを生成するためであ
り、セラミックス体11の該当貫通孔7にn型半導体材
料6aa、p型半導体材料6bbを充填して、そのn型
半導体材料6aa、p型半導体材料6bbを焼結するの
は、セラミックス体11の該当貫通孔7内にn型半導体
6a、p型半導体6bを埋め込むためである。
【0043】具体的には、上記工程は、材料融点等の相
違から、n型半導体材料6aa、p型半導体材料6bb
毎に行われることになっており、これを、図5〜図8を
参照しつつ説明すると、下記の通りとなる。
【0044】先ず、熱電変換素子材料をセラミックス体
11の貫通孔7に充填するに際しては、焼結装置12が
利用される。すなわち、焼結装置12においては、図5
に示すように、筒状の黒鉛型13内に、リフト軸14に
断熱材15を介して支えられる黒鉛ブロック16が下側
から進入して、これらが熱電変換素子材料を収容する収
容空間17を形成しており、熱電変換素子材料をセラミ
ックス体11の貫通孔7に充填する最初の工程において
は、その収容空間17内に、p型半導体材料6bbより
も融点が高いn型半導体材料6aaが収容されると共に
前記セラミックス体11が上側から嵌合され、そのセラ
ミックス体11の上面に黒鉛ブロック18、断熱材19
を介して加圧軸20が当接される。
【0045】このとき、仕切り板21により、セラミッ
クス体11下面における貫通孔7の一端開口の一部が閉
塞されて、n型半導体材料6aaを進入させる貫通孔7
の一端開口のみが開口されるように設定される。またこ
のとき、黒鉛型13の側面には、一対の電極22が当接
され、その一対の電極22をもって黒鉛型13に電流を
供給すべき準備もなされる。
【0046】次に、図6に示すように、加圧軸20によ
りn型半導体材料6aaに対して加圧力を加えて該当貫
通孔7内にn型半導体材料6aaを導くと共に、黒鉛型
13に電極22により電流が供給されてその充填された
n型半導体材料6aaに対して、加圧状態の下で熱が付
与される。この場合、具体的には、図9に示すタイムチ
ャートに従って、焼結処理が行われるが、本実施形態に
おいては、n型半導体材料6aaの流動性等を高めるべ
く、焼結後、n型半導体材料6aaの融点手前まで加熱
処理と加圧処理とが続けられる。これにより、n型半導
体材料6aaが充填された貫通孔7内おいて、焼結体た
るn型半導体6aが形成されることになる。
【0047】次に、図7に示すように、前記同様の焼結
装置12において、前記収容空間17にn型半導体材料
6aaに代えてp型半導体材料6bbを収容すると共
に、上記n型半導体6aが貫通孔7内に形成されたセラ
ミックス体11を嵌合する。このとき、仕切り板21に
より、これまで閉塞してきた貫通孔7の一端開口があけ
られる一方、n型半導体6aが形成された貫通孔7の一
端開口は閉塞される。
【0048】次に、前記n型半導体材料6aaの場合と
同様、加圧軸20の加圧により、空いた貫通孔7にp型
半導体材料6bbを充填すると共に、電極22からの電
流に基づく熱により焼結処理を行い、新たに充填された
貫通孔7内において、焼結体たるp型半導体6bを形成
する。これにより、図10、図11に示すように、セラ
ミックス体11の複数の貫通孔7において、n型半導体
材料6aa及びp型半導体材料6bbが埋め込まれたも
のが形成されることになる。
【0049】次に、n型半導体材料6aa及びp型半導
体材料6bbが埋め込まれたブロック体を、貫通孔7の
延び方向において順次、スライス状に切断する。図11
において、Cは切断線を示す。これにより、前記熱電変
換素子集合板2は、効率的に順次、作製されることにな
る。
【0050】したがって、上記製造においては、セラミ
ックス体11における焼結処理と切り出し工程とを組み
合わせることにより、熱電変換素子集合板2を簡単に製
造できることになる。
【0051】しかも、切り出し工程において、熱電変換
素子6自体を製造せず(切り出さず)、熱電変換素子6
をセラミックス保持体5に保持する熱電変換素子集合板
2を切り出すことから、切り出し工程において、熱電変
換素子6がセラミックス保持体5により保護されること
になり、不良品の出現を抑えて、熱電変換素子6の歩留
まりを高めることができることになる。
【0052】図12は他の実施形態を示すものである。
この実施形態において、前記実施形態と同一構成要素に
ついては同一符号を付してその説明を省略する。
【0053】この実施形態においては、セラミック体1
1の貫通孔7内にn型半導体6a及びp型半導体6bを
埋め込むべく、熱間押し出し成形によりセラミック体1
1の貫通孔7内に成形品を押し込むようにしたものであ
る。すなわち、コンテナ23内に焼結体としてのn型半
導体6a(又はp型半導体6b)が熱を加えた状態で収
納され、それが、ラム24による加圧力に基づき、ダイ
ス25を介して押し出し成形され、その成形品26がセ
ラミックス体11の貫通孔7内に押し込まれることにな
っている。これにより、焼結体としてのn型半導体6a
(又はp型半導体6b)の結晶粒が小さくなり、熱電材
料の性能指数が向上することが期待できることになる。
【0054】以上実施形態について説明したが本発明に
ついてはについては次のような態様を包含する。 1)熱電変換素子集合板2として、円板等、各種の形状
のものを含むこと。 2)熱電変換素子集合板2(セラミックス体11)にお
ける貫通孔7(熱電変換素子6)の配置パターンを適宜
決めること。 3)電極3と熱電変換素子6(n型半導体6a、p型半
導体6b)のいずれもが、半田付け等により接着され
ず、当接関係だけにある態様、電極3と熱電変換素子6
のいずれもが、半田付け等により接着される態様、セラ
ミックス基板4と各電極3とが接着される態様等の各種
態様を包含すること。 4)セラミックス体11に形成する充填孔を、貫通孔に
限らず、有底状の孔(一端のみが開口するもの)とし、
そのセラミックス体11の切断により得られる熱電変換
素子集合板2において、貫通孔7が形成されるようにす
ること。 5)絶縁ブロック体として、焼結程度の小さいアルミナ
材(仮焼結状態であって、例えば密度75%程度)、ア
ルミナ繊維からなるブロックや珪素土ブロックに機械的
に穿孔し、孔の中に耐火物の泥奨で目留めしたもの、ロ
ストワックス法を用いて作製した有孔セラミックス等、
各種の有孔セラミックスを使用すること。
【0055】尚、本発明の目的は、明記されたものに限
らず、実質的に好ましい或は利点として記載されたもの
に対応したものを提供することをも暗黙的に含むもので
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態に係る熱電モジュールを示す説明図。
【図2】実施形態に係る熱電モジュールを示す平面図。
【図3】実施形態に係るセラミック体を示す平面図。
【図4】図3の縦断面図。
【図5】セラミック体の複数の貫通孔へのn型半導体の
埋め込みを説明する説明図。
【図6】図5の続きを示す動作状態図。
【図7】セラミック体の複数の貫通孔へのp型半導体の
埋め込みを説明する説明図。
【図8】図7の続きを示す動作状態図。
【図9】実施形態に係る焼結装置の作動を説明するタイ
ムチャート。
【図10】熱電変換素子が埋め込まれた実施形態に係る
セラミック体を示す平面図。
【図11】図10の縦断面図。
【図12】他の実施形態を示す説明図。
【図13】従来技術に係る熱電モジュールの動作原理を
説明する説明図。
【図14】従来技術に係る熱電モジュールを示す正面
図。
【図15】従来技術に係る熱電モジュールの熱電変換素
子が熱応力に基づく横力を受けた状態を説明する説明
図。
【符号の説明】
1 熱電モジュール 2 熱電変換素子集合板 3 電極 4 セラミックス基板 6 熱電変換素子 6a n型半導体 6aa n型半導体 6b p型半導体 6bb p型半導体 7 貫通孔 11 セラミックス体 12 焼結装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 594043122 株式会社アカネ 広島県広島市安芸区船越南2丁目6番3号 (74)上記3名の代理人 100080768 弁理士 村田 実 (72)発明者 横川 清志 広島県呉市広末広2丁目2番2号 工業技 術院中国工業技術研究所内 (72)発明者 黒田 正範 広島県呉市広末広2丁目2番2号 工業技 術院中国工業技術研究所内 (72)発明者 筒本 隆博 広島県呉市望地町5の67 (72)発明者 山口 登司夫 大阪府大阪市西区九条南2丁目23番20号 大博鋼業株式会社内 (72)発明者 砂本 健市 広島県広島市安芸区船越南2丁目6番3号

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】板状の絶縁体に複数の貫通孔が形成され、 前記各貫通孔内に熱電変換素子がそれぞれ埋め込まれ、 前記各熱電変換素子が、前記各貫通孔の両端から外部に
    露出している、ことを特徴とする熱電変換素子集合体。
  2. 【請求項2】請求項1において、 前記熱電変換素子が、種類として、n型半導体とp型半
    導体とを含み、 前記n型半導体と前記p型半導体とが隣り合うように配
    設されている、ことを特徴とする熱電変換素子集合体。
  3. 【請求項3】請求項1において、 前記熱電変換素子が、種類として、n型半導体とp型半
    導体とを含み、 前記n型半導体及び前記p型半導体の露出面が前記絶縁
    体の板面に対して面一とされている、ことを特徴とする
    熱電変換素子集合体。
  4. 【請求項4】n型半導体とp型半導体とが交互に電極を
    もって直列に接続される熱電変換素子群が一対の絶縁基
    板をもって挟持される熱電モジュールにおいて、 前記n型半導体と前記p型半導体とが、板状の絶縁体内
    に該絶縁体の両板面から露出するようにしつつ埋め込ま
    れ、 前記電極が、前記n型半導体と前記p型半導体とを跨ぐ
    ようにした状態で前記各絶縁基板と前記絶縁体との間に
    挟持されている、ことを特徴とする熱電モジュール。
  5. 【請求項5】請求項4において、 前記電極が、前記n型半導体と前記p型半導体とに対し
    て当接状態にある、ことを特徴とする熱電モジュール。
  6. 【請求項6】請求項4において、 前記電極が、前記n型半導体、前記p型半導体の少なく
    とも一方に接着されている、ことを特徴とする熱電モジ
    ュール。
  7. 【請求項7】同一方向に延びる複数の充填孔を有する絶
    縁ブロック体を用意し、 前記各充填孔に、熱電変換素子をそれぞれ埋め込み、 その後、前記熱電変換素子を埋め込んだ絶縁ブロック体
    を、前記各熱電変換素子が前記充填孔を介して外部に露
    出するように切断する、ことを特徴とする熱電変換素子
    集合体の製造方法。
  8. 【請求項8】請求項7において、 前記各充填孔に熱電変換素子をそれぞれ埋め込むこと
    が、該各充填孔に熱電変換素子材料をそれぞれ充填した
    後、前記熱電変換素子材料を焼結することである、こと
    を特徴とする熱電変換素子集合体の製造方法。
  9. 【請求項9】請求項8において、 前記各充填孔に熱電変換素子材料をそれぞれ充填するこ
    とが、前記各充填孔内に、前記熱電変換素子材料とし
    て、n型半導体とp型半導体とを隣り合うように充填す
    ることである、ことを特徴とする熱電変換素子集合体の
    製造方法。
  10. 【請求項10】請求項7において、 前記各充填孔に熱電変換素子をそれぞれ埋め込むこと
    が、熱間押し出し成形された熱電変換素子を前記充填孔
    に入れ込むことである、ことを特徴とする熱電変換素子
    集合体の製造方法。
JP2000354378A 2000-11-21 2000-11-21 熱電変換素子集合体、熱電モジュール及び熱電変換素子集合体の製造方法 Pending JP2002158379A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000354378A JP2002158379A (ja) 2000-11-21 2000-11-21 熱電変換素子集合体、熱電モジュール及び熱電変換素子集合体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000354378A JP2002158379A (ja) 2000-11-21 2000-11-21 熱電変換素子集合体、熱電モジュール及び熱電変換素子集合体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002158379A true JP2002158379A (ja) 2002-05-31

Family

ID=18826970

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000354378A Pending JP2002158379A (ja) 2000-11-21 2000-11-21 熱電変換素子集合体、熱電モジュール及び熱電変換素子集合体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002158379A (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006332398A (ja) * 2005-05-27 2006-12-07 Toshiba Corp 熱−電気直接変換装置
WO2008111219A1 (ja) * 2007-03-15 2008-09-18 Ibiden Co., Ltd. 熱電変換装置
WO2008111220A1 (ja) * 2007-03-15 2008-09-18 Ibiden Co., Ltd. 熱電変換装置の製造方法
WO2008111218A1 (ja) * 2007-03-15 2008-09-18 Ibiden Co., Ltd. 熱電変換装置
WO2008114653A1 (ja) * 2007-03-22 2008-09-25 Sumitomo Chemical Company, Limited 熱電変換モジュールの製造方法及び熱電変換モジュール
WO2009022698A1 (ja) * 2007-08-13 2009-02-19 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology 微細熱電素子の製造方法、該微細熱電素子及び該微細熱電素子を用いた製品
DE102011005206A1 (de) * 2011-03-07 2012-09-13 Behr Gmbh & Co. Kg Thermoelektrischer Generator
JP2013086077A (ja) * 2011-10-21 2013-05-13 Pureson Corp 銅化合物の溶解方法及び水処理方法並びに水処理剤
JP2014514740A (ja) * 2011-03-22 2014-06-19 テクニカル ユニヴァーシティー オブ デンマーク 熱電発電機の生産に有用な構造体、その構造体を備える熱電発電機、及びその熱電発電機を生産するための方法
WO2023143076A1 (zh) * 2022-01-28 2023-08-03 中国科学院上海硅酸盐研究所 半导体材料臂阵列的制备方法及半导体材料臂阵列界面层的批量制备方法
CN116550784A (zh) * 2022-01-28 2023-08-08 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种半导体材料臂阵列的制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09139526A (ja) * 1995-11-13 1997-05-27 Ngk Insulators Ltd 熱電気変換モジュールおよびその製造方法
JPH11243169A (ja) * 1998-02-24 1999-09-07 Nissan Motor Co Ltd 電子冷却モジュールおよびその製造方法
JPH11251565A (ja) * 1998-02-27 1999-09-17 Union Material Kk 二次元配列結晶素子およびその製造方法
JPH11340530A (ja) * 1998-05-27 1999-12-10 Aisin Seiki Co Ltd 熱電半導体焼結素子の製造方法
JP2000050661A (ja) * 1998-07-23 2000-02-18 Nishinomiya Kinzoku Kogyo Kk 発電装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09139526A (ja) * 1995-11-13 1997-05-27 Ngk Insulators Ltd 熱電気変換モジュールおよびその製造方法
JPH11243169A (ja) * 1998-02-24 1999-09-07 Nissan Motor Co Ltd 電子冷却モジュールおよびその製造方法
JPH11251565A (ja) * 1998-02-27 1999-09-17 Union Material Kk 二次元配列結晶素子およびその製造方法
JPH11340530A (ja) * 1998-05-27 1999-12-10 Aisin Seiki Co Ltd 熱電半導体焼結素子の製造方法
JP2000050661A (ja) * 1998-07-23 2000-02-18 Nishinomiya Kinzoku Kogyo Kk 発電装置

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006332398A (ja) * 2005-05-27 2006-12-07 Toshiba Corp 熱−電気直接変換装置
WO2008111219A1 (ja) * 2007-03-15 2008-09-18 Ibiden Co., Ltd. 熱電変換装置
WO2008111220A1 (ja) * 2007-03-15 2008-09-18 Ibiden Co., Ltd. 熱電変換装置の製造方法
WO2008111218A1 (ja) * 2007-03-15 2008-09-18 Ibiden Co., Ltd. 熱電変換装置
CN101657913B (zh) * 2007-03-22 2011-08-24 住友化学株式会社 热电转换模块的制造方法及热电转换模块
WO2008114653A1 (ja) * 2007-03-22 2008-09-25 Sumitomo Chemical Company, Limited 熱電変換モジュールの製造方法及び熱電変換モジュール
EP2136416A4 (en) * 2007-03-22 2012-01-04 Sumitomo Chemical Co PROCESS FOR THE PRODUCTION OF A THERMOELECTRIC TRANSDUCER MODULE AND THERMOELECTRIC TRANSDUCER MODULE
JP2008235712A (ja) * 2007-03-22 2008-10-02 Sumitomo Chemical Co Ltd 熱電変換モジュールの製造方法及び熱電変換モジュール
WO2009022698A1 (ja) * 2007-08-13 2009-02-19 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology 微細熱電素子の製造方法、該微細熱電素子及び該微細熱電素子を用いた製品
JP2009049050A (ja) * 2007-08-13 2009-03-05 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 微細熱電素子の製造方法、該微細熱電素子及び該微細熱電素子を用いた製品
DE102011005206A1 (de) * 2011-03-07 2012-09-13 Behr Gmbh & Co. Kg Thermoelektrischer Generator
JP2014514740A (ja) * 2011-03-22 2014-06-19 テクニカル ユニヴァーシティー オブ デンマーク 熱電発電機の生産に有用な構造体、その構造体を備える熱電発電機、及びその熱電発電機を生産するための方法
JP2013086077A (ja) * 2011-10-21 2013-05-13 Pureson Corp 銅化合物の溶解方法及び水処理方法並びに水処理剤
WO2023143076A1 (zh) * 2022-01-28 2023-08-03 中国科学院上海硅酸盐研究所 半导体材料臂阵列的制备方法及半导体材料臂阵列界面层的批量制备方法
CN116550784A (zh) * 2022-01-28 2023-08-08 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种半导体材料臂阵列的制备方法
JP2024526187A (ja) * 2022-01-28 2024-07-17 中国科学院上海硅酸塩研究所 発明の名称:半導体材料アームアレイの製造方法及び半導体材料アームアレイ界面層のバッチ製造方法
JP7671093B2 (ja) 2022-01-28 2025-05-01 カスボソン テクノロジー (リーヤン) カンパニー, リミテッド 発明の名称:半導体材料アームアレイの製造方法及び半導体材料アームアレイ界面層のバッチ製造方法
EP4472387A4 (en) * 2022-01-28 2026-01-28 Casboson Tech Liyang Co Ltd METHOD FOR PREPARING ASSEMBLIES OF SEMICONDUCTIVE MATERIAL PROJECTIONS AND METHOD FOR PREPARING BATCHES FOR INTERFACE LAYERS OF ASSEMBLIES OF SEMICONDUCTIVE MATERIAL PROJECTIONS

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0887869B9 (en) Method of manufacturing thermionic element
US20090090409A1 (en) System and Method for Assembling a Microthermoelectric Device
US7871847B2 (en) System and method for high temperature compact thermoelectric generator (TEG) device construction
JP3927784B2 (ja) 熱電変換部材の製造方法
JP2002158379A (ja) 熱電変換素子集合体、熱電モジュール及び熱電変換素子集合体の製造方法
KR20170076358A (ko) 열전 모듈 및 그 제조 방법
US20080245397A1 (en) System and Method of Manufacturing Thermoelectric Devices
TW202324668A (zh) 含有具熱膨脹係數匹配安裝墊之基體之射頻封裝體及相關聯製造方法
US6339875B1 (en) Method for removing heat from an integrated circuit
US20230187403A1 (en) Method for manufacturing double-sided cooling type power module and double-sided cooling type power module
JP2004221375A (ja) 熱電半導体の製造方法、熱電変換素子の製造方法及び熱電変換装置の製造方法
CN102738022B (zh) 组装包括绝缘衬底和热沉的半导体器件的方法
JP2017135183A (ja) 半導体装置
US11380833B1 (en) Thermoelectric device assembly with fusion layer structure suitable for thermoelectric Seebeck and Peltier devices
JP3205940B2 (ja) 半導体素子材チップの製造方法、及びそれを適用することにより得られる半導体素子材チップを用いた熱電気変換モジュール、並びにその熱電気変換モジュールの製造方法
JP3724133B2 (ja) 熱電変換モジュールの製造方法
JP2004221109A (ja) 熱電素子モジュール及びその製造方法
JP2003282970A (ja) 熱電変換装置及び熱電変換素子、並びにこれらの製造方法
JP2002076451A (ja) 熱電変換素子の製造方法及び熱電変換素子
JPH10242536A (ja) 熱電モジュールの製造方法
CN103094127B (zh) 用于封装igbt模块的直接键合铜基板的贴装夹具
US20080079109A1 (en) Thermoelectric device and method for making the same
JP2004119833A (ja) 熱電素子モジュール及びその製造方法
JP2003017761A (ja) 表面実装対応熱電変換モジュール及び熱電変換モジュール一体型パッケージ
JP2003347603A (ja) 熱電素子とその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070928

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20071026

RD14 Notification of resignation of power of sub attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7434

Effective date: 20071026

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20071026

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100304

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100309

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100720