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JP2002150800A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

Info

Publication number
JP2002150800A
JP2002150800A JP2000346762A JP2000346762A JP2002150800A JP 2002150800 A JP2002150800 A JP 2002150800A JP 2000346762 A JP2000346762 A JP 2000346762A JP 2000346762 A JP2000346762 A JP 2000346762A JP 2002150800 A JP2002150800 A JP 2002150800A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
line
data
test
data line
semiconductor integrated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000346762A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Nakayama
篤 中山
Akira Haga
亮 芳賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2000346762A priority Critical patent/JP2002150800A/en
Publication of JP2002150800A publication Critical patent/JP2002150800A/en
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 不良原因候補の切り分けを可能にし、もって
不良原因の特定を容易にした半導体集積回路を提供す
る。 【解決手段】 不良原因の仕分けを容易にするために、
メモリセルアレイ10に対して拡張セルアレイを構成す
るセルノード段電位設定回路121を設ける。セルノー
ド段電位設定回路121は、拡張ワード線WLHLD<
0>,<1>と、これにより制御されてビット線BL
t,BLcをVSSに固定するためのNMOSトランジ
スタQN21,QN22により構成される。テストモー
ド時、拡張ワード線WLHLD<0>,<1>を選択し
てセルノード、従ってビット線BLt,BLcをVSS
に固定したデータ読み出しを行うことにより、期待値デ
ータと実際のデータとの比較から、不良原因箇所を絞る
ことができる。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To provide a semiconductor integrated circuit which can identify a cause of a failure and thereby easily specify a cause of the failure. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS]
The memory cell array 10 is provided with a cell node stage potential setting circuit 121 constituting an extended cell array. The cell node stage potential setting circuit 121 controls the extension word line WLHLD <
0>, <1> and the bit lines BL controlled by the
It comprises NMOS transistors QN21 and QN22 for fixing t and BLc to VSS. In the test mode, the expanded word lines WLHLD <0> and <1> are selected to connect the cell nodes, that is, the bit lines BLt and BLc to VSS.
By performing the data reading fixed to the above, it is possible to narrow down the cause of the defect by comparing the expected value data with the actual data.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、メモリを含むシ
ステムLSI等の半導体集積回路に係り、特にテストモ
ードを有する半導体集積回路に関する。
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit including a memory, such as a system LSI, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having a test mode.

【0002】[0002]

【従来の技術】システムLSIは、一般に、論理演算を
行うロジックブロックとデータ記憶を行うメモリブロッ
クを集積して、種々の機能を実現する高機能化LSIで
ある。個々のロジックブロックとメモリブロックは、デ
ータバスおよびコントロールバスを介して、LSI全体
の動作を統括するメインロジックと接続され、メインロ
ジックがデータ入出力端子(I/Oパッド)に接続され
る。
2. Description of the Related Art In general, a system LSI is a highly functional LSI which realizes various functions by integrating a logic block for performing a logical operation and a memory block for storing data. Each logic block and each memory block are connected to a main logic that controls the entire operation of the LSI via a data bus and a control bus, and the main logic is connected to a data input / output terminal (I / O pad).

【0003】この様に高機能化されたシステムLSIに
おいて、テストを如何に効率的に行うかは重要な問題で
ある。テストモードでの不良解析を容易にするため、一
般には各ロジックブロックやメモリブロック毎にテスト
モードを設定可能とする。また、テスト用I/Oパッド
は、複数のロジックブロックやメモリブロックに対して
共通に用意する。そして、各ロジックブロックやメモリ
ブロック毎にそれぞれテスト信号を取り出すためのマル
チプレクサを設け、更に全ブロックに共通のテスト用I
/Oマルチプレクサを設けて、各ブロック毎のテスト信
号を共通のテスト用I/Oパッドに出力できるようにす
る。I/Oパッド数を減らすために、テスト用I/Oパ
ッドを設けることなく、通常動作のI/Oパッドをテス
ト用として用いることも行われる。
[0003] In such a highly functionalized system LSI, it is an important problem how to efficiently perform a test. In general, a test mode can be set for each logic block or memory block in order to facilitate failure analysis in the test mode. The test I / O pad is prepared in common for a plurality of logic blocks and memory blocks. A multiplexer for extracting a test signal is provided for each logic block or memory block, and a test I / O common to all blocks is provided.
An / O multiplexer is provided so that a test signal for each block can be output to a common test I / O pad. In order to reduce the number of I / O pads, a normal operation I / O pad may be used for testing without providing a testing I / O pad.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、システムLS
Iは多くの場合、ロジックブロックとメモリブロックの
設計手法が異なり、また設計者も異なることから、これ
を統合したシステムLSIでは、テストの結果不良が発
見されても、その不良箇所を特定することは容易ではな
い。従来は、テストの結果不良が発見された場合に、条
件を少しずつ変えながらテストを繰り返すことにより、
原因を特定するということが行われていたが、この手法
では、原因特定が可能とは限らない。
However, the system LS
In many cases, I uses different design methods for logic blocks and memory blocks, and also different designers. Therefore, even if a test LSI finds a defect, it is necessary to identify the defective part in a system LSI integrating them. Is not easy. Conventionally, if a test finds a defect, by repeating the test while changing the conditions little by little,
Although the cause was identified, this method is not always possible.

【0005】この発明は、上記事情を考慮してなされた
もので、不良原因候補の切り分けを可能にし、もって不
良箇所の特定を容易にした半導体集積回路を提供するこ
とを目的としている。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and has as its object to provide a semiconductor integrated circuit which can identify a cause of a defect and facilitates identification of a defective portion.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明は、メモリセル
からデータ入出力端子までの間に読み出し/書き込みデ
ータを順次転送する複数のデータ転送段を有し且つ、通
常動作モードとテストモードとを有する半導体集積回路
において、前記複数のデータ転送段のうち少なくとも一
つに、テストモード時に所定電位を出力するテスト用電
位設定回路が設けられていることを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has a plurality of data transfer stages for sequentially transferring read / write data between a memory cell and a data input / output terminal, and has a normal operation mode and a test mode. In a semiconductor integrated circuit having at least one of the plurality of data transfer stages, a test potential setting circuit for outputting a predetermined potential in a test mode is provided.

【0007】具体的にテスト用電位設定回路は、選択信
号により通常動作モード時に被選択信号を出力する信号
選択回路に対して、テストモード時に前記所定電位を選
択して出力する拡張信号選択回路を備えて構成される。
この場合、テスト用電位設定回路によるテストモード
は、メモリセルアレイをアクセスするアドレス空間に対
して、所定アドレスで前記信号選択回路に代わって前記
拡張信号選択回路を選択するようにアドレスを割り付け
ることにより実行される。
Specifically, the test potential setting circuit includes an extended signal selection circuit that selects and outputs the predetermined potential in the test mode, in contrast to a signal selection circuit that outputs a selected signal in the normal operation mode according to the selection signal. It is configured with.
In this case, the test mode by the test potential setting circuit is executed by allocating an address to an address space for accessing the memory cell array so as to select the extension signal selection circuit instead of the signal selection circuit at a predetermined address. Is done.

【0008】この発明によると、テストモード時、メモ
リセルアレイに対する読み出し/書き込みデータの転送
段に、前段のデータに拘わらず所定電位を出力させるこ
とにより、次段以降が正常であるか否かを判断すること
ができる。即ちこの発明によると、データ転送経路につ
いて複数の転送段で不良原因候補を切り分けることがで
き、不良箇所の特定が容易になる。
According to the present invention, in the test mode, the read / write data transfer stage for the memory cell array is caused to output a predetermined potential irrespective of the data at the preceding stage, thereby determining whether or not the subsequent stage is normal. can do. In other words, according to the present invention, a defect cause candidate can be separated for a data transfer path at a plurality of transfer stages, and a defective portion can be easily specified.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態を説明する。具体的な実施の形態を説明す
るに先だって、実施の形態が対象とするシステムLSI
の基本構成を説明する。図1は、システムLSIの全体
構成である。このシステムLSIは、データの記憶を行
う複数個(N個)のメモリ1と、論理演算を行うロジッ
ク2を有する。これらのメモリ1とロジック2は、デー
タバス及びコントロールバスを介して全体の統括を行
う、メインロジック3に接続される。メインロジック3
は、データI/Oパッド4に接続される。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Prior to describing a specific embodiment, a system LSI targeted by the embodiment
Will be described. FIG. 1 shows the overall configuration of a system LSI. This system LSI has a plurality of (N) memories 1 for storing data and a logic 2 for performing a logical operation. The memory 1 and the logic 2 are connected to a main logic 3 which controls the whole via a data bus and a control bus. Main logic 3
Are connected to the data I / O pad 4.

【0010】このシステムLSIは、通常動作モードと
テストモードを有するが、テストモードに関係する部分
を抽出して示すと、図2のようになる。但し、メインロ
ジック3は無視している。テストコマンドは、テストコ
マンドパッド7から入力されてコマンドデコーダ8でデ
コードされる。デコードされたコマンドは、その内容に
応じてメモリ1又はロジック2に送られ、テストが行わ
れる。メモリ1及びロジック2のデータ入出力端子は、
それぞれマルチプレクサMUXによって、データ入出力
端子数より少ないテストI/O線に接続される。各テス
トI/O線は更に、コマンドデコーダ8が出力する選択
信号SELにより、テストI/Oマルチプレクサ5によ
り選択されて、テストI/Oパッド6に接続される。
The system LSI has a normal operation mode and a test mode. FIG. 2 shows a portion related to the test mode. However, the main logic 3 is ignored. The test command is input from the test command pad 7 and decoded by the command decoder 8. The decoded command is sent to the memory 1 or the logic 2 according to the content, and a test is performed. The data input / output terminals of the memory 1 and the logic 2
Each of the multiplexers MUX is connected to test I / O lines having fewer data input / output terminals. Each test I / O line is further selected by a test I / O multiplexer 5 by a selection signal SEL output from a command decoder 8 and connected to a test I / O pad 6.

【0011】この様に、各メモリ1及びロジック2の内
部にマルチプレクサを備えて、各ブロックのテスト用デ
ータ入出力線I/Oを減らし、更に各ブロックのテスト
用データ入出力線I/Oを選択するテストI/Oマルチ
プレクサ5を備えてテストI/Oパッド6を各メモリ1
及びロジック2で共有させることにより、少ない端子数
でのテストを可能としている。更に端子数を減らすため
には、テストI/Oパッドを通常のI/Oパッドと共有
とし、テストコマンドパッドを通常のコマンドパッドと
共有とすることも行われ得る。
As described above, a multiplexer is provided inside each of the memories 1 and the logic 2 to reduce the number of test data input / output lines I / O of each block and further reduce the number of test data input / output lines I / O of each block. A test I / O pad 6 is provided for each memory 1
In addition, the test can be performed with a small number of terminals by sharing the logic with the logic 2. In order to further reduce the number of terminals, the test I / O pad may be shared with a normal I / O pad, and the test command pad may be shared with a normal command pad.

【0012】図3は、メモリ1の構成であり、リダンダ
ンシ回路方式を採用したDRAMの場合について示して
いる。メモリセルアレイ10は、ビット線BLとワード
線WLが交差して配列され、その各交差部にメモリセル
MCが配置されたメモリセルアレイ本体11と、ビット
線データを検知増幅するビット線センスアンプ12及び
ビット線選択を行うカラムゲート13を有する。カラム
ゲート13により選択されたビット線は、データ線セン
スアンプ50が設けられたデータ線DQに接続される。
データ線DQは更に、不良カラムが選択された時にスペ
アデータ線に置換するためのカラム置換スイッチ60を
介して入出力線I/Oに接続され、データI/Oパッド
に接続される。
FIG. 3 shows a configuration of the memory 1 and shows a case of a DRAM adopting a redundancy circuit system. The memory cell array 10 includes a memory cell array main body 11 in which bit lines BL and word lines WL are arranged so as to intersect with each other, and a memory cell MC is arranged at each intersection, a bit line sense amplifier 12 for detecting and amplifying bit line data, and It has a column gate 13 for selecting a bit line. The bit line selected by the column gate 13 is connected to the data line DQ provided with the data line sense amplifier 50.
The data line DQ is further connected to an input / output line I / O via a column replacement switch 60 for replacing a defective column with a spare data line, and is connected to a data I / O pad.

【0013】ロウデコーダ/ロウリダンダンシコントロ
ーラ20は、ロウアドレスRAにより、メモリセルアレ
イ10のワード線WLの選択と不良ワード線のスペアワ
ード線への置換制御とを行う。カラムデコーダ30は、
カラムアドレスCAに基づいて選択されたカラム選択線
CSLを活性化する。カラムリダンダンシコントローラ
40は、カラムアドレスCAに基づいて、カラム置換ス
イッチ60を制御する。
The row decoder / row redundancy controller 20 selects a word line WL of the memory cell array 10 and controls replacement of a defective word line with a spare word line according to a row address RA. The column decoder 30
Activate the column selection line CSL selected based on the column address CA. The column redundancy controller 40 controls the column replacement switch 60 based on the column address CA.

【0014】外部から入力されるアドレス及びコマンド
は、アドレスバッファ(レジスタ)/コマンドデコーダ
50で解釈され、内部ロウアドレスRA、内部カラムア
ドレスCA、テスト時にスペアワード線やスペアデータ
線を選択するための選択信号RAX,CAX等が発行さ
れる。
Addresses and commands input from the outside are interpreted by an address buffer (register) / command decoder 50, and are used to select an internal row address RA, an internal column address CA, and a spare word line or a spare data line during a test. Selection signals RAX, CAX, etc. are issued.

【0015】図4は、メモリセルアレイ10のより具体
的な構成を示している。例えば128本のデータ線DQ
<0>〜<127>(各データ線DQは、実際は後述す
るように、データ線対により構成される)のそれぞれに
対して、各ロウ毎に8本のカラム選択線CSL<0>〜
<7>により選択される8個のメモリセルが、センスア
ンプS/Aを介し、カラムゲートを介して接続されるよ
うになっている。
FIG. 4 shows a more specific configuration of the memory cell array 10. For example, 128 data lines DQ
For each of <0> to <127> (each data line DQ is actually formed of a data line pair as described later), eight column selection lines CSL <0> to 8 are provided for each row.
Eight memory cells selected by <7> are connected via a sense amplifier S / A and a column gate.

【0016】不良カラムの置換のために、例えばn本の
スペアデータ線SDQ<0>〜<n−1>が用意されて
いる。メモリセルアレイ10には、各スペアデータ線に
対応する冗長カラムセルアレイを含み、これも同様に8
本のカラム選択線CSL<0>−<7>で選択される8
個のメモリセルが、各スペアデータ線に接続されるよう
になっている。不良カラム置換は、図3に示したよう
に、カラム置換スイッチ60によって、不良のノーマル
データ線DQをスペアデータ線SDQに置き換えること
で行われる。
For replacement of a defective column, for example, n spare data lines SDQ <0> to <n-1> are prepared. Memory cell array 10 includes a redundant column cell array corresponding to each spare data line.
8 selected by the column selection lines CSL <0>-<7>
The memory cells are connected to each spare data line. The defective column replacement is performed by replacing the defective normal data line DQ with the spare data line SDQ by the column replacement switch 60 as shown in FIG.

【0017】図4の構成を更に、一対のデータ線DQ
(DQt,DQc)に着目して示すと、図5のようにな
る。カラム選択線CSL<0>〜<7>がそれぞれ入る
8個のカラムゲート13<0>〜<7>により選択され
るビット線対BLt,BLcが、一対のデータ線DQ
t,DQcを共有する。
The configuration shown in FIG. 4 is further added to a pair of data lines DQ.
Focusing on (DQt, DQc), the result is as shown in FIG. A bit line pair BLt, BLc selected by eight column gates 13 <0> to <7> into which column selection lines CSL <0> to <7> respectively enter is a pair of data lines DQ.
t and DQc are shared.

【0018】図6は更に、一対のビット線BL(BL
t,BLc)に着目した構成を示している。メモリセル
MCは、ワード線WLにより駆動されるセルトランジス
タとセルキャパシタにより構成される。不良のワード線
を置き換えるために、例えばm本のスペアワード線SW
L<0>〜<m−1>を持つ冗長ロウセルアレイが配置
されている。センスアンプ12は、PMOSトランジス
タQP1,QP2によるフリップフロップと、NMOS
トランジスタQN1,QN2によるフリップフロップを
用いて構成される。カラムゲート13は、カラム選択線
CSLにより駆動されて、ビット線BLt,BLcとデ
ータ線DQt,DQcの間を接続するNMOSトランジ
スタQN3,QN4により構成される。
FIG. 6 further shows a pair of bit lines BL (BL
(t, BLc). The memory cell MC includes a cell transistor driven by a word line WL and a cell capacitor. To replace a defective word line, for example, m spare word lines SW
A redundant row cell array having L <0> to <m-1> is arranged. The sense amplifier 12 includes a flip-flop including PMOS transistors QP1 and QP2 and an NMOS.
It is configured using a flip-flop including transistors QN1 and QN2. The column gate 13 is driven by a column selection line CSL and includes NMOS transistors QN3 and QN4 that connect between the bit lines BLt and BLc and the data lines DQt and DQc.

【0019】図3のロウデコーダ/ロウリダンダンシコ
ントローラ20の部分は、図7のように構成される。ア
ドレスバッファ/コマンドレジスタ50から発行される
内部ロウアドレスRA<0:7>は、ロウデコーダ21
でデコードされ、ワード線WL<0:511>を選択す
る。ワード線のアドレス(不良ロウアドレス)は、例え
ばヒューズ回路に書き込まれており、電源投入時にこれ
が読み出されてラッチ回路22に保持されており、ロウ
アドレスRAとこのラッチ回路22に保持されている不
良ロウアドレスRA=0〜m−1との一致検出が比較回
路25により行われる。
The portion of the row decoder / row redundancy controller 20 shown in FIG. 3 is configured as shown in FIG. The internal row address RA <0: 7> issued from the address buffer / command register 50 is
To select the word line WL <0: 511>. The address of the word line (defective row address) is written in, for example, a fuse circuit, read out when the power is turned on, and held in the latch circuit 22, and is held in the latch circuit 22 and the row address RA. The comparison circuit 25 detects the coincidence with the defective row address RA = 0 to m-1.

【0020】不良アドレスとの一致が検出されず、比較
回路25の出力が全て“H”のとき、NANDゲートG
1の出力REDENnが“L”である。このとき、ロウ
デコーダ21の出力はNORゲートG2を通って、選択
されたワード線WLが駆動される。供給されたロウアド
レスと不良ロウアドレスとの一致検出がなされると、対
応する比較回路25の出力が反転して、NANDゲート
G1の出力がREDENn=“L”となり、ロウデコー
ダ21の出力転送が禁止される。代わって、スペアワー
ド線SWL<0>〜<m−1>のいずれかが活性化され
る。
When a match with a defective address is not detected and all outputs of the comparison circuit 25 are at "H", the NAND gate G
1 output REDENn is “L”. At this time, the output of the row decoder 21 passes through the NOR gate G2 to drive the selected word line WL. When a match between the supplied row address and the defective row address is detected, the output of the corresponding comparison circuit 25 is inverted, the output of the NAND gate G1 becomes REDENn = "L", and the output transfer of the row decoder 21 is performed. It is forbidden. Instead, one of spare word lines SWL <0> to <m-1> is activated.

【0021】テストモードにおいては、スペアワード線
SWL<0>〜<m−1>につながるメモリセルに不良
がないかどうかのテストも行う。そのために、このロウ
リダンダンシコントローラ部の各ラッチ回路22には、
ダミーラッチ回路23が併設されている。このダミーラ
ッチ回路23には、それぞれロウアドレスRA=0〜m
−1が不良であることを示す疑似不良アドレスデータが
記憶されている。
In the test mode, a test is also performed to determine whether or not a memory cell connected to spare word lines SWL <0> to <m-1> has a defect. Therefore, each latch circuit 22 of the row redundancy controller section includes:
A dummy latch circuit 23 is provided. The dummy latch circuits 23 have row addresses RA = 0 to m, respectively.
Pseudo defective address data indicating that -1 is defective is stored.

【0022】そして、テストモード時にアドレスバッフ
ァ/コマンドデコーダ50から選択信号RAXが発行さ
れると、これによりセレクタ24が切り換えられる。こ
の結果、ラッチ回路22に代わってダミーラッチ回路2
3の出力が選択され、不良があった場合と同様に、外部
から供給されたロウアドレスとの一致検出により、スペ
アワード線SWLが選択されるようになっている。
When the selection signal RAX is issued from the address buffer / command decoder 50 in the test mode, the selector 24 is switched. As a result, the dummy latch circuit 2 replaces the latch circuit 22.
As in the case where the output of No. 3 is selected and there is a defect, the spare word line SWL is selected by detecting the coincidence with the row address supplied from the outside.

【0023】図8は、カラムリダンダンシコントローラ
40の構成を示している。カラムリダンダンシコントロ
ーラ40は、ロウリダンダンシコントローラの場合と同
様に、不良カラムアドレスを記憶するラッチ回路41を
有する。図4に示すように、スペアデータ線SDQがn
本用意されている場合、ラッチ回路41は、1組8個ず
つのn組用意される。これらのラッチ回路41には、カ
ラム選択信号CSLが0〜7の値をとったときの不良デ
ータ線の位置が記憶されている。
FIG. 8 shows the configuration of the column redundancy controller 40. The column redundancy controller 40 has a latch circuit 41 for storing a defective column address, as in the case of the row redundancy controller. As shown in FIG. 4, spare data line SDQ is n
In the case where this is prepared, n sets of the latch circuits 41 are prepared, each set including eight sets. These latch circuits 41 store the positions of defective data lines when the column selection signal CSL takes a value of 0 to 7.

【0024】従って、カラムデコーダ30が出力するカ
ラム選択信号CSLがデータ線不良に対応するものであ
る場合には、これによりセレクタ43が制御されて、置
換信号Z<0>〜<n−1>が出力される。この置換信
号Zがカラム置換スイッチ60に供給されて、不良デー
タ線のスペアデータ線への切り換えが行われることにな
る。ラッチ回路41がn組用意されていることから、全
てのカラム選択信号CSLにおいて、n個以下の不良デ
ータ線の置換制御が可能である。
Therefore, when the column selection signal CSL output from the column decoder 30 corresponds to a data line defect, the selector 43 is controlled by this, and the replacement signals Z <0> to <n-1> Is output. The replacement signal Z is supplied to the column replacement switch 60, and the defective data line is switched to the spare data line. Since n sets of the latch circuits 41 are prepared, the replacement control of n or less defective data lines can be performed in all the column selection signals CSL.

【0025】スペアデータ線SDQにつながるセルアレ
イは、冗長カラムセルアレイであり、テストモードにお
いては、スペアデータ線SDQにつながるメモリセルに
不良がないかどうかのテストも行う。このテストモード
時、カラム選択信号CSLに無関係に、スペアデータ線
SDQをアクセスできるようにする。そのために、カラ
ムリダンダンシコントローラ40のラッチ回路41の各
組毎に、計n個のダミーラッチ回路42が設けられてい
る。このダミーラッチ回路42には、カラム選択信号C
SL=0〜n−1のデータ線が不良であることを示す疑
似不良アドレスデータが記憶されている。その結果、テ
ストモード時、選択信号CAXと共にカラムアドレス信
号CSL=0〜n−1がセレクタ43に入ると、ラッチ
回路41の不良データ線情報に拘わらず、ダミーラッチ
回路42が選択されて、置換信号Zを出力する。
The cell array connected to spare data line SDQ is a redundant column cell array. In the test mode, a test is also performed to determine whether a memory cell connected to spare data line SDQ has a defect. In this test mode, the spare data line SDQ can be accessed regardless of the column selection signal CSL. Therefore, a total of n dummy latch circuits 42 are provided for each set of the latch circuits 41 of the column redundancy controller 40. The dummy latch circuit 42 has a column selection signal C
Pseudo defective address data indicating that the data line of SL = 0 to n-1 is defective is stored. As a result, in the test mode, when the column address signal CSL = 0 to n-1 enters the selector 43 together with the selection signal CAX, the dummy latch circuit 42 is selected regardless of the defective data line information of the latch circuit 41, and the replacement signal Output Z.

【0026】置換信号Zにより制御されるカラム置換ス
イッチ60は、具体的には、図9に示す置換方式によ
り、或いは図10に示すデータ線シフト方式により構成
される。図9のスイッチ方式は、データ線DQ<0:1
27>の1本ずつを、スペアデータ線<0:n−1>で
置換して、データ入出力端子I/O<0:127>に切
り換え接続するスイッチSW0〜SW127により構成
される。
The column permutation switch 60 controlled by the permutation signal Z is specifically constituted by the permutation system shown in FIG. 9 or the data line shift system shown in FIG. In the switch system of FIG. 9, the data lines DQ <0: 1
27> are replaced with spare data lines <0: n−1>, and are configured by switches SW0 to SW127 which are connected to the data input / output terminals I / O <0: 127>.

【0027】置換信号Z<0:n−1>が全て非活性の
場合、データ線DQ<0:127>はそれぞれ、データ
入出力端子I/O<0:127>に接続されている。こ
のとき、スペアデータ線SDQ<0:n−1>は、選択
されたカラムアドレスに対応した冗長カラムセルアレイ
のメモリセルにはつながっているが、入出力端子I/O
<0:127>にはつながらない。置換信号Z<0>が
不良データ情報を含む場合は、これにより示されたデー
タ線DQが入出力端子I/Oと切り離され、代わりにス
ペアデータ線SDQ<0>が入出力端子I/Oに接続さ
れる。他の置換信号Z<1:n−1>についても同様で
ある。
When the replacement signals Z <0: n-1> are all inactive, the data lines DQ <0: 127> are connected to the data input / output terminals I / O <0: 127>, respectively. At this time, the spare data line SDQ <0: n−1> is connected to the memory cell of the redundant column cell array corresponding to the selected column address, but has the input / output terminal I / O.
<0: 127> is not connected. When replacement signal Z <0> includes defective data information, data line DQ indicated thereby is disconnected from input / output terminal I / O, and spare data line SDQ <0> is replaced with input / output terminal I / O. Connected to. The same applies to other replacement signals Z <1: n-1>.

【0028】図10に示すデータ線シフト方式において
は、カラム置換スイッチ60は、データ入出力端子I/
Oのデータ線DQに対する接続を、不良のデータ線位置
を避けて順次一つずつシフトさせるシフトスイッチ回路
により構成される。置換信号Z<0:n−1>が全て非
活性の場合、データ線DQ<0:127>はそれぞれ、
データ入出力端子I/O<0:127>に接続されてい
る。このとき、スペアデータ線SDQ<0:n−1>
は、選択されたカラムアドレスに対応した冗長カラムセ
ルアレイのメモリセルにはつながっているが、入出力端
子I/O<0:127>にはつながらない。
In the data line shift system shown in FIG. 10, the column replacement switch 60 has a data input / output terminal I /
The connection of the O to the data line DQ is constituted by a shift switch circuit for sequentially shifting one by one while avoiding a defective data line position. When the replacement signals Z <0: n−1> are all inactive, the data lines DQ <0: 127>
Connected to data input / output terminals I / O <0: 127>. At this time, spare data line SDQ <0: n−1>
Are connected to the memory cells of the redundant column cell array corresponding to the selected column address, but are not connected to the input / output terminals I / O <0: 127>.

【0029】置換信号Z<0>が不良データ情報を含む
場合、例えば、図10に×印で示したように、データ線
DQ<1>が不良の場合、データ入出力端子I/O<1
>の接続先を、破線で示すようにデータ線DQ<2>に
シフトし、以下順次入出力端子I/Oの接続先をシフト
して、最後のデータ入出力端子I/O<127>をスペ
アデータ線SDQ<0>に接続する、という制御が行わ
れる。他の置換信号Z<1:n−1>についても同様で
ある。
When the replacement signal Z <0> includes defective data information, for example, when the data line DQ <1> is defective, as shown by the crosses in FIG. 10, the data input / output terminal I / O <1>
Is shifted to the data line DQ <2> as shown by the broken line, and then the connection destination of the input / output terminal I / O is shifted in sequence to change the last data input / output terminal I / O <127>. The connection to spare data line SDQ <0> is controlled. The same applies to other replacement signals Z <1: n-1>.

【0030】図2に示すテストI/Oマルチプレクサ5
は、図11に示すように構成される。即ち、128個の
データ入出力端子I/O<0:127>のテストを、1
6個のテスト用データ入出力パッド6(テストI/O<
0:15>)で行うために、データ入出力線を16本毎
に8本ずつまとめて入力するマルチプレクサMUXが配
置される。そしてテストモード時、選択信号SELによ
り制御されて、16本ずつのデータ入出力線がテストI
/O<0:15>に接続される。
The test I / O multiplexer 5 shown in FIG.
Is configured as shown in FIG. That is, the test of the 128 data input / output terminals I / O <0: 127> is 1
Six test data input / output pads 6 (test I / O <
0:15>), a multiplexer MUX for inputting eight data input / output lines at a time every 16 lines is arranged. In the test mode, 16 data input / output lines are controlled by the selection signal SEL, and the
/ O <0:15>.

【0031】ここまでに説明したシステムLSIの構成
において、不良解析を行う場合、典型的な例として、メ
モリセルにあるデータの書き込み/読み出しを行った
が、期待したデータが読み出されないという不良を解析
する場合を考える。この不良の原因としては、メインの
データ転送経路上では、例えばメモリセルに欠陥があ
る、メモリセルのデータ読み出し/書き込みを行うセン
スアンプに欠陥がある、データ線センスアンプに欠陥が
ある等が考えられる。また、メインのデータ転送経路に
は問題はないが、メモリセル選択を行うワード線選択回
路系やビット線選択回路系に欠陥がある、リダンダンシ
コントローラに欠陥がある、タイミングが誤っている等
も考えられる。更に、測定環境的には、配線が誤ってい
る、テスタのプログラムが誤っている、電源が入ってい
ない、等の原因もある。
In the configuration of the system LSI described so far, when performing a failure analysis, as a typical example, writing / reading of data in a memory cell is performed. Consider the case of analysis. Possible causes of this defect include, for example, a defect in the memory cell, a defect in the sense amplifier that performs data read / write of the memory cell, and a defect in the data line sense amplifier on the main data transfer path. Can be Although there is no problem with the main data transfer path, it is also considered that the word line selection circuit system and the bit line selection circuit system for selecting memory cells are defective, the redundancy controller is defective, or the timing is incorrect. Can be Further, in the measurement environment, there are causes such as incorrect wiring, incorrect tester program, and no power supply.

【0032】これらの種々の原因を特定するには、先に
述べたように従来は、条件を変えたテストを繰り返すこ
とが行われている。しかし、近年のメモリの大容量化、
高機能化、高速化に伴い、メモリセルの読み出し/書き
込み動作は複雑になっており、原因候補の増加と共に、
原因特定の困難性が増している。しかも、不良個所の特
定だけでなく、性能評価を行う際には性能を律速してい
る箇所の特定も重要になるが、これも困難になってい
る。
In order to identify these various causes, as described above, conventionally, a test in which conditions are changed is repeated. However, the recent increase in memory capacity,
The read / write operation of a memory cell is becoming more complicated with the sophistication and speeding up.
The difficulty in identifying the cause is increasing. In addition, not only identification of a defective part but also identification of a part that limits the performance is important when performing performance evaluation, but this is also difficult.

【0033】特に、高機能化が行われるシステムLSI
においては、LSI中のブロック数が増加する。この場
合、上述のように、テスト結果と不良の因果関係を分か
りやすくするために、ブロック毎にテストモードを設定
できるようにすることが行われるが、データ入出力パッ
ドと各ブロック間の間に介在する回路段数が増加し、更
にそれらの回路を駆動する回路も増加するため、原因特
定は容易ではない。
In particular, a system LSI with advanced functions
In, the number of blocks in the LSI increases. In this case, as described above, a test mode can be set for each block in order to easily understand the causal relationship between the test result and the failure. Since the number of interposed circuit stages increases and the number of circuits for driving those circuits also increases, it is not easy to identify the cause.

【0034】そこでこの発明は、上述したシステムLS
Iにおけるように、通常動作モードとテストモードとを
有するメモリにおいて、メモリセルアレイからデータ入
出力端子までの間で読み出し/書き込みデータを順次転
送する複数のデータ転送段のうち少なくとも一つに、テ
ストモード時に前段のデータを無効とする所定電位を与
えるテスト用電位設定回路を設けることにより、不良箇
所の特定を容易にした。DRAMの場合、データ転送経
路において、電位固定できる箇所としては、メモリセル
ノード、ビット線BL、データ線DQ、データ入出力線
I/Oが挙げられる。これらを選択するのは、ワード線
WL、カラム選択線CSL、選択信号Z,SEL等であ
り、これらの信号を工夫することにより、各部の電位を
固定することが可能になる。以下に、具体的なテスト用
電位設定回路の構成手法を説明する。以下に説明するテ
スト用電位設定回路は、いずれか一つを用いることでも
有効であるが、テストによる不良箇所究明にとっては、
複数のテスト用電位設定回路を同時に組み合わせること
が好ましい。
Therefore, the present invention relates to the system LS described above.
I, in a memory having a normal operation mode and a test mode, at least one of a plurality of data transfer stages for sequentially transferring read / write data from the memory cell array to the data input / output terminal includes a test mode. The provision of a test potential setting circuit for providing a predetermined potential that invalidates data at the preceding stage sometimes makes it easy to specify a defective portion. In the case of a DRAM, locations where the potential can be fixed in the data transfer path include a memory cell node, a bit line BL, a data line DQ, and a data input / output line I / O. These are selected by the word line WL, the column selection line CSL, the selection signals Z and SEL, etc. By devising these signals, it is possible to fix the potential of each section. Hereinafter, a specific configuration method of the test potential setting circuit will be described. It is effective to use any one of the test potential setting circuits described below.
It is preferable to combine a plurality of test potential setting circuits simultaneously.

【0035】[セルノード段で固定電位出力]上述した
複数のデータ転送段のうち、データ入出力パッドから見
て最も末端にあるのが、メモリセルアレイ内のセルノー
ドである。図12は、図6に示したメモリセルアレイ1
0を基本として、ビット線BLt,BLcの末端に、セ
ルノード段電位設定回路121を設けた例である。この
セルノード段電位設定回路121は、メモリセルアレイ
10の拡張として構成されている。即ち、セルノード段
電位設定回路121を制御する信号線WLHLD<0
>,<1>は、ワード線WL及びスペアワード線SWL
と同じ規則(同じピッチ、同じプロセス)で同時に作ら
れるもので、以下拡張ワード線という。
[Fixed Potential Output at Cell Node Stage] Of the plurality of data transfer stages described above, the cell node in the memory cell array is located at the end as viewed from the data input / output pad. FIG. 12 shows the memory cell array 1 shown in FIG.
This is an example in which a cell node stage potential setting circuit 121 is provided at the end of the bit lines BLt and BLc based on 0. The cell node stage potential setting circuit 121 is configured as an extension of the memory cell array 10. That is, the signal line WLHLD <0 that controls the cell node stage potential setting circuit 121
> And <1> represent the word line WL and the spare word line SWL.
These are made simultaneously with the same rules (same pitch, same process), and are referred to as extended word lines below.

【0036】またこれらの拡張ワード線WLHLD<0
>,<1>により制御されてビット線BLt,BLcを
VSSに接続するNMOSトランジスタQN21,QN
22は、メモリセルMCと同じ規則で、メモリセルとは
セルキャパシタがないという相違があるだけのものとし
て作られる。即ち、これらのNMOSトランジスタQN
21,QN22とこれらを駆動する拡張ワード線を含め
て、本来のメモリセルアレイ10に対して拡張メモリセ
ルアレイということができる。図12では、一つのビッ
ト線対BLt,BLcのみについて代表的に示している
が、好ましくは全ビット線対に、拡張ワード線WLHL
D<0>,<1>で共通に駆動される同様のセルノード
段電位設定回路を設ける。
These extended word lines WLHLD <0
And NMOS transistors QN21 and QN connecting bit lines BLt and BLc to VSS under the control of
Reference numeral 22 denotes the same rule as that of the memory cell MC, except that there is no cell capacitor from the memory cell. That is, these NMOS transistors QN
The memory cell array 10 can be called an expanded memory cell array including the memory cell array 21, the QN 22, and the expanded word lines for driving these. In FIG. 12, only one bit line pair BLt, BLc is representatively shown, but preferably all bit line pairs are extended word line WLHL.
A similar cell node stage potential setting circuit driven commonly by D <0> and <1> is provided.

【0037】この様なセルノード段電位設定回路121
を設けて、テストモード時、ビット線BLt,BLcの
いずれか一方を接地電位VSS(データ“0”のときの
読み出しビット線電位)に固定する。具体的には、デー
タ読み出し動作において、ビット線プリチャージ後、セ
ンスアンプ活性化前に例えば、拡張ワード線WLHLD
<0>を選択駆動して、ビット線BLtをVSSに固定
する。このとき、ビット線以降の読み出しデータ転送経
路が正常であれば、ロウアドレスを切り換えてデータ読
み出しを繰り返したとき、ビット線BLt側の読み出し
データは常に“0”となる。この様な期待値が正常に読
み出されるとすれば、ビット線より後段、即ちビット線
センスアンプ12、カラムゲート13、データ線センス
アンプ50、カラムリダンダンシコントローラ、テスト
I/Oマルチプレクサ5は、全て正常であることが確認
される。
Such a cell node stage potential setting circuit 121
To fix one of the bit lines BLt and BLc to the ground potential VSS (the read bit line potential when data is "0") in the test mode. Specifically, in the data read operation, for example, after the bit line precharge and before the sense amplifier is activated, for example, the extended word line WLHLD
By selectively driving <0>, the bit line BLt is fixed at VSS. At this time, if the read data transfer path after the bit line is normal, when the row address is switched and the data read is repeated, the read data on the bit line BLt side is always "0". Assuming that such an expected value is normally read out, the bit line sense amplifier 12, the column gate 13, the data line sense amplifier 50, the column redundancy controller, and the test I / O multiplexer 5 are all normal after the bit line. Is confirmed.

【0038】また、セルノード段電位設定回路121を
動作させて上述した読み出しを行ったときに常に“0”
が読み出されるにも拘わらず、セルノード段電位設定回
路121を動作させない状態でのテスト動作でビット線
BLtのデータ読み出しが正常にできなかったとすれ
ば、不良原因としては、ビット線とメモリセルのコンタ
クト不良やメモリセルMC自体の不良がリダンダンシに
より正常に置き換えられていないことが推測される。逆
に、セルノード段電位設定回路121を動作させてビッ
ト線をVSSに固定したにも拘わらず、読み出しデータ
が常に“0”ではなかったとすれば、ビット線より後段
のビット線センスアンプ12、カラムゲート13、デー
タ線センスアンプ50、テストI/Oマルチプレクサ5
のいずれかに不良原因があること、或いアドレス制御系
に不良があることが推測される。
When the above-described read operation is performed by operating the cell node stage potential setting circuit 121, "0" is always obtained.
If the test operation in the state where the cell node stage potential setting circuit 121 is not operated in spite of the fact that the cell node stage potential It is presumed that the defect or the defect of the memory cell MC itself has not been properly replaced by the redundancy. Conversely, if the read data is not always "0" despite the fact that the bit line is fixed at VSS by operating the cell node stage potential setting circuit 121, the bit line sense amplifier 12 and the column Gate 13, data line sense amplifier 50, test I / O multiplexer 5
It is presumed that one of the above has a cause of failure or that the address control system has a failure.

【0039】このセルノード段電位設定回路121の拡
張ワード線WLHLD<0>,<1>を外部からの信号
供給により制御することも可能であるが、好ましくは、
このセルノード段電位設定回路121の拡張ワード線W
LHLD<0>,<1>を選択して駆動する制御駆動回
路は、ロウデコーダ/ロウリダンダンシコントローラ2
0の拡張回路として構成する。図7に示すロウデコーダ
/ロウリダンダンシコントローラ20を基本として、こ
れに拡張ワード線WLHLD<0>,<1>の制御駆動
回路131を加えた構成を、図13に示す。
It is possible to control the extended word lines WLHLD <0>, <1> of the cell node stage potential setting circuit 121 by supplying a signal from the outside, but preferably,
Extended word line W of this cell node stage potential setting circuit 121
A control drive circuit for selecting and driving LHLD <0>, <1> is a row decoder / row redundancy controller 2
It is configured as an extension circuit of 0. FIG. 13 shows a configuration based on the row decoder / row redundancy controller 20 shown in FIG. 7 and a control drive circuit 131 for extended word lines WLHLD <0> and <1> added thereto.

【0040】制御駆動回路131は、テスト時にスペア
ワード線SWLを選択可能としたロウリダンダンシコン
トローラのダミーラッチ23、セレクタ24及び比較器
25と同様の構成を拡張した、拡張ワード線WLHLD
の本数分のダミーラッチ23a、セレクタ24a及び比
較器25aを備えて構成される。ここには、不良置換の
ためのラッチ回路は必要がない。
The control drive circuit 131 has an extended word line WLHLD, which is an extension of the same configuration as the dummy latch 23, selector 24 and comparator 25 of the row redundancy controller which enables the selection of the spare word line SWL during a test.
And the number of dummy latches 23a, selectors 24a and comparators 25a. Here, there is no need for a latch circuit for defective replacement.

【0041】この様な構成として、ダミーラッチ回路2
3aには、テストモード時、2本のワード線に代わっ
て、拡張ワード線WLHLD<0>,<1>が選択され
るようなデータを予め保持させる。これは、不良アドレ
スの記憶と同様に、ヒューズ回路のプログラミングによ
り可能である。
In such a configuration, the dummy latch circuit 2
In the test mode 3a, data is stored in advance so that the expanded word lines WLHLD <0> and <1> are selected instead of the two word lines in the test mode. This is possible by programming the fuse circuit, as well as storing the defective address.

【0042】そして、テストモード時、ワード線WLや
スペアワード線SWLと同様に、セルノード段電位設定
回路121の拡張ワード線WLHLDを選択して駆動す
れば、選択された拡張ワード線WLHLDに応じて、セ
ルノード即ちビット線電位がVSSに固定される。従っ
て、読み出しデータを期待値データと比較することによ
って、不良原因を絞ることが可能になる。
In the test mode, as in the case of the word line WL and the spare word line SWL, if the extension word line WLHLD of the cell node stage potential setting circuit 121 is selected and driven, according to the selected extension word line WLHLD. , The cell node, that is, the bit line potential is fixed at VSS. Therefore, by comparing the read data with the expected value data, it is possible to narrow down the cause of the failure.

【0043】[ビット線段で固定電位出力]図4に示す
セルアレイ構成では、一対のデータ線DQには8本のカ
ラム選択線CSL<0>〜<7>により選択されたビッ
ト線が接続される。これに対して、図14に示すよう
に、拡張カラム選択線CSL<8>,<9>を設け、こ
れにより選択されるカラムゲート<8>,<9>と電位
が固定された拡張ビット線を用意する。
[Fixed Potential Output at Bit Line Stage] In the cell array configuration shown in FIG. 4, a bit line selected by eight column selection lines CSL <0> to <7> is connected to a pair of data lines DQ. . On the other hand, as shown in FIG. 14, extended column select lines CSL <8> and <9> are provided, and column gates <8> and <9> selected by the extended column select lines and extended bit lines having a fixed potential. Prepare

【0044】具体的には、図15に示すように、データ
線DQt,DQcにそれぞれ接続される、二本ずつの拡
張ビット線BLHLDt,BLHLDcを用意する。拡
張カラム選択線CSL<8>で選択される拡張ビット線
BLHLDt,BLHLDcはそれぞれ、VCC,VS
Sに固定されている。拡張カラム選択線CSL<9>に
より選択される拡張ビット線BLHLDt,BLHLD
cはそれぞれ、VSS,VCCに固定されている。これ
らの拡張ビット線BLHLDt,BLHLDcにはメモ
リセルは接続されない。
More specifically, as shown in FIG. 15, two extended bit lines BLHLDt and BLHLDc connected to data lines DQt and DQc, respectively, are prepared. The extension bit lines BLHLDt and BLHLDc selected by the extension column selection line CSL <8> are VCC and VS, respectively.
Fixed to S. Extension bit lines BLHLDt, BLHLD selected by extension column selection line CSL <9>
c is fixed to VSS and VCC, respectively. No memory cells are connected to these extended bit lines BLHLDt and BLHLDc.

【0045】この様な拡張カラム構成として、テストモ
ード時、拡張カラムのデータ読み出しを行うと、ビット
線以降のデータ転送系が正常であれば、ロウアドレスに
拘わらず、カラム選択線CSL<8>により、BLHL
Dt=VCC,BLHLD=VSSなるデータが、また
カラム選択線CSL<9>により、BLHLDt=VS
S,BLHLD=VCCなる期待値データが読み出され
る。拡張カラムからこの様な期待値データが読み出され
ないとすれば、データ線以降のデータ線センスアンプ、
カラムリダンダンシ、データI/Oマルチプレクサ、ロ
ウアドレス系等に不良があると推測される。また、上述
した拡張カラムの期待値データが正常に得られるにも拘
わらず、他の通常カラムで正常なテストデータ読み出し
ができないとすれば、不良個所がカラムゲート、ビット
線センスアンプ、メモリセル等にあり、その不良がリダ
ンダンシにより正常に置き換えられていないことが推測
される。
With such an extended column configuration, when data is read from the extended column in the test mode, if the data transfer system after the bit line is normal, the column selection line CSL <8> regardless of the row address. By BLHL
The data of Dt = VCC, BLHLD = VSS, and BLHLDt = VSS by the column selection line CSL <9>.
The expected value data of S, BLHLD = VCC is read. If such expected value data is not read from the extension column, the data line sense amplifier after the data line,
It is assumed that there is a defect in the column redundancy, the data I / O multiplexer, the row address system, and the like. If normal test data cannot be read from another normal column, despite the fact that the expected value data of the above-mentioned extended column can be obtained normally, the defective part may be a column gate, a bit line sense amplifier, a memory cell, or the like. It is assumed that the defect is not normally replaced by the redundancy.

【0046】[データ線段で固定電位出力]図16
は、データ転送段のうち、ビット線BLよりデータ入出
力パッド側にあるデータ線DQについて、電位固定され
る拡張データ線DQHLDを設ける例である。即ち、図
4のメモリセルアレイ10の構成を基本として、これに
電位固定される拡張データ線DQHLDを配置する。こ
の拡張データ線DQHLDは、メモリセルには接続され
ないが、ワード線WLやスペアワード線SWLによって
電位が制御されるようにする。この拡張データ線DQH
LDの配設に伴い、図3に示すカラム置換スイッチ60
には拡張データ線DQHLDを選択するための選択スイ
ッチが追加される。
[Fixed potential output at data line stage] FIG.
Is an example in which an extended data line DQHLD whose potential is fixed is provided for a data line DQ on the data input / output pad side of the bit line BL in the data transfer stage. That is, based on the configuration of the memory cell array 10 of FIG. 4, an extended data line DQHLD whose potential is fixed thereto is arranged. The extended data line DQHLD is not connected to a memory cell, but the potential is controlled by a word line WL or a spare word line SWL. This extended data line DQH
The column replacement switch 60 shown in FIG.
Is provided with a selection switch for selecting the extended data line DQHLD.

【0047】図17は、具体的に拡張データ線DQHL
Dの電位を固定するためのデータ線段電位設定回路17
1の構成例を示している。拡張データ線DQHLDは、
他のデータ線DQと同様に、対のデータ線DQHLD
t,DQHLDcとして配設される。図の例では、拡張
データ線DQHLDをワード線WL<0>,<1>,…
の制御により接地電位VSSに固定するためのNMOS
トランジスタQN31,QN32,…が設けられてい
る。また、スペアワード線SWL<0>,<1>,…に
より制御により、電源電位VCCに固定するためのNM
OSトランジスタQN33,QN34,…が設けられ
る。
FIG. 17 specifically shows the extended data line DQHL.
Data line stage potential setting circuit 17 for fixing the potential of D
1 shows a configuration example. The extension data line DQHLD is
Like other data lines DQ, a pair of data lines DQHLD
t, DQHLDc. In the example of the figure, the extended data line DQHLD is connected to the word lines WL <0>, <1>,.
NMOS to fix to ground potential VSS by control of
The transistors QN31, QN32,... Are provided. Further, NM for fixing to power supply potential VCC is controlled by spare word lines SWL <0>, <1>,.
OS transistors QN33, QN34,... Are provided.

【0048】この様な構成として、テストモード時に、
ロウアドレスをインクリメントしてデータ読み出しを行
う。ワード線WLが順次選択されている時は、拡張デー
タ線DQHLDt,DQHLDcが順次VSSに固定さ
れたデータがテストI/Oに読み出される。不良アドレ
スの置換があると、スペアワード線SWLにより選択さ
れた拡張データ線DQHLDt,DQHLDcがVCC
に固定されたデータが読み出される。従って、時間を追
ってデータを読むことにより、テストI/Oマルチプレ
クサ5が正常であることを前提として、ロウ置換がどの
様に行われているかを検証することができる。また、同
様の読み出しを行ったときの期待値との比較から、テス
トI/Oマルチプレクサ5が正常か否かを確認すること
ができる。
With such a configuration, in the test mode,
Data reading is performed by incrementing the row address. When the word lines WL are sequentially selected, the data whose extension data lines DQHLDt and DQHLDc are sequentially fixed to VSS are read out to the test I / O. When the defective address is replaced, the extended data lines DQHLDt and DQHLDc selected by the spare word line SWL are set to VCC.
Is read out. Therefore, by reading the data in a timely manner, it is possible to verify how the row replacement is performed on the assumption that the test I / O multiplexer 5 is normal. Further, it can be confirmed whether or not the test I / O multiplexer 5 is normal by comparing with the expected value at the time of performing the same reading.

【0049】拡張データ線DQHLDへのアクセスは、
スペアデータ線を選択するテストモードの拡張により、
即ち、カラムリダンダンシコントローラ40の拡張によ
り容易に実現できる。図18は、図8のカラムリダンダ
ンシコントローラ40を基本として、これに拡張データ
線DQHLDを選択するための選択回路181を加えた
構成である。
The access to the extended data line DQHLD is
By expanding the test mode to select the spare data line,
That is, it can be easily realized by expanding the column redundancy controller 40. FIG. 18 shows a configuration based on the column redundancy controller 40 shown in FIG. 8, with the addition of a selection circuit 181 for selecting the extended data line DQHLD.

【0050】選択回路181は、テスト時にスペアデー
タ線SDQを選択可能としたカラムダンダンシコントロ
ーラのダミーラッチ42及びセレクタ43と同様の構成
を拡張した、拡張データ線DQHLDを選択する置換信
号Z<n>を出すためのダミーラッチ42aとセレクタ
43aを備えて構成される。ここには、不良置換のため
のラッチ回路は必要がない。
The selection circuit 181 is a replacement signal Z <n> for selecting the extended data line DQHLD, which is obtained by expanding the same configuration as the dummy latch 42 and the selector 43 of the column redundancy controller that enables the selection of the spare data line SDQ during the test. And a selector 43a. Here, there is no need for a latch circuit for defective replacement.

【0051】スペアデータ線SDQをアクセスするテス
トモード時、前述のように、選択信号CAXが供給され
ると、カラムリダンダンシコントローラ40からは、カ
ラム選択信号CSLの値に拘わらず、スペアデータ線S
DQが選択されるように、カラム置換スイッチ60を制
御する置換信号Z<0>〜<n−1>が出力される。選
択回路181のダミーラッチ回路42aには、選択信号
CAXが発行された時に例えば、データ線DQ<n>が
拡張データ線DQHLDに置換されるように、置換信号
Z<n>を出力するよう、データが保持されるものとす
る。
In the test mode for accessing the spare data line SDQ, as described above, when the selection signal CAX is supplied, the spare data line S is supplied from the column redundancy controller 40 regardless of the value of the column selection signal CSL.
Replacement signals Z <0> to <n-1> for controlling column replacement switch 60 are output so that DQ is selected. The dummy latch circuit 42a of the selection circuit 181 outputs data such that a replacement signal Z <n> is output when the selection signal CAX is issued, for example, so that the data line DQ <n> is replaced with the extension data line DQHLD. Shall be retained.

【0052】この様なデータ線置換のテスト動作を行う
と、前述のように、ロウアドレスをインクリメントした
ときの拡張データ線のデータ監視により、ロウリダンダ
ンシの内容を検証できるだけでなく、カラムゲート13
の検証も可能である。即ち、カラムゲート13に接続さ
れているデータ線DQ<n>の読み出し出力の変化と、
カラムゲート13には接続されていない拡張データ線D
QHLDの読み出し出力の変化の様子を比較することに
より、カラムゲート13のデータ転送能力をチェックす
ることができる。
When such a test operation of data line replacement is performed, as described above, not only the contents of the row redundancy can be verified by monitoring the data of the extended data line when the row address is incremented, but also the column gate 13 can be verified.
Verification is also possible. That is, a change in the read output of the data line DQ <n> connected to the column gate 13,
Extended data line D not connected to column gate 13
By comparing changes in the read output of the QHLD, the data transfer capability of the column gate 13 can be checked.

【0053】[データ線段で固定電位出力]図19
は、拡張したデータ線ではなく、通常のデータ線DQ及
び不良カラム救済のためのスペアデータ線SDQについ
て、電位固定するデータ線段電位設定回路191を設け
た例である。図19の例は、制御信号線COLRDp<
0>により制御をされて、データ線DQ及びスペアデー
タ線SDQを一つずつ交互にVCC,VSSに電位固定
するNMOSトランジスタトランジスタ群191aと、
制御信号線COLRDp<1>により制御をされて、デ
ータ線DQ及びスペアデータ線SDQを二つずつ交互に
VCC,VSSに電位固定するNMOSトランジスタト
ランジスタ群191bとを設けた場合を示している。
[Fixed potential output at data line stage] FIG.
Is an example in which a data line stage potential setting circuit 191 for fixing the potential is provided for a normal data line DQ and a spare data line SDQ for repairing a defective column, instead of an extended data line. In the example of FIG. 19, the control signal line COLRDp <
0>, which controls the data line DQ and the spare data line SDQ one by one alternately at VCC and VSS.
A case is shown in which an NMOS transistor transistor group 191b that is controlled by the control signal line COLRDp <1> and alternately fixes the potential of the data line DQ and the spare data line SDQ to VCC and VSS by two is provided.

【0054】なお、図19では説明を簡単にするため、
簡略化して示しているが、データ線DQ及びスペアデー
タ線SDQは、それぞれ対をなして配設される。従って
実際には、図19に示すデータ線電位固定用のトランジ
スタ群191a,191bは、対をなすデータ線DQ
t,DQcの一方をVCC、他方をVSSとするよう
に、用意される。制御信号線COLRDp<0>,<1
>には、外部から制御信号が供給されるものとする。
In FIG. 19, to simplify the explanation,
Although shown in a simplified manner, the data line DQ and the spare data line SDQ are arranged in pairs. Therefore, in practice, the data line potential fixing transistor groups 191a and 191b shown in FIG.
It is prepared so that one of t and DQc is set to VCC and the other is set to VSS. Control signal lines COLRDp <0>, <1
>, A control signal is externally supplied.

【0055】この様な構成として、テストモード時、制
御信号線COLRDp<0>又は<1>を与えて、デー
タ線DQ及びスペアデータ線SDQの電位を固定して、
データ読み出しを行う。これにより、データ線DQ及び
スペアデータ線SDQの固定電位により決まる期待値デ
ータが読み出される。即ち、制御信号線COLRDp<
0>に“H”を与えた場合には、期待値データは、デー
タ線配列に対して、“H”,“L”,“H”,“L”の
繰り返しになり、制御信号線COLRDp<1>に
“H”を与えた場合には、期待値データは、データ線配
列に対して、“H”,“H”,“L”,“L”の繰り返
しになる。
In such a configuration, in the test mode, the control signal line COLRDp <0> or <1> is applied to fix the potentials of the data line DQ and the spare data line SDQ.
Read data. Thereby, expected value data determined by the fixed potentials of the data line DQ and the spare data line SDQ is read. That is, the control signal line COLRDp <
When “H” is given to 0>, the expected value data repeats “H”, “L”, “H”, and “L” with respect to the data line array, and the control signal line COLRDp < When “H” is given to 1>, the expected value data repeats “H”, “H”, “L”, and “L” with respect to the data line array.

【0056】従って、カラムアドレスをインクリメント
して、データ読み出しを行えば、これらの期待値データ
との比較により、カラム置換スイッチ60でどの様なカ
ラム置換が行われているかを検証することができる。ま
た、正常な期待値データが得られないとすれば、カラム
選択スイッチ60、カラムリダンダンシコントローラ、
テストI/Oマルチプレクサ等の不良が推測される。
Therefore, if the data is read out by incrementing the column address, it is possible to verify what kind of column replacement is performed by the column replacement switch 60 by comparing with the expected value data. If normal expected value data cannot be obtained, the column selection switch 60, the column redundancy controller,
A defect such as a test I / O multiplexer is assumed.

【0057】但し、以上のテスト動作において、好まし
くは、制御信号線COLRDp<0>,<1>は同時に
カラムゲートを非活性にして、ビット線がデータ線に接
続されないようにする。これにより、ビット線をデータ
線から切り離した状態で、データ線電位固定により決ま
る期待値データを読み出すことができる。或いは、デー
タ線段電位設定回路191の駆動能力を十分に大きく設
定して、ビット線データがデータ線に転送される場合に
も、そのビット線データに拘わらず、データ線電位を固
定できるようにすれば、カラムゲートを非活性にしなく
てもよい。
However, in the above test operation, preferably, the control signal lines COLRDp <0>, <1> simultaneously deactivate the column gates so that the bit lines are not connected to the data lines. Thus, the expected value data determined by fixing the data line potential can be read while the bit line is disconnected from the data line. Alternatively, the driving capability of the data line stage potential setting circuit 191 is set sufficiently large so that even when bit line data is transferred to the data line, the data line potential can be fixed regardless of the bit line data. In this case, the column gate need not be deactivated.

【0058】また、図19において、データ線DQとス
ペアデータ線SDQとを、その一方が全てVCCで他方
が全てVSSとなるようにデータ線段電位設定回路19
1を構成してもよい。これにより、図17の場合のロウ
置換の検証と同様に、簡単にカラム置換の検証が可能で
ある。
In FIG. 19, data line DQ and spare data line SDQ are connected to data line stage potential setting circuit 19 such that one of them is at VCC and the other is at VSS.
1 may be configured. As a result, similarly to the verification of the row replacement in the case of FIG. 17, the verification of the column replacement can be easily performed.

【0059】[データ線段で固定電位出力]図20
は、図19と類似のデータ線段電位設定回路201を設
けた例である。この場合データ線段電位設定回路201
は、制御信号線DQHLDp<0>により制御されて、
データ線DQ及びスペアデータ線SDQを全てVCCに
電位固定するNMOSトランジスタトランジスタ群20
1aと、制御信号線DQHLDp<1>により制御をさ
れて、データ線DQ及びスペアデータ線SDQを全てV
SSに電位固定するNMOSトランジスタトランジスタ
群191bとにより構成されている。制御信号線DQH
LDp<0>,<1>には、外部から制御信号が供給さ
れるものとする。
[Fixed potential output at data line stage] FIG. 20
Is an example in which a data line stage potential setting circuit 201 similar to that in FIG. 19 is provided. In this case, the data line stage potential setting circuit 201
Is controlled by a control signal line DQHLDp <0>,
NMOS transistor transistor group 20 for fixing all potentials of data line DQ and spare data line SDQ to VCC
1a and the control signal line DQHLDp <1>, and all data lines DQ and spare data lines SDQ are set to V
An NMOS transistor, which is fixed at the potential SS, is constituted by a transistor group 191b. Control signal line DQH
A control signal is externally supplied to LDp <0> and <1>.

【0060】この様な構成として、テストモード時、制
御信号線DQHLDp<0>又は<1>に外部から制御
信号を供給して、固定したデータ線電位によるメモリセ
ルへのデータ書き込みを行う。その後、データ線段電位
設定回路201を非活性にして、即ちテストモードを解
除してデータ読み出しを行う。従ってこの場合、図19
の例とは異なり、カラム選択信号の発行は抑制すること
なく、テストモードと通常動作モードとを、メモリセル
データを破壊することなく行き来させることができる。
これにより、データ線よりメモリセル側のデータ転送経
路における不良を検証することができる。更に、データ
線電位固定によるテストに先立つ、I/Oパッドからの
テストデータの書き込み,読み出しによる通常テストの
結果発生した不良との関係で、次のような不良原因の推
測が可能になる。即ち、データ線電位固定によるテスト
で期待値データが正常に読み出されたとすれば、通常テ
ストでの不良原因は、データ線よりI/Oパッド側の書
き込み系統にあることが推測される。
With such a configuration, in the test mode, a control signal is externally supplied to the control signal line DQHLDp <0> or <1>, and data is written to the memory cell with the fixed data line potential. After that, the data line stage potential setting circuit 201 is deactivated, that is, the test mode is canceled to read data. Therefore, in this case, FIG.
Unlike the example, the test mode and the normal operation mode can be switched back and forth without damaging the memory cell data without suppressing the issuance of the column selection signal.
This makes it possible to verify a defect in the data transfer path on the memory cell side from the data line. Further, the following cause of failure can be estimated in relation to a failure generated as a result of a normal test by writing and reading test data from the I / O pad prior to the test by fixing the data line potential. That is, if the expected value data is normally read in the test with the data line potential fixed, it is assumed that the cause of the failure in the normal test is a write system on the I / O pad side from the data line.

【0061】[データ入出力線段で固定電位出力]図2
に示すシステムLSI構成において、テストデータの入
出力を行うテストI/Oマルチプレクサ5に対して、図
21に示すように、拡張データ入出力線211を追加す
る。拡張データ入出力線211は、VCC固定のものと
VSS固定のものを用意する。
[Fixed potential output at data input / output line stage] FIG. 2
In the system LSI configuration shown in FIG. 21, an extended data input / output line 211 is added to the test I / O multiplexer 5 for inputting / outputting test data, as shown in FIG. As the extension data input / output line 211, a fixed VCC and a fixed VSS are prepared.

【0062】或いは、図22に示すように、テスト用I
/Oマルチプレクサ5におけるテストI/Oパッド<
0:15>に対応したマルチプレクサMUX毎に、拡張
データ入出力線212を追加する。これらの拡張データ
入出力線212も、VCC固定のものとVSS固定のも
のを用意する。
Alternatively, as shown in FIG.
Test I / O pad in I / O multiplexer 5 <
0:15>, an extended data input / output line 212 is added for each multiplexer MUX. These extended data input / output lines 212 also have a fixed VCC and a fixed VSS.

【0063】これらの電位固定の拡張データ入出力線2
11或いは212は、コマンドデコーダ8の拡張により
選択可能とする。この様な構成として、テストモード
時、拡張データ線入出力211或いは212を選択して
読み出す。このとき、読み出しデータが期待値でないと
すれば、テスト用マルチプレクサ5、コマンドデコーダ
8或いは入出力パッドの外のテスト回路系に問題がある
ことがわかる。
These potential-fixed extended data input / output lines 2
11 or 212 can be selected by expanding the command decoder 8. With such a configuration, in the test mode, the extended data line input / output 211 or 212 is selected and read. At this time, if the read data is not the expected value, it is understood that there is a problem in the test multiplexer 5, the command decoder 8, or the test circuit system outside the input / output pad.

【0064】上記実施の形態では、システムLSIを対
象として、その中のメモリ、特にDRAMに着目して、
不良解析を容易にするテスト用電位設定回路を設ける場
合を説明したが、同様の手法は、SRAMやEEPRO
M等の他のメモリを搭載したシステムLSIに適用でき
ることは勿論、半導体メモリ単体に対しても同様に適用
して有効である。
In the above embodiment, the system LSI is targeted, and the memory therein, particularly the DRAM, is focused on.
Although the case where the test potential setting circuit for facilitating the failure analysis is provided has been described, a similar method is used for an SRAM or an EEPROM.
The present invention can be applied not only to a system LSI equipped with another memory such as M, but also to a semiconductor memory alone.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、メ
モリセルからデータ入出力パッドまでのデータ転送経路
のいずれかの箇所を所定電位に設定してデータアクセス
を行うことにより、不良の原因箇所の特定を容易にする
ことができる。
As described above, according to the present invention, the data access is performed by setting any part of the data transfer path from the memory cell to the data input / output pad to a predetermined potential, thereby causing a failure. The location can be easily specified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明によるシステムLSIの基本構成を示
す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration of a system LSI according to the present invention.

【図2】同システムLSIのテスト回路系の構成を示す
図である。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a test circuit system of the system LSI.

【図3】同システムLSIのDRAMの構成を示す図で
ある。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a DRAM of the system LSI.

【図4】同DRAMのセルアレイの構成を示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a cell array of the DRAM.

【図5】同DRAMのデータ線とビット線の関係を示す
図である。
FIG. 5 is a diagram showing a relationship between data lines and bit lines of the DRAM.

【図6】同DRAMのセルアレイの具体的な構成を示す
図である。
FIG. 6 is a diagram showing a specific configuration of a cell array of the DRAM.

【図7】同DRAMのロウデコーダ/ロウリダンダンシ
コントローラの構成を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a row decoder / row redundancy controller of the DRAM.

【図8】同DRAMのカラムリダンダンシコントローラ
の構成を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration of a column redundancy controller of the DRAM.

【図9】同DRAMのカラム置換スイッチの構成例を示
す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a configuration example of a column replacement switch of the DRAM.

【図10】同DRAMのカラム置換スイッチの他の構成
例を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing another configuration example of the column replacement switch of the DRAM.

【図11】同DRAMのテスト用マルチプレクサの構成
を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a configuration of a test multiplexer of the DRAM.

【図12】図6のセルアレイ構成に対して、セルノード
段電位設定回路を設けた例を示す図である。
12 is a diagram showing an example in which a cell node stage potential setting circuit is provided for the cell array configuration of FIG. 6;

【図13】図12のセルノード段電位設定回路の拡張ワ
ード線を選択するためのロウリダンダンシコントローラ
の拡張回路を示す図である。
13 is a diagram showing an extension circuit of a row redundancy controller for selecting an extension word line of the cell node stage potential setting circuit of FIG. 12;

【図14】図4のセルアレイ構成に対して、拡張ビット
線とビット線段電位設定回路を設けた例である。
14 is an example in which an extended bit line and a bit line stage potential setting circuit are provided for the cell array configuration of FIG. 4;

【図15】図14の拡張ビット線部の具体的な回路構成
を示す図である。
15 is a diagram showing a specific circuit configuration of an extended bit line unit of FIG.

【図16】図4のセルアレイ構成に対して拡張データ線
を配置した構成を示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing a configuration in which extended data lines are arranged in the cell array configuration of FIG. 4;

【図17】図16の拡張データ線の電位を固定するデー
タ線段電位設定回路を示す図である。
17 is a diagram showing a data line stage potential setting circuit for fixing the potential of the extended data line of FIG. 16;

【図18】図16の拡張データ線を選択するためのカラ
ムリダンダンシコントローラの拡張回路を示す図であ
る。
18 is a diagram showing an extension circuit of a column redundancy controller for selecting an extension data line in FIG.

【図19】他のデータ線段電位設定回路の構成を示す図
である。
FIG. 19 is a diagram showing a configuration of another data line stage potential setting circuit.

【図20】他のデータ線段電位設定回路の構成を示す図
である。
FIG. 20 is a diagram showing a configuration of another data line stage potential setting circuit.

【図21】テスト用I/Oマルチプレクサに対してデー
タ入出力線段電位設定回路を設けた例を示す図である。
FIG. 21 is a diagram showing an example in which a data input / output line stage potential setting circuit is provided for a test I / O multiplexer.

【図22】テスト用I/Oマルチプレクサに対してデー
タ入出力線段電位設定回路を設けた他の例を示す図であ
る。
FIG. 22 is a diagram showing another example in which a data input / output line stage potential setting circuit is provided for a test I / O multiplexer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…メモリ、2…ロジック、5…テストI/Oマルチプ
レクサ、10…メモリセルアレイ、12…センスアン
プ、13…カラムゲート、20…ロウデコーダ/ロウリ
ダンダンシコントローラ、30…カラムデコーダ、40
…カラムリダンダンシコントローラ、50…アドレスバ
ッファ/コマンドデコーダ、60…カラム置換スイッ
チ、121…セルノード段電位設定回路、BLHLD
(BLHLDt,BLHLDc)…拡張ビット線、DQ
HLD(DQHLDt,DQHLDc)…拡張データ
線、171,191,201…データ線段電位設定回
路、211,212…拡張データ入出力線。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Memory, 2 ... Logic, 5 ... Test I / O multiplexer, 10 ... Memory cell array, 12 ... Sense amplifier, 13 ... Column gate, 20 ... Row decoder / row redundancy controller, 30 ... Column decoder, 40
... column redundancy controller, 50 ... address buffer / command decoder, 60 ... column replacement switch, 121 ... cell node stage potential setting circuit, BLHLD
(BLHLDt, BLHLDc) ... extended bit line, DQ
HLD (DQHLDt, DQHLDc): extended data line; 171, 191, 201: data line stage potential setting circuit; 211, 212: extended data input / output line.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G06F 12/16 330 G01R 31/28 B G11C 11/401 G11C 11/34 371A 371D Fターム(参考) 2G032 AA03 AA07 AB20 AC03 AD05 AG02 AH04 AK14 5B018 GA03 HA21 JA12 MA40 QA13 5B024 AA15 BA05 BA13 BA15 BA18 BA29 CA07 CA17 CA27 EA04 5L106 AA01 CC17 DD12 EE03 GG05 GG07 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) G06F 12/16 330 G01R 31/28 B G11C 11/401 G11C 11/34 371A 371D F-term (reference) 2G032 AA03 AA07 AB20 AC03 AD05 AG02 AH04 AK14 5B018 GA03 HA21 JA12 MA40 QA13 5B024 AA15 BA05 BA13 BA15 BA18 BA29 CA07 CA17 CA27 EA04 5L106 AA01 CC17 DD12 EE03 GG05 GG07

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリセルからデータ入出力端子までの
間に読み出し/書き込みデータを順次転送する複数のデ
ータ転送段を有し且つ、通常動作モードとテストモード
とを有する半導体集積回路において、 前記複数のデータ転送段のうち少なくとも一つに、テス
トモード時に所定電位を出力するテスト用電位設定回路
が設けられていることを特徴とする半導体集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit having a plurality of data transfer stages for sequentially transferring read / write data between a memory cell and a data input / output terminal and having a normal operation mode and a test mode, A test potential setting circuit for outputting a predetermined potential in a test mode in at least one of the data transfer stages.
【請求項2】 前記テスト用電位設定回路は、選択信号
により通常動作モード時に被選択信号を出力する信号選
択回路に対して、テストモード時に前記所定電位を選択
して出力する拡張信号選択回路を備えて構成されている
ことを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。
2. The test potential setting circuit according to claim 1, further comprising: a signal selection circuit that outputs a selected signal in a normal operation mode according to a selection signal, and an extended signal selection circuit that selects and outputs the predetermined potential in a test mode. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit is provided.
【請求項3】 前記テスト用電位設定回路によるテスト
モードは、メモリセルアレイをアクセスするアドレス空
間に対して、所定アドレスで前記信号選択回路に代わっ
て前記拡張信号選択回路を選択するようにアドレスを割
り付けることにより実行されるものであることを特徴と
する請求項2記載の半導体集積回路。
3. A test mode by the test potential setting circuit assigns an address to an address space for accessing a memory cell array so that a predetermined address selects the extension signal selection circuit instead of the signal selection circuit. 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the semiconductor integrated circuit is executed by:
【請求項4】 前記テスト用電位設定回路は、メモリセ
ルアレイのセルノードの後段に所定電位を出力するセル
ノード段電位設定回路であることを特徴とする請求項1
又は2記載の半導体集積回路。
4. The test potential setting circuit according to claim 1, wherein said test potential setting circuit is a cell node stage potential setting circuit that outputs a predetermined potential to a stage subsequent to a cell node of a memory cell array.
Or the semiconductor integrated circuit according to 2.
【請求項5】 前記セルノード段電位設定回路は、前記
メモリセルアレイの拡張セルアレイとして構成されて、
前記メモリセルアレイのワード線を拡張した拡張ワード
線と、この拡張ワード線により駆動されて一端がビット
線に他端が所定電位に接続されたトランジスタとを有す
ることを特徴とする請求項4記載の半導体集積回路。
5. The cell node stage potential setting circuit is configured as an extended cell array of the memory cell array,
5. The semiconductor device according to claim 4, further comprising: an expanded word line obtained by expanding a word line of the memory cell array; and a transistor driven by the expanded word line, one end of which is connected to a bit line and the other end of which is connected to a predetermined potential. Semiconductor integrated circuit.
【請求項6】 前記拡張ワード線に割り付けられたロウ
アドレスを記憶したアドレス記憶回路と、テストモード
時に入力されるロウアドレスと前記アドレス記憶回路の
アドレスとの一致検出を行って対応する拡張ワード線を
選択する一致検出回路とを備えた拡張ワード線選択回路
を有することを特徴とする請求項5記載の半導体集積回
路。
6. An address storage circuit storing a row address assigned to the extended word line, and detecting a coincidence between a row address input in a test mode and an address of the address storage circuit to perform a corresponding extended word line. 6. The semiconductor integrated circuit according to claim 5, further comprising an extended word line selection circuit including a match detection circuit for selecting a word line.
【請求項7】 不良ワード線を置換するためのスペアワ
ード線を含む冗長ロウセルアレイと、不良ロウアドレス
の入力に応じて前記スペアワード線による不良ワード線
の置換制御を行うロウリダンダンシコントローラとを有
し、 前記拡張ワード線選択回路は、前記ロウリダンダンシコ
ントローラの拡張回路として構成されていることを特徴
とする請求項6記載の半導体集積回路。
7. A redundant row cell array including a spare word line for replacing a defective word line, and a row redundancy controller for controlling replacement of the defective word line by the spare word line in response to input of a defective row address. 7. The semiconductor integrated circuit according to claim 6, wherein the extension word line selection circuit is configured as an extension circuit of the row redundancy controller.
【請求項8】 前記テスト用電位設定回路は、メモリセ
ルアレイのビット線の後段に所定電位を出力するビット
線段電位設定回路であることを特徴とする請求項1又は
2記載の半導体集積回路。
8. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the test potential setting circuit is a bit line potential setting circuit that outputs a predetermined potential to a stage subsequent to a bit line of a memory cell array.
【請求項9】 前記ビット線段電位設定回路は、メモリ
セルアレイの拡張セルアレイとして構成されたメモリセ
ルが接続されない拡張ビット線と、この拡張ビット線を
データ線に接続するための拡張カラムゲートとを有する
ことを特徴とする請求項8記載の半導体集積回路。
9. The bit line stage potential setting circuit includes an extension bit line to which a memory cell configured as an extension cell array of a memory cell array is not connected, and an extension column gate for connecting the extension bit line to a data line. 9. The semiconductor integrated circuit according to claim 8, wherein:
【請求項10】 前記テスト用電位設定回路は、メモリ
セルアレイのビット線にカラムゲートを介して接続され
るデータ線と別に設けられた前記メモリセルアレイに接
続されない拡張データ線と、前記メモリセルアレイのワ
ード線により駆動されて前記拡張データ線の電位を設定
するトランジスタとを有する拡張データ線段電位設定回
路であることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体
集積回路。
10. The test potential setting circuit includes: an extended data line that is provided separately from a data line connected to a bit line of a memory cell array via a column gate and is not connected to the memory cell array; and a word of the memory cell array. 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit is an extended data line stage potential setting circuit having a transistor driven by a line to set the potential of the extended data line.
【請求項11】 前記拡張データ線段電位設定回路は、
ワード線により駆動されて前記拡張データ線を第1の電
位に接続する第1のトランジスタと、不良ワード線を置
換するためのスペアワード線により駆動されて前記拡張
データ線を第2の電位に接続する第2のトランジスタと
を有することを特徴とする請求項10記載の半導体集積
回路。
11. The extended data line stage potential setting circuit,
A first transistor driven by a word line to connect the extended data line to a first potential and a spare word line driven by a spare word line for replacing a defective word line to connect the extended data line to a second potential The semiconductor integrated circuit according to claim 10, further comprising a second transistor.
【請求項12】 テストモード時、所定のデータ線に代
わって前記拡張データ線を選択するための置換信号を出
力する拡張データ線選択回路を有することを特徴とする
請求項10記載の半導体集積回路。
12. The semiconductor integrated circuit according to claim 10, further comprising: an extension data line selection circuit for outputting a replacement signal for selecting said extension data line in place of a predetermined data line in a test mode. .
【請求項13】 不良データ線を置換するためのスペア
データ線と、カラムアドレスに応じて不良データ線に代
わって前記スペアデータ線を選択する置換信号を出力す
るカラムリダンダンシコントローラとを有し、 前記拡張データ線選択回路は、前記カラムリダンダンシ
コントローラの拡張回路として構成されていることを特
徴とする請求項12記載の半導体集積回路。
13. A spare data line for replacing a defective data line, and a column redundancy controller for outputting a replacement signal for selecting the spare data line in place of the defective data line in accordance with a column address, 13. The semiconductor integrated circuit according to claim 12, wherein the extension data line selection circuit is configured as an extension circuit of the column redundancy controller.
【請求項14】 前記テスト用電位設定回路は、メモリ
セルアレイのビット線にカラムゲートを介して接続され
るデータ線を所定電位に設定するデータ線段電位設定回
路であることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体
集積回路。
14. The test potential setting circuit according to claim 1, wherein said test potential setting circuit sets a data line connected to a bit line of a memory cell array via a column gate to a predetermined potential. Or the semiconductor integrated circuit according to 2.
【請求項15】 前記データ線段電位設定回路は、各デ
ータ線に一端が接続され、他端に所定電位が与えられた
トランジスタと、テストモード時にこれらのトランジス
タを外部からの制御信号により駆動する制御信号線とか
ら構成されていることを特徴とする請求項14記載の半
導体集積回路。
15. The data line stage potential setting circuit includes a transistor having one end connected to each data line and a predetermined potential applied to the other end, and a control for driving these transistors by an external control signal in a test mode. 15. The semiconductor integrated circuit according to claim 14, comprising a signal line.
【請求項16】 前記テスト用電位設定回路は、テスト
用データの入出力を行うテスト用I/Oマルチプレクサ
の入力側に対し所定電位に設定された拡張データ入出力
線を追加して構成されたデータ入出力線段電位設定回路
であることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体集
積回路。
16. The test potential setting circuit is configured by adding an extended data input / output line set to a predetermined potential to an input side of a test I / O multiplexer for inputting / outputting test data. 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit is a data input / output line stage potential setting circuit.
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