JP2002141278A - デバイス製造装置、露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
デバイス製造装置、露光装置およびデバイス製造方法Info
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- JP2002141278A JP2002141278A JP2000338461A JP2000338461A JP2002141278A JP 2002141278 A JP2002141278 A JP 2002141278A JP 2000338461 A JP2000338461 A JP 2000338461A JP 2000338461 A JP2000338461 A JP 2000338461A JP 2002141278 A JP2002141278 A JP 2002141278A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Stand-By Power Supply Arrangements (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 安全性が高く、しかも停電後の自動立ち上げ
が可能である電力供給システムを実現する。 【解決手段】 デバイスを製造する露光装置等の空調装
置3、本体制御部4、光源装置13、本体電源部6等に
電力を供給する電力供給部5は、停電時に無停電電源1
0によって補助電力を供給されて閉状態を保つ電磁開閉
器14を有し、緊急時には緊急停止スイッチ18a、1
8b、または空調装置3の過温度検知器によって開かれ
る接続端子19の作動によってすべての給電を停止す
る。停電時には、所定時間、過温度検知器を冷却して緊
急停止回路の接続端子19を不作動に保ち、短時間で復
電した場合の自動立ち上げに備える。
が可能である電力供給システムを実現する。 【解決手段】 デバイスを製造する露光装置等の空調装
置3、本体制御部4、光源装置13、本体電源部6等に
電力を供給する電力供給部5は、停電時に無停電電源1
0によって補助電力を供給されて閉状態を保つ電磁開閉
器14を有し、緊急時には緊急停止スイッチ18a、1
8b、または空調装置3の過温度検知器によって開かれ
る接続端子19の作動によってすべての給電を停止す
る。停電時には、所定時間、過温度検知器を冷却して緊
急停止回路の接続端子19を不作動に保ち、短時間で復
電した場合の自動立ち上げに備える。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、空調装置によって
温度等を精密制御されるチャンバーを用いる露光装置等
において、停電後の復電時に自動立ち上げを行なう自動
立ち上げ機能を有するデバイス製造装置、露光装置およ
びデバイス製造方法に関するものである。
温度等を精密制御されるチャンバーを用いる露光装置等
において、停電後の復電時に自動立ち上げを行なう自動
立ち上げ機能を有するデバイス製造装置、露光装置およ
びデバイス製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】空調装置によって温度等を精密制御され
るチャンバーを用いる半導体製造のための露光装置やデ
バイス製造装置においては、事故に対する安全のための
緊急停止回路を備えた電源装置が用いられるが、停電時
も、剰余運転が行なわれないため、過温度検出等によっ
て緊急停止回路が作動したのと同じ状態となる。
るチャンバーを用いる半導体製造のための露光装置やデ
バイス製造装置においては、事故に対する安全のための
緊急停止回路を備えた電源装置が用いられるが、停電時
も、剰余運転が行なわれないため、過温度検出等によっ
て緊急停止回路が作動したのと同じ状態となる。
【0003】従って、例えば10分以内の短時間で復電
したときでも、空調装置の過温度検出部によって緊急停
止回路が作動したままであり、自動的に再起動できな
い。
したときでも、空調装置の過温度検出部によって緊急停
止回路が作動したままであり、自動的に再起動できな
い。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術によれ
ば、前述のように、停電時にはチャンバーの空調装置の
ファン等が全て停止するため、バイメタル等を用いた過
温度検出部はヒータ部の余熱を受けて緊急停止回路が作
動状態を維持し、短時間で復電した場合でも、再起動ま
でには30分程の自然冷却を待たねばならず、自動立ち
上げができないという未解決の課題があった。半導体メ
ーカーの中には、10分以内の停電時は装置を自動で立
ち上げたいという要望があり、これに応じられる装置の
開発が望まれている。
ば、前述のように、停電時にはチャンバーの空調装置の
ファン等が全て停止するため、バイメタル等を用いた過
温度検出部はヒータ部の余熱を受けて緊急停止回路が作
動状態を維持し、短時間で復電した場合でも、再起動ま
でには30分程の自然冷却を待たねばならず、自動立ち
上げができないという未解決の課題があった。半導体メ
ーカーの中には、10分以内の停電時は装置を自動で立
ち上げたいという要望があり、これに応じられる装置の
開発が望まれている。
【0005】本発明は上記従来の技術の有する未解決の
課題に鑑みてなされたものであり、装置稼動中の事故等
に対する安全性を確保するとともに、停電時の自動立ち
上げによって生産効率を大きく向上できるデバイス製造
装置、露光装置およびデバイス製造方法を提供すること
を目的とするものである。
課題に鑑みてなされたものであり、装置稼動中の事故等
に対する安全性を確保するとともに、停電時の自動立ち
上げによって生産効率を大きく向上できるデバイス製造
装置、露光装置およびデバイス製造方法を提供すること
を目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のデバイス製造装置は、装置本体部に電力を
供給するための主電源回路と、停電時に補助電力を供給
するための補助電源回路と、緊急時に前記主電源回路に
よる前記電力の供給および前記補助電源回路による前記
補助電力の供給をすべて遮断する緊急停止回路を有し、
停電時には、前記補助電力によって前記緊急停止回路を
所定時間不作動に維持するように構成されていることを
特徴とする。
め、本発明のデバイス製造装置は、装置本体部に電力を
供給するための主電源回路と、停電時に補助電力を供給
するための補助電源回路と、緊急時に前記主電源回路に
よる前記電力の供給および前記補助電源回路による前記
補助電力の供給をすべて遮断する緊急停止回路を有し、
停電時には、前記補助電力によって前記緊急停止回路を
所定時間不作動に維持するように構成されていることを
特徴とする。
【0007】補助電源回路が、無停電電源を備えている
とよい。
とよい。
【0008】また、停電時に緊急停止回路を所定時間不
作動に維持するためのタイマーつきの制御手段が設けら
れているとよい。
作動に維持するためのタイマーつきの制御手段が設けら
れているとよい。
【0009】本発明の露光装置は、空調装置によって温
調されるチャンバーと、該チャンバー内に設置された露
光台と、該露光台に電力を供給するための主電源回路
と、停電時に補助電力を供給するための補助電源回路
と、緊急時に前記主電源回路による前記電力の供給およ
び前記補助電源回路による前記補助電力の供給をすべて
遮断する緊急停止回路を有し、停電時には、前記補助電
力によって前記緊急停止回路を所定時間不作動に維持す
るように構成されていることを特徴とする。
調されるチャンバーと、該チャンバー内に設置された露
光台と、該露光台に電力を供給するための主電源回路
と、停電時に補助電力を供給するための補助電源回路
と、緊急時に前記主電源回路による前記電力の供給およ
び前記補助電源回路による前記補助電力の供給をすべて
遮断する緊急停止回路を有し、停電時には、前記補助電
力によって前記緊急停止回路を所定時間不作動に維持す
るように構成されていることを特徴とする。
【0010】チャンバーの過温度を検知して緊急停止回
路を作動させる過温度検知部と、該過温度検知部を停電
時に冷却することで前記緊急停止回路を所定時間不作動
に維持するためのタイマーつきの制御手段が設けられて
いるとよい。
路を作動させる過温度検知部と、該過温度検知部を停電
時に冷却することで前記緊急停止回路を所定時間不作動
に維持するためのタイマーつきの制御手段が設けられて
いるとよい。
【0011】
【作用】緊急事故の発生時や、空調装置によって恒温に
保たれるチャンバーの過温度が検出された場合には、緊
急停止回路が自動あるいは手動によって作動し、安全の
ためにすべての電力供給が遮断される。また、停電時に
は、無停電電源によって補助電力を供給するとともに、
緊急停止回路を作動させる空調装置の過温度検知部等を
タイマーつきの制御手段によって冷却することで、停電
後の所定時間、緊急停止回路を不作動に維持し、この間
に復電した場合には、電力供給が自動的に再開されるい
わゆる自動立ち上げが行なわれる。
保たれるチャンバーの過温度が検出された場合には、緊
急停止回路が自動あるいは手動によって作動し、安全の
ためにすべての電力供給が遮断される。また、停電時に
は、無停電電源によって補助電力を供給するとともに、
緊急停止回路を作動させる空調装置の過温度検知部等を
タイマーつきの制御手段によって冷却することで、停電
後の所定時間、緊急停止回路を不作動に維持し、この間
に復電した場合には、電力供給が自動的に再開されるい
わゆる自動立ち上げが行なわれる。
【0012】所定時間が過ぎても復電しないときは、す
べての電力供給が停止される。
べての電力供給が停止される。
【0013】停電から短い時間で復電した場合の自動立
ち上げを、緊急停止回路を利用して安全に行なうこと
で、露光装置やデバイス製造装置の安全性と生産性を大
きく改善できる。
ち上げを、緊急停止回路を利用して安全に行なうこと
で、露光装置やデバイス製造装置の安全性と生産性を大
きく改善できる。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態を図面に基
づいて説明する。図1において、デバイス製造装置に対
する電力は製造工場の設備電源23から供給される。設
備電源23は、通常運転時に半導体製造工場に電力会社
から供給される商用電力を変圧して工場内の各装置に電
力を供給する主電源と、停電や電源故障などで電源が電
力を供給できないときに主電源の代わりに工場内に電力
を供給するバックアップ電源を備えている。バックアッ
プ電源は例えばディーゼル発電機などの自家発電機を有
している。
づいて説明する。図1において、デバイス製造装置に対
する電力は製造工場の設備電源23から供給される。設
備電源23は、通常運転時に半導体製造工場に電力会社
から供給される商用電力を変圧して工場内の各装置に電
力を供給する主電源と、停電や電源故障などで電源が電
力を供給できないときに主電源の代わりに工場内に電力
を供給するバックアップ電源を備えている。バックアッ
プ電源は例えばディーゼル発電機などの自家発電機を有
している。
【0015】デバイス製造装置は、大きくは、装置本体
部である製造装置本体1、製造装置本体1を収容して一
定環境下に保つチャンバーである恒温チャンバー2、恒
温チャンバー2内の雰囲気温度やガス濃度、クリーン度
などを一定に保つための空調装置3、製造装置本体1お
よび空調装置3の動作を制御する本体制御部4、および
電力供給部5を有し、電力供給部5は、設備電源23か
ら供給される電力を本体電源部6および空調装置3に対
して給電するか遮断するかを制御する。なお、図1のデ
バイス製造装置は、半導体ウエハ等基板に露光処理を行
なう露光台を装置本体部とする露光装置であるが、これ
に限るものではなく、半導体デバイス等の製造に使用す
る各種処理装置や検査装置などに適用可能である。
部である製造装置本体1、製造装置本体1を収容して一
定環境下に保つチャンバーである恒温チャンバー2、恒
温チャンバー2内の雰囲気温度やガス濃度、クリーン度
などを一定に保つための空調装置3、製造装置本体1お
よび空調装置3の動作を制御する本体制御部4、および
電力供給部5を有し、電力供給部5は、設備電源23か
ら供給される電力を本体電源部6および空調装置3に対
して給電するか遮断するかを制御する。なお、図1のデ
バイス製造装置は、半導体ウエハ等基板に露光処理を行
なう露光台を装置本体部とする露光装置であるが、これ
に限るものではなく、半導体デバイス等の製造に使用す
る各種処理装置や検査装置などに適用可能である。
【0016】一方、製造装置本体1を収容する恒温チャ
ンバー2とは別に光源装置13が設置され、製造装置本
体1にビームライン20を通して露光光を導入してい
る。光源装置13は例えばエキシマレーザ光源装置やX
線光源装置(SRやプラズマX線発生源など)である。
光源装置13へは電力供給部5から電源ケーブル21に
よって電力が供給され、また光源装置13と本体制御部
4とは通信ケーブル22で接続されている。
ンバー2とは別に光源装置13が設置され、製造装置本
体1にビームライン20を通して露光光を導入してい
る。光源装置13は例えばエキシマレーザ光源装置やX
線光源装置(SRやプラズマX線発生源など)である。
光源装置13へは電力供給部5から電源ケーブル21に
よって電力が供給され、また光源装置13と本体制御部
4とは通信ケーブル22で接続されている。
【0017】図2は、図1のデバイス製造装置における
電力供給部5の周辺の電力供給システムを説明する図で
ある。工場の設備電源23から、メインブレーカ7、電
源投入および遮断を制御するための第1の電磁開閉器8
(開閉制御用の電磁コイルを持ったリレー装置)を経
て、本体電源部6と空調装置3と光源装置13のそれぞ
れへパワーラインを有する主電源回路が形成されてい
る。ここで、電磁開閉器8の上流(設備電源側)を一次
側と呼び、下流(装置側)を二次側と呼ぶ。
電力供給部5の周辺の電力供給システムを説明する図で
ある。工場の設備電源23から、メインブレーカ7、電
源投入および遮断を制御するための第1の電磁開閉器8
(開閉制御用の電磁コイルを持ったリレー装置)を経
て、本体電源部6と空調装置3と光源装置13のそれぞ
れへパワーラインを有する主電源回路が形成されてい
る。ここで、電磁開閉器8の上流(設備電源側)を一次
側と呼び、下流(装置側)を二次側と呼ぶ。
【0018】電磁開閉器8の一次側は分岐して、過電流
保護器9、補助電源回路を構成する無停電電源10、過
電流保護器12、タイマーつきの電源制御部11が順に
接続されている。無停電電源10はAC/DC変換器と
バッテリ、さらに停電(瞬時停電および数秒〜数十分の
停電)および復電を検出するための停電検出回路15を
内蔵している。停電検出回路15の検出信号は本体制御
部4ならびに電源制御部11に入力される。
保護器9、補助電源回路を構成する無停電電源10、過
電流保護器12、タイマーつきの電源制御部11が順に
接続されている。無停電電源10はAC/DC変換器と
バッテリ、さらに停電(瞬時停電および数秒〜数十分の
停電)および復電を検出するための停電検出回路15を
内蔵している。停電検出回路15の検出信号は本体制御
部4ならびに電源制御部11に入力される。
【0019】電源制御部11には、電源ONスイッチ1
7aと、電源OFFスイッチ17bが接続されている。
さらに電源制御部11には第1の電磁開閉器8の電磁コ
イルへの通電を制御するための第2の電磁開閉器14
(リレー装置)の電磁コイルが接続され、この給電ライ
ンの途中には、2つの緊急停止スイッチ18a、18
b、後述する過温度検知部である過温度検知器342へ
の接続端子19が含まれており、緊急停止回路を構成し
ている。第1緊急停止スイッチと18aと、第2緊急停
止スイッチ18b、接続端子19のいずれかで給電が遮
断されると、第2の電磁開閉器14の電磁コイルへの通
電が途絶えて、電磁開閉器14が開状態となり、これに
伴なって第1の電磁開閉器8も開状態となり、装置各部
に対する給電がすべて遮断される。緊急停止スイッチ1
8a、18bはデバイス製造装置の恒温チャンバー2の
外壁のオペレータが操作しやすい場所に取り付けられて
いる。
7aと、電源OFFスイッチ17bが接続されている。
さらに電源制御部11には第1の電磁開閉器8の電磁コ
イルへの通電を制御するための第2の電磁開閉器14
(リレー装置)の電磁コイルが接続され、この給電ライ
ンの途中には、2つの緊急停止スイッチ18a、18
b、後述する過温度検知部である過温度検知器342へ
の接続端子19が含まれており、緊急停止回路を構成し
ている。第1緊急停止スイッチと18aと、第2緊急停
止スイッチ18b、接続端子19のいずれかで給電が遮
断されると、第2の電磁開閉器14の電磁コイルへの通
電が途絶えて、電磁開閉器14が開状態となり、これに
伴なって第1の電磁開閉器8も開状態となり、装置各部
に対する給電がすべて遮断される。緊急停止スイッチ1
8a、18bはデバイス製造装置の恒温チャンバー2の
外壁のオペレータが操作しやすい場所に取り付けられて
いる。
【0020】第2の電磁開閉器14のリレー接点は同時
に開閉される3系統を有し、1系統は第1の電磁開閉器
8の電磁コイルの通電制御用、他の2系統はリレー接点
16a、16bで示している。リレー接点16aは本体
制御部4への電力の供給/遮断を切り替えるものであ
り、リレー接点16bは停電検出回路15での検出信号
を本体制御部4に伝える信号ラインの接続/遮断を切り
替えるものである。
に開閉される3系統を有し、1系統は第1の電磁開閉器
8の電磁コイルの通電制御用、他の2系統はリレー接点
16a、16bで示している。リレー接点16aは本体
制御部4への電力の供給/遮断を切り替えるものであ
り、リレー接点16bは停電検出回路15での検出信号
を本体制御部4に伝える信号ラインの接続/遮断を切り
替えるものである。
【0021】以上の構成の概略を整理すると、設備電源
23から各装置(本体電源部6、空調装置3、光源装置
13)への電力の供給と遮断を切り替える第1の電磁開
閉器8と、電磁開閉器8の電磁コイルへの給電を制御す
る第2の電磁開閉器14とを備え、第1の電磁開閉器8
の電磁コイルには電磁開閉器8の一次側から給電され、
第2の電磁開閉器14の電磁コイルには電源制御部11
を介して給電され、緊急停止スイッチ18a、18b等
が第2の電磁開閉器14の電磁コイルへの給電ライン途
中に設けられた構成となっている。ここで、第1の電磁
開閉器8ならびに第2の電磁開閉器14は、これらの電
磁コイルへの通電がない場合に開状態、通電がある場合
に閉状態になるリレーであり、緊急停止スイッチ18
a、18bはいずれも通常は閉状態で通電しスイッチを
押すと開状態になって遮断するスイッチである。
23から各装置(本体電源部6、空調装置3、光源装置
13)への電力の供給と遮断を切り替える第1の電磁開
閉器8と、電磁開閉器8の電磁コイルへの給電を制御す
る第2の電磁開閉器14とを備え、第1の電磁開閉器8
の電磁コイルには電磁開閉器8の一次側から給電され、
第2の電磁開閉器14の電磁コイルには電源制御部11
を介して給電され、緊急停止スイッチ18a、18b等
が第2の電磁開閉器14の電磁コイルへの給電ライン途
中に設けられた構成となっている。ここで、第1の電磁
開閉器8ならびに第2の電磁開閉器14は、これらの電
磁コイルへの通電がない場合に開状態、通電がある場合
に閉状態になるリレーであり、緊急停止スイッチ18
a、18bはいずれも通常は閉状態で通電しスイッチを
押すと開状態になって遮断するスイッチである。
【0022】図2は装置停止時における回路状態を示し
ている。無停電電源10は、電磁開閉器8の一次側で分
電されたACを、無停電電源10でAC/DC変換して
24ボルトのDCに変換する。DCに変換された後、内
蔵バッテリの充電とともに電源制御部11および本体制
御部4へ給電する。
ている。無停電電源10は、電磁開閉器8の一次側で分
電されたACを、無停電電源10でAC/DC変換して
24ボルトのDCに変換する。DCに変換された後、内
蔵バッテリの充電とともに電源制御部11および本体制
御部4へ給電する。
【0023】図3は空調装置3内の構成を示す。設備電
源23からの電力は冷凍器31、無停電電源32を介し
てファンモータ33、ヒータ34の各ユニットに分配さ
れる。冷凍器31は空気を冷却し、無停電電源32は停
電時のみファンモータ33へ給電する。無停電電源32
はタイマーつき制御手段である制御部321を有し、フ
ァンモータ33への給電のON/OFF制御を行なう。
ファンモータ33は、冷凍器31で冷ました空気をヒー
タ34で一定温度まで暖めて恒温チャンバー2へ送る機
能を持つ。ヒータ34の温度制御部341は、バイメタ
ルを用いた安全対策のための過温度検知器342を有
し、これによって開閉される接続端子19は、前述のよ
うに緊急停止回路につなぎ込まれている(図1参照)。
源23からの電力は冷凍器31、無停電電源32を介し
てファンモータ33、ヒータ34の各ユニットに分配さ
れる。冷凍器31は空気を冷却し、無停電電源32は停
電時のみファンモータ33へ給電する。無停電電源32
はタイマーつき制御手段である制御部321を有し、フ
ァンモータ33への給電のON/OFF制御を行なう。
ファンモータ33は、冷凍器31で冷ました空気をヒー
タ34で一定温度まで暖めて恒温チャンバー2へ送る機
能を持つ。ヒータ34の温度制御部341は、バイメタ
ルを用いた安全対策のための過温度検知器342を有
し、これによって開閉される接続端子19は、前述のよ
うに緊急停止回路につなぎ込まれている(図1参照)。
【0024】次に上記構成において、電源投入時の動作
について説明する。設備電源23が給電状態でオペレー
タが電源ONスイッチ17aを操作すると、電源制御部
11が第2の電磁開閉器14の電磁コイルへの通電を行
なう。すると電磁開閉器14が開状態から閉状態に切り
替わり、これに伴なって第1の電磁開閉器8の電磁コイ
ルに通電され、電磁開閉器8も開状態から閉状態に切り
替わる。こうして本体電源部6、空調装置3、光源装置
13のそれぞれへの給電が開始され、半導体デバイス製
造のための露光処理が行なわれる。通常の装置停止はオ
ペレータが電源OFFスイッチ17bを押すことによっ
てなされる。
について説明する。設備電源23が給電状態でオペレー
タが電源ONスイッチ17aを操作すると、電源制御部
11が第2の電磁開閉器14の電磁コイルへの通電を行
なう。すると電磁開閉器14が開状態から閉状態に切り
替わり、これに伴なって第1の電磁開閉器8の電磁コイ
ルに通電され、電磁開閉器8も開状態から閉状態に切り
替わる。こうして本体電源部6、空調装置3、光源装置
13のそれぞれへの給電が開始され、半導体デバイス製
造のための露光処理が行なわれる。通常の装置停止はオ
ペレータが電源OFFスイッチ17bを押すことによっ
てなされる。
【0025】次に、装置稼動中に緊急停止スイッチが押
された場合等における緊急停止の動作について説明す
る。装置稼動中に、オペレータによって緊急停止スイッ
チ18aまたは18bが押される(閉状態から開状態に
切り替わる)、あるいは装置異常を示す過温度検出によ
り接続端子19が開になった場合、電源制御部11は第
2の電磁開閉器14の電磁コイルへの給電を停止し、そ
れに伴なって第1の電磁開閉器8は閉状態から開状態に
切り替わり、本体電源部6、空調装置3、光源装置13
のそれぞれへの給電が停止される。さらに本体制御部4
への給電は、第2の電磁開閉器14と連動するリレー1
6aが開状態になることにより停止される。停電検出回
路15からの信号は第2の電磁開閉器14と連動するリ
レー16bが開状態となることにより遮断される。これ
によって緊急停止の場合は、電源遮断デバイスである第
1の電磁開閉器8の一次側、および緊急停止回路を構成
する電源制御部11を除き、設備電源23からの装置各
部への給電をすべて遮断することになり、高い安全性を
確保できる。
された場合等における緊急停止の動作について説明す
る。装置稼動中に、オペレータによって緊急停止スイッ
チ18aまたは18bが押される(閉状態から開状態に
切り替わる)、あるいは装置異常を示す過温度検出によ
り接続端子19が開になった場合、電源制御部11は第
2の電磁開閉器14の電磁コイルへの給電を停止し、そ
れに伴なって第1の電磁開閉器8は閉状態から開状態に
切り替わり、本体電源部6、空調装置3、光源装置13
のそれぞれへの給電が停止される。さらに本体制御部4
への給電は、第2の電磁開閉器14と連動するリレー1
6aが開状態になることにより停止される。停電検出回
路15からの信号は第2の電磁開閉器14と連動するリ
レー16bが開状態となることにより遮断される。これ
によって緊急停止の場合は、電源遮断デバイスである第
1の電磁開閉器8の一次側、および緊急停止回路を構成
する電源制御部11を除き、設備電源23からの装置各
部への給電をすべて遮断することになり、高い安全性を
確保できる。
【0026】次に、装置稼動中に設備電源23に予期し
ない停電が発生した場合について説明する。この場合、
設備電源23の電力供給停止と同時に第1の電磁開閉器
8の電磁コイルへの通電も停止するため、第1の電磁開
閉器8は開状態になって、空調装置3、本体電源部6、
光源装置13への給電ラインが遮断される。一方、停電
検出回路15、電源制御部11および本体制御部4は無
停電電源10から補助電力が供給されるバックアップ給
電が維持されて定常状態を保つ。このとき第2の電磁開
閉器14が閉状態を維持するのが、上記緊急停止時との
大きな相違点である。本体制御部4は、停電検出回路1
5にて検出された設備電源23の停電を知らせる信号に
より製造装置本体1や空調装置3の動作パラメータなど
を保存して維持する。
ない停電が発生した場合について説明する。この場合、
設備電源23の電力供給停止と同時に第1の電磁開閉器
8の電磁コイルへの通電も停止するため、第1の電磁開
閉器8は開状態になって、空調装置3、本体電源部6、
光源装置13への給電ラインが遮断される。一方、停電
検出回路15、電源制御部11および本体制御部4は無
停電電源10から補助電力が供給されるバックアップ給
電が維持されて定常状態を保つ。このとき第2の電磁開
閉器14が閉状態を維持するのが、上記緊急停止時との
大きな相違点である。本体制御部4は、停電検出回路1
5にて検出された設備電源23の停電を知らせる信号に
より製造装置本体1や空調装置3の動作パラメータなど
を保存して維持する。
【0027】これと同時に空調装置3内の無停電電源3
2が制御部321を介して作動し、ファンモータ33を
稼動させる。この稼動により空気流が起き、この風は下
流の過温度検知器342がヒータ34からの余熱を受け
ないように冷却する。この時間はせいぜい10分程でそ
の間ファンを回せば接続端子19が開くことはなく、緊
急停止回路は不作動に維持される。タイマーによって設
定された時間が過ぎると、それ以降は無停電電源32は
停止する。前記時間内に停電が復電すればその時点で無
停電電源32の給電は停止する。
2が制御部321を介して作動し、ファンモータ33を
稼動させる。この稼動により空気流が起き、この風は下
流の過温度検知器342がヒータ34からの余熱を受け
ないように冷却する。この時間はせいぜい10分程でそ
の間ファンを回せば接続端子19が開くことはなく、緊
急停止回路は不作動に維持される。タイマーによって設
定された時間が過ぎると、それ以降は無停電電源32は
停止する。前記時間内に停電が復電すればその時点で無
停電電源32の給電は停止する。
【0028】なお、緊急停止スイッチ18aまたは18
bが押されて、緊急停止回路が動作した場合は、本体制
御部4から緊急停止信号を受けて無停電電源32の制御
部321を作動させてファンモータ33への給電が停止
される。
bが押されて、緊急停止回路が動作した場合は、本体制
御部4から緊急停止信号を受けて無停電電源32の制御
部321を作動させてファンモータ33への給電が停止
される。
【0029】設備電源23がタイマーによる設定時間内
に停電状態から復電したときは、第2の電磁開閉器14
が閉状態を維持しているために、第1の電磁開閉器8の
電磁コイルに通電されて電磁開閉器8が再び閉状態にな
って、空調装置3、製造装置本体1、光源装置13への
給電が自動的に再開される。再開の際には、本体制御部
4で保存した停電直前の動作パラメータに基づいて稼動
開始するために、速やかに稼動を復帰させることができ
る。このようにして、自動立ち上げによる再起動を行な
うことができる。
に停電状態から復電したときは、第2の電磁開閉器14
が閉状態を維持しているために、第1の電磁開閉器8の
電磁コイルに通電されて電磁開閉器8が再び閉状態にな
って、空調装置3、製造装置本体1、光源装置13への
給電が自動的に再開される。再開の際には、本体制御部
4で保存した停電直前の動作パラメータに基づいて稼動
開始するために、速やかに稼動を復帰させることができ
る。このようにして、自動立ち上げによる再起動を行な
うことができる。
【0030】電源制御部11と本体制御部4はタイマー
装置を内蔵しており、停電検出回路15での停電検出
後、所定時間内に停電検出回路15で復電が検知された
ら自動的に再起動を行なう。もし、タイマー装置で設定
した所定時間を越えて停電状態が続いた場合は、その後
に停電検出回路15で復電が検出されたとしても、製造
装置本体1、空調装置3、光源装置13を自動再起動さ
せずに、緊急停止回路が作動したときと同様に、オペレ
ータが電源スイッチを操作しないと再起動しないように
する。
装置を内蔵しており、停電検出回路15での停電検出
後、所定時間内に停電検出回路15で復電が検知された
ら自動的に再起動を行なう。もし、タイマー装置で設定
した所定時間を越えて停電状態が続いた場合は、その後
に停電検出回路15で復電が検出されたとしても、製造
装置本体1、空調装置3、光源装置13を自動再起動さ
せずに、緊急停止回路が作動したときと同様に、オペレ
ータが電源スイッチを操作しないと再起動しないように
する。
【0031】上記タイマー装置での再起動までの要否を
決定する所定時間は、コンマ数秒〜数十分の範囲で自由
に設定することができる。
決定する所定時間は、コンマ数秒〜数十分の範囲で自由
に設定することができる。
【0032】なお、再起動に際しては、最初に空調装置
3を起動して、続いて製造装置本体1、光源装置13を
自動的に再稼動させるようにしてもよい。最初に空調装
置3を優先的に再起動させる理由は、空調装置3による
恒温チャンバー2内の環境を定常状態に戻すのに一番時
間を要するためである。
3を起動して、続いて製造装置本体1、光源装置13を
自動的に再稼動させるようにしてもよい。最初に空調装
置3を優先的に再起動させる理由は、空調装置3による
恒温チャンバー2内の環境を定常状態に戻すのに一番時
間を要するためである。
【0033】無停電電源10の内蔵バッテリは、停電時
に設備電源23が商用電源から自家発電電源に切り替わ
るまでの最大20分間だけ瞬断なく電源制御部11と本
体制御部4へ給電するだけの容量を持っている。冒頭に
説明したように、設備電源23は、ディーゼル発電機な
どの自家発電機をバックアップとして備えているが、自
家発電機の起動には所定の立ち上げ時間(通常10分程
度)を要するために、電源が停止してバックアップ電源
が電力供給を開示するまでの切替え期間中は電力供給が
停止される。そこで、無停電電源10の内蔵バッテリは
該切換え期間(例えば10分)よりも長い時間(例えば
20分)だけ補助電力を供給できる容量を備えている。
に設備電源23が商用電源から自家発電電源に切り替わ
るまでの最大20分間だけ瞬断なく電源制御部11と本
体制御部4へ給電するだけの容量を持っている。冒頭に
説明したように、設備電源23は、ディーゼル発電機な
どの自家発電機をバックアップとして備えているが、自
家発電機の起動には所定の立ち上げ時間(通常10分程
度)を要するために、電源が停止してバックアップ電源
が電力供給を開示するまでの切替え期間中は電力供給が
停止される。そこで、無停電電源10の内蔵バッテリは
該切換え期間(例えば10分)よりも長い時間(例えば
20分)だけ補助電力を供給できる容量を備えている。
【0034】また、製造工場は短時間の停電のための無
停電電源(DC)を供えている場合もある。そこで上記
の無停電電源10を工場設備の無停電電源に置き換える
ようにしてもよい。工場には、設備無停電電源、無停電
電源ボックス、設備無停電電源からの供給DCを24ボ
ルトの供給DCに変換するトランス等が配備される。
停電電源(DC)を供えている場合もある。そこで上記
の無停電電源10を工場設備の無停電電源に置き換える
ようにしてもよい。工場には、設備無停電電源、無停電
電源ボックス、設備無停電電源からの供給DCを24ボ
ルトの供給DCに変換するトランス等が配備される。
【0035】本実施の形態は、緊急停止スイッチによる
緊急停止回路を備えたデバイス製造装置であって、短時
間の停電によってデバイス製造装置の稼動が停止した場
合は停電回復後に自動的に装置を再起動させ、一方、緊
急停止回路によって装置の稼動が停止した場合には停電
回復後にも自動的には装置を再起動させないようにする
ものである。
緊急停止回路を備えたデバイス製造装置であって、短時
間の停電によってデバイス製造装置の稼動が停止した場
合は停電回復後に自動的に装置を再起動させ、一方、緊
急停止回路によって装置の稼動が停止した場合には停電
回復後にも自動的には装置を再起動させないようにする
ものである。
【0036】見方を変えれば、緊急停止スイッチによる
緊急停止機能を備えたデバイス製造装置への電力供給シ
ステムであって、停電によって装置の稼動が停止した場
合は停電回復後に自動的に給電を再開し、一方、緊急停
止機能によって製造装置の稼動が停止した場合には停電
回復後に自動的には装置に電力を再供給しないように構
成されている。
緊急停止機能を備えたデバイス製造装置への電力供給シ
ステムであって、停電によって装置の稼動が停止した場
合は停電回復後に自動的に給電を再開し、一方、緊急停
止機能によって製造装置の稼動が停止した場合には停電
回復後に自動的には装置に電力を再供給しないように構
成されている。
【0037】これにより、停電や電源故障などの予期せ
ぬ要因で電力の供給が停止された場合にも、安全性を損
なうことなく稼動再開までの時間を短縮することができ
る生産性の高い電力供給システムを提供することができ
る。また、緊急停止回路の作動によって緊急停止した場
合には、オペレータによる電源再投入をしない限り再起
動はしないため、装置暴走などのない安全性の高いシス
テムとなっている。すなわち、安全性と生産性を高い次
元で両立する露光装置等デバイス製造装置を実現でき
る。
ぬ要因で電力の供給が停止された場合にも、安全性を損
なうことなく稼動再開までの時間を短縮することができ
る生産性の高い電力供給システムを提供することができ
る。また、緊急停止回路の作動によって緊急停止した場
合には、オペレータによる電源再投入をしない限り再起
動はしないため、装置暴走などのない安全性の高いシス
テムとなっている。すなわち、安全性と生産性を高い次
元で両立する露光装置等デバイス製造装置を実現でき
る。
【0038】次に上記説明したデバイス製造装置を利用
したデバイス製造方法を説明する。図4は半導体デバイ
スの全体的な製造プロセスのフローを示す。ステップ1
(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行なう。
ステップ2(マスク製作)では設計した回路パターンを
形成したマスクを製作する。一方、ステップ3(ウエハ
製造)ではシリコン等の材料を用いて基板であるウエハ
を製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と
呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグ
ラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。
次のステップ5(組立)は後工程と呼ばれ、ステップ4
によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する
工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディ
ング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組立工
程を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製さ
れた半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等
の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが
完成し、これを出荷(ステップ7)する。前工程と後工
程はそれぞれ専用の別の工場で行ない、これらの工場毎
に遠隔保守システムによって保守がなされる。また前工
程工場と後工程工場との間でも、インターネットまたは
専用線ネットワークを介して生産管理や装置保守のため
の情報がデータ通信される。
したデバイス製造方法を説明する。図4は半導体デバイ
スの全体的な製造プロセスのフローを示す。ステップ1
(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行なう。
ステップ2(マスク製作)では設計した回路パターンを
形成したマスクを製作する。一方、ステップ3(ウエハ
製造)ではシリコン等の材料を用いて基板であるウエハ
を製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と
呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグ
ラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。
次のステップ5(組立)は後工程と呼ばれ、ステップ4
によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する
工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディ
ング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組立工
程を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製さ
れた半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等
の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが
完成し、これを出荷(ステップ7)する。前工程と後工
程はそれぞれ専用の別の工場で行ない、これらの工場毎
に遠隔保守システムによって保守がなされる。また前工
程工場と後工程工場との間でも、インターネットまたは
専用線ネットワークを介して生産管理や装置保守のため
の情報がデータ通信される。
【0039】図5は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオン
打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ15
(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ16(露光)では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
17(現像)では露光したウエハを現像する。ステップ
18(エッチング)では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ19(レジスト剥離)ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンを形成する。各工程で使用する製造
機器は遠隔保守システムによって保守がなされているの
で、トラブルを未然に防ぐとともに、もしトラブルが発
生しても迅速な復旧が可能で、従来に比べて半導体デバ
イスの生産性を向上させることができる。
を示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオン
打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ15
(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ16(露光)では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
17(現像)では露光したウエハを現像する。ステップ
18(エッチング)では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ19(レジスト剥離)ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンを形成する。各工程で使用する製造
機器は遠隔保守システムによって保守がなされているの
で、トラブルを未然に防ぐとともに、もしトラブルが発
生しても迅速な復旧が可能で、従来に比べて半導体デバ
イスの生産性を向上させることができる。
【0040】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。
で、以下に記載するような効果を奏する。
【0041】露光装置等デバイス製造装置の安全性と生
産性を高い次元で両立することができる。例えば、稼動
中の露光装置等デバイス製造装置を緊急停止させる際
に、システムの暴走などを防ぎつつ安全に停止させるこ
とができる。また停電や電源故障などの予期せぬ要因で
電力の供給が停止された場合にも、短時間の停電であれ
ば、安全性を損なうことなく稼動再開までの時間を大幅
に短縮する自動立ち上げを行ない、生産性を大幅に向上
できる。
産性を高い次元で両立することができる。例えば、稼動
中の露光装置等デバイス製造装置を緊急停止させる際
に、システムの暴走などを防ぎつつ安全に停止させるこ
とができる。また停電や電源故障などの予期せぬ要因で
電力の供給が停止された場合にも、短時間の停電であれ
ば、安全性を損なうことなく稼動再開までの時間を大幅
に短縮する自動立ち上げを行ない、生産性を大幅に向上
できる。
【図1】一実施の形態によるデバイス製造装置の全体構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図2】電力供給システムの構成を示す図である。
【図3】空調装置内の構成を示す図である。
【図4】デバイス製造方法を示すフローチャートであ
る。
る。
【図5】ウエハプロセスを示すフローチャートである。
1 製造装置本体 2 恒温チャンバー 3 空調装置 4 本体制御部 5 電力供給部 6 本体電源部 7 メインブレーカ 8 第1の電磁開閉器 9 過電流保護器 10、32 無停電電源 11 電源制御部 12 過電流保護器 13 光源装置 14 第2の電磁開閉器 15 停電検出回路 16a、16b 電磁開閉器14と連動したリレー 17a 電源ONスイッチ 17b 電源OFFスイッチ 18a、18b 緊急停止スイッチ 19 接続端子 20 ビームライン 21 電源ケーブル 22 通信ケーブル 23 設備電源 31 冷凍器 33 ファンモータ 34 ヒータ 321 制御部 341 温度制御部 342 過温度検知器
Claims (11)
- 【請求項1】 装置本体部に電力を供給するための主電
源回路と、停電時に補助電力を供給するための補助電源
回路と、緊急時に前記主電源回路による前記電力の供給
および前記補助電源回路による前記補助電力の供給をす
べて遮断する緊急停止回路を有し、停電時には、前記補
助電力によって前記緊急停止回路を所定時間不作動に維
持するように構成されていることを特徴とするデバイス
製造装置。 - 【請求項2】 補助電源回路が、無停電電源を備えてい
ることを特徴とする請求項1記載のデバイス製造装置。 - 【請求項3】 停電時に緊急停止回路を所定時間不作動
に維持するためのタイマーつきの制御手段が設けられて
いることを特徴とする請求項1または2記載のデバイス
製造装置。 - 【請求項4】 空調装置によって温調されるチャンバー
と、該チャンバー内に設置された露光台と、該露光台に
電力を供給するための主電源回路と、停電時に補助電力
を供給するための補助電源回路と、緊急時に前記主電源
回路による前記電力の供給および前記補助電源回路によ
る前記補助電力の供給をすべて遮断する緊急停止回路を
有し、停電時には、前記補助電力によって前記緊急停止
回路を所定時間不作動に維持するように構成されている
ことを特徴とする露光装置。 - 【請求項5】 補助電源回路が、無停電電源を備えてい
ることを特徴とする請求項4記載の露光装置。 - 【請求項6】 チャンバーの過温度を検知して緊急停止
回路を作動させる過温度検知部と、該過温度検知部を停
電時に冷却することで前記緊急停止回路を所定時間不作
動に維持するためのタイマーつきの制御手段が設けられ
ていることを特徴とする請求項4または5記載の露光装
置。 - 【請求項7】 空調装置によって温調されるチャンバー
と、該チャンバー内に設置された装置本体部と、該装置
本体部に電力を供給するための主電源回路と、停電時に
補助電力を供給するための補助電源回路と、緊急時に前
記主電源回路による前記電力の供給および前記補助電源
回路による前記補助電力の供給をすべて遮断する緊急停
止回路を有し、停電時には、前記補助電力によって前記
緊急停止回路を所定時間不作動に維持するように構成さ
れていることを特徴とするデバイス製造装置。 - 【請求項8】 補助電源回路が、無停電電源を備えてい
ることを特徴とする請求項7記載のデバイス製造装置。 - 【請求項9】 チャンバーの過温度を検知して緊急停止
回路を作動させる過温度検知部と、該過温度検知部を停
電時に冷却することで前記緊急停止回路を所定時間不作
動に維持するためのタイマーつきの制御手段が設けられ
ていることを特徴とする請求項7または8記載のデバイ
ス製造装置。 - 【請求項10】 請求項4ないし6いずれか1項記載の
露光装置によって基板を露光する工程を有するデバイス
製造方法。 - 【請求項11】 請求項1ないし3および請求項7ない
し9いずれか1項記載のデバイス製造装置によってデバ
イスを製造する工程を有するデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000338461A JP2002141278A (ja) | 2000-11-07 | 2000-11-07 | デバイス製造装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000338461A JP2002141278A (ja) | 2000-11-07 | 2000-11-07 | デバイス製造装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002141278A true JP2002141278A (ja) | 2002-05-17 |
Family
ID=18813668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000338461A Pending JP2002141278A (ja) | 2000-11-07 | 2000-11-07 | デバイス製造装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002141278A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012114481A (ja) * | 2003-08-29 | 2012-06-14 | Nikon Corp | 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| CN119439646A (zh) * | 2024-12-10 | 2025-02-14 | 上海新毅东半导体科技有限公司 | 光刻机的微环境控制架构 |
-
2000
- 2000-11-07 JP JP2000338461A patent/JP2002141278A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012114481A (ja) * | 2003-08-29 | 2012-06-14 | Nikon Corp | 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| JP2014057102A (ja) * | 2003-08-29 | 2014-03-27 | Nikon Corp | 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| US8854599B2 (en) | 2003-08-29 | 2014-10-07 | Nikon Corporation | Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
| US8867017B2 (en) | 2003-08-29 | 2014-10-21 | Nikon Corporation | Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
| JP2015019112A (ja) * | 2003-08-29 | 2015-01-29 | 株式会社ニコン | 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| US9041901B2 (en) | 2003-08-29 | 2015-05-26 | Nikon Corporation | Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
| JP2016026333A (ja) * | 2003-08-29 | 2016-02-12 | 株式会社ニコン | 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| JP2017062481A (ja) * | 2003-08-29 | 2017-03-30 | 株式会社ニコン | 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| US10012909B2 (en) | 2003-08-29 | 2018-07-03 | Nikon Corporation | Liquid recovery apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
| CN119439646A (zh) * | 2024-12-10 | 2025-02-14 | 上海新毅东半导体科技有限公司 | 光刻机的微环境控制架构 |
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