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JP2002033823A - User authentication system for concerned person authentication method and mobile phone device - Google Patents

User authentication system for concerned person authentication method and mobile phone device

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Publication number
JP2002033823A
JP2002033823A JP2001139365A JP2001139365A JP2002033823A JP 2002033823 A JP2002033823 A JP 2002033823A JP 2001139365 A JP2001139365 A JP 2001139365A JP 2001139365 A JP2001139365 A JP 2001139365A JP 2002033823 A JP2002033823 A JP 2002033823A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
crystal display
display device
image sensor
personal authentication
Prior art date
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Granted
Application number
JP2001139365A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2002033823A5 (en
JP4364452B2 (en
Inventor
Shunpei Yamazaki
舜平 山崎
Jun Koyama
潤 小山
Yasuyuki Arai
康行 荒井
Hideomi Suzawa
英臣 須沢
Koji Ono
幸司 小野
Toru Takayama
徹 高山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd filed Critical Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority to JP2001139365A priority Critical patent/JP4364452B2/en
Publication of JP2002033823A publication Critical patent/JP2002033823A/en
Publication of JP2002033823A5 publication Critical patent/JP2002033823A5/ja
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Publication of JP4364452B2 publication Critical patent/JP4364452B2/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a user authentication system and method that employ the Internet and a mobile information communication device. SOLUTION: The user authentication system for a mobile information communication unit having a liquid crystal display device reads personal information of a user by an image sensor incorporated in the liquid crystal display device and authenticates the person concerned on the basis of the information. This invention provides the user authentication system that is characterized in that the image sensor reads the personal information of the user, authenticates the user and transmits the result of authentication via the Internet. That is, this invention provides the user authentication system where image sensor reads the personal information of the user, the user is authenticated, and the necessity of transmission of the authentication result is discriminated depending on the necessity set to the mobile information communication unit or a communication destination in advance and the authentication result is transmitted via the Internet only when the transmission is required.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は本人認証システムま
たは本人認証方法に関し、特に、携帯型情報通信装置が
装備するイメージセンサー内蔵型液晶表示装置を用い
て、本人認証を行うことを特徴とした本人認証システム
または本人認証方法である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an identity authentication system or identity authentication method, and more particularly to identity authentication using a liquid crystal display device with a built-in image sensor provided in a portable information communication device. Authentication system or personal authentication method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯電話、携帯型情報端末などの
携帯型情報通信装置を使用したインターネットによる通
信技術が急速に発展しつつある。従来のインターネット
は、企業、家庭での据え置き型のパソコンに電話回線を
接続して中央処理装置(ここではホストコンピュータや
サーバーを指していう)通信をおこなう方式が主流であ
った。しかし最近では、携帯電話からインターネットに
接続する方式が普及し、さまざまな情報交換が簡便に行
われるようになった。
2. Description of the Related Art In recent years, communication technology using the Internet using portable information communication devices such as portable telephones and portable information terminals has been rapidly developing. In the conventional Internet, a system in which a telephone line is connected to a stationary personal computer at a company or home to communicate with a central processing unit (here, a host computer or a server) is mainly used. However, recently, the method of connecting to the Internet from a mobile phone has become widespread, and various information exchanges have been easily performed.

【0003】従来の携帯電話装置の例を図18に示す。
図18に示されるような従来の携帯電話装置は本体18
01、音声出力部1802、音声入力部1803、表示
部1804、操作スイッチ1805、アンテナ1806
などによって構成されている。通常の電話をかける場合
は液晶ディスプレイに相手先の電話番号や、電波の受信
状態などが表示される。また、インターネットを使用す
る場合には、相手先の必要情報が表示されることにな
る。
FIG. 18 shows an example of a conventional portable telephone device.
A conventional mobile phone device as shown in FIG.
01, audio output unit 1802, audio input unit 1803, display unit 1804, operation switch 1805, antenna 1806
It is constituted by such as. When making a normal call, the telephone number of the other party, the reception status of radio waves, and the like are displayed on the liquid crystal display. When the Internet is used, necessary information of the other party is displayed.

【0004】図18に示したような従来の携帯電話装置
を用いて、インターネット上で金銭授受などの取引を行
う場合、本人であることの確認が必要である。そのとき
は、あらかじめ相手先に登録した暗証番号を入力して、
相手先の中央処理装置とデータのやり取りを行い確認を
行っていた。
When a transaction such as money transfer is performed on the Internet using a conventional portable telephone device as shown in FIG. 18, it is necessary to confirm the identity of the person. In that case, enter the password registered in advance with the other party,
They exchanged data with the central processing unit of the other party to confirm.

【0005】図19に従来の本人認証のフローを示す。
使用者はまず、要望する相手先とインターネットを介し
て接続を行う。次に、相手先の指定した条件下で、認証
のための数値(暗証番号)を携帯電話装置より入力す
る。数値を受け取った相手先は自分のところにあらかじ
め登録された数値との照合を行い、合致するかどうかを
確認する。ここで合致が見られれば、使用者は本人と確
認され、要望する対応を得ることができる。
FIG. 19 shows a flow of conventional personal authentication.
The user first establishes a connection with the desired destination via the Internet. Next, under the conditions specified by the other party, a numerical value (password) for authentication is input from the portable telephone device. The other party who receives the numerical value compares the numerical value with the numerical value registered in advance at its own place and confirms whether or not it matches. If a match is found here, the user is confirmed as the person himself, and the desired response can be obtained.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記に
て説明したような従来の携帯電話を用いた認証システム
では、(1)本人であることの確認が難しく暗証番号が
本人以外の人間に漏洩した場合悪用される可能性があ
る、(2)本人確認が毎回相手先との通信を介して行わ
れるため通信コストが上昇し、また、通話の断絶が発生
すると再確認が必要となる、(3)キーボードの入力の
手間が多い、といった問題点があった。
However, in the conventional authentication system using a portable telephone as described above, (1) it is difficult to confirm the identity of the person and the personal identification number is leaked to a person other than the person. (2) Communication cost increases because identification is performed each time through communication with the other party, and re-confirmation is required when a call is disconnected. (3) ) There was a problem that a lot of time and effort was required to enter a keyboard.

【0007】本発明は、上記問題点を鑑みてなされたも
のであり、インターネットと携帯型情報通信装置を用い
た本人認証システム及び本人認証方法を提供することを
目的とする。
[0007] The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a personal authentication system and a personal authentication method using the Internet and a portable information communication device.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解決するために、液晶表示装置を有する携帯型情報通信
装置の本人認証システムにおいて、液晶表示装置にはイ
メージセンサーが内蔵され、該イメージセンサーにより
使用者の個体情報を読み取り、かつ、読み取り情報をも
とに、本人認証をおこなう本人認証システムであること
を特徴としている。
According to the present invention, there is provided a personal authentication system for a portable information communication device having a liquid crystal display device, wherein the liquid crystal display device has a built-in image sensor. It is characterized in that it is an identity authentication system that reads individual information of a user by an image sensor and performs identity authentication based on the read information.

【0009】また、本発明は、イメージセンサーが内蔵
された液晶表示装置と、記憶装置と、イメージセンサー
が読み取る個体情報と記憶装置に蓄えられている個体情
報とを比較する機能とから成る本人認証システムである
ことを特徴としている。または、イメージセンサーが内
蔵された液晶表示装置と、記憶装置と、イメージセンサ
ーが読み取る個体情報と記憶装置に蓄えられている個体
情報とを比較して本人か否かを判断する機能と、判断結
果を中央処理装置に送信する機能とを有する本人認証シ
ステムであることを特徴としている。
Further, the present invention provides a personal identification device comprising a liquid crystal display device having a built-in image sensor, a storage device, and a function of comparing individual information read by the image sensor with individual information stored in the storage device. It is characterized by being a system. Alternatively, a liquid crystal display device with a built-in image sensor, a storage device, a function of comparing individual information read by the image sensor with individual information stored in the storage device to determine whether or not the user is himself, and a determination result Is transmitted to the central processing unit.

【0010】イメージセンサーは使用者の個体情報を読
み取り、本人認証をおこない、認証結果はインターネッ
トを介して、伝達されることを特徴とした本人認証シス
テムが提供される。或いは、イメージセンサーは使用者
の個体情報を読み取り、本人認証をおこない、認証結果
はあらかじめ携帯型情報通信装置もしくは交信先に設定
された必要度に応じて、伝達の要不要を判断し、必要な
場合のみインターネットを介して判断結果を中央処理装
置に送信する機能を有していることを特徴とした本人認
証システムが提供される。
[0010] The image sensor reads the individual information of the user and performs personal authentication, and the authentication result is transmitted via the Internet to provide a personal authentication system. Alternatively, the image sensor reads the individual information of the user, performs personal authentication, and determines whether or not transmission of the authentication result is necessary or not according to the necessity set in advance in the portable information communication device or the communication destination. A personal authentication system characterized by having a function of transmitting a determination result to a central processing unit via the Internet only in the case is provided.

【0011】また、本発明は、液晶表示装置を有する携
帯型情報通信装置を用いた本人認証方法において、液晶
表示装置はイメージセンサー内蔵型であり、イメージセ
ンサーは使用者の個体情報を読み取り、かつ、読み取り
情報をもとに、本人認証をおこなう本人認証方法である
ことを特徴とする。
According to the present invention, in a personal authentication method using a portable information communication device having a liquid crystal display device, the liquid crystal display device has a built-in image sensor, the image sensor reads individual information of a user, and And a personal authentication method for performing personal authentication based on the read information.

【0012】イメージセンサーは使用者の個体情報を読
み取り、本人認証をおこない、認証結果はインターネッ
トを介して、認証結果を中央処理装置に送信されること
を特徴とした本人認証方法が提供される。或いは、イメ
ージセンサーは使用者の個体情報を読み取り、本人認証
をおこない、認証結果はあらかじめ前記携帯型通信装置
もしくは交信先に設定された必要度に応じて、伝達の要
不要を判断し、必要な場合のみインターネットを介して
認証結果を中央処理装置に送信することを特徴とした本
人認証方法が提供される。
An image sensor reads the individual information of a user, performs identity authentication, and transmits the authentication result to a central processing unit via the Internet, thereby providing an identity authentication method. Alternatively, the image sensor reads the individual information of the user, performs personal authentication, and determines the necessity of transmission of the authentication result according to the necessity set in advance in the portable communication device or the communication destination. A personal authentication method is provided in which the authentication result is transmitted to the central processing unit via the Internet only in the case.

【0013】本人認証作業は携帯型情報通信装置上の操
作キーで制御することを特徴としていても良い。操作キ
ーは使用者の利き手のみ、または人差し指のみ、または
親指のみで制御できることを特徴としていても良い。
The personal identification operation may be controlled by operation keys on the portable information communication device. The operation keys may be controlled by only the dominant hand of the user, only the index finger, or only the thumb.

【0014】本人認証は携帯型情報通信装置の電源投入
と同時に行われることを特徴としていても良い。使用者
の個体情報として、掌紋(手相)または指紋を用い、掌
紋は手ひらの全体、もしくは一部を使用することを特徴
としていても良い。インターネットを介して伝達するの
は認証結果のみで、認証作業のためのデータを伝達しな
いことを特徴としていても良い。イメージセンサーは密
着型イメージセンサーであることを特徴としていても良
い。
[0014] The personal authentication may be performed at the same time when the power of the portable information communication device is turned on. A palm print (palm) or a fingerprint may be used as the user's individual information, and the palm print may be characterized by using the whole or a part of the palm. It may be characterized in that only the authentication result is transmitted via the Internet, and data for the authentication operation is not transmitted. The image sensor may be a contact image sensor.

【0015】このような本人認証システムに適用する携
帯電話装置は、イメージセンサー内蔵型液晶表示装置と
不揮発性メモリーまたは書き換え可能の不揮発性メモリ
ー(フラッシュメモリーなど)が組み込まれ、イメージ
センサーが読み取る個体情報と、不揮発性メモリーに記
憶された使用者の個体情報とを照合する手段が設けられ
ていることを特徴としていても良い。
A portable telephone device applied to such a personal identification system incorporates a liquid crystal display device with a built-in image sensor and a nonvolatile memory or a rewritable nonvolatile memory (flash memory or the like), and individual information read by the image sensor. There may be provided a means for collating with the user individual information stored in the nonvolatile memory.

【0016】本発明はイメージセンサーを内蔵した液晶
表示装置を用い、文字や画像などの情報を表示する表示
部とイメージセンサー部を同じ部位に設置することによ
り、携帯型情報通信装置の小型化を実現している。ま
た、本人認証を行うために、その都度暗証番号などを使
用者が入力する手間を省くことができる。また、携帯型
情報端末装置の電源投入時に自動的に本人認証を行うこ
とにより、相手先の中央処理装置との通信回数を1回で
済ませることもでき、通信コストの上昇を防ぐこができ
る。そして、キーボードの入力の手間を省くことができ
る。
The present invention reduces the size of a portable information communication device by using a liquid crystal display device having a built-in image sensor and installing a display portion for displaying information such as characters and images and an image sensor portion in the same portion. Has been realized. Further, it is possible to save the user from having to input a personal identification number or the like every time the user is authenticated. Also, by automatically performing personal authentication when the power of the portable information terminal device is turned on, the number of times of communication with the other party's central processing unit can be reduced to one, thereby preventing an increase in communication cost. In addition, it is possible to save time and effort for inputting from the keyboard.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】[実施形態1]図1は本発明の本人
認証システムに用いる液晶表示装置を示す。液晶表示装
置はTFTを用いて画素部及び駆動回路が形成された基
板301(以下、TFTアレイ基板という)、対向基板
302、偏光板312、第1のフロントライト303、
第2のフロントライト304から構成されている。TF
Tアレイ基板301と対向基板302との間には液晶層
310が設けられ、シール材313で封止されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [First Embodiment] FIG. 1 shows a liquid crystal display device used in a personal authentication system according to the present invention. The liquid crystal display device includes a substrate 301 (hereinafter, referred to as a TFT array substrate) on which a pixel portion and a driver circuit are formed using a TFT, a counter substrate 302, a polarizing plate 312, a first front light 303,
It comprises a second front light 304. TF
A liquid crystal layer 310 is provided between the T array substrate 301 and the counter substrate 302, and is sealed with a sealant 313.

【0018】携帯型情報通信装置は低消費電力が要求さ
れるので、外光を利用して表示する反射型の液晶表示装
置が適用され、暗い場所での視認性向上のために補助光
源としてフロントライトが用いられている。図1では第
1のフロントライト303がこれに相当し、前面に設け
られている。第1のフロントライト303は冷陰極管ま
たは発光ダイオード(LED)から成る光源315、拡
散板316、導光板317などから成っている。導光板
317から液晶層310側に放射された光は画素電極3
09で使用者側に反射して利用される。
Since the portable information communication device requires low power consumption, a reflection type liquid crystal display device for displaying by using external light is applied, and a front light source is used as an auxiliary light source for improving visibility in a dark place. Lights are used. In FIG. 1, the first front light 303 corresponds to this and is provided on the front surface. The first front light 303 includes a light source 315 including a cold cathode tube or a light emitting diode (LED), a diffusion plate 316, a light guide plate 317, and the like. Light emitted from the light guide plate 317 to the liquid crystal layer 310 side is
At 09, the light is reflected and used by the user.

【0019】TFTアレイ基板301には画素部30
6、駆動回路部305、外部入力端子314が形成され
ている。画素部306は複数の画素をマトリクス状に配
置して形成されるものであり、各画素には画素電極30
9と接続する画素TFT307、フォトダイオード30
8が設けられている。フォトダイオード308は2次元
的に配置されてイメージセンサーを構成している。ま
た、対向基板302には対向電極311が形成されてい
る。
The pixel portion 30 is provided on the TFT array substrate 301.
6, a drive circuit portion 305 and an external input terminal 314 are formed. The pixel portion 306 is formed by arranging a plurality of pixels in a matrix.
9 connected to the pixel TFT 307 and the photodiode 30
8 are provided. The photodiodes 308 are two-dimensionally arranged to form an image sensor. Further, a counter electrode 311 is formed on the counter substrate 302.

【0020】本人認証は使用者の個体情報として掌紋
(手相)または指紋により行う。掌紋は手ひらの全体若
しくは一部を使用するものであるが、この情報は各画素
に設けられたフォトダイオード308で構成されるイメ
ージセンサーにより行う。第2のフロントライト304
はこのイメージセンサーに対する光源であり、冷陰極管
または発光ダイオード(LED)から成る光源318が
照射する光は、拡散板319を通って導光板320を伝
搬する。その光の一部は識別すべき個体表面321側に
放射され、その表面で反射した光がフォトダイオード3
08に入射する。
The personal authentication is performed by palm print (palm) or fingerprint as the user's individual information. The palm print uses the whole or a part of the palm, and this information is obtained by an image sensor including a photodiode 308 provided for each pixel. Second front light 304
Is a light source for the image sensor. Light emitted from a light source 318 formed of a cold cathode tube or a light emitting diode (LED) propagates through the light guide plate 320 through the diffusion plate 319. A part of the light is radiated to the solid surface 321 to be identified, and the light reflected from the surface is reflected by the photodiode 3
08.

【0021】このように本実施形態で示す液晶表示装置
は、2つのフロントライトを用いて反射型液晶表示装置
において画像表示とイメージセンサーによる個体情報の
読み取りを可能としている。実際には第1のフロントラ
イト303と第2のフロントライト304とは同時に点
灯することはなく、画像表示を行う場合とイメージを読
み取る場合に応じて交互に動作させて使用する。
As described above, in the liquid crystal display device shown in this embodiment, it is possible to display an image and read individual information by an image sensor in a reflection type liquid crystal display device using two front lights. Actually, the first front light 303 and the second front light 304 are not turned on at the same time, and are operated alternately according to the case of displaying an image and the case of reading an image.

【0022】本実施形態で示すように外光を利用して表
示可能な反射型の液晶表示装置を用いることにより、携
帯型情報通信装置の消費電力を低減させることができ
る。フロントライトは、外光のみでは不十分な場合や、
夜間に使用する場合の補助光源として利用するのみでな
く、掌紋を認証する際に反射型の液晶表示装置に内蔵さ
れたイメージセンサーに対する光源として用いることが
できる。
By using a reflection type liquid crystal display device which can be displayed using external light as shown in this embodiment, the power consumption of the portable information communication device can be reduced. If the front light is not enough,
It can be used not only as an auxiliary light source when used at night, but also as a light source for an image sensor built in a reflective liquid crystal display device when authenticating a palm print.

【0023】[実施形態2]使用者が持つ個体情報(指
紋、掌紋などその人間が生まれつき持っている身体的な
特徴情報)の識別は携帯型情報通信装置自体で行うこと
により、システムとしての簡便性を増すものである。
[Embodiment 2] The identification of individual information (physical characteristic information inherent to a person, such as fingerprints and palm prints) possessed by the user is performed by the portable information communication device itself, thereby simplifying the system. It increases the nature.

【0024】図2に本発明の本人認証システムの認証フ
ローを示す。まず、キーボード上で個体情報収集を指示
する。あらかじめプログラムされていれば、1つのキー
を押すことによって、個体情報収集がはじめられるよう
にすることも容易に可能である。また、携帯型情報通信
装置の電源投入時に自動的に個体情報収集がはじめられ
るようにすることも可能である。
FIG. 2 shows an authentication flow of the personal authentication system of the present invention. First, an instruction to collect individual information is issued on the keyboard. If programmed in advance, it is possible to easily start collecting individual information by pressing one key. It is also possible to automatically start collecting individual information when the power of the portable information communication device is turned on.

【0025】得られた個体情報はあらかじめ携帯型情報
通信装置の中の記憶装置として不揮発性メモリーまたは
書き換え可能な不揮発性メモリー(フラッシュメモリー
など)に蓄えられている本人の個体情報と比較される。
ここで、2つの個体情報が合致すると判断されれば、使
用者は携帯型情報通信装置の正しい所有者であると判断
される。本人か否かを判断終了後、認証結果を相手先に
送信をおこなう。認証結果はインターネット又は無線通
信回線を通して相手先のホストコンピュータまたはサー
バーなどの中央処理装置に送信する。このとき、認証作
業はすでに終了しているので、新たに相手先との間で認
証作業をする必要はなく、携帯型情報通信装置から認証
は終了しているという情報を相手先は受け取るだけでよ
い。
The obtained individual information is compared with individual information stored in advance in a non-volatile memory or a rewritable non-volatile memory (such as a flash memory) as a storage device in the portable information communication device.
Here, if it is determined that the two pieces of individual information match, the user is determined to be the correct owner of the portable information communication device. After determining whether or not the user is the principal, the authentication result is transmitted to the other party. The authentication result is transmitted to a central processing unit such as a host computer or server of the other party through the Internet or a wireless communication line. At this time, since the authentication work has already been completed, there is no need to perform a new authentication work with the other party, and the other party only receives information that the authentication has been completed from the portable information communication device. Good.

【0026】本発明の本人認証システムに使用する携帯
型情報通信装置は液晶表示装置にイメージセンサーが内
蔵している点にある。イメージセンサーは使用者の個体
情報を読み取るのに使用する。ここでいう個体情報は、
具体的には指紋や手のひらの掌紋(手相)などである。
The portable information communication device used in the personal authentication system of the present invention is characterized in that an image sensor is built in a liquid crystal display device. The image sensor is used to read the user's individual information. The individual information here is
Specifically, it is a fingerprint or a palm print (palm) of the palm.

【0027】次に本発明の携帯型情報通信装置について
述べる。図3に示すのは本発明の携帯型情報通信装置で
あり、2701は表示用パネル、2702は操作用パネ
ル、2709はアンテナである。表示用パネル2701
と操作用パネル2702とは接続部2703において接
続されている。そして接続部2703における、表示用
パネル2701のセンサー内蔵ディスプレイ2704が
設けられている面と操作用パネル2702の操作キー2
706が設けられている面との角度θは、任意に変える
ことができる。この機能は使用者の好みに応じて角度を
変更できるので、使いやすさを向上させることができ
る。
Next, the portable information communication device of the present invention will be described. FIG. 3 shows a portable information communication device according to the present invention, wherein 2701 is a display panel, 2702 is an operation panel, and 2709 is an antenna. Display panel 2701
The operation panel 2702 is connected to the operation panel 2702 at a connection portion 2703. The surface of the connection panel 2703 on which the sensor built-in display 2704 of the display panel 2701 is provided and the operation key 2 of the operation panel 2702
The angle θ with respect to the surface provided with 706 can be arbitrarily changed. This function can change the angle according to the user's preference, so that usability can be improved.

【0028】表示用パネル2701はセンサー内蔵ディ
スプレイ2704を有している。また図3に示した携帯
型情報通信装置は電話としての機能を有している。表示
用パネル2701は音声出力部2705を有しているお
り、音声が音声出力部2705から出力される。センサ
ー内蔵ディスプレイ2704には反射型の液晶表示装置
が用いられている。
The display panel 2701 has a display 2704 with a built-in sensor. The portable information communication device shown in FIG. 3 has a function as a telephone. The display panel 2701 has an audio output unit 2705, and audio is output from the audio output unit 2705. A reflective liquid crystal display device is used for the sensor built-in display 2704.

【0029】操作用パネル2702は操作キー270
6、電源スイッチ2707、音声入力部2708を有し
ている。なお図3では操作キー2706と電源スイッチ
2707とを別個に設けたが、操作キー2706の中に
電源スイッチ2707が含まれる構成にしても良い。音
声入力部2708において、音声が入力される。
The operation panel 2702 has an operation key 270
6, a power switch 2707 and a voice input unit 2708. Although the operation key 2706 and the power switch 2707 are provided separately in FIG. 3, a configuration in which the power switch 2707 is included in the operation key 2706 may be employed. In the voice input unit 2708, voice is input.

【0030】なお図3では表示用パネル2701が音声
出力部2705を有し、操作用パネル2702が音声入
力部2708を有しているが、本実施例はこの構成に限
定されない。表示用パネル2701が音声入力部270
8を有し、操作用パネルが音声出力部2705を有して
いても良い。また音声出力部2705と音声入力部27
08とが共に表示用パネル2701に設けられていても
良いし、音声出力部2705と音声入力部2708とが
共に操作用パネル2702に設けられていても良い。
In FIG. 3, the display panel 2701 has the audio output unit 2705 and the operation panel 2702 has the audio input unit 2708, but the present embodiment is not limited to this configuration. The display panel 2701 is a voice input unit 270
8 and the operation panel may have a sound output unit 2705. The audio output unit 2705 and the audio input unit 27
08 may be provided on the display panel 2701, or the audio output unit 2705 and the audio input unit 2708 may be both provided on the operation panel 2702.

【0031】図4と図5を用いて、図3で示した携帯型
情報通信装置の使用方法について説明する。図4に示す
ように、本装置によって認証を行う場合には、手のひら
を携帯型情報通信装置に覆いかぶせるようにして使用す
る。認証はキーボードでキー操作を行うとともに、使用
者の掌紋をイメージセンサー付ディスプレイが個体情報
を読み取り、認証作業を行う。認証作業はイメージセン
サーが読み取った個体情報と、内蔵するフラッシュメモ
リーなどの不揮発性メモリーに記憶されている個体情報
とを照合して行う。ここで手のひらは携帯装置を覆って
いるため、センシングに用いる光は、ディスプレイ側よ
り得る必要がある。図20に示すように、掌紋(手相)
がセンサーによって読み取られる。
Referring to FIGS. 4 and 5, a method of using the portable information communication device shown in FIG. 3 will be described. As shown in FIG. 4, when authentication is performed by the present device, the palm is used so as to cover the portable information communication device. In the authentication, a key operation is performed with a keyboard, and a display with an image sensor reads a palm print of a user, and performs individual identification information. The authentication work is performed by comparing the individual information read by the image sensor with the individual information stored in a nonvolatile memory such as a built-in flash memory. Here, since the palm covers the portable device, light used for sensing needs to be obtained from the display side. As shown in FIG. 20, palm print (palm)
Is read by the sensor.

【0032】なお図4では操作キー2706を人差し指
で操作している例について示したが、図5に示すよう
に、親指で操作キー2706を操作することも可能であ
る。なお操作キー2706は操作用パネル2702の側
面に設けても良い。操作は片手(きき手)の人差し指の
み、または親指のみでも可能である。
Although FIG. 4 shows an example in which the operation key 2706 is operated with the index finger, as shown in FIG. 5, the operation key 2706 can be operated with the thumb. Note that the operation key 2706 may be provided on a side surface of the operation panel 2702. The operation can be performed with only one index finger or one thumb.

【0033】以上のように、図3で示す携帯型情報通信
装置は携帯電話装置として利用することができるもので
あるが、イメージセンサー内蔵型のディスプレイにより
外部から情報を取り込むことに特徴がある。
As described above, the portable information communication device shown in FIG. 3 can be used as a portable telephone device, but is characterized by taking in information from the outside by a display having a built-in image sensor.

【0034】イメージセンサーを内蔵した液晶表示装置
を用い、文字や画像などの情報を表示する表示部とイメ
ージセンサー部を同じ部位に設置することにより、携帯
型情報通信装置の小型化を実現することができる。ま
た、本人認証を行うために、その都度暗証番号などを使
用者が入力する手間を省くことができる。また、携帯型
情報端末装置の電源投入時に自動的に本人認証を行うこ
とにより、相手先の中央処理装置との通信回数を1回で
済ませることもでき、通信コストの上昇を防ぐこができ
る。そして、キーボードの入力の手間を省くことができ
る。
By using a liquid crystal display device having a built-in image sensor and installing a display portion for displaying information such as characters and images and an image sensor portion at the same site, the portable information communication device can be downsized. Can be. Further, it is possible to save the user from having to input a personal identification number or the like every time the user is authenticated. Also, by automatically performing personal authentication when the power of the portable information terminal device is turned on, the number of times of communication with the other party's central processing unit can be reduced to one, thereby preventing an increase in communication cost. In addition, it is possible to save time and effort for inputting from the keyboard.

【0035】[0035]

【実施例】[実施例1]以下に本発明に用いるセンサー内
蔵型液晶表示装置を有する携帯型情報通信装置の実施例
の構成と、その動作について説明する。
[Embodiment 1] The configuration and operation of an embodiment of a portable information communication apparatus having a sensor built-in liquid crystal display device used in the present invention will be described below.

【0036】図6は本実施例の携帯型情報通信装置のブ
ロック図である。この携帯型情報通信装置はアンテナ6
01、送信受信回路602、信号を圧縮伸張化、符号化
する信号処理回路603、制御用マイコン604、フラ
ッシュメモリー605、キーボード606、音声入力回
路607、音声出力回路608、マイク609、スピー
カ610などを有していることは従来と同じであるが、
それに加えてイメージセンサー内蔵ディスプレイ61
1、照合回路部612などを有している。
FIG. 6 is a block diagram of the portable information communication device of the present embodiment. This portable information communication device has an antenna 6
01, a transmission / reception circuit 602, a signal processing circuit 603 for compressing / expanding and encoding a signal, a control microcomputer 604, a flash memory 605, a keyboard 606, an audio input circuit 607, an audio output circuit 608, a microphone 609, a speaker 610, and the like. Having the same as before,
In addition, the display 61 with built-in image sensor
1, a matching circuit unit 612 and the like.

【0037】照合を行うときには、ディスプレイ内部の
センサーによって得られたアナログ画像情報はA/Dコ
ンバータ613によってデジタル信号に変換される。変
換された信号は、DSP(デジタルシグナルプロセッ
サ)614に送られ信号処理を行う。信号処理として
は、掌紋をより判別しやすくするため、微分フィルタな
どを用い映像の濃淡が変わるところを際立たせることが
有効である。得られた手相データはDSP614内部で
数値化し、比較回路615に送られる。比較回路615
にはフラッシュメモリ605に記憶している基準データ
も呼び出され、2つのデータは比較照合される。
When performing collation, analog image information obtained by a sensor inside the display is converted into a digital signal by an A / D converter 613. The converted signal is sent to a DSP (Digital Signal Processor) 614 for signal processing. In the signal processing, it is effective to use a differential filter or the like to highlight a portion where the shading of the image changes, so that the palm print can be more easily distinguished. The obtained palm data is digitized inside the DSP 614 and sent to the comparison circuit 615. Comparison circuit 615
The reference data stored in the flash memory 605 is also called, and the two data are compared and compared.

【0038】個体情報データを判別する方法としては、
元になるデータと収集したデータのそれぞれの特徴を比
較して照合する特徴照合方式と二つのデータを直接比較
する画像マッチング方式があるが、どちらの方式を用い
ても問題はない。また基準データは1つだけではなく、
手の向きを多少変えるなどして、複数の認証データを備
えたほうがより確実な認証が可能となる。
As a method of determining the individual information data,
There are a feature matching method in which the respective features of the original data and the collected data are compared and compared, and an image matching method in which the two data are directly compared, but there is no problem using either method. Also, there is not only one reference data,
By providing a plurality of authentication data by slightly changing the direction of the hand, more reliable authentication can be performed.

【0039】ここで合致が見られれば、制御用マイコン
604は認証信号を出力し、該認証信号は信号処理部6
03、送受信回路602、アンテナ601を介して送信
され、インターネットなどを通じてホストコンピュータ
またはサーバーなどの中央処理装置に伝達される。
If a match is found, the control microcomputer 604 outputs an authentication signal.
03, transmitted via the transmitting / receiving circuit 602 and the antenna 601, and transmitted to a central processing unit such as a host computer or a server via the Internet or the like.

【0040】[実施例2]図7は本発明で使用するセンサ
ー内蔵型液晶表示装置の構成を示すブロック図である。
120はソース信号線駆動回路、122はゲート信号線
駆動回路である。また、121はセンサー用ソース信号
線駆動回路、123はセンサー用ゲート信号線駆動回路
であり、各画素に設ける共にリセット用TFT、バッフ
ァ用TFT及び選択用TFTの駆動を制御している。な
お本明細書において、ソース信号線駆動回路120、ゲ
ート信号線駆動回路122、センサー用ソース信号線駆
動回路121、センサー用ゲート信号線駆動回路123
を総称して駆動回路部と呼ぶ。
[Embodiment 2] FIG. 7 is a block diagram showing the configuration of a liquid crystal display device with a built-in sensor used in the present invention.
120 is a source signal line driving circuit, and 122 is a gate signal line driving circuit. Reference numeral 121 denotes a sensor source signal line drive circuit, and reference numeral 123 denotes a sensor gate signal line drive circuit, which is provided in each pixel and controls driving of a reset TFT, a buffer TFT, and a selection TFT. In this specification, the source signal line drive circuit 120, the gate signal line drive circuit 122, the sensor source signal line drive circuit 121, and the sensor gate signal line drive circuit 123
Are collectively called a drive circuit unit.

【0041】ソース信号線駆動回路120は、シフトレ
ジスタ120a、ラッチ(A)120b、ラッチ(B)
120cを有している。ソース信号線駆動回路120に
おいて、シフトレジスタ120aにクロック信号(CL
K)およびスタートパルス(SP)が入力される。シフ
トレジスタ120aは、これらのクロック信号(CL
K)およびスタートパルス(SP)に基づきタイミング
信号を順に発生させ、後段の回路へタイミング信号を順
次供給する。
The source signal line drive circuit 120 includes a shift register 120a, a latch (A) 120b, and a latch (B)
120c. In the source signal line driving circuit 120, a clock signal (CL
K) and a start pulse (SP) are input. The shift register 120a receives these clock signals (CL
K) and a timing signal are sequentially generated based on the start pulse (SP), and the timing signal is sequentially supplied to a subsequent circuit.

【0042】尚、シフトレジスタ120aからのタイミ
ング信号を、バッファ等(図示せず)によって緩衝増幅
し、後段の回路へ緩衝増幅したタイミング信号を順次供
給しても良い。タイミング信号が供給される配線には、
多くの回路あるいは素子が接続されているために負荷容
量(寄生容量)が大きい。この負荷容量が大きいために
生ずるタイミング信号の立ち上がりまたは立ち下がり
の”鈍り”を防ぐために、このバッファが設けられる。
The timing signal from the shift register 120a may be buffered and amplified by a buffer or the like (not shown), and the buffered timing signal may be sequentially supplied to a subsequent circuit. The wiring to which the timing signal is supplied
Since many circuits or elements are connected, the load capacitance (parasitic capacitance) is large. This buffer is provided to prevent "dulling" of the rise or fall of the timing signal caused by the large load capacitance.

【0043】図8に画素及びセンサー部101の回路図
の一例を示す。画素及びセンサー部101はソース信号
線S1〜Sx、ゲート信号線G1〜Gy、容量線CS1
〜CSy、リセット用ゲート信号線RG1〜RGy、セ
ンサー用ゲート信号線SG1〜SGy、センサー出力配
線SS1〜SSx、センサー用電源線VBが設けられて
いる。
FIG. 8 shows an example of a circuit diagram of the pixel and the sensor section 101. The pixel and sensor unit 101 includes source signal lines S1 to Sx, gate signal lines G1 to Gy, and a capacitance line CS1.
To CSy, reset gate signal lines RG1 to RGy, sensor gate signal lines SG1 to SGy, sensor output wirings SS1 to SSx, and sensor power supply line VB.

【0044】画素及びセンサー部101は複数の画素1
02から成っている。画素102は、ソース信号線S1
〜Sxのいずれか1つと、ゲート信号線G1〜Gyのい
ずれか1つと、容量線CS1〜CSyのいずれか1つ
と、リセット用ゲート信号線RG1〜RGyのいずれか
1つと、センサー用ゲート信号線SG1〜SGyのいず
れか1つと、センサー出力配線SS1〜SSxのいずれ
か1つと、センサー用電源線VBとを有している。そし
て、センサー出力配線SS1〜SSxはそれぞれ定電流
電源103−1〜103−xに接続されている。
The pixel and sensor unit 101 includes a plurality of pixels 1
It consists of 02. The pixel 102 has a source signal line S1
Sx, any one of the gate signal lines G1 to Gy, any one of the capacitance lines CS1 to CSy, any one of the reset gate signal lines RG1 to RGy, and the sensor gate signal line. It has any one of SG1 to SGy, any one of sensor output wirings SS1 to SSx, and a sensor power supply line VB. The sensor output wirings SS1 to SSx are connected to constant current power supplies 103-1 to 103-x, respectively.

【0045】図9に画素102の詳しい構成を示す。点
線で囲まれた領域が画素102である。なお、ソース信
号線Sは、ソース信号線S1〜Sxのいずれか1つを意
味する。またゲート信号線Gはゲート信号線G1〜Gy
のいずれか1つを意味する。また容量線CSは容量線C
S1〜CSyのいずれか1つを意味する。またリセット
用ゲート信号線RGはリセット用ゲート信号線RG1〜
RGyのいずれか1つを意味する。またセンサー用ゲー
ト信号線SGは、センサー用ゲート信号線SG1〜SG
yのいずれか1つを意味する。またセンサー出力配線S
Sはセンサー出力配線SS1〜SSxのいずれか1つを
意味する。
FIG. 9 shows a detailed configuration of the pixel 102. A region surrounded by a dotted line is the pixel 102. Note that the source signal line S means any one of the source signal lines S1 to Sx. The gate signal lines G are gate signal lines G1 to Gy.
Means any one of The capacitance line CS is the capacitance line C
It means any one of S1 to CSy. Also, the reset gate signal lines RG are reset gate signal lines RG1 to RG1.
It means any one of RGy. In addition, the sensor gate signal lines SG include the sensor gate signal lines SG1 to SG.
means any one of y. Also, sensor output wiring S
S means any one of the sensor output wirings SS1 to SSx.

【0046】画素102は液晶駆動用の画素TFT10
4、液晶素子106、保持容量107を有している。液
晶素子106は画素電極と対向電極とその間の液晶層と
から成っている。画素TFT104のゲート電極はゲー
ト信号線Gに接続されている。そして画素TFT104
のソース領域とドレイン領域は、一方がソース信号線S
に、もう一方が液晶素子106と保持容量107とに接
続されている。
The pixel 102 is a pixel TFT 10 for driving a liquid crystal.
4, a liquid crystal element 106, and a storage capacitor 107. The liquid crystal element 106 includes a pixel electrode, a counter electrode, and a liquid crystal layer therebetween. The gate electrode of the pixel TFT 104 is connected to the gate signal line G. And the pixel TFT 104
One of the source region and the drain region has a source signal line S
The other is connected to the liquid crystal element 106 and the storage capacitor 107.

【0047】さらに画素102は、リセット用TFT1
10、バッファ用TFT111、選択用TFT112、
フォトダイオード113を有している。リセット用TF
T110のゲート電極はリセット用ゲート信号線RGに
接続されている。リセット用TFT110のソース領域
はセンサー用電源線VBに接続されている。センサー用
電源線VBは常に一定の電位(基準電位)に保たれてい
る。またリセット用TFT110のドレイン領域はフォ
トダイオード113及びバッファ用TFT111のゲー
ト電極に接続されている。
Further, the pixel 102 includes a reset TFT 1
10, buffer TFT 111, selection TFT 112,
It has a photodiode 113. Reset TF
The gate electrode of T110 is connected to the reset gate signal line RG. The source region of the reset TFT 110 is connected to the sensor power supply line VB. The sensor power supply line VB is always kept at a constant potential (reference potential). The drain region of the reset TFT 110 is connected to the photodiode 113 and the gate electrode of the buffer TFT 111.

【0048】図示しないが、フォトダイオード113は
カソード電極と、アノード電極と、カソード電極とアノ
ード電極の間に設けられた光電変換層とを有している。
リセット用TFT110のドレイン領域は、具体的には
フォトダイオード113のアノード電極又はカソード電
極に接続されている。バッファ用TFT111のドレイ
ン領域はセンサー用電源線VBに接続されており、常に
一定の基準電位に保たれている。そしてバッファ用TF
T111のソース領域は選択用TFT112のソース領
域又はドレイン領域に接続されている。
Although not shown, the photodiode 113 has a cathode electrode, an anode electrode, and a photoelectric conversion layer provided between the cathode electrode and the anode electrode.
The drain region of the reset TFT 110 is specifically connected to an anode electrode or a cathode electrode of the photodiode 113. The drain region of the buffer TFT 111 is connected to the sensor power supply line VB, and is always kept at a constant reference potential. And TF for buffer
The source region of T111 is connected to the source or drain region of the selection TFT 112.

【0049】選択用TFT112のゲート電極はセンサ
ー用ゲート信号線SGに接続されている。そして選択用
TFT112のソース領域とドレイン領域は、一方は上
述したとおりバッファ用TFT111のソース領域に接
続されており、もう一方はセンサー出力配線SSに接続
されている。センサー出力配線SSは定電流電源103
(定電流電源103−1〜103−xのいずれか1つ)
に接続されており、常に一定の電流が流れている。
The gate electrode of the selection TFT 112 is connected to the sensor gate signal line SG. One of the source region and the drain region of the selection TFT 112 is connected to the source region of the buffer TFT 111 as described above, and the other is connected to the sensor output wiring SS. The sensor output wiring SS is a constant current power supply 103
(One of the constant current power supplies 103-1 to 103-x)
And a constant current always flows.

【0050】図7に示したシフトレジスタ120aから
のタイミング信号は、ラッチ(A)120bに供給され
る。ラッチ(A)120bは、デジタル信号(digital
signals)を処理する複数のステージのラッチを有して
いる。ラッチ(A)120bは、前記タイミング信号が
入力されると同時に、デジタル信号を順次書き込み、保
持する。
The timing signal from the shift register 120a shown in FIG. 7 is supplied to the latch (A) 120b. The latch (A) 120b outputs a digital signal (digital).
signals) for processing a plurality of stages. The latch (A) 120b sequentially writes and holds a digital signal simultaneously with the input of the timing signal.

【0051】なお、ラッチ(A)120bにデジタル信
号を取り込む際に、ラッチ(A)120bが有する複数
のステージのラッチに、順にデジタル信号を入力しても
良い。しかし本願発明はこの構成に限定されない。ラッ
チ(A)120bが有する複数のステージのラッチをい
くつかのグループに分け、各グループに並行して同時に
デジタル信号を入力する、いわゆる分割駆動を行っても
良い。なおこのときのグループの数を分割数と呼ぶ。例
えば4つのステージごとにラッチをグループに分けた場
合、4分割で分割駆動すると言う。
When the digital signal is taken into the latch (A) 120b, the digital signal may be sequentially inputted to the latches of a plurality of stages of the latch (A) 120b. However, the present invention is not limited to this configuration. The latches of a plurality of stages included in the latch (A) 120b may be divided into several groups, and a so-called divided drive in which digital signals are simultaneously input to the groups in parallel may be performed. The number of groups at this time is called a division number. For example, when the latch is divided into groups for every four stages, it is referred to as divided drive in four divisions.

【0052】ラッチ(A)120bの全ステージのラッ
チへのデジタル信号の書き込みが一通り終了するまでの
時間を、ライン期間と呼ぶ。すなわち、ラッチ(A)1
20b中で一番左側のステージのラッチにデジタル信号
の書き込みが開始される時点から、一番右側のステージ
のラッチにデジタル信号の書き込みが終了する時点まで
の時間間隔がライン期間である。実際には、上記ライン
期間に水平帰線期間が加えられた期間をライン期間に含
むことがある。
The time required to complete the writing of digital signals to the latches of all the stages of the latch (A) 120b is called a line period. That is, the latch (A) 1
A line interval is a time interval from the time when the writing of the digital signal to the latch of the leftmost stage is started to the time when the writing of the digital signal to the latch of the rightmost stage ends in 20b. Actually, the line period may include a period obtained by adding the horizontal retrace period to the line period.

【0053】1ライン期間が終了すると、ラッチ(B)
120cにラッチシグナル(LatchSignal)が供給され
る。この瞬間、ラッチ(A)120bに書き込まれ保持
されているデジタル信号は、ラッチ(B)120cに一
斉に送出され、ラッチ(B)120cの全ステージのラ
ッチに書き込まれ保持される。
When one line period ends, the latch (B)
A latch signal (LatchSignal) is supplied to 120c. At this moment, the digital signal written and held in the latch (A) 120b is simultaneously sent to the latch (B) 120c, and written and held in the latches of all the stages of the latch (B) 120c.

【0054】デジタル信号をラッチ(B)120cに送
出し終えたラッチ(A)120bは、シフトレジスタ1
20aからのタイミング信号に基づき、再びデジタル信
号の書き込みを順次行う。この2順目の1ライン期間中
には、ラッチ(B)120bに書き込まれ、保持されて
いるデジタル信号がソース信号線S1〜Sxに入力され
る。
The latch (A) 120b, which has finished sending the digital signal to the latch (B) 120c,
The digital signal is sequentially written again based on the timing signal from 20a. During this second line period, the digital signal written and held in the latch (B) 120b is input to the source signal lines S1 to Sx.

【0055】一方、ゲート信号側駆動回路122は、そ
れぞれシフトレジスタ、バッファ(いずれも図示せず)
を有している。また場合によっては、ゲート信号側駆動
回路122が、シフトレジスタ、バッファの他にレベル
シフトを有していても良い。
On the other hand, the gate signal side drive circuit 122 includes a shift register and a buffer (both not shown).
have. In some cases, the gate signal side driver circuit 122 may have a level shift in addition to the shift register and the buffer.

【0056】ゲート信号側駆動回路122において、シ
フトレジスタ(図示せず)からのゲート信号がバッファ
(図示せず)に供給され、対応するゲート信号線に供給
される。ゲート信号線G1〜Gyには、それぞれ1ライ
ン分の画素の画素TFT104のゲート電極が接続され
ており、1ライン分全ての画素の画素TFT104を同
時にオンの状態にしなくてはならないので、バッファは
大きな電流を流すことが可能なものが用いられる。
In the gate signal side drive circuit 122, a gate signal from a shift register (not shown) is supplied to a buffer (not shown) and supplied to a corresponding gate signal line. The gate signal lines G1 to Gy are respectively connected to the gate electrodes of the pixel TFTs 104 of the pixels for one line, and the pixel TFTs 104 of all the pixels for one line must be turned on at the same time. Those capable of flowing a large current are used.

【0057】なおソース信号線駆動回路とゲート信号線
駆動回路の数、構成及びその動作は、本実施例で示した
構成に限定されない。本発明のセンサー内蔵ディスプレ
イに用いられるエリアセンサーは、公知のソース信号線
駆動回路及びゲート信号線駆動回路を用いることが可能
である。このような本実施例の構成は、実施例1と組み
合わせて応用することが可能である。
The number, configuration, and operation of the source signal line driving circuit and the gate signal line driving circuit are not limited to the configuration shown in this embodiment. As the area sensor used for the sensor built-in display of the present invention, a known source signal line driving circuit and a known gate signal line driving circuit can be used. Such a configuration of the present embodiment can be applied in combination with the first embodiment.

【0058】[実施例3]実施例2のセンサー部とは異な
る構成を有するセンサー部の回路図を図10に示す。画
素及びセンサー部1001はソース信号線S1〜Sx、
ゲート信号線G1〜Gy、容量線CS1〜CSy、リセ
ット用ゲート信号線RG1〜RGy、センサー出力配線
SS1〜SSx、センサー用電源線VBが設けられてい
る。
[Embodiment 3] FIG. 10 shows a circuit diagram of a sensor section having a configuration different from that of the sensor section of Embodiment 2. The pixel and sensor unit 1001 includes source signal lines S1 to Sx,
Gate signal lines G1 to Gy, capacitance lines CS1 to CSy, reset gate signal lines RG1 to RGy, sensor output lines SS1 to SSx, and a sensor power supply line VB are provided.

【0059】画素及びセンサー部1001は複数の画素
1002を有している。画素1002は、ソース信号線
S1〜Sxのいずれか1つと、ゲート信号線G1〜Gy
のいずれか1つと、容量線CS1〜CSyのいずれか1
つと、リセット用ゲート信号線RG1〜RGyのいずれ
か1つと、センサー出力配線SS1〜SSxのいずれか
1つと、センサー用電源線VBとを有している。センサ
ー出力配線SS1〜SSxはそれぞれ定電流電源100
3−1〜1003−xに接続されている。
The pixel and sensor section 1001 has a plurality of pixels 1002. The pixel 1002 has one of the source signal lines S1 to Sx and the gate signal lines G1 to Gy.
And any one of the capacitance lines CS1 to CSy
And one of the reset gate signal lines RG1 to RGy, one of the sensor output wirings SS1 to SSx, and the sensor power supply line VB. Sensor output wirings SS1 to SSx are each provided with a constant current power supply 100.
3-1 to 1003-x.

【0060】画素1002は画素TFT1004、保持
容量1007、液晶素子1006を有している。さらに
画素1002は、リセット用TFT1010、バッファ
用TFT1011、選択用TFT1012、フォトダイ
オード1013を有している。
The pixel 1002 has a pixel TFT 1004, a storage capacitor 1007, and a liquid crystal element 1006. Further, the pixel 1002 includes a reset TFT 1010, a buffer TFT 1011, a selection TFT 1012, and a photodiode 1013.

【0061】液晶素子1006は画素電極と対向電極
と、その間に設けられた液晶層とから成っている。画素
TFT1004のゲート電極はゲート信号線(G1〜G
y)に接続されている。そして画素TFT1004のソ
ース領域とドレイン領域は、一方がソース信号線Sに、
もう一方が液晶素子1006と保持容量1007に接続
されている。
The liquid crystal element 1006 is composed of a pixel electrode, a counter electrode, and a liquid crystal layer provided therebetween. The gate electrode of the pixel TFT 1004 is connected to a gate signal line (G1 to G
y). One of the source region and the drain region of the pixel TFT 1004 is connected to the source signal line S,
The other is connected to the liquid crystal element 1006 and the storage capacitor 1007.

【0062】リセット用TFT1010のゲート電極は
リセット用ゲート信号線(RG1〜RGx)に接続され
ている。リセット用TFT1010のソース領域はセン
サー用電源線VBに接続されている。センサー用電源線
VBは常に一定の電位(基準電位)に保たれている。ま
たリセット用TFT1010のドレイン領域はフォトダ
イオード1013及びバッファ用TFT1011のゲー
ト電極に接続されている。
The gate electrode of the reset TFT 1010 is connected to reset gate signal lines (RG1 to RGx). The source region of the reset TFT 1010 is connected to the sensor power supply line VB. The sensor power supply line VB is always kept at a constant potential (reference potential). The drain region of the reset TFT 1010 is connected to the photodiode 1013 and the gate electrode of the buffer TFT 1011.

【0063】図示しないが、フォトダイオード1013
はカソード電極と、アノード電極と、カソード電極とア
ノード電極の間に設けられた光電変換層とを有してい
る。リセット用TFT1010のドレイン領域は、具体
的にはフォトダイオード1013のアノード電極又はカ
ソード電極に接続されている。
Although not shown, the photodiode 1013
Has a cathode electrode, an anode electrode, and a photoelectric conversion layer provided between the cathode electrode and the anode electrode. The drain region of the reset TFT 1010 is specifically connected to the anode electrode or the cathode electrode of the photodiode 1013.

【0064】バッファ用TFT1011のドレイン領域
はセンサー用電源線VBに接続されており、常に一定の
基準電位に保たれている。そしてバッファ用TFT10
11のソース領域は選択用TFT1012のソース領域
又はドレイン領域に接続されている。
The drain region of the buffer TFT 1011 is connected to the sensor power supply line VB, and is always kept at a constant reference potential. And the buffer TFT 10
The source region 11 is connected to the source or drain region of the selection TFT 1012.

【0065】選択用TFT1012のゲート電極はゲー
ト信号線(G1〜Gx)に接続されている。そして選択
用TFT1012のソース領域とドレイン領域は、一方
は上述したとおりバッファ用TFT1011のソース領
域に接続されており、もう一方はセンサー出力配線(S
S1〜SSx)に接続されている。センサー出力配線
(SS1〜SSx)は定電流電源1003(定電流電源
1003−1〜1003−x)にそれぞれ接続されてお
り、常に一定の電流が流れている。
The gate electrode of the selection TFT 1012 is connected to gate signal lines (G1 to Gx). One of the source region and the drain region of the selection TFT 1012 is connected to the source region of the buffer TFT 1011 as described above, and the other is connected to the sensor output wiring (S
S1 to SSx). The sensor output wirings (SS1 to SSx) are connected to constant current power supplies 1003 (constant current power supplies 1003-1 to 1003-x), and a constant current always flows.

【0066】本実施例において、画素TFT1004及
び選択用TFT1012の極性は同じである。つまり。
画素TFT1004がnチャネル型TFTの場合、選択
用TFT1012もnチャネル型TFTである。また画
素TFT1004がpチャネル型TFTの場合、選択用
TFT1012もpチャネル型TFTである。
In this embodiment, the polarities of the pixel TFT 1004 and the selection TFT 1012 are the same. I mean.
When the pixel TFT 1004 is an n-channel TFT, the selection TFT 1012 is also an n-channel TFT. When the pixel TFT 1004 is a p-channel TFT, the selection TFT 1012 is also a p-channel TFT.

【0067】そして本実施例のイメージセンサーのセン
サー部は、図8に示したイメージセンサーと異なり、画
素TFT1004のゲート電極と、選択用TFT101
2のゲート電極が、共にゲート信号線(G1〜Gx)に
接続されていることである。このような本実施例の構成
は、実施例1と自由に組み合わせて実施することが可能
である。
The sensor section of the image sensor of this embodiment is different from the image sensor shown in FIG. 8 in that the gate electrode of the pixel TFT 1004 and the selection TFT 101
2 are both connected to the gate signal lines (G1 to Gx). Such a configuration of the present embodiment can be implemented by freely combining with the first embodiment.

【0068】[実施例4]図11に本実施例のセンサー内
蔵型ディスプレイの構造を示すブロック図である。13
0はソース信号線駆動回路、132はゲート信号線駆動
回路である。また131はセンサー用ソース信号線駆動
回路、133はセンサー用ゲート信号線駆動回路であ
る。本実施例ではソース信号線駆動回路とゲート信号線
駆動回路とを1つづつ設けたが、本願発明はこの構成に
限定されない。ソース信号線駆動回路を2つ設けても良
い。また、ゲート信号線駆動回路を2つ設けても良い。
[Embodiment 4] FIG. 11 is a block diagram showing a structure of a display with a built-in sensor according to this embodiment. 13
0 is a source signal line drive circuit, and 132 is a gate signal line drive circuit. Reference numeral 131 denotes a sensor source signal line driving circuit, and reference numeral 133 denotes a sensor gate signal line driving circuit. In this embodiment, one source signal line drive circuit and one gate signal line drive circuit are provided, but the present invention is not limited to this configuration. Two source signal line driver circuits may be provided. Further, two gate signal line driver circuits may be provided.

【0069】ソース信号線駆動回路130は、シフトレ
ジスタ130a、レベルシフト130b、サンプリング
回路130cを有している。なおレベルシフトは必要に
応じて用いればよく、必ずしも用いなくとも良い。また
本実施例においてレベルシフトはシフトレジスタ130
aとサンプリング回路130cとの間に設ける構成とし
たが、本願発明はこの構成に限定されない。またシフト
レジスタ130aの中にレベルシフト130bが組み込
まれている構成にしても良い。
The source signal line driving circuit 130 has a shift register 130a, a level shift 130b, and a sampling circuit 130c. Note that the level shift may be used as needed, and may not necessarily be used. In this embodiment, the level shift is performed by the shift register 130.
Although the configuration is provided between a and the sampling circuit 130c, the present invention is not limited to this configuration. Further, a configuration may be employed in which the level shift 130b is incorporated in the shift register 130a.

【0070】クロック信号(CLK)、スタートパルス
信号(SP)がシフトレジスタ130aに入力される。
シフトレジスタ130aからアナログの信号(アナログ
信号)をサンプリングするためのサンプリング信号が出
力される。出力されたサンプリング信号はレベルシフト
130bに入力され、その電位の振幅が大きくなって出
力される。
The clock signal (CLK) and the start pulse signal (SP) are input to the shift register 130a.
A sampling signal for sampling an analog signal (analog signal) is output from the shift register 130a. The output sampling signal is input to the level shift 130b, and is output with its potential amplitude increased.

【0071】レベルシフト130bから出力されたサン
プリング信号は、サンプリング回路130cに入力され
る。そしてサンプリング回路130cに入力されるアナ
ログ信号がサンプリング信号によってそれぞれサンプリ
ングされ、ソース信号線S1〜Sxに入力される。
The sampling signal output from the level shift 130b is input to a sampling circuit 130c. Then, the analog signals input to the sampling circuit 130c are respectively sampled by the sampling signals and input to the source signal lines S1 to Sx.

【0072】一方、ゲート信号側駆動回路132は、そ
れぞれシフトレジスタ、バッファ(いずれも図示せず)
を有している。また場合によっては、ゲート信号側駆動
回路132が、シフトレジスタ、バッファの他にレベル
シフトを有していても良い。
On the other hand, the gate signal side drive circuit 132 includes a shift register and a buffer (both not shown).
have. In some cases, the gate signal side driving circuit 132 may have a level shift in addition to the shift register and the buffer.

【0073】ゲート信号側駆動回路132において、シ
フトレジスタ(図示せず)からのゲート信号がバッファ
(図示せず)に供給され、対応するゲート信号線に供給
される。ゲート信号線G1〜Gyには、それぞれ1ライ
ン分の画素の画素TFT104のゲート電極が接続され
ており、1ライン分全ての画素の画素TFT104を同
時にオンの状態にしなくてはならないので、バッファは
大きな電流を流すことが可能なものが用いられる。
In the gate signal side driving circuit 132, a gate signal from a shift register (not shown) is supplied to a buffer (not shown) and supplied to a corresponding gate signal line. The gate signal lines G1 to Gy are respectively connected to the gate electrodes of the pixel TFTs 104 of the pixels for one line, and the pixel TFTs 104 of all the pixels for one line must be turned on at the same time. Those capable of flowing a large current are used.

【0074】なおソース信号線駆動回路とゲート信号線
駆動回路の数、構成及びその動作は、本実施例で示した
構成に限定されない。本発明のセンサー内蔵ディスプレ
イに用いられるイメージセンサーは、公知のソース信号
線駆動回路及びゲート信号線駆動回路を用いることが可
能である。
The number, configuration, and operation of the source signal line driving circuit and the gate signal line driving circuit are not limited to the configuration shown in this embodiment. As the image sensor used for the sensor-equipped display of the present invention, a known source signal line driving circuit and a known gate signal line driving circuit can be used.

【0075】尚、本実施例において、画素及びセンサー
部101は図8または図10に示した構成を有していて
も良い。このような本実施例は実施例1または実施例3
と自由に組み合わせて実施することが可能である。
In this embodiment, the pixel and sensor unit 101 may have the configuration shown in FIG. 8 or FIG. This embodiment is similar to the first embodiment or the third embodiment.
It is possible to implement in combination freely.

【0076】[実施例5]本実施例では基板上に画素及び
センサー部を構成する各TFTを作製する方法について
詳細に説明する。まず、図12(A)に示すように、コ
ーニング社の#7059ガラスや#1737ガラスなど
に代表されるバリウムホウケイ酸ガラス、またはアルミ
ノホウケイ酸ガラスなどのガラス基板701上に酸化シ
リコン膜、窒化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜な
どの絶縁膜から成るブロッキング層702を形成する。
例えば、プラズマCVD法でSiH4、NH3、N2Oか
ら作製される酸化窒化シリコン膜702aを10〜20
0nm(好ましくは50〜100nm)形成し、同様にSi
4、N2Oから作製される酸化窒化水素化シリコン膜7
01bを50〜200nm(好ましくは100〜150n
m)の厚さに積層形成する。本実施例ではブロッキング
層702を2層構造として示したが、前記絶縁膜の単層
膜または2層以上積層させた構造として形成しても良
い。
[Embodiment 5] In this embodiment, a method of manufacturing each TFT constituting a pixel and a sensor section on a substrate will be described in detail. First, as shown in FIG. 12A, a silicon oxide film and a silicon nitride film are formed on a glass substrate 701 such as barium borosilicate glass represented by Corning # 7059 glass or # 1737 glass, or aluminoborosilicate glass. A blocking layer 702 made of a film or an insulating film such as a silicon oxynitride film is formed.
For example, a plasma CVD method SiH 4, NH 3, N 2 O silicon oxynitride film 702a made from 10 to 20
0 nm (preferably 50-100 nm), and Si
Silicon oxynitride hydride film 7 made of H 4 and N 2 O
01b to 50 to 200 nm (preferably 100 to 150 n
m). Although the blocking layer 702 has a two-layer structure in this embodiment, the blocking layer 702 may have a single-layer structure of the insulating film or a structure in which two or more layers are stacked.

【0077】島状に分割された半導体層703〜707
は、非晶質構造を有する半導体膜を、レーザーアニール
法やファーネスアニール炉を用いた熱処理により結晶構
造を有する半導体膜(以下、結晶質半導体膜という)で
形成する。この島状の半導体層703〜707の厚さは
25〜80nm(好ましくは30〜60nm)の厚さで形成
する。結晶質半導体膜の材料に限定はないが、好ましく
はシリコンまたはシリコンゲルマニウム(SiGe)合
金などで形成すると良い。
Semiconductor layers 703 to 707 divided into islands
Is to form a semiconductor film having an amorphous structure into a semiconductor film having a crystalline structure (hereinafter referred to as a crystalline semiconductor film) by heat treatment using a laser annealing method or a furnace annealing furnace. The island-shaped semiconductor layers 703 to 707 have a thickness of 25 to 80 nm (preferably 30 to 60 nm). The material of the crystalline semiconductor film is not limited, but is preferably formed of silicon or a silicon germanium (SiGe) alloy.

【0078】レーザーアニール法で結晶質半導体膜を作
製するには、パルス発振型または連続発光型のエキシマ
レーザーやYAGレーザー、YVO4レーザーを用い
る。レーザー発振器から出力されるレーザー光は、光学
系で線状に集光し半導体膜に照射する方法を用いる。ア
ニールの条件は実施者が適宣選択するものであるが、エ
キシマレーザーを用いる場合はパルス発振周波数30Hz
とし、レーザーエネルギー密度を100〜400mJ/cm2
(代表的には200〜300mJ/cm2)とする。また、YA
Gレーザーを用いる場合には、第2高調波を用いパルス
発振周波数1〜10kHzとし、レーザーエネルギー密度
を300〜600mJ/cm2(代表的には350〜500mJ/
cm2)とすると良い。そして幅100〜1000μm、例
えば400μmで線状に集光したレーザー光を基板全面
に渡って照射し、この時の線状レーザー光の重ね合わせ
率(オーバーラップ率)を80〜98%として行う。
In order to form a crystalline semiconductor film by laser annealing, a pulse oscillation type or continuous emission type excimer laser, a YAG laser, or a YVO 4 laser is used. A method is used in which laser light output from a laser oscillator is linearly condensed by an optical system and irradiated on a semiconductor film. Annealing conditions are appropriately selected by the practitioner. When an excimer laser is used, the pulse oscillation frequency is 30 Hz.
And a laser energy density of 100 to 400 mJ / cm 2
(Typically 200 to 300 mJ / cm 2 ). Also, YA
When a G laser is used, the pulse oscillation frequency is set to 1 to 10 kHz using the second harmonic, and the laser energy density is set to 300 to 600 mJ / cm 2 (typically 350 to 500 mJ / cm 2 ).
cm 2 ). Then, laser light condensed linearly with a width of 100 to 1000 μm, for example, 400 μm, is irradiated over the entire surface of the substrate, and the superposition rate (overlap rate) of the linear laser light at this time is set to 80 to 98%.

【0079】次いで、島状半導体層702〜707を覆
うゲート絶縁膜708を形成する。ゲート絶縁膜708
はプラズマCVD法またはスパッタ法を用い、厚さを4
0〜150nmとしてシリコンを含む絶縁膜で形成する。
本実施例では、120nmの厚さで酸化窒化シリコン膜で
形成する。勿論、ゲート絶縁膜708はこのような酸化
窒化シリコン膜に限定されるものでなく、他のシリコン
を含む絶縁膜を単層または積層構造として用いても良
い。
Next, a gate insulating film 708 covering the island-shaped semiconductor layers 702 to 707 is formed. Gate insulating film 708
Uses a plasma CVD method or a sputtering method and has a thickness of 4
The insulating film containing silicon is formed to have a thickness of 0 to 150 nm.
In this embodiment, a silicon oxynitride film is formed with a thickness of 120 nm. Needless to say, the gate insulating film 708 is not limited to such a silicon oxynitride film, and another insulating film containing silicon may be used as a single layer or a stacked structure.

【0080】そして、ゲート絶縁膜708上にゲート電
極を形成するための第1の導電膜709aと第2の導電
膜709bとを形成する。本実施例では、第1の導電膜
709aを窒化タンタルまたはチタンで50〜100nm
の厚さに形成し、第2の導電膜709bをタングステン
で100〜300nmの厚さに形成する。これらの材料
は、窒素雰囲気中における400〜600℃の熱処理で
も安定であり、抵抗率が著しく増大することがない。
Then, a first conductive film 709a and a second conductive film 709b for forming a gate electrode are formed over the gate insulating film 708. In this embodiment, the first conductive film 709a is formed of tantalum nitride or titanium by 50 to 100 nm.
The second conductive film 709b is formed with tungsten to a thickness of 100 to 300 nm. These materials are stable even in a heat treatment at 400 to 600 ° C. in a nitrogen atmosphere, and the resistivity does not significantly increase.

【0081】次に図12(B)に示すように、レジスト
によるマスク710〜715を形成し、ゲート電極を形
成するための第1のエッチング処理を行う。エッチング
方法に限定はないが、好適にはICP(Inductively Co
upled Plasma:誘導結合型プラズマ)エッチング法を用
いる。エッチング用ガスにCF4とCl2を混合し、0.
5〜2Pa、好ましくは1Paの圧力でコイル型の電極に5
00WのRF(13.56MHz)電力を投入してプラズマを生
成して行う。基板側(試料ステージ)にも100WのR
F(13.56MHz)電力を投入し、実質的に負の自己バイア
ス電圧を印加する。CF4とCl2を混合した場合にはタ
ングステン膜、窒化タンタル膜及びチタン膜の場合で
も、それぞれ同程度の速度でエッチングすることができ
る。
Next, as shown in FIG. 12B, masks 710 to 715 made of resist are formed, and a first etching process for forming a gate electrode is performed. Although there is no limitation on the etching method, preferably, the etching method is ICP (Inductively Co.).
upled Plasma: Inductively coupled plasma) etching method is used. A mixture of CF 4 and Cl 2 in an etching gas is used.
At a pressure of 5-2 Pa, preferably 1 Pa, 5
The plasma is generated by supplying 00 W RF (13.56 MHz) power. 100W R on substrate side (sample stage)
F (13.56 MHz) power is applied and a substantially negative self-bias voltage is applied. When CF 4 and Cl 2 are mixed, etching can be performed at substantially the same rate even in the case of a tungsten film, a tantalum nitride film, and a titanium film.

【0082】上記エッチング条件では、レジストによる
マスクの形状と、基板側に印加するバイアス電圧の効果
により端部をテーパー形状とすることができる。テーパ
ー部の角度は15〜45°となるようにする。また、ゲ
ート絶縁膜上に残渣を残すことなくエッチングするため
には、10〜20%程度の割合でエッチング時間を増加
させると良い。タングステンに対する酸化窒化シリコン
膜の選択比は2〜4(代表的には3)であるので、オー
バーエッチング処理により、酸化窒化シリコン膜が露出
した面は20〜50nm程度エッチングされる。こうし
て、第1のエッチング処理により第1の導電膜と第2の
導電膜から成る第1の形状の導電層716〜721(第
1の導電膜716a〜721aと第2の導電膜716b
〜721b)を形成する。722はゲート絶縁膜であ
り、第1の形状の導電層で覆われない領域は20〜50
nm程度エッチングされ薄くなる。
Under the above etching conditions, the end can be tapered due to the shape of the resist mask and the effect of the bias voltage applied to the substrate side. The angle of the tapered portion is set to 15 to 45 °. In order to perform etching without leaving a residue on the gate insulating film, the etching time may be increased by about 10 to 20%. Since the selectivity of the silicon oxynitride film to tungsten is 2 to 4 (typically 3), the exposed surface of the silicon oxynitride film is etched by about 20 to 50 nm by over-etching. Thus, the first shape conductive layers 716 to 721 (the first conductive films 716 a to 721 a and the second conductive film 716 b) including the first conductive film and the second conductive film are formed by the first etching treatment.
To 721b). Reference numeral 722 denotes a gate insulating film, and a region not covered with the first shape conductive layer is 20 to 50.
It is etched by about nm and becomes thin.

【0083】そして、図12(C)で示すように、第1
のドーピング処理を行いn型の不純物(ドナー)をドー
ピングする。ドーピングの方法はイオンドープ法若しく
はイオン注入法で行う。イオンドープ法の条件はドーズ
量を1×1013〜5×1014atoms/cm2として行う。n
型を付与する不純物元素として15族に属する元素、典
型的にはリン(P)または砒素(As)を用いる。この
場合、加速電圧を制御(例えば、20〜60keV)し
て、第1の形状の導電層をマスクとして利用する。こう
して、第1の不純物領域723〜727を形成する。例
えば、第1の不純物領域725〜729おけるn型の不
純物の濃度は1×1020〜1×1021atomic/cm3の範囲
となるようにする。
Then, as shown in FIG.
To dope n-type impurities (donors). The doping is performed by an ion doping method or an ion implantation method. The condition of the ion doping method is that the dose is 1 × 10 13 to 5 × 10 14 atoms / cm 2 . n
An element belonging to Group 15 of the periodic table, typically, phosphorus (P) or arsenic (As) is used as an impurity element for imparting a pattern. In this case, the acceleration voltage is controlled (for example, 20 to 60 keV), and the first shape conductive layer is used as a mask. Thus, first impurity regions 723 to 727 are formed. For example, the concentration of the n-type impurity in the first impurity regions 725 to 729 is set to be in a range of 1 × 10 20 to 1 × 10 21 atomic / cm 3 .

【0084】図12(D)で示す第2のエッチング処理
は、同様にICPエッチング装置を用い、エッチングガ
スにCF4とCl2とO2を混合して、1Paの圧力でコイ
ル型の電極に500WのRF電力(13.56MHz)を供給して
プラズマを生成する。基板側(試料ステージ)には50
WのRF(13.56MHz)電力を投入し、第1のエッチング
処理に比べ低い自己バイアス電圧を印加する。このよう
な条件によりタングステン膜を異方性エッチングし、第
1の導電層である窒化タンタル膜またはチタン膜を残存
させるようにする。こうして、第2の形状の導電層72
8〜733(第1の導電膜728a〜733aと第2の
導電膜728b〜733b)を形成する。739はゲー
ト絶縁膜であり、第2の形状の導電層728〜733で
覆われない領域はさらに20〜50nm程度エッチングさ
れて膜厚が薄くなる。
In the second etching process shown in FIG. 12 (D), similarly, using an ICP etching apparatus, CF 4 , Cl 2, and O 2 are mixed in an etching gas and a coil-type electrode is formed at a pressure of 1 Pa. A plasma is generated by supplying 500 W of RF power (13.56 MHz). 50 on the substrate side (sample stage)
RF (13.56 MHz) power of W is applied, and a lower self-bias voltage is applied than in the first etching process. Under such conditions, the tungsten film is anisotropically etched so that the tantalum nitride film or the titanium film as the first conductive layer is left. Thus, the second shape conductive layer 72 is formed.
8 to 733 (first conductive films 728a to 733a and second conductive films 728b to 733b) are formed. Reference numeral 739 denotes a gate insulating film, and a region which is not covered with the second shape conductive layers 728 to 733 is further etched by about 20 to 50 nm to reduce its thickness.

【0085】次いで、第2のドーピング処理を行う。第
1のドーピング処理よりもドーズ量を下げ高加速電圧の
条件でn型の不純物(ドナー)をドーピングする。例え
ば、加速電圧を70〜120keVとし、1×1013/cm2
のドーズ量で行い、図12(C)で島状の半導体層に形
成された第1の不純物領域の内側に第2の不純物領域7
34〜738を形成する。このドーピングは、第2の形
状の導電層728b〜733bを不純物元素に対するマ
スクとして用い、第2の形状の導電層728a〜733
aの下側の領域に不純物元素が添加されるようにドーピ
ングする。この不純物領域は、第2の形状の導電層72
8a〜733aがほぼ同じ膜厚で残存していることか
ら、第2の形状の導電層に沿った方向における濃度分布
の差は小さく、1×1017〜1×1019atoms/cm3の濃
度でn型の不純物(ドナー)が含まれるように形成す
る。
Next, a second doping process is performed. An n-type impurity (donor) is doped under a condition of a higher acceleration voltage with a lower dose than in the first doping process. For example, the acceleration voltage is set to 70 to 120 keV and 1 × 10 13 / cm 2
12C, the second impurity region 7 is formed inside the first impurity region formed in the island-shaped semiconductor layer in FIG.
34 to 738 are formed. In this doping, the second shape conductive layers 728a to 733b are used as masks for impurity elements and the second shape conductive layers 728a to 733b are used.
Doping is performed so that the impurity element is added to the region below “a”. This impurity region is formed in the second shape conductive layer 72.
Since 8a to 733a remain with substantially the same thickness, the difference in the concentration distribution in the direction along the conductive layer of the second shape is small, and the concentration is 1 × 10 17 to 1 × 10 19 atoms / cm 3 . To form an n-type impurity (donor).

【0086】そして、図13(A)に示すように、第3
のエッチング処理を行い、ゲート絶縁膜のエッチング処
理を行う。その結果、第2の形状の導電層728a〜7
33aもエッチングされ、端部が後退して小さくなり、
第3の形状の導電層740〜745(第1の導電膜74
0a〜745aと第2の導電膜740b〜745b)が
形成される。746は残存するゲート絶縁膜であり、エ
ッチングをさらに進めて半導体層の表面を露出させても
良い。
Then, as shown in FIG.
Is performed, and the gate insulating film is etched. As a result, the second shape conductive layers 728a to 728a-7
33a is also etched, and the end portion recedes and becomes smaller,
Third shape conductive layers 740 to 745 (first conductive film 74
0a to 745a and second conductive films 740b to 745b) are formed. Reference numeral 746 denotes a remaining gate insulating film, which may be further etched to expose the surface of the semiconductor layer.

【0087】pチャネル型TFTに対しては、図13
(B)に示すように、レジストマスク758〜760を
形成し、pチャネル型TFTを形成する島状半導体層に
p型の不純物(アクセプタ)をドーピングする。p型の
不純物(アクセプタ)は13族に属する元素から選ば
れ、典型的にはボロン(B)を用いる。第3の不純物領
域767a、767b、767c、768a、768
b、768cの不純物濃度は2×1020〜2×1021at
oms/cm3となるようにする。不純物領域758にはリン
が添加されているが、その1.5〜3倍の濃度でボロン
を添加して導電型を反転させておく。
For a p-channel type TFT, FIG.
As shown in FIG. 7B, resist masks 758 to 760 are formed, and a p-type impurity (acceptor) is doped into an island-shaped semiconductor layer forming a p-channel TFT. The p-type impurity (acceptor) is selected from elements belonging to Group 13 and typically uses boron (B). Third impurity regions 767a, 767b, 767c, 768a, 768
b, 768c has an impurity concentration of 2 × 10 20 to 2 × 10 21 at
oms / cm 3 . Although phosphorus is added to the impurity region 758, boron is added at a concentration 1.5 to 3 times that of the impurity region 758 to reverse the conductivity type.

【0088】以上までの工程で半導体層に不純物領域が
形成される。その後、図13(C)で示す工程では、レ
ジストによるマスク769、770を形成し、フォトダ
イオードを形成する半導体層706上にある第3の導電
層743を除去する。第3の形状の導電層740、74
1、742、744はゲート電極となり、第3の形状の
導電層745は容量配線となる。
Through the above steps, an impurity region is formed in the semiconductor layer. After that, in a step illustrated in FIG. 13C, masks 769 and 770 are formed using resist, and the third conductive layer 743 over the semiconductor layer 706 where a photodiode is formed is removed. Third shape conductive layers 740, 74
1, 742, and 744 serve as gate electrodes, and the third shape conductive layer 745 serves as a capacitor wiring.

【0089】次に、図14(A)に示すように、窒化シ
リコン膜または酸化窒化シリコン膜から成る第1の層間
絶縁膜771をプラズマCVD法で形成する。そして導
電型の制御を目的としてそれぞれの島状半導体層に添加
された不純物元素を活性化する工程を行う。活性化はフ
ァーネスアニール炉を用いる熱アニール法で行うことが
好ましい。その他に、レーザーアニール法、またはラピ
ッドサーマルアニール法(RTA法)を適用することも
できる。熱アニール法では酸素濃度が1ppm以下、好ま
しくは0.1ppm以下の窒素雰囲気中で400〜700
℃、代表的には500〜600℃で行うものであり、本
実施例では500℃で4時間の熱処理を行う。その結
果、保護絶縁膜759中の水素が放出されて、島状半導
体膜中に拡散させることで水素化を同時に行うことがで
きる。
Next, as shown in FIG. 14A, a first interlayer insulating film 771 made of a silicon nitride film or a silicon oxynitride film is formed by a plasma CVD method. Then, a step of activating the impurity element added to each of the island-shaped semiconductor layers is performed for the purpose of controlling the conductivity type. Activation is preferably performed by a thermal annealing method using a furnace annealing furnace. Alternatively, a laser annealing method or a rapid thermal annealing method (RTA method) can be applied. In the thermal annealing method, the oxygen concentration is 400 to 700 in a nitrogen atmosphere of 1 ppm or less, preferably 0.1 ppm or less.
C., typically at 500 to 600.degree. C. In this embodiment, the heat treatment is performed at 500.degree. C. for 4 hours. As a result, hydrogen in the protective insulating film 759 is released and diffused into the island-shaped semiconductor film, so that hydrogenation can be performed at the same time.

【0090】水素化は3〜100%の水素を含む雰囲気
中で、300〜450℃で1〜12時間の熱処理を行っ
ても良い。いずれにしても、水素により半導体層のダン
グリングボンドを終端する工程である。水素化の他の手
段として、プラズマ水素化(プラズマにより励起された
水素を用いる)を行うことも可能である。
For hydrogenation, heat treatment may be performed at 300 to 450 ° C. for 1 to 12 hours in an atmosphere containing 3 to 100% hydrogen. In any case, this is a step of terminating dangling bonds in the semiconductor layer with hydrogen. As another means of hydrogenation, plasma hydrogenation (using hydrogen excited by plasma) can be performed.

【0091】この第1の層間絶縁膜771にコンタクト
ホールを形成し、アルミニウム(Al)、チタン(T
i)、タンタル(Ta)などを用いて、センサー出力配
線772、接続配線773、センサー用電源線775、
接続配線777、コモン接続線779、ソース信号線7
80、ドレイン配線781を形成する。
A contact hole is formed in the first interlayer insulating film 771, and aluminum (Al), titanium (T
i), using tantalum (Ta) or the like, a sensor output wiring 772, a connection wiring 773, a sensor power supply line 775,
Connection wiring 777, common connection line 779, source signal line 7
80, a drain wiring 781 is formed.

【0092】そして、これらの配線の上層にパッシベー
ション膜782、第2の層間絶縁膜783を形成する。
パッシベーション膜782は窒化シリコン膜で50nmの
厚さで形成する。さらに、有機樹脂からなる第2の層間
絶縁膜783を約1000nmの厚さに形成する。有機樹
脂膜としては、ポリイミド、アクリル、ポリイミドアミ
ド等を使用することができる。有機樹脂膜を用いること
の利点は、成膜方法が簡単である点や、比誘電率が低い
ので、寄生容量を低減できる点、平坦性に優れる点など
が上げられる。なお上述した以外の有機樹脂膜を用いる
こともできる。ここでは、基板に塗布後、熱重合するタ
イプのポリイミドを用い、300℃で焼成して形成す
る。
Then, a passivation film 782 and a second interlayer insulating film 783 are formed on these wirings.
The passivation film 782 is a silicon nitride film having a thickness of 50 nm. Further, a second interlayer insulating film 783 made of an organic resin is formed to a thickness of about 1000 nm. As the organic resin film, polyimide, acrylic, polyimide amide, or the like can be used. The advantages of using an organic resin film include that the film formation method is simple, the parasitic capacitance can be reduced because the relative dielectric constant is low, and the flatness is excellent. Note that an organic resin film other than those described above can be used. Here, it is formed by baking at 300 ° C. using a type of polyimide which is thermally polymerized after being applied to the substrate.

【0093】次に、図14(B)に示すように、第2の
層間絶縁膜783及びパッシベーション膜782に、ド
レイン配線781に達するコンタクトホールを形成し、
画素電極784を400〜1000nm形成する。画素電
極はアルミニウムや銀など反射率の高い導電性材料で形
成する。反射型の液晶表示装置では、画素電極の表面に
微細な凹凸を形成して、この面で反射する光が散乱する
ようにしておくと好ましい。また、開口785はフォト
ダイオード804上に形成され、光が入射するようにな
っている。
Next, as shown in FIG. 14B, a contact hole reaching the drain wiring 781 is formed in the second interlayer insulating film 783 and the passivation film 782.
The pixel electrode 784 is formed to a thickness of 400 to 1000 nm. The pixel electrode is formed of a highly reflective conductive material such as aluminum or silver. In a reflection-type liquid crystal display device, it is preferable that fine unevenness is formed on the surface of the pixel electrode so that light reflected on this surface is scattered. In addition, the opening 785 is formed on the photodiode 804 so that light enters.

【0094】以上の様にして、バッファアTFT80
1、選択用TFT802、リセット用TFT803、フ
ォトダイオード804、画素TFT805、保持容量8
06を形成することができる。
As described above, the buffer TFT 80
1, selection TFT 802, reset TFT 803, photodiode 804, pixel TFT 805, storage capacitor 8
06 can be formed.

【0095】バッファアTFT801はnチャネル型T
FTであり、チャネル形成領域810、第3の形状の導
電層728から成るゲート電極と重なる第2の不純物領
域811(Gate Overlapped Drain:GOLD領域)、
ゲート電極の外側に形成される第2の不純物領域812
(Lightly Doped Drain:LDD領域)とソース領域ま
たはドレイン領域として機能する第1の不純物領域81
3を有している。
The buffer TFT 801 is an n-channel type TFT.
FT, a channel formation region 810, a second impurity region 811 (Gate Overlapped Drain: GOLD region) that overlaps with a gate electrode including a third-shaped conductive layer 728,
Second impurity region 812 formed outside gate electrode
(Lightly Doped Drain: LDD region) and first impurity region 81 functioning as a source region or a drain region
Three.

【0096】選択用TFT802もnチャネル型TFT
であり、チャネル形成領域814、第3の形状の導電層
729から成るゲート電極と重なる第2の不純物領域8
15、ゲート電極の外側に形成される第2の不純物領域
816とソース領域またはドレイン領域として機能する
第1の不純物領域817を有している。
The selection TFT 802 is also an n-channel TFT
And the second impurity region 8 overlapping the channel formation region 814 and the gate electrode formed of the third shape conductive layer 729.
15, a second impurity region 816 formed outside the gate electrode and a first impurity region 817 functioning as a source region or a drain region.

【0097】リセット用TFT803はpチャネル型T
FTであり、チャネル形成領域818、ソース領域また
はドレイン領域として機能する第3の不純物領域819
〜821を有している。
The reset TFT 803 is a p-channel type T
FT, and a third impurity region 819 functioning as a channel formation region 818 and a source or drain region
To 821.

【0098】フォトダイオード804はp型不純物が添
加された第3の領域826〜828、n型の不純物が添
加された第1の不純物領域825及び第2の不純物領域
823、824、不純物が添加されない真性領域822
から成り、いわゆるpin型の構造を有している。そし
て、第1の不純物領域825は接続配線777とコンタ
クトを形成し、リセット用TFT803のドレイン側と
接続している。一方の第3の不純物領域828はコモン
配線779とコンタクトを形成している。
The photodiode 804 has third regions 826 to 828 to which p-type impurities are added, first and second impurity regions 825 and 824 to which n-type impurities are added, and no impurities. Intrinsic region 822
And has a so-called pin type structure. Further, the first impurity region 825 forms a contact with the connection wiring 777 and is connected to the drain side of the reset TFT 803. One third impurity region 828 forms a contact with the common wiring 779.

【0099】画素TFT805にはチャネル形成領域8
29、ゲート電極を形成する第3の形状の導電層732
と重なる第2の不純物領域830(GOLD領域)、ゲ
ート電極の外側に形成される第2の不純物領域831
(LDD領域)とソース領域またはドレイン領域として
機能する第1の不純物領域832、833、834を有
している。また、保持容量806の一方の電極として機
能する半導体層835は第1の不純物領域から連続して
形成されたもので、端部には第2の不純物領域と同じ濃
度で不純物が添加された領域836、837が形成され
ている。
The pixel TFT 805 has a channel forming region 8
29. Third shape conductive layer 732 forming gate electrode
The second impurity region 830 (GOLD region) overlapping the second impurity region 831 formed outside the gate electrode
(LDD region) and first impurity regions 832, 833, and 834 functioning as a source region or a drain region. Further, the semiconductor layer 835 functioning as one electrode of the storage capacitor 806 is formed continuously from the first impurity region, and a region to which an impurity is added at the same concentration as the second impurity region is provided at an end portion. 836 and 837 are formed.

【0100】図15はこのような画素の上面図を示す。
図15において、A−A'線及びB−B'線はそれぞれ図
14(B)で示すA−A'線及びB−B'線に対応してい
る。本発明で適用する液晶表示装置は反射型であるの
で、画素電極の下にTFTを形成しても開口率を損なう
ことはない。
FIG. 15 shows a top view of such a pixel.
In FIG. 15, the line AA ′ and the line BB ′ correspond to the line AA ′ and the line BB ′ shown in FIG. 14B, respectively. Since the liquid crystal display device applied to the present invention is of a reflection type, even if a TFT is formed below a pixel electrode, the aperture ratio is not impaired.

【0101】勿論フォトセンサーを設けた部分は開口を
設けるが、画素電極784をソース配線780とオーバ
ーラップさせて形成することにより、開口率の損失を補
うことができる。本実施例で示す画素構造は、画素電極
の面積を大きくすることが可能であり、フォトセンサー
を各画素に設けても開口率を向上させることができる。
Of course, an opening is provided in the portion where the photosensor is provided. However, by forming the pixel electrode 784 so as to overlap with the source wiring 780, the loss of the opening ratio can be compensated. In the pixel structure described in this embodiment, the area of a pixel electrode can be increased, and the aperture ratio can be improved even when a photosensor is provided for each pixel.

【0102】尚、本発明は上述した作製方法に限定され
ず、公知の方法を用いて作製することが可能である。ま
た本実施例は、実施例1〜実施例4と自由に組み合わせ
て実施することが可能である。
The present invention is not limited to the manufacturing method described above, but can be manufactured using a known method. This embodiment can be implemented in any combination with Embodiments 1 to 4.

【0103】[実施例6]各画素に設けるフォトセンサー
は非晶質半導体を用いて形成することも可能である。本
実施例ではその場合の相違点について図16を用いて説
明する。
[Embodiment 6] A photosensor provided for each pixel can be formed using an amorphous semiconductor. In this embodiment, differences in that case will be described with reference to FIG.

【0104】図16(A)は、実施例5と同様にして図
13(C)で説明する工程まで行った後、第1のパッシ
ベーション膜840を窒化シリコン膜で50〜100nm
の厚さに形成する。第1のパッシベーション膜上には光
電変換層の下部電極841を形成する。下部電極841
0はアルミニウムやチタンなどで形成すれば良い。光電
変換層はプラズマCVD法で、n型非晶質シリコン膜8
42を20〜50nm、真性(i型)非晶質シリコン膜8
43を500〜1000nm、p型非晶質シリコン膜84
4を10〜20nmの厚さに順次堆積した3層構造で形成
する。さらに酸化インジウムや酸化亜鉛などから成る透
明導電膜845を形成する。こうして、下部電極と光電
変換層及び透明導電膜のパターンを形成する2枚のフォ
トマスクでフォトダイオードを形成することができる。
FIG. 16A shows that the first passivation film 840 is made of a silicon nitride film having a thickness of 50 to 100 nm after the steps described with reference to FIG.
Formed to a thickness of A lower electrode 841 of a photoelectric conversion layer is formed over the first passivation film. Lower electrode 841
0 may be formed of aluminum, titanium, or the like. The photoelectric conversion layer is formed by an n-type amorphous silicon film 8 by a plasma CVD method.
42 to 20 to 50 nm, intrinsic (i-type) amorphous silicon film 8
43 is 500-1000 nm, p-type amorphous silicon film 84
4 is formed in a three-layer structure sequentially deposited to a thickness of 10 to 20 nm. Further, a transparent conductive film 845 made of indium oxide, zinc oxide, or the like is formed. Thus, a photodiode can be formed using the lower electrode, the two photomasks for forming the pattern of the photoelectric conversion layer, and the pattern of the transparent conductive film.

【0105】そして、第1の層間絶縁膜846、センサ
ー出力配線851、接続配線852、センサー用電源線
854、接続配線856、コモン接続線857、ソース
信号線858、ドレイン配線859を形成する。図16
(B)は、これらの配線の上層に第2のパッシベーショ
ン膜860、第2の層間絶縁膜861を形成する。第2
のパッシベーション膜860は窒化シリコン膜で50nm
の厚さで形成する。有機樹脂からなる第2の層間絶縁膜
861は約1000nmの厚さに形成する。
Then, a first interlayer insulating film 846, a sensor output wiring 851, a connection wiring 852, a sensor power supply line 854, a connection wiring 856, a common connection line 857, a source signal line 858, and a drain wiring 859 are formed. FIG.
(B), a second passivation film 860 and a second interlayer insulating film 861 are formed above these wirings. Second
Passivation film 860 is a silicon nitride film of 50 nm
Formed with a thickness of The second interlayer insulating film 861 made of an organic resin is formed to a thickness of about 1000 nm.

【0106】さらに、第2の層間絶縁膜861上に画素
電極862を400〜1000nm形成する。開口部86
3はフォトダイオード864上に形成され、光が入射す
るようになっている。フォトダイオード864は非晶質
シリコンを用いたpin型構造であり、光感度が高く明
暗比(ダイナミックレンジ)が広くとれるので、本発明
のフォトセンサーに好適に用いることができる。本実施
例は、実施例1〜実施例4と自由に組み合わせて実施す
ることが可能である。
Further, a pixel electrode 862 is formed on the second interlayer insulating film 861 to a thickness of 400 to 1000 nm. Opening 86
Reference numeral 3 is formed on the photodiode 864 so that light is incident thereon. The photodiode 864 has a pin-type structure using amorphous silicon and has high light sensitivity and a wide contrast ratio (dynamic range), and thus can be suitably used for the photosensor of the present invention. This embodiment can be implemented by freely combining with Embodiments 1 to 4.

【0107】[実施例7]本実施例では、実施例5で作製
したTFTアレイ基板から、アクティブマトリクス型液
晶表示装置を作製する工程を説明する。まず、実施例5
に従い、図14(B)の状態のTFTアレイ基板を得た
後、図17で示すように柱状のスペーサ870を形成す
る。このような柱状スペーサは、感光性の樹脂膜を形成
し、露光及び現像処理して所定の位置に形成する。感光
性の樹脂膜の材料に限定はないが、例えば、JSR社製
のNN700を用い、スピナーで塗布し、クリーンオー
ブンを用い150〜200℃で加熱して硬化させて形成
する。このようにして作製されるスペーサは露光と現像
処理の条件によって形状を異ならせることができるが、
好ましくは、柱状スペーサ870の高さは2〜7μm、
好ましくは4〜6μmとし、その形状は柱状で頂部が平
坦な形状となるようにすると、対向側の基板を合わせた
ときに液晶表示パネルとしての機械的な強度を確保する
ことができる。その上に配向膜873を形成しラビング
処理をする。
[Embodiment 7] In this embodiment, a process of manufacturing an active matrix liquid crystal display device from the TFT array substrate manufactured in Embodiment 5 will be described. First, Example 5
After the TFT array substrate in the state shown in FIG. 14B is obtained, a columnar spacer 870 is formed as shown in FIG. Such a columnar spacer is formed at a predetermined position by forming a photosensitive resin film, exposing and developing. The material of the photosensitive resin film is not limited. For example, NN700 manufactured by JSR Co., Ltd. is applied by a spinner, and is cured by heating at 150 to 200 ° C. using a clean oven. The shape of the spacer produced in this way can be varied depending on the conditions of the exposure and development processing,
Preferably, the height of the columnar spacer 870 is 2 to 7 μm,
When the thickness is preferably 4 to 6 μm and the shape is columnar and the top is flat, the mechanical strength of the liquid crystal display panel can be secured when the opposing substrates are combined. An alignment film 873 is formed thereon, and rubbing is performed.

【0108】対向基板874には対向電極875を形成
し、配向膜876を形成した後ラビング処理を行う。そ
して、TFTアレイ基板と対向基板とをシール剤(図示
せず)で貼り合わせる。その後、両基板の間に液晶材料
を注入し液晶層877を形成する。液晶材料には公知の
液晶材料を用いれば良い。液晶は駆動電圧を印加しない
状態で白表示になるノーマリーホワイトのものを用いれ
ば、画素電極に設けた開口部から常時フォトダイオード
に光を入射させることができる。このようにして図17
に示すアクティブマトリクス型液晶表示装置が完成す
る。また、実施例6で示すTFTアレイ基板からも同様
にしてアクティブマトリクス型液晶表示装置を作製する
ことができる。また、ここで作製される液晶表示装置は
実施形態1で説明する液晶表示装置に適用することがで
きる。
After forming a counter electrode 875 on the counter substrate 874 and forming an alignment film 876, a rubbing process is performed. Then, the TFT array substrate and the counter substrate are bonded with a sealant (not shown). After that, a liquid crystal material is injected between the two substrates to form a liquid crystal layer 877. A known liquid crystal material may be used as the liquid crystal material. When a normally white liquid crystal that displays white when no driving voltage is applied is used, light can always enter the photodiode from an opening provided in the pixel electrode. Thus, FIG.
Is completed. Further, an active matrix liquid crystal display device can be manufactured in the same manner from the TFT array substrate described in Embodiment 6. The liquid crystal display device manufactured here can be applied to the liquid crystal display device described in Embodiment 1.

【0109】[実施例8]本実施例は本発明を使用する方
法を述べるものである。本人認証が個体情報までの高度
な認証が不要な場合は本発明を使用しないこともありえ
る。このため、認証の有無が選択できること、例えば、
金銭が高額な移動が伴う場合のみに選択的に認証が出来
るようにすることも可能である。取引先の状況に合わせ
使用することや、あらかじめ携帯情報装置の制御マイコ
ン上に判定基準を設定しておき、数値が一定値を超えた
場合のみ使用することが可能である。また、認証結果を
必要な場合のみ認証結果をインターネットで中央処理装
置に伝達することも可能である。
[Embodiment 8] This embodiment describes a method of using the present invention. The present invention may not be used when personal authentication does not require advanced authentication up to individual information. For this reason, the presence or absence of authentication can be selected, for example,
It is also possible to make it possible to selectively perform authentication only when money is accompanied by expensive movement. It can be used in accordance with the situation of the business partner, or can be used only when the numerical value exceeds a certain value by setting a judgment criterion on the control microcomputer of the portable information device in advance. Also, the authentication result can be transmitted to the central processing unit via the Internet only when the authentication result is necessary.

【0110】[0110]

【発明の効果】本発明の形態型情報通信装置は、携帯型
情報端末装置の内部に設けられたイメージセンサーによ
り本人認証が可能であり、従来の数値入力(暗証番号)
を入力する認証作業に対して、高信頼性、簡易性を有す
ることが可能である。
The personal digital assistant according to the present invention can perform personal authentication by an image sensor provided inside a portable information terminal device, and can input a conventional numerical value (personal identification number).
It is possible to have high reliability and simplicity with respect to the authentication work of inputting the password.

【0111】また、イメージセンサーを内蔵した液晶表
示装置を用い、文字や画像などの情報を表示する表示部
とイメージセンサー部を同じ部位に設置することによ
り、携帯型情報通信装置の小型化を実現している。ま
た、本人認証を行うために、その都度暗証番号などを使
用者が入力する手間を省くことができる。補足的な機能
として、記憶装置に所定のデータを記憶させておけば、
使用者の運勢、吉凶を判断することもできる。また、そ
れに基づいて取引の中止などの示唆を液晶表示装置に表
示させることもできる。
Further, by using a liquid crystal display device having a built-in image sensor and installing a display portion for displaying information such as characters and images and an image sensor portion in the same portion, the portable information communication device can be downsized. are doing. Further, it is possible to save the user from having to input a personal identification number or the like every time the user is authenticated. As a supplementary function, if predetermined data is stored in the storage device,
It is also possible to judge the user's fortune and good luck. Further, a hint such as a halt of the transaction can be displayed on the liquid crystal display device based on the information.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 イメージセンサーを内蔵した反射型液晶表示
装置の構成と画像表示方法及びイメージ像読み取り方式
を説明する図。
FIG. 1 illustrates a configuration of a reflection type liquid crystal display device having a built-in image sensor, an image display method, and an image image reading method.

【図2】 本発明の本人認証システムの認証フロー。FIG. 2 is an authentication flow of the personal authentication system of the present invention.

【図3】 本発明の携帯型情報通信装置の外観図。FIG. 3 is an external view of a portable information communication device according to the present invention.

【図4】 本発明の携帯型情報通信装置の使用方法につ
いて示した図。
FIG. 4 is a diagram showing a method of using the portable information communication device of the present invention.

【図5】 本発明の携帯型情報通信装置の使用方法につ
いて示した図。
FIG. 5 is a diagram showing a method of using the portable information communication device of the present invention.

【図6】 イメージセンサー内蔵型ディスプレイの構造
を示すブロック図。
FIG. 6 is a block diagram showing the structure of a display with a built-in image sensor.

【図7】 イメージセンサー内蔵型ディスプレイの構造
を示すブロック図。
FIG. 7 is a block diagram showing the structure of a display with a built-in image sensor.

【図8】 画素及びセンサー部の回路図。FIG. 8 is a circuit diagram of a pixel and a sensor unit.

【図9】 画素の回路図。FIG. 9 is a circuit diagram of a pixel.

【図10】 画素及びセンサー部の回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of a pixel and a sensor unit.

【図11】 イメージセンサー内蔵型ディスプレイの構
造を示すブロック図。
FIG. 11 is a block diagram showing the structure of a display with a built-in image sensor.

【図12】 イメージセンサー内蔵型ディスプレイの作
製行程を示す図。
FIG. 12 is a diagram showing a manufacturing process of a display with a built-in image sensor.

【図13】 イメージセンサー内蔵型ディスプレイの作
製行程を示す図。
FIG. 13 is a diagram showing a manufacturing process of a display with a built-in image sensor.

【図14】 イメージセンサー内蔵型ディスプレイの作
製行程を示す図。
FIG. 14 is a diagram showing a manufacturing process of a display with a built-in image sensor.

【図15】 イメージセンサーを設けたアクティブマト
リクス型液晶表示装置における画素の構成を説明する上
面図。
FIG. 15 is a top view illustrating a structure of a pixel in an active matrix liquid crystal display device provided with an image sensor.

【図16】 非晶質シリコンpinダイオードでフォト
センサーを形成する場合の工程を説明する図。
FIG. 16 is a diagram illustrating a process for forming a photosensor with an amorphous silicon pin diode.

【図17】 アクティブマトリクス型液晶表示装置の断
面図。
FIG. 17 is a cross-sectional view of an active matrix liquid crystal display device.

【図18】 従来の携帯電話の図。FIG. 18 is a diagram of a conventional mobile phone.

【図19】 従来の本人認証のフロー。FIG. 19 is a flow of a conventional personal authentication.

【図20】 読み取る掌紋の位置を示す図。3FIG. 20 is a diagram showing the position of a palm print to be read. 3

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 須沢 英臣 神奈川県厚木市長谷398番地 株式会社半 導体エネルギー研究所内 (72)発明者 小野 幸司 神奈川県厚木市長谷398番地 株式会社半 導体エネルギー研究所内 (72)発明者 高山 徹 神奈川県厚木市長谷398番地 株式会社半 導体エネルギー研究所内 Fターム(参考) 5J104 AA07 KA01 KA17 NA23 NA43 PA01 PA07 5K027 AA11 BB09 EE11 FF22 HH11 HH23 MM16 MM17 5K101 LL12 NN06 NN18 PP04  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hideomi Suzawa 398 Hase, Hase, Atsugi-shi, Kanagawa Prefecture (72) Koji Ono 398 Hase, Hase, Atsugi-shi, Kanagawa, Japan 72) Inventor Toru Takayama 398 Hase, Atsugi-shi, Kanagawa F-term in Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd.

Claims (24)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】液晶表示装置を有する携帯型情報通信装置
を用いた本人認証システムにおいて、前記液晶表示装置
はイメージセンサーが内蔵され、前記イメージセンサー
により使用者の個体情報を読み取り、かつ、前記個体情
報により、本人認証を行うことを特徴とする本人認証シ
ステム。
1. An identification system using a portable information communication device having a liquid crystal display device, wherein the liquid crystal display device has a built-in image sensor, reads individual information of a user by the image sensor, and A personal authentication system characterized by performing personal authentication based on information.
【請求項2】液晶表示装置を有する携帯型情報通信装置
を用いた本人認証システムにおいて、前記液晶表示装置
は、各画素にフォトダイオードが設けられ、前記フォト
ダイオードで構成されるイメージセンサーにより使用者
の個体情報を読み取り、かつ、前記個体情報により、本
人認証を行うことを特徴とする本人認証システム。
2. The personal authentication system using a portable information communication device having a liquid crystal display device, wherein the liquid crystal display device has a photodiode provided in each pixel, and a user uses an image sensor constituted by the photodiode. A personal authentication system, wherein the personal information is read and personal authentication is performed based on the individual information.
【請求項3】イメージセンサーが内蔵された反射型液晶
表示装置と、記憶装置と、前記イメージセンサーが読み
取る個体情報と前記記憶装置に蓄えられている個体情報
とを比較する機能と、比較データを中央処理装置へ送信
する手段と、を有することを特徴とする本人認証システ
ム。
3. A reflection type liquid crystal display device having a built-in image sensor, a storage device, a function of comparing individual information read by the image sensor with individual information stored in the storage device, and a function of comparing the comparison data. Means for transmitting to a central processing unit.
【請求項4】イメージセンサーが内蔵された反射型液晶
表示装置と、記憶装置と、前記イメージセンサーが読み
取る個体情報と前記記憶装置に蓄えられている個体情報
とを比較して本人か否かを判断する機能と、該判断結果
を中央処理装置へ送信する手段と、を有することを特徴
とする本人認証システム。
4. A reflection-type liquid crystal display device having a built-in image sensor, a storage device, and comparing individual information read by the image sensor with individual information stored in the storage device to determine whether the user is the user. A personal authentication system comprising: a function of making a determination; and means for transmitting a result of the determination to a central processing unit.
【請求項5】請求項1乃至請求項4いずれか一項におい
て、本人認証は前記携帯型情報通信装置の電源投入と同
時に行われることを特徴とした本人認証システム。
5. The personal authentication system according to claim 1, wherein the personal authentication is performed simultaneously with turning on the power of the portable information communication device.
【請求項6】請求項1乃至請求項4のいずれか一項にお
いて、前記個体情報として、掌紋(手相)または指紋を
用いることを特徴とした本人認証システム。
6. The personal authentication system according to claim 1, wherein a palm print or a fingerprint is used as the individual information.
【請求項7】請求項6において、前記掌紋は手ひらの全
体、もしくは一部を使用することを特徴とした本人認証
システム。
7. The personal identification system according to claim 6, wherein the palm print uses the whole or a part of a palm.
【請求項8】イメージセンサーを内蔵する液晶表示装置
有する携帯型情報通信装置を用いた本人認証システムに
おいて、前記イメージセンサーは使用者の個体情報を読
み取り、前記個体情報は、インターネットを介して伝達
することを特徴とした本人認証システム。
8. An identity authentication system using a portable information communication device having a liquid crystal display device having a built-in image sensor, wherein the image sensor reads individual information of a user and transmits the individual information via the Internet. Personal authentication system characterized by the following.
【請求項9】イメージセンサーを内蔵する液晶表示装置
有する携帯型情報通信装置を用いた本人認証システムに
おいて前記イメージセンサーは使用者の個体情報を読み
取り、前記個体情報は、前記携帯型情報通信装置もしく
は交信先に設定された必要度に応じて、伝達の要不要を
判断し、必要な場合のみインターネットを介して伝達す
るを特徴とした本人認証システム。
9. An identity authentication system using a portable information communication device having a liquid crystal display device having a built-in image sensor, wherein the image sensor reads individual information of a user, and the individual information is read by the portable information communication device or An identity authentication system characterized by determining whether or not transmission is necessary according to the degree of necessity set for a communication destination, and transmitting only via the Internet when necessary.
【請求項10】イメージセンサーが内蔵された液晶表示
装置と、記憶装置と、前記イメージセンサーが読み取る
個体情報と前記記憶装置に蓄えられている個体情報とを
比較して本人か否かを判断し認証する機能と、インター
ネットを介して認証結果を中央処理装置へ送信する機能
と、から成ることを特徴とする本人認証システム。
10. A liquid crystal display device having a built-in image sensor, a storage device, and individual information read by the image sensor and individual information stored in the storage device are compared to determine whether the user is the user. A personal authentication system comprising: a function of performing authentication; and a function of transmitting an authentication result to a central processing unit via the Internet.
【請求項11】請求項8乃至請求項10のいずれか一項
において、前記液晶表示装置は、反射型液晶表示装置で
あることを特徴とする本人認証システム。
11. The personal authentication system according to claim 8, wherein said liquid crystal display device is a reflection type liquid crystal display device.
【請求項12】液晶表示装置を有する携帯型情報通信装
置を用いた本人認証方法において、前記液晶表示装置は
イメージセンサーが内蔵され、前記イメージセンサーに
より使用者の個体情報を読み取り、かつ、前記個体情報
により、本人認証を行うことを特徴とする本人認証方
法。
12. A personal authentication method using a portable information communication device having a liquid crystal display device, wherein the liquid crystal display device has a built-in image sensor, reads individual information of a user by the image sensor, and A personal authentication method characterized by performing personal authentication based on information.
【請求項13】液晶表示装置を有する携帯型情報通信装
置を用いた本人認証方法において、前記液晶表示装置
は、各画素にフォトダイオードが設けられ、前記フォト
ダイオードにより構成されるイメージセンサーにより使
用者の個体情報を読み取り、かつ、前記個体情報によ
り、本人認証を行うことを特徴とする本人認証方法。
13. A personal authentication method using a portable information communication device having a liquid crystal display device, wherein the liquid crystal display device has a photodiode provided in each pixel and a user using an image sensor constituted by the photodiode. A personal authentication method characterized by reading the individual information of the personal computer and performing personal authentication based on the individual information.
【請求項14】請求項12または請求項13において、
前記液晶表示装置は、反射型液晶表示装置であることを
特徴とする本人認証方法。
14. The method according to claim 12, wherein
The personal identification method, wherein the liquid crystal display device is a reflective liquid crystal display device.
【請求項15】請求項12または請求項13において、
本人認証作業を前記携帯型情報通信装置上の操作キーで
制御することを特徴とした本人認証方法。
15. The method according to claim 12, wherein
A personal authentication method, wherein the personal authentication work is controlled by operating keys on the portable information communication device.
【請求項16】請求項12または請求項13において、
本人認証は前記携帯型情報通信装置の電源投入と同時に
行われることを特徴とした本人認証方法。
16. The method according to claim 12, wherein
A personal authentication method, wherein the personal authentication is performed simultaneously with turning on the power of the portable information communication device.
【請求項17】請求項12または請求項13において、
使用者の前記個体情報として、掌紋(手相)または指紋
を用いることを特徴とした本人認証方法。
17. The method according to claim 12, wherein
A personal identification method, wherein a palm print (palm) or a fingerprint is used as the individual information of the user.
【請求項18】請求項17において、前記掌紋は手ひら
の全体、もしくは一部を使用することを特徴とした本人
認証方法。
18. The personal authentication method according to claim 17, wherein the palm print uses the whole or a part of a palm.
【請求項19】イメージセンサーを内蔵する液晶表示装
置有する携帯型情報通信装置を用いた本人認証方法にお
いて、前記イメージセンサーは使用者の個体情報を読み
取り、前記個体情報は、インターネットを介して中央処
理装置へ送信することを特徴とした本人認証方法。
19. An identity authentication method using a portable information communication device having a liquid crystal display device having a built-in image sensor, wherein the image sensor reads individual information of a user, and the individual information is centrally processed via the Internet. A personal authentication method characterized by transmitting to a device.
【請求項20】イメージセンサーを内蔵する液晶表示装
置有する携帯型情報通信装置を用いた本人認証方法にお
いて前記イメージセンサーは使用者の個体情報を読み取
り、前記個体情報は、前記携帯型情報通信装置もしくは
交信先に設定された必要度に応じて、伝達の要不要を判
断し、必要な場合のみインターネットを介して中央処理
装置へ送信することを特徴とした本人認証方法。
20. A personal authentication method using a portable information communication device having a liquid crystal display device having a built-in image sensor, wherein the image sensor reads individual information of a user, and the individual information is read by the portable information communication device or A personal authentication method characterized by determining whether or not transmission is necessary according to the degree of necessity set in a communication destination, and transmitting it to a central processing unit via the Internet only when necessary.
【請求項21】請求項19または請求項20において、
前記液晶表示装置は、反射型液晶表示装置であることを
特徴とする本人認証方法。
21. The method according to claim 19, wherein
The personal identification method, wherein the liquid crystal display device is a reflective liquid crystal display device.
【請求項22】液晶表示装置とフラッシュメモリーを備
えた携帯電話装置であって、前記液晶表示装置には各画
素にフォトダイオードが設けられ、前記フォトダイオー
ドによりイメージセンサーが構成され、前記フラッシュ
メモリーには使用者の個体情報が記憶されていることを
特徴とする携帯電話装置。
22. A portable telephone device provided with a liquid crystal display device and a flash memory, wherein the liquid crystal display device is provided with a photodiode for each pixel, an image sensor is constituted by the photodiode, and the flash memory is Is a mobile telephone device in which individual information of a user is stored.
【請求項23】液晶表示装置とフラッシュメモリーを備
えた携帯電話装置であって、前記液晶表示装置には各画
素にフォトダイオードが設けられ、前記フォトダイオー
ドにより構成されるイメージセンサーが読み取る個体情
報と、前記フラッシュメモリーに記憶された使用者の個
体情報とを照合する手段が設けられていることを特徴と
する携帯電話装置。
23. A mobile phone device comprising a liquid crystal display device and a flash memory, wherein the liquid crystal display device is provided with a photodiode at each pixel, and individual information read by an image sensor constituted by the photodiode. And a means for comparing the individual information of the user with the individual information stored in the flash memory.
【請求項24】請求項22または請求項23において、
前記液晶表示装置は、反射型液晶表示装置であることを
特徴とする携帯電話装置。
24. The method according to claim 22, wherein
The mobile phone device, wherein the liquid crystal display device is a reflective liquid crystal display device.
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