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JP2002031816A - Liquid crystal display - Google Patents

Liquid crystal display

Info

Publication number
JP2002031816A
JP2002031816A JP2000214256A JP2000214256A JP2002031816A JP 2002031816 A JP2002031816 A JP 2002031816A JP 2000214256 A JP2000214256 A JP 2000214256A JP 2000214256 A JP2000214256 A JP 2000214256A JP 2002031816 A JP2002031816 A JP 2002031816A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
liquid crystal
crystal display
display device
drain electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000214256A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroaki Yonekura
広顕 米倉
Tatsuya Wakimoto
竜也 脇本
Hiroshi Hamaoka
拓 浜岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2000214256A priority Critical patent/JP2002031816A/en
Publication of JP2002031816A publication Critical patent/JP2002031816A/en
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アレイ基板の裏面から入射した光が対向基板
により反射してTFTのオフ特性を劣化させる現象を抑
制し、高画質の液晶表示装置を提供すること。 【解決手段】 マトリックス状に配列された複数の画素
電極10と、ソース電極を兼ねるソース配線5と、ゲー
ト電極を兼ねるゲート配線2と、ドレイン電極9を有す
る薄膜トランジスタ型液晶表示装置において、ドレイン
電極9が薄膜トランジスタの外周に沿って枝状に延長さ
れた延長部分9bを有している。従来、配線又は電極パ
ターンのなかったゲート電極2aと画素電極10の間の
領域にドレイン電極9が枝状に延長されているため、T
FT近傍においてアレイ基板を通過する光を減少させ
て、フィルタ基板の対向電極により反射される光の量を
低減することができる。
(57) [Problem] To provide a high-quality liquid crystal display device that suppresses a phenomenon in which light incident from the back surface of an array substrate is reflected by a counter substrate and degrades the off characteristics of a TFT. In a thin film transistor type liquid crystal display device having a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix, a source line serving also as a source electrode, a gate line serving also as a gate electrode, and a drain electrode, a drain electrode is provided. Has an extended portion 9b extending in a branch shape along the outer periphery of the thin film transistor. Conventionally, the drain electrode 9 is extended in a branch shape in a region between the gate electrode 2a and the pixel electrode 10 where there is no wiring or electrode pattern.
By reducing the light passing through the array substrate in the vicinity of the FT, the amount of light reflected by the counter electrode of the filter substrate can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜トランジスタ
を用いたアクティブマトリックス方式の液晶表示装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active matrix type liquid crystal display device using thin film transistors.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶を応用した表示装置は、低電力、軽
量という従来のディスプレイにない特徴をもち、中で
も、画素毎にスイッチング素子をもつ薄膜トランジスタ
(以下TFTと略す)を用いたアクティブマトリクス方
式の液晶表示装置は、クロストークの少ない鮮明な画像
表示が得られることから、ノートパソコンやカーナビゲ
ーションのディスプレイ等に使用され、さらに近年では
大型ディスプレイモニターとして急速に利用されるよう
になってきた。
2. Description of the Related Art A display device to which liquid crystal is applied has low power and light weight, which are not features of a conventional display. The liquid crystal display device is used for a notebook computer, a car navigation display, and the like because a clear image display with less crosstalk can be obtained. In recent years, the liquid crystal display device has been rapidly used as a large display monitor.

【0003】以下、従来のアクティブマトリックス方式
の液晶表示装置の一例について、図面を用いて説明す
る。図3は、従来のアクティブマトリックス方式の液晶
表示装置におけるアレイ基板の一部分を示す部分拡大平
面図である。図3において、2はTFTのゲート電極を
兼ねるゲート配線、4はTFTのチャンネル、ソース、
及びドレイン領域を形成するアモルファスシリコン半導
体層、4’はゲート配線2を保護するためのアモルファ
スシリコン半導体層、5はTFTのソース電極を兼ねる
ソース信号線、9はTFTのドレイン電極、10はIT
O等から成る画素電極である。ドレイン電極9と画素電
極10の間は、パッシベーション膜に開けられたコンタ
クトホール7を介して電気的に接続されている。
Hereinafter, an example of a conventional active matrix type liquid crystal display device will be described with reference to the drawings. FIG. 3 is a partially enlarged plan view showing a part of an array substrate in a conventional active matrix type liquid crystal display device. In FIG. 3, reference numeral 2 denotes a gate wiring also serving as a gate electrode of the TFT, and 4 denotes a channel, source, and
An amorphous silicon semiconductor layer for forming a drain region, 4 'an amorphous silicon semiconductor layer for protecting the gate wiring 2, 5 a source signal line also serving as a source electrode of the TFT, 9 a drain electrode of the TFT, 10 an IT
It is a pixel electrode made of O or the like. The drain electrode 9 and the pixel electrode 10 are electrically connected via a contact hole 7 opened in the passivation film.

【0004】図4は、図3のB−B’線の位置における
液晶表示装置全体の断面図である。ガラス製のアレイ基
板1の上面に、ゲート配線2、ゲート絶縁膜層3、半導
体層4、パッシベーション膜6、画素電極10が順次積
層されている。また、アレイ基板1と対向して、液晶層
(図示せず)を介してフィルタ基板8が設けられてお
り、フィルタ基板8の下面にITO等から成る対向電極
11が形成されている。
FIG. 4 is a cross-sectional view of the entire liquid crystal display device taken along the line BB 'in FIG. On an upper surface of a glass array substrate 1, a gate wiring 2, a gate insulating film layer 3, a semiconductor layer 4, a passivation film 6, and a pixel electrode 10 are sequentially laminated. Further, a filter substrate 8 is provided facing the array substrate 1 via a liquid crystal layer (not shown), and a counter electrode 11 made of ITO or the like is formed on the lower surface of the filter substrate 8.

【0005】以上のように構成された液晶表示装置につ
いてその動作を説明する。まず、ゲート配線2に電圧が
印加され、TFTのアモルファスシリコン半導体層4に
チャンネルが形成されると、ソース信号線5からの映像
信号がTFTのチャンネルを通過してドレイン電極9に
流れ込み、画素電極10に伝えられる。そして、画素電
極10と対向電極11との間に映像信号に応じた電界が
生じ、発生した電界に応じて画素電極10と対向電極1
1の間に注入された液晶の配向が変わる。これにより、
アレイ基板1の裏面から入射した光の透過率が変化し
て、映像信号に応じた画像が表示される。
The operation of the liquid crystal display device configured as described above will be described. First, when a voltage is applied to the gate wiring 2 and a channel is formed in the amorphous silicon semiconductor layer 4 of the TFT, a video signal from the source signal line 5 flows into the drain electrode 9 through the channel of the TFT and the pixel electrode It is conveyed to 10. Then, an electric field corresponding to the video signal is generated between the pixel electrode 10 and the counter electrode 11, and the pixel electrode 10 and the counter electrode 1 are generated according to the generated electric field.
The alignment of the liquid crystal injected during 1 changes. This allows
The transmittance of the light incident from the back surface of the array substrate 1 changes, and an image corresponding to the video signal is displayed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の液
晶表示装置において、アレイ基板1の裏面から光の照射
を行った場合、図4に示すように、入射光の一部がフィ
ルタ基板8上の対向電極11によって反射され、半導体
層4に到達する場合がある。半導体層4に入射した光
は、半導体層4のキャリア濃度を必要以上に増大させる
とともに電気抵抗率を低下させ、TFTのオフ特性を悪
化させる。TFTのオフ特性が悪化すると、コントラス
ト等の画像性能を低下させることになる。近年、一層高
輝度な表示装置が求められるなかで、この種の問題は深
刻となってきた。
However, in the above-mentioned conventional liquid crystal display device, when light is irradiated from the back surface of the array substrate 1, a part of the incident light is on the filter substrate 8 as shown in FIG. And may reach the semiconductor layer 4 after being reflected by the opposite electrode 11. The light incident on the semiconductor layer 4 unnecessarily increases the carrier concentration of the semiconductor layer 4 and lowers the electrical resistivity, thereby deteriorating the off-characteristics of the TFT. When the off-characteristics of the TFT deteriorate, image performance such as contrast deteriorates. In recent years, with the demand for a display device having higher luminance, this kind of problem has become more serious.

【0007】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたものであり、アレイ基板の裏面から入射した光の反
射光がチャンネルを形成する半導体層に到達する量を低
減し、TFTのオフ特性劣化による画像性能の低下を抑
制することのできる液晶表示装置を提供することを目的
とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problem, and reduces the amount of reflected light of light incident from the back surface of an array substrate to reach a semiconductor layer forming a channel. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device capable of suppressing a decrease in image performance due to deterioration.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の液晶表示装置は、絶縁性透明基板上に、マ
トリックス状に配列された複数の画素電極と、前記画素
電極の列間に形成されたソース配線と、前記画素電極の
行間に形成されたゲート配線と、前記ソース配線と前記
ゲート配線の交差部に隣接して、前記ソース配線の一部
をソース電極とし、前記ゲート配線の一部をゲート電極
とし、前記画素電極に接続して形成された金属電極をド
レイン電極とする薄膜トランジスタと、を備えた液晶表
示装置であって、前記ドレイン電極が、前記薄膜トラン
ジスタの外周に沿って枝状に延長された延長部分を有し
ていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a liquid crystal display device according to the present invention comprises a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix on an insulative transparent substrate; A gate line formed between rows of the pixel electrodes, a part of the source line serving as a source electrode adjacent to an intersection of the source line and the gate line, A thin film transistor, wherein a part of the thin film transistor is used as a gate electrode and a metal electrode formed by connecting to the pixel electrode is used as a drain electrode, and the drain electrode is formed along the outer periphery of the thin film transistor. It is characterized in that it has an extended portion extending in a branch shape.

【0009】前述の通り、従来の液晶表示装置において
は、TFTの近傍において遮光部材となる配線又は電極
パターンのない領域が、特にゲート電極と画素電極の間
に広く存在しており、そこから入射した光がフィルタ基
板上の対向電極で反射し、チャンネルを形成する半導体
層に到達して、TFTのオフ特性を劣化させていた。本
発明に係る液晶表示装置では、従来遮光パターンのなか
ったゲート電極と画素電極の間の領域にドレイン電極が
枝状に延長されたパターン形状を有しているため、TF
T近傍においてアレイ基板を通過する光を減少させて、
フィルタ基板の対向電極から反射されてTFTに入射す
る光の量を低減することができる。これにより、TFT
の特性劣化により引き起こされる画像性能の低下を抑制
することができる。
As described above, in the conventional liquid crystal display device, a region where there is no wiring or electrode pattern serving as a light-shielding member in the vicinity of the TFT exists widely especially between the gate electrode and the pixel electrode. The reflected light is reflected by the counter electrode on the filter substrate, reaches the semiconductor layer forming the channel, and degrades the off characteristics of the TFT. In the liquid crystal display device according to the present invention, the drain electrode has a pattern shape in which the drain electrode is extended in a branch shape in a region between the gate electrode and the pixel electrode, which has no conventional light-shielding pattern.
Reduce the light passing through the array substrate near T,
The amount of light reflected on the counter electrode of the filter substrate and incident on the TFT can be reduced. With this, TFT
Can be suppressed from deteriorating the image performance caused by the characteristic deterioration.

【0010】また、ドレイン電極である金属電極の延長
部分が、前記薄膜トランジスタの外周の2辺に沿って延
在しており、金属電極と、ソース配線と、ゲート配線と
によって、前記薄膜トランジスタの四方がほぼ囲まれて
いることが好ましい。
An extension of a metal electrode serving as a drain electrode extends along two sides on the outer periphery of the thin film transistor. The metal electrode, the source wiring, and the gate wiring make the thin film transistor four sides. Preferably, it is substantially enclosed.

【0011】ドレイン電極、ソース配線、及びゲート配
線は、いずれも金属で形成することによって遮光部材と
なるため、これらによってTFTの四方を囲むことによ
り、TFT近傍を通過する光量を減少させて、TFTへ
の反射光の戻りを一層抑制することができる。
Since the drain electrode, the source wiring, and the gate wiring are all light-shielding members formed of metal, they surround four sides of the TFT, thereby reducing the amount of light passing near the TFT, thereby reducing the amount of light passing through the TFT. Return of reflected light to the light source can be further suppressed.

【0012】さらに、前記金属電極の延長部分が、前記
画素電極と重なりを有するように形成されたものである
ことが好ましい。液晶分子は画素電極と対向電極の間の
縦方向電界を受けて配列状態が制御されるが、画素電極
の外縁付近は電界が乱れるため、液晶の配列が乱れて光
抜け等の表示異常が発生し易い。ドレイン電極は画素電
極と常に同電位であるため、ドレイン電極の延長部分が
画素電極と重なりを有することにより、画素電極の外縁
付近における電界の乱れを受けた光り抜け部分を遮光し
て、画素電極の外縁部における表示異常を抑制すること
ができる。
Further, it is preferable that an extension of the metal electrode is formed so as to overlap with the pixel electrode. The alignment state of liquid crystal molecules is controlled by receiving a vertical electric field between the pixel electrode and the counter electrode.However, the electric field is disturbed near the outer edge of the pixel electrode. Easy to do. Since the drain electrode is always at the same potential as the pixel electrode, the extended portion of the drain electrode overlaps with the pixel electrode, so that the light-shielded portion that has been disturbed by the electric field near the outer edge of the pixel electrode is shielded, and the pixel electrode is Can be suppressed from being displayed abnormally at the outer edge of the display.

【0013】また、本発明は、本発明に係る液晶表示装
置を有する画像表示応用機器でもある。本発明に係る液
晶表示装置は、入射光の光量が大きな場合であってもT
FTのオフ特性の低下が少なく、高い画質を維持するこ
とができるため、高輝度のバックライト光源と組み合わ
せることにより、高輝度かつ高画質の画像表示応用機器
を構成することができる。
The present invention is also an image display application device having the liquid crystal display device according to the present invention. The liquid crystal display device according to the present invention has a T
Since there is little deterioration in the off characteristic of the FT and high image quality can be maintained, high-luminance and high-quality image display application equipment can be configured by combining with a high-luminance backlight light source.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。尚、図中、図3及び
図4と同一の符号を付した部材は、同一又は対応する部
材を表す。図1は本発明の実施の形態におけるアクティ
ブマトリックス方式の液晶表示装置におけるアレイ基板
の一部分を示す部分拡大平面図である。図1に示すアレ
イ基板において、TFTは、ゲート配線4とソース信号
線5の交差部に隣接して形成されており、ゲート配線5
から枝状に突出したゲート電極部2aをゲート電極と
し、ソース配線5から枝状に突出したソース電極部5a
をソース電極とし、画素電極10と接続した金属電極9
をドレイン電極として構成されている。また、TFTを
形成した領域において、画素電極10は隅部を切り欠い
た形状となっている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, members denoted by the same reference numerals as those in FIGS. 3 and 4 represent the same or corresponding members. FIG. 1 is a partially enlarged plan view showing a part of an array substrate in an active matrix type liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. In the array substrate shown in FIG. 1, the TFT is formed adjacent to the intersection of the gate wiring 4 and the source signal line 5,
A gate electrode portion 2a protruding from the source wiring 5 as a gate electrode;
Is the source electrode, and the metal electrode 9 connected to the pixel electrode 10
As a drain electrode. In the region where the TFT is formed, the pixel electrode 10 has a shape in which a corner is cut off.

【0015】ドレイン電極9は、従来同様にアモルファ
スシリコン半導体層4と画素電極10の間を直線的に結
んだパターン部分9aを有しており、さらに、このパタ
ーン部分9aに直交してゲート電極部2aに沿って枝状
に突き出したパターン部分9bを有している。この枝状
に突き出したパターン部分9bは、TFTの外周にそ沿
って延長されており、アレイ基板の背面から入射した光
のうち、TFTの近傍を通過して対向基板に向かう光の
量を減少する役割を果たす。
The drain electrode 9 has a pattern portion 9a which linearly connects the amorphous silicon semiconductor layer 4 and the pixel electrode 10 as in the conventional case, and further has a gate electrode portion orthogonal to the pattern portion 9a. It has a pattern portion 9b protruding in a branch shape along 2a. The pattern portion 9b protruding in a branch shape extends along the outer periphery of the TFT, and reduces the amount of light incident from the back surface of the array substrate and passing through the vicinity of the TFT toward the opposite substrate. Play a role.

【0016】ドレイン電極のパターン部分9bの遮光効
果について、断面図を参照しながら説明する。図2は、
図1のA−A’線の位置における液晶表示全体の断面図
である。ガラス製のアレイ基板1の上面に、ゲート配線
2、ゲート絶縁膜層3、TFTのチャンネル領域などを
形成するアモルファスシリコン半導体層4、パッシベー
ション膜6、画素電極10が順次積層されている。パッ
シベーション膜6は、例えばSiNx、SiO2、アク
リル樹脂、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート
またはこれらの積層膜から成る絶縁膜である。また、ア
レイ基板1と対向して、液晶層(図示せず)を介してフ
ィルタ基板8が設けられており、フィルタ基板8の下面
にITO等から成る対向電極11が形成されている。
The light-shielding effect of the pattern portion 9b of the drain electrode will be described with reference to a sectional view. FIG.
FIG. 2 is a sectional view of the entire liquid crystal display at the position of line AA ′ in FIG. 1. On the upper surface of an array substrate 1 made of glass, a gate wiring 2, a gate insulating film layer 3, an amorphous silicon semiconductor layer 4 for forming a channel region of a TFT, a passivation film 6, and a pixel electrode 10 are sequentially laminated. The passivation film 6 is, for example, an insulating film made of SiNx, SiO 2 , acrylic resin, polyimide, polyamide, polycarbonate, or a laminated film of these. Further, a filter substrate 8 is provided facing the array substrate 1 via a liquid crystal layer (not shown), and a counter electrode 11 made of ITO or the like is formed on the lower surface of the filter substrate 8.

【0017】前述の通り、従来の液晶表示装置において
は、TFTの近傍において遮光部材となるゲート配線、
ソース配線やドレイン電極のない部分があり、そこから
入射した光が、フィルタ基板8上の対向電極で反射し、
チャンネルを形成する半導体層4に到達して、TFTの
オフ特性を劣化させていた。TFTの近傍を通過する光
は、入射角の浅い光であっても半導体層4に到達可能で
あるため、オフ特性の劣化を引き起こし易い。特に、T
FTを構成するゲート電極部分2aと画素電極10の間
の領域は、TFTの近傍において多量の光がアレイ基板
1を通過するため、TFTのオフ特性を劣化させる大き
な要因となっていた。
As described above, in the conventional liquid crystal display device, the gate wiring serving as a light shielding member near the TFT,
There is a portion without a source wiring or a drain electrode, and light incident therefrom is reflected by a counter electrode on the filter substrate 8,
The semiconductor has reached the semiconductor layer 4 forming the channel, and the off-characteristics of the TFT have been deteriorated. Light that passes through the vicinity of the TFT can reach the semiconductor layer 4 even if the light has a small incident angle, so that the off characteristic is likely to be deteriorated. In particular, T
In the region between the gate electrode portion 2a and the pixel electrode 10 constituting the FT, a large amount of light passes through the array substrate 1 in the vicinity of the TFT, which has been a major factor for deteriorating the OFF characteristics of the TFT.

【0018】一方、本発明に係る液晶表示装置では、図
2に示すように、ゲート電極部分2aと画素電極10の
間の領域において、ドレイン電極9がゲート電極部分4
aの外周に沿って枝状に突きだしたパターン部分9bを
有している。このため、ゲート電極部分2aと画素電極
10の間の領域において、アレイ基板1の裏面から入射
する光が、ドレイン電極の延長部分9bによって遮断さ
れ、フィルタ基板の対向電極11により反射される光の
量を低減することができる。これにより、TFTのチャ
ンネルが形成される半導体層4に到達する光の量を減少
し、TFT特性劣化により引き起こされる画像性能の低
下を抑制することができる。例えば、このようなTFT
の構成を用いたTFT液晶表示装置を作成したところ、
入射光輝度が7000cd/m2の明るさであってもコ
ントラスト300以上の良好な画像表示性能が得られ
た。
On the other hand, in the liquid crystal display device according to the present invention, as shown in FIG. 2, in the region between the gate electrode portion 2a and the pixel electrode 10, the drain electrode 9 is
It has a pattern portion 9b protruding in a branch shape along the outer periphery of a. For this reason, in a region between the gate electrode portion 2a and the pixel electrode 10, light incident from the back surface of the array substrate 1 is blocked by the extended portion 9b of the drain electrode, and reflected by the counter electrode 11 of the filter substrate. The amount can be reduced. Thereby, the amount of light reaching the semiconductor layer 4 where the channel of the TFT is formed can be reduced, and the deterioration of the image performance caused by the deterioration of the TFT characteristics can be suppressed. For example, such a TFT
When a TFT liquid crystal display device using the above configuration was created,
Even when the incident light luminance was as high as 7000 cd / m 2 , good image display performance with a contrast of 300 or more was obtained.

【0019】ドレイン電極の延長パターン部分9bは、
図1に示すように、TFTの外周の2辺に沿ってL字状
に延在させることが好ましい。これにより、ドレイン電
極9、ソース配線5、及びゲート配線2によって、TF
Tの四方をほぼ囲むことができる。ドレイン電極9、ソ
ース配線5、及びゲート配線2は、いずれも金属で形成
することによって遮光部材となるため、これらによって
TFTの四方を囲むことにより、TFT近傍を通過する
光量を減少させて、TFTへの反射光の戻りを一層抑制
することができる。
The extension pattern portion 9b of the drain electrode is
As shown in FIG. 1, it is preferable to extend the TFT in an L-shape along two outer peripheral sides. Thereby, the TF is formed by the drain electrode 9, the source wiring 5, and the gate wiring 2.
It can almost surround four sides of T. The drain electrode 9, the source wiring 5, and the gate wiring 2 are all light-shielding members formed of a metal. Therefore, by surrounding them with four sides, the amount of light passing near the TFT is reduced, thereby reducing the amount of light passing near the TFT. Return of reflected light to the light source can be further suppressed.

【0020】また、ドレイン電極の延長部分9bは、図
1に示すように、画素電極10と重なりを有するように
形成されていることが好ましい。液晶分子は画素電極1
0と対向電極11の間の縦方向電界を受けて配列状態が
制御されるが、画素電極10の外縁付近は電界が乱れ易
いため、液晶の配列が乱れて光抜け等の表示異常が発生
し易い。ドレイン電極9は画素電極10と常に同電位で
あるため、ドレイン電極の延長部分9bが画素電極10
と重なりを有することにより、画素電極10の外縁付近
における電界の乱れを緩和することができる。したがっ
て、画素電極10の外縁部における表示異常を抑制し
て、液晶表示装置の有効画素面積(=画素開口率)を拡
大することができる。
The extension 9b of the drain electrode is preferably formed so as to overlap the pixel electrode 10, as shown in FIG. The liquid crystal molecules are the pixel electrodes 1
The arrangement state is controlled by receiving a vertical electric field between the pixel electrode 10 and the counter electrode 11. However, the electric field is easily disturbed near the outer edge of the pixel electrode 10, so that the liquid crystal arrangement is disturbed and display abnormalities such as light leakage occur. easy. Since the drain electrode 9 is always at the same potential as the pixel electrode 10, the extension 9b of the drain electrode is
, The disturbance of the electric field near the outer edge of the pixel electrode 10 can be reduced. Therefore, abnormal display at the outer edge of the pixel electrode 10 can be suppressed, and the effective pixel area (= pixel aperture ratio) of the liquid crystal display device can be increased.

【0021】尚、ドレイン電極9が、画素電極10と重
なりを有することにより、両者の間に大きな容量結合が
生じるが、両者は同電位であるため、この容量結合はT
FTの駆動に何ら悪影響を与えない。
The drain electrode 9 overlaps the pixel electrode 10 to cause a large capacitive coupling between the two. However, since both are at the same potential, this capacitive coupling is equal to T.
There is no adverse effect on the driving of the FT.

【0022】本発明に係る液晶表示装置は、ドレイン電
極のパターン形状を除いて従来の液晶表示装置と同様の
構成を有するため、従来の一般的なアクティブマトリッ
クス方式液晶表示装置の製造方法を用いて製造すること
ができる。ドレイン電極9は、アモルファスシリコン半
導体膜4、ソース信号線5、画素電極10等と同様に、
一般的な手法によってパターニングすることができる。
例えば、ドレイン電極9を形成するための金属膜をスパ
ッタリング成膜法にて薄膜堆積し、この金属膜を、フォ
トリソ工程、エッチング工程によってパターニングし
て、ドレイン電極9を形成することができる。
Since the liquid crystal display device according to the present invention has the same configuration as the conventional liquid crystal display device except for the pattern of the drain electrode, a conventional method for manufacturing a general active matrix type liquid crystal display device is used. Can be manufactured. The drain electrode 9 is, like the amorphous silicon semiconductor film 4, the source signal line 5, the pixel electrode 10, and the like,
Patterning can be performed by a general method.
For example, a drain electrode 9 can be formed by depositing a thin metal film for forming the drain electrode 9 by a sputtering film forming method and patterning the thin metal film by a photolithography process and an etching process.

【0023】尚、本実施の形態においては、半導体層に
アモルファスシリコンを用いたボトムゲート型薄膜トラ
ンジスタの場合を例に説明したが、本発明はこれに限定
されない。例えば、多結晶シリコン等の他の半導体層を
用いたものや、トップゲート型薄膜トランジスタの場合
についても、本実施の形態で説明したのと同様にドレイ
ン電極を形成することにより、同様の作用効果を奏する
ことができる。
In this embodiment, a case of a bottom gate type thin film transistor using amorphous silicon for a semiconductor layer has been described as an example, but the present invention is not limited to this. For example, in the case of using another semiconductor layer such as polycrystalline silicon or in the case of a top-gate thin film transistor, the same operation and effect can be obtained by forming the drain electrode in the same manner as described in this embodiment mode. Can play.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上のように本発明の液晶表示装置によ
れば、ドレイン電極がTFTの外周に沿って延長された
パターンを有することにより、アレイ基板の裏面からの
入射光が一部遮断され、フィルタ基板上の対向電極によ
り反射される光の量を低減することができる。したがっ
て、TFTのチャンネルを形成する半導体層に到達する
光の量を低減し、TFTのオフ特性悪化により引き起こ
される画像性能の低下を抑制することができる。
As described above, according to the liquid crystal display device of the present invention, since the drain electrode has a pattern extending along the outer periphery of the TFT, incident light from the back surface of the array substrate is partially blocked. In addition, the amount of light reflected by the counter electrode on the filter substrate can be reduced. Therefore, the amount of light reaching the semiconductor layer forming the channel of the TFT can be reduced, and the deterioration of the image performance caused by the deterioration of the off characteristics of the TFT can be suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る液晶表示装置のアレイ基板を示
す部分拡大平面図
FIG. 1 is a partially enlarged plan view showing an array substrate of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図2】 図1のA−A’断面における液晶表示装置を
示す部分拡大断面図
FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view showing the liquid crystal display device taken along the line AA ′ in FIG. 1;

【図3】 従来の液晶表示装置のアレイ基板を示す部分
拡大平面図
FIG. 3 is a partially enlarged plan view showing an array substrate of a conventional liquid crystal display device.

【図4】 図3のB−B’断面における液晶表示装置を
示す部分拡大断面図
FIG. 4 is a partially enlarged cross-sectional view showing the liquid crystal display device taken along the line BB ′ in FIG. 3;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 アレイ基板 2 ゲート配線 2a ゲート電極部 3 ゲート絶縁膜 4 アモルファスシリコン半導体層 5 ソース信号線 5a ソース電極部分 6 パシベーション膜 7 コンタクトホール 8 フィルタ基板 9 ドレイン電極 9b ドレイン電極延長部分 10 画素電極 11 対向電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Array substrate 2 Gate wiring 2a Gate electrode part 3 Gate insulating film 4 Amorphous silicon semiconductor layer 5 Source signal line 5a Source electrode part 6 Passivation film 7 Contact hole 8 Filter substrate 9 Drain electrode 9b Drain electrode extension part 10 Pixel electrode 11 Counter electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浜岡 拓 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H092 JA25 JA26 JA42 JB54 KA18 MA05 MA13 MA17 NA22 5C094 AA02 AA11 BA03 BA43 CA19 DA13 EA01 EA04 EA07 5F110 AA06 AA30 BB01 CC01 CC05 CC07 DD02 GG02 GG13 GG15 HK33 HM04 HM19 NN03 NN23 NN24 NN27 NN44  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Taku Hamaoka 1006 Kazuma, Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F-term (reference) 2H092 JA25 JA26 JA42 JB54 KA18 MA05 MA13 MA17 NA22 5C094 AA02 AA11 BA03 BA43 CA19 DA13 EA01 EA04 EA07 5F110 AA06 AA30 BB01 CC01 CC05 CC07 DD02 GG02 GG13 GG15 HK33 HM04 HM19 NN03 NN23 NN24 NN27 NN44

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁性透明基板上に、 マトリックス状に配列された複数の画素電極と、 前記画素電極の列間に形成されたソース配線と、 前記画素電極の行間に形成されたゲート配線と、 前記ソース配線と前記ゲート配線の交差部に隣接して形
成された、前記ソース配線の一部をソース電極とし、前
記ゲート配線の一部をゲート電極とし、前記画素電極に
接続して形成された金属電極をドレイン電極とする薄膜
トランジスタと、を備えた液晶表示装置であって、 前記ドレイン電極が、前記薄膜トランジスタの外周に沿
って枝状に延長された延長部分を有していることを特徴
とする液晶表示装置。
A plurality of pixel electrodes arranged in a matrix on an insulating transparent substrate; a source line formed between columns of the pixel electrodes; and a gate line formed between rows of the pixel electrodes. A part of the source wiring formed adjacent to an intersection of the source wiring and the gate wiring is formed as a source electrode, a part of the gate wiring is formed as a gate electrode, and connected to the pixel electrode. A thin film transistor having a metal electrode as a drain electrode, wherein the drain electrode has an extended portion extending in a branch shape along the outer periphery of the thin film transistor. Liquid crystal display device.
【請求項2】 前記ドレイン電極の延長部分が、前記薄
膜トランジスタの外周の2辺に沿って延在しており、前
記金属電極と、前記ソース配線と、前記ゲート配線とに
よって、前記薄膜トランジスタの四方がほぼ囲まれてい
ることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
2. An extended portion of the drain electrode extends along two sides of an outer periphery of the thin film transistor, and the metal electrode, the source wiring, and the gate wiring make four sides of the thin film transistor thin. 2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is substantially enclosed.
【請求項3】 前記ドレイン電極の延長部分が、前記画
素電極と重なりを有するように形成されたことを特徴と
する請求項1記載の液晶表示装置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein an extension of the drain electrode is formed to overlap with the pixel electrode.
【請求項4】 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の
液晶表示装置を有する画像表示応用機器。
4. An image display application device having the liquid crystal display device according to claim 1.
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