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JP2002031788A - 光学装置 - Google Patents

光学装置

Info

Publication number
JP2002031788A
JP2002031788A JP2000217184A JP2000217184A JP2002031788A JP 2002031788 A JP2002031788 A JP 2002031788A JP 2000217184 A JP2000217184 A JP 2000217184A JP 2000217184 A JP2000217184 A JP 2000217184A JP 2002031788 A JP2002031788 A JP 2002031788A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
light
optical
optical device
crystal element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000217184A
Other languages
English (en)
Inventor
Eriko Matsui
恵理子 松居
Hirotaka Akao
裕隆 赤尾
Atsushi Toda
淳 戸田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2000217184A priority Critical patent/JP2002031788A/ja
Publication of JP2002031788A publication Critical patent/JP2002031788A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電界、電流を使わずに、光強度だけで励起し
て、光自らを制御し、高品質な表示機能を有し、大画面
化が可能であり、更には集合発光演算も行える光学装置
において、液晶素子を光スイッチとしてその効率を著し
く向上させた光学装置を提供すること。 【解決手段】 光導波路(又は光ファイバー)1と、こ
の光導波路(又は光ファイバー)1に交差した透明基板
2と、これらの交差部に配された液晶素子3とを具備
し、前記液晶素子3は強誘電性液晶を有し、そのプレチ
ルト角が30.6°以下であり、前記透明基板2の光導
出面には深さλ/8.7774(λは導波光の波長)以
上のグレーティングを形成し、前記液晶素子3のスイッ
チオン時の実効屈折率と、前記光導波路1の屈折率の差
が0.064以下である、光学装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は少なくとも画像の光
学的表示機能と2次元光演算機能を有する光導波路型の
光学装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、ディスプレイデバイス(表示装
置)は、マン−マシンインターフェース(man-machine-
inter-face)として、ますます需要が高まってきてお
り、大別して自発光型と受光型とに分類されている。即
ち、自発光型としては、CRT(cathode ray tube)、PDP
(プラズマディスプレイ)、ELD(エレクトロルミネセッ
センスディスプレイ)、VFD(蛍光表示管)、LED(発光ダ
イオード)などがある。また受光型としてはLCD(液晶デ
ィスプレイ)、ECD(エレクトロクロミックディスプレ
イ)、EPID(電気泳動ディスプレイ)、SPD(分
散粒子配向型ディスプレイ、TBD(着色粒子回転型デ
ィスプレイ)などがある。これらのディスプレイはすべ
て、エレクトロニクスの発展によって高性能化してきて
おり、品質、価格ともに既に成熟段階にあったり、或い
は、早晩その段階に入るものと予想される。
【0003】しかしながら、かかるエレクトロニクスを
駆使した高性能のディスプレイでも、その後の社会のニ
ーズや多様な消費者の好みの変化に十分応えるものとは
なっていない。たとえば、最近ではディスプレイパネル
をより大型化したいという要望が強くなっているが、こ
れに応えることができないでいる。その主な理由は、デ
ィスプレイパネルを大型化しようとすると、電極又はそ
の配線による電気抵抗が不可避的に上昇するからで、こ
れがパネルの大型化を阻む最大の要因となっており、デ
ィスプレイの画面サイズには自ずと限界がある。また、
ディスプレイの構成材料に硬質なものが多いことも、デ
ィスプレイを好みのサイズや形状にすることを困難なも
のにしている。
【0004】そのほか、家庭用大型テレビジョンなどの
ディスプレイを例にとると、容積や消費電力が大きかっ
たり、ハイディフィニション信号に追従するときに応答
スピードが足りないなど、省スペース・省電力・高画質
の点から、改善の余地が残されている。
【0005】そこで、本発明者は、そうした問題が生じ
ないディスプレイデバイスを開発すべく、エレクトロニ
クスとは根本的に異なるフォトニクス(電界を用いず光
のプロセスを扱う技術)の本格的な利用に着眼した。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】単にフォトニクスを利
用したごく低効率のものなら、1970年代に、光導波
路と光スイッチとを組み合わせた薄型ディスプレイが提
案されたことがある(USPat.3,838,908 "Guided lilght
structures employing liquid crystal" D. J.Channi
n, RCA Corporation, Oct. 1,1974)。この薄型ディスプ
レイは液晶(ネマテック)によって屈折率を制御し、光
導波路の全反射を変化させようというものであるが、当
時はレーザやLEDなどの良好な光源がなく、光導波路
の光伝送損失が多大であり、光スイッチに用いた液晶の
配向制御なども十分に研究されていなかったので、(R.
F. Bush and P.E. Seiden, "Liquid crystal display
device", IBM Tech. Disc. bull. Vol. 14, No. 1, p.2
23, 1971)、実用性に甚だしく欠け、商品化されたこと
はなかった。
【0007】更に、1980年代を経て1990年代に
入ると、レーザの研究が盛んに行われるようになり、そ
れを光源に用いた光導波路型ディスプレイデバイスも、
提案されるようになった。その代表例は、RGB3原色
のガスレーザを各々一光源づつとし、そこからレーザ光
を光ファイバ内に導波させて、液晶スイッチにより光を
オンオフするというものである。しかしながら、これも
実用の域に達していない。
【0008】このように、フォトニクスを利用した光導
波路型ディスプレイは、意外と研究の歴史が古いにもか
かわらず、未だかつて実用化、商品化されたことはな
く、特に、光スイッチ効果の高い実用的な光導波型ディ
スプレイの開発が、現在、各方面から期待されている。
【0009】本発明の目的は、そうした要望に応え得る
光導波型の光学装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0010】即ち、本発明の第1の光学装置は、光源か
ら光を光導波路内に入射させ、この入射光を導波させた
のち、この導波光を液晶素子からなる光スイッチにより
外部へ導出する光学装置において、前記液晶素子のスイ
ッチオン時の実効屈折率と、前記光導波路の屈折率との
差が、0.064以下であることを特徴とする。
【0011】また、本発明の第2の光学装置は、光源か
ら光を光導波路内に入射させ、この入射光を導波させた
のち、この導波光を液晶素子からなる光スイッチにより
外部へ導出する光学装置において、前記液晶素子の配向
膜と液晶分子とのなす角(プレチルト角)が30.6度
以下であることを特徴とする。
【0012】また、本発明の第3の光学装置は、光源か
ら光を光導波路に入射させ、この入射光を導波させたの
ち、この導波光を液晶素子からなる光スイッチにより透
明基板を介して外部へ導出する光学装置において、前記
透明基板の光導出面にλ/8.7774以上(ただし、
λは導波光の波長)の深さの溝が形成されていることを
特徴とする。
【0013】また、本発明の第4の光学装置は、光源か
ら光を光導波路に入射させ、この入射光を導波させたの
ち、この導波光を液晶素子からなる光スイッチにより透
明基板を介して外部へ導出する光学装置において、前記
透明基板の光導入面にλ/8.7774以上(ただし、
λは前記に同じ)の深さの溝が形成されていることを特
徴とする。
【0014】本発明によると、光源から光を光導波路内
に入射させ、この入射光を導波させたのち、この導波光
を液晶素子からなる光スイッチにより外部へ導出する構
成の光学装置において、前記液晶素子のスイッチオン時
の実効屈折率と、前記光導波路の屈折率との差が0.0
64以下であるので、光の透過率が高い特徴がある。
【0015】また、本発明の光学装置においては、前記
液晶素子の配向膜と液晶分子とのなすプレチルト角が3
0.6度以下に規制されるので、液晶スイッチは光の全
反射を制御することができる。
【0016】また、本発明によると、光源から光を光導
波路内に入射させ、この入射光を導波させたのち、この
導波光を液晶素子により透明基板を介して外部へ導出す
る構成の光学装置において、前記透明基板の光導出面又
は光導出面にλ/8.7774以上の深さの溝が形成さ
れているので、視野角を考慮して光取出し効果が高い特
徴がある。
【0017】以上、本発明の光学装置はディスプレイデ
バイスとして、更には2次元光演算装置等として顕著な
スイッチ効果を奏するものである。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明においては、前記液晶素子
のスイッチオン時の実効屈折率と、前記光導波路の屈折
率との差を0.005以下とすることが好ましい。こう
すれば、光の透過率はより高くなる。
【0019】前記光源としては、光導波路用の公知の光
源が使用できるが、好ましいのは、低波長の半導体レー
ザ等のレーザとか、発光ダイオードなどである。
【0020】本発明では、光スイッチとして用いる液晶
素子の液晶に強誘電性液晶を用いることが、後述する如
く、特に望ましい。強誘電性液晶は、液晶分子の長軸方
向と短軸方向に2値の屈折率を有し、その値は通常、
1.48〜1.72の範囲にある。
【0021】本発明に光スイッチとして用いる液晶素子
は、駆動電極による電界に応答動作するものであり、特
に前記光導波路内の光を液晶素子の屈折率の変化により
液晶素子外へ選択的に取出せるものが好ましい。
【0022】本発明は種々の実施形態をとり得るが、実
用上、好ましい光学装置は、単数又は複数の光導波路
に、単数又は複数の透明基板もしくは透明ファイバーが
交差し、この交差部分に光スイッチとして液晶素子が配
設もしくは形成された構成を有するものである。ただ
し、透明基板や透明ファイバーは単独に使用されるのみ
ならず、透明電極等と積層した構造で用いることもでき
る。
【0023】一方、本発明において、導波光を液晶素子
のスイッチ作用により外部へ導出する操作を、光導出面
又は光導入面にλ/8.7774以上の深さの溝を形成
した透明基板を介して行うことができるが、その場合、
前記溝が単位面積(たとえば一画素)あたり一種類以上
のピッチで形成されていることが好ましい。
【0024】更に、これらの溝を含む光導出面又は光導
入面には、高分子薄膜が積層されていることが望まし
い。
【0025】次に、本発明を好ましい実施の形態に基づ
いて適宜、図面を参照しながら詳しく説明する。
【0026】図21は、本発明の好ましい実施形態であ
る光学装置の要部を示し、図22はその全体の概略的平
面図である。各画素では平板型の光導波路1にたとえば
ポリカーボネート(PC)で構成された透明基板2が交
差しており、これらの交差部Sには光スイッチング用の
液晶素子3が設けられている。平板型の光導波路1もた
とえばポリカーボネートなどの透明な材料で構成されて
いる。光導波路1の上面と透明基板2の下面には図示し
ない電極が形成されており、これらの間は電源5を設け
た配線で接続されている。
【0027】液晶素子3の構造は図24に示すとおり
で、これは光導波路1と透明基板2との間に形成され、
透明電極3a、3aの対向面に配向膜3b、3bが位置
し、これらの間に液晶3cが充填されている。3dはス
ペーサ、3eは接着剤で、透明基板2の上面には、空気
側へ光を効率よく取出すためのグレーテング(回折格
子)Gが形成されている。
【0028】光導波路1の前方には光源6が配され、こ
れにはたとえば半導体レーザ(LD)などが用いられ
る。
【0029】光源6から出射されたレーザ光は、入射面
1Zから光導波路1内に入り、同路内を全反射しながら
導波され、交差部Sに至る。交差部Sには光スイッチン
グ素子として液晶素子3が設けてあり、ここで導波光は
全反射モードから放射モードに変えられる。つまり、液
晶素子3にかける印加電圧を変化させると、導波光が光
導波路1から液晶を介して外部へ出射される。
【0030】光源6としては、半導体レーザ6aに代表
されるレーザの他に、発光ダイオードや電界発光素子な
ども使用できる。いずれにせよ、これらの光源を用いる
ことにより、発光スペクトルの半値幅の狭い、かつ色純
度の良好な三原色ディスプレイを提供することができ
る。
【0031】また、光導波路1としてはポリカーボネー
ト以外にプラスチック等の柔軟材料が好ましく用いら
れ、また平板型に限らず、図25(A)に示すようにフ
ァイバー型1aも用いてよい。したがって、本発明の光
学装置は薄型化、軽量化を実現することができる。な
お、同図では光導波路1aの上面は長手方向に平坦に形
成され、メタル配線を施して抵抗を下げている。
【0032】図23は上述した光学装置の使用形態を示
すもので、装置の構成材料にプラスチック等の柔軟材料
を使用することによって、迫力のある画面を有する12
0度曲面ディスプレイ(A)を始め、半球型ディスプレ
イ(B)から全球型ディスプレイ(C)、不使用時に巻
き上げることのできるディスプレイ(D)、さらには衣
服や帽子用の、あるいはカップ等の物品表面に適用する
粘着ディスプレイ(E)にいたるまで、様々な表示用途
に用いることができる。
【0033】本発明の光学装置は薄型に加えて大型化、
高精細化が可能であり、光源を効率よく使用する自発光
型であるため、非常に明るく、大画面で必要とされるコ
ントラスト比500:1も容易に実現できる。
【0034】(1)液晶材料の選択 一画素の表示時間は、インターレース信号のHDTVの
場合、アクティブ素子などを使用せずに、線順次駆動を
すると 1/30Hz/1125line=29.6μs、 プログレッシブ信号のUXGAの場合は、 1/60Hz/1200line=14μs となる。本発明に好ましく用いる強誘電性液晶は、印加
電界に対して液晶分子自体が持つ永久双曲子が作用する
ため、マイクロ秒オーダーの応答速度が可能であり、ハ
イディフィニションに代表される高精細なディスプレイ
の駆動に十分対応できる(ネマティック液晶の応答速度
は、ミリ秒オーダ)。
【0035】強誘電性液晶は、液晶分子長軸方向と短軸
方向に2値の屈折率をもち、その値は通常1.48〜
1.72程度であるので、光導波路の屈折率は、その複
屈折間にあればよく、例えばポリカーボネートは屈折率
が1.585であるから、光導波路の構成材料として適
切である。
【0036】光導波路型ディスプレイは、出射光のオフ
は液晶スイッチの低い方の屈折率を利用して全反射を、
オンは液晶スイッチの高い方の屈折率を利用して光を透
過させるものである。全反射条件からは、液晶の低い方
の屈折率と、光導波路の屈折率との差が大きいことが、
入射角制限を緩めることになり、高効率になることは容
易に予測できる。そこで、液晶の高い方の屈折率の最適
条件を求めるために以下の計算を行った。
【0037】図20に示す液晶スイッチと光導波路との
積層構造において、液晶スイッチの屈折率と光導波路の
屈折率差を変化させた時の、フレネルの透過率の計算を
行った。
【数1】
【数2】 θ1は光導波路への入射角、nfは光導波路の屈折率、Δ
nは液晶スイッチの屈折率と光導波路の屈折率との差、
Pはp(TE)偏光の透過率、TSはs(TM)偏光の透過
率である。計算結果を図1及び図2に示す。
【0038】どちらの結果も、Δnは小さいほど、入射
角は小さいほど、透過率が高くなる傾向を示している。
したがって、液晶材料の屈折率のうち、高い方はなるべ
く光導波路の屈折率に近く、低い方はなるべく光導波路
の屈折率と差が大きい方が効率が良くなるということに
なる。特に、ディスプレイの画質を左右する透過率の観
点からみると、50%以上の透過率を得るためには、T
E偏光の時にはΔnは0.08、TM偏光の時にはΔn
は0.064、90%以上の透過率を得るためには、T
E偏光・TM偏光ともにΔnは0.005以上であるこ
とが必要である。
【0039】(2)液晶材料の配向方向と導波方向の最
適化 液晶スイッチとしての実効屈折率は、液晶材料自体の屈
折率と、チルト角θ、プレチルト角θpと導波方向との
関係で決定される。最初に、プレチルト角θpがゼロ度
(導波y−z平面と液晶分子が平行)のときの実効屈折
率の計算方法を図3示す。配向方向はφ+θとなる。例
えば液晶材料1(nO:1.489,ne:1.666)
を使用した場合、電界印加時のチルト角が20°である
と、φ(光導波方向と、その方向に最も近い時の液晶の
分子長軸方向との成す角)と液晶の実効屈折率の関係
は、図4に示すようになることがわかる。上記結果か
ら、この液晶材料のφは10°以上、すなわち、配向方
向と導波方向の角度は30°以上であることが望ましい
ことがわかる。スイッチオフの時の全反射角は、sin
-1(1.494/1.585)=70.5°以上、スイ
ッチオンの時の透過率は(nON OFF=1.586)9
9.9995%となる。
【0040】プレチルト角θPがゼロ度ではない場合
は、上記の式のneがz−y平面への射影となるため、
ecosθPとなる。
【数3】 この式から、今回のような光導波路型ディスプレイにお
いて、液晶スイッチが光の全反射を制御可能にするため
には、 neff OFF<nf<neff ON が必要条件となる。よって、プレチルト角の範囲は3
0.6°以下となる。
【0041】(3)光取出しのためのグレーティング作
製 光導波方向z軸に対し、x軸方向と対面にあたる透明基
板2(例えば、光導波路と同じPCシート)の光導出面
に非常に細かなやすりを用いてグレーティングGを作製
することを考える。下記に高効率グレーティングを作製
するための、理想的な条件の計算結果を示す。
【0042】最初に、空気層の方へ出射する2ビーム結
合(光導波路側へも半分程度出射してしまう)と、導波
路方向へのみ出射する1ビーム結合のどちらが効率であ
るか計算する。1ビーム結合の方が光が全部導波路側へ
出射することになるわけなので、効率が良いように考え
られるが、空間周波数と放射ビーム数の関係を計算する
と、図5に示すように空気の屈折率nsが1.00の場
合、1ビーム結合はありえない。逆に、この結果を用い
て1ビーム結合するための構造は、光導波路に有機高分
子を使用する限り、nfが3.0以上になることはあり
得ないので、図6に示す部分の屈折率ncとnsの差を大
きくする以外に方法は無いように思われる。例えば、光
導波路側にポリビニルアルコール(PVA)層10(屈
折率n=1.52)などの高分子薄膜を積層する工夫な
どが考えられる。
【0043】nsが1.52の場合、空間周波数と放射
ビームの関係は図8のようになり、光導波路側への1ビ
ーム結合の解が存在する。1ビーム結合では、構造に煩
雑さが増すものの存在可能であることがわかった。
【0044】次に複数ビーム結合時と1ビーム結合時の
グレーティングの最適化の計算結果を示す。 i)複数ビーム結合(光導波路の外側は空気層) 図5の結果をもとに、最適なグレーティングピッチΛを
求めた。結果を図9に示す。Λは、導波光波長にも依存
するが、0.3〜1.5μmピッチが好ましい。またΛ
は出射角度も決定するので、そちらも計算した。その結
果を図10に示す。視野角の依存性無く、いろいろな角
度に出射するためには、Λは0.2〜1.2μmピッチ
までさまざまな値を取る必要がある。また各色における
入射角と出射角の関係を計算した。その結果を図11〜
図13に示す。
【0045】入射角度が大きいほど、同じグレーティン
グピッチでもさまざまな出射角がとれる。ただし、入射
角度が大きくなると図1と図2に示すように透過率が低
下する。
【0046】ii)1ビーム結合 同様に、Λと透明基板側への出射角の計算を行った。そ
の結果を図14〜図17に示す。視野角の依存性無く、
いろいろな角度に出射するためには、Λは0.2〜数1
0μmピッチまでさまざまな値を取る必要があり、複数
ビーム結合よりもピッチに多くのパリエーションが必要
となる。入射角が大きくなると、光導波方向への視野角
が狭くなってしまう。
【0047】グレーティングの放射は、誘電率分布の変
化で起こる。そのため、グレーティング深さhとグレー
ティング材質ngの屈折率の間には、次の関係がある
(図18参照)。
【数4】 ここで、k:波数、N:等価屈折率、εgc:(GとCとの
平均誘電率)、ngc(GとCとの平均屈折率)、a:(グ
レーティングの山部分)(図6も参照)。h<hc。で
は、散乱強度は単調増加になり、その強度はh2に比例
する(「光集積回路」西原浩 他著、オーム社)。hc
<hでは飽和し、一定値となる。
【0048】光導波路とグレーティング材料を有機物に
した場合、光導波路の屈折率は、液晶材料の複屈折率範
囲を超えることはできないため1.48<nf<1.7
2となり、導波光の入射角は59.37°以上90°未
満である。また、グレーティング材料が有機物であれ
ば、1.30<ng<1.80となる。これらの範囲か
ら、λ/8.7774<hc(λ:導波光波長)である
ことが求まるので、今回のようなグレーティングにより
光をx軸方向に出射させるためには、グレーティングの
深さは、λ(導波光波長)/8.7774以上であるこ
とが条件となる。例えば、光導波路の屈折率、グレーテ
ィング材の屈折率ともに1.585であり、赤色レーザ
(632.8nm)を光源とし、入射角が70°、a=
0.5である場合、hcは0.1481μmと計算され
る。
【0049】実際の作製例としては、複雑な工程は液晶
の配向を乱す可能性があるので(PC基板は薄く液晶の
配向が難しいことに留意)、液晶セルを作製する前のP
C基板にやすり等で一方向に傷をつけることなどがあ
る。例えば、やすりは、#2000、#5000、#8
000、#10000などの細かさがよい。擦る回数を
1〜30回まで変えてグレーティングを作製し、導波光
量がどの程度散乱するかを測定した。この方法で作製し
たグレーティングでは、サインカーブの溝ができ、上記
のaは0.5となった。また、各々のサンプルのグレー
ティング深さhをαステップで測定し、それらの結果を
比較した(図19参照)。これらの測定値は計算結果と
よく一致している。
【0050】40インチ以上の大型ディスプレイを作製
するにあたり、液晶の配向を画面全体にわたって均一に
行うのが難しい場合は、図26に示す光学装置(透明電
極3aの上面には透明基板が積層されているが、図示省
略する)のように、画素部分のみに空隙を残し、あとは
低屈折率のポリマーで覆ってもよい。その際、液晶は注
入では行わず、塗布型で行う。画素面積は、100イン
チであっても1mm2程度であるので、液晶の配向が容
易となる。
【0051】本発明は前述した実施形態に限定されな
い。たとえば、グレーティングGを透明基板2に形成す
るときは、光導出面に限らず、光導入面側に形成するこ
とができる。又、そのグレーティングGを含む光導入面
にPVA層などの高分子薄膜10を形成してもよい(図
7参照)。
【0052】
【実施例】次に、本発明を実施例に基づいてさらに詳細
に説明するが、本発明は、この実施例に何ら限定される
ものではない。
【0053】図21、図22及び図25(B)に示す如
き光学装置を次のようにして作製した。まず、光導波路
及びこれに直交させる透明基板の材料として、三菱エン
プラ社製ユーピロシリーズのポリカーボネートシート
(nf:1.585)を用いた。
【0054】また、光スイッチ用の液晶素子の作製に
は、液晶材料として、ジャパンエナジー社製の強誘電性
液晶M62344(no:1.489、ne:1.66
6)を選択し、配向膜の形成にはポリビニルアルコール
(n=500)の10重量%の水溶液を使用し、この乾
燥膜にラビング処理を施した。そして、前記ポリカーボ
ネートシートは通常の液晶パネルと比べ非常に薄く柔軟
性に富むため、スイッチ部分には十分なスペーサを導入
することが必要であると考え、スペーサとして1.5μ
m径の真し球を選択し、これをエタノールに分散させ
て、ポリカーボネートシート上にスピンコートした。ス
ピンコートの条件は、500rpmで4秒、3000r
pmで20秒である。
【0055】なお、前記透明基板の光導出面にグレーテ
ィングを作製したが、これは#2000のヤスリを用い
て、10〜20回、一方向に擦って作製した。
【0056】光源には、赤色・緑色・青色半導体レー
ザ、すなわちAlGaInP系III−VI族、GaN系III
−V族発光デバイスを用いた。これらのデバイスの偏光
方向が光導波路にTEモードで入射するように配置し、
光学接着剤でカップリングした。
【0057】前記液晶素子の駆動には2Hz短形波を1
0V印加した。その結果、前記液晶素子の光スイッチ作
用により、導波光が前記透明基板を介してX軸方向に高
速で出射オンオフすることが確認できた。
【0058】
【発明の作用効果】以上、本発明の光学装置は、液晶素
子のスイッチオン時の実効屈折率と光導波路の屈折率と
の差、及び液晶分子のプレチルト角がそれぞれ適正に特
定されているために、光の透過率が高く、且つ光の全反
射の制御が可能であり、また透明基板の光導入面又は光
導出面に適正なグレーティングが施されているので、視
野角を考慮に入れた光取出し効果が高い。
【0059】したがって、本発明の光学装置はディスプ
レイデバイスとして、あるいは2次元光演算装置として
用いる場合、顕著なスイッチ効果を奏することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の光学装置において、液晶ス
イッチの屈折率と光導波路の屈折率との差と、TE偏光
の透過率との関係を示すグラフである。
【図2】同、液晶スイッチの屈折率と光導波路の屈折率
との差と、TM偏光の透過率との関係を示すグラフであ
る。
【図3】同、液晶スイッチの実効屈折率を計算するた
め、液晶分子の配向方向を示す図である。
【図4】同、液晶スイッチにおけるφ(光導波方向と、
その方向に最も近い時の液晶の分子長軸方向とのなす角
度)と実効屈折率との関係を示すグラフである。
【図5】同、液晶スイッチにおけるグレーティング(カ
ップラ)の空間周波数と放射ビーム数との関係を示す図
である。
【図6】同、液晶スイッチにおけるグレーティングの構
造を示す断面図である。
【図7】本発明の別の実施例における、液晶スイッチの
グレーティングの構造を示す断面図である。
【図8】同、液晶スイッチのグレーティングにPVA膜
を積層した場合の空間周波数と放射ビーム数の関係を示
す線図である。
【図9】同、液晶スイッチにおいて、放射ビーム数とグ
レーティングピッチΛとの関係を示すグラフである。
【図10】同、液晶スイッチにおいて、グレーティング
ピッチと空気側への出射角との関係を示すグラフであ
る。
【図11】同、液晶スイッチにおいて、入射角を変えた
場合のグレーティングピッチと空気側への光(632.
8nm)の出射角との関係を示すグラフである。
【図12】同、液晶スイッチにおいて、入射角を変えた
場合のグレーティングピッチと空気側への光(510n
m)の出射角との関係を示すグラフである。
【図13】同、液晶スイッチにおいて、入射角を変えた
場合のグレーティングピッチと空気側への光(460n
m)の出射角との関係を示すグラフである。
【図14】同、液晶スイッチにおいて、グレーティング
ピッチと基板側への出射角との関係を示すグラフであ
る。
【図15】同、液晶スイッチにおいて、入射角を変えた
場合のグレーティングピッチと基板側への光(632.
8nm)の出射角との関係を示すグラフである。
【図16】同、液晶スイッチにおいて、入射角を変えた
場合のグレーティングピッチと基板側への光(510n
m)の出射角との関係を示すグラフである。
【図17】同、液晶スイッチにおいて、入射角を変えた
場合のグレーティングピッチと基板側への光(460n
m)の出射角との関係を示すグラフである。
【図18】グレーティングの1例の構造を示す構成図で
ある。
【図19】グレーティング深さと光散乱強度との関係を
示すグラフである。
【図20】液晶スイッチと光導波路との積層構造を示す
断面図である。
【図21】本発明の一実施例を示す光学装置の概略構成
図で、(A)は斜視図、(B)は断面図である。
【図22】本発明の他の実施例を示す光学装置の概略平
面図である。
【図23】本発明の光学装置の使用形態の各例を示す模
式図である。
【図24】本発明の一実施例による光学装置の要部を示
す断面図である。
【図25】本発明の光学装置の概略構造を示す斜視図で
ある。
【図26】本発明の他の実施例を示す光学装置の斜視図
である。
【符号の説明】
1…平板型光導波路、1a…ファイバー型光導波路、2
…透明基板、3…液晶素子、3a…透明電極、3b…配
向膜、3c…液晶、3d…スペーサ、3e…接着剤、5
…電源、6…光源、10…高分子膜、G…グレーティン
グ(回折格子)、S…交差部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 戸田 淳 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 2H049 AA03 AA13 AA32 AA43 AA62 AA65 2H088 EA02 EA33 EA63 GA04 GA17 HA11 HA28 HA30 JA17 KA05 KA14 MA02 MA06 2K002 AA07 AB04 AB07 AB10 BA06 CA14 DA06 EA07 EB04 EB08 HA07

Claims (33)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源から光を光導波路内に入射させ、こ
    の入射光を導波させたのち、この導波光を液晶素子から
    なる光スイッチにより外部へ導出する光学装置におい
    て、前記液晶素子のスイッチオン時の実効屈折率と、前
    記光導波路の屈折率との差が、0.064以下である光
    学装置。
  2. 【請求項2】 前記液晶素子のスイッチオン時の実効屈
    折率と、前記光導波路の屈折率との差が0.005以下
    である、請求項1に記載の光学装置。
  3. 【請求項3】 前記光源がレーザである、請求項1に記
    載の光学装置。
  4. 【請求項4】 前記レーザが半導体レーザである、請求
    項3に記載の光学装置。
  5. 【請求項5】 前記光源が発光ダイオードである、請求
    項1に記載の光学装置。
  6. 【請求項6】 前記液晶素子の液晶が強誘電性液晶であ
    る、請求項1に記載の光学装置。
  7. 【請求項7】 単数又は複数の前記光導波路と;この光
    導波路に交差した単数又は複数の透明基板もしくは透明
    ファイバーと;前記光導波路と前記透明基板もしくは透
    明ファイバーとの交差部に配設又は形成され、前記光ス
    イッチとして駆動電極による電界に応答動作する前記液
    晶素子と;を具備した、請求項1に記載の光学装置。
  8. 【請求項8】 前記光導波路内の光を、前記液晶素子の
    屈折率の変化によりこの液晶素子外へ選択的に取出せる
    ようにした、請求項1に記載の光学装置。
  9. 【請求項9】 光源から光を光導波路内に入射させ、こ
    の入射光を導波させたのち、この導波光を液晶素子から
    なる光スイッチにより外部へ導出する光学装置におい
    て、前記液晶素子の配向膜と液晶分子とのなす角(プレ
    チルト角)が30.6度以下である、光学装置。
  10. 【請求項10】 前記光源がレーザである、請求項9に
    記載の光学装置。
  11. 【請求項11】 前記レーザが半導体レーザである、請
    求項10に記載の光学装置。
  12. 【請求項12】 前記光源が発光ダイオードである、請
    求項9に記載の光学装置。
  13. 【請求項13】 前記液晶素子の液晶が強誘電性液晶で
    ある、請求項9に記載の光学装置。
  14. 【請求項14】 前記光導波路内の光を、前記液晶素子
    の屈折率の変化によりこの液晶素子外へ選択的に取出せ
    るようにした、請求項9記載の光学装置。
  15. 【請求項15】 単数又は複数の前記光導波路と;この
    光導波路に交差した単数又は複数の透明基板もしくは透
    明ファイバーと;前記光導波路と前記透明基板もしくは
    透明ファイバーとの交差部に配設又は形成され、前記光
    スイッチとして駆動電極による電界に応答動作する前記
    液晶素子と;を具備した、請求項9に記載の光学装置。
  16. 【請求項16】 光源から光を光導波路に入射させ、こ
    の入射光を導波させたのち、この導波光を液晶素子から
    なる光スイッチにより透明基板を介して外部へ導出する
    光学装置において、前記透明基板の光導出面にλ/8.
    7774以上(ただし、λは導波光の波長)の深さの溝
    が形成されている、光学装置。
  17. 【請求項17】 前記光導出面に前記溝が単位面積あた
    り一種類以上のピッチで形成されている、請求項16に
    記載の光学装置。
  18. 【請求項18】 前記光源がレーザである、請求項16
    に記載の光学装置。
  19. 【請求項19】 前記レーザが半導体レーザである、請
    求項18に記載の光学装置。
  20. 【請求項20】 前記光源が発光ダイオードである、請
    求項16に記載の光学装置。
  21. 【請求項21】 前記液晶素子の液晶が強誘電性液晶で
    ある、請求項16に記載の光学装置。
  22. 【請求項22】 単数又は複数の前記光導波路と;この
    光導波路に交差した単数又は複数の透明基板もしくは透
    明ファイバーと;前記光導波路と前記透明基板もしくは
    透明ファイバーとの交差部に配設又は形成され、前記光
    スイッチとして駆動電極による電界に応答動作する前記
    液晶素子と;を具備した、請求項16に記載の光学装
    置。
  23. 【請求項23】 前記光導波路内の光を、前記液晶素子
    の屈折率の変化によりこの液晶素子外へ選択的に取出せ
    るようにした、請求項16に記載の光学装置。
  24. 【請求項24】 光源から光を光導波路内に入射させ、
    この入射光を導波させたのち、この導波光を液晶素子か
    らなる光スイッチにより透明基板を介して外部へ導出す
    る光学装置において、前記透明基板の光導入面にλ/
    8.7774以上(λは導波光の波長)の深さの溝が形
    成されている、光学装置。
  25. 【請求項25】 前記光導入面に前記溝が単位面積あた
    り一種類以上のピッチで形成される、請求項24に記載
    の光学装置。
  26. 【請求項26】 前記光源がレーザである、請求項24
    に記載の光学装置。
  27. 【請求項27】 前記レーザが半導体レーザである、請
    求項26に記載の光学装置。
  28. 【請求項28】 前記光源が発光ダイオードである、請
    求項24に記載の光学装置。
  29. 【請求項29】 前記液晶素子の液晶が強誘電性液晶で
    ある、請求項24に記載の光学装置。
  30. 【請求項30】 単数又は複数の前記光導波路と;この
    光導波路に交差した単数又は複数の透明基板もしくは透
    明ファイバーと;前記光導波路と前記透明基板もしくは
    透明ファイバーとの交差部に配設又は形成され、前記光
    スイッチとして駆動電極による電界に応答動作する前記
    液晶素子と;を具備した、請求項24に記載の光学装
    置。
  31. 【請求項31】 前記光導波路内の光を、前記液晶素子
    の屈折率の変化によりこの液晶素子外へ選択的に取出せ
    るようにした、請求項24に記載の光学装置。
  32. 【請求項32】 前記透明基板の光導入面に高分子薄膜
    が積層されている、請求項16に記載の光学装置。
  33. 【請求項33】 前記透明基板の前記光導入面に高分子
    薄膜が積層されている、請求項24に記載の光学装置。
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