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JP2002030115A - ポリ脂環式酸無水物 - Google Patents

ポリ脂環式酸無水物

Info

Publication number
JP2002030115A
JP2002030115A JP2000213865A JP2000213865A JP2002030115A JP 2002030115 A JP2002030115 A JP 2002030115A JP 2000213865 A JP2000213865 A JP 2000213865A JP 2000213865 A JP2000213865 A JP 2000213865A JP 2002030115 A JP2002030115 A JP 2002030115A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bis
trifluoromethyl
aniline
bicyclo
ene
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000213865A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazunori Sugimoto
和則 杉本
Yoichi Mori
与一 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP2000213865A priority Critical patent/JP2002030115A/ja
Publication of JP2002030115A publication Critical patent/JP2002030115A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】ポリ脂環式イミド製造用の前駆体であるポリ脂
環式酸無水物を提供する。 【解決手段】本発明は、一般式(1)で表される化合物
であることを特徴とするポリ脂環式酸無水物組成物であ
る。 【化1】 (一般式(1)において、lは1〜2、mは3〜300
00の整数を示す。R1〜R4はH、F、CF3、炭素数
1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基の
いずれかを示し、同じでも異なっていてもよい。R5
6はH、または炭素数1〜10のアルキル基を示
す。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、低誘電率絶縁材料
に有用なポリ脂環式イミド組成物の製造に好適な前駆体
であるポリ脂環式酸無水物に関する。
【0002】
【従来の技術】大規模集積回路(LSI)は、微細加工
技術の進歩を反映して、高集積化、多機能化、高性能化
の一途をたどっている。その結果、回路抵抗や配線間の
コンデンサー容量(以下、それぞれ「寄生抵抗」、「寄
生容量」という)が増大して、消費電力が増大するだけ
でなく、信号伝播、遅延時間も増大して、デバイスの信
号スピードが低下する大きな要因となっている。そのた
め、寄生抵抗や寄生容量を下げることが求められてお
り、その解決策の一つとして、配線の周辺を低誘電率の
層間絶縁膜で被うことにより、寄生容量を下げて、デバ
イスの高速化に対応しようとしている。具体的には、従
来の層間絶縁膜に用いられている酸化ケイ素膜を、より
誘電率の小さい有機膜に替える試みがなされている。し
かし、層間絶縁膜には、低誘電性とともに、実装基板製
造時の薄膜形成工程や、チップ接続、ピン付け等の後工
程に耐えられる優れた耐熱性を有することが必要であ
る。代表的な低誘電性有機材料としてポリテトラフルオ
ロエチレン等のフッ素樹脂が知られているが、この樹脂
の場合耐熱性が不十分である。また、耐熱性の有機材料
が知られているが、従来のポリイミド、エポキシ樹脂、
シリコーン樹脂等の比誘電率は3.0〜4.0程度であ
り、低誘電性の面で満足できない。また、従来のポリイ
ミドは誘電率の異方性が大きく、配線間方向と配線層間
方向で比誘電率が異なるという問題がある。一方、低誘
電性と耐熱性、低屈折性、誘電率の等方性(低複屈折
率)を同時に兼ね備えた絶縁材料としてポリ脂環式イミ
ド組成物が有効であるが、このポリ脂環式イミド組成物
は、単独もしくは数種の対応する不飽和基含有脂環式イ
ミド化合物を、金属触媒下、ビニル付加重合することに
より得られる。しかし、数種の不飽和基含有脂環式イミ
ド化合物を用いた共重合体は、それぞれモノマーである
不飽和基含有脂環式イミド化合物を合成しなければなら
なく、様々な構造のポリ脂環式イミド組成物への応用と
いう点で、合成に手間がかかる等の問題があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、低誘電性と
耐熱性、低屈折性、誘電率の等方性(低複屈折率)に優
れたポリ脂環式イミド組成物の製造に有用な前駆体であ
るポリ脂環式酸無水物を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式(1)
で表されることを特徴とするポリ脂環式酸無水物であ
る。
【0005】
【化2】
【0006】(一般式(1)において、lは1〜2、m
は3〜30000の整数を示す。R1〜R4はH、F、C
3、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20の
アリール基のいずれかを示し、同じでも異なっていても
よい。R5、R6はH、または炭素数1〜10のアルキル
基を示す。)
【0007】
【発明の実施の形態】本発明における一般式(1)で表
されるポリ脂環式酸無水物は、一般式(2)で表される
不飽和基含有脂環式酸無水物化合物を、重合溶媒中、金
属触媒下でビニル付加重合することにより得られる。
【0008】
【化3】
【0009】一般式(2)において、lは1〜2の整数
を示す。R1〜R4はH、F、CF3、炭素数1〜10の
アルキル基、炭素数6〜20のアリール基のいずれかを
示し、同じでも異なっていてもよい。R5、R6はH、ま
たは炭素数1〜10のアルキル基を示す。
【0010】用いられる不飽和基含有脂環式酸無水物の
具体例としては、ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−
エン−2,3−ジカルボン酸無水物、2,3−ジメチル
−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2,3−
ジカルボン酸無水物、7−フルオロ−ビシクロ[2,
2,1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水
物、7,7−ジフルオロ−ビシクロ[2,2,1]ヘプ
ト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物、5,6−
ジフルオロ−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン
−2,3−ジカルボン酸無水物、5,6,7,7,−テ
トラフルオロ−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エ
ン−2,3−ジカルボン酸無水物、7−トリフルオロメ
チル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2,
3−ジカルボン酸無水物、7,7−ビス(トリフルオロ
メチル)−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−
2,3−ジカルボン酸無水物、5,6−ビス(トリフル
オロメチル)−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エ
ン−2,3−ジカルボン酸無水物、5,6,7,7,−
テトラキス(トリフルオロメチル)−ビシクロ[2,
2,1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水
物、7−メチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−
エン−2,3−ジカルボン酸無水物、7,7−ジメチル
−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2,3−
ジカルボン酸無水物、5,6−ジメチル−ビシクロ
[2,2,1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボン
酸無水物、5,6,7,7−テトラメチル−ビシクロ
[2,2,1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボン
酸無水物、7−エチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト
−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物、7,7−ジ
エチル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−
2,3−ジカルボン酸無水物、5,6−ジエチル−ビシ
クロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカル
ボン酸無水物、5,6,7,7−テトラエチル−ビシク
ロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボ
ン酸無水物、7−シクロヘキシル−ビシクロ[2,2,
1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物、
7,7−ジシクロヘキシル−ビシクロ[2,2,1]ヘ
プト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物、7−フ
ェニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−
2,3−ジカルボン酸無水物、7,7−ジフェニル−ビ
シクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカ
ルボン酸無水物、7−メチル−7−フェニル−ビシクロ
[2,2,1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボン
酸無水物、5,6−ジフルオロ−7,7−ジフェニル−
ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2,3−ジ
カルボン酸無水物、5,6−ジメチル−7,7−ジフェ
ニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2,
3−ジカルボン酸無水物、5,6−ビス(トリフルオロ
メチル)−7,7−ジフェニル−ビシクロ[2,2,
1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物、
ビシクロ[2,2,2]オクト−5−エン−2,3−ジ
カルボン酸無水物、ビシクロ[2,2,2]オクト−5
−エン−2,3−ジカルボン酸無水物、7,8−ジフル
オロ−ビシクロ[2,2,2]オクト−5−エン−2,
3−ジカルボン酸無水物、7,7,8,8−テトラフル
オロ−ビシクロ[2,2,2]オクト−5−エン−2,
3−ジカルボン酸無水物、5,6−ジフルオロ−ビシク
ロ[2,2,2]オクト−5−エン−2,3−ジカルボ
ン酸無水物、5,6,7,7,8,8−ヘキサフルオロ
−ビシクロ[2,2,2]オクト−5−エン−2,3−
ジカルボン酸無水物、7,8−ビス(トリフルオロメチ
ル)−ビシクロ[2,2,2]オクト−5−エン−2,
3−ジカルボン酸無水物、7,7,8,8−テトラキス
(トリフルオロメチル)−ビシクロ[2,2,2]オク
ト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物、5,6−
ビス(トリフルオロメチル)−ビシクロ[2,2,2]
オクト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物、5,
6,7,7,8,8−ヘキサキス(トリフルオロメチ
ル)−ビシクロ[2,2,2]オクト−5−エン−2,
3−ジカルボン酸無水物、7,8−ジメチル−ビシクロ
[2,2,2]オクト−5−エン−2,3−ジカルボン
酸無水物、7,7,8,8−テトラメチル−ビシクロ
[2,2,2]オクト−5−エン−2,3−ジカルボン
酸無水物、5,6−ジメチル−ビシクロ[2,2,2]
オクト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物、5,
6,7,7,8,8−ヘキサメチル−ビシクロ[2,
2,2]オクト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水
物、7,8−ジエチル−ビシクロ[2,2,2]オクト
−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物、7,7,
8,8−テトラエチル−ビシクロ[2,2,2]オクト
−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物、5,6−ジ
エチル−ビシクロ[2,2,2]オクト−5−エン−
2,3−ジカルボン酸無水物、5,6,7,7,8,8
−ヘキサエチル−ビシクロ[2,2,2]オクト−5−
エン−2,3−ジカルボン酸無水物、7,8−ジシクロ
ヘキシル−ビシクロ[2,2,2]オクト−5−エン−
2,3−ジカルボン酸無水物、7,8−ジフェニル−ビ
シクロ[2,2,2]オクト−5−エン−2,3−ジカ
ルボン酸無水物、5,6−ジフルオロ−7,8−ジフェ
ニル−ビシクロ[2,2,2]オクト−5−エン−2,
3−ジカルボン酸無水物、5,6−ジメチル−7,8−
ジフェニル−ビシクロ[2,2,2]オクト−5−エン
−2,3−ジカルボン酸無水物、5,6−ビス(トリフ
ルオロメチル)−7,8−ジフェニル−ビシクロ[2,
2,2]オクト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水
物、等を挙げることができるがこれに限定されない。用
いる不飽和基含有脂環式酸無水物としては、酸無水物部
の立体配置がexo−体であることが、endo−体で
あることより、不飽和基含有脂環式酸無水物の重合反応
性が高いという点で好ましい。
【0011】前記不飽和基含有脂環式酸無水物のビニル
付加重合反応は、金属触媒を用いて行われる。反応温度
は、0〜250℃が好ましく、より好ましくは20℃〜
150℃である。反応圧力は特に限定されず、通常、常
圧で実施することができる。また、反応時間は、好まし
くは0.5〜120時間であり、より好ましくは0.5
〜48時間である。
【0012】重合溶媒の好ましい具体例としては、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ヘプタ
ノン等のケトン類、1,2−ジクロロエタン、クロロホ
ルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、1,
2−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン
等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N
−メチル−2−ピロリドン、スルホラン等の非プロトン
性極性溶媒等を挙げることができる。また、これらの重
合溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用するこ
とができる。
【0013】本発明で好ましく用いられる金属触媒は、
通常、第4属あるいは第10属遷移金属触媒であり、そ
の具体例としては、Cp2ZrCl2/メチルアルミノキノサン
(MAO)、Cp2ZrCl2/メチルイソブチルアルミノキサン、P
dCl3/MAO、Ni(acac)2/MAO、Ni(acac)2/EtAlCl2、Ni(aca
c)2・2H2O/EtAlCl2、Ni(acac)2/TiCl4、Ni(acac)2/BF3・E
t2O、NiCl2(PPh3)2/AlCl3、Pd(acac)2/EtAlCl2、PdCl
2(C6H5CN)2/EtAlCl2、PdCl2(C6H5CN)2/TiCl4、PdCl2(C6
H5CN)2/BF3・Et2Oの組み合わせた触媒系、[(η3-allyl)P
dX](X=BF4,SbF6,AsF6,PF6,CF3SO3 -)で表されるアリルPd
イオン錯体、CpTiCl3、CpTiCl3のシクロペンタジエニル
基にエーテル基を有するハーフチタノセン、CpTiCl3
シクロペンタジエニル基にエステル基を有するハーフチ
タノセン、等を挙げることができるがこれに限定されな
い。触媒の濃度は、反応原料に対して0.01〜10モ
ル%が好ましく、より好ましくは0.1〜5モル%であ
る。また、反応は触媒の失活を抑えるため、不活性ガス
下で行うのが好ましい。また、本発明の不飽和基含有脂
環式酸無水物は、他のノルボルネン系化合物と共重合し
ても良い。
【0014】このような重合反応により、前記一般式
(1)で表される繰り返し単位を含有するポリ脂環式酸
無水物を得ることができる。
【0015】本発明のポリ脂環式酸無水物の重量平均分
子量は、500〜5000000が好ましく、ポリマー
膜の機械的特性や耐溶剤性、良好な塗布性の点から10
00〜1000000であることがより好ましい。
【0016】本発明で得られるポリ脂環式酸無水物と一
般式(3)で表される芳香族アミン化合物とを反応させ
ることにより、低誘電率層間絶縁材料として有用なポリ
脂環式イミドを得ることができる。
【0017】ポリ脂環式酸無水物と一般式(3)で表さ
れる芳香族アミン化合物との反応は、を有機溶媒中、反
応温度20℃〜200℃、好ましくは50℃〜150℃
で0.5〜24時間反応させることにより行われる。
【0018】
【化4】
【0019】(一般式(3)において、n、o、pは0
〜5の整数を示し、n+o≧1を満たす整数である。X
は直接結合、またはO、S、CH2、CO、SO、SO2
を示す。R7、R8はF、CF3、OCF3、炭素数1〜1
0のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基のいずれ
かを示し、同じでも異なっていてもよい。)また、各式
のR7、R8はF、CF3、OCF3、炭素数1〜10のア
ルキル基、炭素数6〜20のアリール基のいずれかを示
しているが、R7、R8の少なくとも1つはCF3である
ことが、低誘電率化の点よりさらに好ましい。
【0020】
【化5】
【0021】この反応に用いる溶媒の好ましい具体例と
しては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、ヘプタノン等のケトン類、1,2−ジクロロエタ
ン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化
水素類、1,2−ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメ
チルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキサン、1,4
−ジオキサン等のエーテル類、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホキシド、N−メチル−2−ピロリドン、スルホラン等
の非プロトン性極性溶媒、酢酸等のプロトン性極性溶媒
等を挙げることができる。また、これらの有機溶媒は、
単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。
【0022】用いられる芳香族アミン化合物の具体例と
しては、2−トリフルオロメチルアニリン、3−トリフ
ルオロメチルアニリン、4−トリフルオロメチルアニリ
ン、2,3−ビス(トリフルオロメチル)アニリン、
2,4−ビス(トリフルオロメチル)アニリン、2,5
−ビス(トリフルオロメチル)アニリン、2,6−ビス
(トリフルオロメチル)アニリン、3,4−ビス(トリ
フルオロメチル)アニリン、3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)アニリン、2,4,6−トリス(トリフルオ
ロメチル)アニリン、2,3,4,5,6−ペンタキス
(トリフルオロメチル)アニリン、2−フルオロ−3−
トリフルオロアニリン、2−フルオロ−4−トリフルオ
ロアニリン、2−フルオロ−5−トリフルオロアニリ
ン、3−フルオロ−4−トリフルオロアニリン、3−フ
ルオロ−5−トリフルオロアニリン、2−メチル−3−
トリフルオロアニリン、2−メチル−4−トリフルオロ
アニリン、2−メチル−5−トリフルオロアニリン、3
−メチル−4−トリフルオロアニリン、3−メチル−5
−トリフルオロアニリン、2−フェニル−3−トリフル
オロアニリン、2−フェニル−4−トリフルオロアニリ
ン、2−フェニル−5−トリフルオロアニリン、3−フ
ェニル−4−トリフルオロアニリン、3−フェニル−5
−トリフルオロアニリン、2−(3−トリフルオロメチ
ルフェニル)アニリン、3−(3−トリフルオロメチル
フェにる)アニリン、4−(3−トリフルオロメチルフ
ェニル)アニリン、2−[3,4−ビス(トリフルオロ
メチル)フェニル]アニリン、3−[3,4−ビス(トリ
フルオロメチル)フェニル]アニリン、4−[3,4−ビ
ス(トリフルオロメチル)フェニル]アニリン、2−
[2,4−ビス(トリフルオロメチル)フェノキシ]アニ
リン、3−[2,4−ビス(トリフルオロメチル)フェ
ノキシ]アニリン、4−[2,4−ビス(トリフルオロメ
チル)フェノキシ]アニリン、2−[3,4−ビス(トリ
フルオロメチル)フェノキシ]アニリン、3−[3,4−
ビス(トリフルオロメチル)フェノキシ]アニリン、4
−[3,4−ビス(トリフルオロメチル)フェノキシ]ア
ニリン、2−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フ
ェノキシ]アニリン、3−[3,5−ビス(トリフルオロ
メチル)フェノキシ]アニリン、4−[3,5−ビス(ト
リフルオロメチル)フェノキシ]アニリン、2,4−ビ
ス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェノキシ]ア
ニリン、2,3−ビス[3,5−ビス(トリフルオロメ
チル)フェノキシ]アニリン、2,6−ビス[3,5−ビ
ス(トリフルオロメチル)フェノキシ]アニリン、3,
4−ビス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェノ
キシ]アニリン、3,5−ビス[3,5−ビス(トリフル
オロメチル)フェノキシ]アニリン、2,4,6−トリ
ス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェノキシ]ア
ニリン、2−フルオロ−4−[3,5−ビス(トリフル
オロメチル)フェノキシ]アニリン、3−フルオロ−4
−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェノキシ]ア
ニリン、2,5−ジフルオロ−4−[3,5−ビス(ト
リフルオロメチル)フェノキシ]アニリン、2,6−ジ
フルオロ−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)
フェノキシ]アニリン、3,5−ジフルオロ−4−[3,
5−ビス(トリフルオロメチル)フェノキシ]アニリ
ン、2−トリフルオロメチル−4−[3,5−ビス(ト
リフルオロメチル)フェノキシ]アニリン、3−トリフ
ルオロメチル−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェノキシ]アニリン、2,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェノキシ]アニリン、2,6−ビス(トリフルオ
ロメチル)−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェノキシ]アニリン、3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェノキシ]アニリン、2−[3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)ベンジル]アニリン、3−[3,5−ビス
(トリフルオロメチル)ベンジル]アニリン、4−[3,
5−ビス(トリフルオロメチル)ベンジル]アニリン、
2,4−ビス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベ
ンジル]アニリン、2,6−ビス[3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)ベンジル]アニリン、3,5−ビス[3,
5−ビス(トリフルオロメチル)ベンジル]アニリン、
2,4,6−トリス[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)ベンジル]アニリン、2−フルオロ−4−[3,5−
ビス(トリフルオロメチル)ベンジル]アニリン、3−
フルオロ−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)
ベンジル]アニリン、2,5−ジフルオロ−4−[3,5
−ビス(トリフルオロメチル)ベンジル]アニリン、
2,6−ジフルオロ−4−[3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)ベンジル]アニリン、3,5−ジフルオロ−
4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベンジル]ア
ニリン、2−トリフルオロメチル−4−[3,5−ビス
(トリフルオロメチル)ベンジル]アニリン、3−トリ
フルオロメチル−4−[3,5−ビス(トリフルオロメ
チル)ベンジル]アニリン、2,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)ベンジル]アニリン、2,6−ビス(トリフルオロ
メチル)−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)
ベンジル]アニリン、3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベン
ジル]アニリン、2−[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)ベンゾイル]アニリン、3−[3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)ベンゾイル]アニリン、4−[3,5−ビ
ス(トリフルオロメチル)ベンゾイル]アニリン、2,
4−ビス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベンゾ
イル]アニリン、2,6−ビス[3,5−ビス(トリフル
オロメチル)ベンゾイル]アニリン、3,5−ビス[3,
5−ビス(トリフルオロメチル)ベンゾイル]アニリ
ン、2,4,6−トリス[3,5−ビス(トリフルオロ
メチル)ベンゾイル]アニリン、2−フルオロ−4−
[3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベンゾイル]アニ
リン、3−フルオロ−4−[3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)ベンゾイル]アニリン、2,5−ジフルオロ
−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベンゾイ
ル]アニリン、2,6−ジフルオロ−4−[3,5−ビス
(トリフルオロメチル)ベンゾイル]アニリン、3,5
−ジフルオロ−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)ベンゾイル]アニリン、2−トリフルオロメチル−
4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベンゾイル]
アニリン、3−トリフルオロメチル−4−[3,5−ビ
ス(トリフルオロメチル)ベンゾイル]アニリン、2,
5−ビス(トリフルオロメチル)−4−[3,5−ビス
(トリフルオロメチル)ベンゾイル]アニリン、2,6
−ビス(トリフルオロメチル)−4−[3,5−ビス
(トリフルオロメチル)ベンゾイル]アニリン、3,5
−ビス(トリフルオロメチル)−4−[3,5−ビス
(トリフルオロメチル)ベンゾイル]アニリン、2−
[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルチオ]ア
ニリン、3−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フ
ェニルチオ]アニリン、4−[3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)フェニルチオ]アニリン、2,4−ビス[3,
5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルチオ]アニリ
ン、2,6−ビス[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェニルチオ]アニリン、3,5−ビス[3,5−ビ
ス(トリフルオロメチル)フェニルチオ]アニリン、
2,4,6−トリス[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェニルチオ]アニリン、2−フルオロ−4−[3,
5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルチオ]アニリ
ン、3−フルオロ−4−[3,5−ビス(トリフルオロ
メチル)フェニルチオ]アニリン、2,5−ジフルオロ
−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル
チオ]アニリン、2,6−ジフルオロ−4−[3,5−ビ
ス(トリフルオロメチル)フェニルチオ]アニリン、
3,5−ジフルオロ−4−[3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)フェニルチオ]アニリン、2−トリフルオロ
メチル−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フ
ェニルチオ]アニリン、3−トリフルオロメチル−4−
[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルチオ]ア
ニリン、2,5−ビス(トリフルオロメチル)−4−
[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルチオ]ア
ニリン、2,6−ビス(トリフルオロメチル)−4−
[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルチオ]ア
ニリン、3,5−ビス(トリフルオロメチル)−4−
[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルチオ]ア
ニリン、2−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フ
ェニルスルフィニル]アニリン、3−[3,5−ビス(ト
リフルオロメチル)フェニルスルフィニル]アニリン、
4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルス
ルフィニル]アニリン、2,4−ビス[3,5−ビス(ト
リフルオロメチル)フェニルスルフィニル]アニリン、
2,6−ビス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フ
ェニルスルフィニル]アニリン、3,5−ビス[3,5−
ビス(トリフルオロメチル)フェニルスルフィニル]ア
ニリン、2,4,6−トリス[3,5−ビス(トリフル
オロメチル)フェニルスルフィニル]アニリン、2−フ
ルオロ−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フ
ェニルスルフィニル]アニリン、3−フルオロ−4−
[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルスルフ
ィニル]アニリン、2,5−ジフルオロ−4−[3,5−
ビス(トリフルオロメチル)フェニルスルフィニル]ア
ニリン、2,6−ジフルオロ−4−[3,5−ビス(ト
リフルオロメチル)フェニルスルフィニル]アニリン、
3,5−ジフルオロ−4−[3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)フェニルスルフィニル]アニリン、2−トリ
フルオロメチル−4−[3,5−ビス(トリフルオロメ
チル)フェニルスルフィニル]アニリン、3−トリフル
オロメチル−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェニルスルフィニル]アニリン、2,5−ビス
(トリフルオロメチル)−4−[3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)フェニルスルフィニル]アニリン、2,
6−ビス(トリフルオロメチル)−4−[3,5−ビス
(トリフルオロメチル)フェニルスルフィニル]アニリ
ン、3,5−ビス(トリフルオロメチル)−4−[3,
5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルスルフィニ
ル]アニリン、2−[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェニルスルホニル]アニリン、3−[3,5−ビス
(トリフルオロメチル)フェニルスルホニル]アニリ
ン、4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニ
ルスルホニル]アニリン、2,4−ビス[3,5−ビス
(トリフルオロメチル)フェニルスルホニル]アニリ
ン、2,6−ビス[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェニルスルホニル]アニリン、3,5−ビス[3,
5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルスルホニル]
アニリン、2,4,6−トリス[3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)フェニルスルホニル]アニリン、2−フ
ルオロ−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フ
ェニルスルホニル]アニリン、3−フルオロ−4−[3,
5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルスルホニル]
アニリン、2,5−ジフルオロ−4−[3,5−ビス
(トリフルオロメチル)フェニルスルホニル]アニリ
ン、2,6−ジフルオロ−4−[3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)フェニルスルホニル]アニリン、3,5
−ジフルオロ−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェニルスルホニル]アニリン、2−トリフルオロ
メチル−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フ
ェニルスルホニル]アニリン、3−トリフルオロメチル
−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル
スルホニル]アニリン、2,5−ビス(トリフルオロメ
チル)−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フ
ェニルスルホニル]アニリン、2,6−ビス(トリフル
オロメチル)−4−[3,5−ビス(トリフルオロメチ
ル)フェニルスルホニル]アニリン、3,5−ビス(ト
リフルオロメチル)−4−[3,5−ビス(トリフルオ
ロメチル)フェニルスルホニル]アニリン、等を挙げる
ことができる。また、これらの芳香族アミン化合物は、
単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。
【0023】本発明のポリ脂環式酸無水物は、低誘電性
と耐熱性、低屈折性、誘電率の等方性(低複屈折率)に
優れたポリ脂環式イミド組成物製造用の前駆体として有
用である。
【0024】
【実施例】以下本発明をより詳細に説明するために、実
施例および比較例をあげて説明するが、本発明はこれら
の例によって限定されるものではない。
【0025】特性の測定方法 重量平均分子量の測定 ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を
用いて、ポリスチレン換算にて重量平均分子量(Mw)
を測定した。
【0026】膜厚の測定 シリコンウエハー上の製膜した膜に傷を付け、その傷の
深さを測定し、その深さを膜の厚さとした。
【0027】比誘電率の測定 ポリ脂環式イミド膜の1kHzにおける静電容量を横川
・ヒューレット・パッカード(株)製のLCRメーター
4284Aを用いて測定し、下記式により比誘電率
(ε)を求めた。ε=C・d/ε0・S(但し、Cは静
電容量(F)、dは試料膜厚(m)、ε0は真空中の誘
電率、Sは上部電極面積(m2)である。)。
【0028】屈折率の測定 He−Neレーザーの波長(633nm)を用い、プリ
ズムカップラー法で20℃で測定し、膜面に対して平行
方向の屈折率(TE)と垂直方向の屈折率(TM)およ
びそれらの差である複屈折率を求めた。
【0029】赤外吸収スペクトル(IR)測定 不飽和基含有脂環式酸無水物はKBr法で測定し、ポリ
脂環式イミドはシリコンウエハー上に製膜したものをそ
のまま測定した。測定装置はフーリエ変換赤外分校光度
計「FT−720」(堀場製作所(株)製)を用いた。
【0030】核磁気共鳴スペクトル(1H−NMR)の
測定 溶媒DMSOまたはCDCl3に溶解し、270MHz
で測定した。測定装置は超伝導FTNMR「EX−27
0」(日本電子データム(株)製)を用いた。
【0031】ガラス転移温度(Tg)の測定 示差走査熱量計(DSC)により、窒素雰囲気中、昇温
速度20℃/分で測定した。
【0032】重量減少温度(Td1、Td5)の測定 熱天秤を用い、窒素中、昇温速度10℃/分で加熱し
て、1%重量減少および5%重量減少を示した温度を測
定した。
【0033】参考例1 exo−ナジック酸無水物の製
造 exo−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−
2,3−ジカルボン酸無水物(exo−ナジック酸無水
物)の合成 endo−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−
2,3−ジカルボン酸無水物(endo−ナジック酸無
水物)100g(0.61モル)を、窒素下、200℃
で6時間攪拌して熱異性化させた。反応物を120℃ま
で冷却し、トルエン100mlを加えた後、室温まで冷
却すると淡黄色の結晶が析出した。さらに、この結晶を
トルエンで再結晶することにより無色透明の針状結晶を
得た。濾過により、結晶を分離し、減圧下で乾燥し、目
的の化合物を32.83g得た。 1H−NMR(図1)
およびIR(図2)から目的化合物であると同定した。
【0034】融点:143〜144℃ 赤外吸収スペクトル:1860,1778cm-1(以上
C=O)、1218,913cm-1(以上C−O)1 H−NMR:(CDCl3,ppm):6.34(s,
2H,CH=CH),3.45(s,2H,CH),
3.01(s,2H,CH),1.56(d−d,2
H,CH2)。
【0035】参考例2 パラジウム錯体の製造 塩化パラジウム(II)2g(0.011モル)を塩酸
(36%)5mlに加熱しながら溶解し、冷却後エタノ
ール150mlを加えた。この反応液を濾過後、濾液に
2,5−ノルボルナジエン2.31g(0.025モ
ル)を加えたところ、黄色固体が析出した。濾過により
固体を分離し、減圧下で乾燥し、ビシクロ[2,2,
1]ヘプタジエン−パラジウムクロリド3.07gを得
た。
【0036】このビシクロ[2,2,1]ヘプタジエン
−パラジウムクロリド2.62g(0.0097モ
ル)、炭酸ナトリウム0.88g(0.0083モル)
にメタノール35mlを加え、窒素下、室温で2時間撹
拌して反応させた。反応液を濾過により分離し、減圧下
で乾燥したところ、ビシクロ[2,2,1]ヘプタジエ
ン−パラジウムクロリド二量体2.57gを淡黄色の粉
末として得た。
【0037】さらに、このビシクロ[2,2,1]ヘプ
タジエン−パラジウムクロリド二量体をクロロベンゼン
に溶解させた後、1.6等量のテトラフルオロホウ酸銀
を加え、室温で15分撹拌し、目的とするパラジウム錯
体の溶液を得た。この溶液を不飽和基含有脂環式イミド
の重合触媒として用いた。
【0038】実施例1 窒素下、参考例2で得られたパラジウム錯体のクロロベ
ンゼン溶液127mlに,参考例1で得られたexo−
ナジック酸無水物5g(0.030モル)を加え、室温
で36時間反応させた。この反応液を濾過し、固体をヘ
キサンで洗浄した後、減圧下にて乾燥しポリマーを得
た。収量は、2.31gであった。重量平均分子量(M
w)は4000であった。このポリマーの1H−NMR
スペクトル(DMSO−d6,ppm)を図3に赤外吸
収スペクトルを図4に示す。
【0039】また、ガラス転移温度(Tg)及び、重量
減少温度(Td1、Td5)を測定した。Tgは400
℃まで検出されず、Td1=324℃、Td5=393
℃であった。
【0040】赤外吸収スペクトル:1859,1774
cm-1(以上C=O)、1226,917cm-1(以上
C−O)1 H−NMR:(DMSO−d6,ppm):0.55
−3.80(br.m,8H,C−H)。
【0041】実施例2 ポリ脂環式イミドの製造 窒素下、実施例1で得られたポリマー1g(2.4ミリ
モル)をNMP10gに溶解し、3,5−ビス(トリフ
ルオロメチル)アニリン2.7g(11.7ミリモル)
を加え、120℃で7時間反応させた。この反応液を濾
過し、得られた固体をNMP、水、メタノールで洗浄し
た後、減圧下にて乾燥しポリ脂環式イミドを得た。収量
は、1.35gであった。重量平均分子量(Mw)は8
500であった。
【0042】前述のポリ脂環式イミド1gを2−ヘプタ
ノン3gに溶解した。この溶液を住友電気工業(株)製
四弗化エチレン樹脂製フィルター(ポアサイズ2μm)
を用いて濾過した。つぎに、この溶液を6×6cmのA
l基板上およびシリコンウエハー上に回転塗布し、つい
で、ホットプレート(大日本スクリーン(株)製SKW
−636)を用いて、80℃で3分、前乾燥し、さらに
オーブン(光洋リンドバーグ(株)製イナートオーブ
ン)を用いて、140℃で0.5時間、250℃で1時
間乾燥することにより、透明な膜を得た。その後、Al
基板上に形成したこのポリマー膜上にマスクをしてAl
を真空蒸着し、上部電極を形成して比誘電率(ε)測定
試料とした。その試料の誘電率を測定した結果、ε=
2.31であり低い値であった。
【0043】次に、ガラス上に形成したポリマー膜を用
いて、屈折率を測定した。その結果、屈折率は、TE=
1.4857、TM=1.4810、複屈折率は0.0
047であり、屈折率、複屈折率ともに小さな値となっ
た。
【0044】また、ガラス転移温度は400℃まで検出
されず、1%重量減少温度は420℃、5%重量減少温
度は468℃であった。
【0045】赤外吸収スペクトル:3105,307
3,2974,2897cm-1(以上CH)、1716
cm-1(以上C=O(イミド))1 H−NMR:(CDCl3,ppm):1.25−3.
90(br.m,8H,C−H),7.60−8.30
(br.s,3H,Ar−H)
【0046】
【発明の効果】本発明のポリ脂環式酸無水物組成物は、
低誘電性と耐熱性、低屈折性、誘電率の等方性(低複屈
折率)に優れたポリ脂環式イミド組成物製造用の前駆体
として有用である。
【図面の簡単な説明】
【図1】参考例1で合成したexo−ナジック酸無水物
1H−NMRスペクトル
【図2】参考例1で合成したexo−ナジック酸無水物
のIRスペクトル
【図3】実施例1で合成したポリマーの1H−NMRス
ペクトル
【図4】実施例1で合成したポリマーのIRスペクトル

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(1)で表されることを特徴とする
    ポリ脂環式酸無水物組成物。 【化1】 (一般式(1)において、lは1〜2、mは3〜300
    00の整数を示す。R1〜R4はH、F、CF3、炭素数
    1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基の
    いずれかを示し、同じでも異なっていてもよい。R5
    6はH、または炭素数1〜10のアルキル基を示
    す。)
  2. 【請求項2】一般式(1)で表される重量平均分子量が
    1000〜1000000であることを特徴とする請求
    項1記載のポリ脂環式酸無水物組成物。
  3. 【請求項3】一般式(1)で表される化合物と芳香族ア
    ミン化合物とを反応させることを特徴とするポリ脂環式
    イミド組成物の製造方法。
JP2000213865A 2000-07-14 2000-07-14 ポリ脂環式酸無水物 Withdrawn JP2002030115A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7700802B2 (en) 2003-09-03 2010-04-20 Hitachi Chemical Co., Ltd. Method of separating stereoisomers of dicarboxylic acid having norbornene or norbornane structure, or derivative thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7700802B2 (en) 2003-09-03 2010-04-20 Hitachi Chemical Co., Ltd. Method of separating stereoisomers of dicarboxylic acid having norbornene or norbornane structure, or derivative thereof

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