JP2002030017A - 光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類の製造法 - Google Patents
光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類の製造法Info
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Abstract
2−二置換−2,3−エポキシプロパン類の合成中間体
として有用な化合物の製造法を提供する。 【解決手段】下記一般式 【化1】 (式中、Aは2−置換インダン−1,3−ジオン−2−
イル基又はハロアルキル基を示す。)で示される1,2
−二置換−2,3−エポキシプロパン類(a)無機酸の
存在下加水分解する、又は(b)カルボン酸の存在下開
環させ、次いで加溶媒分解することを特徴とする下記一
般式 【化2】 (式中、A及びBは上記と同じ意味を有す。)で示され
る光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロ
バン類の製造法。
Description
として有用な、光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒ
ドロキシプロパン類の製造法に関する。
活性を有する化合物として、1,2−二置換−2,3−
ジヒドロキシプロパン類或いはその誘導体である1,2
−二置換−2,3−エポキシプロパン類が記載されてい
る。又、1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパ
ン類の製法として、対応するオレフィン誘導体を酸化す
る方法が示されている。しかして、上記公報に記載され
ている1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン
類或いはその誘導体は何れもラセミ化合物であって、光
学異性体に関しては具体的に開示されていないし、製法
に関する記載もない。
報に記載されたある種の置換基を有する1,2−二置換
−2,3−エポキシプロパン類の光学異性体が、優れた
除草活性を有し、低薬量で高活性の除草剤であることを
見出した。そして本発明の目的は、かかる優れた除草剤
を工業的に製造するための合成中間体として有用な、光
学活性1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン
類の製造法を提供することにある。
を重ねた結果、目的とする光学異性体の対掌体である光
学活性1,2−二置換−2,3−エポキシプロパン類を
酸により加水分解するか或いは開環・加溶媒分解するこ
とにより、光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒドロ
キシプロパン類を製造し得ることを見い出した。すなわ
ち本発明は下記一般式(1)
ル基、アルケニル基を示し、Qはハロゲン原子、炭素数
1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のハロアルキル基、
炭素数1〜2のアルコキシル基、ニトロ基あるいはシア
ノ基を示す。nは0〜4の整数を示す。)で表される
基、又は下記一般式(3)
ゲン原子又は水素原子を示し、pは0〜2を示す。)で
表される基を示し、Bは置換されていてもよいベンゼン
環を示す。}で表される光学活性1,2−二置換−2,
3−エポキシプロパン類を、(a)無機酸の存在下加水
分解する、又は(b)カルボン酸の存在下開環させ、次
いで加溶媒分解することを特徴とする下記一般式(4)
と同じ意義を有す。)で表される光学活性1,2−二置
換−2,3−ジヒドロキシプロパン類の製造法に存す
る。
本発明の目的とする一般式(4)の光学活性1,2−二
置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類、或いは本発明
の出発物質である一般式(1)の光学活性1,2−二置
換−2,3−エポキシプロパン類において、Aは一般式
(2)又は(3)で示される基である。一般式(2)に
おいて、R1 は水素原子、メチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基等の低級アル
キル基、ビニル基、アリル基等の低級アルケニル基、エ
チニル基、プロパルギル基等の低級アルキニル基を示
す。なお、この場合「低級」とは、炭素数4以下を意味
する。Qは塩素原子、臭素原子、フッ素原子等のハロゲ
ン原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プ
ロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基、クロロメチル
基、ジクロロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオ
ロエチル基等の炭素数1〜3のハロアルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基、ニトロ基或いはシアノ基を示し、n
は0〜4の整数を示す。一般式(3)において、X1 、
X2 は水素原子又は塩素原子、臭素原子、フッ素原子等
のハロゲン原子を示し、pは0〜2の整数を示す。一般
式(1)におけるBは、置換基を有していてもよいよい
フェニル基、ピリジル基等のアリール基であって、置換
基としては塩素原子、臭素原子、フッ素原子等のハロゲ
ン原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プ
ロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基、クロロメチル
基、ジクロロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオ
ロエチル基等の炭素数1〜3のハロアルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基、クロロメトキシ基、フルオロエトキ
シ基等もよいハロアルコキシル基、ニトロ基、シアノ基
等が挙げられる。。
アルキル基が好ましく、中でもエチル基が好ましい。ま
た、nは0が好ましい。一般式(3)において、X1 、
X2としては塩素原子あるいはフッ素原子が好ましく、
中でも塩素原子が好ましく、更にpとしては0が好まし
い。Bとしては電子吸引性基によって置換されていても
よいベンゼン環が好ましく、電子吸引性基としては塩素
原子が好ましく、中でも3- クロロフェニル基、3,5
ージクロロフェニル基が好ましい。本発明の(a)反応
は、光学活性1,2−二置換−2,3−エポキシプロパ
ン類(1)に、水及び無機酸を加え、エポキシ基を加水
分解することにより行われる。反応終了後、適宜有機溶
媒で抽出した後、結晶化、蒸留、あるいはカラムクロマ
トグラフィー等により精製すれば立体構造が反転した高
純度の光学活性1、2−二置換−2,3−ジヒドロキシ
プロパン類(4)が得られる。結晶化により光学活性
1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類
(4)を精製する場合には、ヘキサン、ヘプタン等の脂
肪族炭化水素系溶媒あるいはベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒の単一
あるいは混合溶媒を用いると、得られる光学活性1,2
−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類の光学純度
が高く好ましい。
酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、リン酸、
過塩素酸、塩素酸、亜塩素酸、次亜塩素酸、ホウ酸等が
挙げられる。中でも、硫酸を用いると、安価かつ得られ
る光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロ
パン類(4)の光学純度及び収率が共に高く好ましい。
酸の使用量としては、光学活性1,2−二置換−2,3
−エポキシプロパン類(1)に対し、0. 01〜100
当量、好ましくは0. 1〜10当量用いられる。水の使
用量は光学活性1,2−二置換−2,3−エポキシプロ
パン類(1)の当量(等モル)以上用いられるが、好ま
しくは1〜10当量、更に好ましくは1〜5当量用いる
と、光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプ
ロパン類(4)の光学純度及び収率が共に高く好まし
い。特に硫酸を用いる場合、水を一般式(1)の化合物
に対し3〜6当量用いることが好ましい。水の量が上記
範囲外では生成物の光学純度が低下する。また、水と硫
酸を予じめ混合した硫酸水を添加すると、水と硫酸を別
々に添加した場合より生成物の光学純度が高く、好まし
い。
ことが好ましい。本反応に用いられる溶媒としては、特
に制限されないが、例えばジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエ
ーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエ
ーテル等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の脂
肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケト
ン系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン
化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル、ブチロニトリル等のニトリル系溶媒、ジメチルホル
ムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、酢
酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル等のエステ
ル系溶媒、t- ブチルアルコール、t- アミルアルコー
ル等のアルコール溶媒、ジメチルスルホキシド等が挙げ
られ、これらは単一でも混合溶媒として使用しても良
い。中でもエーテル系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系
溶媒が好ましく、特にエチレングリコールエーテル類あ
るいは6員環エーテル類が好ましい。
−ジヒドロキシプロパン類(4)の光学純度あるいは収
率が高いことから、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、エ
ステル系溶媒、アミド系溶媒を用いることが好ましい。
更に好ましくはエーテル系溶媒、ケトン系溶媒、エステ
ル系溶媒であり、これらを用いると光学活性1,2−二
置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類の光学純度及び
収率が共に高くなる。中でもエチレングリコールエーテ
ル類あるいは6員環エーテル類が好ましく、特にジエチ
レングリコールジエチルエーテルが好ましい。溶媒の使
用量は光学活性1、2−二置換−2、3−エポキシプロ
パン類に対し、重量で0〜100倍量、好ましくは1〜
20倍量用いられる。反応温度は−50〜100℃、好
ましくは−20〜70℃の範囲であり、反応時間は通常
48時間以内である。この方法は、一段で目的化合物が
得られ、光学的収率が良いという利点を有す。
二置換−2,3−エポキシプロパン類を、カルボン酸の
存在下開環させ、次いで加溶媒分解することによって行
われる。反応に用いられるカルボン酸としては、特に制
限されないが、ギ酸、酢酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ
酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン
酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸等が挙げられ、好ましく
はギ酸である。ギ酸を用いると安価かつ得られる光学活
性1,2- 二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類
(4)の光学純度及び収率が共に高く好ましい。酸の使
用量としては、光学活性1,2−二置換−2,3−エポ
キシプロパン類(1)の当量以上用いられるが、好まし
くは1〜10当量用いると、光学活性1,2−二置換−
2,3−ジヒドロキシプロパン類(4)の光学純度及び
収率が共に高く好ましい。本反応は適宜カルボン酸以外
の酸の共存下に実施することもできる。併用される酸と
しては、硫酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝
酸、リン酸、過塩素酸、塩素酸、亜塩素酸、次亜塩素
酸、ホウ酸等の無機酸や、メタンスルホン酸、トリフル
オロメタンスルホン酸、p- トルエンスルホン酸等の有
機酸、ボロントリフルオリド、四塩化チタン、四塩化ス
ズ、塩化アルミニウム、塩化鉄、五フッ化アンチモン、
イッテルビウムトリフラート等のルイス酸が挙げられ
る。酸の使用量としては、光学活性1,2- 二置換−
2,3−エポキシプロパン類(1)に対し、0〜100
当量、好ましくは0〜10当量用いられる。
こともできる。本反応に用いられる溶媒としては、特に
制限されないが、例えば上記(a)の反応で例示された
溶媒を用いることができ、これらは単一でも混合溶媒で
も良い。また、適宜水の存在下反応を行っても良い。好
ましくはベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼ
ン等の芳香族炭化水素系溶媒であり、特に、クロロベン
ゼンを用いると光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒ
ドロキシプロパン類(4)の光学純度あるいは収率が高
く、更に反応の後処理が簡便であり好ましい。溶媒の使
用量は光学活性1,2−二置換−2,3−エポキシプロ
パン類(1)に対し、重量で0〜100倍量、好ましく
は1〜20倍量用いられる。
−エポキシプロパン類(1)を、カルボン酸の存在下開
環させ、次いで得られたカルボン酸エステルを加溶媒分
解することによって行われるが、加溶媒分解の溶媒とし
ては水あるいはメタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール等のプロトン性溶媒が使用される。反応
は酸性あるいは塩基性のいずれでも良いが、反応速度及
び反応収率が高いことから塩基性で実施することが好ま
しい。酸性で実施する場合には、特に制限されないが、
硫酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、リン
酸、過塩素酸、塩素酸、亜塩素酸、次亜塩素酸、ホウ酸
等の無機酸や、メタンスルホン酸、p- トルエンスルホ
ン酸、ギ酸等の有機酸が用いられ、好ましくは安価な硫
酸が用いられる。酸の使用量は光学活性1,2−二置換
−2,3−エポキシプロパン類(1)の0. 01〜10
当量用いられる。反応温度は−50〜100℃、好まし
くは−20〜70℃の範囲であり、反応時間は通常48
時間以内である。
ないが、トリエチルアミン、N,N-ジメチルアニリン等の
アミン類、ピリジン、ピコリン、ルチジン等のピリジン
類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の
金属アルコキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基等が用
いられ、好ましくは安価な金属アルコキシドあるいは無
機塩基等が用いられる。塩基の使用量は過剰のカルボン
酸を中和した後、反応に用いられた光学活性1、2−二
置換−2,3−エポキシプロパン類(1)の当量以上用
いられ、好ましくは1〜5当量用いられる。反応温度は
−50〜150℃、好ましくは−20〜100℃の範囲
であり、反応時間は通常48時間以内である。反応
(b)の方法は、二段反応であり、反応(a)の方法に
比し、光学収率が低い傾向があるが、反応に溶媒を用い
る場合、必ずしも親水性溶媒である必要がないので、一
般式(1)の化合物の製造に疎水性溶媒を用いた場合も
引き続き同じ溶媒系で反応を行えるという利点を有す
る。
で示される光学活性1,2−二置換−2,3−エポキシ
プロパン類は、新規化合物であって、例えば下記に示す
経路に従って合成することができる。
る定義と同一の意義を有す。R2 は炭素数20以下のア
ルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基
を示す。R4 は置換基を有していてもよい炭素数10以
下のアルキル基又はアリール基を示す。) 以下、各反応につき説明する。 一般式(5)で表される1,2−二置換−2,3−
ジヒドロキシプロパン類を、立体選択的エステル交換能
を有する酵素の存在下、下記一般式(10)
て、置換基を有していても良い炭素数20以下のアルキ
ル基、アルケニル基、アラルキル基又はアリール基を示
し、R 2 とR3 は互いに結合して環を形成していても良
い。mは1〜3を示す。)で表されるカルボン酸エステ
ル又は酸無水物の存在下に反応させることにより、一般
式(6)で示される光学活性1,2−二置換−2,3−
ジヒドロキシプロパン類及びその対掌体の立体構造を有
する一般式(7)の光学活性1,2−二置換−2−ヒド
ロキシ−3−アシロキシプロパン類が得られる。この反
応の出発物質である一般式(5)で表されるラセミ体の
1,2−二置換−2、3−ジヒドロキシプロパン類は、
特開平2−304043号公報に示されるように対応す
るオレフィン誘導体を酸化するか、あるいはラセミ体の
1,2-二置換−2,3−エポキシプロパン類を光学活
性1,2−二置換−2,3−エポキシプロパン類と同様
な条件で開環させることにより製造することができる。
般式(5)の化合物に対する立体選択的エステル交換能
を有する酵素であればいずれも用いることができるが、
好ましくはPenicillium 属、Pseudomonas 属、Alcalige
nes 属、Rhizopus属、あるいはAspergilus属に属する微
生物由来のリパーゼ等が挙げられ、さらに好ましくはPs
eudomonas 属に属する微生物由来のリパーゼ等が挙げら
る。また、これらの酵素は生酵素のままでも良いし、ア
セトン処理、凍結乾燥等の処理を施したものでも良く、
これらの酵素は担体に固定化して用いることもできる。
またこれらの酵素は、遺伝子組換えにより適当な発現系
により得られたものを使っても構わない。Pseudomonas
属に属する微生物由来のリパーゼ等としては、具体的に
Lipase AK (Pseudomonas 属、天野製薬(株)製)、Li
pase AKG(Pseudomonas 属、天野製薬(株)製)、Toyo
zyme LIP(Pseudomonas 属、東洋紡(株)製)等が挙げ
られる。
いて、R2 、R3 における炭素数20以下のアルキル基
としては、メチル基、エチル基、n- プロピル基、n-
ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプ
チル基、n−ウンデシル基、n−トリデシル基、n−ペ
ンタデシル基、n−ヘプタデシル基、t−ブチル基、2
−エチルペンチル基等が挙げられ、アルケニル基として
は、ビニル基、イソプロペニル基、2−ペンテニル基、
8−ヘプタデセニル基等が挙げられ、アリール基として
は、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、これらは更
に塩素原子、臭素原子、フッ素原子等のハロゲン原子、
ヒドロキシ基等の置換基を有していても良い。mは1〜
3、即ち モノカルボン酸エステル、ジカルボン酸エス
テル、又はグリセライド等のいずれでもよい。カルボン
酸エステルの代わりにこれらのエステルを形成するカル
ボン酸無水物を使用することもできる。具体的には酢酸
ビニル、クロロ酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸
ビニル、カプロン酸ビニル、カプリル酸ビニル、カプリ
ン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、
パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、ピバリン酸
ビニル、2- エチルヘキサン酸ビニル、メタクリル酸ビ
ニル、酢酸メチル、プロピオン酸メチル、酪酸メチル、
カプロン酸メチル、カプリル酸メチル、カプリン酸メチ
ル、ラウリン酸メチル、ミリスチン酸メチル、パルミチ
ン酸メチル、ステアリン酸メチル、ピバリン酸メチル、
2- エチルヘキサン酸メチル、メタクリル酸メチル、酢
酸イソプロペニル等が挙げられる。酸無水物としては、
無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、
無水カプロン酸、無水カプリン酸、無水カプリル酸、無
水ラウリン酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水安
息香酸等が挙げられる。中でも好ましくはビニルエステ
ルが安価で立体選択性が高くまた反応速度が速いので好
ましい。これらの使用量は、1,2−二置換−2,3−
ジヒドロキシプロパン類(5)に対し0. 5当量以上用
いられる。
3−ジヒドロキシプロパン類(5)及びカルボン酸エス
テル又はカルボン酸無水物を溶解した有機溶媒中に酵素
を懸濁させ、撹拌あるいは振盪することにより行われ
る。反応終了後、酵素を濾別、或いは遠心分離により除
去し濾液を分取することにより製造することができる。
本反応に用いられる溶媒としては、特に制限されない
が、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタ
ン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、酢酸メチ
ル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶
媒、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン系溶
媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリ
ル等のニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、N−メチルピロリドン等が用いられる。中
でも、この酵素反応に使用されるカルボン酸エステルを
溶媒として反応を行うと反応速度が速く好ましい。溶媒
の使用量は1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロ
パン類に対し、重量で0〜20倍量用いられる。本反応
は0〜100℃、好ましくは10〜50℃の範囲で5時
間〜数日間反応させることにより実施される。
及び(7)の化合物の混合物から、化合物(6)を単離
し、或いは単離することなく、塩基の存在下、スルホン
酸誘導体と反応させて一般式(8)の化合物を合成す
る。スルホン酸誘導体としては、下記一般式(11)又
は一般式(12)
炭素数10以下のアルキル基又はアリール基を示し、Y
はハロゲン原子を示す。)で表されるスルホン酸誘導体
が挙げられる。一般式(11)または(12)のスルホ
ン酸誘導体としては、特に制限されないが、好ましくは
メタンスルホニルクロリド、p- トルエンスルホニルク
ロリド、メタンスルホン酸無水物、又はp−トルエンス
ルホン酸無水物が用いられ、更に好ましくは安価なメタ
ンスルホニルクロリドあるいはp- トルエンスルホニル
クロリドが用いられる。スルホン酸誘導体の使用量は光
学活性1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン
類の当量以上用いられ、好ましくは1. 0〜1.5当量
用いられる。使用される塩基としては任意のものが使用
出来、例えば、トリエチルアミン、N,N-ジメチルアニリ
ン等のアミン類、ピリジン、ピコリン、ルチジン等のピ
リジン類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド等の金属アルコキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基等
が挙げられ、好ましくはアミン類あるいはピリジン類が
用いられる。塩基の使用量は光学活性1,2−二置換−
2,3−ジヒドロキシプロパン類の当量以上用いられ、
好ましくは1〜2当量用いられる。
できる。使用される溶媒は特に限定されないが、トルエ
ン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素、ジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロ
フラン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエ
ステル類、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン
系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニ
トリル、ブチロニトリル等のニトリル類、ジメチルホル
ムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、水等の極性溶媒等が挙げられ、これらは単一でも混
合溶媒でも良い。また、塩基としてアミン類又はピリジ
ン類を使用する場合には、これらを溶媒として反応を行
うこともできる。溶媒の使用量は光学活性1,2−二置
換−2,3−ジヒドロキシプロパン類に対し、重量で0
〜10倍量用いられる。反応温度は−50〜100℃、
好ましくは−20〜50℃の範囲であり、反応時間は通
常30時間以内である。上記反応の際、一般式(7)の
化合物が共存しても、実質的にスルホン酸誘導体と反応
すること無く、そのまま、又場合によりその一部は加水
分解されて一般式(4)の化合物となって反応生成物中
に共存する。
(8)のスルホン酸エステルを単離し或いは単離するこ
となく、塩基を作用させることにより目的とする一般式
(1)の化合物が得られる。用いられる塩基としては、
特に限定されないが、トリエチルアミン、N,N ー ジメチ
ルアニリン等のアミン類、ピリジン、ピコリン、ルチジ
ン等のピリジン類、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド等の金属アルコキシド、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無
機塩基等が用いられ、好ましくは金属アルコキシドある
いは無機塩基等が用いられる。塩基の使用量は光学活性
スルホン酸エステル類の当量以上用いられ、好ましくは
1. 0〜1. 5当量用いられる。反応温度は- 50〜1
00℃、好ましくは0〜70℃の範囲であり、反応時間
は通常30時間以内である。
が共存する場合は、塩基の作用により加水分解されて、
一般式(4)の化合物となり、或いは一部は未反応のま
ま反応生成物中に共存する。これらの共存物は、一般式
(1)の化合物を、本発明方法に従って、酸を用いて
(a)加水分解或いは(b)開環・加溶媒分解を行う
際、同様に加水分解或いは加溶媒分解されて何れも一般
式(4)の化合物に変換する。従って、一般式(5)の
化合物を出発物質として目的とする一般式(4)の化合
物を製造する一連の工程に於て、各工程で生成物の分離
・精製をすることなく、全工程を同一の反応器内で実施
することが可能である。又一般式(1)の化合物は、下
記(II)の経路によっても製造することができる。
義と同一の意義を有す。Rは置換基を有していても良い
炭素数20以下のアルキル基、アルケニル基、アラルキ
ル基又はアリール基を表す。R5 は水素原子又は置換さ
れていても良い炭素数20以下のアルキル基又はアルケ
ニル基を表す。) 1,2- 二置換−2−ヒドロキシ−3−アシロキシプ
ロパン類(9)を、立体選択的加溶媒分解能を有する酵
素の存在下、下記一般式(13)
ても良い炭素数20以下のアルモル基又はアルケニル基
を表す。)で表される水又はアルコールと反応させるこ
とによって一般式(6)の化合物及び一般式(7)の化
合物を得、それ以降は反応経路ー(I)の、の反応
に従って一般式(1)の化合物を製造することが出来
る。反応に使用される一般式(9)で表されるラセミ体
の1,2−二置換−2−ヒドロキシ−3−アシロキシプ
ロパン類は、ラセミ体の1,2−二置換−2,3−ジヒ
ドロキシプロパン類(5)を定法に従って、カルボン酸
ハライド或いはカルボン酸無水物と反応させることによ
り得ることができる。
ロキシ−3−アシロキシプロパン類において、Rとして
は一般式(10)のR2 と同様の基が挙げられるが、R
としては、n- プロピル基、i-プロピル基、あるいはn
- ペンチル基が反応速度及び立体選択性が高く好まし
い。反応に用いられる酵素としては、1,2−二置換
−2−ヒドロキシ−3−アシロキシプロパン類(9)に
対する立体選択的加溶媒分解能を有する酵素であればい
ずれも用いることができるが、好ましくはPenicillium
属、Pseudomonas 属、Alcaligenes 属、Rhizopus属、あ
るいはAspergilus属に属する微生物由来のリパーゼ等が
挙げられ、さらに好ましくはPenicillium 属に属する微
生物由来のリパーゼ等が挙げらる。また、これらの酵素
は生酵素のままでも良いし、アセトン処理、凍結乾燥等
の処理を施したものでも良く、これらの酵素は担体に固
定化して用いることもできる。またこれらの酵素は、遺
伝子組換えにより適当な発現系により得られたものを使
っても構わない。Penicillium 属、Pseudomonas属、Alc
aligenes 属、Rhizopus属、あるいはAspergilus属に属
する微生物由来のリパーゼ等としては、具体的にLipase
R(Penicillium 属、天野製薬(株)製)、Lipase AK
(Pseudomonas 属、天野製薬(株)製)、Lipase AKG
(Pseud omonas属、天野製薬(株)製)、Toyozyme LIP
(Pseudomonas 属、東洋紡(株)製)、Lipase QL (Al
caligenes 属、名糖産業(株)製)、Lipase PL (Alka
ligenes 属、名糖産業(株)製)LipaseD(Rhizopus
属、天野製薬(株)製)、Lipase AP6(Aspergillus
属、Fluka 製)等が挙げられる。
素数20以下のアルキル基としては、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、
n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−ウンデシル基、
n−トリデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘプタデ
シル基、t−ブチル基、2−エチルペンチル基等が挙げ
られる。R5 としては、好ましくは、水素原子、メチル
基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基が挙げら
れる。更に好ましくはR5 が水素原子、すなわち一般式
(13)の化合物として水を用いると、安価かつ反応速
度及び立体選択性が高く好ましい。これらの使用量は、
ラセミ体の1,2−二置換−2−ヒドロキシ−3−アシ
ロキシプロパン類(9)に対し0. 5当量以上用いられ
る。
置換−2−ヒドロキシ−3−アシロキシプロパン類
(9)及び一般式(13)の水又はアルコールを溶解又
は懸濁した溶液又は混合物中に酵素を加え、撹拌あるい
は振盪することにより行われる。反応終了後、酵素を濾
別、遠心分離、又は水を加え分液操作により除去し濾液
又は有機層を分取することにより製造することができ
る。本反応は適宜有機溶媒の共存下に実施することもで
きる。特に、一般式(13)の化合物として水を用いた
場合には、有機溶媒の共存下に実施すると1、2−二置
換-2- ヒドロキシ-3- アシロキシプロパン類(9)を効
果的に反応系中に分散させることができ、操作性及び反
応性を向上させることができるため好ましい。本反応に
用いられる溶媒としては、特に限定されないが、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ヘキサ
ン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒、
クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、ア
セトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等の
ニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、N-メチルピロリドン等が用いられる。中でも、非
水溶性有機溶媒が1、2−二置換-2- ヒドロキシ-3- ア
シロキシプロパン類を効果的に反応系中に分散させるこ
とができ好ましく、更に非水溶性のエーテル系溶媒、芳
香族炭化水素系溶媒、ケトン溶媒、ハロゲン系溶媒を用
いると反応速度が速く好ましい。溶媒の使用量は1、2
−二置換−2、3−ジヒドロキシプロパン類に対し、重
量で0〜10倍量、好ましくは0〜5倍量用いられる。
本反応は0〜100℃、好ましくは10〜50℃の範囲
で5時間〜数日間反応させることにより実施される。
を用いた場合には、酵素の種類により、最適なpHを維
持しながら反応を行うことが好ましく、通常pH6〜1
0の範囲、好ましくは7〜8の範囲に維持するのがよ
い。pHを維持する方法としては、1,2−二置換−2
−ヒドロキシ−3−アシロキシプロパン類から生成する
カルボン酸を塩基を加えて中和しながら反応を行うか、
適当な緩衝溶液を使用するのがよい。使用される塩基と
しては任意のものが使用出来、例えば、トリエチルアミ
ン、N,N-ジメチルアニリン等のアミン類、ピリジン、ピ
コリン、ルチジン等のピリジン類、ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム等の無機塩基等が挙げられ、好ましくは安価な
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭
酸ナトリウム等の無機塩基が用いられる。
(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)の化
合物は、Aが一般式(2)のインダンジオン構造を有す
る基である場合、反応に使用する溶媒によっては、その
溶媒中で、不斉炭素原子に結合する水酸基とインダンジ
オンのカルボニル基とが結合し、下記に示すヘミケター
ルとなった環構造化合物との平衡混合物となる場合があ
る。上記、一般式(4)、(5)、(6)、(7)、
(8)、(9)は、この様な環構造化合物の存在をも包
含するものである。
−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類(4)は新
規な化合物であり、光学活性を有する生理活性物質の合
成中間体として有用な化合物である。例えば一般式
(4)の化合物である後記表ー2の化合物No.(ー)ー1から
下記に示す様に、特願平10−285042記載の新規
な除草剤である(−)2−[−(3−クロロフェニル)
−2,3−エポキシプロピル]−2−エチルインダン−
1,3−ジオンを合成することができる。
説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。実施例において化合
物No. で表示される化合物の構造を表1〜3に示す。以
下の実施例記載の反応は、高速液体クロマトグラフィー
(カラム:InertsilODS 2、溶出溶剤メタノール:水
(70:30)、流速0. 6ml/min、検出220nm)に
より分析した。また、実施例記載の化合物の光学純度
は、高速液体クロマトグラフィー(カラム:ダイセル化
学工業(株)製、Chiralcel-OJ、溶出溶剤n−ヘキサ
ン:イソプロパノール(85:15〜90:10)ある
いはn−ヘキサン:エタノール:メタノール(91:
3:6)、流速1. 0ml/min、検出220nm)により決
定した。
ium roqueforti、天野製薬株式会社製)5.00g、酢
酸ビニル50mlを仕込み、室温で5日間撹拌した。反
応終了後、酵素を濾別し、濾液を減圧下濃縮した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢
酸エチル =4:1〜2:1)にて分取して、化合物 No.
(-)-1 (2.55 g、収率51% 、光学純度78%ee 、白色固
体)及び化合物 No.(+)-2 (2.73 g、収率49% 、光学純
度81%ee 、黄色液体)を得た。得られた化合物 No.(+)-
2 (光学純度81%ee )840mgに、室温で水酸化ナト
リウム90mgとメタノール10mlからなる溶液を滴
下した。そのまま1時間撹拌し反応を完結させた後、メ
タノールを減圧下留去した。脱塩水を加え酢酸エチルで
抽出し有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾別し、濾液を減圧下
濃縮したところ、化合物 No.(+)-1 (690 mg、収率92%
、光学純度81%ee 、白色固体)が得られた。得られた
化合物 No.(+)-1 (光学純度81%ee )670mgに、Li
pase R(Penicillium roqueforti、天野製薬株式会社
製)670mg、酢酸ビニル7.0mlを仕込み、室温
で2日間撹拌した。反応終了後、酵素を濾別し、濾液を
減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ヘキサン:酢酸エチル =4:1〜2:1)にて
分取して、化合物 No.(+)-2 (324 mg、収率43% 、光学
純度>99%ee、黄色液体)及び化合物 No.(+)-1 (382 m
g、収率57% 、光学純度68%ee 、白色固体)を得た。こ
の化合物の分析値は次の通りであった。
0.81 (0.9H, t, J =7.5 Hz), 0.83 (1.2H, t, J = 7.5
Hz), 1.59-1.98 (4H, m), 1.78 (0.9H,s),2.02 (0.9H,
s), 2.12 (1.2H, s), 2.36 (0.3H, d, J = 13.5 Hz),
2.38(0.4H, d, J = 13.5 Hz), 2.56 (0.3H, d, J = 13.
5 Hz), 2.59 (0.3H, d,J=13.5 Hz), 2.88 (0.4H, d, J
= 13.5 Hz), 2.93 (0.6H, s), 3.13 (0.4H,br), 3.14
(0.3H, d, J = 13.5 Hz), 3.74 (0.3H, d, J = 12.0 H
z), 3.91(0.3H, d, J = 12.0 Hz), 3.98 (0.3H, d, J =
11.4 Hz), 4.06 (0.4H, d, J=11.8 Hz), 4.19 (0.3H,
d, J = 11.4 Hz), 4.29 (0.4H, d, J = 11.8 Hz),6 .83
-7.33 (4H, m), 7.45-7.95 (4H, m)
純度>99%ee)252mgに、室温で水酸化ナトリウム9
0mgとメタノール10mlからなる溶液を滴下した。
そのまま1時間撹拌し反応を完結させた後、メタノール
を減圧下留去した。脱塩水を加え、酢酸エチルで抽出
し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。硫酸ナトリウムを濾別し、濾液を減圧下濃
縮して、化合物 No. (+)-1(219 mg、収率97% 、光学純
度>99%ee、白色固体)を得た。化合物 No. (+)-1の分析
値は次の通りであった。 mp; 97.3-98.9℃ [α] D 25;+62.2 (C 0.460, CHCl3) こうして得られた化合物 No. (+)-1(光学純度>99%ee)
168mgをピリジン80mlに溶解し、氷冷下にメタ
ンスルホニルクロリド81mgを滴下した。滴下終了
後、室温で1時間反応させた後、酢酸エチルを加え水、
10%塩酸水、水、飽和食塩水で順次洗浄し、濃縮し
て、化合物 No.(+)-5 (211 mg、収率100%、光学純度>9
9%ee、黄色液体)を得た。
1mgをメタノール5.0mlに溶解し、室温で炭酸カ
リウム95mgを加え、そのまま1時間反応させた。反
応終了後、減圧下で溶媒を留去し、水および酢酸エチル
を加え抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下で留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン:酢酸エチル=4:1)にて精製し、化合物
No.(+)-6 (152 mg、収率95% 、光学純度>99%ee、黄色
液体)を得た。化合物 No. (+)-6の分析値は次の通りで
あった。 [α] D 25;+58.8 (C 0.464, CHCl3)
ール1.0ml溶液に、1 N塩酸1.0mlを加え、5
0℃で2時間攪拌した。反応液を高速液体クロマトグラ
フィーにて分析したところ、化合物 No. (+)-6の転化率
は100%で、化合物 No.(-)-1 (収率56% 、光学純度
45%ee )が生成していた。化合物No.(−)−1の分
析値は以下の通りであった。 mp;98.2-99.0 ℃、[α]D 25 -58.8(C 0.507,CHC
l3) IR(KBr) 3470、3320、1720、1700 cm -1 1 H NMR(CDCl3);d=0.60(0.6H,t.J=7.5Hz),0.84(2.4H,t,J
=7.5Hz),1.69-1.82(1H,m),1.93-2.05(1H,m),2.55(0.2H,
d,J=14.4Hz),2.62(0.2H,d,J=14.4Hz),2.65(0.8H,d,J=1
3.2Hz),2.82(0.8H,d,J=13.2Hz),3.12(1H,br),3.60(2H,
s),5.10(1H,s),6.83-7.70(4H,m),7.44-7.92(4H,m)。
ン1.0ml溶液に、1 N塩酸1.0mlを加え50℃
で2時間攪拌した。反応液を高速液体クロマトグラフィ
ーにて分析したところ、化合物 No.(+)-6 の転化率は1
00%で、化合物 No.(-)-1 (収率82% 、光学純度70%e
e )が生成していた。
ン(1.0 ml)溶液に、10%硫酸水1.0mlを加え5
0℃で2時間攪拌した。反応液を高速液体クロマトグラ
フィーにて分析したところ、化合物 No.(+)-6 の転化率
は100%で、化合物 No.(-)-1 (収率94% 、光学純度
75%ee )が生成していた。
プロピルエーテル1.0ml溶液に、10%硫酸水1.
0mlを加え、50℃で5時間攪拌した。反応液を高速
液体クロマトグラフィーにて分析したところ、化合物 N
o.(+)-6 の転化率は6%で、化合物 No.(-)-1 (収率4
%、光学純度47%ee )が生成していた。
ン1.0ml溶液に、10%硫酸水1.0mlを加え、
50℃で5時間攪拌した。反応液を高速液体クロマトグ
ラフィーにて分析したところ、化合物 No. (+)-6の転化
率は4%で、化合物 No.(-)-1 (収率3%、光学純度79%e
e )が生成していた。実施例2〜6の結果を表−4に示
した。
トン20ml溶液に、10%硫酸水20mlを加え、5
0℃で5時間攪拌した。反応終了後、反応液に炭酸ナト
リウムを加え中和した。酢酸エチルを加え分液し、有機
層を水、飽和食塩水で洗浄した。溶媒を減圧下留去した
後、濃縮物にトルエン5mlとn- ヘキサン25mlを
加え混合物を氷冷した。析出した結晶を濾過した後、乾
燥して化合物 No.(-)-1 (9.1 g 、収率86% 、光学純度
36%ee 、白色固体)を得た。
トン10ml溶液に、10%硫酸水10mlを加え、5
0℃で5時間攪拌した。反応終了後、反応液に炭酸ナト
リウムを加え中和した。酢酸エチルを加え分液し、有機
層を水、飽和食塩水で洗浄した。溶媒を減圧下留去した
後、濃縮物にトルエン2.5mlとn-ヘキサン12.
5mlを加え、混合物を氷冷した。析出した結晶を濾過
した後、乾燥して化合物 No. (-)-1(4.13 g、収率84%
、光学純度33%ee 、白色固体)を得た。
ニトリル5.0mlに溶解し、65%硫酸水0.15m
lを加え、室温で10時間攪拌した。反応終了後、反応
液に炭酸ナトリウムを加え中和した。酢酸エチルを加え
分液し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を
高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、化合
物 No. (+)-6の転化率は76%で、化合物 No.(-)-1
(収率60%、光学純度38%ee )が生成していた。
合成> 表ー5に示す溶媒を使用し、実施例9と同様に反応を行
った、得られた結果を実施例9と共に表ー5に示した。
> 化合物 No. (+)-6(6.82 g、光学純度>99%ee)をクロロ
ベンゼン(40.0 g)に溶解し、ギ酸(13.8 g)及び水
(5.4 g )を加え50℃で3時間攪拌した。反応終了
後、反応液に 25%水酸化ナトリウム水溶液(60 g)を加
え50℃で0. 5時間攪拌した。分液し有機層を水及び
食塩水で洗浄した。有機層を高速液体クロマトグラフィ
ーにて分析したところ、化合物 No.(+)-6 の転化率は1
00%で、化合物 No.(-)-1 (収率85% 、光学純度55%e
e )が生成していた。
ロベンゼン10mlに溶解し、ギ酸0.5mlを加え室
温で30時間攪拌した。反応終了後、反応液に25%水
酸化ナトリウム水溶液10mlを加え室温で5時間攪拌
した。分液し有機層を水及び食塩水で洗浄した。有機層
を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、化
合物 No.(+)-6 の転化率は100%で、化合物 No.(-)-
1 (収率79% 、光学純度64%ee )が生成していた。
m roqueforti、天野製薬株式会社製)85g、ジイソプ
ロピルエーテル350ml及びリン酸緩衝溶液(pH 7.
2)1050mlの混合物を25℃で24時間撹拌し
た。反応終了後、クロロベンゼンで抽出し、有機層をセ
ライト濾過後、有機層を炭酸ナトリウム水、水、食塩水
で順次洗浄した後、有機層を高速液体クロマトグラフィ
ーにて分析したところ、化合物No.(±)-3の転化率は5
0%で、化合物 No.(-)-3 (光学純度82%ee )及び化合
物 No.(+)-1 (光学純度82%ee )が生成していた。この
クロロベンゼン溶液にピリジン30gを加え、氷冷下、
メタンスルホニルクロリド30gを滴下した。滴下終了
後、室温で24時間反応させた後、水、塩酸水で洗浄し
有機層を高速液体クロマトグラフィーにて分析したとこ
ろ、化合物No.(-)-3 (光学純度82%ee )及び化合物 N
o.(+)-5 (光学純度82%ee )が生成していた。
水酸化ナトリウム水溶液320gを加え、そのまま5時
間反応させた。反応終了後、有機層を水、食塩水で洗浄
し、溶媒を減圧下で留去した。残渣を高速液体クロマト
グラフィーにて分析したところ、化合物 No.(-)-1 (光
学純度82%ee )及び化合物 No.(+)-6 (光学純度82%ee
)が生成していた。この残渣をジエチレングリコール
ジエチルエーテル350ml及び水9.0mlの混合溶
媒に溶解し、氷冷下濃硫酸9.0mlをゆっくりと滴下
し、滴下終了後、室温で5時間攪拌した。反応終了後、
反応液に水酸化ナトリウム水溶液を加え中和し、有機層
を食塩水で洗浄した。溶媒を減圧下留去した後、残渣を
トルエン- n- ヘキサン混合溶媒から結晶化させたとこ
ろ化合物 No.(-)-1 (98 g、収率73% from化合物 No.
(±)-3 、光学純度81%ee 、白色固体)を得た。
合成> 化合物No.(±)−6を102g(0.300mo
l)、クロロベンゼン600g及び水81.1g(4.
50mol)の混合物に50℃でギ酸207g(4.5
0mol)を滴下した。滴下終了後50℃で2時間反応
させた後、25%水酸化ナトリウム水溶液768g
(4.80mol)を加え50℃で1時間反応させた。
反応後、有機層を分取し飽和食塩水で洗浄した。約1/
3のクロロベゼンを減圧下留去し、クロロベンゼン20
0g及びピリジン29.7g(0.37mol)を加
え、次いでカプロン酸クロリド48.5g(0.360
mol)を滴下した。滴下終了後50℃で1時間反応さ
せた後、有機層を分取し塩酸を含む食塩水及び飽和食塩
水で洗浄し、減圧下濃縮して粗な化合物No.(±)−
4を161g得た。
をジイソプロピルエーテル250mlに溶解し、1N塩
酸水、炭酸ナトリウム水、飽和食塩水で洗浄した。この
溶液にLipase R Penicilliumro
queforti、天野製薬株式会社製)55g及びリ
ン酸緩衝溶液(pH7.2)750mlを加え25℃で
16時間撹拌した。反応終了後、食塩150gを加えク
ロロベゼン375mlで抽出し、有機層をセライト濾過
後、炭酸ナトリウムを含む食塩水、食塩水で洗浄し有機
層を高速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、
化合物No.(±)−4の転化率は50%で、化合物N
o.(−)−4(光学純度85%ee)及び化合物N
o.(+)−1(光学純度85%ee)が生成してい
た。
トリエチルアミン19.0g(0.188mol)を加
え、氷冷下、メタンスルホニルクロリド20.6g
(0.180mol)を滴下した。滴下終了後、室温で
1時間反応させた後、水、塩酸水で洗浄し有機層を高速
液体クロマトグラフィーにて分析したところ、化合物N
o.(−)−4(光学純度79%ee)及び化合物N
o.(+)−5(光学純度85%ee)が生成してい
た。
トリウム水溶液236g(1.48mol)を加え70
℃で2時間反応させた。反応終了後、食塩水を加え酢酸
エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗浄し溶媒を減圧下
で留去した。残渣を高速液体クロマトグラフィーにて分
析したところ、化合物No.(−)−1(光学純度85
%ee)及び化合物No.(+)−6(光学純度85%
ee)が生成していた。この残渣をジエチレングリコー
ルジエチルエーテル500mlに溶解し、氷冷下、水1
2.2mol(0.675mol)及び濃硫酸12.2
mlの混合溶液をゆっくりと滴下し、滴下終了後、室温
で2時間撹拌した。反応終了後、反応液に水酸化ナトリ
ウム水溶液を加え中和し、有機層を分取して減圧濃縮し
た後、残渣をトルエン/n−ヘプタン混合溶媒から結晶
化させたところ化合物No.(−)−1(81g、収率
75% from化合物No.(±)−4、光学純度8
1%ee、白色固体)を得た。
合成> 化合物No.(+)−6(光学純度>99%ee)1.
40g(4.11mol)をジエチレングリコールジエ
チルエーテル14mlに溶解し、氷冷下、濃硫酸0.1
ml及び水0.1ml(5.56mmol、H2 O−
1.35eq/(+)−6)の混合溶液を滴下し、滴下
終了後、室温で10時間撹拌した。反応終了後、反応液
に炭酸ナトリウムを加え中和した。酢酸エチルを加え分
液し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を高
速液体クロマトグラフィーにて分析したところ、化合物
No.(−)−1の光学純度は76%eeであった。
合成> 濃硫酸0.35ml及び水0.35ml(19.4mm
ol、H2 O−4.7eq/(+)−6)の混合溶液を
使用した以外は実施例28と同様に行い、有機層を高速
液体クロマトグラフィーにて分析したところ、化合物N
o.(−)−1の光学純度は83%eeであった。
合成> 濃硫酸0.75ml及び水0.75ml(41.6mm
ol、H2 O−10eq/(+)−6)の混合溶液を使
用した以外は実施例28と同様に行い、有機層を高速液
体クロマトグラフィーにて分析したところ、化合物N
o.(−)−1の光学純度は78%eeであった。
合成> 化合物No.(+)−6(光学純度>99%ee)1.
40g(4.11mol)及び水0.1ml(5.56
mmol、H2 O−1.35eq/(+)−6)をジエ
チレングリコールジエチルエーテル14mlに溶解し、
室温で濃硫酸0.1mlを滴下し、滴下終了後、室温で
10時間撹拌した。反応終了後、反応液に炭酸ナトリウ
ムを加え中和した。酢酸エチルを加え分液し、有機層を
水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を高速液体クロマト
グラフィーにて分析したところ、化合物No.(−)−
1の光学純度は70%eeであった。
合成> 化合物No.(+)−6(光学純度>99%ee)1.
40g(4.11mol)及び水0.35ml(19.
4mmol、H2 O−4.7eq/(+)−6)をジエ
チレングリコールジエチルエーテル14mlに溶解し、
室温で濃硫酸0.35mlを滴下し、滴下終了後、室温
で10時間撹拌した。反応終了後、反応液に炭酸ナトリ
ウムを加え中和した。酢酸エチルを加え分液し、有機層
を水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を高速液体クロマ
トグラフィーにて分析したところ、化合物No.(−)
−1の光学純度は75%eeであった。
ロフェニル)−2、3−エポキシプロピル]−2−エチ
ルインダン−1、3−ジオンの合成> 化合物 No.(-)-1 (光学純度80%ee )17.9g、p-
トルエンスルホニルクロリド2.7g及びトルエン10
0mlの混合液に、40℃で20%水酸化ナトリウム水
溶液40gを滴下した。滴下終了後、50℃で3時間反
応させた後、有機層を分液し、水で洗浄し、濃縮したと
ころ、表記化合物((−)−6)16.9gを得た(収
率>99% 、光学純度80%ee )。これをn- ヘキサンを加
えて氷冷することにより、化合物No.(−)−6の白
色固体を得た。この化合物の分析値は以下の通りであっ
た。 mp 41-42℃ [α] D 25 -47.6 (C 0.556, CHCl3)
填し、施肥後、この土壌表面にイヌビエ、エノコログ
サ、スズメノカタビラ及びスズメノテッポウを均一に混
合した土壌を入れ、参考例1で合成した化合物を有効成
分とする水和剤を水で希釈調整し、所定量を小型動力加
圧噴霧器で均一に処理した。薬剤処理後28日目に調査
を行い、処理区及び雑草種ごとに、対無処理比(%)を
算出し、本発明化合物の90%阻害薬量を算出した。結
果を表ー4に示した。なお、比較剤として、有効成分化
合物に対応するラセミ体(比較剤A)を使用して上記と
同様に試験を行い、同様に評価を行い、結果を表ー6に
示した。
合成中間体として有用な光学活性化合物を、ラセミ化合
物を出発物質として、高収率、高光学純度で製造するこ
とが出来る。また、反応工程毎に生成物を分離精製する
ことなく、1つの反応容器で連続して反応を実施するこ
とが可能であり、工業的に有利な方法である。
Claims (18)
- 【請求項1】 下記一般式(1) 【化1】 {式中、Aは下記一般式(2) 【化2】 (式中、R1 は水素原子または低級アルキル基、アルケ
ニル基を示し、Qはハロゲン原子、炭素数1〜3のアル
キル基、炭素数1〜3のハロアルキル基、炭素数1〜2
のアルコキシル基、ニトロ基あるいはシアノ基を示す。
nは0〜4を示す。)で表される基、又は下記一般式
(3) 【化3】 CX1 3(CX2 2)p − (3) (式中、X1 、X2 はそれぞれ独立にハロゲン原子又は
水素原子を示し、pは0〜2を示す。)で表される基を
示し、Bは置換されていてもよいベンゼン環を示す。}
で表される光学活性1,2−二置換−2,3−エポキシ
プロパン類を、(a)無機酸の存在下加水分解する、又
は(b)カルボン酸の存在下開環させ、次いで加溶媒分
解することを特徴とする下記一般式(4) 【化4】 (式中、A及びBは前記一般式(1)の定義と同じ意義
を有す。)で表される光学活性1,2−二置換−2,3
−ジヒドロキシプロパン類の製造法。 - 【請求項2】 前記一般式(1)で表される光学活性
1,2−二置換−2,3−エポキシプロパン類を、無機
酸の存在下、加水分解することを特徴とする請求項1記
載の光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプ
ロパン類の製造法。 - 【請求項3】 無機酸が硫酸であることを特徴とする請
求項2記載の光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒド
ロキシプロパン類の製造法。 - 【請求項4】 反応溶媒としてエーテル系溶媒、ケトン
系溶媒、又はエステル系溶媒を使用することを特徴とす
る請求項1乃至3の何れかに記載の光学活性1,2−二
置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類の製造法。 - 【請求項5】 エーテル溶媒としてエチレングリコール
エーテル類あるいは6員環エーテル類を使用することを
特徴とする請求項4記載の光学活性1,2−二置換−
2,3−ジヒドロキシプロパン類の製造法。 - 【請求項6】 前記一般式(1)で表される光学活性
1,2−二置換−2,3−エポキシプロパン類を、カル
ボン酸の存在下、開環させ、次いで加溶媒分解すること
を特徴とする請求項1記載の光学活性1、2−二置換−
2,3−ジヒドロキシプロパン類の製造法。 - 【請求項7】 カルボン酸がギ酸であることを特徴とす
る請求項6記載の光学活性1,2−二置換−2,3−ジ
ヒドロキシプロパン類の製造法。 - 【請求項8】 反応溶媒として芳香族炭化水素系溶媒を
使用することを特徴とする請求項6又は7記載の光学活
性1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類の
製造法。 - 【請求項9】 一般式(1)においてAが2ーエチルイ
ンダン−1,3−ジオン−2−イル基で、Bが3−クロ
ロフェニル基であることを特徴とする請求項1乃至8の
何れかに記載の光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒ
ドロキシプロパン類の製造法。 - 【請求項10】 前記一般式(1)で示される光学活性
1,2−二置換−2,3−エポキシプロパン類として、
下記一般式(8) 【化5】 (式中、A及びBは前記一般式(1)の定義と同一の意
義を有す。R4 は置換基を有していても良い炭素数10
以下のアルキル基又はアリール基を示す。)で表される
光学活性スルホン酸エステル類と塩基との反応生成物
を、要すれば副生物を分離精製して使用することを特徴
とする請求項1乃至9の何れかに記載の光学活性1,2
−二置換−2,3−エポキシプロパン類の製造法。 - 【請求項11】 前記一般式(8)の光学活性スルホン
酸エステル類として下記一般式(6) 【化6】 (式中、A及びBは前記一般式(1)の定義と同じ意義
を有す。)で表される光学活性1,2−二置換−2,3
−ジヒドロキシプロパン類と、下記一般式(11)又は
(12) 【化7】 R4 SO2 Y (11) (R4 SO2 )2 O (12) (式中、R4 は置換基を有していても良い炭素数10以
下のアルキル基又はアリール基を示す。Yはハロゲン原
子を示す。)で表されるスルホン酸誘導体との反応生成
物を、要すれば副生物を分離、精製して、使用すること
を特徴とする請求項10記載の光学活性1,2−二置換
−2,3−エポキシプロパン類の製造法。を製造法。 - 【請求項12】 前記一般式(6)の光学活性1,2−
二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類として、下記
一般式(5) 【化8】 (式中、A及びBは前記一般式(1)の定義と同一の意
義を有す。)で表される1,2−二置換−2,3−ジヒ
ドロキシプロパン類を、立体選択的エステル交換能を有
する酵素の存在下、下記一般式(10) 【化9】 (R2 CO2 )m R3 m (10) (式中、R2 及びR3 は、それぞれ独立して、置換基を
有していても良い炭素数20以下のアルキル基、アルケ
ニル基、アラルキル基、又はアリール基を示し、R2 と
びR3 は互いに結合して環を形成していても良い。mは
1〜3を示す。)で表されるカルボン酸エステルと反応
させて得られる生成物を、要すれば副生物を分離、精製
して、使用することを特徴とする請求項11記載の光学
活性1,2−二置換−2,3−エポキシプロパン類の製
造法。 - 【請求項13】 酵素がPseudomonas 属に属する微生物
由来のリパーゼであることを特徴とする請求項12記載
の光学活性1、2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロ
パン類の製造法。 - 【請求項14】 一般式(10)のカルボン酸エステル
のR3 が、ビニル基であることを特徴とする請求項12
又は13記載の光学活性1,2−二置換−2,3−2 ,
3-ジヒドロキシプロパン類の製造法。 - 【請求項15】 一般式(6)の光学活性1,2−二置
換−2,3−ジヒドロキシプロパン類が、下記下記一般
式(9) 【化10】 (式中、A及びBは前記一般式(1)の定義と同一の意
義を有す。R2 は置換基を有していても良い炭素数20
以下のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、又は
アリール基を示す。)で表される1,2−二置換−2−
ヒドロキシ−3−アシロキシプロパン類を、立体選択的
加溶媒分解能を有する酵素の存在下、一般式(13) 【化11】 R5 OH (13) (式中、R5 は水素原子又は置換されていても良い炭素
数20以下のアルキル基又はアルケニル基を表す。)で
表される化合物との反応生成物を、要すれば副生物を分
離、精製して、使用することを特徴とする請求項12乃
至14の何れか記載の光学活性1,2−二置換−2,3
−エポキシプロパン類の製造法。 - 【請求項16】 酵素がPenicillium 属に属する微生物
由来のリパーゼであることを特徴とする請求項15記載
の光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロ
パン類の製造法。 - 【請求項17】 前記一般式(13)の化合物が水であ
ることを特徴とする請求項15又は16記載の光学活性
1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類の製
造法。 - 【請求項18】 前記一般式(9)のR2 がn−プロピ
ル基、i−プロピル基又はn−ペンチル基であることを
特徴とする請求項15乃至17の何れかに記載の光学活
性1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類の
製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21966999A JP2002030017A (ja) | 1999-08-03 | 1999-08-03 | 光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類の製造法 |
| KR1020007014133A KR20010052811A (ko) | 1998-10-07 | 1999-10-06 | 1,2-이치환-2,3-에폭시프로판류의 광학이성체 혼합물과 그제조법 및 이것을 유효성분으로 하는 농약, 그리고 중간체 |
| PCT/JP1999/005511 WO2000020405A1 (en) | 1998-10-07 | 1999-10-06 | Mixtures of optical isomers of 1,2-disubstituted-2,3-epoxypropanes, process for producing the same, pesticides containing the same as the active ingredient and intermediates thereof |
| AU60040/99A AU6004099A (en) | 1998-10-07 | 1999-10-06 | Mixtures of optical isomers of 1,2-disubstituted-2,3-epoxypropanes, process for producing the same, pesticides containing the same as the active ingredient and intermediates thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21966999A JP2002030017A (ja) | 1999-08-03 | 1999-08-03 | 光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002030017A true JP2002030017A (ja) | 2002-01-29 |
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ID=16739131
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21966999A Pending JP2002030017A (ja) | 1998-10-07 | 1999-08-03 | 光学活性1,2−二置換−2,3−ジヒドロキシプロパン類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002030017A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04224560A (ja) * | 1990-12-27 | 1992-08-13 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ベンジルアルコール誘導体及びそれを有効成分とする除草剤 |
-
1999
- 1999-08-03 JP JP21966999A patent/JP2002030017A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04224560A (ja) * | 1990-12-27 | 1992-08-13 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ベンジルアルコール誘導体及びそれを有効成分とする除草剤 |
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