JP2002023164A - 液晶表示方法、液晶表示装置、及び、それの製造装置 - Google Patents
液晶表示方法、液晶表示装置、及び、それの製造装置Info
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/141—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering based on orientation effects in which the liquid crystal remains transparent using ferroelectric liquid crystals
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Abstract
(57)【要約】
【課題】スメクティク液晶表示パネルの高いコントラス
ト比を実現する。 【解決手段】第１基板１と、第２基板６と、第１基板１
に形成される隔壁２と、隔壁２を覆う第１配向層３，４
と、第２基板６に形成される第２配向層７，８とから構
成される。第１配向層３，４と第２配向層７，８が対向
して結合し、液晶層３１が第１配向層３，４と第２配向
層７，８との間に形成される。第１配向層３，４により
液晶層３１の配向が制御されて規定される。第１配向層
３，４の表面は隔壁２と第１基板１に沿う凹凸面に形成
されている。液晶は、第１配向層３，４により制御され
規定されて高配向度で配向し、隔壁に残滓が残らずコン
トラスト比が向上する。
ト比を実現する。 【解決手段】第１基板１と、第２基板６と、第１基板１
に形成される隔壁２と、隔壁２を覆う第１配向層３，４
と、第２基板６に形成される第２配向層７，８とから構
成される。第１配向層３，４と第２配向層７，８が対向
して結合し、液晶層３１が第１配向層３，４と第２配向
層７，８との間に形成される。第１配向層３，４により
液晶層３１の配向が制御されて規定される。第１配向層
３，４の表面は隔壁２と第１基板１に沿う凹凸面に形成
されている。液晶は、第１配向層３，４により制御され
規定されて高配向度で配向し、隔壁に残滓が残らずコン
トラスト比が向上する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示方法、液
晶表示装置、及び、それの製造装置に関し、特に、スメ
クティック（Ｓｍ）液晶を用いる表示のコントラストを
高くする液晶表示方法、液晶表示装置、及び、それの製
造装置に関する。
晶表示装置、及び、それの製造装置に関し、特に、スメ
クティック（Ｓｍ）液晶を用いる表示のコントラストを
高くする液晶表示方法、液晶表示装置、及び、それの製
造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置（ＬＣＤ）は、薄型の特徴
を生かした用途に広く使われつつある。特に、パーソナ
ルコンピュータ用の表示装置として広く用いられるよう
になってきており、今後テレビなどへの用途に展開して
いくと予想される。このような展開の中で、ＬＣＤの表
示性能上の大きな課題として、視角依存性と応答速度を
挙げることができる。この中で、視角依存性は種々の工
夫により改善されつつあるが、応答速度に関しては未だ
抜本的な解決には至っていないのが現状である。このよ
うな現状で、従来のネマチック液晶に替わり、高速応答
性を有するスメクティック（Ｓｍ）液晶を用いた液晶表
示装置が開発段階にある。周知のとおり、Ｓｍ液晶の中
でも自発分極を有するＳｍＣ＊相を持つ液晶は、その自
発分極のために１ミリ秒以下の応答速度を達成すること
が可能である。これらＳｍＣ＊液晶の中でも、強誘電性
液晶や反強誘電性液晶は古くから研究開発されてきた。
を生かした用途に広く使われつつある。特に、パーソナ
ルコンピュータ用の表示装置として広く用いられるよう
になってきており、今後テレビなどへの用途に展開して
いくと予想される。このような展開の中で、ＬＣＤの表
示性能上の大きな課題として、視角依存性と応答速度を
挙げることができる。この中で、視角依存性は種々の工
夫により改善されつつあるが、応答速度に関しては未だ
抜本的な解決には至っていないのが現状である。このよ
うな現状で、従来のネマチック液晶に替わり、高速応答
性を有するスメクティック（Ｓｍ）液晶を用いた液晶表
示装置が開発段階にある。周知のとおり、Ｓｍ液晶の中
でも自発分極を有するＳｍＣ＊相を持つ液晶は、その自
発分極のために１ミリ秒以下の応答速度を達成すること
が可能である。これらＳｍＣ＊液晶の中でも、強誘電性
液晶や反強誘電性液晶は古くから研究開発されてきた。
【０００３】しかし、このようなＳｍ液晶には、更に、
配向処理が難しいという問題点が残存している。このた
め、通常のラビング処理では高々数十のコントラスト比
しか得られない問題点がある。このような問題点を解決
する技術は、特開平０７−１９９２０２号で知られてい
て、この技術は、新たな配向方法を提案している。
配向処理が難しいという問題点が残存している。このた
め、通常のラビング処理では高々数十のコントラスト比
しか得られない問題点がある。このような問題点を解決
する技術は、特開平０７−１９９２０２号で知られてい
て、この技術は、新たな配向方法を提案している。
【０００４】この技術は、図１９に示されるように、基
板１０１の面に配向膜１０２を形成した後に配向処理を
行う。更に、感光性樹脂等を用いて、隔壁１０３を一方
の基板１０１の面に形成する。その後に、上下も基板を
重ね合わせ、隔壁１０３の接着力により上下の基板１０
１を張り合わせる。この際に、上下の基板１０１が隔壁
１０３を通じて張り合わせられていることが重要であ
る。この後に、Ｓｍ液晶を注入する。更に、温度勾配を
用いて配向処理を行う。その配向処理の様子が、図２０
に示されている。図２０は、図１９を９０゜回転させて
隔壁の側面から眺めた側面図である。もし注入した液晶
相が、等方相（Ｉ相）、ネマチック相（Ｎ相）、ＳｍＡ
相、ＳｍＣ相を持ち、図２０に示されるように、液晶パ
ネルを恒温漕１０５から図の左手方向に引き出せば、図
２０に示される相分布ができる。図２０に示されるよう
に、Ｎ相では、液晶分子１０４は上下基板１０１の配向
方向に配向している。一方、ＳｍＡ相ではスメクティッ
ク液晶特有の層構造が形成される。この層方向は、上下
基板の配向方向とほぼ一致している。このＳｍＡ相から
ＳｍＣ相の転移が、図２１に示されている。ＳｍＡ−Ｓ
ｍＣ転移温度で、ＳｍＡ層の層法線から傾かなければな
らない。このため、層法線方向に圧縮力が働き、層面内
に膨張力Ｆが働く。しかし、図２２では液晶層の上下は
基板で固定されている。このため、図２２に示されるよ
うに、液晶パネル内では、層が折れ曲がったシュブロン
構造が生じる。このシェブロン構造の折れ曲がり方向は
二つが選ばれ得るが、二方向の折れ曲がり方向を有する
場合、６０程度の低いコントラスト比しか得ることがで
きない。一方、折れ曲がり方向を一方に制御できれば、
高いコントラスト比が可能になる。図２０の温度勾配法
では、一方方向に圧縮力が働くため、一方方向のシェブ
ロン構造を得ることができる。但し、圧縮力を一定方向
に生じさせるために、液晶層は狭い流路に閉じ込める必
要がある。以上のように、特開平０７−１９９２０２号
の技術では、上下基板を接着して液晶層を狭い流路に閉
じ込め、温度勾配を加えることによって、高いコントラ
スト比を得ることができている。
板１０１の面に配向膜１０２を形成した後に配向処理を
行う。更に、感光性樹脂等を用いて、隔壁１０３を一方
の基板１０１の面に形成する。その後に、上下も基板を
重ね合わせ、隔壁１０３の接着力により上下の基板１０
１を張り合わせる。この際に、上下の基板１０１が隔壁
１０３を通じて張り合わせられていることが重要であ
る。この後に、Ｓｍ液晶を注入する。更に、温度勾配を
用いて配向処理を行う。その配向処理の様子が、図２０
に示されている。図２０は、図１９を９０゜回転させて
隔壁の側面から眺めた側面図である。もし注入した液晶
相が、等方相（Ｉ相）、ネマチック相（Ｎ相）、ＳｍＡ
相、ＳｍＣ相を持ち、図２０に示されるように、液晶パ
ネルを恒温漕１０５から図の左手方向に引き出せば、図
２０に示される相分布ができる。図２０に示されるよう
に、Ｎ相では、液晶分子１０４は上下基板１０１の配向
方向に配向している。一方、ＳｍＡ相ではスメクティッ
ク液晶特有の層構造が形成される。この層方向は、上下
基板の配向方向とほぼ一致している。このＳｍＡ相から
ＳｍＣ相の転移が、図２１に示されている。ＳｍＡ−Ｓ
ｍＣ転移温度で、ＳｍＡ層の層法線から傾かなければな
らない。このため、層法線方向に圧縮力が働き、層面内
に膨張力Ｆが働く。しかし、図２２では液晶層の上下は
基板で固定されている。このため、図２２に示されるよ
うに、液晶パネル内では、層が折れ曲がったシュブロン
構造が生じる。このシェブロン構造の折れ曲がり方向は
二つが選ばれ得るが、二方向の折れ曲がり方向を有する
場合、６０程度の低いコントラスト比しか得ることがで
きない。一方、折れ曲がり方向を一方に制御できれば、
高いコントラスト比が可能になる。図２０の温度勾配法
では、一方方向に圧縮力が働くため、一方方向のシェブ
ロン構造を得ることができる。但し、圧縮力を一定方向
に生じさせるために、液晶層は狭い流路に閉じ込める必
要がある。以上のように、特開平０７−１９９２０２号
の技術では、上下基板を接着して液晶層を狭い流路に閉
じ込め、温度勾配を加えることによって、高いコントラ
スト比を得ることができている。
【０００５】しかし、以上の配向方法を用いる場合、以
下の問題が生じる。第１の問題は、図２０に示されるよ
うに、配向膜１０２上に隔壁１０３を形成しなければな
らないため、配向膜上でフォトリソグラフィー工程を行
なわなければならない。この工程は、配向膜上に適用可
能である感光性樹脂膜を形成し、マスク露光し、現像す
るものである。このため、配向膜が現像液に晒されるこ
とになる。このような現像液は通常アルカリ溶液であ
り、配向膜表面にダメージを与える。更に、露光・現像
して感光性樹脂を除去しても、一度塗布した感光性樹脂
を完全に取り去ることはほとんど不可能である。このた
め、図２３に示されるように、配向膜１０２の面上に感
光性樹脂の残渣１０６が残ることが通例である。
下の問題が生じる。第１の問題は、図２０に示されるよ
うに、配向膜１０２上に隔壁１０３を形成しなければな
らないため、配向膜上でフォトリソグラフィー工程を行
なわなければならない。この工程は、配向膜上に適用可
能である感光性樹脂膜を形成し、マスク露光し、現像す
るものである。このため、配向膜が現像液に晒されるこ
とになる。このような現像液は通常アルカリ溶液であ
り、配向膜表面にダメージを与える。更に、露光・現像
して感光性樹脂を除去しても、一度塗布した感光性樹脂
を完全に取り去ることはほとんど不可能である。このた
め、図２３に示されるように、配向膜１０２の面上に感
光性樹脂の残渣１０６が残ることが通例である。
【０００６】第２の問題は、図２４に示されるように、
既述のような配向膜、配向処理、隔壁形成を経て、上下
基板を張り合わせた後に液晶注入を行い、既述の温度勾
配処理を行う。しかし、既述の構造は、図２４に示され
るような配向状態を取る。即ち、配向膜表面とは異なり
隔壁表面は配向処理が行われていない。このため、隔壁
表面の一部に接する液晶配向が不良を示す配向劣化部１
０７が生じる。このような不良部分１０７は、時間が経
過するにつれて増加するのが通例である。
既述のような配向膜、配向処理、隔壁形成を経て、上下
基板を張り合わせた後に液晶注入を行い、既述の温度勾
配処理を行う。しかし、既述の構造は、図２４に示され
るような配向状態を取る。即ち、配向膜表面とは異なり
隔壁表面は配向処理が行われていない。このため、隔壁
表面の一部に接する液晶配向が不良を示す配向劣化部１
０７が生じる。このような不良部分１０７は、時間が経
過するにつれて増加するのが通例である。
【０００７】このように、特開平０７−１９９２０２号
の技術は実用的には問題点が多い。配向膜の面上に感光
性樹脂の残渣が残らないことが望まれる。更に、隔壁表
面の一部に接する液晶配向が不良にならないことが望ま
れる。
の技術は実用的には問題点が多い。配向膜の面上に感光
性樹脂の残渣が残らないことが望まれる。更に、隔壁表
面の一部に接する液晶配向が不良にならないことが望ま
れる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、配向
膜の面上に感光性樹脂の残渣が残らない液晶表示方法、
液晶表示装置、及び、それの製造装置を提供することに
ある。本発明の他の課題は、隔壁表面の一部に接する液
晶配向が不良にならない液晶表示方法、液晶表示装置、
及び、それの製造装置を提供することにある。本発明の
更に他の課題は、配向膜の面上に感光性樹脂の残渣が残
らず、且つ、隔壁表面の一部に接する液晶配向が不良に
ならない液晶表示方法、液晶表示装置、及び、それの製
造装置を提供することにある。
膜の面上に感光性樹脂の残渣が残らない液晶表示方法、
液晶表示装置、及び、それの製造装置を提供することに
ある。本発明の他の課題は、隔壁表面の一部に接する液
晶配向が不良にならない液晶表示方法、液晶表示装置、
及び、それの製造装置を提供することにある。本発明の
更に他の課題は、配向膜の面上に感光性樹脂の残渣が残
らず、且つ、隔壁表面の一部に接する液晶配向が不良に
ならない液晶表示方法、液晶表示装置、及び、それの製
造装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】その課題を解決するため
の手段が、下記のように表現される。その表現中に現れ
る技術的事項には、括弧（）つきで、番号、記号等が添
記されている。その番号、記号等は、本発明の実施の複
数・形態又は複数の実施例のうちの少なくとも１つの実
施の形態又は複数の実施例を構成する技術的事項、特
に、その実施の形態又は実施例に対応する図面に表現さ
れている技術的事項に付せられている参照番号、参照記
号等に一致している。このような参照番号、参照記号
は、請求項記載の技術的事項と実施の形態又は実施例の
技術的事項との対応・橋渡しを明確にしている。このよ
うな対応・橋渡しは、請求項記載の技術的事項が実施の
形態又は実施例の技術的事項に限定されて解釈されるこ
とを意味しない。
の手段が、下記のように表現される。その表現中に現れ
る技術的事項には、括弧（）つきで、番号、記号等が添
記されている。その番号、記号等は、本発明の実施の複
数・形態又は複数の実施例のうちの少なくとも１つの実
施の形態又は複数の実施例を構成する技術的事項、特
に、その実施の形態又は実施例に対応する図面に表現さ
れている技術的事項に付せられている参照番号、参照記
号等に一致している。このような参照番号、参照記号
は、請求項記載の技術的事項と実施の形態又は実施例の
技術的事項との対応・橋渡しを明確にしている。このよ
うな対応・橋渡しは、請求項記載の技術的事項が実施の
形態又は実施例の技術的事項に限定されて解釈されるこ
とを意味しない。
【００１０】本発明による液晶表示装置は、第１基板
（１）と、第２基板（６）と、第１基板（１）に形成さ
れる隔壁（２）と、隔壁（２）を覆う第１配向層（３又
は４、又は、３と４、以下、単に、３，４と記載）と、
第２基板（６）に形成される第２配向層（７，８）とを
含み、第１配向層（３，４）と第２配向層（７，８）が
対向して結合し、液晶層（３１）が第１配向層（３，
４）と第２配向層（７，８）との間に形成される。両側
の配向層どうしが結合して隔壁（２）が配向層により覆
われていて、隔壁（２）の滑らかな面に沿って配向層の
表面が滑らかに形成され、配向層（３，４，７，８）に
より液晶層（３１）の配向が高配向度に制御されて規定
される。
（１）と、第２基板（６）と、第１基板（１）に形成さ
れる隔壁（２）と、隔壁（２）を覆う第１配向層（３又
は４、又は、３と４、以下、単に、３，４と記載）と、
第２基板（６）に形成される第２配向層（７，８）とを
含み、第１配向層（３，４）と第２配向層（７，８）が
対向して結合し、液晶層（３１）が第１配向層（３，
４）と第２配向層（７，８）との間に形成される。両側
の配向層どうしが結合して隔壁（２）が配向層により覆
われていて、隔壁（２）の滑らかな面に沿って配向層の
表面が滑らかに形成され、配向層（３，４，７，８）に
より液晶層（３１）の配向が高配向度に制御されて規定
される。
【００１１】第１基板（１）は第１配向層（３，４）に
覆われ、第２基板（６）は第２配向層（７，８）に覆わ
れている。第１配向層（３，４）の表面は隔壁（２）と
第１基板（１）に沿う凹凸面に形成されているが、第２
配向層の表面は第２基板（６）に沿う平面に形成され得
る。第２配向層の表面も隔壁（図９の２’）と第２基板
（６）に沿う凹凸面に形成され得る。第１配向層（３，
４）は、第１配向膜（３）と、第１配向膜（３）の表面
側に形成される第１液晶層（４）とを備えることが好ま
しい。第１配向膜（３）の表面側に形成される第１液晶
層（４）の配向度は、第１配向膜（３）の配向度よりも
高くなる。
覆われ、第２基板（６）は第２配向層（７，８）に覆わ
れている。第１配向層（３，４）の表面は隔壁（２）と
第１基板（１）に沿う凹凸面に形成されているが、第２
配向層の表面は第２基板（６）に沿う平面に形成され得
る。第２配向層の表面も隔壁（図９の２’）と第２基板
（６）に沿う凹凸面に形成され得る。第１配向層（３，
４）は、第１配向膜（３）と、第１配向膜（３）の表面
側に形成される第１液晶層（４）とを備えることが好ま
しい。第１配向膜（３）の表面側に形成される第１液晶
層（４）の配向度は、第１配向膜（３）の配向度よりも
高くなる。
【００１２】第２配向層（７，８）も、第１配向層
（３，４）と同様に、第２配向膜（７）と、第２配向膜
（７）の表面側に形成される第２液晶層（８）とを備え
得る。この場合、第１液晶層（４）と第２液晶層（８）
とは直接に接合して結合する。第１液晶層（４）と第２
液晶層（８）とは、ともに感光性液晶モノマーで形成さ
れ、光硬化して直接に接合する。第１液晶層（４）と第
２液晶層（８）とは、ともに高分子液晶で形成され得
る。第１配向層（３，４）は隔壁の長手方向に平行では
なく、隔壁の長手方向に対して数度程度に傾斜すること
が好ましい。第２配向層（７，８）も隔壁の長手方向に
平行ではなく、隔壁の長手方向に対して数度程度に傾斜
することが好ましい。
（３，４）と同様に、第２配向膜（７）と、第２配向膜
（７）の表面側に形成される第２液晶層（８）とを備え
得る。この場合、第１液晶層（４）と第２液晶層（８）
とは直接に接合して結合する。第１液晶層（４）と第２
液晶層（８）とは、ともに感光性液晶モノマーで形成さ
れ、光硬化して直接に接合する。第１液晶層（４）と第
２液晶層（８）とは、ともに高分子液晶で形成され得
る。第１配向層（３，４）は隔壁の長手方向に平行では
なく、隔壁の長手方向に対して数度程度に傾斜すること
が好ましい。第２配向層（７，８）も隔壁の長手方向に
平行ではなく、隔壁の長手方向に対して数度程度に傾斜
することが好ましい。
【００１３】第１配向層（３，４）は、第１配向膜
（３）と、第１配向膜（３）の表面側に形成される第１
液晶層（４）とを備え、第１配向膜（３）の配向方向と
第１液晶層（４）の配向方向は概ね同一である。第１液
晶層（４）はスメクチック液晶相に形成されている。第
１液晶層（４）は、自発分極を有する相にも形成され得
る。
（３）と、第１配向膜（３）の表面側に形成される第１
液晶層（４）とを備え、第１配向膜（３）の配向方向と
第１液晶層（４）の配向方向は概ね同一である。第１液
晶層（４）はスメクチック液晶相に形成されている。第
１液晶層（４）は、自発分極を有する相にも形成され得
る。
【００１４】本発明による液晶表示方法は、第１基板
（１）に第１隔壁（２）を形成することと、第１隔壁
（２）に第１配向膜（３）を形成し第１配向膜（３，
４）に配向処理を施すことと、第２基板（６）に第２配
向膜（７）を形成し第２配向膜（７）に配向処理を施す
ことと、第１配向膜（３）と第２配向膜（７）とを接合
することとを含む。
（１）に第１隔壁（２）を形成することと、第１隔壁
（２）に第１配向膜（３）を形成し第１配向膜（３，
４）に配向処理を施すことと、第２基板（６）に第２配
向膜（７）を形成し第２配向膜（７）に配向処理を施す
ことと、第１配向膜（３）と第２配向膜（７）とを接合
することとを含む。
【００１５】第１配向膜（４）と第２配向膜（８）とは
感光性液晶層で形成され、その接合は、感光性液晶層が
光硬化することである。感光性液晶層の物性が接合のた
めに利用される。この場合、第１基板（１）を透過させ
て感光性液晶層（４，８）を光硬化させることは接合工
程を簡素化することができる。感光性液晶層は、感光性
液晶モノマー層であり、感光性液晶モノマー層がネマチ
ック相又はスメクティックＡ相で硬化することは接合工
程を簡素化する点で好ましい。
感光性液晶層で形成され、その接合は、感光性液晶層が
光硬化することである。感光性液晶層の物性が接合のた
めに利用される。この場合、第１基板（１）を透過させ
て感光性液晶層（４，８）を光硬化させることは接合工
程を簡素化することができる。感光性液晶層は、感光性
液晶モノマー層であり、感光性液晶モノマー層がネマチ
ック相又はスメクティックＡ相で硬化することは接合工
程を簡素化する点で好ましい。
【００１６】第１配向膜（４）と第２配向膜（８）とは
高分子液晶層で形成され、その接合は、高分子液晶層が
加熱により硬化することである。高分子液晶層の物性が
接合のために利用される。この場合も、高分子樹脂層が
ネマチック相又はスメクティックＡ相で硬化する。
高分子液晶層で形成され、その接合は、高分子液晶層が
加熱により硬化することである。高分子液晶層の物性が
接合のために利用される。この場合も、高分子樹脂層が
ネマチック相又はスメクティックＡ相で硬化する。
【００１７】第１隔壁（２）に第１配向膜を形成するこ
とは、隔壁（２）に第１配向層（３）を形成すること
と、第１配向層（３）に第１感光性液晶層を形成するこ
ととを備え、第２基板（６）に第２配向膜を形成するこ
とは、第２基板（６）に第２配向層（３）を形成するこ
とと、第２配向層（３）に第２感光性液晶層（４）を形
成することとを備え、第１感光性液晶層と第２感光性液
晶層とが光硬化して直接に接合する。この場合、第２基
板（６）には隔壁構造は必ずしも必要ではない。第２基
板（６）にも第２隔壁（２’）を形成することを更に含
み、第２基板（６）に第２配向膜を形成することは、第
２隔壁（２’）に第２配向膜（７，８）を形成すること
であり、第２隔壁（６）に第２配向膜を形成すること
は、第２隔壁（２’）に第２配向層（３’）を形成する
ことと、第２配向層（３’）に第２感光性液晶層
（４’）を形成することとを備え、第１感光性液晶層
（４）と第２感光性液晶層（４’）とが光硬化により直
接に接合する。
とは、隔壁（２）に第１配向層（３）を形成すること
と、第１配向層（３）に第１感光性液晶層を形成するこ
ととを備え、第２基板（６）に第２配向膜を形成するこ
とは、第２基板（６）に第２配向層（３）を形成するこ
とと、第２配向層（３）に第２感光性液晶層（４）を形
成することとを備え、第１感光性液晶層と第２感光性液
晶層とが光硬化して直接に接合する。この場合、第２基
板（６）には隔壁構造は必ずしも必要ではない。第２基
板（６）にも第２隔壁（２’）を形成することを更に含
み、第２基板（６）に第２配向膜を形成することは、第
２隔壁（２’）に第２配向膜（７，８）を形成すること
であり、第２隔壁（６）に第２配向膜を形成すること
は、第２隔壁（２’）に第２配向層（３’）を形成する
ことと、第２配向層（３’）に第２感光性液晶層
（４’）を形成することとを備え、第１感光性液晶層
（４）と第２感光性液晶層（４’）とが光硬化により直
接に接合する。
【００１８】第１隔壁（２）に第１配向膜を形成するこ
とは、第１隔壁（２）に第１配向層（３）を形成するこ
とと、第１配向層（３）に第１高分子液晶層を形成する
こととを備え、第２基板（６）に第２配向膜を形成する
ことは、第２基板（６）に第２配向層（７）を形成する
ことと、第２配向層（７）に第２高分子液晶層（８）を
形成することとを備える。この場合は、第１高分子液晶
層（４）と第２高分子液晶層（８）とが加熱ににより直
接に接合する。
とは、第１隔壁（２）に第１配向層（３）を形成するこ
とと、第１配向層（３）に第１高分子液晶層を形成する
こととを備え、第２基板（６）に第２配向膜を形成する
ことは、第２基板（６）に第２配向層（７）を形成する
ことと、第２配向層（７）に第２高分子液晶層（８）を
形成することとを備える。この場合は、第１高分子液晶
層（４）と第２高分子液晶層（８）とが加熱ににより直
接に接合する。
【００１９】第２基板（６）に第２隔壁（２’）を形成
することを更に含み、第２基板（６）に第２配向膜を形
成することは、第２隔壁（２’）に第２配向膜を形成す
ることであり、第２隔壁（２’）に第２配向膜を形成す
ることは、第２隔壁（２’）に第２配向層（３’）を形
成することと、第２配向層（３’）に第２高分子液晶層
（４’）を形成することとを備える。この場合は、第１
高分子液晶層（４）と第２高分子液晶層（４’）とが加
熱により直接に接合する。
することを更に含み、第２基板（６）に第２配向膜を形
成することは、第２隔壁（２’）に第２配向膜を形成す
ることであり、第２隔壁（２’）に第２配向膜を形成す
ることは、第２隔壁（２’）に第２配向層（３’）を形
成することと、第２配向層（３’）に第２高分子液晶層
（４’）を形成することとを備える。この場合は、第１
高分子液晶層（４）と第２高分子液晶層（４’）とが加
熱により直接に接合する。
【００２０】第１隔壁（２）に第１配向膜を形成するこ
とは、第１隔壁（２）に第１配向層（３）を形成するこ
とと、第１配向層（３）に感光性液晶層（４）を形成す
ることとを備え、第２基板（６）に第２配向膜を形成す
ることは、第２基板（６）に高分子液晶層（４’）を形
成することとを備えることも可能である。この場合、感
光性液晶層（４）と高分子液晶層（８）とが光硬化して
直接に接合することになり、この接合は可能であり、且
つ、有効である。
とは、第１隔壁（２）に第１配向層（３）を形成するこ
とと、第１配向層（３）に感光性液晶層（４）を形成す
ることとを備え、第２基板（６）に第２配向膜を形成す
ることは、第２基板（６）に高分子液晶層（４’）を形
成することとを備えることも可能である。この場合、感
光性液晶層（４）と高分子液晶層（８）とが光硬化して
直接に接合することになり、この接合は可能であり、且
つ、有効である。
【００２１】第１隔壁（２）に第１配向膜を形成するこ
とは、第１隔壁（２）に第１配向層（３）を形成するこ
とと、第１配向層（３）に感光性液晶層を形成すること
とを備え、第２基板（２’）に第２配向膜を形成するこ
とは、第２基板（２’）に第２配向層（４’）を形成す
ることと、第２配向層（４’）に高分子液晶層を形成す
ることとを備えている。この場合にも、感光性液晶層と
高分子液晶層とが光硬化して直接に接合することも可能
である。
とは、第１隔壁（２）に第１配向層（３）を形成するこ
とと、第１配向層（３）に感光性液晶層を形成すること
とを備え、第２基板（２’）に第２配向膜を形成するこ
とは、第２基板（２’）に第２配向層（４’）を形成す
ることと、第２配向層（４’）に高分子液晶層を形成す
ることとを備えている。この場合にも、感光性液晶層と
高分子液晶層とが光硬化して直接に接合することも可能
である。
【００２２】第１隔壁（２）に第１配向膜を形成するこ
とは、第１隔壁（２）に第１配向層（３）を形成するこ
とと、第１配向層（３）に高分子液晶層（４）を形成す
ることとを備え、第２基板（２’）に第２配向膜を形成
することは、第２基板（２’）に感光性液晶層を形成す
ることとを備え、感光性液晶層と高分子液晶層とが光硬
化して直接に接合する。
とは、第１隔壁（２）に第１配向層（３）を形成するこ
とと、第１配向層（３）に高分子液晶層（４）を形成す
ることとを備え、第２基板（２’）に第２配向膜を形成
することは、第２基板（２’）に感光性液晶層を形成す
ることとを備え、感光性液晶層と高分子液晶層とが光硬
化して直接に接合する。
【００２３】第１隔壁（２）に第１配向膜を形成するこ
とは、第１隔壁（２）に第１配向層（３）を形成するこ
とと、第１配向層（３）に高分子液晶層を（４）形成す
ることとを備え、第２基板（２’）に第２配向膜を形成
することは、第２基板（２’）に第１配向層（３’）を
形成することと、第２配向層（３’）に感光性液晶層を
形成することとを備え、感光性液晶層と高分子液晶層と
が加熱により直接に接合することが可能である。
とは、第１隔壁（２）に第１配向層（３）を形成するこ
とと、第１配向層（３）に高分子液晶層を（４）形成す
ることとを備え、第２基板（２’）に第２配向膜を形成
することは、第２基板（２’）に第１配向層（３’）を
形成することと、第２配向層（３’）に感光性液晶層を
形成することとを備え、感光性液晶層と高分子液晶層と
が加熱により直接に接合することが可能である。
【００２４】本発明による液晶表示装置の製造装置は、
第１基板（２）と、第２基板（６）と、第１基板（１）
に形成される隔壁（２）と、隔壁（２）を覆う第１配向
層（３，４）と、第２基板（６）に形成される第２配向
層（７，８）とを含み、第１配向層（３，４）と第２配
向層（７，８）が対向して結合し、液晶層が第１配向層
（３，４）と第２配向層（７，８）との間に形成される
液晶表示装置を製造する液晶表示装置の製造装置であ
り、第１基板（１）と第２基板（６）とを重ね合わせて
加圧する加圧機構（２１）と、第１基板（１）又は第２
基板（６）を透過して第１配向層（３，４）と第２配向
層（７，８）に光を照射する露光機構（２２）と、第１
配向層（３，４）と第２配向層（７，８）に対して酸素
遮断雰囲気を作成する酸素遮断機構（２３）とを含む。
第１基板（１）と第２基板（６）との位置合わせを行う
位置機構が付加される。
第１基板（２）と、第２基板（６）と、第１基板（１）
に形成される隔壁（２）と、隔壁（２）を覆う第１配向
層（３，４）と、第２基板（６）に形成される第２配向
層（７，８）とを含み、第１配向層（３，４）と第２配
向層（７，８）が対向して結合し、液晶層が第１配向層
（３，４）と第２配向層（７，８）との間に形成される
液晶表示装置を製造する液晶表示装置の製造装置であ
り、第１基板（１）と第２基板（６）とを重ね合わせて
加圧する加圧機構（２１）と、第１基板（１）又は第２
基板（６）を透過して第１配向層（３，４）と第２配向
層（７，８）に光を照射する露光機構（２２）と、第１
配向層（３，４）と第２配向層（７，８）に対して酸素
遮断雰囲気を作成する酸素遮断機構（２３）とを含む。
第１基板（１）と第２基板（６）との位置合わせを行う
位置機構が付加される。
【００２５】
【発明の実施の形態】図に対応して、本発明による液晶
表示装置の実施の形態は、基板の上面に隔壁が形成され
る。その第１基板１の上面に、図１（ａ）に示されるよ
うに、フォトリソグラフィー工程などにより隔壁２が形
成される。次に、図１（ｂ）に示されるように、第１基
板１と隔壁２の上面に第１配向膜３が形成され、配向処
理が行われる。この配向処理は、ラビング法によっても
可能であり、又は、直線偏光した紫外線の照射によって
も可能である。この配向処理の結果、隔壁２の上面と第
１基板１の上面の配向膜は、その配向方向が規定され
る。
表示装置の実施の形態は、基板の上面に隔壁が形成され
る。その第１基板１の上面に、図１（ａ）に示されるよ
うに、フォトリソグラフィー工程などにより隔壁２が形
成される。次に、図１（ｂ）に示されるように、第１基
板１と隔壁２の上面に第１配向膜３が形成され、配向処
理が行われる。この配向処理は、ラビング法によっても
可能であり、又は、直線偏光した紫外線の照射によって
も可能である。この配向処理の結果、隔壁２の上面と第
１基板１の上面の配向膜は、その配向方向が規定され
る。
【００２６】次に、図１（ｃ）に示されるように、第１
感光性液晶モノマー層４が第１配向膜３の上面に形成さ
れて、第１配向層形成基板５Ａが形成される。この際、
感光性液晶モノマーがネマチック相、又は、スメクティ
ック相になるように加熱することが必要である場合があ
る。このような処理を受けた感光性液晶モノマー層４
は、第１配向膜３の配向方向に配向する。このように配
向した感光性液晶モノマー層４の表面の配向度は、第１
配向膜３の表面の配向度より向上している。
感光性液晶モノマー層４が第１配向膜３の上面に形成さ
れて、第１配向層形成基板５Ａが形成される。この際、
感光性液晶モノマーがネマチック相、又は、スメクティ
ック相になるように加熱することが必要である場合があ
る。このような処理を受けた感光性液晶モノマー層４
は、第１配向膜３の配向方向に配向する。このように配
向した感光性液晶モノマー層４の表面の配向度は、第１
配向膜３の表面の配向度より向上している。
【００２７】第１感光性液晶モノマー層４の表面の配向
度が第１配向膜３の表面の配向度より向上していること
が、図２に示される。配向処理を受けた第１配向膜３の
表面の配向度は、比較的に低いことが通常である。従っ
て、第１配向膜３の上面にスメクティックＣ層を形成し
ても良好な配向状態は得られない。一方、図２に示され
るように、配向処理された第１配向膜３の表面に液晶相
を形成した場合、液晶相がネマチック相、又は、スメク
ティックＡ相にあれば、液晶相の最表面の配向度は向上
する。これは、配向度が悪い配向膜表面に接していて
も、液晶相自身が自ら並ぶ性質のため、その最表面の配
向度が向上するからである。従って、図２（ａ），
（ｂ），（ｃ）に示されるそれぞれの層の最表面の配向
度は、第１感光性液晶モノマー層４が形成されていない
図２（ａ）に示される層３の配向度が、第１感光性液晶
モノマー層４が薄く形成されている図２（ｂ）に示され
る層４の配向度よりも低く、第１感光性液晶モノマー層
４が薄く形成されている図２（ｂ）に示される層３の配
向度が、第１感光性液晶モノマー層４が厚く形成されて
いる図２（ｃ）に示される層４の配向度よりも低い。こ
のような高い配向度を持つ液晶相に予め感光性を持たせ
ておき、それを光硬化させることにより、良好な配向度
を持った配向膜として使用することができる。
度が第１配向膜３の表面の配向度より向上していること
が、図２に示される。配向処理を受けた第１配向膜３の
表面の配向度は、比較的に低いことが通常である。従っ
て、第１配向膜３の上面にスメクティックＣ層を形成し
ても良好な配向状態は得られない。一方、図２に示され
るように、配向処理された第１配向膜３の表面に液晶相
を形成した場合、液晶相がネマチック相、又は、スメク
ティックＡ相にあれば、液晶相の最表面の配向度は向上
する。これは、配向度が悪い配向膜表面に接していて
も、液晶相自身が自ら並ぶ性質のため、その最表面の配
向度が向上するからである。従って、図２（ａ），
（ｂ），（ｃ）に示されるそれぞれの層の最表面の配向
度は、第１感光性液晶モノマー層４が形成されていない
図２（ａ）に示される層３の配向度が、第１感光性液晶
モノマー層４が薄く形成されている図２（ｂ）に示され
る層４の配向度よりも低く、第１感光性液晶モノマー層
４が薄く形成されている図２（ｂ）に示される層３の配
向度が、第１感光性液晶モノマー層４が厚く形成されて
いる図２（ｃ）に示される層４の配向度よりも低い。こ
のような高い配向度を持つ液晶相に予め感光性を持たせ
ておき、それを光硬化させることにより、良好な配向度
を持った配向膜として使用することができる。
【００２８】図１（ａ），（ｂ），（ｃ）に示される第
１配向層形成基板５Ａを形成した手順と同じ手順によ
り、図１（ｄ）に示されるように、第２配向膜形成基板
５Ｂが形成される。第２配向膜形成基板５Ｂは、第１配
向層形成基板５Ａと異なって、第１配向層形成基板５Ａ
に形成されている隔壁２が形成されていない。第２配向
膜形成基板５Ｂは、第２基板６と、第２基板６の上面
（表面）に形成される第２配向膜７と、第２配向膜７の
上面（表面）に形成される第２感光性液晶モノマー層８
とから構成されている。従って、第１配向層形成基板５
Ａの第１配向膜３と第１感光性液晶モノマー層４とは凹
凸面を有しているが、第２配向膜形成基板５Ｂの第２配
向膜７と第２配向膜形成基板５Ｂの第２感光性液晶モノ
マー層８とは、それらの表面が平面に形成されている。
１配向層形成基板５Ａを形成した手順と同じ手順によ
り、図１（ｄ）に示されるように、第２配向膜形成基板
５Ｂが形成される。第２配向膜形成基板５Ｂは、第１配
向層形成基板５Ａと異なって、第１配向層形成基板５Ａ
に形成されている隔壁２が形成されていない。第２配向
膜形成基板５Ｂは、第２基板６と、第２基板６の上面
（表面）に形成される第２配向膜７と、第２配向膜７の
上面（表面）に形成される第２感光性液晶モノマー層８
とから構成されている。従って、第１配向層形成基板５
Ａの第１配向膜３と第１感光性液晶モノマー層４とは凹
凸面を有しているが、第２配向膜形成基板５Ｂの第２配
向膜７と第２配向膜形成基板５Ｂの第２感光性液晶モノ
マー層８とは、それらの表面が平面に形成されている。
【００２９】第１配向層形成基板５Ａと第２配向膜形成
基板５Ｂとは、図１（ｄ）に示されるように、重ね合わ
せられる。第１感光性液晶モノマー層４と第２感光性液
晶モノマー層８とに基板１，６を透過する光で感光する
重合開始剤を混入させておけば、基板越しに露光して両
感光性液晶モノマー層４，８を硬化させることができ
る。この際、両感光性液晶モノマー層４，８の硬化によ
って、両基板１，６を接着させることが可能である。図
３に示されるように、単純に隔壁２０１上に配向膜２０
２を形成して両基板２０３，２０４を重ね合わせても、
配向膜−配向膜間の接着が弱いため安定した上下基板の
接着は得られない。
基板５Ｂとは、図１（ｄ）に示されるように、重ね合わ
せられる。第１感光性液晶モノマー層４と第２感光性液
晶モノマー層８とに基板１，６を透過する光で感光する
重合開始剤を混入させておけば、基板越しに露光して両
感光性液晶モノマー層４，８を硬化させることができ
る。この際、両感光性液晶モノマー層４，８の硬化によ
って、両基板１，６を接着させることが可能である。図
３に示されるように、単純に隔壁２０１上に配向膜２０
２を形成して両基板２０３，２０４を重ね合わせても、
配向膜−配向膜間の接着が弱いため安定した上下基板の
接着は得られない。
【００３０】このように配向性が良好であるので、両基
板５Ａ，５Ｂは強固に互いに接着する。更に、液晶層が
接する両基板の上下面の配向度が向上している。更に、
隔壁２の側面も第１感光性液晶モノマー層４に覆われて
いるため、隔壁２の側面にも配向方向が規定される。特
に、直線偏光した紫外光を配向膜表面に当てることは、
隔壁の側壁に配向方位を持たせることにには有効であ
る。周知のように、紫外線照射によって配向方向を決め
る方法には、大別して２種類ある。図４（ａ）に示され
るように、隔壁構造に沿った方向に偏光した紫外線を照
射する。これによって、第１配向膜３の中と第２配向膜
７の中とで光反応が誘起され、配向方向は隔壁の長手方
向に決まる。また、他の配向膜を用いれば、図４（ｂ）
に示されるように、隔壁の長手方向に垂直である方向の
偏光を照射して、配向方向を隔壁長手方向に設定するこ
とができる。
板５Ａ，５Ｂは強固に互いに接着する。更に、液晶層が
接する両基板の上下面の配向度が向上している。更に、
隔壁２の側面も第１感光性液晶モノマー層４に覆われて
いるため、隔壁２の側面にも配向方向が規定される。特
に、直線偏光した紫外光を配向膜表面に当てることは、
隔壁の側壁に配向方位を持たせることにには有効であ
る。周知のように、紫外線照射によって配向方向を決め
る方法には、大別して２種類ある。図４（ａ）に示され
るように、隔壁構造に沿った方向に偏光した紫外線を照
射する。これによって、第１配向膜３の中と第２配向膜
７の中とで光反応が誘起され、配向方向は隔壁の長手方
向に決まる。また、他の配向膜を用いれば、図４（ｂ）
に示されるように、隔壁の長手方向に垂直である方向の
偏光を照射して、配向方向を隔壁長手方向に設定するこ
とができる。
【００３１】いずれの場合でも、配向方向を隔壁長手方
向に設定することができる。この際に、隔壁側面の配向
膜も紫外線に晒されるので、同様に隔壁長手方向に配向
方向を持つ。この隔壁側面の配向膜の配向方向を徹底す
るためには、図５に示されるように、基板１の上方から
ある角度を持って紫外光を照射することが有効である。
図５に示される照射は、複数回に分けて角度を変えなが
ら行う紫外光の照射であることが好ましい。この結果、
図６に示されるように、液晶配向に有効な分子鎖１１が
概ね隔壁長手方向に整列した基板を得ることができる。
向に設定することができる。この際に、隔壁側面の配向
膜も紫外線に晒されるので、同様に隔壁長手方向に配向
方向を持つ。この隔壁側面の配向膜の配向方向を徹底す
るためには、図５に示されるように、基板１の上方から
ある角度を持って紫外光を照射することが有効である。
図５に示される照射は、複数回に分けて角度を変えなが
ら行う紫外光の照射であることが好ましい。この結果、
図６に示されるように、液晶配向に有効な分子鎖１１が
概ね隔壁長手方向に整列した基板を得ることができる。
【００３２】既述の工程は、図７に示す装置で実行する
ことができる。すなわち、図１（ｄ）に示される第１配
向層形成基板５Ａと第２配向膜形成基板５Ｂとを図７に
示される装置の中に設置する。両基板５Ａ，５Ｂを重ね
あわせた後、加圧機構２１により両基板５Ａ，５Ｂは加
圧され、セルギャップ間隔が調整される。その後に、光
照射装置２２から出力される紫外線により、感光性液晶
モノマー層４，８が光硬化される。この際に、酸素遮断
漕２３により、両基板５Ａ，５Ｂを大気中の酸素に晒さ
ないようにすることが重要である。これは、感光性液晶
モノマー４，８の光硬化が大気中の酸素により阻害され
るのを防ぐためである。
ことができる。すなわち、図１（ｄ）に示される第１配
向層形成基板５Ａと第２配向膜形成基板５Ｂとを図７に
示される装置の中に設置する。両基板５Ａ，５Ｂを重ね
あわせた後、加圧機構２１により両基板５Ａ，５Ｂは加
圧され、セルギャップ間隔が調整される。その後に、光
照射装置２２から出力される紫外線により、感光性液晶
モノマー層４，８が光硬化される。この際に、酸素遮断
漕２３により、両基板５Ａ，５Ｂを大気中の酸素に晒さ
ないようにすることが重要である。これは、感光性液晶
モノマー４，８の光硬化が大気中の酸素により阻害され
るのを防ぐためである。
【００３３】ＴＦＴ基板とカラーフィルター基板を張り
合わせる際には、両基板５Ａ，５Ｂの画素合わせが必要
である。この場合には、図７の装置に両基板５Ａ，５Ｂ
のアライメント機構を付加することも可能である。図１
によって得られた構造は、図８，９，１０の構造に置き
換え可能であることは明らかである。以上の構造は、上
基板と下基板の成膜種類を変えることにより、容易に作
成可能である。いずれの場合も、液晶層は上下基板と隔
壁側面に囲まれており、上下基板と隔壁側面が配向膜あ
るいは液晶性物質で覆われることになる。
合わせる際には、両基板５Ａ，５Ｂの画素合わせが必要
である。この場合には、図７の装置に両基板５Ａ，５Ｂ
のアライメント機構を付加することも可能である。図１
によって得られた構造は、図８，９，１０の構造に置き
換え可能であることは明らかである。以上の構造は、上
基板と下基板の成膜種類を変えることにより、容易に作
成可能である。いずれの場合も、液晶層は上下基板と隔
壁側面に囲まれており、上下基板と隔壁側面が配向膜あ
るいは液晶性物質で覆われることになる。
【００３４】また、経験的に配向処理方向とスメクティ
ック層３１の層方向が数度の角度ずれをすることが広く
知られている。この場合には、図１１に示されるよう
に、隔壁長手方向から配向処理方向を数度ずらすことに
より、安定してスメクティック層を隔壁長手方向に形成
させることができる。
ック層３１の層方向が数度の角度ずれをすることが広く
知られている。この場合には、図１１に示されるよう
に、隔壁長手方向から配向処理方向を数度ずらすことに
より、安定してスメクティック層を隔壁長手方向に形成
させることができる。
【００３５】図１の工程で作成した液晶パネル中にスメ
クティックＣ液晶を注入して、既述の温度勾配処理を施
せば、高いコントラスト比の配向状態を得ることができ
る。
クティックＣ液晶を注入して、既述の温度勾配処理を施
せば、高いコントラスト比の配向状態を得ることができ
る。
【００３６】図１２は、本発明による液晶表示装置の実
施の他の形態を示している。図１２（ａ）に示されるよ
うに、第１基板１上に隔壁２を形成する。この後、図１
２（ｂ）に示されるように、配向膜３を形成し配向処理
を施す。この後、高分子液晶層４１を形成する。一方、
第１基板１には、配向膜を形成し配向処理を施す。この
後、両基板５Ａ’，５ｂ’を重ね合わせて加熱する。こ
の際、加熱温度は高分子液晶のガラス転移温度以上が望
ましい。また、高分子液晶相がネマチック液晶相あるい
はスメクティックＡ液晶相を経験させることが望まし
い。この後、室温まで戻すと、上下基板は接着する。高
分子液晶層は配向膜の配向処理方向に配向する。
施の他の形態を示している。図１２（ａ）に示されるよ
うに、第１基板１上に隔壁２を形成する。この後、図１
２（ｂ）に示されるように、配向膜３を形成し配向処理
を施す。この後、高分子液晶層４１を形成する。一方、
第１基板１には、配向膜を形成し配向処理を施す。この
後、両基板５Ａ’，５ｂ’を重ね合わせて加熱する。こ
の際、加熱温度は高分子液晶のガラス転移温度以上が望
ましい。また、高分子液晶相がネマチック液晶相あるい
はスメクティックＡ液晶相を経験させることが望まし
い。この後、室温まで戻すと、上下基板は接着する。高
分子液晶層は配向膜の配向処理方向に配向する。
【００３７】以上のようにして作成した構造に、液晶を
注入する。注入された液晶は第１基板１上の高分子液晶
層４１と基板６上の配向膜３の影響で配向する。特に、
自発分極を有するスメクティックＣ液晶の場合には、注
入完了後に前述の温度勾配処理を行う。これにより、高
いコントラスト比を得ることができる。
注入する。注入された液晶は第１基板１上の高分子液晶
層４１と基板６上の配向膜３の影響で配向する。特に、
自発分極を有するスメクティックＣ液晶の場合には、注
入完了後に前述の温度勾配処理を行う。これにより、高
いコントラスト比を得ることができる。
【００３８】また、同様の構造として、図１３，１４，
１５を挙げることができる。これらの構造は、図１２の
上基板と下基板の成膜を変えることによって、容易に作
成することが可能である。いずれの場合も、液晶層は上
下基板と隔壁側面に囲まれており、上下基板と隔壁側面
が配向膜あるいは液晶性物質で覆われることになる。
１５を挙げることができる。これらの構造は、図１２の
上基板と下基板の成膜を変えることによって、容易に作
成することが可能である。いずれの場合も、液晶層は上
下基板と隔壁側面に囲まれており、上下基板と隔壁側面
が配向膜あるいは液晶性物質で覆われることになる。
【００３９】
【発明の効果】本発明による液晶表示方法、液晶表示装
置、及び、それの製造装置は、配向した液晶、特開昭平
−号には、配向したスメクティックＣ液晶を安定に得る
ことができる。その結果、高いコントラスト比を実現す
ることができる。
置、及び、それの製造装置は、配向した液晶、特開昭平
−号には、配向したスメクティックＣ液晶を安定に得る
ことができる。その結果、高いコントラスト比を実現す
ることができる。
【図１】図１（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は、本発
明による液晶表示装置の実施の形態を示す断面図であ
る。
明による液晶表示装置の実施の形態を示す断面図であ
る。
【図２】図２（ａ），（ｂ），（ｃ）は、それぞれに配
向性を示す断面図である。
向性を示す断面図である。
【図３】図３は、公知の接合を示す断面図である。
【図４】図４（ａ），（ｂ）は、紫外線の偏光を示す断
面図である。
面図である。
【図５】図５は、紫外線の照射方向を示す断面図であ
る。
る。
【図６】図６は、配向方向を示す射軸投影図である。
【図７】図７は、本発明による液晶表示装置の製造装置
の実施の形態を示す断面図である。
の実施の形態を示す断面図である。
【図８】図８は、本発明による液晶表示装置の実施の他
の形態を示す断面図である。
の形態を示す断面図である。
【図９】図９は、本発明による液晶表示装置の実施の更
に他の形態を示す断面図である。
に他の形態を示す断面図である。
【図１０】図１０は、本発明による液晶表示装置の実施
の更に他の形態を示す断面図である。
の更に他の形態を示す断面図である。
【図１１】図１１は、本発明による液晶表示装置の実施
の更に他の形態を示す射軸投影図図である。
の更に他の形態を示す射軸投影図図である。
【図１２】図１２は、本発明による液晶表示方法の実施
の更に他の形態を示す断面図である。
の更に他の形態を示す断面図である。
【図１３】図１３は、本発明による液晶表示装置の実施
の更に他の形態を示す断面図である。
の更に他の形態を示す断面図である。
【図１４】図１４は、本発明による液晶表示装置の実施
の更に他の形態を示す断面図である。
の更に他の形態を示す断面図である。
【図１５】図１５は、本発明による液晶表示装置の実施
の更に他の形態を示す断面図である。
の更に他の形態を示す断面図である。
【図１６】図１６は、本発明による液晶表示装置の実施
の更に他の形態を示す断面図である。
の更に他の形態を示す断面図である。
【図１７】図１７は、本発明による液晶表示装置の実施
の更に他の形態を示す断面図である。
の更に他の形態を示す断面図である。
【図１８】図１８は、本発明による液晶表示装置の実施
の更に他の形態を示す断面図である。
の更に他の形態を示す断面図である。
【図１９】図１９は、公知装置を示す断面図である。
【図２０】図２０は、液晶相と温度勾配の関係を示す断
面図である。
面図である。
【図２１】図２１は、液晶相の温度と液晶層の変形の関
係を示す射軸投影図である。
係を示す射軸投影図である。
【図２２】図２２は、ラビング処理を示す断面図であ
る。
る。
【図２３】図２３は、公知装置の状態を示す断面図であ
る。
る。
【図２４】図２４は、公知装置の他の状態を示す断面図
である。
である。
１…第１基板 ２…第１隔壁 ２’…第２隔壁 ３，４…第１配向層 ３…第１配向膜 ４…第１液晶層（第１配向膜） ３’…第２配向層 ４’…第２感光性液晶層 ４，８…感光性液晶層 ６…第２基板 ７，８…第２配向層 ７…第２配向膜 ８…第２液晶層（第２配向膜） ２１…加圧機構 ２２…露光機構 ２３…酸素遮断機構 ３１…液晶層
Claims (31)
- 【請求項１】第１基板と、 第２基板と、 前記第１基板に形成される隔壁と、 前記隔壁を覆う第１配向層と、 前記第２基板に形成される第２配向層とを含み、 前記第１配向層と前記第２配向層が対向して結合し、 液晶層が前記第１配向層と前記第２配向層との間に形成
される液晶表示装置。 - 【請求項２】前記第１基板は前記第１配向層に覆われ、
前記第２基板は前記第２配向層に覆われている請求項１
の液晶表示装置。 - 【請求項３】前記第１配向層の表面は前記隔壁と前記第
１基板に沿う凹凸面に形成されている請求項２の液晶表
示装置。 - 【請求項４】前記第２配向層の表面は、前記第２基板に
沿う平面に形成されている請求項３の液晶表示装置。 - 【請求項５】前記第２配向層の表面は前記隔壁と前記第
２基板に沿う凹凸面に形成されている請求項３の液晶表
示装置。 - 【請求項６】前記第１配向層は、 第１配向膜と、 前記第１配向膜の表面側に形成される第１液晶層とを備
える請求項１の液晶表示装置。 - 【請求項７】前記第２配向層は、 第２配向膜と、 前記第２配向膜の表面側に形成される第２液晶層とを備
える請求項６液晶表示装置。 - 【請求項８】前記第１液晶層と前記第２液晶層とは直接
に接合して結合している請求項７の液晶表示装置。 - 【請求項９】前記第１液晶層と前記第２液晶層とは、と
もに感光性液晶モノマーで形成され光硬化して直接に接
合している請求項８の液晶表示装置。 - 【請求項１０】前記第１液晶層と前記第２液晶層とは、
ともに高分子液晶で形成されている請求項８の液晶表示
装置。 - 【請求項１１】前記第１配向層は前記隔壁の長手方向に
平行ではない請求項１の液晶表示装置。 - 【請求項１２】前記第２配向層は前記隔壁の長手方向に
平行ではない請求項１１の液晶表示装置。 - 【請求項１３】前記第１配向層は、 第１配向膜と、 前記第１配向膜の表面側に形成される第１液晶層とを備
え、 前記第１配向膜の配向方向と前記第１液晶層の配向方向
は概ね同一である請求項１の液晶表示装置。 - 【請求項１４】前記第１液晶層はスメクチック液晶相に
形成されている請求項１３の液晶表示装置。 - 【請求項１５】前記第１液晶層は、自発分極を有する相
に形成されている請求項１３の液晶表示装置。 - 【請求項１６】第１基板に第１隔壁を形成することと、 前記第１隔壁に第１配向膜を形成し前記第１配向膜に配
向処理を施すことと、 第２基板に第２配向膜を形成し前記第２配向膜に配向処
理を施すことと、 前記第１配向膜と前記第２配向膜とを接合することとを
含む液晶表示方法。 - 【請求項１７】前記第１配向膜と前記第２配向膜とは感
光性液晶層で形成され、 前記接合することは、前記感光性液晶層が光硬化するこ
とである請求項１６の液晶表示方法。 - 【請求項１８】前記第１基板を透過させて前記感光性液
晶層を光硬化させることを更に含む請求項１７の液晶表
示方法。 - 【請求項１９】前記感光性液晶層は、感光性液晶モノマ
ー層であり、 感光性液晶モノマー層がネマチック相又はスメクティッ
クＡ相で硬化する請求項１７の液晶表示方法。 - 【請求項２０】前記第１配向膜と前記第２配向膜とは高
分子液晶層で形成され、 前記接合することは、前記高分子液晶層が加熱により硬
化することである請求項１６の液晶表示方法。 - 【請求項２１】前記高分子樹脂層がネマチック相又はス
メクティックＡ相で硬化する請求項２０の液晶表示方
法。 - 【請求項２２】前記第１隔壁に第１配向膜を形成するこ
とは、 前記隔壁に第１配向層を形成することと、 前記第１配向層に第１感光性液晶層を形成することとを
備え、 前記第２基板に第２配向膜を形成することは、 前記第２基板に第２配向層を形成することと、 前記第２配向層に第２感光性液晶層を形成することとを
備え、 前記第１感光性液晶層と前記第２感光性液晶層とが光硬
化して直接に接合する請求項１６の液晶表示方法。 - 【請求項２３】前記第２基板に第２隔壁を形成すること
を更に含み、 前記第２基板に第２配向膜を形成することは、前記第２
隔壁に前記第２配向膜を形成することであり、 前記第２隔壁に第２配向膜を形成することは、 前記第２隔壁に第２配向層を形成することと、 前記第２配向層に第２感光性液晶層を形成することとを
備え、 前記第１感光性液晶層と前記第２感光性液晶層とが光硬
化により直接に接合する請求項２２の液晶表示方法。 - 【請求項２４】前記第１隔壁に第１配向膜を形成するこ
とは、 前記第１隔壁に第１配向層を形成することと、 前記第１配向層に第１高分子液晶層を形成することとを
備え、 前記第２基板に第２配向膜を形成することは、 前記第２基板に第２配向層を形成することと、 前記第２配向層に第２高分子液晶層を形成することとを
備え、 前記第１高分子液晶層と前記第２高分子液晶層とが加熱
ににより直接に接合する請求項１６の液晶表示方法。 - 【請求項２５】前記第２基板に第２隔壁を形成すること
を更に含み、 前記第２基板に第２配向膜を形成することは、前記第２
隔壁に前記第２配向膜を形成することであり、 前記第２隔壁に第２配向膜を形成することは、 前記第２隔壁に第２配向層を形成することと、 前記第２配向層に第２高分子液晶層を形成することとを
備え、 前記第１高分子液晶層と前記第２高分子液晶層とが加熱
により直接に接合する請求項２４の液晶表示方法。 - 【請求項２６】前記第１隔壁に第１配向膜を形成するこ
とは、 前記第１隔壁に第１配向層を形成することと、 前記第１配向層に感光性液晶層を形成することとを備
え、 前記第２基板に第２配向膜を形成することは、 前記第２基板に高分子液晶層を形成することとを備え、 前記感光性液晶層と前記高分子液晶層とが光硬化して直
接に接合する請求項１６の液晶表示方法。 - 【請求項２７】前記第１隔壁に第１配向膜を形成するこ
とは、 前記第１隔壁に第１配向層を形成することと、 前記第１配向層に感光性液晶層を形成することとを備
え、 前記第２基板に第２配向膜を形成することは、 前記第２基板に第２配向層を形成することと、 前記第２配向層に高分子液晶層を形成することとを備
え、 前記感光性液晶層と前記高分子液晶層とが光硬化して直
接に接合する請求項１６の液晶表示方法。 - 【請求項２８】前記第１隔壁に第１配向膜を形成するこ
とは、 前記第１隔壁に第１配向層を形成することと、 前記第１配向層に高分子液晶層を形成することとを備
え、 前記第２基板に第２配向膜を形成することは、 前記第２基板に感光性液晶層を形成することとを備え、 前記感光性液晶層と前記高分子液晶層とが光硬化して直
接に接合する請求項１６の液晶表示方法。 - 【請求項２９】前記第１隔壁に第１配向膜を形成するこ
とは、 前記第１隔壁に第１配向層を形成することと、 前記第１配向層に高分子液晶層を形成することとを備
え、 前記第２基板に第２配向膜を形成することは、 前記第２基板に第１配向層を形成することと、 前記第２配向層に感光性液晶層を形成することとを備
え、 前記感光性液晶層と前記高分子液晶層とが加熱により直
接に接合する請求項１６の液晶表示方法。 - 【請求項３０】第１基板と、 第２基板と、 前記第１基板に形成される隔壁と、 前記隔壁を覆う第１配向層と、 前記第２基板に形成される第２配向層とを含み、 前記第１配向層と前記第２配向層が対向して結合し、 液晶層が前記第１配向層と前記第２配向層との間に形成
される液晶表示装置を製造する液晶表示装置の製造装置
であり、 前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせて加圧する
加圧機構と、 前記第１基板又は前記第２基板を透過して前記第１配向
層と前記第２配向層に光を照射する露光機構と、 前記第１配向層と前記第２配向層に対して酸素遮断雰囲
気を作成する酸素遮断機構とを含む液晶表示装置の製造
装置。 - 【請求項３１】前記第１基板と前記第２基板との位置合
わせを行う位置機構を更に含む請求項３０の液晶表示装
置の製造装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000202538A JP2002023164A (ja) | 2000-07-04 | 2000-07-04 | 液晶表示方法、液晶表示装置、及び、それの製造装置 |
| PCT/JP2001/005433 WO2002003131A1 (fr) | 2000-07-04 | 2001-06-26 | Procede et dispositif d'affichage a cristaux liquides, et appareil de fabrication d'affichage a cristaux liquides |
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|---|---|---|---|
| JP2000202538A JP2002023164A (ja) | 2000-07-04 | 2000-07-04 | 液晶表示方法、液晶表示装置、及び、それの製造装置 |
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|---|---|
| JP2002023164A true JP2002023164A (ja) | 2002-01-23 |
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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| WO (1) | WO2002003131A1 (ja) |
Cited By (10)
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|---|---|---|---|---|
| JP2004144866A (ja) * | 2002-10-23 | 2004-05-20 | Nec Corp | 液晶セルおよび液晶デバイス |
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