JP2002016125A

JP2002016125A - 基板回転装置

Info

Publication number: JP2002016125A
Application number: JP2000196435A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Shinozaki; 弘行篠崎
Original assignee: Ebara Corp
Current assignee: Ebara Corp
Priority date: 2000-06-29
Filing date: 2000-06-29
Publication date: 2002-01-18

Abstract

(57)【要約】【課題】基板並びに基板ホルダを積載し、支持・回転
する磁気軸受とモータを複合・集積化してユニット化
し、コンパクト化でき、且つ回転部負荷変動を許容でき
る基板回転装置を提供すること。【解決手段】環状のソリッドな磁性材からなるロータ
１３と、ソリッドな磁性材からなるヨーク（１５−１〜
３）を配置し、該ロータ１３とヨークとで形成される磁
気回路に直流磁束源（永久磁石１５−４、５）を設け、
ヨークには複数のアキシャル軸制御巻線及びラジアル軸
制御巻線を装着し、アキシャル軸制御巻線及びラジアル
軸制御巻線のそれぞれに交流電圧を印加するコントロー
ラを接続し、その電気回路に少なくともコンデンサを直
列に接続して自己制御型の磁気軸受を構成し、更にヨー
クには回転駆動巻線を設け直流磁束源による磁束と該回
転駆動巻線によりロータに回転駆動力を与えるモータと
を備えた基板回転装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は大口径の半導体ウエ
ハ等の基板の各種処理（成膜処理、アニール処理、酸化
拡散処理、スパッタ処理、エッチング処理等）を行う基
板処理装置に使用される基板回転装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来この種の技術として、米国特許第
６，０２２，４１３号明細書にされたものがある。これ
は基板を高速に回転させ基板処理の性能を向上させる装
置である。この装置は回転体が中空ロータであって、磁
気軸受により磁気力で支持し、モータにより磁気力で回
転駆動されるようになっている。しかしながら、この装
置は構造的に鉛直軸方向に長いスぺースを占有するた
め、装置デザイン上支障になることがある。また、中空
ロータの中央を貫通する装置構成部材の配置等設計自由
度を広げるために、該中空の口径を大きくしたいという
要望もある。

【０００３】また、アニール処理装置においては、従来
より被処理基板上の温度分布を改善するために、５〜７
０〔ｒｐｍ〕程度回転する構造とすることが、例えば、
米国特許第５，９６５，０４７号明細書で知られてい
る。基板並びに基板ホルダは円筒状の中空ロータに積載
され、該中空ロータはボールベアリングによって支持さ
れ、回転ギヤ連結された主回転軸によって伝達されてい
る。回転数が比較的低いため、中空ロータの口径が大き
くなったものの支持部材の周速度は低く、接触式の軸受
でも実用可能と思われていた。

【０００４】しかしながら、半導体デバイスの高集積化
に伴い、配線の線幅がますます狭くなり、接触式の軸受
ではパーティクルの発生等の問題から要求性能を満たせ
なくなっている。そのため、磁気軸受を採用し中空ロー
タを非接触で支持する構造が必須となっている。磁気軸
受化によって、より高速回転が可能になり、更に長寿命
化が達成できる。

【０００５】加えて、装置デザイン上、装置メンテナン
ス上の要請から鉛直軸方向に長く占有する構造は好まし
くない。したがって、磁気軸受とモータを備えたユニッ
トは扁平化させる必要がある。例えば特表平１１−５１
３８８０号公報には、磁気軸受とモータとを複合・集積
した扁平ユニット化された磁気浮上及び回転装置に関す
る技術が開示されている。この文献によれば、磁気支持
に基本的にフィードバック制御が不要で、パッシブコン
トロールで非接触磁気支持できるようになっている。

【０００６】また、この磁気浮上及び回転装置では、励
磁コイルとコントローラ間にコンデンサが直列に接続さ
れている。励磁コイルのある磁気回路上の主磁気抵抗要
素として、ステータ磁極とロータ磁極間のギャップがあ
り、このギャップの変化によってコイルのインダクタン
スが変動する。そのため、コイルとコンデンサによる直
列共振周波数より少し高い周波数の一定振幅交流電圧を
電気回路に印加すれば、ギャップが大きくなった所のコ
イルはインダクタンスが小さくなるので、コイル電流が
増加し、吸引力が増える。これと逆にギャップの小さく
なった所のコイルには電流が減少し、吸引力も減少す
る。結果として、バランス位置に制御ができる（＝パッ
シブコントロール）。

【０００７】但し、回転数が１２００〔ｒｐｍ〕ぐらい
の高速回転をする場合には、コントローラ側で切り替え
てフィードバック制御（＝能動制御）する。しかし、能
動制御するには、高価な変位センサが必要であるとして
いる。

【０００８】上記磁気支持技術は、１９６０年代盛んに
研究が進められ、日本でも１９７０年代にロケット等の
航法系の精度を高めるために、慣性センサ（積分ジャイ
ロ、誘導用加速度計）の軸受に適用する研究報告があ
る。即ち、公知の磁気浮上原理である。しかしながら、
少なくとも日本における研究成果では静止安定性は実現
できるものの、動的安定性はさらに二次的な減衰要素を
付加する必要があると断定する論文報告もあり、以後軸
受と称する部位のみでは、完全非接触が実現できないと
理解され、磁気軸受の分類から消えていた技術である。
以下、この技術を直列共振型磁気軸受と呼ぶ。ちなみ
に、誘導反発力によって磁気支持する方式は、並列共振
型である。

【０００９】上記特表平１１−５１３８８０号公報に開
示されている回転装置は基板回転装置として優れた特性
を有することは明らかであるが、例えば半導体製造装置
に使用される基板回転装置では常に改良改善が図られ、
進化し続ける宿命があり、積載する基板、該基板を保持
する基板ホルダ（基板サセプタ）等の静的な質量負荷、
プロセスガス・リキッドによる動的な負荷等の磁気軸受
への負荷は変わっていく。特に鉛直軸方向に作用する負
荷の変動を容易に許容できることが望まれている。

【００１０】しかしながら、上記特表平１１−５１３８
８０号公報に開示された回転装置の構造は、鉛直方向の
負荷許容値が初期設計により決まってしまい、完成品を
何らかの調整によってその許容値を拡大することはでき
ない。言い換えれば、製作前に積載負荷仕様が厳密に決
まっている必要がある。

【００１１】高集積度が要求される次世代の半導体デバ
イスにおいては、デザインルールで配線の線幅を０．１
μｍ以下にすることが要求されている。このような高集
積度の半導体デバイスの製造装置の開発においては、更
なる装置性能の改善が要求され、装置デザインの自由度
が要求される。そのため基板回転装置においても、基板
並びに基板ホルダ（基板サセプタ）を積載し、支持・回
転する磁気軸受とモータの複合・集積してユニット化す
ること、更にコンパクト化することが要望される。ま
た、回転部負荷変動を許容できることも要望される。特
に、新しい基板回転装置設計に際しては、基板ホルダ等
の基板周辺部品は、プロセス性能上の重要な要素である
ため、完成時にようやく構造が確定するという事情があ
り、回転部負荷変動を許容できることが要望される。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の点に鑑
みてなされたもので、基板並びに基板ホルダを積載し、
支持・回転する磁気軸受とモータを複合・集積化してユ
ニット化し、コンパクト化でき、且つ回転部負荷変動を
許容できる基板回転装置を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項１に記載の発明は、環状のソリッドな磁性材から
なるロータと、該ロータの外周に配置されたソリッドな
磁性材からなるヨークを配置し、該ロータとヨークとで
形成される磁気回路に直流磁束源を設け、前記ヨークに
は複数のアキシャル軸制御巻線及びラジアル軸制御巻線
を装着し、該アキシャル軸制御巻線及びラジアル軸制御
巻線のそれぞれに交流電圧を印加するコントローラを接
続し、その電気回路に少なくともコンデンサを直列に接
続して自己制御型の磁気軸受を構成し、更に前記ヨーク
には回転駆動巻線を設け前記直流磁束源による磁束と該
回転駆動巻線により前期ロータに回転駆動力を与えるモ
ータとを備えたことを特徴とする基板回転装置にある。

【００１４】上記のようにアキシャル軸制御巻線及びラ
ジアル軸制御巻線に交流電圧を印加する電気回路にコン
デンサを直列に接続して自己制御型の磁気軸受とするこ
とにより、高価な変位センサが不要で且つコントローラ
を構成の簡単なパッシブコントローラとすることができ
る。

【００１５】また、アキシャル軸制御巻線により鉛直軸
方向の負荷能力を調整できる磁気回路構造とするので、
例えば半導体製造装置の進化に追従できる基板回転装置
とすることができる。

【００１６】また、ロータ及びヨークをソリッドな磁性
材で構成するので，磁気回路上のヒステリヒス損・渦電
流損によって、ロータ運動に減衰作用を与えるから、オ
イルダンパーなどの別途の減衰機構を設ける必要がな
く、クリーンな構造となる。

【００１７】磁気支持のための磁気回路と回転駆動のた
めの磁気回路を複合化しているので、装置をコンパクト
な構造とすることができる。

【００１８】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の基板回転装置において、ヨーク鉛直方向に上中下の３
段構成であり、上ヨークと中ヨークの間及び中ヨークと
下ヨークの間に直流磁束源である永久磁石を配置し、上
ヨークにアキシャル軸制御巻線、中ヨークに回転駆動巻
線、下ヨークにラジアル軸制御巻線をそれぞれ装着した
ことを特徴とする。

【００１９】請求項３に記載の発明は、請求項２に記載
の基板回転装置において、上ヨークの先端面とロータ上
端面の間に磁極ピースを配置したことを特徴とする。

【００２０】請求項４に記載の発明は、請求項３に記載
の基板回転装置において、上ヨークの先端をロータ上端
面まで延ばしていることを特徴とする。

【００２１】請求項５に記載の発明は、請求項１又は２
に記載の基板回転装置において、ヨーク及び各巻線等か
らなるステータとロータの間に非磁性材からなる隔壁を
設け、該ステータを該ロータが位置する空間から隔絶し
たことを特徴とする。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態例を図
面に基づいて説明する。図１は本発明に係る基板回転装
置を使用する基板処理装置の断面構成を示す図であり、
図２はその回転装置部分を示す図、図３は図１のＩ−Ｉ
断面矢視図、図４は図１のII−II断面矢視図、図５は図
１のIII−III断面矢視図である。

【００２３】図において、１は基板の処理を行う基板処
理室、１０は基板回転装置である。基板回転装置１０は
その上部が基板処理室１の中央部に位置するように配置
されている。本基板処理装置は鉛直軸をＺ軸に三次元直
交座標上に置き、基板処理室１の中央部に位置する基板
回転装置１０の基板ホルダ１１上に被処理基板１２を搬
入し、希望の処理を実施できるようになっている。３は
基板処理室１の搬出入口に設けられた仕切弁である。

【００２４】基板処理室１の上部内壁には、ランプヒー
タ２が被処理基板１２に対向するように配置されてお
り、処理のためのエネルギーを熱エネルギーとして被処
理基板１２へ供給する。１３はリング状のロータであ
り、該ロータ１３に支持部材１４を介して基板ホルダ１
１が支持されるようになっている。１５はステータであ
り、該ステータ１５はロータ１３を取り囲むようにロー
タ１３の外周に配置されている。ロータ１３は磁気力に
よってステータ１５と結合し、支持されている。ステー
タ１５は隔壁１６によって基板処理室１内の空間と隔絶
されている。なお、４、５は基板処理室１の側壁に設け
られた冷却水等の冷媒を通す冷媒ライン、６はランプヒ
ータ２からの熱エネルギーを反射させる反射板、７は被
処理基板１２を突き上げる基板突上げピンである。

【００２５】ステータ１５は、アキシャル制御巻線付ヨ
ーク１５−１、回転駆動巻線付ヨーク１５−２、ラジア
ル制御巻線付ヨーク１５−３、永久磁石（直流磁束源
１）１５−４、永久磁石（直流磁束源２）１５−５で構
成されている。また、隔壁１６の基板処理室１側に磁極
ピース１５−６を備え、この磁極ピース１５−６下面と
ロータ１３上面間で磁気吸引力が作用し、鉛直方向の主
支持力を発生させる。その詳細は図２乃至図５に示す。

【００２６】被処理基板１２にはシリコン基板、石英基
板、ゲルマニウム基板が用いられる。基板ホルダ１１
は、石英、炭化珪素（ＳｉＣ）、ステアタイト（ＭｇＯ
・ＳｉＯ₂）、ムライト（３Ａｌ₂Ｏ₃・２ＳｉＯ₂）など
の材料で構成されている。支持部材１４は、石英、炭化
珪素（ＳｉＣ）、ステアタイト（ＭｇＯ・ＳｉＯ₂）、
ムライト（３Ａｌ₂Ｏ₃・２ＳｉＯ₂）、ステンレス鋼な
どの材料で構成されている。

【００２７】ロータ１３は、パーマロイ（ＰＢ、Ｐ
Ｃ）、電磁ステンレス鋼、Ｆｅ−Ｓｉ鋼、電磁軟鉄（Ｓ
ＵＹ−Ｂ、ＳＵＹ−Ｐ）等の磁性材で構成されている。
また、耐蝕性を改善する場合にはニッケルメッキ等のコ
ーティングを行っている。隔壁１６は、オーステナイト
系ステンレス鋼（ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３０４）、ポリ
エーテル・エーテルケトン（ＰＥＥＫ）、アルミニウム
合金等の非磁性材で構成されている。

【００２８】アキシャル制御巻線付ヨーク１５−１、回
転駆動巻線付ヨーク１５−２、ラジアル制御巻線付ヨー
ク１５−３の各ヨークは、ソリッドなパーマロイ（Ｐ
Ｂ、ＰＣ）、電磁ステンレス鋼、Ｆｅ−Ｓｉ鋼の磁性材
を用いる。永久磁石１５−４、永久磁石１５−５には、
サマリウム・コバルト系の磁石、鉄・ネオジム・ボロン
系磁石を用いる。また、耐蝕性を改善する場合にはニッ
ケルメッキなどのコーティングを行っている。

【００２９】アキシャル制御巻線付ヨーク１５−１、回
転駆動巻線付ヨーク１５−２、ラジアル制御巻線付ヨー
ク１５−３は、そのヨーク形状、コイル形状・数を同一
とした例を示している。このようなことが可能なため、
部品の共有化ができ、部品点数の低減によるコストメリ
ットも期待できる。

【００３０】監視用変位センサ１７、１８、１９はそれ
ぞれＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の軸変位を検出し、図示しないコ
ントローラに信号を送り、該コントローラでロータ１３
の位置の異常検出等に使用される。

【００３１】上記基板処理装置の基板回転装置１０のア
キシャル制御巻線付ヨーク１５−１、回転駆動巻線付ヨ
ーク１５−２、ラジアル制御巻線付ヨーク１５−３、ロ
ータ１３及び磁極ピース１５−６で形成される磁気回路
部、永久磁石１５−４、１５−５による磁束分布は図２
に示すようになっている。Φ１は永久磁石（直流磁束源
１）１５−４による磁束で、Φ２は永久磁石（直流磁束
源２）１５−５による磁束を示す。図示するように、磁
極ピース１５−６下面とロータ１３上面間で作用する主
支持力を発生させる磁気支持用磁気回路とロータ１３を
回転駆動させる回転駆動用磁気回路とを共有化・複合化
している。

【００３２】隔壁１６の内側には図３に示すように、ス
テータ磁路の一部が点在している。この構造とすること
で、ステータ１５の組立性が向上する。永久磁石（直流
磁束源１）１５−４による磁束Φ１はアキシャル制御巻
線付ヨーク１５−１、回転駆動巻線付ヨーク１５−２を
通り閉じている。また、永久磁石（直流磁束源２）１５
−５による磁束Φ２は回転駆動巻線付ヨーク１５−２、
ラジアル制御巻線付ヨーク１５−３を通り閉じている。

【００３３】アキシャル制御巻線付ヨーク１５−１の断
面構造は図３に示すように、円周上に等間隔で配置され
た多数（図では４８個）の磁極１５−１ｂに巻線コイル
１５−１ａが装着された構造である。巻線コイル１５−
１ａには図示しないコントローラより交流電圧が印加さ
れ、その電気回路上に直列にコンデンサを備えている。
また、巻線コイル１５−１ａの巻線形状は全て同じであ
るが、円周上を均等に４つのグループＺ１、Ｚ２、Ｚ
３、Ｚ４に分け、図示しない駆動コントローラにそれぞ
れ接続してもよい。被処理基板１２の大口径化に伴い、
このグループ分けは細分化した方が好ましい。グループ
分けすることにより、ラジアルＸ軸、Ｙ軸回りの傾き運
動も制御できる。

【００３４】この磁気軸受の技術は、「ＬＲＣ共振回路
を利用した磁気支持装置の動特性解析」、電気学会誌、
ＶＯＬ．９４−Ｂ，Ｎｏ．９、論文番号：４９−Ｂ５
５、１９７４年や、「自己制御型八極磁気軸受方式の理
論解析」、精密機械、４０巻７号、１９７４年等の文献
により公知の技術である。この磁気軸受は、上記のよう
に少なくとも日本における研究成果では、静的安定性は
実現できるものの、動的安定性はさらに二次的な減衰要
素を付加する必要があると断定した論文報告もあり、以
後軸受と称する部位のみでは、完全非接触が実現できな
いと理解され、磁気軸受の分類から消えた技術である。

【００３５】そこで、動的安定性は、磁気回路を構成す
る磁性材をあえてソリッドな（積層化しない）ものを使
いヒステリシス損、渦電流損が発生しやすくし、永久磁
石などの直流励磁源を備え、磁気回路上の抵抗であるギ
ャップが変化する運動がある時、減衰作用が生じること
を利用して減衰要素＝ダンパを併せ持つことによって、
動的安定性を得る構造としている。また、ステータ１５
とロータ１３を隔絶する非磁性材からなる隔壁１６に発
生する二次回路も動的安定性を得ることに寄与する。

【００３６】回転駆動巻線付ヨーク１５−２の断面構造
は、図４に示すようになっており、この面には永久磁石
１５−４と永久磁石１５−５により磁極端はＮ極になっ
ている。即ち、この周上には単極しかないので、ホモポ
ーラモータに分類される。円周上に等間隔で配置された
多数（図では４８個）の磁極１５−２ｂに巻線コイル１
５−２ａが装着されている。巻線コイル１５−２ａの巻
線形状は全て同じであるが、大きく３つのグループ（Ａ
・Ａ’、Ｂ・Ｂ’、Ｃ・Ｃ’）に分け、図示しない駆動
コントローラによって制御される。

【００３７】ラジアル制御巻線付ヨークの断面構造は、
図５に示すようになっている。磁気軸受の原理は上述し
たアキシャル制御巻線付ヨーク１５−１と同じである。
従って、位置制御のための高価な変位センサ、複雑な制
御回路を用いたフィードバック制御は不要になる。

【００３８】図６は本発明に係る基板回転装置の他の断
面構成例を示す図である。本基板回転装置が図２に示す
基板回転装置の断面構造と異なる点は、磁極ピース１５
−６が無く、アキシャル制御巻線付ヨーク１５−１へ一
体化している点である。このように別体の磁気ピースを
設けることなく、アキシャル制御巻線付ヨーク１５−１
と一体化することにより、図２に示す構造に比べて組立
性が改善される。

【００３９】図７は本発明に係る基板回転装置の他の断
面構成例を示す図である。本基板回転装置が図６に示す
基板回転装置の断面構造と異なる点は、監視用変位セン
サ１７、１８、１９をロータ１３の外側に配置している
点である。このように監視用変位センサ１７、１８、１
９をロータ１３の外側に配置することによって、ロータ
１３の内側を基板処理装置の構成部品（例えば半導体製
造装置の構成部品）が占める空間として利用できる。

【００４０】

【発明の効果】以上、説明したように各請求項に記載の
発明によれば、下記のような優れた効果が得られる。

【００４１】アキシャル軸制御巻線及びラジアル軸制
御巻線に交流電圧を印加する電気回路にコンデンサを直
列に接続して自己制御型の磁気軸受とすることにより、
高価な変位センサが不要で且つコントローラを構成の簡
単なパッシブコントローラとすることができ、基板回転
装置を低コストで提供できる。

【００４２】また、アキシャル軸制御巻線により鉛直
軸方向の負荷能力を調整できる磁気回路構造とするの
で、例えば半導体製造装置の進化に追従できる基板回転
装置を提供できる。

【００４３】また、ロータ及びヨークをソリッドな磁
性材で構成するので，磁気回路上のヒステリシス損・渦
電流損によって、ロータ運動に減衰作用を与えるから、
オイルダンパーなどの別途の減衰機構を設ける必要がな
く、クリーンな構造の基板回転装置を提供できる。

【００４４】磁気支持のための磁気回路と回転駆動の
ための磁気回路を複合化しているので、コンパクトな構
造の基板回転装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板回転装置を使用する基板処理
装置の断面構成例を示す図である。

【図２】本発明に係る基板回転装置の断面構成例を示す
図である。

【図３】図１のＩ−Ｉ断面矢視図である。

【図４】図１のII−II断面矢視図である。

【図５】図１のIII−III断面矢視図である。

【図６】本発明に係る基板回転装置の断面構成例を示す
図である。

【図７】本発明に係る基板回転装置の断面構成例を示す
図である。

【符号の説明】

１基板処理室２ランプヒータ３仕切弁４冷媒ライン５冷媒ライン６反射板７基板突上げピン１０基板回転装置１１基板ホルダ１２被処理基板１３ロータ１４支持部材１５ステータ１５−１アキシャル制御巻線付ヨーク１５−２回転駆動巻線付ヨーク１５−３ラジアル制御巻線付ヨーク１５−４永久磁石（直流磁束源１）１５−５永久磁石（直流磁束源２）１５−６磁極ピース１６隔壁１７監視用変位センサ（Ｘ軸用）１８監視用変位センサ（Ｙ軸用）１９監視用変位センサ（Ｚ軸用）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｌ 21/22 ５１１Ｈ０１Ｌ 21/22 ５１１Ｑ５Ｆ０４５ 21/3065 21/324 Ｑ 21/324 21/302 ＢＦターム(参考） 3J102 AA01 BA03 BA19 CA19 DA03 DA06 DA16 DA28 GA19 GA20 4K029 AA04 AA06 BD01 CA05 GA01 JA02 4K030 CA04 CA12 DA09 GA06 KA34 KA46 5F004 BD04 BD05 CA05 5F031 CA02 HA59 LA04 MA28 MA29 MA30 MA32 5F045 EM10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】環状のソリッドな磁性材からなるロータ
と、該ロータの外周に配置されたソリッドな磁性材から
なるヨークを配置し、該ロータとヨークとで形成される
磁気回路に直流磁束源を設け、前記ヨークには複数のア
キシャル軸制御巻線及びラジアル軸制御巻線を装着し、
該アキシャル軸制御巻線及びラジアル軸制御巻線のそれ
ぞれに交流電圧を印加するコントローラを接続し、その
電気回路に少なくともコンデンサを直列に接続して自己
制御型の磁気軸受を構成し、更に前記ヨークには回転駆
動巻線を設け前記直流磁束源による磁束と該回転駆動巻
線により前期ロータに回転駆動力を与えるモータとを備
えたことを特徴とする基板回転装置。
【請求項２】請求項１に記載の基板回転装置におい
て、前記ヨーク鉛直方向に上中下の３段構成であり、上ヨー
クと中ヨークの間及び中ヨークと下ヨークの間に前記直
流磁束源である永久磁石を配置し、上ヨークにアキシャ
ル軸制御巻線、中ヨークに回転駆動巻線、下ヨークにラ
ジアル軸制御巻線をそれぞれ装着したことを特徴とする
基板回転装置。
【請求項３】請求項２に記載の基板回転装置におい
て、前記上ヨークの先端面と前記ロータ上端面の間に磁極ピ
ースを配置したことを特徴とする基板回転装置。
【請求項４】請求項３に記載の基板回転装置におい
て、前記上ヨークの先端を前記ロータ上端面まで延ばしてい
ることを特徴とする基板回転装置。
【請求項５】請求項１又は２に記載の基板回転装置に
おいて、前記ヨーク及び各巻線等からなるステータと前記ロータ
の間に非磁性材からなる隔壁を設け、該ステータを該ロ
ータが位置する空間から隔絶したことを特徴とする基板
回転装置。