JP2002015663A - Method for manufacturing plasma display panel - Google Patents
Method for manufacturing plasma display panelInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 誘電体ガラス層の耐電圧性の課題を克服する
のに有効なプラズマディスプレイパネルの製造方法を提
供すること。
【解決手段】 減圧レベリング装置50の載置台53の
上に、誘電体ガラスペースト55を塗布したガラス基板
56(前面ガラス基板の表面に放電電極が形成されたも
の)を載せた後、減圧ポンプ52を作動させることで、
一定圧に容器51の内部空間54を減圧状態とする。こ
れにより、放置する前に塗布層中に存在している気泡5
7を、図中矢印58にて示すように容器51の内部空間
54中に向けて確実に脱泡することが可能となる。
(57) [Problem] To provide a method of manufacturing a plasma display panel effective for overcoming the problem of the withstand voltage of a dielectric glass layer. SOLUTION: A glass substrate 56 (a surface of a front glass substrate having a discharge electrode formed thereon) coated with a dielectric glass paste 55 is placed on a mounting table 53 of a vacuum leveling device 50, and then a vacuum pump 52 is provided. By operating
The internal space 54 of the container 51 is reduced to a constant pressure. As a result, bubbles 5 existing in the coating layer before leaving
7 can be reliably degassed toward the interior space 54 of the container 51 as shown by the arrow 58 in the figure.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイスなど
に用いるプラズマディスプレイパネルの製造方法に関
し、特に誘電体ガラス層の改良を図るためのプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a plasma display panel used for a display device or the like, and more particularly to a method for manufacturing a plasma display panel for improving a dielectric glass layer.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、ハイビジョンをはじめとする高品
位、大画面テレビへの期待が高まっている。このような
テレビのための表示デバイスとして、従来、CRTや液
晶やプラズマディスプレイパネルが用いられている。こ
のうち、CRTは、解像度・画質の点でプラズマディス
プレイパネルや液晶に対して優れているが、奥行きと質
量の点で40インチ以上の大画面には向いていない。一
方液晶は、消費電力が少なく、駆動電圧も低いという優
れた性能を有しているが、画面の大きさや視野角に限界
がある。これに対して、プラズマディスプレイパネル
は、大画面の実現が可能であり、すでに40インチクラ
スの製品が開発されている(例えば、「機能材料」19
96年2月号Vol.16、No.2 7ページ)。2. Description of the Related Art In recent years, expectations for high-definition and large-screen televisions including high-definition televisions have been increasing. Conventionally, CRTs, liquid crystals, and plasma display panels have been used as display devices for such televisions. Among them, the CRT is superior to a plasma display panel and a liquid crystal in terms of resolution and image quality, but is not suitable for a large screen of 40 inches or more in terms of depth and mass. Liquid crystals, on the other hand, have excellent performances such as low power consumption and low driving voltage, but have limitations in screen size and viewing angle. On the other hand, a plasma display panel is capable of realizing a large screen, and a 40-inch class product has already been developed (for example, “functional material” 19).
Vol. 16, No. 27 pages).
【0003】図11は、従来の交流型(AC型)のプラ
ズマディスプレイパネルの要部斜視図を示したものであ
る。この図11において、111は、フロート法による
硼硅酸ナトリウム系ガラスよりなる前面ガラス基板であ
る。この前面ガラス基板111の表面には、放電電極1
12が形成され、そして、それを覆うように誘電体ガラ
ス層113が形成され、更に、この誘電体ガラス層11
3の表面を酸化マグネシウム(MgO)誘電体保護層1
14が覆っている。FIG. 11 is a perspective view of a main part of a conventional alternating current (AC) type plasma display panel. In FIG. 11, reference numeral 111 denotes a front glass substrate made of a sodium borosilicate glass by a float method. Discharge electrodes 1 are provided on the surface of front glass substrate 111.
12 is formed, and a dielectric glass layer 113 is formed so as to cover the dielectric glass layer 12.
The surface of magnesium oxide (MgO) dielectric protective layer 1
14 is covered.
【0004】115は背面ガラス基板であり、この背面
ガラス基板115の表面にはアドレス電極116が形成
され、そして、これを覆うように誘電体ガラス層117
が設けられ、更にその表面に隔壁118、蛍光体層11
9が設けられている。そして、隔壁118間が、放電ガ
スを封入する放電空間120となっている。そして、前
記誘電体ガラス層113、117は、一般的には平均粒
子径2μm〜15μmのガラス粉末を含むぺ-ストをス
クリーン印刷法、ダイコート法等の印刷法を用いて塗布
印刷した後、これを乾燥、焼成させることで形成され、
コンデンサの働きを担うものである。従って、優れた耐
圧が要求される。Reference numeral 115 denotes a rear glass substrate, on which an address electrode 116 is formed, and a dielectric glass layer 117 is formed so as to cover the address electrode 116.
Are provided, and the partition wall 118 and the phosphor layer 11 are further provided on the surface thereof.
9 are provided. The space between the partition walls 118 is a discharge space 120 in which a discharge gas is sealed. The dielectric glass layers 113 and 117 are generally coated with a paste containing glass powder having an average particle diameter of 2 μm to 15 μm using a printing method such as a screen printing method or a die coating method. Is formed by drying and firing
It functions as a capacitor. Therefore, excellent withstand voltage is required.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のように
な印刷法によって形成される誘電体ガラス層113及び
117においては、気泡が残存することが多く、絶縁耐
圧に優れた緻密な膜が安定して作製されない。この要因
として、ペーストを攪拌装置等で攪拌する際にペースト
中に空気を巻き込むことや、ペーストが基板に塗布され
る際に空気を巻き込むことなどが挙げられる。However, in the dielectric glass layers 113 and 117 formed by the printing method as described above, air bubbles often remain, and a dense film having excellent withstand voltage is stable. Not produced. The factors include, for example, entrainment of air into the paste when the paste is stirred by a stirrer or the like, and entrainment of air when the paste is applied to the substrate.
【0006】通常、誘電体ガラス層の材料を含むペース
トを塗布印刷した後、塗布層の表面を平坦にするため
に、一定時間前記塗布層を放置する(この処理は一般に
レベリングと呼ばれる。)ので、この放置期間中に塗布
層の表面部分に存在する気泡の若干量は抜けると思われ
るが、これでも十分とは言えない。また、空気等のガス
が存在しない真空下で誘電体ガラスペーストを塗布印刷
することで、上記した印刷時の気泡の巻き込みを防ぐこ
とができると思われるが、このような印刷技術はプラズ
マディスプレイパネルの製造方法として開発されていな
い。Usually, after applying and printing a paste containing the material of the dielectric glass layer, the coating layer is left for a certain period of time in order to flatten the surface of the coating layer (this process is generally called leveling). It is thought that some of the air bubbles existing on the surface of the coating layer during this standing period will escape, but this is not sufficient. In addition, by applying and printing a dielectric glass paste under vacuum in which gas such as air does not exist, it is considered that the entrapment of air bubbles at the time of the above-described printing can be prevented, but such a printing technique is used for a plasma display panel. It has not been developed as a manufacturing method.
【0007】そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてな
されたものであって、誘電体ガラス層の耐電圧性の課題
を克服するのに有効なプラズマディスプレイパネルの製
造方法を提供することを目的とする。Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a method of manufacturing a plasma display panel which is effective in overcoming the problem of withstand voltage of a dielectric glass layer. Aim.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、第一の基板本体の表面に第一の誘電体ガ
ラス層を形成してなる第一の基板を作製する第一の基板
作製工程と、第二の基板本体の表面に第二の誘電体層及
び蛍光体層が形成されてなる第二の基板を作製する第二
の基板作製工程とを備え、前記第一の基板作製工程及び
/又は第二の基板作製工程は、基板本体に誘電体ガラス
層の形成材料を含むペーストを塗布して塗布層を形成す
る第一のステップと、当該第一のステップの後、減圧雰
囲気下で前記塗布層を放置する第二のステップと、当該
第二のステップの後、前記放置させた塗布層を乾燥させ
る第三のステップと、当該第三のステップの後に乾燥さ
せた前記塗布層を焼成する第四のステップとを含むこと
を特徴とする。In order to achieve the above object, the present invention provides a first substrate for forming a first substrate having a first dielectric glass layer formed on a surface of a first substrate body. A substrate manufacturing step, comprising a second substrate manufacturing step of manufacturing a second substrate formed by forming a second dielectric layer and a phosphor layer on the surface of the second substrate body, the first substrate The substrate manufacturing step and / or the second substrate manufacturing step includes a first step of applying a paste containing a material for forming a dielectric glass layer to the substrate body to form a coating layer, and after the first step, A second step of leaving the coating layer under a reduced-pressure atmosphere, and after the second step, a third step of drying the coating layer that has been left, and drying after the third step. And a fourth step of firing the coating layer.
【0009】これにより、減圧雰囲気下で前記塗布層を
放置する第二のステップを経た後、前記第三のステッ
プ、前記第四のステップを経ることから、第二のステッ
プで、塗布層内にペースト塗布時に巻き込まれた気泡を
脱泡してから乾燥及び焼成することになるので、最終的
に出来上った誘電体ガラス層内に残る気泡数を確実に減
らすことができる。Thus, after passing through the second step of leaving the coating layer in a reduced-pressure atmosphere, and then passing through the third step and the fourth step, in the second step, the Since the air bubbles entrained at the time of applying the paste are defoamed and then dried and fired, the number of air bubbles remaining in the finally formed dielectric glass layer can be surely reduced.
【0010】また、上記目的を達成するために、本発明
は、第一の基板本体の表面に第一の誘電体ガラス層を形
成してなる第一の基板を作製する第一の基板作製工程
と、第二の基板本体の表面に第二の誘電体層及び蛍光体
層が形成されてなる第二の基板を作製する第二の基板作
製工程とを備え、前記第一の基板作製工程及び/又は第
二の基板作製工程は、基板本体に誘電体ガラス層の形成
材料を含むペーストを塗布して塗布層を形成する第五の
ステップと、当該第五のステップの後、減圧雰囲気下で
前記塗布層を放置するとともに加熱乾燥させる第六のス
テップと、当該第六のステップの後に乾燥させた前記塗
布層を焼成する第七のステップとを含むことを特徴とす
る。In order to achieve the above object, the present invention provides a first substrate manufacturing step for manufacturing a first substrate having a first dielectric glass layer formed on a surface of a first substrate body. And a second substrate producing step of producing a second substrate formed by forming a second dielectric layer and a phosphor layer on the surface of the second substrate body, the first substrate producing step and And / or the second substrate manufacturing step includes a fifth step of applying a paste containing a material for forming a dielectric glass layer to the substrate body to form a coating layer, and after the fifth step, under a reduced pressure atmosphere. The method includes a sixth step of leaving the coating layer and drying it by heating, and a seventh step of baking the dried coating layer after the sixth step.
【0011】これにより、減圧雰囲気下で前記塗布層を
放置する第五のステップを経た後、前記第六のステッ
プ、前記第七のステップを経ることから、第六のステッ
プで、塗布層内にペースト塗布時に巻き込まれた気泡を
脱泡してから乾燥及び焼成することになるので、最終的
に出来上った誘電体ガラス層内に残る気泡数を確実に減
らすことができる。更に、当該第五のステップでは脱泡
を行うと共に、塗布層の乾燥をもほぼ同時に行うことが
できるので、その分工程数を減らすことが可能となる。According to this, after passing through the fifth step of leaving the coating layer in a reduced-pressure atmosphere, and then passing through the sixth step and the seventh step, in the sixth step, the Since the air bubbles entrained at the time of applying the paste are defoamed and then dried and fired, the number of air bubbles remaining in the finally formed dielectric glass layer can be surely reduced. Furthermore, in the fifth step, defoaming can be performed, and drying of the coating layer can be performed almost simultaneously, so that the number of steps can be reduced accordingly.
【0012】ここで、前記第六のステップにおける乾燥
は、基板本体の塗布層が印刷されていない裏面側からの
熱伝導を利用して行われるものとすることができる。こ
こで、前記熱伝導の熱源にはホットプレートを用いるこ
とができる。ここで、前記第六のステップにおける乾燥
は、輻射熱により行われるものとすることができる。Here, the drying in the sixth step may be performed by utilizing heat conduction from the back side of the substrate body where the coating layer is not printed. Here, a hot plate can be used as a heat source for the heat conduction. Here, the drying in the sixth step may be performed by radiant heat.
【0013】ここで、前記輻射熱の熱源にはIRを用い
ることができる。Here, IR can be used as the heat source of the radiant heat.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】本発明にかかる実施の形態のプラ
ズマディスプレイパネル(以下「PDP」という。)の
構成及びその製造方法について図面を参照しながら説明
する。初めに、PDPの構成について説明する。図1
は、以下に述べる実施形態に共通の交流面放電型PDP
の要部斜視図であり、 図2は、図1のX−X線を含む
垂直断面図、図3は、図1のY−Y線を含む垂直断面図
である。なお、これらの図では便宜上セルが3つだけ示
されているが、実際には赤(R),緑(G),青(B)
の各色を発光するセルが多数配列されてPDPが構成さ
れている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A configuration of a plasma display panel (hereinafter referred to as "PDP") according to an embodiment of the present invention and a method of manufacturing the same will be described with reference to the drawings. First, the configuration of the PDP will be described. Figure 1
Is an AC surface discharge type PDP common to the embodiments described below.
2 is a vertical sectional view including a line XX of FIG. 1, and FIG. 3 is a vertical sectional view including a YY line of FIG. 1. In these figures, only three cells are shown for convenience, but actually, red (R), green (G), and blue (B)
A large number of cells emitting the respective colors are arranged to form a PDP.
【0015】このPDPは、各電極にパルス状の電圧を
印加することで放電をパネル内部で生じさせ、放電に伴
って背面パネルPA1側で発生した各色の可視光を前面
パネルPA2の主表面から透過させる交流面放電型のP
DPである。前面パネルPA1は、放電電極12がスト
ライプ状に配された前面ガラス基板11上に、当該放電
電極12を覆うように誘電体ガラス層13が形成されて
おり、更に、この誘電体ガラス層13を覆うように保護
層14が形成されたものである。放電電極12は、ガラ
ス基板11表面に形成された透明電極12aと、この透
明電極12a上に形成された金属電極12bとからな
る。In the PDP, a pulse-like voltage is applied to each electrode to generate a discharge inside the panel, and visible light of each color generated on the rear panel PA1 side due to the discharge is emitted from the main surface of the front panel PA2. AC surface discharge type P to be transmitted
DP. The front panel PA1 has a dielectric glass layer 13 formed on a front glass substrate 11 on which the discharge electrodes 12 are arranged in a stripe shape so as to cover the discharge electrodes 12. Further, the dielectric glass layer 13 The protective layer 14 is formed so as to cover it. The discharge electrode 12 includes a transparent electrode 12a formed on the surface of the glass substrate 11, and a metal electrode 12b formed on the transparent electrode 12a.
【0016】一方、背面パネルPA2は、アドレス電極
22がストライプ状に配された背面ガラス基板21上
に、当該アドレス電極22を覆うようにアドレス電極を
保護するとともに可視光を前面パネル側に反射する作用
を担う誘電体ガラス層23が形成されており、この誘電
体ガラス層23上にアドレス電極22と同じ方向に向け
て伸び、アドレス電極22を挟むように隔壁24が立設
され、更に、当該隔壁24間に蛍光体層25が配された
ものである。On the other hand, the rear panel PA2 protects the address electrodes on the rear glass substrate 21 on which the address electrodes 22 are arranged in stripes so as to cover the address electrodes 22, and reflects visible light toward the front panel. A dielectric glass layer 23 having an effect is formed, and extends in the same direction as the address electrode 22 on the dielectric glass layer 23, and a partition wall 24 is erected so as to sandwich the address electrode 22. The phosphor layer 25 is provided between the partition walls 24.
【0017】次に、上記構成のPDPの製造方法につい
て概説する。 前面パネルPA1の作製:前面パネルPA1は、前面ガ
ラス基板11の表面上に、公知のフォトリソグラフ法に
より放電電極12をストライプ状に形成し、次に、この
放電電極12を覆うようにガラス粉末を用いて誘電体ガ
ラス層13を形成し、更に誘電体ガラス層13の表面上
に酸化マグネシウム(MgO)からなる保護層14を電
子ビーム蒸着法にて形成することによって作製する。Next, an outline of a method of manufacturing the PDP having the above configuration will be described. Fabrication of Front Panel PA1: The front panel PA1 forms discharge electrodes 12 in a stripe shape on the surface of a front glass substrate 11 by a known photolithography method, and then applies glass powder so as to cover the discharge electrodes 12. To form a dielectric glass layer 13 and further form a protective layer 14 made of magnesium oxide (MgO) on the surface of the dielectric glass layer 13 by an electron beam evaporation method.
【0018】背面パネルPA2の作製:まず、背面ガラ
ス基板21の表面に、上述した放電電極12の形成と同
様のフォトリソグラフ法により、アドレス電極22を形
成する。なお、このアドレス電極は、金属電極のみから
なる。そして、このアドレス電極22を覆うように前面
パネルPA1の場合と同様の方法で誘電体ガラス層23
を形成する。Fabrication of Back Panel PA2: First, address electrodes 22 are formed on the surface of the back glass substrate 21 by the same photolithographic method as the formation of the discharge electrodes 12 described above. This address electrode is composed of only a metal electrode. Then, the dielectric glass layer 23 is formed in a manner similar to that of the front panel PA1 so as to cover the address electrodes 22.
To form
【0019】次に、誘電体ガラス層23の上に、ガラス
製の隔壁24を所定のピッチで設置する。そして、隔壁
24に挟まれた各空間内に、赤色(R)蛍光体,緑色
(G)蛍光体,青色(B)蛍光体を配設することによっ
て、蛍光体層25を形成する。各色R,G,Bの蛍光体
としては、一般的にPDPに用いられている蛍光体を用
いることができるが、ここでは次の蛍光体を用いる。Next, on the dielectric glass layer 23, partition walls 24 made of glass are provided at a predetermined pitch. Then, a phosphor layer 25 is formed by disposing a red (R) phosphor, a green (G) phosphor, and a blue (B) phosphor in each space sandwiched by the partition walls 24. As the phosphors of the respective colors R, G, and B, phosphors generally used in PDPs can be used. Here, the following phosphors are used.
【0020】 赤色蛍光体 : (YxGd1-x)BO3:Eu3+ 緑色蛍光体 : Zn2SiO4:Mn パネル張り合わせによるPDPの完成:次に、前面パネ
ルPA1と背面パネルPA2とを放電電極12とアドレ
ス電極22とが直交する状態に位置合わせして両パネル
を張り合わせる。その後、隔壁24に仕切られた放電空
間30内に放電ガス(例えば、He−Xe系、Ne−X
e系の不活性ガス)を所定の圧力で封入することによっ
てPDPは完成する。Red phosphor: (Y x Gd 1-x ) BO 3 : Eu 3+ Green phosphor: Zn 2 SiO 4 : Mn Completion of PDP by panel bonding: Next, front panel PA1 and rear panel PA2 are positioned such that discharge electrode 12 and address electrode 22 are orthogonal to each other, and both panels are bonded. Thereafter, discharge gas (for example, He-Xe-based, Ne-X
The PDP is completed by filling e-type inert gas) at a predetermined pressure.
【0021】封入する放電ガスの組成は、従来から用い
られているHe−Xe系、Ne−Xe系等であるが、セル
の発光輝度の向上を図るために、Xeの含有量を5体積
%以上とし、封入圧力を0.67×105〜1.01×
105Paに設定する。上記構成のPDPは、図10に示
す駆動回路を用いて駆動される。アドレス電極駆動部3
1には、アドレス電極22が接続され、走査電極駆動部
32には、放電電極12の走査側の電極が、維持電極駆
動部33には、放電電極12の維持側の電極が接続され
ている。そして、このような駆動回路によってセットア
ップ期間で放電が生じやすくするためにPDP内の全セ
ルに均一的に壁電荷を蓄積させる。次に、アドレス期間
で点灯させるセルの書き込み放電を行う。更に、サステ
イン期間で前記アドレス期間で書き込まれたセルを点灯
させその点灯を維持させ、イレース期間で壁電荷を消去
させることによってセルの点灯を停止させる。これらの
複数の動作が繰り返し行われて1TVフィールドの画像
が表示される。The composition of the discharge gas to be filled is a conventionally used He-Xe type, Ne-Xe type or the like. In order to improve the light emission luminance of the cell, the content of Xe is reduced to 5% by volume. As described above, the sealing pressure is 0.67 × 10 5 to 1.01 ×
Set to 10 5 Pa. The PDP having the above configuration is driven using the drive circuit shown in FIG. Address electrode driver 3
1 is connected to the address electrode 22, the scan electrode drive unit 32 is connected to the scan electrode of the discharge electrode 12, and the sustain electrode drive unit 33 is connected to the sustain electrode of the discharge electrode 12. . Then, wall charges are uniformly accumulated in all cells in the PDP so that discharge is easily generated in the setup period by such a driving circuit. Next, write discharge is performed on cells to be turned on in the address period. Further, the cells written in the address period are turned on in the sustain period to maintain the lighting, and the cell charges are stopped by erasing the wall charges in the erase period. These multiple operations are repeatedly performed to display an image of one TV field.
【0022】<実施の形態1> *誘電体ガラス層の形成の詳細について 図4は、本実施の形態における誘電体ガラス層の形成工
程を示す工程図である。まず、前記誘電体ガラス層13
の形成工程の概略は、所定の粒度分布を有するガラス粉
末を用いて、スクリーン印刷法、ダイコート法、スピン
コート法、スプレーコート法、或いはブレードコート法
によって放電電極12が形成された前面ガラス基板11
の表面に塗布印刷し(工程1)、一定時間減圧雰囲気下
で放置した後(工程2)、これを乾燥(工程3)後、当
該塗布層を焼成する(工程4)ことによって形成されて
いる。<Embodiment 1> * Details of formation of dielectric glass layer FIG. 4 is a process chart showing a process of forming a dielectric glass layer in the present embodiment. First, the dielectric glass layer 13
The outline of the forming process is as follows: using a glass powder having a predetermined particle size distribution, a front glass substrate 11 on which a discharge electrode 12 is formed by a screen printing method, a die coating method, a spin coating method, a spray coating method, or a blade coating method.
Is formed by applying and printing on the surface of the substrate (Step 1), leaving it in a reduced-pressure atmosphere for a certain period of time (Step 2), drying it (Step 3), and then baking the applied layer (Step 4). .
【0023】前記工程1から工程4は、誘電体ガラス層
の最終的な膜厚を考慮して決められる。例えば、誘電体
ガラス層の最終的な膜厚を40μmにする場合には、2
回程度工程1から工程4を繰り返すことが望ましい。 *工程1 まず、工程1で用いる前記ガラス粉末は、所定の組成の
ガラス粗材料をボールミルやジェットミル〔例えば、株
式会社スギノマシン製 HJP300−02型〕などの
粉砕装置を用いて最終的に誘電体ガラス層の形成に用い
るガラス粉末の粒子径近くまで粉砕したものである。Steps 1 to 4 are determined in consideration of the final thickness of the dielectric glass layer. For example, when the final thickness of the dielectric glass layer is to be 40 μm, 2
Steps 1 to 4 are desirably repeated about once. * Step 1 First, the glass powder used in the step 1 is finally converted into a glass coarse material having a predetermined composition by using a pulverizing apparatus such as a ball mill or a jet mill (for example, HJP300-02 manufactured by Sugino Machine Co., Ltd.). It is crushed to near the particle diameter of the glass powder used for forming the body glass layer.
【0024】前記ガラス粗材料は、例えば、成分G1、
G2、G3、・・・、GNからなるガラスを使用する場合
には、成分G1、G2、G3、・・・、GNを成分比に相当
する比率で秤量し、これを例えば1300℃の炉中で加
熱溶融し、その後これを水中に投入して得られたもので
ある。具体的には、ガラス粗材料としては、PbO−B
2O3−SiO2−CaO系ガラス、PbO−B2O3−S
iO2−MgO系ガラス、PbO−B2O3−SiO2−B
aO系ガラス、PbO−B2O3−SiO2−MgO−A
l2O3系ガラス、PbO−B2O3−SiO2−BaO−
Al2O3系ガラス、PbO−B2O3−SiO2−CaO
−Al2O3系ガラス、Bi2O3−ZnO−B2O3−Si
O2−CaO系ガラス、ZnO−B2O3−SiO2−Al2
O3−CaO系ガラス、P2O5−ZnO−Al2O3−C
aO系ガラス、Nb2O5−ZnO−B2O3−SiO2−
CaO系ガラス単体又はこれらの混合物を用いることが
できる。なお、この他にも一般的にPDPの誘電体に用
いられるガラスも同様にして用いることが可能である。The above-mentioned glass coarse material is, for example, a component G1,
When using glass consisting of G2, G3, ..., GN
, The components G1, G2, G3, ..., GN correspond to the component ratio
And weighed in a furnace at 1300 ° C, for example.
Heat-melted and then poured into water
is there. Specifically, as a glass coarse material, PbO-B
TwoOThree-SiOTwo-CaO-based glass, PbO-BTwoOThree-S
iOTwo-MgO-based glass, PbO-BTwoOThree-SiOTwo-B
aO-based glass, PbO-BTwoOThree-SiOTwo-MgO-A
lTwoOThreeGlass, PbO-BTwoOThree-SiOTwo-BaO-
AlTwoOThreeGlass, PbO-BTwoOThree-SiOTwo-CaO
-AlTwoOThreeGlass, BiTwoOThree-ZnO-BTwoOThree-Si
OTwo-CaO-based glass, ZnO-BTwoOThree-SiOTwo-AlTwo
OThree-CaO-based glass, PTwoOFive-ZnO-AlTwoOThree-C
aO-based glass, NbTwoOFive-ZnO-BTwoOThree-SiOTwo−
It is possible to use CaO-based glass alone or a mixture thereof
it can. In addition, it is generally used for PDP dielectrics.
The glass to be used can be used in the same manner.
【0025】このようなガラス粉末を、バインダとバイ
ンダ溶解溶剤とともに、ボールミル、ディスパーミル或
いはジェットミルによりよく混練し、混合ガラスペース
トを作製する。ここで用いるバインダとしては、アクリ
ル樹脂、エチルセルロース、エチレンオキサイド単体又
はこれらの混合物を用いることができる。バインダ溶解
溶剤としては、ターピネオール、ブチルカルビトールア
セテート、或いはペンタンジオール単体、又はこれらの
混合物を用いることができる。バインダ溶解溶剤の混合
ペースト中に含有させる量を調整することによって、混
合ペーストの粘度を採用する成膜法に適した値に設定す
る。Such a glass powder is well kneaded with a binder and a solvent for dissolving the binder by a ball mill, a disper mill or a jet mill to prepare a mixed glass paste. As the binder used here, an acrylic resin, ethyl cellulose, ethylene oxide alone or a mixture thereof can be used. As the binder dissolving solvent, terpineol, butyl carbitol acetate, pentanediol alone, or a mixture thereof can be used. By adjusting the amount of the binder-dissolving solvent to be contained in the mixed paste, the viscosity of the mixed paste is set to a value suitable for a film forming method employing the mixed paste.
【0026】そして、この混合ガラスペーストには、必
要に応じて可塑剤や界面活性剤(分散剤)を添加するこ
とが望ましい。これは、可塑剤を添加すれば、ガラスペ
ーストを塗布、乾燥後のガラス膜に柔軟性が生じ、焼結
時に膜にクラックが入ることが防止できるからである。
また、界面活性剤を添加すると、界面活性剤がガラス粒
子のまわりに吸着し、ガラスの分散性が向上し、均一な
ガラス塗布ができるからである。界面活性剤を添加する
ことは、粘度が低いガラスペーストを用いて成膜するダ
イコート法、スプレーコート法、スピンコート法及びブ
レードコート法の場合に特に有効である。It is desirable to add a plasticizer or a surfactant (dispersant) to the mixed glass paste as needed. This is because if a plasticizer is added, the glass film after applying and drying the glass paste becomes flexible, and it is possible to prevent the film from cracking during sintering.
Further, when a surfactant is added, the surfactant is adsorbed around the glass particles, the dispersibility of the glass is improved, and uniform glass application can be performed. The addition of a surfactant is particularly effective in the case of a die coating method, a spray coating method, a spin coating method, and a blade coating method in which a film is formed using a glass paste having a low viscosity.
【0027】この混合ペーストの組成は、ガラス粉末3
5質量%〜70質量%、バインダ5質量%〜15質量%
が添加されたバインダ成分30質量%〜65質量%が好
ましい。添加する可塑剤や界面活性剤(分散剤)の添加
量は、バインダ成分に対して0.1質量%〜3.0質量
%であることが好ましい。前記界面活性剤(分散剤)と
しては陰イオン界面活性剤を用いることができ、例え
ば、ポリカルボン酸、アルキルジフェニルエーテルスル
ホン酸ナトリウム塩、アルキルリン酸塩、高級アルコー
ルのリン酸エステル塩、ポリオキシエチレンエチレンジ
グリセリンホウ酸エステルのカルボン酸塩、ポリオキシ
エチレンアルキル硫酸エステル塩、ナフタレンスルホン
酸ホルマリン縮合物、グリセロールモノオレート、ソル
ビタンセスキオレート、又はホモゲノールを用いること
ができる。また、可塑剤としては、フタル酸ジブチル、
フタル酸ジオクチル又はグリセリンを用いることができ
る。これらは、単体でなく、複数種を混合して使用する
こともできる。The composition of this mixed paste is as follows.
5% by mass to 70% by mass, binder 5% by mass to 15% by mass
Is preferably 30% by mass to 65% by mass. The amount of the added plasticizer or surfactant (dispersant) is preferably 0.1% by mass to 3.0% by mass with respect to the binder component. As the surfactant (dispersant), an anionic surfactant can be used. Examples thereof include polycarboxylic acid, sodium salt of alkyl diphenyl ether sulfonate, alkyl phosphate, phosphate of higher alcohol, and polyoxyethylene. Ethylene diglycerin borate carboxylate, polyoxyethylene alkyl sulfate, naphthalenesulfonic acid formalin condensate, glycerol monooleate, sorbitan sesquiolate, or homogenol can be used. In addition, as a plasticizer, dibutyl phthalate,
Dioctyl phthalate or glycerin can be used. These may be used alone or in combination of two or more.
【0028】次に、上記混合ガラスペーストを用いてス
クリーン印刷法、ダイコート法、スピンコート法、スプ
レーコート法、或いはブレードコート法で混合ペースト
を放電電極12が表面に形成された前面ガラス基板11
上に塗布する。 *工程2 工程2においては、前記印刷した誘電体ガラスペースト
の塗布層を一定時間放置することで塗布層の表面を平坦
なものに調整する。Next, using the mixed glass paste, the mixed paste is applied by screen printing, die coating, spin coating, spray coating, or blade coating to the front glass substrate 11 on which the discharge electrodes 12 are formed.
Apply on top. * Step 2 In step 2, the coated layer of the printed dielectric glass paste is left for a certain period of time to adjust the surface of the coated layer to a flat surface.
【0029】しかも、これを減圧雰囲気下で行うことに
よって、印刷時等に誘電体ガラスペースト中に巻き込ま
れた気泡を脱泡させる。当該工程2では図5に示すよう
な減圧レベリング装置50内に誘電体ガラスペーストを
塗布印刷したガラス基板を配置して一定時間放置する。
この減圧レベリング装置50は、容器51と、真空ポン
プ52と、容器内に備えられた載置台53とから構成さ
れている。容器51の内部空間54は、真空ポンプ52
を作動させることによって減圧されるようになってい
る。Further, by performing this in a reduced-pressure atmosphere, bubbles trapped in the dielectric glass paste during printing or the like are removed. In the step 2, a glass substrate on which a dielectric glass paste is applied and printed is placed in a reduced-pressure leveling device 50 as shown in FIG.
The decompression leveling device 50 includes a container 51, a vacuum pump 52, and a mounting table 53 provided in the container. The inner space 54 of the container 51 is
Is activated to reduce the pressure.
【0030】このような減圧レベリング装置50の載置
台53の上に、誘電体ガラスペースト55を塗布したガ
ラス基板56(前面ガラス基板の表面に放電電極が形成
されたもの)を載せた後、減圧ポンプ52を作動させる
ことで、一定圧に容器51の内部空間54を減圧状態と
する。これにより、放置する前に塗布層中に存在してい
る気泡57を、図中矢印58にて示すように容器51の
内部空間54中に向けて確実に脱泡することが可能とな
る。After a glass substrate 56 (having a front glass substrate with a discharge electrode formed thereon) coated with a dielectric glass paste 55 is placed on a mounting table 53 of such a reduced-pressure leveling device 50, the pressure is reduced. By operating the pump 52, the internal space 54 of the container 51 is reduced to a constant pressure. Thereby, it is possible to reliably remove bubbles 57 existing in the coating layer toward the interior space 54 of the container 51 as shown by the arrow 58 in the drawing before leaving.
【0031】この脱泡の効果をより効果的に発揮させる
には、塗布した誘電体ガラスペーストの粘度と塗布厚等
を考慮して減圧の度合い及び減圧下に放置する時間を規
定すことが重要となる。つまり、誘電体ガラスペースト
の粘度が比較的高い場合には、塗布層中に存在する気泡
の移動速度が概ね遅くなると思われるので、減圧の程度
を比較的高くするか、長時間減圧状態に放置することが
望ましい。In order to more effectively exert the defoaming effect, it is important to determine the degree of pressure reduction and the time for which the dielectric glass paste is left under reduced pressure in consideration of the viscosity of the applied dielectric glass paste and the applied thickness. Becomes In other words, when the viscosity of the dielectric glass paste is relatively high, the moving speed of the bubbles existing in the coating layer is considered to be generally slow. Therefore, the degree of pressure reduction is relatively high, or the pressure is left for a long time. It is desirable to do.
【0032】また、塗布厚が比較的厚い場合には、塗布
層中に存在する気泡が内部空間に到達するまでの距離が
概ね大きくなると思われるので、この場合にも減圧の程
度を比較的高くするか、長時間減圧状態に放置すること
が望ましい。従って、一度の塗布印刷の工程(前記工程
1)では、粘度ができるだけ低い誘電体ガラスペースト
を用いてできるだけ薄く塗布することが、同じ減圧条件
であってもより短時間で脱泡させることができるのでよ
り望ましいとも言える。In the case where the coating thickness is relatively large, it is considered that the distance required for bubbles existing in the coating layer to reach the internal space is generally large. Alternatively, it is desirable to leave the apparatus under reduced pressure for a long time. Therefore, in the one-time application printing process (the above-described process 1), it is possible to perform defoaming in a shorter time by using a dielectric glass paste having a viscosity as low as possible, even under the same reduced pressure condition. It can be said that it is more desirable.
【0033】なお、通常、1.33×102Pa程度に減
圧すれば十分である。 *工程3 次に、工程3では、前記放置した誘電体ガラスペースト
の塗布層を乾燥させて、ペースト中の溶剤を塗布層中か
ら飛ばす。 *工程4 次に、工程4では、所定温度(550℃〜590℃)で
誘電体ガラスペースト中のガラス粉末を焼結させる。な
お、この焼結処理は、焼結が可能な限り誘電体ガラスの
軟化点付近で行うのが好ましい。これは、軟化点よりあ
まりに高い温度で焼結を行うと、溶融したガラスの流動
性が高くなるため、放電電極と反応し気泡が発生する要
因となるからである。Usually, it is sufficient to reduce the pressure to about 1.33 × 10 2 Pa. * Step 3 Next, in step 3, the coating layer of the dielectric glass paste which has been left is dried to remove the solvent in the paste from the coating layer. * Step 4 Next, in step 4, the glass powder in the dielectric glass paste is sintered at a predetermined temperature (550 ° C. to 590 ° C.). Note that this sintering process is preferably performed near the softening point of the dielectric glass as much as possible. This is because, when sintering is performed at a temperature much higher than the softening point, the flowability of the molten glass increases, which causes a reaction with the discharge electrode to generate bubbles.
【0034】以上の工程1から工程4を複数回繰り返す
ことで、誘電体ガラス層13が所望の膜厚に形成され
る。次に、誘電体ガラス層23の形成について説明す
る。アドレス電極上の誘電体ガラス層23は、前記誘電
体ガラスペースト中にTiO2を5質量%〜30質量%添
加した粉体を用いて、前記誘電体ガラス層13と同様の
手法によって形成される。このようにTiO2を添加する
ことにより、背面ガラス基板側の誘電体ガラス層は、蛍
光体からの発光を、前面パネル側に反射させる役目を担
う。なお、TiO2の添加量が多ければ多いほど反射率
が高くなるのでその点では好ましいが、他方、多すぎる
と絶縁耐圧が低下するため誘電体ガラス粉末に対して3
0質量%が限界と思われる。By repeating the above steps 1 to 4 a plurality of times, the dielectric glass layer 13 is formed to a desired thickness. Next, formation of the dielectric glass layer 23 will be described. Dielectric glass layer 23 on the address electrodes, using a powder obtained by adding TiO 2 5 to 30 wt% in the dielectric glass paste, is formed by the same method as the dielectric glass layer 13 . By adding TiO 2 in this manner, the dielectric glass layer on the rear glass substrate plays a role of reflecting light emitted from the phosphor toward the front panel. It should be noted that the greater the amount of TiO 2 added, the higher the reflectivity. This is preferable in that respect. However, if the amount of TiO 2 is too large, the withstand voltage is reduced.
0% by mass seems to be the limit.
【0035】上記したように誘電体ガラスペーストをガ
ラス基板に塗布した後、これを一定時間減圧雰囲気下で
放置することで脱泡させ、次いで、乾燥・焼成させるこ
とによって形成した誘電体ガラス層13及び23は、誘
電体ガラスペーストを塗布する際等に巻き込まれた気泡
の残存数が少なく耐電圧性に優れる。なお、前面パネル
及び背面パネル双方に設ける誘電体ガラス層を、上記し
たように減圧雰囲気下で放置することにより脱泡して形
成するのではなく、何れか一方をそのようにして形成す
ることもできる。After the dielectric glass paste is applied to the glass substrate as described above, the dielectric glass paste is left for a certain period of time in a reduced-pressure atmosphere to remove bubbles, and then dried and fired to form the dielectric glass layer 13. Nos. 23 are excellent in the withstand voltage with a small number of bubbles remaining when the dielectric glass paste is applied or the like. The dielectric glass layer provided on both the front panel and the back panel is not formed by defoaming by being left in a reduced-pressure atmosphere as described above, but one of them may be formed as such. it can.
【0036】<実施の形態2>当該実施の形態2において
は、誘電体ガラス層13及び23を基本的には、実施の
形態1の方法と同様の方法により形成するが、前記工程
2(減圧雰囲気下で放置する工程)と工程3(塗布層を
乾燥させる工程)とをほぼ同時に行い、工程数を一つ減
らしている点を異にしている。<Second Embodiment> In the second embodiment, the dielectric glass layers 13 and 23 are basically formed by the same method as that of the first embodiment. The difference is that the step of leaving under the atmosphere) and the step 3 (the step of drying the coating layer) are performed almost simultaneously, and the number of steps is reduced by one.
【0037】図6は、本実施の形態における誘電体ガラ
ス層13及び23の形成工程を示す工程図である。この
図に示すように、所定の粒度分布を有するガラス粉末を
用いて、スクリーン印刷法、ダイコート法、スピンコー
ト法、スプレーコート法、或いはブレードコート法によ
って前面ガラス基板11(背面ガラス基板)の表面に塗
布印刷し(工程5)、一定時間減圧雰囲気下で放置する
と共に加熱乾燥させた後(工程6)、当該塗布層を焼成
する(工程7)ことによって形成されている。FIG. 6 is a process diagram showing a process of forming dielectric glass layers 13 and 23 in the present embodiment. As shown in this figure, the surface of the front glass substrate 11 (rear glass substrate) is screen-printed, die-coated, spin-coated, spray-coated, or blade-coated using glass powder having a predetermined particle size distribution. After coating and printing (Step 5), the coated layer is left under a reduced pressure atmosphere for a certain period of time and dried by heating (Step 6), and then the applied layer is baked (Step 7).
【0038】前記工程5から工程7は、誘電体ガラス層
の最終的な膜厚を考慮して決められる。例えば、誘電体
ガラス層の最終的な膜厚を40μmにする場合には、2
回程度工程5から工程7を繰り返すことが望ましい。前
記工程6では図7に示すような減圧レベリング乾燥装置
70内に誘電体ガラスペーストを塗布印刷したガラス基
板を配置して一定時間放置する。Steps 5 to 7 are determined in consideration of the final thickness of the dielectric glass layer. For example, when the final thickness of the dielectric glass layer is to be 40 μm, 2
Steps 5 to 7 are desirably repeated about once. In step 6, a glass substrate on which a dielectric glass paste is applied and printed is placed in a reduced-pressure leveling / drying device 70 as shown in FIG.
【0039】当該減圧レベリング乾燥装置70の基本構
成は、前記減圧レベリング装置50の構成と同様である
が、容器51と、真空ポンプ52と、容器内に備えられ
た載置台53との他に、誘電体ガラスペーストを塗布し
たガラス基板56を塗布された面とは反対側の面71か
ら伝熱させることで塗布層を加熱乾燥させるホットプレ
ート72が載置台53の上の配置されている点が異なっ
ている。The basic structure of the reduced-pressure leveling and drying apparatus 70 is the same as that of the reduced-pressure leveling apparatus 50, except that a container 51, a vacuum pump 52, and a mounting table 53 provided in the container are provided. The point that a hot plate 72 for heating and drying the coating layer by transmitting heat from the surface 71 opposite to the surface on which the glass substrate 56 coated with the dielectric glass paste is coated is disposed on the mounting table 53. Is different.
【0040】そして、このような減圧レベリング乾燥装
置70のホットプレート72の上に、誘電体ガラスペー
ストを塗布したガラス基板56を載せてガラス基板を背
面側から加熱すると共に、減圧ポンプ52を作動させる
ことで、一定圧に容器51の内部空間54を減圧状態と
する。これにより、放置する前に塗布層中に存在してい
る気泡57を、図中矢印58にて示すように容器51の
内部空間54中に向けて確実に脱泡することが可能とな
る。更に、これに加えて、ほぼ同時に塗布層を乾燥させ
ることもできる。Then, the glass substrate 56 coated with the dielectric glass paste is placed on the hot plate 72 of such a reduced pressure leveling and drying apparatus 70, and the glass substrate is heated from the back side and the reduced pressure pump 52 is operated. Thus, the internal space 54 of the container 51 is reduced to a constant pressure. Thereby, it is possible to reliably remove bubbles 57 existing in the coating layer toward the interior space 54 of the container 51 as shown by the arrow 58 in the drawing before leaving. Further, in addition to this, the coating layer can be dried almost simultaneously.
【0041】なお、上記のように加熱しながら、減圧雰
囲気下に誘電体ガラスペーストの塗布層を置くことにな
るので、十分に脱泡される前に塗布層が乾燥してしまう
ことは望ましくない。従って、脱泡が可能な程度に塗布
印刷した誘電体ガラスペーストの粘度が保たれる程度に
徐々に乾燥が行われるように加熱を行うことが望まし
い。Since the coated layer of the dielectric glass paste is placed under reduced pressure while heating as described above, it is not desirable that the coated layer is dried before the defoaming is sufficiently performed. . Therefore, it is desirable to perform heating so that drying is performed gradually enough to maintain the viscosity of the dielectric glass paste applied and printed so as to be able to remove bubbles.
【0042】また、塗布層を加熱乾燥させる手段とし
て、上記説明では、ホットプレートを用いたが、この他
にも、IRなどを熱源として輻射熱により行うことも可
能である。なお、前面パネル及び背面パネル双方に設け
る誘電体ガラス層を、上記したように減圧雰囲気下で放
置することにより脱泡して形成するのではなく、何れか
一方をそのようにして形成することもできる。As a means for heating and drying the coating layer, a hot plate is used in the above description, but it is also possible to use radiant heat using IR or the like as a heat source. The dielectric glass layer provided on both the front panel and the back panel is not formed by defoaming by being left in a reduced-pressure atmosphere as described above, but one of them may be formed as such. it can.
【0043】<実施例>上記実施の形態1に基づいて、P
DPの一部である前面パネルのみを作製し、誘電体ガラ
ス層の特性を調べた。ガラス基板には、100mm×7
4mmの大きさのソーダガラス板を用いた。そして、工
程1において、80mm×50mmの面積で、厚み40
μmに、ダイコート法により誘電体ガラスペーストを印
刷した。<Example> Based on the first embodiment, P
Only the front panel that was a part of the DP was manufactured, and the characteristics of the dielectric glass layer were examined. 100mm x 7 for glass substrate
A soda glass plate having a size of 4 mm was used. Then, in step 1, an area of 80 mm × 50 mm and a thickness of 40 mm
A dielectric glass paste was printed on the μm by a die coating method.
【0044】なお、印刷に際して誘電体ガラス材料に
は、PbO-Al2O3-SiO2を用い、バインダには、
エチルセルロース、溶剤には、α-ターピネオールを用
いた。次に、工程2において、前記工程1で得た基板
を、デシケータ内に入れ5分間をかけて9.31×102
Paまで減圧し、その後、9.31×102Paで10分
間放置した。ここで、デシケータ内を観察したところ、
誘電体内から気泡が出てくるのが観察され、9.31×
102Paで放置し始めてから7分程で気泡の発生が認
められなくなった。In printing, PbO—Al 2 O 3 —SiO 2 was used as the dielectric glass material, and the binder was:
Ethyl cellulose and α-terpineol were used as the solvent. Next, in step 2, the substrate obtained in step 1 was placed in a desiccator and taken to 9.31 × 10 2 over 5 minutes.
The pressure was reduced to Pa, and then the mixture was allowed to stand at 9.31 × 10 2 Pa for 10 minutes. Here, when we observed inside the desiccator,
Air bubbles are observed to come out of the dielectric, and 9.31 ×
About 7 minutes after starting to stand at 10 2 Pa, generation of air bubbles was not recognized.
【0045】次に、工程3において、デシケータ内をリ
ークして基板を取り出し、その後基板を乾燥させた。乾
燥は、温風乾燥炉にて、120℃の温度環境下に25分
間置くことで乾燥させた。最後に、工程4において、5
90℃で10分焼成した。以上の実施例に対して、上記
工程2において、減圧下に放置しないで単純にレベリン
グさせることで基板を作製した比較例を準備した。Next, in step 3, the substrate was taken out by leaking in the desiccator, and then the substrate was dried. Drying was carried out by placing it in a hot air drying oven under a temperature environment of 120 ° C. for 25 minutes. Finally, in step 4, 5
It was baked at 90 ° C. for 10 minutes. In contrast to the above example, a comparative example was prepared in which the substrate was produced by simply leveling in step 2 without leaving the substrate under reduced pressure.
【0046】ここで、各基板(実施例、及び比較例)各
複数についての誘電体ガラス層の表面に幅2mmで長さ
50mmのAg電極を印刷形成し、放電電極と当該Ag
電極との間に種々の値の直流電圧を印加することで、絶
縁破壊強度(耐電圧)を測定した。この結果を図8に示
した。なお、この図において縦軸は、誘電体ガラス層が
破壊されたときの印加電圧を示している。従って、プロ
ット「○」が高電圧の値に分布するもの程、耐電圧が高
いことを意味する。Here, an Ag electrode having a width of 2 mm and a length of 50 mm was printed and formed on the surface of the dielectric glass layer for each of the plurality of substrates (Examples and Comparative Examples).
Dielectric strength (withstand voltage) was measured by applying various values of DC voltage between the electrodes. The result is shown in FIG. In this figure, the vertical axis indicates the applied voltage when the dielectric glass layer is broken. Therefore, the more the plot “○” is distributed at high voltage values, the higher the withstand voltage is.
【0047】この図に示すように、実施例においては、
比較例のものと比べて耐電圧は向上していることが分
る。次に、図9は、誘電体ガラス層の膜状態を示す電子
顕微鏡写真図を示し、図(a)は実施例の誘電体ガラス
層の膜状態を示し、図(b)は比較例の誘電体ガラス層
の膜状態を示す。As shown in this figure, in the embodiment,
It can be seen that the withstand voltage is higher than that of the comparative example. Next, FIG. 9 is an electron micrograph showing the film state of the dielectric glass layer, FIG. 9A shows the film state of the dielectric glass layer of the example, and FIG. The film state of the body glass layer is shown.
【0048】この図からも分るように、減圧雰囲気下で
放置させた実施例にかかるものの方が、そのようにしな
い比較例にかかるものと比べて、気泡の残存数が少ない
と言える。なお、この図を見ると実施例にかかる誘電体
ガラス層でも微小な気泡が多数存在しているのが観察さ
れるが、やや径が大き目の気泡数は明らかに、比較例に
かかる誘電体ガラス層と比べて減少している。As can be seen from this figure, it can be said that the example according to the example left in a reduced-pressure atmosphere has a smaller number of bubbles than the example according to the comparative example that does not. In this figure, it is observed that a large number of fine air bubbles exist in the dielectric glass layer according to the example, but the number of air bubbles having a slightly larger diameter is evident. Reduced compared to the layer.
【0049】絶縁耐圧の低下は、微小な気泡の存在より
も径の大きな気泡が存在することの方が大きく影響す
る。従って、図9(a)に示すように実施例において微
小な気泡がたとえ多数存在していても、絶縁耐圧にはさ
ほど影響はないものと言える。このことは、図8に示し
た絶縁耐圧の結果からも明らかである。The decrease in dielectric strength is more greatly affected by the presence of bubbles having a large diameter than the presence of minute bubbles. Therefore, as shown in FIG. 9A, it can be said that even if a large number of fine bubbles are present in the embodiment, the withstand voltage is not significantly affected. This is clear from the results of the dielectric strength shown in FIG.
【0050】[0050]
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法は、第一の基板本体
の表面に第一の誘電体ガラス層を形成してなる第一の基
板を作製する第一の基板作製工程と、第二の基板本体の
表面に第二の誘電体層及び蛍光体層が形成されてなる第
二の基板を作製する第二の基板作製工程とを備え、前記
第一の基板作製工程及び/又は第二の基板作製工程は、
基板本体に誘電体ガラス層の形成材料を含むペーストを
塗布して塗布層を形成する第一のステップと、当該第一
のステップの後、減圧雰囲気下で前記塗布層を放置する
第二のステップと、当該第二のステップの後、前記放置
させた塗布層を乾燥させる第三のステップと、当該第三
のステップの後に乾燥させた前記塗布層を焼成する第四
のステップとを含むことを特徴とする。As described above, according to the method of manufacturing a plasma display panel of the present invention, a first substrate is formed by forming a first dielectric glass layer on the surface of a first substrate main body. A first substrate producing step, and a second substrate producing step of producing a second substrate in which a second dielectric layer and a phosphor layer are formed on the surface of the second substrate body, The one substrate production step and / or the second substrate production step
A first step of applying a paste containing a material for forming a dielectric glass layer to a substrate body to form a coating layer, and after the first step, a second step of leaving the coating layer under a reduced-pressure atmosphere And, after the second step, a third step of drying the coating layer that has been left, and including a fourth step of firing the dried coating layer after the third step. Features.
【0051】これにより、減圧雰囲気下で前記塗布層を
放置する第二のステップを経た後、前記第三のステッ
プ、前記第四のステップを経ることから、第二のステッ
プで、塗布層内にペースト塗布時に巻き込まれた気泡を
脱泡してから乾燥及び焼成することになるので、最終的
に出来上った誘電体ガラス層内に残る気泡数を確実に減
らすことができる。Thus, after passing through the second step of leaving the coating layer under a reduced-pressure atmosphere, and then passing through the third step and the fourth step, in the second step, the Since the air bubbles entrained at the time of applying the paste are defoamed and then dried and fired, the number of air bubbles remaining in the finally formed dielectric glass layer can be surely reduced.
【0052】また、本発明は、第一の基板本体の表面に
第一の誘電体ガラス層を形成してなる第一の基板を作製
する第一の基板作製工程と、第二の基板本体の表面に第
二の誘電体層及び蛍光体層が形成されてなる第二の基板
を作製する第二の基板作製工程とを備え、前記第一の基
板作製工程及び/又は第二の基板作製工程は、基板本体
に誘電体ガラス層の形成材料を含むペーストを塗布して
塗布層を形成する第五のステップと、当該第五のステッ
プの後、減圧雰囲気下で前記塗布層を放置するとともに
加熱乾燥させる第六のステップと、当該第六のステップ
の後に乾燥させた前記塗布層を焼成する第七のステップ
とを含むことを特徴とする。Further, the present invention provides a first substrate manufacturing step for manufacturing a first substrate having a first dielectric glass layer formed on a surface of a first substrate main body, A second substrate manufacturing step of manufacturing a second substrate having a second dielectric layer and a phosphor layer formed on a surface thereof, wherein the first substrate manufacturing step and / or the second substrate manufacturing step are performed. A fifth step of applying a paste containing a material for forming a dielectric glass layer to the substrate body to form a coating layer, and after the fifth step, leaving the coating layer in a reduced-pressure atmosphere and heating It is characterized by including a sixth step of drying, and a seventh step of baking the dried coating layer after the sixth step.
【0053】これにより、減圧雰囲気下で前記塗布層を
放置する第五のステップを経た後、前記第六のステッ
プ、前記第七のステップを経ることから、第六のステッ
プで、塗布層内にペースト塗布時に巻き込まれた気泡を
脱泡してから乾燥及び焼成することになるので、最終的
に出来上った誘電体ガラス層内に残る気泡数を確実に減
らすことができる。更に、当該第六のステップでは脱泡
を行うと共に、塗布層の乾燥をもほぼ同時に行うことが
できるので、その分工程数を減らすことが可能となる。Thus, after passing through the fifth step of leaving the coating layer under a reduced-pressure atmosphere, and then passing through the sixth step and the seventh step, in the sixth step, the Since the air bubbles entrained at the time of applying the paste are defoamed and then dried and fired, the number of air bubbles remaining in the finally formed dielectric glass layer can be surely reduced. Furthermore, in the sixth step, defoaming is performed and drying of the coating layer can be performed almost simultaneously, so that the number of steps can be reduced accordingly.
【図1】本発明の実施の形態に共通の交流面放電型PD
Pの要部斜視図である。FIG. 1 is an AC surface discharge type PD common to an embodiment of the present invention.
It is a principal part perspective view of P.
【図2】図1のX−X線を含む垂直断面図である。FIG. 2 is a vertical sectional view including the line XX of FIG. 1;
【図3】図1のY−Y線を含む垂直断面図である。FIG. 3 is a vertical sectional view including a line YY of FIG. 1;
【図4】第一の実施の形態における誘電体ガラス層13
(23)の形成工程を示す模式図である。FIG. 4 shows a dielectric glass layer 13 according to the first embodiment.
It is a schematic diagram which shows the formation process of (23).
【図5】工程2で用いる減圧レベリング装置の構成を示
す図である。FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a reduced-pressure leveling device used in step 2.
【図6】第二の実施の形態における誘電体ガラス層13
(23)の形成工程を示す模式図である。FIG. 6 shows a dielectric glass layer 13 according to the second embodiment.
It is a schematic diagram which shows the formation process of (23).
【図7】工程6で用いる減圧レベリング乾燥装置の構成
を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a reduced-pressure leveling drying apparatus used in step 6.
【図8】実施例及び比較例の誘電体ガラス層の絶縁破壊
強度(耐電圧)を測定した結果を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing the results of measuring the dielectric breakdown strength (withstand voltage) of the dielectric glass layers of the example and the comparative example.
【図9】誘電体ガラス層の膜状態を示す電子顕微鏡写真
図を示し、図(a)は実施例の誘電体ガラス層の膜状態
を示し、図(b)は比較例の誘電体ガラス層の膜状態を
示す。FIG. 9 is an electron micrograph showing a film state of a dielectric glass layer. FIG. 9A shows a film state of a dielectric glass layer of an example, and FIG. 9B shows a dielectric glass layer of a comparative example. Shows the state of the film.
【図10】上記PDPの駆動回路を示すブロック図であ
る。FIG. 10 is a block diagram showing a driving circuit of the PDP.
【図11】従来例にかかる交流面放電型PDPの要部斜
視図である。FIG. 11 is a perspective view of a main part of an AC surface discharge type PDP according to a conventional example.
11 前面ガラス基板 12 放電電極 12a 透明電極 12b 金属電極 13 誘電体ガラス層 14 保護層 21 背面ガラス基板 22 アドレス電極 23 誘電体ガラス層 24 隔壁 25 蛍光体層 30 放電空間 31 アドレス電極駆動部 32 走査電極駆動部 33 維持電極駆動部 50 減圧レベリング装置 51 容器 52 真空ポンプ 53 載置台 54 内部空間 55 誘電体ガラスペースト 56 ガラス基板 57 気泡 58 矢印(気泡が移動する様子を示す) 70 減圧レベリング乾燥装置 71 基板の一の面(背面) 72 ホットプレート PA1 前面パネル PA2 背面パネル DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Front glass substrate 12 Discharge electrode 12a Transparent electrode 12b Metal electrode 13 Dielectric glass layer 14 Protective layer 21 Back glass substrate 22 Address electrode 23 Dielectric glass layer 24 Partition wall 25 Phosphor layer 30 Discharge space 31 Address electrode drive part 32 Scan electrode Driving unit 33 Sustained electrode driving unit 50 Decompression leveling device 51 Container 52 Vacuum pump 53 Mounting table 54 Internal space 55 Dielectric glass paste 56 Glass substrate 57 Bubbles 58 Arrow (showing how bubbles move) 70 Decompression leveling drying device 71 Substrate One side (rear) 72 Hot plate PA1 Front panel PA2 Rear panel
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長谷川 和也 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA05 5C040 FA01 GB03 GB14 GD09 JA28 MA23 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kazuya Hasegawa 1006 Kadoma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F-term (reference) 5C027 AA05 5C040 FA01 GB03 GB14 GD09 JA28 MA23
Claims (6)
ラス層を形成してなる第一の基板を作製する第一の基板
作製工程と、第二の基板本体の表面に第二の誘電体層及
び蛍光体層が形成されてなる第二の基板を作製する第二
の基板作製工程とを備え、 前記第一の基板作製工程及び/又は第二の基板作製工程
は、基板本体に誘電体ガラス層の形成材料を含むペース
トを塗布して塗布層を形成する第一のステップと、当該
第一のステップの後、減圧雰囲気下で前記塗布層を放置
する第二のステップと、当該第二のステップの後、前記
放置させた塗布層を乾燥させる第三のステップと、当該
第三のステップの後に乾燥させた前記塗布層を焼成する
第四のステップとを含むことを特徴とするプラズマディ
スプレイパネルの製造方法。1. A first substrate manufacturing step for manufacturing a first substrate having a first dielectric glass layer formed on a surface of a first substrate main body; A second substrate manufacturing step of manufacturing a second substrate on which a dielectric layer and a phosphor layer are formed, wherein the first substrate manufacturing step and / or the second substrate manufacturing step includes a substrate main body. A first step of applying a paste containing a material for forming a dielectric glass layer to form a coating layer, and after the first step, a second step of leaving the coating layer under a reduced pressure atmosphere, After the second step, a third step of drying the coated layer left, and a fourth step of firing the dried coating layer after the third step, Of manufacturing a plasma display panel.
ラス層を形成してなる第一の基板を作製する第一の基板
作製工程と、第二の基板本体の表面に第二の誘電体層及
び蛍光体層が形成されてなる第二の基板を作製する第二
の基板作製工程とを備え、 前記第一の基板作製工程及び/又は第二の基板作製工程
は、基板本体に誘電体ガラス層の形成材料を含むペース
トを塗布して塗布層を形成する第五のステップと、当該
第五のステップの後、減圧雰囲気下で前記塗布層を放置
するとともに加熱乾燥させる第六のステップと、当該第
六のステップの後に乾燥させた前記塗布層を焼成する第
七のステップとを含むことを特徴とするプラズマディス
プレイパネルの製造方法。2. A first substrate manufacturing step for manufacturing a first substrate having a first dielectric glass layer formed on a surface of a first substrate main body, and a second substrate manufacturing step for forming a second substrate on a surface of the second substrate main body. A second substrate manufacturing step of manufacturing a second substrate on which a dielectric layer and a phosphor layer are formed, wherein the first substrate manufacturing step and / or the second substrate manufacturing step includes a substrate main body. A fifth step of applying a paste containing a material for forming a dielectric glass layer to form a coating layer, and after the fifth step, leaving the coating layer in a reduced-pressure atmosphere and heating and drying the coating layer. And a seventh step of baking the coating layer dried after the sixth step.
板本体の塗布層が印刷されていない裏面側からの熱伝導
を利用して行われることを特徴とする請求項2に記載の
プラズマディスプレイパネルの製造方法。3. The plasma display panel according to claim 2, wherein the drying in the sixth step is performed by utilizing heat conduction from the back side of the substrate body where the coating layer is not printed. Manufacturing method.
用いることを特徴とする請求項3に記載のプラズマディ
スプレイパネルの製造方法。4. The method according to claim 3, wherein a hot plate is used as the heat source for heat conduction.
射熱により行うことを特徴とする請求項2に記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。5. The method according to claim 2, wherein the drying in the sixth step is performed by radiant heat.
特徴とする請求項5に記載のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法。6. The method according to claim 5, wherein IR is used as the heat source of the radiant heat.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000195219A JP2002015663A (en) | 2000-06-28 | 2000-06-28 | Method for manufacturing plasma display panel |
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| JP2000195219A JP2002015663A (en) | 2000-06-28 | 2000-06-28 | Method for manufacturing plasma display panel |
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| JP2002015663A true JP2002015663A (en) | 2002-01-18 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2000195219A Pending JP2002015663A (en) | 2000-06-28 | 2000-06-28 | Method for manufacturing plasma display panel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002015663A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009067415A1 (en) * | 2007-11-19 | 2009-05-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making a color filter |
| US7722789B2 (en) | 2007-11-30 | 2010-05-25 | 3M Innovative Properties Company | Defoaming method, defoaming device and manufacturing method of transfer mold |
-
2000
- 2000-06-28 JP JP2000195219A patent/JP2002015663A/en active Pending
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| WO2009067415A1 (en) * | 2007-11-19 | 2009-05-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making a color filter |
| US7722789B2 (en) | 2007-11-30 | 2010-05-25 | 3M Innovative Properties Company | Defoaming method, defoaming device and manufacturing method of transfer mold |
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