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JP2002012796A - 被覆用樹脂組成物及びこれを被覆して成るフォトマスク - Google Patents

被覆用樹脂組成物及びこれを被覆して成るフォトマスク

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Publication number
JP2002012796A
JP2002012796A JP2000192970A JP2000192970A JP2002012796A JP 2002012796 A JP2002012796 A JP 2002012796A JP 2000192970 A JP2000192970 A JP 2000192970A JP 2000192970 A JP2000192970 A JP 2000192970A JP 2002012796 A JP2002012796 A JP 2002012796A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
coating
group
weight
protective film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000192970A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Fujiwara
正裕 藤原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toagosei Co Ltd
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toagosei Co Ltd filed Critical Toagosei Co Ltd
Priority to JP2000192970A priority Critical patent/JP2002012796A/ja
Publication of JP2002012796A publication Critical patent/JP2002012796A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基材表面にラジカル重合を阻害する物質が付
着していても硬化し、帯電防止能、硬度、密着性、ＵＶ
透過率に優れ且つ耐水性にも優れた保護被膜を提供可能
な被覆用樹脂組成物等を提供する。 【解決手段】 本組成物及びこれを被覆して成るフォト
マスクは、式（Ｉ）の重合性酸性リン酸エステル、式
（ＩＩ）のシラン化合物（３−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン等）、金属酸化物及び重合性不飽和
二重結合を２個以上有する化合物（ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート等）を含有する。（ＣＨ2＝Ｃ
（Ｒ1）−Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ2Ｃ（Ｒ2）Ｈ）n）mＯＰ
（Ｏ）（ＯＨ）3-m（Ｉ）（Ｒ1はメチル基等、Ｒ2は水
素等、ｍは１又は２の整数、ｎは１〜８の整数。） Ｘ
−Ｓｉ（Ｚ）（Ｙ）−Ｙ （ＩＩ）（Ｘはメタクリロキ
シアルキル基等、Ｙはアルコキシ基、Ｚはアルコキシ基
等。）

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被覆用樹脂組成物
及び該組成物の硬化物を保護被膜とするフォトマスクに
関し、更に詳しく言えば、ラジカル重合を阻害する物質
が基材に付着していても硬化し、十分な帯電防止能、高
い硬度、良好な密着性、高いＵＶ透過率を有し、且つ耐
水性も良好な保護被膜を提供可能な被覆用樹脂組成物及
び該保護被膜を有するフォトマスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】プリント配線板やシャドウマスクの製造
工程では、ガラス製やポリエチレンテレフタレート製の
フォトマスクを通し、感光性樹脂に紫外線（以下「Ｕ
Ｖ」と称する。）を照射する露光工程がある。露光工程
では、ＵＶが照射された部分だけが選択的に現像液に不
溶又は可溶となるので、目的の形状の樹脂パターンが複
製できる。ここで、フォトマスクの像は、線の幅及び間
隔が数十〜数百μｍと緻密なので、フォトマスクの像に
傷が付くと、感光性樹脂上に影となって現れ、目的とす
る像が得られず不良品となる。そこで、フォトマスクに
は、耐擦傷性を持つ保護被膜により表面を被覆し、像に
傷が付くことを防ぐことが要求される。この保護被膜
は、傷つきを防ぐため高い硬度を有する他に、ＵＶの透
過率が高いことが必要である。ＵＶ透過率の低い保護被
膜では、ＵＶが保護被膜に吸収され感光性樹脂に達する
前に強度が低下し、露光時間を長くとる必要が生じ、生
産性の低下を招くことになる。
【０００３】更に、フォトマスク上にほこりが付着する
と、感光性樹脂上に影となって現れるため、目的とする
像が得られない。このため、保護被膜には、高い硬度の
他に、ほこりの付着を防ぐため帯電防止能を有すること
が望まれている。保護被膜に帯電防止能を付与する手段
としては、従来より界面活性剤を添加練り混みする手
法、シリケート化合物の部分加水分解物を塗布する手
法、又は導電性フィラーを添加する手法が知られてい
る。しかし、界面活性剤の添加はブリードアウトした表
面の界面活性剤が水洗などにより脱落することや、基材
との密着性を低下させるという欠点がある。シリコン系
化合物の塗布は、一度形成した保護被膜上に再び塗布、
硬化する工程が必要である。導電性フィラーの添加は、
透明性が不十分である上に高価である。一方、帯電防止
能を持つモノマーを共重合することで、保護被膜に帯電
防止能を付与する手法が報告されている。例えば、特開
昭５６−１３９５１６号では、ポリアルキレングリコー
ルモノメタクリレートを帯電防止能を持つモノマーとし
て用いている。共重合を行っているので、水洗による脱
落の問題は解決するが、ポリアルキレングリコールモノ
メタクリレートは帯電防止の効果が低く大量の添加を必
要とし、他の物性の低下を招く。
【０００４】また、重合性酸性リン酸エステルを用いた
例が、特開昭６１−７３７０９号、特開昭６１−７８８
０７号、開昭６２−２０７３５８号、特開昭６４−６２
３１６号、特開平４−６７７３１号及び特開平４−３０
９５６８号で開示されている。重合性酸性リン酸エステ
ルは、先のポリアルキレングリコールモノメタクリレー
トに比べれば少ない添加で十分な帯電防止能が得られ
る。しかし、このように十分な帯電防止能が得られる量
を添加すると、保護被膜の耐水性が悪化してしまう。逆
に、少量の添加では帯電防止能が不十分になるという問
題があった。そこで、重合性酸性リン酸エステルと、他
の添加剤を併用することで、十分な帯電防止能が得られ
るようこれまで様々な工夫がされてきた。特開昭５７−
６５７６１号ではノニオン系界面活性剤を併用し、特開
平１−１６８７７１号では非官能のリン酸エステルを併
用し、特開昭５０−１０９９４４号ではスルホン酸を併
用している。ところが、非官能性であるノニオン系界面
活性剤、非官能性のリン酸エステル、或いはスルホン酸
の添加は、硬化中にムラが生じやすくなる上に、水洗等
によって保護被膜から脱落し帯電防止能の低下を招くう
え、硬度が低下する問題もあった。
【０００５】硬度を向上させる試みとして、特開平１０
−９５９５１号では、コロイダルシリカの併用が提案さ
れている。これによれば、確かに硬化直後の保護被膜の
硬度は高い。ところが、密着性に問題があるうえ、高湿
下に放置すると、耐水性の低さのため、樹脂が脆くなる
という問題があった。更に、上記の樹脂組成物は、比較
的低い硬度のものであれば基材との密着に問題はない
が、高い硬度の被膜を形成した場合は、基材との密着性
が不十分であった。このため、十分な帯電防止能、高い
硬度、良好な密着性、高いＵＶ透過率を有し、且つ良好
な耐水性を兼ね備えた保護被膜を提供可能な被覆用樹脂
組成物が求められていた。筆者らは、特開平１１−８０
５９４にて、十分な帯電防止能、高い硬度、良好な密着
性、高いＵＶ透過率を有し、且つ耐水性も良好な保護被
膜を提供可能な被覆用樹脂組成物、及び該組成物からな
る保護皮膜を有するフォトマスクを提案している。とこ
ろが、基材の着色や識別に用いる染料成分や、写真乾板
の現像に用いられるハイドロキノン等のラジカル重合を
阻害する物質が基材表面に付着していた場合、硬化性に
ついては、改善の余地があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情に
鑑みてなされたものであり、基材表面にラジカル重合を
阻害する物質が付着していても、十分に硬化し、十分な
帯電防止能、高い硬度、良好な密着性、高いＵＶ透過率
を有し、且つ耐水性も良好な保護被膜を提供可能な被覆
用樹脂組成物、並びに該保護被膜を有するフォトマスク
を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の被
膜用樹脂組成物に指摘されるような種々の欠点を克服す
べく鋭意検討を重ねた結果、特定の重合性酸性リン酸エ
ステル、特定のシラン化合物及び一次粒子の平均粒径が
８〜１００ｎｍの金属酸化物が有機溶剤中に分散された
金属酸化物分散液を用いることで、基材表面にラジカル
重合を阻害する物質が付着していても、十分に硬化し、
十分な帯電防止能、高い硬度、良好な密着性、高いＵＶ
透過率を有し、且つ耐水性も良好な保護被膜、並びに該
保護被膜を有するフォトマスクを容易に得られることを
見いだして本発明を完成するに至った。即ち、本第１発
明の被覆用樹脂組成物は、前記式（Ｉ）で表される重合
性酸性リン酸エステル（Ａ）、前記式（ＩＩ）で表され
るシラン化合物（Ｂ）、一次粒子の平均粒径が８〜１０
０ｎｍであり且つ有機溶剤中に分散された金属酸化物
（Ｃ）、及び１分子中に重合性不飽和二重結合を２個以
上有する有機化合物（Ｄ）からなり、各々の配合割合
は、上記（Ａ）成分が１０〜４０重量％、上記（Ｂ）成
分が３〜３０重量％、上記（Ｃ）成分が１．５〜１５重
量％、及び上記（Ｄ）成分が２５〜８２重量％であるこ
とを特徴とする。本第２発明の被覆用樹脂組成物は、本
第１発明における金属酸化物がシリカであることを特徴
とする。本第３発明のフォトマスクは、第１発明又は第
２発明の被覆用樹脂組成物の硬化物で被覆して成ること
を特徴とする。
【０００８】上記「重合性酸性リン酸エステル」（Ａ）
は、本発明の被覆用樹脂組成物に主として帯電防止能を
付与することを目的とするものである。前記式（Ｉ）の
具体例としては、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＯＰ
（Ｏ）（ＯＨ）2、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ
2ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）2、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ
2ＣＨ（ＣＨ2Ｃｌ）ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）2、（ＣＨ2＝Ｃ
ＨＣＯＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ）2Ｐ（Ｏ）ＯＨ、（ＣＨ2＝Ｃ
（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ 2Ｏ）2Ｐ（Ｏ）ＯＨ、ＣＨ2
＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯ（ＯＣＨ2ＣＨ2）4ＯＰ（Ｏ）Ｏ
Ｈ2、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯ（ＯＣＨ2ＣＨ2）5ＯＰ
（Ｏ）（ＯＨ）2、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯ（ＯＣＨ2Ｃ
Ｈ（ＣＨ3））5ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）2及びＣＨ2＝Ｃ（Ｃ
Ｈ3）ＣＯ（ＯＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3））6ＯＰ（Ｏ）（Ｏ
Ｈ）2等が挙げられ、これらは所望により２種類以上用
いることができる。これらの中でも、ＣＨ2＝Ｃ（Ｃ
Ｈ3）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）2及び（ＣＨ
2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ）2Ｐ（Ｏ）ＯＨが
相溶性及び硬度の面で好ましい。本発明においては、こ
れら重合性酸性リン酸エステルの組成物中の配合割合
は、１０〜４０重量％が好ましく、１５〜２５重量％が
より好ましい。１０重量％未満では、保護被膜の帯電防
止能が不足する傾向にあり、４０重量％を超える量を添
加すると、硬化に伴い着色が起きＵＶ透過率が低下する
うえ、硬度及び耐水性が低下する傾向にあるので好まし
くない。
【０００９】上記「シラン化合物」（Ｂ）は、下記式
（ＩＩ）で表されるもので、基材との密着性を向上し、
同時に重合性酸性リン酸エステルを添加することによる
耐水性の悪化を改善し、更に硬化塗膜の硬度を高くする
ためのものである。 Ｘ−Ｓｉ（Ｚ）（Ｙ）−Ｙ （ＩＩ） （上式中、Ｘはエチレン性不飽和二重結合を有する有機
基、Ｙはアルコキシ基、Ｚはアルコキシ基又はアルキル
基を示す。） 上式中において、「Ｘ」としては、メタクリロキシアル
キル基、アクリロキシアルキル基及びビニル基等の有機
基が挙げられ、特にこれらのメタクリロキシアルキル基
及びアクリロキシアルキル基のアルキル基の炭素数は２
〜４が好ましい。「Ｙ」としてのアルコキシ基の炭素数
は１〜３が好ましい。「Ｚ」としてのアルコキシ基又は
アルキル基のいずれの炭素数も１〜３が好ましい。具体
的には、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、
３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン
及びビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン等が
挙げられる。これらの中でも、３−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン及び３−メタクリロキシプロピ
ルトリエトキシシランが密着性、耐水性及び硬度の点で
好ましい。これらシラン化合物の本発明の組成物中の配
合割合は、３〜３０重量％であり、５〜２０重量％が好
ましい。３重量％よりも少ない場合、基材との密着性向
上、耐水性向上及び硬度向上の効果が低く、３０重量％
を超える量を添加すると、相分離のため平滑な塗膜が得
難く、帯電防止能が低下するので好ましくない。
【００１０】また、上記「有機溶剤中に分散された金属
酸化物」（Ｃ）に含まれる金属酸化物は、ラジカル重合
を阻害する物質が基材に付着していても十分に硬化させ
るためのものである。この一次粒子金属酸化物の平均粒
径が８ｎｍ未満の場合は、金属酸化物粒子間の凝集が強
すぎ均一な塗膜が得られにくく、１００ｎｍを超える場
合は透明性が低下するので好ましくない。具体的には、
一次粒子の平均粒径が８〜１００ｎｍの金属酸化物をメ
タノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、
エチレングリコール、エチレングリコールモノｎ−プロ
ピルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、ジメチルアセトアミド及びキシレン等の１種又
は２種以上の有機溶剤に分散させたコロイダル状金属酸
化物を挙げることができる。これらの中でも、イソプロ
ピルアルコール、メチルエチルケトン又はメチルイソブ
チルケトンに分散させたコロイダル状金属酸化物が、均
一な塗膜が得られやすい点で好ましい。好ましい金属酸
化物は、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化亜鉛、酸
化アンチモン、酸化ビスマス及び酸化スズ等であり、こ
れらの内シリカは特に好ましい。第１発明において上記
金属酸化物（Ｃ）の本組成物中の配合割合は、１．５〜
１５重量％であり、２〜１０重量％が好ましく、４〜９
重量％がより好ましい。これが１．５重量％未満の場
合、ラジカル重合を阻害する物質が基材に付着している
ときに、十分に硬化させる効果が低く、１５重量％を超
える場合、平滑な塗膜が得難くなる傾向が見られるので
好ましくない。
【００１１】上記（Ｄ）「１分子中に重合性不飽和二重
結合を２個以上有する有機化合物」（以下、「有機化合
物」ともいう。）は、より一層高い硬度を得るためのも
のである。この「重合性不飽和二重結合」としては、重
合性のものであれば特に限定されないが、アクリロイル
基又はメタクリロイル基等が好ましい。また、この官能
基の１分子当たりの数は３〜６程度が好ましい。更に、
この有機化合物の分子量は、２００〜１００００が好ま
しく、２００〜５０００がより好ましい。 １分子中に重
合性不飽和二重結合を２個有する有機化合物の例として
は、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレ
ート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性オキシド変
性ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレ
ートおよび／またはメタクリレート（以下「アクリレー
トおよび／またはメタクリレート」を「（メタ）アクリ
レート」と称する。）、ポリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ヘキサメチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ジメチロールトリシクロデカン
ジアクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレ
ート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノール
Ａ型エポキシ樹脂のエポキシ基とアクリル酸および／ま
たはメタクリル酸（以下「（メタ）アクリル酸」と称す
る。）からなるエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げ
られる。
【００１２】一方、１分子中に重合性不飽和二重結合を
３個以上有する有機化合物の例としては、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソ
シアヌレートおよび／またはトリス（メタクリロキシエ
チル）イソシアヌレート（以下「アクリロキシおよび／
またはメタクリロキシ」を「（メタ）アクリロキシ」と
称する。）、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アク
リレート、エポキシ樹脂のエポキシ基と（メタ）アクリ
ル酸からなるエポキシ（メタ）アクリレート、多価アル
コールのポリグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸
からなるエポキシ（メタ）アクリレート、多価アルコー
ルのウレタンアクリレート等が挙げられ。これらは所望
により２種類以上用いることができる。これらの中で
も、硬度の点で、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート又はペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレートが好ましい。
【００１３】本発明における有機化合物（Ｄ）として、
重合性不飽和二重結合を２個有する有機化合物と重合性
不飽和二重結合を３個以上有する有機化合物を併用する
ことが好ましく、前者を１０〜３０重量％の割合で併用
すると、本発明の組成物の硬化物は基材に対する密着性
が向上する。上記有機化合物（Ｄ）の本発明の組成物中
の配合割合は、２５〜８２重量％であり、３０〜７０重
量％が好ましく、３０〜５５重量％がより好ましい。こ
れが２５重量％未満では、被覆の硬度が低下する傾向が
見られ、８２重量％を超える場合は、十分な帯電防止能
と密着性が得られない傾向が見られるので好ましくな
い。
【００１４】本発明の組成物には、所望により反応性希
釈剤、重合開始剤、溶剤、レベリング剤、消泡剤又は熱
重合禁止剤等を、本発明の被覆用樹脂組成物の諸特性を
著しく低下させない範囲内で添加することも可能であ
り、本発明を限定するものではない。反応性希釈剤は、
塗布性の改善及び作業性の向上を目的とするもので、１
分子中に重合性不飽和二重結合を１個有する有機化合物
である。具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベ
ンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル
（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレ
ート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒド
ロフタル酸及びＮ−ビニルピロリドン等が挙げられる。
【００１５】熱重合開始剤又は光重合開始剤は、本発明
の樹脂組成物を基材の表面に塗布し、該組成物を架橋硬
化させて被膜を形成させるために添加するものである。
熱重合開始剤の具体例としては、（１）ベンゾイルペル
オキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ジク
ミルペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ｔｅｒ
ｔ−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート等
の過酸化物、（２）アゾビスイソブチロニトリル、２，
２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等の
アゾ化合物が挙げられる。光重合開始剤の具体例として
は、（１）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
−１−プロパノン、１−（４−イソプロピルフェニル）
−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパノン、２−
メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モ
ルホリノ−１−プロパノン、１−ヒドロキシシクロヘキ
シルフェニルケトン、ベンジルジメチルケタールのよう
なアセトフェノン系、（２）フェニルメトキシジケトン
のようなジケトン系、（３）イソプロピルチオキサント
ンとｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルの併用、２，４
−ジエチルチオキサントンとｐ−ジメチルアミノ安息香
酸エチルの併用のようなチオキサントン系が挙げられ
る。これら重合開始剤は本発明の被覆用樹脂組成物に対
する添加量は、０．１〜２０重量％であり、１〜１０重
量％が好ましい。また、熱重合開始剤と光重合開始剤は
併用することもできる。これ以外に、電子線により硬化
を行うことも可能である。この場合は、これらの重合開
始剤は不要である。
【００１６】本発明の被覆用樹脂組成物は、塗布性の改
善、作業性の向上、保護被膜の膜厚調整のため、必要に
応じて溶媒で希釈される。特に、フォトマスク使用時に
露光時間短縮のため保護被膜の透過率を重視するのであ
れば、溶剤で希釈し、保護被膜の膜厚を薄く調整するこ
とが好ましい。このような溶剤の具体例としては、
（１）エタノール、イソプロパノール、ノルマルプロパ
ノール、イソブチルアルコール、ノルマルブチルアルコ
ール、メチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル等のアルコール類、（２）トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、（３）アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン類、（４）ジオキサン等のエーテル類、
（５）酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセ
テート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート等のエステル類が挙げられる。但し、基材の種類
によっては、溶剤が基材を損傷する恐れがあるので、基
材の種類によって適宜選択して使用することが望まし
い。本発明で用いる被覆用樹脂組成物は、上記の成分を
混合することによって容易に調製することができる。
【００１７】本発明で形成する保護被膜の膜厚は、通常
０．５〜１０μｍであり、好ましくは０．７〜５μｍ、
より好ましくは１〜３μｍである。０．５μｍよりも膜
厚が薄い場合、十分な帯電防止能と耐擦傷性が得られ難
く、１０μｍを超える膜厚では、透過率が低下し易いの
で好ましくない。保護被膜の膜厚は、樹脂組成物の固形
分濃度を調節することで任意に変更することができる。
【００１８】［作用］本発明の被覆用樹脂組成物より得
られる保護被膜及び該保護被膜を有するフォトマスク
は、特定の重合性酸性リン酸エステル（Ａ）を配合して
いるので帯電防止能に優れる。特定のシラン化合物
（Ｂ）を配合しているので耐水性と硬度に優れる。ま
た、一次粒子の平均粒径が８〜１００ｎｍであり且つ有
機溶剤中に分散された金属酸化物（Ｃ）を配合している
ので、ラジカル重合を阻害する物質が基材に付着してい
ても、十分に硬化させることができる。更に、１分子中
に重合性不飽和二重結合を２個以上有する有機化合物
（Ｄ）を配合しているので、より一層高い硬度を得るこ
とができる。 通常、フェノール性水酸基をもつ、ハイド
ロキノンや染料となる化合物が基材上に付着していれ
ば、これがラジカル重合の禁止剤として作用するため、
重合性不飽和二重結合のラジカル重合は進行しないとい
うのがこれまでの考え方であった。しかし、本発明にお
いては、上記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）成分を
特性割合で配合することで、金属酸化物の反応だけで塗
膜が硬化されるのではなく、重合性不飽和二重結合のラ
ジカル重合も進行して、硬化されることが分かった。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の被覆用樹脂組成物
及びこれを被覆して成るフォトマスクについて、実施例
及び比較例を挙げて具体的に説明する。各実施例及び各
比較例で使用した材料の明細を以下に示す。 （Ａ）重合性酸性リン酸エステル 「ホスマーＭ」：ユニケミカル株式会社製、２−メタ
クリロイロキシエチルアシッドフォスフェート 「ＫＡＹＡＭＥＲ ＰＭ−２」：日本化薬株式会社
製、２−メタクリロイロキシエチルアシッドフォスフェ
ート 「ホスマーＰＥ」：ユニケミカル株式会社製、アシッ
ドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノメタ
クリレート 「ライトエステルＰＡ」：共栄社化学株式会社製、２
−アクリロイロキシエチルアシッドフォスフェート （Ｂ）シラン化合物 「ＫＢＭ−５０３」：信越化学工業株式会社製、３−
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 「ＫＢＥ−５０３」：信越化学工業株式会社製、３−
メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン 「ＫＢＭ−１００３」：信越化学工業株式会社製、ビ
ニルトリメトキシシラン 「Ａ−１７４」：日本ユニカー株式会社製、３−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン （Ｃ）シリカ分散液 「ＭＩＢＫ−ＳＴ」：日産化学工業株式会社製、一次
粒子の粒径１０〜２０ｎｍ、シリカとして３０ｗｔ％含
むメチルイソブチルケトン分散液 「ＩＰＡ−ＳＴ」：日産化学工業株式会社製、一次粒
子の粒径１０〜２０ｎｍ、シリカとして３０ｗｔ％含む
イソプロピルアルコール分散液 「ＭＥＫ−ＳＴ」：日産化学工業株式会社製、一次粒
子の粒径１０〜２０ｎｍ、シリカとして３０ｗｔ％含む
メチルエチルケトン分散液 （Ｄ）１分子中に重合性不飽和二重結合を３個以上（
〜）又は２個（）有する有機化合物 「アロニックスＭ−４５０」：東亞合成株式会社製、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 「アロニックスＭ−４００」：東亞合成株式会社製
ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート
の混合物 「アロニックスＭ−３０５」：東亞合成株式会社製、
ペンタエリスリトールトリアクリレート 「リポキシＳＰ−１５０９」：昭和高分子株式会社
製、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート （Ｅ）その他 （熱重合開始剤） 「パークミルＤ」：日本油脂株式会社製、ジクミルペ
ルオキシド 「ナイパーＢＭＴ」：日本油脂株式会社製、ベンゾイ
ルペルオキシド （溶剤等） 「ＰＧＭ」：プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル 「ＰＧＭＡｃ」：プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート 「ＭＥＫ」：メチルエチルケトン
【００２０】（実施例１） （１）被覆用樹脂組成物の調製及びこの保護被膜の性能
評価 下記表１に示すように、重合性酸性リン酸エステル「ホ
スマーＭ」２０部、シラン化合物「ＫＢＭ−５０３」１
０部、シリカ分散液「ＭＩＢＫ−ＳＴ」２５部、１分子
中に重合性不飽和二重結合を４個有する有機化合物「ア
ロニックスＭ−４５０」４５部、熱重合開始剤「パーク
ミルＤ」５部、溶剤「ＰＧＭＡｃ」９００部、及びフッ
素系のレベリング剤１部を混合して被覆用樹脂組成物を
調製した。尚、表１の「シリカ分散液」欄の括弧内の数
字は、シリカ固形分量を示す。表３（比較例１〜７）も
同じである。一方、厚さ２ｍｍのガラス基板の一部にハ
イドロキノンの溶液を滴下し乾燥させることで、ハイド
ロキノンが付着したガラス基板を作製した。このガラス
基板上に保護被膜が２μｍとなるようにスピンコーター
により被覆用樹脂組成物を塗布し、１８０℃に１５分保
持することで保護被膜を得た。この保護被膜の硬化性、
帯電防止能、硬度、密着性、耐水性及び透明性を調べる
ため、下記の方法にて、外観、表面抵抗値、鉛筆硬度、
ゴバン目テスト、耐水性試験及びＵＶ透過率の評価を行
い、評価結果を表２に示した。
【００２１】
【表１】
【００２２】
【表２】
【００２３】（外観）保護被膜の外観を目視により評価
した。尚、この外観の評価において凹凸が激しいもの
は、他の性能評価を行わなかった。 （表面抵抗値）保護被膜の表面抵抗値をＪＩＳＫ６９１
１に準じて、２５±２℃、６５±５％の環境下で測定し
た。 （鉛筆硬度）保護被膜の鉛筆硬度をＪＩＳＫ５４００に
準じて、三菱鉛筆製ユニを用いて測定した。 （ゴバン目テスト）保護被膜の密着性の評価をＪＩＳＫ
５４００のゴバン目テストに準じて行った。判定は１０
０個のゴバン目中、何個が接着していたかで示す。 （耐水性）保護被膜の耐水性は保護被膜を水中に１時間
浸漬した後の外観を観察することで評価した。 （ＵＶ透過率）保護被膜のＵＶ透過率は、ＵＶ光（波長
３６５ｎｍ）を用いて、保護被膜を形成した基材の透過
率を測定し、基材単独の透過率を１００％としたときの
換算値を求めることで評価した。
【００２４】（２）フォトレジストパターニング ガラス基板上にクロム薄膜層を形成し、更にレジスト形
成、パターニング、エッチング、レジスト剥離を経て、
クロム薄膜パターンを形成したガラス基板を形成した。
この一部にハイドロキノンの溶液を滴下し乾燥させるこ
とで、ハイドロキノンが付着したフォトマスクを作製し
た。この上に、保護被膜が２μｍとなるようにスピンコ
ーターで被覆用樹脂組成物を塗布し、１８０℃で１５分
間保持することで、保護被膜を有するフォトマスクを得
た。銅張積層板に、ネガ型フォトレジスト「ＰＥＲＭ
Ｎ−ＨＣ４０」（東亞合成株式会社製）をバーコーター
を用いて塗布し、９０℃で５分間乾燥を行い、膜厚１３
μｍのレジスト膜を得た。次に、フォトレジスト両面焼
き付け機「ＨＴＥ−１０６Ｓ」（株式会社ハイテック
製）を用い、上記レジスト膜上に上記フォトマスクを真
空密着させ、５ｋＷの超高圧水銀灯で露光した。露光量
は２００ｍＪ／ｃｍ2 とし、露光部分を硬化させた。こ
のようにして得られたレジスト膜を、コンベアー式スプ
レー現像機（有限会社キムラ・エッチング研究所製）を
用い、濃度１％の炭酸ナトリウム水溶液で、未露光部分
を溶解除去した。使用したフォトマスクの外観と、パタ
ーンを形成したレジスト膜の外観とを観察することで評
価し、その結果を表２に併記した。
【００２５】（実施例２〜４）重合性酸性リン酸エステ
ル、シラン化合物、一次粒子の平均粒径が８〜１００ｎ
ｍのシリカを有機溶剤中に分散したシリカ、１分子中に
重合性不飽和二重結合を２個以上有する有機化合物、及
びその他の成分として表１に記載したものを用い、混合
して被覆用樹脂組成物を表１に示す割合になるよう調製
した。次に、この組成物を、実施例１と同様にして基板
上に塗布し、保護被膜を得た。この保護被膜に対して実
施例１と同様の評価を行い、更に本保護被膜を被覆して
なるフォトマスクを用い、実施例１と同様にして、フォ
トレジストのパターニングを行った。その評価結果を表
２に併記した。
【００２６】（比較例１〜７）重合性酸性リン酸エステ
ル、シラン化合物、一次粒子の平均粒径が８〜１００ｎ
ｍのシリカを有機溶剤中に分散したシリカ、１分子中に
重合性不飽和二重結合を２個以上有する有機化合物、及
びその他の成分として下記表３に記載したものを用い、
表３に示す割合になるように配合して、各比較例１〜７
に係わる被覆用樹脂組成物を調製した。次に、この各組
成物を、実施例１と同様にして基板上に塗布し、保護被
膜を得た。この保護被膜に対して実施例１と同様の評価
を行い、更に本保護被膜を被覆してなるフォトマスクを
用い、実施例１と同様にして、フォトレジストのパター
ニングを行った。その評価結果を表２に併記した。尚、
表３中の「（Ｃ）シリカ分散液」欄のカッコ値は、シリ
カの固形分値である。また、表２中の「＊」は本発明の
範囲に含まれない構成要素を示す。
【００２７】
【表３】
【００２８】（実施例の効果）表２の結果によれば、重
合性酸性リン酸エステルが配合されていない比較例１に
おいては、表面抵抗値が高く帯電防止能が低い。逆に、
上記リン酸エステルの配合量が５０部と多い比較例２に
おいては、表面抵抗値が低く帯電防止能に優れるが、外
観が黄色に着色し、硬度が低く、ＵＶ透過率も８３％と
低い上、更にフォトマスクに傷が見られる。また、シラ
ン化合物が配合されていない比較例３においては、ゴバ
ン目テストで０／１００と密着性が低く、耐水性も低
い。逆に、上記シラン化合物の配合量が４０部と多い比
較例４においては、相分離してしまい平滑な塗膜が得ら
れず、外観の凹凸が激しい。シリカ分散液が配合されて
いない比較例５においては、外観で一部未硬化部分があ
る。逆に、上記シリカ分散液の配合量が６０部と多い比
較例６においては、平滑な塗膜が得られず、外観の凹凸
が激しい。重合性不飽和二重結合を２個以上有する有機
化合物が１０部と少ない比較例７においては、硬度が低
く、フォトマスクには傷が見られる。これに対して実施
例１〜４の全てにおいて、外観は良好で十分に硬化し、
表面抵抗値も２×１０12〜３×１０12Ωと低いことか
ら、優れた帯電防止能を示し、ゴバン目テストも１００
／１００で密着性にも優れ、耐水性も良好で、ＵＶ透過
率も９０〜９２（％）と高い値を示し、フォトマスク外
観にも傷は見られず、更にレジスト外観も良好であっ
た。以上より、実施例１〜４の被覆用樹脂組成物及びこ
れを被覆して成るフォトマスクは、非常に優れた性能バ
ランスを持っていることが分かる。
【００２９】
【発明の効果】本発明の被覆用樹脂組成物及びこれを被
覆して成るフォトマスクは、特定の重合性酸性リン酸エ
ステル、特定のシラン化合物及び金属酸化物分散液を配
合することで、基材表面にラジカル重合を阻害する物質
が付着していても十分に硬化することができる。更に、
本発明によれば、十分な帯電防止能、高い硬度、良好な
密着性、高いＵＶ透過率を有し、且つ耐水性にも優れた
被覆用樹脂組成物、並びに該組成物からなる保護被膜を
有するフォトマスクを得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｚ Ｇ０３Ｆ 1/14 Ｇ０３Ｆ 1/14 Ｅ Ｆターム(参考） 2H095 BB30 BC20 4J011 AA05 PA13 PB22 PC02 PC08 WA01 4J027 AC03 AC04 AC06 AC09 AE02 AJ02 AJ08 BA04 BA19 BA26 BA28 CA18 CA36 CB03 CB09 CB10 CD08 4J038 FA012 FA112 FA211 HA216 HA446 4J100 AL08P AL08Q AL62R AL63R AL66R AL67R AP16Q BA03R BA08P BA08R BA64P BA77Q BB01P BC12R BC45R BC75R CA05 CA06 JA38

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記式（Ｉ）で表される重合性酸性リン
    酸エステル（Ａ）、下記式（ＩＩ）で表されるシラン化
    合物（Ｂ）、一次粒子の平均粒径が８〜１００ｎｍであ
    り且つ有機溶剤中に分散された金属酸化物（Ｃ）、及び
    １分子中に重合性不飽和二重結合を２個以上有する有機
    化合物（Ｄ）からなり、各々の配合割合は、上記（Ａ）
    成分が１０〜４０重量％、上記（Ｂ）成分が３〜３０重
    量％、上記（Ｃ）成分が１．５〜１５重量％、及び上記
    （Ｄ）成分が２５〜８２重量％であることを特徴とする
    被覆用樹脂組成物。 （ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）−Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ2Ｃ（Ｒ2）Ｈ）n）mＯＰ（Ｏ）（ＯＨ） 3-m （Ｉ） （上式中、Ｒ1は水素又はメチル基、Ｒ2は水素、メチル
    基又はハロゲン化メチル基、ｍは１又は２の整数、ｎは
    １〜８の整数を示す。） Ｘ−Ｓｉ（Ｚ）（Ｙ）−Ｙ （ＩＩ） （上式中、Ｘはエチレン性不飽和二重結合を有する有機
    基、Ｙはアルコキシ基、Ｚはアルコキシ基又はアルキル
    基を示す。）
  2. 【請求項２】 請求項１記載の金属酸化物がシリカであ
    ることを特徴とする被覆用樹脂組成物。
  3. 【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載の被覆用樹
    脂組成物の硬化物で被覆して成るフォトマスク。
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Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005314606A (ja) * 2004-04-30 2005-11-10 Kuraray Co Ltd ケイ素含有重合体の製造方法およびケイ素含有重合体
JP2006188647A (ja) * 2004-12-07 2006-07-20 Shin Etsu Chem Co Ltd 導電性透明被膜形成用塗布剤及び導電性透明被膜付基材並びに導電性透明被膜の形成方法
WO2009041646A1 (ja) * 2007-09-28 2009-04-02 Asahi Glass Company, Limited 光硬化性組成物、微細パターン形成体の製造方法および光学素子
JP2009091448A (ja) * 2007-10-09 2009-04-30 Momentive Performance Materials Japan Kk ハードコート用樹脂組成物
JP2009541550A (ja) * 2006-06-27 2009-11-26 ウァッカー ケミー アーゲー アルコキシシリル官能性オリゴマーおよび表面改質粒子
JP2010085597A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Kimoto & Co Ltd エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液およびそれを用いたエマルジョンマスク
WO2010090269A1 (ja) * 2009-02-05 2010-08-12 旭硝子株式会社 光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法
WO2011096081A1 (ja) * 2010-02-08 2011-08-11 株式会社 きもと エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液およびそれを用いたエマルジョンマスク
WO2012017530A1 (ja) * 2010-08-04 2012-02-09 旭硝子株式会社 光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法
JP2012049152A (ja) * 2010-07-30 2012-03-08 Agc Seimi Chemical Co Ltd 光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法
US8445058B2 (en) 2008-04-08 2013-05-21 Asahi Glass Company, Limited Process for producing wire-grid polarizer
CN103472673A (zh) * 2013-09-16 2013-12-25 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版及其制备方法
JP2015038188A (ja) * 2013-06-06 2015-02-26 東洋合成工業株式会社 組成物
TWI494328B (zh) * 2010-03-10 2015-08-01 Kimoto Kk Latex mask with ionizing radiation hardening type protective fluid and the use of its latex mask
JP2015196833A (ja) * 2014-03-31 2015-11-09 東洋合成工業株式会社 組成物
JP2016045337A (ja) * 2014-08-22 2016-04-04 株式会社きもと 電離放射線硬化型保護液及びフォトマスク

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005314606A (ja) * 2004-04-30 2005-11-10 Kuraray Co Ltd ケイ素含有重合体の製造方法およびケイ素含有重合体
JP2006188647A (ja) * 2004-12-07 2006-07-20 Shin Etsu Chem Co Ltd 導電性透明被膜形成用塗布剤及び導電性透明被膜付基材並びに導電性透明被膜の形成方法
JP2009541550A (ja) * 2006-06-27 2009-11-26 ウァッカー ケミー アーゲー アルコキシシリル官能性オリゴマーおよび表面改質粒子
US8133428B2 (en) 2007-09-28 2012-03-13 Asahi Glass Company, Limited Photocurable composition, process for producing fine patterned product and optical element
WO2009041646A1 (ja) * 2007-09-28 2009-04-02 Asahi Glass Company, Limited 光硬化性組成物、微細パターン形成体の製造方法および光学素子
KR101457254B1 (ko) * 2007-09-28 2014-10-31 아사히 가라스 가부시키가이샤 광경화성 조성물, 미세 패턴 형성체의 제조 방법 및 광학 소자
JP2009091448A (ja) * 2007-10-09 2009-04-30 Momentive Performance Materials Japan Kk ハードコート用樹脂組成物
US8445058B2 (en) 2008-04-08 2013-05-21 Asahi Glass Company, Limited Process for producing wire-grid polarizer
JP2010085597A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Kimoto & Co Ltd エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液およびそれを用いたエマルジョンマスク
WO2010090269A1 (ja) * 2009-02-05 2010-08-12 旭硝子株式会社 光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法
JP2010206189A (ja) * 2009-02-05 2010-09-16 Agc Seimi Chemical Co Ltd 光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法
WO2011096081A1 (ja) * 2010-02-08 2011-08-11 株式会社 きもと エマルジョンマスク用電離放射線硬化型保護液およびそれを用いたエマルジョンマスク
CN102754025A (zh) * 2010-02-08 2012-10-24 木本股份有限公司 乳胶掩膜用电离辐射线固化型保护液及使用其的乳胶掩膜
KR20120125456A (ko) * 2010-02-08 2012-11-15 키모토 컴파니 리미티드 에멀젼 마스크용 전리방사선 경화형 보호액 및 그것을 사용한 에멀젼 마스크
KR101676074B1 (ko) * 2010-02-08 2016-11-14 키모토 컴파니 리미티드 에멀젼 마스크용 전리방사선 경화형 보호액 및 그것을 사용한 에멀젼 마스크
TWI494328B (zh) * 2010-03-10 2015-08-01 Kimoto Kk Latex mask with ionizing radiation hardening type protective fluid and the use of its latex mask
JP2012049152A (ja) * 2010-07-30 2012-03-08 Agc Seimi Chemical Co Ltd 光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法
WO2012017530A1 (ja) * 2010-08-04 2012-02-09 旭硝子株式会社 光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法
JP2015038188A (ja) * 2013-06-06 2015-02-26 東洋合成工業株式会社 組成物
CN103472673A (zh) * 2013-09-16 2013-12-25 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版及其制备方法
US9482941B2 (en) 2013-09-16 2016-11-01 Boe Technology Group Co., Ltd. Mask and manufacturing method thereof
JP2015196833A (ja) * 2014-03-31 2015-11-09 東洋合成工業株式会社 組成物
JP2016045337A (ja) * 2014-08-22 2016-04-04 株式会社きもと 電離放射線硬化型保護液及びフォトマスク

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