JP2002009232A - Adhesive coating device and method of manufacturing semiconductor device using the same - Google Patents
Adhesive coating device and method of manufacturing semiconductor device using the sameInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数の接着剤吐出し管を有する接着剤塗布装
置において、前記接着剤吐出し管の先端から接着剤塗布
面までの距離の制御を容易にする。
【解決手段】 接着剤を注入する接着剤注入口と、前記
接着剤注入口から注入された接着剤を吐出して所定の領
域に塗布する複数の筒状の接着剤吐出し管を有する接着
剤塗布装置において、前記接着剤吐出し管の近傍に、前
記接着剤吐出し管の先端が形成する平面と異なる高さに
先端を有し、前記接着剤吐出し管の先端から塗布面まで
の距離を一定に支持する支持部材が設けられている接着
剤塗布装置である。
(57) Abstract: In an adhesive application device having a plurality of adhesive discharge tubes, it is easy to control a distance from a tip of the adhesive discharge tube to an adhesive application surface. An adhesive having an adhesive injection port for injecting an adhesive, and a plurality of cylindrical adhesive discharge pipes for discharging the adhesive injected from the adhesive injection port and applying the adhesive to a predetermined area. In the coating apparatus, a tip is provided at a height different from a plane formed by the tip of the adhesive discharge pipe in the vicinity of the adhesive discharge pipe, and a distance from the tip of the adhesive discharge pipe to a coating surface. This is an adhesive coating device provided with a support member that supports a constant.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、接着剤塗布装置及
びそれを用いた半導体装置の製造方法に関し、特に、変
形しやすいリードフレーム上、あるいは半導体チップ上
に接着剤を塗布する装置に適用して有効な技術に関する
ものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for applying an adhesive and a method for manufacturing a semiconductor device using the same, and more particularly to an apparatus for applying an adhesive on a lead frame or a semiconductor chip which is easily deformed. And effective technology.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、半導体装置の製造方法において、
半導体チップをリードフレームのダイパッド上に固着す
る際には、樹脂系の接着剤を用いることが多く、図12
(a)に示すような、接着剤塗布装置1’を用いてい
る。前記接着剤塗布装置1’は、複数本の樹脂系接着剤
を吐出す接着剤吐出し管3が所定の形状に並んでおり、
各接着剤吐出し管3から少量ずつ前記ダイパッド7上の
樹脂塗布面に樹脂系接着剤11を塗布し、塗布された樹
脂系接着剤11の上に、図12(b)に示すように、コ
レットなどにより半導体チップ12を搬送して載せて加
熱し、前記樹脂系接着剤11を硬化させ、図12(c)
に示すように、前記ダイパッド7上に半導体チップ12
を接着させる。2. Description of the Related Art Conventionally, in a method of manufacturing a semiconductor device,
When a semiconductor chip is fixed on a die pad of a lead frame, a resin-based adhesive is often used.
An adhesive application device 1 'as shown in FIG. In the adhesive application device 1 ′, an adhesive discharge pipe 3 that discharges a plurality of resin-based adhesives is arranged in a predetermined shape,
As shown in FIG. 12B, a resin adhesive 11 is applied to the resin application surface on the die pad 7 little by little from each of the adhesive discharge pipes 3, and on the applied resin adhesive 11, as shown in FIG. The semiconductor chip 12 is transported and mounted by a collet or the like, and heated to cure the resin-based adhesive 11.
As shown in FIG.
To adhere.
【0003】前記接着剤塗布装置1’を用いた樹脂塗布
方法は、まず、前記接着剤塗布装置1’の接着剤吐出し
ノズル3が、リードフレームの樹脂塗布面(ダイパッド
7)にくるようにXY方向の位置合わせを行い、次に、
前記接着剤塗布装置1’をZ軸方向に移動させ、前記接
着剤吐出し管3をリードフレームの樹脂塗布面に接近さ
せて前記接着剤吐出し管3から樹脂系接着剤11を吐出
して塗布している。[0003] In the resin coating method using the adhesive coating device 1 ', first, the adhesive discharge nozzle 3 of the adhesive coating device 1' is set so as to come to the resin coating surface (die pad 7) of the lead frame. Align in the XY directions, then
The adhesive dispensing apparatus 1 'is moved in the Z-axis direction, and the adhesive discharge pipe 3 is brought close to the resin application surface of the lead frame to discharge the resin-based adhesive 11 from the adhesive discharge pipe 3. Coated.
【0004】また、近年では、半導体装置の高機能化、
高密度化が進んでおり、1つのパッケージ内に複数個の
半導体チップを積層させた半導体装置等が製造されてい
る。前記複数個の半導体チップを積層させる場合には、
前記手順に沿ってリードフレームあるいは配線基板上に
半導体チップを接着した後、前記接着した半導体チップ
上にフィルム状の接着テープを張り付けて、半導体チッ
プ同士を接着している。In recent years, semiconductor devices have become more sophisticated,
Higher densification is progressing, and semiconductor devices and the like in which a plurality of semiconductor chips are stacked in one package are manufactured. When stacking the plurality of semiconductor chips,
After bonding a semiconductor chip on a lead frame or a wiring board according to the above procedure, a film-like adhesive tape is attached on the bonded semiconductor chip to bond the semiconductor chips to each other.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の技術では、前記接着剤塗布装置1’に設けられた各
接着剤吐出し管3の先端3Aは同一の平面上にある。そ
のため、図13(a)に示すように、樹脂系接着剤11
を塗布しようとしている樹脂塗布面等にゆがみがある場
合などは、前記接着剤塗布装置1’を前記リードフレー
ムに接近させたときに、前記接着剤吐出し管3の先端3
Aから樹脂塗布面までの距離にばらつきが生じてしま
う。そのため、樹脂塗布面との距離が近い管により塗布
される樹脂系接着材11の量と樹脂塗布面との距離が離
れている管により塗布される樹脂系接着剤11の量にば
らつきが生じ、図13(b)に示すように、前記樹脂塗
布面に塗布された樹脂系接着剤11の厚さが不均一にな
る。塗布された樹脂系接着剤11の厚さが不均一になる
と、前記樹脂塗布面(リードフレーム)と半導体チップ
12の接着性が悪くなったり、図13(c)に示すよう
に、樹脂系接着剤11の内部に空包27ができて、製造
工程中や、使用中に半導体装置内部が加熱されて空気爆
発を起こして接着部分にクラックが生じたりするという
問題があった。However, in the prior art, the tips 3A of the adhesive discharge pipes 3 provided in the adhesive coating device 1 'are on the same plane. Therefore, as shown in FIG.
When the adhesive application device 1 ′ approaches the lead frame, for example, when the resin application surface or the like on which the resin is to be applied is distorted, the tip 3 of the adhesive discharge pipe 3
The distance from A to the resin application surface varies. For this reason, the amount of the resin-based adhesive 11 applied by a tube whose distance to the resin application surface is short and the amount of the resin-based adhesive 11 applied by a tube whose distance to the resin application surface is large vary, As shown in FIG. 13B, the thickness of the resin adhesive 11 applied to the resin application surface becomes uneven. If the thickness of the applied resin-based adhesive 11 becomes uneven, the adhesiveness between the resin-applied surface (lead frame) and the semiconductor chip 12 deteriorates, or as shown in FIG. There is a problem that the empty package 27 is formed inside the agent 11 and the inside of the semiconductor device is heated during the manufacturing process or during use, causing an air explosion and cracking at the bonded portion.
【0006】また、前記リードフレームや配線基板のゆ
がみ以外にも、図14(a)に示すように、前記接着剤
塗布装置1’の傾き等により樹脂塗布面から前記各接着
剤吐出し管3の先端3Aまでの距離にばらつきが生じる
こともある。このような場合には、図14(b)に示し
たように、樹脂系接着剤11の厚さが不均一になり、図
14(c)に示すように、接着した半導体チップ12が
傾いてしまい、のちのワイヤーボンディングの工程など
が難しくなる。従来の接着剤塗布装置1’を用いた樹脂
塗布方法では、前記樹脂塗布面から各接着剤吐出し管3
の先端3Aまでの距離を一定にして、樹脂系接着剤11
を均一に塗布するためには、他の装置を用いて管の先端
3Aの位置を調整する必要があり、樹脂系接着剤11を
均一に塗布するための制御が難しいという問題があっ
た。In addition to the distortion of the lead frame and the wiring board, as shown in FIG. 14 (a), each of the adhesive discharge pipes 3 from the resin application surface is inclined by the inclination of the adhesive application device 1 'or the like. The distance to the tip 3A may vary. In such a case, as shown in FIG. 14B, the thickness of the resin-based adhesive 11 becomes uneven, and the bonded semiconductor chip 12 is inclined as shown in FIG. 14C. As a result, the subsequent wire bonding process becomes difficult. In the resin coating method using the conventional adhesive coating apparatus 1 ', each adhesive discharge pipe 3
Of the resin-based adhesive 11
In order to apply the resin adhesive uniformly, it is necessary to adjust the position of the distal end 3A of the tube using another device, and there is a problem that it is difficult to control the application of the resin adhesive 11 uniformly.
【0007】また、複数の半導体チップを積層した半導
体装置では、図14(d)に示すように、前記接着剤塗
布装置1’を用いて、半導体チップ12の表面に樹脂系
接着剤11を塗布して別の半導体チップを積層しようと
すると、前記接着剤吐出し管3の先端3Aが半導体チッ
プ12表面に接触して、前記半導体チップ表面に傷がつ
き不良品になる可能性が高いという問題があるため、半
導体チップを積層する際には、フィルム状の接着テープ
を用いて半導体チップ同士を接着している。しかしなが
ら、前記フィルム状の接着テープは厚さを均一にするた
めの加工が難しく、コストがかかるため、半導体チップ
を積層した半導体装置のコストが高くなるという問題が
あった。また、前記接着テープを前記半導体チップに張
り付けるときに内部に気泡が入りやすく、気泡が残るこ
とにより、接着性が悪くなるとともに、加熱時に空気が
膨張し、はがれの原因となりやすいという問題があっ
た。In a semiconductor device in which a plurality of semiconductor chips are stacked, as shown in FIG. 14D, a resin-based adhesive 11 is applied to the surface of the semiconductor chip 12 by using the adhesive application device 1 '. When another semiconductor chip is to be stacked, the tip 3A of the adhesive discharge tube 3 comes into contact with the surface of the semiconductor chip 12, and the surface of the semiconductor chip is likely to be scratched and become defective. Therefore, when laminating semiconductor chips, the semiconductor chips are bonded to each other using a film-shaped adhesive tape. However, it is difficult to process the film-shaped adhesive tape to make the thickness uniform, and the cost is high. Therefore, there is a problem that the cost of the semiconductor device in which the semiconductor chips are stacked increases. In addition, when the adhesive tape is attached to the semiconductor chip, air bubbles are likely to enter inside and the air bubbles remain, thereby deteriorating the adhesiveness and expanding the air when heated, which tends to cause peeling. Was.
【0008】本発明の目的は、複数の接着剤吐出し管を
有する接着剤塗布装置において、前記接着剤吐出し管の
先端から接着剤塗布面までの距離の制御を容易にするこ
とが可能な技術を提供することにある。An object of the present invention is to make it easy to control the distance from the tip of the adhesive discharge pipe to the adhesive application surface in an adhesive coating apparatus having a plurality of adhesive discharge pipes. To provide technology.
【0009】本発明の他の目的は、前記接着剤吐出し管
を有する接着剤塗布装置を用いた半導体装置の製造方法
において、容易に接着剤塗布面上に均一の厚さで接着剤
を塗布することが可能な技術を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a semiconductor device using an adhesive applying apparatus having an adhesive discharge pipe, wherein the adhesive is easily applied on the adhesive applied surface with a uniform thickness. It is to provide a technology that can do it.
【0010】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面によって明ら
かになるであろう。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明の概要を説明すれば、以下の通りである。 (1)接着剤を注入する接着剤注入口と、前記接着剤注
入口から注入された接着剤を吐出して所定の領域に塗布
する複数の筒状の接着剤吐出し管を有する接着剤塗布装
置において、前記接着剤吐出し管の近傍に、前記接着剤
吐出し管の先端が形成する平面と異なる高さに先端を有
し、前記接着剤吐出し管の先端から塗布面までの距離を
一定に支持する支持部材が設けられている接着剤塗布装
置である。 (2)リードフレーム上の、半導体チップを搭載する領
域に接着剤を塗布する工程と、塗布された前記接着剤上
に半導体チップを載せて接着する工程を備える半導体装
置の製造方法において、前記接着剤を塗布する工程は、
前記接着剤を塗布する複数本の管からなる接着剤吐出し
管と、前記接着剤吐出し管の先端が形成する平面と異な
る高さに先端を有する支持部材が設けられた接着剤塗布
装置を、前記接着剤吐出し管が前記半導体チップを搭載
する領域に位置し、前記支持部材が前記リードフレーム
のリード上に位置するように水平方向の位置合わせをす
る工程と、前記接着剤塗布装置を前記リードフレームの
方向に移動させ、前記支持部材の先端を前記リードと接
触させて前記リードを押圧し、前記接着剤吐出し管の先
端部から前記リードフレームの樹脂塗布面までの距離を
一定に支持する工程と、前記接着剤吐出し管から接着剤
を吐出して塗布する工程とを備える。 (3)配線基板に接着された第1半導体チップの表面に
接着剤を塗布する工程と、塗布された前記接着剤上に第
2半導体チップを載せて接着する工程を備える半導体装
置の製造方法において、前記接着剤を塗布する工程は、
前記第1半導体チップ上に接着剤を塗布する複数本の管
からなる接着剤吐出し管と、先端が前記接着剤吐出し管
の先端が形成する平面と異なる高さに先端を有する支持
部材が設けられた接着剤塗布装置を、前記接着剤吐出し
管が前記第1半導体チップ上にくるように水平方向の位
置合わせをする工程と、前記接着剤塗布装置を前記配線
基板の方向に移動させ、前記支持部材を配線基板に接触
させて前記接着剤吐出し管の先端部と前記第1半導体チ
ップ上の接着剤塗布面までの距離を一定に支持する工程
と、前記接着剤吐出し管から接着剤を吐出して塗布する
工程とを備える。The summary of the invention disclosed in the present application is as follows. (1) An adhesive application having an adhesive injection port for injecting an adhesive, and a plurality of cylindrical adhesive discharge pipes for discharging the adhesive injected from the adhesive injection port and applying the adhesive to a predetermined area. In the device, in the vicinity of the adhesive discharge pipe, the adhesive discharge pipe has a tip at a height different from a plane formed by the tip of the adhesive discharge pipe, and a distance from the tip of the adhesive discharge pipe to a coating surface is set. This is an adhesive application device provided with a support member for supporting the same. (2) A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of applying an adhesive to a region on a lead frame on which a semiconductor chip is to be mounted; and a step of mounting and bonding the semiconductor chip on the applied adhesive. The step of applying the agent
An adhesive application device provided with an adhesive discharge pipe composed of a plurality of pipes for applying the adhesive and a support member having a tip at a height different from a plane formed by the tip of the adhesive discharge pipe. Positioning the adhesive discharge pipe in a region where the semiconductor chip is mounted, and performing horizontal alignment so that the support member is positioned on a lead of the lead frame; and Move in the direction of the lead frame, contact the tip of the support member with the lead, press the lead, and keep the distance from the tip of the adhesive discharge pipe to the resin coating surface of the lead frame constant. A supporting step and a step of discharging and applying the adhesive from the adhesive discharge pipe. (3) A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of applying an adhesive to a surface of a first semiconductor chip adhered to a wiring board; and a step of mounting and adhering a second semiconductor chip on the applied adhesive. The step of applying the adhesive,
An adhesive discharge pipe composed of a plurality of pipes for applying an adhesive on the first semiconductor chip, and a support member having a distal end whose height is different from a plane formed by the distal end of the adhesive discharge pipe are provided. Positioning the provided adhesive coating device in the horizontal direction so that the adhesive discharge pipe is located on the first semiconductor chip; and moving the adhesive coating device in the direction of the wiring board. Contacting the supporting member with a wiring board to support a constant distance between a tip end of the adhesive discharge pipe and an adhesive application surface on the first semiconductor chip; Discharging and applying the adhesive.
【0012】前記(1)によれば、前記接着剤塗布装置
に設けられた接着剤吐出し管の近傍に、前記接着剤吐出
し管と高さが異なる支持部材を設け、前記支持部材をリ
ードフレーム、あるいは配線基板に接触させて、前記接
着剤塗布装置を支持することにより、前記各接着剤吐出
し管から接着剤塗布面までの距離を一定にすることがで
きる。そのため、前記接着剤塗布面に均一に接着剤を塗
布することができる。According to the above (1), a support member having a height different from that of the adhesive discharge pipe is provided in the vicinity of the adhesive discharge pipe provided in the adhesive application device, and the support member is connected to a lead. By supporting the adhesive application device in contact with a frame or a wiring board, the distance from each adhesive discharge pipe to the adhesive application surface can be made constant. Therefore, the adhesive can be uniformly applied to the adhesive applied surface.
【0013】また、前記接着剤塗布装置を前記支持部材
で支持することにより、前記接着剤吐出し管が接着剤塗
布面と接触することを防げ、前記接着剤塗布面に傷がつ
くことを防げる。Further, by supporting the adhesive application device with the support member, the adhesive discharge pipe can be prevented from coming into contact with the adhesive application surface, and the adhesive application surface can be prevented from being damaged. .
【0014】前記(1)の接着剤塗布装置を用いてリー
ドフレーム上に接着剤を塗布する工程では、前記(2)
の手段のように、前記接着剤塗布装置の平面方向の位置
合わせをした後、前記接着剤塗布装置をリードフレーム
の方向に移動させて、前記接着剤塗布装置の支持部材を
リードフレームに接触させる。このとき、前記リードフ
レームの接着剤塗布面(タブ)が平坦になるように前記
支持部材で押圧することにより、前記各接着剤吐出し管
と前記接着剤塗布面の距離を一定にでき、接着剤を前記
接着剤塗布面に均一の厚さで塗布することができる。In the step (1) of applying an adhesive on a lead frame using the adhesive applying apparatus, the step (2)
After the positioning of the adhesive coating device in the planar direction, the adhesive coating device is moved in the direction of the lead frame to bring the support member of the adhesive coating device into contact with the lead frame. . At this time, by pressing the adhesive applying surface (tab) of the lead frame with the support member so as to be flat, the distance between each of the adhesive discharge pipes and the adhesive applying surface can be made constant, and the bonding can be performed. An agent can be applied to the adhesive applied surface in a uniform thickness.
【0015】また、リードフレーム、あるいは配線基板
上に接着された第1半導体チップ表面に接着剤を塗布し
て、第2半導体チップを接着する場合には、前記(3)
の手段のように、前記支持部材の先端と接着剤吐出し管
の先端が形成する平面の距離が前記第1半導体チップの
長さよりわずかに長くなるように加工しておく。このよ
うにすると、前記支持部材の先端がリードフレーム、あ
るいは配線基板と接触したときに、前記接着剤吐出し管
の先端と半導体チップの表面が接触せずに、一定の距離
を保てるため、前記半導体チップの表面に傷をつけるこ
となく、均一に接着剤を塗布することができる。In the case where the second semiconductor chip is bonded by applying an adhesive to the surface of the first semiconductor chip bonded on the lead frame or the wiring board, the above-mentioned (3)
As described in the means, the distance between the plane formed by the tip of the support member and the tip of the adhesive discharge pipe is slightly longer than the length of the first semiconductor chip. With this configuration, when the tip of the support member comes into contact with the lead frame or the wiring board, the tip of the adhesive discharge pipe does not come into contact with the surface of the semiconductor chip, so that a predetermined distance can be maintained. The adhesive can be applied uniformly without damaging the surface of the semiconductor chip.
【0016】なお、前記接着剤吐出し管の先端が形成す
る平面と前記支持部材の先端の距離は、前記支持部材を
リードフレーム、あるいは配線基板に接触させたとき
に、前記接着剤吐出し管から接着剤塗布面までの距離
は、約10μmから100μm程度になるように加工す
る。The distance between the plane formed by the tip of the adhesive discharge pipe and the tip of the support member is determined by the adhesive discharge pipe when the support member is brought into contact with a lead frame or a wiring board. The processing is performed so that the distance from the surface to the adhesive applied surface is about 10 μm to 100 μm.
【0017】以下、本発明について、図面を参照して実
施の形態(実施例)とともに詳細に説明する。なお、実
施例を説明するための全図において、同一機能を有する
ものは、同一符号をつけ、その繰り返しの説明は省略す
る。Hereinafter, the present invention will be described in detail together with embodiments (examples) with reference to the drawings. In all the drawings for explaining the embodiments, parts having the same function are denoted by the same reference numerals, and their repeated description will be omitted.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】(実施例1)図1は、本発明によ
る実施例1の接着剤塗布装置の概略構成を示す模式図で
あり、図1(a)は正面図、図1(b)は図1(a)の
下面図である。図1において、1は接着剤塗布装置、2
は接着剤注入口、3は接着剤吐出し管、3Aは接着剤吐
出し管の先端、4は支持部材、4Aは支持部材の先端、
5は基板、5Aは接着剤塗布面、Δhは接着剤塗布面か
ら接着剤吐出し管の先端までの距離である。(Embodiment 1) FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of an adhesive applying apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 1 (a) is a front view, and FIG. 1) is a bottom view of FIG. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes an adhesive application device;
Is an adhesive inlet, 3 is an adhesive discharge pipe, 3A is a tip of the adhesive discharge pipe, 4 is a support member, 4A is a tip of the support member,
Reference numeral 5 denotes a substrate, 5A denotes an adhesive applied surface, and Δh denotes a distance from the adhesive applied surface to the tip of the adhesive discharge pipe.
【0019】本実施例1の接着剤塗布装置1は、図1
(a)及び図1(b)に示すように、接着剤を注入する
接着剤注入口2と、注入された接着剤を吐出す複数本の
筒状の接着剤吐出し管3と、前記接着剤吐出し管3の近
傍に設けられた支持部材4により構成されている。FIG. 1 shows an adhesive applying apparatus 1 according to the first embodiment.
As shown in FIG. 1A and FIG. 1B, an adhesive injection port 2 for injecting an adhesive, a plurality of cylindrical adhesive discharge tubes 3 for discharging the injected adhesive, It is constituted by a support member 4 provided near the agent discharge pipe 3.
【0020】前記接着剤塗布装置1は、図1(a)に示
すように、任意の基板5上に置いたときに、前記支持部
材4の先端4Aが前記基板5と接触し、前記基板5の接
着剤塗布面5Aから前記接着剤吐出し管3の先端3Aま
での距離がΔhになるように支持される。前記接着剤塗
布面5Aから接着剤吐出し管3の先端3Aまでの距離
は、約10μmから100μmに設定される。As shown in FIG. 1A, when the adhesive coating device 1 is placed on an arbitrary substrate 5, the tip 4A of the support member 4 comes into contact with the substrate 5, and Is supported so that the distance from the adhesive application surface 5A to the tip 3A of the adhesive discharge pipe 3 becomes Δh. The distance from the adhesive application surface 5A to the tip 3A of the adhesive discharge pipe 3 is set to about 10 μm to 100 μm.
【0021】図2乃至図4は、本実施例1の接着剤塗布
装置を用いた半導体装置の製造方法を説明するための模
式図である。なお、本実施例1では、前記接着剤塗布装
置1を用いて、リードフレームのタブ(ダイパッド)上
に接着剤を塗布し、半導体チップを接着する方法につい
て説明する。FIGS. 2 to 4 are schematic views for explaining a method of manufacturing a semiconductor device using the adhesive application device of the first embodiment. In the first embodiment, a method will be described in which an adhesive is applied to a tab (die pad) of a lead frame using the adhesive applying apparatus 1 to bond a semiconductor chip.
【0022】図2乃至図4において、6はリードフレー
ム、7はタブ(ダイパッド)、7Aは接着剤塗布領域、
8はリード、9はタブ吊リード、10は外枠である。ま
た、図4において、11は樹脂系接着剤、12は半導体
チップである。以下、図2乃至図4に沿って、本実施例
1の接着剤塗布装置を用いた半導体装置の製造方法を説
明する。2 to 4, 6 is a lead frame, 7 is a tab (die pad), 7A is an adhesive application area,
8 is a lead, 9 is a tab suspension lead, and 10 is an outer frame. In FIG. 4, reference numeral 11 denotes a resin adhesive, and 12 denotes a semiconductor chip. Hereinafter, a method of manufacturing a semiconductor device using the adhesive application device of the first embodiment will be described with reference to FIGS.
【0023】本実施例1の接着剤塗布装置を用いて、接
着剤を塗布するリードフレーム6の例としては、図2に
示したように、半導体チップを接着するタブ(ダイパッ
ド)7と、接着された半導体チップの外部電極と接続さ
れるリード8が設けられており、前記タブ7は、タブ吊
リード9によりリードフレーム6の外枠10と一体化さ
れている。前記接着剤塗布装置により前記タブ7の接着
剤塗布領域7Aに接着剤を塗布して半導体チップを接着
する。As an example of the lead frame 6 to which the adhesive is applied by using the adhesive applying apparatus of the first embodiment, as shown in FIG. 2, a tab (die pad) 7 for attaching a semiconductor chip, A lead 8 connected to an external electrode of the semiconductor chip is provided, and the tab 7 is integrated with an outer frame 10 of the lead frame 6 by a tab suspension lead 9. The semiconductor chip is bonded by applying an adhesive to the adhesive application area 7A of the tab 7 by the adhesive application device.
【0024】まず、図3(a)及び図3(b)に示すよ
うに、前記接着剤塗布装置1に設けられた接着剤吐出し
管3が、前記リードフレーム6のタブ7上の接着剤塗布
領域7A上にくるようにxy方向の位置合わせを行う。
この位置合わせは、従来の位置合わせと動揺の方法で行
われ、あらかじめカメラで観察して、前記樹脂塗布装置
1に配列された接着剤吐出し管3の中心と前記タブ7の
接着剤塗布領域7Aの中心が一致するように数値制御さ
れているものとする。また、前記接着剤吐出し装置1の
支持部材4は、図3(a)に示すように、前記タブ吊リ
ード9上にくるように設けておく。またこのとき、前記
リードフレーム6のタブ7及びタブ吊リード9は、図3
(b)に示すように、前記タブ7部分が前記接着剤塗布
装置1から遠ざかるようにわん曲しているものとする。First, as shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), the adhesive discharge pipe 3 provided in the adhesive coating device 1 Positioning in the xy directions is performed so as to be on the application area 7A.
This positioning is performed by a conventional positioning and shaking method. Observing with a camera in advance, the center of the adhesive discharge pipe 3 arranged in the resin coating device 1 and the adhesive coating area of the tab 7 It is assumed that numerical control is performed so that the center of 7A matches. 3A, the support member 4 of the adhesive discharging device 1 is provided so as to come on the tab suspension lead 9. As shown in FIG. At this time, the tab 7 and the tab suspension lead 9 of the lead frame 6 are
As shown in (b), it is assumed that the tab 7 is curved so as to move away from the adhesive application device 1.
【0025】次に、図3(b)に示した状態から、前記
接着剤塗布装置1をz軸方向に移動させて、前記接着剤
塗布装置1とリードフレーム6を接近させると、図4
(c)に示すように、前記支持部材4と前記タブ吊リー
ド9が接触する。Next, from the state shown in FIG. 3B, the adhesive coating device 1 is moved in the z-axis direction to bring the adhesive coating device 1 and the lead frame 6 close to each other.
As shown in (c), the support member 4 and the tab suspension lead 9 come into contact with each other.
【0026】この後、さらに前記樹脂塗布装置1を移動
させて、図4(d)に示すように、前記支持部材4によ
り前記タブ吊リード9を押圧して、わん曲しているタブ
7及びタブ吊リード9が平坦にしたのち、前記接着剤吐
出し管3から接着剤、例えば、レジンのような熱硬化性
の樹脂系接着剤11を吐出して、前記タブ7に塗布す
る。このとき、前記タブ7の接着剤塗布面から接着剤吐
出し管3の先端3Aまでの距離は、図4(d)に示すよ
うに一定になるので、前記タブ7上に塗布された樹脂系
接着剤11は、図4(e)に示すように、厚さが均一に
なる。Thereafter, the resin coating device 1 is further moved, and as shown in FIG. 4D, the tab suspending lead 9 is pressed by the support member 4 so that the curved tabs 7 and After the tab suspension leads 9 are flattened, an adhesive, for example, a thermosetting resin-based adhesive 11 such as a resin is discharged from the adhesive discharge pipe 3 and applied to the tab 7. At this time, the distance from the adhesive application surface of the tab 7 to the tip 3A of the adhesive discharge pipe 3 becomes constant as shown in FIG. The adhesive 11 has a uniform thickness, as shown in FIG.
【0027】次に、均一の厚さに塗布された樹脂系接着
剤11上に、図4(e)に示すように、コレットなどで
半導体チップ12を搬送し、前記樹脂系接着剤11上に
載せる。Next, as shown in FIG. 4 (e), the semiconductor chip 12 is conveyed by a collet or the like onto the resin-based adhesive 11 applied to a uniform thickness. Put on.
【0028】次に、所定の温度に加熱して、前記樹脂系
接着剤11を硬化させ、前記タブ7上に半導体チップ1
2を接着する。Next, the resin adhesive 11 is cured by heating to a predetermined temperature, and the semiconductor chip 1 is placed on the tub 7.
2 is adhered.
【0029】以上説明したように、本実施例1によれ
ば、複数本の接着剤吐出し管が設けられた接着剤塗布装
置に支持部材を設け、接着剤塗布面から前記接着剤吐出
し管の先端までの距離を一定に支持した状態で接着剤を
塗布することにより、リードフレームあるいは配線基板
上に均一の厚さで接着剤を塗布することができる。As described above, according to the first embodiment, the support member is provided in the adhesive coating apparatus provided with a plurality of adhesive discharge pipes, and the adhesive discharge pipe is provided from the adhesive application surface. The adhesive is applied with a uniform thickness on the lead frame or the wiring board by supporting the adhesive with a constant distance to the tip of the lead frame.
【0030】また、前記接着剤塗布装置に設けられた支
持部材が、リードフレームあるいは配線基板と接触する
ことにより、前記接着剤塗布面から前記接着剤吐出し管
までの距離を一定に支持することができるので、特別な
装置を用いて前記接着剤塗布装置の制御を行わなくて
も、前記接着剤塗布面上に均一の厚さで接着剤を塗布す
ることができる。Further, the distance between the adhesive application surface and the adhesive discharge pipe is maintained constant by contacting a support member provided in the adhesive application device with a lead frame or a wiring board. Therefore, the adhesive can be applied with a uniform thickness on the adhesive applied surface without controlling the adhesive applying device using a special device.
【0031】(実施例2)図5は、本発明による実施例
2の接着剤塗布装置の概略構成を示す模式平面図であ
る。図5において、13は配線基板、Δh1は配線基板
から半導体チップ表面までの高さ、Δh2は半導体チッ
プ表面から接着剤吐出し管の先端までの高さである。(Embodiment 2) FIG. 5 is a schematic plan view showing a schematic configuration of an adhesive coating apparatus according to Embodiment 2 of the present invention. In FIG. 5, 13 is the wiring board, Δh1 is the height from the wiring board to the surface of the semiconductor chip, and Δh2 is the height from the surface of the semiconductor chip to the tip of the adhesive discharge pipe.
【0032】本実施例2の接着剤塗布装置の基本的な構
成は、前記実施例1で説明した接着剤塗布装置と同様で
あるため、その説明は省略する。The basic configuration of the adhesive application device of the second embodiment is the same as that of the adhesive application device described in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.
【0033】本実施例2の接着剤塗布装置は、半導体チ
ップ上に接着剤を塗布する場合の例を示しており、図5
に示すように、配線基板13上に樹脂系接着剤11で接
着された第1半導体チップ12上に接着剤吐出し管3を
位置合わせしたときに、前記支持部材4が前記第1半導
体チップ12の外側にあり、前記配線基板13と接触さ
せて前記接着剤塗布装置1を支持する。このとき、前記
支持部材4の先端から前記接着剤吐出し管3の先端まで
の距離Δhは、前記配線基板13の表面から前記配線基
板13上に接着された第1半導体チップ12の表面(接
着剤塗布面)までの高さΔh1に、前記接着剤吐出し管
3の先端3Aが前記第1半導体チップ12の表面が接触
しないように高さΔh2を加えた値に設定して加工す
る。前記高さΔh2は、例えば、約10μmから100
μmに設定される。The adhesive applying apparatus according to the second embodiment shows an example in which an adhesive is applied on a semiconductor chip.
As shown in FIG. 5, when the adhesive discharge pipe 3 is positioned on the first semiconductor chip 12 bonded to the wiring board 13 with the resin-based adhesive 11, the support member 4 And supports the adhesive application device 1 in contact with the wiring board 13. At this time, the distance Δh from the tip of the support member 4 to the tip of the adhesive discharge pipe 3 is determined by the surface of the first semiconductor chip 12 adhered on the wiring board 13 from the surface of the wiring board 13 (adhesion). The height .DELTA.h1 is set to a value obtained by adding a height .DELTA.h2 to the height .DELTA.h1 of the adhesive discharge pipe 3 so that the surface of the first semiconductor chip 12 does not come into contact with the height .DELTA.h1 of the adhesive discharge pipe 3. The height Δh2 is, for example, about 10 μm to 100
It is set to μm.
【0034】図6乃至図8は、本実施例2の接着剤塗布
装置を用いた半導体装置の製造方法を説明するための図
である。以下、図6乃至図8に沿って、本実施例2の接
着剤塗布装置を用いて、半導体チップ上に接着剤を塗布
する方法を説明する。FIGS. 6 to 8 are views for explaining a method of manufacturing a semiconductor device using the adhesive application device of the second embodiment. Hereinafter, a method of applying an adhesive on a semiconductor chip using the adhesive applying apparatus of the second embodiment will be described with reference to FIGS.
【0035】まず、図6(a)及び図6(b)に示すよ
うに、端子電極13A及び金属配線が形成された配線基
板13上に、あらかじめ樹脂系接着剤11を用いて、外
部電極12Aが設けられた第1半導体チップ12を接着
しておき、前記接着剤塗布装置1のxy方向の位置合わ
せを行い、前記接着剤吐出し装置3が、前記第1半導体
チップ12の接着剤塗布領域12B上にくるようにす
る。この位置合わせは、従来行われている、リードフレ
ーム上の接着剤塗布装置の位置合わせと同様の方法で行
うため、その詳細な説明は省略する。このとき、前記支
持部材4は、図6(a)及び図6(b)に示すように、
前記第1半導体チップ12の外側で、前記配線基板13
の端子電極13A及び金属配線が設けられていない位置
にくるようにしておく。First, as shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b), the external electrodes 12A are formed on the wiring substrate 13 on which the terminal electrodes 13A and the metal wirings are formed by using a resin adhesive 11 in advance. The first semiconductor chip 12 provided with the adhesive is bonded, and the position of the adhesive application device 1 in the xy direction is adjusted. Place it on 12B. This positioning is performed in the same manner as the positioning of the adhesive coating device on the lead frame, which is conventionally performed, and therefore, detailed description thereof is omitted. At this time, as shown in FIG. 6A and FIG.
Outside the first semiconductor chip 12, the wiring substrate 13
13A and the metal wiring are not provided.
【0036】次に、前記接着剤塗布装置1をz軸方向、
すなわち前記配線基板13の方向に移動させ、図7
(c)に示すように、前記支持部材4を前記配線基板1
3に接触させて、前記第1半導体チップ12の表面(接
着剤塗布面)から各接着剤吐出し管の先端までの距離を
一定にして支持し、レジンなどの熱硬化性の樹脂系接着
剤11を塗布する。このとき、前記第1半導体チップ1
2の表面と接着剤吐出し管3の先端3Aは一定の距離で
支持されているので、図7(d)に示すように、樹脂系
接着剤11を均一な厚さに塗布することができる。ま
た、前記第1半導体チップ12の表面と接着剤吐出し管
3の先端3Aが接触せず、一定の距離で支持されている
ため、前記第1半導体チップ12の表面に傷がつく可能
性が低くなる。次に、図7(d)に示すように、塗布さ
れた前記樹脂系接着剤11上に第2半導体チップ14を
搬送して載せる。Next, the adhesive application device 1 is moved in the z-axis direction.
That is, it is moved in the direction of the wiring board 13 and FIG.
As shown in (c), the support member 4 is connected to the wiring board 1.
3 to support the first semiconductor chip 12 at a constant distance from the surface (adhesive application surface) of the first semiconductor chip 12 to the tip of each adhesive discharge pipe, and a thermosetting resin-based adhesive such as resin. 11 is applied. At this time, the first semiconductor chip 1
7 and the tip 3A of the adhesive discharge pipe 3 are supported at a fixed distance, so that the resin adhesive 11 can be applied to a uniform thickness as shown in FIG. 7D. . Further, since the surface of the first semiconductor chip 12 and the tip 3A of the adhesive discharge pipe 3 do not come into contact with each other and are supported at a fixed distance, the surface of the first semiconductor chip 12 may be damaged. Lower. Next, as shown in FIG. 7D, the second semiconductor chip 14 is transported and placed on the applied resin-based adhesive 11.
【0037】その後、前記配線基板13上を加熱して、
前記樹脂系接着剤11を硬化させて前記第1半導体チッ
プ12上に第2半導体チップ14を接着し、前記第1半
導体チップ12の外部電極12Aと前記配線基板13の
端子電極13A、及び前記第2半導体チップの外部電極
14Aと前記配線基板の端子電極13Bをそれぞれワイ
やボンディングして、図7(e)に示すように、前記第
1半導体チップ12、第2半導体チップ14、ボンディ
ングワイヤ15を樹脂封止する。Thereafter, the surface of the wiring board 13 is heated,
The resin-based adhesive 11 is cured to bond the second semiconductor chip 14 on the first semiconductor chip 12, and the external electrodes 12A of the first semiconductor chip 12, the terminal electrodes 13A of the wiring board 13, and the The external electrodes 14A of the two semiconductor chips and the terminal electrodes 13B of the wiring board are respectively wiped and bonded to form the first semiconductor chip 12, the second semiconductor chip 14, and the bonding wires 15 as shown in FIG. Resin sealing.
【0038】なお、前記接着剤塗布装置1をz軸方向に
移動させて、前記支持部材4を前記配線基板13に接触
させる場合には、前記接着剤塗布装置1の移動量が大き
く、前記支持部材4が配線基板13を押圧してしまう
と、前記配線基板13が変形して前記接着剤吐出し管3
の先端3Aが前記第1半導体チップ12に接触してしま
う可能性がある。そのため、図8(a)に示すように、
前記配線基板13の支持部材4が接触する位置に、圧力
センサ17を設けておき、前記圧力センサ17に所定の
圧力がかかった時点で前記接着剤塗布装置1の移動を止
める方法や、図8(b)に示すように、光発信器18A
及び光受信器18Bを用いて、前記支持部材4がある位
置に光19を通しておき、前記接着剤塗布装置1をz軸
方向に移動させて支持部材4が配線基板13に近づき図
8(c)に示すように、前記光19が前記支持部材4で
遮られて光受信器18Bで受信されなくなった所で移動
を止めるといった方法が挙げられる。When the adhesive applying device 1 is moved in the z-axis direction to bring the support member 4 into contact with the wiring board 13, the amount of movement of the adhesive applying device 1 is large, and When the member 4 presses the wiring board 13, the wiring board 13 is deformed and the adhesive discharge pipe 3 is deformed.
May come into contact with the first semiconductor chip 12. Therefore, as shown in FIG.
A method is provided in which a pressure sensor 17 is provided at a position where the support member 4 of the wiring board 13 contacts, and the movement of the adhesive coating device 1 is stopped when a predetermined pressure is applied to the pressure sensor 17; As shown in (b), the optical transmitter 18A
Using the optical receiver 18B, the light 19 is allowed to pass through the position where the support member 4 is located, and the adhesive coating device 1 is moved in the z-axis direction so that the support member 4 approaches the wiring board 13 and FIG. As shown in (1), there is a method in which the movement is stopped when the light 19 is blocked by the support member 4 and is no longer received by the optical receiver 18B.
【0039】以上説明したように、本実施例2によれ
ば、接着剤塗布装置に設けられた支持部材の先端と接着
剤吐出し管の先端の距離を、配線基板上に接着された第
1半導体チップの高さに若干の余裕、例えば10μmか
ら100μm程度の高さを加えた値に設定することで、
前記接着剤塗布装置の位置の制御が容易になるととも
に、前記第1半導体チップの表面に傷をつけることな
く、均一な厚さで接着剤を塗布することができる。その
ため、従来、リードフレームと半導体チップの接着に用
いていた接着剤塗布装置と同様の装置を用いて半導体チ
ップ同士を接着できるので、高価で加工が難しい接着テ
ープを用いた場合に比べ、製造コストを低減させること
ができる。As described above, according to the second embodiment, the distance between the tip of the support member provided in the adhesive application device and the tip of the adhesive discharge pipe is determined by the first adhesive bonded to the wiring board. By setting to a value obtained by adding a margin to the height of the semiconductor chip, for example, a height of about 10 μm to 100 μm,
The position of the adhesive application device can be easily controlled, and the adhesive can be applied with a uniform thickness without damaging the surface of the first semiconductor chip. As a result, the semiconductor chips can be bonded to each other using an apparatus similar to the adhesive coating apparatus used for bonding the lead frame and the semiconductor chips, so that the manufacturing cost is lower than when an adhesive tape that is expensive and difficult to process is used. Can be reduced.
【0040】また、前記第1半導体チップの表面に塗布
する接着剤の厚さを均一にすることができるので、前記
第1半導体チップ上に接着する第2半導体チップの平坦
性がよいので、ボンディングワイヤの接続不良なども防
げる。In addition, since the thickness of the adhesive applied to the surface of the first semiconductor chip can be made uniform, the flatness of the second semiconductor chip adhered on the first semiconductor chip can be improved. It also prevents poor wire connection.
【0041】図9及び図10は、本発明による接着剤塗
布装置の変形例を示す模式図である。前記実施例では、
前記接着剤塗布装置1の4隅に柱状の支持部材4を設け
ていたが、これに限らず、リードフレームあるいは配線
基板、もしくは接着剤塗布領域の形状に合わせて、図9
(a)に示すように、接着剤塗布装置1の2辺に沿って
板状の支持部材20を設けてもよいし、図9(b)に示
すように、接着剤塗布装置1の接着剤吐出し管3の周囲
を囲むような支持部材21を設けてもよい。また、接着
剤塗布領域が環状で、中心付近の基板等に傷がついても
かまわない場合には、図9(c)に示すように、前記接
着剤塗布装置1の中心に支持部材22を設けてもよい。FIGS. 9 and 10 are schematic views showing a modified example of the adhesive coating apparatus according to the present invention. In the above embodiment,
The column-shaped support members 4 are provided at the four corners of the adhesive application device 1, but the present invention is not limited to this.
As shown in FIG. 9A, a plate-shaped support member 20 may be provided along two sides of the adhesive coating device 1, or as shown in FIG. A support member 21 surrounding the periphery of the discharge pipe 3 may be provided. In the case where the adhesive application area is annular and the substrate near the center may be damaged, a support member 22 is provided at the center of the adhesive application apparatus 1 as shown in FIG. You may.
【0042】また、前記支持部材4の先端4Aを、図1
0(a)に示すように、半球面状に加工したり、図10
(b)に示すように、前記接着剤塗布装置1の材料(金
属)よりもやわらかい材料、例えばフッ素樹脂からなる
保護キャップ23などでコーティング(保護)すること
により前記支持部材4が接触した際に、リードフレーム
あるいは配線基板等に傷がつきにくくなる。The tip 4A of the support member 4 is
As shown in FIG.
As shown in (b), when the support member 4 comes into contact with the material by coating (protecting) it with a material softer than the material (metal) of the adhesive coating device 1, for example, a protective cap 23 made of a fluororesin. In addition, the lead frame, the wiring board and the like are hardly damaged.
【0043】以上、本発明を、前記実施例に基づき具体
的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変
更可能であることはもちろんである。As described above, the present invention has been specifically described based on the above-described embodiment. However, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and may be variously modified without departing from the gist thereof. Of course.
【0044】図11は、本発明による接着剤塗布装置を
用いた半導体装置の製造方法の応用例を示す模式図であ
る。FIG. 11 is a schematic view showing an application example of a method of manufacturing a semiconductor device using the adhesive applying apparatus according to the present invention.
【0045】前記実施例1では、リードフレーム6のタ
ブ吊リード9上に支持部材4を接触させて、タブ7上に
樹脂系接着剤1を塗布する例を説明し、前記実施例2で
は、配線基板上に接着された半導体チップ上に樹脂系接
着剤11を塗布する例を示したが、これに限らず、図1
1(a)に示すように、リードフレームのインナーリー
ド24Aに支持部材4を接触させ、タブ24B上に接着
された半導体チップ12上に樹脂系接着剤11を塗布し
てもよいし、図11(b)に示すように、リード25を
半導体チップ12上で接続したLOC(Lead On Chip)
構造の半導体装置において、前記半導体チップ12上に
樹脂系接着剤11を塗布して半導体チップを接着し、2
つの半導体チップで前記リード25を挟み込む場合にも
用いることができる。また、前記接着剤塗布装置1で
は、前記接着剤吐出し管3よりも長く支持部材4を用い
ていたが、支持部材4を短くして、図11(c)に示す
ように、変形させたリード26上に支持部材4を接触さ
せて、接着剤吐出し管3の先端3Aを前記半導体チップ
12に近づけて塗布することも可能である。In the first embodiment, an example in which the support member 4 is brought into contact with the tab suspension lead 9 of the lead frame 6 and the resin adhesive 1 is applied on the tab 7 will be described. Although the example in which the resin-based adhesive 11 is applied on the semiconductor chip bonded on the wiring board has been described, the present invention is not limited to this.
As shown in FIG. 1A, the support member 4 may be brought into contact with the inner leads 24A of the lead frame, and the resin adhesive 11 may be applied on the semiconductor chip 12 bonded on the tab 24B. As shown in (b), LOC (Lead On Chip) in which the leads 25 are connected on the semiconductor chip 12
In a semiconductor device having a structure, a resin adhesive 11 is applied on the semiconductor chip 12 to adhere the semiconductor chip,
It can also be used when the lead 25 is sandwiched between two semiconductor chips. Further, in the adhesive application device 1, the support member 4 was used longer than the adhesive discharge pipe 3, but the support member 4 was shortened and deformed as shown in FIG. It is also possible to bring the supporting member 4 into contact with the lead 26 and apply the tip 3A of the adhesive discharge pipe 3 close to the semiconductor chip 12.
【0046】[0046]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下の通りである。Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.
【0047】(1)複数の接着剤吐出し管を有する接着
剤塗布装置において、前記接着剤吐出し管の先端から接
着剤塗布面までの距離の制御を容易にすることできる。 (2)前記接着剤吐出し管を有する接着剤塗布装置を用
いた半導体装置の製造方法において、容易に接着剤塗布
面上に均一の厚さで接着剤を塗布することができる。(1) In an adhesive coating apparatus having a plurality of adhesive discharge pipes, it is possible to easily control the distance from the tip of the adhesive discharge pipe to the adhesive application surface. (2) In the method of manufacturing a semiconductor device using the adhesive application device having the adhesive discharge pipe, the adhesive can be easily applied with a uniform thickness on the adhesive application surface.
【図1】本発明による実施例1の接着剤塗布装置の概略
構成を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of an adhesive application device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本実施例1の接着剤塗布装置を用いた半導体装
置の製造方法を説明するための模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing a semiconductor device using the adhesive application device of the first embodiment.
【図3】本実施例1の接着剤塗布装置を用いた半導体装
置の製造方法を説明するための模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing a semiconductor device using the adhesive application device of the first embodiment.
【図4】本実施例1の接着剤塗布装置を用いた半導体装
置の製造方法を説明するための模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing a semiconductor device using the adhesive application device of the first embodiment.
【図5】本発明による実施例2の接着剤塗布装置の概略
構成を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of an adhesive application device according to a second embodiment of the present invention.
【図6】本実施例2の接着剤塗布装置を用いた半導体装
置の製造方法を説明するための模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing a semiconductor device using the adhesive application device according to the second embodiment.
【図7】本実施例2の接着剤塗布装置を用いた半導体装
置の製造方法を説明するための模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing a semiconductor device using the adhesive application device according to the second embodiment.
【図8】本実施例2の接着剤塗布装置を用いた半導体装
置の製造方法を説明するための模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing a semiconductor device using the adhesive application device of the second embodiment.
【図9】本発明による接着剤塗布装置の変形例を示す模
式図である。FIG. 9 is a schematic view showing a modified example of the adhesive application device according to the present invention.
【図10】本発明による接着剤塗布装置の変形例を示す
模式図である。FIG. 10 is a schematic view showing a modified example of the adhesive application device according to the present invention.
【図11】本発明による接着剤塗布装置を用いた半導体
装置の製造方法の応用例を説明するための模式図であ
る。FIG. 11 is a schematic diagram for explaining an application example of a method of manufacturing a semiconductor device using the adhesive application device according to the present invention.
【図12】従来の接着剤塗布装置を用いた半導体装置の
製造方法を説明するための模式図である。FIG. 12 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing a semiconductor device using a conventional adhesive application device.
【図13】従来技術の課題を説明するための模式図であ
る。FIG. 13 is a schematic diagram for explaining a problem of the related art.
【図14】従来技術の課題を説明するための模式図であ
る。FIG. 14 is a schematic diagram for explaining a problem of the related art.
1…接着剤塗布装置、2…接着剤注入口、3…接着剤吐
出し管、3A…接着剤吐出し管の先端、4,20,2
1,22…支持部材、4A…支持部材の先端、5…基
板、5A…接着剤塗布面、6…リードフレーム、7…タ
ブ(ダイパッド)、7A,12B…接着剤塗布領域、8
…リード、9…タブ吊リード、10…外枠、11…樹脂
系接着剤、12…半導体チップ(第1半導体チップ)、
12A…外部電極、13…配線基板、13A,13B…
端子電極、14…第2半導体チップ、14A…外部電
極、15…ボンディングワイヤ、16…封止樹脂、17
…圧力センサ、18A…光発信器、18B…光受信器、
19…光、23…保護キャップ、24A…インナーリー
ド、24B…タブ、25…リード、26…変形リード、
27…空包。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Adhesive application apparatus, 2 ... Adhesive injection port, 3 ... Adhesive discharge pipe, 3A ... Tip of adhesive discharge pipe, 4, 20, 2
1, 22: Support member, 4A: Tip of support member, 5: Substrate, 5A: Adhesive applied surface, 6: Lead frame, 7: Tab (die pad), 7A, 12B: Adhesive applied area, 8
... Lead, 9 ... Tab suspension lead, 10 ... Outer frame, 11 ... Resin adhesive, 12 ... Semiconductor chip (first semiconductor chip),
12A: external electrode, 13: wiring board, 13A, 13B ...
Terminal electrode, 14: second semiconductor chip, 14A: external electrode, 15: bonding wire, 16: sealing resin, 17
... pressure sensor, 18A ... optical transmitter, 18B ... optical receiver,
19: light, 23: protective cap, 24A: inner lead, 24B: tab, 25: lead, 26: deformed lead,
27 ... empty package.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B05D 7/00 H01L 25/08 B 7/24 301 H01L 21/52 (72)発明者 鈴木 一成 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 Fターム(参考) 4D075 AC07 AC88 AC93 CA47 DA06 DB14 DC22 EA35 4F041 AA06 AB01 BA05 BA22 BA56 4F042 AA07 BA08 CB03 5F047 AA11 BA21 BB11 FA22 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B05D 7/00 H01L 25/08 B 7/24 301 H01L 21/52 (72) Inventor Kazunari Suzuki Tokyo 5-22-1, Kamizuhoncho, Kodaira-shi F-term (reference) 4D075 AC07 AC88 AC93 CA47 DA06 DB14 DC22 EA35 4F041 AA06 AB01 BA05 BA22 BA56 4F042 AA07 BA08 CB03 5F047 AA11 BA21 BB11 FA22
Claims (3)
接着剤注入口から注入された接着剤を吐出して所定の領
域に塗布する複数の筒状の接着剤吐出し管を有する接着
剤塗布装置において、前記接着剤吐出し管の近傍に、前
記接着剤吐出し管の先端が形成する平面と異なる高さに
先端を有し、前記接着剤吐出し管の先端から塗布面まで
の距離を一定に支持する支持部材が設けられていること
を特徴とする接着剤塗布装置。1. An adhesive having an adhesive injection port for injecting an adhesive, and a plurality of cylindrical adhesive discharge pipes for discharging the adhesive injected from the adhesive injection port and applying the adhesive to a predetermined area. In the adhesive dispensing device, in the vicinity of the adhesive discharge pipe, the tip has a height different from a plane formed by the tip of the adhesive discharge pipe, and extends from the tip of the adhesive discharge pipe to a coating surface. An adhesive applying device, comprising a support member for supporting a distance uniformly.
載する領域に接着剤を塗布する工程と、塗布された前記
接着剤上に半導体チップを載せて接着する工程を備える
半導体装置の製造方法において、前記接着剤を塗布する
工程は、前記接着剤を塗布する複数本の管からなる接着
剤吐出し管と、前記接着剤吐出し管の先端が形成する平
面と異なる高さに先端を有する支持部材が設けられた接
着剤塗布装置を、前記接着剤吐出し管が前記半導体チッ
プを搭載する領域に位置し、前記支持部材が前記リード
フレームのリード上に位置するように水平方向の位置合
わせをする工程と、前記接着剤塗布装置を前記リードフ
レームの方向に移動させ、前記支持部材の先端を前記リ
ードと接触させて前記リードを押圧し、前記接着剤吐出
し管の先端部から前記リードフレームの樹脂塗布面まで
の距離を一定に支持する工程と、前記接着剤吐出し管か
ら接着剤を吐出して塗布する工程とを備えることを特徴
とする半導体装置の製造方法。2. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of applying an adhesive to a region on a lead frame on which a semiconductor chip is to be mounted; and a step of mounting and bonding the semiconductor chip on the applied adhesive. The step of applying the adhesive includes an adhesive discharge pipe including a plurality of pipes for applying the adhesive, and a support member having a tip at a height different from a plane formed by a tip of the adhesive discharge pipe. Is aligned in the horizontal direction so that the adhesive discharge pipe is located in a region where the semiconductor chip is mounted, and the support member is located on the lead of the lead frame. Moving the adhesive application device in the direction of the lead frame, bringing the tip of the support member into contact with the lead and pressing the lead, and moving the adhesive applying device forward from the tip of the adhesive discharge pipe. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of maintaining a constant distance to a resin application surface of a lead frame; and a step of discharging and applying an adhesive from the adhesive discharge pipe.
の表面に接着剤を塗布する工程と、塗布された前記接着
剤上に第2半導体チップを載せて接着する工程を備える
半導体装置の製造方法において、前記接着剤を塗布する
工程は、前記第1半導体チップ上に接着剤を塗布する複
数本の管からなる接着剤吐出し管と、先端が前記接着剤
吐出し管の先端が形成する平面と異なる高さに先端を有
する支持部材が設けられた接着剤塗布装置を、前記接着
剤吐出し管が前記第1半導体チップ上にくるように水平
方向の位置合わせをする工程と、前記接着剤塗布装置を
前記配線基板の方向に移動させ、前記支持部材を配線基
板に接触させて前記接着剤吐出し管の先端部と前記第1
半導体チップ上の接着剤塗布面までの距離を一定に支持
する工程と、前記接着剤吐出し管から接着剤を吐出して
塗布する工程とを備えることを特徴とする半導体装置の
製造方法。3. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of applying an adhesive to a surface of a first semiconductor chip bonded to a wiring board; and a step of mounting and bonding a second semiconductor chip on the applied adhesive. In the method, the step of applying the adhesive may include forming an adhesive discharge pipe including a plurality of pipes for applying the adhesive on the first semiconductor chip, and forming a distal end of the adhesive discharge pipe. A step of horizontally positioning an adhesive coating device provided with a support member having a tip at a height different from a plane so that the adhesive discharge pipe is positioned on the first semiconductor chip; Moving the dispensing device in the direction of the wiring board, bringing the support member into contact with the wiring board, and contacting the tip of the adhesive discharge pipe with the first
A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of maintaining a constant distance to an adhesive application surface on a semiconductor chip; and a step of discharging and applying an adhesive from the adhesive discharge pipe.
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|---|---|---|---|
| JP2000190653A JP2002009232A (en) | 2000-06-26 | 2000-06-26 | Adhesive coating device and method of manufacturing semiconductor device using the same |
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|---|---|
| JP2002009232A true JP2002009232A (en) | 2002-01-11 |
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ID=18690087
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| JP (1) | JP2002009232A (en) |
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|---|---|---|---|---|
| KR20170045212A (en) | 2014-08-26 | 2017-04-26 | 린텍 가부시키가이샤 | Curable composition, method of producing curable composition, cured material, method of using curable composition, and optical device |
| KR20170045213A (en) | 2014-08-26 | 2017-04-26 | 린텍 가부시키가이샤 | Curable composition, method for producing curable composition, cured object, method for using curable composition, and optical device |
| KR20170046650A (en) | 2014-08-26 | 2017-05-02 | 린텍 가부시키가이샤 | Curable composition, method of producing curable composition, cured material, method of using curable composition, and optical device |
| KR20180097619A (en) | 2015-12-22 | 2018-08-31 | 린텍 가부시키가이샤 | CURABLE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURABLE COMPOSITION, CURVE, METHOD FOR USE OF CURABLE COMPOSITION, AND OPTICAL DEVICE |
| KR20180098292A (en) | 2015-12-22 | 2018-09-03 | 린텍 가부시키가이샤 | CURABLE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURABLE COMPOSITION, METHOD FOR USE OF CURED MATERIAL, AND CURABLE COMPOSITION |
-
2000
- 2000-06-26 JP JP2000190653A patent/JP2002009232A/en not_active Withdrawn
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