JP2002008870A

JP2002008870A - 表示装置

Info

Publication number: JP2002008870A
Application number: JP2000183922A
Authority: JP
Inventors: Shinki Tsuruta; 真貴鶴田; Tetsuo Urabe; 哲夫占部; Tatsuya Sasaoka; 龍哉笹岡
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2000-06-20
Filing date: 2000-06-20
Publication date: 2002-01-11

Abstract

(57)【要約】【課題】設計の自由度を確保することができ、かつ視
野角特性に優れた表示装置を提供する。【解決手段】基板１上に設けられた第１電極層４と、
第１電極層４上に設けられた発光層５と、発光層５上に
設けられた第２電極層６とを備え、発光層５において生
じた発光光ｈを第２電極層６側から取り出す表示装置に
おいて、第１電極層４の発光層５側の表面は、なだらか
な傾斜面からなる複数の凹凸パターンで構成されてい
る。この第１電極層４は、基板１の表面側に形成され
た、なだらかな傾斜面を有する複数の凸パターン２ｂ上
に、この凸パターン２ｂを覆う下地層３を介して設けら
れ、これによってその表面が凹凸パターンで構成された
ものとなっている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置に関し、
特には基板上に自発光型の素子を設けてなる表示装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】有機材料のエレクトロルミネッセンス(e
lectroluminescence：以下ＥＬと記す）を利用した有機
ＥＬ素子は、陽極と陰極との間に、有機正孔輸送層や有
機発光層を積層させた有機層を設けてなり、低電圧直流
駆動による高輝度発光が可能な発光素子として注目され
ている。

【０００３】図７には、このような有機ＥＬ素子用いた
表示装置の一例を示す。この断面図に示す表示装置は、
基板１０１上に設けられた第１電極層１０２と、この第
１電極層１０２上に設けられた有機層１０３と、この上
部に設けられた第２電極層１０４とを備えている。例え
ば、この表示装置が基板１０１と反対側、すなわち第２
電極層１０４側から発光光を放出する上面発光型である
場合、第１電極層１０２は、クロム（Ｃｒ）のような仕
事関数が大きく光反射性を有する材料を用いて陽極とし
て設けられる。また、第２電極層１０４は、銀：マグネ
シウム（Ａｇ：Ｍｇ）のような仕事関数が小さく光透過
性を有する材料を用いて陰極として設けられる。そし
て、有機層１０３は、第１電極層１０２側から順に、有
機正孔輸送層、有機発光層、さらには有機電子輸送層を
必要に応じて積層させてなる。

【０００４】このように構成された表示装置は、第１電
極層１０２から注入されたホールと、第２電極層１０４
から注入された電子とが、有機層１０３における有機発
光層において再結合して発光し、この発光光ｈが直接、
さらには第１電極層１０２で反射して第２電極層１０４
側から取り出される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
構成の表示装置では、第１電極層１０２と有機層１０３
との界面だけではなく、第２電極層１０４と有機層１０
３の界面においても発光光ｈの反射が生じる。特に、上
述した上面発光型の表示装置において第２電極層１０４
を陰極とした場合、第２電極層１０４を仕事関数の小さ
い材料で構成する必要があるため、銀：マグネシウム
（Ａｇ：Ｍｇ）などが用いられているが、これは半透明
反射性の材料であり発光光ｈを反射する。

【０００６】このため、発光光ｈがこの第２電極層１０
４と第１電極層１０２との間を往復し、共振波長の光が
増強されて第２電極層１０４側から取り出される場合が
ある。この際、共振された光はピークが高く幅が狭いス
ペクトルを有するため、発光面を斜め方向から見た場合
には、光ｈの波長が大きくシフトしたり発光強度が低下
する。このため表示装置における表示特性の視野角依存
性が高くなる。

【０００７】これを防止するためには、発光光ｈの共振
が生じることのないように、第２電極層１０４と第１電
極層１０２との間隔を設計する必要があるが、これは表
示装置の設計の自由度を低下させる要因になる。

【０００８】そこで本発明は、上記課題を解決し、設計
の自由度を確保することができ、かつ視野角特性に優れ
た表示装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るための本発明の表示装置は、基板上に設けられた第１
電極層と、この第１電極層上に設けられた発光層と、こ
の発光層上に設けられた第２電極層とを備え、発光層で
生じた発光光を第１電極層及び第２電極層のうちの一方
側から取り出す表示装置において、第１電極層の発光層
側の表面が、なだらかな傾斜面からなる複数の凹凸パタ
ーンで構成されたことを特徴としている。

【００１０】このような構成の表示装置では、第１電極
層の発光層側の表面がなだらかな傾斜面からなる複数の
凹凸パターンで構成されているため、発光層で生じた発
光光が、発光層と第１電極層との界面で反射する際に拡
散する。このため、この発光光が、発光層を挟んで設け
られた第１電極層の界面と第２電極層の界面とで反射を
繰り返した場合であっても、これによって発光光が共振
することが防止され、共振のない発光光が第１電極層ま
たは第２電極層側から放出されることになる。

【００１１】また、本発明におけるもう一つの表示装置
は、基板上に設けられた第１電極層と、当該第１電極層
上に設けられた発光層と、当該発光層上に設けられた第
２電極層とを備え、発光層で生じた発光光を第２電極層
側から取り出す表示装置において、第２電極層上に、な
だらかな傾斜面で構成された透明材料からなる複数の凸
パターンを設けたことを特徴としている。

【００１２】このような構成の表示装置では、第２電極
層上に透明材料からなる凸パターンが設けられているた
め、第２電極層側から取り出される発光光は、この凸パ
ターンを透過することによって拡散して放出される。こ
のため、この発光光が、発光層を挟んで設けられた第１
電極層と第２電極層との界面で反射を繰り返して共振さ
れた場合であっても、第２電極層側からは共振された光
が拡散して放出されることになる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の表示装置の実施の
形態を、図面に基づいて詳細に説明する。

【００１４】（第１実施形態）図１は、本発明の一例を
示す第１実施形態の表示装置の断面構成図であり、発光
光ｈを基板１と反対側から取り出す上面発光型の表示装
置に本発明を適用した場合の構成例を示している。以
下、この図に示す表示装置の構成を、図２の断面工程図
に基づいてその製造工程順に詳細に説明する。

【００１５】先ず、図２（１）に示すように、ガラスや
シリコンウエハ等からなる基板１を用意し、この基板１
上に感光性を有する樹脂膜２を塗布する。樹脂膜２とし
ては、例えばアクリル系、イミド系、ノボラック系のも
のを用い、例えば、スピンコート法によって基板１上に
塗布成膜する。また、この基板１は、必要に応じてここ
での図示を省略した薄膜トランジスタ（thin film tran
sistor：ＴＦＴ）や薄膜ダイオード（thin film diod
e：ＴＦＤ）等が形成されたものであっても良く、この
場合にはこれらのＴＦＴやＴＦＤは平坦化絶縁膜にて埋
め込まれており、この平坦化絶縁膜上に樹脂膜２が塗布
されることとする。

【００１６】次いで、図２（２）に示すように、リソグ
ラフィー技術によってこの樹脂膜２をパターニングし、
基板１上に複数の凸パターン２ａを高密度に形成する。
各凸パターン２ａは、例えば図３に示すようにランダム
な多角柱状に形成され、基板上にこれらの凸パターン２
ａの集合体を設ける。また、これらの凸パターン２ａを
設計する際には、直径１１μｍ程度の円を互いに接触す
るように配置し、接触する円の境界を連続して直線に結
び互いに分離する。また、凸パターン２ａ間の間隔は、
リソグラフィーの最小分解能（例えば１μ程度）に設定
されることとする。尚、凸パターン２ａは、図３に示し
たようなランダムな多角柱状に限定されることはなく、
規則的に配列された同一形状の角柱状または円柱状であ
っても良い。

【００１７】次に、図２（３）に示すように、この凸パ
ターン（２ａ）を例えば約１４０℃の熱処理によって軟
化・溶融させる。これによって、表面張力によって中央
部側が高く、なだらかな傾斜面で構成された、高さ約
１．５μｍの凸パターン２ｂを得る。また、その後さら
に約２００℃程度の熱処理を行うことによって、この凸
パターン２ｂを硬化させる。以上の工程は、各凸パター
ン２ｂの最大傾斜角度θmax が１２°未満になるように
制御されることとする。

【００１８】ここで、凸パターン２ｂの側壁の立ち上が
り角度が急峻な場合には、凸パターン２ｂに対して選択
的なエッチングが可能な材料で凸パターン２ｂ間を埋め
込み、これによって凸パターン２ｂの最大傾斜角度を緩
和し、最大傾斜角度θmax が１２°未満になるようにし
ても良い。この場合、先ず、凸パターン２ｂを埋め込む
状態で基板１上に埋め込み材料層（図示省略）を形成し
た後、凸パターン２ｂの上部のみを露出させるように埋
め込み材料層を選択的にエッチバックし、凸パターン２
ｂ間にのみ埋め込み材料層を残す。また、このように凸
パターン２ｂ間に埋め込み材料層を設けることで、基板
１表面を覆って平坦面をなくし、鏡面反射を抑えること
もできる。

【００１９】次に、図２（４）に示すように、基板１上
の凸パターン２ｂを覆う状態で、下地層３を形成する。
この下地層３は、例えば樹脂材料からなり、凸パターン
２ｂ間が完全に埋め込まれることのないように、かつ凸
パターン２ｂ表面及び凸パターン２ｂ間が滑らかに覆わ
れる程度に十分な膜厚（例えば０．３μｍ〜０．７μｍ
程度）で形成する。

【００２０】以上の後、図１に示したように、下地層３
上に第１電極層４を形成する。この第１電極層４は、陽
極として用いられるもので、例えばクロム（Ｃｒ）、金
（Ａｕ）、プラチナ（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅
（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）などのように仕事関数が
高い材料のうち、この表示装置における発光光ｈに対し
て反射率の高い材料を用いて構成されることする。この
第１電極層４は、例えばスパッタ法によって形成され、
その後、通常のリソグラフィー技術によって形成された
レジストパターンをマスクしたエッチングを行うことに
よって、この第１電極層４を所定形状にパターニングす
る。尚、基板１にＴＦＴやＴＦＤが作りこまれている場
合には、この第１電極層４は、下地層３や凸パターン２
ｂさらには平坦化絶縁膜に形成されたコンタクトホール
を介してこれらの素子に接続する状態に形成されること
とする。

【００２１】次に、第１電極層４上に、発光層５を形成
する。この際、例えば、ここでの図示を省略した金属マ
スク上からの真空蒸着によって、各第１電極層４上に独
立したパターン形状を有する発光層５を形成する。この
発光層５は、ここでの図示を省略した有機正孔注入層、
有機正孔輸送層、電子輸送層を兼ねた有機発光層を下層
から順に積層してなる有機ＥＬ層であることとする。

【００２２】このような構成の発光層５の一例として
は、有機正孔注入層としてＭＴＤＡＴＡ〔4,4',4"-トリ
ス（3-メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルア
ミン〕を３０ｎｍの膜厚に形成し、有機正孔輸送層とし
てα−ＮＰＤ〔ビス（N-ナフチル）-N-フェニルベンジ
ジン〕を２０ｎｍの膜厚に形成し、有機発光層としてＡ
ｌｑ３（８−キノリノールアルミニウム錯体）を５０ｎ
ｍの膜厚に形成する。

【００２３】次に、発光層５上に、陰極として用いられ
る第２電極層６を形成する。この第２電極層６は、マグ
ネシウムと銀との合金（Ｍｇ：Ａｇ）や、アルミニウム
とリチウムとの合金（Ａｌ：Ｌｉ）のような仕事関数が
小さく、この表示装置における発光光ｈに対して光透過
性を有する導電性材料で構成される。この第２電極層６
は、例えば蒸着法によって、基板１上の全面、または必
要部分上にパターン形成される。

【００２４】ここで、第２電極層６を構成するこれらの
導電性材料は、半透明反射材料であり、表示装置の輝度
を確保するために、薄い膜厚（例えば１０ｎｍ程度）で
形成する。そこで、ここでの図示は省略したが、この第
２電極層６上に、第２電極層６の保護と低抵抗化のため
の透明電極膜を成膜する。この透明電極膜としては、例
えば室温成膜で良好な導電性を示すインジウム亜鉛酸化
物（Ｉｎ−Ｚｎ−Ｏ）系の透明導電性材料等が用いら
れ、ＤＣスパッタ法によって第２電極層６と同一形状に
形成される。

【００２５】以上のようにして、基板１上に第１電極層
（陽極）４、発光層（有機ＥＬ層）５、第２電極層（陰
極）６を順次積層してなる表示装置を得る。この表示装
置は、下地層３を介して凸パターン２ｂを覆うように設
けられた第１電極層４における発光層５側の表面が、な
だらかな傾斜面からなる複数の凹凸パターンで構成され
たものになる。

【００２６】このような構成の表示装置においては、第
１電極層４における発光層５の表面がなだらかな傾斜面
からなる複数の凹凸パターンで構成されているため、発
光層５において生じた発光光ｈは、第１電極層４の表面
（発光層５側の界面）において反射する際に拡散する。
このため、この発光光ｈが、反射率の高い第１電極層４
と半透明反射材料からなる第２電極層６との間で反射を
繰り返しても、これによって発光光ｈが共振することが
防止される。しかも、この第１電極層４上に形成された
発光層５の表面及び第２電極層６の発光層５側の界面
も、第１電極層４表面の凹凸を反映した凹凸面に形成さ
れる。このため、発光層５において生じた発光光ｈは、
発光層５と第２電極層６との界面において反射する際に
も拡散し、発光光ｈの共振が防止される。

【００２７】したがって、反射材料からなる第１電極層
４と半透明反射材料からなる第２電極層６との間隔によ
らず、発光光ｈの共振を防止することが可能になり、表
示特性の視野角依存性を抑えることができる。この結
果、発光層５の設計の自由度を確保することが可能で、
かつ視野角特性の良好な表示装置を得ることができる。

【００２８】しかも、凸パターン２ｂがゆるやかな傾斜
面で構成されるようにしたことで、第１電極層４で反射
した発光光ｈを第２電極層６側に向かって拡散反射さ
せ、表示装置の輝度の低下を防止することができる。特
に、凸パターン２ｂの最大傾斜角度をθmax ＝１２°と
したことで、第１電極層４で反射した光のほとんどを第
２電極層６側に向かって反射させることができ、表示装
置の輝度を確保することが可能になる。

【００２９】また、凸パターン２ｂを下地層３で覆った
構成にすることで、凸パターン２ｂの傾斜角度が緩和さ
れると共に、第１電極層４の下地を滑らかにし、第１電
極層４上に形成される発光層５の局所所的な膜厚の不均
一を防止することができる。したがって、発光層５にお
ける漏れ電流の発生を防止し、安定した表示を行うこと
が可能になる。

【００３０】（第２実施形態）図４は、上面発光型の表
示装置に本発明を適用した場合の他の構成例を示してい
る。以下、この図に示す表示装置の構成を、図５の断面
工程図に基づいてその製造工程順に詳細に説明する。

【００３１】先ず、図５（１）に示すように、第１実施
形態と同様の基板１を用意し、リソグラフィー技術によ
ってこの基板１上にマスクパターン８を形成する。この
マスクパターン８には、複数の抜きパターン８aが高密
度に形成されていることとする。これらの抜きパターン
８aは、例えば第１実施形態において図２（２）を用い
て説明した凸パターン２aの反転パターンであることと
する。

【００３２】次に、図５（２）に示すように、このマス
クパターン８上からのエッチングによって、基板１の表
面側に複数の凹パターン１ａを形成する。この際、ウェ
ットエッチングを行うことによって、凹パターン１aを
なだらかな傾斜面で構成されたものとする。ここで、こ
の凸パターン２ｂの最大傾斜角度（θmax ）が１２°未
満になるように制御する。

【００３３】次いで、図５（３）に示すように、基板１
上のマスクパターン（８）を除去した後、この凹パター
ン１aを覆う状態で、基板１上に下地層３を形成する。
この下地層３は、例えば第１実施形態の下地層と同様で
あることとする。

【００３４】以上の後、図４に示したように、この下地
層３上に、第１実施形態と同様にして、第１電極層４、
発光層５、第２電極層６、さらには必要に応じて透明電
極層（図示省略）を形成して表示装置を完成させる。

【００３５】このようにして得られた表示装置は、下地
層３を介して凹パターン１ａを覆うように設けられた第
１電極層４の表面が、なだらかな傾斜面からなる複数の
凹凸パターンで構成されたものになる。

【００３６】このような構成の表示装置であっても、第
１電極層４における発光層５側の表面がなだらかに傾斜
する凹凸面に成形されているため、第１実施形態で説明
した構成の表示装置と同様の効果を得ることが可能であ
り、発光層５の設計の自由度を確保することが可能で、
かつ視野角特性の良好な表示装置を得ることができる。

【００３７】また、凹パターン１ａがゆるやかな傾斜面
で構成されるようにしたことで、第１実施形態と同様
に、表示装置の輝度を確保することが可能になる。さら
に、凹パターン１ａを下地層３で覆った構成にすること
で、凹パターン１ａの傾斜角度が緩和されると共に、第
１電極層４の下地を滑らかにし、第１電極層４上に形成
される発光層５の局所所的な膜厚の不均一を防止するこ
とができる。したがって、第１実施形態と同様に、安定
した表示を行うことが可能になる。

【００３８】以上説明した第１実施形態及び第２実施形
態においては、上面発光型の表示装置に本発明を適用し
た実施の形態を説明した。しかしこれらの実施形態は、
発光光を基板側から取り出す透過型の表示装置にも適用
可能である。この場合、基板及び第１電極層は透明材料
を用いて構成され、第２電極層は反射性材料を用いて構
成されることとする。また、第１電極層及び第２電極層
を構成する材料によって、発光層を構成する各有機層の
積層順が適宜されることとする。

【００３９】このような透過型の表示装置においては、
発光層で生じた発光光が透明導電性材料からなる第１電
極層と発光層との界面でわずかに反射する際に拡散す
る。また、この第１電極層上に発光層を介して積層され
た第２電極層も、発光層側の界面が凹凸面に形成され
る。このため、発光層において生じた発光光は、発光層
と第２電極層との界面において反射する際に拡散し、発
光光ｈの共振が防止される。したがって、第１実施形態
及び第２実施形態と同様の効果を得ることができる。

【００４０】また、上記第１実施形態及び第２実施形態
においては、凸パターン２ｂや凹パターン１ａの最大傾
斜角度を１２°未満に設定した。しかし、本発明におい
ては、第１電極層４や第２電極層６における発光層５側
の界面の最大傾斜角度が１２°未満であれば、表示装置
の輝度を確保することができる。このため、少なくとも
第１電極層４における発光層５側の表面の最大傾斜角度
がθmax ＜１２°になれば、凸パターン２ｂや凹パター
ン１ａの最大傾斜角度が１２°を超えても良い。

【００４１】（第３実施形態）図６は、第３実施形態の
表示装置の構成を示す断面構成図である。この図に示す
表示装置は、図１を用いて説明した第１実施形態の表示
装置の第２電極層６上（透明電極層が設けられている場
合にはこの上部）に透明材料からなる複数の凸パターン
９を設けた構成になっており、その他の構成は第１実施
形態の表示装置と同様であることとする。

【００４２】これらの凸パターン９は、例えば第１実施
形態で説明した凸パターン２ｂと同様に形成されたもの
で、その表面はなだらかな傾斜面で構成されていること
とする。

【００４３】このような構成の表示装置では、第２電極
層６上に透明材料からなる凸パターン９が設けられてい
るため、第２電極層６側から取り出される発光光ｈは、
凸パターン９を透過することによって拡散して放出され
る。このため、第１実施形態の表示装置と比較して、さ
らに表示特性の視野角依存性を抑えることが可能にな
る。

【００４４】尚、ここでは、第１実施形態の表示装置の
第２電極６上に凸パターン９を設けた構成を説明した
が、第２実施形態の表示装置の第２電極層６上（透明電
極層が設けられている場合には透明電極層上）上に凸パ
ターンを設けた構成であっても、同様の効果を得ること
ができる。

【００４５】また、従来の技術で説明した表示装置にお
ける第２電極層の上方にこれらの凸パターン９を設けた
構成であっても良い。この場合、発光層で生じた発光光
が、発光層を挟んで設けられた第１電極層と第２電極層
との界面で反射を繰り返して共振された場合であって
も、この共振された発光光が凸パターン９を透過するこ
とで拡散する。したがって、従来の表示装置と比較し
て、表示特性の視野角依存性を抑えることが可能にな
る。

【００４６】

【発明の効果】以上説明したように本発明の表示装置に
よれば、第１電極層における発光層の表面をなだらかな
傾斜面からなる複数の凹凸パターンで構成したことによ
って、発光層において生じた発光光を発光層と第１電極
層との界面において拡散反射させることが可能になる。
したがって、発光層を挟んで設けられた第１電極層の界
面と第２電極層の界面との間における発光光の共振を防
止し、表示特性の視野角依存性を抑えることができる。
この結果、発光層の設計の自由度を確保することが可能
で、かつ視野角特性の良好な表示装置を得ることができ
る。

【００４７】また、本発明のもう一方の表示装置によれ
ば、発光層上に形成された第２電極層上に透明材料から
なる凸パターンを設けたことで、第２電極層側から取り
出される発光光をこの凸パターンを透過させることで拡
散させて放出することができる。したがって、発光層で
生じた発光光が、これを挟んで設けられた第１電極層と
第２電極層との界面で反射を繰り返して共振された場合
であっても、これを拡散して第２電極層側から放出する
ことで表示特性の視野角依存性を抑えることができる。
この結果、発光層の設計の自由度を確保することが可能
で、かつ視野角特性の良好な表示装置を得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図1】第１実施形態の表示装置の断面構成図である。

【図２】第１実施形態の表示装置の製造手順を示す断面
工程図である。

【図３】第１実施形態の表示装置における凸パターンの
平面図である。

【図４】第２実施形態の表示装置の断面構成図である。

【図５】第２実施形態の表示装置の製造手順を示す断面
工程図である。

【図６】第３実施形態の表示装置の断面構成図である。

【図７】従来の表示装置の断面構成図である。

【符号の説明】

１…基板、１a…凹パターン、２ｂ…凸パターン、３…
下地層、４…第１電極層、５…発光層、６…第２電極
層、９…（透明材料からなる）凸パターン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者笹岡龍哉東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内Ｆターム(参考） 3K007 AB17 BA05 CA01 CA03 DA01 5C094 AA12 BA27 CA19 DA13 EA05 EB02 EB05 ED13 JA08 JA09

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に設けられた第１電極層と、当該
第１電極層上に設けられた発光層と、当該発光層上に設
けられた第２電極層とを備え、前記発光層で生じた発光
光を前記第１電極層及び第２電極層のうちの一方側から
取り出す表示装置において、前記第１電極層の前記発光層側の表面は、なだらかな傾
斜面からなる複数の凹凸パターンで構成されたことを特
徴とする表示装置。
【請求項２】請求項１記載の表示装置において、前記基板の表面側には、なだらかな傾斜面を有する複数
の凹パターンまたは凸パターンが形成され、前記第１電極層は、前記凹パターンまたは前記凸パター
ンを覆う状態で前記基板上に形成されたことを特徴とす
る表示装置。
【請求項３】請求項２記載の表示装置において、前記基板と前記第１電極層との間に、前記凹パターンま
たは前記凸パターンを覆う状態で下地層が設けられたこ
とを特徴とする表示装置。
【請求項４】前記発光層で生じた発光光を前記第２電
極層側から取り出す請求項１記載の表示装置において、前記第２電極層上には、なだらかな傾斜面で構成された
透明材料からなる複数の凸パターンが設けられたことを
特徴とする表示装置。
【請求項５】基板上に設けられた第１電極層と、当該
第１電極層上に設けられた発光層と、当該発光層上に設
けられた第２電極層とを備え、前記発光層で生じた発光
光を前記第２電極層側から取り出す表示装置において、前記第２電極層上には、なだらかな傾斜面で構成された
透明材料からなる複数の凸パターンが設けられたことを
特徴とする表示装置。