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JP2002001563A - レーザ加工装置およびその方法 - Google Patents

レーザ加工装置およびその方法

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Publication number
JP2002001563A
JP2002001563A JP2000192000A JP2000192000A JP2002001563A JP 2002001563 A JP2002001563 A JP 2002001563A JP 2000192000 A JP2000192000 A JP 2000192000A JP 2000192000 A JP2000192000 A JP 2000192000A JP 2002001563 A JP2002001563 A JP 2002001563A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
distance data
processing
laser
focus position
correction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000192000A
Other languages
English (en)
Inventor
Isao Suzuki
伊左雄 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Tec Corp
Original Assignee
Toshiba Tec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Tec Corp filed Critical Toshiba Tec Corp
Priority to JP2000192000A priority Critical patent/JP2002001563A/ja
Publication of JP2002001563A publication Critical patent/JP2002001563A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 加工面の平面度に関係なく、加工精度を高
く、また隣接する加工単位間の加工精度のばらつきを小
さくする。 【解決手段】 オリフィスプレート上の各加工単位にお
いて、距離センサで距離を測定する(ステップS1〜S
5)。次に、測定した各距離データに基づき、この各距
離データの測定誤差を補正する(ステップS6)。補正
手段としては、各距離データの近似曲線を求めたり、移
動平均値を求めたりすることで行う。ステップS6で求
めた各距離データの補正値を用いてzステージを制御す
ることで、各加工単位でフォーカシングを行ってレーザ
光のフォーカス位置を最適なものに制御しながら(ステ
ップS8)、レーザ加工を行う(ステップS9〜S1
2)。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、ワークにレーザ
を照射することでレーザ加工するレーザ加工装置および
その方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、インクジェットプリンタヘッドに
おけるインク吐出孔であるオリフィスは、電鋳と呼ばれ
るメッキ法により、オリフィスプレートに形成されてい
た。そして、インクジェットプリントヘッドの製造プロ
セスにおいては、オリフィス形成後のオリフィスプレー
トを、インクジェットプリンタヘッド筐体における端部
の所定の部位に接着していた。
【0003】しかし、通常のインクジェットプリントヘ
ッドは、300dpi以上の印字の解像度が要請されることか
ら、オリフィスの配列ピッチ(隣接するオリフィス同士
の孔間隔)も約80μm以下であり、非常に微細な構造に
なっている。そのため、オリフィスプレートをインクジ
ェット筐体に接着する工程において、接着材が既に形成
されているオリフィス内に流れ込んで、孔詰まりを起こ
してインクの飛翔の障害となる不具合がある。また、こ
の障害を防ぐために前記の配列ピッチを狭められず、ド
ット間隔がまばらになり、印字の鮮明さが損なわれる等
の不具合もあった。
【0004】これらの不具合を解決するために、インク
ジェットプリンタヘッドを製造する際に、高分子樹脂か
らなるオリフィスプレートをインクジェットプリンタヘ
ッド筐体の端部における所定の部位に接着した後に、レ
ーザ加工によってオリフィスを形成する技術も行われて
いる。
【0005】例えば、特開平5-330064号公報には、オリ
フィスプレートに対してインク吐出側からレーザ光を照
射して、オリフィスに逆テーパ部分のみを形成する技術
が開示されている。
【0006】また、特開平10-291318号公報には、レー
ザを照射して、一括で多数のノズルを形成する技術が開
示されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、レーザ
加工によってオリフィスを形成する前記従来の技術で
は、オリフィスの品質を十分に安定させることができな
い。すなわち、オリフィスの実際の製造工程では、加工
点までの距離を充分に把握してレーザの照射を行わない
と、レーザのフォーカス位置が一定せずに、形成された
各オリフィスにばらつきが生じるため、インクジェット
ヘッド内で各オリフィスの吐出性能にばらつきが生じて
しまう不具合がある。
【0008】すなわち、多数個のオリフィス孔を複数の
加工単位に分けて、加工単位ごとにレーザを照射して加
工する場合、加工単位ごとに加工点までの距離を把握す
る必要があるが、隣接する加工単位間での距離の差が大
きい場合や、距離測定でイレギュラー値を示した場合、
その加工単位のオリフィスでのインク滴の吐出性能が他
の加工単位のオリフィスと異なるという現象が生じる。
【0009】そして、近年では、フルカラー画像を形成
するためにインクジェットプリンタの普及が急速に拡大
しており、その印字品質においてもますます高い性能が
要求されているので、各オリフィスの孔ピッチを狭めつ
つ、インク滴を高い直進性で飛翔させことができような
オリフィスの形成がますます要請されている。
【0010】この発明の目的は、加工精度が従来に比べ
て高いレーザ加工技術を提供することである。
【0011】この発明の目的は、加工精度の向上がさら
に容易になるレーザ加工技術を提供することである。
【0012】この発明の目的は、特に加工面の平面度が
高い場合において、加工精度を向上させることができ、
加工面が傾いている場合でも有効なレーザ加工技術を提
供することである。
【0013】この発明の目的は、隣接する加工単位間の
加工精度のばらつきを小さくすることができ、距離デー
タのイレギュラー的な値の影響度を変えることができ、
さらに、特に加工面の平面精度が低いときにより有効な
レーザ加工技術を提供することである。
【0014】この発明の目的は、隣接する加工単位間の
加工精度のばらつきを小さくすることができ、また、加
工面の平面精度が高いときに特に有効なレーザ加工技術
を提供することである。
【0015】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、ワークに照射してレーザ加工するためのレーザを発
生させるレーザ発生装置と、このレーザを前記ワークの
加工点に結像させる光学系と、前記ワーク上の前記レー
ザ加工を行う位置を移動する位置移動装置と、前記位置
移動装置および前記レーザ発生装置を制御することによ
り、前記位置を変えた複数の加工単位でそれぞれ前記加
工を行う加工制御手段と、前記加工単位ごとに距離セン
サで前記加工点までの距離を測定する測定手段と、前記
レーザの前記加工点に対するフォーカス位置を変えるフ
ォーカス位置可変装置と、このフォーカス位置可変装置
を制御して、前記測定後の各距離データに基づき前記加
工単位ごとに前記フォーカス位置を調節するフォーカス
位置調整手段と、前記複数の距離データに基づき当該各
距離データの測定誤差を補正する補正手段と、を備えて
いるレーザ加工装置である。
【0016】したがって、加工単位ごとに測定した複数
の距離データに基づき測定誤差を補正した各距離データ
を用いて、レーザの加工点に対するフォーカス位置を変
えてレーザ加工を行うことができるので、加工精度が従
来に比べて高いレーザ加工を行うことができる。
【0017】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
のレーザ加工装置において、前記フォーカス位置可変装
置は、前記ワークの位置を当該ワークに照射される前記
レーザ光の光軸方向に移動することにより前記フォーカ
ス位置を変えるものである。
【0018】したがって、光学系を制御しることでフォ
ーカス位置を変える場合などに比べて容易にフォーカス
位置を変えることができ、加工精度の向上がさらに容易
になる。
【0019】請求項3に記載の発明は、請求項1または
2に記載のレーザ加工装置において、前記補正手段は、
前記測定後の各距離データの近似曲線を求めて当該近似
曲線の値を前記各距離データとすることで前記補正を行
うものである。
【0020】したがって、とくに加工面の平面度が高い
場合において、距離データのイレギュラー値の影響を低
減させ、加工精度を向上させることができる。また、加
工面が傾いている場合でも有効である。
【0021】請求項4に記載の発明は、請求項1または
2に記載のレーザ加工装置において、前記補正手段は、
前記測定後の各距離データの移動平均値を求めて当該各
移動平均値を前記各距離データとすることで前記補正を
行うものである。
【0022】したがって、距離データのイレギュラー的
な値の影響を低減し、隣接する加工単位間の加工精度の
ばらつきを小さくすることができる。また、移動平均を
とるn数を変化させることにより、距離データのイレギ
ュラー的な値の影響度を変えることができる。さらに、
実測値に近い値を示すため、特に加工面の平面精度が低
いときにより有効である。
【0023】請求項5に記載の発明は、請求項1〜4の
いずれかの一に記載のレーザ加工装置において、前記補
正手段は、前記測定後の各距離データのうち予め設定さ
れている数値範囲から外れたものを除外し、その除外後
の距離データを用いて前記補正を行うものである。
【0024】したがって、距離データのイレギュラー的
な値に影響されることがなくなるため、隣接する加工単
位間の加工精度のばらつきを小さくすることができる。
また、加工面の平面精度が高いときに特に有効である。
【0025】請求項6に記載の発明は、ワーク上でレー
ザ加工を行う位置を移動することで当該位置を変えた複
数の加工単位で、それぞれレーザをワークの加工点に結
像して加工を行う加工工程と、この加工工程の前に前記
加工単位ごとに距離センサで前記加工点までの距離を測
定する測定工程と、前記加工工程でそれぞれ前記加工単
位ごとに前記レーザ加工を行うごとに、前記測定後の各
距離データに基づき前記レーザの前記加工点に対するフ
ォーカス位置を調節するフォーカス位置調整工程と、こ
のフォーカス位置調整工程の前に前記複数の距離データ
に基づき当該各距離データの測定誤差を補正する補正工
程と、を備えているレーザ加工方法である。
【0026】したがって、加工単位ごとに測定した複数
の距離データに基づき測定誤差を補正した各距離データ
を用いて、レーザの加工点に対するフォーカス位置を変
えてレーザ加工を行うことができるので、加工精度が従
来に比べて高いレーザ加工を行うことができる。
【0027】請求項7に記載の発明は、請求項6に記載
のレーザ加工方法において、前記フォーカス位置調整工
程は、前記ワークの位置を当該ワークに照射される前記
レーザ光の光軸方向に移動することにより前記フォーカ
ス位置を変えるものである。
【0028】したがって、光学系を制御しることでフォ
ーカス位置を変える場合などに比べて容易にフォーカス
位置を変えることができ、加工精度の向上がさらに容易
になる。
【0029】請求項8に記載の発明は、請求項6または
7に記載のレーザ加工方法において、前記フォーカス位
置調整工程は、前記測定後の各距離データの近似曲線を
求めて当該近似曲線の値を前記各距離データとすること
で前記補正を行うものである。
【0030】したがって、とくに加工面の平面度が高い
場合において、距離データのイレギュラー値の影響を低
減させ、加工精度を向上させることができる。また、加
工面が傾いている場合でも有効である。
【0031】請求項9に記載の発明は、請求項6または
7に記載のレーザ加工方法において、前記フォーカス位
置調整工程は、前記測定後の各距離データの移動平均値
を求めて当該各移動平均値を前記各距離データとするこ
とで前記補正を行うものである。
【0032】したがって、距離データのイレギュラー的
な値の影響を低減し、隣接する加工単位間の加工精度の
ばらつきを小さくすることができる。また、移動平均を
とるn数を変化させることにより、距離データのイレギ
ュラー的な値の影響度を変えることができる。さらに、
実測値に近い値を示すため、特に加工面の平面精度が低
いときにより有効である。
【0033】請求項10に記載の発明は、請求項6〜9
のいずれかの一に記載のレーザ加工方法において、前記
補正工程は、前記測定後の各距離データのうち予め設定
されている数値範囲から外れたものを除外し、その除外
後の距離データを用いて前記補正を行うものである。
【0034】したがって、距離データのイレギュラー的
な値に影響されることがなくなるため、隣接する加工単
位間の加工精度のばらつきを小さくすることができる。
また、加工面の平面精度が高いときに特に有効である。
【0035】
【発明の実施の形態】この発明の一実施の形態について
説明する。
【0036】この発明の実施の形態は、レーザ加工技術
に関するものであり、まず、その加工の対象となるワー
クの一例であるインクジェットプリンタヘッドユニット
1の構成例を図1に示す。図1に示すように、ベースプ
レート2上にはインクジェットプリンタヘッド3及び駆
動回路基板4が取り付けられている。インクジェットプ
リンタヘッド3の先端側端面にはオリフィスプレート5
が取り付けられるとともに、このオリフィスプレート5
にはインクを吐出させるための複数個のオリフィス6が
圧力発生室を形成するインク室7(図2参照)に対応し
て、所定のピッチで形成されている。
【0037】また、インクジェットプリンタヘッド3の
インク室7にインクを供給するインク供給管8が蓋体9
の所定の位置に取り付けられている。駆動回路基板4
は、インク室7に設けられているアクチュエータ(本実
施の形態ではインクジェットの方式を問わないため、特
に図示せず)を動作させることによりオリフィス6から
インクを吐出させるための駆動IC10等を搭載してい
る。11は、外部のコントローラ(図示せず)と接続す
るための接続ケーブルである。
【0038】図2に、インクジェットプリンタヘッド3
におけるオリフィスプレート5部分の断面構造を示す。
オリフィスプレート5には、壁12により仕切られた各
インク室7の端面に位置する部位にオリフィス6が形成
されている。このオリフィス6は、インク吐出側(外面
側)からみて奥側(インク室7側)が径の大きくなるテ
ーパ形状(立体的には、台形円錐状)をしている。イン
ク吐出側の径が小さくなるようなテーパ形状としている
のは、インク室7のインクを吐出するために、インク室
7に設けられているアクチュエータを駆動し、インク室
7内部の圧力が高められたときに、効率よくインク吐出
を行わせるためである。
【0039】なお、オリフィスプレート5にあっては、
そのインク吐出側(外面側)なる片面にはフッ素含有膜
13が形成され、撥インク特性を有するように構成され
ている。
【0040】次に、この発明の実施の形態であるレーザ
加工装置21の構成について、図3に基づいて説明す
る。このレーザ加工装置21はエキシマレーザ光を利用
して加工するもので、まず、レーザ発生装置であるKr
Fエキシマレーザ光発振器22が設けられている。この
KrFエキシマレーザ光発振器22は、波長400nm
以下の紫外域でパルス状のレーザ光(エキシマレーザ
光)を出力する。このKrFエキシマレーザ光発振器2
2から出力されるレーザ光の光路上には、バリアブルア
ッテネータ23、アップコリメータ24、イメージロー
テータ25、ミラー26の光学系などが配置され、さら
にこのミラー26の反射光路上には、アレイレンズ照明
系27、リレーレンズ28、マスク29及び投影レンズ
30の光学系などが配置されている。一方、投影レンズ
30の光軸方向には、xステージ31x、yステージ3
1yおよびzステージ31zが設けられ、このzステー
ジ31z上にワークであるオリフィスプレート5が、イ
ンクジェットプリンタヘッド筐体に接着固定された状態
で載置されるようになっている。xステージ31x、y
ステージ31yは、位置移動装置を実現し、zステージ
31zはフォーカス位置可変装置を実現する。
【0041】ここで、アレイレンズ照明系27からリレ
ーレンズ28、マスク29、投影レンズ30にかけたこ
の光学系の具体的構成について、図4を参照して説明す
る。図4に示すように、エキシマレーザ光の光路上に
は、アレイレンズ照明系27、リレーレンズ28、マス
ク29及び投影レンズ30が配置されている。アレイレ
ンズ照明系27は、図4および図5に示すように、2つ
のシリンドリカルレンズアレイ27a,27bを互いに
垂直に交わる方向に間隔L0を置いて配置したものであ
る。
【0042】なお、これらのシリンドリカルレンズアレ
イ27a,27bの各集光面32(集光点を含む面)
は、シリンドリカルアレイレンズ27bから距離L1の
ところの同一面に一致するようになっている。
【0043】また、これらのシリンドリカルレンズアレ
イ27a,27bの集光面32をリレーレンズ28によ
り投影レンズ30の入射瞳(絞り)33の面に結像し、
これにより投影レンズ30に対して、テレセントリック
な条件が成立するようにアレイレンズ照明系27、リレ
ーレンズ28、入射瞳33、投影レンズ30に対してマ
スク29が配置されている。
【0044】なお、図3において、このレーザ加工装置
21はコンピュータである微細加工コントローラ41に
より制御される。即ち、KrFエキシマレーザ光発振器
22がレーザ制御に基づくトリガ信号により制御され、
バリアブルアッテネータ23がフルエンス制御信号によ
り制御され、イメージローテータ25が回転速度制御信
号により制御され、xステージ31x及びyステージ3
1yはxyドライバ42を利用して位置制御信号により
制御される。また、投影レンズ30とx方向(xステー
ジ31xの移動方向)に並列して光学式の距離センサ4
3が設けられており、オリフィスプレート5の加工点ま
での距離を計測する。この距離センサ43により検出さ
れた距離データの信号はオートフォーカスユニット44
を介して微細加工コントローラ41に取り込まれる。微
細加工コントローラ41はフォーカス制御信号をオート
フォーカスユニット44に出力して、オートフォーカス
ユニット44でzドライバ45を介してzステージ31
zを制御し、オリフィスプレート5の加工点に照射する
レーザ光のフォーカス位置を、zステージ31zの上下
動で調節する。
【0045】このようなテレセントリックな光学系を通
してレーザ光をインク吐出側から照射することにより、
オリフィスプレート5の板面に対して垂直な軸線を持
ち、かつ、奥側の径が大きくなる逆テーパ形状のオリフ
ィス6の加工が可能となる。
【0046】次に、レーザ加工装置21がオリフィスプ
レート5の板面にオリフィス6を形成する作業を行うと
きの一連の動作について図6〜図8を参照して説明す
る。まず、例えばオリフィスプレート5のオリフィス6
の形成数が200個で、レーザ加工装置21による一回
の加工単位(一回のレーザ照射)で一度に20個のオリ
フィス6が形成できる場合には、オリフィスプレート5
上における加工を行う位置を移動して、10回のレーザ
照射が必要ということになる。そこで、ひとつのオリフ
ィスプレート5にすべてのオリフィス6を形成するのに
必要な加工単位をnとして、図6に示すように、オリフ
ィス6の加工面上において各加工単位でレーザ加工され
るn個の領域をエリア1〜エリアnとする。
【0047】図7は、微細加工コントローラ41が行う
レーザ加工装置21に制御のフローチャートである。図
7に示すように、微細加工コントローラ41はxステー
ジ31xを駆動して距離センサ43の下にオリフィスプ
レート5の加工面を移動する(ステップS1)。このと
き、距離センサ43でエリア1の加工面の距離を測定し
うる位置にオリフィスプレート5を移動する。そして、
エリア1の加工点までの距離を距離センサ43で測定
し、その距離データを微細加工コントローラ41のRA
Mに格納する(ステップS2)。そして、所定のカウン
タのカウント値Cを(最初は初期値0にリセットされて
いる)、+1だけインクリメントする(N=N+1)
(ステップS3)。そして、このカウント値Cがnに達
していないときは(ステップS4のN)、xステージ3
1xを駆動して次のエリアの加工面の距離を測定しうる
位置にオリフィスプレート5を移動して(ステップS
5)、ステップS2に戻る。
【0048】このような処理を繰り返し、エリア1〜エ
リアnのすべての加工面に対して距離センサ43で距離
を測定して、カウント値Cがnに達したときは(ステッ
プS4のY)、ステップS6に移行する。ステップS1
〜S5により、測定手段および測定工程を実現してい
る。
【0049】ステップS6では、エリア1〜エリアnに
おいてそれぞれ測定したn個の距離データに基づき、こ
の各距離データの測定誤差を補正する。これにより補正
手段、補正工程を実現する。すなわち、ごみ、汚れなど
の影響や、表面反射率の違いにより、n個の距離データ
の中でイレギュラーな値を示すものが発生する場合があ
る。そして、距離データに誤差が含まれることにより、
そのエリアでのレーザ加工は最適なフォーカス距離で行
われず、エリアによって、オリフィス6にばらつきが発
生してしまう。そこで、具体的には、次の列挙するよう
な補正手段により、測定した距離データを補正する。
【0050】補正手段1:全ての距離データを測定後、
その平均値を求め、その平均値を全エリア1〜nの距離
データとする。この手段によれば、隣接するエリア間で
オリフィス6のばらつきが発生しにくくなる。
【0051】補正手段2:全ての距離データを測定後、
その近似直線を求め、その近似直線の値を各エリア1〜
nの距離データとする。この場合、オリフィスプレート
5の加工面自体が傾いて設置されていた場合などにも対
応でき、各エリア間でオリフィス6のばらつきが発生し
にくくなる。これは面精度が高い場合に特に有効な補正
手段である。
【0052】補正手段3:全ての距離データを取得後、
各距離データの移動平均を求め、その値を各エリア1〜
nの距離データとする。この場合、オリフィスプレート
5の加工面自体が傾いて設置されていた場合などにも対
応でき、また面精度が低く、面自体に歪みが生じている
オリフィスプレート5などでも、その形状に追従して加
工することができる。移動平均の求め方としては、例え
ば、近傍3点の距離データをもとに計算する。これによ
り、各エリア間でオリフィス6のばらつきが発生しにく
くなる。オリフィスプレート5の面精度が低い場合に特
に有効な補正手段である。
【0053】図9、図10は、距離データの実測値と、
その実測値を補正手段1〜3により補正した値とを示
す。横軸にはエリア1〜10の各測定ポイント1〜10
を示し、縦軸には補正前、補正後の距離データが示す距
離を示している。図9は、オリフィスプレート5の加工
面が傾いたもので、面精度が高い例を示している。図1
0は、オリフィスプレート5の面精度が低く、歪みが生
じている例を示している。
【0054】補正手段4:全ての距離データを取得後、
予め設定された所定数値範囲外の距離データを除外し、
この除外後の各距離データを用いて、前記手段1〜3の
何れか、例えば隣接3個の距離データで移動平均を算出
することを実行する。図11の例では、23〜26μm
の範囲を正常値と定めたとき、ポイント5の距離データ
(丸で囲んで示している)がイレギュラー値と判断され
る。この値を除外しないまま移動平均を求めると、図1
2に示すような結果となる。そこで、この値を除外し、
隣接3個の距離データで移動平均を求めると、図12に
示すような結果となり、エリア間のオリフィス6のばら
つきを抑制することができる。
【0055】以上のようにして、ステップS6で求めた
各距離データの補正値をフォーカス制御信号として、微
細加工コントローラ41がオートフォーカスユニット4
4に出力すると、xステージ31xを駆動して、投影レ
ンズ30の下にオリフィスプレート5を移動する(ステ
ップS7)。このとき、投影レンズ30が放射されて結
像するレーザ光でエリア1の加工面の所定位置にオリフ
ィス6を形成しうる位置にオリフィスプレート5を移動
する(図8参照)。そして、エリア1における距離デー
タの補正値に基づいてオートフォーカスユニット44に
よりZステージ31zを駆動し、レーザ光のフォーカス
位置を最適なものに調整し(ステップS8)、KrFエ
キシマレーザ22を制御してレーザ光を出力し、エリア
1のオリフィス6を形成する(ステップS9)。そし
て、所定のカウンタのカウント値Cを(最初は初期値0
にリセットされている)、+1だけインクリメントする
(N=N+1)(ステップS10)。このカウント値C
がnに達していないときは(ステップS11のN)、x
ステージ31xを駆動して次のエリアのオリフィス6を
形成しうる位置にオリフィスプレート5を移動して(ス
テップS12)、ステップS8に戻る。カウント値Cが
nに達したときは(ステップS11のY)、すべてのオ
リフィス6の形成が終了したので、処理を終了する。ス
テップS8によりフォーカス位置調整手段、フォーカス
位置調整工程を実現し、ステップS7,S9〜S12に
より加工制御手段、加工工程を実現している。
【0056】なお、オリフィスプレート5に照射される
レーザ光のフォーカス位置を調節する手段としては、z
ステージ31zを駆動する以外にも、レーザ光が通過す
る光学系を制御することで行ってもよい。しかし、zス
テージ31zを駆動する手段の方が、容易にフォーカス
位置を変えることができ、オリフィス6の加工精度の向
上がさらに容易になる。
【0057】
【発明の効果】請求項1に記載の発明は、加工単位ごと
に測定した複数の距離データに基づき測定誤差を補正し
た各距離データを用いて、レーザの加工点に対するフォ
ーカス位置を変えてレーザ加工を行うことができるの
で、加工精度が従来に比べて高いレーザ加工を行うこと
ができる。
【0058】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
のレーザ加工装置において、光学系を制御することでフ
ォーカス位置を変える場合などに比べて容易にフォーカ
ス位置を変えることができ、加工精度の向上がさらに容
易になる。
【0059】請求項3に記載の発明は、請求項1または
2に記載のレーザ加工装置において、とくに加工面の平
面度が高い場合において、距離データのイレギュラー値
の影響を低減させ、加工精度を向上させることができ
る。また、加工面が傾いている場合でも有効である。
【0060】請求項4に記載の発明は、請求項1または
2に記載のレーザ加工装置において、距離データのイレ
ギュラー的な値の影響を低減し、隣接する加工単位間の
加工精度のばらつきを小さくすることができる。また、
移動平均をとるn数を変化させることにより、距離デー
タのイレギュラー的な値の影響度を変えることができ
る。さらに、実測値に近い値を示すため、特に加工面の
平面精度が低いときにより有効である。
【0061】請求項5に記載の発明は、請求項1〜4の
いずれかの一に記載のレーザ加工装置において、距離デ
ータのイレギュラー的な値に影響されることがなくなる
ため、隣接する加工単位間の加工精度のばらつきを小さ
くすることができる。また、加工面の平面精度が高いと
きに特に有効である。
【0062】請求項6に記載の発明は、加工単位ごとに
測定した複数の距離データに基づき測定誤差を補正した
各距離データを用いて、レーザの加工点に対するフォー
カス位置を変えてレーザ加工を行うことができるので、
加工精度が従来に比べて高いレーザ加工を行うことがで
きる。
【0063】請求項7に記載の発明は、請求項6に記載
のレーザ加工方法において、光学系を制御することでフ
ォーカス位置を変える場合などに比べて容易にフォーカ
ス位置を変えることができ、加工精度の向上がさらに容
易になる。
【0064】請求項8に記載の発明は、請求項6または
7に記載のレーザ加工方法において、とくに加工面の平
面度が高い場合において、距離データのイレギュラー値
の影響を低減させ、加工精度を向上させることができ
る。また、加工面が傾いている場合でも有効である。
【0065】請求項9に記載の発明は、請求項6または
7に記載のレーザ加工方法において、距離データのイレ
ギュラー的な値の影響を低減し、隣接する加工単位間の
加工精度のばらつきを小さくすることができる。また、
移動平均をとるn数を変化させることにより、距離デー
タのイレギュラー的な値の影響度を変えることができ
る。さらに、実測値に近い値を示すため、特に加工面の
平面精度が低いときにより有効である。
【0066】請求項10に記載の発明は、請求項6〜9
のいずれかの一に記載のレーザ加工方法において、距離
データのイレギュラー的な値に影響されることがなくな
るため、隣接する加工単位間の加工精度のばらつきを小
さくすることができる。また、加工面の平面精度が高い
ときに特に有効である。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のインクジェットプリンタヘッドユニット
の構成例を示す斜視図である。
【図2】前記インクジェットプリンタヘッドのオリフィ
スプレート部分の断面図である。
【図3】この発明の実施の形態であるレーザ加工装置の
構成を示すブロック図である。
【図4】前記レーザ加工装置の光学系を展開して示す説
明図である。
【図5】前記光学系のアレイレンズの構成を示す分解斜
視図である。
【図6】前記オリフィスプレートのレーザ加工前の平面
図である。
【図7】前記レーザ加工装置でレーザ加工を行う際の制
御のフローチャートである。
【図8】前記レーザ加工装置でレーザ加工を行う際のx
テーブルの移動を説明する正面図である。
【図9】前記レーザ加工装置における距離データの実測
値と、その実測値を補正手段1〜3により補正した値と
を示すグラフである。
【図10】前記レーザ加工装置における距離データの実
測値と、その実測値を補正手段1〜3により補正した値
とを示すグラフである。
【図11】前記レーザ加工装置における距離データの実
測値と、その実測値を補正手段4を用いずに移動平均を
求めたときの値とを示すグラフである。
【図12】前記レーザ加工装置における距離データの実
測値と、その実測値を補正手段4を用いて移動平均を求
めたときの値とを示すグラフである。
【符号の説明】
5 ワーク 21 レーザ加工装置 22 レーザ発生装置 26 光学系 27 光学系 28 光学系 29 光学系 30 光学系 31x 位置移動装置 31y 位置移動装置 31z フォーカス位置可変装置

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワークに照射してレーザ加工するための
    レーザを発生させるレーザ発生装置と、 このレーザを前記ワークの加工点に結像させる光学系
    と、 前記ワーク上の前記レーザ加工を行う位置を移動する位
    置移動装置と、 前記位置移動装置および前記レーザ発生装置を制御する
    ことにより、前記位置を変えた複数の加工単位でそれぞ
    れ前記レーザ加工を行う加工制御手段と、 前記加工単位ごとに距離センサで前記加工点までの距離
    を測定する測定手段と、 前記レーザの前記加工点に対するフォーカス位置を変え
    るフォーカス位置可変装置と、 このフォーカス位置可変装置を制御して、前記測定後の
    各距離データに基づき前記加工単位ごとに前記フォーカ
    ス位置を調節するフォーカス位置調整手段と、前記複数
    の距離データに基づき当該各距離データの測定誤差を補
    正する補正手段と、を備えているレーザ加工装置。
  2. 【請求項2】 前記フォーカス位置可変装置は、前記ワ
    ークの位置を当該ワークに照射される前記レーザ光の光
    軸方向に移動することにより前記フォーカス位置を変え
    るものである請求項1に記載のレーザ加工装置。
  3. 【請求項3】 前記補正手段は、前記測定後の各距離デ
    ータの近似曲線を求めて当該近似曲線の値を前記各距離
    データとすることで前記補正を行うものである請求項1
    または2に記載のレーザ加工装置。
  4. 【請求項4】 前記補正手段は、前記測定後の各距離デ
    ータの移動平均値を求めて当該各移動平均値を前記各距
    離データとすることで前記補正を行うものである請求項
    1または2に記載のレーザ加工装置。
  5. 【請求項5】 前記補正手段は、前記測定後の各距離デ
    ータのうち予め設定されている数値範囲から外れたもの
    を除外し、その除外後の距離データを用いて前記補正を
    行うものである請求項1〜4のいずれかの一に記載のレ
    ーザ加工装置。
  6. 【請求項6】 ワーク上で加工を行う位置を移動するこ
    とで当該位置を変えた複数の加工単位で、それぞれレー
    ザをワークの加工点に結像してレーザ加工を行う加工工
    程と、この加工工程の前に前記加工単位ごとに距離セン
    サで前記加工点までの距離を測定する測定工程と、 前記加工工程でそれぞれ前記加工単位ごとに前記レーザ
    加工を行うごとに、前記測定後の各距離データに基づき
    前記レーザの前記加工点に対するフォーカス位置を調節
    するフォーカス位置調整工程と、 このフォーカス位置調整工程の前に前記複数の距離デー
    タに基づき当該各距離データの測定誤差を補正する補正
    工程と、を備えているレーザ加工方法。
  7. 【請求項7】 前記フォーカス位置調整工程は、前記ワ
    ークの位置を当該ワークに照射される前記レーザ光の光
    軸方向に移動することにより前記フォーカス位置を変え
    るものである請求項6に記載のレーザ加工方法。
  8. 【請求項8】 前記フォーカス位置調整工程は、前記測
    定後の各距離データの近似曲線を求めて当該近似曲線の
    値を前記各距離データとすることで前記補正を行うもの
    である請求項6または7に記載のレーザ加工方法。
  9. 【請求項9】 前記フォーカス位置調整工程は、前記測
    定後の各距離データの移動平均値を求めて当該各移動平
    均値を前記各距離データとすることで前記補正を行うも
    のである請求項6または7に記載のレーザ加工方法。
  10. 【請求項10】 前記補正工程は、前記測定後の各距離
    データのうち予め設定されている数値範囲から外れたも
    のを除外し、その除外後の距離データを用いて前記補正
    を行うものである請求項6〜9のいずれかの一に記載の
    レーザ加工方法。
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