JP2002094151A - Gas discharge laser provided with blade insulation electrode - Google Patents
Gas discharge laser provided with blade insulation electrodeInfo
- Publication number
- JP2002094151A JP2002094151A JP2001214506A JP2001214506A JP2002094151A JP 2002094151 A JP2002094151 A JP 2002094151A JP 2001214506 A JP2001214506 A JP 2001214506A JP 2001214506 A JP2001214506 A JP 2001214506A JP 2002094151 A JP2002094151 A JP 2002094151A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- electrode
- gas
- blade
- discharge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000009413 insulation Methods 0.000 title abstract 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims abstract description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 4
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 4
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 10
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 8
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 8
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 8
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 7
- 238000013461 design Methods 0.000 description 7
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 7
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001481166 Nautilus Species 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100031083 Uteroglobin Human genes 0.000 description 1
- 108090000203 Uteroglobin Proteins 0.000 description 1
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001330 spinodal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70025—Production of exposure light, i.e. light sources by lasers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70041—Production of exposure light, i.e. light sources by pulsed sources, e.g. multiplexing, pulse duration, interval control or intensity control
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70575—Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70933—Purge, e.g. exchanging fluid or gas to remove pollutants
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
- H01S3/0381—Anodes or particular adaptations thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
- H01S3/0385—Shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
- H01S3/0385—Shape
- H01S3/0387—Helical shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0979—Gas dynamic lasers, i.e. with expansion of the laser gas medium to supersonic flow speeds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/2207—Noble gas ions, e.g. Ar+>, Kr+>
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本出願は、2000年6月9
日に出願された米国特許出願シリアル番号第09/590,961
号の一部継続出願であり、その出願はリファレンスとし
てここに組み入れる。本発明は放電レーザに関し、特
に、長寿命電極を備えたチャンバを有する係るレーザに
関する。TECHNICAL FIELD The present application is filed on June 9, 2000.
U.S. Patent Application Serial No. 09 / 590,961
Is a continuation-in-part application of that issue, which application is hereby incorporated by reference. The present invention relates to discharge lasers, and more particularly to such lasers having chambers with long-lived electrodes.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来技術のKrFエキシマレーザチャン
バの主要なコンポーネントを図1に示す。このチャンバ
は、集積回路リソグラフィ用の光源として使用するレー
ザシステムの一部である。これらのコンポーネントは、
チャンバハウジングを含む。ハウジングは、各々約50
cmの長さで、約20mmだけ互いに離れた2つの電極
84及び83と、1000Hz又はそれ以上のレンジの
パルス繰り返し数であるパルスから次のパルスまでの間
に(2つの電極の間の放電領域から)デブリスをクリア
するのに十分高速な速度で電極の間のレーザガスを循環
させるためのブロワ4と、ファンによって及び、電極の
間の放電によってレーザガスに加えられた熱を除去する
ための水冷フィン付き熱交換器6とを包含する。チャン
バはまた、チャンバの空気力学構造を改善するためのベ
ーン及びバッフルを含む。レーザガスは、約0.1パー
セントのフッ素、約1.0パーセントのクリプトン、及
び残りはネオンからなる混合ガスからなる。各パルス
は、約30ナノ秒の電極ラスティングの間の放電によ
り、高さ約20mm、幅3mm、及び長さ700mmの
ゲイン領域を作り出すことができるパルス電源8によ
り、電極にわたって非常に高い電圧ポテンシャルを印加
させることにより作り出される。放電は、約2.5Jの
エネルギをゲイン領域に蓄積させる。図2に示したよう
に、レイジングは、リトロー配置に構成されたグレーテ
ィングと、3つのプリズム・ビームエキスパンダと、調
整ミラーとを備えた(不均衡に拡大した、線狭帯域化パ
ッケージ又はLNPとも呼ばれる)グレーティングベー
ス線狭帯域化ユニット2Bと出力カプラ2Aとによって
構成される共鳴キャビティに作り出される。この従来技
術のKrFリソグラフィレーザの出力パルスのエネルギ
は典型的には約10mJである。放電レーザの産業的な
用途はたくさんある。集積回路リソグラフィマシン用の
光源としては重要な用途である。かかるレーザ光源は、
約248nmの狭バンドパルス紫外光ビームを作り出す
上述の線狭帯域化KrFレーザである。これらのレーザ
は典型的には、約1000乃至4000Hzのパルス周
波数のパルス・バーストで作動する。各バーストは、例
えば、約80パルスのような多数のパルスからなり、あ
るバーストは、ダイ部分とダイ部分との間を照射するリ
ソグラフィ・マシン・シフトの間、第2の部分のダウン
タイムによって分離されるバーストを備え、ウェハの単
一のダイ部分を照射する。新しいウェハがロードされる
ときには、数秒の他のダウンタイムがある。それ故、製
造においては、例えば、2000HzでKrFエキシマ
レーザが約30パーセントの装荷率で稼働する。作動
は、1日24時間、1週間の7日、1年の52週間であ
る。30パーセント装荷率で24時間ぶっ通しで200
0Hzでのレーザ稼働は、15億パルス/月よりも多く
蓄積される。製品の破壊は、非常にコストが高くつく。
これらの理由のため、従来のリソグラフィ産業用のエキ
シマレーザは、メンテナンス・ダウンタイムが最小にな
るようなモジュラ構成である。2. Description of the Prior Art The major components of a prior art KrF excimer laser chamber are shown in FIG. This chamber is part of a laser system used as a light source for integrated circuit lithography. These components are
Includes chamber housing. The housings are approximately 50
two electrodes 84 and 83, approximately 20 mm apart from each other by approximately 20 mm, between the pulse with a pulse repetition rate in the range of 1000 Hz or more (from the discharge area between the two electrodes). A) a blower 4 for circulating the laser gas between the electrodes at a speed fast enough to clear the debris, and water cooling fins for removing heat added to the laser gas by the fan and by the discharge between the electrodes. Attached heat exchanger 6. The chamber also includes vanes and baffles to improve the aerodynamic structure of the chamber. The laser gas consists of a gas mixture consisting of about 0.1 percent fluorine, about 1.0 percent krypton, and the balance neon. Each pulse has a very high voltage potential across the electrodes by a pulsed power supply 8 that can create a gain region of about 20 mm high, 3 mm wide, and 700 mm long by discharging during electrode lasting of about 30 nanoseconds. Is created by applying. The discharge causes about 2.5 J of energy to be stored in the gain region. As shown in FIG. 2, the lasing comprises a grating configured in a Littrow configuration, three prism beam expanders, and an adjusting mirror (both disproportionately expanded, a line narrowing package or LNP). (Referred to as grating base line narrowing unit 2B) and an output coupler 2A. The energy of the output pulse of this prior art KrF lithography laser is typically about 10 mJ. There are many industrial uses for discharge lasers. This is an important application as a light source for integrated circuit lithography machines. Such a laser light source,
The line narrowing KrF laser described above that produces a narrow band pulsed ultraviolet light beam of about 248 nm. These lasers typically operate with pulse bursts at a pulse frequency of about 1000-4000 Hz. Each burst consists of a number of pulses, for example, about 80 pulses, and some bursts are separated by a second part downtime during a lithography machine shift that illuminates between die parts. Irradiates a single die portion of the wafer. When a new wafer is loaded, there is another downtime of a few seconds. Thus, in manufacturing, for example, a KrF excimer laser at 2000 Hz operates at a loading of about 30 percent. Operation is 24 hours a day, 7 days a week, 52 weeks a year. 200 for 24 hours at 30% loading rate
Laser operation at 0 Hz accumulates more than 1.5 billion pulses / month. Product destruction is very costly.
For these reasons, conventional excimer lasers for the lithography industry have a modular configuration that minimizes maintenance downtime.
【0003】これらのレーザによって作り出されたレー
ザビームの高品質を維持することは、非常に重要であ
る、なぜならば、これらのレーザ光源が使用されるリソ
グラフィシステムは、0.25ミクロンよりも小さく、
年々小さくなる寸法の集積回路を作り出すために現在要
求されているからである。レーザビームの仕様は、個々
のパルスエネルギの変化と、一連のパルスの積分エネル
ギの変化と、レーザビームのバンド幅の大きさとレーザ
波長の変化とを制限する。[0003] Maintaining the high quality of the laser beams produced by these lasers is very important because the lithographic systems in which these laser light sources are used are smaller than 0.25 microns.
This is because there is a current need to create integrated circuits of ever smaller dimensions. Laser beam specifications limit changes in individual pulse energies, changes in the integrated energy of a series of pulses, and changes in laser beam bandwidth size and laser wavelength.
【0004】図1に示したような放電レーザの典型的な
作動により、電極は腐食する。これらの電極の腐食は、
放電の形状に影響し、順に、出力ビームの品質並びにレ
ーザ効率に影響する。電極設計は、放電と同じ幅を備え
た突起部を電極に設けることにより腐食の影響を最小に
するように提案されてきた。同じ例は、日本国特許第26
31607号に記載されている。しかしながらこれらの設計
は、ガスフローに対して逆の影響を及ぼす。これらのガ
ス放電レーザでは、次のパルスの前に放電領域の外に各
パルスの全ての影響をはき出すことが実際上、非常に重
要である。[0004] The typical operation of a discharge laser as shown in FIG. 1 causes the electrodes to corrode. The corrosion of these electrodes is
Affects the shape of the discharge, which in turn affects the quality of the output beam as well as the laser efficiency. Electrode designs have been proposed to minimize the effects of corrosion by providing the electrodes with protrusions having the same width as the discharge. The same example is described in Japanese Patent No. 26
No. 31607. However, these designs have an adverse effect on gas flow. In these gas discharge lasers, it is practically very important to get all the effects of each pulse out of the discharge area before the next pulse.
【0005】ガスフローに対して逆の影響を与えず、レ
ーザビーム品質に対して逆の影響を与えずに数十億のパ
ルスに耐えうる腐食電極を備えたガス放電が必要であ
る。[0005] There is a need for a gas discharge with a corroding electrode that can withstand billions of pulses without adversely affecting gas flow and without adversely affecting laser beam quality.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、2つの細長い
腐食性電極エレメントを備えたレーザチャンバを有する
ガス放電レーザを提供し、前記電極エレメントの少なく
とも1つが、なまくらのブレード形状部分の2つの側の
各々に位置決めされたフローシェーピング絶縁フェアリ
ングを備えた高い電気伝導度の材料からなる全体的にな
まくらのブレード形状を有する。パルスパワーシステム
は、少なくとも1KHzの周波数で電気パルスを作り出
す。ブロワーは、少なくとも10m/sの速度で電極の
間のレーザガスを循環させ、熱交換器は、ブロワ及び放
電によって生成された熱を除去するのに設けられる。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a gas discharge laser having a laser chamber with two elongated corrosive electrode elements, wherein at least one of the electrode elements has two of a blunt blade-shaped portion. It has an overall pillow blade shape of high conductivity material with flow shaping insulating fairings positioned on each side. Pulse power systems produce electrical pulses at a frequency of at least 1 KHz. A blower circulates the laser gas between the electrodes at a speed of at least 10 m / s, and a heat exchanger is provided to remove heat generated by the blower and the discharge.
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】パルス電源システム ガス放電レーザの放電をさせるためにパルスパワーを提
供するための電気回路8の主なコンポーネントを図3に
示す。パルスパワーシステムは、標準208ボルト、3
相電源から作動する。整流器22,インバータ24、ト
ランス26及び整流器30を使用する電源は、レーザ制
御プロセッサ(図示せず)によって指示された約500
乃至1200ボルトの間の電圧レベルに8.1マイクロ
ファラッド・チャージ・キャパシタC042を充電す
る。C0のエネルギをパルスパワーシステムの後から続
く部分に放電することができるパルスが望まれたとき、
レーザ制御プロセッサは、IGBTスイッチ46を閉じ
ることを指示する。C0のチャージは、インダクタ48
を介してキャパシタバンクC152に連続的に伝送さ
れ、次いで、過飽和インダクタ54及び電圧トランス5
6を介してキャパシタバンクCp-162に、次いで、過
飽和インダクタ64を介してピーク・キャパシタ・バン
クCp82に伝送される。図3に示したように、ピーク
・キャパシタ・バンクCpは、電極84及び83と並列
に電気的に接続される。FIG. 3 shows the main components of an electrical circuit 8 for providing pulsed power to discharge a gas discharge laser. The pulse power system is standard 208 volts, 3
Operates from phase power. The power supply using rectifier 22, inverter 24, transformer 26 and rectifier 30 has a power of about 500
Charges 8.1 microfarad charge capacitor C 0 42 to a voltage level between 乃至 1200 volts. When a pulse is desired that can discharge the energy of C 0 into the subsequent portion of the pulse power system,
The laser control processor indicates that the IGBT switch 46 is to be closed. C 0 is charged by the inductor 48
Through the capacitor bank C 1 52, and then the saturable inductor 54 and the voltage transformer 5
6 to capacitor bank C p-1 62, and then through saturable inductor 64 to peak capacitor bank C p 82. As shown in FIG. 3, the peak capacitor bank C p is connected electrically in parallel with electrodes 84 and 83.
【0008】図4Aは、スイッチ42を閉じてから、9
マイクロ秒までの間の時間の関数としてのキャパシタ・
バンクC0,C1,Cp-1及びCpのポテンシャルを示す。
図4Bは、放電の直前及び直後の800nsを切り出し
たものを示す。読者は、ピーク・キャパシタ・バンクC
pは、放電の直前におおよそ-15,000Vまでチャージされ
ることに注意すべきである。放電は約30ns続く。放
電中、電子フローは、最初に上の電極・カソード84か
ら、下の接地された電極・アノード83に流れる。図4
Bに全て示したように、電流の「オーバーシュート」
は、最後のおおよそ15nsの放電の間、電子フローが
下の接地された電極から上の電極に流れた後、電子の下
方向へのフローが反対になるときに、約+6000Vの
正の値にC pをチャージする。FIG. 4A shows that after the switch 42 is closed,
Capacitor as a function of time up to microsecond
Bank C0, C1, Cp-1And CpShows the potential of
FIG. 4B cuts out 800 ns immediately before and immediately after discharge.
Are shown. The reader, Peak Capacitor Bank C
pIs charged to approximately -15,000V just before discharging
It should be noted that The discharge lasts about 30 ns. Release
During the electricity flow, the electron flow first goes to the upper electrode / cathode 84
Flows to the grounded electrode / anode 83 below. FIG.
As all shown in B, the current "overshoot"
Indicates that during the last approximately 15 ns discharge, the electron flow
After flowing from the lower grounded electrode to the upper electrode,
When the flow in the direction is reversed, about + 6000V
Positive value C pCharge.
【0009】腐食 出願人は、電極の腐食は両方の電極で生じるけれども、
接地された電極(アノード83)の腐食速度は、高電圧
電極(カソード84)の約4倍であることを発見した。
また、標準の作動により、アノードの一部に非常になだ
らかにビルドアップされるフッ化金属の絶縁層が生じ
る。電極の寿命の終わり付近の場合では、層によって被
覆された放電表面の部分が、50%と80%以上の間に
もなる。フッ化層によって被覆された領域では、放電電
流は、典型的には約50乃至100ミクロンの直径のほ
ぼ円の断面を備えた小さなホールを介して流れる。フッ
化層によって被覆された表面は、更なる腐食を実質的に
は被らないが、被覆されていない表面が減少するので、
腐食レートは被覆されていない放電表面で増加する。
(これらは、小さなホールの位置で被覆された表面の腐
食に現れる。)電極の腐食及び従来技術のフッ素ビルド
アップは典型的には、約50億乃至100億パルスでシ
ビアであり、レーザビームがもはや仕様の品質を満たさ
ない。Applicants have noted that while electrode corrosion occurs on both electrodes,
The corrosion rate of the grounded electrode (anode 83) was found to be about four times that of the high voltage electrode (cathode 84).
Also, standard operation results in a metal fluoride insulating layer that builds up very slowly on a portion of the anode. Near the end of the life of the electrode, the portion of the discharge surface covered by the layer can be between 50% and even more than 80%. In the area covered by the fluoride layer, the discharge current flows through small holes with a generally circular cross section of typically about 50-100 microns in diameter. The surface covered by the fluorinated layer does not substantially suffer from further corrosion, but the uncoated surface is reduced,
Corrosion rates increase on uncoated discharge surfaces.
(These are manifested in corrosion of the coated surface at the location of the small holes.) Electrode erosion and prior art fluorine build-up are typically severe at about 5-10 billion pulses and the laser beam is severe. No longer meets the quality of the specification.
【0010】この時点で、一般的にレーザチャンバは、
新規電極を有するチャンバと交換される。交換チャンバ
は、数千ドルかかり、交換するには集積回路生産を一時
的に停止することが必要である。At this point, generally the laser chamber
Replace with a chamber with new electrodes. Replacement chambers can cost thousands of dollars and require a temporary stoppage of integrated circuit production to replace.
【0011】集積回路リソグラフィ用に使用される多く
の電気放電レーザは、電極材料としてC36000ブラ
ス(銅61.5%、亜鉛35.5%、鉛3%)のような
黄銅を利用する。更に良い電極材料の発見のために多く
の他の材料が試験されてきたものの、本出願人の知る限
り、レーザ製造及び運転を含む全ての費用を考慮に入れ
る場合、黄銅に優ると証明されたものは何もない。しか
し、本出願人による最近の試験では、グリッドコップ
(登録商標)の下で販売され、米国ノースカロライナ州
リサーチ・トライアングル・パーク所在のオー・エム・
ジー・アメリカズ(OMG Americas)から入
手可能なミクロン以下のAl2O3塊を含有する高強度の
銅材料が、良好な電極材料である。出願人によるより最
近のテストでは、銅、アルミニウム及び鉄、又は、銅、
亜鉛及び鉄の合金、及び、微量の亜鉛及びリンを含む鉄
及び銅の合金が、改善された性能を提供することを示
す。これらのテストはまた、機械加工した後に電極材料
をアニーリングすることがまた性能を改善することを示
す。良好な合金は、アノード及びカソードの両方に関し
てはC95400(銅85%、アルミニウム11%、鉄
4%)、及び、カソードに関してはC19400(9
7.5%Cu、2.35%Fe、12%Zn、及び0.
03%Ph)にみられる。出願人の一人は、スピノーダ
ル銅合金として知られる銅合金が、フッ素環境における
電極材料として非常に適していることを発見した。多く
の素晴らしい電極材料が、これらのチャンバ内の激しい
フッ素反応に適していない。Many electric discharge lasers used for integrated circuit lithography utilize brass such as C36000 brass (61.5% copper, 35.5% zinc, 3% lead) as the electrode material. Many other materials have been tested for the discovery of better electrode materials, but, to the applicant's knowledge, have proven to be superior to brass when considering all costs, including laser fabrication and operation. There is nothing. However, in a recent study by the applicant, O.M., sold under Gridcop® and located at Research Triangle Park, North Carolina, USA
A high strength copper material containing sub-micron Al 2 O 3 lumps available from OMG Americas is a good electrode material. More recent tests by applicant have shown that copper, aluminum and iron, or copper,
It is shown that zinc and iron alloys and iron and copper alloys with trace amounts of zinc and phosphorus provide improved performance. These tests also show that annealing the electrode material after machining also improves performance. Good alloys are C95400 (85% copper, 11% aluminum, 4% iron) for both the anode and cathode, and C19400 (9% for the cathode).
7.5% Cu, 2.35% Fe, 12% Zn, and 0.1% Cu.
03% Ph). One of the applicants has discovered that a copper alloy known as a spinodal copper alloy is very suitable as an electrode material in a fluorine environment. Many excellent electrode materials are not suitable for violent fluorine reactions in these chambers.
【0012】スパッタリングされた金属イオン−放電の
重要部分 良好なレーザ活性媒体を作りだすには、均一な放電プラ
ズマが電極間に作り出される必要がある。最初に電極間
の空隙におけるガスは、図1に示す予備電離装置12に
よって予備電離される。電極上の電圧が上昇するにつ
れ、陰極に近い領域におけるプラズマのかなりの部分
は、電極材料のイオンスパッタリングによって生み出さ
れる。電極からスパッタリングされた金属原子は、ほと
んどが蒸気の状態であって、金属原子のかなりの部分は
イオン化されており、陰極の表面にすぐ隣接して正イオ
ン陰極「降下」領域を形成するのを助け、陰極からの電
子の流れに寄与し得る、また陰極を離れる電子を加速す
る極めて大きな電界を作り出す。この処理は、各パルス
の最初の部分の間、陰極84に対して最初に施される。
しかし、図4Bに示すように、パルスを通してほぼ中央
で電極の極性が逆転するので、この影響は、その時点で
陰極(すなわち、負の電極)として機能している陽極8
3でも発生する。急速に変化する電界の条件に応じて、
パルスの間及び後の両方において、金属イオンは電極に
引き付けられて戻り得るが、追い出された電極材料のい
くらかがガス流境界層を超えて運ばれるために、その多
くは、循環するレーザガスによって吹き飛ばされる。本
出願人は、陽極における浸食損失を10億パルス当たり
約3グラム、すなわち、1パルス当たり約2.8×10
13原子に相当する1パルス当たり約3×10-9グラムで
あると推定する。陽極上に約1500平方ミリメートル
の放電面があるので、損失は、約1.2×1010原子/
平方ミリメートル/パルスである。黄銅電極の各原子層
は、1平方ミリメートル当たり約3×1013の原子を含
有するので、約2、250パルス(2、000ヘルツの
パルス繰返数で1秒を少し超える)で電極から1つの原
子層が失われる。100億パルスの後では約440万の
原子層が失われ、電極の放電面の垂直位置における約
0.5ミリメートルの減少に相当する。図1に示すタイ
プの従来技術の電極において、この減少は、特に陽極で
ある電極表面上の放電領域の拡大、放電の拡大、転位、
又は、分割、及び、陽極放電面の各部分でのフッ化物層
の蓄積を伴う。このことは、通常、レーザによって生み
出されるレーザビームの品質に対して実質的に悪影響で
ある。Sputtered metal ions-discharge
In order to produce a critically good laser active medium, a uniform discharge plasma needs to be created between the electrodes. First, the gas in the gap between the electrodes is pre-ionized by the pre-ionization device 12 shown in FIG. As the voltage on the electrode increases, a significant portion of the plasma in the region near the cathode is created by ion sputtering of the electrode material. Metal atoms sputtered from the electrode are mostly in the vapor state, with a significant portion of the metal atoms being ionized, forming a positive ion cathode `` falling '' region immediately adjacent to the surface of the cathode. It creates a very large electric field that can help and contribute to the flow of electrons from the cathode and accelerate the electrons leaving the cathode. This process is first applied to cathode 84 during the first portion of each pulse.
However, as shown in FIG. 4B, since the polarity of the electrode is reversed approximately at the center through the pulse, this effect is due to the anode 8 now functioning as the cathode (ie, negative electrode).
3 also occurs. Depending on the conditions of the rapidly changing electric field,
Both during and after the pulse, metal ions can be attracted back to the electrode, but many are blown away by the circulating laser gas because some of the displaced electrode material is transported across the gas flow boundary layer. It is. Applicants have determined that the erosion loss at the anode is about 3 grams per billion pulses, or about 2.8 × 10
It is estimated to be about 3 × 10 -9 grams per pulse corresponding to 13 atoms. With a discharge surface of about 1500 square millimeters on the anode, the loss is about 1.2 × 10 10 atoms /
Square millimeter / pulse. Each atomic layer of the brass electrode contains about 3 × 10 13 atoms per square millimeter, so that about 2,250 pulses (slightly over 1 second at a pulse rate of 2,000 Hertz) leave the electrode at 1 mm. One atomic layer is lost. After 10 billion pulses, about 4.4 million atomic layers are lost, corresponding to a reduction of about 0.5 millimeters in the vertical position of the electrode discharge surface. In a prior art electrode of the type shown in FIG. 1, this reduction is due to the expansion of the discharge area, the expansion of the discharge, the dislocation,
Or, it involves division and accumulation of a fluoride layer at each part of the anode discharge surface. This usually has a substantial adverse effect on the quality of the laser beam produced by the laser.
【0013】問題点 フッ素含有レーザガスを使用する電気放電リソグラフィ
レーザのためのより良い電極を開発する上で対処すべき
以下の5つの重要な問題点がある。[0013] There are five important issues below should be addressed in the development of better electrode for electric discharge lithography laser used problems fluorine containing laser gas.
【0014】1)電極浸食は、ビーム品質に深刻な影響
を与える、 2)電極浸食は、現在のところレーザチャンバの寿命を
制限する、 3)陽極浸食は、陰極浸食の約4倍である、 4)陽極上のフッ化物層の蓄積は問題である、及び 5)良好なガス流条件を放電空隙に維持することは非常
に重要である。1) Electrode erosion has a severe effect on beam quality; 2) Electrode erosion currently limits the life of the laser chamber; 3) Anodic erosion is about four times cathodic erosion; 4) Accumulation of the fluoride layer on the anode is a problem, and 5) Maintaining good gas flow conditions in the discharge gap is very important.
【0015】本明細書に説明される本発明の様々な実施
形態は、これらの問題点に対処する。電極は、以下の基
準を満足させる。[0015] The various embodiments of the invention described herein address these issues. The electrodes satisfy the following criteria.
【0016】1)電極は、実質的にビーム品質に影響を
与えない浸食を伴って、数10億のレーザパルスに亘り
ゆっくり浸食する浸食表面を含む、 2)浸食表面は、放電領域のフッ化物絶縁の蓄積に抵抗
する、及び 3)電極は、放電領域又は放電領域にすぐ隣接するよど
み帯域におけるかなりの乱流なしで、1、000ヘルツ
から6、000ヘルツ又はそれ以上の繰返し率を可能に
する改良ガス流を供給するように設計される。1) The electrodes include an eroding surface that erodes slowly over billions of laser pulses, with erosion that does not substantially affect beam quality. 2) The eroding surface comprises fluoride in the discharge region. 3) The electrodes allow a repetition rate of 1,000 to 6,000 Hertz or more without significant turbulence in the discharge zone or in the stagnation zone immediately adjacent to the discharge zone. Designed to provide an improved gas flow.
【0017】アノード・アセンブリ 図5は、この出願の親出願であるシリアル番号09/590,9
61号に開示されたアノード・アセンブリの断面図を示
す。腐食性電極72A、及び絶縁フロースペーサ74A及
び76Aは、アノード支持バー80Aに取り付けられる。Anode Assembly FIG. 5 shows the serial number 09 / 590,9, the parent application of this application.
1 shows a cross-sectional view of the anode assembly disclosed in No. 61. Corrosive electrode 72A and insulating flow spacers 74A and 76A are attached to anode support bar 80A.
【0018】電極システムの記載 一般的な記載 図6は、出願人によってテストされ、作られた本発明の
実際の実施を示すレーザチャンバの断面図である。この
チャンバでは、図1を参照して記載した従来技術の電極
システムと比較して実質的に改善された寿命性能を提供
する新規な電極システムが設けられている。この電極シ
ステムでは、重要な新しい要素は、ブレード電極72か
らなるアノードアセンブリ70と、絶縁フェアリング7
4及び76と、(ベース80及び冷却フィン82を含
む)アノード支持バー78と、尖ったカソード84と、
電流リターンユニット86である。Description of the Electrode System General Description FIG. 6 is a cross-sectional view of a laser chamber that has been tested and made by Applicant and shows a practical implementation of the invention. In this chamber, a novel electrode system is provided that provides substantially improved life performance compared to the prior art electrode system described with reference to FIG. In this electrode system, important new elements are an anode assembly 70 consisting of a blade electrode 72 and an insulating fairing 7.
4 and 76; an anode support bar 78 (including base 80 and cooling fins 82); a sharpened cathode 84;
A current return unit 86.
【0019】鈍いブレード形状アノード この好ましい実施形態では、アノード72は図7A、7
B、7C及び7Dに記載される。アノードは、長さ2
6.4吋、高さ0.439吋である。底部では幅0.2
84吋であり、頂部では幅0.141吋である。図7A
は、断面図である。図7Bは、側面図であり、図7C
は、底面図である。図7Dは、電極の頂部の好ましい断
面形状を示す。断面形状は、再度が10度の勾配の円錐
台形状であり、図7Aに示すような楕円の頂部である。
断面形状はまた、鈍いブレードのものと同様である。ア
ノードの底部は、アノードをアノード支持バーに取り付
けるための、等しく間隔が隔てられたタップねじ穴72
Aが設けられている。Dull Blade Shaped Anode In this preferred embodiment, anode 72 is shown in FIGS.
B, 7C and 7D. Anode length 2
It is 6.4 inches and 0.439 inches high. 0.2 width at bottom
84 inches and 0.141 inches wide at the top. FIG. 7A
Is a sectional view. FIG. 7B is a side view, and FIG.
Is a bottom view. FIG. 7D shows a preferred cross-sectional shape of the top of the electrode. The cross-sectional shape is again a truncated cone with a 10 degree gradient and is the top of an ellipse as shown in FIG. 7A.
The cross-sectional shape is also similar to that of a dull blade. The bottom of the anode has equally spaced tapped screw holes 72 for attaching the anode to the anode support bar.
A is provided.
【0020】好ましくは、アノード材料は、フッ素環境
での電極の使用に適した銅ベースの合金である。好まし
い選択は、C36000、C95400又はC1940
0を含む。出願人のテストは、機械加工後のアニーリン
グは、実質的に性能を間然することを示す。他の好まし
いアノード材料は、米国オハイオ州のBay Villageにオ
フィスがあるAnchor Bronze and Metalsから入手可能な
合金Nicomet(登録商標)のようなスピノーダル銅合金
である。この材料は、約80パーセントの銅と、約7パ
ーセントの錫と、約12.5パーセントのニッケルを含
み、スピノーダル分解のような知られたプロセスを用い
て作られる。[0020] Preferably, the anode material is a copper-based alloy suitable for use of the electrode in a fluorine environment. Preferred choices are C36000, C95400 or C1940
Contains 0. Applicants' tests show that post-machining annealing is substantially inefficient. Another preferred anode material is a spinodal copper alloy, such as the alloy Nicomet®, available from Anchor Bronze and Metals with offices in Bay Village, Ohio. This material contains about 80 percent copper, about 7 percent tin, and about 12.5 percent nickel, and is made using known processes such as spinodal decomposition.
【0021】絶縁フェアリング フェアリングを、図8A,8B、8C及び8Dに示す。
図に示したように各フェアリングは、長さ26.4イン
チ、その最も高い部分で高さ0.410インチ、全幅
0.5309吋である。図8Aは平面図であり、図8B
は側面図であり、図8Cは底面図である。図8Dは、図
8Bに示したような部分Aでの断面図を示す。フェアリ
ング74及び76は、アノード72の両端で、図8A及
び8Dに示したような穴を介してネジ88で適所にフィ
ットさせて保持される。ネジは、フェアリング74及び
76を介して緩くフィットさせ、アノード支持バー78
に固着される。このことにより、アノード支持バー78
に対してフェアリング74及び76の膨張及び縮小を許
容する。フェアリング74及び76、及びダウエルピン
88は、99.5パーセント以上の密度の高密度アルミ
ナのセラミックからなるのが好ましい。Insulating Fairings Fairings are shown in FIGS. 8A, 8B, 8C and 8D.
As shown, each fairing is 26.4 inches long, 0.410 inches tall at its highest point, and 0.5309 inches wide. FIG. 8A is a plan view and FIG.
Is a side view, and FIG. 8C is a bottom view. FIG. 8D shows a cross-sectional view at the portion A as shown in FIG. 8B. Fairings 74 and 76 are held in place at both ends of anode 72 by screws 88 through holes as shown in FIGS. 8A and 8D. The screw fits loosely via fairings 74 and 76 and the anode support bar 78
To be fixed. This allows the anode support bar 78
Allow the fairings 74 and 76 to expand and contract. The fairings 74 and 76 and the dowel pins 88 are preferably comprised of a high density alumina ceramic having a density of 99.5 percent or greater.
【0022】アノードサポートバー アノードサポートバー78を図9A、9B及び9Cに示
す。図9Aは平面図である。図9Bは底面図である。図
9Cは、アノードサポートバー78の斜視図である。ア
ノード78を付けるねじ用の穴を90に示し、ドエルピ
ンを並べるための穴を92に示す。図9A及び9Cは夫
々、アノードをアノードサポートバーに正確に位置決め
するためにドエルピン用の規則正しく間隔を隔てた3つ
の小さい許容(公差)穴を示す。対応する規則正しく間
隔を隔てたドエルピン穴はアノードの底部に設けられて
いるが、これらの穴は図7B及び図7Cに示していな
い。Anode Support Bar An anode support bar 78 is shown in FIGS. 9A, 9B and 9C. FIG. 9A is a plan view. FIG. 9B is a bottom view. FIG. 9C is a perspective view of the anode support bar 78. The holes for the screws for attaching the anode 78 are shown at 90 and the holes for aligning the dowel pins are shown at 92. 9A and 9C each show three regularly spaced small tolerance holes for dowel pins to accurately position the anode on the anode support bar. Corresponding regularly spaced dowel pin holes are provided at the bottom of the anode, but these holes are not shown in FIGS. 7B and 7C.
【0023】カソード カソード84を図10A、10B、10C、10D、1
0E及び10Fに示す。図10Aは平面図である。図1
0Bは、長手方向の横断面図である。図10Cは底面図
である。図10Dは、カソードの短い寸法の断面図であ
る。図10Eはカソードの各端の面形状を示す。図10
Fはアノードに面するカソードの点を示す。Cathode The cathode 84 is shown in FIGS. 10A, 10B, 10C, 10D, 1
Shown at 0E and 10F. FIG. 10A is a plan view. FIG.
0B is a cross-sectional view in the longitudinal direction. FIG. 10C is a bottom view. FIG. 10D is a cross-sectional view of the short dimension of the cathode. FIG. 10E shows the surface shape of each end of the cathode. FIG.
F indicates the point of the cathode facing the anode.
【0024】図1に示すように、このカソードデザイン
と従来技術のデザインとの間には2つの重要な違いがあ
る。第1に、カソードの短い断面形状は全体的に先のと
がった形状であり、説明的な名称、即ち「先のとがった
カソード」をカソードに与える。アノードに面するカソ
ードの面は、130度の角度で互いに近づく平らな面9
4である。実際の中間点の(0.116インチ)部分
は、図10Fに示すように長円形形状を有して丸みがつ
いてる。この実施形態では、図6の85に示すように主
絶縁体に対してカソードを保持し、且つカソードをレー
ザシステムの高圧パルス電力に対して電気的に接続する
ために15の等間隔のねじ穴がある。第2の違いは、図
10Eに示すように、長円形通路に沿った下方へのカソ
ードテーパの端セクションである。この形状は、丸みを
付けた端セクションを備えた従来技術の電極と比べて、
電界分配を本質的に改善する。As shown in FIG. 1, there are two important differences between this cathode design and the prior art design. First, the short cross-sectional shape of the cathode is generally pointed, giving the cathode a descriptive name, "a pointed cathode." The faces of the cathode facing the anode are flat faces 9 approaching each other at an angle of 130 degrees.
4. The actual midpoint (0.116 inch) has an oval shape and is rounded as shown in FIG. 10F. In this embodiment, fifteen equally spaced screw holes are provided to hold the cathode against the main insulator and electrically connect the cathode to the high voltage pulse power of the laser system, as shown at 85 in FIG. There is. The second difference is the end section of the cathode taper down along the oval path, as shown in FIG. 10E. This shape allows for a more compact configuration than prior art electrodes with rounded end sections.
It essentially improves the electric field distribution.
【0025】電流返還 電流リターン86の詳細を図11A、11B、11C及
び11Dに示す。図11Aは、電流リターンがどのよう
に(0.015インチ)の厚さのニッケル合金40(U
NS ND4400)から切断又はstampされるかを示
す。電流リターンは図11Bに示すように具体的な形に
形成される。リブ90は図11Cに示すように幅(0.
09インチ)及び厚さ(0.015インチ)であるの
で、(0.09インチ)寸法は流れ抵抗を最小にするた
めにガス流と平行である。図11Dは、上述の曲げを容
易にするためにどの様にリブが切断されているかを示す
電流リターンの一端の拡大図である。第2の電流リター
ンデザインを図12A〜Fに示す。このデザインは、図
12Aに示したような上述した同一の材料からレーザー
で切断される。図12Bは図12Aに示した図12Bセ
クションの拡大図である。図12C及び12Dは図12
Bに示したセクションの更なる拡大図である。図12E
は、リブが適切な形状に曲げられた後の電流リターンの
底面図である。図12Fは放電方向を見た側面図であ
る。Current Return The details of the current return 86 are shown in FIGS. 11A, 11B, 11C and 11D. FIG. 11A shows how the current return is (0.015 inch) thick nickel alloy 40 (U
NS ND4400). The current return is formed into a specific shape as shown in FIG. 11B. The rib 90 has a width (0 .0) as shown in FIG.
09 inches) and thickness (0.015 inches), the (0.09 inches) dimension is parallel to the gas flow to minimize flow resistance. FIG. 11D is an enlarged view of one end of the current return showing how the ribs have been cut to facilitate the bending described above. A second current return design is shown in FIGS. This design is laser cut from the same material described above as shown in FIG. 12A. FIG. 12B is an enlarged view of the section of FIG. 12B shown in FIG. 12A. 12C and 12D show FIG.
FIG. 4 is a further enlarged view of the section shown in FIG. FIG. 12E
FIG. 4 is a bottom view of the current return after the rib has been bent into an appropriate shape. FIG. 12F is a side view of the discharge direction.
【0026】他の刃の形状 多くの他の刃の形状が本発明の全体的な範囲内で可能で
ある。図13Aは鉛直方向の側を備えた刃のデザインを
示す。側は平らでも良く、あるいは側は図13Bに示す
ような、側が鉛直であるが約1.5cmの間隔で繰り返す
約0.3mmの振幅の周期的な変調をもたらすパターンを
含むことができる。図13Cに示したアノードは電極の
面で侵食を調節する高さ調節聞こうを含む。調節機構は
カム、ラック、及びピニオン、傾斜面又はレバーアーム
のような種々の機構のいずれであっても良い。周期的な
メンテナンス・ダウンタイムに調節がなされる場合に手
動で調整がなされるか、又は、調整が自動でなされる。
調整機構は、調整が実時間に基づいてなされる場合に
は、圧電ドライバを組み入れることによって非常に高速
になされ、レーザを調整するために使用される。Other Blade Shapes Many other blade shapes are possible within the general scope of the present invention. FIG. 13A shows a blade design with a vertical side. The sides may be flat, or the sides may include a pattern, as shown in FIG. 13B, that provides a periodic modulation of about 0.3 mm amplitude with the sides being vertical but repeating at about 1.5 cm intervals. The anode shown in FIG. 13C includes a height adjustment to control erosion at the surface of the electrode. The adjustment mechanism may be any of a variety of mechanisms such as cams, racks, and pinions, ramps or lever arms. Adjustments are made manually when adjustments are made during periodic maintenance downtime, or the adjustments are made automatically.
The adjustment mechanism is made very fast by incorporating a piezo driver if the adjustment is made on a real time basis and is used to adjust the laser.
【0027】本発明を好ましい実施形態に関して記載し
てきたけれども、読者は、本発明の精神から逸脱するこ
となく多くの変更及び修正をすることができることを理
解し、認識すべきである。例えば、下流フェアリング
は、ガス圧力を回復させ、放電領域の下流で実質的に乱
れを排除するために徐々に広くなった拡散領域を構成す
るように形成することができ得る。好ましくは、拡散領
域は約7乃至15度のレートで拡大する。フェアリング
は、フッ化金属全津演奏で被覆されるか、作られるのが
好ましい。アノードは、その水平位置が、アノード表面
で腐食に適合し、又は、レーザ出力を微調整するため
に、アノード支持バーに対して調整されうるように構成
されうる。本発明の原理は、例えば、ArFレーザ、F
2レーザのようなKrFレーザ以外の他の多くのガス放
電レーザに適用することができる。それ故、本発明の範
囲は、特許請求の範囲とその均等の範囲によって決定さ
れるべきである。While the present invention has been described in terms of a preferred embodiment, it is to be understood and understood by the reader that many changes and modifications can be made without departing from the spirit of the invention. For example, a downstream fairing may be formed to provide a gradually widened diffusion region to restore gas pressure and substantially eliminate turbulence downstream of the discharge region. Preferably, the diffusion region expands at a rate of about 7 to 15 degrees. The fairing is preferably coated or made of metal fluoride performance. The anode may be configured such that its horizontal position can be adjusted with respect to the anode support bar to accommodate corrosion at the anode surface or to fine tune the laser output. The principle of the present invention is, for example, an ArF laser, F
It can be applied to many other gas discharge lasers other than the KrF laser such as the two lasers. Therefore, the scope of the invention should be determined by the appended claims and their equivalents.
【図1】従来技術のガス放電レーザのチャンバの断面図
を示す。FIG. 1 shows a sectional view of a chamber of a prior art gas discharge laser.
【図2】従来技術のレーザの他の特徴を示す。FIG. 2 illustrates another feature of a prior art laser.
【図3】従来技術のガス放電レーザのパルスパワーシス
テムの主な特徴と示す。FIG. 3 shows the main features of a prior art gas discharge laser pulse power system.
【図4A】図3のパルスパワーシステムでの電気的なパ
ルス形状を示す。FIG. 4A shows an electrical pulse shape in the pulse power system of FIG.
【図4B】図3のパルスパワーシステムでの電気的なパ
ルス形状を示す。FIG. 4B shows an electrical pulse shape in the pulse power system of FIG.
【図5】米国特許出願シリアル番号09/590,961号に記載
されたアノード・アセンブリの特徴を示す。FIG. 5 illustrates features of the anode assembly described in US patent application Ser. No. 09 / 590,961.
【図6】本発明の好ましい実施形態を示すレーザチャン
バの断面図である。FIG. 6 is a sectional view of a laser chamber showing a preferred embodiment of the present invention.
【図7A】好ましいブラント・ブレード形状のアノード
を示す。FIG. 7A illustrates a preferred blunt blade shaped anode.
【図7B】好ましいブラント・ブレード形状のアノード
を示す。FIG. 7B illustrates a preferred blunt blade shaped anode.
【図7C】好ましいブラント・ブレード形状のアノード
を示す。FIG. 7C illustrates a preferred blunt blade shaped anode.
【図7D】好ましいブラント・ブレード形状のアノード
を示す。FIG. 7D illustrates a preferred blunt blade shaped anode.
【図8A】好ましい誘電フェアリングを示す。FIG. 8A illustrates a preferred dielectric fairing.
【図8B】好ましい誘電フェアリングを示す。FIG. 8B illustrates a preferred dielectric fairing.
【図8C】好ましい誘電フェアリングを示す。FIG. 8C illustrates a preferred dielectric fairing.
【図8D】好ましい誘電フェアリングを示す。FIG. 8D illustrates a preferred dielectric fairing.
【図9A】好ましいアノード支持バーを示す。FIG. 9A shows a preferred anode support bar.
【図9B】好ましいアノード支持バーを示す。FIG. 9B shows a preferred anode support bar.
【図9C】好ましいアノード支持バーを示す。FIG. 9C illustrates a preferred anode support bar.
【図10A】好ましいカソードを示す。FIG. 10A shows a preferred cathode.
【図10B】好ましいカソードを示す。FIG. 10B shows a preferred cathode.
【図10C】好ましいカソードを示す。FIG. 10C shows a preferred cathode.
【図10D】好ましいカソードを示す。FIG. 10D shows a preferred cathode.
【図10E】好ましいカソードを示す。FIG. 10E shows a preferred cathode.
【図10F】好ましいカソードを示す。FIG. 10F shows a preferred cathode.
【図11A】第1の好ましい電流リターンを示す。FIG. 11A shows a first preferred current return.
【図11B】第1の好ましい電流リターンを示す。FIG. 11B shows a first preferred current return.
【図11C】第1の好ましい電流リターンを示す。FIG. 11C shows a first preferred current return.
【図11D】第1の好ましい電流リターンを示す。FIG. 11D shows a first preferred current return.
【図12A】第2の好ましい電流リターンを示す。FIG. 12A shows a second preferred current return.
【図12B】第2の好ましい電流リターンを示す。FIG. 12B shows a second preferred current return.
【図12C】第2の好ましい電流リターンを示す。FIG. 12C shows a second preferred current return.
【図12D】第2の好ましい電流リターンを示す。FIG. 12D shows a second preferred current return.
【図12E】第2の好ましい電流リターンを示す。FIG. 12E shows a second preferred current return.
【図12F】第2の好ましい電流リターンを示す。FIG. 12F shows a second preferred current return.
【図13A】追加のブレード電極を示す。FIG. 13A shows an additional blade electrode.
【図13B】追加のブレード電極を示す。FIG. 13B shows an additional blade electrode.
【図13C】追加のブレード電極を示す。FIG. 13C illustrates an additional blade electrode.
フロントページの続き (72)発明者 マイケル シー ケイツ アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92029 エスコンディド アヴェニダ シ エラ 3359 (72)発明者 リチャード ジー モートン アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92127 サン ディエゴ アグアミール 17786 (72)発明者 ジーン−マーク ヒューバー アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92037 ラジョラ ノーティラス ストリ ート 347 (72)発明者 ロス エイチ ウィニック アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92129 サン ディエゴ ドナッカー ス トリート 8918 Fターム(参考) 5F071 AA06 CC01 CC03 CC10 EE04 GG05 HH07 JJ05 JJ08 Continued on the front page (72) Inventor Michael Sea Cates United States of America 92029 Escondido Avenida Sierra 3359 (72) Inventor Richard G. Morton United States of America 92127 San Diego Aguamir 17786 (72) Inventor Gene-Mark Huber United States of America California 92037 La Jolla Nautilus Street 347 (72) Inventor Los Angeles Winnick 92129, California, USA San Diego Donacker Street 8918 F-term (reference) 5F071 AA06 CC01 CC03 CC10 EE04 GG05 HH07 JJ05 JJ08
Claims (17)
と、 B)前記レーザチャンバ内に配置された2つの細長い腐
食性電極エレメントと、を有し、これらの電極エレメン
トのうちの少なくとも1つは、高い電気伝導性の材料か
らなるなまくらのブレード形状部分を備え、第1のフロ
ーシェーピング絶縁フェアリングが、前記ブレード形状
の部分の第1の側に位置決めされ、第2のフローシェー
ピング絶縁フェアリングが、前記ブレード形状の部分の
第2の側に位置決めされ、 C)放電を作り出すために1000Hzを越える周波数
で前記電極に電気パルスを提供するように構成されたパ
ルスパワーシステムと、を有し、各放電は、領域と放電
形状を構成し、 D)毎秒5mを越える速度で2つの電極の間で前記レー
ザガスを循環させるためのブロワーシステムと、 E)前記ブロワーシステム及び前記放電によって生成さ
れた前記レーザガスから熱を除去するために十分な容量
を備えた熱交換器と、 F)電極が新しくなったとき、又は、電極がその寿命の
形状にまで腐食されたときのいずれかで、前記ガスにお
いて著しい乱れを作ることなく前記腐食性電極を通して
ガスフローを案内するためのガスフロー案内手段と、を
有することを特徴とするガス放電レーザ。1. A laser chamber containing a laser gas; and B) two elongated corrosive electrode elements disposed in the laser chamber, at least one of the electrode elements comprising: A pillow blade-shaped portion made of a highly electrically conductive material, a first flow-shaping insulating fairing positioned on a first side of the blade-shaped portion, and a second flow-shaping insulating fairing, C) a pulse power system positioned on a second side of said blade-shaped portion and configured to provide an electrical pulse to said electrode at a frequency greater than 1000 Hz to create a discharge. D) to circulate said laser gas between two electrodes at a speed exceeding 5 m / s B) a blower system; E) a heat exchanger with sufficient capacity to remove heat from the blower system and the laser gas generated by the discharge; and F) when the electrodes are new or Gas flow guiding means for guiding a gas flow through the corrosive electrode without creating significant turbulence in the gas, either when corroded to a lifetime shape. laser.
圧力を回復させ、前記放電領域の下流で実質的なフロー
乱れを排除させるように徐々に拡大した拡散領域を少な
くとも部分的に構成するフローシェーパとアノードとし
て機能するように構成されたことを特徴とする請求項1
に記載のレーザ。2. A flow wherein one of said electrode elements at least partially constitutes a diffusion region that is gradually enlarged to restore gas pressure and eliminate substantial flow turbulence downstream of said discharge region. 2. The apparatus according to claim 1, wherein the apparatus is configured to function as a shaper and an anode.
A laser according to claim 1.
15度の角度の円錐を構成することを特徴とする請求項
2に記載のレーザ。3. The laser of claim 2, wherein said gradually expanding diffusion region comprises a cone with an angle of about 7 to 15 degrees.
構成されたことを特徴とする請求項1に記載のレーザ。4. The laser according to claim 1, wherein said insulating fairing is made of metal fluoride.
成されたことを特徴とする請求項1に記載のレーザ。5. The laser according to claim 1, wherein said insulating fairing is made of alumina.
構成されたことを特徴とする請求項1に記載のレーザ。6. The laser according to claim 1, wherein said insulating fairing is made of metal fluoride.
部分の少なくとも一つが、前記電極支持に対して調整可
能に位置決めされたことを特徴とする請求項1に記載の
レーザ。7. The laser according to claim 1, wherein at least one of the corrosive portions of the corrosive electrode element is adjustably positioned with respect to the electrode support.
金から構成されたことを特徴とする請求項1に記載のレ
ーザ。8. The laser according to claim 1, wherein said pillow blade-shaped portion is made of a copper alloy.
を含むことを特徴とする請求項8に記載のレーザ。9. The laser according to claim 8, wherein said copper alloy includes copper, aluminum, and iron.
銅と、2.35パーセントの鉄度、0.12パーセント
の亜鉛とからなることを特徴とする請求項8に記載のレ
ーザ。10. The laser of claim 8, wherein said copper alloy comprises about 97.5 percent copper, 2.35 percent iron, and 0.12 percent zinc.
と、11パーセントのアルミニウムと、4パーセントの
鉄とからなることを特徴とする請求項8に記載のレー
ザ。11. The laser of claim 8, wherein said copper alloy comprises about 85 percent copper, 11 percent aluminum, and 4 percent iron.
械加工プロセスによって形成され、機械加工後にアニー
ルされたことを特徴とする請求項8に記載のレーザ。12. The laser of claim 8, wherein the pillow blade-shaped portion is formed by a machining process and annealed after machining.
ことを特徴とする請求項8に記載のレーザ。13. The laser according to claim 8, wherein said copper alloy is a spinodal copper alloy.
体的に尖った形状の断面を有するカソードであることを
特徴とする請求項1に記載のレーザ。14. The laser of claim 1, wherein one of said electrode elements is a cathode having a generally pointed cross section.
いに近づく2つの表面を有することを特徴とする請求項
14に記載のレーザ。15. The laser of claim 14, wherein said cathode has two surfaces approaching each other at an angle of about 130 degrees.
部分に沿って均一な電界を作り出すように傾斜した2つ
のテーパ形状縁部分を有するカソードであることを特徴
とする請求項1に記載のレーザ。16. The invention of claim 1 wherein one of said electrode elements is a cathode having two tapered edges sloped to create a uniform electric field along the edges. laser.
の部分を近づけるパスに沿ってテーパ形状にされたこと
を特徴とする請求項16に記載のレーザ。17. The laser of claim 16, wherein each of said tapered edges is tapered along a path that approximates an elliptical portion.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/590,961 US6466602B1 (en) | 2000-06-09 | 2000-06-09 | Gas discharge laser long life electrodes |
US09/590961 | 2001-01-23 | ||
US09/768,753 US6414979B2 (en) | 2000-06-09 | 2001-01-23 | Gas discharge laser with blade-dielectric electrode |
US09/768753 | 2001-01-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002094151A true JP2002094151A (en) | 2002-03-29 |
Family
ID=27081006
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001214506A Pending JP2002094151A (en) | 2000-06-09 | 2001-06-11 | Gas discharge laser provided with blade insulation electrode |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1287592A4 (en) |
JP (1) | JP2002094151A (en) |
AU (1) | AU2001261037A1 (en) |
TW (1) | TWI222250B (en) |
WO (1) | WO2001097343A1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6810061B2 (en) | 2001-08-27 | 2004-10-26 | Komatsu Ltd. | Discharge electrode and discharge electrode manufacturing method |
JP2022553502A (en) * | 2019-10-11 | 2022-12-23 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | Conductive material for discharge laser |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9246298B2 (en) * | 2012-06-07 | 2016-01-26 | Cymer, Llc | Corrosion resistant electrodes for laser chambers |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54154988A (en) * | 1978-05-29 | 1979-12-06 | Mitsubishi Electric Corp | Silent discharge type gas laser device |
US4251781A (en) * | 1979-01-22 | 1981-02-17 | Hughes Aircraft Company | Electric discharge-excited flowing gas laser with discharge confinement shield |
US4481634A (en) * | 1983-04-28 | 1984-11-06 | The Regents Of The University Of California | RF Excited metal waveguide laser |
US4723255A (en) * | 1985-05-20 | 1988-02-02 | Northrop Corporation | Extended lifetime railgap switch |
US4833686A (en) * | 1987-06-29 | 1989-05-23 | Hughes Aircraft Company | Electrodes for transversely excited gas lasers |
JPH0716045B2 (en) * | 1988-12-12 | 1995-02-22 | 工業技術院長 | Corona preionizer |
JPH0629592A (en) * | 1991-06-10 | 1994-02-04 | Komatsu Ltd | Discharge-pumped laser |
US5557629A (en) * | 1992-08-28 | 1996-09-17 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Laser device having an electrode with auxiliary conductor members |
DE4401892C2 (en) * | 1994-01-24 | 1999-06-02 | Lambda Physik Forschung | Electrode for a gas discharge laser and method for forming an electrode for a gas discharge laser |
JP3874123B2 (en) * | 1996-03-07 | 2007-01-31 | キヤノン株式会社 | Discharge electrode, excimer laser oscillation device and stepper |
US6330261B1 (en) * | 1997-07-18 | 2001-12-11 | Cymer, Inc. | Reliable, modular, production quality narrow-band high rep rate ArF excimer laser |
-
2001
- 2001-04-20 AU AU2001261037A patent/AU2001261037A1/en not_active Abandoned
- 2001-04-20 EP EP01934890A patent/EP1287592A4/en not_active Withdrawn
- 2001-04-20 WO PCT/US2001/012815 patent/WO2001097343A1/en active Application Filing
- 2001-06-08 TW TW90113992A patent/TWI222250B/en not_active IP Right Cessation
- 2001-06-11 JP JP2001214506A patent/JP2002094151A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6810061B2 (en) | 2001-08-27 | 2004-10-26 | Komatsu Ltd. | Discharge electrode and discharge electrode manufacturing method |
JP2022553502A (en) * | 2019-10-11 | 2022-12-23 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | Conductive material for discharge laser |
JP7381728B2 (en) | 2019-10-11 | 2023-11-15 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | Conductive material for discharge laser |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2001097343A1 (en) | 2001-12-20 |
EP1287592A4 (en) | 2005-11-09 |
AU2001261037A1 (en) | 2001-12-24 |
EP1287592A1 (en) | 2003-03-05 |
TWI222250B (en) | 2004-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6414979B2 (en) | Gas discharge laser with blade-dielectric electrode | |
JP5433124B2 (en) | Long life electrode of gas discharge laser | |
US7132123B2 (en) | High rep-rate laser with improved electrodes | |
US6584132B2 (en) | Spinodal copper alloy electrodes | |
US6690706B2 (en) | High rep-rate laser with improved electrodes | |
US6560263B1 (en) | Discharge laser having electrodes with sputter cavities and discharge peaks | |
US7301980B2 (en) | Halogen gas discharge laser electrodes | |
US7003012B2 (en) | Discharge laser with porous insulating layer covering anode discharge surface | |
US6654403B2 (en) | Flow shaping electrode with erosion pad for gas discharge laser | |
JP3971382B2 (en) | High repetition rate laser with improved electrode | |
JP2002094151A (en) | Gas discharge laser provided with blade insulation electrode | |
US7190708B2 (en) | Annealed copper alloy electrodes for fluorine containing gas discharge lasers | |
US20020154670A1 (en) | Electric discharge laser with two-material electrodes |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050207 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20050509 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20050512 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050808 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061010 |