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JP2002088060A - インドレニン化合物の製造方法 - Google Patents

インドレニン化合物の製造方法

Info

Publication number
JP2002088060A
JP2002088060A JP2000272500A JP2000272500A JP2002088060A JP 2002088060 A JP2002088060 A JP 2002088060A JP 2000272500 A JP2000272500 A JP 2000272500A JP 2000272500 A JP2000272500 A JP 2000272500A JP 2002088060 A JP2002088060 A JP 2002088060A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
producing
substituent
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000272500A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeo Fujita
繁雄 藤田
Nobuaki Sasaki
宣明 佐々木
Sayuri Wada
小百合 和田
Yasuhisa Iwasaki
泰久 岩崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamamoto Chemicals Inc
Original Assignee
Yamamoto Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yamamoto Chemicals Inc filed Critical Yamamoto Chemicals Inc
Priority to JP2000272500A priority Critical patent/JP2002088060A/ja
Publication of JP2002088060A publication Critical patent/JP2002088060A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 増感色素、光記録媒体用色素、光熱変換色素
として使用されるポリメチン色素類の基幹原料として有
用なインドレニン化合物を高純度、高収率で製造できる
工業的に優れた製造方法を提供する。また、インドレニ
ン化合物製造の中間体として有用なアニリノケトン化合
物及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 芳香族アミン類と3−ブロモ−3−メチ
ルブタン−2−オンとを塩基の存在下に反応し、式(II)
で表されるアニリノケトン化合物を形成後、酸触媒の存
在下に脱水縮合し、式(III)で表されるインドレニン化
合物を製造する。 【化1】 【化2】 (式中、R、Rはそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、置換基を有してもよいアルキル基または置換基を有
してもよいアルコキシ基を表わし、RとRは互いに
連結して環状構造を形成しても良い。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、染料、写真工業におけ
る増感色素、光ディスクや光記録カード等の光記録媒体
用色素、レーザー感熱記録材料やCTP(コンピュータ
ー・ツー・プレート)製版用原版の光熱変換色素等に用
いられるポリメチン化合物類の基幹原料として有用なイ
ンドレニン化合物を製造する方法、インドレニン化合物
を製造するのに有用な中間体であるアニリノケトン化合
物及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、インドレニンの製造方法として
は、フェニルヒドラジンを経由して製造するフィッシャ
ー法がよく知られている(特開平10−316655号
公報)。また、ヒドラジン誘導体を経由しない方法とし
ては、芳香族アミン類と第3級ヒドロキシケトンとを縮
合する方法(特開昭50−140440号公報、特開昭
54−117470号公報)、芳香族アミン類とジオキ
ソランとを反応して得られる1−アリルオキサゾリジン
誘導体を熱縮合する方法(特開昭55−24176号公
報)、アニリンと3−クロロ−3−メチルブタン−2−
オンを反応後、環化縮合する方法(特開昭54−390
73号公報)等が知られている。また、芳香族アミン類
と3−ブロモ−3−メチルブタン−2−オンとの反応に
ついて特開平1−131277号公報のP4〜6に記載
されている。
【0003】しかしながら、フィッシャー法によるイン
ドレニンの製造方法は工程数が多く、操作が煩雑であ
り、多量の廃液が発生する。また、電子供与性基を有す
る置換フェニルヒドラジンは一般的に安定性が低く、収
率が低い。
【0004】芳香族アミン類と第3級ヒドロキシケトン
とを縮合する方法は、大過剰の芳香族アミン類を使用
し、高純度のインドレニン化合物を得るには精密蒸留等
の煩雑な精製工程が必要であり、高温、長時間の反応を
要するため工業的に有利な方法とは言えない。
【0005】1−アリルオキサゾリジン誘導体を熱縮合
する方法は、収率が低く、原料のジオキソランが安価に
入手し難い。α−ハロケトンと芳香族アミン類との反応
は反応挙動が複雑で副反応が多いことが知られている。
アニリンと3−クロロ−3−メチルブタン−2−オンを
反応後、環化縮合する方法は、副反応を制御するためア
ニリン使用量が多く、未反応アニリンを除去する工程が
必要である。また、置換基を有するインドレニン化合物
の製造方法に適用した場合、副生成物が多数生成し収率
も低い。
【0006】特開平1−131277号公報のP4〜6
には芳香族アミン類と3−ブロモ−3−メチルブタン−
2−オンとを脱酸剤の存在下で反応することによりイン
ドレニン化合物を合成できることが記載されている。こ
こでは、脱酸剤として第3級アミン、炭酸アルカリ金属
塩または酢酸アルカリ金属塩を使用し、芳香族アミン類
と3−ブロモ−3−メチルブタン−2−オンを反応さ
せ、単一の反応工程でインドレニン化合物を製造してい
る。しかしながら、この製造方法では多種の副反応が進
行し、高純度、高収率で目的物を得ることができない。
【0007】
【発明の目的及び概要】本発明者らは、前記芳香族アミ
ン類と3−ブロモ−3−メチルブタン−2−オンとを用
い、工業的に有利な製法でインドレニン化合物及びその
中間体であるアニリノケトン化合物を得るべく鋭意研究
を行った。
【0008】その結果、芳香族アミン類と3−ブロモ−
3−メチルブタン−2−オンとの反応を制御することに
より、中間体のアニリノケトン化合物が収率よく得ら
れ、これを酸触媒の存在下に脱水縮合することにより、
目的のインドレニン化合物が遙かに高純度、高収率で得
られことを見出し本発明を完成した。
【0009】本発明は、下記一般式(I)で表される芳香
族アミンと3−ブロモ−3−メチルブタン−2−オンと
を塩基の存在下に反応(第一反応)し、下記一般式(II)で
表されるアニリノケトン化合物を中間体として形成後、
酸触媒の存在下に脱水縮合(第二反応)することを特徴と
する下記一般式(III)で表されるインドレニン化合物の
製造方法である。
【0010】
【化7】 (式中、R、Rはそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、置換基を有してもよいアルキル基または置換基を有
してもよいアルコキシ基を表わし、RとRは互いに
連結して環状構造を形成しても良い。)
【0011】
【化8】 (式中、R、Rは前記と同じものを示す。)
【0012】
【化9】 (式中、R、Rは前記と同じものを示す。) 本発明の第一の発明は、下記一般式(III)で表されるイ
ンドレニン化合物の製造方法である。
【0013】
【化10】 (式中、R、Rはそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、置換基を有してもよいアルキル基または置換基を有
してもよいアルコキシ基を表わし、RとRは互いに
連結して環状構造を形成しても良い。) 本発明の第二の発明は、インドレニン化合物の合成中間
体として有用な一般式(II)で表されるアニリノケトン化
合物の製造方法である。
【0014】
【化11】 (式中、R、Rは前記と同じものを示す。) 上記一般式(II)で表されるアニリノケトン化合物には文
献未記載の新規化合物を包含している。すなわち、本発
明の第三の発明は、インドレニン化合物の合成中間体と
して有用な下記一般式(IV)で表されるアニリノケトン化
合物である。
【0015】
【化12】 (式中、R'、R'はそれぞれハロゲン原子、置換基
を有してもよいアルキル基または置換基を有してもよい
アルコキシ基を表わし、R'とR'は互いに連結して
環状構造を形成しても良い。ただし、R'、R'の少
なくとも一方が塩素原子、臭素原子またはメチル基の場
合を除く。)である。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく説明
する。本発明の製造方法は、芳香族アミンと3−ブロモ
−3−メチルブタン−2−オンとを塩基の存在下に反応
し、アニリノケトン化合物を形成(第一反応)後、酸触媒
の存在下に脱水縮合(第二反応)することにより、インド
レニン化合物を高純度、高収率で製造するものである。
【0017】本発明の製造方法を反応工程図で示せば、
例えば以下のように表すことができる。
【0018】
【化13】 (式中、R、Rは前記と同じものを示す。) 上記式(II)で表されるアニリノケトン化合物には文献未
記載の下記式(IV)で表される新規化合物を包含してい
る。
【0019】
【化14】 (式中、R'、R'は、前記と同じものを示す。) R、Rがハロゲン原子である場合は、F、Cl、B
r、Iが挙げられるが特にF、Cl、Brが好ましい。
【0020】R、Rが置換基を有さないアルキル基
である場合は、炭素数1〜12の直鎖或いは分岐のアル
キル基が好ましく、炭素数1〜8の直鎖或いは分岐のア
ルキル基が特に好ましい。例としてはメチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル
基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、sec−ヘキシ
ル基、2−エチルブチル基、n−ヘプチル基、イソヘプ
チル基、sec−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エ
チルヘキシル基、n−デシル基、n−ドデシル基が挙げ
られる。
【0021】R、Rが置換基を有するアルキル基で
ある場合は、総炭素数1〜12の直鎖或いは分岐のアル
キル基が好ましく、総炭素数1〜8の直鎖或いは分岐の
アルキル基が特に好ましい。置換基としてはハロゲン原
子、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基
が挙げられ、ヒドロキシ基、アルコキシ基が好ましい。
例としてトリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエチル
基、2−シアノエチル基、2−ジメチルアミノエチル
基、2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、
4−メトキシブチル基、2−エトキシエチル基、3−エ
トキシプロピル基、4−エトキシブチル基、2−n−プ
ロポキシエチル基、2−iso−プロポキシエチル基、
3−n−プロポキシプロピル基、4−n−プロポキシブ
チル基、2−メトキシ−2−エトキシエチル基、2−エ
トキシ−2−エトキシエチル基が挙げられる。
【0022】R、Rが置換基を有さないアルコキシ
基である場合は、炭素数1〜12の直鎖或いは分岐のア
ルコキシ基が好ましく、炭素数1〜8の直鎖或いは分岐
のアルコキシ基が特に好ましい。例として、メトキシ
基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキ
シ基、n−ブトキシ基、iso−ブトキシ基、sec−
ブトキシ基、n−ペントキシ基、iso−ペントキシ
基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ
基が挙げられる。
【0023】R、Rが置換基を有するアルコキシ基
である場合は、総炭素数1〜12の直鎖或いは分岐のア
ルコキシ基が好ましく、総炭素数1〜8の直鎖或いは分
岐のアルコキシ基が特に好ましい。置換基としてはハロ
ゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基、アルコ
キシ基等が挙げられ、アルコキシ基が好ましい。例とし
て、トリフルオロメチルオキシ基、2−ヒドロキシエチ
ルオキシ基、2−ジメチルアミノエチルオキシ基、2−
シアノエチルオキシ基、2−メトキシエトキシ基、2−
エトキシエトキシ基が挙げられる。
【0024】R、Rが互いに連結して形成した環状
構造のR、R部分の例としては、メチレンジオキシ
基、エチレンジオキシ基、エチレン基、プロピレン基、
ブチレン基、2−メチルオキシエチレン基が挙げられる
が、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、プロピ
レン基が好ましい。
【0025】R、Rとしてはそれぞれ水素原子、置
換基としてヒドロキシ基あるいはアルコキシ基を有して
もよい総炭素数1〜8のアルキル基、置換基としてアル
コキシ基を有してもよい総炭素数1〜8のアルコキシ
基、RとRが連結して形成したメチレンジオキシ
基、RとRが連結して形成したエチレンジオキシ基
またはRとRが連結して形成したプロピレン基が好
ましい。
【0026】R'、R'がハロゲン原子である場合
は、F、Iが挙げられる。R'、R'が置換基を有さ
ないアルキル基である場合は、炭素数2〜12の直鎖或
いは分岐のアルキル基が好ましく、炭素数2〜8の直鎖
或いは分岐のアルキル基が特に好ましい。例としてはエ
チル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチ
ル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、sec−ヘキシ
ル基、2−エチルブチル基、n−ヘプチル基、イソヘプ
チル基、sec−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エ
チルヘキシル基、n−デシル基、n−ドデシル基が挙げ
られる。
【0027】R'、R'が置換基を有するアルキル基
である場合は、総炭素数1〜12の直鎖或いは分岐のア
ルキル基が好ましく、総炭素数1〜8の直鎖或いは分岐
のアルキル基が特に好ましい。置換基としてはハロゲン
原子、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基、アルコキシ
基が挙げられ、ヒドロキシ基、アルコキシ基が好まし
い。例としてトリフルオロメチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−シアノエチル基、2−ジメチルアミノエチ
ル基、2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル
基、4−メトキシブチル基、2−エトキシエチル基、3
−エトキシプロピル基、4−エトキシブチル基、2−n
−プロポキシエチル基、2−iso−プロポキシエチル
基、3−n−プロポキシプロピル基、4−n−プロポキ
シブチル基、2−メトキシ−2−エトキシエチル基、2
−エトキシ−2−エトキシエチル基が挙げられる。
【0028】R'、R'が置換基を有さないアルコキ
シ基である場合は、炭素数1〜12の直鎖或いは分岐の
アルコキシ基が好ましく、炭素数1〜8の直鎖或いは分
岐のアルコキシ基が特に好ましい。例として、メトキシ
基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキ
シ基、n−ブトキシ基、iso−ブトキシ基、sec−
ブトキシ基、n−ペントキシ基、iso−ペントキシ
基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ
基が挙げられる。
【0029】R'、R'が置換基を有するアルコキシ
基である場合は、総炭素数1〜12の直鎖或いは分岐の
アルコキシ基が好ましく、総炭素数1〜8の直鎖或いは
分岐のアルコキシ基が特に好ましい。置換基としてはハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基、アル
コキシ基等が挙げられ、アルコキシ基が好ましい。例と
して、トリフルオロメチルオキシ基、2−ヒドロキシエ
チルオキシ基、2−ジメチルアミノエチルオキシ基、2
−シアノエチルオキシ基、2−メトキシエトキシ基、2
−エトキシエトキシ基が挙げられる。
【0030】R'、R'が互いに連結して形成した環
状構造のR'、R'部分の例としては、メチレンジオ
キシ基、エチレンジオキシ基、エチレン基、プロピレン
基、ブチレン基、2−メチルオキシエチレン基が挙げら
れるが、特にメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ
基、プロピレン基が好ましい。
【0031】R'、R'としてはそれぞれ水素原子、
置換基としてヒドロキシ基あるいはアルコキシ基を有し
てもよい総炭素数1〜8のアルキル基、置換基としてア
ルコキシ基を有してもよい総炭素数1〜8のアルコキシ
基、R'、R'が連結して形成したメチレンジオキシ
基、R'、R'が連結して形成したエチレンジオキシ
基またはR'、R'が連結して形成したプロピレン基
が好ましい。本発明の製造方法で製造される一般式(II)
または一般式(IV)で表されるアニリノケトン化合物及び
一般式(III)で表されるインドレニン化合物の好ましい
具体例を下記に示すが、その化合物の範囲はこれらに限
定されるものではない。
【0032】
【化15】
【0033】
【化16】
【0034】
【化17】
【0035】
【化18】
【0036】
【化19】
【0037】[インドレニン化合物の製造方法]本発明
のインドレニン化合物の製造方法は、一般式(I)で表さ
れる芳香族アミンと3−ブロモ−3−メチルブタン−2
−オンとを塩基の存在下に反応し、下記一般式(II)で表
されるアニリノケトン化合物を形成(第一反応)後、酸触
媒の存在下に脱水縮合(第二反応)する2つの反応工程を
経る。
【0038】
【化20】 (式中、R、Rは前記と同じものを示す。)
【0039】
【化21】 (式中、R、Rは前記と同じものを示す。) 上記第一反応において、3−ブロモ−3−メチルブタン
−2−オンは、一般式(I)で表される芳香族アミン1モ
ル当たり通常0.5〜3モル程度、好ましくは0.7〜2
モル程度使用する。
【0040】塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、炭酸カルシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウ
ム、酸化マグネシウム等の無機塩基、ピリジン、エチル
アミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、トリプロ
ピルアミン、トリブチルアミン等の有機塩基が挙げら
れ、特に炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリ
ウム、酸化マグネシウム等の無機の弱塩基が好ましい。
【0041】かかる塩基は、一般式(I)で表される芳香
族アミン1モル当たり通常0.2〜3モル程度、好まし
くは0.4〜1.5モル程度使用する。この第一反応にお
いては、反応溶剤を使用することが好ましい。
【0042】反応溶剤としては、メタノール、エタノー
ル、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブ
タノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クメン、デカリン、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、デカン、シクロヘキサン、ジクロロエタン、ト
リクロロエタン、テトラクロロエタン等の脂肪族炭化水
素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ジメチルイミダゾリジノン、N−メチルピロリドン、ジ
メチルスルホキシドまたはスルホラン等が挙げられ、特
にジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメ
チルイミダゾリジノン、N−メチルピロリドン、ジメチ
ルスルホキシドまたはスルホラン等の非プロトン性極性
溶媒が好ましい。
【0043】かかる反応溶剤は、一般式(I)で表される
芳香族アミンに対し通常0.5〜50倍重量比程度、好
ましくは2〜20倍重量比程度使用する。上記第一反応
は通常10〜130℃程度、好ましくは室温〜100℃
で好適に進行し、一般に数時間〜30時間程度で完結す
る。
【0044】第一反応において、副反応を制御し、収率
よくアニリノケトン化合物を形成するためには反応溶剤
と塩基とを同時に使用することが好ましく、非プロトン
性極性溶媒と無機の弱塩基とを同時に使用することが特
に好ましい。
【0045】上記第一反応により形成されるアニリノケ
トン化合物は、反応終了後、反応溶媒を減圧留去して単
離することも可能で、濃縮残査を慣用の精製手段、例え
ば、再結晶、蒸留、シリカゲルカラム分離等により容易
に精製物を得ることことができる。
【0046】第二反応は、第一反応により形成されたア
ニリノケトン化合物を酸触媒の存在下、好ましくは水と
共沸する溶媒に溶解後、脱水縮合することによりインド
レニン化合物を製造することができる。また、第一反応
終了後、反応溶剤を減圧留去し、濃縮残渣を好ましくは
水と共沸する溶媒に溶解し、必要に応じ、溶媒に不溶な
塩類を水で抽出除去後、酸触媒を添加し、次いで共沸脱
水縮合することにより、アニリノケトン化合物を単離す
ることなくインドレニン化合物を製造することができ
る。
【0047】水と共沸する溶媒としては、例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭
化水素類が挙げられ、トルエン、キシレンが好ましい。
かかる共沸溶媒は、アニリノケトン化合物に対し通常
0.5〜50倍重量比程度、好ましくは2〜20倍重量
比程度使用する。
【0048】酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、燐
酸等の無機酸類、塩化亜鉛等のルイス酸類、ベンゼンス
ルホン酸、トルエンスルホン酸、トルエンジスルホン
酸、蟻酸、酢酸、クロル酢酸、プロピオン酸等の有機酸
類が挙げられ、特にベンゼンスルホン酸、トルエンスル
ホン酸、トルエンジスルホン酸が好ましい。かかる酸触
媒は、アニリノケトン化合物1モル当たり通常0.01
〜1モル程度、好ましくは0.1〜0.6モル程度使用す
る。
【0049】第二反応は通常50〜150℃程度、好ま
しくは80〜130℃で好適に進行し、一般に数時間〜
30時間程度で完結する。
【0050】生成したインドレニン化合物は、例えば、
酸触媒を水で抽出除去後、溶媒を留去することにより容
易に単離することがでる。単離したインドレニン化合物
は通常の反応原料として充分に使用できる純度である
が、更に、慣用の精製手段、例えば、再結晶、蒸留、カ
ラム分離等により容易に精製することができる。
【0051】
【実施例】以下に、実施例により本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
【0052】[実施例1] インドレニン化合物(具体
例(1);式(III)の化合物)の合成 一般式(I)で表される芳香族アミン化合物(R=4−
メトキシ基、R=6−メトキシ基)76.6g、ジメチ
ルホルムアミド(以下、DMFと略す)400g及び酸化
マグネシウム10.6gの分散液を45〜50℃へ昇温
した後、3−ブロモ−3−メチルブタン−2−オン8
7.4gを5時間かけて滴下した。同温度で24時間反
応後、減圧下DMFを留去し、トルエン140g及び水
160gを注入した。分散、静置後、水層を除去した。
得られたトルエン層へp−トルエンスルホン酸4gを添
加後、還流温度へ昇温し、生成水を除去しながら、15
時間反応した。反応終了後、水160gを注入し、分
散、静置後、水層を除去した。得られたトルエン層を減
圧濃縮後、真空蒸留し、具体例(1);式(III)のインド
レニン化合物93.2g(収率;85.0%)を得た。
【0053】この化合物の沸点、融点、ガスクロマトグ
ラフィー(GC)純度、元素分析値は以下の通りであっ
た。 沸点(℃):115〜125℃/1〜2mmHg 融点(℃):89.5〜91.5℃ GC純度 ;98.2% 元素分析値(C1317NO):MW=219.3 C H N 計算値(%) 71.21 7.81 6.39 実測値(%) 71.16 7.88 6.45
【0054】[実施例2] インドレニン化合物(具体
例(4);式(III)の化合物)の合成 実施例1における一般式(I)で表される芳香族アミン化
合物(R=4−メトキシ基、R=6−メトキシ基)に
代えて、一般式(I)で表される芳香族アミン化合物(R
とRが連結=5,6−メチレンジオキシ基)68.6
gを用い、且つ酸化マグネシウム10.6gに代えて炭
酸カリウム36.9gを用いた以外は実施例1と同様な
操作を行って、具体例(4);式(III)のインドレニン化
合物79.8g(収率;78.5%)を得た。
【0055】この化合物の沸点、融点、ガスクロマトグ
ラフィー(GC)純度、元素分析値は以下の通りであっ
た。 沸点(℃):120〜130℃/1〜2mmHg 融点(℃):95〜97℃ GC純度 ;98.5% 元素分析値(C1213NO):MW=203.2 C H N 計算値(%) 70.92 6.45 6.89 実測値(%) 70.84 6.58 6.75
【0056】[実施例3] インドレニン化合物(具体
例(11);式(III)の化合物)の合成 実施例1における一般式(I)で表される芳香族アミン化
合物(R=4−メトキシ基、R=6−メトキシ基)に
代えて、一般式(I)で表される芳香族アミン化合物(R
=4−メトキシ基、R=6−メチル基)68.6g
を、酸化マグネシウム10.6gに代えて重炭酸ナトリ
ウム42.0gを用い、且つ3−ブロモ−3−メチルブ
タン−2−オン94.9gを用いた以外は実施例1と同
様な操作を行って、具体例(11);式(III)のインドレ
ニン化合物86.4g(収率;85.0%)を得た。
【0057】この化合物の沸点、ガスクロマトグラフィ
ー(GC)純度、元素分析値は以下の通りであった。 沸点(℃):110〜120℃/1〜2mmHg GC純度 ;98.5% 融点(℃):89〜91℃ 元素分析値(C1317NO):MW=203.3 C H N 計算値(%) 76.81 8.43 6.89 実測値(%) 76.66 8.51 6.95 得られた化合物のIRスペクトルを図1に示す。
【0058】[実施例4] インドレニン化合物(具体
例(14);式(III)の化合物)の合成 実施例1における一般式(I)で表される芳香族アミン化
合物(R=4−メトキシ基、R=6−メトキシ基)に
代えて、一般式(I)で表される芳香族アミン化合物(R
=4−メトキシ基、R=水素原子)61.6gを、酸
化マグネシウム10.6gに代えて炭酸ナトリウム32.
0gを用いた以外は実施例1と同様な操作を行って、具
体例(14);式(III)のインドレニン化合物86.1g
(収率;91.0%)を得た。
【0059】この化合物の沸点、ガスクロマトグラフィ
ー(GC)純度、元素分析値は以下の通りであった。 沸点(℃):105〜115℃/1〜2mmHg GC純度 ;98.2% 元素分析値(C1215NO):MW=189.3 C H N 計算値(%) 76.16 7.99 7.40 実測値(%) 75.02 8.08 7.35
【0060】[実施例5] インドレニン化合物(具体
例(17);式(III)の化合物)の合成実施例1における一
般式(I)で表される芳香族アミン化合物(R=4−メ
トキシ基、R=6−メトキシ基)に代えて、一般式
(I)で表される芳香族アミン化合物(R=4−メチル
基、R=水素原子)53.8gを、酸化マグネシウム1
0.6gに代えて炭酸ナトリウム32.0gを用いた以外
は実施例1と同様な操作を行って、具体例(17);式(I
II)のインドレニン化合物76.2g(収率;88.0%)
を得た。
【0061】この化合物の沸点、ガスクロマトグラフィ
ー(GC)純度、元素分析値は以下の通りであった。 沸点(℃):110〜120℃/2〜3mmHg GC純度 ;98.5% 元素分析値(C1215N):MW=173.3 C H N 計算値(%) 83.19 8.73 8.08 実測値(%) 83.06 8.80 7.97
【0062】[実施例6] インドレニン化合物(具体
例(19);式(III)の化合物)の合成 実施例1における一般式(I)で表される芳香族アミン化
合物(R=4−メトキシ基、R=6−メトキシ基)に
代えて、一般式(I)で表される芳香族アミン化合物(R
=R=水素原子)46.6gを用いた以外は実施例1
と同様な操作を行って、具体例(19);式(III)のイン
ドレニン化合物70.5g(収率;88.6%)を得た。
【0063】この化合物の沸点、ガスクロマトグラフィ
ー(GC)純度、元素分析値は以下の通りであった。 沸点(℃):105〜110℃/10mmHg GC純度 ;98.2% 元素分析値(C1113N):MW=159.2 C H N 計算値(%) 82.97 8.23 8.80 実測値(%) 82.81 8.28 8.86
【0064】[実施例7] アニリノケトン化合物(具
体例(1);式(II)の化合物)の合成 一般式(I)で表される芳香族アミン化合物(R=4−
メトキシ基、R=6−メトキシ基)76.6g、ジメチ
ルホルムアミド(以下、DMFと略す)400g及び酸化
マグネシウム10.6gの分散液を45〜50℃へ昇温
した後、3−ブロモ−3−メチルブタン−2−オン8
7.4gを5時間かけて滴下した。同温度で24時間反
応後、減圧下DMFを留去し、トルエン140g及び水
160gを注入した。分散、静置後、水層を分離し、ト
ルエン層を減圧濃縮した。濃縮残査をシリカゲルカラム
精製することにより具体例(1);式(II)のアニリノケト
ン化合物108.0g(収率;91.0%)を得た。
【0065】この化合物のガスクロマトグラフィー(G
C)純度、融点、元素分析値は以下の通りであった。 GC純度;99.6% 融点(℃):58.0〜59.5℃ 元素分析値(C1319NO):MW=237.3 C H N 計算値(%) 65.80 8.07 5.90 実測値(%) 65.66 8.11 5.79 得られた化合物のIRスペクトルを図2に示す。
【0066】[実施例8] アニリノケトン化合物(具
体例(3);式(II)の化合物)の合成 実施例7における一般式(I)で表される芳香族アミン化
合物(R=4−メトキシ基、R=6−メトキシ基)に
代えて、一般式(I)で表される芳香族アミン化合物(R
とRが連結=5,6−プロピレン基)66.6gを、
酸化マグネシウム10.6gに代えて炭酸ナトリウム3
2.0gを用いた以外は実施例7と同様な操作を行っ
て、具体例(3);式(II)のアニリノケトン化合物97.
9g(収率;90.1%)を得た。
【0067】この化合物のガスクロマトグラフィー(G
C)純度、融点、元素分析値は以下の通りであった。 GC純度;99.1% 融点(℃):45.0〜47.0℃ 元素分析値(C1419NO):MW=217.3 C H N 計算値(%) 77.38 8.81 6.45 実測値(%) 77.24 8.72 6.37 得られた化合物のIRスペクトルを図3に示す。
【0068】[実施例9] アニリノケトン化合物(具
体例(4);式(II)の化合物)の合成 実施例7における一般式(I)で表される芳香族アミン化
合物(R=4−メトキシ基、R=6−メトキシ基)に
代えて、一般式(I)で表される芳香族アミン化合物(R
とRが連結=5,6−メチレンジオキシ基)68.6
gを、酸化マグネシウム10.6gに代えて炭酸ナトリ
ウム32.0gを用いた以外は実施例7と同様な操作を
行って、具体例(4);式(II)のアニリノケトン化合物9
7.6g(収率;88.2%)を得た。
【0069】この化合物のガスクロマトグラフィー(G
C)純度、融点、元素分析値は以下の通りであった。 GC純度;98.5% 融点(℃):40.5〜42.0℃ 元素分析値(C1215NO):MW=221.3 C H N 計算値(%) 65.14 6.83 6.33 実測値(%) 65.06 6.91 6.39 得られた化合物のIRスペクトルを図4に示す。
【0070】[実施例10] アニリノケトン化合物
(具体例(7);式(II)の化合物)の合成 実施例7における一般式(I)で表される芳香族アミン化
合物(R=4−メトキシ基、R=6−メトキシ基)に
代えて、一般式(I)で表される芳香族アミン化合物(R
とRが連結=5,6−エチレンジオキシ基)75.6
gを用いた以外は実施例7と同様な操作を行って、具体
例(4);式(II)のアニリノケトン化合物97.6g(収
率;88.2%)を得た。
【0071】この化合物のガスクロマトグラフィー(G
C)純度、融点、元素分析値は以下の通りであった。 GC純度;98.9% 融点(℃):101〜102.5℃ 元素分析値(C1317NO):MW=235.3 C H N 計算値(%) 65.80 8.07 5.90 実測値(%) 65.66 8.11 5.79 得られた化合物のIRスペクトルを図5に示す。
【0072】[比較例1] インドレニン化合物(具体
例(11);式(III)の化合物)の合成 一般式(I)で表される芳香族アミン化合物(R=4−
メトキシ基、R=6−メチル基)68.6g、3−ブロ
モ−3−メチルブタン−2−オン87.4gおよびピリ
ジン43gの混合物を50〜55℃で反応させ、次いで
還流下(114〜115℃)で7時間反応させた。反応終
了後、水350mlに排出し、ジクロロメタン200m
lで抽出し、溶媒を除去後、真空蒸留することにより具
体例(11);式(III)のアニリノケトン化合物108.0
g(収率;43.1%)を得た。この化合物のガスクロマ
トグラフィー(GC)純度は以下の通りであった。GC純
度;31.0%(未反応アニリン誘導体を43.3%含有
し、GC値;5% 以上の未確認成分を4種含有してい
た。)
【0073】
【発明の効果】本発明によれば、芳香族アミン類と3−
ブロモ−3−メチルブタン−2−オンとを塩基の存在下
に反応し、アニリノケトン化合物を形成後、酸触媒の存
在下に脱水縮合することにより、増感色素、光記録媒体
用色素、光熱変換色素として使用されるポリメチン化合
物類の基幹原料として有用なインドレニン化合物を高純
度、高収率且つ経済的に製造できる工業的に優れた製造
方法を提供することができる。また、インドレニン化合
物を製造するのに有用な中間体であるアニリノケトン化
合物及びその工業的に優れた製造方法を提供することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例3のインドレニン化合物のIR吸収スペ
クトルである。
【図2】実施例7のアニリノケトン化合物のIR吸収ス
ペクトルである。
【図3】実施例8のアニリノケトン化合物のIR吸収ス
ペクトルである。
【図4】実施例9のアニリノケトン化合物のIR吸収ス
ペクトルである。
【図5】実施例10のアニリノケトン化合物のIR吸収
スペクトルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07D 491/056 C07D 491/056 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72)発明者 和田 小百合 大阪府八尾市弓削町南1丁目43番地 山本 化成株式会社内 (72)発明者 岩崎 泰久 大阪府八尾市弓削町南1丁目43番地 山本 化成株式会社内 Fターム(参考) 4C204 BB04 BB05 CB03 DB03 EB10 FB01 GB25 4H006 AA01 AA02 AB84 AC52 BA02 BA06 BA30 BA32 BA69 BB20 BB22 BB23 BB24 BB41 BB42 BC31 BJ50 BP30 BR10 BU46 4H039 CA42 CA71 CD10 CD20 CE10 CH20

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(I)で表される芳香族アミン
    と3−ブロモ−3−メチルブタン−2−オンとを塩基の
    存在下に反応(第一反応)し、下記一般式(II)で表される
    アニリノケトン化合物を形成後、酸触媒の存在下に脱水
    縮合(第二反応)することを特徴とする下記一般式(III)
    で表されるインドレニン化合物の製造方法。 【化1】 (式中、R、Rはそれぞれ水素原子、ハロゲン原
    子、置換基を有してもよいアルキル基または置換基を有
    してもよいアルコキシ基を表わし、RとRは互いに
    連結して環状構造を形成しても良い。) 【化2】 (式中、R、Rは前記と同じものを示す。) 【化3】 (式中、R、Rは前記と同じものを示す。)
  2. 【請求項2】 R、Rがそれぞれ水素原子、置換基
    としてヒドロキシ基あるいはアルコキシ基を有してもよ
    い総炭素数1〜8のアルキル基、置換基としてアルコキ
    シ基を有してもよい総炭素数1〜8のアルコキシ基、R
    とRが連結して形成したメチレンジオキシ基、R
    とRが連結して形成したエチレンジオキシ基またはR
    とRが連結して形成したプロピレン基である請求項
    1のインドレニン化合物の製造方法。
  3. 【請求項3】 第一反応工程において非プロトン性極性
    溶剤中で反応を行うことを特徴とする請求項1または2
    のインドレニン化合物の製造方法。
  4. 【請求項4】 非プロトン性極性溶剤がジメチルホルム
    アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルイミダゾリジ
    ノン、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及
    びスルホランから選ばれる少なくとも一種であることを
    特徴とする請求項1〜3いずれかのインドレニン化合物
    の製造方法。
  5. 【請求項5】 塩基が炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウ
    ム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、
    酢酸カリウム及び酸化マグネシウムのから選ばれる少な
    くとも一種であることを特徴とする請求項1〜4いずれ
    かのインドレニン化合物の製造方法。
  6. 【請求項6】 一般式(I)で表される芳香族アミン化合
    物と3−ブロモ−3−メチルブタン−2−オンとを塩基
    の存在下、有機溶剤中で反応することを特徴とする一般
    式(II)で表されるアニリノケトン化合物の製造方法。 【化4】 (式中、R、Rはそれぞれ水素原子、ハロゲン原
    子、置換基を有してもよいアルキル基または置換基を有
    してもよいアルコキシ基を表わし、RとRは互いに
    連結して環状構造を形成しても良い。) 【化5】 (式中、R、Rは前記と同じものを示す。)
  7. 【請求項7】 R、Rがそれぞれ炭素数1〜8のア
    ルキル基または炭素数1〜8のアルコキシ基であるか、
    若しくはRとRが連結して形成したメチレンジオキ
    シ基、RとRが連結して形成したエチレンジオキシ
    基またはRとRが連結して形成したプロピレン基で
    ある請求項6のアニリノケトン化合物の製造方法。
  8. 【請求項8】 有機溶剤が非プロトン性極性溶剤中ある
    ことを特徴とする請求項6または7のアニリノケトン化
    合物の製造方法。
  9. 【請求項9】 非プロトン性極性溶剤がジメチルホルム
    アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルイミダゾリジ
    ノン、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及
    びスルホランから選ばれる少なくとも一種であることを
    特徴とする請求項6〜9いずれかのアニリノケトン化合
    物の製造方法。
  10. 【請求項10】 塩基が炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
    ウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、酢酸ナトリウ
    ム、酢酸カリウム及び酸化マグネシウムの弱塩基から選
    ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項6
    〜8いずれかのアニリノケトン化合物の製造方法。
  11. 【請求項11】 一般式(I)で表される芳香族アミン化
    合物と3−ブロモ−3−メチルブタン−2−オンを1:
    0.7〜1:2(モル比)で反応することを特徴とする請
    求項6〜10いずれかのアニリノケトン化合物の製造方
    法。
  12. 【請求項12】 下記一般式(IV)で表されるアニリノケ
    トン化合物。 【化6】 (式中、R'、R'はそれぞれハロゲン原子、置換基
    を有してもよいアルキル基または置換基を有してもよい
    アルコキシ基を表わし、R'とR'は互いに連結して
    環状構造を形成しても良い。ただし、R'、R'の少
    なくとも一方が塩素原子、臭素原子またはメチル基であ
    る場合を除く。)
  13. 【請求項13】 R'、R'がそれぞれ炭素数2〜8
    のアルキル基または炭素数1〜8のアルコキシ基である
    か若しくはR'、R'が連結して形成したメチレンジ
    オキシ基、R'、R'が連結して形成したエチレンジ
    オキシ基またはR'、R'が連結して形成したプロピ
    レン基である請求項13のアニリノケトン化合物。
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JPS50140440A (ja) * 1974-04-05 1975-11-11
JPS54117470A (en) * 1978-02-10 1979-09-12 Basf Ag Manufacture of indolenine
JPH01131277A (ja) * 1987-08-07 1989-05-24 Asahi Kagaku Kogyo Kk シアニン系化合物

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