JP2002086940A - 感熱性平版印刷用原板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 デジタル信号に基づいた走査露光後、処理を
行うことなくそのまま印刷機に装着して印刷することが
可能であり、耐刷性がさらに改良された感熱性平版印刷
用原板を提供する。 【解決手段】 アルミニウム支持体上に、（１）インキ
受容層、並びに（２）ベリリウム、マグネシウム、アル
ミニウム、ケイ素、チタン、硼素、ゲルマニウム、ス
ズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモン及び遷
移金属から選択される少なくとも一つの元素のコロイド
粒子状酸化物又は水酸化物を含有する親水層を有し、イ
ンキ受容層及び親水層のうち少なくとも一つの層が光熱
変換剤を含有する感熱性平版印刷用原板であって、アル
ミニウム支持体が２ｇ／ｍ²以上の陽極酸化皮膜を有
し、かつケイ素付着量が１５ｍｇ／ｍ²以上のシリケー
ト皮膜を有することを特徴とする感熱性平版印刷用原
板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、現像不要な感熱性
平版印刷用原板に関する。より詳しくは、デジタル信号
に基づいた赤外線レーザビーム走査露光による画像記録
が可能であり、画像記録したものを従来のような現像工
程を経ることなしに、そのまま印刷機に装着して印刷す
ることが可能な平版印刷用原板であって、感度、刷り出
し着肉性及び耐刷性の良好な平版印刷用原板に関する。

【０００２】

【従来の技術】露光後、処理をしないでそのまま印刷機
に装着して印刷することができる平版印刷版用原板につ
いては、種々の方法が提案されている。有望な方法の一
つは、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の固体高出力赤外
線レーザで露光し、露光部分を光を熱に変換する光熱変
換剤で発熱させ、分解蒸発を起こさせるアブレーション
を利用した方法である。すなわち、親油性でインキ受容
性表面または親油性のインキ受容層を有する基板上に親
水層を設け、親水層をアブレーション除去する方法であ
る。

【０００３】ＷＯ９４／１８００５号公報には、親油性
レーザー光吸収層の上に架橋した親水層を設け、この親
水層をアブレーションする印刷版が開示されている。こ
の親水層は、ポリビニルアルコールをテトラエトキシ珪
素の加水分解物で架橋し、二酸化チタン粒子を含有させ
たものからなり、親水層の膜強度向上を図ったものであ
る。この技術により耐刷力は向上する。しかし、炭化水
素基を有し必ずしも高親水性ではないポリビニルアルコ
ールを主成分とするため、汚れにくさについては不十分
で、さらなる改良が必要である。

【０００４】ＷＯ９８／４０２１２号公報、ＷＯ９９／
１９１４３号公報及びＷＯ９９／１９１４４号公報に
は、インキ受容層を塗布した基板上に、シリカなどのコ
ロイドをアミノプロピルトリエトキシシランなどの架橋
剤で架橋したものを主成分とする親水層を設け、現像な
しで印刷機に架けることが可能な平版印刷用原板が開示
されている。この親水層は、炭化水素基を極力少なくし
て印刷汚れに対する耐性を高め、架橋剤でコロイドを架
橋することにより耐刷力の向上を図っている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記技術で
は、耐刷力は数千枚と不十分であり、従来技術における
アブレーションを利用したデジタルダイレクト無処理刷
版は、印刷の基本である汚れ難さあるいは耐刷力のいず
れかが損なわれる問題があった。

【０００６】種々検討の結果、インキ受容性表面を有す
るか又はインキ受容層が塗布されている基板上に、ベリ
リウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、
硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジ
ウム、アンチモン及び遷移金属から選択された少なくと
も一つの元素の酸化物又は水酸化物のコロイド及び親水
性樹脂等を含有し、加熱部が印刷時湿し水又はインキに
よって容易に除去される三次元架橋した親水層、及び水
溶性オーバーコート層を順次設けた感熱性平版印刷版用
原板とすることにより、デジタルダイレクト無処理刷版
の耐刷性と汚れ難さが両立できることが分かった（特願
平１１−２４７７６４号参照）。しかしながら、かかる
感熱性平版印刷用原板においてもなお、一層の耐刷力向
上が要望された。

【０００７】従って、本発明の目的は、上記のさらなる
要望に応えるものである。すなわち、露光後処理を行う
ことなく直接印刷機に装着して印刷することが可能であ
り、耐刷性がさらに改良された感熱性平版印刷用原板を
提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者は、下記の構成
により上記目的が達成されることを見出した。すなわ
ち、本発明は、以下の通りである。

【０００９】１．アルミニウム支持体上に、（１）イン
キ受容層、並びに（２）ベリリウム、マグネシウム、ア
ルミニウム、ケイ素、チタン、硼素、ゲルマニウム、ス
ズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモン及び遷
移金属から選択される少なくとも一つの元素のコロイド
粒子状酸化物又は水酸化物を含有する親水層を有し、イ
ンキ受容層及び親水層のうち少なくとも一つの層が光熱
変換剤を含有する感熱性平版印刷用原板であって、アル
ミニウム支持体が２ｇ／ｍ²以上の陽極酸化皮膜を有
し、かつケイ素付着量が１５ｍｇ／ｍ²以上のシリケー
ト皮膜を有することを特徴とする感熱性平版印刷用原
板。

【００１０】２．アルミニウム支持体上に、（１）イン
キ受容層、（２）前記１記載の親水層、及び（３）印刷
機上で除去可能な親水性オーバーコート層を有し、イン
キ受容層、親水層及び親水性オーバーコート層のうち少
なくとも一つの層が光熱変換剤を含有する感熱性平版印
刷用原板であって、アルミニウム支持体が２ｇ／ｍ²以
上の陽極酸化皮膜を有し、かつケイ素付着量が１５ｍｇ
／ｍ²以上のシリケート皮膜を有することを特徴とする
感熱性平版印刷用原板。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明に使用されるアルミニウム支
持体は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分と
し微量の異元素を含む合金板であり、さらにはアルミニ
ウムまたはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラ
ミネートされているものである。アルミニウム合金に含
まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネ
シウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンな
どがある。合金中の異元素の含有量は高々１０重量％以
下である。また、ＤＣ鋳造法を用いたアルミニウム鋳塊
からのアルミニウム板でも、連続鋳造法による鋳塊から
のアルミニウム板であっても良い。しかし、本発明に適
用されるアルミニウム板は、従来より公知公用の素材の
アルミニウム板をも適宜に利用することができる。

【００１２】本発明で用いられる上記の基板の厚みは
０．０５ｍｍ〜０．６ｍｍ、好ましくは０．１ｍｍ〜
０．４ｍｍ、特に好ましくは０．１５ｍｍ〜０．３ｍｍ
である。

【００１３】アルミニウム板を陽極酸化処理するに先立
ち、表面を粗面化することが好ましい。粗面化により表
面積を増大させ、上層との接着性を向上できる。アルミ
ニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われ
るが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に
表面を溶解粗面化する方法、化学的に表面を選択溶解さ
せる方法、あるいはこれらの方法のうち２種以上の組み
合わせによって行われる。機械的方法としては、ボール
研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法な
どの公知の方法を用いることができる。化学的方法とし
ては、特開昭５４−３１１８７号公報に記載されている
ような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方
法が適している。また、電気化学的な粗面化法としては
塩酸または硝酸などの酸を含む電解液中で交流または直
流により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０
２号に開示されているように混合酸を用いた電解粗面化
方法も利用することができる。上記の如き方法による粗
面化は、アルミニウム板表面の中心線平均粗さ（Ｈａ）
が０．３〜１．０μｍの範囲で施されることが好まし
い。

【００１４】粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じて水酸化カリウムや水酸化ナトリウムなどの水溶液に
よるアルカリエッチング処理をされ、さらに中和処理さ
れた後、陽極酸化処理を施される。

【００１５】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電
解質の使用が可能で、一般的には、硫酸、リン酸、蓚
酸、クロム酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、
あるいは、それらの混酸が用いられる。これらの電解質
の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。陽極酸
化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるので一
概に特定し得ないが、一般的には、電解質の濃度が１〜
８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜６０
Ａ／dｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５０分
の範囲であれば適当である。これらの陽極酸化処理の中
でも、特に、英国特許１，４１２，７６８号公報に記載
されている硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法およ
び米国特許３，５１１，６６１号公報に記載されている
リン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。

【００１６】本発明のアルミニウム支持体の酸化皮膜量
は、２．０ｇ／ｍ²以上である。より好ましくは２．０
〜６．０ｇ／ｍ²で、特に好ましくは２．０〜４．０ｇ
／ｍ²である。２．０ｇ／ｍ²未満では、高耐刷化の効果
が不十分である。

【００１７】本発明で用いられる支持体としては、上記
のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板を、
そのままアルカリ金属ケイ酸塩水溶液処理（以後、シリ
ケート処理ともいう）しても良いが、上層との接着性、
断熱性などの改良のため、必要に応じて、特願２０００
−６５２１９号や特願２０００−１４３３８７号に記載
されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理やマ
イクロポアの封孔処理などを適宜選択して行うことがで
きる。

【００１８】本発明は、２ｇ／ｍ²以上の陽極酸化皮膜
を有する支持体が、親水化処理であるシリケート処理を
施され、ケイ素としての付着量が１５ｍｇ／ｍ²以上の
シリケート皮膜を有することが特徴である。ここで、ケ
イ素としての付着量は、シリケート処理をした基板を蛍
光Ｘ線分析で測定したケイ素量から、シリケート処理前
のアルミ基板で測定したケイ素量（通常約１ｍｇ／
ｍ²）を差し引いて１ｍ²当たりの量に換算した値であ
る。

【００１９】ケイ素としての付着量を本発明の如く増加
させることによって、詳細なメカニズムは不明だが、刷
り込んだときに発生する点状の印刷汚れが抑制され、結
果として耐刷力が向上する

【００２０】このシリケート処理に用いるアルカリ金属
ケイ酸塩の濃度は、好ましくは１〜３０重量％、より好
ましくは２〜１５重量％であり、２５℃でのｐＨが１０
〜１３である水溶液に、好ましくは５０〜９０℃で０．
５〜６０秒間、より好ましくは５〜４０秒間浸漬する。

【００２１】本発明に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩
は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウ
ムなどが使用され、中でもケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウムが好ましい。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のｐＨ
を高くするために使用される水酸化物としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがあ
り、好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが使
用される。

【００２２】なお、上記処理液にアルカリ土類金属塩又
は第IVＡ族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属
塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝
酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸
塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩
等の水溶性塩が挙げられる。第IVＡ族金属塩として、四
塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シ
ュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、
塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩
化ジルコニウム、四塩化ジルコニウム等を挙げることが
できる。アルカリ土類金属又は第IVＡ族金属塩は、単独
又は２種以上組み合わせて使用することができる。

【００２３】本発明のインキ受容層には、皮膜形成能の
ある溶媒に可溶な親油性の有機高分子が含有される。有
用な有機高分子としては、ポリエステル、ポリウレタ
ン、ポリウレア、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリカ
ーボネート、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、フェノー
ル・ホルムアルデヒド樹脂、アルキルフェノール・ホル
ムアルデヒド樹脂、ポリビニルアセテート、アクリル樹
脂及びその共重合体、ポリビニルフェノール、ポリビニ
ルハロゲン化フェノール、メタクリル樹脂及びその共重
合体、アクリルアミド共重合体、メタクリルアミド共重
合体、ポリビニルホルマール、ポリアミド、ポリビニル
ブチラール、ポリスチレン、セルロースエステル樹脂、
ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン等を挙げることが
できる。

【００２４】これらの中で、より好ましい化合物とし
て、側鎖にヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン
アミド基やトリアルコキシシリル基を有する樹脂が基板
や上層の親水層との接着性に優れ、かつ場合によって架
橋剤で容易に硬化するので望ましい。その他、アクロニ
トリル共重合体、ポリウレタン、側鎖にスルホンアミド
基を有する共重合体や側鎖にヒドロキシル基を有する共
重合体をジアゾ樹脂によって光硬化させたものが好まし
い。

【００２５】その他フェノール、クレゾール（ｍ−クレ
ゾール、ｐ−クレゾール、ｍ／ｐ混合クレゾール）、フ
ェノール／クレゾール（ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾー
ル、ｍ／ｐ混合クレゾール）、フェノール変性キシレ
ン、ｔ−ブチルフェノール、オクチルフェノール、レゾ
ルシノール、ピロガロール、カテコール、クロロフェノ
ール（ｍ−Ｃｌ、ｐ−Ｃｌ）、ブロモフェノール（ｍ−
Ｂｒ、ｐ−Ｂｒ）、サリチル酸、フロログルシノールな
どのホルムアルデヒドとの縮合のノボラック樹脂及びレ
ゾール樹脂、さらに上記フェノール類化合物とアセトン
との縮合樹脂などが有用である。

【００２６】その他の好適な高分子化合物として以下
（１）〜（１２）に示すモノマーをその構成単位とする
通常１万〜２０万の分子量を持つ共重合体を挙げること
ができる。 （１）芳香族ヒドロキシル基を有するアクリルアミド
類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタ
クリル酸エステル類及びヒドロキシスチレン類、例えば
Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミドまたは
Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ
−、ｍ−及びｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ−及び
ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリレ
ート、（２）脂肪族ヒドロキシル基を有するアクリル酸
エステル類及びメタクリル酸エステル類、例えば、２−
ヒドロキシエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、

【００２７】（３）アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキ
シル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、アク
リル酸４−ヒドロキシブチル、グリシジルアクリレー
ト、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等の（置
換）アクリル酸エステル、（４）メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリ
ル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチ
ル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メ
タクリル酸−２−クロロエチル、メタクリル酸４−ヒド
ロキシブチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレートなどの（置換）メタクリ
ル酸エステル、

【００２８】（５）アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメ
タクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−エチ
ルメタクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ
−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアク
リルアミド、Ｎ−シクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ
−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルア
ミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド及びＮ
−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミドなどのアクリ
ルアミドもしくはメタクリルアミド、

【００２９】（６）エチルビニルエーテル、２−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル類、（７）ビニルアセテート、ビニル
クロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル
などのビニルエステル類、（８）スチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、（９）
メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビ
ニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン
類、（１０）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブ
タジエン、イソプレンなどのオレフィン類、（１１）Ｎ
−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビ
ニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
など、

【００３０】（１２）Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェ
ニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニル
フェニル）アクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノス
ルホニル）ナフチル〕アクリルアミド、Ｎ−（２−アミ
ノスルホニルエチル）アクリルアミドなどのアクリルア
ミド類、Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタク
リルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホ
ニル）ナフチル〕メタクリルアミド、Ｎ−（２−アミノ
スルホニルエチル）メタクリルアミドなどのメタクリル
アミド類、また、ｏ−アミノスルホニルフェニルアクリ
レート、ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、
ｐ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、１−（３
−アミノスルホニルフェニルナフチル）アクリレートな
どのアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミ
ド、ｏ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ
−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−アミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、１−（３−アミ
ノスルホニルフェニルナフチル）メタクリレートなどの
メタクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド。

【００３１】本発明のインキ受容層には、更に架橋剤、
接着助剤、着色剤、無機又は有機の微粒子、塗布面状改
良剤、可塑剤を必要に応じて添加することができる。そ
の他、このインキ受容層には、感度を高めるための光熱
変換剤や露光後のプリントアウト画像を形成させるため
の加熱発色系または消色系添加剤が含有されてもよい。

【００３２】具体的な有機高分子を架橋させる架橋剤と
して、ジアゾ樹脂、芳香族アジド化合物、エポキシ樹
脂、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化
合物、テトラアルコキシ珪素の初期加水分解縮合物、グ
リオキザール、アルデヒド化合物やメチロール化合物を
挙げることができる。

【００３３】接着助剤としては、上記のジアゾ樹脂が基
板及び親水層との接着に優れるが、この他にシランカッ
プリング剤、イソシアネート化合物、チタン系カップリ
ング剤も有用である。

【００３４】着色剤としては、通常の染料や顔料が用い
られるが、特にローダミン６Ｇ塩化物、ローダミンＢ塩
化物、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーンシ
ュウ酸塩、オキサジン４パークロレート、キニザリン、
２−（α−ナフチル）−５−フェニルオキサゾール、ク
マリン−４が挙げられる。他の染料として具体的には、
オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オ
イルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブル
ーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢ
Ｙ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５
（以上、オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５
５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチル
バイオレット、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）、パ
テントピュアブルー（住友三国化学社製）、ブリリアン
トブルー、メチルグリーン、エリスリシンＢ、ベーシッ
クフクシン、ｍ−クレゾールパープル、オーラミン、４
−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シア
ノ−ｐ−ジエチルアミノフェニルアセトアニリドなどに
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系もしくはアントラキノン系の染料又は
特開昭６２−２９３２４７号公報、特願平７−３３５１
４５号公報に記載されている染料を挙げることができ
る。上記色素は、インキ受容層中に添加される場合は受
容層の全固形分に対し、通常約０．０２〜１０重量％、
より好ましくは約０．１〜５重量％の割合ある。

【００３５】更に塗布面状改良剤としてよく知られた化
合物であるフッ素系界面活性剤やシリコン系界面活性剤
も用いることができる。具体的にはパーフルオロアルキ
ル基やジメチルシロキサン基を有する界面活性剤が塗布
面上を整えることで有用である。

【００３６】本発明で用いることができる無機又は有機
の微粒子としては１０ｎｍから１００ｎｍまでのコロイ
ダルシリカやコロイダルアルミニウム、更にはこれらの
コロイドより大きい粒径の不活性粒子、例えば、シリカ
粒子、表面疎水化したシリカ粒子、アルミナ粒子、二酸
化チタン粒子、その他重金属粒子、クレーやタルク等を
挙げることができる。これらの無機又は有機の微粒子を
インキ受容層中に添加することによって、上層の親水層
との接着性を改良し、印刷における耐刷力を増加させる
効果がある。インキ受容層中におけるこれらの微粒子の
添加割合は、全量の８０重量％以下で好ましくは４０重
量％以下である。

【００３７】更に、本発明のインキ受容層中には必要に
応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えら
れる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリ
ブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フクル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリ
ル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。

【００３８】更に、本発明のインキ受容層中には露光し
たとき画像部と非画像部を鮮明にするため発色系または
消色系の化合物が添加されることが好ましい。例えば、
ジアゾ化合物やジフェニルヨードニウム塩のような熱酸
発生剤と共にロイコ染料（ロイコマラカイトグリーン、
ロイコクリスタルバイオレット、クリスタルバイオレッ
トのラクトン体等）やＰＨ変色染料（例えば、エチルバ
イオレット、ビクトリアプアーブルーＢＯＨ等の染料）
が用いられる。その他、ＥＰ８９７１３４号明細書に記
載されているような、酸発色染料と酸性バインダーの組
合わせも有効である。この場合、加熱によって染料を形
成している会合状態の結合が切れ、ラクトン体が形成し
て有色から無色に変化する。これらの発色系または消色
系の添加割合は、受容層中の全固形分に対し１０重量％
以下好ましくは５重量％以下である。

【００３９】上記インキ受容層を塗布する溶媒としては
アルコール類（メタノール、エタノール、プロピルアル
コール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、
プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、エ
チレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコ
ールジメチルエーテル、テトラヒドロピラン等）、ケト
ン類（アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセト
ン等）、エステル類（酢酸メチル、エチレングリコール
モノメチルモノアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、
ガンマーブチロラクトン等）、アミド類（ホルムアミ
ド、Ｎ−メチルホルムアミド、ピロリドン、Ｎ−メチル
ピロリドン等）等を用いることができる。これらの溶媒
は単独又は混合状態で使用される。塗布液を調製する場
合、溶媒中の上記インキ受容層構成成分（添加剤を含む
全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０重量％であ
る。その他、上記のような有機溶媒からの塗布ばかりで
なく、水性エマルジョンからも被膜を形成させることが
できる。この場合の濃度は５重量％から５０重量％が好
ましい。

【００４０】本発明でのインキ受容層の塗布乾燥後の厚
みは、特に限定的ではないが、金属板上に設ける場合に
は断熱層としての役目も有するので、０．１μｍ以上が
好ましい。より好ましくは０．２μｍ以上である。親油
性のプラスチックフィルムを基板として使用する場合に
は、インキ受容層は上層との接着層としての役目を果す
ことができればよいので、その塗布量は金属板の時より
少なくてもよく、０．０５μｍ以上が好ましい。

【００４１】本発明に使用される親水層は、湿し水及び
インキを使用する平版印刷で、湿し水に溶けない層であ
り、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、
チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、
鉄、バナジウム、アンチモン及び遷移金属から選択され
た少なくとも一つの元素のコロイド粒子状酸化物又は水
酸化物、及びポリアクリル酸を含有する溶液を塗布して
形成される。本発明に用いられるコロイド粒子状の酸化
物又は水酸化物を構成する元素のうち特に好ましいもの
として、アルミニウム、珪素、チタン及びジルコニウム
を挙げることができる。

【００４２】本発明に用いられるコロイドの大きさは、
シリカでは粒径５〜１００ｎｍの球形のものが好適であ
る。粒径１０〜５０ｎｍの球状粒子が５０〜４００ｎｍ
の長さに連なったパールネック状のコロイドも用いるこ
とができる。アルミニウムの酸化物又は水酸化物コロイ
ドのように１００ｎｍ×１０ｎｍのような羽毛状のもの
も有効である。

【００４３】これらのコロイドは、上記元素のハロゲン
化物やアルコキシ化合物の加水分解又は水酸化物の縮合
など種々の公知の方法で作ることができる。例えば、
ジ、トリ及び／又はテトラアルコキシシランから、酸触
媒下、直接に加水分解・縮合反応を行いゾルを作製して
適用することもできる。このゾルを適用する場合は、よ
り強固な親水性３次元架橋皮膜が得られる。また、コロ
イドの分散液は、日産化学工業（株）などの市販品を選
択して用いてもよい。

【００４４】本発明の親水層には、親水性樹脂を含有さ
せることができる。親水性樹脂としては、例えばヒドロ
キシル、カルボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシ
プロピル、アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、カ
ルボキシメチルなどの親水基を有するものが好ましい。

【００４５】具体的な親水性樹脂として、アラビアゴ
ム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチ
ルセルロース及びそれらのNa塩、セルロースアセテー
ト、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コ
ポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリ
アクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及び
それらの塩、ビニルアルコール／アクリル酸共重合体及
びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモ
ポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレー
トのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピル
メタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロ
キシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリマ
ー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマー及
びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポ
リマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒ
ドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール
類、ならびに加水分解度が少なくとも６０重量％、好ま
しくは少なくとも８０重量％の加水分解ポリビニルアセ
テート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリ
マー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマー
及びポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのホモポ
リマー及びコポリマー等を挙げることができる。

【００４６】これらの親水性樹脂はコロイドと共に用い
られるが、その添加割合は親水性樹脂が水溶性の場合、
親水層の全固形分の４０重量％以下が好ましく、水溶性
でない親水性樹脂の場合は全固形分の２０重量％以下が
好ましい。

【００４７】本発明の親水層には上記のコロイド及び親
水性樹脂の他に、コロイドの架橋を促進する架橋剤を添
加しても良い。その様なコロイドの架橋剤としてはテト
ラアルコキシシランの初期加水分解縮合物、トリアルコ
キシシリルプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリアルキルアンモ
ニウムハライド又はアミノプロピルトリアルコキシシラ
ンが好ましい。その添加割合は親水層の全固形分の５重
量％以下であることが好ましい。

【００４８】親水性樹脂はこのまま用いることもできる
が、耐刷力を高めるため、必要に応じてコロイド以外の
親水性樹脂の架橋剤とともに用いても良い。このような
架橋剤として、ホルムアルデヒド、グリオキザール、ポ
リイソシアネート及びテトラアルコキシシランの初期加
水分解・縮合物、ジメチロール尿素やヘキサメチロール
メラミンを挙げることができる。

【００４９】上記の各成分を含有した親水層は、各成分
を溶剤に溶解もしくは分散した溶液を調製し、塗布によ
り設けられる。親水層塗布液の主溶剤としては、水、及
び、メタノール、エタノール、プロパノールなどの低沸
点アルコールが単独又は混合物として用いられる。

【００５０】本発明の親水層には、さらに、塗布の面状
を良化させるため、良く知られたフッ素系界面活性剤、
シリコン系界面活性剤、ポリオキシエチレン系界面活性
剤などを添加しても良い。

【００５１】本発明の親水層の塗布厚みは０．１μｍか
ら３μｍであることが好ましい。この範囲内で、アブレ
ーションが良好で、耐刷力も良好となる。

【００５２】本発明の感熱性平版印刷用原板は、アブレ
ーションによるカスの飛散抑制及び親油性物質による親
水層汚染の防止のため、親水層上に親水性オーバーコー
ト層を設けることができる。

【００５３】本発明に使用される親水性オーバーコート
層は印刷機上で除去可能なものであり、水溶性樹脂、又
は水溶性樹脂を部分的に架橋した水膨潤性樹脂から選ば
れた樹脂を含有する。

【００５４】かかる水溶性樹脂は、水溶性の天然高分子
及び合成高分子から選ばれ、架橋剤とともに用い、塗布
乾燥された皮膜がフィルム形成能を有するものである。
本発明に好ましく用いられる水溶性樹脂の具体例として
は、天然高分子では、アラビアガム、水溶性大豆多糖
類、繊維素誘導体（例えば、カルボキシメチルセルロー
ズ、カルボキシエチルセルローズ、メチルセルローズ
等）、その変性体、ホワイトデキストリン、プルラン、
酵素分解エーテル化デキストリン等、合成高分子では、
ポリビニルアルコール（ポリ酢酸ビニルの加水分解率６
５％以上のもの）、ポリアクリル酸、そのアルカリ金属
塩もしくはアミン塩、ポリアクリル酸共重合体、そのア
ルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリメタクリル酸、そ
のアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ビニルアルコール
／アクリル酸共重合体及びそのアルカリ金属塩もしくは
アミン塩、ポリアクリルアミド、その共重合体、ポリヒ
ドロキシエチルアクリレート、ポリビニルピロリドン、
その共重合体、ポリビニルメチルエーテル、ビニルメチ
ルエーテル／無水マレイン酸共重合体、ポリ−２−アク
リルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸、そ
のアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリ−２−アクリ
ルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸共重合
体、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、等を挙げる
ことができる。また、目的に応じて、これらの樹脂を二
種以上混合して用いることもできる。しかし、本発明は
これらの例に限定されるものではない。

【００５５】水溶性樹脂の少なくとも１種以上を部分架
橋し、親水層上にオーバーコート層を形成する場合、架
橋は、水溶性樹脂の有する反応性官能基を用いて架橋反
応することにより行われる。架橋反応は、共有結合性の
架橋であっても、イオン結合性の架橋であってもよい。

【００５６】架橋により、オーバーコート層表面の粘着
性が低下して取り扱い性がよくなるが、架橋が進み過ぎ
るとオーバーコート層が親油性に変化して、印刷機上に
おけるオーバーコート層の除去が困難になるので、適度
な部分架橋が好ましい。好ましい部分架橋の程度は、２
５℃の水中に印刷用原板を浸したときに、３０秒〜１０
分間では親水性オーバーコート層が溶出せず残存してい
るが、１０分以上では溶出が認められる程度である。

【００５７】架橋反応に用いられる化合物としては、架
橋性を有する公知の多官能性化合物が挙げられ、ポリエ
ポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリアルコ
キシシリル化合物、多価金属塩化合物、ポリアミン化合
物、アルデヒド化合物、ヒドラジンなどが挙げられ、該
架橋反応は公知の触媒を添加し、反応を促進することも
できる。

【００５８】架橋性を有する公知の多官能性化合物の具
体例としては、下記の化合物が挙げられる。

【００５９】ポリエポキシ化合物の具体例としては、グ
リセリンポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコ
ールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール
ジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグ
リシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシ
ジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、
ビスフェノール類もしくはそれらの水素添加物とエピハ
ロヒドリンとのポリ縮合物、などが挙げられる。

【００６０】ポリアミンの具体例としては、エチレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、テトラエチレンペンタミン、ヘキサメチレンジアミ
ン、プロピレンジアミン、ポリエチレンイミン、ポリア
ミドアミンなどが挙げられる。

【００６１】ポリイソシアネート化合物の具体例として
は、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンイソ
シアネート、液状ジフェニルメタンジイソシアネート、
ポリメチレンポリフェニルイソシアネート、キシリレン
ジイソシアネート、ナフタリン−１，５−ジイソシアネ
ート、シクロヘキサンフェニレンジイソシアネート、イ
ソプロピルベンゼン−２，４−ジイソシアネート、など
の芳香族イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、デカメチレンジイソシアネートなどの脂肪族イソ
シアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、イソホ
ロンジイソシアネートなどの脂環族ジイソシアネート、
またポリプロピレングリコール／トリレンジイソシアネ
ート付加反応物などが挙げられる。

【００６２】シラン化合物としては、メチルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリ
エトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、３−ク
ロロプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリス
（メチルエチルケトオキシム）シラン、メチルトリス
（メチルエチルケトオキシム）シラン、ビニルトリアセ
トキシシラン、など。

【００６３】チタネート化合物としては、テトラエチル
オルトシリケート、ビス（ジオクチルパイロホスフェー
ト）エチレンチタネート、イソプロピルトリアクタノイ
ルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロ
イルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアク
リルチタネート、イソプロピル（ジオクチルホスフェー
ト）チタネート）、イソプロピルトリクミルフェニルチ
タネート、イソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチルアミノ
エチル）チタネート、ジクミルフェニルオキシアセテー
トチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネー
ト、イソプロピルトリインステアロイルチタネート、イ
ソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネー
ト、イソプロピルトリス（ジオクチルホスフェート）チ
タネート、テトライソプロピルビス（ジオクチルホスフ
ァイト）チタネート、テトラオクチルビス（ジトリジシ
ルホスファイト）チタネート、テトラ（２、２ージアリ
ルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデシルホス
ファイトチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェ
ート）オキシアセテートチタネート、ビス（ジオクチル
パイロホスフェート）オキシアセテートチタネート、な
ど。

【００６４】アルデヒド化合物としては、ホルムアルデ
ヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、ブチル
アルデヒド、グリオキサール、グルタルアルデヒド、テ
レフタルアルデヒド、など。

【００６５】多価金属塩化合物としては、亜鉛、カルシ
ウム、マグネシウム、バリウム、ストロンチウム、コバ
ルト、マンガン、ニッケル等の金属の水溶性塩が挙げら
れる。

【００６６】これらの架橋剤は単独または２種以上を混
合して使用することが可能である。これらの架橋剤のう
ち特に好ましい架橋剤は、水溶性の架橋剤であるが、非
水溶性のものは分散剤によって水に分散して使用するこ
とができる。

【００６７】特に好ましい水溶性樹脂と架橋剤の組み合
わせとしては、カルボン酸含有水溶性樹脂／多価金属化
合物、カルボン酸含有水溶性樹脂／水溶性エポキシ樹
脂、水酸基含有樹脂／ジアルデヒド類を挙げられる。

【００６８】架橋剤の好適な添加量は、水溶性樹脂の２
〜１０重量％である。この範囲内で印刷機上でのオーバ
ーコート層の除去性を損なうことなく、良好な耐水性が
得られる。

【００６９】その他、オーバーコート層には塗布の均一
性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には主に非イオ
ン系界面活性剤を添加することができる。この様な非イ
オン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステ
アレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタント
リオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
ドデシルエーテル等を挙げることが出来る。上記非イオ
ン界面活性剤のオーバーコート層の全固形物中に占める
割合は、０．０５〜５重量％が好ましく、より好ましく
は１〜３重量％である。

【００７０】本発明のオーバーコート層の厚みは、水溶
性樹脂が架橋されていない場合は、０．１μｍから４．
０μmが好ましく、更に好ましい範囲は０．１μｍから
１．０μｍであり、水溶性樹脂が部分架橋されている場
合は、０．１〜０．５μｍが好ましく、０．１〜０．３
μｍがより好ましい。この範囲内で、印刷機上でのオー
バーコート層の除去性を損なうことなく、良好なアブレ
ーションカスの飛散抑制が得られる。

【００７１】本発明においては、インキ受容層、親水層
及びオーバーコート層のうち少なくとも一つの層に、赤
外線に対する感度を高めるため、赤外線を吸収して発熱
する機能を有する光熱変換剤が添加される。

【００７２】光熱変換剤としては、７００ｎｍ以上の光
を吸収する物質であればよく、種々の顔料や染料を用い
る事ができる。顔料としては、市販の顔料及びカラーイ
ンデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本
顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔
料が利用できる。

【００７３】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔
料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキ
サジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン
系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。

【００７４】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、
界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シ
リカゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポ
キシ化合物、イソシアネート化合物等）を顔料表面に結
合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、
「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用
技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されてい
る。これらの顔料中、赤外線を吸収するものが、赤外線
を発光するレーザでの利用に適する点で好ましい。その
ような赤外線を吸収する顔料としてはカーボンブラック
が特に好ましい。

【００７５】本発明の親水層及びオーバーコート層に添
加する顔料としては、特に水溶性又は親水性の樹脂と分
散しやすく、かつ親水性を損わないように親水性樹脂や
シリカゾルで表面がコートされたカーボンブラックが有
用である。

【００７６】顔料の粒径は０.０１μｍ〜１μｍの範囲
にあることが好ましく、０．０１μｍ〜０．５μｍの範
囲にあることが更に好ましい。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【００７７】染料としては、市販の染料及び文献（例え
ば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊、
「化学工業」１９８６年５月号Ｐ．４５〜５１の「近赤
外吸収色素」、「９０年代機能性色素の開発と市場動
向」第２章２．３項（１９９０）シーエムシー）又は特
許に記載されている公知の染料が利用できる。具体的に
は、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン染料、シア
ニン染料などの赤外線吸収染料が好ましい。

【００７８】さらに、赤外線吸収染料としては、例えば
特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６
号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシア
ニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−
１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載
されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、
特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７
号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４
０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナ
フトキノン染料、 特開昭５８−１１２７９２号等に記
載されているスクワリリウム染料、英国特許４３４，８
７５号記載のシアニン染料や米国特許第４，７５６，９
９３号記載の染料、米国特許第４，９７３，５７２号記
載のシアニン染料、特開平１０−２６８５１２号記載の
染料、特開平１１−２３５８８３号記載のフタロシアニ
ン化合物を挙げることができる。

【００７９】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１
４２６４５号公報（米国特許第４，３２７，１６９号）
記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８
１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３
６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９
号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号
公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９
−２１６１４６号公報記載のシアニン染料、米国特許第
４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリ
ウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２
号公報に記載されているピリリウム化合物、エポリン社
製エポライトIII−１７８、エポライトIII−１３０、エ
ポライトIII−１２５等も好ましく用いられる。これら
の中で、オーバーコート層及び親水層に添加するのに特
に好ましい染料は水溶性染料で、以下に具体例を構造式
で列挙する。

【００８０】

【化１】

【００８１】

【化２】

【００８２】本発明のインキ受容層に用いる染料は、前
記の赤外線吸収染料であっても良いが、好ましくはより
親油性の染料が良い。より好ましい染料として、以下に
例示する染料を挙げることができる。

【００８３】

【化３】

【００８４】

【化４】

【００８５】光熱変換剤の添加割合は、親水層では、固
形分の１〜５０重量％、好ましくは２〜２０重量％であ
る。オーバーコート層では、固形分の１〜７０重量％、
好ましくは２〜５０重量％、光熱変換剤が染料の場合、
特に好ましくは２〜３０重量％、光熱変換剤が顔料の場
合、特に好ましくは２０〜５０重量％の割合である。イ
ンキ受容層への光熱変換剤の添加割合は、インキ受容層
全固形分の２０重量％以下が好適で、１５重量％以下が
特に好適である。これらの範囲で、各層の膜強度を損な
うことなく、良好な感度が得られる。

【００８６】本発明の感熱性平版印刷用原板は熱により
画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直
接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン
放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光
などが用いられるが、波長７００〜１２００ｎｍの赤外
線を放射する半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の固体高出
力赤外線レーザによる露光が好適である。

【００８７】画像露光された本発明の印刷用原板は、そ
れ以上の処理なしに印刷機に装着することができる。又
は、印刷用原板を印刷機に取り付けた後に印刷機上でレ
ーザ露光し、そのまま印刷することも可能である。イン
キと湿し水を用いて印刷を開始すると、オーバーコート
層と露光部の親水層は、湿し水による溶解、又はブラン
ケットへの転写、さらに紙への移行によって除去され、
露出したインキ受容層にインキが着肉し、印刷物が得ら
れる。

【００８８】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００８９】実施例１ ［アルミニウム支持体の製造例］アルミニウム９９．５
重量％に、銅を０．０１重量％、チタンを０．０３重量
％、鉄を０．３重量％、ケイ素を０．１重量％含有する
ＪＩＳＡ１０５０アルミニウム材の厚み０．２４ｍｍ圧
延板を、４００メッシュのパミストン（共立窯業製）の
２０重量％水性懸濁液と回転ナイロンブラシとを用いて
その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。これを
１５重量％水酸化ナトリウム水溶液（アルミニウム４．
５重量％含有）に浸漬してアルミニウムの溶解量が５g
／ｍ²になるようにエッチングした後、流水で水洗し
た。更に、１重量％硝酸水溶液で中和し、次に０．７重
量％硝酸水溶液（アルミニウム０．５重量％含有）中
で、陽極時電圧１０．５Ｖ、陰極時電圧９．３Ｖの矩形
波交番波形電圧（電流比ｒ＝０．９０、特公昭５８−５
７９６号公報実施例に記載されている電流波形）を用い
て１６０Ｃ／ｄｍ²の陽極時電気量で電解粗面化処理を
行った。水洗後、３５℃の１０重量％水酸化ナトリウム
水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が１ｇ／ｍ ²
になるようにエッチングした後、水洗した。次に、５０
℃、３０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットし
た後、水洗した。さらに、３５℃の硫酸２０重量％水溶
液（アルミニウム０．８重量％含有）中で直流電流を用
いて、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。すなわ
ち、電流密度１３Ａ／ｄｍ²で電解を行い、電解時間の
調節により、陽極酸化皮膜重量２．７ｇ／ｍ²の支持体
を作製した。この支持体を水洗後、７０℃のケイ酸ナト
リウムの２．０重量％水溶液に３０秒浸漬処理し、水洗
乾燥した。付着量はケイ素として１５ｍｇ／ｍ²であっ
た。以上のようにして得られた支持体は、マクベスＲＤ
９２０反射濃度計で測定した反射濃度が０．３０で、中
心線平均粗さＲａが０．５８μmであった。

【００９０】［インキ受容層の塗布］上記支持体上に、
下記組成のインキ受容層塗布液を、塗布液量が１１．２
５ｍｌ／ｍ²になるようバーコーターで塗布した。その
後、１００℃、１分間加熱乾燥して、乾燥塗布量約０．
４５ｇ／ｍ²のインキ受容層を得た。

【００９１】 （インキ受容層塗布液） エピコート１１００Ｌ（油化シェルエポキシ（株）製） ０．８ｇ エピコート１００１（油化シェルエポキシ（株）製） ０．２ｇ 光熱変換剤（本明細書記載のＩＲ−２４） ０．２ｇ メチルエチルケトン １３ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル １２ｇ

【００９２】［親水層の塗布］このようにして設けたイ
ンキ受容層の上に、下記の親水層塗布液（Ｉ）をバー塗
布し、１００℃、１分間乾燥して、乾燥塗布量０．３９
ｇ／ｍ²の親水層を得た。

【００９３】 （親水層塗布液（Ｉ）） メタノールシリカ（日産化学工業（株）製：シリカ粒径１０〜２０ｎｍ、 ３０重量％含有メタノール溶液からなるコロイド） ３ｇ ポリアクリル酸（重量平均分子量２．５万）の ５重量％含有メタノール溶液 ２ｇ 乳酸メチル １ｇ メタノール １７．５３ｇ

【００９４】［オーバーコート層の塗布］上記親水層上
に、下記組成のオーバーコート層塗布液をバー塗布し、
１００℃、９０秒間乾燥して、乾燥塗布重量０．２２ｇ
／ｍ²のオーバーコート層を有する感熱性平版印刷用原
板を作製した。

【００９５】 （オーバーコート層塗布液） アラビアガム２８重量％含有水溶液 １．５ｇ 光熱変換剤（本明細書記載の染料ＩＲ−１０） ０．０４２ｇ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール （１０重量％含有水溶液） ０．１６８ｇ イオン交換水 ２２ｇ

【００９６】上記の感熱性平版印刷用原板をＣｒｅｏ社
製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ（４０Ｗの８３０ｎｍ半導体
レーザーを搭載したプレートセッター）にて、２００ｍ
Ｊ／ｃｍ²のエネルギーで露光した。露光した原板をそ
れ以上の処理をしないで、そのまま小森コーポレーショ
ン製の印刷機リスロンに取付け、プレートエッチ液ＥＵ
−３（富士写真フイルム（株）製）／水／イソプロピル
アルコール（容量比１／９９／１０）からなる湿し水
と、大日本インキ化学工業（株）製ジオスＧ墨インキを
用い、湿し水とインキを同時に作動させ、アートコート
紙を供給して印刷を開始したところ、刷り出し５枚目で
完全にインキが着肉し、その後３万枚の汚れのない良好
な印刷物が得られた。

【００９７】比較例１ 実施例１のアルミニウム支持体の製造例において、ケイ
酸ナトリウム水溶液の濃度をの０．２重量％に代えた以
外は全く同様にして比較用の感熱性平版印刷用原板を作
製した。シリケート付着量はケイ素として５ｍｇ／ｍ²
であった。次いで、この感熱性平版印刷用原板を、実施
例１と同様に露光、印刷したところ、刷り出し着肉は５
枚以内であったが、耐刷枚数は２万枚であった。

【００９８】実施例２ 実施例１のインキ受容層の上に、下記の親水層塗布液
（II）をバー塗布し、１００℃、１分間乾燥して、乾燥
塗布量０．３９ｇ／ｍ²の親水層を有し、オーバーコー
ト層をのない感熱性平版印刷用原板を得た。

【００９９】 （親水層塗布液（II）） メタノールシリカ（実施例１と同じもの） ３ｇ ポリアクリル酸（重量平均分子量２．５万）の ５重量％含有メタノール溶液 ２ｇ 光熱変換剤（本明細書記載のＩＲ−１０） ０．１ｇ 乳酸メチル １ｇ メタノール １７．５３ｇ

【０１００】この感熱性平版印刷用原板を、実施例１と
同じプレートセッターを用いて露光し、同じ印刷条件で
印刷した。その結果、刷り出し着肉枚数は５枚、耐刷枚
数は３万枚であった。一方、シリケート付着量がケイ素
として５ｍｇ／ｍ²である支持体を用いた以外は実施例
２と同様にして得た比較用印刷原板では、耐刷枚数は２
万枚であった。

【０１０１】実施例３ 実施例１の親水層上に、下記組成のオーバーコート層塗
布液ＯＣ−２をバー塗布し、１００℃、９０秒間乾燥し
て、乾燥塗布重量０．２２ｇ／ｍ²のオーバーコート層
を有する感熱性平版印刷用原板を作製した。

【０１０２】 （オーバーコート層塗布液ＯＣ−２） アラビアガム（２８重量％水溶液） １．５ｇ 光熱変換剤（本明細書記載の染料ＩＲ−１０） ０．０４２ｇ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール （１０重量％水溶液） ０．１６８ｇ 酢酸カルシウム（１０重量％水溶液） ０．３ｇ イオン交換水 ２２ｇ

【０１０３】この感熱性平版印刷用原板を、実施例１と
同じプレートセッターを用いて露光し、同じ印刷条件で
印刷した。その結果、刷り出し着肉枚数は５枚、耐刷枚
数は３万枚であった。一方、シリケート付着量がケイ素
として５ｍｇ／ｍ²である支持体を用いた以外は実施例
３と同様にして得た比較用印刷原板では、耐刷枚数は２
万枚であった。

【０１０４】

【発明の効果】本発明によれば、露光後処理を行うこと
なく直接印刷機に装着して印刷することが可能であり、
耐刷性がさらに改良された感熱性平版印刷用原板を提供
することにある。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/11 Ｇ０３Ｆ 7/11 7/36 7/36 Ｆターム(参考） 2H025 AA12 AB03 AC08 AD01 AD03 CC20 DA02 DA18 DA20 DA36 DA40 FA03 FA10 FA19 2H096 AA07 AA08 BA16 CA03 CA05 CA20 EA04 GA45 LA16 2H114 AA04 AA22 AA24 AA27 BA01 DA04 DA15 DA25 DA26 DA46 DA52 DA55 DA73 EA01 EA03 FA16 GA03 GA05 GA06 GA08 GA09 GA34 GA38

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アルミニウム支持体上に、（１）インキ
   受容層、並びに（２）ベリリウム、マグネシウム、アル
   ミニウム、ケイ素、チタン、硼素、ゲルマニウム、ス
   ズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモン及び遷
   移金属から選択される少なくとも一つの元素のコロイド
   粒子状酸化物又は水酸化物を含有する親水層を有し、イ
   ンキ受容層及び親水層のうち少なくとも一つの層が光熱
   変換剤を含有する感熱性平版印刷用原板であって、アル
   ミニウム支持体が２ｇ／ｍ²以上の陽極酸化皮膜を有
   し、かつケイ素付着量が１５ｍｇ／ｍ²以上のシリケー
   ト皮膜を有することを特徴とする感熱性平版印刷用原
   板。
2. 【請求項２】 アルミニウム支持体上に、（１）インキ
   受容層、（２）請求項１記載の親水層、及び（３）印刷
   機上で除去可能な親水性オーバーコート層を有し、イン
   キ受容層、親水層及び親水性オーバーコート層のうち少
   なくとも一つの層が光熱変換剤を含有する感熱性平版印
   刷用原板であって、アルミニウム支持体が２ｇ／ｍ²以
   上の陽極酸化皮膜を有し、かつケイ素付着量が１５ｍｇ
   ／ｍ²以上のシリケート皮膜を有することを特徴とする
   感熱性平版印刷用原板。