JP2002079774A - 平版印刷方法、印刷用原板及び印刷装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 現像を必要とせず、像様露光を原板に加える
ことによって速やかに印刷面が形成される、しかも印刷
時の着肉性がよく印刷汚れが少なく、かつ耐刷性に優れ
た、さらに印刷用原板を反復使用することも可能な印刷
版とその作製方法を提示すること。また、上記の印刷版
の作製を印刷機上で行うことができる印刷装置を提示す
ること。 【解決手段】 光触媒能を有する印刷用原板に疎水性物
質の層を一様に設けたのち、原板の温度４０〜２００°
Ｃへの加熱と活性光の照射を行って親水性領域と疎水性
領域の像様分布を形成させ、疎水性領域が印刷用インキ
を受け入れて印刷を行う平版印刷方法、そのための光触
媒性薄膜を有する印刷用原板及び印刷装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷方法、印刷
原板及び装置に関する。具体的には、現像することなく
製版することが可能な簡易な平版印刷方法とそれに用い
る印刷原板及び印刷装置に関する。さらに印刷機上で直
接製版も可能な平版印刷方法及び装置にも関する。

【０００２】

【従来の技術】平版印刷は、低コストで簡易な印刷手段
を望む印刷市場のニーズに適合した印刷手段として、印
刷分野においてＰＳ板などを中心に汎用されている。Ｐ
Ｓ板は、しかしながら画像を記録したのち、現像操作に
よって印刷版を作成するので湿式の製版工程が用いられ
ている。最近の市場では一層の簡易化が求められてお
り、その市場ニーズに応えて、平版印刷の中でも、とく
に簡易で現像不要な製版方法として、活性光の照射によ
って極性が変化する光触媒性物質を利用して親水性と疎
水性の像様分布を形成させて印刷版を製作する製版方法
が数多く提案されている。この製版方法では、原板上に
像様露光を行うだけで照射領域と非照射領域にインキ受
容性とインキ反発性に別れるに足る極性変化が生じるの
でそのまま印刷にかけることができて、極めて簡易な印
刷・製版方法といえる。

【０００３】例えば、特開平１１−１０５２３４号、同
１１−１３８９７０号、同１１−１３８９７１号、同１
１−１４３０５５号、同１１−１７４６６４号の各公報
では、光触媒性の金属化合物薄層を表面に有する印刷用
原板に活性光を像様に照射して極性を変化させて親水性
と疎水性の像様分布を形成させる製版・印刷方法が開示
されている。また、特開平１０−２５００２７号公報に
は、光触媒能を有する疎水性の表面に活性光を像様に照
射して親水性の画像領域を形成させたのち、静電印刷を
行う方法が開示されている。

【０００４】これらの光触媒性物質の活性光による極性
変換を利用すれば、簡易性に大きな利点を有するが、そ
れに加えてさらに印刷品質や耐刷性も向上すれば、印刷
版としての実用価値が一層高められるので、これらの面
でも改善が求められている。その改善のためには照射領
域と非照射領域の識別性を向上させる必要がある。

【０００５】識別性の向上手段としては、特開平１０−
２５１３１号公報に、親水性の強化のためにシリカやア
ルミナ材料を表面に用い、疎水性化にはフッ素系の気体
疎水化剤を用いて親水性と疎水性の差を強化する方法が
提案されている。また、特開平１１−１３３６３１号公
報には、光触媒能を有する原板上に疎水性物質層を設
け、活性光の照射によって、照射領域の疎水性物質を分
解させて親水性と疎水性の識別性を高める方法も開示さ
れている。

【０００６】しかしながら、これらの光触媒性物質の極
性変換を利用した印刷原板は、照射領域と非照射領域の
識別性をさらに向上させることも望まれているが、その
ほかに活性光照射に伴う極性変化速度が遅いという本質
的な弱点の是正も望まれている。極性変化速度が遅いと
感度が低下し、活性光による描画時間が長くなり、かつ
消費エネルギ−が大きくなることなどの問題があった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
の背景にもとづくものであって、印刷・製版作業の簡易
性という利点を有する光触媒性材料を用いた製版・印刷
版方法において、画像記録用の活性光に対する感度が高
く、かつ活性光照射に伴う電力消費も少なく、さらに画
像部と非画像部の識別性も優れた平版印刷方法を提示す
ることである。具体的には、現像を必要とせず、活性光
による像様露光を原板に加えるとによって実質的に印刷
面が形成される、しかも照射領域の極性変化の速度及び
感度が高く、かつ識別性にも優れた印刷方法と、それに
用いる印刷用原板及び印刷装置を提示することである。
本発明のさらなる課題は、上記の印刷版の作製を印刷機
上で行うことができる印刷装置を提示することである。
また、別のさらなる課題は、印刷原板を反復再使用する
ことが可能な印刷版を提示することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の課題に対して、本
発明者は光触媒能を有する物質の極性変換の速度に関係
する要因の詳細な検討を通して解決手段を広く探索した
結果、光触媒性物質は、特定の温度領域において活性光
照射による極性変換速度が顕著に増大する事実を見いだ
し、この性質の印刷・製版への適用を鋭意検討した結
果、本発明に到達した。すなわち本発明は下記の通りで
ある。

【０００９】１．光触媒能を有する印刷用原板に疎水性
物質の層を一様に設けたのち、該原板表面の４０〜２０
０°Ｃの温度への加熱と活性光による照射とによって親
水性領域と疎水性領域の像様分布を形成させ、疎水性領
域が印刷用インキを受け入れて印刷を行うことを特徴と
する平版印刷方法。

【００１０】２．少なくとも該活性光による照射が像様
に行われることを特徴とする上記１に記載の平版印刷方
法。

【００１１】３．少なくとも該４０〜２００°Ｃの温度
への加熱が像様に行われることを特徴とする上記１に記
載の平版印刷方法。

【００１２】４．該原板の温度を４０〜２００°Ｃとす
る加熱が光照射によって該活性光の照射と同時に行なわ
れ,かつ活性光の照射領域が加熱光照射領域に包含され
るように行われることを特徴とする上記１又は２に記載
の平版印刷方法。

【００１３】４ａ．原板の温度を４０〜２００°Ｃとす
る加熱用の光照射と活性光の光照射がともに像様照射で
あることを特徴とする上記４に記載の平版印刷方法。

【００１４】５．該原板の温度を４０〜２００°Ｃとす
る加熱が光照射によって該活性光の照射と同時に行なわ
れ,かつ加熱光の照射領域が活性光照射領域に包含され
るように行われることを特徴とする上記３に記載の平版
印刷方法。 ５ａ．原板の温度を４０〜２００°Ｃとする加熱用の光
照射と活性光の光照射がともに像様照射であることを特
徴とする上記５に記載の平版印刷方法。 ６．該疎水性物質の層を設ける方法が、塗り付け塗布、
噴霧塗布、気化凝縮法、気体接触法及び浸漬塗布、から
選ばれる方法であることを特徴とする上記１〜５のいず
れか1項に記載の平版印刷方法。

【００１５】７．該疎水性物質が昇華性固体又は揮発性
液体であって、該疎水性物質の気体を印刷用原板表面に
凝結させて疎水性物質の層を設けることを特徴とする上
記１〜６のいずれか1項に記載の平版印刷方法。

【００１６】８．該疎水性物質が高分子有機化合物であ
って、該高分子有機化合物の溶液又は粒子分散物を印刷
用原板表面に噴霧して疎水性物質の層を設けることを特
徴とする上記１〜６のいずれか1項に記載の平版印刷方
法。

【００１７】９．印刷に使用した印刷版からインキを除
去したのち、該印刷版を印刷用原板として再使用するこ
とを特徴とする上記１〜８のいずれか１項に記載の平版
印刷方法。

【００１８】１０．光触媒能を有し、かつ製版工程にお
いて活性光の照射が４０〜２００°Ｃの原板温度のもと
で行われることを特徴とする平版印刷用原板。

【００１９】１１．該光触媒能を有する原板が、ＴｉＯ
₂, ＲＴｉＯ₃（Ｒはアルカリ土類金属原子）、ＡＢ_2-x
Ｃ_xＤ_3-xＥ_xＯ₁₀（Ａは水素原子又はアルカリ金属原
子、Ｂはアルカリ土類金属原子又は鉛原子、Ｃは希土類
原子、Ｄは周期律表の５Ａ族元素に属する金属原子、Ｅ
は同じく４Ａ族元素に属する金属原子、ｘは０〜２の任
意の数値を表す）、ＳｎＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、Ｂｉ₂Ｏ
₃ ，ＺｎＯ及びＦｅＯ_x（ｘ＝１〜１．５）で表される
酸化鉄、から選ばれる金属酸化物を光触媒性物質として
有することを特徴とする上記１０に記載の平版印刷用原
板。

【００２０】１２．光触媒能を有する層と支持体との間
に断熱層が設けられていることを特徴とする上記１０又
は１１に記載の平版印刷用原板。

【００２１】１３．（１）光触媒能を有する印刷用原板
を装着する装着部と、（２）該原板に疎水性物質の層を
設ける全面疎水化処理部と、（３）該疎水性層を担持し
た印刷用原板に活性光を像様又は全面に照射する活性光
照射部と、（４）該活性光の照射時に原板表面の温度が
像様または全面に４０〜２００°Ｃとなるように加熱す
る加熱部と、（５）該疎水性領域に印刷インキを供給
し、該親水性領域に湿し水を供給するインキ及び湿し水
供給部と、（６）疎水性領域がインキを受容し、親水性
領域が湿し水を受容してなる印刷面を被印刷面と接触さ
せて印刷を行う印刷部と、を有することを特徴とする平
版印刷装置。平版印刷装置は、該活性光の照射部が印刷
用原板を像様に照射する活性光照射部を有していて加熱
のもとで照射部分が親水性となって親水性と疎水性の像
様分布が得られる装置と、加熱が像様に行われて加熱さ
れた領域が親水性となって親水性と疎水性の像様分布が
得られる装置と、さらに加熱も活性光の照射も像様に行
われ、両者が同じ画像情報を同時に原板に与える装置と
がある。

【００２２】１４．活性光照射の際に印刷原板表面を所
定の温度に維持する加熱手段が、光照射加熱手段である
ことを特徴とする上記１３に記載の平版印刷装置。

【００２３】１５．活性光照射の際に印刷原板表面を所
定の温度を維持する加熱手段が、電熱加熱手段であるこ
とを特徴とする上記１３に記載の平版印刷装置。

【００２４】本発明において、「光触媒能を有する物質
（光触媒性物質とも呼ぶ）」とは、光半導体分野で通常
用いられている意味で用いており、例えば酸化チタンな
どのように特定波長の光の照射によって表面が疎水性か
ら親水性方向に変化する光物性変化物質を指しており、
この光物性変化を引き起こす特定波長の光を「活性光」
と呼んでいる。

【００２５】本発明は、基本的には、「光触媒能を有す
る物質」の極性変換の速度や変化度の特異な温度依存性
を利用して感度と識別性を向上させた印刷方法、それを
具現する原板及び装置である。すなわち、活性光の照射
による親水性への変化速度は、ある温度領域で速くな
り、製版作業を制約しない十分な速度で描画が可能とな
る。しかも室温での光照射では親水性への変化が不十分
の場合には高温照射によって親水性度も向上するので、
識別性の改善にもつながる。

【００２６】その感度―温度特性を具体的に図示したも
のが図１である。図１は、典型的な光触媒性物質である
二酸化チタンに活性光を照射したときの表面極性の親水
化所要時間と温度との関係を示す図であって、エネルギ
ー強度１．３ｍＷ／ｃｍ² の紫外線（活性光）を二酸化
チタン表面に照射したときに表面の水に対する接触角が
５度になるのに要する時間を極性変換速度の尺度に取っ
て縦軸に示し、照射時の二酸化チタン表面温度を横軸に
取って示してある。図１から判るように、常温（室温）
では約２８０秒を要する親水化が６０°Ｃでは約１００
秒に短縮され、さらに１２０°Ｃでは約２０秒に短縮さ
れる。したがって、温度効果を利用して親水化速度が製
版工程の制約にならないレベルに迅速化することができ
る。

【００２７】また、常温での露光では、光触媒性物質の
光照射による親水性化の程度が十分ではない場合（本発
明の平版印刷方法のように原板表面に疎水性物質層を設
けてあるときがこれに相当する）、照射時の温度を上記
の範囲に置くことによって活性光の親水性化作用が現れ
るので、識別性の改善が得られ、これも本発明の利点で
ある。

【００２８】上記の光触媒性物質の温度効果を利用した
本発明の平版印刷方法は、光触媒能を有する印刷原板を
用い、この印刷原板に疎水性物質の層を設けて全面を十
分に疎水化したのち、原板の温度が４０〜２００°Ｃの
もとで活性光を照射することによって、原板上に親水性
領域と疎水性領域の像様分布を形成させて印刷版とし、
この版面に印刷インキと湿し水を適用して印刷を行うと
いう工程からなる。この方法によって疎水性層の付与に
よる識別性の確保、光触媒性物質による現像処理不要の
画像形成・製版方式の簡易性及び照射時の原板温度の制
御による迅速な描画速度と識別性の確保、が達せられて
本発明の目的が満たされる。

【００２９】また、上記の原板温度が４０〜２００°Ｃ
のもとで活性光を照射することにより親水性領域と疎水
性領域の像様分布を形成させる方法には、原板全面を
該温度に加熱しておいて、画像情報で変調された活性光
で像様照射を行って照射領域を親水性領域とする方法、
常温では親水性化作用が現れない程度の光エネルギー
強度の活性光を全面照射しながら、例えば熱ヘッド記録
や赤外線レーザー記録などの熱描画手段で像様に熱印加
を行って加熱領域を親水性領域とする方法、活性光の
照射と熱の印加がともに像様に行われる方法が行われ
る。の方法の好ましい態様は、活性光照射と熱の印加
がともに走査方式で行なわれる態様であって、中でも熱
の印加が赤外線レーザーの像様照射であることが好まし
い。

【００３０】熱の印加が赤線レーザー光の照射によって
行なわれる場合、活性光の照射領域が狭くて熱印加領域
の中に入り、活性光の照射によって親水性領域が形成さ
れる場合と、活性光の像様照射領域の中に熱描画領域が
はいり、熱描画によって親水性領域が決定される場合と
がある。なお、本明細書で、全面照射、全面加熱、一様
照射などの記述は、全面が同時に照射や加熱（フラッシ
ュ光のような）を施される方式と順次に行なわれる走査
方式の両方を含んでいる。

【００３１】本発明の製版過程は、上記したように原板
の全面疎水化から始まる。疎水化の方法としては、液
体、溶液状又は分散液状の疎水性物質の塗り付け、粒
子化した疎水性物質の噴霧、気化させた疎水性物質の
原板面上への凝縮、気体状疎水性物質の原板への接触
による吸着及び浸漬処理から適した方法が選ばれる。
その詳細は後述する。

【００３２】全面疎水性化した原板に活性光を全面照射
する場合は、原板表面への一様の照射光であっても、ス
リット光の走査露光方式で間、あるいはレーザービーム
光の2次元走査露光方式でもよく、像様親水性領域を形
成させる活性光の像様照射は、画像マスクを通して活性
光を照射する面露光によっても、画像情報を担持したレ
ーザービーム光の走査露光によってもよく、後者の場合
にはリニア走査露光でもアレーを用いた２次元走査露光
でもよい。その詳細も後述する。

【００３３】活性光照射の際に印刷原板表面を所定の温
度に維持する加熱手段は、温度が４０〜２００°Ｃに制
御できる加熱手段であれば、いずれを用いてもよいが、
ハロゲン・タングステンランプや赤外線ランプなどの熱
線(輻射線)と呼ばれる光熱変換性光の照射加熱手段及び
電熱加熱された金属ローラーとの接触加熱手段が好まし
い。また加熱手段は版胴内部に設けられていてもよい。
熱の印加が像様に行われる場合には、熱転写用の熱ヘッ
ドなどの熱描画手段を用いて、ヘッドの操作による描画
が行われる。また、複数のヘッドをリニアに配列したア
レーによる走査方式の描画も好ましい。しかし、描画手
段としては、熱ヘッドに限定されない。熱の印加と活性
光の照射と同時(「同時」とは熱の印加と活性光の照射
とが濃さなっている時間があることを意味し，必ずしも
両者の時間が一致することを意味しない)に行な割れ
る。熱の印加と活性光の照射のいずれもがレーザー光照
射である場合には,活性光の照射領域が加熱用のレーザ
ー光ビームの照射スポットに含まれるように行われるの
が好ましいが、これに限定されない。

【００３４】本発明においては、印刷を終了した後、印
刷版上の印刷インキを洗浄除去して印刷原板を再使用す
ることができる。そのさい印刷版を電熱加熱して版面上
の画像履歴を確実に消去することができる。このいわば
初期化操作を行った印刷原板表面は、その光触媒性を回
復している。

【００３５】上記した本発明の印刷方法は、印刷原板を
印刷機に装着して印刷機上で上記した製版・印刷工程、
さらには原板再生工程をも施すことも可能である。原板
再生工程も行う印刷装置を用いると、本発明の製版・印
刷方法を原板を印刷機に装着したまま、反復して行うこ
とができて、本発明の簡易性という特徴を一層発揮する
ことができる。その場合には、原板の画像履歴消去用の
加熱装置を具備した印刷装置が適している。加熱装置
は、版胴の内部に電熱ヒーターを埋め込んだ加熱部を設
けておくと電熱によって簡単に履歴を消去でき、余分な
操作が不要であって好都合である。

【００３６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態をさら
に詳細につぎの順序によって説明する。はじめに本発明
に用いる印刷用原板、すなわち原板を構成する光触媒物
質からなる感光層(画像記録層とも呼ぶ)、必要に応じて
設けることのできる断熱層及びそれらを担持する支持体
について、次いで本発明の製版・印刷方法、すなわち、
まず疎水性層の全面付与方法、全面疎水化した原板への
熱の印加と画像露光方法、印刷工程と印刷終了後の印刷
版の再生工程について、さらに本発明による印刷装置に
ついて順次説明する。

【００３７】Ｉ 印刷用原板 〔感光層〕 （光触媒性物質）本発明で用いる光触媒性物質は、必ず
しも金属酸化物に限定されないが、印刷用原板としての
要件なども考慮されると、金属酸化物の中に比較的多く
見られる。また、この物質は、セラミックや半導体のな
かにも見られ、多くの場合、複合金属酸化物からなって
おり、光触媒能を有する物質は、基底順位と伝導体が近
い真正半導体と不純物準位に依存する酸化バナジウムや
酸化銅などの仮性半導体との両方に見られる。

【００３８】本発明に用いる金属酸化物は、いろいろの
形態の金属酸化物に見られ、単一の金属酸化物、複合酸
化物のいずれの場合もあり、また後者の場合は、固溶
体、混晶、多結晶体、非晶質固溶体、金属酸化物微結晶
の混合物のいずれからもこの特性を有するものが認めら
れる。このような特性をもつ金属酸化物は、経験的に周
期律表の０と VIIＡ（ハロゲン元素）族を除く第３〜６
周期に属する金属元素の酸化物に見いだされる。なお、
上記金属及び金属酸化物は、印刷版として使用する際に
湿し水に対して過度に溶解してはならないので、水に対
する溶解度は、水１００ミリリットルについて１０ｍｇ
以下、好ましくは５ｍｇ以下、より好ましくは１ｍｇ以
下である。

【００３９】「光触媒能を有する金属酸化物」の中で
も、酸化チタンと酸化亜鉛は好ましく、これらについて
まず説明する。これらは、いずれも本発明の光応答性を
有する印刷版材料として利用できる。特に酸化チタンが
感度（つまり表面性の光変化の敏感性）などの点で好ま
しい。酸化チタンは、イルメナイトやチタンスラグの硫
酸加熱焼成、あるいは加熱塩素化後酸素酸化など既知の
任意の方法で作られたものを使用できる。あるいは後述
するように金属チタンを用いて印刷版製作段階で真空蒸
着によって酸化物皮膜とする方法も用いることができ
る。

【００４０】酸化チタン又は酸化亜鉛を含有する層を原
板の表面に設けるには、たとえば、酸化チタン微結晶
又は酸化亜鉛微結晶の分散物を印刷版の原板上に塗設す
る方法、塗設したのち焼成してバインダーを減量或い
は除去する方法、印刷原板上に蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング、ＣＶＤなどの方法で酸化チ
タン（又は酸化亜鉛）膜を設ける方法、例えばチタニ
ウムブトキシドのようなチタン有機化合物を原板上に塗
布したのち、焼成酸化を施して酸化チタン層とする方法
など、既知の任意の方法を用いることができる。本発明
においては、真空蒸着又はスパッタリングによる酸化チ
タン層が特に好ましい。

【００４１】上記又はの酸化チタン微結晶を塗設す
る方法には、具体的には無定形酸化チタン微結晶分散物
を塗布したのち、焼成してアナターゼまたはルチル型の
結晶酸化チタン層とする方法、酸化チタンと酸化シリコ
ンの混合分散物を塗布して表面層を形成させる方法、酸
化チタンとオルガノシロキサンなどとの混合物を塗布し
てシロキサン結合を介して支持体と結合した酸化チタン
層を得る方法、酸化物層の中に酸化物と共存するできる
ポリマーバインダーに分散して塗布したのち、焼成して
有機成分を除去する方法などがある。酸化物微粒子のバ
インダ−には、酸化チタン微粒子に対して分散性を有
し、かつ比較的低温で焼成除去が可能なポリマーを用い
ることができる。好ましいバインダーの例としては、ポ
リエチレンなどのポリアルキレン、ポリブタジエン、ポ
リアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポ
リ酢酸ビニル、ポリ蟻酸ビニル、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリビニルアルコ
ール、部分鹸化ポリビニルアルコール、ポリスチレンな
どの疎水性バインダーが好ましく、それらの樹脂を混合
して使用してもよい。

【００４２】上記の酸化チタンの真空蒸着を行うに
は、例えば通常真空蒸着装置内の蒸着用加熱の熱源に金
属チタンを置き、全ガス圧１０^-2Ｐａ、酸素分圧比が３
０〜９５％になるようにしながら、チタン金属を蒸発さ
せると、蒸着面には酸化チタンの蒸着薄膜が形成され
る。また、スパッタリングによる場合は、例えばスパッ
タ装置内にチタン金属ターゲットをセットしてＡｒ／Ｏ
２ 比が６０／４０（モル比）となるようにガス圧を５
×１０^-1Ｐａに調整したのち、ＲＦパワー２００Ｗを投
入してスパッタリングを行って酸化チタン薄膜を基板上
に形成させる。

【００４３】一方、本発明に酸化亜鉛層を使用する場
合、その酸化亜鉛層は既知の任意の方法で作ることがで
きる。とくに金属亜鉛板の表面を電解酸化して酸化皮膜
を形成させる方法と、真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング，ＣＶＤなどによって酸化亜鉛皮膜を
形成させる方法が好ましい。酸化亜鉛の蒸着膜は、上記
の酸化チタンの蒸着と同様に金属亜鉛を酸素ガス存在下
で蒸着して酸化膜を形成させる方法や、酸素のない状態
で亜鉛金属膜を形成させたのち、空気中で温度を約７０
０°Ｃにあげて酸化させる方法を用いることができる。
そのほか、修酸亜鉛の塗布層やセレン化亜鉛の薄層を酸
化性気流中で加熱しても得られる。

【００４４】蒸着膜の厚みは、酸化チタン層、酸化亜鉛
層いずれの場合も０．１〜１００００ｎｍがよく、好ま
しくは１〜１０００ｎｍである。さらに好ましくは３０
０ｎｍ以下として光干渉の歪みを防ぐのがよい。また、
光活性化作用を十分に発現させるには厚みが５ｎｍ以上
あることが好都合である。

【００４５】酸化チタンはいずれの結晶形のものも使用
できるが、とくにアナターゼ型のものが感度が高く好ま
しい。アナターゼ型の結晶は、酸化チタンを焼成して得
る過程の焼成条件を選ぶことによって得られることはよ
く知られている。その場合に無定形の酸化チタンやルチ
ル型酸化チタンが共存してもよいが、アナターゼ型結晶
が４０％以上、好ましくは６０％以上含むものが上記の
理由から好ましい。酸化チタンあるいは酸化亜鉛を主成
分とする層における酸化チタンあるいは酸化亜鉛の体積
率は、それぞれ３０〜１００％であり、好ましくは５０
％以上を酸化物が占めるのがよく、さらに好ましくは酸
化物の連続層つまり実質的に１００％であるのがよい。
しかしながら、表面の親水性／親油性変化特性は、酸化
亜鉛を電子写真感光層に用いるときのような著しい純度
による影響はないので、１００％に近い純度のもの（例
えば９８％）をさらに高純度化する必要はない。それ
は、本発明に利用される物性は、導電性とは関係ない膜
表面の親水性／親油性の性質変化特性、すなわち界面物
性の変化特性であることからも理解できることである。

【００４６】しかしながら、熱の作用によって表面の親
水性が変化する性質を増進させるためにある種の金属を
ドーピングすることは有効な場合があり、この目的には
イオン化傾向が小さい金属のドーピングが適しており、
Ｐｔ，Ｐｄ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｏ又は
Ｃｒをドーピングするのが好ましい。また、これらの好
ましい金属を複数ドーピングしてもよい。ドーピングを
行った場合も、その注入量は酸化亜鉛や酸化チタン中の
金属成分に対して５モル％以下である。

【００４７】次に、本発明に用いることができる別の化
合物である一般式ＲＴｉＯ_３で示したチタン酸金属塩に
ついて記す。一般式ＲＴｉＯ_３において、Ｒはマグネシ
ウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ベリリ
ウムなどの周期律表のアルカリ土類元素に属する金属原
子であり、とくにストロンチウムとバリウムが好まし
い。また、２種以上のアルカリ土類金属原子をその合計
が上記の式に化学量論的に整合する限り共存することが
できる。

【００４８】次に、一般式ＡＢ_２−ｘＣ_ｘＤ_３−ｘＥ_ｘ
Ｏ_１０で表される化合物について説明する。この一般式
において、Ａは水素原子及びナトリウム、カリウム、ル
ビジウム、セシウム、リチウムなどのアルカリ金属原子
から選ばれる１価原子で、その合計が上記の式に化学量
論的に整合する限りそれらの２種以上を共存してもよ
い。Ｂは、上記のＲと同義のアルカリ土類金属原子又は
鉛原子であり、同様に化学量論的に整合する限り２種以
上の原子が共存してもよい。Ｃは希土類原子であり、好
ましくは、スカンジウム及びイットリウム並びにランタ
ン、セリウム、プラセオジウム、ネオジウム、ホルミウ
ム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ツリウ
ム、イッテルビウム、ルテチウムなどのランタノイド系
元素に属する原子であり、また、その合計が上記の式に
化学量論的に整合する限りそれらの２種以上を共存して
もよい。Ｄは周期律表の５Ａ族元素から選ばれた一種以
上で、バナジウム、ニオブ、タンタルが挙げられる。ま
た、化学量論関係を満たす限り、２種以上の５Ａ族の金
属原子が共存してもよい。Ｅは同じくチタン、ジルコニ
ウム、ハフニウムなどの４Ａ族元素に属する金属原子で
あり、また、２種以上の４Ａ族の金属原子が共存しても
よい。ｘは０〜２の任意の数値を表す。

【００４９】ＲＴｉＯ₃、一般式ＡＢ_2-xＣ_xＤ_3-xＥ_xＯ
₁₀で表される上記化合物、ＳｎＯ₂，ＺｒＯ₂ ，Ｂｉ₂
Ｏ₃ ，Ｆｅ₂Ｏ₃のいずれの薄膜形成にも、酸化チタン
及び酸化亜鉛を設ける前記の方法を用いることがでる。
すなわち、上記光触媒性金属酸化物の微粒子の分散物
を印刷版の原板上に塗設する方法、塗設したのち焼成
してバインダーを減量或いは除去する方法、印刷版の
原板上に上記酸化物を各種の真空薄膜法で膜形成する方
法、例えば金属元素のアルコレートのような有機化合
物を原板上に塗布したのち、加水分解させ、さらに焼成
酸化を施して適当な厚みの金属薄膜とする方法、上記
金属を含む塩酸塩、硝酸塩などの水溶液を加熱スプレー
する方法など、既知の任意の方法を用いることができ
る。

【００５０】例えば、上記、の塗設方法によってチ
タン酸バリウム微粒子を塗設するには、チタン酸バリウ
ムとシリコンの混合分散物を塗布して表面層を形成させ
る方法、チタン酸バリウムとオルガノポリシロキサンま
たはそのモノマ−との混合物を塗布する方法などがあ
る。また、酸化チタンの項で述べたように、酸化物層の
中に酸化物と共存できるポリマーバインダーに分散して
塗布した後、焼成して酸化物層とすることもできる。酸
化物微粒子のバインダ−として好ましいポリマーの例
は、酸化チタン層の項で述べたものと同じである。この
方法によって、チタン酸バリウム以外にチタン酸マグネ
シウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム
又はそれらの分子間化合物、混合物も同様に薄膜形成可
能である。

【００５１】同様にして上記、の塗設方法によって
ＣｓＬａ₂ＮｂＴｉ₂Ｏ₁₀微粒子を塗設することも可能で
ある。ＣｓＬａ₂ＮｂＴｉ₂Ｏ₁₀微粒子は、その化学量論
に対応するＣｓ₂ＣＯ₃, Ｌａ₂Ｏ₃, ＮｂＯ₅, ＴｉＯ₂
を乳鉢で微粉砕して、白金るつぼに入れ、１３０°C で
５時間焼成し、それを冷却してから乳鉢に入れて数ミク
ロン以下の微粒子に粉砕する。このＣｓＬａ₂ＮｂＴi₂
Ｏ₁₀微粒子を前記のチタン酸バリウムと同様にバインダ
ーの中に分散し、塗布して薄膜を形成した。この方法
は、ＣｓＬａ₂ＮｂＴｉ₂Ｏ₁₀型微粒子に限らず、ＨＣａ
_1.5 Ｌａ_0.50Ｎｂ_2.5Ｔｉ_0.5Ｏ₁₀，ＨＬａ₂ＮｂＴｉ₂
Ｏ₁₀など前述のＡＢ_2-xＣ_xＤ_3-xＥ_xＯ₁₀、（０≦ｘ≦
２）に適用される。

【００５２】上記の真空薄膜形成法を用いた光触媒性
金属酸化物層の形成方法としては、一般的にはスパッタ
リング法あるいは真空薄膜形成法が用いられる。スパッ
タリング法では、あらかじめ単一もしくは複合型の酸化
物ターゲットを準備する。例えば、チタン酸バリウムタ
ーゲットを用いて蒸着膜用の支持体の温度を４５０°Ｃ
以上に保ち、アルゴン／酸素混合雰囲気中でＲＦスパッ
タリングを行うことによりチタン酸バリウム結晶薄膜が
得られる。結晶性の制御には必要に応じてポストアニー
リングを３００〜９００°Ｃで行えばよい。本方法は前
述のＲＴｉＯ３（Ｒはアルカリ土類金属原子）をはじめ
他の前記光触媒性金属酸化物にも、結晶制御に最適な基
板温度を調整すれば同様の考え方で薄膜形成が可能であ
る。例えば酸化錫薄膜を設ける場合には基板温度１２０
°Ｃ、アルゴン／酸素比５０／５０の混合雰囲気中でＲ
Ｆスパッタリングを行うことにより酸化錫結晶の本目的
に沿う薄膜が得られる。

【００５３】上記の金属アルコレートを用いる方法
も、バインダーを使用しないで目的の薄膜形成が可能な
方法である。チタン酸バリウムの薄膜を形成するにはバ
リウムエトキシドとチタニウムブトキシドの混合アルコ
ール溶液を表面にＳｉＯ_２を有するシリコン基板上に塗
布し、その表面を加水分解したのち、２００°Ｃ以上に
加熱してチタン酸バリウムの薄膜を形成することが可能
である。本方式の方法も前述した他のＲＴｉＯ₃（Ｒは
アルカリ土類金属原子）、ＡＢ_2-xＣ_xＤ_3-xＥ_xＯ
_{1 0}（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅはそれぞれ前記の定義の内容を
表す）、ＳｎＯ₂，ＺｒＯ ₂ ，ＳｉＯ₂，Ｂｉ₂Ｏ₃及びＦ
ｅ₂Ｏ₃の薄膜形成に適用することができる。

【００５４】上記によって光触媒性を発現する金属酸
化物薄膜を形成させる方法も、バインダーを含まない系
の薄膜の形成が可能である。ＳｎＯ₂の薄膜を形成する
にはＳｎＣｌ_４の塩酸水溶液を２００°Ｃ以上に加熱し
た石英又は結晶性ガラス表面に吹きつけて薄膜を生成す
ることができる。本方式も、ＳｎＯ₂薄膜のほか，前述
したＲＴｉＯ₃（Ｒはアルカリ土類金属原子）、ＡＢ_2-x
Ｃ_xＤ_3-xＥ_xＯ₁₀（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅはそれぞれ前記
の定義の内容を表す）、Ｂｉ₂Ｏ₃及びＦｅ₂Ｏ₃のいずれ
の薄膜形成にも適用することができる。

【００５５】金属酸化物薄膜の厚みは、上記のいずれの
場合も０．１〜１００００ｎｍがよく、好ましくは１〜
１０００ｎｍである。さらに好ましくは３００ｎｍ以下
として光干渉の歪みを防ぐのがよい。また、光活性化作
用を十分に発現させるには厚みが５ｎｍ以上あることが
好都合である。

【００５６】バインダーを使用した場合の上記光触媒性
金属酸化物の薄層において、金属酸化物の体積率は５０
〜１００％であり、好ましくは９０％以上を酸化物が占
めるのがよく、さらに好ましくは酸化物の連続層つまり
実質的に１００％であるのがよい。

【００５７】［光熱変換作用を有する層］印刷用原板に
は、光熱変換作用を有する層（発熱層とも呼ぶ）を設け
ることもできる。この層は、必要により感光層の下層と
して設けられ、光照射によって発熱し、原板の加熱を容
易にし、かつ熱の利用効率を高めている。このような発
熱層は、有機性または無機性の樹脂及び発熱源となる光
熱変換剤からなるか、あるいは光熱変換性の金属薄膜か
らなる。

【００５８】［断熱層］本発明に用いる印刷用原板に
は、光熱変換によって供給される熱エネルギーを極性変
化すなわち画像形成に有効に利用するために、感光層と
支持体との間に断熱層を設けて熱の支持体への逃散を防
止することもできる。その場合，印刷用原板が，発熱層
を有していてさらに断熱層を設ける場合には、断熱層は
発熱層よりも支持体に近い側に設けられる。断熱層は、
好ましくは有機性の高分子材料および無機性のゾルゲル
変換性材料から選ばれる結合材料によって構成される。
有機性の高分子材料で構成される層は、疎水性樹脂又は
親水性樹脂のいずれの樹脂層でもよい。疎水性樹脂層の
場合は、微小なポリマー粒子と、必要に応じて該粒子を
分散安定化する保護剤とからなる粒子を水中に分散させ
た水性エマルジョンの層であり、その具体例としては、
ビニル系ポリマーラテックス（ポリアクリレート系、酢
酸ビニル系、エチレン−酢酸ビニル系など）、共役ジエ
ン系ポリマーラテックス及びポリウレタン樹脂などが挙
げられる。

【００５９】親水性樹脂層としては、具体的には、ポリ
ビニルアルコール（ＰＶＡ），カルボキシ変性ＰＶＡ等
の変性ＰＶＡ，ヒドロキシエチルセルロースのようなセ
ルロース誘導体、ポリアクリル酸及び誘導体、ポリビニ
ルピロリドンなどの層が挙げられる。無機高分子の断熱
層としては、ゾルゲル変換によって形成される無機マト
リックスが好ましい。本発明に好ましく適用できるゾル
ゲル変換が可能な系は、多価元素に結合した結合基が酸
素原子を介して網目状構造を形成し、同時に多価金属は
未結合の水酸基やアルコキシ基も有していてこれらが混
在した樹脂状構造となっている高分子体であって、アル
コキシ基や水酸基が多い段階ではゾル状態であり、加水
分解縮合が進行するのに伴ってゲル状構造が強固とな
る。ゾルゲル変換を行う水酸基やアルコキシ基を有する
化合物の多価結合元素は、アルミニウム、珪素、チタン
及びジルコニウムなどであり、これらはいずれも本発明
に用いることができる。無機金属酸化物層は、上記のゾ
ルゲル変換法のほかに、陽極酸化，蒸着、ＣＶＤ，スパ
ッタリング、電着などの公知の方法によって設けること
ができる。断熱層の厚みは、０．１〜２００μｍ，好ま
しくは、０．１〜５０μｍである。

【００６０】［支持体］光触媒性物質が支持体上に設け
られる場合、使用される支持体は、疎水性発現温度でも
熱分解せず、寸度的にも安定な板状物であり、アルミニ
ウム板、ＳＵＳ鋼板、ニッケル板、銅板などの金属板が
好ましく、特に可撓性（フレキシブル）の金属板を用い
ることが好ましい。また、ポリエステル類やセルローズ
エステル類などのフレキシブルなプラスチック支持体も
用いることが出来る。防水加工紙、ポリエチレン積層
紙、含浸紙などの支持体上に酸化物層を設けてもよく、
それを印刷版として使用してもよい。

【００６１】具体的には、紙、プラスチックシート（例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等のシ
ート）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅、ステンレス等）、プラスチックフィ
ルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、酪酸、セルロース、酢酸酪酸
セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリイミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、
ポリビニルアセタール等）、上記のごとき金属がラミネ
ート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフ
ィルム等が挙げられる。

【００６２】好ましい支持体は、ポリエステルフィル
ム、ポリイミドフィルム、アルミニウム、又は印刷版上
で腐食しにくいＳＵＳ板であり、その中でも寸法安定性
がよく、比較的安価であるアルミニウム板と、製版工程
における加熱操作に対して安定性の高いポリイミドフィ
ルムは特に好ましい。

【００６３】好適なポリイミドフィルムは、ピロメリッ
ト酸無水物とｍ−フェニレンジアミンを重合させたの
ち、環状イミド化したポリイミド樹脂フィルムであり、
このフィルムは市販されている（例えば、東レ・デュポ
ン社製の「カプトン」）。

【００６４】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしく
は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニ
ウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高
々１０重量％以下である。本発明において特に好適なア
ルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋な
アルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅か
に異元素を含有するものでもよい。このように本発明に
適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるも
のではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板
を適宜に利用することができる。本発明で用いられる金
属支持体の厚みはおよそ０．１mm〜０．６mm程度、好ま
しくは０．１５mm〜０．４mm、特に好ましくは０．２mm
〜０．３mmであり、プラスチックや加工紙などその他の
支持体の厚みはおよそ０．１mm〜２．０mm程度、好まし
くは０．２mm〜１．０mmである。

【００６５】アルミニウム支持体を用いる場合は、表面
を粗面化して用いることが好ましい。その場合、所望に
より、粗面化に先立って表面の圧延油を除去するため
の、例えば界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶
液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表
面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例え
ば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解
粗面化する方法および化学的に表面を選択溶解させる方
法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨
法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの
公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な
粗面化法としては塩酸または硝酸電解液中で交流または
直流により行うなど公知の方法を利用することができ
る。また、粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じ
てアルカリエッチング処理および中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。陽極酸化の電解質の濃度は電解質の
種類によって適宜決められる。

【００６６】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、
電流密度５〜６０Ａ/dm²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間
１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量が１．０g/m²より少ないと、耐刷性が不十分であっ
たり、平板印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印
刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」
が生じ易くなる。

【００６７】［印刷用原板の形態］次に本発明に使用す
る印刷用原板の形態について述べる。本発明に係わる印
刷原板は、いろいろの形態と材料を用いることができ
る。例えば、支持体上に直接感光層を設けてもよく、ま
た支持体基板上に断熱層を設けてその上に感光層を設け
てもよく，あるいは支持体上に発熱層を設けてその上に
感光層を設けてもよく，さらには断熱層及び発熱層を設
けてその上に発熱層を設けてもよい。図９は、本発明の
好ましい態様の印刷用原板の構成を示す模式図である。
図９におおいて、印刷用原板は、支持体９０の上に厚さ
３０μｍのニ酸化ケイ素の断熱層９１が電着法によって
設けられ，その上に厚さ2μｍの珪素薄膜が発熱層９２
として設けられている。発熱層９２の上に感光層９３と
して厚さ０．２μｍのニ酸化チタンの光触媒能を有する
層が設けられている。図９は，典型的な態様の一つであ
って本発明を限定するものではない。印刷用原板と印刷
機の関係にかかわる本発明の態様としては、光触媒性物
質の薄層を印刷機の版胴の基体表面に蒸着、浸漬あるい
は塗布するなど前記した方法で直接版胴表面に設ける方
法を用いることができる。また、勿論版胴上で製版する
上記形態以外に、一般的に行われているように、製版を
行った印刷版を輪転式あるいは平台式印刷機に装着する
形態を採ってもよい。

【００６８】II 製版過程 〔全面疎水化〕印刷用原板は、はじめに全面疎水化され
る。多くの光触媒性金属酸化物は、例えば８０〜１４０
°Ｃ程度の高温に加熱されることによって疎水化される
ことは、特開平１１−１７４６６５号、同１１−１３８
９７０号、同１１−１４３０５５号公報などに開示され
ているが、本発明においては、画像部と非画像部の識別
性を一層向上させるために、疎水性の物質の皮膜を印刷
原板の全面に設ける全面疎水化処理による一層強固な疎
水化を行う。それに用いる疎水性皮膜形成用の物質を疎
水化剤と呼ぶ。始めに疎水化剤について、つぎに疎水化
の方法について説明する。

【００６９】（疎水化剤）本発明において、「疎水性」
とは、親水・親油材料の表面の水滴接触角よりも大きい
水滴接触角を指しており、水滴接触角が６０度以上、好
ましくは７０度以上であることを意味する。疎水化剤
は、上記の意味で疎水性であって、かつ皮膜を形成でき
る材料であり、広い範囲で選択することができる。本発
明の疎水化剤の目的に適合する化合物は、有機低分子化
合物、有機珪素化合物及び有機高分子化合物の中に見い
だされる。

【００７０】１）有機低分子化合物 疎水化剤として本発明に用いられる有機低分子化合物
は、２５℃における水１００ｇへの溶解度が２ｇ以下
であるか、有機概念図における有機性／無機性の比が
０．７以上であるかの少なくともいずれかに相当する有
機高分子化合物であり、その両方を用いることも好まし
い態様である。ここで、低分子化合物と呼んでいるのは
沸点又は融点を有する化合物という意味で用いており、
そのような化合物を通常分子量は２０００以下、多くは
１０００以下である。

【００７１】２５℃における水１００ｇへの溶解度が２
ｇ以下であることは、印刷版としての要件でもあるが、
疎水性であるための要件でもあることが経験的に判って
いる。

【００７２】有機概念図は、化合物の有機性及び無機性
の程度を示すのに実際的で簡便な実用尺度であり、その
詳細については、田中善生著「有機概念図」（三共出版
社、１９８３年初版刊行）の１〜３１頁に詳記されてい
る。有機概念図上の上記の範囲の有機化合物が疎水性化
を促進する作用を持つ理由は不明であるが、この範囲の
化合物は、有機性が比較的大きい化合物であり、複合粒
子近傍を疎水性にする。有機概念図における有機性が１
００以上でその上限についての制約はとくにないが、通
常１００〜１２００、好ましくは１００〜８００であ
り、その有機性／無機性の比が０．７〜無限大（すなわ
ち無機性が０）、好ましくは０．９〜１０の範囲に入る
有機化合物である。

【００７３】この水への溶解度あるいは有機概念図にお
ける有機性／無機性比を有する有機低分子化合物は、具
体的には脂肪族及び芳香族炭化水素、脂肪族及び芳香族
カルボン酸、脂肪族及び芳香族アルコール、脂肪族及び
芳香族エステル、脂肪族及び芳香族エーテル、有機アミ
ン類、有機珪素化合物、また、印刷用インキに添加でき
ることが知られている各種溶剤や可塑剤類の中に見られ
る。

【００７４】好ましい脂肪族炭化水素は、炭素数８〜３
０の、より好ましくは炭素数８〜２０の脂肪族炭化水素
であり、好ましい芳香族炭化水素は、炭素数６〜４０
の、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素で
ある。好ましい脂肪族アルコールは、炭素数４〜３０
の、より好ましくは炭素数６〜１８の脂肪族アルコール
であり、好ましい芳香族アルコールは、炭素数６〜３０
の、より好ましくは炭素数６〜１８の芳香族アルコール
である。好ましい脂肪族カルボン酸は、炭素数４〜２４
の脂肪族カルボン酸であり、より好ましくは炭素数６〜
２０の脂肪族モノカルボン酸及び炭素数４〜１２の脂肪
族ポリカルボン酸であり、また、好ましい芳香族カルボ
ン酸は、炭素数６〜３０の、より好ましくは炭素数６〜
１８の芳香族カルボン酸である。好ましい脂肪族エステ
ルは、炭素数２〜３０の、より好ましくは炭素数２〜１
８の脂肪酸エステルであり、好ましい芳香族エステル
は、炭素数８〜３０の、より好ましくは炭素数８〜１８
の芳香族カルボン酸エステルである。好ましい脂肪族エ
ーテルは、炭素数８〜３６の、より好ましくは炭素数８
〜１８の芳香族エーテルであり、好ましい芳香族エーテ
ルは、炭素数７〜３０の、より好ましくは炭素数７〜１
８の芳香族エーテルである。そのほか、炭素数７〜３０
の、より好ましくは炭素数７〜１８の脂肪族あるいは芳
香族アミドも用いることができる。

【００７５】具体例としては、２，２，４−トリメチル
ペンタン（イソオクタン）、ｎ−ノナン、ｎ−デカン、
ｎ−ヘキサデカン、オクタデカン、エイコサン、メチル
ヘプタン、２，２−ジメチルヘキサン、２−メチルオク
タンなどの脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クメン、ナフタレン、アントラセン、スチレンな
どの芳香族炭化水素；ドデシルアルコール、オクチルア
ルコール、ｎ−オクタデシルアルコール、２−オクタノ
ール、ラウリルアルコール１価アルコール；ヘキシレン
グリコール、ジプロピレングリコールなどの多価アルコ
ール；ベンジルアルコール、４−ヒドロキシトルエン、
フェネチルアルコール、１−ナフトール、２−ナフトー
ル、カテコール、フェノールなどの芳香族アルコール；
酪酸、カプロン酸、アクリル酸、クロトン酸、カプリン
酸、ステアリン酸、オレイン酸などの脂肪族１価カルボ
ン酸；安息香酸、２−メチル安息香酸、４−メチル安息
香酸などの芳香族カルボン酸；酢酸エチル、酢酸イソブ
チル、酢酸−ｎ−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピ
オン酸エチル、酪酸メチル、アクリル酸メチル、しゅう
酸ジメチル、琥珀酸ジメチル、クロトン酸メチルなどの
脂肪族エステル；安息香酸メチル、２−メチル安息香酸
メチルなどの芳香族カルボン酸エステル；イミダゾー
ル、２，２−ジメチルイミダゾール、４−メチルイミダ
ゾール、インダゾール、ベンゾイミダゾール、シクロヘ
キシルアミン、ヘキサメチレンテトラミン、トリエチレ
ンテトラミン、オクチルアミン、フェネチルアミンなど
の有機アミン；メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、ベンゾフェノンなどのケトン類、メトキシベン
ゼン、エトキシベンゼン、メトキシトルエン、ラウリル
メチルエーテル、ステアリルメチルエーテルなどのエー
テル及びステアリルアミド、ベンゾイルアミド、アセト
アミドなどのアミド類が挙げられる。そのほか、沸点が
前記の好ましい範囲にあるエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、シクロヘキサノン、ブチルセロソルブ、セ
ロソルブアセテートなどの有機溶剤も使用することがで
きる。

【００７６】また、印刷用インキの成分であるアマニ
油、大豆油、けし油、サフラワー油などの油脂類、燐酸
トリブチル、燐酸トリクレシル、フタール酸ジブチル、
ラウリン酸ブチル、フタール酸ジオクチル、パラフィン
ワックスなどの可塑剤も挙げられる。

【００７７】また、長鎖脂肪酸と長鎖一価アルコールの
エステル、すなわちワックスも、疎水性で適当に低融点
であって、光熱変換性の微粒子の近傍で光照射によって
生じた熱によって融解してその領域を疎水性化する好ま
しい低分子有機化合物である。ワックスは、５０〜２０
０°Ｃで溶融するものが好ましく、その例としては、原
料などによってカルナバワックス、カスターワックス、
マイクロクリスタリンワックス、パラフィンワックス、
セラックろう、パームろう、蜜ろう等と呼ばれているい
ずれをも用いることができる。ワックス類のほかに、オ
レイン酸、ステアリン酸、パルミチン酸などの固体酸；
ベヘン酸銀、ステアリン酸カルシウム、パルミチン酸マ
グネシウムなどの長鎖脂肪酸の金属塩などの微粒子分散
物も用いることができる。

【００７８】有機低分子化合物の中でもペルフルオロ化
合物は、疎水化を効果的に行うので好都合である。好ま
しいペリフルオロ化合物としては、下記の化合物が挙げ
られる。ペルフルオロ酢酸、ペルフルオロ酪酸、ペルフ
ルオロバレリン酸、ペルフルオロカプリン酸、ペルフル
オロヘプタン酸、ペルフルオロカプロン酸、ペルフルオ
ロカプリル酸などのペルフルオロ脂肪族カルボン酸；ペ
ルフルオロヘキサン、ペルフルオロオクタン、ペルフル
オロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミ
ン、ペルフルオロヘキシルエーテル、ペルフルオロドデ
カンなどのペリフルオロ炭化水素；ペルフルオロブタノ
ール、ペルフルオロペンタノール、ペルフルオロヘキサ
ノール、ペルフルオロオクタノール、ペルフルオロドデ
シルアルコールなどのペリフルオロ脂肪族アルコール。

【００７９】２）有機珪素化合物 好ましい有機珪素化合物は、印刷原板の親水・親油材料
を含有する層の表面を効果的に疎水化する疎水化剤であ
る。この目的に用いられる有機珪素化合物としては、オ
ルガノポリシロキサン、オルガノシラン及びフッ素含有
珪素化合物を挙げることができる。 ａ．オルガノポリシロキサン リ オルガノポリシロキサンは、ジメチルシリコーンオ
イル、メチルフェニルシリコーンオイルなどで代表され
る化合物であり、とくに重合度が１２以下のオルガノポ
リシロキサン類が好ましい。これらの好ましいオルガノ
ポリシロキサンはシロキサン結合単位当たり１〜２個の
有機基が結合しており、その有機基は、炭素数が１〜１
８のアルキル基及びアルコキシ基、炭素数が２〜１８の
アルケニル基及びアルキニル基、炭素数が６〜１８のア
リール基、炭素数が７〜１８のアラルキル基、炭素数が
５〜２０の脂環式基である。また、これらの有機置換基
には、さらにハロゲン原子、カルボキシル基、ヒドロキ
シ基が置換してもよい。また、上記のアリール基、アラ
ルキル基、脂環式基には、上記の炭素数の範囲でメチル
基、エチル基又はプロピル基などの低級アルキル基がさ
らに置換していてもよい。

【００８０】本発明に使用できる好ましい有機珪素化合
物の具体例は、下記の化合物であるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。好ましいポリオルガノシロ
キサン類としては、炭素数１〜５のアルキル基を有す
るジアルキルシロキサン基、炭素数１〜５のアルコキ
シ基を有するジアルコキシシロキサン基、炭素数１〜
５のアルコキシ基とフェニル基を有するアルコキシフェ
ニルシロキサン基及びエトキシメトキシシロキサン基
又はメトキシエトキシシロキサン基のうち、少なくとも
一つを繰り返し単位として含み、重合度が２〜１２、よ
り好ましくは２〜１０のポリオルガノシロキサンであ
る。また、その端末基は、炭素数１〜５のアルキル基、
アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜５のヒドロキアル
キル基又は炭素数１〜５のアルコキシ基である。より好
ましい端末基は、メチル基、エチル基、イソプロピル
基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、メ
トキシ基及びエトキシ基である。その中でも好ましいシ
ロキサン化合物は、重合度が２〜１０のジメチルポリシ
ロキサン、重合度が２〜１０のジメチルシロキサン−メ
チルフェニルシロキサン共重合物、重合度が２〜８のジ
メチルシロキサン−ジフェニルシロキサン共重合物、重
合度が２〜８のジメチルシロキサン−モノメチルシロキ
サン共重合物でこれらのポリシロキサン化合物の端末は
トリメチルシラン基である。そのほか、１，３−ビス
（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン、
１，５−ビス（３−アミノプロピル）ヘキサメチルトリ
シロキサン、１，３−ジブチル−１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサン、１，５−ジブチル−１，１，
３，３，５，５−ヘキサエチルトリシロキサン、１，
１，３，３，５，５−ヘキサエチル−１，５−ジクロロ
トリシロキサン、３−（３，３，３−トリフルオロプロ
ピル）−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチル−
トリシロキサン、デカメチルテトラシロキサンなどが挙
げられる。

【００８１】特に好ましい汎用化合物として、いわゆる
シリコーンオイルがあり、ジメチルシリコーンオイル
（市販品では、例えばシリコーンＫＦ９６（信越化学工
業（株）製）、メチルフェニルシリコーンオイル（市販
品では、例えばシリコーンＫＦ５０（信越化学工業
（株）製）、メチルハイドロジェンシリコーンオイル
（市販品では、例えばシリコーンＫＦ９９（信越化学工
業（株）製）が挙げられる。

【００８２】ｂ．オルガノシラン 疎水化剤として用いることができるオルガノシラン化合
物としては、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−デシ
ルトリ−ｔ−ブトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリメ
トキシシラン、ｎ−オクタデシルトリエトキシシラン、
ジメトキシジエトキシシランなどのシラン化合物も挙げ
らることができる。

【００８３】ｃ．フッ素含有有機珪素化合物 フッ素含有有機基を置換基として有するシラン、シラノ
ール及びシロキサン化合物も疎水化剤として用いること
ができる。好ましいフッ素含有有機珪素化合物には、ポ
リフルオロアルキル基（３、３、３−トリフルオロプロ
ピル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロブチル
基、トリフルオロエチル基、トリフルオロペンチル基、
３、３、４、４、５、５、６、６、６−ノナフルオロヘ
キシル基）、トリフルオロアシロキシ基（トリフルオロ
アセトキシ基、２、２、２−トリフルオロエトキシ
基）、トリフルオロアシル基（トリフルオロアセチル
基）、トリフルオロアルキルスルフォン基（トリフルオ
ロメタンスルフォン基、３、３、３−トリフルオロプロ
ピルスルフォン基）を有機置換基として有するシラン、
シラノール及びシロキサン化合物が挙げられる。

【００８４】具体例としては、メチル−３、３、３−ト
リフルオロプロピルジクロロシラン、トリメチルシリル
トリフルオロメタンスルフォネート、トリフルオロアセ
トキシトリメチルシラン、３、３、４、４、５、５、
６、６、６−ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、
ジメトキシメチル−３、３、３−トリフルオロプロピル
シラン、３、３、３−トリフルオロプロピルシラン−ト
リメトキシシラン、３、３、４、４、５、５、６、６、
６−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン、３−
トリフルオロアセトキシトリメトキシシラン、１、３、
５−トリス（３、３、３−トリフルオロプロピル）−
１、３、５−トリメチルシクロトリシロキサン、１、
３、５、７−テトラキス（３、３、３−トリフルオロプ
ロピル）−１、３、５、７−テトラメチルシクロテトラ
シロキサン、１、１、３、５、５−ペンタ（３、３、３
−トリフルオロプロピル）−１、３、５−トリメチルト
リシロキサン、１、１、３、５、７、７−ヘキサ（３、
３、３−トリフルオロプロピル）−１、３、５、７−テ
トラメチルテトラシロキサン、メチル−３、３、３−ト
リフルオロプロピルシランジオール、３、３、４、４、
５、５、６、６、６−ノナフルオロヘキシルシラントリ
オール、３、３、４、４、５、５、６、６、６−ノナフ
ルオロヘキシルメチルシランジオール、ペンタフルオロ
エトキシシラントリオール、トリフルオロメチルシラン
トリオール、３、３、３−トリフルオロプロピルオトキ
シシラントリオール。

【００８５】好ましい化合物は、メチル−３、３、３−
トリフルオロプロピルジクロロシラン、３、３、４、
４、５、５、６、６、６−ノナフルオロヘキシルトリク
ロロシラン、３、３、３−トリフルオロプロピルシラン
−トリメトキシシラン、３、３、４、４、５、５、６、
６、６−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン、
１、３、５−トリス（３、３、３−トリフルオロプロピ
ル）−１、３、５−トリメチルシクロトリシロキサン、
メチル−３、３、３−トリフルオロプロピルシランジオ
ール、３、３、４、４、５、５、６、６、６−ノナフル
オロヘキシルシラントリオール、３、３、４、４、５、
５、６、６、６−ノナフルオロヘキシルメチルシランジ
オール、ペンタフルオロエトキシシラントリオール、ト
リフルオロメチルシラントリオール、３、３、３−トリ
フルオロプロピルオトキシシラントリオール。これらの
有機珪素化合物は、市販されており、たとえば信越化学
工業（株）から入手できる。又は入手したクロロシラン
を加水分解してシラノールとしたり、あるいは、加水分
解縮合によってポリオルガノシロキンを合成できる。

【００８６】３）有機高分子化合物 上記した溶解度又は吸水性の条件を満たす好ましい有機
高分子化合物は、共存する低分子有機化合物に溶解可能
又はそれ自体が熱可塑性の疎水性高分子化合物であり、
例えば、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセテート、ポリ
ビニルフェノール、ポリビニルハロゲン化フェノール、
ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビ
ニルブチラール、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレ
ア、ポリイミド、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、フ
ェノール、ノボラック、又はレゾールフェノール類とア
ルデヒド又はケトンとの縮合樹脂、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリスチレン、アクリル系共重合樹脂などが挙げら
れる。

【００８７】好ましい化合物の一つは、必ずしも熱可塑
性ではないが、有機低分子化合物通うのフェノールノボ
ラック樹脂又はレゾール樹脂であり、フェノール、クレ
ゾール（ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｍ／ｐ混合
クレゾール）、フェノール／クレゾール（ｍ−クレゾー
ル、ｐ−クレゾール、ｍ／ｐ混合クレゾール）、フェノ
ール変性キシレン、ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、オク
チルフェノール、レゾルシノール、ピロガロール、カテ
コール、クロロフェノール（ｍ−Ｃｌ、ｐ−Ｃｌ）、ブ
ロモフェノール（ｍ−Ｂｒ、ｐ−Ｂｒ）、サリチル酸、
フロログルシノールなどのホルムアルデヒドとの縮合の
ノボラック樹脂及びレゾール樹脂、さらに上記フェノー
ル類化合物とアセトンとの縮合樹脂などが挙げられる。

【００８８】その他の好適な高分子化合物として以下
（Ａ）〜（Ｌ）に示すモノマーをその構成単位とする通
常１万〜２０万の分子量を持つ重合体及び共重合体を挙
げることができる。共重合体の場合、その構成比率は共
重合可能でかた共重合体が疎水性であるかぎり任意であ
る。 （Ａ）芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタク
リルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エ
ステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばＮ−（４
−ヒドロキシフェニル）アクリルアミドまたはＮ−（４
−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ−、ｍ−
およびｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ−およびｐ−
ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリレー
ト、（Ｂ）脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類
およびメタクリル酸エステル類、例えば、２−ヒドロキ
シエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、（Ｃ）アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキ
シル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、アク
リル酸４−ヒドロキシブチル、グリシジルアクリレー
ト、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレートなどの（置
換）アクリル酸エステル、（Ｄ）メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリ
ル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチ
ル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メ
タクリル酸−２−クロロエチル、メタクリル酸４−ヒド
ロキシブチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレートなどの（置換）メタクリ
ル酸エステル、

【００８９】（Ｅ）アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメ
タクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−エチ
ルメタクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ
−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアク
リルアミド、Ｎ−シクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ
−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルア
ミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミドおよび
Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミドなどのアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド、

【００９０】（Ｆ）エチルビニルエーテル、２−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル類、（Ｇ）ビニルアセテート、ビニル
クロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル
などのビニルエステル類、（Ｈ）スチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、（Ｉ）
メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビ
ニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン
類、（Ｊ）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタ
ジエン、イソプレンなどのオレフィン類、

【００９１】（Ｋ）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル
カルバゾール、４−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリルなど、（Ｌ）Ｎ−（ｏ−アミノ
スルホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミ
ノスルホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ア
ミノスルホニルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−〔１−
（３−アミノスルホニル）ナフチル〕アクリルアミド、
Ｎ−（２−アミノスルホニルエチル）アクリルアミドな
どのアクリルアミド類、Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフ
ェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニ
ルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスル
ホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−
アミノスルホニル）ナフチル〕メタクリルアミド、Ｎ−
（２−アミノスルホニルエチル）メタクリルアミドなど
のメタクリルアミド類、また、ｏ−アミノスルホニルフ
ェニルアクリレート、ｍ−アミノスルホニルフェニルア
クリレート、ｐ−アミノスルホニルフェニルアクリレー
ト、１−（３−アミノスルホニルフェニルナフチル）ア
クリレートなどのアクリル酸エステル類などの不飽和ス
ルホンアミド、ｏ−アミノスルホニルフェニルメタクリ
レート、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、１
−（３−アミノスルホニルフェニルナフチル）メタクリ
レートなどのメタクリル酸エステル類などの不飽和スル
ホンアミド。

【００９２】これらの有機高分子化合物は、重量平均子
量が５００〜２００００、数平均分子量が２００〜６０
０００であることが好ましい。

【００９３】疎水化剤は、有機低分子化合物のみ、有機
珪素化合物のみ、あるいは高分子有機化合物のみで構成
されていてもよいが、それらの二種あるいは三種類を含
んでいてもよく、さらに両者の親和性を高めるなどの目
的の第３成分を含んでいてもよい。

【００９４】そのほか、疎水化剤の層を設ける際に、溶
液や分散液とするためにエチレングリコールモノエチル
エーテル、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、セロソルブアセテート、１，４−ジオキ
サン、ジメチルホルムアミド、アクリロニトリルなどの
有機溶剤も使用することができる。

【００９５】（疎水化の方法）疎水化剤の層を親水・親
油材料を含む層の上に設けるには、塗り付け処理、スプ
レー処理、気化・凝縮法、気体接触法、浸漬処理など公
知のいずれの方法、方式をも用いることができる。 ａ．塗り付け処理 塗り付け処理は、液体及び固体状の疎水化剤に適用でき
る疎水層の付与方法であり、疎水化剤が液体の場合は、
直接塗り付けてもよく、また固体の場合や、液体であっ
ても場合により、適当な溶剤に溶解あるいは分散したり
して液状として塗り付け処理を行う。塗り付け処理の方
法としては、グラビア塗布、リバース塗布、ホッパー塗
布、スリット塗布などの塗布現像方式など公知の方法が
適用できる。また、疎水化剤を担持した媒体を介して原
板上に塗り付け皮膜を形成させるシート処理が好ましい
方式の一つである。この方法には特登２６５５３３７号
に記載の方法を挙げることができる。疎水化剤を担持す
る媒体には、フェルト、織物、スリットや細孔を有する
金属などを用いることができる。この中でも特開平８−
２９００８８号、同８−２９００８７号、同９−１３８
４９３号公報に記載されているスポンジなどによる処理
液塗り付けの方法を好ましく適用できる。

【００９６】塗り付け処理の好ましい塗り付け量は、疎
水化剤の濃度などによって異なるが、通常１０〜１００
ｍｌ／ｍ² 、好ましくは１５〜５０ｍｌ／ｍ² である。

【００９７】ｂ．スプレー処理 スプレー処理すなわち噴霧処理は、塗り付け処理に記し
たと同様に液状あるいは分散液状にした疎水化剤又は疎
水化剤溶液を原板表面に噴霧することによって疎水化を
行う方法である。また、噴霧液量を必要供給液量以上と
して適用表面を流下する余分の疎水化剤あるいは疎水化
剤溶液を循環させて再利用してもよい。疎水化剤あるい
は疎水化剤溶液の噴霧方法、方式、ノズルの数や形状を
問わず、また単一の可動ノズルを移動させながら噴霧し
ても、複数の固定ノズルを用いて噴霧してもよい。ま
た、印刷原板を固定してノズルを移動させながら噴霧し
ても、ノズルを固定して印刷原板を移動させながら噴霧
してもよい。このなかでも特開平８−１２３００１号、
同９−１６０２０８号、同９−１７９２７２号公報に記
載されている疎水化剤あるいは疎水0化剤溶液を噴射す
る複数のノズル孔が一定の間隔で原板の搬送方向と交差
する方向に沿って直線状に並べられたノズルとこのノズ
ルを搬送経路上の原板に向かって変移させるアクチュエ
ーターとを有する疎水化剤塗り付け装置によって疎水化
剤あるいは疎水化剤溶液を噴霧する方法がとくに好まし
い。

【００９８】ｃ．気化・凝縮法 気体接触法は、昇華性の固体疎水化剤あるいは揮発性の
疎水化剤や蒸発しやすい疎水化剤溶液を加熱して気化
し、印刷原板表面に接触させて疎水化剤の皮膜を凝縮形
成させる方法である。この方法に好都合な効果をもつ好
ましい有機化合物は、温度４００℃における蒸気圧が少
なくとも１ｍｍＨｇで、かつ蒸気圧が１ｍｍＨｇとなる
温度において安定な有機化合物である。つまり、この程
度の蒸気圧を有している有機化合物が加熱雰囲気中に存
在すると親水性と疎水性の識別性の向上が引き起こされ
る。より好ましくは、温度３００℃における蒸気圧が少
なくとも１ｍｍＨｇで、かつ蒸気圧が１ｍｍＨｇとなる
温度において安定な有機化合物である。さらに好ましく
は、沸点が３０〜４００℃にあって、かつ３０〜４００
℃の温度範囲で安定な有機化合物であり、中でも好まし
い沸点範囲は５０〜３５０°Ｃである。

【００９９】疎水化剤の気化のための加熱を行うには、
原板表面に接するように設けられた加熱部の外套内に疎
水化剤充填容器を置いて、加熱時間中に疎水化剤の蒸気
を外套内に存在させるのがよい。また、有機化合物を含
浸させた紙、布、ゼオライト、珪草土などを外套内に挿
入して加熱するのもよい。その一実施形態は、のちに図
によってさらに説明する。

【０１００】ｄ．気体接触法 疎水化剤が気体の場合、とくに前記したフッ素含有有機
化合物の場合には、印刷原板をこの気体を含んだ雰囲気
のなかに置くことによって高度の疎水化を行うことがで
きる。

【０１０１】ｅ．浸漬法 通常行われているように浸漬槽を設けて印刷原板を浸漬
する方法も用いることができる。

【０１０２】〔加熱と活性光照射による画像形成〕全面
疎水化された印刷原板は、つづいて加熱及び活性光照射
が少なくとも一方が像様に施されて画像形成が行われ
る。前記したように、画像形成の態様には、原板全面を
加熱して像様の活性光の露光を行なう方法、原板が親水
化しない強度で全面活性光の照射を行いながら像様の加
熱を行う方法、及び加熱及び活性光照射がともに同じ像
情報に基づいた像様であって同時に行なう方法がある。

【０１０３】（活性光照射時の原板加熱） ＜全面加熱＞本発明において、活性光の照射の際に原板
温度は４０〜２００°Ｃの範囲に調節される。極性変換
速度の迅速化と、さらには親水性強化による識別性の向
上も加わる発明の効果が、この範囲において認められる
が、４０〜１４０°Ｃにおいてさらに効果が顕著に現れ
る。温度が４０°Ｃよりも低ければこの効果は実質的に
消滅し、また２００°Ｃを超える温度では、画像部と非
画像部の識別性の低下が生じることが多く、実際的では
なくなる。

【０１０４】原板の温度を上記範囲に調節する手段とし
ては、公知の任意の手段を採用することができるが、好
ましい加熱手段には、ニクロム線や発熱抵抗体などの電
熱加熱器、ニクロム線や発熱抵抗体などの電熱加熱器と
組み合わせられた接触加熱用ヒートローラー、赤外線
灯、ハロゲン・タングステン灯、赤外線を放射する固体
レーザー又は赤外線域の光を放射する半導体レーザー
（とくに画像記録層が光熱変換剤を含有する場合）、キ
セノン放電灯や可視域の光を放射する半導体レーザー
（とくに画像記録層が光熱変換剤を含有する場合）、大
容量コンデンサーからの放電によってフラッシュ光を発
する光・熱変換発熱装置などが用いられる。

【０１０５】その中では、赤外線レーザー、電熱加熱器
や赤外線灯が温度の制御が容易であること、均一な加熱
面が広く取れること及びコストが安いことにより好まし
い。その中でも光照射による方法が、装置及び操作が簡
単なので好ましい。光照射による場合は，活性光の像様
照射のほかに加熱用の光照射も同時に，かつ像様照射
(重ね露光)とすることもできる。その場合、活性光の照
射領域が加熱用の光の照射領域の中に入るように行なう
のが好ましい。これらの具体的な方法は、後述する装置
の項で図８及び１０によってさらに説明する。

【０１０６】原板の加熱は、原板の表面から疎水性層を
通して光触媒性物質層を直接加熱してもよく、また原板
の裏面あるいは版胴の内側から版胴部材や原板支持体を
通して間接的に加熱してもよい。好ましい方法は、印刷
装置に加熱・温度制御装置が搭載されていて光照射に連
動して温度調節が行われる方法である。そのための装置
の実施形態については、図３、５及び６により実施例と
ともに後に説明する。

【０１０７】＜像様加熱＞原版の像様加熱には、赤外線
レーザーなどの熱線を利用して光熱変換加熱する方法
と、印字用などの熱ヘッドによって接触伝熱加熱を行う
方法のいずれをも用いることができる。像様の加熱は、
赤外線レーザー光による場合も、熱記録ヘッドによる場
合も、走査方式によるのが好ましい。走査方式の場合に
は、リニア走査方式でもアレーを用いた２次元走査方式
でもよい。

【０１０８】（活性光の照射） ＜活性光の像様照射＞疎水性化された表面への活性光に
よる像様照射について説明する。原板表面に照射される
活性光の光源は、光触媒能を有する物質の感光域の波長
の光、すなわち光吸収域に相当する波長の光を発する光
源である。例えば光触媒能を有する物質が酸化チタンの
場合では、アナターゼ型が３８７ｎｍ以下，ルチル型が
４１３ｎｍ以下、酸化亜鉛は３８７ｎｍ以下に、その他
の多くの金属酸化物の場合も２５０〜３９０ｎｍの紫外
部に感光域を有しており、また、酸化亜鉛の場合は、固
有吸収波長域（紫外線領域）のほかに、既知の方法で分
光増感を行って適用できる活性光の波長領域を拡げるこ
ともでき、したがって使用される光源は、これらの波長
領域の光を発する光源であり、主として紫外線を発する
光源といえる。

【０１０９】活性光の光触媒作用によって親水性領域の
像様の分布を形成させる手段には、面露光方式、走査方
式のいずれでもよい。面露光方式の場合は、一様な光を
マスク画像（例えば印刷原稿を現像したリスフィルム）
を通して原板上に照射して、照射領域の表面を親水性化
する方式である。支持体が透明である場合は、支持体の
裏側から支持体とマスク画像を通して露光することもで
きる。面露光方式で活性光の照射を行うのに適した光源
は、水銀灯、タングステンハロゲンランプ、その他のメ
タルハライドランプ、キセノン放電灯などである。その
露光時間は、上記の露光強度が得られるように露光照度
を勘案して決定される。

【０１１０】好ましい照射光の強さは、光触媒型金属酸
化物の画像形成層の性質によって異なり、また活性光の
波長、分光分布及び光触媒性物質の光吸収率によっても
異なるが、通常はマスク画像（例えば現像済みリスフィ
ルム）で変調する前の面露光強度が０．０１〜１００Ｊ
／ｃｍ² ，好ましくは０．０２〜１０Ｊ／ｃｍ² ，より
好ましくは０．０５〜５Ｊ／ｃｍ² である。

【０１１１】後者、すなわち走査式露光の場合には、画
像マスクを使用する代わりにレーザービームを画像で電
気的に変調して原板上を走査する方式が行われる。レー
ザー光源は、活性光のビームを発振する公知のレーザー
を用いることができる。例えば、励起光として発振波長
を３２５ｎｍに有するヘリウムカドミウムレーザー、発
振波長を３５１．１〜３６３．８ｎｍに有する水冷アル
ゴンレーザー、３３０〜４４０ｎｍに有する硫化亜鉛／
カドミウムレーザーなどを用いることができる。さら
に、紫外線レーザー、近紫外線レーザー発振が確認され
ている窒化ガリウムレーザー系では、発振波長を３６０
〜４４０ｎｍに有するＩｎＧａＮ系量子井戸半導体レー
ザー及び発振波長を３６０〜４３０ｎｍに有する導波路
ＭｇＯ−ＬｉＮｂ０_３反転ドメイン波長変換型のレーザ
ーを使用することもできる。レーザー出力が０．０１〜
３００Ｗのレーザーで照射をすることができる。また、
パルスレーザーを用いる場合には、ピーク出力が１００
０Ｗ、好ましくは２０００Ｗのレーザーを照射するのが
好ましい。支持体が透明である場合は、支持体の裏側か
ら支持体を通して露光することもできる。

【０１１２】＜活性光の全面照射＞加熱が像様であって
活性光は全面に一様露光を行なう場合には、上記した活
性光の像様照射に用いた各照射手段を用いることができ
る。ただし、画像情報を活性光に担持させる必要はない
ので、レーザー光の場合の画像情報による電気信号の変
調や一様フラッシュ露光の場合の画像マスク等が不要で
ある。また、レーザーの走査露光の場合には、原版表面
に実質的に均一な光エネルギーが与えられるようにレー
ザービーム径の調節を行なう必要がある。

【０１１３】以上の操作によって、光触媒能を有する印
刷原板の表面は、はじめに疎水化され、次いで加熱状態
で活性光照射を受けて疎水性・親水性の画像状分布が設
けられたので、現像処理することなく、そのままオフセ
ット印刷工程に送ることができる。従って通常の公知の
平版印刷法に比較して簡易性を中心に多くの利点を有す
る。すなわち上記したようにアルカリ現像液による化学
処理が不要であり、それに伴うワイピング、ブラッシン
グの操作も不要であり、さらに現像廃液の排出による環
境負荷も伴わない。また、上記したような簡易な画像記
録手段から容易に印刷を行うことも利点である。

【０１１４】〔印刷準備〕光触媒能を有する原板から得
られた平版印刷版の非画像部は、十分に親水性化してい
るが、所望により、水洗水、界面活性剤等を含有するリ
ンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で
後処理してもよい。本発明の画像記録材料を印刷用版材
として使用する場合の後処理としては、これらの処理を
種々組み合わせて用いることができる。その方法として
は、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平
版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に
印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる
塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ
ー、あるいは、スキージーローラーで、その塗布量を均
一にすることは、より好ましい結果を与える。整面液の
塗布量は一般に０．０３〜０．８g/m²（乾燥重量）が適
当である。この様な処理によって得られた平版印刷版
は、オフセット印刷機等にかけられ、あるいは印刷機上
で製版され、多数枚の印刷に用いられる。

【０１１５】〔印刷版の再生〕次に印刷を終えた印刷版
の再生工程について記す。印刷終了後の印刷版は疎水性
の石油系溶剤を用いて付着しているインキを洗い落と
す。溶剤としては市販の印刷用インキ溶解液として芳香
族炭化水素、例えばケロシン、アイソパ−などがあり、
そのほかベンゾール、トルオール、キシロール、アセト
ン、メチルエチルケトン及びそれらの混合溶剤を用いて
もよい。画像物質が溶解しない場合には、布などを用い
て軽く拭き取る。また、トルエン／ダイクリーンの１／
１混合溶媒を用いるとよいこともある。さらに、塩酸や
硫酸などの希酸水溶液でインクを除去した印刷版を洗浄
すると、版面上の履歴をさらに完全に消去できる。

【０１１６】インキを洗浄除去した印刷版は、製版・印
刷の工程中に受桁履歴が再使用の際に影響しないように
初期化の操作を行なう。初期化は、版面全体にわたって
均一に、親水性発現温度に昇温させてもよく、また活性
光を全面照射して親水性化を行ってもよい。この親水性
化の操作は、印刷インキを洗浄除去してから次の製版作
業までの間の任意の時期におこなってよいが、その原板
を次の製版工程に再使用する際に行うのが原板の保管中
の履歴の影響を排除できる点で好ましい。

【０１１７】本発明に係わる印刷原板の反復再生可能回
数は、完全に把握できていないが、少なくとも１５回以
上であり、おそらく反面の除去不能な汚れ、修復が実際
的でない刷面の傷や、版材の機械的な変形（ひずみ）な
どによって制約されるものと思われる。

【０１１８】III.装置 〔実施形態１〕次にこの原板を装着して印刷を行う方法
及び装置を、図によって説明する。光触媒性物質を表面
にもつ印刷用原板は、版胴の構成部材として固定されて
いてもよく、また着脱自在であってもよいが、以下図２
以降の説明では、前者を例に挙げて説明する。

【０１１９】図２は、本発明の第１の実施形態によるオ
フセット印刷装置の構成を示す図である。第１の実施形
態は、疎水性層を原板表面に設けた後、原板を加熱した
状態で活性光を像様に照射して画像を形成させる態様で
ある。図２に示すように本発明の第１の実施形態による
オフセット印刷装置は、酸化チタンや酸化亜鉛など前記
した光触媒能を有する印刷原板を装着した版胴１と、原
板の全表面に疎水性層を付与する疎水化処理部２と、版
胴１に装着されて全面疎水化された原板を所定温度に加
熱して活性光の像様照射を行って親水性・疎水性の像様
分布を形成させて刷版とする活性光照射部５（図２の形
態では熱経済上から加熱部は疎水化処理部２に含ませて
ある）と、その版胴１上の刷版にインキおよび湿し水を
供給するインキ・湿し水供給部３と、印刷終了後に版胴
１上の原版に残存するインキを除去するインキ洗浄部４
と、版胴１上の刷版に保持されたインキを用紙に転写す
るための中間体としてのブランケット６と、ブランケッ
ト６とともに給送された用紙を保持する圧胴７とを備
え、これらの部材が本体８内に収容されてなるものであ
る。なお、画像露光が面露光で行われる場合には、本体
８には、印刷原稿を焼き付けて現像したリスフィルムを
供給するためのフィルム供給部（図示しない）が設けら
る。

【０１２０】疎水化処理部２では、疎水化剤を原板上に
適用して原板表面を全面疎水化する。疎水化手段は、ロ
ーラーコート、リバースコート、ディップコートなどの
塗り付け塗布、スプレーノズルを用いる噴霧塗布、気相
凝縮など前記した諸方法の中から選ぶことができるが、
そのいくつかの態様を図３、５及び６によって示す。気
相凝縮法による疎水化処理は、例えば，図２の疎水化処
理部２には温度調節装置付きの電熱加熱器が装備されて
おり、疎水化剤は気化温度に加熱されて原板表面に送ら
れ、表面で凝縮して疎水性皮膜を形成する。電熱加熱器
の代わりに赤外線灯による熱線加熱を採用することもで
きる。

【０１２１】図３は、有機化合物の疎水性層を付与する
疎水化処理部２の一形態で、有機化合物蒸気供給手段２
９において有機化合物の蒸気を含んだ雰囲気から凝縮に
よって印刷用原板表面に疎水性層を付与できる構造とな
っている。すなわち、図３において、有機化合物蒸気供
給手段２９では、空気取り入れ口２４より空気が取り入
れられて、内径約３０ｍｍの分液ろ斗タイプの硝子管を
横向きに配置した蒸発室２６にコック２５を経て導かれ
る。蒸発室２６には有機化合物２７（斜線で示す）が容
積率が例えば５０％になるように満たされていて、有機
化合物２７の内部及び表面を空気が通過する間に必要量
の有機化合物２７の蒸発気体を取り込んでから、版胴１
上の原板表面に導かれる。

【０１２２】疎水化処理部２の外套内部の蒸発室２６
は、電熱ヒーター３０により加熱され、その加熱温度は
蒸発室２６に配した温度センサー３３と温度制御部３４
によって所定温度に制御される。また、有機化合物２７
の蒸気の取り込み量は、温度制御部３４において設定し
た気化温度で十分の疎水性層が形成がされる量であり、
その量になるように蒸発室２６の温度が設定される。蒸
発室の温度は、例えば、揮発し易い低沸点の有機化合物
（例えば、メチルエチルケトンやメチルセロソルブ）の
場合は、蒸発室の下部に有機化合物２７を満たすだけで
加熱する必要はないが、それでは不十分の沸点のやや高
い化合物（例えば、ヘキシレングリコール）の場合に
は、空隙率の大きい硅草土、シリカ粒子、沸石粒子など
を有機化合物２７とともに蒸発室内に入れて取り入れた
空気と有機化合物との接触度を高める措置が取られる。

【０１２３】また、有機化合物２７がナフタレンのよう
な固形物の場合は、蒸発室２６に適当な空隙率で充填さ
れる。さらに沸点が高い有機化合物の場合には、温度制
御部３４、電熱ヒーター３０及び温度センサー３３によ
って蒸発室２６内部の温度を蒸発に適した温度に調節で
きる機構となっている。例えば、シリコーンオイルを使
用する場合には、シリコーンオイルを含浸させた珪草土
が容積率が５０％となるように硝子管の下半分に空気と
接するように置かれ、空気の温度は取り入れ口２４では
室温で、この管を通過中に例えば１７０℃に上昇するよ
うに電熱ヒーター３０によって加熱される。なお、図に
は示してないが、当然のことながら蒸気を含んだ空気
は、屋外排気される。また、必要があれば、排気の前に
空気浄化も行われる。

【０１２４】本態様においては、疎水化処理部２が気相
からの凝縮によって疎水化層を付与している関係で加熱
手段を伴うので、疎水化処理部２のなかに活性光照射部
５の照射温度調節機構も取り込んだ構造となっている。
図３の上半部がそれであって、表面に疎水性層が付与さ
れた原板は、電熱ヒーター３１により加熱され、その加
熱温度は加熱領域に配した温度センサー３２と温度制御
部３４によって４０〜２００°Ｃの範囲から選択された
所定の温度に調節される。所定温度に調節された原板に
は、活性光照射部５の照射装置で活性光の像様照射が行
われる。

【０１２５】図２に戻って、本形態では活性光照射部５
の活性光照射装置には、光源として水銀灯を用いている
が、キセノン放電灯、高照度ハロゲン・タングステンラ
ンプなどの紫外線成分を含む他の光源であってもよい。
版胴の回転方向に対して直角方向に配したスリットによ
って、版胴の回転に伴って版胴表面に設けた画像マスク
すなわちリスフィルムを通してスリット光による全面走
査露光が施される。スリットの幅は必ずしも狭い必要は
なく、活性光照射部５を通過中に原板表面に像様の親水
性・疎水性分布が形成されるように照度とスリット幅及
び版胴の回転速度がきめられる。スリットの代わりに版
胴の幅に合わせた照射幅をもついわゆるがんどう型のラ
ンプハウスを用いてもよい。

【０１２６】活性光照射部５の別の態様としては、現像
済みリスフィルムを画像マスクとして用いる代わりに、
画像情報を担持したレーザー光を活性光として照射する
方式も用いられる。図４がその例を示したもので、画像
情報を担持したレーザー光による像様照射を行う態様を
示す図である。活性光照射部の活性光照射装置５’（活
性光照射部５のうち原板を所定温度に加熱する加熱装置
を除いた描画装置の部分を活性光照射装置５’と記して
いる）は、レーザー光を出射して版胴１上の原板に照射
するレーザー光源５２と、編集・レイアウトワークステ
ーション５４において印刷すべき画像から信号化されて
記録部に入力される画像信号Ｓに基づいて、レーザー光
源５２を駆動してレーザー光を変調させて版胴１上の原
板に描画を行うためのレーザー光源駆動部５３とからな
る。光源５２は出射されるレーザー光を版胴１の回転軸
方向に版胴１に対して相対的に移動して版胴１上を走査
するよう構成されており、版胴１が回転することによ
り、版胴１の表面が変調されたレーザー光により露光さ
れ、版胴１上の原板表面のレーザー光が照射されなかっ
た部分が疎水性の画像領域とされ、レーザー光が照射さ
れた部分が親水性の非画像領域とされて、ネガ型方式に
よる描画がなされるものである。

【０１２７】レーザー光は、紫外域、可視域又は近赤外
域に発振波長をもち、画像信号によって変調されてい
る。本実施形態では、ヘリウムカドミウムレーザーを搭
載して、そのビーム光が直接版胴の表面に照射される。
この活性光の照射による光反応によって所定温度に調節
された原板表面が親水性化する。レーザービーム幅は、
概略３０μｍ、エネルギー強度は１０ｍＷ〜１０Ｗが望
ましい。一般に強度が強いとそれだけ短時間に照射が終
わるので実用的には望ましい。なお、レーザーは、活性
光を発振するものであれば、半導体レーザー、固体レー
ザーそのほか任意のレーザーを用いることが出来る。

【０１２８】なお、ここではレーザーを直接変調する方
式を示したが、レーザーと音響光学素子のような外部変
調素子との組み合わせによっても同様に描画できること
はもちろんである。

【０１２９】活性光照射部（図２の５）は、活性光の像
様照射を行う活性光照射装置５’と原板温度を所定値に
加熱・調節する加熱装置からなるが、加熱装置について
は、熱経済的見地から疎水化処理部に結合させた上記図
３の３１、３２、３４からなる加熱形態のように、原板
の表面側から加熱する方式のほかに、原板の支持体側か
ら、即ち版胴内に付設した加熱装置によって所定温度に
加熱することもでき、また輻射加熱、接触加熱方式を適
宜選択することができる。図５と図６にその態様を示
す。

【０１３０】図５は、版胴の内側から原板を所定温度に
加熱しながら活性光の照射を行う活性光照射部の一形態
を示す図である。図５において、版胴内部に設けられた
加熱装置５８は、タングステンハロゲンランプであっ
て、その熱線によって原板は所定の温度に加熱される。
一方、図５の左半部は活性光照射装置５’であり、所定
温度の原板にレーザー光を像様に出射するレーザー光源
５２と、印刷すべき画像情報を信号化して記録部に画像
信号Ｓとして入力させる編集・レイアウトワークステー
ション５４と、その画像信号Ｓに基づいて、レーザー光
を変調させてレーザー光源５２を駆動するレーザー光源
駆動部５３からなる。活性光照射装置５’の機構及び作
用については、前記と同じである。

【０１３１】図６は、版胴の内側から原板を所定温度に
加熱しながら活性光の照射を行う活性光照射部の別の一
形態を示す図である。図６において、版胴内部に設けら
れた加熱装置５９は、ヒーター５９１とヒーター５９１
に接して加熱され、版胴１を介して原板Ｐを加熱する加
熱ローラー５９２からなる。加熱ローラーから版胴１へ
の接触加熱と原板への伝熱によって供給される熱によっ
て原板は所定の温度に加熱される。一方、図５の左半部
は活性光照射装置５’であり、すでに前記したとおりで
ある。

【０１３２】次いで、第１の実施形態の動作について説
明する。まず、疎水化処理部２を回転しながら通過する
版胴１上の原板表面には有機化合物供給手段２９内の蒸
発室２７でヒーター３０によって気化した有機化合物蒸
気疎水性層が付与されて全面が一様のインク受容性とな
る。つづいて原板の温度は、温度制御部３４によって疎
水性発現温度の範囲内に制御されて、活性光照射部５
で、画像マスクを介することにより、又は画像情報で変
調させることにより、像様分布が付与された活性光の照
射を受けて、照射を受けた領域が親水性で、照射を受け
なかった領域は親油性を有する親水性・親油性の画像状
分布が得られる。活性光の照射が終了すると、次いで、
インキ・湿し水供給部３よりインキおよび湿し水が版胴
１に供給される。これにより、版胴１上の原板（刷版）
の親油性の画像領域にはインキが保持され、親水性の非
画像領域にはインキが保持されることなく湿し水が保持
される。

【０１３３】その後、ブランケット６と圧胴７との間に
矢印Ａに示すように用紙を供給し、版胴１に保持された
インキをブランケット５を介して用紙に転写することに
よりオフセット印刷が行われる。

【０１３４】印刷終了後、インキ洗浄部４により版胴１
上の刷版に残存するインキを除去する。その後、版胴１
を疎水化処理部２を通して光触媒性物質が疎水性を呈す
る温度に全面加熱することにより、版胴１上の刷版の像
様の親水性領域の履歴が消去されて、製版工程開始前の
原板の状態に戻る。

【０１３５】このように、本発明によるオフセット印刷
装置によれば、全面疎水性層の付与と温度調節した原板
上への活性光による像様照射のみで原板上に適切な描画
速度で印刷画面を形成することができ、これにより現像
が不要でかつ印刷面の鮮鋭性が保たれたオフセット印刷
を行うことができる。また、版胴１と刷版を洗浄して再
度全面加熱することにより元の状態に戻すことができる
ため、再生した原板を反復使用することができ、これに
より印刷物を低コストで提供することができることとな
る。さらに、印刷装置から版胴１を取り外す必要がない
ため、従来のＰＳ版のように印刷装置に組み込む際にゴ
ミなどが付着することもなくなり、これにより、印刷品
質を向上させることができる。

【０１３６】また、印刷用原板を版胴１に装着し、版胴
１の周囲に疎水性層付与部２、インキ・湿し水供給部
３、インキ洗浄部４および活性光照射部５を配設するこ
とにより、単に版胴１を回転させるのみで、原板の全面
疎水性化、活性光による像様照射およびインキと湿し水
の供給、さらには印刷終了後のインキ洗浄を行うことが
できるため、装置をコンパクトに構成することができ、
これにより省スペース化を図ることができる。

【０１３７】さらに、ネガ型の簡易な製版方式の中で
も、全面疎水性化してから所定の温度のもとで活性光の
像様照射を行う本発明が、温度を所定値に制御しないで
直接活性光の像様照射を行う方式に比較して、製版作
業の生産性を制約しない十分な描画速度が得られるこ
と、画像と非画像の識別性がよいこと、製版コスト
が節減できることなどの利点を有している。さらに、疎
水性層を付与しないで直接活性光の像様照射を行う方式
に比較して、均一性の高い疎水性表面が得られるこ
と、疎水性化に続いて直ちに活性光による像様照射を
行うことができること、履歴に影響されず、再現性が
よいことなどの利点を有している。その結果、画像領域
と非画像領域の識別性の高い印刷版を再現性よく製作す
ることができるという利点がある。

【０１３８】［実施形態２］次ぎに、本発明の印刷装置
及び方法の第２の形態について記す。第２の実施形態
は、活性光の照射及び原板表面の加熱のいずれもが光走
査方式で行われる形態であって、そのほかについては、
第１の実施形態について述べたことと同じである。活性
光の照射と加熱光の照射の形態としては、いずれもレー
ザー光を用いた図８に示す態様が用いられる。赤外線光
は、非像様の全面照射である場合（前記の方法）も像
様の照射である場合（前記の方法）も行なわれるが、
後者の場合は活性光と赤外線光とが同じ画像情報を担持
している。図８は、極性変換用の活性光レーザー光及び
加熱用赤外線レ−ザー光を同時に同じ位置に照射する態
様を示す概略模式図であって、活性光照射レーザー光５
１１と加熱用レーザー光５１２のレンズ８１で集光され
たビームスポットが重なるように、版胴１に装着された
印刷用原板Ｐ上に照射されながら，走査露光が行なわれ
る。 活性光５１１と加熱光５１２とのビームスポット
は、正確に重なる必要はないが、活性光５１１のスポッ
トが加熱光５１２のスポットの範囲内に入るように照射
が行なわれるのがよい。図１０は，そのような活性光と
加熱光の照射スポット関係を示した図で有り，加熱光の
ビームスポット５１４の中に同心円状に活性光５１３の
ビームスポットが照射される。このような重なり関係で
照射が行なわれると活性光の照射領域はスポットの全域
に渡って均一に感度が高く、親水化が確実に行なわれ、
その周辺の加熱スポット領域は、親水化が起こらず，熱
の逃散も速やかに行なわれる。

【０１３９】〔実施例１〕上記実施形態１による実施例
を示す。９９．５重量％アルミニウムに、銅を０．０１
重量％、チタンを０．０３重量％、鉄を０．３重量％、
ケイ素を０．１重量％含有するＪＩＳＡ１０５０アルミ
ニウム材の厚み０．３０mm圧延板を、４００メッシュの
パミストン（共立窯業製）の２０重量％水性懸濁液と、
回転ナイロンブラシ（６，１０−ナイロン）とを用いて
その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。これを
１５重量％水酸化ナトリウム水溶液（アルミニウム４．
５重量％含有）に浸漬してアルミニウムの溶解量が５g/
m²になるようにエッチングした後、流水で水洗した。更
に、１重量％硝酸で中和し、次に０．７重量％硝酸水溶
液（アルミニウム０．５重量％含有）中で、陽極時電圧
１０．５ボルト、陰極時電圧９．３ボルトの矩形波交番
波形電圧（電流比ｒ＝０．９０、特公昭５８−５７９６
号公報実施例に記載されている電流波形）を用いて１６
０クローン／dm²の陽極時電気量で電解粗面化処理を行
った。水洗後、３５℃の１０重量％水酸化ナトリウム水
溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が１g/m²になる
ようにエッチングした後、水洗した。次に、５０℃、３
０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした後、
水洗した。

【０１４０】さらに、３５℃の硫酸２０重量％水溶液
（アルミニウム０．８重量％含有）中で直流電流を用い
て、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。即ち電流密
度１３A/dm²で電解を行い、電解時間の調節により陽極
酸化皮膜重量２．７g/m²とした。この支持体を水洗後、
７０℃のケイ酸ナトリウムの３重量％水溶液に３０秒間
浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにして得られた
アルミニウム支持体は、マクベスＲＤ９２０反射濃度計
で測定した反射濃度は０．３０で、中心線平均粗さは
０．５８μｍであった。

【０１４１】次いでこのアルミニウム支持体を真空蒸着
装置内に入れて、全圧２．０ｘ１０ ^-2Ｐａになるように
分圧７０％の酸素ガスの条件下でチタン金属片を電熱加
熱して、アルミニウム支持体上に蒸着して酸化チタン薄
膜を形成した。この薄膜の結晶成分はＸ線解析法によっ
て無定型／アナターゼ／ルチル結晶構造の比が１．５／
６．５／２であり、TiO_２薄膜の厚さは９００オングス
トロームであった。これを版胴１の基体に巻き付けて機
上印刷用の原板とした。原板表面の水に対する接触角を
Contact Angle Meter CA-D（協和界面科学（株）製）を
用いて空中水滴法で表面の水に対する接触角を測定した
ところ、いずれの部分も４８〜５５度の間にあった。こ
の印刷原板を図２に記述した印刷装置の版胴（図２の
１）に装着した。

【０１４２】図３に示した態様の加熱部を使用し、蒸発
室（図３の２６）にはペルフルオロ酪酸（市販、試薬）
を蒸発室容積の約５０％まで満たし、加熱温度を１００
℃に制御した電熱加熱による加熱を行った。加熱部の通
過時間が１分となる回転速度で版胴を回転させた。加熱
後の原板表面の水に対する接触角をContact Angle Mete
r CA-D（協和界面科学（株）製）を用いて空中水滴法で
表面の水に対する接触角を測定したところ、いずれの部
分も８５〜９１度の間にあった。また、ヒーター３１の
温度を１４０°Ｃに設定して原板をさらに加熱して、活
性光照射装置に送った、

【０１４３】次いで、図３の活性光照射部５には、ＵＳ
１０焼き付け用光源装置ユニレックＵＲＭ６００形式Ｇ
Ｈ６０２０１Ｘ（ウシオ電気工業（株）製）を用いて光
強度５０ｍＷ／ｃｍ² のもとで通過時間が１０秒となる
回転速度で版胴を回転させた。図示しないフィルム供給
装置から供給された現像済みフィルムを通して原板表面
に像様の活性光露光が行われた。照射後の原板表面の水
に対する接触角をContact Angle Meter CA-D（協和界面
科学（株）製）を用いて空中水滴法で表面の水に対する
接触角を測定したところ、いずれの照射領域も７〜９度
の間にあった。

【０１４４】この版胴１上の刷版をサクライ社製オリバ
ー５２片面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部３
において湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業
社製Newchampion Ｆグロス８５墨を用いて２０００枚オ
フセット印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印
刷物が得られ、版胴１の損傷も認められなかった。

【０１４５】次いで洗浄部４において、刷版の表面を印
刷用インキ洗浄液ダイクリーンＲ（発売元；大日本イン
キ化学工業社）とトルエンの１／１混合液をウエスにし
み込ませて丁寧に洗浄してインキを除去した。再び疎水
化処理部２において蒸発室を外した状態で１００°Ｃの
加熱を行った。前と同じ方法で接触角を測定したとこ
ろ、刷版面のどの部分も４８〜５５度の間にあり、もと
の原板と同じ表面状態を回復していた。

【０１４６】次いで、この原板に前記した疎水化処理か
ら始まる製版工程を同じ条件で反復して行い、刷版を再
び作成した。この版胴１上の刷版をサクライ社製オリバ
ー５２片面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部３
において湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業
社製Newchampion Ｆグロス８５墨を用いて１０００枚オ
フセット印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印
刷物が得られ、版胴１の損傷も認められなかった。

【０１４７】以上の繰り返しを５回実施したところ、活
性光照射後の接触角の値、加熱による接触角の回復スピ
ード及び印刷面の画像の鮮明さの変化は認められなかっ
た。この結果から、酸化チタン層をアルミニウム支持体
上に設けた印刷原板を使用し、実施形態１の印刷装置を
用いて疎水性層の付与と所定温度のもとで活性光の像様
照射とによってネガ方式の製版による印刷が可能であ
り、しかもインキの洗浄除去と原板表面の履歴除去用の
加熱のみで印刷原板を反復再生使用できることが示され
た。

【０１４８】〔比較例１〕実施例１において、疎水化処
理部において、ヒーター３１による加熱を行わないで、
疎水性層の付与のみを行ったのち、原板温度が３０°Ｃ
の状態で活性光照射を行った以外は、実施例１と同じ条
件で製版と印刷を行った。印刷結果は、印刷開始当初か
ら印刷終了までの全印刷物とも、白地部分の印刷汚れが
認められ、画像部分のインクの濃度が薄く、画像部と非
画像部の識別性が得らない低画質の印刷物しか得られな
かった。

【０１４９】〔比較例２〕比較例１において、活性光照
射部５における画像の走査露光の際の画像光の照射時間
（通過時間）を１０秒から３０秒になるように回転速度
を変更して版胴を回転させた以外は、比較例１と同じ操
作によって製版・印刷を行った。印刷結果は、印刷開始
当初から印刷終了までの全印刷物とも、白地部分の印刷
汚れが顕著に減少し、画像部分のインクの濃度も許容レ
ベルまで高くなり、実施例１の画質には明らかに劣る
が、許容範囲の印刷物が得らた。

【０１５０】以上の実施例１及び比較例１と２から、比
較例１は、原板温度を所定の温度に調節することなく、
低い温度（３０°Ｃ）で製版作業性に好都合な速い走査
速度（短い光照射時間）で像様露光を行うと、画像形成
の遅れから印刷可能な刷版ができず、光照射時間を延ば
した比較例２では、印刷品質は改善されるが、光照射時
間を要した。これに対して原板温度を所定温度に加熱し
た状態で光照射を行うと光感度が高くなり、短い時間に
効果的に識別性が確保されることが示された。

【０１５１】〔実施例２〕真空蒸着装置中に１００ミク
ロン厚みのＳＵＳ板をセットして全圧０．０１Ｐａの真
空下で亜鉛を１０００オングストロームの厚みに蒸着し
た。これを空気中６００°Ｃで２時間酸化処理してＳＵ
Ｓ板の片面に酸化亜鉛の薄膜を形成させた。

【０１５２】この酸化亜鉛皮膜付き１００ミクロンＳＵ
Ｓ板を実施例１と同じく、実施形態１の印刷装置の版胴
１の基体に巻き付けて機上製版型の原板とした。原板表
面の水に対する接触角をContact Angle Meter CA-D（協
和界面科学（株）製）を用いて空中水滴法で表面の水に
対する接触角を測定したところ、いずれの部分も５０〜
５７度の間にあった。

【０１５３】実施例１と同じ疎水化剤を用いて、蒸発し
つの温度も実施例１同様１００℃に制御した電熱加熱に
より、原板表面に疎水性層を形成させた。原板表面の水
に対する接触角をContact Angle Meter CA-D（協和界面
科学（株）製）を用いて空中水滴法で表面の水に対する
接触角を測定したところ、いずれの部分も８６〜９２度
の間にあった。

【０１５４】次いで、実施例１と同様に、活性光照射時
の原板温度も１４０°Ｃとなるようにヒーター（図３の
３１）の温度を制御し、ユニレックＵＲＭ６００形式Ｇ
Ｈ６０２０１Ｘを用いて同じ条件で、現像済みフィルム
を通して原板表面に活性光の像様照射を照射時間が１０
秒となる回転速度で行った。照射後の原板表面の水に対
する接触角をContact Angle Meter CA-Dを用いて空中水
滴法で表面の水に対する接触角を測定したところ、いず
れの照射領域も１０〜１３度の間にあった。

【０１５５】この版胴１をサクライ社製オリバー５２片
面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部３において
湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newc
hampion Ｆグロス８５墨を用いて１０００枚オフセット
印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得
られ、版胴１の損傷も認められなかった。

【０１５６】次いで洗浄部４において、版胴１の表面を
印刷用インキ洗浄液ダイクリーンＲ（発売元；大日本イ
ンキ化学工業社）とトルエンの１／１混合液をウエスに
しみ込ませて丁寧に洗浄してインキを除去した。再び疎
水化処理部２で有機化合物蒸気と接触させないで、１０
０°Ｃで５分間の通電加熱のみを行ったのち、室温まで
冷えた状態で前と同様の方法で接触角を測定した。版表
面のどの部分も５０〜５７度の間にあった。

【０１５７】次いで、実施例１と同じユニレックＵＲＭ
６００形式ＧＨ６０２０１Ｘを用いて同じ条件で、現像
済みフィルムを通して原板表面に活性光の像様照射を行
った。照射後の原板表面の水に対する接触角をContact
Angle Meter CA-Dを用いて空中水滴法で表面の水に対す
る接触角を測定したところ、いずれの照射領域も１０〜
１３度の間にあった。

【０１５８】この版胴１をサクライ社製オリバー５２片
面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部３において
湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newc
hampion Ｆグロス８５墨を用いて１０００枚オフセット
印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得
られ、版胴１の損傷も認められなかった。

【０１５９】この結果から、酸化亜鉛層をＳＵＳ支持体
上に設けた印刷原板を使用し、態様１の印刷装置を用い
て活性光にとる全面照射とヒートモード印字によって印
刷が可能であり、しかもインキの洗浄除去のみで印刷原
板を反復再生使用できることが示された。

【０１６０】〔比較例３〕実施例２において、疎水化処
理部において、ヒーター３１による加熱を行わないで、
疎水性層の付与のみを行ったのち、原板温度が３０°Ｃ
の状態で活性光照射を行った以外は、実施例１と同じ条
件で製版と印刷を行った。印刷結果は、印刷開始当初か
ら印刷終了までの全印刷物とも、白地部分の印刷汚れが
認められ、画像部分のインクの濃度が薄く、画像部と非
画像部の識別性が得らない低画質の印刷物しか得られな
かった。

【０１６１】〔比較例４〕実施例２において、ヒーター
３１による原板の加熱温度を２１０°Ｃとした以外は、
実施例２と同じ操作によって製版・印刷を行った。印刷
結果は、印刷開始当初から印刷終了までの全印刷物と
も、白地部分の印刷汚れが認められ、画像部分のインク
の濃度が薄く、画像部と非画像部の識別性が得らない低
画質の印刷物しか得られなかった。

【０１６２】〔実施例３〕実施例１と同様にして陽極酸
化処理したアルミニウム支持体をＣｓＬａ_２ＮｂＴｉ_２
Ｏ_１０の化学量論比に相当するセシウムエトキシド、チ
タンブトキシド、ランタンイソブトキシド、ニオブエト
キシドを含む２０％のエタノール溶液に浸漬して表面を
加水分解したのち２８０°Ｃに加熱してアルミニウム支
持体表面にＣｓＬａ_２ＮｂＴｉ_２Ｏ_１０の厚み１０００
オングストロームの薄膜を形成させた。

【０１６３】この複合金属酸化物薄膜付きアルミニウム
支持体を版胴の基体に巻き付けて原板とした以外は、実
施例１と同じ製版、印刷及びインキ洗浄除去、再印刷を
行った。疎水化処理を行った原板の水に対する接触角
は、１回目及び２回目とも８５〜９０度であり、また、
活性光の照射領域の接触角は、１０〜１４度であった。
印刷面の品質も１回目及び２回目とも地汚れはなく、画
像領域と非画像領域の識別性も十分であった。

【０１６４】〔比較例５〕しかしながら、活性光照射を
３５°Ｃで行ったところ、印刷物は白地汚れが著しく識
別性が得られなかった。

【０１６５】〔実施例４〕厚み１００ミクロンのポリイ
ミド（無水ピロメリット酸・ｍ−フェニレンジアミン共
重合物）フィルム（商品名；カプトン、東レ・デュポン
社製）を真空蒸着装置内にセットし、二酸化チタンを熱
応答性金属酸化物とした原板を作製した。すなわち、上
記ポリイミド支持体をスパッタリング装置内にセット
し、全圧１．５ｍＰａで酸素分圧７０％の条件下でチタ
ン金属片を加熱して二酸化チタン薄膜を蒸着形成した。
この薄膜の結晶成分は、Ｘ線解析法によれば、無定型、
アナターゼ、ルチルの各結晶の構造比が１５／６．５／
２であった。また、二酸化チタン薄膜の暑さは９０ｎｍ
であった。これを版胴の基体に巻き付けて原板として使
用したことと、活性光の光源としてタングステン・ハロ
ゲンランプを使用した以外は、実施例１と同じ製版、印
刷及びインキ洗浄除去、再印刷を行った。使用したタン
グステン・ハロゲンランプは、市販の写真撮影用５００
Ｗスタジオランプである。疎水性層付与後の原板表面の
水に対する接触角は、１回目及び２回目とも８６〜９２
度であり、また、活性光の照射領域の接触角は、１０〜
１５度であった。印刷面の品質も１回目及び２回目とも
地汚れはなく、画像領域と非画像領域の識別性も十分で
あった。

【０１６６】〔比較例６〕しかしながら、活性光照射を
３５°Ｃで行ったところ、印刷物は白地汚れが著しく識
別性が得られなかった。

【０１６７】〔実施例５〕実施例１において、活性光の
像様照射をユニレックスＵＲＭ６００によって行う代わ
りに、アルゴンレーザーを使用し、現像済みリスフィル
ムを画像マスクとする代わりに図５の装置を用いて原板
の支持体側からタングステンハロゲンランプ（図５の５
８）を用いて熱線による加熱（１５０°Ｃ）を行いなが
らレーザー光ビームを画像情報で変調して照射すること
によって像様の分布を与えたこと以外は、実施例１と同
じ方法で印刷版を製作して印刷を行い、かつ印刷版の反
復再使用も行った。レーザー光の照射条件は、発振波長
が０．３５μｍで、ビーム径を３０μｍで走査した。ま
た、その強度は５０ｍＷであった。レーザー照射による
親水性化領域の水に対する接触角は、１回目及び２回目
とも９〜１１度であり、また、印刷面の品質も１回目及
び２回目とも地汚れはなく、画像領域と非画像領域の識
別性も十分であった。

【０１６８】〔比較例７〕しかしながら、タングステン
ハロゲンランプを消灯して活性光照射を３５°Ｃで行っ
たところ、印刷物は白地汚れが著しく識別性が得られな
かった。

【０１６９】〔実施例６〕疎水化処理部には、船型塗布
ギーサーを配置して、その中にシリコーンオイル〔商品
名シリコーンＫＦ９９（信越化学工業（株）製〕を充填
して版胴上の印刷原板がシリコーンオイル液面に接触す
る位置関係で版胴を回転させてディップ塗布によってシ
リコーンオイルの疎水性層を付与した。この疎水性層表
面の水に対する接触角の値は、９０〜９６度であった。
次いで図６に示した接触電熱加熱式の原板加熱装置で１
９０°Ｃに加熱した状態でレーザー光の照射によって画
像情報の記録を行った。活性光の像様照射を行った親水
性領域の水に対する接触角は、９〜１１度であった。

【０１７０】この印刷版を使用して、５０００枚のオフ
セット印刷を行った。実施例１と同様にスタートから終
了までインキ汚れは認められず、鮮明な印刷物が得られ
た。これに対して、接触電熱加熱式の原板加熱装置の温
度を１９０°Ｃの代わりに３５°Ｃとした比較例及び２
１０°Ｃとした比較例には、顕著な印刷汚れが生じて、
とくに加熱温度が２１０°Ｃのときの印刷物は、識別性
が殆ど失われた。

【０１７１】〔実施例７〜１０〕実施例６におけるシリ
コーンＫＦ９９を下記〜に記載の有機化合物の１０
質量％メタノール溶液に変更したことと活性光照射の際
の原板の温度を３５、１００、１８０、２１０°Ｃの４
通りに変更して照射を行ったこと以外は、実施例６と同
じ方法で印刷版を作製し、２０００枚の印刷を行った。
光照射時の温度が１００°Ｃ及び１８０°Ｃのときは、
印刷のスタートから終了までインキ汚れは認められず、
鮮明な印刷物が得られた。光照射時の温度が３５°Ｃ及
び２１０°Ｃのときは、印刷の開始時からインキ汚れは
認めら、画像部と非画像部の識別性が低下した結果とな
った。

【０１７２】［実施例１１］実施例１に述べた砂目立
て、化学粗面化及び電解粗面化を施した後陽極酸化処理
を施したアルミニウム支持体に，二酸化ケイ素の２０ミ
クロンの厚みの皮膜を珪酸ナトリウムの電着処理によっ
て形成させ，断熱層とした。次いで断熱層の上に発熱層
として珪素（Ｓｉ）の厚み２ミクロンの層を金属珪素の
スパッタリングによって施した。次いでこの断熱層と発
熱層を設けたアルミニウム支持体をスパッタ装置内にお
いて、チタン金属ターゲットをセットしてＡｒ／Ｏ２
比が６０／４０（モル比）となるようにガス圧を５×１
０^-1Ｐａに調整したのち、ＲＦパワー２００Ｗを投入し
てスパッタリングを行って酸化チタン薄膜をアルミニウ
ム支持体上に形成した。図９は、このようにして作製し
た本発明の平版印刷用原版の構成を示す模式図であり、
図９において印刷用原版支持体９０の一方の表面上に断
熱層９１が、さらにその上に発熱層９２がもうけられて
おり、画像記録層９３が最上層に有って原版表面の極性
変化に与る構成となっている。

【０１７３】ついで、実施例１と同じ方法で感光層の全
面にシリコーンオイルＫＦ−９９(信越化学工業(株)製)
を付着させた。疎水性皮膜表面の水に対する接触角をCo
ntact Angle Meter CA-D（協和界面科学（株）製）を用
いて空中水滴法で測定したところ、いずれの部分も７８
〜８５度の間にあった。この原板に活性光として、波長
３５５ｎｍの紫外線レーザー(水冷アルゴンレーザー)光
を照射した。レーザー光の照射条件は、発振波長が３５
０nｍで、ビーム径を３０μｍで走査した。加熱用のレ
ーザー光を用いることなく活性光照射のみで親水化を行
なったところ，接触角が１０度に成るのに要した照射エ
ネルギーは７００ｍＪ／ｃｍ²であった。つぎに、活性
光照射とともに加熱用のレーザーとしてＹＡＧレーザー
（照射エネルギー３００ｍＪ／ｃｍ²、ビーム径は３０
μｍ）で同時に同一領域に照射を行なったところ，接触
角が１０度に低下するのに要した照射エネルギーは６５
ｍＪ／ｃｍ²であって一桁以上の減少を示した。接触角
が10度になった領域は、活性光と加熱用レーザー光がと
もに照射された領域のみであった。同時照射によって紫
外線光のみによる親水性化の場合と比べて紫外線光の照
射エネルギーを１／１０に減らすことができた。

【０１７４】［実施例１２］実施例１１の活性光照射を
ドラムスキャナーの回転速度の変更によって行なった。
活性光照射のみで親水化を行なった場合は、ドラムスキ
ャナーの線速度を５０ｃｍ／ｓｅｃにしたときに接触角
が１０度まで親水化した。加熱用のレーザー光を同時に
照射しながら走査露光を行なうと、線速度が１０倍の５
００ｃｍ／ｓｅｃで親水化を行なうことができた。

【０１７５】［実施例１３］加熱用レーザー光と活性光
の照射領域の関係を図8と図10に示したように配し、活
性光(図8の511、図10の５１３)が照射する領域を加熱用
のレーザー光(図8の51２、図10の５１４)が照射する領
域より狭くして、接触角が10度になるのに要する活性光
のエネルギー量と接触角が10度になる領域を調べた。加
熱用のレーザー光の照射エネルギー良及び照射光の波長
は実施例１１と同じとした。活性光用のレーザー光の照
射光の波長も実施例１１と同じとした。その外の条件も
実施例１１と同じにして試験を行い、当然ながらレーザ
ービームの照射密度が水滴接触角が測定可能な密度とな
る領域も存在するように照射を行った。接触角を10度に
するのに必要な活性光照射エネルギーは、６５ｍＪ／ｃ
ｍ²であり、10度になった領域は、活性光が照射された
領域のみであった。

【０１７６】［実施例１４］加熱用レーザー光と活性光
の照射領域の関係を図8と図10に示したように配した実
施例１２とは反対の関係として（すなわち、活性光が照
射する領域を加熱用のレーザー光が照射する領域より広
くして）、接触角が10度になるのに要する加熱光のエネ
ルギー量と接触角が10度になる領域を調べた。活性用の
レーザー光の照射エネルギー量を６５ｍＪ／ｃｍ²と
し，照射光の波長は実施例１１と同じとした。加熱光用
のレーザー光の照射光の波長も実施例１１と同じとし
た。その外の条件も実施例１１と同じにして試験を行
い、当然ながらレーザービームの照射密度が水滴接触角
が測定可能な密度となる領域も存在するように照射を行
った。接触角を10度にするのに必要な加熱光の照射エネ
ルギーは、３００ｍＪ／ｃｍ²であり、10度になった領
域は、加熱光が照射された領域のみであった。

【０１７７】実施理１１〜１４の結果から判るように、
活性光の照射と加熱光の照射をともに像様照射する方
法、活性光のみを像様に照射し、活性光が照射される領
域よりも広い範囲を加熱用の光で照射する方法、及び加
熱用の光照射を像様照射とし、活性光を加熱用の光が照
射される領域よりも広い範囲に照射する方法のいずれを
用いても、加熱を伴わない活性光照射の場合より少ない
活性光照射エネルギーで効果的な極性変換が起こること
が直接又は間接的に示される。この条件のもとでは、画
像部と非画像部の識別性が高い印刷版が得られ、優れた
印刷方法を提供することができた。

【０１７８】次いで、本発明の第３の実施形態について
説明する。 〔実施形態３〕図７は本発明の第３の実施形態によるオ
フセット印刷装置の構成を示す図である。図７に示すオ
フセット印刷装置は、図２に示すオフセット印刷装置を
印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂとして４
台直列に本体１２内に配置して構成されるものであり、
それぞれ、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シア
ン）、Ｂ（ブラック）のインキを使用してカラー印刷を
行うものである。

【０１７９】各印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，
１１Ｂの構成および動作は上述した図２に示すオフセッ
ト印刷装置と同一であるため、詳細な説明は省略する。
第３の実施形態においては、各印刷ユニット１１Ｙ，１
１Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂのインキ・湿し水供給部において
供給されるインキの色が、それぞれ、Ｙ（イエロー）、
Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）、Ｂ（ブラック）である
点が異なるものである。

【０１８０】次いで、第３の実施形態の動作について説
明する。まず、印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，
１１Ｂにおいて版胴１をゆっくり回転させながら疎水化
処理部２を通過する原板表面の疎水性化を行う。疎水化
処理部の構造は図３に説明したので省略するが、加熱雰
囲気の温度、及び有機化合物を存在させる場合は、蒸発
室の温度は制御部（図３の３４）で制御されるので、有
機化合物の有無、有機化合物の種類及び原板表面の熱応
答物質の種類に応じて最適の条件が選択される。十分の
加熱時間で通過する速度で回転し、版胴全面を疎水性に
した後に、図２の加熱装置付き活性光照射部５による加
熱された状態で像様照射が行なわれ、各色を表す描画が
行われる。そして、各印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，１
１Ｃ，１１Ｂのインキ・湿し水供給部からＹ，Ｍ，Ｃ，
Ｂそれぞれの色のインキを供給して、各印刷ユニット１
１Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂの版胴１にインキおよび
湿し水を保持する。その後、図７の矢印Ｂに示すように
用紙を供給して、各印刷ユニット１１Ｙ，１１Ｍ，１１
Ｃ，１１Ｂのインキを用紙に転写する。すなわち、印刷
ユニット１１ＹにおいてはＹのインキが転写され、印刷
ユニット１１ＭにおいてはＭのインキが転写され、印刷
ユニット１１ＣにおいてはＣのインキが転写され、印刷
ユニット１１ＢにおいてはＢのインキが転写される。こ
れにより、用紙にはカラー画像がネガ型の方式で印刷さ
れることとなる。

【０１８１】印刷終了後、各印刷ユニット１１Ｙ，１１
Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂのインキ洗浄部により版胴に残存す
るインキを除去する。その後、版胴１をゆっくり回転さ
せながら活性光照射部５によって活性光照射又は加熱を
行い、版胴１の全面を親水性化して、版胴１は描画前の
状態に戻る。ただし、この親水性化工程は、次の印刷を
行う直前に行う方が履歴の影響を避けるためには好まし
い。

【０１８２】

【発明の効果】光触媒能を有する印刷用原板に疎水性層
を一様に設けたのち、原板表面を４０〜２００°Ｃの範
囲の所定の温度への加熱と活性光の照射との組み合わせ
によって疎水性領域と親水性領域の像様分布を形成させ
て印刷版を作成する印刷方法は、照射による極性変換速
度が速いので製版作業の制約とならないで、迅速な製版
が可能であり、かつ画像領域と非画像領域の識別性も高
く維持される。かつ現像などの処理を必要とせず、直接
印刷版を作成することができ、かつ印刷終了後、印刷版
のインキを除去して印刷原板を再生して反復使用するこ
とができる。また、原板を印刷機の版胴に装着し、印刷
機上で、親水性化、ヒートモード描画、インキ・湿し水
供給及び印刷後の原板再生を行う印刷装置を用いて簡易
で安価なオフセット印刷を行うことができる。したがっ
て、本発明の平版印刷方法、印刷原板及び印刷装置によ
れば、光触媒能を有する原板に疎水性層を設けることな
く直接活性光の像様照射を行う製版・印刷方法や、原板
の温度を４０〜２００°Ｃの所定温度に調節しないで活
性光の像様照射を行う製版・印刷方法に比べて、製版時
間の短縮、印刷品質及び耐刷性を向上させることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】活性光照射における原板の表面の温度と極性変
化速度の関係を示す図である。

【図２】本発明の第１の実施形態によるオフセット印刷
装置の構成を示す図である。

【図３】疎水層を気相凝縮によって付与する疎水化処理
部の一態様の構成を示す図である。

【図４】活性光照射部の一態様の構成を示す図である。

【図５】原板を輻射加熱のもとで活性光照射するレーザ
ー描画方式の活性光照射部の構成を示す図である。

【図６】原板を電熱接触加熱のもとで活性光照射するレ
ーザー描画方式の活性光照射部の構成を示す図である。

【図７】本発明の第２の実施形態によるオフセット印刷
装置の構成を示す図である。

【図８】本発明の一態様における活性光と加熱光の両レ
ーザービームの重なり関係を示す模式図である。

【図９】本発明に用いる印刷用原板の一態様の層構成を
示す模式図である。

【図１０】本発明の一態様における活性光と加熱光の両
レーザー光のビームスポットの好ましい重なり関係を示
す模式図である。

【符号の説明】

１ 版胴 ２ 疎水化処理部 ３ インキ・湿し水供給部 ４ インキ洗浄部 ５ 活性光照射部 ５’ 活性光照射装置 ６ ブランケット ７ 圧胴 ８ １２，１５ 本体 １１Ｙ，１１Ｍ，１１Ｃ，１１Ｂ 印刷ユニット １４Ｙ，１４Ｍ，１４Ｃ，１４Ｂ 印刷ステーション ２０ 編集・レイアウトＷ／Ｓ ２４ 空気取り入れ口 ２５ コック ２６ 蒸発室 ２７ 有機化合物 ２９ 有機化合物供給手段 ３０ 電熱ヒーター ３１ 電熱ヒーター ３２ 温度センサー ３３ 温度センサー ３４ 温度制御部 ５１ レーザー光 ５１１ 活性光照射用レーザー光 ５１２ 加熱光照射用レーザー光 ５１３ 活性光のビームスポット ５１４ 加熱光のビームスポット ５２ レーザー光源 ５３ 光源駆動部 ５４ 編集・レイアウトワークステーション ５８ 加熱装置（タングステンハロゲンランプ） ５９ 加熱装置（電熱接触加熱） ５９１ ヒーター ５９２ 伝熱ローラー ９０ 支持体 ９１ 断熱層 ９２ 発熱層 ９３ 感光層 Ｓ 画像情報信号 Ｐ 原板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C034 AA12 BA02 2H025 AA01 AB03 AC01 AC08 AD03 BH03 CC11 DA01 DA03 DA40 2H084 AA13 AA14 AA36 AA38 AE05 CC05 2H096 AA06 BA09 BA20 CA05 CA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA23 AA24 AA30 BA01 BA05 BA06 BA10 DA05 DA08 DA27 DA28 DA32 DA38 DA43 DA45 DA49 DA50 DA51 DA52 DA53 DA55 DA57 DA59 DA60 DA62 DA75 EA01 EA03 EA04 EA05 EA08 GA01 GA29 GA33 GA34 GA36

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光触媒能を有する印刷用原板に疎水性物
   質の層を一様に設けたのち、該原板表面の４０〜２００
   °Ｃの温度への加熱と活性光による照射とによって親水
   性領域と疎水性領域の像様分布を形成させ、疎水性領域
   が印刷用インキを受け入れて印刷を行うことを特徴とす
   る平版印刷方法。
2. 【請求項２】 少なくとも該活性光による照射が像様に
   行われることを特徴とする請求項１に記載の平版印刷方
   法。
3. 【請求項３】 少なくとも該４０〜２００°Ｃの温度へ
   の加熱が像様に行われることを特徴とする請求項１に記
   載の平版印刷方法。
4. 【請求項４】 該原板の温度を４０〜２００°Ｃとする
   加熱が光照射によって該活性光の照射と同時に行なわ
   れ,かつ活性光の照射領域が加熱光照射領域に包含され
   るように行われることを特徴とする請求項１又は２に記
   載の平版印刷方法。
5. 【請求項５】 該原板の温度を４０〜２００°Ｃとする
   加熱が光照射によって該活性光の照射と同時に行なわ
   れ,かつ加熱光の照射領域が活性光照射領域に包含され
   るように行われることを特徴とする請求項３に記載の平
   版印刷方法。
6. 【請求項６】 該疎水性物質の層を設ける方法が、塗り
   付け塗布、噴霧塗布、気化凝縮法、気体接触法及び浸漬
   塗布、から選ばれる方法であることを特徴とする請求項
   １〜５のいずれか1項に記載の平版印刷方法。
7. 【請求項７】該疎水性物質が昇華性固体又は揮発性液体
   であって、該疎水性物質の気体を印刷用原板表面に凝結
   させて疎水性物質の層を設けることを特徴とする請求項
   １〜６のいずれか1項に記載の平版印刷方法。
8. 【請求項８】該疎水性物質が高分子有機化合物であっ
   て、該高分子有機化合物の溶液又は粒子分散物を印刷用
   原板表面に噴霧して疎水性物質の層を設けることを特徴
   とする請求項１〜６のいずれか1項に記載の平版印刷方
   法。
9. 【請求項９】印刷に使用した印刷版からインキを除去し
   たのち、該印刷版を印刷用原板として再使用することを
   特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の平版印
   刷方法。
10. 【請求項１０】 光触媒能を有し、かつ請求項１に記載
    の印刷方法によって印刷が行われることを特徴とする平
    版印刷用原板。
11. 【請求項１１】 該平版印刷用原板の表面が、光触媒能
    を有する物質として、ＴｉＯ₂、ＲＴｉＯ₃（Ｒはアルカ
    リ土類金属原子）、ＡＢ_2-xＣ_x Ｄ_3-xＥ_xＯ₁₀（Ａは水
    素原子又はアルカリ金属原子、Ｂはアルカリ土類金属原
    子又は鉛原子、Ｃは希土類原子、Ｄは周期律表の５Ａ族
    元素に属する金属原子、Ｅは同じく４Ａ族元素に属する
    金属原子、ｘは０〜２の任意の数値を表す）、Ｓｎ
    Ｏ₂、ＺｒＯ₂、Ｂｉ₂Ｏ₃ ，ＺｎＯ及びＦｅＯ_x（ｘ＝
    １〜１．５）で表される酸化鉄、から選ばれる金属酸化
    物から構成されていることを特徴とする請求項１０に記
    載の平版印刷用原板。
12. 【請求項１２】 光触媒能を有する層と支持体との間に
    断熱層が設けられていることを特徴とする請求項１０又
    は１１に記載の平版印刷用原板。
13. 【請求項１３】 （１）光触媒能を有する印刷用原板を
    装着する装着部と、（２）該原板に疎水性物質の層を設
    ける全面疎水化処理部と、（３）該疎水性層を担持した
    印刷用原板に活性光を像様又は全面に照射する活性光照
    射部と、（４）該活性光の照射時に原板表面の温度を像
    様又は全面に４０〜２００°Ｃとなるように加熱する加
    熱部と、（５）該疎水性領域に印刷インキを供給し、該
    親水性領域に湿し水を供給するインキ及び湿し水供給部
    と、（６）疎水性領域がインキを受容し、親水性領域が
    湿し水を受容してなる印刷面を被印刷面と接触させて印
    刷を行う印刷部と、を有することを特徴とする平版印刷
    装置。
14. 【請求項１４】 活性光照射の際に印刷原板表面を所定
    の温度に維持する加熱手段が、光照射加熱手段であるこ
    とを特徴とする請求項１３に記載の平版印刷装置。
15. 【請求項１５】 活性光照射の際に印刷原板表面を所定
    の温度を維持する加熱手段が、電熱加熱手段であること
    を特徴とする請求項１３に記載の平版印刷装置。