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JP2002075605A - Heater for catalyst processing section and gas processing apparatus using the same - Google Patents

Heater for catalyst processing section and gas processing apparatus using the same

Info

Publication number
JP2002075605A
JP2002075605A JP2000253638A JP2000253638A JP2002075605A JP 2002075605 A JP2002075605 A JP 2002075605A JP 2000253638 A JP2000253638 A JP 2000253638A JP 2000253638 A JP2000253638 A JP 2000253638A JP 2002075605 A JP2002075605 A JP 2002075605A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
catalyst
heater
gas
processing unit
catalyst processing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000253638A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Takimoto
浩之 瀧本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
Priority to JP2000253638A priority Critical patent/JP2002075605A/en
Publication of JP2002075605A publication Critical patent/JP2002075605A/en
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Resistance Heating (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 触媒温度が部位に依らずほぼ均一になるよう
に触媒処理部を加熱するヒータと、それを用いたガス処
理装置を提供する。 【解決手段】 触媒処理部36を加熱するためのシーズ
ヒータ35a、35bであって、ヒータパイプ51と電
熱線53とを備えている。電熱線53によりヒータパイ
プ51の表面温度がほぼ一様になるように加熱する。こ
のため、加熱対象である熱触媒36a、36bがほぼ均
一に加熱され、その温度が部位に依らずほぼ均一にな
る。この結果、触媒処理部36の部位による処理効率の
差は小さくなり、処理能力が向上する。
(57) [Problem] To provide a heater for heating a catalyst processing section so that a catalyst temperature becomes substantially uniform regardless of a portion, and a gas processing apparatus using the heater. SOLUTION: The sheathed heaters 35a and 35b for heating a catalyst processing section 36 include a heater pipe 51 and a heating wire 53. Heating is performed by the heating wire 53 so that the surface temperature of the heater pipe 51 becomes substantially uniform. Therefore, the heat catalysts 36a and 36b to be heated are almost uniformly heated, and the temperature becomes almost uniform regardless of the position. As a result, the difference in processing efficiency between the parts of the catalyst processing unit 36 is reduced, and the processing capacity is improved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ヒータ、特に触媒
加熱用ヒータと、それを用いたガス処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heater, particularly a heater for heating a catalyst, and a gas processing apparatus using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】ガス処理装置における被処理ガスの処理
手段として、触媒を用いてガス処理を行う場合がある。
この際、触媒を活性化させるためには触媒温度を高温に
することが多く、触媒近傍にヒータなどを備えてその輻
射熱により加熱することがよく行われている。
2. Description of the Related Art There is a case where a gas is processed using a catalyst as a processing means of a gas to be processed in a gas processing apparatus.
At this time, in order to activate the catalyst, the temperature of the catalyst is often set to a high temperature, and a heater or the like is provided in the vicinity of the catalyst and heating is often performed by radiant heat.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】触媒は、その温度によ
り処理効率が変化する。一般に、高温の触媒は低温の触
媒よりもその処理効率が高い。
The treatment efficiency of a catalyst changes depending on its temperature. In general, hot catalysts have a higher processing efficiency than cold catalysts.

【0004】しかし、触媒が均一に加熱されずに温度む
らが生じると、触媒の部位によって処理効率のむらが出
来ることになる。このため、被処理ガスが触媒の処理効
率が悪い箇所を通過した場合には、ガス処理が不十分と
なる場合がある。ガス処理装置の処理能力は、ガス処理
手段すなわち触媒処理部を通過した全ての被処理ガスに
おける処理量で評価される。このため、触媒に温度むら
が生じていると、結果としてガス処理装置の処理能力が
悪いと評価される。
[0004] However, if the catalyst is not uniformly heated and temperature unevenness occurs, the treatment efficiency may be uneven depending on the position of the catalyst. For this reason, when the gas to be treated passes through a place where the treatment efficiency of the catalyst is poor, the gas treatment may be insufficient. The processing capacity of the gas processing apparatus is evaluated based on the throughput of all the gases to be processed that have passed through the gas processing means, that is, the catalyst processing unit. For this reason, if the catalyst has non-uniform temperature, it is evaluated that the processing capacity of the gas processing apparatus is poor as a result.

【0005】本発明の課題は、触媒温度が部位に依らず
ほぼ均一になるように触媒処理部を加熱するヒータと、
それを用いたガス処理装置を提供することにある。
[0005] It is an object of the present invention to provide a heater for heating a catalyst processing section so that the catalyst temperature is substantially uniform regardless of the location;
It is to provide a gas processing device using the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の触媒処
理部用ヒータは、触媒処理部を加熱するための触媒処理
部用ヒータであって、筒状部材と導電線とを備えてい
る。導電線は、筒状部材の内部にあり、筒状部材の表面
温度をほぼ一様になるように加熱する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a catalyst processing unit heater for heating a catalyst processing unit, which comprises a tubular member and a conductive wire. . The conductive wire is inside the tubular member and heats the surface of the tubular member so as to make the surface temperature substantially uniform.

【0007】導電線は、電流が導通すると発熱する。導
電線の熱を熱伝導や熱輻射などで筒状部材に供給して発
熱させる。触媒処理部は、触媒処理部用ヒータの筒状部
材からの輻射熱により加熱される。
The conductive wire generates heat when current is conducted. The heat of the conductive wire is supplied to the tubular member by heat conduction or heat radiation to generate heat. The catalyst processing section is heated by radiant heat from the cylindrical member of the catalyst processing section heater.

【0008】触媒処理部を加熱する筒状部材の発熱が不
均一である場合には、触媒に温度むらが生じるために処
理能力が低下する。本発明の触媒処理部用ヒータは、筒
状部材の表面温度がほぼ一様になるように、筒状部材内
部の導電線により筒状部材を加熱する。筒状部材の表面
温度がほぼ一様であるので、加熱対象である触媒がほぼ
均一に加熱され、触媒温度が部位に依らずほぼ等しくな
る。この結果、触媒処理部の部位による処理効率の差が
小さくなり、触媒処理部の処理能力を向上させることが
できる。
If the heat generated by the cylindrical member for heating the catalyst processing section is not uniform, the processing capacity is reduced due to uneven temperature of the catalyst. The catalyst processing section heater of the present invention heats the cylindrical member by the conductive wire inside the cylindrical member so that the surface temperature of the cylindrical member becomes substantially uniform. Since the surface temperature of the tubular member is substantially uniform, the catalyst to be heated is heated substantially uniformly, and the catalyst temperature is substantially equal regardless of the position. As a result, the difference in processing efficiency between the parts of the catalyst processing unit is reduced, and the processing capacity of the catalyst processing unit can be improved.

【0009】請求項2に記載の触媒処理部用ヒータは、
請求項1に記載の触媒処理部用ヒータであって、触媒処
理部用ヒータの端部における導電線からの発熱量が、端
部以外の部分における導電線からの発熱量よりも多い。
The catalyst processing unit heater according to claim 2 is
2. The catalyst processing unit heater according to claim 1, wherein an amount of heat generated from the conductive wire at an end of the catalyst processing unit heater is larger than an amount of heat generated from the conductive wire at a portion other than the end.

【0010】触媒処理部用ヒータの筒状部材の表面温度
は、端子の存在する端部が比較的低温に、端部以外の部
分が比較的高温になることが多い。触媒処理部用ヒータ
の単位長に包含される導電線による発熱量が筒状部材の
部位に依らず一定であるとき、筒状部材の端部において
筒状部材が導電線から受ける熱量は、端部以外の部分に
おける筒状部材が導電線から受ける熱量よりも少なくな
る。このため、筒状部材の端部における表面温度は、比
較的低温になる。
[0010] The surface temperature of the cylindrical member of the heater for the catalyst processing section is often relatively low at the end where the terminal is located, and relatively high at the portions other than the end. When the amount of heat generated by the conductive wire included in the unit length of the catalyst processing unit heater is constant regardless of the position of the tubular member, the amount of heat received by the tubular member from the conductive wire at the end of the tubular member is The amount of heat received by the tubular member in the portion other than the portion from the conductive wire is smaller. Therefore, the surface temperature at the end of the tubular member becomes relatively low.

【0011】これを鑑み、ここでは、表面温度の不均一
を解消するために、端部における導電線からの発熱量が
端部以外の部分からの発熱量よりも多くなるようにして
いる。これにより、導電線から筒状部材に加えられる熱
量が筒状部材の部位によらずほぼ均一となり、触媒処理
部用ヒータの筒状部材の表面温度がほぼ一様になる。
In view of this, in this case, in order to eliminate the non-uniformity of the surface temperature, the amount of heat generated from the conductive wire at the end is made larger than the amount of heat generated from portions other than the end. Accordingly, the amount of heat applied to the tubular member from the conductive wire becomes substantially uniform regardless of the position of the tubular member, and the surface temperature of the tubular member of the catalyst processing unit heater becomes substantially uniform.

【0012】請求項3に記載の触媒処理部用ヒータは、
請求項2に記載の触媒処理部用ヒータであって、導電線
が螺旋状である。ここでは、触媒処理部用ヒータとし
て、筒状部材の内部にある導電線が螺旋状になっている
物を用いている。このため、比較的容易に導電線の発熱
量を部位毎に変えることができる。
[0012] The catalyst processing unit heater according to claim 3 is
The catalyst processing unit heater according to claim 2, wherein the conductive wire has a spiral shape. Here, a heater in which the conductive wire inside the tubular member is helical is used as the catalyst processing unit heater. Therefore, it is possible to relatively easily change the heat generation amount of the conductive wire for each part.

【0013】請求項4に記載の触媒処理部用ヒータは、
請求項3に記載の触媒処理部用ヒータであって、端部に
おける導電線の螺旋の間隔が、端部以外の部分における
導電線の螺旋の間隔よりも狭い。
[0013] The heater for the catalyst treatment section according to claim 4 is
4. The catalyst processing unit heater according to claim 3, wherein an interval between the spirals of the conductive wires at the ends is smaller than an interval between the spirals of the conductive wires at a portion other than the ends.

【0014】ここでは、螺旋状の導電線を用いた触媒処
理部用ヒータにおいて、端部における導電線の螺旋の間
隔を比較的狭くしている。これにより、触媒処理部用ヒ
ータの単位長に包含される導電線による発熱量は、端部
以外の部分の導電線からよりも端部における導電線から
の方が多くなり、触媒処理部用ヒータの筒状部材の表面
温度がほぼ一様になる。
Here, in the catalyst processing section heater using a spiral conductive wire, the spiral interval of the conductive wire at the end is relatively narrow. As a result, the calorific value of the conductive wire included in the unit length of the catalyst processing unit heater is larger at the end portion than at the end portion of the conductive wire, and the amount of heat generated by the conductive wire included in the portion other than the end portion is larger. The surface temperature of the cylindrical member becomes substantially uniform.

【0015】請求項5に記載の触媒処理部用ヒータは、
請求項3に記載の触媒処理部用ヒータであって、端部に
おける導電線の螺旋の径が、端部以外の部分における導
電線の螺旋の径よりも大きい。
[0015] The heater for the catalyst processing section according to claim 5 is
4. The catalyst processing unit heater according to claim 3, wherein the diameter of the spiral of the conductive wire at the end is larger than the diameter of the spiral of the conductive wire at a portion other than the end.

【0016】ここでは、螺旋状の導電線を用いた触媒処
理部用ヒータにおいて、端部における導電線の螺旋の径
を比較的大きくしている。これにより、触媒処理部用ヒ
ータの単位長に包含される導電線による発熱量は、端部
以外の部分の導電線からよりも端部における導電線から
の方が多くなり、触媒処理部用ヒータの筒状部材の表面
温度がほぼ一様になる。
Here, in the catalyst processing section heater using a spiral conductive wire, the diameter of the spiral of the conductive wire at the end is relatively large. As a result, the calorific value of the conductive wire included in the unit length of the catalyst processing unit heater is larger at the end portion than at the end portion of the conductive wire, and the amount of heat generated by the conductive wire included in the portion other than the end portion is larger. The surface temperature of the cylindrical member becomes substantially uniform.

【0017】請求項6に記載の触媒処理部用ヒータは、
触媒処理部を加熱するための触媒処理部用ヒータであっ
て、U字状の筒状部材と導電線とを備えている。導電線
は、U字状の筒状部材の内部にあり、U字状の筒状部材
において触媒処理部に対向する部分の表面温度をほぼ一
様に成るように加熱する。
The heater for the catalyst processing section according to claim 6 is
A catalyst processing unit heater for heating the catalyst processing unit, comprising a U-shaped tubular member and a conductive wire. The conductive wire is located inside the U-shaped tubular member, and heats the U-shaped tubular member so that the surface temperature of a portion facing the catalyst processing section becomes substantially uniform.

【0018】導電線は、電流が導通すると発熱する。導
電線の熱を熱伝導や熱輻射などでU字状の筒状部材に供
給して発熱させる。触媒処理部は、触媒処理部用ヒータ
のU字状の筒状部材からの輻射熱により加熱される。
The conductive wire generates heat when current is conducted. The heat of the conductive wire is supplied to the U-shaped cylindrical member by heat conduction or heat radiation to generate heat. The catalyst processing unit is heated by radiant heat from a U-shaped cylindrical member of the catalyst processing unit heater.

【0019】触媒処理部を加熱するU字状の筒状部材の
うち触媒処理部に対向する部分の発熱が不均一である場
合には、触媒に温度むらが生じるために処理能力が低下
する。本発明の触媒処理部用ヒータは、U字状の筒状部
材のうち触媒処理部に対向する部分の表面温度がほぼ一
様になるようにU字状の筒状部材内部の導電線で加熱す
る。U字状の筒状部材のうち触媒処理部に対向する部分
の表面温度をほぼ一様にするため、加熱対象である触媒
がほぼ均一に加熱されて、触媒温度が部位に依らずほぼ
等しくなる。この結果、触媒処理部の部位による処理効
率の差が小さくなり、触媒処理部の処理能力を向上させ
ることができる。
If the heat generated in the portion of the U-shaped cylindrical member that heats the catalyst processing section facing the catalyst processing section is not uniform, the processing capacity is reduced due to uneven temperature of the catalyst. The heater for the catalyst processing section of the present invention is heated by the conductive wire inside the U-shaped cylindrical member so that the surface temperature of the portion of the U-shaped cylindrical member facing the catalyst processing section becomes substantially uniform. I do. In order to make the surface temperature of the portion of the U-shaped tubular member facing the catalyst processing portion substantially uniform, the catalyst to be heated is heated substantially uniformly, and the catalyst temperature becomes substantially equal regardless of the position. . As a result, the difference in processing efficiency between the parts of the catalyst processing unit is reduced, and the processing capacity of the catalyst processing unit can be improved.

【0020】請求項7に記載の触媒処理部用ヒータは、
請求項6に記載の触媒処理部用ヒータであって、導電線
が螺旋状である。さらに、U字状の筒状部材の端部近傍
及びU字曲げ部近傍における導電線の螺旋の間隔は、U
字状の筒状部材の端部近傍以外でさらにU字曲げ部近傍
以外の部分における導電線の螺旋の間隔よりも狭い。
[0020] The catalyst processing section heater according to claim 7,
7. The catalyst processing unit heater according to claim 6, wherein the conductive wire has a spiral shape. Further, the spiral interval of the conductive wire near the end of the U-shaped tubular member and near the U-shaped bent portion is U
The interval between the spirals of the conductive wires in the portion other than the vicinity of the end portion of the U-shaped tubular member and further in the portion other than the vicinity of the U-shaped bent portion is smaller.

【0021】ここでは、触媒処理部用ヒータとして、筒
状部材の内部にある導電線が螺旋状になっている物を用
いている。このため、部位毎に導電線の発熱量を比較的
容易に変えることができる。さらに、導電線の螺旋の間
隔は、U字状の筒状部材の端部近傍及びU字曲げ部近傍
において比較的狭い。このため、U字状の筒状部材にお
いて、触媒処理部に対向する部分での単位長に包含され
る導電線による発熱量は、U字状の筒状部材の端部近傍
以外でさらにU字曲げ部近傍以外の部分における導電線
からの発熱量よりも、U字状の筒状部材の端部近傍及び
U字曲げ部近傍における導電線からの発熱量の方が多く
なる。これにより、U字状の筒状部材のうち触媒処理部
に対向する部分の表面温度は、ほぼ一様となり、加熱対
象である触媒がほぼ均一に加熱されて、触媒温度が部位
に依らずほぼ等しくなる。
Here, a heater in which the conductive wire inside the cylindrical member is spiral is used as the heater for the catalyst processing section. For this reason, the calorific value of the conductive wire can be changed relatively easily for each part. Further, the interval between the spirals of the conductive wires is relatively narrow in the vicinity of the end of the U-shaped tubular member and in the vicinity of the U-shaped bent portion. For this reason, in the U-shaped tubular member, the calorific value due to the conductive wire included in the unit length at the portion facing the catalyst treatment section is further U-shaped except near the end of the U-shaped tubular member. The amount of heat generated from the conductive wire in the vicinity of the end of the U-shaped tubular member and in the vicinity of the U-shaped bent portion is larger than the amount of heat generated from the conductive wire in a portion other than the vicinity of the bent portion. As a result, the surface temperature of the portion of the U-shaped cylindrical member facing the catalyst treatment section becomes substantially uniform, the catalyst to be heated is heated substantially uniformly, and the catalyst temperature is substantially independent of the position. Become equal.

【0022】請求項8に記載のガス処理装置は、触媒処
理前の第1ガスを処理して第2ガスにする触媒処理部
と、請求項1から7のいずれかに記載の触媒処理部用ヒ
ータとを備える。
A gas processing apparatus according to claim 8 is a catalyst processing section for processing the first gas before the catalyst processing into a second gas, and a catalyst processing section for the catalyst processing section according to any one of claims 1 to 7. A heater.

【0023】本発明の触媒処理用ヒータを利用したガス
処理装置である。触媒処理部用ヒータは、被処理ガスで
ある第1ガスを処理して第2ガスにする触媒処理部を加
熱する。触媒処理部用ヒータの筒状部材の表面温度はほ
ぼ一様であるので、触媒処理部用ヒータの輻射熱により
加熱される触媒処理部の温度がほぼ均一になる。触媒処
理部の温度がほぼ均一になると、触媒処理部における処
理効率の均一化が図られ、ガス処理されずに触媒処理部
を通過する第1ガスが減少する。これにより、ガス処理
装置のガス処理能力が向上する。
This is a gas processing apparatus using the catalyst processing heater of the present invention. The catalyst processing unit heater heats the catalyst processing unit that processes the first gas that is the gas to be processed into the second gas. Since the surface temperature of the cylindrical member of the catalyst processing unit heater is substantially uniform, the temperature of the catalyst processing unit heated by the radiant heat of the catalyst processing unit heater is substantially uniform. When the temperature of the catalyst processing section becomes substantially uniform, the processing efficiency in the catalyst processing section is made uniform, and the first gas that passes through the catalyst processing section without being subjected to gas processing decreases. Thereby, the gas processing capacity of the gas processing device is improved.

【0024】請求項9に記載のガス処理装置は、請求項
8に記載のガス処理装置であって、熱交換装置をさらに
備えている。熱交換装置は、第1ガスと第2ガスとの間
で熱交換を行うことで第1ガスを加熱する。
A gas processing apparatus according to a ninth aspect is the gas processing apparatus according to the eighth aspect, further comprising a heat exchange device. The heat exchange device heats the first gas by performing heat exchange between the first gas and the second gas.

【0025】触媒処理部が触媒処理部用ヒータにより加
熱されているため、第1ガスは、処理されて第2ガスに
なるのと同時に触媒処理部及び触媒処理部用ヒータから
熱を受けて加熱される。このため、第2ガスは第1ガス
よりも高温になる。このとき触媒処理部は、第1ガスに
熱を奪われるため冷却されて、触媒処理部の処理効率が
低下する。
Since the catalyst processing section is heated by the catalyst processing section heater, the first gas is processed to become the second gas, and at the same time, heat is received from the catalyst processing section and the catalyst processing section heater. Is done. For this reason, the second gas has a higher temperature than the first gas. At this time, the catalyst processing unit is cooled by the heat of the first gas, so that the processing efficiency of the catalyst processing unit is reduced.

【0026】これを鑑み、ここでは、熱交換器を用いて
第2ガスから第1ガスに熱を移すことにより第1ガスを
加熱している。第1ガスが触媒処理部から吸熱する熱量
は、触媒処理部と第1ガスとの温度差に関係する。この
ため、第1ガスと触媒処理部との温度差を少なくするこ
とにより、触媒処理部の冷却を抑制できる。なお、第2
ガスはガス処理後のガスであるため、高温である必要は
ない。このため、第2ガスの熱を用いた第1ガスの加熱
は、熱の有効利用となる。
In view of this, here, the first gas is heated by transferring heat from the second gas to the first gas using a heat exchanger. The amount of heat absorbed by the first gas from the catalyst processing unit is related to the temperature difference between the catalyst processing unit and the first gas. For this reason, cooling of the catalyst processing unit can be suppressed by reducing the temperature difference between the first gas and the catalyst processing unit. The second
Since the gas is a gas after the gas treatment, it does not need to be at a high temperature. Therefore, heating the first gas using the heat of the second gas is an effective use of the heat.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】[第1実施形態] <全体構成>本発明の第1実施形態における脱臭装置1
0を図1に示す。脱臭装置10は、異臭を放ちやすい工
場などの臭気を取り除くための装置である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [First Embodiment] <Overall Configuration> A deodorizing apparatus 1 according to a first embodiment of the present invention.
0 is shown in FIG. The deodorizing device 10 is a device for removing an odor in a factory or the like which easily emits an unpleasant odor.

【0028】脱臭装置10は、臭気の成分を含む被処理
ガスを吸着処理によって無臭化するとともに、吸着され
た成分を加熱された再生用ガスを使用して脱着処理し、
さらに脱着された成分を分解処理する装置である。脱臭
装置10は、上下に分かれた2つの収納空間11a、1
1bを内部に有するケーシング11と、ケーシング11
の下収納空間11bに主に配置された吸着処理部12
と、吸着処理部12に近接して配置された再生処理部1
3と、ケーシング11の上収納空間11aに配置された
分解処理部14とを備えている。
The deodorizing apparatus 10 deodorizes a gas to be treated containing an odorous component by an adsorption process, and desorbs the adsorbed component using a heated regeneration gas.
Further, it is an apparatus for decomposing the desorbed components. The deodorizing device 10 has two storage spaces 11a, 1
1b inside the casing 11
Adsorption processing unit 12 mainly disposed in the lower storage space 11b
And the reproduction processing unit 1 arranged close to the adsorption processing unit 12
3 and a disassembling section 14 arranged in the upper storage space 11 a of the casing 11.

【0029】ケーシング11は、矩形枠状の部材であ
り、内部に前述した上下の収納空間11a、11bが形
成されている。さらに、図2及び図3に示すように、下
収納空間11bの下部には、上方に向けて立設された支
柱17aを有するベースフレーム17が設けられてい
る。支柱17aは、ベースフレーム17の中央部奥側に
配置されており、支柱17aの上端に前方に突出する片
持ち軸18が装着されている。
The casing 11 is a rectangular frame-shaped member, and has the above-described upper and lower storage spaces 11a and 11b formed therein. Further, as shown in FIGS. 2 and 3, a base frame 17 having a column 17 a standing upward is provided below the lower storage space 11 b. The strut 17a is arranged at the back of the center of the base frame 17, and a cantilever shaft 18 protruding forward is attached to the upper end of the strut 17a.

【0030】<吸着処理部の構成>吸着処理部12は、
被処理ガスの臭気の成分を吸着処理するものである。吸
着処理部12は、片持ち軸18に回転自在かつ着脱自在
に装着された吸着ロータ20と、吸着ロータ20を回転
駆動する回転駆動部21と、吸着ロータ20の軸方向に
被処理ガスのガス流を発生されるための送風装置22と
を備えている。吸着ロータ20は、内部に回転軸芯に平
行な多数のハニカム孔20aが形成された円形部材であ
る。ハニカム孔20aの内壁面は疎水性ゼオライトや活
性炭などの吸着成分を主成分としており、被処理ガスの
臭気の成分を吸着及び脱着可能である。
<Structure of Suction Processing Unit> The suction processing unit 12
The odor component of the gas to be treated is adsorbed. The suction processing unit 12 includes a suction rotor 20 rotatably and detachably mounted on the cantilever shaft 18, a rotation driving unit 21 for driving the suction rotor 20 to rotate, and a gas to be processed in the axial direction of the suction rotor 20. And a blower 22 for generating a flow. The suction rotor 20 is a circular member in which a number of honeycomb holes 20a parallel to the rotation axis are formed. The inner wall surface of the honeycomb hole 20a mainly contains an adsorption component such as hydrophobic zeolite or activated carbon, and can adsorb and desorb an odor component of the gas to be treated.

【0031】吸着ロータ20の外周面には、回転駆動部
21を構成する歯付きベルト27が歯面を外側に向けて
巻き付け固定されている。吸着ロータ20の前面には、
図2及び図3に示すように、シール板29が着脱自在に
装着されている。シール板29のハニカム孔20a形成
部分に対向する部分には円形の開口29aが形成されて
いる。このシール板29により、送風装置22が作動す
るとハニカム孔20aに被処理ガスのガス流が効率よく
流れる。
On the outer peripheral surface of the suction rotor 20, a toothed belt 27 constituting the rotary drive unit 21 is wound and fixed with the tooth surface facing outward. On the front surface of the suction rotor 20,
As shown in FIGS. 2 and 3, a seal plate 29 is detachably mounted. A circular opening 29a is formed in a portion of the seal plate 29 facing the portion where the honeycomb holes 20a are formed. When the blower 22 is operated by the seal plate 29, the gas flow of the gas to be processed efficiently flows through the honeycomb holes 20a.

【0032】回転駆動部21は、駆動用のモータ25
と、モータ25の回転軸に装着された歯付きプーリ26
と、歯付きベルト27と、歯付きベルト27に噛み合う
歯付きベルト28とを有している。モータ25は、ベー
スフレーム17に取り付けられたモータブラケット25
aに固定されている。歯付きベルト28は、歯付きベル
ト27と歯付きプーリ26に巻回されてモータ25の回
転を吸着ロータ20に伝達する。歯付きベルト28は、
テンション装置30により張力が付与されている。テン
ション装置30は、先端にテンションローラ30aを有
するアーム部材であり、ベースフレーム17に揺動自在
かつ張力付与方向(図3時計回りの方向)に付勢された
状態で装着されている。
The rotation drive unit 21 includes a drive motor 25
And a toothed pulley 26 mounted on a rotating shaft of a motor 25.
, A toothed belt 27, and a toothed belt 28 that meshes with the toothed belt 27. The motor 25 includes a motor bracket 25 attached to the base frame 17.
a. The toothed belt 28 is wound around the toothed belt 27 and the toothed pulley 26 and transmits the rotation of the motor 25 to the suction rotor 20. The toothed belt 28 is
The tension is applied by the tension device 30. The tension device 30 is an arm member having a tension roller 30a at its tip, and is mounted on the base frame 17 in a swingable manner and urged in a tension applying direction (clockwise direction in FIG. 3).

【0033】送風装置22は、ケーシング11の上収納
空間11aに配置された送風ファン22aを有してい
る。送風ファン22aは、モータ22bにより駆動され
ており、吸着ロータ20の図1手前側から奥側に吸着ロ
ータ20の軸方向に被処理ガスの流れを生じさせ、それ
を吸い込んでケーシング11の上部に設けられた排気口
22cから脱臭装置10外に排気する。このとき、被処
理ガスの臭気の成分が吸着ロータ20のハニカム孔20
aの内壁面に吸着される。したがって、ハニカム孔20
a内での吸着量は、図1手前側が図1奥側より多くな
る。
The blower 22 has a blower fan 22a disposed in the upper storage space 11a of the casing 11. The blower fan 22a is driven by a motor 22b, generates a flow of the gas to be processed in the axial direction of the suction rotor 20 from the near side to the back side of the suction rotor 20 in FIG. The air is exhausted to the outside of the deodorizing device 10 from the exhaust port 22c provided. At this time, the odor component of the gas to be treated is changed to the honeycomb hole 20 of the adsorption rotor 20.
a is adsorbed on the inner wall surface. Therefore, the honeycomb holes 20
The amount of suction in a is larger on the near side in FIG. 1 than on the far side in FIG.

【0034】<再生処理部の構成>再生処理部13は、
吸着ロータ20に吸着された臭気の成分をハニカム孔2
0aの内壁から脱着して吸着ロータ20を再生するため
のものである。再生処理部13は、ケーシング11に固
定され吸着ロータ20に近接して配置された1対の再生
部23a、23bと、ケーシング11に固定され1対の
再生部23a、23bに隣接して配置された1対の冷却
部24a、24bとを有している。また、再生処理部1
3は、再生部23a、23bに高温の再生用ガスを流す
ための再生用ガス通流部16を有している。
<Structure of Reproduction Processing Unit> The reproduction processing unit 13
The odor components adsorbed by the adsorption rotor 20 are transferred to the honeycomb holes 2.
This is for regenerating the adsorption rotor 20 by detaching it from the inner wall of Oa. The regeneration processing unit 13 is fixed to the casing 11 and is disposed adjacent to the suction rotor 20 and a pair of regeneration units 23a and 23b, and is fixed to the casing 11 and is disposed adjacent to the pair of regeneration units 23a and 23b. And a pair of cooling units 24a and 24b. Also, the reproduction processing unit 1
Reference numeral 3 has a regeneration gas passage 16 for flowing a high-temperature regeneration gas through the regeneration units 23a and 23b.

【0035】再生部23a、23bは、図1に矢符Rで
示す吸着ロータ20の回転方向上流側に配置されてい
る。再生部23a、23bは、吸着ロータ20を挟んで
吸着ロータ20の両面に近接して対向して配置されてい
る。再生部23a、23bは、再生部23b側(奥側)
から高温に加熱された再生用ガスを流すことにより吸着
ロータ20のハニカム孔20aを加熱し、そこに吸着さ
れた臭気の成分を脱着するためのものである。前側の再
生部23a及び冷却部24aは、ケーシング11に着脱
自在に固定されている。後側の再生部23b及び冷却部
24bは、支柱17aの上部に固定されている。
The regenerating units 23a and 23b are arranged on the upstream side in the rotation direction of the suction rotor 20 indicated by an arrow R in FIG. The regenerating units 23a and 23b are arranged close to and opposed to both surfaces of the suction rotor 20 with the suction rotor 20 interposed therebetween. The playback units 23a and 23b are on the playback unit 23b side (back side).
This is for heating the honeycomb holes 20a of the adsorption rotor 20 by flowing a regeneration gas heated to a high temperature from above to desorb odor components adsorbed therein. The front reproducing section 23a and the cooling section 24a are detachably fixed to the casing 11. The rear regeneration section 23b and the cooling section 24b are fixed to the upper part of the column 17a.

【0036】冷却部24a、24bは、再生部23a、
23bの回転方向下流側にそれぞれ隣接して配置されて
いる。隣り合う再生部23aと冷却部24a及び再生部
23bと冷却部24bは一体形成されている。冷却部2
4a、24bは、再生部23a、23bで脱着のために
高温の再生用ガスにより加熱された吸着ロータ20を加
熱前の再生用ガスを用いて冷却して吸着機能を復元させ
るためのものである。再生用ガスは、冷却部24aから
冷却部24b(奥側)に向けて流れる。この再生及び冷
却により吸着ロータ20の吸着性能が再生される。
The cooling units 24a, 24b are provided with a regenerating unit 23a,
23b are arranged adjacent to each other on the downstream side in the rotation direction. The adjacent reproducing unit 23a and cooling unit 24a and the reproducing unit 23b and cooling unit 24b are integrally formed. Cooling unit 2
4a and 24b are for restoring the adsorption function by cooling the adsorption rotor 20 heated by the high-temperature regeneration gas for desorption in the regeneration units 23a and 23b using the regeneration gas before heating. . The regeneration gas flows from the cooling unit 24a toward the cooling unit 24b (back side). By this regeneration and cooling, the adsorption performance of the adsorption rotor 20 is reproduced.

【0037】再生用ガス通流部16は、ケーシング11
の上収納空間11aに配置されており、外気を取り込み
送り出すための送風部31と、送風部31から送り出さ
れた外気を予備加熱する排気筒32と、排気筒32で予
備加熱された外気を加熱して高温の再生用ガスにする第
1加熱部33とを有している。
The regeneration gas passage 16 is provided in the casing 11.
Is disposed in the upper storage space 11a, and a blowing unit 31 for taking in and sending outside air, an exhaust tube 32 for preheating the outside air sent from the blowing unit 31, and heating the outside air preheated by the exhaust tube 32. And a first heating unit 33 for converting the gas into a high-temperature regeneration gas.

【0038】送風部31は、シロッコファンからなる送
風ファンであり、冷却部24bと排気筒32との間に配
置されている。送風部31は、冷却部24b及び排気筒
32と配管で接続されており、冷却部24aから吸着ロ
ータ20及び冷却部24bを通った再生用ガスとなる外
気を排気筒32に送り込む。
The blower 31 is a blower fan composed of a sirocco fan, and is disposed between the cooling unit 24b and the exhaust pipe 32. The blower unit 31 is connected to the cooling unit 24b and the exhaust tube 32 via a pipe, and sends outside air serving as a regeneration gas from the cooling unit 24a through the adsorption rotor 20 and the cooling unit 24b to the exhaust tube 32.

【0039】排気筒32は、加熱前の再生用ガスと、排
気される高温の再生用ガスとを熱交換して、排気される
再生用ガスの排気熱を回収してその温度を下げるととも
に、加熱前の再生用ガスの温度を上げて第1加熱部33
での加熱効率を高め加熱に要するエネルギーを節約する
ために設けられている。排気筒32は、同芯に配置され
た3本の薄肉ステンレスパイプ部材により構成された三
重構造のものである。
The exhaust stack 32 exchanges heat between the regeneration gas before heating and the high-temperature exhaust gas to be exhausted, recovers the exhaust heat of the exhausted regeneration gas, reduces the temperature thereof, The temperature of the regeneration gas before heating is increased to increase the temperature of the first heating unit 33.
It is provided in order to increase the heating efficiency and save the energy required for heating. The exhaust pipe 32 has a triple structure composed of three thin stainless steel pipe members arranged concentrically.

【0040】第1加熱部33は、排気筒32により僅か
に暖められた外気を再生部23a、23bでの臭気の成
分の脱着に必要な温度(たとえば、150℃〜200
℃)まで加熱して再生用ガスにするためのものである。
すなわち、第1加熱部33は吸着ロータ20を成分の脱
着に必要な温度まで間接的に加熱するために設けられて
いる。第1加熱部33は、たとえば複数本のシーズヒー
タを有している。この第1加熱部33では、送風部31
での送風量を絞ることによって再生用ガスを250℃〜
300℃程度に加熱することも可能である。第1加熱部
33の入口は、配管により排気筒32に接続されてい
る。第1加熱部33の出口は、配管により再生部23b
に接続されており、加熱された再生用ガスは、再生部2
3b、23aに送られる。再生部23bから再生部23
aへの高温の再生用ガスによって吸着ロータ20のハニ
カム孔20aに吸着された臭気の成分が脱着して再生用
ガスとともに分解処理部14に送られる。
The first heating section 33 converts the outside air slightly heated by the exhaust pipe 32 to a temperature (for example, 150 ° C. to 200 ° C.) necessary for desorbing odor components in the regenerating sections 23a and 23b.
° C) to produce a regeneration gas.
That is, the first heating unit 33 is provided to indirectly heat the adsorption rotor 20 to a temperature required for desorption of components. The first heating unit 33 has, for example, a plurality of sheathed heaters. In the first heating section 33, the blowing section 31
The gas for regeneration is reduced from 250 ° C to
Heating to about 300 ° C. is also possible. The inlet of the first heating unit 33 is connected to the exhaust pipe 32 by a pipe. The outlet of the first heating unit 33 is connected to the regeneration unit 23b by a pipe.
And the heated regeneration gas is supplied to the regeneration unit 2
3b and 23a. From the playback unit 23b to the playback unit 23
The components of the odor adsorbed in the honeycomb holes 20a of the adsorption rotor 20 are desorbed by the high-temperature regeneration gas to the gas a, and are sent to the decomposition processing section 14 together with the regeneration gas.

【0041】<分解処理部の構成>分解処理部14は、
再生処理部13で脱着された臭気の成分を触媒により分
解するものである。分解処理部14は、再生部23b、
23aを通った再生用ガスに含まれる臭気の成分をさら
に加熱し、加熱された再生用ガスを触媒処理して臭気の
成分を分解する。
<Configuration of Decomposition Processing Unit> The decomposition processing unit 14
The odor component desorbed in the regeneration processing unit 13 is decomposed by a catalyst. The decomposition processing unit 14 includes a reproduction unit 23b,
The odor component contained in the regeneration gas that has passed through 23a is further heated, and the heated regeneration gas is catalytically treated to decompose the odor component.

【0042】分解処理部14は、図4に示すように、1
対の直線状のシーズヒータ35a、35bからなる第2
加熱部35と、各シーズヒータ35a、35bの通流方
向下流側に配置された1対の熱触媒36a、36bから
なる触媒処理部36とを有している。シーズヒータ35
a、35bは、図5に示すように、中空円筒形のヒータ
パイプ51と、ヒータパイプ51内部に螺旋状に巻かれ
た電熱線53とを有している。シーズヒータ35a、3
5bの端部EPにおける電熱線53の螺旋間隔は、シー
ズヒータ35a、35bの中央部CPにおける螺旋間隔
よりも狭い。このため、ヒータパイプ51の表面温度は
ほぼ一様になる。第2加熱部35は、触媒処理部36で
の触媒処理に必要な温度(たとえば250℃〜300
℃)まで熱触媒36a、36bを輻射熱により加熱する
ためのものである。これにより、再生用ガスも第2加熱
部35及び熱触媒36a、36bにより前記温度まで加
熱される。さらに、シーズヒータ35a、35bのヒー
タパイプ51の表面温度がほぼ一様なので、各熱触媒3
6a、36bの温度がほぼ均一になる。触媒処理部36
の上流側の熱触媒36aは、下流側の熱触媒36bでの
処理を円滑に進めるための前処理用の触媒であり、たと
えば、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、
銅、バナジウム、及びこれらの酸化物からなる群から選
択される少なくとも一種を含む触媒である。熱触媒36
bは、貴金属系触媒であり、たとえば、金、銀、白金、
ルテニウム、イリジウム、パラジウム、レニウム、イリ
ジウムからなる群から選択される少なくとも一種を含む
触媒である。
As shown in FIG. 4, the decomposition processing unit 14
A second pair of linear sheathed heaters 35a and 35b;
It has a heating unit 35 and a catalyst processing unit 36 composed of a pair of heat catalysts 36a and 36b disposed downstream of the sheathed heaters 35a and 35b in the flow direction. Sheath heater 35
As shown in FIG. 5, a and 35b each have a hollow cylindrical heater pipe 51 and a heating wire 53 spirally wound inside the heater pipe 51. Sheath heater 35a, 3
The spiral interval of the heating wire 53 at the end EP of 5b is smaller than the spiral interval of the central portion CP of the sheathed heaters 35a and 35b. Therefore, the surface temperature of the heater pipe 51 becomes substantially uniform. The second heating unit 35 has a temperature (for example, 250 ° C. to 300 ° C.) required for the catalyst treatment in the catalyst treatment unit 36.
C) to heat the thermal catalysts 36a and 36b by radiant heat. As a result, the regeneration gas is also heated to the temperature by the second heating unit 35 and the heat catalysts 36a and 36b. Further, since the surface temperatures of the heater pipes 51 of the sheathed heaters 35a and 35b are substantially uniform, each thermal catalyst 3
The temperatures of 6a and 36b become almost uniform. Catalyst processing unit 36
The upstream heat catalyst 36a is a catalyst for pretreatment for facilitating the processing at the downstream heat catalyst 36b. For example, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel,
The catalyst includes at least one selected from the group consisting of copper, vanadium, and oxides thereof. Thermal catalyst 36
b is a noble metal catalyst, for example, gold, silver, platinum,
The catalyst contains at least one selected from the group consisting of ruthenium, iridium, palladium, rhenium, and iridium.

【0043】このような2種の熱触媒36a、36bを
使用することにより、硫黄系化合物や窒素系化合物やア
ルデヒド類などの臭気の成分を含む再生用ガスを効率よ
く無臭化できる。
By using such two kinds of thermal catalysts 36a and 36b, the regeneration gas containing odor components such as sulfur compounds, nitrogen compounds and aldehydes can be deodorized efficiently.

【0044】<脱臭装置の動作>通常は、吸着ロータ2
0をたとえば、静止させた状態で、送風装置22により
被処理ガスを吸着ロータ20のハニカム孔20aに取り
込み、臭気の成分を吸着する。臭気の成分が吸着され無
臭化された被処理ガスは、送風ファン22aにより排気
口22cから排出される。
<Operation of Deodorizing Apparatus> Normally, the suction rotor 2
For example, in a state where 0 is stopped, the gas to be treated is taken into the honeycomb holes 20a of the adsorption rotor 20 by the blower 22, and the odor component is adsorbed. The gas to be treated, to which the odor component is adsorbed and deodorized, is discharged from the exhaust port 22c by the blower fan 22a.

【0045】吸着ロータ20で吸着が進むと、ハニカム
孔20aの内壁が臭気の成分で覆われて吸着性能が劣化
する。このため、たとえば1日1回の再生処理を行う。
再生処理時には、吸着ロータ20を回転させ、送風部3
1を運転するとともに、第1加熱部33及び第2加熱部
35により再生用ガスを加熱する。また第2加熱部では
熱触媒を加熱する。送風部31を運転すると、冷却部2
4aから吸着ロータ20のハニカム孔20aを通って冷
却部24bに外気が通流され、吸着ロータ20が冷却さ
れる。そして、送風部31を通って排気筒32に送られ
る。排気筒32では、前述したように、触媒処理が終了
して高温になった再生用ガスと熱交換が行われ、たとえ
ば、40℃の外気が110℃程度に加熱される。
As the suction proceeds by the suction rotor 20, the inner wall of the honeycomb hole 20a is covered with the odor component, and the suction performance deteriorates. Therefore, for example, the reproduction process is performed once a day.
At the time of the regeneration process, the suction rotor 20 is rotated,
1 is operated, and the regeneration gas is heated by the first heating unit 33 and the second heating unit 35. In the second heating section, the thermal catalyst is heated. When the blowing unit 31 is operated, the cooling unit 2
Outside air flows from 4a to the cooling unit 24b through the honeycomb holes 20a of the suction rotor 20, and the suction rotor 20 is cooled. Then, the air is sent to the exhaust pipe 32 through the blower 31. In the exhaust stack 32, as described above, heat exchange is performed with the regeneration gas that has been heated after the completion of the catalytic treatment, and for example, outside air at 40 ° C. is heated to about 110 ° C.

【0046】排気筒32で加熱された外気は、第1加熱
部33に送られて、たとえば150℃〜200℃程度に
加熱され再生用ガスになる。得られた再生用ガスは再生
部23bに送られ、再生部23bからハニカム孔20a
を通って再生部23aに向けて流れる。これにより、ハ
ニカム孔20aの内壁に吸着されていた成分が気化脱着
され、再生用ガスに含まれて分解処理部14に送られ
る。分解処理部14に送られた臭気の成分を含む再生用
ガスは、第2加熱部35によりさらに、たとえば250
℃〜300度程度に加熱され、触媒処理部36により分
解処理され無臭化される。
The outside air heated by the exhaust pipe 32 is sent to the first heating unit 33 and is heated to, for example, about 150 ° C. to 200 ° C. to become a regeneration gas. The obtained regenerating gas is sent to the regenerating section 23b, from which the honeycomb holes 20a
And flows toward the reproducing section 23a. As a result, the components adsorbed on the inner wall of the honeycomb hole 20a are vaporized and desorbed, contained in the regeneration gas, and sent to the decomposition processing unit 14. The regeneration gas containing the odor component sent to the decomposition processing section 14 is further subjected to, for example, 250
It is heated to about 300 ° C. to about 300 ° C., decomposed by the catalyst processing unit 36 and deodorized.

【0047】この結果、吸着ロータ20に吸着された成
分が分解されて無臭化することができる。無臭化された
再生用ガスは排気筒32で熱を回収されて、たとえば温
度を280℃から240℃に下げた状態で外部に排出さ
れる。また、再生部23b、23aで加熱され臭気の成
分が除去された吸着ロータ20が冷却部24a、24b
で冷却され、吸着ロータ20の吸着性能が元の状態に戻
り、吸着ロータ20が再生される。
As a result, the components adsorbed on the adsorption rotor 20 can be decomposed and deodorized. The deodorized regeneration gas is recovered in the exhaust pipe 32, and is discharged to the outside, for example, in a state where the temperature is lowered from 280 ° C. to 240 ° C. Further, the adsorption rotor 20 heated by the regenerating sections 23b and 23a to remove odor components is replaced with the cooling sections 24a and 24b.
, The suction performance of the suction rotor 20 returns to the original state, and the suction rotor 20 is regenerated.

【0048】<本実施形態のヒータの特徴> (1)本実施形態の脱臭装置10の分解処理部14に用
いられているシーズヒータ35a、35bは、中空円筒
形のヒータパイプ51と、ヒータパイプ51内部の電熱
線53とを備えている。電熱線53は螺旋状になってい
る。電熱線53の螺旋間隔は等間隔ではなく、シーズヒ
ータ35a、35bの端部EPにおける電熱線53の螺
旋間隔が中央部CPにおける螺旋間隔よりも狭い。この
ため、ヒータパイプ51の軸方向の長さ当たりにおい
て、ヒータパイプ51が電熱線53に加えられる熱量
は、ヒータパイプ51の位置に依らずほぼ均一になる。
このため、ヒータパイプ51の表面温度は、ほぼ一様と
なる。
<Characteristics of the Heater of the Present Embodiment> (1) The sheathed heaters 35a and 35b used in the disassembly processing unit 14 of the deodorizing apparatus 10 of the present embodiment include a hollow cylindrical heater pipe 51 and a heater pipe 51. 51 and a heating wire 53 inside. The heating wire 53 has a spiral shape. The spiral spacing of the heating wires 53 is not equal, and the spiral spacing of the heating wires 53 at the ends EP of the sheathed heaters 35a and 35b is smaller than the spiral spacing at the central portion CP. For this reason, the amount of heat applied to the heating wire 53 by the heater pipe 51 per axis length of the heater pipe 51 becomes substantially uniform regardless of the position of the heater pipe 51.
For this reason, the surface temperature of the heater pipe 51 becomes substantially uniform.

【0049】(2)本実施形態の脱臭装置10の分解処
理部14は、臭気の成分を分解処理部14の触媒処理部
36で分解処理する。熱触媒36a、36bはシーズヒ
ータに35a、35bより加熱される。ヒータパイプ5
1の表面温度がほぼ一様であるので、熱触媒36a、3
6bの温度が部位に依らずほぼ均一になる。
(2) The decomposition processing section 14 of the deodorization apparatus 10 of the present embodiment decomposes odor components in the catalyst processing section 36 of the decomposition processing section 14. The thermal catalysts 36a, 36b are heated by sheath heaters 35a, 35b. Heater pipe 5
Since the surface temperature of the thermal catalysts 36a,
The temperature of 6b becomes almost uniform regardless of the position.

【0050】(3)本実施形態の脱臭装置10は、排気
筒32を備える。排気筒32では、冷却部24bを通流
した再生用ガス(第1ガス)と、触媒処理が終了した高
温の再生用ガス(第2ガス)との間で熱交換が行われ
る。第2ガスの熱量により第1ガスが加熱される。
(3) The deodorizing device 10 of the present embodiment includes an exhaust pipe 32. In the exhaust stack 32, heat exchange is performed between the regeneration gas (first gas) flowing through the cooling unit 24b and the high-temperature regeneration gas (second gas) after the catalytic treatment. The first gas is heated by the calorific value of the second gas.

【0051】<本実施形態の変形例> (A)第1実施形態の第2加熱部35は、図5に示した
シーズヒータ35a、35bを用いている。この代わり
に、図6に示したシーズヒータ135a、135bを用
いても良い。シーズヒータ135a、135bは、中空
円筒状のヒータパイプ52と、ヒータパイプ52内部に
ある螺旋状の電熱線54とを有している。電熱線54
は、シーズヒータ52に対して、端部EPにおける螺旋
の径が大きく、中央部CPにおける螺旋の径が小さい。
このため、第1実施形態と同様に、ヒータパイプ52の
表面温度がほぼ一様になり、熱触媒36a、36bを均
一に加熱することができる。
<Modification of the Present Embodiment> (A) The second heating unit 35 of the first embodiment uses the sheathed heaters 35a and 35b shown in FIG. Instead, the sheathed heaters 135a and 135b shown in FIG. 6 may be used. Each of the sheathed heaters 135 a and 135 b has a hollow cylindrical heater pipe 52 and a spiral heating wire 54 inside the heater pipe 52. Heating wire 54
With respect to the sheath heater 52, the diameter of the spiral at the end EP is large and the diameter of the spiral at the center CP is small.
Therefore, similarly to the first embodiment, the surface temperature of the heater pipe 52 becomes substantially uniform, and the thermal catalysts 36a and 36b can be uniformly heated.

【0052】(B)第1実施形態の第2加熱部35に用
いたシーズヒータ35a、35bは、直線状である。こ
の代わりに、図7に示したシーズヒータ235a、23
5bを用いた第2加熱部235を用いても良い。
(B) The sheathed heaters 35a and 35b used in the second heating section 35 of the first embodiment are linear. Instead, the sheathed heaters 235a, 235 shown in FIG.
The second heating unit 235 using 5b may be used.

【0053】シーズヒータ235a、235bはU字形
になっている。このため、電流注入端子の設置位置を一
方に纏めることができるため、電気配線が簡便になる。
シーズヒータ235a、235bの内部にある螺旋状の
電熱線53aは、ヒータの直線部のみに配されている。
シーズヒータ235a、235bのU字曲げ部は、電気
抵抗が小さく導電による発熱を起こさない導電体56に
より連結されている。これにより、U字曲げ加工により
応力のかかった曲げ部を比較的低温に保つことができ、
シーズヒータ235a、235bのヒータ寿命を延ばす
ことができる。
The sheathed heaters 235a and 235b are U-shaped. For this reason, since the installation position of the current injection terminal can be integrated on one side, the electric wiring is simplified.
The spiral heating wire 53a inside the sheathed heaters 235a and 235b is arranged only in the straight portion of the heater.
The U-shaped bent portions of the sheathed heaters 235a and 235b are connected by a conductor 56 that has a small electric resistance and does not generate heat due to conduction. This makes it possible to keep the bent part stressed by the U-shaped bending at a relatively low temperature,
The life of the sheathed heaters 235a and 235b can be extended.

【0054】シーズヒータ235a、235b内部の螺
旋状の電熱線53aは、端子近傍及びU字曲げ部近傍に
おいて螺旋間隔が比較的狭く、その他の部分において比
較的広くなっている。このため、第1実施形態と同様
に、熱触媒36a、36bに近接したヒータパイプ55
の表面温度がほぼ一定になり、熱触媒36a、36bを
均一に加熱することができる。
The helical heating wire 53a inside the sheathed heaters 235a and 235b has a relatively narrow helical space in the vicinity of the terminal and in the vicinity of the U-shaped bent portion, and is relatively wide in other portions. For this reason, similarly to the first embodiment, the heater pipe 55 close to the heat catalysts 36a and 36b is used.
Is substantially constant, and the thermal catalysts 36a and 36b can be uniformly heated.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明にかかる触媒処理部用ヒータで
は、筒状部材の表面温度がほぼ一様になるように加熱す
る。触媒処理部用ヒータの筒状部材の表面温度が一様に
なると、加熱対象である触媒がほぼ均一に加熱され、触
媒温度がほぼ等しくなる。この結果、触媒処理部の部位
による処理効率の差が小さくなるため、本発明の触媒処
理部用ヒータにより触媒処理部の処理能力を向上させる
ことができる。また、この触媒処理部用ヒータを用いる
ことにより、触媒処理部用ヒータの輻射熱により加熱さ
れる触媒処理部の温度は、ほぼ均一になる。そのため、
触媒処理部における処理効率の均一化が図られ、ガス処
理されずに触媒処理部を通過する第1ガスが減少する。
これにより、ガス処理装置のガス処理能力が向上する。
According to the heater for the catalyst treatment section according to the present invention, the heating is performed so that the surface temperature of the cylindrical member becomes substantially uniform. When the surface temperature of the cylindrical member of the catalyst processing section heater becomes uniform, the catalyst to be heated is heated substantially uniformly, and the catalyst temperature becomes substantially equal. As a result, the difference in processing efficiency between the parts of the catalyst processing unit is reduced, and the processing capacity of the catalyst processing unit can be improved by the catalyst processing unit heater of the present invention. Further, by using the catalyst processing section heater, the temperature of the catalyst processing section heated by the radiant heat of the catalyst processing section heater becomes substantially uniform. for that reason,
The processing efficiency in the catalyst processing unit is made uniform, and the amount of the first gas that passes through the catalyst processing unit without being gas-processed is reduced.
Thereby, the gas processing capacity of the gas processing device is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】脱臭装置の透視斜視図。FIG. 1 is a transparent perspective view of a deodorizing device.

【図2】脱臭装置の側面一部断面図。FIG. 2 is a partial cross-sectional side view of the deodorizing device.

【図3】脱臭装置の展開透視斜視図。FIG. 3 is an exploded perspective view of the deodorizing device.

【図4】触媒処理部の断面模式図。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a catalyst processing unit.

【図5】電熱線の螺旋の間隔が中央部よりも両端部で比
較的狭いシーズヒータの断面図。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a sheathed heater in which the distance between the spirals of the heating wire is relatively narrow at both ends than at the center.

【図6】電熱線の螺旋の径が中央部よりも両端部で比較
的大きいシーズヒータの断面図。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a sheathed heater in which the diameter of the spiral of the heating wire is relatively larger at both ends than at the center.

【図7】U字型シーズヒータを用いた触媒処理部の断面
模式図。
FIG. 7 is a schematic sectional view of a catalyst processing unit using a U-shaped sheathed heater.

【符号の説明】 10 脱臭装置 11 ケーシング 12 吸着処理部 13 再生処理部 14 分解処理部 32 排気筒 (熱交換装置) 35、235 第2加熱部 (触媒処理部用ヒ
ータ) 35a、35b シーズヒータ 135a、135b シーズヒータ 235a、235b シーズヒータ 36 触媒処理部 36 a、36 b 熱触媒 51、52、55 ヒータパイプ (筒状部材) 53、53a、54 電熱線 (導電線)
[Description of Signs] 10 Deodorizing device 11 Casing 12 Adsorption processing unit 13 Regeneration processing unit 14 Decomposition processing unit 32 Exhaust tube (Heat exchange device) 35, 235 Second heating unit (Catalyst processing unit heater) 35a, 35b Seed heater 135a , 135b Seeds heater 235a, 235b Seeds heater 36 Catalyst processing unit 36a, 36b Thermal catalyst 51, 52, 55 Heater pipe (tubular member) 53, 53a, 54 Electric heating wire (conductive wire)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3K092 PP20 QA01 QB27 QB42 RA01 VV22 4C080 AA05 AA07 BB02 CC01 CC12 HH05 JJ03 KK08 MM04 MM05 QQ14 QQ17 QQ20 4D048 AA22 CC40 CC53 CC63  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 3K092 PP20 QA01 QB27 QB42 RA01 VV22 4C080 AA05 AA07 BB02 CC01 CC12 HH05 JJ03 KK08 MM04 MM05 QQ14 QQ17 QQ20 4D048 AA22 CC40 CC53 CC63

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】触媒処理部(36)を加熱するための触媒
処理部用ヒータ(35、135a、135b)であっ
て、 筒状部材(51、52)と、 前記筒状部材(51、52)の内部にあり前記筒状部材
(51、52)の表面温度を略一様にする導電線(5
3、54)と、 を備えた触媒処理部用ヒータ(35、135a、135
b)。
A catalyst processing unit heater (35, 135a, 135b) for heating a catalyst processing unit (36), comprising: a tubular member (51, 52); and the tubular member (51, 52). ), The conductive wire (5) for making the surface temperature of the cylindrical members (51, 52) substantially uniform.
3, 54), and a catalyst processing section heater (35, 135a, 135) comprising:
b).
【請求項2】端部における前記導電線(53、54)の
発熱量が、端部以外の部分における前記導電線(53、
54)の発熱量よりも多い、請求項1に記載の触媒処理
部用ヒータ(35、135a、135b)。
2. The heating value of the conductive wires (53, 54) at the end portions is smaller than that of the conductive wires (53, 54) at portions other than the end portions.
The heater (35, 135a, 135b) for a catalyst processing unit according to claim 1, wherein the calorific value is larger than that of (54).
【請求項3】前記導電線(53、54)が螺旋状であ
る、請求項2に記載の触媒処理部用ヒータ(35、13
5a、135b)。
3. The catalyst processing unit heater (35, 13) according to claim 2, wherein said conductive wire (53, 54) is spiral.
5a, 135b).
【請求項4】端部における前記導電線(53、54)の
螺旋の間隔が、端部以外の部分における前記導電線(5
3、54)の螺旋の間隔よりも狭い、請求項3に記載の
触媒処理部用ヒータ(35、135a、135b)。
4. The helical spacing of the conductive lines (53, 54) at the ends is different from that of the conductive lines (5, 5) at portions other than the ends.
The heater (35, 135a, 135b) for a catalyst processing unit according to claim 3, wherein the space between the spirals (3, 54) is narrower.
【請求項5】端部における前記導電線(53、54)の
螺旋の径が、端部以外の部分における前記導電線(5
3、54)の螺旋の径よりも大きい、請求項3に記載の
触媒処理部用ヒータ(35、135a、135b)。
5. The helical diameter of the conductive wire (53, 54) at an end portion is smaller than that of the conductive wire (5, 5) at a portion other than the end portion.
The catalyst processing unit heater (35, 135a, 135b) according to claim 3, wherein the diameter of the spiral is larger than that of the spiral of (3, 54).
【請求項6】触媒処理部(36)を加熱するための触媒
処理部用ヒータ(235)であって、 U字状の筒状部材(55)と、 前記U字状の筒状部材(55)の内部にあり、前記U字
状の筒状部材(55)において触媒処理部(36)に対
向する部分の表面温度を略一様にする導電線(53a)
と、を備えた触媒処理部用ヒータ(235)。
6. A catalyst processing section heater (235) for heating a catalyst processing section (36), comprising: a U-shaped tubular member (55); and a U-shaped tubular member (55). ), A conductive wire (53a) for making the surface temperature of a portion of the U-shaped tubular member (55) facing the catalyst processing section (36) substantially uniform.
And a catalyst processing unit heater (235) comprising:
【請求項7】前記導電線(53a)が螺旋状であり、 前記U字状の筒状部材(55)の端部近傍及びU字曲げ
部近傍における前記導電線(53a)の螺旋の間隔が、
前記U字状の筒状部材(55)の前記端部近傍以外でさ
らに前記U字曲げ部近傍以外の部分における前記導電線
(53a)の螺旋の間隔よりも狭い、請求項6に記載の
触媒処理部用ヒータ(235)。
7. The conductive wire (53a) has a helical shape, and the spiral spacing of the conductive wire (53a) near the end of the U-shaped tubular member (55) and near the U-shaped bent portion is different. ,
7. The catalyst according to claim 6, wherein the space between the spirals of the conductive wires (53 a) in a portion other than near the end of the U-shaped tubular member (55) and in a portion other than near the U-shaped bent portion is smaller. Heater for processing section (235).
【請求項8】触媒処理前の第1ガスを処理して第2ガス
にする前記触媒処理部(36)と、請求項1から7のい
ずれかに記載の触媒処理部用ヒータ(35、135a、
135b、235)と、を備えたガス処理装置(1
0)。
8. A catalyst processing section (36) for processing a first gas before catalyst processing to a second gas, and a catalyst processing section heater (35, 135a) according to any one of claims 1 to 7. ,
135b, 235).
0).
【請求項9】熱交換装置(32)をさらに備え、 前記熱交換装置(32)は、前記触媒処理部(36)に
送られる前記第1ガスと前記触媒処理部(36)で処理
され前記第1ガスよりも高温となる前記第2ガスとの間
で熱交換を行う、請求項8に記載のガス処理装置(1
0)。
9. A heat exchanger (32), wherein the heat exchanger (32) is processed by the first gas sent to the catalyst processor (36) and the catalyst processor (36). The gas processing apparatus (1) according to claim 8, wherein heat exchange is performed with the second gas having a higher temperature than the first gas.
0).
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008145017A (en) * 2006-12-07 2008-06-26 Osaka Gas Co Ltd Air conditioner
JP2013211165A (en) * 2012-03-30 2013-10-10 Dainichi Co Ltd Fuel cell system
JP2014204835A (en) * 2013-04-12 2014-10-30 三菱電機株式会社 Deodorization device, air cleaning machine and exhaust fan
JP2016213328A (en) * 2015-05-08 2016-12-15 公立大学法人大阪市立大学 Resist peeling method and peeling device

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