JP2002075262A - Image processing application equipment - Google Patents
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】顕微鏡装置においてフォーカス合わせのために
何回も画像データを取り込まなくてはならない。一旦フ
ォーカスを合わせた後、その使用中に装置状態の経時変
化によってフォーカス状態が変わる。本発明は、このよ
うなときに、最小限の画像取得回数で自動的にフォーカ
ス補正ができる装置を提供する。
【解決手段】装置にあらかじめ画像劣化量のフォーカス
パラメーター依存性を記憶させておく。はじめにジャス
トフォーカス状態で試料の基準画像信号を取得し、その
基準画像信号と前記の劣化量のパラメーター依存性から
相関長のパラメーター依存特性を算出し記憶する。フォ
ーカス補正時に、劣化画像信号から得た相関長と前記の
相関長のパラメーター依存性から、パラメーターのずれ
量の候補値を2つ推定し、その推定値に基づいてパラメ
ーターを変えてフォーカス補正を完了する。
(57) [Summary] [Object] To acquire image data many times for focusing in a microscope apparatus. Once the focus has been adjusted, the focus state changes with the aging of the apparatus state during use. The present invention provides an apparatus that can automatically perform focus correction in such a case with a minimum number of image acquisitions. An apparatus stores in advance a focus parameter dependency of an image deterioration amount. First, a reference image signal of a sample is acquired in a just-focused state, and a parameter dependence characteristic of a correlation length is calculated and stored from the reference image signal and the parameter dependence of the deterioration amount. At the time of focus correction, two candidate values of the parameter shift amount are estimated from the correlation length obtained from the deteriorated image signal and the parameter dependence of the correlation length, and the focus correction is completed by changing the parameter based on the estimated value. I do.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は画像表示機能を伴う
顕微鏡装置、特に荷電粒子ビームを用いた試料観察装置
もしくは試料加工装置に係り、特に試料の画像信号に基
づいて画像のフォーカスを自動補正する画像処理応用装
置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a microscope apparatus having an image display function, and more particularly to a sample observation apparatus or a sample processing apparatus using a charged particle beam, and in particular, automatically corrects an image focus based on an image signal of the sample. The present invention relates to an image processing application device.
【0002】[0002]
【従来の技術】顕微鏡装置において、自動的にフォーカ
スを合わせるために用いられる方法は、フォーカス状態
を変えるパラメータを試行的に変化させて、各パラメー
タ値のもとで取得した画像の煩雑さ指標(微分値の絶対
値の積算量など)を算出し、煩雑さの指標が最大になる
パラメータの値を決める方法である。例えば、走査型電
子顕微鏡では、対物レンズに印加する電圧や電流をこの
パラメータとして変化させて、画像の、平滑化微分値の
絶対値の総和が、最大になる値を選ぶ方法が用いられて
いる(『電子・イオンビームハンドブック(第3版)』
日刊工業新聞社、1998年、p894〜p896)。
この方法では画像の煩雑さ指標からフォーカスずれ量を
推定することはできないので、パラメータを試行的にい
ろいろな値に変えて、その都度画像を取得して煩雑さ指
標を評価しなければならない。2. Description of the Related Art In a microscope apparatus, a method used for automatically adjusting a focus is to change a parameter for changing a focus state on a trial basis, and to set an index of complexity of an image acquired under each parameter value. This is a method of calculating the amount of integration of the absolute value of the differential value, and determining the value of the parameter that maximizes the complexity index. For example, in a scanning electron microscope, a method is used in which a voltage or a current applied to an objective lens is changed as this parameter to select a value that maximizes the sum of absolute values of smoothed differential values of an image. ("Electron / Ion Beam Handbook (3rd Edition)"
Nikkan Kogyo Shimbun, 1998, pp. 894-896).
In this method, the amount of defocus cannot be estimated from the complexity index of the image. Therefore, it is necessary to change the parameters to various values on a trial basis, acquire an image each time, and evaluate the complexity index.
【0003】従ってフォーカスが合った状態を見出すま
でに、不可避的に多くの回数(数十回から百回程度)の
画像の読取りが必要である。いわゆる試行錯誤的に何回
も画像を取り込んでフォーカス合わせを繰り返すことに
なる。したがって、フォーカスが合うパラメータ値を見
出すまで多くの回数の画像読取りを実施する必要があ
る。その間、試料表面の状態がほとんど変化しない場合
には(画像の煩雑さ指標はフォーカス状態を評価する指
標として)時間がかかるが、有用な方法と言える。Therefore, it is necessary to read a large number of times (several tens to one hundred times) of images before finding a focused state. The image is acquired many times by so-called trial and error, and focus adjustment is repeated. Therefore, it is necessary to perform image reading many times until finding a parameter value that is in focus. In the meantime, if the state of the sample surface hardly changes (the image complexity index is an index for evaluating the focus state), it takes time, but it can be said to be a useful method.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら荷電粒子
ビームなどを照射して試料像を得る顕微鏡装置では、繰
り返しビームを照射することによって試料表面が徐々に
損傷を受けてしまう場合が少なくない。特に試料の加工
機能を併せ持つ集束イオンビーム装置において試料の走
査イオン像を取得する際には、像の読取り行為そのもの
により、試料の表面が削れ、表面状態が変わってしま
う。読み取った画像の煩雑さの指標はフォーカス状態だ
けでなく、試料表面の状態にも依存するので、画像の煩
雑さ指標はフォーカス状態だけを反映した評価指標には
ならず、正しいフォーカス合わせを実施することができ
なくなる。However, in a microscope apparatus which obtains a sample image by irradiating a charged particle beam or the like, there are many cases where the sample surface is gradually damaged by repeatedly irradiating the beam. In particular, when acquiring a scanned ion image of a sample with a focused ion beam apparatus having a function of processing the sample, the surface of the sample is scraped by the act of reading the image itself, and the surface state changes. Since the index of the complexity of the read image depends not only on the focus state but also on the state of the sample surface, the complexity index of the image is not an evaluation index reflecting only the focus state, and correct focusing is performed. You will not be able to do it.
【0005】また走査型電子顕微鏡装置においても、電
子線を試料にあて続けると試料表面にコンタミネーショ
ンが発生し、ラインパターンの幅が増加してしまうなど
画像の変質が生じる場合がある。コンタミネーションそ
れ自体も通常は望ましいものではないし、著しいコンタ
ミネーションが生じるような電子線の条件で画像を取得
しつづけると、やはり画像の煩雑さの指標に影響を及ぼ
し、適正なフォーカス合わせが困難になる。In the scanning electron microscope apparatus, if the electron beam is continuously applied to the sample, contamination of the surface of the sample may occur, and the quality of an image may be deteriorated such as an increase in the width of a line pattern. Contamination itself is usually not desirable, and if an image is continuously acquired under conditions of electron beams that cause significant contamination, it also affects the index of the complexity of the image, making it difficult to properly focus. Become.
【0006】本発明は、顕微鏡装置において、一旦フォ
ーカスを合わせて試料像の観察もしくは試料の加工を開
始した後、その使用中に装置状態の経時変化によってフ
ォーカス状態が変わった場合、最小限の画像取得回数で
自動的にフォーカス補正を実施できる画像処理応用装置
を提供することを目的としている。According to the present invention, in a microscope apparatus, after the observation of a sample image or the processing of a sample is started once the focus is adjusted, if the focus state changes due to the aging of the apparatus state during use, a minimum image is obtained. It is an object of the present invention to provide an image processing application device that can automatically perform focus correction by the number of acquisitions.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】フォーカス補正の際に必
要な画像の取得回数を少なくするためには、画像から対
物レンズの焦点を決めるパラメータがジャストフォーカ
ス状態からどれだけずれているかを推定できるような情
報を得る必要がある。In order to reduce the number of times of acquiring an image necessary for focus correction, it is possible to estimate how much the parameter for determining the focus of the objective lens from the image is deviated from the just focus state. It is necessary to obtain important information.
【0008】ぼけた画像は、主として試料自体の表面形
態の情報と、試料にあたるビームの広がりの情報によっ
て形成される。フォーカスがずれることは後者のビーム
の広がりに関係する。したがって試料の表面形態が既知
であり、かつフォーカスを決めるパラメータのずれに伴
うビームの広がり方が既知であれば、実際のぼけた画像
からパラメータのずれ量が推測できる。[0008] The blurred image is formed mainly by information on the surface morphology of the sample itself and information on the spread of the beam hitting the sample. Defocusing is related to the latter beam spread. Therefore, if the surface morphology of the sample is known and the manner in which the beam spreads due to the shift of the parameter for determining the focus is known, the shift amount of the parameter can be estimated from the actual blurred image.
【0009】具体的には、試料から得た基準画像信号も
しくはその信号から計算される基準データを記憶する手
段と、前記試料から得た劣化画像信号の自己相関関数も
しくは自己相関長を算出する手段と、前記演算された自
己相関関数もしくは自己相関距離と、基準画像信号もし
くは基準データの照合から前記パラメータ値のずれ量推
定値を算出するする推定算出手段とから成るフォーカス
補正演算部と、前記算出された推定値に基づいてパラメ
ータ値を設定変更する手段、とを具備し、前記パラメー
タの値を変更してフォーカス状態を自動補正することに
特徴がある。Specifically, means for storing a reference image signal obtained from a sample or reference data calculated from the signal, and means for calculating an autocorrelation function or an autocorrelation length of a deteriorated image signal obtained from the sample A focus correction calculation unit comprising: the calculated autocorrelation function or autocorrelation distance; and estimation calculation means for calculating a deviation estimation value of the parameter value from a reference image signal or reference data collation. Means for setting and changing the parameter value based on the estimated value obtained, wherein the focus state is automatically corrected by changing the parameter value.
【0010】また、前記フォーカス補正演算部は、フォ
ーカスずれに依存する画像の劣化量の前記パラメータ依
存性を記憶する手段と、試料から得た基準画像信号と前
記劣化量のパラメータ依存性からこの試料像の自己相関
長の前記パラメータ依存特性を算出する手段と、前記試
料から得たフォーカスがずれた劣化画像信号の自己相関
長を算出する手段と、この劣化画像信号の自己相関長と
前記基準画像信号の自己相関長のパラメータ依存特性を
照合してパラメータのずれ量の推定候補値を2つ算出す
る手段と、この推定候補値の任意の一方を選んでパラメ
ータ値を変更する第1の変更手段と、そのパラメータ値
のもとで読み取った試行補正画像の自己相関長を算出す
る手段と、前記劣化画像信号の自己相関長と前記試行補
正画像の自己相関長を比較して選択したパラメータのず
れ量の候補値のフォーカス補正に関する適否を判定する
手段と、前記候補値がフォーカス補正に適さないときパ
ラメータをもう一方の候補値に変更する第2の変更手
段、とを備えたことに特徴がある。[0010] The focus correction calculation unit may include means for storing the parameter dependence of an image deterioration amount dependent on a focus shift, and a reference image signal obtained from the sample and the parameter dependence of the deterioration amount. Means for calculating the parameter dependence of the autocorrelation length of the image; means for calculating the autocorrelation length of the defocused degraded image signal obtained from the sample; and the autocorrelation length of the degraded image signal and the reference image. Means for comparing two parameter-dependent characteristics of the signal autocorrelation length to calculate two estimated candidate values of the parameter deviation amount, and first changing means for selecting any one of the estimated candidate values and changing the parameter value Means for calculating the autocorrelation length of the trial correction image read based on the parameter values; and the autocorrelation length of the degraded image signal and the autocorrelation of the trial correction image. Means for determining whether or not the candidate value of the shift amount of the selected parameter is appropriate for focus correction, and second changing means for changing the parameter to another candidate value when the candidate value is not suitable for focus correction; There is a feature in having.
【0011】また、フォーカス補正演算部は、前記パラ
メータによって画像信号が変化する特性を表わす関数を
記憶する手段を有し、試料から得られた基準画像信号と
前記記憶された関数からパラメータのずれ量を推定する
こと。また、フォーカス状態を変えるパラメータの変更
は、荷電粒子ビーム装置の対物レンズ電圧もしくは対物
レンズ励磁電流であること。フォーカス状態を変えるパ
ラメータの変更は、荷電粒子ビーム装置における試料ス
テージの高さを変更すること。基準画像信号および劣化
画像信号を、イオンビーム加工装置における試料位置検
出用のマークの画像信号とすることに特徴がある。Further, the focus correction calculation unit has means for storing a function representing a characteristic that an image signal changes according to the parameter, and a parameter shift amount between the reference image signal obtained from the sample and the stored function. To estimate. The change of the parameter for changing the focus state must be the objective lens voltage or the objective lens excitation current of the charged particle beam device. Changing the parameter that changes the focus state involves changing the height of the sample stage in the charged particle beam device. It is characterized in that the reference image signal and the deteriorated image signal are used as an image signal of a mark for detecting a sample position in the ion beam processing apparatus.
【0012】また、画像劣化量のフォーカスパラメータ
依存性が、荷電粒子ビーム装置の軸調整時における対物
レンズ強度揺動の際に取得される画像信号であること。
表示画面上の任意の領域を指定する手段と、前記の指定
された領域を登録データとして保存する手段を有するこ
とに特徴がある。In addition, the focus parameter dependence of the image deterioration amount is an image signal acquired when the intensity of the objective lens fluctuates during the axis adjustment of the charged particle beam device.
It is characterized by having means for designating an arbitrary area on the display screen and means for storing the designated area as registration data.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】本発明の一実施例を、図1により
説明する。イオン銃1から放出されたイオンビーム2
が、静電対物レンズ5によって絞られ、試料6に照射さ
れる。対物レンズ5のレンズ電圧はパラメータ設定回路
10を通じて電源23により設定される。偏向信号発生
器13によって発生する偏向信号は、装置制御部17に
よって試料上の走査範囲、走査位置を変えることができ
る信号であって、偏向増幅器9を通じて静電偏向器4を
稼動し、イオンビーム2を試料6上で走査する(3はイ
メージシフト偏向器である)。試料6に入射したイオン
ビーム2によって発生した2次電子もしくは反射電子な
どによる電子が検出器11で検出されて電気信号とな
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Ion beam 2 emitted from ion gun 1
Is squeezed by the electrostatic objective lens 5 and irradiates the sample 6. The lens voltage of the objective lens 5 is set by the power supply 23 through the parameter setting circuit 10. The deflection signal generated by the deflection signal generator 13 is a signal that can change the scanning range and the scanning position on the sample by the device control unit 17, and operates the electrostatic deflector 4 through the deflection amplifier 9 to 2 is scanned on the sample 6 (3 is an image shift deflector). Electrons such as secondary electrons or reflected electrons generated by the ion beam 2 incident on the sample 6 are detected by the detector 11 to become electric signals.
【0014】この電気信号はA/D変換器14によって
アナログ信号からデジタル信号に変換され、画像メモリ
15に記憶される。この画像メモリ15の画像信号はフ
ォーカス補正演算部18と装置制御部17に送られる。
検出器11が発する電気信号は表示装置16にも送られ
て、画像として表示される。パラメータ設定回路10は
装置制御部17およびフォーカス補正演算部18からの
信号に基づき、対物レンズを指定されたフォーカスパラ
メータ(対物レンズ電圧)で駆動する。The electric signal is converted from an analog signal to a digital signal by the A / D converter 14 and stored in the image memory 15. The image signal of the image memory 15 is sent to the focus correction calculation unit 18 and the device control unit 17.
The electric signal emitted by the detector 11 is also sent to the display device 16 and displayed as an image. The parameter setting circuit 10 drives the objective lens with a designated focus parameter (objective lens voltage) based on signals from the device control unit 17 and the focus correction calculation unit 18.
【0015】はじめに、自己相関関数あるいは自己相関
長さと基準画像信号もしくは基準データからフォーカス
ずれ量を推定し、パラメータ値を変更する場合について
述べる。First, a case will be described in which the amount of defocus is estimated from the autocorrelation function or autocorrelation length and the reference image signal or reference data and the parameter value is changed.
【0016】フォーカス補正演算部18は原理的には図
2に示すように構成されている。基準画像信号f(x)
から得た試料の表面形態を反映したデータを記憶する手
段22を有し,ぼけた劣化画像信号g(x)から画像の
劣化状態を反映する自己相関関数(あるいは自己相関長
さ)を算出する手段24を有している。これらの信号か
ら,既知であるパラメータのずれと、ビームの広がり方
との関係に基づいて,パラメータのずれ量推定値を算出
する手段26を具備している。したがってフォーカス補
正演算部18は推定されたパラメータのずれ量に基づい
てフォーカスパラメータを変更する手段28を有し,フ
ォーカス状態がジャストフォーカスの状態へと修正され
るように、パラメータ設定回路10に出力することにな
る。図2では基準画像信号を装置制御部17に記憶して
いた場合を示したが、もちろん画像メモリ15に記憶し
ておいて、f(x)を読み込む方法でもよい(以下、図
3、図6、図7の場合も同じ。f(x)、g(x)と
も、画像メモリ15から読み込まれる)。The focus correction calculating section 18 is constructed in principle as shown in FIG. Reference image signal f (x)
Means 22 for storing data reflecting the surface morphology of the sample obtained from step (b), and calculating an autocorrelation function (or autocorrelation length) reflecting the state of deterioration of the image from the blurred deteriorated image signal g (x). Means 24. Means 26 is provided for calculating an estimated value of the parameter deviation based on the relationship between the known parameter deviation and the beam spreading method from these signals. Therefore, the focus correction calculation unit 18 has a means 28 for changing the focus parameter based on the estimated parameter shift amount, and outputs to the parameter setting circuit 10 so that the focus state is corrected to the just-focus state. Will be. Although FIG. 2 shows a case where the reference image signal is stored in the device control unit 17, a method of storing f (x) in the image memory 15 may of course be used (hereinafter, FIGS. 3 and 6). 7 is also the same. Both f (x) and g (x) are read from the image memory 15).
【0017】さらにフォーカス補正演算部18は図3に
示す演算を実施する機能をもち、画像メモリ15から受
け取る入力信号の扱いは、装置制御部17から受ける信
号によって区別される。すなわち、装置制御部17から
の信号によって直流増幅器8を通じてイメージシフト偏
向器3を動作させ、イオンビーム2が走査する範囲をシ
フトすることができる。また装置制御部17からステー
ジ駆動回路12に信号60を送り、試料ステージ7を移
動させることによっても、イオンビーム2が試料上を走
査する範囲を変えることができる。Further, the focus correction calculation section 18 has a function of performing the calculation shown in FIG. 3, and the handling of the input signal received from the image memory 15 is distinguished by the signal received from the apparatus control section 17. That is, the image shift deflector 3 is operated through the DC amplifier 8 by a signal from the device control unit 17, and the range scanned by the ion beam 2 can be shifted. Also, by sending a signal 60 from the device control unit 17 to the stage drive circuit 12 and moving the sample stage 7, the range over which the ion beam 2 scans the sample can be changed.
【0018】イオンビーム2を用いた試料6の加工を実
施する場合、まず加工開始前にオペレータが表示装置1
6を見ながら装置制御部17を通じて対物レンズ5の電
圧を最適値に調整する。この状態で、試料上の加工を施
す領域以外の特定の領域がフォーカス補正のための視野
として設定され、基準画像信号f(x)が取得される。
ここで各信号の例を、図4に示す。図4の(a)は基準
画像信号f(x)を、図4の(b)はCf(ξ)/Cf
(0)を、図4の(c)は劣化関数h(x)を、図4の
(d)は劣化画像信号g(x)を、図4の(e)はCg
(ξ)/Cg(0)信号の例である。When processing the sample 6 using the ion beam 2, the operator first displays the display device 1 before starting the processing.
The voltage of the objective lens 5 is adjusted to an optimum value through the device control unit 17 while looking at 6. In this state, a specific area other than the area to be processed on the sample is set as the field of view for focus correction, and the reference image signal f (x) is obtained.
Here, an example of each signal is shown in FIG. 4A shows the reference image signal f (x), and FIG. 4B shows Cf (ξ) / Cf.
4 (c) shows the degradation function h (x), FIG. 4 (d) shows the degradation image signal g (x), and FIG. 4 (e) shows Cg
It is an example of the (ξ) / Cg (0) signal.
【0019】この時フォーカス補正演算部18では、図
3に示したように、あらかじめ記憶されている図5
(a)に示すような画像劣化量σの対物レンズ電圧依存
性(σ−ΔV)の記憶手段31の信号と、基準画像信号
f(x)から、図5(b)のような自己相関長の対物レ
ンズ電圧依存特性(d−ΔV)を演算し記憶する手段3
2を備えている。At this time, as shown in FIG. 3, the focus correction calculating section 18 stores the previously stored FIG.
The autocorrelation length as shown in FIG. 5B is obtained from the signal of the storage means 31 of the objective lens voltage dependency (σ−ΔV) of the image deterioration amount σ as shown in FIG. 5A and the reference image signal f (x). Means 3 for calculating and storing the objective lens voltage dependence characteristic (d−ΔV)
2 is provided.
【0020】イオンビームによる試料の加工を開始した
後、装置状態の経時変動によってフォーカス状態が変わ
ると正常な加工が実施されなくなる。この場合には、フ
ォーカスの補正が必要である。一定の時間が経過した時
に、装置制御部17からの信号で、画像メモリ15から
フォーカス補正演算部18へ劣化画像信号g(x)が読
み込まれる。フォーカス補正演算部18内では、図3に
示すように、まず劣化画像信号の自己相関長演算手段3
3により自己相関長d[g]が算出される。そして図5
(c)に示すような自己相関長の対物レンズ電圧依存性
とd[g]の照合が行われ、対物レンズ電圧のずれ量演
算手段34により、推定候補値ΔV1およびΔV2が演
算される。このうちの一方の値ΔV1を仮に採用し、対
物レンズ電圧を劣化画像信号g(x)を取得したときの
値V0からΔV1を引いた(V0−ΔV)に設定する信
号が、第1の設定値変更手段35により、フォーカス補
正演算部18から対物レンズのパラメータ設定回路10
へと送られ、対物レンズ5の対物レンズ電圧が(V0−
ΔV1)に変更される。この対物レンズ電圧の変更が完
了すると、装置制御部17からの信号で試行補正画像信
号g1(x)が、画像メモリ15からフォーカス補正演
算部18に読み込まれる。After the processing of the sample by the ion beam is started, if the focus state changes due to the aging of the apparatus state, normal processing cannot be performed. In this case, it is necessary to correct the focus. When a certain time has elapsed, the degraded image signal g (x) is read from the image memory 15 to the focus correction calculation unit 18 by a signal from the device control unit 17. In the focus correction calculating section 18, first, as shown in FIG.
3, the autocorrelation length d [g] is calculated. And FIG.
The dependence of the autocorrelation length on the objective lens voltage as shown in (c) and d [g] are checked, and the estimated candidate values ΔV1 and ΔV2 are calculated by the objective lens voltage shift amount calculating means 34. One of the values ΔV1 is temporarily adopted, and the signal for setting the objective lens voltage to (V0−ΔV) obtained by subtracting ΔV1 from the value V0 when the deteriorated image signal g (x) is obtained is the first setting. The value changing means 35 causes the focus correction calculation unit 18 to output the parameter setting circuit 10 for the objective lens.
And the objective lens voltage of the objective lens 5 becomes (V0−
ΔV1). When the change of the objective lens voltage is completed, the trial correction image signal g1 (x) is read from the image memory 15 into the focus correction calculation unit 18 by the signal from the device control unit 17.
【0021】図3のようにフォーカス補正演算部18内
でg1(x)の自己相関長すなわちd[g1]が自己相
関長演算手段36により演算される。そしてd[g1]
がd[g]より小さくなっているかどうかで、仮に採用
した対物レンズ電圧補正量の、一方の候補値ΔV1の適
否が判定手段37で判定される。不適の場合(d[g
1]>d[g])であれば、対物レンズ電圧を(V0−
ΔV2)に設定変更する手段38により設定変更がおこ
なわれる。変更信号はフォーカス補正演算部18からパ
ラメータ設定回路10へと送られ、対物レンズの対物レ
ンズ電圧が(v0−ΔV2)に変更される。これでフォ
ーカス補正が完了し、装置制御部17からの信号で加工
領域に対する加工が再開される。As shown in FIG. 3, the autocorrelation length of g1 (x), that is, d [g1], is calculated by the autocorrelation length calculation means 36 in the focus correction calculation unit 18. And d [g1]
Is smaller than d [g], the determination means 37 determines whether the candidate value ΔV1 of the provisionally adopted objective lens voltage correction amount is appropriate. If inappropriate (d [g
1]> d [g]), the objective lens voltage is set to (V0−
The setting is changed by means 38 for changing the setting to ΔV2). The change signal is sent from the focus correction operation unit 18 to the parameter setting circuit 10, and the objective lens voltage of the objective lens is changed to (v0-ΔV2). With this, the focus correction is completed, and the processing on the processing area is restarted by the signal from the device control unit 17.
【0022】基準画像信号f(x)から得た自己相関長
の対物レンズ電圧依存性はそのまま記憶されており、同
一の試料において再び一定の加工時間が経過した後、フ
ォーカス補正を行う場合、劣化画像信号g(x)の読み
込み以降の処理を繰り返せば、補正が完了する。すなわ
ち1回のフォーカス補正のために必要な画像の取得回数
は、劣化画像信号の取得1回と、試行補正画像信号の取
得1回の、合計2回で済むことになる。The dependence of the autocorrelation length obtained from the reference image signal f (x) on the objective lens voltage is stored as it is, and if the focus correction is performed after a certain processing time has elapsed again in the same sample, the deterioration will occur. If the processing after reading the image signal g (x) is repeated, the correction is completed. That is, the number of times of acquisition of an image necessary for one focus correction is two times, one for acquiring the deteriorated image signal and one for acquiring the trial correction image signal.
【0023】なお、例えば試料の幅が狭く表示画像中に
試料端が含まれてしまう場合や、試料表面に著しい段差
があるような場合には、画像全体では適正フォーカス状
態が互いに異なる部分が含まれてしまうため、表示画面
中でフォーカス補正に用いるべき画像信号領域をオペレ
ータが適正に指定する必要が生じる。In the case where, for example, the sample width is small and a sample edge is included in the displayed image, or when there is a remarkable level difference on the sample surface, the entire image includes portions having different proper focus states. Therefore, it is necessary for the operator to appropriately specify an image signal area to be used for focus correction on the display screen.
【0024】図8に幅の狭い試料を表示した画面の例を
示す。表示画面内に薄片化した試料の両端82が見えて
おり、透過型電子顕微鏡の観察のため、これを更に薄膜
化する目的で、加工パターン84を登録するものとす
る。このときフォーカス補正に利用する画像信号を試料
端82の外側の領域を含む領域から取得すると、適正な
フォーカス補正が実施できない。そこで装置に表示画面
上でフォーカス補正位置の登録が行える機能を持たせて
おき、オペレータが表示画面上で試料表面部分を指定し
てフォーカス補正位置86のように試料位置検出用マー
ク画像をあらかじめ登録し、基準画像信号、劣化画像信
号、試行補正画像信号をすべてこの登録位置から取得す
れば、適正な補正ができる。フォーカス補正位置の登録
範囲は表示画面内の面状の領域でもよいし、線分状の1
次元領域でもよい。また面領域もしくは線分領域を複数
指定し、それらの、すべての部分の信号を用いてフォー
カス補正を行うことも可能である。FIG. 8 shows an example of a screen displaying a narrow sample. Both ends 82 of the thinned sample are visible in the display screen, and a processing pattern 84 is registered for further thinning the sample for observation with a transmission electron microscope. At this time, if an image signal used for focus correction is obtained from a region including a region outside the sample end 82, proper focus correction cannot be performed. Therefore, the apparatus is provided with a function for registering a focus correction position on the display screen, and an operator designates a sample surface portion on the display screen and pre-registers a mark image for sample position detection as in the focus correction position 86. If the reference image signal, the deteriorated image signal, and the trial correction image signal are all acquired from the registered position, appropriate correction can be performed. The registration range of the focus correction position may be a planar area in the display screen, or may be a linear segment.
It may be a dimensional area. It is also possible to designate a plurality of surface regions or line segment regions and to perform focus correction using signals of all the portions.
【0025】次に図3、図4、図5を用いて、画像処理
応用装置の具体的な動作を説明する。画像中から、例え
ば横方向(x方向)に1次元のデータを取り出すことと
し、次のようにデータ関数を定義する。 f(x);基準画像信号(ジャストフォーカスで取得し
たデータ) h(x;σ);劣化関数(フォーカスずれによる相対的
な像の劣化を表す関数) g(x);劣化画像信号(フォーカスがずれた時の画像
信号)Next, a specific operation of the image processing application apparatus will be described with reference to FIGS. 3, 4, and 5. FIG. For example, one-dimensional data is extracted from the image in the horizontal direction (x direction), and a data function is defined as follows. f (x); reference image signal (data acquired by just focus) h (x; σ): deterioration function (function representing relative image deterioration due to focus shift) g (x); deteriorated image signal (focus is Image signal when it is shifted)
【0026】ここでh(x;σ)は標準偏差σの正規分
布関数で近似でき、劣化量σはフォーカス状態を決める
パラメータのずれ量ΔV(たとえば対物レンズ電圧ず
れ)に依存する関数で、図5(a)に示すようにΔV=
0の時に最小となる。このときg(x)は近似的にf
(x)とh(x;σ)のたたみ込み積分で表わすことが
できる。Here, h (x; σ) can be approximated by a normal distribution function with a standard deviation σ, and the degradation amount σ is a function that depends on a deviation amount ΔV (for example, an objective lens voltage deviation) of a parameter that determines a focus state. As shown in FIG.
It becomes minimum when it is 0. At this time, g (x) is approximately f
It can be expressed by the convolution integral of (x) and h (x; σ).
【0027】g(x)=f(x)*h(x;σ)=∫f
(α)h(x―α;σ)dα 基準画像信号f(x)、劣化関数h(x)、劣化画像信
号g(x)の例を前記のように図4の(a)、(c)、
(e)にそれぞれ示した。G (x) = f (x) * h (x; σ) = ∫f
(Α) h (x−α; σ) dα Examples of the reference image signal f (x), the deterioration function h (x), and the deteriorated image signal g (x) are described above with reference to FIGS. ),
(E) respectively.
【0028】g(x)の自己相関関数(自己共分散関
数)Cgは、g(x)の平均値からの変化量Δg(x)
すなわちΔg(x)=g(x)―<g(x)>を用いて Cg(ξ)=<Δg(x)Δg(x+ξ)> と定義される。これは原点ξ=0に最大ピークを持つ偶
関数である。そして Cg(d)=Cg(0)/2 となるdを相関長と呼ぶ。関数g(x)を決めると相関
長dが決まることから、dをg(x)の汎関数と考え、
d=d[g(x)]と書ける。The autocorrelation function (autocovariance function) Cg of g (x) is a variation Δg (x) from the average value of g (x).
That is, Cg (ξ) = <Δg (x) Δg (x + ξ)> using Δg (x) = g (x) − <g (x)>. This is an even function having a maximum peak at the origin ξ = 0. Then, d where Cg (d) = Cg (0) / 2 is called a correlation length. Since the correlation length d is determined when the function g (x) is determined, d is considered as a functional of g (x),
d = d [g (x)].
【0029】図4の(b)、(e)にそれぞれf(x)
およびg(x)の自己相関関数を示し、それぞれに相関
長d[f]およびd[g]を図中に示した。劣化関数h
(x)の畳込み積分で表されるような画像の劣化に伴っ
て、相関長は増加する。劣化量σが大きいほど相関長も
大きくなる。FIGS. 4B and 4E show f (x) respectively.
And autocorrelation functions of g (x) and correlation lengths d [f] and d [g] are shown in the figure. Deterioration function h
The correlation length increases with the deterioration of the image as represented by the convolution integral of (x). The correlation length increases as the deterioration amount σ increases.
【0030】図3にフォーカス補正演算の例を示した。
フォーカス補正の前提として、まず図5(a)に示すよ
うな画像劣化量σのパラメータずれ量ΔVとの関係があ
らかじめ調べてあり、これが装置に記憶(31)されて
いる。そして加工を始める前に、オペレータが加工用ビ
ームをジャストフォーカスの状態に調整して、基準画像
信号f(x)を取得する。そうすると、 d=d[f(x)*h(x;σ(ΔV))] によって、その基準画像の下での相関長dのΔV依存性
d(ΔV)があらかじめ図5(b)に示すように計算で
きる。あらかじめ定めた時間経過後の、フォーカス補正
を行う際に、試料の同じ部分から劣化画像信号g(x)
を取得する。その相関長d[g(x)]を求め、図5
(c)のように先に求めたd(ΔV)と照合することに
よって(図3の34)、ΔVの候補値ΔV1とΔV2が
求まる。FIG. 3 shows an example of the focus correction calculation.
As a premise of the focus correction, first, the relationship between the image deterioration amount σ and the parameter shift amount ΔV as shown in FIG. 5A is checked in advance, and this is stored (31) in the apparatus. Then, before starting the processing, the operator adjusts the processing beam to the just-focused state and acquires the reference image signal f (x). Then, according to d = d [f (x) * h (x; σ (ΔV))], the ΔV dependency d (ΔV) of the correlation length d under the reference image is shown in FIG. 5B in advance. Can be calculated as follows. When focus correction is performed after a predetermined time has elapsed, the deteriorated image signal g (x) is obtained from the same portion of the sample.
To get. The correlation length d [g (x)] is obtained, and FIG.
By comparing with the previously obtained d (ΔV) as in (c) (34 in FIG. 3), ΔV candidate values ΔV1 and ΔV2 are obtained.
【0031】信号g(x)を取得した時のパラメータの
設定値V0に対し、設定値をV0―ΔV1に修正し、そ
の状態で試行補正画像信号g1(x)を取得する。そし
てその相関長d[g1]を算出後、両者を比較する。そし
て d[g1(x)]<d[g(x)] であれば、パラメータのずれ量はΔV1で正しかったと
判断し、フォーカス補正の完了とする。一方両者を比較
する。そして d[g1(x)]>d[g(x)] であれば、当初のパラメータの正しいずれ量はΔV1で
はなくΔV2であったと判断し、パラメータを(V0―
ΔV2)に設定しなおす。これでフォーカス補正が完了
する。With respect to the set value V0 of the parameter at the time when the signal g (x) was obtained, the set value is corrected to V0-ΔV1, and in this state, the trial correction image signal g1 (x) is obtained. After calculating the correlation length d [g1], the two are compared. If d [g1 (x)] <d [g (x)], it is determined that the parameter shift amount is correct at ΔV1, and the focus correction is completed. On the other hand, both are compared. If d [g1 (x)]> d [g (x)], it is determined that the correct deviation of the initial parameter is not ΔV1 but ΔV2, and the parameter is set to (V0−
ΔV2). This completes the focus correction.
【0032】従来のオートフォーカスの方法によると、
1回のフォーカス補正のためにフォーカスパラメータを
変えながら数10回〜100回程度の画像を取得するこ
とが必要であった。しかし本発明による上記の手段によ
れば、フォーカス補正のための画像信号読取り回数は、
劣化画像の取得と試行補正画像の取得の2回だけで済
む。したがって、繰り返して画像を取得することによっ
て試料表面が損傷を受けたり変質したりするような性質
を持つ顕微鏡装置や試料に対しても、フォーカス補正が
可能となる。このように極めて少ない画像取得回数でフ
ォーカス補正が可能となるので、走査型電子顕微鏡のフ
ォーカス補正に用いる視野領域に発生するコンタミネー
ションを低減できる効果がある。According to the conventional auto focus method,
For one focus correction, it was necessary to obtain several tens to 100 times of images while changing focus parameters. However, according to the above means according to the present invention, the number of image signal readings for focus correction is:
Only two times of acquisition of the deteriorated image and acquisition of the trial correction image are required. Therefore, focus correction can be performed even on a microscope device or a sample having a property that the surface of the sample is damaged or deteriorated by repeatedly acquiring images. Since the focus correction can be performed with an extremely small number of image acquisitions as described above, there is an effect that contamination generated in a visual field region used for focus correction of the scanning electron microscope can be reduced.
【0033】また、劣化量の代わりに劣化関数、自己相
関長の代わりに自己相関関数を用いて、相関長の代わり
に関数の照合をすることによっても、フォーカス補正が
可能である。この場合、劣化関数がアンダーフォーカス
状態とオーバーフォーカス状態で厳密には異なることを
評価すると、劣化画像信号からパラメータの候補値をひ
とつ選ぶことができ、試行補正画像信号を取得する必要
がなくなる。The focus correction can also be performed by using a deterioration function instead of the deterioration amount and an autocorrelation function instead of the autocorrelation length, and comparing the functions instead of the correlation length. In this case, if it is evaluated that the deterioration function is strictly different between the underfocus state and the overfocus state, one candidate parameter value can be selected from the deteriorated image signal, and it is not necessary to acquire a trial correction image signal.
【0034】また、基準画像信号と劣化画像信号から劣
化量を算出することもできるので、自己相関長ではな
く、劣化量を基準データと照合することによっても、フ
ォーカス補正が可能となる。Further, since the deterioration amount can be calculated from the reference image signal and the deteriorated image signal, focus correction can be performed by comparing the deterioration amount with the reference data instead of the autocorrelation length.
【0035】図6に本発明の第2の実施例を示す。この
実施例はイオンビーム2を用いた場合である。ビーム2
を試料上で走査させ、2次電子もしくは反射電子の像を
画像として取得する装置であるが、試料ステージの高さ
を、フォーカス状態を変えるパラメータとして採用して
いる場合を示している。この場合、フォーカス補正演算
部18によって算出されるフォーカスパラメータのずれ
量推定候補値は試料ステージ高さのずれ量の推定候補値
となる。劣化画像信号から試料ステージ高さのずれ量の
推定候補値ΔV1、ΔV2がフォーカス補正演算部18
において算出され、ΔV1の値がステージ駆動部12に
送られて試行補正画像信号が取得される(図1の実施例
とはこの点が相違する)。試行補正画像信号の自己相関
長の判定により、ステージ高さのずれ量が決定する。決
定されたずれ量は装置制御部17からの信号62により
高さずれの制御がおこなわれる。ずれ量に対してこのよ
うにして2回の画像取得によってステージ高さのずれ量
を戻してジャストフォーカス状態にすることができる。FIG. 6 shows a second embodiment of the present invention. In this embodiment, an ion beam 2 is used. Beam 2
Is scanned on the sample, and an image of secondary electrons or reflected electrons is acquired as an image. In this case, the height of the sample stage is used as a parameter for changing the focus state. In this case, the focus parameter deviation amount estimation candidate value calculated by the focus correction calculation unit 18 is a sample stage height deviation amount estimation candidate value. Estimated candidate values ΔV1 and ΔV2 of the shift amount of the sample stage height from the deteriorated image signal are calculated by the focus correction calculation unit 18.
, And the value of ΔV1 is sent to the stage drive unit 12 to obtain a trial correction image signal (this is different from the embodiment of FIG. 1). By determining the autocorrelation length of the trial correction image signal, the shift amount of the stage height is determined. The height shift of the determined shift amount is controlled by a signal 62 from the device control unit 17. In this way, the amount of shift in the stage height can be returned to the just-focus state by the two image acquisitions with respect to the shift amount.
【0036】図7に示した第3の実施例は、画像処理応
用装置を走査型電子顕微鏡において適用した例である。
基本的には図1の実施例との違いはイオン銃(1)か電
子銃(19)かの違いである。ここでは対物レンズ5の
励磁電流値がフォーカスパラメータVとして用いられ
る。劣化画像信号がフォーカス補正演算部18に取り込
まれると、フォーカス補正演算部18において励磁電流
のずれ量推定候補値ΔV1、ΔV2が算出される。励磁
電流をΔV1だけ変更して試行補正画像が取得され、そ
の自己画像の自己相関長を判定して励磁電流の変更量を
決定する。このようにして、2回の画像取得によって励
磁電流をジャストフォーカスの状態に戻すことができ
る。The third embodiment shown in FIG. 7 is an example in which an image processing application device is applied to a scanning electron microscope.
Basically, the difference from the embodiment of FIG. 1 is the difference between the ion gun (1) and the electron gun (19). Here, the exciting current value of the objective lens 5 is used as the focus parameter V. When the degraded image signal is taken into the focus correction calculation section 18, the focus correction calculation section 18 calculates excitation current deviation amount estimation candidate values ΔV1 and ΔV2. The trial correction image is obtained by changing the exciting current by ΔV1, and the autocorrelation length of the self image is determined to determine the amount of change in the exciting current. In this way, the excitation current can be returned to the just-focused state by two image acquisitions.
【0037】また電子源の特性に経時変化が生じた場合
には図5(a)のような画像の劣化特性を調べ直して再
登録する必要が生じるが、電子ビームの軸調整のために
対物レンズ5の励磁電流を遥動させる時、励磁電流をパ
ラメータとして複数の画像を自動的に取得する機能と、
それらの画像データから画像の劣化量のパラメータ依存
性を算出する機能があれば、劣化量の特性を簡便に調べ
直すことができる。算出した画像劣化特性を自動的に登
録するようにすることで、随時劣化量の特性を更新する
ことができ、このようにすれば常に装置の状態に合わせ
たフォーカス補正が可能となる。If the characteristics of the electron source change with time, it is necessary to re-examine the image deterioration characteristics as shown in FIG. A function of automatically acquiring a plurality of images using the exciting current as a parameter when the exciting current of the lens 5 is moved,
If there is a function of calculating the parameter dependence of the amount of deterioration of the image from the image data, the characteristics of the amount of deterioration can be easily checked again. By automatically registering the calculated image deterioration characteristics, the characteristics of the deterioration amount can be updated at any time, and in this case, the focus correction can be always performed according to the state of the apparatus.
【0038】[0038]
【発明の効果】本発明によれば、フォーカスの自動補正
を、通常のオートフォーカス方法のように、多くの回数
の画像取得をせず、2回の画像取得で完了することがで
きる。このため繰り返し画像を取得することに伴なう試
料表面の損傷を受けることがなくなる。According to the present invention, the automatic focus correction can be completed in two image acquisitions without acquiring a large number of images as in a normal autofocus method. For this reason, the sample surface is not damaged due to repeated image acquisition.
【図1】本発明に係わる顕微鏡装置の実施形態を示す構
成図である。FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of a microscope apparatus according to the present invention.
【図2】本発明に係わるフォーカス補正の原理図を示し
ている。FIG. 2 shows a principle diagram of focus correction according to the present invention.
【図3】本発明に係わるフォーカス補正演算の例を示し
ている。FIG. 3 shows an example of a focus correction calculation according to the present invention.
【図4】基準画像信号、劣化関数、劣化画像信号、自己
相関関数の例である。FIG. 4 is an example of a reference image signal, a degradation function, a degradation image signal, and an autocorrelation function.
【図5】画像劣化量、相関長のパラメータずれ量依存
性、およびパラメータを示している。FIG. 5 shows an image deterioration amount, a parameter shift amount dependency of a correlation length, and parameters.
【図6】本発明に係わる顕微鏡装置の他の実施形態を示
す構成図である。FIG. 6 is a configuration diagram showing another embodiment of the microscope apparatus according to the present invention.
【図7】本発明に係わる顕微鏡装置の他の実施形態を示
す構成図である。FIG. 7 is a configuration diagram showing another embodiment of the microscope apparatus according to the present invention.
【図8】登録されたフォーカス補正位置の表示例を示し
ている。FIG. 8 shows a display example of a registered focus correction position.
1…イオン銃、 2…イオンビーム、 3…イメージシ
フト偏向器、 4…偏向器、 5…対物レンズ、 6…
試料、 7…ステージ、 8…直流増幅器、9…偏向増
幅器、 10…パラメータ設定回路、 11…検出器、
12…ステージ駆動回路、 13…偏向信号発生器、
14…A/D変換器、 15…画像メモリ、 16…
表示装置、 17…装置制御部、 18…フォーカス補
正演算部、 19…電子銃、 20…電子線、 21…
イメージシフトコイル、 22…偏向コイル、 23…
電源、 82…表示画面中の試料端、 84…登録され
た加工パターンの表示、 86…登録されたフォーカス
補正位置の表示DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Ion gun, 2 ... Ion beam, 3 ... Image shift deflector, 4 ... Deflector, 5 ... Objective lens, 6 ...
Sample 7 Stage 8 DC amplifier 9 Deflection amplifier 10 Parameter setting circuit 11 Detector
12: stage drive circuit, 13: deflection signal generator,
14 ... A / D converter, 15 ... Image memory, 16 ...
Display device, 17: device control unit, 18: focus correction calculation unit, 19: electron gun, 20: electron beam, 21 ...
Image shift coil, 22 ... deflection coil, 23 ...
Power supply, 82: Sample end in display screen, 84: Display of registered machining pattern, 86: Display of registered focus correction position
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 武藤 博幸 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株 式会社日立製作所計測器グループ内 (72)発明者 石谷 亨 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株 式会社日立製作所計測器グループ内 Fターム(参考) 2G001 AA03 AA05 BA07 BA15 CA03 FA06 GA06 GA08 GA09 HA13 JA02 JA03 JA20 2H052 AF10 AF13 AF14 5C033 MM03 UU05 UU06 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hiroyuki Muto 882-Chair, Ichigo-shi, Hitachinaka-shi, Ibaraki Prefecture Within the Measuring Instruments Group of Hitachi, Ltd. 2G001 AA03 AA05 BA07 BA15 CA03 FA06 GA06 GA08 GA09 HA13 JA02 JA03 JA20 2H052 AF10 AF13 AF14 5C033 MM03 UU05 UU06
Claims (8)
パラメータ値の変更によってフォーカス状態を変える手
段を有する画像処理応用装置であって、試料から得た基
準画像信号もしくはその信号から計算される基準データ
を記憶する手段と、前記試料から得た劣化画像信号の自
己相関関数もしくは自己相関長を算出する手段と、前記
演算された自己相関関数もしくは自己相関距離と、基準
画像信号もしくは基準データの照合から前記パラメータ
値のずれ量推定値を算出するする推定算出手段とから成
るフォーカス補正演算部と、前記算出された推定値に基
づいてパラメータ値を設定変更する手段、とを具備し、
前記パラメータの値を変更してフォーカス状態を自動補
正することを特徴とする画像処理応用装置。A means for displaying an image of a sample on a display screen;
An image processing application device having means for changing a focus state by changing a parameter value, wherein a means for storing a reference image signal obtained from a sample or reference data calculated from the signal, and a deteriorated image signal obtained from the sample Means for calculating an autocorrelation function or an autocorrelation length of the above, and estimation calculation for calculating a deviation amount estimation value of the parameter value from a comparison between the calculated autocorrelation function or autocorrelation distance and a reference image signal or reference data. And a means for changing a parameter value based on the calculated estimated value,
An image processing application apparatus wherein a focus state is automatically corrected by changing a value of the parameter.
ス補正演算部は、フォーカスずれに依存する画像の劣化
量の前記パラメータ依存性を記憶する手段と、試料から
得た基準画像信号と前記劣化量のパラメータ依存性から
この試料像の自己相関長の前記パラメータ依存特性を算
出する手段と、前記試料から得たフォーカスがずれた劣
化画像信号の自己相関長を算出する手段と、この劣化画
像信号の自己相関長と前記基準画像信号の自己相関長の
パラメータ依存特性を照合してパラメータのずれ量の推
定候補値を2つ算出する手段と、この推定候補値の任意
の一方を選んでパラメータ値を変更する第1の変更手段
と、そのパラメータ値のもとで読み取った試行補正画像
の自己相関長を算出する手段と、前記劣化画像信号の自
己相関長と前記試行補正画像の自己相関長を比較して選
択したパラメータのずれ量の候補値のフォーカス補正に
関する適否を判定する手段と、前記候補値がフォーカス
補正に適さないときパラメータをもう一方の候補値に変
更する第2の変更手段、とを備えたことを特徴とする画
像処理応用装置。2. The image processing apparatus according to claim 1, wherein the focus correction calculation unit stores the parameter dependence of an image deterioration amount depending on a focus shift, and a reference image signal obtained from a sample and the deterioration amount. Means for calculating the parameter dependency of the autocorrelation length of the sample image from the parameter dependency of the sample, means for calculating the autocorrelation length of the defocused deteriorated image signal obtained from the sample, and Means for comparing the parameter dependence characteristics of the autocorrelation length and the autocorrelation length of the reference image signal to calculate two estimated candidate values of the parameter shift amount, and selecting any one of the estimated candidate values to determine the parameter value First changing means for changing, a means for calculating the autocorrelation length of the trial correction image read based on the parameter value, an autocorrelation length of the deteriorated image signal, and Means for comparing the autocorrelation length of the corrected image to determine whether or not the candidate value of the shift amount of the selected parameter is appropriate for focus correction, and changing the parameter to another candidate value when the candidate value is not suitable for focus correction. An image processing application device comprising: a second changing unit.
ス補正演算部は、前記パラメータによって画像信号が変
化する特性を表わす関数を記憶する手段を有し、試料か
ら得られた基準画像信号と前記記憶された関数からパラ
メータのずれ量を推定することを特徴とする画像処理応
用装置。3. The apparatus according to claim 1, wherein the focus correction calculation unit has a unit for storing a function representing a characteristic that an image signal changes in accordance with the parameter, and stores a reference image signal obtained from a sample and the storage. An image processing application apparatus for estimating a parameter shift amount from a function obtained.
態を変えるパラメータの変更は、荷電粒子ビーム装置の
対物レンズ電圧もしくは対物レンズ励磁電流であること
を特徴とする画像処理応用装置。4. An apparatus according to claim 1, wherein the change of the parameter for changing the focus state is an objective lens voltage or an objective lens excitation current of the charged particle beam device.
態を変えるパラメータの変更は、荷電粒子ビーム装置に
おける試料ステージの高さを変更することを特徴とする
画像処理応用装置。5. An apparatus according to claim 1, wherein the change of the parameter for changing the focus state changes the height of the sample stage in the charged particle beam apparatus.
および劣化画像信号を、イオンビーム加工装置における
試料位置検出用のマークの画像信号とすることを特徴と
する画像処理応用装置。6. An image processing apparatus according to claim 1, wherein the reference image signal and the deteriorated image signal are image signals of a mark for detecting a sample position in an ion beam processing apparatus.
フォーカスパラメータ依存性が、荷電粒子ビーム装置の
軸調整時における対物レンズ強度揺動の際に取得される
画像信号であることを特徴とする画像処理応用装置。7. The method according to claim 2, wherein the focus parameter dependence of the image deterioration amount is an image signal obtained when the intensity of the objective lens fluctuates during the axis adjustment of the charged particle beam device. Image processing application equipment.
任意の領域を指定する手段と、前記の指定された領域を
登録データとして保存する手段を有することを特徴とす
る画像処理応用装置。8. An image processing application apparatus according to claim 1, further comprising means for designating an arbitrary area on the display screen, and means for storing the designated area as registration data.
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