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JP2002074766A - Manufacturing method of optical recording medium - Google Patents

Manufacturing method of optical recording medium

Info

Publication number
JP2002074766A
JP2002074766A JP2000251494A JP2000251494A JP2002074766A JP 2002074766 A JP2002074766 A JP 2002074766A JP 2000251494 A JP2000251494 A JP 2000251494A JP 2000251494 A JP2000251494 A JP 2000251494A JP 2002074766 A JP2002074766 A JP 2002074766A
Authority
JP
Japan
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substrate
mold
manufacturing
warpage
stamper
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000251494A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoki Kanesaka
智樹 兼坂
Kiyoshi Sato
清 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2000251494A priority Critical patent/JP2002074766A/en
Publication of JP2002074766A publication Critical patent/JP2002074766A/en
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  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板作製装置の長寿命化を図るために一方の
基板の作製条件を緩和した場合であっても、貼り合わせ
後の光ディスクの反り量を許容範囲内とすることが可能
となり、且つ生産性に優れる。 【解決手段】 ポリカーボネートを射出成形して信号面
を有する第1の基板を作製する第1の基板作製工程と、
ポリカーボネートを射出成形してダミー面を有する第2
の基板を作製する第2の基板作製工程と、上記第1の基
板と上記第2の基板とを、上記第1の基板の信号面側と
上記第2の基板のダミー面側を対向させて貼り合わせる
貼り合わせ工程とを有し、上記第1の基板作製工程にお
ける射出成形時の条件を、上記第2の基板作製工程にお
ける射出成形時の条件よりも緩和とし、上記第1の基板
及び上記第2の基板の反り量Aを、それぞれ−0.4°
≦A≦+0.4°の範囲内とする。
(57) [Problem] To provide a warp amount of an optical disc after lamination within an allowable range even when manufacturing conditions of one substrate are relaxed in order to extend the life of a substrate manufacturing apparatus. Is possible, and the productivity is excellent. SOLUTION: A first substrate manufacturing step of manufacturing a first substrate having a signal surface by injection molding polycarbonate,
The second having a dummy surface by injection molding polycarbonate
A second substrate manufacturing step of manufacturing the first substrate and the first substrate and the second substrate, with the signal surface side of the first substrate and the dummy surface side of the second substrate facing each other. And a laminating step of laminating, wherein the conditions at the time of injection molding in the first substrate manufacturing step are set to be more relaxed than the conditions at the time of injection molding in the second substrate manufacturing step. The warp amount A of the second substrate is set to -0.4 °
≦ A ≦ + 0.4 °.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、2枚の基板を貼り
合わせてなる光記録媒体の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an optical recording medium comprising two substrates bonded together.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、光を記録再生に用いた光記録媒体
としては、ポリカーボネート等の合成樹脂を成形してな
る基板を用いる光ディスクが知られている。この光ディ
スクには、予め記録された信号が再生される再生専用型
のもの、1回のみ記録を行うことができる追記型のもの
及び複数回の記録が可能である書換型のものがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, as an optical recording medium using light for recording and reproduction, an optical disk using a substrate formed by molding a synthetic resin such as polycarbonate is known. The optical disc includes a read-only type in which a pre-recorded signal is reproduced, a write-once type in which recording can be performed only once, and a rewritable type in which recording can be performed a plurality of times.

【0003】中でも、書換型の光ディスクに対しては、
コンピュータの外部記録媒体としての用途や数年のうち
に本格化されるデジタルテレビ放送の録画等の用途に対
応可能となるように、さらなる大容量化の要求が強まっ
ている。
In particular, for rewritable optical disks,
There is an increasing demand for a further increase in capacity so that it can be used as an external recording medium of a computer or used for recording digital television broadcasts, which will be in full swing in several years.

【0004】このような光ディスクの記録密度を向上さ
せるために、光源から光ディスクに対して照射されるビ
ームスポット径を縮小する必要がある。ビームスポット
径を縮小するためには、光ピックアップ側の対策とし
て、光源に用いられる半導体レーザの波長を短くし、且
つ対物レンズの開口数(N.A.)を大きくする必要が
ある。
In order to improve the recording density of such an optical disk, it is necessary to reduce the diameter of a beam spot emitted from a light source to the optical disk. In order to reduce the beam spot diameter, it is necessary to shorten the wavelength of the semiconductor laser used as the light source and increase the numerical aperture (NA) of the objective lens as measures against the optical pickup.

【0005】ビームスポット径を縮小するための対策の
うち、半導体レーザの短波長化に関しては、現行のCD
(Compact Disk:登録商標)においては波長780nm
の近赤外光が、また、DVD(Digtal Versatile Dis
k:登録商標)においては650nmの波長が既に採用
されている。また、波長410nm前後のGaN系の青
紫色レーザが採用されることは確実である。このよう
に、半導体レーザの短波長化が急速に進められている。
[0005] Among the measures for reducing the beam spot diameter, regarding the shortening of the wavelength of the semiconductor laser, the current CD
(Compact Disk: registered trademark) has a wavelength of 780 nm.
Near-infrared light, DVD (Digital Versatile Dis
k: registered trademark) has already adopted a wavelength of 650 nm. Further, it is certain that a GaN-based blue-violet laser having a wavelength of about 410 nm is employed. As described above, the wavelength of semiconductor lasers has been rapidly reduced.

【0006】また、ビームスポット径を縮小するための
対策のうち、対物レンズの開口数を拡大させることは、
光ディスクが必然的に有する反りに対するマージンを確
実に減少させることになる。具体的には、光ディスクの
高記録密度化のために光ピックアップに搭載する対物レ
ンズの開口数を大きくするほど、光ディスクが反りを持
ったときに生ずる、光ディスクの記録面に垂直に立てた
軸と光学系の軸がなす角(チルト角)の許容値が小さく
なる。チルト角が発生することにより生ずるコマ収差は
開口数の3乗に比例し、非点収差は開口数の2乗に比例
する。それとともに、対物レンズの回折限界を考慮する
と、このような収差はMarachalの許容値である0.07
λを超過してはならないという厳しい要求がある。
[0006] Among the measures for reducing the beam spot diameter, increasing the numerical aperture of the objective lens is a problem.
As a result, the margin for the warpage of the optical disk is surely reduced. Specifically, as the numerical aperture of the objective lens mounted on the optical pickup is increased for the purpose of increasing the recording density of the optical disk, the larger the numerical aperture of the objective lens is, the more the optical disk is warped. The allowable value of the angle (tilt angle) formed by the axes of the optical system becomes smaller. The coma caused by the tilt angle is proportional to the cube of the numerical aperture, and the astigmatism is proportional to the square of the numerical aperture. In addition, considering the diffraction limit of the objective lens, such an aberration is 0.07 which is Marachal's allowable value.
There is a strict requirement that λ should not be exceeded.

【0007】ところで近年、2枚の薄い透明基板を貼り
合わせてなる光ディスクが提案されている。例えばDV
Dは、CDの基板の半分の厚さである0.6mmの基板
が記録層を内側にして貼り合わされることにより、従来
のCDと同じ1.2mmの厚さとなされている。DVD
は、0.6mmの薄型基板を用いることにより、基板内
を通る光路長の絶対値を小さくし、チルト角の影響を抑
えることが可能となる。また、DVDは2枚の薄型基板
を貼り合わせて1.2mmの厚さとすることにより、D
VD自身に充分な機械的強度を付与することが可能とな
るとともに、従来のCD記録再生装置の互換性をとるこ
とが可能となる。
[0007] In recent years, there has been proposed an optical disk formed by bonding two thin transparent substrates. For example, DV
D has a thickness of 1.2 mm, which is the same as a conventional CD, by bonding a 0.6 mm substrate, which is half the thickness of the CD substrate, with the recording layer inside. DVD
By using a thin substrate of 0.6 mm, the absolute value of the optical path length passing through the substrate can be reduced, and the influence of the tilt angle can be suppressed. In addition, a DVD is formed by bonding two thin substrates to a thickness of 1.2 mm so that
The VD itself can be provided with sufficient mechanical strength, and can be compatible with a conventional CD recording / reproducing apparatus.

【0008】ところで、貼り合わされた2枚の基板の両
方が記録再生に使用される、いわゆる両面記録再生が可
能なDVDが存在する。このような両面記録再生型のD
VDは、以下のようにして作製される。先ず、金型のキ
ャビティを構成する面に、所定の凹凸形状を有するスタ
ンパを取り付けた金型装置を用意する。そして、この金
型装置のキャビティ内にポリカーボネート等の樹脂を射
出成形することにより、スタンパの凹凸形状を一主面に
転写された、透明の基板を得る。
By the way, there is a DVD capable of so-called double-sided recording / reproduction in which both of the two bonded substrates are used for recording / reproduction. Such a double-sided recording / reproducing D
VD is produced as follows. First, a mold apparatus is prepared in which a stamper having a predetermined uneven shape is attached to a surface constituting a cavity of the mold. Then, a resin such as polycarbonate is injection-molded in the cavity of the mold apparatus, thereby obtaining a transparent substrate on which the concave and convex shape of the stamper has been transferred to one main surface.

【0009】次に、凹凸形状が形成された基板の一主面
に、反射層、相変化型記録層、有機色素型記録層、誘電
体層等の各種機能層を、使用目的に応じて成膜する。ま
た、当該機能層上に保護層を成膜する。
Next, various functional layers such as a reflective layer, a phase change type recording layer, an organic dye type recording layer, and a dielectric layer are formed on one main surface of the substrate having the uneven shape according to the purpose of use. Film. Further, a protective layer is formed over the functional layer.

【0010】そして、機能層及び保護層が形成された基
板を、機能層及び保護層が形成された側を互いに対向さ
せて接着剤等を用いて貼り合わせることにより、両面記
録再生型のDVDが完成する。
[0010] Then, the substrate on which the functional layer and the protective layer are formed is attached to each other with an adhesive or the like with the sides on which the functional layer and the protective layer are formed facing each other, whereby a double-sided recording / reproducing DVD is formed. Complete.

【0011】上述のような両面記録再生型のDVDに用
いられる2枚の基板は、それぞれ一主面にグルーブ及び
ランド等の凹凸形状を付与されている。スタンパの凹凸
形状の明瞭な転写と金型装置への負担の軽減とは、互い
に相反するため、自ずと最適な作製条件が設定される。
この結果、当該2枚の基板の作製条件は略同一となされ
ている。したがって、略同一条件にて作製された2枚の
基板の反り方向及び反り量も、略同一となる。
The two substrates used in the above-mentioned double-sided recording / reproducing DVD have one main surface provided with an uneven shape such as a groove and a land. Clear transfer of the concave and convex shape of the stamper and reduction of the load on the mold apparatus conflict with each other, so that optimal manufacturing conditions are naturally set.
As a result, the manufacturing conditions for the two substrates are substantially the same. Therefore, the warp directions and the warp amounts of the two substrates manufactured under substantially the same conditions are also substantially the same.

【0012】これらの基板を貼り合わせる際、2枚の基
板がほぼ面対称に反っているので、それぞれの基板の反
りを生み出す応力、すなわち内部応力が相殺され、その
結果、反りの少ない光ディスクが完成することになる。
したがって、両面記録再生型のDVDでは、たとえ基板
の成形時に基板の反り量が大きかったとしても、2枚の
基板を貼り合わせることによって反りが相殺されて、貼
り合わせた後のディスクの反り量は許容範囲内におさま
り、それほど問題にならなかった。
When these substrates are bonded to each other, since the two substrates are warped almost plane-symmetrically, the stress that causes the warpage of each substrate, that is, the internal stress is canceled out, and as a result, an optical disk with less warpage is completed. Will do.
Therefore, in a double-sided recording / reproducing DVD, even if the amount of warpage of the substrate is large at the time of molding the substrate, the warpage is offset by bonding the two substrates, and the amount of warpage of the disc after bonding is reduced. It fell within the acceptable range and did not matter much.

【0013】なお、例えば直径120mmの光ディスク
の反り量は、−0.35°以上、+0.35°以下の範
囲であることが好ましいとされている。しかし基板は、
経時的に反り量が増大する性質を有する。このため、長
期に亘って高い平面度を維持するためには、基板を成形
した直後の基板の反り量は、−0.25°以上、+0.
25°以下の範囲である必要がある。
It is noted that the amount of warpage of, for example, an optical disk having a diameter of 120 mm is preferably in the range of not less than -0.35 ° and not more than + 0.35 °. But the substrate is
It has the property that the amount of warpage increases with time. Therefore, in order to maintain high flatness over a long period of time, the amount of warpage of the substrate immediately after molding the substrate is −0.25 ° or more and + 0.05 °.
It needs to be in the range of 25 ° or less.

【0014】ところで近年、大容量記録媒体に限らず、
様々なバリエーションの記録容量を有する記録媒体に対
するユーザの要求が高まっている。このようなユーザの
要求に応えるために、片面のみに信号の記録再生が可能
ないわゆる片面記録再生型のDVDが実用化されてい
る。この片面記録再生型DVDにおいては、一方の基板
が、一主面に信号面としてグルーブやサーボパターン等
の高精度な凹凸形状を付与されている。また、他方の基
板が、一主面に機械強度を向上させる目的で、信号の記
録再生に関与しない溝形状が付与され、ダミー面とされ
ている。
In recent years, not only large-capacity recording media,
There is an increasing demand from users for recording media having various variations of recording capacities. In order to meet such a user's request, a so-called single-sided recording / reproducing DVD capable of recording / reproducing a signal on only one side has been put to practical use. In this single-sided recording / reproducing DVD, one of the substrates is provided with a highly accurate concave / convex shape such as a groove or a servo pattern on one principal surface as a signal surface. Further, the other substrate is provided with a groove shape which is not involved in recording / reproducing a signal on one principal surface for the purpose of improving mechanical strength, and serves as a dummy surface.

【0015】このように、ダミー面を有する基板の溝形
状は、信号の記録再生に関与しないため、ダミー面を有
する基板を作製する際には信号面を有する基板ほどの精
度を要求されない。このため、ダミー面を有する基板を
作製する際は、射出成形工程における金型の温度及び金
型の型締め圧力を、信号面を有する基板の条件に比べて
相対的に緩和することができる。したがって、ダミー面
を有する基板を作製するために用いるスタンパの寿命を
延ばすことができる。
As described above, since the groove shape of the substrate having the dummy surface does not contribute to the recording and reproduction of signals, the substrate having the dummy surface is not required to be as precise as the substrate having the signal surface. Therefore, when manufacturing a substrate having a dummy surface, the temperature of the mold and the mold clamping pressure of the mold in the injection molding step can be relatively relaxed as compared with the condition of the substrate having the signal surface. Therefore, the life of a stamper used for manufacturing a substrate having a dummy surface can be extended.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように、ダミー面を有する基板を作製するためのスタン
パの寿命を延ばすために、故意にダミー面を有する基板
の作製条件を信号面を有する基板の基板の作製条件より
も緩和すると、2枚の基板の作製条件が異なることにな
る。この結果、ダミー面を有する基板と信号面を有する
基板とで、反り方向及び反り量が異なってしまう。
However, as described above, in order to extend the life of a stamper for manufacturing a substrate having a dummy surface, the conditions for manufacturing the substrate having a dummy surface are intentionally changed to those of a substrate having a signal surface. If the manufacturing conditions are relaxed, the manufacturing conditions for the two substrates will be different. As a result, the direction of warpage and the amount of warpage differ between the substrate having the dummy surface and the substrate having the signal surface.

【0017】そして、このような異なる条件にて作製さ
れた基板を貼り合わせた場合には、2枚の基板が非面対
称に反っているため、互いに相殺されずに光ディスクに
反りが残ったり、2枚の基板の反りが相乗して、光ディ
スクにさらに大きな反りが付与される虞がある。その結
果、光ディスクの反り量が、許容範囲である−0.25
°以上、+0.25°以下の範囲を超過してしまうとい
った問題がある。
When substrates manufactured under such different conditions are bonded to each other, the two substrates are warped asymmetrically, and therefore the warp remains on the optical disk without canceling each other. There is a risk that the warpage of the two substrates will be synergistic to give a larger warp to the optical disc. As a result, the warp amount of the optical disk is within the allowable range of -0.25.
There is a problem that the range exceeds + 0.25 °.

【0018】また、DVDの従来の生産工程において
は、2枚の基板を貼り合わせた後の光ディスクについて
反り量を測定し、光ディスクの反り量が許容範囲内にお
さまるものを良品、反り量が光ディスクの許容範囲を超
過するものを不良品として判定していた。しかしなが
ら、このような手法では、貼り合わせ後に不良品を発生
させるような不良基板に対しても、良品と同様に各種機
能層及び保護層が成膜されてしまう。また、貼り合わせ
後に反り量の判別を行った場合、成形工程へのフィード
バックができないため、不良基板に対しても良好な状態
の基板を貼り合わせてしまい、生産性の悪化を引き起こ
す。
In the conventional DVD production process, the amount of warpage of an optical disk after two substrates are bonded is measured, and if the amount of warpage of the optical disk falls within an allowable range, a non-defective optical disk is warped. Those exceeding the allowable range were determined to be defective. However, in such a method, various functional layers and protective layers are formed on a defective substrate that generates a defective product after bonding, similarly to a non-defective product. Further, when the amount of warpage is determined after bonding, it is impossible to feed back to the molding process, so that a substrate in a good state is bonded to a defective substrate, thereby causing a decrease in productivity.

【0019】そこで本発明はこのような従来の実状に鑑
みて提案されたものであり、基板作製装置の長寿命化を
図るために一方の基板の作製条件を緩和した場合であっ
ても、貼り合わせ後の光ディスクの反り量を許容範囲内
とすることが可能となり、且つ生産性に優れる光記録媒
体の製造方法を提供することを目的とする。
Accordingly, the present invention has been proposed in view of such a conventional situation, and even if the manufacturing conditions of one substrate are relaxed in order to extend the life of the substrate manufacturing apparatus, the present invention is not limited to this. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an optical recording medium that allows the amount of warpage of an optical disc after alignment to be within an allowable range and that is excellent in productivity.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明にかかる光記録媒体の製造方法は、ポリカ
ーボネートを射出成形して信号面を有する第1の基板を
作製する第1の基板作製工程と、ポリカーボネートを射
出成形してダミー面を有する第2の基板を作製する第2
の基板作製工程と、上記第1の基板と上記第2の基板と
を、上記第1の基板の信号面側と上記第2の基板のダミ
ー面側を対向させて貼り合わせる貼り合わせ工程とを有
し、上記第1の基板作製工程における射出成形時の条件
を、上記第2の基板作製工程における射出成形時の条件
よりも緩和とし、上記第1の基板及び上記第2の基板の
反り量Aを、それぞれ−0.4°≦A≦+0.4°の範
囲内とすることを特徴とする。
In order to achieve the above-mentioned object, a method for manufacturing an optical recording medium according to the present invention comprises a first method for manufacturing a first substrate having a signal surface by injection molding polycarbonate. A second step of manufacturing a second substrate having a dummy surface by injection molding polycarbonate.
And a bonding step of bonding the first substrate and the second substrate with the signal surface side of the first substrate and the dummy surface side of the second substrate facing each other. The conditions at the time of injection molding in the first substrate manufacturing step are set to be more relaxed than the conditions at the time of injection molding in the second substrate manufacturing step, and the amount of warpage of the first substrate and the second substrate A is characterized by being in the range of −0.4 ° ≦ A ≦ + 0.4 °.

【0021】以上のように構成された光記録媒体の製造
方法では、第2の基板作製工程における射出成形時の条
件を第1の基板の作製工程における射出成形時の条件よ
りも緩和にした場合であっても、それぞれの基板の反り
量を規定することによって、第1の基板の反りと第2の
基板の反りとをバランス良く相殺することができる。ま
た、射出成形直後の基板の反り量を測定することで、貼
り合わせ後の光記録媒体に大きな反りをもたらすような
不良基板を判別することができる。
In the method for manufacturing an optical recording medium configured as described above, the conditions during injection molding in the second substrate manufacturing step are made more relaxed than the conditions during injection molding in the first substrate manufacturing step. However, by defining the amount of warpage of each substrate, the warp of the first substrate and the warp of the second substrate can be canceled in a well-balanced manner. Further, by measuring the amount of warpage of the substrate immediately after injection molding, it is possible to determine a defective substrate that causes a large warp in the bonded optical recording medium.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる光記録媒体
の製造方法の具体的な実施の形態について、図面を参照
しながら詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, specific embodiments of a method for manufacturing an optical recording medium according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0023】まず、図1に示すような、一主面に信号面
を有する第1の基板1と、一主面に非信号面すなわちダ
ミー面を有する第2の基板2とを接着剤からなる接着層
3を介して貼り合わせてなる光ディスクについて説明す
る。この光ディスクは、信号面を有する第1の基板1に
対してのみ記録再生が行われる、いわゆる片面記録再生
型の光ディスクである。
First, as shown in FIG. 1, a first substrate 1 having a signal surface on one principal surface and a second substrate 2 having a non-signal surface, ie, a dummy surface on one principal surface, are formed of an adhesive. An optical disk bonded through the adhesive layer 3 will be described. This optical disk is a so-called single-sided recording / reproduction type optical disk in which recording / reproduction is performed only on the first substrate 1 having a signal surface.

【0024】第1の基板1及び第2の基板2は、透明性
を有する樹脂であるポリカーボネートからなり、後述す
るような射出成形法により、直径が約120mm±0.
3mm、厚さが約0.6mm±0.05mmの円盤状に
成形されている。
The first substrate 1 and the second substrate 2 are made of polycarbonate which is a resin having transparency, and have a diameter of about 120 mm ± 0.2 mm by an injection molding method as described later.
It is formed in a disk shape of 3 mm and a thickness of about 0.6 mm ± 0.05 mm.

【0025】第1の基板1の信号面側、すなわち第2の
基板2と対向する側の一主面上には、図2に示すような
グルーブ10及び各グルーブ10間に形成されるランド
11が、同心円状又はスパイラル状に形成されている。
また、第2の基板2は、ダミー面側とされる一主面に、
信号の記録再生に関与しない溝が形成されている。
On the signal surface side of the first substrate 1, that is, on one main surface on the side facing the second substrate 2, grooves 10 and lands 11 formed between the grooves 10 as shown in FIG. Are formed concentrically or spirally.
In addition, the second substrate 2 is provided on one principal surface which is a dummy surface side,
Grooves not involved in signal recording / reproduction are formed.

【0026】第1の基板1のグルーブ10及びランド1
1が形成された面上には、第1の機能層4が形成されて
いる。相変化型記録方式を光ディスクに適用した場合に
は、信号面を有する第1の基板1には、第1の機能層4
として例えば、第1の誘電体層、記録層、第2の誘電体
層及び反射放熱層が順次積層されている。また、第1の
基板1の機能層の最上層上には、第1の保護層5が形成
されている。また、第2の基板2には、一主面上に第2
の機能層6として反射放熱層が形成され、反射放熱層上
に第2の保護層7が形成されている。
The groove 10 and the land 1 of the first substrate 1
The first functional layer 4 is formed on the surface on which 1 is formed. When the phase change recording method is applied to an optical disc, the first substrate 1 having a signal surface is provided with a first functional layer 4
For example, a first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer, and a reflective heat dissipation layer are sequentially laminated. Further, a first protective layer 5 is formed on the uppermost layer of the functional layers of the first substrate 1. The second substrate 2 has a second main surface on one main surface.
A reflective heat radiation layer is formed as the functional layer 6, and a second protective layer 7 is formed on the reflection heat radiation layer.

【0027】上記のような構成の片面記録再生型の光デ
ィスクは、次の説明のようにして信号の記録再生が行わ
れる。光ディスクの信号の記録は、信号面を有する第1
の基板1側から記録層に可逆的相変化を起こさせるパワ
ーのレーザ光をトラックに照射することにより行われ、
光ディスクの信号の再生は、微弱なレーザ光をトラック
に照射してその反射光の強度変化を検知することにより
行われる。
The single-sided recording / reproducing type optical disk having the above-described configuration records and reproduces signals as described below. The recording of the signal of the optical disc is performed by the first
By irradiating the track with laser light having a power to cause a reversible phase change in the recording layer from the substrate 1 side of
The reproduction of the signal from the optical disk is performed by irradiating the track with a weak laser beam and detecting a change in the intensity of the reflected light.

【0028】具体的には、信号の記録は、記録に最適な
パワーのレーザ光を照射することによってレーザ光が照
射された部分の記録層を融点以上に加熱し、記録層の当
該融点以上に加熱された部分を急冷してアモルファス状
態とすることによって行われる。また、信号の消去は、
レーザ光を記録層に照射することによって、結晶化温度
以上、融点以下の温度に加熱し、記録層の当該部分を結
晶状態とすることによって行われる。
More specifically, signal recording is performed by irradiating a laser beam having an optimum power for recording to heat the recording layer of the portion irradiated with the laser beam to a melting point or higher, and to heat the recording layer to the melting point or higher. This is performed by rapidly cooling the heated portion to an amorphous state. Also, signal erasure is
By irradiating the recording layer with laser light, the recording layer is heated to a temperature equal to or higher than the crystallization temperature and equal to or lower than the melting point, so that the relevant portion of the recording layer is brought into a crystalline state.

【0029】つぎに、上記のような構成の光ディスクの
製造方法について説明する。
Next, a method of manufacturing the optical disk having the above-described configuration will be described.

【0030】まず、図3に示すような金型装置を用い
て、第1の基板1を射出成形法により作製する方法につ
いて説明する。この金型装置は、固定金型21と、可動
金型22と、外周金型23とを備え、これら固定金型2
1、可動金型22及び外周金型23が突き合わされるこ
とにより形成されるキャビティを有している。この金型
装置では、固定金型21に対して可動金型22が近接す
る方向に移動動作し、可動金型22に取り付けられた外
周金型23が固定金型21に当接することによってキャ
ビティが形成される。この金型装置では、溶融したポリ
カーボネートを成形空間部であるキャビティに充填して
第1の基板1を成形する。
First, a method for manufacturing the first substrate 1 by injection molding using a mold apparatus as shown in FIG. 3 will be described. This mold device includes a fixed mold 21, a movable mold 22, and an outer peripheral mold 23.
1. It has a cavity formed by abutting the movable mold 22 and the outer peripheral mold 23. In this mold apparatus, the movable mold 22 moves in the direction approaching the fixed mold 21, and the outer mold 23 attached to the movable mold 22 comes into contact with the fixed mold 21 to form a cavity. It is formed. In this mold apparatus, the first substrate 1 is molded by filling molten polycarbonate into a cavity which is a molding space.

【0031】固定金型21は、固定盤24に取り付けら
れて固定されており、キャビティを構成する面にスタン
パ25が取り付けられている。固定金型21には、スタ
ンパ25を取り付けるための内周側スタンパホルダ26
及び外周側スタンパホルダ27が配設されている。内周
側スタンパホルダ26は、キャビティ内に突出するよう
に形成された突部を有している。この内周側スタンパホ
ルダ26に形成された突部は、スタンパ25の中心穴の
径よりやや大径であるような環状に形成されている。ま
た、外周側スタンパホルダ27は、キャビティの外径よ
りもやや大径とされ、且つスタンパ25の外径よりもや
や小径とされた中心穴を有するリング状を呈して形成さ
れる。この外周側スタンパホルダ27は、取り付けねじ
等によって固定金型21に組み付けられている。
The fixed mold 21 is fixedly mounted on a fixed platen 24, and a stamper 25 is mounted on a surface constituting a cavity. An inner peripheral side stamper holder 26 for attaching a stamper 25 is
In addition, an outer stamper holder 27 is provided. The inner peripheral side stamper holder 26 has a projection formed to project into the cavity. The protrusion formed on the inner peripheral side stamper holder 26 is formed in an annular shape having a diameter slightly larger than the diameter of the center hole of the stamper 25. Further, the outer peripheral side stamper holder 27 is formed in a ring shape having a center hole slightly larger than the outer diameter of the cavity and slightly smaller than the outer diameter of the stamper 25. The outer peripheral side stamper holder 27 is assembled to the fixed mold 21 by mounting screws or the like.

【0032】このスタンパ25は、中心穴を有するリン
グ状に形成され、一主面にピットパターン又はグルーブ
10が形成されてなる領域を有し、一主面をキャビティ
内に臨ませた状態で固定金型21に取り付けられる。ス
タンパ25を固定金型21に取り付ける際には、スタン
パ25の中心穴を内周側スタンパホルダ26の突部と相
対係合させるとともに、スタンパ25の外周部を外周側
スタンパホルダ27と固定金型21との間に挟み込ませ
る。
The stamper 25 is formed in a ring shape having a center hole, has a region where a pit pattern or groove 10 is formed on one main surface, and is fixed with one main surface facing the cavity. It is attached to the mold 21. When attaching the stamper 25 to the fixed mold 21, the center hole of the stamper 25 is relatively engaged with the protrusion of the inner peripheral side stamper holder 26, and the outer peripheral part of the stamper 25 is fixed to the outer peripheral side stamper holder 27 with the stationary mold 21. 21.

【0033】また、固定金型21には、固定盤24との
間に高圧の水が供給される固定側温度調整用流路29が
形成される。この固定側温度調整用流路29は、図示し
ない水供給装置と接続され、水が供給されることにより
固定金型21及びキャビティ内を所望の温度に調節する
ことができる。
The fixed mold 21 is provided with a fixed-side temperature adjusting flow path 29 to which high-pressure water is supplied between the fixed mold 21 and the fixed platen 24. The fixed-side temperature adjustment flow path 29 is connected to a water supply device (not shown), and can supply water to adjust the fixed mold 21 and the inside of the cavity to desired temperatures.

【0034】さらに、固定金型21には、その略中心部
に、溶融したポリカーボネートをキャビティ内に供給す
る供給路となるスプルーブッシュ30が形成されてい
る。スプルーブッシュ30は、キャビティに導通する端
部とは反対側の端部で、図示しない材料供給装置と連結
されている。そして、スプルーブッシュ30は、この材
料供給装置から溶融したポリカーボネートがキャビティ
内に供給される際の供給路となる。
Further, a sprue bush 30 serving as a supply path for supplying the molten polycarbonate into the cavity is formed substantially in the center of the fixed mold 21. The sprue bush 30 is connected to a material supply device (not shown) at an end opposite to an end which is connected to the cavity. The sprue bush 30 serves as a supply path when molten polycarbonate is supplied from the material supply device into the cavity.

【0035】一方、可動金型22は、固定金型21に対
して相対向して配置されるとともに、図示しないガイド
手段や駆動手段により固定金型21に対して近接離間自
在とされている。可動金型22は、その略中心部に、成
形された第1の基板1の中心部を切断するパンチ31
と、このパンチ31により切断された中心部を押し出す
押し出しピン32と、成形された基板を可動金型22よ
り離型させるイジェクトピン33とを備える。
On the other hand, the movable mold 22 is disposed so as to face the fixed mold 21, and is movable toward and away from the fixed mold 21 by guide means and driving means (not shown). The movable mold 22 has a punch 31 that cuts the center of the formed first substrate 1 at the approximate center thereof.
And a push pin 32 for pushing out a central portion cut by the punch 31 and an eject pin 33 for releasing the formed substrate from the movable mold 22.

【0036】このパンチ31は、スプルーブッシュ30
からキャビティ内に供給されて固化したポリカーボネー
トのうちでランナー部等を切断するものであり、成形さ
れる第1の基板1の中心穴と略同寸法の外径を有してい
る。このパンチ31は、図示しないガイド手段や駆動手
段によりキャビティ内に突き出す方向に移動可能とされ
る。したがって、キャビティ内に充填されたポリカーボ
ネートが固化された後、このパンチ31によりランナー
部等を切断し中心穴が形成される。
The punch 31 is provided with a sprue bush 30
It cuts a runner portion or the like from the solidified polycarbonate supplied into the cavity from above, and has an outer diameter substantially the same as the center hole of the first substrate 1 to be molded. The punch 31 can be moved in a direction to protrude into the cavity by a guide unit or a driving unit (not shown). Therefore, after the polycarbonate filled in the cavity is solidified, the punch 31 cuts the runner portion and the like to form a center hole.

【0037】押し出しピン32は、棒状に形成されてパ
ンチ31の中心部に配設される。この押し出しピン32
は、図示しないガイド手段や駆動手段によりキャビティ
内に突き出す方向に移動可能とされ、上述したパンチ3
1により切断された部分を除去する。したがって、キャ
ビティ内に充填されたポリカーボネートが固化された
後、この押し出しピン32が押し出されることにより、
ランナー部とスプルーとを、すなわちランナー部とスプ
ルーブッシュ30の供給路に溜まったポリカーボネート
とを除去することができる。
The push-out pin 32 is formed in a rod shape and is disposed at the center of the punch 31. This push pin 32
Can be moved in the direction of protruding into the cavity by guide means and drive means (not shown).
The part cut by 1 is removed. Therefore, after the polycarbonate filled in the cavity is solidified, the pushing pin 32 is pushed out,
The runner part and the sprue, that is, the runner part and the polycarbonate accumulated in the supply path of the sprue bush 30 can be removed.

【0038】イジェクトピン33は、パンチ31の外径
と略同寸法の内径を有する筒状を呈して構成され、パン
チ31を囲むように配設されている。このイジェクトピ
ン33は、図示しないガイド手段や駆動手段によりキャ
ビティ内に突き出す方向に移動可能とされる。したがっ
て、キャビティ内にポリカーボネートが充填され、上述
したように第1の基板1の中心穴が形成された後、この
イジェクトピン33が第1の基板1の内周側を押圧して
可動金型22から当該第1の基板1を離型させる。
The eject pin 33 has a cylindrical shape having an inner diameter substantially the same as the outer diameter of the punch 31, and is disposed so as to surround the punch 31. The eject pin 33 can be moved in a direction in which the eject pin 33 protrudes into the cavity by guide means or drive means (not shown). Therefore, after the cavity is filled with polycarbonate and the center hole of the first substrate 1 is formed as described above, the eject pins 33 press the inner peripheral side of the first substrate 1 to move the movable mold 22. Then, the first substrate 1 is released from the mold.

【0039】また、この可動金型22には、キャビティ
を構成する面の直下に位置してリング状に形成された可
動側温度調整用流路34が形成される。この可動側温度
調整用流路34は、上述した固定金型21と同様に水供
給装置と連結され、水が供給されることにより可動金型
22及びキャビティを所望の温度に調節することができ
る。
The movable mold 22 is provided with a movable-side temperature-adjusting flow path 34 formed in a ring shape and located immediately below a surface constituting the cavity. The movable-side temperature adjusting flow path 34 is connected to a water supply device in the same manner as the fixed mold 21 described above, and the movable mold 22 and the cavity can be adjusted to desired temperatures by supplying water. .

【0040】一方、外周金型23は、環状に形成され、
可動金型22のキャビティを構成する面の外周側に填め
込むように取り付けられている。この外周金型23は、
固定金型21に対して近接動作及び離間動作する可動金
型22と連動して、固定金型21に対して近接動作及び
離間動作する。
On the other hand, the outer peripheral mold 23 is formed in an annular shape,
The movable mold 22 is attached so as to be fitted on the outer peripheral side of the surface constituting the cavity. This outer peripheral mold 23 is
In conjunction with the movable mold 22 that moves closer to and away from the fixed mold 21, it moves closer to and away from the fixed mold 21.

【0041】以上のように構成された金型装置では、第
1の基板1を成形するに際して、先ず、可動金型22及
び外周金型23を固定金型21に対して近接する方向に
移動し、固定金型21、可動金型22及び外周金型23
が突き合わされてなるキャビティを形成する。
In the mold apparatus configured as described above, when forming the first substrate 1, first, the movable mold 22 and the outer peripheral mold 23 are moved in a direction approaching the fixed mold 21. , Fixed mold 21, movable mold 22, and outer peripheral mold 23
Are formed to form a cavity.

【0042】次に、キャビティ内に溶融したポリカーボ
ネートを充填する。ポリカーボネートは、材料供給装置
内で加熱され溶融状態とされ、スプルーブッシュ30を
供給路としてキャビティ内に供給される。
Next, the molten polycarbonate is filled in the cavity. The polycarbonate is heated and melted in the material supply device, and supplied into the cavity using the sprue bush 30 as a supply path.

【0043】次に、キャビティ内に充填されたポリカー
ボネートを冷却して硬化させるとともに、当該ポリカー
ボネートに対して型締めを行う。ポリカーボネートを冷
却する際には、固定側温度調整用流路29及び可動側温
度調整用流路34に水を供給する。キャビティ内に充填
されたポリカーボネートは、水により冷却される。ま
た、ポリカーボネートに対して型締めを行う際には、可
動金型22を固定金型21に対してさらに近接する方向
に移動させる。このため、キャビティ内に充填されたポ
リカーボネートは、加圧されることになり、スタンパ2
5のキャビティ側に臨む一主面の形状が確実に転写され
る。
Next, the polycarbonate filled in the cavity is cooled and hardened, and the polycarbonate is clamped. When cooling the polycarbonate, water is supplied to the fixed-side temperature adjustment channel 29 and the movable-side temperature adjustment channel 34. The polycarbonate filled in the cavity is cooled by water. Further, when performing mold clamping on the polycarbonate, the movable mold 22 is moved in a direction closer to the fixed mold 21. For this reason, the polycarbonate filled in the cavity is pressurized, and the stamper 2 is pressed.
The shape of one main surface facing the cavity side of No. 5 is reliably transferred.

【0044】次に、ポリカーボネートが充分に冷却され
て硬化した後、パンチ31を固定金型21に対して近接
する方向、すなわちキャビティ内に突き出す方向に移動
させる。パンチ31をキャビティ内に突き出す方向に移
動させることによって、固化したポリカーボネートのう
ちランナー部及びスプルー部を切断することができる。
これにより、キャビティ内に充填されたポリカーボネー
トが固化された後、中心穴が形成されることとなる。
Next, after the polycarbonate is sufficiently cooled and hardened, the punch 31 is moved in a direction approaching the fixed mold 21, that is, in a direction protruding into the cavity. By moving the punch 31 in the direction of protruding into the cavity, the runner portion and the sprue portion of the solidified polycarbonate can be cut.
As a result, after the polycarbonate filled in the cavity is solidified, a center hole is formed.

【0045】次に、可動金型22を固定金型21に対し
て離間させる方向に移動させる。これにより、硬化した
第1の基板1は、固定金型21に取り付けられたスタン
パ25から離間することとなり、一主面を外方に露出す
ることとなる。すなわち、第1の基板1は、可動金型2
2及び外周金型23により構成される空間内に、一主面
を露出した状態で填められている。
Next, the movable mold 22 is moved in a direction in which the movable mold 22 is separated from the fixed mold 21. As a result, the cured first substrate 1 is separated from the stamper 25 attached to the fixed mold 21, and one main surface is exposed to the outside. That is, the first substrate 1 includes the movable mold 2
It is fitted in the space defined by the outer mold 2 and the outer peripheral mold 23 with one main surface exposed.

【0046】またこのとき、金型装置では、押し出しピ
ン32をキャビティ内に突き出す方向に移動させること
によって、上述したパンチ31により切断された部分を
除去する。言い換えると、この押し出しピン32が押し
出されることにより、ランナー部とスプルーとを、すな
わちランナー部とスプルーブッシュ30の供給路に溜ま
ったポリカーボネートとを除去することができる。
At this time, in the mold apparatus, the portion cut by the punch 31 described above is removed by moving the push pin 32 in a direction to protrude into the cavity. In other words, when the push-out pins 32 are pushed out, the runner part and the sprue, that is, the runner part and the polycarbonate accumulated in the supply passage of the sprue bush 30 can be removed.

【0047】次に、可動金型22及び外周金型23によ
り形成される空間内に填められた第1の基板1を取り出
す。このとき、金型装置では、イジェクトピン33をキ
ャビティ内に突き出す方向に移動させることにより、第
1の基板1の内周側を押圧して可動金型22及び外周金
型23により構成される空間から第1の基板1を離型さ
れる。以上のようにして、グルーブ10及びランド11
が形成された第1の基板1が得られる。
Next, the first substrate 1 filled in the space formed by the movable mold 22 and the outer mold 23 is taken out. At this time, in the mold apparatus, the eject pin 33 is moved in a direction to protrude into the cavity, thereby pressing the inner peripheral side of the first substrate 1 to form a space formed by the movable mold 22 and the outer peripheral mold 23. Is released from the first substrate 1. As described above, the groove 10 and the land 11
Is obtained.

【0048】つぎに、ダミー面を有する第2の基板2
を、上述の第1の基板1と同様に、図3に示すような金
型装置を用いて射出成形法により作製する。ただし、第
2の基板2には、グルーブ10及びランド11等の凹凸
形状の代わりに、信号の記録再生に関与しない溝が形成
されているため、固定金型21のキャビティを構成する
面に取り付けられたスタンパとして、当該溝に対応した
形状が形成されたスタンパを用いる。
Next, the second substrate 2 having a dummy surface
Is manufactured by an injection molding method using a mold apparatus as shown in FIG. 3 as in the case of the first substrate 1 described above. However, since the second substrate 2 is formed with grooves that do not contribute to the recording and reproduction of signals, instead of the concave and convex shapes of the grooves 10 and the lands 11, the second substrate 2 is attached to the surface of the fixed mold 21 that forms the cavity. A stamper having a shape corresponding to the groove is used.

【0049】ところで、ポリカーボネートを所定の形状
に成形するために要する金型装置の型締め圧力は非常に
大きく、したがってスタンパ25にかかる負担も大であ
る。このため、金型装置に取り付けられたスタンパ25
は、長期の使用に伴って金型装置に取り付けられた面に
凹凸が発生してしまい、ついには使用不可能となってし
まう。そこで、本発明では、ダミーを有する第2の基板
2を作製する際に用いるスタンパの長寿命化を図るため
に、第2の基板2を作製するための金型温度、型締め圧
力等の作製条件は、信号面を有する第1の基板1の作製
条件に比べて相対的に緩和とされている。このため、第
2の基板2を作製する際に用いられるスタンパにかかる
負担を相対的に軽減でき、第2の基板2を作製する際に
用いられるスタンパの寿命を延ばすことができる。
By the way, the mold clamping pressure of the mold device required to mold the polycarbonate into a predetermined shape is very large, and therefore the load on the stamper 25 is also large. For this reason, the stamper 25 attached to the mold device is used.
However, the surface of the mold attached to the mold device becomes uneven with the long-term use, and eventually becomes unusable. Therefore, in the present invention, in order to extend the service life of the stamper used when manufacturing the second substrate 2 having the dummy, the production of the mold temperature, the mold clamping pressure, and the like for manufacturing the second substrate 2 is performed. The conditions are relatively relaxed as compared with the conditions for manufacturing the first substrate 1 having the signal surface. For this reason, the burden on the stamper used when manufacturing the second substrate 2 can be relatively reduced, and the life of the stamper used when manufacturing the second substrate 2 can be extended.

【0050】なお、第1の基板1及び第2の基板2の反
り量Aを上記の範囲内とするための具体的な作製条件に
ついては、詳細を後述する。
The specific manufacturing conditions for keeping the warp amount A of the first substrate 1 and the second substrate 2 within the above range will be described later in detail.

【0051】つぎに、上述のようにして作製された第1
の基板1に、第1の機能層4として第1の誘電体層、記
録層、第2の誘電体層及び反射放熱層と、第1の保護層
5とを成膜する。
Next, the first produced as described above.
A first dielectric layer, a recording layer, a second dielectric layer, a reflective heat dissipation layer, and a first protective layer 5 are formed as a first functional layer 4 on the substrate 1.

【0052】先ず、第1の基板1の信号面側、すなわち
グルーブ10及びランド11が形成された面上に、第1
の誘電体層をスパッタリング法等により成膜する。第1
の誘電体層に用いられる材料としては、例えばAl、S
i、Zn等の金属元素及び半金属元素の窒化物、酸化
物、硫化物等が用いられる。
First, the first substrate 1 is placed on the signal surface side, that is, on the surface on which the grooves 10 and the lands 11 are formed.
Is formed by a sputtering method or the like. First
Examples of the material used for the dielectric layer include Al, S
A nitride, an oxide, a sulfide, or the like of a metal element such as i or Zn and a metalloid element is used.

【0053】次に、第1の基板1上に形成された第1の
誘電体層上に、記録層をスパッタリング法等により成膜
する。記録層に用いられる材料としては、Ag、In、
Sb、Teを含む4元系や、Ge、Sb、Teを含む3
元系の相変化材料を主体とする、一般的な相変化材料を
用いることができる。
Next, a recording layer is formed on the first dielectric layer formed on the first substrate 1 by a sputtering method or the like. Materials used for the recording layer include Ag, In,
A quaternary system including Sb and Te, and a quaternary system including Ge, Sb and Te
A general phase change material mainly composed of an original phase change material can be used.

【0054】次に、記録層上に第2の誘電体層をスパッ
タリング法等により成膜する。第2の誘電体層には、上
述した第1の誘電体層に用いられる材料と同様の材料が
用いられる。
Next, a second dielectric layer is formed on the recording layer by a sputtering method or the like. For the second dielectric layer, a material similar to the material used for the above-described first dielectric layer is used.

【0055】次に、第2の誘電体層上に、Al合金等か
らなる反射放熱層をスパッタリング法等により成膜す
る。
Next, a reflective heat radiation layer made of an Al alloy or the like is formed on the second dielectric layer by a sputtering method or the like.

【0056】次に、第1の基板1の凹凸パターンに対応
した凹凸形状を有する第1の機能層4上に、スピンコー
ト法等により、紫外線硬化樹脂を塗布し、第1の保護層
5を成膜する。第1の保護層5の第1の基板1側の一主
面は、第1の機能層4の最上層である反射放熱層の凹凸
パターンを覆うように形成され、一方、第1の保護層5
の第2の基板2と対向する面側の他主面は平坦とされ
る。
Next, an ultraviolet curable resin is applied on the first functional layer 4 having an uneven shape corresponding to the uneven pattern of the first substrate 1 by a spin coating method or the like, and the first protective layer 5 is formed. Form a film. One main surface of the first protective layer 5 on the first substrate 1 side is formed so as to cover the uneven pattern of the reflective heat dissipation layer which is the uppermost layer of the first functional layer 4, while the first protective layer 5 5
The other main surface on the side facing the second substrate 2 is flat.

【0057】また、第2の基板2のダミー面側に、第2
の機能層6としてAl合金等からなる反射放熱層をスパ
ッタリング法等により成膜する。次に、反射放熱層上に
スピンコート法等により紫外線硬化樹脂を塗布し、第2
の保護層7を成膜する。
The second substrate 2 has a second surface
A reflective heat radiation layer made of an Al alloy or the like is formed as a functional layer 6 by a sputtering method or the like. Next, an ultraviolet curable resin is applied on the reflective heat dissipation layer by spin coating or the like, and the second
Is formed.

【0058】最後に、上述のように作製された第1の基
板1と第2の基板2とを、第1の基板1の信号面側と、
第2の基板2のダミー面側とを対向させて接着剤を介し
て貼り合わせ、1枚の光ディスクとする。このとき用い
る接着剤としては、ホットメルト樹脂、紫外線硬化樹
脂、粘着テープ等が用いられる。
Finally, the first substrate 1 and the second substrate 2 manufactured as described above are combined with the signal surface side of the first substrate 1 and
The second substrate 2 is bonded to the dummy surface side with an adhesive so as to face the dummy surface side to form one optical disk. As the adhesive used at this time, a hot melt resin, an ultraviolet curable resin, an adhesive tape, or the like is used.

【0059】ここで、第1の基板1の反り量A1につい
て図4を参照して説明する。第1の基板1の反り量A1
とは、図4に示すように、第1の基板1の中心1aを通
り且つ第1の基板1に対して照射されるレーザ光に対し
て直交する仮想面Cと、第1の基板1表面の任意の一点
における接線とのなす角のことを表す。上記の角を第1
の基板1の半径25mmから外周方向へ4mmおきに測
定し、そのうち最大の角度であった値のこととする。ま
た、第2の基板2の反り量A2についても、第1の基板
1の反り量A1と同様にして測定することとする。な
お、第1の基板及び第2の基板の反り方向に関しては、
それぞれが貼り合わされる側に凸の時の反りを「−」と
し、貼り合わされる側に凹の時の反りを「+」として表
す。
Here, the amount of warpage A 1 of the first substrate 1 will be described with reference to FIG. Warpage amount A 1 of first substrate 1
Is a virtual plane C passing through the center 1a of the first substrate 1 and orthogonal to the laser beam irradiated on the first substrate 1, as shown in FIG. Represents an angle between the tangent and an arbitrary point at Put the above corner first
Is measured every 4 mm from the 25 mm radius of the substrate 1 in the outer peripheral direction, and the value that is the maximum angle is taken. Also, the amount of warpage A2 of the second substrate 2 is measured in the same manner as the amount of warpage A1 of the first substrate 1. In addition, regarding the warp directions of the first substrate and the second substrate,
The warpage when convex on the side to be bonded is represented by “−”, and the warpage when concave on the side to be bonded is represented by “+”.

【0060】また、光ディスクの反り量Bについて、図
5を参照して説明する。ここで光ディスクの反り量Bと
は、光ディスク101の中心101aを通るとともに光
ディスク101に対して照射されるレーザ光に対して直
交する仮想面C’と、光ディスク101表面の任意の一
点における接線とのなす角を、光ディスク101の半径
25mmから外周方向へ4mmおきに測定し、それらの
うち最大の角度であった値のこととする。なお、光ディ
スクの反り方向に関しては、レーザ光が照射される側に
凹の時の反りを「−」とし、レーザ光が照射される側に
凸の時の反りを「+」ととして表す。
The warp B of the optical disk will be described with reference to FIG. Here, the warp amount B of the optical disk 101 is defined as a value obtained by dividing a virtual plane C ′ passing through the center 101 a of the optical disk 101 and orthogonal to the laser beam irradiated on the optical disk 101 with a tangent at an arbitrary point on the surface of the optical disk 101. The angle to be formed is measured every 4 mm from the radius of 25 mm of the optical disc 101 in the outer peripheral direction, and the value that is the largest angle among them is assumed. With respect to the warp direction of the optical disk, the warp when concave on the side irradiated with laser light is represented by “−”, and the warp when convex on the side irradiated with laser light is represented by “+”.

【0061】ここで、本発明においては、上述のように
異なる作製条件にて作製された、第1の基板1の反り量
1及び第2の基板2の反り量A2(以下、単に第1の基
板1の反り量及び第2の基板2の反り量Aと称する。)
を、それぞれ−0.4°≦A≦+0.4°の範囲内とす
る。これにより、第1の基板1と第2の基板2とを貼り
合わせた後の光ディスクの反り量Bを、長期に亘って光
ディスクの平面度が確保される−0.25°≦B≦+
0.25°の範囲内におさめることができる。光ディス
クの反り量Bが上述の範囲内であるということは、当該
光ディスクは反り量Bが少ないことを示す。したがっ
て、光ディスクは対物レンズの開口数の拡大及び光源の
短波長化に充分対応可能であり、高記録密度に好適なも
のとなる。
Here, in the present invention, the warping amount A 1 of the first substrate 1 and the warping amount A 2 of the second substrate 2 (hereinafter simply referred to as the “first”) manufactured under different manufacturing conditions as described above. (The amount of warpage of the first substrate 1 and the amount of warpage A of the second substrate 2 will be referred to as “A.”)
Are in the range of −0.4 ° ≦ A ≦ + 0.4 °, respectively. Thereby, the warp amount B of the optical disk after the first substrate 1 and the second substrate 2 are bonded to each other is determined by the following equation: -0.25 ° ≦ B ≦ +
It can be within the range of 0.25 °. The fact that the warp amount B of the optical disk is within the above range indicates that the warp amount B of the optical disk is small. Therefore, the optical disk can sufficiently cope with an increase in the numerical aperture of the objective lens and a shorter wavelength of the light source, and is suitable for a high recording density.

【0062】ダミーを有する第2の基板2の作製条件を
第1の基板1の作製条件よりも緩和とすることによっ
て、異なる反り方向及び反り量を有する第1の基板1と
第2の基板2とを貼り合わせる場合であっても、第1の
基板1及び第2の基板2の反り量Aを−0.4°≦A≦
+0.4°の範囲内とすることで、それぞれの反りは、
互いに貼り合わされたときにバランス良く相殺される。
この結果、貼り合わせ後の光ディスクの反り量Bが−
0.25°≦B≦+0.25°の範囲内となり、極めて
平面度の高い光ディスクを得られる。
The manufacturing conditions of the second substrate 2 having the dummy are made more relaxed than the manufacturing conditions of the first substrate 1, so that the first substrate 1 and the second substrate 2 having different warping directions and warpage amounts are different. Even when the first substrate 1 and the second substrate 2 are bonded to each other, -0.4 ° ≦ A ≦
By setting it within the range of + 0.4 °, each warp is
When they are stuck together, they are offset in a well-balanced manner.
As a result, the amount of warpage B of the optical disc after bonding is-
Within the range of 0.25 ° ≦ B ≦ + 0.25 °, an optical disk with extremely high flatness can be obtained.

【0063】さらに、作製直後の第1の基板1及び第2
の基板2の反り量Aを測定することによって、貼り合わ
せ後の光ディスクの反り量Bが許容範囲内、すなわち−
0.25°≦B≦+0.25°の範囲となるか否かの予
測が可能となる。言い換えると、反り量AがA<−0.
4°又は、A>+0.4°である基板は、光ディスクが
大きな反りを有する原因となるため、基板上に機能層が
成膜される前に製造工程から除去できる。したがって、
製造工程の早い段階で光ディスクに大きな反りをもたら
す基板を判別でき、成形工程へのフィードバックを早め
ることができ、生産性を向上させることができる。
Further, the first substrate 1 and the second substrate
By measuring the amount of warpage A of the substrate 2, the amount of warpage B of the bonded optical disk is within an allowable range, ie, −.
It is possible to predict whether or not the range is 0.25 ° ≦ B ≦ + 0.25 °. In other words, the warpage amount A is A <−0.
A substrate having 4 ° or A> + 0.4 ° can cause the optical disc to have a large warp, and thus can be removed from the manufacturing process before a functional layer is formed on the substrate. Therefore,
A substrate that causes a large warp in the optical disc can be determined at an early stage of the manufacturing process, feedback to the molding process can be accelerated, and productivity can be improved.

【0064】ところで、信号面を有する第1の基板1の
反り量A1を−0.25°≦A1≦+0.25°の範囲内
とするために、第1の基板1を射出成形法により作製す
るに際して、スタンパ25が取り付けられた固定金型2
1の温度を、126℃以上、132℃以下の範囲とし、
金型装置の型締め圧力を、60kgf/cm2以上、8
0kgf/cm2以下の範囲とすることが好ましい。そ
れとともに、ダミーを有する第2の基板2の反り量A2
を−0.25°≦A2≦+0.25°の範囲内とするた
めに、第2の基板2を射出成形法により作製するに際し
て、スタンパ25が取り付けられた固定金型21の温度
を、126℃以上、132℃以下の範囲とし、金型装置
の型締め圧力を、40kgf/cm2以上、60kgf
/cm2以下の範囲とすることが好ましい。
Incidentally, the first substrate 1 having the signal surface is formed by an injection molding method so that the warpage A 1 of the first substrate 1 is in the range of −0.25 ° ≦ A 1 ≦ + 0.25 °. Mold 2 with the stamper 25 attached.
1, the temperature is in the range of 126 ° C. or more and 132 ° C. or less,
The mold clamping pressure of the mold device should be 60 kgf / cm 2 or more, 8
It is preferable to set the range to 0 kgf / cm 2 or less. At the same time, the warpage amount A 2 of the second substrate 2 having the dummy
When the second substrate 2 is manufactured by the injection molding method, the temperature of the fixed mold 21 to which the stamper 25 is attached is set to be within the range of −0.25 ° ≦ A 2 ≦ + 0.25 °. The temperature should be in the range of 126 ° C. or more and 132 ° C. or less, and the mold clamping pressure of the mold device should be 40 kgf / cm 2 or more and 60 kgf or more.
/ Cm 2 or less.

【0065】第1の基板1を作製する際には、上述した
ように、グルーブ10及びランド11の形状に対応した
凹凸形状が形成されたスタンパ25を固定金型21に取
り付け、当該スタンパ25の凹凸形状がキャビティに臨
ませた状態でポリカーボネートをキャビティ内に充填
し、所定の固定金型温度及び所定の型締め圧力にてポリ
カーボネートを加圧する。これにより、成形される第1
の基板1上には、スタンパ25の形状が転写されてなる
グルーブ10が確実に転写されることになる。スタンパ
25が取り付けられた固定金型温度を126℃未満とす
ると、グルーブ10及びランド11の形状を明瞭に転写
するために巨大な型締め圧力が必要となり、スタンパ2
5にかかる負担が大きくなる。一方、スタンパ25が取
り付けられた固定金型21温度を132℃より高くする
と、第1の基板1の反り量A1を増大させてしまう。ま
た、金型装置の型締め圧力を60kgf/cm2未満と
すると、スタンパ25の凹凸形状の転写が不充分とな
り、第1の基板1に明確なグルーブ10及びランド11
が形成されない虞がある。一方、金型装置の型締め圧力
を80kgf/cm2より大とすると、型締め圧力が強
すぎるために、第1の基板1の反り量A1を増大させて
しまう虞がある。
When manufacturing the first substrate 1, as described above, the stamper 25 having the concave and convex shapes corresponding to the shapes of the groove 10 and the land 11 is attached to the fixed mold 21, and the stamper 25 is The polycarbonate is filled in the cavity with the irregularities facing the cavity, and the polycarbonate is pressurized at a predetermined fixed mold temperature and a predetermined mold clamping pressure. Thereby, the first molded
The groove 10 obtained by transferring the shape of the stamper 25 is reliably transferred onto the substrate 1. If the temperature of the fixed mold to which the stamper 25 is attached is set to less than 126 ° C., a huge clamping pressure is required to clearly transfer the shapes of the grooves 10 and the lands 11.
The burden on 5 increases. On the other hand, if the temperature of the fixed mold 21 to which the stamper 25 is attached is higher than 132 ° C., the amount of warpage A 1 of the first substrate 1 increases. Further, if the mold clamping pressure of the mold apparatus is less than 60 kgf / cm 2 , the transfer of the concave and convex shape of the stamper 25 becomes insufficient, and the clear groove 10 and land 11 are formed on the first substrate 1.
May not be formed. On the other hand, if the mold-clamping pressure of the mold device is larger than 80 kgf / cm 2 , the mold-clamping pressure is too strong, which may increase the amount of warpage A 1 of the first substrate 1.

【0066】また、第2の基板2を作製する際には、上
述したように、平板状のスタンパを固定金型21に取り
付け、当該スタンパ25の平坦とされた表面をキャビテ
ィに臨ませた状態でポリカーボネートをキャビティ内に
充填し、所定の固定金型温度及び所定の型締め圧力にて
ポリカーボネートを加圧する。これにより、表面が平坦
な平板状の第2の基板2が成形される。それとともに、
第2の基板2は第1の基板1の作製条件よりも緩和な条
件で作製されるため、第2の基板2を作製する際に用い
られるスタンパの寿命を、相対的に延ばすことができ
る。
When manufacturing the second substrate 2, as described above, the flat stamper is attached to the fixed mold 21, and the flat surface of the stamper 25 faces the cavity. Then, the polycarbonate is filled in the cavity, and the polycarbonate is pressurized at a predetermined fixed mold temperature and a predetermined mold clamping pressure. Thereby, the flat plate-shaped second substrate 2 having a flat surface is formed. With it,
Since the second substrate 2 is manufactured under conditions that are more relaxed than the conditions for manufacturing the first substrate 1, the life of a stamper used when manufacturing the second substrate 2 can be relatively extended.

【0067】スタンパが取り付けられた固定金型温度を
126℃未満とすると、貼り合わされた直後の光ディス
クの反り量Bが許容範囲内であっても、経時変化に伴う
第2の基板2の反りの増加量は、第1の基板1の反りの
増加量と著しく異なってしまう。この結果、光ディスク
は長期に亘って良好な平面性を保つことができない虞が
ある。一方、スタンパが取り付けられた固定金型温度を
132℃より高くすると、第2の基板2の反り量A2
増大させてしまう。また、金型装置の型締め圧力を40
kgf/cm2未満とすると、逆に反り量A2が増大して
しまうとともに、厚みむらを生じる虞がある。一方、金
型装置の型締め圧力を60kgf/cm 2とすると、型
締め圧力が強すぎるために、第1の基板1の反り量A1
を増大させてしまうとともに、第2の基板2を作製する
ためのスタンパの長寿命化が不充分となる虞がある。
The temperature of the fixed mold with the stamper attached
If the temperature is lower than 126 ° C., the optical disc immediately after the bonding is performed.
Even if the warp amount B of the workpiece is within the allowable range,
The amount of increase in the warpage of the second substrate 2 depends on the amount of the warp of the first substrate 1.
It will be significantly different from the increase. As a result,
May not be able to maintain good flatness for a long time
is there. On the other hand, the temperature of the fixed mold with the stamper
If the temperature is higher than 132 ° C., the warpage A of the second substrate 2TwoTo
Will increase. Further, the mold clamping pressure of the mold apparatus is set to 40.
kgf / cmTwoIf it is less than, the amount of warpage ATwoIncreases
At the same time, there is a possibility that uneven thickness may occur. Meanwhile, gold
The mold clamping pressure of the mold device is 60 kgf / cm TwoThen the type
Since the tightening pressure is too strong, the warp amount A of the first substrate 11
And the second substrate 2 is manufactured.
Therefore, the life of the stamper may be insufficient.

【0068】上述の説明のように、スタンパの寿命を延
ばすために第2の基板2の作製条件を相対的に緩和にし
た場合であっても、射出成形直後の基板の反り量Aを測
定し、当該反り量Aが−0.4°≦A≦+0.4°の範
囲内である基板のみを使用することによって、長期に亘
って極めて平面度の高い光ディスクを得られる。そし
て、長期に亘って極めて高い平面度を維持できるため、
光ディスクは、光源の短波長化及び対物レンズの高N.
A.化が進む高記録密度システムに好適なものとなる。
また、基板上に機能層及び保護層を成膜する前に、不良
品を発生させるような不良基板を製造工程から除去する
ことができるため、生産性を向上させることができる。
As described above, even if the manufacturing conditions of the second substrate 2 are relatively relaxed in order to extend the life of the stamper, the warpage A of the substrate immediately after injection molding is measured. By using only the substrate having the warpage amount A in the range of −0.4 ° ≦ A ≦ + 0.4 °, an optical disk with extremely high flatness can be obtained for a long period of time. And because it can maintain extremely high flatness for a long time,
The optical disk has a shorter wavelength light source and a higher N.D.
A. This is suitable for a high-density recording system, which is increasingly used.
In addition, before forming a functional layer and a protective layer on a substrate, a defective substrate that causes a defective product can be removed from a manufacturing process, so that productivity can be improved.

【0069】なお、上述の説明では、光記録媒体とし
て、記録層に相変化型材料を用いた書換型の光ディスク
を例に挙げたが、本発明はこれに限定されるものではな
い。本発明は、例えば、記録層に有機色素材料を用いた
光ディスクや、光磁気記録方式を採用した光ディスクに
適用することも可能である。
In the above description, a rewritable optical disk using a phase-change material as a recording layer is taken as an example of an optical recording medium, but the present invention is not limited to this. The present invention can be applied to, for example, an optical disk using an organic dye material for a recording layer or an optical disk employing a magneto-optical recording method.

【0070】また、上述の説明では、書換型の光ディス
クを例に挙げたが、本発明はこれに限定されるものでは
ない。本発明は、再生専用型の光ディスクや、追記型の
光ディスクに適用することも可能である。
In the above description, a rewritable optical disk is taken as an example, but the present invention is not limited to this. The present invention can be applied to a read-only optical disk and a write-once optical disk.

【0071】なお、上述の説明では、固定金型21にス
タンパ25が取り付けられた金型装置を用いて光ディス
クの基板を作製する場合を例に挙げたが、本発明はこれ
に限定されるものではない。本発明は、例えば、可動金
型22にスタンパ25が取り付られた金型装置を用いて
光ディスクの基板を作製することも可能である。
In the above description, the case where the substrate of the optical disk is manufactured by using the mold apparatus in which the stamper 25 is attached to the fixed mold 21 has been described as an example, but the present invention is not limited to this. is not. According to the present invention, for example, a substrate of an optical disk can be manufactured using a mold device in which a stamper 25 is attached to a movable mold 22.

【0072】[0072]

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて、実験結果に基づいて説明する。
EXAMPLES Specific examples to which the present invention is applied will be described below based on experimental results.

【0073】〈実験1〉まず、金型装置の型締め圧力
と、金型装置に取り付けられたスタンパの寿命との関係
について検討した。
<Experiment 1> First, the relationship between the mold clamping pressure of the mold apparatus and the life of the stamper attached to the mold apparatus was examined.

【0074】金型装置としては、グルーブ幅640n
m、グルーブ深さ60nmの凹凸形状が形成されたスタ
ンパを固定金型に取り付けた、図3に示すような金型装
置を用いた。このような金型装置のキャビティ内にガラ
ス転移点が138℃であるポリカーボネートを射出し、
型締め圧力を40kgf/cm2とし、固定金型の温度
を130℃として、グルーブ及びランドの凹凸形状が形
成された信号面を有する基板を成形した。
As the mold device, a groove width of 640 n
A mold device as shown in FIG. 3 was used, in which a stamper having a m-shaped groove with a depth of 60 nm was mounted on a fixed mold. Injecting polycarbonate having a glass transition point of 138 ° C. into the cavity of such a mold device,
The mold clamping pressure was set to 40 kgf / cm 2 , the temperature of the fixed mold was set to 130 ° C., and a substrate having a signal surface with groove and land irregularities was formed.

【0075】そして、上記の型締め圧力及び温度にてス
タンパが使用不能となるまで連続して射出成形を行い、
評価用の基板を作製した。なお、スタンパの寿命の評価
は以下に説明するようにして行った。
Then, injection molding is continuously performed at the above mold clamping pressure and temperature until the stamper becomes unusable.
A substrate for evaluation was produced. The evaluation of the life of the stamper was performed as described below.

【0076】先ず、上記のように作製された評価用の基
板に対し、第1の機能層を成膜した。具体的には、評価
用の基板の凹凸形状が形成された面上に、ZnS−Si
2からなる第1の誘電体層と、Ge2Sb2Te5からな
る記録層と、ZnS−SiO2からなる第2の誘電体層
と、AlCuからなる反射放熱層とをこの順に成膜し
た。そして、反射放熱層上に紫外線硬化樹脂を塗布する
ことにより第1の保護層を形成した。
First, a first functional layer was formed on the evaluation substrate manufactured as described above. Specifically, ZnS-Si is formed on the surface of the evaluation substrate on which the uneven shape is formed.
A first dielectric layer made of O 2, a recording layer made of Ge 2 Sb 2 Te 5, a second dielectric layer made of ZnS—SiO 2 , and a reflective heat dissipation layer made of AlCu are formed in this order. did. Then, a first protective layer was formed by applying an ultraviolet curable resin on the reflective heat dissipation layer.

【0077】また、ダミーを有する基板として、AlC
uからなる反射放熱層及び紫外線硬化樹脂よりなる保護
層が形成された平板状の基板を用意した。そして、評価
用基板とダミー面を有する基板とを、それぞれ機能層及
び保護層が形成された面を対向させて、接着剤を介して
貼り合わせ、光ディスクを作製した。得られた光ディス
クのトラッキングエラー信号に、スタンパの固定金型に
取り付けられた面に発生した凹凸に起因するノイズが発
生した場合、当該スタンパは使用不能であるとし、その
時点での基板成形枚数をスタンパ寿命とした。なお、1
枚の基板の成形を1ショットとしてカウントした。
Further, as a substrate having a dummy, AlC
A flat substrate having a reflective heat radiation layer made of u and a protective layer made of an ultraviolet curable resin was formed. Then, an evaluation substrate and a substrate having a dummy surface were bonded to each other with an adhesive in such a manner that the surfaces on which the functional layer and the protective layer were formed faced each other, thereby producing an optical disk. If the tracking error signal of the obtained optical disc includes noise due to irregularities generated on the surface of the stamper attached to the fixed mold, the stamper is determined to be unusable, and the number of substrates formed at that time is determined. The stamper life was set. In addition, 1
The molding of one substrate was counted as one shot.

【0078】また、金型装置の型締め圧力を50kgf
/cm2、60kgf/cm2及び70kgf/cm2
した場合についても、同様にスタンパの寿命を測定し
た。金型装置の型締め圧力とスタンパの寿命との関係
を、図6に示す。
Further, the mold clamping pressure of the mold apparatus is set to 50 kgf.
/ Cm 2 , 60 kgf / cm 2 and 70 kgf / cm 2 , the life of the stamper was measured in the same manner. FIG. 6 shows the relationship between the mold clamping pressure of the mold apparatus and the life of the stamper.

【0079】図6から明らかなように、型締め圧力を小
さくすることに伴って、スタンパにかかる負担が軽減さ
れ、スタンパの寿命が延びることがわかった。具体的に
は、型締め圧力を40kgf/cm2としたときのスタ
ンパ寿命は約65万ショットであり、型締め圧力を50
kgf/cm2としたときのスタンパ寿命は約60万シ
ョットであり、型締め圧力を60kgf/cm2とした
ときのスタンパ寿命は約47万ショットであり、型締め
圧力を70kgf/cm2としたときのスタンパ寿命は
約35万ショットであった。
As is apparent from FIG. 6, it was found that as the mold clamping pressure was reduced, the load on the stamper was reduced, and the life of the stamper was extended. Specifically, when the mold clamping pressure is 40 kgf / cm 2 , the life of the stamper is about 650,000 shots, and the mold clamping pressure is 50
stamper life when formed into a kgf / cm 2 is about 600,000 shots stamper life when the clamping pressure and 60 kgf / cm 2 is about 470,000 shots were the clamping pressure and 70 kgf / cm 2 The stamper life at that time was about 350,000 shots.

【0080】〈実験2〉つぎに、図3に示すような金型
装置を用いて作製された、信号面を有する第1の基板と
ダミー面を有する第2の基板とを貼り合わせ、貼り合わ
された後の光ディスクの反り量Bについて検討した。
<Experiment 2> Next, a first substrate having a signal surface and a second substrate having a dummy surface, which were manufactured using a mold apparatus as shown in FIG. 3, were bonded to each other. After that, the warp amount B of the optical disk was examined.

【0081】先ず、実験1で用いた金型装置と同様の金
型装置を用いてポリカーボネートを射出成形することに
より、一主面にグルーブ及びランドの凹凸形状が形成さ
れ、反り量A1を−0.8°、−0.4°、+0.4
°、+0.8°とされた第1の基板を複数作製した。
First, by using a mold apparatus similar to the mold apparatus used in Experiment 1, polycarbonate was injection-molded to form a groove and land irregularities on one main surface, and to reduce the amount of warping A 1 . 0.8 °, -0.4 °, +0.4
A plurality of first substrates having an angle of + 0.8 ° were manufactured.

【0082】ここで、第1の基板1の反り量A1とは、
図4に示すように、第1の基板1の中心を通り且つ第1
の基板1に対して照射されるレーザ光に対して直交する
仮想面Cと、第1の基板1表面の任意の一点における接
線とのなす角のことを表す。上記の角を第1の基板1の
半径25mmから外周方向へ4mmおきに測定し、その
うち最大の角度であった値のこととする。なお、第1の
基板の反り方向に関しては、第2の基板と貼り合わされ
る側に凸の時の反りを「−」とし、貼り合わされる側に
凹の時の反りを「+」として表す。
Here, the amount of warpage A 1 of the first substrate 1 is
As shown in FIG. 4, the first substrate 1 passes through the center and the first
Of the imaginary plane C orthogonal to the laser beam irradiated on the substrate 1 of the first substrate 1 and a tangent at an arbitrary point on the surface of the first substrate 1. The above-mentioned angle is measured every 4 mm from the radius of 25 mm of the first substrate 1 in the outer peripheral direction, and the value is the largest angle among them. Note that, regarding the warping direction of the first substrate, the warpage when it is convex on the side to be bonded to the second substrate is represented by “−”, and the warpage when it is concave on the side to be bonded is represented by “+”.

【0083】次に、反り量A1の異なる複数の第1の基
板に対し、第1の機能層を成膜した。具体的には、第1
の基板の凹凸形状が形成された面上に、ZnS−SiO
2からなる第1の誘電体層と、Ge2Sb2Te5からなる
記録層と、ZnS−SiO2からなる第2の誘電体層
と、AlCuからなる反射放熱層とをこの順に成膜し
た。そして、反射放熱層上に紫外線硬化樹脂を塗布する
ことにより第1の保護層を形成した。
Next, a first functional layer was formed on a plurality of first substrates having different amounts of warping A 1 . Specifically, the first
ZnS-SiO on the surface of the substrate of FIG.
2, a recording layer made of Ge 2 Sb 2 Te 5 , a second dielectric layer made of ZnS—SiO 2 , and a reflective heat dissipation layer made of AlCu were formed in this order. . Then, a first protective layer was formed by applying an ultraviolet curable resin on the reflective heat dissipation layer.

【0084】また、固定金型に平板状のスタンパを取り
付けた金型装置を用いてポリカーボネートを射出成形す
ることにより、平板状であり、反り量A2を−0.8
°、−0.4°、+0.4°、+0.8°とされた第2
の基板を複数作製した。
The polycarbonate is injection-molded by using a mold apparatus having a fixed mold and a plate-shaped stamper mounted thereon, so that the plate is plate-shaped and the warpage amount A 2 is −0.8.
°, -0.4 °, + 0.4 °, + 0.8 ° for the second
Were prepared.

【0085】次に、平板状の第2の基板上にAlCuか
らなる反射放熱層を成膜した。そして、反射放熱層上に
紫外線硬化樹脂を塗布することにより第2の保護層を形
成した。
Next, a reflective heat radiation layer made of AlCu was formed on the second flat plate. Then, a second protective layer was formed by applying an ultraviolet curing resin on the reflective heat dissipation layer.

【0086】次に、第1の機能層及び第1の保護層が形
成された第1の基板と、第2の機能層として反射放熱層
及び第2の保護層が形成された第2の基板とを、下記の
表1に示すような反り量Aの組み合わせにて貼り合わ
せ、1枚の光ディスクを得た。
Next, a first substrate on which a first functional layer and a first protective layer are formed, and a second substrate on which a reflective heat radiation layer and a second protective layer are formed as second functional layers Were bonded in a combination of the warpage amounts A as shown in Table 1 below to obtain one optical disk.

【0087】そして、完成した光ディスクに対して反り
量Bの測定を行った。ここで、光ディスクの反り量Bと
は、光ディスクの中心を通るとともに光ディスクに対し
て照射されるレーザ光に対して直交する仮想面C’と、
光ディスク表面の任意の一点における接線とのなす角
を、光ディスクの半径25mmから外周方向へ4mmお
きに測定し、それらのうち最大の角度であった値のこと
とする。なお、光ディスクの反り方向に関しては、レー
ザ光が照射される側に凹の時の反りを「−」とし、レー
ザ光が照射される側に凸の時の反りを「+」ととして表
した。なお、光ディスクの反り量Bの測定は、第1の基
板と第2の基板とを貼り合わせた直後に行った。
Then, the amount of warpage B was measured for the completed optical disk. Here, the warp amount B of the optical disk is a virtual plane C ′ that passes through the center of the optical disk and is orthogonal to the laser beam irradiated on the optical disk.
An angle formed by a tangent at an arbitrary point on the surface of the optical disk is measured every 4 mm from the radius of the optical disk from 25 mm to the outer circumference, and the value that is the largest angle among them is assumed. With respect to the warp direction of the optical disk, the warp when the laser beam is irradiated to the concave side is represented by "-", and the warp when the laser beam is irradiated to the convex side is represented by "+". Note that the measurement of the warpage B of the optical disk was performed immediately after the first substrate and the second substrate were bonded.

【0088】光ディスクの反り量Bが、−0.25°≦
B≦+0.25°未満であったものを○とし、光ディス
クの反り量Bが、B<−0.25°又はB>+0.25
°であったものを×として表した。結果を表1に示す。
The warp amount B of the optical disk is -0.25 ° ≦
When B was less than + 0.25 °, the result was indicated by ○, and the warp amount B of the optical disk was B <−0.25 ° or B> +0.25.
What was ° was represented as x. Table 1 shows the results.

【0089】[0089]

【表1】 [Table 1]

【0090】表1の結果から明らかなように、第1の基
板の反り量A1と第2の基板の反り量A2とが同じである
場合、たとえ第1の基板及び第2の基板の反り量Aが−
0.8°や+0.8°のように大きい場合であっても、
バランス良く反りが相殺されて、平面度の高い光ディス
クが得られた。
[0090] As apparent from the results shown in Table 1, when the amount of warpage of the first substrate A 1 and the warping amount A 2 of the second substrate is the same, even if the first substrate and the second substrate The amount of warpage A is-
Even if it is large like 0.8 ° or + 0.8 °,
The warpage was well balanced and an optical disk with high flatness was obtained.

【0091】ところで、第1の基板の反り量A1と第2
の基板の反り量A2とが異なる場合、例えば−0.4°
の反り量A1を有する第1の基板と+0.4°の反り量
2を有する第2の基板とを貼り合わせたときには、得
られた光ディスクの反り量Bが許容範囲内におさまり、
平面度の高い光ディスクが得られた。
By the way, the warp amount A 1 of the first substrate and the second substrate
If the warp amount A 2 substrates are different, for example, -0.4 °
When bonding the second substrate having a first substrate and + 0.4 ° warpage amount A 2 having a warping amount A 1 of the warpage B of the obtained optical disc subside within the allowable range,
An optical disk with high flatness was obtained.

【0092】しかし、例えば第1の基板の反り量A1
−0.8°であり、第2の基板の反り量A2が+0.4
°である場合には、第1の基板及び第2の基板の互いの
反りの相殺が不充分であり、得られた光ディスクは大き
な反りを引き起こした。
However, for example, the warpage A1 of the first substrate is -0.8 °, and the warpage A2 of the second substrate is + 0.4 °.
In the case of °, the warpage of the first substrate and the second substrate was insufficiently offset from each other, and the obtained optical disk caused a large warp.

【0093】したがって、実験2の結果から、第1の基
板の反り量A1と第2の基板の反り量A2とが異なる場
合、それぞれの反り量Aを−0.4°≦A≦+0.4°
の範囲内とする必要があることがわかった。
Therefore, according to the result of Experiment 2, when the amount of warpage A1 of the first substrate is different from the amount of warpage A2 of the second substrate, each amount of warping A is set to -0.4 ° ≦ A ≦ + 0. .4 °
It was found that it was necessary to be within the range.

【0094】〈実験3〉つぎに、信号面を有する第1の
基板の反り量A1を、実験2で明らかとなった−0.4
°≦A1≦+0.4°の範囲内とするための条件につい
て検討した。
<Experiment 3> Next, the amount of warpage A1 of the first substrate having the signal surface was found to be -0.4 in Experiment 2.
The conditions for satisfying the range of ° ≦ A 1 ≦ + 0.4 ° were examined.

【0095】金型装置としては、実験1と同様に、グル
ーブ幅640nm、グルーブ深さ60nmの凹凸形状が
形成されたスタンパを固定金型に取り付けた、図3に示
すような金型装置を用いた。このような金型装置のキャ
ビティ内に、ポリカーボネートを射出し、所定の型締め
圧力及び固定金型の温度にて第1の基板を成形した。な
お、型締め圧力及び固定金型の温度は、以下の表2及び
表3に示すような設定とした。また、可動金型の温度
は、固定金型の温度よりも低い温度に設定した。
As a mold device, a mold device as shown in FIG. 3 was used, in which a stamper having an uneven shape with a groove width of 640 nm and a groove depth of 60 nm was attached to a fixed mold, as in Experiment 1. Was. Polycarbonate was injected into the cavity of such a mold apparatus, and the first substrate was molded at a predetermined mold clamping pressure and a fixed mold temperature. The mold clamping pressure and the temperature of the fixed mold were set as shown in Tables 2 and 3 below. Further, the temperature of the movable mold was set to a temperature lower than the temperature of the fixed mold.

【0096】そして、作製された第1の基板に対して反
り量A1の測定を行った。表2中、第1の基板の反り量
1が−0.4°≦A1≦+0.4°の範囲内であったも
のを○とした。また、第1の基板の反り量A1が−0.
8°≦A1<−0.4°であったもの、又は第1の基板
の反り量A1が+0.4°<A1≦+0.8°であったも
のを△とした。また、第1の基板の反り量A1がA1<−
0.8°であったもの、又は第1の基板の反り量A1
1>+0.8°であったものを×として表した。結果
を表2に示す。
Then, the amount of warpage A 1 was measured for the manufactured first substrate. In Table 2, the warpage amount A 1 of the first substrate was ○ what was in the range of -0.4 ° ≦ A 1 ≦ + 0.4 °. Further, the warp amount A1 of the first substrate is -0.0.
The case where 8 ° ≦ A 1 <−0.4 ° or the case where the warp amount A 1 of the first substrate was + 0.4 ° <A 1 ≦ + 0.8 ° was defined as Δ. Also, the warpage amount A 1 of the first substrate is A 1 <−
The case where the angle was 0.8 ° or the case where the amount of warpage A 1 of the first substrate was A 1 > + 0.8 ° was represented as x. Table 2 shows the results.

【0097】[0097]

【表2】 [Table 2]

【0098】また、作製された第1の基板に形成され
た、グルーブ及びランドの転写性について評価を行っ
た。表3中、グルーブ及びランドの凹凸形状が良好に転
写されている第1の基板を○とし、グルーブ及びランド
の凹凸形状の転写が不明瞭である第1の基板を×として
評価した。結果を表3に示す。
The transferability of the grooves and lands formed on the manufactured first substrate was evaluated. In Table 3, the first substrate on which the concave and convex shapes of the groove and the land were satisfactorily transferred was evaluated as 基板, and the first substrate on which the transfer of the concave and convex shape of the groove and the land was unclear was evaluated as x. Table 3 shows the results.

【0099】[0099]

【表3】 [Table 3]

【0100】第1の基板の反り量A1に関しては、表2
の結果から明らかなように、表2中の左上方向に示す領
域、すなわち低金型温度且つ低型締め圧力の条件が好ま
しいことがわかった。
Table 2 shows the warpage amount A1 of the first substrate.
As is clear from the results, it was found that the region shown in the upper left direction in Table 2, that is, the condition of low mold temperature and low mold clamping pressure was preferable.

【0101】一方、第1の基板の転写性に関しては、表
3の結果から明らかなように、表3中の右下方向に示す
領域、すなわち高金型温度且つ高型締め圧力の条件が好
ましいことがわかった。
On the other hand, as to the transferability of the first substrate, as is clear from the results in Table 3, the region shown in the lower right direction in Table 3, that is, the conditions of high mold temperature and high mold clamping pressure are preferable. I understand.

【0102】したがって、第1の基板の反り量A1と転
写性との両立を図るためには、具体的には、金型温度を
126℃以上、132℃以下の範囲とし、且つ、型締め
圧力を60kgf/cm2以上、80kgf/cm2以下
の範囲とすることが好ましいことが明らかとなった。
Therefore, in order to achieve both the amount of warpage A 1 of the first substrate and the transferability, specifically, the mold temperature is set to a range from 126 ° C. to 132 ° C. and the mold clamping is performed. It became clear that the pressure is preferably in the range of 60 kgf / cm 2 or more and 80 kgf / cm 2 or less.

【0103】〈実験4〉つぎに、ダミー面を有する第2
の基板の反り量A2を、実験2で明らかとなった−0.
4°≦A2≦+0.4°の範囲内とするための条件につ
いて検討した。
<Experiment 4> Next, a second method having a dummy surface
The amount of warpage A 2 of the substrate was determined in Experiment 2 to be −0.
The conditions for satisfying 4 ° ≦ A 2 ≦ + 0.4 ° were examined.

【0104】金型装置としては、平板状のスタンパを固
定金型に取り付けた、図3に示すような金型装置を用い
た。このような金型装置のキャビティ内に、ポリカーボ
ネートを射出し、所定の型締め圧力及び固定金型の温度
にて第2の基板を成形した。なお、型締め圧力及び固定
金型の温度は、以下の表4に示すような設定とした。ま
た、可動金型の温度は、固定金型の温度よりも低い温度
に設定した。
As the mold device, a mold device as shown in FIG. 3 in which a flat stamper was attached to a fixed mold was used. Polycarbonate was injected into the cavity of such a mold apparatus, and a second substrate was molded at a predetermined mold clamping pressure and a fixed mold temperature. In addition, the mold clamping pressure and the temperature of the fixed mold were set as shown in Table 4 below. Further, the temperature of the movable mold was set to a temperature lower than the temperature of the fixed mold.

【0105】そして、作製された第2の基板に対して反
り量A2の測定を行った。表4中、第2の基板の反り量
2が−0.4°≦A2≦+0.4°の範囲内であったも
のを○とした。また、第2の基板の反り量A2が−0.
8°≦A2<−0.4°であったもの、又は第2の基板
の反り量A2が+0.4°<A2≦+0.8°であったも
のを△とした。また、第2の基板の反り量A2がA2<−
0.8°であったもの、又は第2の基板の反り量A2
2>+0.8°であったものを×として表した。結果
を表4に示す。
Then, the amount of warpage A 2 was measured for the manufactured second substrate. In Table 4, the warpage amount A 2 of the second substrate was ○ what was in the range of -0.4 ° ≦ A 2 ≦ + 0.4 °. Further, the amount of warpage A 2 of the second substrate is −0.0.
The case where 8 ° ≦ A 2 <−0.4 ° or the case where the warpage A 2 of the second substrate was + 0.4 ° <A 2 ≦ + 0.8 ° was defined as Δ. Also, the amount of warpage A 2 of the second substrate is A 2 <−
The case where the angle was 0.8 ° or the case where the amount of warpage A 2 of the second substrate was A 2 > + 0.8 ° was represented as x. Table 4 shows the results.

【0106】[0106]

【表4】 [Table 4]

【0107】第2の基板の反り量A2に関しては、表4
の結果から、低金型温度且つ高型締め圧力の条件が好ま
しいことがわかった。しかしながら、実験1の結果から
明らかなように、型締め圧力を上げるとスタンパ寿命が
短くなってしまう。また、第2の基板を成形する際の金
型温度が第1の基板を成形する際の金型温度と著しく異
なる場合、貼り合わせ後の第2の基板の反り量の経時変
化が、第1の基板の経時変化と著しく異なり、光ディス
クの反り量Bの増大が顕著となってしまう。
Table 4 shows the amount of warpage A 2 of the second substrate.
From the results, it was found that the conditions of low mold temperature and high mold clamping pressure are preferable. However, as is clear from the results of Experiment 1, increasing the mold clamping pressure shortens the life of the stamper. In addition, when the mold temperature at the time of molding the second substrate is significantly different from the mold temperature at the time of molding the first substrate, the time-dependent change in the amount of warpage of the second substrate after the bonding is the first temperature. This is significantly different from the change with time of the substrate, and the amount of warpage B of the optical disk is significantly increased.

【0108】したがって、ダミー面を有する第2の基板
の反り量A2とスタンパ寿命との両立を図るためには、
金型温度を126℃以上、132℃以下の範囲とし、且
つ、型締め圧力を40kgf/cm2以上、60kgf
/cm2以下の範囲とすることが好ましいことが明らか
となった。
Therefore, in order to achieve both the amount of warpage A 2 of the second substrate having the dummy surface and the life of the stamper,
The mold temperature is in the range of 126 ° C. or more and 132 ° C. or less, and the mold clamping pressure is 40 kgf / cm 2 or more and 60 kgf.
/ Cm 2 or less is preferable.

【0109】[0109]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明にかかる光記録媒体の製造方法は、ダミー面を有する
第2の基板を、信号面を有する第1の基板よりも緩和な
条件で作製したとしても、第1の基板の反りと第2の基
板の反りとがバランス良く相殺され、光記録媒体の反り
量を許容範囲内におさめることができる。このため、第
2の基板を作製するための装置にかかる負担を軽減し、
基板を作製するための装置の長寿命化を図ることができ
る。また、光記録媒体に大きな反りをもたらすような不
良基板を、第1の基板及び第2の基板を射出成形した直
後に判別することができるため、当該不良基板に機能層
を形成したり、当該不良基板に反りの少ない基板を貼り
合わせるような製造上の無駄が防止される。したがっ
て、本発明によれば、高い平面度を有し信号の記録再生
が安定して行われる光記録媒体を、生産性良く製造する
ことが可能である。
As is clear from the above description, in the method of manufacturing an optical recording medium according to the present invention, the second substrate having the dummy surface is formed under a condition that is more relaxed than the first substrate having the signal surface. However, the warpage of the first substrate and the warp of the second substrate are well-balanced, and the amount of warpage of the optical recording medium can be kept within an allowable range. For this reason, the burden on an apparatus for manufacturing the second substrate is reduced,
The life of an apparatus for manufacturing a substrate can be extended. In addition, since a defective substrate that causes a large warp in the optical recording medium can be determined immediately after the first substrate and the second substrate are injection-molded, a functional layer may be formed on the defective substrate, Manufacturing waste such as bonding a substrate with less warpage to a defective substrate is prevented. Therefore, according to the present invention, it is possible to manufacture an optical recording medium having high flatness and capable of stably recording and reproducing signals with high productivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用して作製された光ディスクの一構
成例を示す要部概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a main part showing an example of a configuration of an optical disc manufactured by applying the present invention.

【図2】第1の基板上に形成された、グルーブ及びラン
ドを説明するための要部概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a main part for explaining grooves and lands formed on a first substrate.

【図3】基板を作製する際に用いられる金型装置の要部
断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part of a mold apparatus used for manufacturing a substrate.

【図4】第1の基板の反り量A1の測定方法について説
明するための要部概略断面図である。
4 is a main part schematic cross-sectional view for explaining a first substrate measuring method warping amount A 1 of.

【図5】光ディスクの反り量Bの測定方法について説明
するための要部概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a main part for describing a method of measuring the amount of warpage B of the optical disc.

【図6】金型装置の型締め圧力とスタンパ寿命との相関
を説明するための特性図である。
FIG. 6 is a characteristic diagram for explaining the correlation between the mold clamping pressure of the mold apparatus and the life of the stamper.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1の基板、2 第2の基板、3 接着層、4 第
1の機能層、5 第1の保護層、6 第2の機能層、7
第2の保護層
REFERENCE SIGNS LIST 1 first substrate, 2 second substrate, 3 adhesive layer, 4 first functional layer, 5 first protective layer, 6 second functional layer, 7
Second protective layer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリカーボネートを射出成形して信号面
を有する第1の基板を作製する第1の基板作製工程と、 ポリカーボネートを射出成形してダミー面を有する第2
の基板を作製する第2の基板作製工程と、 上記第1の基板と上記第2の基板とを、上記第1の基板
の信号面側と上記第2の基板のダミー面側を対向させて
貼り合わせる貼り合わせ工程とを有し、 上記第1の基板作製工程における射出成形時の条件を、
上記第2の基板作製工程における射出成形時の条件より
も緩和とし、 上記第1の基板及び上記第2の基板の反り量Aを、それ
ぞれ−0.4°≦A≦+0.4°の範囲内とすることを
特徴とする光記録媒体の製造方法。
1. A first substrate manufacturing process for manufacturing a first substrate having a signal surface by injection molding polycarbonate, and a second substrate having a dummy surface by injection molding polycarbonate.
A second substrate manufacturing step of manufacturing the first substrate and the first substrate and the second substrate, with the signal surface side of the first substrate and the dummy surface side of the second substrate facing each other. A laminating step of laminating, wherein conditions for injection molding in the first substrate manufacturing step are:
The warping amount A of the first substrate and the second substrate is set to be less than the condition at the time of injection molding in the second substrate manufacturing step, and the warp amount A of the first substrate and the second substrate is each in a range of −0.4 ° A ≦ + 0.4 ° A method for manufacturing an optical recording medium, comprising:
【請求項2】 上記第1の基板及び上記第2の基板の厚
さは、0.6mm±0.05mmであり、 上記第1の基板及び上記第2の基板の直径は、120m
m±0.3mmであることを特徴とする請求項1記載の
光記録媒体の製造方法。
2. The thickness of the first substrate and the second substrate is 0.6 mm ± 0.05 mm, and the diameter of the first substrate and the second substrate is 120 m.
2. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 1, wherein m ± 0.3 mm.
【請求項3】 上記第1の基板作製工程及び上記第2の
基板作製工程において、少なくとも一対の金型と、金型
の一方に取り付けられたスタンパとを有する金型装置を
用いることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体の製
造方法。
3. The method according to claim 1, wherein in the first substrate manufacturing step and the second substrate manufacturing step, a mold apparatus having at least a pair of molds and a stamper attached to one of the molds is used. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 1.
【請求項4】 上記第1の基板作製工程において、スタ
ンパが取り付けられた側の金型の温度を、126℃以
上、132℃以下の範囲とし、金型装置の型締め圧力
を、60kgf/cm2以上、80kgf/cm2以下の
範囲とし、 上記第2の基板作製工程において、スタンパが取り付け
られた側の金型の温度を、126℃以上、132℃以下
の範囲とし、金型装置の型締め圧力を、40kgf/c
2以上、60kgf/cm2以下の範囲とし、 上記第1の基板作製工程における型締め圧力は、上記第
2の基板作製工程における型締め圧力よりも大きいこと
を特徴とする請求項3記載の光記録媒体の製造方法。
4. In the first substrate manufacturing step, the temperature of the mold on the side on which the stamper is mounted is set to a range of 126 ° C. or more and 132 ° C. or less, and the mold clamping pressure of the mold apparatus is set to 60 kgf / cm. 2 to 80 kgf / cm 2 , and in the second substrate manufacturing step, the temperature of the mold on the side where the stamper is attached is in the range of 126 ° C. to 132 ° C. Tightening pressure is 40kgf / c
m 2 or more, and 60 kgf / cm 2 or less in the range of the clamping pressure in the first substrate preparation step, according to claim 3, wherein a greater than clamping pressure in the second substrate preparing step A method for manufacturing an optical recording medium.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8556043B2 (en) 2007-12-03 2013-10-15 Otis Elevator Company Passive detection of persons in elevator hoistway

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