JP2002062645A - サンドブラスト用感光性樹脂積層体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 ガラス、低融点ガラス、セラミック等の被加
工基材、特にプラズマディスプレイパネルに適用する際
に、感度、解像度、密着性に優れ、サンドブラスト用の
マスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まり
よく加工でき、且つ支持体剥離装置を用いた場合に感光
性樹脂層から支持体を容易に剥離できる感光性樹脂積層
体、及びそれを用いた表面加工方法を提供する。 【解決手段】 表面に剥離剤を形成した基材フィルムか
らなる支持体に、ポリウレタンプレポリマーとアルカリ
可溶性高分子とエチレン性不飽和付加重合性モノマーと
光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物より成る感光
性樹脂層、及び必要に応じて保護層を順次積層し、それ
を用いて表面加工を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は新規なサンドブラス
ト用感光性樹脂積層体に関し、更に詳しくはガラス、低
融点ガラス、セラミック等の被加工基材、特にプラズマ
ディスプレイパネルに適用する際に、感度、解像度、密
着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工
基材に微細なパターンを歩留まりよく加工でき、且つ支
持体剥離装置を用いた場合に感光性樹脂層から支持体を
容易に剥離できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いた
表面加工方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年フォトリソグラフィー技術及びサン
ドブラスト技術の進歩に伴い、ガラスや低融点ガラス、
セラミックを微細なパターンに加工することが可能にな
ってきた。特にガラスや低融点ガラスをサンドブラスト
で加工して、格子状やストライプ状、ワッフル形状に隔
壁を形成することが必要なプラズマディスプレイパネル
の製造においては、画素ピッチの狭幅化に伴い、最近１
５０μｍピッチ以下のパターン形成が要求されるように
なってきた。

【０００３】このような微細な隔壁パターンを歩留り良
く製造する為に、支持体となるフィルム上に感光性樹脂
層を積層し、更に必要に応じ保護層を積層した感光性樹
脂積層体が多用されている。例えば、特開平８−５４７
３４号公報に開示されているカルボキシ変性ウレタン
（メタ）アクリレート化合物とアルカリ可溶性高分子化
合物と光重合開始剤からなる感光性樹脂組成物、特開平
８−３０５０１７号公報、特開平９−１２７６９２号公
報に開示されている末端にアクリレートまたはメタクリ
レート基を持つウレタン化合物とアルカリ可溶性高分子
化合物と光重合開始剤からなる感光性樹脂組成物、特開
平１０−２３９８４０号公報、特開平１１−１８８６３
１号公報に開示されている、末端にエチレン性不飽和結
合を有するポリウレタンプレポリマーと、アルカリ可溶
性高分子とエチレン性不飽和付加重合性モノマーと光重
合開始剤を含有する感光性樹脂組成物、を含む感光性樹
脂積層体などである。

【０００４】感光性樹脂積層体を用いて、プラズマディ
スプレイパネルの隔壁を形成する方法を図２を用いて説
明する。（ａ）図１の感光性樹脂積層体の保護層を剥が
しながら、ガラス基板または低融点ガラス基板（以下単
純に基板と略記する）上にホットロールラミネーターを
用いて密着させるラミネート工程、（ｂ）所望の微細パ
ターンを有するフォトマスクを支持体上に密着させた状
態で、或いは数十〜数百μｍ離した状態で、活性光線源
を用いて露光を施す露光工程、（ｃ）支持体を剥離した
後アルカリ現像液を用いて感光性樹脂層の未露光部分を
溶解除去し、微細なレジストパターンを基板上に形成す
る現像工程、（ｄ）形成されたレジストパターン上から
ブラスト材を吹き付け、基板を目的の深さに切削するサ
ンドブラスト処理工程、（ｅ）レジストパターンをアル
カリ剥離液を用いて基板から除去する剥離工程の各工程
を経て、プラズマディスプレイパネルの隔壁を形成する
ことができる。

【０００５】ところで、前記（ｃ）工程において、支持
体を剥離する手段として、以下に例示する様な、手動ま
たは自動の支持体剥離装置が使用されている。例えば、
特許第１８１９９５２号、特開昭６２−１８０３７１号
公報に記載の、カバーフィルムの端部を針状の突起押圧
部材で浮上させ、その浮上した部分に流体を吹き付ける
ことによってカバーフィルムを剥離する方法や、特許第
１８００９６６号、特開昭６２−５６２４３号公報に記
載の、回転体の外周部に樹脂、鋼等の複数の硬質針で構
成されたブラシを用いてカバーフィルムの一部を引起
し、引起されたカバーフィルムと基板の間に流体を吹き
付けてカバーフィルムを剥離する方法や、特開昭６２−
５１５５６号公報に記載の、円柱形状の回転体に粘着性
物質を設けた粘着性部材を用いてカバーフィルムの一部
を引起し、引起されたカバーフィルムと基板の間に流体
を吹き付けてカバーフィルムを剥離する方法や、特開昭
６３−２５０１９０号公報に記載の、カバーフィルムの
端辺に複数の引起し線状刃を押し当てることによりカバ
ーフィルムの一部を引起しカバーフィルムを剥離する方
法や、特開昭６２−８３９７４号公報に記載の、カバー
フィルムの先端に沿って圧力車を移動させつつ押圧して
フィルム先端を弛めた後にフィルム先端部分にエアジェ
ットを吹き込んでカバーフィルムを剥離する方法や、特
開平７−１０１６２３号公報に記載の、フィルム端縁に
沿って間欠的に複数箇所で、先端に複数の小突起を備え
た部材により繰り返し複数回押圧し、押圧箇所における
フィルム端縁に向けて気体ジェットを吹き付けてカバー
フィルムを剥離する方法などである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
様な従来の感光性樹脂積層体を用いた場合には、上記の
支持体剥離装置で用いられる突起押圧部材、ブラシ、粘
着性部材、引き起こし線状刃、圧力車、小突起を備えた
部材等の支持体剥離用引き起こし部材を用いても、支持
体の一部を十分に引き起こすことができない為、支持体
が確実に剥離できないという問題点があった。また、支
持体の一部を引き起こす為に前述の支持体剥離用引き起
こし部材を用いて、支持体に過剰な力を加えたり何回も
力を加えたりすると、支持体が破れてしまったり、感光
性樹脂層や基板を損傷してしまうという問題点があっ
た。また、低融点ガラス基板を用いた場合には、支持体
を無理に引き剥がそうとすると、感光性樹脂層と低融点
ガラス基板の間の密着力が小さい為に、感光性樹脂層と
低融点ガラス基板の界面に剥がれが生じてしまうという
問題点があった。特に低融点ガラス基板に感光性樹脂積
層体をラミネートした後、高湿下に長時間放置した場合
には、支持体と感光性樹脂層の密着力が増加する為に、
上記の問題がより顕著に認められた。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するべく鋭意研究を重ねた結果、剥離剤を表面に形
成したフィルムからなる支持体と特定の感光性樹脂層か
らなる感光性樹脂積層体を用いることにより、支持体や
感光性樹脂層や基板を損傷することなく支持体の一部を
十分に引き起こすことができ、手動または自動の支持体
剥離装置で支持体を容易に引き剥がすことができること
を見出した。

【０００８】すなわち本発明は、（１）表面に剥離剤が
形成された基材フィルムからなる支持体（Ａ）に、
（ｉ）末端に水酸基を有するポリマーまたはモノマー
と、ポリイソシアネートと、活性水素を有する官能基と
エチレン性不飽和結合を分子内に共に有する化合物より
得られるポリウレタンプレポリマーと、（ii）アルカリ
可溶性高分子と、（iii）エチレン性不飽和付加重合性
モノマーと、（iv）光重合開始剤を含有する感光性樹脂
組成物より成る感光性樹脂層（Ｂ）が積層されているこ
とを特徴とするサンドブラスト用感光性樹脂積層体であ
る。

【０００９】上記（１）の発明において、下記の態様は
好ましい実施形態である。 （ａ）剥離剤がシリコーンを含有する剥離剤、又はアル
キッド樹脂である上記（１）記載のサンドブラスト用感
光性樹脂積層体。 （ｂ）剥離剤がアルキッド変性シリコーンである記載の
上記（１）サンドブラスト用感光性樹脂積層体。 また、上記（１）の発明において、感光性樹脂層（Ｂ）
層の上に必要に応じて保護層（Ｃ）を積層することも本
発明の実施形態の一つである。

【００１０】さらに、本願は以下の発明も提供する。 （２）被加工基材上に上記（１）記載の感光性樹脂積層
体を用いて感光性樹脂層を形成し、露光工程、現像工程
によりレジストパターンを形成した後、サンドブラスト
処理を行うことを特徴とする表面加工方法。 （３）被加工基材がプラズマディスプレイパネルである
上記（２）記載の表面加工方法。

【００１１】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
用いられる支持体（Ａ）は、本発明の感光性樹脂層を支
持する為のフィルムであり、活性光線を透過させる透明
な基材フィルムの片方の表面または両方の表面に剥離剤
を形成したものである。このような基材フィルムとして
は１０〜１００μm厚程度のポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート
などの合成樹脂フィルムがあるが、、通常適度な可とう
性と強度を有するポリエチレンテレフタレートが好まし
く用いられる。

【００１２】また、ここでいう剥離剤は、基材フィルム
を感光性樹脂層から容易に剥離させる性能を有する化合
物であり、公知のものを使用することができるが、シリ
コーンを含有する剥離剤またはアルキッド樹脂が好まし
い。シリコーンを含有する剥離剤としては、両末端シラ
ノールポリジメチルシロキサンとポリメチル水素シロキ
サン或いはポリメチルメトキシシロキサンとを反応させ
た縮合反応型シリコーンや、ジメチルシロキサン・メチ
ルビニルシロキサン共重合体或いはジメチルシロキサン
・メチルヘキセニルシロキサン共重合体とポリメチル水
素シロキサンとを反応させた付加反応型シリコーンや、
アクリルシリコーンやエポキシ基含有シリコーンなどを
紫外線や電子線で硬化させた紫外線硬化型または電子線
硬化型シリコーンや、エポキシ変性シリコーン（シリコ
ーンエポキシ）、ポリエステル変性シリコーン（シリコ
ーンポリエステル）、アクリル変性シリコーン（シリコ
ーンアクリル）、フェノー変性シリコーン（シリコーン
フェノール）、アルキッド変性シリコーン（シリコーン
アルキッド）、メラミン変性シリコーン（シリコーンメ
ラミン）等の変性シリコーンが挙げられる。

【００１３】シリコーンを含有する剥離剤をポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上に形成したものとしては、
例えば帝人デュポンフィルム社製離形フィルムの＃２
４、＃３１、＃３４、＃３５、＃３６、＃４３、＃７
０、＃７１、＃７５、＃５０、＃５１、＃５２、＃５
３、＃５４、＃６３や、三菱化学ポリエステル社製のダ
イアホイルＭＲＦタイプ、ＭＲＡタイプ、ＭＲＸタイ
プ、藤森工業社製の１９Ｅ−００１０ＣＨ、リンテック
社製のＰＥＴ３８ＧＳ、ＰＥＴ２５ＧＳ，ＰＥＴ３８１
１、ＰＥＴ２５１１、ＰＥＴ２５Ｘ、ＰＥＴ３８Ｘ、Ｐ
ＥＴ５０Ｘ、ＰＥＴＬ２５Ｘ、ＰＥＴＬ３８Ｘ、ＰＥＴ
Ｌ５０Ｘ、ＰＥＴ２５ＳＫ−１やＰＥＴ３８ＳＫ−１な
どが挙げられる。

【００１４】また、アルキッド樹脂をポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に形成したものとしては、例えば
リンテック社製のＰＥＴ２５ＡＬ−５などが挙げられ
る。剥離剤がアルキッド変性シリコーンであると、本発
明の感光性樹脂積層体を長期間保存した場合でも、剥離
剤が基材フィルムから脱落しにくい為、特に好ましい。
アルキッド変性シリコーンをポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に形成したものとしては、リンテック社製
のＰＥＴ２５Ｘ、ＰＥＴ３８Ｘ、ＰＥＴ５０Ｘ、 ＰＥ
ＴＬ２５Ｘ、ＰＥＴＬ３８Ｘ、ＰＥＴＬ５０Ｘ、ＰＥＴ
２５ＳＫ−１やＰＥＴ３８ＳＫ−１などが挙げられる。

【００１５】剥離剤は単独で用いても良いし、複数の剥
離剤を組み合わせて用いてもよい。また、剥離剤はその
剥離性のコントロール等の目的の為に添加剤等を含有し
ていてもよい。基材フィルム上に塗布する剥離剤の厚み
は０．０１〜１０μｍであり、好ましくは０．０５〜２
μｍである。本発明に用いられる（ｉ）成分のポリウレ
タンプレポリマーは、末端に水酸基を有するポリマーま
たはモノマーとポリイソシアネートから誘導されたポリ
ウレタンの末端イソシアネート基に対して、活性水素を
有する官能基とエチレン性不飽和結合を分子内に共に有
する化合物を反応させることによって得られる。

【００１６】末端に水酸基を有するポリマーとしては、
ポリエステルポリオールやポリエーテルポリオールなど
のポリオールや、末端水酸基を有する１、４−ポリブタ
ジエン、水添または非水添１、２−ポリブタジエン、ブ
タジエン−スチレン共重合体、ブタジエン−アクリロニ
トリル共重合体、末端に水酸基を有するモノマーとして
は、エチレングリコール、プロピレングリコール、テト
ラメチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコールなどのグリコール類や、ジメチロール
プロピオン酸等の分子内にカルボキシル基を有するジオ
ール等が挙げられる。

【００１７】ポリイソシアネートとしては、トルイレン
ジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，4’−ジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、Ｏ−キシリレンジイソシアネ
ート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、ｐ−キシリレ
ンジイソシアネート、α、α’−ジメチル−Ｏ−キシリ
レンジイソシアネート、α、α’−ジメチル−ｍ−キシ
リレンジイソシアネート、α、α’−ジメチル−ｐ−キ
シリレンジイソシアネート、α、α、α’−トリメチル
−Ｏ−キシリレンジイソシアネート、α、α、α’−ト
リメチル−ｍ−キシリレンジイソシアネート、α、α、
α’−トリメチル−ｐ−キシリレンジイソシアネート、
α、α、α’、α’−テトラメチル−Ｏ−キシリレンジ
イソシアネート、α、α、α’、α’−テトラメチル−
ｍ−キシリレンジイソシアネート、α、α、α’、α’
−テトラメチル−ｐ−キシリレンジイソシアネート、シ
クロヘキサンジイソシアネートなどが挙げられる。

【００１８】活性水素を有する官能基とエチレン性不飽
和結合を分子内に共に有する化合物としては、ヒドロキ
シメチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メ
タ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メ
タ）アクリレートなどが挙げられる。（ｉ）成分のポリ
ウレタンプレポリマーのエチレン性不飽和結合濃度は、
２×１０^-4〜１０^-2ｍｏｌ／ｇが好ましい。２×１０^-4
ｍｏｌ／ｇ未満では十分に架橋せず耐サンドブラスト性
の著しい低下を招き、１０^-2ｍｏｌ／ｇを越えると硬化
膜が硬くなり過ぎて耐サンドブラスト性が悪化する。

【００１９】また、（ｉ）成分のポリウレタンプレポリ
マーの数平均分子量は、１，５００〜５０，０００が好
ましい。数平均分子量が１，５００未満の場合耐サンド
ブラスト性が低下するし、５０，０００より大きいと露
光後の現像性が著しく低下する。耐サンドブラスト性及
び現像性の点から２，０００〜３０，０００の数平均分
子量がより好ましい。ここでいう数平均分子量とはＧＰ
Ｃ法によるポリスチレン換算数平均分子量のことであ
る。

【００２０】（ｉ）成分のポリウレタンプレポリマーの
含有量は、感光性樹脂組成物の全重量基準で１０〜７０
重量％、好ましくは２０〜６５重量％、より好ましくは
２５〜６０重量％である。この量が１０重量％未満であ
ると十分な耐サンドブラスト性が得られないし、７０重
量％を越えると十分に架橋せず耐サンドブラスト性が低
下すると共に感度が著しく低下する。（ｉ）成分のポリ
ウレタンプレポリマーはそれぞれ単独で用いてもよい
し、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【００２１】本発明に用いられる（ｉｉ）成分のアルカ
リ可溶性高分子としてはカルボン酸含有ビニル共重合体
やカルボン酸含有セルロース等が挙げられる。カルボン
酸含有ビニル共重合体とは、α、β−不飽和カルボン酸
の中から選ばれる少なくとも１種の第１単量体と、アル
キル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレート、（メタ）アクリルアミドとその窒素
上の水素をアルキル基またはアルコキシ基に置換した化
合物、スチレン及びスチレン誘導体、（メタ）アクリロ
ニトリル、及び（メタ）アクリル酸グリシジルの中から
選ばれる少なくとも１種の第２単量体をビニル共重合し
て得られる化合物である。カルボン酸含有ビニル共重合
体に用いられる第１単量体としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、フマル酸、ケイ皮酸、クロトン酸、イタコン
酸、マレイン酸半エステル等が挙げられ、それぞれ単独
で用いてもよいし２種以上を組み合わせてもよい。カル
ボン酸含有ビニル共重合体における第１単量体の割合
は、１５〜４０重量％、好ましくは２０〜３５重量％で
ある。その割合が１５重量％未満であるとアルカリ水溶
液による現像が困難になる。その割合が４０重量％を越
えると、重合中に溶媒に不溶となる為合成が困難にな
る。

【００２２】カルボン酸含有ビニル共重合体に用いられ
る第２単量体としては、メチル（メタ）アクリレート、
エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）ア
クリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ
−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリ
レート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポ
リプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド、スチレン、α
−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロス
チレン、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリル
酸グリシジル等が挙げられ、それぞれ単独で用いてもよ
いし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【００２３】カルボン酸含有ビニル共重合体における第
２単量体の割合は、６０〜８５重量％、好ましくは６５
〜８０重量％である。カルボン酸含有ビニル共重合体の
重量平均分子量は、２万〜３０万の範囲であり、好まし
くは３万〜１５万である。この場合の重量平均分子量と
はＧＰＣ法によるポリスチレン換算重量平均分子量のこ
とである。この重量平均分子量が２万未満であると、硬
化膜の強度が小さくなる。この重量平均分子量が３０万
を越えると、感光性樹脂組成物の粘度が高くなりすぎ塗
工性が低下する。

【００２４】カルボン酸含有セルロースとしては、セル
ロースアセテートフタレート、ヒドロキシエチル・カル
ボキシメチルセルロース等が挙げられる。アルカリ可溶
性高分子の含有量は、感光性樹脂組成物の全重量基準で
１０〜７０重量％、好ましくは２０〜６５重量％、より
好ましくは２５〜６０重量％である。この量が１０重量
％未満であると、アルカリ現像液に対する分散性が低下
し現像時間が著しく長くなる。この量が７０重量％を越
えると、感光性樹脂層の光硬化が不十分となり、耐サン
ドブラスト性が低下する。

【００２５】本発明に用いられる（ｉｉｉ）成分の、エ
チレン性不飽和付加重合性モノマーとしては、公知の種
類の化合物を使用できる。このようなものとしては、例
えば、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリ
レート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレ
ート、β−ヒドロキシプロピル−β’−（アクリロイル
オキシ）プロピルフタレート、１，４−テトラメチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサン
ジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキ
サンジオールジ（メタ）アクリレート、オクタプロピレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロール
（メタ）アクリレート、２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンジ（メタ）アクリレート、グリセロールト
リ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、ポリオキシエ
チルトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルト
リ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジ
ルエーテルジ（メタ）Aクリレート、ジアリルフタレー
ト、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、４
−ノルマルオクチルフェノキシペンタプロピレングリコ
ールアクリレート、ビス（トリエチレングリコールメタ
クリレート）ノナプロピレングリコール、ビス（テトラ
エチレングリコールメタクリレート）ポリプロピレング
リコール、ビス（トリエチレングリコールメタクリレー
ト）ポリプロピレングリコール、ビス（ジエチレングリ
コールアクリレート）ポリプロピレングリコール、４−
ノルマルオクチルフェノキシペンタエチレングリコール
トリプロピレングリコールアクリレート、フェノキシテ
トラプロピレングリコールテトラエチレングリコールア
クリレート、ビスフェノールＡ系（メタ）アクリル酸エ
ステルモノマーの分子中にエチレンオキシド鎖とプロピ
レンオキシド鎖の双方を含む化合物などが挙げられる。

【００２６】また、ヘキサメチレンジイソシアネート、
トルイレンジイソシアネートなどの多価イソシアネート
化合物と、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
トなどのヒドロキシアクリレート化合物とのウレタン化
化合物なども用いることができる。この場合のウレタン
化化合物はＧＰＣによるポリスチレン換算数平均分子量
で１，５００未満のものである。これらのエチレン性不
飽和付加重合性モノマーはそれぞれ単独で用いてもよい
し、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【００２７】（ｉｉｉ）成分のエチレン性不飽和付加重
合性モノマーの含有量は感光性樹脂組成物の全重量基準
で５〜４０重量％、好ましくは１０〜３５重量％であ
る。その割合が５重量％未満であると十分に架橋せず耐
サンドブラスト性が低下する。その割合が４０重量％を
越えると硬化膜が硬くなりすぎて耐サンドブラスト性が
低下する。

【００２８】本発明に用いられる（ｉｖ）成分の、光重
合開始剤としては、ベンジルジメチルケタール、ベンジ
ルジエチルケタール、ベンジルジプロピルケタール、ベ
ンジルジフェニルケタール、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエ
ーテル、ベンゾインフェニルエーテル、チオキサント
ン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチ
ルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、
４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロ
ピルチオキサントン、２−フルオロチオキサントン、４
−フルオロチオキサントン、２−クロロチオキサント
ン、４−クロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロ
ポキシチオキサントン、ベンゾフェノン、４，４’−ビ
ス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン［ミヒラーズケト
ン］、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノ
ン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン
などの芳香族ケトン類、２−（ｏ−クロロフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体等のビイミダゾ
ール化合物、９−フェニルアクリジン等のアクリジン
類、α、α−ジメトキシ−α−モルホリノ−メチルチオ
フェニルアセトフェノン、２，４，６−トリメチルベン
ゾイルジフェニルホスフィンオキシド、フェニルグリシ
ン、Ｎ−フェニルグリシンさらに１−フェニル−１，２
−プロパンジオン−２−ｏ−ベンゾイルオキシム、２，
３−ジオキソ−３−フェニルプロピオン酸エチル−２−
（ｏ−ベンゾイルカルボニル）−オキシム等のオキシム
エステル類、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸、ｐ−ジエチ
ルアミノ安息香酸及びｐ−ジイソプロピルアミノ安息香
酸及びこれらのアルコールとのエステル化物、ｐ−ヒド
ロキシ安息香酸エステルなどが挙げられる。その中でも
特に２−（ｏ−クロロフェニル）−４、５−ジフェニル
イミダゾリル二量体とミヒラーズケトン若しくは４，
４’−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンの組み合わせ
が好ましい。

【００２９】（ｉｖ）成分の光重合開始剤の含有量は、
感光性樹脂組成物の全重量基準で０．０１〜２０重量
％、好ましくは１〜１０重量％含まれる。この量が０．
０１％より少ないと感度が十分でない。またこの量が２
０重量％より多いと紫外線吸収率が高くなり、感光性樹
脂層の底の部分の硬化が不十分になる。感光性樹脂組成
物の熱安定性、保存安定性を向上させる為に本発明の感
光性樹脂組成物にラジカル重合禁止剤を含有させること
は好ましい。このようなラジカル重合禁止剤としては、
例えばｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ピロ
ガロール、ナフチルアミン、ｔ−ブチルカテコール、塩
化第一銅、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、
２，２’メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフ
ェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。

【００３０】本発明の感光性樹脂組成物には染料、顔料
等の着色物質が含有されていてもよい。このような着色
物質としては、例えばフクシン、フタロシアニングリー
ン、オーラミン塩基、カルコキシドグリーンＳ、パラマ
ジェンタ、クリスタルバイオレット、メチルオレンジ、
ナイルブルー２Ｂ、ビクトリアブルー、マラカイトグリ
ーン、ベイシックブルー２０、ダイヤモンドグリーン等
が挙げられる。

【００３１】また、本発明の感光性樹脂組成物に光照射
により発色する発色系染料を含有させてもよい。このよ
うな発色系染料としては、ロイコ染料とハロゲン化合物
の組み合わせが良く知られている。ロイコ染料として
は、例えばトリス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフ
ェニル）メタン［ロイコクリスタルバイオレット］、ト
リス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）メタ
ン［ロイコマラカイトグリーン］等が挙げられる。一方
ハロゲン化合物としては臭化アミル、臭化イソアミル、
臭化イソブチレン、臭化エチレン、臭化ジフェニルメチ
ル、臭化ベンザル、臭化メチレン、トリブロモメチルフ
ェニルスルホン、四臭化炭素、トリス（２，３−ジブロ
モプロピル）ホスフェート、トリクロロアセトアミド、
ヨウ化アミル、ヨウ化イソブチル、１，１，１−トリク
ロロ−２，２−ビス（ｐ−クロロフェニル）エタン、ヘ
キサクロロエタン等が挙げられる。

【００３２】さらに本発明の感光性樹脂組成物には、必
要に応じて可塑剤等の添加剤を含有させてもよい。この
ような添加剤としては、例えばジエチルフタレート等の
フタル酸エステル類、ｏ−トルエンスルホン酸アミド、
ｐ−トルエンスルホン酸アミド、クエン酸トリブチル、
クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル、ア
セチルクエン酸トリ−ｎ−プロピル、アセチルクエン酸
トリ−ｎ−ブチル、ポリプロピレングリコール、ポリエ
チレングリコール、ポリエチレングリコールアルキルエ
ーテル、ポリプロピレングリコールアルキルエーテル等
が挙げられる。

【００３３】本発明の感光性樹脂組成物のエチレン性不
飽和結合濃度は５．０×１０^-4〜３．０×１０^-3ｍｏｌ
／ｇである。この濃度が５．０×１０^-4ｍｏｌ／ｇ未満
であると、十分な解像度が得られない。またこの濃度が
３．０×１０^-3ｍｏｌ／ｇを超えると硬化膜が硬くなり
すぎて耐サンドブラスト性が低下する。より好ましいエ
チレン性不飽和結合濃度の範囲は８．０×１０^-4〜２．
５×１０^-3ｍｏｌ／ｇである。

【００３４】この場合のエチレン性不飽和結合濃度は、
感光性樹脂組成物中のエチレン性不飽和付加重合性モノ
マー及びポリウレタンプレポリマーが含有する不飽和結
合数を感光性樹脂組成物の総質量で除することにより算
出できる。また、エチレン性不飽和結合濃度は下記の方
法により定量することもできる。すなわち、感光性樹脂
組成物を溶剤に溶解し、過剰のウイス試薬を加えてエチ
レン性不飽和結合を臭素化する。未反応のウイス試薬に
ヨウ化カリウムを加え遊離したヨウ素をチオ硫酸ナトリ
ウムを用いて滴定することにより、エチレン性不飽和結
合濃度を求めることができる。

【００３５】本発明の感光性樹脂積層体には必要に応じ
て保護層（Ｃ）を積層する。感光性樹脂層との密着力に
おいて、感光性樹脂層と支持体との密着力よりも感光性
樹脂層と保護層の密着力が充分小さいことがこの保護層
に必要な特性であり、これにより保護層が容易に剥離で
きる。このようなフィルムとしては、例えばポリエチレ
ンフィルム、ポリプロピレンフィルム等がある。支持体
（Ａ）、感光性樹脂層（Ｂ）、及び保護層（Ｃ）を順次
積層して感光性樹脂積層体を作成する方法は、従来知ら
れている方法で行うことができる。例えば感光性樹脂層
に用いる感光性樹脂組成物を、これらを溶解する溶剤と
混ぜ合わせ均一な溶液にしておき、まず支持体（Ａ）の
予め剥離剤を形成した表面上にバーコーターやロールコ
ーターを用いて塗布して乾燥し、支持体上に感光性樹脂
組成物からなる感光性樹脂層を積層する。次に感光性樹
脂層上に保護層（Ｃ）をラミネートすることにより感光
性樹脂積層体を作成することができる。

【００３６】前記感光性樹脂積層体の感光性樹脂層
（Ｂ）の３６５ｎｍにおける光透過率は２〜３０％であ
ることが好ましい。光透過率が２％未満であると感光性
樹脂層の底の部分の硬化が不十分になり密着性が低下す
る。また光透過率が３０％を超えると解像度が低下す
る。より好ましい光透過率の範囲は３〜２５％である。
光透過率は３６５ｎｍに吸収波長を有する化合物、例え
ば光重合開始剤、染料、顔料、色素、紫外線吸収剤等を
配合し、その配合量を変化させることにより制御するこ
とができる。光透過率は可視紫外分光光度計を用いて容
易に測定することができる。

【００３７】次に、本発明の感光性樹脂積層体を用いて
被加工基材上に微細なパターンを加工する方法の１例に
ついて図２を用いて説明する。図１の感光性樹脂積層体
の保護層を剥がしながら被加工基材上にホットロールラ
ミネーターを用いて密着させるラミネート工程、所望の
微細パターンを有するフォトマスクを支持体上に密着さ
せ活性光線源を用いて露光を施す露光工程、支持体を剥
離した後アルカリ現像液を用いて感光性樹脂層の未露光
部分を溶解除去、微細なレジストパターンを被加工基材
上に形成する現像工程、形成されたレジストパターン上
からブラスト材を吹き付け被加工基材を目的の深さに切
削するサンドブラスト処理工程、レジストパターンをア
ルカリ剥離液を用いて被加工基材から除去する剥離工程
を経て、被加工基材上に微細なパターンを加工すること
ができる。

【００３８】前記露光工程において用いられる活性光線
源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、紫外線蛍光
灯、カーボンアーク灯、キセノンランプなどが挙げられ
る。また、より微細なレジストパターンを得るためには
平行光光源を用いるのがより好ましい。ゴミや異物の影
響を極力少なくしたい場合には、フォトマスクを支持体
上から数十〜数百μｍ浮かせた状態で露光（プロキシミ
ティー露光）する場合もある。

【００３９】前記現像工程において、支持体を感光性樹
脂層から剥離する際に、支持体表面に予め形成された剥
離剤が感光性樹脂層に残っていても、残らなくてもよ
い。現像工程において用いられるアルカリ現像液として
は通常炭酸ナトリウム水溶液や界面活性剤水溶液等が用
いられる。前記サンドブラスト処理工程に用いるブラス
ト材は公知のものが用いられ、例えばＳｉＣ，ＳｉＯ
２、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＣＯ３、ＺｒＯ、ガラス等の２〜
１００μm程度の微粒子が用いられる。

【００４０】前記剥離工程に用いる剥離液としては通常
水酸化ナトリウムや水酸化カリウムの水溶液等が用いら
れる。なお、剥離工程の代わりに高温でレジストパター
ンを焼き飛ばす工程を設けることも可能である。

【００４１】

【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明の実施
形態の例ををさらに詳しく説明する。実施例及び比較例
における評価は次の方法により行った。 （１）最小現像時間 ソーダガラス上に感光性樹脂層を形成し、３０℃の１％
炭酸ナトリウム水溶液をスプレーし、未露光の感光性樹
脂層が溶解するのに要する時間を測定し、これを最小現
像時間とした。

【００４２】（２）レジストライン密着性 露光の際の露光部と未露光部の幅が１：１００の比率の
ラインパターンを通して、露光した。最小現像時間の
１．５倍の現像時間で現像し、硬化レジストラインが正
常に形成されている最小マスク幅をレジストライン密着
性の値とした。この密着性により次の様にランク分けし
た。 ５０μm以下：◎ ５０μmを越え７０μm以下：○ ７０μmを越え１００μm以下：△ １００μmを越える：×

【００４３】（３）レジストライン解像性 露光の際の露光部と未露光部の幅が１：１の比率のライ
ンパターンを通して、露光した。最小現像時間の１．５
倍の現像時間で現像し、硬化レジストラインが正常に形
成されている最小マスク幅をレジストライン密着性の値
とした。この密着性により次の様にランク分けした。 ５０μm以下：◎ ５０μmを越え７０μm以下：○ ７０μmを越え１００μm以下：△ １００μmを越える：×

【００４４】（４）耐サンドブラスト性 感光性樹脂層にフォトマスク無しで全面露光を施した。
次いでブラスト材吐出ノズル−サンプル間距離を１００
ｍｍ、研磨剤塗出圧力０．３ＭＰａ、研磨剤噴射量５０
ｇ／分に設定し、ブラスト材にガラスビーズ＃２００を
使用し、サンドブラストを行った。樹脂層が磨耗して貫
通孔が生じるまでの時間（磨耗時間）を測定した。この
磨耗時間により次の様にランク分けした。 ３０秒未満：× ３０秒以上６０秒未満：△ ６０秒以上：○

【００４５】（５）支持体自動剥離装置による支持体の
剥離性 ソーダガラス、またはガラスペースト塗工済みソーダガ
ラス上に支持体層及び感光性樹脂層をラミネートした。
カバーフィルム剥離装置PSX-3000II（株式会社トクヤマ
製）を用いて、支持体の先端に沿って金属製の圧力車
（ローレット）を移動させつつ押圧して支持体先端を弛
めた後に、支持体先端部分にエアジェットを吹き込んで
支持体を剥離した。圧力車を押し当てる圧力は０．３〜
０．５ＭＰａ、圧力車の移動速度は０．５ｍ／秒とし、
１往復させた。エアジェットの圧力は０．３ＭＰａとし
た。実施例または比較例１つにつき１０枚の基板を用い
て支持体の剥離を行い、支持体が完全に剥離できた基板
枚数を、テストした基板枚数１０枚で除して剥離確率を
算出し、次の様にランク分けした。 支持体の剥離確率１００％ ： ◎ 支持体の剥離確率８０％以上１００％未満 ： ○ 支持体の剥離確率８０％未満 ： △ 支持体の剥離の際に、支持体、感光性樹脂層または基板を損傷した ： ×

【００４６】（６）支持体−感光性樹脂層の接着強度、
感光性樹脂層−ガラスペースト塗工済みソーダガラスの
接着強度 ガラスペースト塗工済みソーダガラス上に支持体層及び
感光性樹脂層をラミネートした後、２３℃、７５％の高
湿下に４８時間放置した。支持体上から１インチ幅に切
れこみを入れ、感光性樹脂層から支持体を引き剥がす際
の接着強度（１８０度ピール強度、引き剥がし速度１０
０ｍｍ／分、以下接着強度１という）と、ガラスペース
ト塗工済みソーダガラスから感光性樹脂層を引き剥がす
際の接着強度（１８０度ピール強度、引き剥がし速度１
００ｍｍ／分、以下接着強度２という）を測定した。

【００４７】

【実施例１〜１２、比較例１〜２】（感光性樹脂積層体
の作成）表１に示す組成の感光性樹脂組成物を混合し、
感光性樹脂組成物の溶液を表２記載の支持体の予め剥離
剤が形成されている表面上にバーコーターを用いて均一
に塗布し、９０℃の乾燥機中で４分間乾燥して４０μm
厚みの感光性樹脂層を形成した。次に、感光性樹脂層の
表面上に３０μm厚みのポリエチレンフィルムを張り合
わせて感光性樹脂積層体を得た。

【００４８】（被加工基材）被加工基材は３ｍｍ厚みの
ソーダガラス及び以下の方法で作成したガラスペースト
塗工済みソーダガラスの２種類を用いた。３ｍｍ厚みの
ソーダガラス上に、プラズマディスプレイ用ガラスペー
スト（日本電気硝子社製 ＰＬＳ−３５５３）をスクリ
ーン印刷法を用いて、ガラスペーストの乾燥後の厚みが
１５０μmとなるようにソーダガラス上に塗布、乾燥し
ガラスペースト塗工済みソーダガラスを作成した。 （ラミネート）感光性樹脂積層体のポリエチレンフィル
ムを剥がしながら、被加工基材にホットロールラミネー
ター（旭化成工業製「ＡＬ−７０」）により１０５℃で
ラミネートした。エア圧力は０．３５ＭＰａとし、ラミ
ネート速度は１．０ｍ／分とした。

【００４９】（露光）支持体越しに感光性樹脂層にフォ
トマスク無しあるいは評価に必要なフォトマスクを通し
て、超高圧水銀ランプ（オーク製作所製ＨＭＷ−８０
１）により１５０ｍＪ／ｃｍ²で露光した。 （現像）支持体を剥離した後、３０℃の１％炭酸ナトリ
ウム水溶液を所定時間スプレーし、感光性樹脂層の未露
光部分を溶解除去した。

【００５０】実施例及び比較例の結果を表２に示す。な
お、表１、表２に示す組成及び支持体の略号は、以下に
示すものである。 Ｐ−１：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／スチレン
／アクリロニトリル（重量比が３０／２５／２５／２
０）の組成を有し重量平均分子量が８万である共重合体
の３５％メチルエチルケトン溶液。 Ｐ−２：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリロ
ニトリル（重量比が２３／５２／２５）の組成を有し重
量平均分子量が１３万である共重合体の３５％メチルエ
チルケトン溶液。 Ｐ−３：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル
酸ｎ−ブチル（重量比が２５／６５／１０）の組成を有
し重量平均分子量が８万である共重合体の２９％メチル
エチルケトン溶液。 Ｐ−４：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル
酸ｎ−ブチル（重量比が２０／４０／４０）の組成を有
し重量平均分子量が１０万である共重合体の２９％メチ
ルエチルケトン溶液。

【００５１】Ｏ−１：ウレタンプレポリマーＡ （ウレタンプレポリマーＡの製造）ポリプロピレングリ
コール（水酸基価７４．８）２００重量部と触媒として
ＢＴＬ０．０１ｇを反応容器に入れよく混合した。そこ
にヘキサメチレンジイソシアネート２７．９重量部を添
加し、良く撹拌してから外温を４０℃から８０℃に昇温
し、そのまま約５時間反応させた後２−ヒドロキシエチ
ルアクリレート（分子量１１６）を８．５重量部添加し
よく撹拌した。約２時間反応させたところで反応を止
め、ウレタンプレポリマーＡを得た。ウレタンプレポリ
マーＡの数平均分子量は１０，０００であった。

【００５２】Ｏ−２：ウレタンプレポリマーＢ （ウレタンプレポリマーＢの製造）ポリ（１，４−ブタ
ンジオールアジペート）ジオール（水酸基価１１２．
２）２００重量部と触媒としてジブチル錫ジラウレート
（以下ＢＴＬと略記する）０．０１ｇを反応容器に入れ
よく混合した。そこにイソホロンジイソシアネート５
１．４重量部を添加し、良く撹拌してから外温を４０℃
から８０℃に昇温し、そのまま約５時間反応させた後２
−ヒドロキシエチルアクリレート（分子量１１６）を
８．３重量部添加しよく撹拌した。約２時間反応させた
ところで反応を止め、ウレタンプレポリマーＢを得た。
ウレタンプレポリマーＢの数平均分子量は１５，０００
であった。

【００５３】Ｏ−３：ウレタンプレポリマーＣ （ウレタンプレポリマーＣの製造）ポリエチレングリコ
ール（水酸基価１１２．２）１５０重量部とポリ（１，
６−ヘキサンジオールアジペート）ジオール（水酸基価
７４．８）５０重量部と触媒としてＢＴＬ０．０１ｇを
反応容器に入れよく混合した。そこにα、α、α‘、
α’−テトラメチル−ｍ−キシリレンジイソシアネート
６０．７重量部を添加し、良く撹拌してから外温を４０
℃から８０℃に昇温し、そのまま約５時間反応させた後
２−ヒドロキシエチルメタクリレート（分子量１３０）
を１７．５重量部添加しよく撹拌した。約２時間反応さ
せたところで反応を止め、ウレタンプレポリマーＣを得
た。ウレタンプレポリマーＣの数平均分子量は５，００
０であった。

【００５４】Ｏ−４：ウレタンプレポリマーＤ （ウレタンプレポリマーＤの製造）ポリ（プロピレング
リコールアジペート）ジオール（水酸基価４４．９）１
００重量部とポリオキシエチレン（ＥＯ）−オキシプロ
ピレン（ＰＯ）ブロック共重合体ジオール（ＥＯ／ＰＯ
モル比１／４、水酸基価４４．９）１００重量部と触媒
としてＢＴＬ０．０１ｇを反応容器に入れよく混合し
た。そこにｍ−キシリレンジイソシアネート１７．８重
量部を添加し、良く撹拌してから外温を４０℃から８０
℃に昇温し、そのまま約５時間反応させた後２−ヒドロ
キシエチルアクリレート（分子量１１６）を３．９重量
部添加しよく撹拌した。約２時間反応させたところで反
応を止め、ウレタンプレポリマーＤを得た。ウレタンプ
レポリマーＤの数平均分子量は２１，０００であった。

【００５５】Ｍ−１：トリメチロールプロパントリアク
リレート Ｍ−２：フェノキシヘキサエチレングリコールアクリレ
ート Ｍ−３：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート Ｍ−４：ヘキサメチレンジイソシアネートとトリプロピ
レングリコールモノメタクリレートとのウレタン化物 Ｍ−５：平均８モルのプロピレンオキサイドを付加した
ポリプロピレングリコールにエチレンオキサイドをさら
に両端にそれぞれ３モル付加したグリコールのジメタク
リレート Ｍ−６：ビスフェノールＡにプロピレンオキシド８モル
とエチレンオキシド８モルを反応させた後メタクリル酸
をエステル結合したジメタクリレート Ｍ−７：ノナエチレングリコールジアクリレート Ｉ−１：ベンジジメチルケタール Ｉ−２：ベンゾフェノン Ｉ−３：２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェ
ニルイミダゾリル二量体 Ｉ−４：２，４−ジエチルチオキサントン Ｉ−５：ミヒラーズケトン Ｉ−６：ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル

【００５６】Ｄ−１：ロイコクリスタルバイオレット Ｄ−２：ダイヤモンドグリーン Ｓ−１：ダイアホイル ＭＲＦ ２５ミクロン厚み（三
菱化学ポリエステル社製） Ｓ−２：ＰＥＴ２５ＳＫ−１ ２５ミクロン厚み（リン
テック社製） Ｓ−３：ＰＥＴＬ２５Ｘ ２５ミクロン厚み（リンテッ
ク社製） Ｓ−４：帝人離形フィルム＃５４ ２５ミクロン厚み
（帝人デュポンフィルム社製） Ｓ−５：１９Ｅ−００１０ＣＨ ２０ミクロン厚み（藤
森工業社製） Ｓ−６：帝人離形フィルム＃５３ ２５ミクロン厚み
（帝人デュポンフィルム社製） Ｓ−７：ポリエチレンテレフタレートフィルム ダイア
ホイル ２０ミクロン厚み（三菱化学ポリエステル社
製）

【００５７】

【表１】

【００５８】

【表２】

【００５９】

【発明の効果】本発明のサンドブラスト用感光性樹脂積
層体は、ガラス、低融点ガラス、セラミック等の被加工
基材、特にプラズマディスプレイパネルに適用する際
に、感度、解像度、密着性に優れ、サンドブラスト用の
マスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まり
よく加工でき、且つ支持体剥離装置を用いた場合に感光
性樹脂層から支持体を容易に剥離できるという効果を有
する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の感光性樹脂積層体の１例を示す断面図
である。

【図２】本発明の感光性樹脂積層体を用いて被加工基材
（ガラス基板、低融点ガラス基板）上に微細なパターン
を加工する方法の１例を示す断面図である。

【符号の説明】

１ 支持体 ２ 感光性樹脂層 ３ 保護層 ４ 被加工基材（ガラス基板、低融点ガラス基板） ５ 活性光線 ６ フォトマスク ７ 感光性樹脂層（光硬化部分）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/40 ５２１ Ｇ０３Ｆ 7/40 ５２１ ５Ｃ０２７ Ｈ０１Ｊ 9/02 Ｈ０１Ｊ 9/02 Ｆ ５Ｃ０４０ 11/02 11/02 Ｂ // Ｃ０８Ｆ 2/44 Ｃ０８Ｆ 2/44 Ｃ 2/50 2/50 290/06 290/06 299/06 299/06 Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA02 AA13 AA14 AA16 AB11 AB20 AC01 AD01 BC13 BC42 BC66 BC83 CA00 CB43 DA19 DA33 EA08 FA42 2H096 AA30 BA05 CA02 HA23 4F100 AK01B AK03B AK04 AK12 AK24B AK24K AK25B AK27 AK51B AL05B AR00C AT00A BA02 BA03 BA07 BA10A BA10C CA30B EJ91C GB41 GB90 JB08B JB14B JK06 JL00 JL14 4J011 PA69 PB40 PC02 PC08 QA03 QA12 QA13 QA22 QA24 QA33 QA34 QA45 QA46 QB16 QB19 QB20 RA03 SA14 SA16 SA20 SA22 SA25 SA28 SA34 SA54 SA58 SA64 SA77 SA78 SA82 SA83 SA84 SA88 UA01 VA01 WA01 4J027 AC04 AE02 AG03 AG04 AG05 AG13 AG14 AG23 AG24 AG27 AG33 BA07 BA08 BA19 BA21 BA23 BA24 BA26 CA03 CB10 5C027 AA09 5C040 FA01 FA02 GF02 GF03 GF19 JA17 MA23 MA26

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面に剥離剤が形成された基材フィルム
   からなる支持体（Ａ）に、（ｉ）末端に水酸基を有する
   ポリマーまたはモノマーと、ポリイソシアネートと、活
   性水素を有する官能基とエチレン性不飽和結合を分子内
   に共に有する化合物より得られるポリウレタンプレポリ
   マーと、（ii）アルカリ可溶性高分子と、（iii）エチ
   レン性不飽和付加重合性モノマーと、（iv）光重合開始
   剤を含有する感光性樹脂組成物より成る感光性樹脂層
   （Ｂ）が積層されていることを特徴とするサンドブラス
   ト用感光性樹脂積層体。
2. 【請求項２】 被加工基材上に請求項１記載の感光性樹
   脂積層体を用いて感光性樹脂層を形成し、露光工程、現
   像工程によりレジストパターンを形成した後、サンドブ
   ラスト処理を行うことを特徴とする表面加工方法。
3. 【請求項３】 被加工基材がプラズマディスプレイパネ
   ルである請求項２記載の表面加工方法。