JP2002060719A - Adhesive silicone rubber composition and semiconductor device - Google Patents
Adhesive silicone rubber composition and semiconductor deviceInfo
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- Silicon Polymers (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 (1)1分子中にケイ素原子に結合した
アルケニル基を2個以上含有するオルガノポリシロキサ
ン、(2)1分子中にケイ素原子に結合した水素原子を
2個以上含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサ
ン、(3)接着性付与剤、(4)付加反応触媒を含有す
る接着性シリコーンゴム組成物において、ケイ素原子数
11〜50の環状及び直鎖状の低分子無官能シロキサン
の含有量が3重量%以下であることを特徴とする接着性
シリコーンゴム組成物。
【効果】 本発明によれば、半導体チップと取付け部材
との間の接着性が良好で、経時により接着性能が低下す
ることがないため、半導体チップ/ボンディングワイヤ
ー或いはボンディングワイヤー/リードフレーム間の接
続信頼性が低下したり、封止材の半導体チップ、取付け
部、リードフレームヘの接着性が悪化し、装置の耐湿性
が低下するといった問題を生じることがなく、半導体チ
ップ取付け用の接着剤(ダイボンド剤)として良好に使
用することができる。(57) Abstract: (1) An organopolysiloxane containing two or more alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule, and (2) Two hydrogen atoms bonded to a silicon atom in one molecule. In an adhesive silicone rubber composition containing at least one organohydrogenpolysiloxane, (3) an adhesion-imparting agent, and (4) an addition reaction catalyst, a cyclic or linear low-molecular compound having 11 to 50 silicon atoms. An adhesive silicone rubber composition having a nonfunctional siloxane content of 3% by weight or less. According to the present invention, since the adhesiveness between the semiconductor chip and the mounting member is good and the adhesive performance does not decrease over time, the connection between the semiconductor chip / bonding wire or the bonding wire / lead frame is achieved. Adhesives for attaching semiconductor chips (without problems such as a decrease in reliability, a decrease in adhesion of the sealing material to the semiconductor chip, the mounting portion, and the lead frame, and a decrease in moisture resistance of the device) do not occur. (A die bonding agent).
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、接着性シリコーン
ゴム組成物に関し、特には半導体チップと取付け部材と
の間の接着に使用される接着性シリコーンゴム組成物及
び半導体装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an adhesive silicone rubber composition, and more particularly to an adhesive silicone rubber composition used for bonding between a semiconductor chip and a mounting member, and a semiconductor device.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、半導体チップの接着には、半導体
チップとタブ等取付け部材との間の応力緩和効果を持つ
シリコーンゴム系接着剤が使用されていた。これらは、
付加硬化タイプであり、接着成分としては、分子中にケ
イ素原子に結合したアルコキシ基と、ケイ素原子に結合
したアルケニル基もしくはケイ素結合水素原子を、それ
ぞれ1個以上含有する有機ケイ素化合物が用いられてき
た(特開昭61−5530号公報、特許第288282
3号公報)。2. Description of the Related Art Conventionally, a silicone rubber-based adhesive having a stress relaxing effect between a semiconductor chip and a mounting member such as a tab has been used for bonding a semiconductor chip. They are,
It is an addition-curable type, and as the adhesive component, an organosilicon compound containing at least one alkoxy group bonded to a silicon atom and at least one silicon-bonded alkenyl group or silicon-bonded hydrogen atom in the molecule has been used. (Japanese Patent Laid-Open No. 61-5530, Patent No. 288282)
No. 3).
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】これらの方法において
は、半導体チップを取付け部に接着した後、半導体チッ
プとリードフレーム等の回路配線とをボンディングワイ
ヤーで接続し、更に封止材により全体を封止するが、使
用中に半導体チップ/ボンディングワイヤー或いはボン
ディングワイヤー/リードフレーム間の接続信頼性が低
下したり、上記封止材の半導体チップ、取付け部、リー
ドフレームヘの接着性が悪化し、装置の耐湿性が低下す
るといった問題があった。In these methods, after bonding a semiconductor chip to a mounting portion, the semiconductor chip and circuit wiring such as a lead frame are connected by bonding wires, and the whole is sealed with a sealing material. However, the connection reliability between the semiconductor chip / bonding wire or the bonding wire / lead frame is reduced during use, or the adhesiveness of the sealing material to the semiconductor chip, the mounting portion, and the lead frame is deteriorated. However, there was a problem that the moisture resistance of the sample was reduced.
【0004】従って、本発明は、半導体チップと取付け
部材との間の接着性が良好で、経時により半導体装置の
信頼性を低下させることのない接着性シリコーンゴム組
成物及び半導体装置を提供することを目的とする。Accordingly, an object of the present invention is to provide an adhesive silicone rubber composition and a semiconductor device which have good adhesiveness between a semiconductor chip and a mounting member and do not deteriorate the reliability of the semiconductor device over time. With the goal.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた
結果、シリコーンゴム組成物中に含まれるアルケニル
基、アルコキシ基、メタクリロキシアルキル基、メルカ
プト基、ケイ素結合水素原子、水酸基、アミノ基、エポ
キシ基等の反応性官能基を分子中に含有しない、ケイ素
原子数11〜50の環状或いは直鎖状低分子シロキサン
が、組成物の加硫硬化後も架橋構造に化学結合により組
み込まれることなく、半導体チップの接着部分から徐々
にブリードしていき、半導体チップ/ボンディングワイ
ヤー或いはボンディングワイヤー/リードフレーム間、
封止材の半導体チップ、取付け部、リードフレームとの
封止、接着部分に浸透していき、離型作用を発現して接
続信頼性の低下、接着性の悪化といった影響を及ぼして
いることを見出し、これらシロキサン含有量を3重量%
以下に削減することにより、上記悪影響を防止できるこ
とを見出し、本発明を完成させた。Means for Solving the Problems and Embodiments of the Invention The present inventors have made intensive studies to achieve the above object, and as a result, have found that the alkenyl group, alkoxy group, methacryloxy group contained in the silicone rubber composition. A cyclic or linear low-molecular-weight siloxane having 11 to 50 silicon atoms, which does not contain a reactive functional group such as an alkyl group, a mercapto group, a silicon-bonded hydrogen atom, a hydroxyl group, an amino group, or an epoxy group in the molecule. Even after the vulcanization and curing of the semiconductor chip, it gradually bleeds from the bonding portion of the semiconductor chip without being incorporated into the crosslinked structure by a chemical bond, and between the semiconductor chip / bonding wire or the bonding wire / lead frame.
Penetration of the sealing material between the semiconductor chip, the mounting part, and the lead frame, and the bonding part, and the release effect is exerted, which has the effect of lowering the connection reliability and deteriorating the adhesiveness. Heading, these siloxane content 3% by weight
The inventors have found that the above-mentioned adverse effects can be prevented by reducing the amount as described below, and completed the present invention.
【0006】従って、本発明は、(1)1分子中にケイ
素原子に結合したアルケニル基を2個以上含有するオル
ガノポリシロキサン、(2)1分子中にケイ素原子に結
合した水素原子を2個以上含有するオルガノハイドロジ
ェンポリシロキサン、(3)接着性付与剤、(4)付加
反応触媒を含有する接着性シリコーンゴム組成物におい
て、ケイ素原子数11〜50の環状及び直鎖状の低分子
無官能シロキサンの含有量が3重量%以下であることを
特徴とする接着性シリコーンゴム組成物を提供する。ま
た、本発明は、半導体チップがタブ等の取付け部材にこ
の接着性シリコーンゴム組成物の硬化物で接着された半
導体装置を提供する。Accordingly, the present invention provides (1) an organopolysiloxane containing two or more alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule, and (2) two hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule. In the adhesive silicone rubber composition containing the above-mentioned organohydrogenpolysiloxane, (3) an adhesion-imparting agent, and (4) an addition reaction catalyst, a cyclic or linear low-molecular-weight compound having 11 to 50 silicon atoms is used. Provided is an adhesive silicone rubber composition having a functional siloxane content of 3% by weight or less. The present invention also provides a semiconductor device in which a semiconductor chip is bonded to a mounting member such as a tab with a cured product of the adhesive silicone rubber composition.
【0007】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の接着性シリコーンゴム組成物の第1成分である
1分子中にケイ素原子に結合するアルケニル基を2個以
上有するオルガノポリシロキサンは、本発明組成物の主
剤(ベースポリマー)となるものであり、下記平均組成
式(1)で示されるものが用いられる。 R1 aSiO(4-a)/2 (1) (式中、R1は互いに同一又は異種の炭素数1〜10、
好ましくは1〜8の非置換又は置換の一価炭化水素基で
あり、aは1.5〜2.8、好ましくは1.8〜2.
5、より好ましくは1.95〜2.05、更に好ましく
は1.98〜2.02の範囲の正数である。)Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The organopolysiloxane having two or more alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule, which is the first component of the adhesive silicone rubber composition of the present invention, is the main component (base polymer) of the composition of the present invention. Yes, those represented by the following average composition formula (1) are used. R 1 a SiO (4-a) / 2 (1) (wherein, R 1 is the same or different and has 1 to 10 carbon atoms;
It is preferably 1 to 8 unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon groups, and a is 1.5 to 2.8, preferably 1.8 to 2.
5, more preferably 1.95 to 2.05, even more preferably 1.98 to 2.02. )
【0008】上記R1で示されるケイ素原子に結合した
非置換又は置換の一価炭化水素基としては、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、
ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オク
チル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基、フェニル
基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール
基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル
基等のアラルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル
基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シ
クロヘキセニル基、オクテニル基等のアルケニル基や、
これらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、
塩素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換したもの、例
えばクロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル
基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2−シアノ
エチル基等が挙げられる。Examples of the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group bonded to the silicon atom represented by R 1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group and a tert-butyl group. , Pentyl group,
Alkyl groups such as neopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, aryl group such as naphthyl group, benzyl group, phenylethyl group, phenylpropyl group, etc. Aralkyl groups, vinyl groups, allyl groups, propenyl groups, isopropenyl groups, butenyl groups, hexenyl groups, cyclohexenyl groups, alkenyl groups such as octenyl groups,
Some or all of the hydrogen atoms of these groups are fluorine, bromine,
Those substituted with a halogen atom such as chlorine, a cyano group, and the like, for example, a chloromethyl group, a chloropropyl group, a bromoethyl group, a 3,3,3-trifluoropropyl group, a 2-cyanoethyl group, and the like can be given.
【0009】この場合、R1のうち少なくとも2個はア
ルケニル基(特に炭素数2〜8のものが好ましく、更に
好ましくは2〜6である)であることが必要である。な
お、アルケニル基の含有量は、ケイ素原子に結合する全
有機基中(即ち、前記平均組成式(1)におけるR1と
しての非置換又は置換の一価炭化水素基中)0.01〜
20モル%、特に0.1〜10モル%とすることが好ま
しい。このアルケニル基は、分子鎖末端のケイ素原子に
結合していても、分子鎖途中のケイ素原子に結合してい
ても、両者に結合していてもよいが、組成物の硬化速
度、硬化物の物性等の点から、本発明で用いるオルガノ
ポリシロキサンは、少なくとも分子鎖末端のケイ素原子
に結合したアルケニル基を含んだものであることが好ま
しい。なお、アルケニル基以外のR1としては、メチル
基、フェニル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基
が好ましい。In this case, at least two of R 1 must be an alkenyl group (especially those having 2 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms). The content of the alkenyl group is 0.01 to 0.01 in all the organic groups bonded to the silicon atom (that is, in the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group as R 1 in the above average composition formula (1)).
It is preferably 20 mol%, particularly preferably 0.1 to 10 mol%. This alkenyl group may be bonded to a silicon atom at the molecular chain end, may be bonded to a silicon atom in the middle of the molecular chain, or may be bonded to both, but the curing rate of the composition, From the viewpoint of physical properties and the like, the organopolysiloxane used in the present invention preferably contains at least an alkenyl group bonded to a silicon atom at a molecular chain terminal. In addition, as R < 1 > other than an alkenyl group, a methyl group, a phenyl group, and a 3,3,3-trifluoropropyl group are preferable.
【0010】上記オルガノポリシロキサンの構造は、通
常は、主鎖がジオルガノシロキサン単位の繰り返しから
なり、分子鎖両末端がトリメチルシロキシ基、ジメチル
フェニルシロキシ基、ジメチルヒドロキシシロキシ基、
ジメチルビニルシロキシ基、トリビニルシロキシ基等の
トリオルガノシロキシ基で封鎖された基本的には直鎖状
構造を有するジオルガノポリシロキサンであるが、部分
的には分岐状構造、環状構造などであってもよい。平均
重合度(重量平均重合度)は100〜100,000、
特に200〜10,000であることが好ましく、また
25℃における粘度は100〜100,000,000
cSt(センチストークス)、特に1,000〜1,0
00,000cStであることが好ましい。The structure of the above-mentioned organopolysiloxane is usually such that the main chain is composed of repeating diorganosiloxane units, and both ends of the molecular chain are trimethylsiloxy, dimethylphenylsiloxy, dimethylhydroxysiloxy,
It is a diorganopolysiloxane basically having a linear structure blocked by a triorganosiloxy group such as a dimethylvinylsiloxy group and a trivinylsiloxy group, but partially has a branched structure or a cyclic structure. You may. The average degree of polymerization (weight average degree of polymerization) is 100 to 100,000,
It is particularly preferably from 200 to 10,000, and the viscosity at 25 ° C is from 100 to 100,000,000.
cSt (centistokes), especially 1,000 to 1,0
It is preferably 00,000 cSt.
【0011】また、このアルケニル基含有オルガノポリ
シロキサンは、ケイ素原子数11〜50の低分子無官能
シロキサンの含有量が3重量%以下、特に2重量%以下
であることが好ましい。The alkenyl group-containing organopolysiloxane preferably has a low molecular weight nonfunctional siloxane having 11 to 50 silicon atoms in an amount of 3% by weight or less, particularly preferably 2% by weight or less.
【0012】第2成分のオルガノハイドロジェンポリシ
ロキサンは、第4成分の付加反応触媒の存在下に、第1
成分のアルケニル基含有オルガノポリシロキサンと付加
反応(ハイドロシリレーション反応)して組成物を硬化
させる架橋剤として作用するものであり、下記平均組成
式(2) R2 bHcSiO(4-b-c)/2 (2) で示され、1分子中に少なくとも2個、好ましくは2〜
200個、より好ましくは3〜100個のケイ素原子結
合水素原子(即ち、Si−H基)を有することが必要で
ある。The organohydrogenpolysiloxane of the second component is reacted with the first component in the presence of an addition reaction catalyst of the fourth component.
It acts as a crosslinking agent to cure the composition by an addition reaction (hydrosilylation reaction) with the alkenyl group-containing organopolysiloxane of the component, and has the following average composition formula (2): R 2 b H c SiO (4-bc ) / 2 represented by (2), and at least two, preferably 2
It is necessary to have 200, more preferably 3 to 100 silicon-bonded hydrogen atoms (i.e. Si-H groups).
【0013】上記式(2)中、R2は炭素数1〜10の
非置換又は置換の一価炭化水素基であり、このR2とし
ては、上記式(1)中のR1として例示したものと同様
の基、好ましくはこれらのうちアルケニル基を除いたも
のと同様の基を挙げることができるが、特にメチル基、
フェニル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基が好
ましい。また、bは0.7〜2.1、cは0.001〜
1.0で、かつb+cは0.8〜3.0を満足する正数
であり、好ましくはbは1.0〜2.0、cは0.01
〜1.0、b+cは1.5〜2.5である。[0013] In the above formula (2), R 2 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, examples of this R 2, exemplified as R 1 in the above formula (1) The same groups as those described above, preferably the same groups as those excluding the alkenyl group can be mentioned, and in particular, a methyl group,
A phenyl group and a 3,3,3-trifluoropropyl group are preferred. B is 0.7 to 2.1, c is 0.001 to
1.0 and b + c is a positive number satisfying 0.8 to 3.0, preferably b is 1.0 to 2.0, and c is 0.01
1.0 and b + c are 1.5 to 2.5.
【0014】1分子中に少なくとも2個、好ましくは3
個以上含有されるSi−H基は、分子鎖末端、分子鎖途
中のいずれに位置していてもよく、またこの両方に位置
するものであってもよい。また、このオルガノハイドロ
ジェンポリシロキサンの分子構造は、直鎖状、環状、分
岐状、三次元網状構造のいずれであってもよいが、1分
子中のケイ素原子の数(又は重合度)は通常2〜300
個、好ましくは4〜150個程度の室温(25℃)で液
状のものが望ましい。At least two, preferably three, in one molecule
The Si-H groups contained in the molecule may be located at the terminal of the molecular chain, at the middle of the molecular chain, or at both of them. The molecular structure of the organohydrogenpolysiloxane may be any of linear, cyclic, branched, and three-dimensional network structures, but the number of silicon atoms (or degree of polymerization) in one molecule is usually 2 to 300
And preferably about 4 to 150 pieces at room temperature (25 ° C.).
【0015】式(2)のオルガノハイドロジェンポリシ
ロキサンとして具体的には、例えば、1,1,3,3−
テトラメチルジシロキサン、メチルハイドロジェンシク
ロポリシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン・
ジメチルシロキサン環状共重合体、両末端トリメチルシ
ロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両
末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メ
チルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端ジメチ
ルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサ
ン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメ
チルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重
合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロ
ジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両
末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシ
ロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン
共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封
鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサ
ン・ジフェニルシロキサン共重合体、(CH3)2HSi
O1/2単位と(CH3)3SiO1/2単位とSiO4/2単位
とからなる共重合体、(CH3)2HSiO1/2単位とS
iO4/2単位とからなる共重合体、(CH3)2HSiO
1/2単位とSiO4/2単位と(C6H5)3SiO1 /2単位と
からなる共重合体などが挙げられる。As the organohydrogenpolysiloxane of the formula (2), specifically, for example, 1,1,3,3-
Tetramethyldisiloxane, methyl hydrogen cyclopolysiloxane, methyl hydrogen siloxane
Dimethylsiloxane cyclic copolymer, both ends trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogenpolysiloxane, both ends trimethylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer, both ends dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane, both ends Dimethyl hydrogen siloxy group-blocked dimethyl siloxane / methyl hydrogen siloxane copolymer, both ends trimethyl siloxy group-blocked methyl hydrogen siloxane / diphenyl siloxane copolymer, both ends trimethyl siloxy group-blocked methyl hydrogen siloxane / diphenyl siloxane / dimethyl siloxane Copolymer, both ends dimethylhydrogensiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane, dimethylsiloxane, diphenylsilane Hexane copolymer, (CH 3) 2 HSi
A copolymer composed of O 1/2 units, (CH 3 ) 3 SiO 1/2 units and SiO 4/2 units, (CH 3 ) 2 HSiO 1/2 units and S
a copolymer composed of iO 4/2 units, (CH 3 ) 2 HSiO
Such as 1/2 units and SiO 4/2 units, and the (C 6 H 5) 3 consisting of SiO 1/2 units copolymers.
【0016】このオルガノハイドロジェンポリシロキサ
ンの配合量は、第1成分のオルガノポリシロキサン10
0部(重量部、以下同じ)に対して0.1〜50部、特
に0.3〜20部とすることが好ましい。また、第2成
分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、第1成
分中のケイ素原子に結合したアルケニル基1モルに対し
て、第2成分中のケイ素原子に結合した水素原子(Si
−H基)の量が0.5〜3モル、特に0.8〜2.5モ
ル程度となる量で配合することもできる。The amount of the organohydrogenpolysiloxane to be used is as follows.
The amount is preferably 0.1 to 50 parts, particularly 0.3 to 20 parts with respect to 0 parts (parts by weight, hereinafter the same). Further, the organohydrogenpolysiloxane of the second component has a hydrogen atom (Si) bonded to a silicon atom in the second component per mole of an alkenyl group bonded to a silicon atom in the first component.
-H group) in an amount of 0.5 to 3 mol, particularly about 0.8 to 2.5 mol.
【0017】第3成分の接着性付与剤は、分子中にケイ
素原子に結合したアルコキシ基及び/又はアルケニルオ
キシ基と、Si−H基、アルケニル基、アクリル基、メ
タクリル基、エポキシ基、メルカプト基、エステル基、
無水カルボキシ基、アミノ基及びアミド基から選ばれる
少なくとも1個の反応性官能基をそれぞれ1個以上含有
する、オルガノシラン或いはケイ素原子数2〜50、好
ましくは4〜20個程度のオルガノシロキサンオリゴマ
ーなどの有機ケイ素化合物が好適に用いられる。この有
機ケイ素化合物は、シリコーンゴム組成物に半導体チッ
プ、取付け部、リードフレーム等への接着性を付与する
ためのものであり、公知のものが使用でき、シリコーン
ゴム組成物の付加加硫を阻害しないものであればよい。The adhesion-imparting agent of the third component includes an alkoxy group and / or an alkenyloxy group bonded to a silicon atom in the molecule, a Si-H group, an alkenyl group, an acryl group, a methacryl group, an epoxy group, and a mercapto group. , Ester group,
An organosilane or an organosiloxane oligomer having 2 to 50, preferably about 4 to 20 silicon atoms, containing at least one reactive functional group selected from an anhydrous carboxy group, an amino group and an amide group. Are preferably used. This organosilicon compound is used for imparting adhesiveness to a semiconductor chip, a mounting portion, a lead frame and the like to the silicone rubber composition, and a known one can be used, which inhibits the addition vulcanization of the silicone rubber composition. Anything that does not need to be used.
【0018】このような有機ケイ素化合物としては、例
えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメ
トキシシラン等のエポキシ官能性基含有アルコキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリ(メトキシエトキシ)シラン等のアル
ケニル基含有アルコキシシラン、γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、N−フェニル−γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基含有
アルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン等のアクリル基又はメタクリル基含有アルコキシ
シラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメ
ルカプト基含有アルコキシシランなどのアルコキシシラ
ンが挙げられるほか、オルガノシロキサンオリゴマーと
して下記のような化合物が挙げられる。Examples of such organosilicon compounds include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane,
Epoxy functional group-containing alkoxysilanes such as β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, alkenyl group-containing alkoxysilanes such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltri (methoxyethoxy) silane, and γ- Aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-phenyl- γ
Amino-containing alkoxysilanes such as aminopropyltrimethoxysilane, acrylic or methacrylic-containing alkoxysilanes such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane and γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, and mercapto such as mercaptopropyltrimethoxysilane. In addition to alkoxysilanes such as group-containing alkoxysilanes, the following compounds may be mentioned as organosiloxane oligomers.
【0019】[0019]
【化1】 Embedded image
【0020】[0020]
【化2】 Embedded image
【0021】上記接着性付与剤の配合量は、第1成分の
アルケニル基含有オルガノポリシロキサン100部に対
し0.1〜10部、特に0.3〜3部とすることが好ま
しい。The compounding amount of the adhesiveness-imparting agent is preferably 0.1 to 10 parts, more preferably 0.3 to 3 parts, per 100 parts of the first component alkenyl group-containing organopolysiloxane.
【0022】第4成分の付加反応触媒としては、白金
黒、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸と1価アル
コールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン類との錯
体、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒、パラジ
ウム系触媒、ロジウム系触媒などの白金族金属触媒が挙
げられる。なお、この付加反応触媒の配合量は触媒量と
することができ、通常、白金族金属として0.5〜1,
000ppm、好ましくは1〜500ppm程度とすれ
ばよい。Examples of the fourth component addition reaction catalyst include platinum black, chloroplatinic acid, chloroplatinic acid, a reaction product of chloroplatinic acid with a monohydric alcohol, a complex of chloroplatinic acid with an olefin, platinum bisacetate. Platinum group metal catalysts such as platinum catalysts such as acetate, palladium catalysts, and rhodium catalysts are exemplified. The amount of the addition reaction catalyst can be a catalytic amount, and is usually 0.5 to 1, as a platinum group metal.
000 ppm, preferably about 1 to 500 ppm.
【0023】本発明には、更に充填材を配合することが
好ましい。充填材は、シリコーンゴム組成物を補強し、
必要なゴム強度を与えるほか、接着作業に必要な粘度を
保つためのものであり、充填材としては補強性シリカ系
充填材及び/又はシリコーンレジンを使用する。補強性
シリカ系充填材としては、ヒュームドシリカ、焼成シリ
カ、沈降シリカ等が挙げられ、その比表面積は50〜4
00m2/g、特に100〜300m2/gのものが好ま
しい。シリコーンレジンとしては、R3SiO 1/2単位、
SiO2単位、RSiO3/2単位、R2SiO2/2単位(R
は水素原子、水酸基、又は同一もしくは異種の飽和もし
くは不飽和の一価炭化水素基であり、そのうち90%以
上が一価炭化水素基)からなり、R3SiO1/2単位は2
0〜70モル%、SiO2単位は20〜70モル%、R
SiO3/2単位は0〜70モル%、R2SiO2/2単位は
0〜50モル%の割合で存在するものが挙げられる。な
お、Rのうち上記一価炭化水素基としては、上記R1で
説明したものと同様のものが挙げられるが、特にメチル
基、ビニル基、フェニル基であることが好ましい。In the present invention, a filler may be further compounded.
preferable. The filler reinforces the silicone rubber composition,
In addition to providing the necessary rubber strength,
It is for keeping, and as filler, reinforcing silica type
Fillers and / or silicone resins are used. Reinforcement
Silica-based fillers include fumed silica and calcined silica.
Mosquito, precipitated silica, etc., whose specific surface area is 50-4
00mTwo/ G, especially 100-300 mTwo/ G is preferred
New As silicone resin, RThreeSiO 1/2unit,
SiOTwoUnit, RSiO3/2Unit, RTwoSiO2/2Unit (R
Is a hydrogen atom, a hydroxyl group, or the same or different
Or unsaturated monovalent hydrocarbon groups, of which 90% or more
Is composed of a monovalent hydrocarbon group)ThreeSiO1/2Unit is 2
0-70 mol%, SiOTwoThe unit is 20-70 mol%, R
SiO3/2The unit is 0 to 70 mol%, RTwoSiO2/2Units
Those which are present at a ratio of 0 to 50 mol% are exemplified. What
The monovalent hydrocarbon group in R includes the above R1so
The same ones as described above, but especially methyl
Group, vinyl group and phenyl group.
【0024】上記充填材の配合量は、第1成分のオルガ
ノポリシロキサン100部に対し0〜400部、特に5
〜100部とすることが好ましい。The amount of the filler is 0 to 400 parts, especially 5 parts, per 100 parts of the first component organopolysiloxane.
It is preferable to set it to 100 parts.
【0025】上述した成分のほか、上記シリコーンゴム
組成物には、シラノール基含有シラン、アルコキシ基含
有シランなどの分散助剤、アセチレンアルコールその他
の付加加硫の制御剤、チタン、アルミニウム、ジルコニ
ウム等の金属のキレート化合物或いはアルコキサイド、
珪藻土、石英粉末、溶融石英粉末、クレー、アルミナ、
水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、タルク等の無
機充填材、セリウム又はセリウム系化合物、酸化チタ
ン、赤ベンガラ、黒ベンガラ、フェライト、酸化亜鉛、
炭酸亜鉛、炭酸マンガン、炭酸マグネシウム、酸化マグ
ネシウムなどの耐熱、耐油向上剤、カーボンブラック、
群青などの着色のための顔料、離型剤、その他通常の付
加加硫型シリコーンゴム組成物に添加される添加剤を適
宜配合することができる。In addition to the above-mentioned components, the silicone rubber composition may contain a dispersing aid such as a silanol group-containing silane or an alkoxy group-containing silane, an acetylene alcohol or other additive vulcanization control agent, or a titanium, aluminum or zirconium or the like. Metal chelate compounds or alkoxides,
Diatomaceous earth, quartz powder, fused quartz powder, clay, alumina,
Aluminum hydroxide, calcium hydroxide, inorganic fillers such as talc, cerium or cerium-based compounds, titanium oxide, red red iron oxide, black red iron oxide, ferrite, zinc oxide,
Heat and oil resistance improvers such as zinc carbonate, manganese carbonate, magnesium carbonate and magnesium oxide, carbon black,
Pigments for coloring, such as ultramarine blue, release agents, and other additives that are added to conventional addition-vulcanized silicone rubber compositions can be appropriately compounded.
【0026】本発明においては、シリコーンゴム組成物
中に含まれるケイ素原子数11〜50の環状及び直鎖状
の低分子無官能シロキサンの合計の含有量を組成物全体
に対して3重量%以下、特に2重量%以下とするもので
ある。この場合、低分子無官能シロキサン含有量は少な
ければ少ない程よいが、1,000ppm程度であれば
大きな影響はない。なお、このケイ素原子数11〜50
の環状及び直鎖状の低分子無官能シロキサンの定量方法
としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(G
PC)、超臨界流体クロマトグラフィ等の分析手段を挙
げることができる。In the present invention, the total content of the cyclic and linear low-molecular-weight nonfunctional siloxanes having 11 to 50 silicon atoms contained in the silicone rubber composition is 3% by weight or less based on the whole composition. , Especially 2% by weight or less. In this case, the content of the low-molecular-weight non-functional siloxane is preferably as small as possible, but is not significantly affected if it is about 1,000 ppm. The number of silicon atoms is 11 to 50.
As a method for quantifying cyclic and linear low-molecular-weight nonfunctional siloxanes, gel permeation chromatography (G
PC) and supercritical fluid chromatography.
【0027】ここで、無官能シロキサンとしては、アル
コキシ基、Si−H基(ケイ素原子結合水素原子)、ア
ルケニル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、
メルカプト基、エステル基、無水カルボキシ基、アミノ
基、アミド基等の、上記アルケニル基含有オルガノポリ
シロキサンやオルガノハイドロジェンポリシロキサン、
更にはシリコーンゴム組成物が接着される基材と反応す
る反応性官能基を有さない、環状及び直鎖状のジオルガ
ノシロキサンであり、代表的にはジメチルポリシロキサ
ン、メチルフェニルポリシロキサン、メチル(3,3,
3−トリフルオロプロピル)ポリシロキサンなどであ
る。Here, the non-functional siloxane includes an alkoxy group, a Si—H group (silicon-bonded hydrogen atom), an alkenyl group, an acryl group, a methacryl group, an epoxy group,
A mercapto group, an ester group, an anhydrous carboxy group, an amino group, an amide group, etc., the alkenyl group-containing organopolysiloxane or organohydrogenpolysiloxane,
Furthermore, cyclic and linear diorganosiloxanes having no reactive functional group that reacts with the substrate to which the silicone rubber composition is adhered, typically dimethylpolysiloxane, methylphenylpolysiloxane, methyl (3,3,
(3-trifluoropropyl) polysiloxane.
【0028】このケイ素原子数11〜50の低分子無官
能シロキサンは、例えば、上記アルケニル基含有オルガ
ノポリシロキサンを、ケイ素原子数3〜6の環状ジオル
ガノポリシロキサンを原料とし、酸或いはアルカリを触
媒とした平衡重合反応により製造する際に、副生成物と
して一定量生成するものであるが、本発明においては、
ケイ素原子数11〜50の低分子無官能シロキサンの含
有量を3重量%以下とするものである。アルケニル基、
アルコキシ基、(メタ)アクリロキシアルキル基、メル
カプト基、ケイ素結合水素原子(SiH基)、水酸基、
アミノ基、エポキシ基等の反応性官能基を含有する低分
子シロキサンであれば、シリコーンゴム組成物の加硫の
際に反応性官能基も反応し、オルガノポリシロキサン、
オルガノハイドロジェンポリシロキサン、充填材、半導
体チップ、取付け部、リードフレーム等の被接着体等と
の間に結合が生じるために硬化したシリコーンゴムマト
リックス中での移動が妨げられ、接着部分から外にブリ
ードすることもないので、接続信頼性の低下、接着性の
悪化といった影響は生じないのであるが、このような反
応性官能基を持たない低分子シロキサンの場合は、シリ
コーンゴム組成物の加硫(又は硬化)に際しても、その
移動を妨げる結合が生じないので、加硫後も低分子シロ
キサンはゴム内を自由に移動することができ、最終的に
は、接着部分からブリードして悪影響を生じることにな
る。The low-molecular-weight nonfunctional siloxane having 11 to 50 silicon atoms is obtained, for example, by using the above alkenyl group-containing organopolysiloxane as a starting material, using a cyclic diorganopolysiloxane having 3 to 6 silicon atoms as a raw material, and catalyzing an acid or alkali. When produced by an equilibrium polymerization reaction, a certain amount is produced as a by-product, but in the present invention,
The content of the low-molecular-weight nonfunctional siloxane having 11 to 50 silicon atoms is set to 3% by weight or less. Alkenyl group,
Alkoxy group, (meth) acryloxyalkyl group, mercapto group, silicon-bonded hydrogen atom (SiH group), hydroxyl group,
If it is a low-molecular siloxane containing a reactive functional group such as an amino group or an epoxy group, the reactive functional group also reacts during vulcanization of the silicone rubber composition, and an organopolysiloxane,
Bonding between the organohydrogenpolysiloxane, the filler, the semiconductor chip, the mounting portion, the lead frame, and other adherends hinders movement in the cured silicone rubber matrix. Since there is no bleeding, there is no effect such as a decrease in connection reliability or deterioration in adhesiveness.However, in the case of a low-molecular siloxane having no reactive functional group, vulcanization of the silicone rubber composition At the time of (or curing), there is no bond that hinders the movement, so that even after vulcanization, the low-molecular-weight siloxane can move freely in the rubber, and eventually bleeds from the adhesive portion, causing an adverse effect. Will be.
【0029】このような低分子無官能シロキサンの含有
量を3重量%以下にする方法としては、上記第1成分の
アルケニル基含有オルガノポリシロキサンを0.1mm
Hg以下の減圧下で200℃以上に加熱することで、低
分子無官能シロキサンを留去する方法、第1成分のアル
ケニル基含有オルガノポリシロキサンをエタノールで洗
浄することで、低分子無官能シロキサンを除去する方
法、更には、第1成分のアルケニル基含有オルガノポリ
シロキサンの製造方法として、ケイ素原子数3〜6の環
状シロキサンを原料とし、酸或いはアルカリを触媒とし
た平衡重合反応を用いる代わりに、ケイ素原子数3の環
状シロキサンを原料とし、リチウムシラノレート触媒の
存在下で開環重合反応を用いる方法等が挙げられる。As a method for reducing the content of such a low-molecular-weight nonfunctional siloxane to 3% by weight or less, the above-mentioned alkenyl group-containing organopolysiloxane of the first component is 0.1 mm in thickness.
A method of distilling off the low-molecular-weight nonfunctional siloxane by heating to 200 ° C. or higher under a reduced pressure of Hg or less, and washing the low-molecular-weight non-functional siloxane by washing the alkenyl group-containing organopolysiloxane of the first component with ethanol. As a method for removing, and as a method for producing the first component alkenyl group-containing organopolysiloxane, instead of using an equilibrium polymerization reaction in which a cyclic siloxane having 3 to 6 silicon atoms is used as a raw material and an acid or alkali is used as a catalyst, A method using a ring-opening polymerization reaction in the presence of a lithium silanolate catalyst using a cyclic siloxane having 3 silicon atoms as a raw material, and the like can be mentioned.
【0030】かくして得られる接着性シリコーンゴム組
成物は、半導体チップとタブ等取付け部材との間を接着
するための接着剤(ダイボンド剤)として使用すること
ができる。一般に行われているように、接着面の片方或
いは両方に接着剤を塗布し、半導体チップや取付け部材
を密着させた後に、加熱処理(通常100〜250℃)
を行うことで接着することができ、また接着性の更なる
向上のために接着面を予め表面処理、コーティング等を
行うことは差し支えない。The adhesive silicone rubber composition thus obtained can be used as an adhesive (die bonding agent) for bonding between the semiconductor chip and a mounting member such as a tab. As is generally practiced, an adhesive is applied to one or both of the bonding surfaces, and the semiconductor chip and the mounting member are brought into close contact with each other, and then heat-treated (usually at 100 to 250 ° C.).
The surface of the bonded surface may be subjected to surface treatment, coating, or the like in advance to further improve the adhesiveness.
【0031】[0031]
【発明の効果】本発明に係る、アルケニル基、アルコキ
シ基、(メタ)アクリロキシアルキル基、メルカプト
基、ケイ素結合水素原子(SiH基)、水酸基、アミノ
基、エポキシ基等の反応性官能基を分子中に含有しな
い、ケイ素原子数11〜50の環状及び直鎖状の低分子
無官能シロキサン含有量が3重量%以下である付加加硫
型接着性シリコーンゴム組成物は、半導体チップと取付
け部材との間の接着性が良好で、経時により接着性能が
低下することがないため、半導体チップ/ボンディング
ワイヤー或いはボンディングワイヤー/リードフレーム
間の接続信頼性が低下したり、封止材の半導体チップ、
取付け部、リードフレームヘの接着性が悪化し、装置の
耐湿性が低下するといった問題を生じることがなく、半
導体チップ取付け用の接着剤(ダイボンド剤)として良
好に使用することができる。According to the present invention, a reactive functional group such as an alkenyl group, an alkoxy group, a (meth) acryloxyalkyl group, a mercapto group, a silicon-bonded hydrogen atom (SiH group), a hydroxyl group, an amino group or an epoxy group is used. An addition-curable adhesive silicone rubber composition having a cyclic and linear low-molecular-weight nonfunctional siloxane having 11 to 50 silicon atoms not containing 3% by weight or less in a molecule comprises a semiconductor chip and a mounting member. And the bonding performance between the semiconductor chip and the bonding wire or between the bonding wire and the lead frame is reduced, or the sealing material of the semiconductor chip,
Adhesion to the mounting portion and the lead frame is not deteriorated, and there is no problem that the moisture resistance of the device is deteriorated, and the device can be favorably used as an adhesive (die bonding agent) for mounting a semiconductor chip.
【0032】[0032]
【実施例】以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。なお、下記の例において部は重量部を示
す。EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. In addition, in the following examples, a part shows a weight part.
【0033】[実施例1]下記式(a)で示される環状
シロキサンを、下記式(b)で示されるリチウムシラノ
レート触媒を用いて重合した後、ビニルジメチルクロロ
シランを用いて中和し、分子鎖両末端がジメチルビニル
シロキシ基で封鎖された粘度が10,000センチスト
ークスのオルガノポリシロキサン(1)を得た。このオ
ルガノポリシロキサン(1)100部、ヒュームドシリ
カ(日本エアロジル社製、商品名エロジル200)30
部、Si−H量0.0050モル/g、重合度100の
オルガノハイドロジェンポリシロキサン5部、環状メチ
ルビニルシロキサン0.8部、下記式(c)で示される
有機ケイ素化合物1部、塩化白金酸の2−エチルヘキサ
ノール溶液(白金含有量2%)0.08部を均一に混合
し、液状シリコーンゴム組成物(1)を得た。ケイ素原
子数11〜50の反応性官能基非含有の環状及び直鎖状
低分子ジメチルシロキサン含有量(GPC測定による、
以下同様)は1.2重量%であった。Example 1 A cyclic siloxane represented by the following formula (a) was polymerized using a lithium silanolate catalyst represented by the following formula (b), and then neutralized with vinyldimethylchlorosilane to give a molecule. An organopolysiloxane (1) having a viscosity of 10,000 centistokes in which both chain ends were blocked with a dimethylvinylsiloxy group was obtained. 100 parts of this organopolysiloxane (1) and 30 fumed silica (trade name Erosil 200, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
, 5 parts of an organohydrogenpolysiloxane having a Si-H content of 0.0050 mol / g and a degree of polymerization of 100, 0.8 part of cyclic methylvinylsiloxane, 1 part of an organosilicon compound represented by the following formula (c), platinum chloride 0.08 parts of a 2-ethylhexanol acid solution (platinum content: 2%) was uniformly mixed to obtain a liquid silicone rubber composition (1). Cyclic and linear low-molecular dimethylsiloxane containing no reactive functional group having 11 to 50 silicon atoms (by GPC measurement,
The same applies hereinafter) was 1.2% by weight.
【化3】 Embedded image
【0034】[比較例1]オルガノポリシロキサン
(1)の代わりに、ケイ素原子数3〜6の環状ジメチル
シロキサンとジビニルテトラメチルジシロキサンを、カ
リウムシラノレートを用いて重合し、エピクロロヒドリ
ンで中和することで得られた分子鎖両末端がジメチルビ
ニルシロキシ基で封鎖された粘度が9,800センチス
トークスのオルガノポリシロキサン(2)を用いた以外
は実施例1と同様の操作を行い、液状シリコーンゴム組
成物(2)を得た。ケイ素原子数11〜50の反応性官
能基非含有の環状及び直鎖状低分子ジメチルシロキサン
含有量は5.5重量%であった。Comparative Example 1 Instead of the organopolysiloxane (1), a cyclic dimethylsiloxane having 3 to 6 silicon atoms and divinyltetramethyldisiloxane were polymerized using potassium silanolate, and then epichlorohydrin was used. The same operation as in Example 1 was carried out except that the organopolysiloxane (2) having a viscosity of 9,800 centistokes in which both ends of the molecular chain obtained by neutralization were blocked with dimethylvinylsiloxy groups was used. A liquid silicone rubber composition (2) was obtained. The content of the cyclic functional group-free low-molecular dimethylsiloxane having 11 to 50 silicon atoms and containing no reactive functional group was 5.5% by weight.
【0035】[実施例2]オルガノポリシロキサン
(2)を、5倍重量のエタノールと混合、撹拌後、静置
してエタノールを分液除去することを3回行った後、1
0mmHg,150℃の条件で3時間ストリップ操作を
行い、オルガノポリシロキサン(3)を得た。Example 2 The organopolysiloxane (2) was mixed with 5-fold weight of ethanol, stirred, allowed to stand, and separated to remove ethanol three times.
Stripping operation was performed for 3 hours under the conditions of 0 mmHg and 150 ° C. to obtain an organopolysiloxane (3).
【0036】オルガノポリシロキサン(1)の代わり
に、オルガノポリシロキサン(3)を用いた以外は実施
例1と同様の操作を行い、液状シリコーンゴム組成物
(3)を得た。ケイ素原子数11〜50の反応性官能基
非含有の環状及び直鎖状低分子ジメチルシロキサン含有
量は0.8重量%であった。A liquid silicone rubber composition (3) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the organopolysiloxane (3) was used instead of the organopolysiloxane (1). The content of cyclic and linear low-molecular-weight dimethylsiloxane containing no reactive functional group having 11 to 50 silicon atoms was 0.8% by weight.
【0037】[比較例2]液状シリコーンゴム組成物
(1)100部に、ケイ素原子数11〜50の環状ジメ
チルシロキサン5.0部を添加混合し、液状シリコーン
ゴム組成物(4)を得た。ケイ素原子数11〜50の反
応性官能基非含有の環状及び直鎖状低分子ジメチルシロ
キサン含有量は5.9重量%となった。Comparative Example 2 To 100 parts of the liquid silicone rubber composition (1), 5.0 parts of a cyclic dimethylsiloxane having 11 to 50 silicon atoms was added and mixed to obtain a liquid silicone rubber composition (4). . The content of the cyclic and linear low-molecular-weight dimethylsiloxane containing no reactive functional group having 11 to 50 silicon atoms was 5.9% by weight.
【0038】次に、上記組成物につき、下記方法で接続
信頼性試験を行った。結果を表1に示す。 [接続信頼性試験]10mm×10mmの半導体ペレッ
トを、上記液状シリコーンゴム組成物を用いて金属製取
付けタブに200℃,60秒の加熱により接着し、次い
で半導体ペレット上のアルミニウム製ボンディングパッ
ドと銅製リードフレームを、金製ワイヤーを用いて超音
波熱圧着により接続した。これをエポキシ樹脂で封止す
ることにより半導体装置を作製した。Next, the above composition was subjected to a connection reliability test by the following method. Table 1 shows the results. [Connection Reliability Test] A semiconductor pellet of 10 mm × 10 mm was adhered to a metal mounting tab by using the above liquid silicone rubber composition by heating at 200 ° C. for 60 seconds. The lead frames were connected by ultrasonic thermocompression bonding using gold wires. This was sealed with an epoxy resin to produce a semiconductor device.
【0039】このようにして作製した半導体装置、この
半導体装置を150℃のオーブン中一定時間放置した後
のもの、この半導体装置を121℃,湿度85%RHの
プレッシャークッカの中に一定時間放置した後のもの、
また、この半導体装置を−65〜150℃の熱負荷を周
期的に繰り返す温度サイクルに一定回数かけたものにつ
いて、通電し、導通不良やリークといった不良の生じた
ものを計数した。試験体は、それぞれ10個試験を行っ
た。The semiconductor device manufactured as described above, and the semiconductor device after leaving it in an oven at 150 ° C. for a certain period of time, and this semiconductor device was left in a pressure cooker at 121 ° C. and a humidity of 85% RH for a certain period of time. The latter one,
In addition, the semiconductor device was subjected to a certain number of temperature cycles in which a thermal load of -65 to 150 ° C. was periodically repeated. For each of the test pieces, 10 tests were performed.
【0040】[0040]
【表1】 [Table 1]
【0041】上記の結果より、半導体ペレットの取付け
タブヘの接着に、ケイ素原子数11〜50の反応性官能
基非含有の環状或いは直鎖状低分子シロキサン含有量が
3重量%を超えて含有する接着性シリコーンゴム組成物
を用いた場合、半導体チップ/ボンディングワイヤー或
いはボンディングワイヤー/リードフレーム間、上記封
止材の半導体チップ、取付け部、リードフレームヘの接
着性が悪化し、不良が発生する。From the above results, the content of the cyclic or linear low-molecular-weight siloxane containing no reactive functional group having 11 to 50 silicon atoms exceeding 3% by weight is contained in the adhesion of the semiconductor pellet to the mounting tab. When the adhesive silicone rubber composition is used, the adhesiveness between the semiconductor chip / bonding wire or the bonding wire / lead frame, the semiconductor chip, the mounting portion, and the lead frame of the sealing material is deteriorated, and a defect occurs.
【0042】これらに対し、本発明の接着性シリコーン
ゴム組成物を用いた場合には、経時による接続信頼性の
低下がなく、優れた信頼性の半導体装置が提供されるこ
とが確認された。On the other hand, it was confirmed that when the adhesive silicone rubber composition of the present invention was used, there was no decrease in connection reliability over time, and a semiconductor device having excellent reliability was provided.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J035 BA02 CA021 CA141 HA01 HB03 LA04 LB02 4J040 EK032 EK041 EK042 EK101 EK102 GA01 GA03 GA13 HA066 HA096 HD30 HD35 HD36 HD37 HD43 JA03 JB02 KA14 KA26 LA06 MA02 MA10 NA20 PA30 5F047 AA11 BA23 BA26 BA33 BB11 BB16 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page F term (reference) 4J035 BA02 CA021 CA141 HA01 HB03 LA04 LB02 4J040 EK032 EK041 EK042 EK101 EK102 GA01 GA03 GA13 HA066 HA096 HD30 HD35 HD36 HD37 HD43 JA03 JB02 KA14 KA26 LA06 MA02 BA10 BA20 BB11 BB16
Claims (3)
アルケニル基を2個以上含有するオルガノポリシロキサ
ン、(2)1分子中にケイ素原子に結合した水素原子を
2個以上含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサ
ン、(3)接着性付与剤、(4)付加反応触媒を含有す
る接着性シリコーンゴム組成物において、ケイ素原子数
11〜50の環状及び直鎖状の低分子無官能シロキサン
の含有量が3重量%以下であることを特徴とする接着性
シリコーンゴム組成物。1. An organopolysiloxane containing two or more alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule, and (2) an organopolysiloxane containing two or more hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule. In an adhesive silicone rubber composition containing a hydrogen polysiloxane, (3) an adhesion-imparting agent, and (4) an addition reaction catalyst, a cyclic and linear low-molecular-weight nonfunctional siloxane having 11 to 50 silicon atoms is contained. An adhesive silicone rubber composition having an amount of 3% by weight or less.
る請求項1記載の組成物。2. The composition according to claim 1, which is used for bonding a semiconductor chip to a mounting portion.
硬化物を介して取付け部に接着してなる半導体装置。3. A semiconductor device comprising a semiconductor chip bonded to a mounting portion via a cured product of the composition according to claim 2.
Priority Applications (1)
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