JP2002060463A - 光硬化性樹脂組成物および立体形状物 - Google Patents
光硬化性樹脂組成物および立体形状物Info
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Abstract
存・使用される場合であっても、造形特性が実質的に変
化せず、所期の性能を有する立体形状物を、同一の造形
条件により安定して造形することができる光硬化性樹脂
組成物を提供すること。 【解決手段】 本発明の光硬化性樹脂組成物は、(A)
オキセタン化合物、(B)エポキシ化合物、(C)光酸
発生剤を含有する立体造形用の光硬化性樹脂組成物であ
って、調製時における水分量が0.3〜1.5重量%で
あることを特徴とする。
Description
に使用する光硬化性樹脂組成物、およびこれを光硬化し
て得られる立体形状物に関する。
的に光照射して硬化樹脂層を形成する工程を繰り返すこ
とにより、当該硬化樹脂層を一体的に積層して立体形状
物を形成する光学的立体造形法が提案されている(特開
昭60−247515号公報、特開昭62−35966
号公報、特開昭62−101408号公報および特開平
5−24119号公報参照)。このような立体造形法に
使用される光硬化性樹脂組成物には、効率的な光造形を
行う観点から、粘度が低くて直ちに平滑な液面を形成す
ることができるとともに、光硬化性が優れていること、
すなわち、光照射によって迅速に硬化するものであるこ
とが要求される。また、当該光硬化性樹脂組成物には、
光硬化時の硬化収縮に起因する反りをはじめとする変形
量が小さいことが要求される。光学的立体造形法により
得られる立体形状物は、デザインを検討するためのモデ
ル、機械部品の試作品などとして用いられるため、造形
精度にも優れていること、すなわち、設計図に忠実な微
細加工が高い精度で施されていること、また、使用条件
に耐え得る十分な機械的強度、さらにこうした機械的特
性が経時的に変化せず安定していることが要求される。
セタン化合物およびエポキシ化合物をカチオン重合性有
機化合物として含有する立体造形用の樹脂組成物につい
て提案している(特開平10−168165号公報参
照)。この樹脂組成物は光硬化性に優れ、当該樹脂組成
物によれば、寸法精度および機械的強度の高い立体形状
物を短時間で造形することができる。
脂組成物は、同一の容器内に収容されて数ヶ月から数年
間にわたって使用されることがある。そして、当該樹脂
組成物が保存・使用される環境条件(温度および湿度)
は、必ずしも一定ではない。このため、光学的立体造形
用の光硬化性樹脂組成物には、保存安定性が良好で、そ
のような環境下に長期にわたり保存された後において
も、その造形特性が変化せず、所期の性能(層間密着性
および造形精度)を有する立体形状物を安定して造形で
きることが望ましい。
ポキシ化合物を含有する上記の樹脂組成物を、通常の使
用環境(例えば、温度10〜30℃,相対湿度20〜8
0%)の下に数カ月間保存すると、当該樹脂組成物が経
時的に水分を吸収(吸湿)し、その造形特性が大きく変
化してしまうという問題がある。この場合、保存前の樹
脂組成物における造形条件と同一の条件で造形しても、
所期の性能を有する立体形状物を得ることができない。
化合物を含有する上記の樹脂組成物を標準的な使用環境
下(温度23℃、相対湿度50%)で、保存・使用した
場合に、当該樹脂組成物は、当該環境における平衡水分
量に達するまで長期間にわたって水分を吸収する。そし
て、保存前における当該樹脂組成物の水分量と、保存後
における当該樹脂組成物の水分量との差に起因して、当
該樹脂組成物の造形特性、例えば、一定の照射エネルギ
ーを受けたときの硬化深度(光照射により形成される硬
化層の厚さ)が大きく変化する。
(低水分量の樹脂組成物)に対する最適な造形条件で長
期間にわたり造形を行うと、経時的な水分量の増加に伴
って、硬化深度が小さくなり、一定時間経過後(保存後
または保存期間中)に得られる立体形状物において、層
間密着性が低下して剥離が発生する。他方、保存後にお
ける当該樹脂組成物(高水分量の樹脂組成物)に対する
最適な造形条件で造形を行うと、初期段階における当該
樹脂組成物の硬化深度が設計値より大きくなり、積層方
向における造形精度が低下してしまう。このような不具
合は、保存・使用環境の湿度が高いほど顕著であり、こ
のため、所期の性能を有する立体形状物を安定的に造形
するための最適条件を設定することはきわめて困難であ
った。
事情に基いてなされたものである。本発明の目的は、通
常の使用環境下(温度10〜30℃,相対湿度20〜8
0%)において長期間にわたり保存・使用される場合で
あっても、造形特性(硬化深度)が実質的に変化せず、
所期の性能(層間密着性および造形精度)を有する立体
形状物を、同一の造形条件により、安定して造形するこ
とができる光硬化性樹脂組成物を提供することにある。
成物は、(A)オキセタン化合物、(B)エポキシ化合
物、(C)光酸発生剤を含有する立体造形用の光硬化性
樹脂組成物であって、調製時における水分量が0.3〜
1.5重量%であることを特徴とする。ここに、「調製
時における水分量」とは、当該樹脂組成物を調製してか
ら48時間以内に測定された水分量をいうものとする。
キセタン化合物、(B)エポキシ化合物、(C)光酸発
生剤を含有する立体造形用の光硬化性樹脂組成物であっ
て、水分量が0.3〜1.5重量%となるように、水を
添加してなることを特徴とする。
下記の形態が好ましい。 〔1〕(D)数平均粒径10〜700nmのエラストマ
ー粒子を含有すること。 〔2〕(A)オキセタン化合物を10〜80重量部、
(B)エポキシ化合物を10〜80重量部、(C)光酸
発生剤を0.1〜10重量部、(D)数平均粒径10〜
700nmのエラストマー粒子を0〜35重量部含有
し、(A)成分、(B)成分、(C)成分および(D)
成分の合計が100重量部であること。 〔3〕温度23℃、相対湿度50%における平衡水分量
に対して、0.5〜1.5倍の水分量となるように、水
を添加してなること。 〔4〕(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成
分および水の混合物を脱泡処理して得られること。
樹脂組成物を光硬化して得られることを特徴とする。
て詳細に説明する。本発明の樹脂組成物は、(A)成分
であるオキセタン化合物と、(B)成分であるエポキシ
化合物と、(C)成分である光酸発生剤と、調製時に添
加された水とが必須の成分として含有され、(D)成分
であるエラストマー粒子が含有されていてもよい。
ン化合物は、下記式(1)で表されるオキセタン環を1
つ以上有する化合物である。
光重合開始剤の存在下で光照射することにより重合反応
や架橋反応を起こす。このようなオキセタン化合物とし
ては、分子中にオキセタン環を1つ以上有する化合物で
あれば、種々のものが使用できる。以下に例示する。
物としては、下記式(2)で示される化合物が挙げられ
る。
硫黄原子を示す。R1 は水素原子;フッ素原子;メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数1
〜6個のアルキル基;トリフルオロメチル基、パーフル
オロエチル基、パーフルオロプロピル基等の炭素原子数
1〜6個のフルオロアルキル基;フェニル基、ナフチル
基等の炭素原子数6〜18のアリール基;フリル基また
はチエニル基を示す。R 2 は、水素原子;メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数1〜6個
のアルキル基;1−プロペニル基、2−プロペニル基、
2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロ
ペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテ
ニル基等の炭素原子数2〜6個のアルケニル基;フェニ
ル基、ナフチル基、アントニル基、フェナントリル基等
の炭素原子数6〜18のアリール基;ベンジル基、フル
オロベンジル基、メトキシベンジル基、フェネチル基、
スチリル基、シンナミル基、エトキシベンジル基等の置
換または非置換の炭素原子数7〜18のアラルキル基;
フェノキシメチル基、フェノキシエチル基等のアリーロ
キシアルキルなどのその他の芳香環を有する基;エチル
カルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニ
ル基等の炭素原子数2〜6個のアルキルカルボニル基;
エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブト
キシカルボニル基等の炭素原子数2〜6個のアルコキシ
カルボニル基;エチルカルバモイル基、プロピルカルバ
モイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイ
ル基等の炭素原子数2〜6個のN−アルキルカルバモイ
ル基等を示す。〕
物としては、下記式(3)で示される化合物が挙げられ
る。
硫黄原子を示し、R1 は、上記式(2)における定義と
同じである。R3 は、エチレン基、プロピレン基、ブチ
レン基等の線状或いは分枝状の、炭素原子数1〜20の
アルキレン基;ポリ(エチレンオキシ)基、ポリ(プロ
ピレンオキシ)基等の線状或いは分枝状の、炭素原子数
1〜120のポリ(アルキレンオキシ)基;プロペニレ
ン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等の線状或
いは分枝状の不飽和炭化水素基;カルボニル基;カルボ
ニル基を含むアルキレン基;分子鎖の途中にカルボキシ
ル基を含むアルキレン基;分子鎖の途中にカルバモイル
基を含むアルキレン基を示す。また、R3は、下記の式
(4)、式(5)および式(6)で示される基から選択
される多価の基であってもよい。〕
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原
子数1〜4個のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素原子数1〜4個のア
ルコキシ基;塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;ニ
トロ基;シアノ基;メルカプト基;低級アルキルカルボ
キシル基;カルボキシル基またはカルバモイル基を示
し、xは1〜4の整数である。〕
硫黄原子、メチレン基、−NH−、−SO−、−SO2
−、−C(CF3 )2 −または−C(CH3 )2 −を示
す。〕
エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数1〜4
個のアルキル基;フェニル基、ナフチル基等の炭素原子
数6〜18のアリール基を示す。yは、0〜200の整
数である。R7 はメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基等の炭素原子数1〜4個のアルキル基;フェニル
基、ナフチル基等の炭素原子数6〜18のアリール基、
または下記式(7)で示される基を示す。〕
エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数1〜4
個のアルキル基;フェニル基、ナフチル基等の炭素原子
数6〜18のアリール基を示す。zは、0〜100の整
数である。〕
キセタン環を有する化合物の具体例としては、例えば下
記式(8)および式(9)示される化合物等が挙げられ
る。
る上記式(3)以外の化合物の具体例として、下記式
(10)で示される化合物等が挙げられる。
(2)における定義と同じである。〕
化合物としては、下記式(11)で示される化合物等が
挙げられる。
は硫黄原子を示し、R1 は、上記式(2)における定義
と同じである。R9 は、3〜10価の有機基を示し、例
えば下記式(12)〜(14)で示される基等の炭素原
子数1〜30の分枝状または線状のアルキレン基、下記
式(15)で示される基等の分枝状ポリ(アルキレンオ
キシ)基または下記式(16)または下記式(17)で
示される線状または分枝状ポリシロキサン含有基等が挙
げられる。jは、R9 の価数に等しい3〜10の整数で
ある。〕
エチル基、プロピル基等の炭素原子数1〜6個のアルキ
ル基を示す。〕
なる1〜10の整数である。〕
化合物の具体例としては、下記式(18)で示される化
合物等が挙げられる。
1〜10個のオキセタン環を有し得る。
(2)における定義と同じであり、R8 は上記式(7)
における定義と同じである。R11はメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等の炭素原子数1〜4のアル
キル基またはトリアルキルシリル基(ここで、アルキル
基は同一または異なり、炭素原子数3〜12のアルキル
基である。トリアルキルシリル基としては、例えばトリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシ
リル基、トリブチルシリル基等を挙げることができ
る。)を示し、rは1〜10の整数である。〕
化合物として、上記の例示化合物の外に、ゲルパーミエ
ーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリ
スチレン換算の数平均分子量が1,000〜5,000
程度の高分子量を有する化合物も挙げられる。このよう
な化合物として、下記の式(20)、式(21)、式
(22)で表される化合物が挙げられる。
タン化合物の具体例としては、3−エチル−3−ヒドロ
キシメチルオキセタン、3−(メタ)アリルオキシメチ
ル−3−エチルオキセタン、(3−エチル−3−オキセ
タニルメトキシ)メチルベンゼン、4−フルオロ−〔1
−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕
ベンゼン、4−メトキシ−〔1−(3−エチル−3−オ
キセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、〔1−(3−
エチル−3−オキセタニルメトキシ)エチル〕フェニル
エーテル、イソブトキシメチル(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、イソボルニルオキシエチル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、イ
ソボルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エ
ーテル、2−エチルヘキシル(3−エチル−3−オキセ
タニルメチル)エーテル、エチルジエチレングリコール
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジ
シクロペンタジエン(3−エチル−3−オキセタニルメ
チル)エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル(3
−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシク
ロペンテニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)
エーテル、テトラヒドロフルフリル(3−エチル−3−
オキセタニルメチル)エーテル、テトラブロモフェニル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2
−テトラブロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オ
キセタニルメチル)エーテル、トリブロモフェニル(3
−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−ト
リブロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オキセタ
ニルメチル)エーテル、2−ヒドロキシエチル(3−エ
チル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−ヒドロ
キシプロピル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)
エーテル、ブトキシエチル(3−エチル−3−オキセタ
ニルメチル)エーテル、ペンタクロロフェニル(3−エ
チル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタブロ
モフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エ
ーテル、ボルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチ
ル)エーテル等を挙げることができる。
キセタン化合物の具体例としては、3, 7−ビス(3−
オキセタニル)−5−オキサ−ノナン、3, 3’−
(1, 3−(2−メチレニル)プロパンジイルビス(オ
キシメチレン))ビス−(3−エチルオキセタン)、
1, 4−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニルメトキ
シ)メチル〕ベンゼン、1, 2−ビス[(3−エチル−
3−オキセタニルメトキシ)メチル]エタン、1, 3−
ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチ
ル]プロパン、エチレングリコールビス(3−エチル−
3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニ
ルビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、トリエチレングリコールビス(3−エチル−3−オ
キセタニルメチル)エーテル、テトラエチレングリコー
ルビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、トリシクロデカンジイルジメチレン(3−エチル−
3−オキセタニルメチル)エーテル、トリメチロールプ
ロパントリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)
エーテル、1, 4−ビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメトキシ)ブタン、1, 6−ビス(3−エチル−3−
オキセタニルメトキシ)ヘキサン、ペンタエリスリトー
ルトリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エー
テル、ペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−
3−オキセタニルメチル)エーテル、ポリエチレングリ
コールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エ
ーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチ
ル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリ
スリトールペンタキス(3−エチル−3−オキセタニル
メチル)エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カ
プロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カ
プロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジ
トリメチロールプロパンテトラキス(3−エチル−3−
オキセタニルメチル)エーテル、エチレンオキシド(E
O)変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、プロピレンオキシド(P
O)変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、EO変性水添ビスフェノー
ルAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エー
テル、PO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル
−3−オキセタニルメチル)エーテル、EO変性ビスフ
ェノールF(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エ
ーテルなどを挙げることができる。
種以上を組み合わせて(A)成分を構成することができ
る。
用することのできるオキセタン化合物は、分子中のオキ
セタン環の数が1〜10、より好ましくは1〜4、特に
好ましくは2の化合物である。具体的には、下記式(2
3)で示される(3−エチル−3−オキセタニルメトキ
シ)メチルベンゼン、下記式(24)で示される1,4
−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メ
チル]ベンゼン、下記式(25)で示される1, 2−ビ
ス(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)エタン、
下記式(26)で示されるトリメチロールプロパントリ
ス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
および上記式(19)で表される化合物が挙げられる。
含有割合は、(A)成分、(B)成分、(C)成分およ
び(D)成分の合計を100重量部としたとき、10〜
80重量部であることが好ましく、更に好ましくは20
〜60重量部とされる。(A)成分の含有割合が過小で
ある場合には、得られる樹脂組成物のカチオン重合反応
速度(硬化速度)が小さくなり造形に長時間を要した
り、解像度が低下したりする傾向がある。一方、(A)
成分の含有割合が過大である場合は、得られる樹脂組成
物の硬化物(立体形状物)の靭性が低下したり、硬化速
度が低下したりする傾向にある。
化合物とは、3員環のエチレンオキサイド構造を有する
化合物をいい、オキセタン基など4員環以上の構造を有
する化合物を含まない。エポキシ化合物の1分子中にお
けるエチレンオキサイド構造の数は、1個以上とされ、
好ましくは2〜15個、更に好ましくは2〜8個とされ
る。カチオン重合性有機化合物として、(A)成分とと
もに(B)成分を使用することにより、得られる樹脂組
成物は、(A)成分のみを含有する樹脂組成物と比較し
て光硬化反応速度が大きくなり、光硬化性が向上する。
しては、(i)エポキシシクロヘキシル基を分子中に有
する化合物(エポキシシクロへキシル基含有化合物)、
(ii)グリシジル基を分子中に有する化合物(グリシジ
ル基含有化合物)を挙げることができる。エポキシシク
ロへキシル基含有化合物はカチオン重合性に優れてい
る。また、グリシジル基含有化合物は、重合体に柔軟性
を付与し、重合系のモビリティを増加させ、硬化性を一
層向上させることができる。
物の具体例としては、3, 4−エポキシシクロヘキシル
メチル−3’, 4’−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート、2−(3, 4−エポキシシクロヘキシル−
5, 5−スピロ−3, 4−エポキシ)シクロヘキサン−
メタ−ジオキサン、ビス(3, 4−エポキシシクロヘキ
シルメチル)アジペート、ビス(3, 4−エポキシ−6
−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3, 4−
エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3',4'−エポ
キシ−6' −メチルシクロヘキサンカルボキシレート、
メチレンビス(3, 4−エポキシシクロヘキサン)、エ
チレングリコールのジ(3, 4−エポキシシクロヘキシ
ルメチル)エーテル、エチレンビス(3, 4−エポキシ
シクロヘキサンカルボキシレート)、ε−カプロラクト
ン変性3, 4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,
4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリ
メチルカプロラクトン変性3, 4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3’, 4’−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性
3, 4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’, 4’−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレートなどを挙げる
ことができる。
キシルメチル−3’, 4’−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート、ビス(3, 4−エポキシシクロヘキシ
ルメチル)アジペート、ε−カプロラクトン変性3, 4
−エポキシシクロヘキシルメチル−3’, 4’−エポキ
シシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロ
ラクトン変性3, 4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3’, 4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト、β−メチル−δ−バレロラクトン変性3, 4−エポ
キシシクロヘキシルメチル−3’, 4’−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレートが好ましく、3, 4−エポ
キシシクロヘキシルメチル−3’, 4’−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレート、ビス(3, 4−エポキシ
シクロヘキシルメチル)アジペートが特に好ましい。
きるエポキシシクロヘキシル基含有化合物の市販品とし
ては、UVR−6100、UVR−6105、UVR−
6110、UVR−6128、UVR−6200、UV
R−6216(以上、ユニオンカーバイド社製)、セロ
キサイド2021、セロキサイド2021P、セロキサ
イド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2
085、エポリードGT−300、エポリードGT−3
01、エポリードGT−302、エポリードGT−40
0、エポリード401、エポリード403(以上、ダイ
セル化学工業(株)製)、KRM−2100、KRM−
2110、KRM−2199(以上、旭電化工業(株)
製)などを挙げることができる。
しては、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビス
フェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールS
ジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリ
シジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジル
エーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテ
ル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添
ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェ
ノールSジグリシジルエーテル、1, 4−ブタンジオー
ルジグリシジルエーテル、1, 6−ヘキサンジオールジ
グリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテ
ル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプ
ロピレングリコールジグリシジルエーテル類;エチレン
グリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの
脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレ
ンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテ
ルポリオールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖
二塩基酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級アルコ
ールのモノグリシジルエーテル類;フェノール、クレゾ
ール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキ
サイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモ
ノグリシジルエーテル類;高級脂肪酸のグリシジルエス
テル類などを挙げることができる。
ジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテ
ル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添
ビスフェノールFジグリシジルエーテル、1, 4−ブタ
ンジオールジグリシジルエーテル、1, 6−ヘキサンジ
オールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジ
ルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエ
ーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポ
リプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好まし
い。
きるグリシジル基含有化合物の市販品としては、UVR
−6216(以上、ユニオンカーバイド社製)、グリシ
ドール、AOEX24、サイクロマーA200、(以
上、ダイセル化学工業(株)製)、エピコート828、
エピコート812、エピコート1031、エピコート8
72、エピコートCT508(以上、油化シェル(株)
製)、KRM−2400、KRM−2410、KRM−
2408、KRM−2490、KRM−2720、KR
M−2750(以上、旭電化工業(株)製)などを挙げ
ることができる。
合物として、上記の化合物の外に、GPCで測定したポ
リスチレン換算の数平均分子量1,000〜20,00
0の化合物を含有させることが好ましく、これにより、
得られる樹脂組成物の硬化物の靭性をより良好なものに
することができる。
性不飽和結合基を有する対応化合物の炭素−炭素二重結
合を過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化す
る方法により得られるエポキシ変性化合物;(2) 分子
中にエポキシ基を含有するラジカル重合性モノマーを重
合して得られるエポキシ基含有重合体;(3) 水酸基等
の官能基を有する化合物をエピクロロヒドリンと反応さ
せる方法等のそれ自体公知の製造方法により得られるエ
ポキシ基含有化合物などを挙げることができる。
00〜20,000である化合物を得るためには、上記
(1)のエポキシ変性化合物の場合には、原料であるエ
チレン性不飽和結合基を有する化合物として、ポリスチ
レン換算の数平均分子量が1,000以上20,000
未満のものを使用すればよく、上記(2)のエポキシ基
含有重合体の場合には、所望の重合度のポリマーが得ら
れるように公知の方法で調整すればよい。また、上記
(3)のエポキシ基含有化合物の場合には、原料である
水酸基等の官能基を有する化合物として、ポリスチレン
換算の数平均分子量が1,000以上20,000未満
のものを使用すればよい。上記(1)のエポキシ変性化
合物の市販品としては、Poly bd R−45EP
I(出光石油化学(株)製)、R−15EPI、R−4
5EPI(以上、ナガセ化成工業(株)製)、エポリー
ドPB3600、PB4700(以上、ダイセル化学工
業(株)製)などを挙げることができる。
2種以上を組み合わせて(B)成分を構成することがで
きる。
含有割合は、(A)成分、(B)成分、(C)成分およ
び(D)成分の合計を100重量部としたとき、10〜
80重量部であることが好ましく、更に好ましくは20
〜70重量部とされる。(B)成分の含有割合が過小で
ある場合には、得られる樹脂組成物の光硬化性が低下す
る。一方、(B)成分の含有割合が過大である場合は、
得られる樹脂組成物の粘度が上昇して造形時間が長くな
る傾向がある。
剤は、光などのエネルギー線を受けることによって、
(A)成分および(B)成分のカチオン重合を開始させ
る物質を放出することができる化合物である。ここで、
光などのエネルギー線には、可視光、紫外光、赤外光、
X線、α線、β線、γ線などが含まれる。
て、下記式(27)で表される構造を有するオニウム塩
を挙げることができる。このオニウム塩は、光を受ける
ことによりルイス酸を放出する化合物である。
り、ZはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、
I、Br、ClまたはN≡Nを示し、R12、R13、R14
およびR 15は、同一または異なる有機基を示す。a、
b、cおよびdは、それぞれ0〜3の整数であって、
(a+b+c+d)はZの価数に等しい。Mは、ハロゲ
ン化物錯体〔MXn+m 〕の中心原子を構成する金属また
はメタロイドを示し、例えばB、P、As、Sb、F
e、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、S
c、V、Cr、Mn、Coなどである。Xは例えばF、
Cl、Br等のハロゲン原子であり、mはハロゲン化物
錯体イオンの正味の電荷であり、nはMの原子価であ
る。〕
の具体例としては、ジフェニルヨードニウム、4−メト
キシジフェニルヨードニウム、ビス(4−メチルフェニ
ル)ヨードニウム、ビス(4−tert−ブチルフェニ
ル)ヨードニウム、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニ
ウム、トリフェニルスルホニウム、ジフェニル−4−チ
オフェノキシフェニルスルホニウム、ビス[4−(ジフ
ェニルスルホニオ)−フェニル]スルフィド、ビス[4
−(ジ(4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル)スル
ホニオ)- フェニル] スルフィド、η5 −2, 4−(シ
クロペンタジエニル)[1, 2, 3, 4, 5, 6−η]
−(メチルエチル)−ベンゼン] −鉄(1+)等が挙げ
られる。
n+m ] の具体例としては、テトラフルオロボレート(B
F4 -)、ヘキサフルオロホスフェート(PF6 -)、ヘキ
サフルオロアンチモネート(SbF6 -)、ヘキサフルオ
ロアルセネート(AsF6 -)、ヘキサクロロアンチモネ
ート(SbCl6 -)などが挙げられる。
れるアニオンを有するオニウム塩を使用することができ
る。さらに、過塩素酸イオン(ClO4 - )、トリフル
オロメタンスルフォン酸イオン(CF3 SO3 - )、フ
ルオロスルフォン酸イオン(FSO3 - )、トルエンス
ルフォン酸イオン、トリニトロベンゼンスルフォン酸ア
ニオン、トリニトロトルエンスルフォン酸アニオンなど
の他のアニオンを有するオニウム塩を使用することもで
きる。
として特に有効な光酸発生剤は、芳香族オニウム塩であ
る。例えば特開昭50−151996号公報、特開昭5
0−158680号公報などに記載の芳香族ハロニウム
塩、特開昭50−151997号公報、特開昭52−3
0899号公報、特開昭56−55420号公報、特開
昭55−125105号公報などに記載のVIA族芳香
族オニウム塩、特開昭50−158698号公報などに
記載のVA族芳香族オニウム塩、特開昭56−8428
号公報、特開昭56−149402号公報、特開昭57
−192429号公報などに記載のオキソスルホキソニ
ウム塩、特開昭49−17040号公報などに記載の芳
香族ジアゾニウム塩、米国特許第4, 139, 655号
明細書に記載のチオビリリウム塩などが好ましい。ま
た、鉄/アレン錯体、アルミニウム錯体/光分解ケイ素
化合物系開始剤なども挙げることができる。
きる光酸発生剤の市販品としては、UVI−6950、
UVI−6970、UVI−6974、UVI−699
0(以上、ユニオンカーバイド社製)、アデカオプトマ
ーSP−150、SP−151、SP−170、SP−
172(以上、旭電化工業(株)製)、Irgacur
e 261(以上、チバ・スペシャルティー・ケミカル
ズ(株)製)、CI−2481、CI−2624、CI
−2639、CI−2064(以上、日本曹達(株)
製)、CD−1010、CD−1011、CD−101
2(以上、サートマー社製)、DTS−102、DTS
−103、NAT−103、NDS−103、TPS−
103、MDS−103、MPI−103、BBI−1
03(以上、みどり化学(株)製)、PCI−061
T、PCI−062T、PCI−020T、PCI−0
22T(以上、日本化薬(株)製)などを挙げることが
できる。これらのうち、UVI−6970、UVI−6
974、アデカオプトマーSP−170、SP−17
2、CD−1012、MPI−103は、これらを含有
してなる樹脂組成物に高い光硬化感度を発現させること
ができることから特に好ましい。
上組み合わせて(C)成分を構成することができる。
含有割合は、(A)成分、(B)成分、(C)成分およ
び(D)成分の合計を100重量部としたとき、0.1
〜10重量部であることが好ましく、更に好ましくは
0. 2〜6重量部、特に好ましくは0. 3〜4重量部と
される。(C)成分の含有割合が過小である場合には、
得られる樹脂組成物の光硬化性が低下し、十分な機械的
強度を有する立体形状物を造形することができない。一
方、この含有割合が過大である場合には、得られる樹脂
組成物を光学的立体造形法に供する場合に、適当な光透
過性を得ることができず、硬化深度の制御が困難とな
り、得られる立体形状物の造形精度が低下する傾向があ
る。
(D)成分として、数平均粒径が10〜700nmのエ
ラストマー粒子が含有されていてもよい。(D)成分を
含有する樹脂組成物は、これを含有しない樹脂組成物と
比較して耐衝撃性が向上し、高靱性の硬化物を与えるこ
とができる。(D)成分を構成するエラストマー粒子と
しては、例えばポリブタジエン、ポリイソプレン、ブタ
ジエン/アクリロニトリル共重合体、スチレン/ブタジ
エン共重合体、スチレン/イソプレン共重合体、エチレ
ン/プロピレン共重合体、エチレン/α−オレフィン系
共重合体、エチレン/α−オレフィン/ポリエン共重合
体、アクリルゴム、ブタジエン/(メタ)アクリル酸エ
ステル共重合体、スチレン/ブタジエンブロック共重合
体、スチレン/イソプレンブロック共重合体などからな
る粒子を挙げることができる。
は、架橋構造を有していてもよい。エラストマーの架橋
は、従来公知の方法により実施することができる。エラ
ストマーを架橋するために使用する架橋剤としては、例
えばジビニルベンゼン、エチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ジアリルマレエート、トリアリルシアヌ
レート、トリアリルイソシアヌレート、ジアリルフタレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、メタ
クリル酸アリルなどを例示することができる。
は、上記のエラストマーからなる粒子(コア粒子)の表
面を、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレー
ト/グリシジルメタクリレート共重合体などで被覆した
コア/シェル型の粒子であってもよい。
きるエラストマー粒子としては、例えばポリブタジエ
ン、ポリイソプレン、スチレン/ブタジエン共重合体、
スチレン/イソプレン共重合体、エチレン/プロピレン
共重合体、エチレン/α−オレフィン系共重合体、エチ
レン/α−オレフィン/ポリエン共重合体、アクリルゴ
ム、ブタジエン/(メタ)アクリル酸エステル共重合
体、スチレン/ブタジエンブロック共重合体、スチレン
/イソプレンブロック共重合体などをベース成分とする
エラストマー粒子を挙げることができる。
とのできるコア/シェル型のエラストマー粒子として
は、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン/ブタ
ジエン共重合体、スチレン/イソプレン共重合体、エチ
レン/プロピレン共重合体、エチレン/α−オレフィン
系共重合体、エチレン/α−オレフィン/ポリエン共重
合体、アクリルゴム、ブタジエン/(メタ)アクリル酸
エステル共重合体、スチレン/ブタジエンブロック共重
合体、スチレン/イソプレンブロック共重合体などを部
分架橋してなるコア粒子の表面に、ポリメチルメタクリ
レートからなる被覆層(シェル)が形成されてなるエラ
ストマー粒子;前記コア粒子の表面に、メチルメタクリ
レート/グリシジルメタクリレート共重合体からなる被
覆層(シェル)が形成されてなるエラストマー粒子を例
示することができる。なお、コア/シェル型のエラスト
マー粒子において、コア粒子の半径(R)に対するシェ
ルの厚さ(t)の比(t/R)は、通常1/1000〜
2/1とされ、好ましくは1/200〜1/1である。
タジエン、ポリイソプレン、スチレン/ブタジエン共重
合体、スチレン/イソプレン共重合体、ブタジエン/
(メタ)アクリル酸エステル共重合体、スチレン/ブタ
ジエンブロック共重合体、スチレン/イソプレンブロッ
ク共重合体などの部分架橋物からなるコア粒子の表面
に、ポリメチルメタクリレートからなる被覆層(シェ
ル)が形成されてなるエラストマー粒子;当該部分架橋
物からなるコア粒子の表面に、メチルメタクリレート/
グリシジルメタクリレート共重合体からなる被覆層(シ
ェル)が形成されてなるエラストマー粒子が特に好まし
い。
など従来公知の方法で製造することができる。エラスト
マー粒子を得るための乳化重合法としては、 単量体
成分を全量一括して仕込み重合する方法、 単量体成
分の一部を重合した後、残部を連続的にまたは断続的に
添加する方法、 単量体成分を重合の始めから連続的
に添加する方法、 シード粒子を用いる方法などを採
用することができる。
数平均粒子径は10〜700nmとされ、好ましくは3
0〜300nmとされる。エラストマー粒子の数平均粒
径が10nm未満である場合には、得られる樹脂組成物
により造形される立体形状物が十分な耐衝撃性を有する
ものとならないことがあり、また、得られる樹脂組成物
の粘度が上昇し、立体形状物の生産効率や造形精度に影
響を及ぼすことがある。一方、エラストマー粒子の数平
均粒径が700nmを超える場合には、得られる樹脂組
成物により造形される立体形状物の表面平滑性が損なわ
れたり、造形精度が低下したりする傾向がある。
きるコア/シェル型のエラストマー粒子の市販品として
は、例えばレジナスボンドRKB(レジナス化成(株)
製)、テクノMBS−61、MBS−69(以上、テク
ノポリマー(株)製)などを挙げることができる。
は2種以上組み合わせて(D)成分を構成することがで
きる。
含有割合は、(A)成分、(B)成分、(C)成分およ
び(D)成分の合計を100重量部としたとき、0〜3
5重量部であることが好ましく、更に好ましくは0〜3
0重量部、特に好ましくは0〜20重量部とされる。
(D)成分の含有割合が過大である場合には、最終的に
得られる立体形状物の造形精度が低下する傾向がある。
時における水分量が0.3〜1.5重量%である点に特
徴を有し、請求項2に係る樹脂組成物は、水分量が0.
3〜1.5重量%となるように水を添加して調製されて
いる点に特徴を有するものである。本発明の樹脂組成物
を構成する水(以下、(E)成分ともいう。)として
は、立体造形を阻害する不純物が含まれていなければ特
に制限はないが、イオン交換水または蒸留水であること
が好ましい。
量%の範囲にある樹脂組成物によれば、使用の使用環境
下において長期間にわたり保存・使用されることによっ
ても、当該水分量が大きく変化することはない。この結
果、樹脂組成物の水分量に依存する造形特性(例えば、
一定量の照射エネルギーを受けたときの硬化深度)が実
質的に変化せず、従って、造形条件を変えることなく、
所期の性能を有する立体形状物を安定的に造形すること
ができる。また、調製時に水を添加することにより、後
述する脱泡処理を容易に実施することができる。
量は、通常0.3〜1.5重量%とされ、好ましくは
0.5〜1.0重量%とされる。
であると、通常の使用環境下、特に高湿度環境下に長期
間にわたり保存・使用される場合に、平衡水分量に至る
経時的な水分量の増加に伴って硬化深度が大きく減少
し、初期段階(樹脂組成物の水分量<0.3重量%)に
おける最適条件で造形すると、硬化層間の剥離が発生
し、所期の立体形状物を造形することができない。
用期間中における造形の開始時に、造形装置に付属する
容器内に収容された当該樹脂組成物(水分量<平衡水分
量)に水を添加することも考えられるが、環境条件(湿
度)などを考慮して適正な添加量を決定することはきわ
めて困難であって現実的ではない。また、容器内に収容
された樹脂組成物中に水を均一に含有させることは困難
である。
%を超えると、長期間にわたり保存・使用される場合
に、平衡水分量に至る経時的な水分量の減少に伴って硬
化深度が大きく増加し、初期段階(樹脂組成物の水分量
>1.5重量%)における最適条件で造形すると、積層
方向における造形精度が低下して、所期の立体形状物を
造形することができない。
る水分量は、0.3〜1.5重量%の範囲内であって、
かつ、標準的な使用環境である温度23℃、相対湿度5
0%における平衡水分量の0.5〜1.5倍であること
が好ましく、平衡水分量と一致させることが最も好まし
い。これにより、当該平衡水分量に至る水分量の経時的
変化を小さくすることができ、造形特性に対して影響を
与えることがない。
成物には、本発明の効果が損なわれない範囲内におい
て、上記の(A)成分、(B)成分、(C)成分、
(D)成分および(E)成分以外の成分を必要に応じて
含有させることができる。
成物の光硬化性、光造形により得られる立体形状物の形
状安定性(経時的変形の抑制性能)および形状安定性
(機械的特性の経時的変化の抑制性能)を発現させるた
めにポリオールを含有させることができる。使用される
ポリオールは、好ましくは1分子中に2個以上、さらに
好ましくは1分子中に2〜6個の水酸基を有するもので
ある。1分子中に有する水酸基の数が2個未満のポリオ
ールを使用すると、光硬化性の向上効果が十分ではな
く、また、得られる立体形状物の機械的特性、特に弾性
率が低下する傾向がある。一方、1分子中に6個を超え
るポリオールを含有させる場合には、得られる立体形状
物の伸びが低下する傾向が見られるとともに耐湿性に問
題を生じる傾向がある。
ーテルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、2
塩基酸とジオールとからなるポリエステルで変性するこ
とにより得られるポリエステルポリオール等を挙げるこ
とができる。
オールが好ましい。例えば、トリメチロールプロパン、
グリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ス
クロース、クオドロールなどの3価以上の多価アルコー
ルを、エチレンオキシド(EO)、プロピレンオキシド
(PO)、ブチレンオキシド、テトラヒドロフランなど
の環状エーテル化合物で変性することにより得られるポ
リエーテルポリオールを挙げることができる。具体的に
は、EO変性トリメチロールプロパン、PO変性トリメ
チロールプロパン、テトラヒドロフラン変性トリメチロ
ールプロパン、EO変性グリセリン、PO変性グリセリ
ン、テトラヒドロフラン変性グリセリン、EO変性ペン
タエリスリトール、PO変性ペンタエリスリトール、テ
トラヒドロフラン変性ペンタエリスリトール、EO変性
ソルビトール、PO変性ソルビトール、EO変性スクロ
ース、PO変性スクロース、EO変性スクロース、EO
変性クオドール、ポリオキシエチレンジオール、ポリオ
キシプロピレンジオール、ポリオキシテトラメチレンジ
オール、ポリオキシブチレンジオール、ポリオキシブチ
レン−オキシエチレン共重合ジオールなどを例示するこ
とができる。これらのうち、EO変性トリメチロールプ
ロパン、PO変性トリメチロールプロパン、PO変性グ
リセリン、PO変性ソルビトールが好ましい。
ールの市販品としては、サンニックスTP−400、サ
ンニックスGP−600、サンニックスGP−100
0、サンニックスSP−750、サンニックスGP−2
50、サンニックスGP−400、サンニックスGP−
600(以上、三洋化成(株)製)、TMP−3Gly
col、PNT−4Glycol、EDA−P−4、E
DA−P−8(以上、日本乳化剤(株)製)、G−30
0、G−400、G−700、T−400、EDP−4
50、SP−600、SC−800(以上、旭電化工業
(株)製)などを挙げることができる。
は、カプロラクトン変性トリメチロールプロパン、カプ
ロラクトン変性グリセリン、カプロラクトン変性ペンタ
エリスリトール、カプロラクトン変性ソルビトールなど
を挙げることができる。
しては、TONE0301、TONE0305、TON
E0310(以上、ユニオンカーバイト社)、ポリエス
テルポリオールの市販品としては、プラクセル303、
プラクセル305、プラクセル308(以上、ダイセル
化学工業(株))などを挙げることができる。
2種以上組み合わせて使用することができる。
50, 000であることが好ましく、更に好ましくは1
60〜20, 000とされる。分子量が過小なポリオー
ルを使用すると、得られる樹脂組成物によっては、形状
安定性および物性安定性を有する立体形状物を得ること
が困難となることがある。一方、分子量が過大なポリオ
ールを使用すると、得られる樹脂組成物の粘度が過大と
なり、光造形により得られる立体形状物の弾性率が低下
するおそれがある。
の機械強度の向上や、造形時間の短縮のためにラジカル
重合性化合物であるエチレン性不飽和モノマーを併用す
ることができる。エチレン性不飽和モノマーは、エチレ
ン性不飽和結合(C=C)を分子中に有する化合物であ
り、1分子中に1個のエチレン性不飽和結合を有する単
官能モノマー、および1分子中に2個以上のエチレン性
不飽和結合を有する多官能モノマーを挙げることができ
る。
を有する単官能性モノマーとしては、例えばアクリルア
ミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、7−アミノ−
3,7−ジメチルオクチル(メタ)アクリレート、イソ
ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、イソボルニル
オキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メ
タ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリ
レート、エチルジエチレングリコール(メタ)アクリレ
ート、t−オクチル(メタ)アクリルアミド、ジアセト
ン(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノエチル(メ
タ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アク
リレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ジシクロペ
ンタジエン(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル
オキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニ
ル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチル(メタ)ア
クリルアミドテトラクロロフェニル(メタ)アクリレー
ト、2−テトラクロロフェノキシエチル(メタ)アクリ
レート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレー
ト、テトラブロモフェニル(メタ)アクリレート、2−
テトラブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、
2−トリクロロフェノキシエチル(メタ)アクリレー
ト、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、2−ト
リブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキ
シプロピル(メタ)アクリレート、ビニルカプロラクタ
ム、N−ビニルピロリドン、フェノキシエチル(メタ)
アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、
ペンタクロロフェニル(メタ)アクリレート、ペンタブ
ロモフェニル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリ
コールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリ
コールモノ(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)ア
クリレート、メチルトリエチレンジグリコール(メタ)
アクリレート、および下記式(28)〜(30)で表さ
れる化合物を例示することができ、これらは1種単独で
あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
水素原子またはメチル基を示し、R17は炭素原子数2〜
6、好ましくは2〜4のアルキレン基を示し、R18は水
素原子または炭素原子数1〜12、好ましくは1〜9の
アルキル基を示し、R19は炭素原子数2〜8、好ましく
は2〜5のアルキレン基を示す。eは0〜12、好まし
くは1〜8の整数であり、fは1〜8、好ましくは1〜
4の整数である。〕これらの単官能性モノマーうち、イ
ソボルニル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)ア
クリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレートが
好ましいが、これら例示に限定されるものではない。
は、例えばアロニックスM−101、M−102、M−
111、M−113、M−117、M−152、TO−
1210(以上、東亞合成(株))、カヤラッドTC−
110S、R−564、R−128H(以上、日本化薬
(株))、ビスコート192、ビスコート220、ビス
コート2311HP、ビスコート2000、ビスコート
2100、ビスコート2150、ビスコート8F、ビス
コート17F(以上、大阪有機化学工業(株))などの
商品名で入手可能なものを挙げることができる。
合基を有する多官能性モノマーとしては、例えばエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテ
ニルジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコール
ジアクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリシクロデカンジイルジメチレンジ
(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリス
(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メ
タ)アクリレート、カプロラクトン変性トリス(2−ヒ
ドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレ
ート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテル
の両末端(メタ)アクリル酸付加物、1,4−ブタンジ
オールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオ
ールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリ
レート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエ
リスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、EO変性
ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、PO変性ビ
スフェノールAジ(メタ)アクリレート、EO変性水添
ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、PO変性水
添ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、EO変性
ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、フェノール
ノボラックポリグリシジルエーテルの(メタ)アクリレ
ートなどを例示することができ、これらは1種単独であ
るいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO
変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、カ
プロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロー
ルプロパンテトラ(メタ)アクリレートが好ましいが、
これら例示に限定されるものではない。
は、例えばSA1002(以上、三菱化学(株))、ビ
スコート195、ビスコート230、ビスコート26
0、ビスコート215、ビスコート310、ビスコート
214HP、ビスコート295、ビスコート300、ビ
スコート360、ビスコートGPT、ビスコート40
0、ビスコート700、ビスコート540、ビスコート
3000、ビスコート3700(以上、大阪有機化学工
業(株))、カヤラッドR−526、HDDA、NPG
DA、TPGDA、MANDA、R−551、R−71
2、R−604、R−684、PET−30、GPO−
303、TMPTA、THE−330、DPHA、DP
HA−2H、DPHA−2C、DPHA−2I、D−3
10、D−330、DPCA−20、DPCA−30、
DPCA−60、DPCA−120、DN−0075、
DN−2475、T−1420、T−2020、T−2
040、TPA−320、TPA−330、RP−10
40、RP−2040、R−011、R−300、R−
205(以上、日本化薬(株))、アロニックスM−2
10、M−220、M−233、M−240、M−21
5、M−305、M−309、M−310、M−31
5、M−325、M−400、M−6200、M−64
00(以上、東亞合成(株))、ライトアクリレートB
P−4EA、BP−4PA、BP−2EA、BP−2P
A、DCP−A(以上、共栄社化学(株))、ニューフ
ロンティアBPE−4、TEICA、BR−42M、G
X−8345(以上、第一工業製薬(株))、ASF−
400(以上、新日鐵化学(株))、リポキシSP−1
506、SP−1507、SP−1509、VR−7
7、SP−4010、SP−4060(以上、昭和高分
子(株))、NKエステルA−BPE−4(以上、新中
村化学工業(株))などの商品名で入手のものを挙げる
ことができる。
示されたトリ(メタ)アクリレート化合物、テトラ(メ
タ)アクリレート化合物、ペンタ(メタ)アクリレート
化合物、ヘキサ(メタ)アクリレート化合物が好まし
く、これらのうち、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテ
トラ(メタ)アクリレートが特に好ましいが、これら例
示に限定されるものではない。
含有させる場合には、そのラジカル重合反応を開始させ
るために、通常、ラジカル性光重合開始剤が添加され
る。ラジカル性光重合開始剤は、光などのエネルギー線
を受けることにより分解し、発生するフリーラジカルに
よってエチレン性不飽和モノマーのラジカル重合反応を
開始させる化合物であり、通常のラジカル性光重合開始
剤を使用することができる。
ラジカル性光重合開始剤を使用することができる。例え
ばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、
アントラキノン、1−(4−イソプロピルフェニル)−
2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、カル
バゾール、キサントン、4−クロロベンゾフェノン、
4,4’−ジアミノベンゾフェノン、1,1−ジメトキ
シデオキシベンゾイン、3,3’−ジメチル−4−メト
キシベンゾフェノン、チオキサントン系化合物、2−メ
チル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モル
フォリノ−プロパン−2−オン、2−ベンジル−2−ジ
メチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブ
タン−1−オン、トリフェニルアミン、2,4,6−ト
リメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、
ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−
トリ−メチルベンチルフォスフィンオキサイド、ベンジ
ルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェ
ニルプロパン−1−オン、フルオレノン、フルオレン、
ベンズアルデヒド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ
インプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケト
ン、3−メチルアセトフェノン、3,3’,4,4’−
テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェ
ノン(BTTB)、およびBTTBとキサンテン、チオ
キサンテン、クマリン、ケトクマリンその他の色素増感
剤との組み合わせなどを挙げることができる。これらの
うち、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、2,4,6−トリメチルベ
ンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2−ベンジ
ル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェ
ニル)−ブタン−1−オンなどが特に好ましいが、これ
ら例示に限定されるものではない。
の効果を損なわない範囲において、光増感剤(重合促進
剤)、反応性希釈剤などを含有させることができる。光
増感剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタ
ノールアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミンなど
のアミン系化合物;チオキサントン、チオキサントンの
誘導体、アントラキノン、アントラキノンの誘導体、ア
ントラセン、アントラセンの誘導体、ペリレン、ペリレ
ンの誘導体、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピル
エーテルなどからなる光増感剤などを挙げることができ
る。また、反応性希釈剤としては、(A)成分および
(B)成分と共重合可能なカチオン重合性物質であっ
て、得られる樹脂組成物の溶液粘度を低下させるものが
好ましい。
本発明の効果を損なわない範囲において、各種の添加剤
が含有されていてもよい。かかる添加剤としては、エポ
キシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタ
ン、ポリブタジエン、ポリクロロプレン、ポリエーテ
ル、ポリエステル、スチレン−ブタジエン−スチレンブ
ロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹
脂、セルロース樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコーン
系オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマーなどのポリ
マーないしオリゴマー;フェノチアジン、2,6−ジ−
t−ブチル−4−メチルフェノール等の重合禁止剤;重
合開始助剤;老化防止剤;レベリング剤;濡れ性改良
剤;界面活性剤;可塑剤;紫外線吸収剤;シランカップ
リング剤;無機充填剤;顔料;染料などを挙げることが
できる。
性樹脂組成物は、上記の(A)成分、(B)成分、
(C)成分および(E)成分(水)、並びに、必要に応
じて、上記の(D)成分および各種の任意成分を均一に
混合することによって調製することができる。
を調製する場合において、各成分を混合後、濾過により
異物を除去し、更に脱泡処理を行うことが好ましい。脱
泡処理を行うことにより、得られる樹脂組成物の硬化物
(立体形状物)において、造形精度の低下および外観不
良の原因となる気泡の残存を防止することができる。脱
泡処理の方法としては、減圧することにより樹脂組成物
中の気泡を強制的に除去する方法、樹脂組成物を加温す
ることにより粘度を低下させ、当該樹脂組成物の表面に
集まる気泡を除去する方法など特に限定されるものでは
ない。
脂組成物の粘度(25℃)は50〜2, 000mPa・
sであることが好ましく、更に好ましくは70〜1,5
00mPa・sとされる。
脂組成物は、光学的立体造形法における光硬化性の液状
樹脂組成物として好適に使用される。すなわち、本発明
の樹脂組成物に対して、可視光、紫外光、赤外光などの
光を選択的に照射して硬化樹脂層を形成する工程を繰り
返すことにより、硬化樹脂層が一体的に積層されてな
る、所望の形状の立体形状物を製造することができる。
に照射する手段としては、特に制限されるものではな
く、種々の手段を採用することができる。例えば、
レーザ光、あるいはレンズやミラー等を用いて得られた
収束光を走査させながら組成物に照射する手段、 所
定のパターンの光透過部を有するマスクを用い、このマ
スクを介して非収束光を組成物に照射する手段、 多
数の光ファイバーが束ねられてなる導光部材を用い、こ
の導光部材における所定のパターンに対応する光ファイ
バーを介して光を組成物に照射する手段等を採用するこ
とができる。また、マスクを用いる手段においては、マ
スクとして、液晶表示装置と同様の原理により、指定の
パターンに従って、光透過領域と光不透過領域とよりな
るマスク像を電気光学的に形成するものを用いることも
できる。以上において、目的とする立体形状物が微細な
部分形状を有するものである場合または高い寸法精度が
要求されるものである場合には、組成物に選択的に光を
照射する手段として、スポット径の小さいレーザ光を走
査する手段を採用することが好ましい。
における光の照射面(例えば収束光の走査平面)は、当
該樹脂組成物の液面、透光性容器の器壁との接触面の何
れであってもよい。樹脂組成物の液面または器壁との接
触面を光の照射面とする場合には、容器の外部から直接
または器壁を介して光を照射することができる。
常、樹脂組成物の特定部分を硬化させた後、光の照射位
置(照射面)を、既硬化部分から未硬化部分に連続的に
または段階的に移動させることにより、硬化部分を積層
させて所望の立体形状とする。ここで、照射位置の移動
は種々の方法によって行うことができ、例えば光源、樹
脂組成物の収容容器、樹脂組成物の既硬化部分の何れか
を移動させたり当該容器に樹脂組成物を追加供給するな
どの方法を挙げることができる。
ると、収容容器内において昇降自在に設けられた支持ス
テージを樹脂組成物の液面から微小量降下(沈降)させ
ることにより、当該支持ステージ上に樹脂組成物を供給
してその薄層(1)を形成する。次いで、この薄層
(1)に対して選択的に光を照射することにより、固体
状の硬化樹脂層(1)を形成する。次いで、この硬化樹
脂層(1)上に樹脂組成物を供給してその薄層(2)を
形成し、この薄層(2)に対して選択的に光照射するこ
とにより、前記硬化樹脂層(1)上にこれと連続して一
体的に積層するよう新しい硬化樹脂層(2)を形成す
る。そして、光照射されるパターンを変化させながら或
いは変化させずに、この工程を所定回数繰り返すことに
より、複数の硬化樹脂層(n)が一体的に積層されてな
る立体形状物が造形される。
容器から取り出し、その表面に残存する樹脂組成物を除
去した後、必要に応じて洗浄する。ここで、洗浄剤とし
ては、イソプロピルアルコール、エチルアルコールなど
のアルコール類に代表されるアルコール系有機溶剤;ア
セトン、酢酸エチル、メチルエチルケトンなどに代表さ
れるケトン系有機溶剤;テルペン類に代表される脂肪族
系有機溶剤;低粘度の熱硬化性樹脂および光硬化性樹脂
を挙げることができる。
造する場合には、前記熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂
を使用して洗浄することが好ましく、この場合には、洗
浄に使用した硬化性樹脂の種類に応じて、熱照射または
光照射によるポストキュアーを行う必要がある。なお、
ポストキュアーは、表面の樹脂を硬化させるだけでな
く、立体形状物の内部に残存することのある未反応の樹
脂組成物をも硬化させることができるので、有機溶剤に
より洗浄した場合にもポストキュアーを行うことが好ま
しい。
性を向上させるためには、洗浄処理を施した後に、熱硬
化性または光硬化性のハードコート材を使用することが
好ましい。かかるハードコート材としては、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂などからなる有機コ
ート材、あるいは無機ハードコートを使用することがで
きる。これらのハードコート材は、1種単独でまたは2
種以上組み合わせて使用することができる。
はこれら実施例に限定されるものではない。なお、以下
において、「%」および「部」は、特にことわらない限
り「重量%」および「重量部」を意味する。
トルのセパラブルフラスコ中に、下記表1に示す処方に
従って、(A)成分として1,4−ビス[(3−エチル
−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン300
0g(30部)、(B)成分として、3,4−エポキシ
シクロヘキシルメチル−3’, 4’−エポキシシクロヘ
キサンカルボキシレート4000g(40部)、1, 6
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル1000g
(10部)、エポキシ変性ポリブタジエン「エポリード
PB3600」(ダイセル化学工業(株)製)1000
g(10部)、(C)成分としてトリアリルスルホニウ
ムヘキサフルオロアンチモネート「UVI−6974」
(ユニオンカーバイド社製)100g(1部)、(D)
成分として、部分架橋スチレン/ブタジエン共重合体か
らなるコア粒子の表面に、メチルメタクリレート/グリ
シジルメタクリレート共重合体からなる被覆層(シェ
ル)が形成されてなるコア/シェル型のエラストマー粒
子「レジナスボンドRKB」(レジナス化成(株)製,
数平均粒径200nm)900g(9部)を仕込み、こ
の系を60℃で3時間攪拌した。この系を25℃まで放
冷した後、(E)成分として、蒸留水60g(0.6
部)を添加し、25℃で2時間攪拌した。このようにし
て得られた混合物を濾過処理した後、減圧による脱泡処
理を行うことにより、本発明の光硬化性樹脂組成物を調
製した。
物について、調製直後における水分量をカールフィッシ
ャー法により測定したところ、0.68%(温度23
℃、相対湿度50%における平衡水分量に対して1.0
倍に相当)であった。なお、カールフィッシャー法によ
る水分量の測定は、カールフィッシャー式微量水分測定
装置「AQ−7」(平沼産業(株)製)により、電解液
として「アクアライトRS」(同社製)を用い、対極液
として「アクアライトCN」(同社製) を用いて行っ
た。
て、(A)成分の仕込量を5000g(50部)に変更
し、(B)成分である3, 4−エポキシシクロヘキシル
メチル−3’, 4’−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレートの仕込量を2900g(29部)に変更し、
(D)成分を仕込まなかったこと以外は実施例1と同様
にして本発明の光硬化性樹脂組成物を調製した。得られ
た光硬化性樹脂組成物について、調製直後の水分量をカ
ールフィッシャー法により測定したところ、0.69%
であった。
て、(C)成分の仕込量を200g(2部)に変更し、
(D)成分の仕込量を800g(8部)に変更し、蒸留
水を添加しなかったこと以外は実施例1と同様にして比
較用の光硬化性樹脂組成物を調製した。得られた光硬化
性樹脂組成物について、調製直後の水分量をカールフィ
ッシャー法により測定したところ、0.08%(温度2
3℃、相対湿度50%における平衡水分量に対して0.
1倍に相当)であった。
て、蒸留水の添加量を300g(3部)に変更したこと
以外は実施例1と同様にして比較用の光硬化性樹脂組成
物を調製した。得られた光硬化性樹脂組成物について、
調製直後の水分量をカールフィッシャー法により測定し
たところ、3.01%(温度23℃、相対湿度50%に
おける平衡水分量に対して4.6倍に相当)であった。
比較例1〜2により得られた樹脂組成物の各々につい
て、一定の環境下に放置した前後における硬化深度を測
定した。また、放置した前後の樹脂組成物により造形さ
れた立体形状物について、層間密着性および積層方向に
おける造形精度を評価した。測定方法および評価方法を
以下に示す。
施例1および比較例1に係る樹脂組成物にあっては、温
度23℃、相対湿度50%、放置時間60日間とし、実
施例2および比較例2に係る樹脂組成物にあっては、温
度23℃、相対湿度20%、放置時間60日間とした。
また、樹脂組成物の収容容器として、光造形装置「ソリ
ッドクリエーターSCS−1000HD」(ソニー
(株)製)に付属する幅32cm、奥行き43cm、深
さ6.5cmの開口容器を用いた。また、樹脂組成物の
放置は、当該樹脂組成物を調製した日から開始した。
してHe−Cdレーザー(波長325nm)を搭載し、
開口容器(幅32cm×奥行き43cm×深さ6.5c
m)を備えた光造形装置「ソリッドクリエーターSCS
−1000HD」(ソニー(株)製)を使用し、前記開
口容器に収容した樹脂組成物の液面(照射面)における
レーザースポット径を100μm、レーザーパワーを1
0mWとし、下記表1に示す走査速度(実施例1〜2お
よび比較例1では200mm/s,比較例2では160
mm/s)で前記液面にレーザー光を照射して楔型の断
面形状を有する硬化層を形成し、当該硬化層の厚さ(硬
化深度)を測定した。
法:光造形装置「ソリッドクリエーターSCS−100
0HD」(ソニー(株)製)を使用し、レーザースポッ
ト径を100μm、レーザーパワーを10mWとし、下
記表1に示す走査速度で、樹脂組成物に対し選択的にレ
ーザー光を照射して厚さ100μmの硬化樹脂層を形成
する工程を繰り返すことにより、図1に示すような立体
形状物を造形した。次いで、得られた立体形状物を光造
形装置から取り出し、外表面に付着している樹脂組成物
を拭き取り、さらに、テルペン系溶剤によって余分な樹
脂組成物を洗浄除去した。この立体形状物の側面(積層
断面)を観察し、層間剥離が全く認められない場合を
「○」、側面の全域または一部において層間剥離が認め
られた場合を「×」とした。
上記(2)により造形した立体形状物のオーバーハング
部(図1中、A,B)の下側に、硬化されるべきでない
余剰成長部分(設計データにない硬化部分)が存在する
か否かを観察し、余剰成長部分が存在せず、オーバーハ
ング部の下面が平滑性を有する場合を「○」、余剰成長
部分が存在し、オーバーハング部の下面の平滑性が損な
われている場合を「×」とした。
物を放置した環境と同じ条件(温度23℃,相対湿度5
0%)で行った。以上の結果を、放置した前後(0日/
60日)における樹脂組成物の水分量とともに、下記表
1に示す。
例1〜2に係る樹脂組成物は、放置前後の間で水分量の
差が小さく、硬化深度に変化は認められなかった。ま
た、実施例1〜2に係る樹脂組成物によれば、放置前後
の樹脂組成物について同一の照射条件(走査速度)で造
形を行なっても、層間密着性および造形精度に優れた立
体形状物を造形することができた。
0.08重量%と過小である比較例1に係る樹脂組成物
は、放置前後の間で水分量の差(増加量)が大きく、硬
化深度が150μmから125μmへと大きく減少し
た。この結果、放置後における比較例1に係る樹脂組成
物により造形された立体形状物は、層間密着性に劣るも
のであった。
量%と過大である比較例2に係る樹脂組成物も、放置前
後の間で水分量の差(減少量)が大きく、硬化深度が1
50μmから220μmへと大きく増加した。この結
果、放置後における比較例2に係る樹脂組成物により造
形された立体形状物は、積層方向における造形精度に劣
るものであった。比較例1および比較例2に係る樹脂組
成物を使用して、層間密着性および造形精度に優れた立
体形状物を造形しようとすれば、放置期間中において造
形を行う毎に、照射条件を変更しなければならないが、
このような操作はきわめて煩雑で現実的ではないといえ
る。
用環境下(温度10〜30℃,相対湿度20〜80%)
において長期間にわたり保存・使用される場合であって
も、造形特性(硬化深度)が実質的に変化せず、所期の
性能(層間密着性および造形精度)を有する立体形状物
を、同一の造形条件により、安定して造形することがで
きる。
体形状物の形状および寸法を示す説明図であり、(1)
は平面図、(2)は側面図である。
Claims (7)
- 【請求項1】 (A)オキセタン化合物、(B)エポキ
シ化合物、(C)光酸発生剤を含有する立体造形用の光
硬化性樹脂組成物であって、 調製時における水分量が0.3〜1.5重量%であるこ
とを特徴とする光硬化性樹脂組成物。 - 【請求項2】 (A)オキセタン化合物、(B)エポキ
シ化合物、(C)光酸発生剤を含有する立体造形用の光
硬化性樹脂組成物であって、 水分量が0.3〜1.5重量%となるように、水を添加
してなることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。 - 【請求項3】 (D)数平均粒径10〜700nmのエ
ラストマー粒子を含有することを特徴とする請求項1ま
たは請求項2に記載の光硬化性樹脂組成物。 - 【請求項4】 (A)オキセタン化合物を10〜80重
量部、(B)エポキシ化合物を10〜80重量部、
(C)光酸発生剤を0.1〜10重量部、(D)数平均
粒径10〜700nmのエラストマー粒子を0〜35重
量部含有し、(A)成分、(B)成分、(C)成分およ
び(D)成分の合計が100重量部であることを特徴と
する請求項1乃至請求項3の何れかに記載の光硬化性樹
脂組成物。 - 【請求項5】 温度23℃、相対湿度50%における平
衡水分量に対して、0.5〜1.5倍の水分量となるよ
うに、水を添加してなることを特徴とする請求項2乃至
請求項4の何れかに記載の光硬化性樹脂組成物。 - 【請求項6】 (A)成分、(B)成分、(C)成分、
(D)成分および水の混合物を脱泡処理して得られるこ
とを特徴とする請求項3乃至請求項5の何れかに記載の
光硬化性樹脂組成物。 - 【請求項7】 請求項1乃至請求項6の何れかに記載の
光硬化性樹脂組成物を光硬化して得られることを特徴と
する立体形状物。
Priority Applications (6)
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| JP2000247709A JP2002060463A (ja) | 2000-08-17 | 2000-08-17 | 光硬化性樹脂組成物および立体形状物 |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004113056A1 (ja) * | 2003-06-24 | 2004-12-29 | Cmet Inc. | 三次元構造体およびその製造方法 |
| JP2005075961A (ja) * | 2003-09-02 | 2005-03-24 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの保存方法及び活性エネルギー線硬化型インクジェット記録装置 |
| WO2007037434A1 (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-05 | Cmet Inc. | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
| JP2007262265A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Jsr Corp | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物 |
| US7304095B2 (en) * | 2003-12-26 | 2007-12-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Photocurable ink-jet ink, ink-jet image forming method and ink-jet recording apparatus using the same |
| JP2011006620A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-13 | Sanyo Chem Ind Ltd | ハードコート用組成物 |
| US7878642B2 (en) | 2004-12-07 | 2011-02-01 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Image forming method, actinic radiation curable ink-jet ink, and inkjet recording apparatus |
| US8361376B2 (en) | 2005-06-20 | 2013-01-29 | Cmet Inc. | Process of making a three-dimensional object |
| WO2014158015A1 (en) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | Dsm Ip Assets B.V. | Radiation-curable liquid resin composition for optical three-dimensional shaping, and optically shaped article obtained by photo-curing the same |
| WO2016143360A1 (ja) * | 2015-03-12 | 2016-09-15 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 光カチオン重合組成物、接着方法、電子機器及びその製造方法、ディスプレイ装置及びその製造方法 |
| WO2017119346A1 (ja) * | 2016-01-04 | 2017-07-13 | 日本ゼオン株式会社 | 三次元造形用材料、三次元造形用材料の製造方法、及び樹脂成形体 |
| CN107586375A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-01-16 | 广东工业大学 | 一种水溶性支撑材料 |
-
2000
- 2000-08-17 JP JP2000247709A patent/JP2002060463A/ja active Pending
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2004113056A1 (ja) * | 2003-06-24 | 2006-07-27 | シーメット株式会社 | 三次元構造体およびその製造方法 |
| WO2004113056A1 (ja) * | 2003-06-24 | 2004-12-29 | Cmet Inc. | 三次元構造体およびその製造方法 |
| US7354643B2 (en) | 2003-06-24 | 2008-04-08 | Cmet Inc. | Three-dimensional object and method of producing the same |
| JP4516019B2 (ja) * | 2003-06-24 | 2010-08-04 | シーメット株式会社 | 三次元構造体およびその製造方法 |
| JP2005075961A (ja) * | 2003-09-02 | 2005-03-24 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 活性エネルギー線硬化型インクジェットインクの保存方法及び活性エネルギー線硬化型インクジェット記録装置 |
| US7304095B2 (en) * | 2003-12-26 | 2007-12-04 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Photocurable ink-jet ink, ink-jet image forming method and ink-jet recording apparatus using the same |
| US7878642B2 (en) | 2004-12-07 | 2011-02-01 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Image forming method, actinic radiation curable ink-jet ink, and inkjet recording apparatus |
| US8361376B2 (en) | 2005-06-20 | 2013-01-29 | Cmet Inc. | Process of making a three-dimensional object |
| WO2007037434A1 (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-05 | Cmet Inc. | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
| JPWO2007037434A1 (ja) * | 2005-09-29 | 2009-04-16 | シーメット株式会社 | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
| JP2007262265A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Jsr Corp | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物 |
| JP2011006620A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-13 | Sanyo Chem Ind Ltd | ハードコート用組成物 |
| WO2014158015A1 (en) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | Dsm Ip Assets B.V. | Radiation-curable liquid resin composition for optical three-dimensional shaping, and optically shaped article obtained by photo-curing the same |
| WO2016143360A1 (ja) * | 2015-03-12 | 2016-09-15 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 光カチオン重合組成物、接着方法、電子機器及びその製造方法、ディスプレイ装置及びその製造方法 |
| US10487250B2 (en) | 2015-03-12 | 2019-11-26 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Cationically photopolymerizable composition, bonding method, electronic device, method for manufacturing electronic device, display device and method for manufacturing display device |
| WO2017119346A1 (ja) * | 2016-01-04 | 2017-07-13 | 日本ゼオン株式会社 | 三次元造形用材料、三次元造形用材料の製造方法、及び樹脂成形体 |
| CN107586375A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-01-16 | 广东工业大学 | 一种水溶性支撑材料 |
| CN107586375B (zh) * | 2017-10-30 | 2020-04-28 | 广东工业大学 | 一种水溶性支撑材料 |
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