JP2002052380A - アンモニア含有排水の浄化方法及び装置 - Google Patents
アンモニア含有排水の浄化方法及び装置Info
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Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 装置起動時やガス中のNH3濃度の変動時に
も排出NOx濃度など有害物質の発生量が極めて少ない
アンモニア含有排水の処理方法を提供すること。 【解決手段】 NH3含有排水Aと蒸気C(キャリアガ
ス)をストリッピング塔7内で接触させてNH3含有排
水AからNH3を気相中に移行させ、発生NH3を含む
ガスを予熱器1で加熱した後、触媒層13に接触させて
NH3を窒素と水に分解し、該分解工程で発生したガス
中のNOx濃度を測定するか又は触媒層13の複数ヶ所
の温度のうちのいずれかを測定し、ガス中のNOx濃度
を測定したときは、該NOx濃度に基づいて、又は触媒
層13の温度を複数ヶ所で測定したときは複数ヶ所での
温度測定値の差が一定値以上の場合に、その温度測定値
の差に基づいて、(a)NH3含有排水の供給量、
(b)NH3含有排水中のNH3濃度、(c)触媒と接
触するNH3を含むガスの流量の内1つ以上を調整す
る。
も排出NOx濃度など有害物質の発生量が極めて少ない
アンモニア含有排水の処理方法を提供すること。 【解決手段】 NH3含有排水Aと蒸気C(キャリアガ
ス)をストリッピング塔7内で接触させてNH3含有排
水AからNH3を気相中に移行させ、発生NH3を含む
ガスを予熱器1で加熱した後、触媒層13に接触させて
NH3を窒素と水に分解し、該分解工程で発生したガス
中のNOx濃度を測定するか又は触媒層13の複数ヶ所
の温度のうちのいずれかを測定し、ガス中のNOx濃度
を測定したときは、該NOx濃度に基づいて、又は触媒
層13の温度を複数ヶ所で測定したときは複数ヶ所での
温度測定値の差が一定値以上の場合に、その温度測定値
の差に基づいて、(a)NH3含有排水の供給量、
(b)NH3含有排水中のNH3濃度、(c)触媒と接
触するNH3を含むガスの流量の内1つ以上を調整す
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は排水浄化方法と装置
に係り、特に火力発電所から排出される排水中のアンモ
ニアを効率良くN2とH2Oに無害化することができる
アンモニア含有排水の浄化方法と装置に関する。
に係り、特に火力発電所から排出される排水中のアンモ
ニアを効率良くN2とH2Oに無害化することができる
アンモニア含有排水の浄化方法と装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年地球環境保全に対する関心が高まり
や、平成5年に海域の富栄養化対策として規制が施行さ
れたこともあり、排水中の窒素除去に対して新しい処理
技術の開発が求められている。これに対し、従来から主
に以下の方式によって排水中の窒素を除去する方法が行
われてきた。 (1)生物処理法:水中の有機体窒素をバクテリアを用
いて無機化、無害化する方法(「水処理工学」、P−2
06など)。 (2)不連続的塩素処理法:次亜塩素酸ナトリウムを用
いてNH3を酸化分解する方法。 (3)イオン交換法:ゼオライトを用いてNH3を吸着
させる方法(「水処理工学」、P−519など)。 (4)アンモニアストリッピング法:NH3含有排水を
空気又は蒸気を用いて空気中に放散除去する方法(「環
境創造」、8、(9)、67(1978)など)。
や、平成5年に海域の富栄養化対策として規制が施行さ
れたこともあり、排水中の窒素除去に対して新しい処理
技術の開発が求められている。これに対し、従来から主
に以下の方式によって排水中の窒素を除去する方法が行
われてきた。 (1)生物処理法:水中の有機体窒素をバクテリアを用
いて無機化、無害化する方法(「水処理工学」、P−2
06など)。 (2)不連続的塩素処理法:次亜塩素酸ナトリウムを用
いてNH3を酸化分解する方法。 (3)イオン交換法:ゼオライトを用いてNH3を吸着
させる方法(「水処理工学」、P−519など)。 (4)アンモニアストリッピング法:NH3含有排水を
空気又は蒸気を用いて空気中に放散除去する方法(「環
境創造」、8、(9)、67(1978)など)。
【0003】排水中のBODが高い場合には(1)の生
物脱窒法が用いられるが、化学工場のプロセスからの排
水や排水処理後の排水など、窒素の大部分がアンモニア
やアンモニウムイオンなどアンモニア態窒素である排水
の処理には、(2)、(3)、及び(4)の方式が適用
されている。
物脱窒法が用いられるが、化学工場のプロセスからの排
水や排水処理後の排水など、窒素の大部分がアンモニア
やアンモニウムイオンなどアンモニア態窒素である排水
の処理には、(2)、(3)、及び(4)の方式が適用
されている。
【0004】上記従来技術は以下に示す問題点を有して
いる。すなわち、(1)の方法は、生物反応の反応速度
が遅いために処理に必要な反応槽が大きくなり、大きな
設置スペースが必要となるほか、余剰汚泥が発生すると
いう問題を生じる。(2)の方法は、完全なアンモニア
除去には次亜塩素酸ナトリウムを化学量論的必要量以上
添加する必要があるため、残留塩素の処理及び有機塩素
化合物の生成という問題を生じる。さらに(3)の方法
は、ゼオライト再生時に高濃度アンモニウムイオンを含
んだ排水が生じるためその処理が必要となり、(4)の
方法はNH3を気相に移行後、NH3含有ガスが大気放
散されるため二次公害になるという問題がある。
いる。すなわち、(1)の方法は、生物反応の反応速度
が遅いために処理に必要な反応槽が大きくなり、大きな
設置スペースが必要となるほか、余剰汚泥が発生すると
いう問題を生じる。(2)の方法は、完全なアンモニア
除去には次亜塩素酸ナトリウムを化学量論的必要量以上
添加する必要があるため、残留塩素の処理及び有機塩素
化合物の生成という問題を生じる。さらに(3)の方法
は、ゼオライト再生時に高濃度アンモニウムイオンを含
んだ排水が生じるためその処理が必要となり、(4)の
方法はNH3を気相に移行後、NH3含有ガスが大気放
散されるため二次公害になるという問題がある。
【0005】この中で(4)のストリッピング法は、比
較的処理が簡単で設備費、運転費が安いため他の方法に
比べて有利であることから、多く採用されており、特に
分離した高濃度のNH3ガスを触媒で酸化分解する方法
と組み合わせて総合的に排水を無害化する方式が、現有
のし尿処施設においても採用されている。
較的処理が簡単で設備費、運転費が安いため他の方法に
比べて有利であることから、多く採用されており、特に
分離した高濃度のNH3ガスを触媒で酸化分解する方法
と組み合わせて総合的に排水を無害化する方式が、現有
のし尿処施設においても採用されている。
【0006】しかし、(4)のストリッピング法の改良
法である前記ストリッピング触媒酸化方式ではNH3酸
化時に多量のNOxを発生するため、NH3酸化触媒塔
以外に、NOx還元触媒塔を設置する必要がある。さら
に、我々の検討の結果、この方式ではNH3酸化時にN
2Oが多量に発生することが新たに分かった。N2Oは
CO2と同じく地球温暖化に寄与する物質であり、これ
が多量に大気に放出されることは、NH3を大気中に放
出すると同様に地球環境において有害であり望ましくな
い。
法である前記ストリッピング触媒酸化方式ではNH3酸
化時に多量のNOxを発生するため、NH3酸化触媒塔
以外に、NOx還元触媒塔を設置する必要がある。さら
に、我々の検討の結果、この方式ではNH3酸化時にN
2Oが多量に発生することが新たに分かった。N2Oは
CO2と同じく地球温暖化に寄与する物質であり、これ
が多量に大気に放出されることは、NH3を大気中に放
出すると同様に地球環境において有害であり望ましくな
い。
【0007】以上のように、従来技術におけるNH3含
有排水処理は数多くの問題点を有しており、また方式に
よっては新たに様々な二次公害物質を発生させる発生源
と成りかねないという問題を有していた。
有排水処理は数多くの問題点を有しており、また方式に
よっては新たに様々な二次公害物質を発生させる発生源
と成りかねないという問題を有していた。
【0008】このような背景から、本発明者らは上述の
ような二次公害物質をほとんど生成しないNH3含有排
水処理方法を発明して特許出願をした(特願平11−1
27776号)。
ような二次公害物質をほとんど生成しないNH3含有排
水処理方法を発明して特許出願をした(特願平11−1
27776号)。
【0009】図14に本発明者らが提案した前記NH3
含有排水処理方法をアンモニア態窒素を含有する排水に
適用した場合のフローを示す。この例は、石炭焚きや重
油焚きボイラを備えた火力発電所から排出される排ガス
中の燃焼灰及びSO2ガスの浄化装置、即ち、排ガス中
の燃焼灰及びSO2ガスをそれぞれ除去する乾式電気集
塵装置及び湿式脱硫装置から排出される排水の浄化処理
用に用いた例である。
含有排水処理方法をアンモニア態窒素を含有する排水に
適用した場合のフローを示す。この例は、石炭焚きや重
油焚きボイラを備えた火力発電所から排出される排ガス
中の燃焼灰及びSO2ガスの浄化装置、即ち、排ガス中
の燃焼灰及びSO2ガスをそれぞれ除去する乾式電気集
塵装置及び湿式脱硫装置から排出される排水の浄化処理
用に用いた例である。
【0010】排水AおよびアルカリBはそれぞれ配管1
および配管2からタンク3に供給され、タンク3内で混
合された後、ポンプ4により予熱器5に送られる。予熱
器5で約100℃まで予熱された排水Aは配管6を通し
てストリッピング塔7の上部へ送られる。ストリッピン
グ塔7の内部には充填物8が入っており、塔下部の配管
9から供給されたキャリアガスとしての蒸気Cは排水A
と塔内で効率良く接触しながら塔内を上昇し、高濃度の
アンモニアガスを含むガスが得られる。
および配管2からタンク3に供給され、タンク3内で混
合された後、ポンプ4により予熱器5に送られる。予熱
器5で約100℃まで予熱された排水Aは配管6を通し
てストリッピング塔7の上部へ送られる。ストリッピン
グ塔7の内部には充填物8が入っており、塔下部の配管
9から供給されたキャリアガスとしての蒸気Cは排水A
と塔内で効率良く接触しながら塔内を上昇し、高濃度の
アンモニアガスを含むガスが得られる。
【0011】塔内で得られたガス中のNH3濃度は数千
〜数万ppmである。ストリッピング塔7の頂部から出
た前記ガスは必要に応じて配管10から供給される空気
Dによって希釈され、場合によっては予熱器11で所定
の温度まで予熱された後、触媒塔12に導かれる。スト
リッピングされたアンモニアガスは触媒塔12の触媒層
13上で酸化され、N2とH2Oに分解されて配管14
から大気へ放出される。
〜数万ppmである。ストリッピング塔7の頂部から出
た前記ガスは必要に応じて配管10から供給される空気
Dによって希釈され、場合によっては予熱器11で所定
の温度まで予熱された後、触媒塔12に導かれる。スト
リッピングされたアンモニアガスは触媒塔12の触媒層
13上で酸化され、N2とH2Oに分解されて配管14
から大気へ放出される。
【0012】前記触媒層13で用いられる触媒は、窒素
酸化物のNH3による還元活性を有する第1成分とNH
3からの窒素酸化物(NOx)を生成させる活性を有す
る第2成分とからなる。また、この時の触媒層13での
反応温度は250〜450℃、好ましくは350〜40
0℃である。なお、ストリッピング塔7の下部の配管1
5からは、アンモニアを除去された排水Eが排出され
る。
酸化物のNH3による還元活性を有する第1成分とNH
3からの窒素酸化物(NOx)を生成させる活性を有す
る第2成分とからなる。また、この時の触媒層13での
反応温度は250〜450℃、好ましくは350〜40
0℃である。なお、ストリッピング塔7の下部の配管1
5からは、アンモニアを除去された排水Eが排出され
る。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らが提案した
上記技術は、二次公害物質の発生がきわめて少なく、運
転が容易であるという特徴を有するNH3含有排水処理
方法であるが、装置を起動した際やガス中のNH3濃度
が変動した場合に触媒塔12出口のNOx濃度がやや高
くなるという問題があった。
上記技術は、二次公害物質の発生がきわめて少なく、運
転が容易であるという特徴を有するNH3含有排水処理
方法であるが、装置を起動した際やガス中のNH3濃度
が変動した場合に触媒塔12出口のNOx濃度がやや高
くなるという問題があった。
【0014】本発明の課題は、装置起動時やガス中のN
H3濃度の変動時にも排出NOx濃度など有害物質の発
生量が極めて少ないアンモニア含有排水の処理方法と装
置を提供することである。
H3濃度の変動時にも排出NOx濃度など有害物質の発
生量が極めて少ないアンモニア含有排水の処理方法と装
置を提供することである。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記本発明の課題は、N
H3含有排水とキャリアガスを接触させてNH3含有排
水からNH3を気相中に移行させる工程と、該工程で発
生したNH3を含むガスを加熱する工程と、該加熱工程
で加熱されたNH3含有ガスを触媒に接触させて前記N
H3を窒素と水に分解する工程と、該分解工程で発生し
たガス中のNOx濃度を測定する工程又は前記触媒の温
度を複数ヶ所で測定する工程のいずれかの工程と、前記
ガス中のNOx濃度を測定する工程を選択する場合は該
NOx濃度に基づいて、又は前記触媒の温度を複数ヶ所
で測定する工程を選択する場合は、複数ヶ所での温度測
定値の差が一定値以上の場合はその温度測定値の差に基
づいて、(a)NH3含有排水の供給量、(b)NH3
含有排水中のNH3濃度、(c)触媒と接触するNH3
を含むガスの流量の内1つ以上を調整する工程を含むこ
とを特徴とするNH3含有排水の浄化方法、または、N
H3含有排水とキャリアガスを接触させてNH3含有排
水からNH 3を気相中に移行させる工程と、該NH3の
気相中への移行工程で発生したNH 3を含むガスを加熱
する工程と、該加熱工程で加熱されたNH3含有ガスを
触媒に接触させて前記NH3を窒素と水に分解する工程
と、該分解工程で発生したガス中のNOx濃度を測定す
る工程と、該NOx濃度に基づいてガスの一部を系外に
排出し、残りを前記NH3含有排水からNH3を気相中
に移行させる工程でのキャリアガスとして循環する工程
と、これらの工程の中の1つ以上の工程でガス中の酸素
濃度を調整する工程を含む排水の浄化方法によって達成
される。
H3含有排水とキャリアガスを接触させてNH3含有排
水からNH3を気相中に移行させる工程と、該工程で発
生したNH3を含むガスを加熱する工程と、該加熱工程
で加熱されたNH3含有ガスを触媒に接触させて前記N
H3を窒素と水に分解する工程と、該分解工程で発生し
たガス中のNOx濃度を測定する工程又は前記触媒の温
度を複数ヶ所で測定する工程のいずれかの工程と、前記
ガス中のNOx濃度を測定する工程を選択する場合は該
NOx濃度に基づいて、又は前記触媒の温度を複数ヶ所
で測定する工程を選択する場合は、複数ヶ所での温度測
定値の差が一定値以上の場合はその温度測定値の差に基
づいて、(a)NH3含有排水の供給量、(b)NH3
含有排水中のNH3濃度、(c)触媒と接触するNH3
を含むガスの流量の内1つ以上を調整する工程を含むこ
とを特徴とするNH3含有排水の浄化方法、または、N
H3含有排水とキャリアガスを接触させてNH3含有排
水からNH 3を気相中に移行させる工程と、該NH3の
気相中への移行工程で発生したNH 3を含むガスを加熱
する工程と、該加熱工程で加熱されたNH3含有ガスを
触媒に接触させて前記NH3を窒素と水に分解する工程
と、該分解工程で発生したガス中のNOx濃度を測定す
る工程と、該NOx濃度に基づいてガスの一部を系外に
排出し、残りを前記NH3含有排水からNH3を気相中
に移行させる工程でのキャリアガスとして循環する工程
と、これらの工程の中の1つ以上の工程でガス中の酸素
濃度を調整する工程を含む排水の浄化方法によって達成
される。
【0016】好ましくは、前記触媒が、窒素酸化物のN
H3による還元活性を有する第1成分とNH3から窒素
酸化物(NOx)を生成させる活性を有する第2成分と
からなる触媒、またはゼオライトである排水の浄化方法
である。より好ましくは、系外に排出するガスを酸含有
液と接触させて、該ガス中のNH3を除去する工程を含
む排水の浄化方法である。
H3による還元活性を有する第1成分とNH3から窒素
酸化物(NOx)を生成させる活性を有する第2成分と
からなる触媒、またはゼオライトである排水の浄化方法
である。より好ましくは、系外に排出するガスを酸含有
液と接触させて、該ガス中のNH3を除去する工程を含
む排水の浄化方法である。
【0017】なお、系外に排出するガス中のNH3を除
去するために用いる酸は、硫酸、塩酸、硝酸などの一般
的な酸だけでなく、例えば、燃焼排ガス中の二酸化炭素
や亜硫酸ガス(SO2)を水に溶解させてこれを利用し
てもよい。
去するために用いる酸は、硫酸、塩酸、硝酸などの一般
的な酸だけでなく、例えば、燃焼排ガス中の二酸化炭素
や亜硫酸ガス(SO2)を水に溶解させてこれを利用し
てもよい。
【0018】前記窒素酸化物のNH3による還元活性を
有する第1成分とNH3から窒素酸化物(NOx)を生
成させる活性を有する第2成分とからなる触媒の具体例
は、チタン(Ti)の酸化物及びタングステン(W)、
バナジウム(V)若しくはモリブデン(Mo)から選ば
れた1種以上の元素(Tiは必須で、その他にW、V及
びMoから選ばれた1種以上の元素)の酸化物と、白金
(Pt)、イリジウム(Ir)、ロジウム(Rh)およ
びパラジウム(Pd)から選ばれた1種以上の貴金属を
担持したシリカ、ゼオライトおよび/またはアルミナを
含有する触媒である。
有する第1成分とNH3から窒素酸化物(NOx)を生
成させる活性を有する第2成分とからなる触媒の具体例
は、チタン(Ti)の酸化物及びタングステン(W)、
バナジウム(V)若しくはモリブデン(Mo)から選ば
れた1種以上の元素(Tiは必須で、その他にW、V及
びMoから選ばれた1種以上の元素)の酸化物と、白金
(Pt)、イリジウム(Ir)、ロジウム(Rh)およ
びパラジウム(Pd)から選ばれた1種以上の貴金属を
担持したシリカ、ゼオライトおよび/またはアルミナを
含有する触媒である。
【0019】このような脱硝機能を備えたNH3分解触
媒の細孔モデルを図7に示す。図7において、この触媒
の細孔は、NOをNH3によって還元する成分が形成す
るマクロポア内(第1成分)の所々に、シリカの多孔質
が形成するミクロポアが存在する構造になっており、そ
のミクロポア内にNH3からNOxを生成させる活性を
有する成分(第2成分)が担持されている。
媒の細孔モデルを図7に示す。図7において、この触媒
の細孔は、NOをNH3によって還元する成分が形成す
るマクロポア内(第1成分)の所々に、シリカの多孔質
が形成するミクロポアが存在する構造になっており、そ
のミクロポア内にNH3からNOxを生成させる活性を
有する成分(第2成分)が担持されている。
【0020】NH3は触媒内部のマクロポア内に拡散
し、第2成分上で(1)式に従って酸化されてNOとな
り、触媒の外に拡散してく過程でマクロポア内に吸着し
たNH 3に衝突し、(2)式の反応によってN2に還元
される。全体としては、(3)式に示すように NH3+5/4O2→NO+3/2H2O (1) NH3+NO+1/4O2→N2+3/2H2O (2) NH3+3/4O2→1/2N2+3/2H2O (3) このように、本発明の脱硝機能を備えたNH3分解触媒
では、NH3の酸化反応及び生成したNOとNH3によ
る還元反応が触媒内部で進行するため、NOやNO生成
過程で発生すると思われるN2Oをほとんど生成するこ
となくNH3をN2に還元することができる。また、ゼ
オライトを使用した場合も、NOやN2Oの生成が極め
て少ない。
し、第2成分上で(1)式に従って酸化されてNOとな
り、触媒の外に拡散してく過程でマクロポア内に吸着し
たNH 3に衝突し、(2)式の反応によってN2に還元
される。全体としては、(3)式に示すように NH3+5/4O2→NO+3/2H2O (1) NH3+NO+1/4O2→N2+3/2H2O (2) NH3+3/4O2→1/2N2+3/2H2O (3) このように、本発明の脱硝機能を備えたNH3分解触媒
では、NH3の酸化反応及び生成したNOとNH3によ
る還元反応が触媒内部で進行するため、NOやNO生成
過程で発生すると思われるN2Oをほとんど生成するこ
となくNH3をN2に還元することができる。また、ゼ
オライトを使用した場合も、NOやN2Oの生成が極め
て少ない。
【0021】しかし、このような触媒を用いた場合で
も、装置の起動時やガス中のNH3濃度が増加した場合
に触媒塔(図1の触媒塔12など)出口でのNO濃度が
やや高くなる現象が認められた。その原因は完全には明
らかではないが、上記(1)及び(2)式の反応が発熱
反応であり、触媒と接触するガス中のNH3濃度が変動
すると触媒自身の温度が変化するためと考えられる。こ
のような一時的な触媒塔出口でのNO濃度の増加に対し
ては下記の対策が有効である。
も、装置の起動時やガス中のNH3濃度が増加した場合
に触媒塔(図1の触媒塔12など)出口でのNO濃度が
やや高くなる現象が認められた。その原因は完全には明
らかではないが、上記(1)及び(2)式の反応が発熱
反応であり、触媒と接触するガス中のNH3濃度が変動
すると触媒自身の温度が変化するためと考えられる。こ
のような一時的な触媒塔出口でのNO濃度の増加に対し
ては下記の対策が有効である。
【0022】触媒塔出口のNOx濃度を測定し、NOx
濃度が一定値以上である場合には、(a)NH3含有排
水の供給量、(b)NH3含有排水中のNH3濃度、
(c)触媒と接触するNH3を含むガスの流量のうちの
1つ以上を調整する。
濃度が一定値以上である場合には、(a)NH3含有排
水の供給量、(b)NH3含有排水中のNH3濃度、
(c)触媒と接触するNH3を含むガスの流量のうちの
1つ以上を調整する。
【0023】前記対策は、より具体的には(a)NH3
含有排水の供給量、(b)NH3含有排水中のNH3濃
度又は(c)触媒と接触するNH3を含むガスの流量を
それぞれ減少させる。
含有排水の供給量、(b)NH3含有排水中のNH3濃
度又は(c)触媒と接触するNH3を含むガスの流量を
それぞれ減少させる。
【0024】(a)NH3含有排水の供給量または
(b)NH3含有排水中のNH3濃度を減少させると、
ガス中のNH3濃度も減少するので触媒自身の温度も早
めに安定する。その結果、NOx濃度も低くなる。触媒
塔出口のNOx濃度が一定値以下になれば触媒塔出口の
NOx濃度を監視しつつ、(a)NH3含有排水の供給
量または(b)NH3含有排水中のNH3濃度を徐々に
増加させることで所定の排水量を処理できる。また、触
媒と接触するNH3を含むガスの流量を減少させた場
合、触媒とガスとの接触時間が長くなるのでNOx濃度
を監視しつつ、(c)触媒と接触するNH3を含むガス
の流量を徐々に増加させることで所定の排水量を処理で
きる。
(b)NH3含有排水中のNH3濃度を減少させると、
ガス中のNH3濃度も減少するので触媒自身の温度も早
めに安定する。その結果、NOx濃度も低くなる。触媒
塔出口のNOx濃度が一定値以下になれば触媒塔出口の
NOx濃度を監視しつつ、(a)NH3含有排水の供給
量または(b)NH3含有排水中のNH3濃度を徐々に
増加させることで所定の排水量を処理できる。また、触
媒と接触するNH3を含むガスの流量を減少させた場
合、触媒とガスとの接触時間が長くなるのでNOx濃度
を監視しつつ、(c)触媒と接触するNH3を含むガス
の流量を徐々に増加させることで所定の排水量を処理で
きる。
【0025】また、触媒塔出口のNOx濃度が一定値以
上になるのを防ぐためには、触媒塔出口のNOx濃度に
基づき、ガスをストリッピング塔又は再触媒塔入口に循
環させる方法も有効である。
上になるのを防ぐためには、触媒塔出口のNOx濃度に
基づき、ガスをストリッピング塔又は再触媒塔入口に循
環させる方法も有効である。
【0026】このような触媒を用いた場合、上記の
(3)式に示す通り、反応前後のガス組成はNH3及び
O2が減少し、N2及びH2Oが生成するのみである。
通常、処理すべきガス中のNH3濃度は数千ppmなの
で、ガス組成が大きく変化することは無い。そこで、消
費した酸素に見合った空気を注入し、ガスの増加分を抜
き出すことで、NH3分解後のガスをキャリアガスとし
てストリッピング塔に再循環させることが可能となる。
こうすることにより、系外に排出するガス量が従来の数
十分の1程度になるので、排出するNOxの絶対量を大
幅に低減できる。この場合も、触媒塔出口のNOx濃度
が一定値以下になれば触媒塔出口のNOx濃度を監視し
つつ、ガス循環量を減少させて従来のガス流れに戻せば
良い。
(3)式に示す通り、反応前後のガス組成はNH3及び
O2が減少し、N2及びH2Oが生成するのみである。
通常、処理すべきガス中のNH3濃度は数千ppmなの
で、ガス組成が大きく変化することは無い。そこで、消
費した酸素に見合った空気を注入し、ガスの増加分を抜
き出すことで、NH3分解後のガスをキャリアガスとし
てストリッピング塔に再循環させることが可能となる。
こうすることにより、系外に排出するガス量が従来の数
十分の1程度になるので、排出するNOxの絶対量を大
幅に低減できる。この場合も、触媒塔出口のNOx濃度
が一定値以下になれば触媒塔出口のNOx濃度を監視し
つつ、ガス循環量を減少させて従来のガス流れに戻せば
良い。
【0027】なお、触媒塔出口のNOx濃度の代わりに
NH3濃度を測定することも考えられるが、NH3は水
に溶解しやすいため、ガス中のNH3濃度を精度良く測
定することは困難である。
NH3濃度を測定することも考えられるが、NH3は水
に溶解しやすいため、ガス中のNH3濃度を精度良く測
定することは困難である。
【0028】NH3含有排水からNH3を気相に移行す
る手段には、キャリアガスを排水に吹き込んだり、キャ
リアガス中に排水を噴霧したりしてガス中のアンモニア
を気相中にストリッピングする方法が用いられる。スト
リッピングは、液のpHが10以上であればそのまま、
液のpHが10より低い場合は水酸化ナトリウムや消石
灰などのアルカリを加えてpHを10以上にし、これに
空気を接触させ、空気をキャリアガスに用いてアンモニ
アガスを拡散させる。キャリアガスは空気の他、水蒸気
でも良く、実質的にアンモニアガスをストリッピングで
きれば、とのような方法を用いても良い。
る手段には、キャリアガスを排水に吹き込んだり、キャ
リアガス中に排水を噴霧したりしてガス中のアンモニア
を気相中にストリッピングする方法が用いられる。スト
リッピングは、液のpHが10以上であればそのまま、
液のpHが10より低い場合は水酸化ナトリウムや消石
灰などのアルカリを加えてpHを10以上にし、これに
空気を接触させ、空気をキャリアガスに用いてアンモニ
アガスを拡散させる。キャリアガスは空気の他、水蒸気
でも良く、実質的にアンモニアガスをストリッピングで
きれば、とのような方法を用いても良い。
【0029】NH3含有ガスの温度を上げる方法として
は、バーナによる加熱、蒸気や触媒装置出口ガスなどの
高温のガスとの熱交換など通常の予熱方法で良いが、本
発明ではガスを循環するため、ガス組成、特に酸素濃度
を変化させない方法(例えば、間接熱交換法)が好まし
い。なお、脱硝機能を備えたNH3分解触媒を用いる場
合は触媒層での温度は250〜450℃、好ましくは3
50〜400℃の範囲にすることが重要であり、またゼ
オライト系の触媒を用いる場合は450〜600℃にす
ることが好ましいが、いずれにしても触媒の特性に基づ
いて適正な温度を選択すればよい。
は、バーナによる加熱、蒸気や触媒装置出口ガスなどの
高温のガスとの熱交換など通常の予熱方法で良いが、本
発明ではガスを循環するため、ガス組成、特に酸素濃度
を変化させない方法(例えば、間接熱交換法)が好まし
い。なお、脱硝機能を備えたNH3分解触媒を用いる場
合は触媒層での温度は250〜450℃、好ましくは3
50〜400℃の範囲にすることが重要であり、またゼ
オライト系の触媒を用いる場合は450〜600℃にす
ることが好ましいが、いずれにしても触媒の特性に基づ
いて適正な温度を選択すればよい。
【0030】なお、ここでいうNH3含有排水とは、下
水及びし尿処理施設などから排出される排水や、石炭焚
き、重油焚きボイラを備えた火力発電所から排出される
排ガス中の燃焼灰及びSO2ガスを除去するために設置
された乾式電気集塵装置及び湿式脱硫装置から排出され
る排水など、アンモニア態窒素を含有する排水を意味す
る。
水及びし尿処理施設などから排出される排水や、石炭焚
き、重油焚きボイラを備えた火力発電所から排出される
排ガス中の燃焼灰及びSO2ガスを除去するために設置
された乾式電気集塵装置及び湿式脱硫装置から排出され
る排水など、アンモニア態窒素を含有する排水を意味す
る。
【0031】また、有機態窒素含有排水中の有機態窒素
を一般の生物処理によってストリッピング可能なNH3
態窒素に分解した後の排水や、従来技術のイオン交換法
でのゼオライト再生時に排出される高濃度NH3含有排
水など、前処理することによってNH3態窒素に変換さ
せた排水も含まれる。
を一般の生物処理によってストリッピング可能なNH3
態窒素に分解した後の排水や、従来技術のイオン交換法
でのゼオライト再生時に排出される高濃度NH3含有排
水など、前処理することによってNH3態窒素に変換さ
せた排水も含まれる。
【0032】本発明には、上記方法を実施するための装
置も含まれる。
置も含まれる。
【0033】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について図面
と共に説明する。 本発明の第一の実施の形態 図1に、本発明のNH3含有排水の処理方法を火力発電
所で用いられる乾式電気集塵装置及び湿式脱硫装置から
排出される排水系に適用した装置系統を示す。
と共に説明する。 本発明の第一の実施の形態 図1に、本発明のNH3含有排水の処理方法を火力発電
所で用いられる乾式電気集塵装置及び湿式脱硫装置から
排出される排水系に適用した装置系統を示す。
【0034】火力発電所から排出される排ガス中の燃焼
灰及びSO2ガスは、それぞれ乾式電気集塵装置及び湿
式脱硫装置で処理されるが、前記乾式電気集塵装置及び
湿式脱硫装置から排出される排水はアンモニア態窒素を
含有した排水であり、これに本発明のNH3含有排水の
処理方法を適用する例である。
灰及びSO2ガスは、それぞれ乾式電気集塵装置及び湿
式脱硫装置で処理されるが、前記乾式電気集塵装置及び
湿式脱硫装置から排出される排水はアンモニア態窒素を
含有した排水であり、これに本発明のNH3含有排水の
処理方法を適用する例である。
【0035】乾式電気集塵装置及び湿式脱硫装置から排
出されるアンモニア態窒素含有排水AおよびアルカリB
はそれぞれ配管1および配管2からタンク3に供給さ
れ、タンク3内で混合された後、ポンプ4により予熱器
5に送られる。予熱器5で約100℃まで予熱された排
水Aは、配管6を通してストリッピング塔7の上部へ供
給される。ストリッピング塔7の内部には充填物8が入
っており、キャリアガスとして塔下部の配管9から供給
された蒸気C(空気を含む)は排水Aと塔内で効率良く
接触しながら塔内を上昇し、高濃度のアンモニアガスを
含むガスが得られる。
出されるアンモニア態窒素含有排水AおよびアルカリB
はそれぞれ配管1および配管2からタンク3に供給さ
れ、タンク3内で混合された後、ポンプ4により予熱器
5に送られる。予熱器5で約100℃まで予熱された排
水Aは、配管6を通してストリッピング塔7の上部へ供
給される。ストリッピング塔7の内部には充填物8が入
っており、キャリアガスとして塔下部の配管9から供給
された蒸気C(空気を含む)は排水Aと塔内で効率良く
接触しながら塔内を上昇し、高濃度のアンモニアガスを
含むガスが得られる。
【0036】ストリッピング塔7で得られたガス中のN
H3濃度は数千〜数万ppmである。得られたガスは必
要に応じて配管10から供給された空気Dによって希釈
され、場合によっては予熱器11で所定の温度まで予熱
された後、触媒塔12に導かれる。ストリッピングされ
たアンモニアガスは触媒塔12内の触媒層13上で酸化
分解し、N2とH2Oに分解され配管14から大気へ放
出され、その一部はNOx計16に送られてガス中のN
Ox濃度が測定される。
H3濃度は数千〜数万ppmである。得られたガスは必
要に応じて配管10から供給された空気Dによって希釈
され、場合によっては予熱器11で所定の温度まで予熱
された後、触媒塔12に導かれる。ストリッピングされ
たアンモニアガスは触媒塔12内の触媒層13上で酸化
分解し、N2とH2Oに分解され配管14から大気へ放
出され、その一部はNOx計16に送られてガス中のN
Ox濃度が測定される。
【0037】NOx計16での測定値に応じてポンプ4
からストリッピング塔7の上部へ供給される排水Aの流
量が調整される。ストリッピング塔7の下部の配管15
からは、アンモニアを除去された排水Eが排出される。
なお、この触媒は窒素酸化物のNH3による還元活性を
有する第1成分とNH3から窒素酸化物(NOx)を生
成させる活性を有する第2成分とからなる。また、この
ときの触媒層13での反応温度は250〜450℃、好
ましくては350〜400℃である。
からストリッピング塔7の上部へ供給される排水Aの流
量が調整される。ストリッピング塔7の下部の配管15
からは、アンモニアを除去された排水Eが排出される。
なお、この触媒は窒素酸化物のNH3による還元活性を
有する第1成分とNH3から窒素酸化物(NOx)を生
成させる活性を有する第2成分とからなる。また、この
ときの触媒層13での反応温度は250〜450℃、好
ましくては350〜400℃である。
【0038】図1に示す装置系統に本発明の触媒を適用
した場合の実施例を以下説明する。 実施例1 メタチタン酸スラリ(TiO2含有量:30wt%、S
O4含有量:8wt%)67kgにパラタングステン酸
アンモニウム((NH4)10H10・W12O46・
6H2O)2.5kg、メタバナジン酸アンモニウム
2.33kgを加えてニーダを用いて混練し、得られた
ペーストを造粒した後、乾燥し、550℃で2時間焼成
し、得られた顆粒を粉砕して、第1成分である触媒粉末
とした。この粉末の組成はTi/W/V=91/5/4
(原子比)である。一方、1.33×10−2wt%の
塩化白金酸(H2[PtCl6]・6H2O)1Lに、
微粒シリカ粉末(富田製薬(株)製、マイコンF)50
0gを加えて砂浴上で蒸発乾固し、空気中で500℃、
2時間焼成して0.01wt%Pt・SiO2を調製
し、第2成分の触媒粉末とした。
した場合の実施例を以下説明する。 実施例1 メタチタン酸スラリ(TiO2含有量:30wt%、S
O4含有量:8wt%)67kgにパラタングステン酸
アンモニウム((NH4)10H10・W12O46・
6H2O)2.5kg、メタバナジン酸アンモニウム
2.33kgを加えてニーダを用いて混練し、得られた
ペーストを造粒した後、乾燥し、550℃で2時間焼成
し、得られた顆粒を粉砕して、第1成分である触媒粉末
とした。この粉末の組成はTi/W/V=91/5/4
(原子比)である。一方、1.33×10−2wt%の
塩化白金酸(H2[PtCl6]・6H2O)1Lに、
微粒シリカ粉末(富田製薬(株)製、マイコンF)50
0gを加えて砂浴上で蒸発乾固し、空気中で500℃、
2時間焼成して0.01wt%Pt・SiO2を調製
し、第2成分の触媒粉末とした。
【0039】次に、第1成分20kgと第2成分40.
1gにシリカ・アルミナ系無機繊維5.3kg、水17
kgを加えてニーダで混練し、触媒ペーストを得、これ
とは別に、Eガラス系繊維でできた網状物にチタニア、
シリカゾル、ポリビニールアルコールのスラリーを含浸
し、150℃で乾燥して触媒基材とし、この触媒基材間
に前記触媒ペーストを挟持させて圧延ローラを通して圧
延して板状体とし、この板状体を12時間大気中で風乾
した後、500℃で2時間焼成して脱硝機能を備えたN
H3分解触媒とした。なお、本触媒中の第1成分と第2
成分の第2成分/第1成分比は0.2/99.8であ
る。
1gにシリカ・アルミナ系無機繊維5.3kg、水17
kgを加えてニーダで混練し、触媒ペーストを得、これ
とは別に、Eガラス系繊維でできた網状物にチタニア、
シリカゾル、ポリビニールアルコールのスラリーを含浸
し、150℃で乾燥して触媒基材とし、この触媒基材間
に前記触媒ペーストを挟持させて圧延ローラを通して圧
延して板状体とし、この板状体を12時間大気中で風乾
した後、500℃で2時間焼成して脱硝機能を備えたN
H3分解触媒とした。なお、本触媒中の第1成分と第2
成分の第2成分/第1成分比は0.2/99.8であ
る。
【0040】本触媒を用いて、図1に示した装置及び表
1に示した条件で排水処理試験を行った時の装置起動時
のNOx濃度を図2中の曲線(a)に示す。ただし、N
Ox計16の指示値が5ppmを超えた場合は、ポンプ
4からストリッピング塔7の上部へ供給される排水Aの
流量を停止し、オン−オフ制御した。
1に示した条件で排水処理試験を行った時の装置起動時
のNOx濃度を図2中の曲線(a)に示す。ただし、N
Ox計16の指示値が5ppmを超えた場合は、ポンプ
4からストリッピング塔7の上部へ供給される排水Aの
流量を停止し、オン−オフ制御した。
【0041】
【表1】
【0042】比較例1 図14に示した従来技術の装置を用いて、表1に示した
実施例1と同じ条件で排水処理試験を行った。その結果
を図2中の曲線(b)に示す。実施例1は比較例1と比
べて起動時の出口ガス中のNOx濃度が低いことが分か
る。
実施例1と同じ条件で排水処理試験を行った。その結果
を図2中の曲線(b)に示す。実施例1は比較例1と比
べて起動時の出口ガス中のNOx濃度が低いことが分か
る。
【0043】実施例2 実施例1と同一の触媒及び装置を用いて排水処理試験を
行った。ただし、排水中のNH4濃度が急激に変化した
場合の例である。その際のNOx濃度を図3中の曲線
(a)に示す。ただし、NH4濃度が急激に増加した後
はNOx計16の指示値が10ppmを超えた場合は、
ポンプ4からストリッピング塔7の上部へ供給される排
水Aの流量を停止し、オン−オフ制御した。
行った。ただし、排水中のNH4濃度が急激に変化した
場合の例である。その際のNOx濃度を図3中の曲線
(a)に示す。ただし、NH4濃度が急激に増加した後
はNOx計16の指示値が10ppmを超えた場合は、
ポンプ4からストリッピング塔7の上部へ供給される排
水Aの流量を停止し、オン−オフ制御した。
【0044】比較例2 図14に示した従来技術の装置を用いて、実施例2と同
じ条件で排水処理試験を行った。その結果を図3中の曲
線(b)に示す。実施例2は比較例2と比べて排水中の
NH4濃度が低いことが明瞭に示されている。
じ条件で排水処理試験を行った。その結果を図3中の曲
線(b)に示す。実施例2は比較例2と比べて排水中の
NH4濃度が低いことが明瞭に示されている。
【0045】本発明の第二の実施の形態 図4に示す装置系統は図1の装置系統で説明したNH3
含有排水の供給量の調整の代わりに、NH3含有排水中
のNH3濃度を調整する実施例であり、それ以外は図1
の装置系統と同じ装置系統である。
含有排水の供給量の調整の代わりに、NH3含有排水中
のNH3濃度を調整する実施例であり、それ以外は図1
の装置系統と同じ装置系統である。
【0046】排水AおよびアルカリBはそれぞれ配管1
および配管2からタンク3に供給され、必要に応じてポ
ンプ17により配管18から水Fがタンク3に送られ、
タンク3内で混合された後、ポンプ4により予熱器5に
送られる。予熱器5で約100℃まで予熱された排水A
は、配管6を通してストリッピング塔7の上部へ供給さ
れる。ストリッピング塔7の内部には充填物8が入って
おり、キャリアガスとしての塔下部の配管9から供給さ
れた蒸気C(空気を含む)は排水Aと塔内で効率良く接
触しながら塔内を上昇し、高濃度のアンモニアガスを含
むガスが得られる。
および配管2からタンク3に供給され、必要に応じてポ
ンプ17により配管18から水Fがタンク3に送られ、
タンク3内で混合された後、ポンプ4により予熱器5に
送られる。予熱器5で約100℃まで予熱された排水A
は、配管6を通してストリッピング塔7の上部へ供給さ
れる。ストリッピング塔7の内部には充填物8が入って
おり、キャリアガスとしての塔下部の配管9から供給さ
れた蒸気C(空気を含む)は排水Aと塔内で効率良く接
触しながら塔内を上昇し、高濃度のアンモニアガスを含
むガスが得られる。
【0047】得られたガス中のNH3濃度は数千〜数万
ppmである。得られたガスは必要に応じて配管10か
ら供給された空気Dによって希釈され、場合によっては
予熱器11で所定の温度まで予熱された後、触媒塔12
に導かれる。ストリッピングされたアンモニアガスは触
媒層13上で酸化分解し、N2とH2Oに分解され配管
14から大気へ放出され、その一部はNOx計16に送
られてガス中のNOx濃度が測定される。この測定値に
応じてポンプ17からタンク3へ供給される水Fの流量
を変化させてNH3含有排水中のNH3濃度を調整す
る。ストリッピング塔7の下部の配管15からは、アン
モニアを除去された排水Eが排出される。
ppmである。得られたガスは必要に応じて配管10か
ら供給された空気Dによって希釈され、場合によっては
予熱器11で所定の温度まで予熱された後、触媒塔12
に導かれる。ストリッピングされたアンモニアガスは触
媒層13上で酸化分解し、N2とH2Oに分解され配管
14から大気へ放出され、その一部はNOx計16に送
られてガス中のNOx濃度が測定される。この測定値に
応じてポンプ17からタンク3へ供給される水Fの流量
を変化させてNH3含有排水中のNH3濃度を調整す
る。ストリッピング塔7の下部の配管15からは、アン
モニアを除去された排水Eが排出される。
【0048】本発明の第三の実施の形態 図5に、図1の装置系統でのNH3含有排水の供給量の
調整の代わりに、触媒と接触するNH3を含むガスの流
量を調整する装置系統を示し、図5の装置系統は、それ
以外は図1の装置系統と同じ装置の系統である。
調整の代わりに、触媒と接触するNH3を含むガスの流
量を調整する装置系統を示し、図5の装置系統は、それ
以外は図1の装置系統と同じ装置の系統である。
【0049】排水AおよびアルカリBはそれぞれ配管1
および配管2からタンク3に供給され、タンク3内で混
合された後、ポンプ4により予熱器5に送られる。予熱
器5で約100℃まで予熱された排水Aは、配管6を通
してストリッピング塔7の上部へ供給される。ストリッ
ピング塔7の内部には充填物8が入っており、キャリア
ガスとしての塔下部の配管9から供給された蒸気C(空
気を含む)は排水Aと塔内で効率良く接触しながら塔内
を上昇し、高濃度のアンモニアガスを含むガスが得られ
る。得られたガス中のNH3濃度は数千〜数万ppmで
ある。得られたガスは必要に応じて配管10から供給さ
れた空気Dによって希釈され、場合によっては予熱器1
1で所定の温度まで予熱された後、触媒塔12に導かれ
る。ストリッピングされたアンモニアガスは触媒層13
上で酸化分解し、N2とH2Oに分解され配管14から
大気へ放出され、その一部はNOx計16に送られてガ
ス中のNOx濃度が測定される。この測定値に応じて調
節弁19により配管10から供給される空気Dの流量が
制御される。ストリッピング塔7の下部の配管15から
は、アンモニアを除去された排水Eが排出される。
および配管2からタンク3に供給され、タンク3内で混
合された後、ポンプ4により予熱器5に送られる。予熱
器5で約100℃まで予熱された排水Aは、配管6を通
してストリッピング塔7の上部へ供給される。ストリッ
ピング塔7の内部には充填物8が入っており、キャリア
ガスとしての塔下部の配管9から供給された蒸気C(空
気を含む)は排水Aと塔内で効率良く接触しながら塔内
を上昇し、高濃度のアンモニアガスを含むガスが得られ
る。得られたガス中のNH3濃度は数千〜数万ppmで
ある。得られたガスは必要に応じて配管10から供給さ
れた空気Dによって希釈され、場合によっては予熱器1
1で所定の温度まで予熱された後、触媒塔12に導かれ
る。ストリッピングされたアンモニアガスは触媒層13
上で酸化分解し、N2とH2Oに分解され配管14から
大気へ放出され、その一部はNOx計16に送られてガ
ス中のNOx濃度が測定される。この測定値に応じて調
節弁19により配管10から供給される空気Dの流量が
制御される。ストリッピング塔7の下部の配管15から
は、アンモニアを除去された排水Eが排出される。
【0050】本発明の第四の実施の形態 ガスを循環させることにより触媒塔出口ガス中のNOx
濃度を調整する装置の系統を図6に示す。
濃度を調整する装置の系統を図6に示す。
【0051】排水AおよびアルカリBはそれぞれ配管1
および配管2からタンク3に供給され、タンク3内で混
合された後、ポンプ4により予熱器5に送られる。予熱
器5で約100℃まで予熱された排水Aは、配管6を通
してストリッピング塔7の上部へ供給される。ストリッ
ピング塔7の内部には充填物8が入っており、キャリア
ガスとしての塔下部に配管9及び配管20から供給され
た蒸気C及びガスFは排水Aと塔内で効率良く接触しな
がら塔内を上昇し、高濃度のアンモニアガスを含むガス
が得られる。得られたガス中のNH3濃度は数千〜数万
ppmである。得られたガスに配管10から空気Dが添
加され、場合によっては予熱器11で所定の温度まで予
熱された後、触媒塔12に導かれる。ストリッピングさ
れたアンモニアガスは脱硝機能を備えたNH3分解触媒
層13と接触し、NH3が前記触媒層13上で酸化分解
し、N2とH2Oに分解される。NH3分解触媒層13
によりNH3がN2とH2Oに分解されたガスGは、そ
の一部はNOx計16に送られてガス中のNOx濃度が
測定され、残りは配管20を通して、場合によっては予
熱器22によりガス温度を高められた後、ファン21に
よりストリッピング塔7に戻される。NOx計16の測
定値に応じて調節弁24によりストリッピング塔7に戻
されるガスGの流量が制御される。ガスGの一部はファ
ン21と予熱器22の間に設置された配管23から系外
に排出される。ストリッピング塔7の下部の配管15か
らは、アンモニアを除去された排水Eが排出される。こ
のとき、いずれかの配管中のガス内に酸素濃度を調整す
ることが望ましい。
および配管2からタンク3に供給され、タンク3内で混
合された後、ポンプ4により予熱器5に送られる。予熱
器5で約100℃まで予熱された排水Aは、配管6を通
してストリッピング塔7の上部へ供給される。ストリッ
ピング塔7の内部には充填物8が入っており、キャリア
ガスとしての塔下部に配管9及び配管20から供給され
た蒸気C及びガスFは排水Aと塔内で効率良く接触しな
がら塔内を上昇し、高濃度のアンモニアガスを含むガス
が得られる。得られたガス中のNH3濃度は数千〜数万
ppmである。得られたガスに配管10から空気Dが添
加され、場合によっては予熱器11で所定の温度まで予
熱された後、触媒塔12に導かれる。ストリッピングさ
れたアンモニアガスは脱硝機能を備えたNH3分解触媒
層13と接触し、NH3が前記触媒層13上で酸化分解
し、N2とH2Oに分解される。NH3分解触媒層13
によりNH3がN2とH2Oに分解されたガスGは、そ
の一部はNOx計16に送られてガス中のNOx濃度が
測定され、残りは配管20を通して、場合によっては予
熱器22によりガス温度を高められた後、ファン21に
よりストリッピング塔7に戻される。NOx計16の測
定値に応じて調節弁24によりストリッピング塔7に戻
されるガスGの流量が制御される。ガスGの一部はファ
ン21と予熱器22の間に設置された配管23から系外
に排出される。ストリッピング塔7の下部の配管15か
らは、アンモニアを除去された排水Eが排出される。こ
のとき、いずれかの配管中のガス内に酸素濃度を調整す
ることが望ましい。
【0052】本発明の第五の実施の形態 図8に、図1の装置系統でのNH3含有排水の供給量の
調整の代わりに、触媒層13内の複数箇所の温度測定値
の差に応じてストリッピング塔7へ供給する排水Aの流
量を調整するものである。
調整の代わりに、触媒層13内の複数箇所の温度測定値
の差に応じてストリッピング塔7へ供給する排水Aの流
量を調整するものである。
【0053】触媒層13内には2以上の箇所に温度測定
装置26の温度センサー26(a)、26(b)が備え
られており、前記温度センサー26(a)、26(b)
により測定された触媒層13内の温度測定値の差に応じ
てポンプ4からストリッピング塔7の上部へ供給される
排水Aの流量が調整される。
装置26の温度センサー26(a)、26(b)が備え
られており、前記温度センサー26(a)、26(b)
により測定された触媒層13内の温度測定値の差に応じ
てポンプ4からストリッピング塔7の上部へ供給される
排水Aの流量が調整される。
【0054】図8に示す装置では触媒層13内の2ヶ所
で温度を測定しているが、3ヶ所以上で温度を測定して
もよいことは言うまでもない。
で温度を測定しているが、3ヶ所以上で温度を測定して
もよいことは言うまでもない。
【0055】図8に示す装置系統に本発明の触媒を適用
した場合の実施例を以下説明する。 実施例3 実施例1で使用した触媒を用いて、図8に示した装置及
び表1に示した条件で排水処理試験を行った時の装置起
動時のNOx濃度を図9中の曲線(a)に示す。ただ
し、温度センサー26(a)、26(b)での温度測定
値の差が10℃を超えた場合は、ポンプ4からストリッ
ピング塔7の上部へ供給される排水Aの流量を停止し、
温度差が5〜10℃の範囲では下記の式に基づく流量を
流し、温度差が5℃以下では表1の流量(1.6L/
h)とした。 F=(10−△T)×0.32 ただし、F:排水量(L/h) △T:温度差
(℃) 図14に示した装置を用いて、表1に示した実施例3と
同じ条件で排水処理試験を行った前記比較例1の結果を
図9中の曲線(b)に示す。実施例3は比較例1と比べ
て装置の起動時の出口ガス中のNOx濃度が低い。
した場合の実施例を以下説明する。 実施例3 実施例1で使用した触媒を用いて、図8に示した装置及
び表1に示した条件で排水処理試験を行った時の装置起
動時のNOx濃度を図9中の曲線(a)に示す。ただ
し、温度センサー26(a)、26(b)での温度測定
値の差が10℃を超えた場合は、ポンプ4からストリッ
ピング塔7の上部へ供給される排水Aの流量を停止し、
温度差が5〜10℃の範囲では下記の式に基づく流量を
流し、温度差が5℃以下では表1の流量(1.6L/
h)とした。 F=(10−△T)×0.32 ただし、F:排水量(L/h) △T:温度差
(℃) 図14に示した装置を用いて、表1に示した実施例3と
同じ条件で排水処理試験を行った前記比較例1の結果を
図9中の曲線(b)に示す。実施例3は比較例1と比べ
て装置の起動時の出口ガス中のNOx濃度が低い。
【0056】実施例4 実施例3と同一の触媒及び装置を用いて排水処理試験を
行った。ただし、排水中のNH4濃度が急激に変化し
た。その際のNOx濃度を図10中の曲線(a)に示
す。ただし、温度測定装置26の温度センサー26
(a)及び26(b)での温度測定値の差に基づくポン
プ4からストリッピング塔7の上部へ供給される排水A
の流量の制御は実施例3と同様にした。
行った。ただし、排水中のNH4濃度が急激に変化し
た。その際のNOx濃度を図10中の曲線(a)に示
す。ただし、温度測定装置26の温度センサー26
(a)及び26(b)での温度測定値の差に基づくポン
プ4からストリッピング塔7の上部へ供給される排水A
の流量の制御は実施例3と同様にした。
【0057】比較例3 図14に示した装置を用いて、実施例4と同じ条件で排
水処理試験を行った。その結果を図3中の曲線(b)に
示す。実施例4は比較例3と比べて排水中のNH4濃度
が変化した時の出口ガス中のNOx濃度が低い。
水処理試験を行った。その結果を図3中の曲線(b)に
示す。実施例4は比較例3と比べて排水中のNH4濃度
が変化した時の出口ガス中のNOx濃度が低い。
【0058】本発明の第五の実施の形態 図8でのストリッピング塔7へ供給するNH3含有排水
Aの流量を調整する代わりに、NH3含有排水A中のN
H3濃度を調整するものであり、それ以外は図8の装置
系統と同じ装置の系統を図11に示す。
Aの流量を調整する代わりに、NH3含有排水A中のN
H3濃度を調整するものであり、それ以外は図8の装置
系統と同じ装置の系統を図11に示す。
【0059】排水AおよびアルカリBはそれぞれ配管1
および2からタンク3に供給され、必要に応じてポンプ
17により配管18から水Fがタンク3に送られ、タン
ク3内で混合された後、ポンプ4により予熱器5に送ら
れる。予熱器5で約100℃まで予熱された排水Aは、
配管6を通してストリッピング塔7の上部へ供給され
る。ストリッピング塔7の内部には充填物8が入ってお
り、キャリアガスとしての塔下部の配管9から供給され
た蒸気C(空気を含む)は排水Aと塔内で効率良く接触
しながら塔内を上昇し、高濃度のアンモニアガスを含む
ガスが得られる。得られたガス中のNH3濃度数千〜数
万ppmである。得られたガスは必要に応じて配管10
から供給された空気Dによって希釈され、場合によって
は予熱器11で所定の温度まで予熱された後、触媒塔1
2に導かれる。ストリッピングされたアンモニアガスは
触媒層13上で酸化分解し、N2とH2Oに分解され配
管14から大気へ放出される。触媒層13内の複数ヶ所
の温度が温度センサー26(a)及び26(b)が備え
られた温度測定装置26により測定され、この測定値の
差に応じてポンプ17からタンク3へ供給される水Fの
流量を変化させ、ストリッピング塔7の上部へ供給され
る排水A中のNH3濃度が調整される。ストリッピング
塔7の下部の配管15からは、アンモニアを除去された
排水Eが排出される。
および2からタンク3に供給され、必要に応じてポンプ
17により配管18から水Fがタンク3に送られ、タン
ク3内で混合された後、ポンプ4により予熱器5に送ら
れる。予熱器5で約100℃まで予熱された排水Aは、
配管6を通してストリッピング塔7の上部へ供給され
る。ストリッピング塔7の内部には充填物8が入ってお
り、キャリアガスとしての塔下部の配管9から供給され
た蒸気C(空気を含む)は排水Aと塔内で効率良く接触
しながら塔内を上昇し、高濃度のアンモニアガスを含む
ガスが得られる。得られたガス中のNH3濃度数千〜数
万ppmである。得られたガスは必要に応じて配管10
から供給された空気Dによって希釈され、場合によって
は予熱器11で所定の温度まで予熱された後、触媒塔1
2に導かれる。ストリッピングされたアンモニアガスは
触媒層13上で酸化分解し、N2とH2Oに分解され配
管14から大気へ放出される。触媒層13内の複数ヶ所
の温度が温度センサー26(a)及び26(b)が備え
られた温度測定装置26により測定され、この測定値の
差に応じてポンプ17からタンク3へ供給される水Fの
流量を変化させ、ストリッピング塔7の上部へ供給され
る排水A中のNH3濃度が調整される。ストリッピング
塔7の下部の配管15からは、アンモニアを除去された
排水Eが排出される。
【0060】本発明の第六の実施の形態 図8でのストリッピング塔7へ供給するNH3含有排水
Aの流量を調整する代わりに、触媒層13と接触するN
H3を含むガスの流量を調整するものであり、それ以外
は図8の装置系統と同じ装置の系統を図12に示す。
Aの流量を調整する代わりに、触媒層13と接触するN
H3を含むガスの流量を調整するものであり、それ以外
は図8の装置系統と同じ装置の系統を図12に示す。
【0061】排水AおよびアルカリBはそれぞれ配管1
および2からタンク3に供給され、タンク3内で混合さ
れた後、ポンプ4により予熱器5に送られる。予熱器5
で約100℃まで予熱された排水Aは、配管6を通して
ストリッピング塔7の上部へ供給される。ストリッピン
グ塔7の内部には充填物8が入っており、キャリアガス
としての塔下部の配管9から供給された蒸気C(空気を
含む)は排水Aと塔内で効率良く接触しながら塔内を上
昇し、高濃度のアンモニアガスを含むガスが得られる。
得られたガス中のNH3濃度数千〜数万ppmである。
得られたガスは必要に応じて配管10から供給された空
気Dによって希釈され、場合によっては予熱器11で所
定の温度まで予熱された後、触媒塔12に導かれる。ス
トリッピングされたアンモニアガスは触媒層13上で酸
化分解し、N2とH2Oに分解され配管14から大気へ
放出される。触媒層13内の複数ヶ所の温度が温度セン
サー26(a)及び26(b)が備えられた温度測定装
置26により測定され、この測定値の差に応じて調節弁
19により配管10から供給される空気Dの流量が制御
される。ストリッピング塔7の下部の配管15からは、
アンモニアを除去された排水Eが排出される。
および2からタンク3に供給され、タンク3内で混合さ
れた後、ポンプ4により予熱器5に送られる。予熱器5
で約100℃まで予熱された排水Aは、配管6を通して
ストリッピング塔7の上部へ供給される。ストリッピン
グ塔7の内部には充填物8が入っており、キャリアガス
としての塔下部の配管9から供給された蒸気C(空気を
含む)は排水Aと塔内で効率良く接触しながら塔内を上
昇し、高濃度のアンモニアガスを含むガスが得られる。
得られたガス中のNH3濃度数千〜数万ppmである。
得られたガスは必要に応じて配管10から供給された空
気Dによって希釈され、場合によっては予熱器11で所
定の温度まで予熱された後、触媒塔12に導かれる。ス
トリッピングされたアンモニアガスは触媒層13上で酸
化分解し、N2とH2Oに分解され配管14から大気へ
放出される。触媒層13内の複数ヶ所の温度が温度セン
サー26(a)及び26(b)が備えられた温度測定装
置26により測定され、この測定値の差に応じて調節弁
19により配管10から供給される空気Dの流量が制御
される。ストリッピング塔7の下部の配管15からは、
アンモニアを除去された排水Eが排出される。
【0062】本発明の第七の実施の形態 図8でのストリッピング塔7へ供給するNH3含有排水
Aの流量を調整する代わりに、ガスGをストリッピング
塔7へ循環させることにより触媒塔12出口ガス中のN
Ox濃度を調整する装置の系統を図13に示す。
Aの流量を調整する代わりに、ガスGをストリッピング
塔7へ循環させることにより触媒塔12出口ガス中のN
Ox濃度を調整する装置の系統を図13に示す。
【0063】排水AおよびアルカリBはそれぞれ配管1
および2からタンク3に供給され、タンク3内で混合さ
れた後、ポンプ4により予熱器5に送られる。予熱器5
で約100℃まで予熱された排水Aは、配管6を通して
ストリッピング塔7の上部へ供給される。ストリッピン
グ塔7の内部には充填物8が入っており、キャリアガス
としての塔下部に配管9及び20から供給された蒸気C
及びガスGは排水Aと塔内で効率良く接触しながら塔内
を上昇し、高濃度のアンモニアガスを含むガスが得られ
る。得られたガス中のNH3濃度は数千〜数万ppmで
ある。得られたガスに配管10から空気Dが添加され、
場合によっては予熱器11で所定の温度まで予熱された
後、触媒塔12に導かれる。ストリッピングされたアン
モニアガスは脱硝機能を備えたNH3分解触媒層13と
接触し、NH3が前記触媒層13上で酸化分解し、N2
とH2Oに分解される。NH3分解触媒層13によりN
H 3がN2とH2Oに分解されたガスGは、配管20を
通して、場合によっては予熱器22によりガス温度を高
められた後、ファン21によりストリッピング塔7に戻
される。触媒層13内の複数ヶ所の温度が温度センサー
26(a)及び26(b)が備えられた温度測定装置2
6により測定され、この測定値の差に応じて調節弁24
によりのストリッピング塔7に戻されるガスGの流量が
制御される。ガスGの一部はファン21と予熱器22の
間に設置された配管23から系外に排出される。ストリ
ッピング塔7の下部の配管15からは、アンモニアを除
去された排水Eが排出される。
および2からタンク3に供給され、タンク3内で混合さ
れた後、ポンプ4により予熱器5に送られる。予熱器5
で約100℃まで予熱された排水Aは、配管6を通して
ストリッピング塔7の上部へ供給される。ストリッピン
グ塔7の内部には充填物8が入っており、キャリアガス
としての塔下部に配管9及び20から供給された蒸気C
及びガスGは排水Aと塔内で効率良く接触しながら塔内
を上昇し、高濃度のアンモニアガスを含むガスが得られ
る。得られたガス中のNH3濃度は数千〜数万ppmで
ある。得られたガスに配管10から空気Dが添加され、
場合によっては予熱器11で所定の温度まで予熱された
後、触媒塔12に導かれる。ストリッピングされたアン
モニアガスは脱硝機能を備えたNH3分解触媒層13と
接触し、NH3が前記触媒層13上で酸化分解し、N2
とH2Oに分解される。NH3分解触媒層13によりN
H 3がN2とH2Oに分解されたガスGは、配管20を
通して、場合によっては予熱器22によりガス温度を高
められた後、ファン21によりストリッピング塔7に戻
される。触媒層13内の複数ヶ所の温度が温度センサー
26(a)及び26(b)が備えられた温度測定装置2
6により測定され、この測定値の差に応じて調節弁24
によりのストリッピング塔7に戻されるガスGの流量が
制御される。ガスGの一部はファン21と予熱器22の
間に設置された配管23から系外に排出される。ストリ
ッピング塔7の下部の配管15からは、アンモニアを除
去された排水Eが排出される。
【0064】
【発明の効果】本発明によれば、NH3含有排水の処理
装置を起動した際やガス中のNH3濃度が変動した場合
に触媒塔出口のNOx濃度が高くなるという問題が無く
なり、有害物質の発生量を低減できる。
装置を起動した際やガス中のNH3濃度が変動した場合
に触媒塔出口のNOx濃度が高くなるという問題が無く
なり、有害物質の発生量を低減できる。
【図1】 本発明の実施の形態の基本装置構成図であ
る。
る。
【図2】 図1の装置に係わる実験データである。
【図3】 図1の装置に係わる実験データである。
【図4】 本発明の実施の形態の基本装置構成図であ
る。
る。
【図5】 本発明の実施の形態の基本装置構成図であ
る。
る。
【図6】 本発明の実施の形態の基本装置構成図であ
る。
る。
【図7】 本発明に用いる触媒の効果を示す模式図であ
る。
る。
【図8】 本発明の実施の形態の基本装置構成図であ
る。
る。
【図9】 図8に係わる実験データである。
【図10】 図8に係わる実験データである。
【図11】 本発明の実施の形態の基本装置構成図であ
る。
る。
【図12】 本発明の実施の形態の基本装置構成図であ
る。
る。
【図13】 本発明の実施の形態の基本装置構成図であ
る。
る。
【図14】 従来方式の基本装置構成図である。
1、2、6、9、10、14、15、18、20、23
配管 3 タンク 4、17 ポンプ 5、11、22 予熱器 7 ストリッピン
グ塔 8 充填物 12 触媒塔 13 触媒層 16 NOx計 19、24 調整弁 21 ファン 26 温度測定装置 26(a)、26(b) 温度センサー A、E 排水 B アルカリ C 蒸気 D 空気 F 水 G ガス
配管 3 タンク 4、17 ポンプ 5、11、22 予熱器 7 ストリッピン
グ塔 8 充填物 12 触媒塔 13 触媒層 16 NOx計 19、24 調整弁 21 ファン 26 温度測定装置 26(a)、26(b) 温度センサー A、E 排水 B アルカリ C 蒸気 D 空気 F 水 G ガス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高本 成仁 広島県呉市宝町3番36号 バブコック日立 株式会社呉研究所内 (72)発明者 中本 隆則 広島県呉市宝町6番9号 バブコック日立 株式会社呉事業所内 Fターム(参考) 4D037 AA13 AB12 BA23 BB01 BB05 4D048 AA06 AA08 AB02 AB03 BA03X BA06X BA07X BA11Y BA23X BA26Y BA27X BA30X BA31Y BA33Y BA41X BA42X BB08 CC38 CC52 DA01 DA02 DA03 DA05 DA08 DA13 DA20 EA07
Claims (20)
- 【請求項1】 アンモニア(NH3)含有排水中の前記
NH3を無害化するNH3含有排水の浄化方法におい
て、 前記NH3含有排水とキャリアガスを接触させてNH3
含有排水からNH3を気相中に移行させる工程と、 該工程で発生したNH3を含むガスを加熱する工程と、
該加熱工程で加熱されたNH3含有ガスを触媒に接触さ
せて前記NH3を窒素と水に分解する工程と、 該分解工程で発生したガス中のNOx濃度を測定する工
程又は前記触媒の温度を複数ヶ所で測定する工程のいず
れかの工程と、 前記ガス中のNOx濃度を測定する工程を選択する場合
は該NOx濃度に基づいて、又は前記触媒の温度を複数
ヶ所で測定する工程を選択する場合は、複数ヶ所での温
度測定値の差が一定値以上の場合はその温度測定値の差
に基づいて、(a)NH3含有排水の供給量、(b)N
H3含有排水中のNH3濃度、(c)触媒と接触するN
H3を含むガスの流量のうちの1つ以上を調整する工程
を含むことを特徴とするNH3含有排水の浄化方法。 - 【請求項2】 前記触媒が、窒素酸化物(NOx)のN
H3による還元活性を有する第1成分とNH3から窒素
酸化物を生成させる活性を有する第2成分とからなるこ
とを特徴とする請求項1記載のNH3含有排水の浄化方
法。 - 【請求項3】 前記触媒が、チタン(Ti)の酸化物及
びタングステン(W)、バナジウム(V)若しくはモリ
ブデン(Mo)から選ばれた1種以上の元素との酸化物
と、白金(Pt)、イリジウム(Ir)、ロジウム(R
h)およびパラジウム(Pd)から選ばれた1種以上の
貴金属を担持したシリカ、ゼオライトおよび/またはア
ルミナを含有する触媒であることを特徴とする請求項1
記載のNH3含有排水の浄化方法。 - 【請求項4】 前記触媒が、ゼオライトであることを特
徴とする請求項1記載のNH3含有排水の浄化方法。 - 【請求項5】 前記分解工程で発生したガスの一部を系
外に排出した後、該ガス中のNH3を除去する工程を含
むことを特徴とする請求項1記載のNH3含有排水の浄
化方法。 - 【請求項6】 アンモニア(NH3)含有排水中の前記
NH3を無害化するNH3含有排水の浄化方法におい
て、 前記NH3含有排水とキャリアガスを接触させてNH3
含有排水からNH3を気相中に移行させる工程と、 該NH3を気相中に移行させる工程で発生したNH3を
含むガスを加熱する工程と、 該加熱工程で加熱されたNH3含有ガスを触媒に接触さ
せて前記NH3を窒素と水に分解する工程と、 該分解工程で発生したガス中のNOx濃度を測定する工
程と、 該NOx濃度に基づいてガスの一部を系外に排出し、残
りを前記NH3含有排水からNH3を気相中に移行させ
る工程でのキャリアガスとして循環するガスの流量を調
節する工程を含むことを特徴とするNH3含有排水の浄
化方法。 - 【請求項7】 前記触媒が、窒素酸化物(NOx)のN
H3による還元活性を有する第1成分とNH3から窒素
酸化物を生成させる活性を有する第2成分とからなるこ
とを特徴とする請求項6記載のNH3含有排水の浄化方
法。 - 【請求項8】 前記触媒が、チタン(Ti)の酸化物及
びタングステン(W)、バナジウム(V)若しくはモリ
ブデン(Mo)から選ばれた1種以上の元素との酸化物
と、白金(Pt)、イリジウム(Ir)、ロジウム(R
h)およびパラジウム(Pd)から選ばれた1種以上の
貴金属を担持したシリカ、ゼオライトおよび/またはア
ルミナを含有する触媒であることを特徴とする請求項6
記載のNH3含有排水の浄化方法。 - 【請求項9】 前記触媒が、ゼオライトであることを特
徴とする請求項6記載のNH3含有排水の浄化方法。 - 【請求項10】 前記分解工程で発生したガスの一部を
系外に排出した後、該ガス中のNH3を除去する工程を
含むことを特徴とする請求項6記載のNH3含有排水の
浄化方法。 - 【請求項11】 アンモニア(NH3)含有排水中の前
記NH3を無害化するNH3含有排水の浄化装置におい
て、 前記NH3含有排水とキャリアガスを接触させてNH3
含有排水からNH3を気相中に移行させる手段と、 該移行手段で発生したNH3を含むガスを加熱する手段
と、 該加熱手段で加熱されたNH3含有ガスを触媒に接触さ
せて前記NH3を窒素と水に分解する手段と、 該分解手段で発生したガス中のNOx濃度を測定するガ
ス中NOx濃度手段又は前記触媒の温度を複数ヶ所で触
媒温度測定する手段のいずれかの手段と、 ガス中NOx濃度手段によるNOx濃度に基づいて、又
は前記複数ヶ所での触媒温度測定手段による触媒温度測
定値の差が一定値以上の場合は、その温度測定値の差に
基づいて、該NOx濃度に基づいて(a)NH3含有排
水の供給量、(b)NH3含有排水中のNH3濃度、
(c)触媒と接触するNH3を含むガスの流量のうちの
1つ以上を調整する手段を含むことを特徴とするNH3
含有排水の浄化装置。 - 【請求項12】 前記触媒が、窒素酸化物(NOx)の
NH3による還元活性を有する第1成分とNH3から窒
素酸化物を生成させる活性を有する第2成分とからなる
ことを特徴とする請求項11記載のNH3含有排水の浄
化装置。 - 【請求項13】 前記触媒が、チタン(Ti)の酸化物
及びタングステン(W)、バナジウム(V)若しくはモ
リブデン(Mo)から選ばれた1種以上の元素との酸化
物と、白金(Pt)、イリジウム(Ir)、ロジウム
(Rh)およびパラジウム(Pd)から選ばれた1種以
上の貴金属を担持したシリカ、ゼオライトおよび/また
はアルミナを含有する触媒であることを特徴とする請求
項11記載のNH3含有排水の浄化装置。 - 【請求項14】 前記触媒が、ゼオライトであることを
特徴とする請求項11記載のNH3含有排水の浄化装
置。 - 【請求項15】 前記分解手段で発生したガスの一部を
系外に排出した後、該ガス中のNH3を除去する手段を
含むことを特徴とする請求項11記載のNH 3含有排水
の浄化装置。 - 【請求項16】 アンモニア(NH3)含有排水中の前
記NH3を無害化するNH3含有排水の浄化装置におい
て、 前記NH3含有排水とキャリアガスを接触させてNH3
含有排水からNH3を気相中に移行させる手段と、 該移行手段で発生したNH3を含むガスを加熱する手段
と、 該加熱手段で加熱されたNH3含有ガスを触媒に接触さ
せて前記NH3を窒素と水に分解する手段と、 該分解手段で発生したガス中のNOx濃度を測定する手
段と、 該NOx濃度に基づいてガスの一部を系外に排出し、残
りを前記NH3含有排水からNH3を気相中に移行させ
る工程でのキャリアガスとして循環するガスの流量を調
節する手段を含むことを特徴とするNH3含有排水の浄
化装置。 - 【請求項17】 前記触媒が、窒素酸化物(NOx)の
NH3による還元活性を有する第1成分とNH3から窒
素酸化物を生成させる活性を有する第2成分とからなる
ことを特徴とする請求項16記載のNH3含有排水の浄
化装置。 - 【請求項18】 前記触媒が、チタン(Ti)の酸化物
及びタングステン(W)、バナジウム(V)若しくはモ
リブデン(Mo)から選ばれた1種以上の元素との酸化
物と、白金(Pt)、イリジウム(Ir)、ロジウム
(Rh)およびパラジウム(Pd)から選ばれた1種以
上の貴金属を担持したシリカ、ゼオライトおよび/また
はアルミナを含有する触媒であることを特徴とする請求
項16記載のNH3含有排水の浄化装置。 - 【請求項19】 前記触媒が、ゼオライトであることを
特徴とする請求項16記載のNH3含有排水の浄化装
置。 - 【請求項20】 前記分解手段で発生したガスの一部を
系外に排出した後、該ガス中のNH3を除去する手段を
含むことを特徴とする請求項16記載のNH 3含有排水
の浄化装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000243007A JP2002052380A (ja) | 2000-08-10 | 2000-08-10 | アンモニア含有排水の浄化方法及び装置 |
| PCT/JP2001/002805 WO2002014222A1 (en) | 2000-08-10 | 2001-03-30 | Process and apparatus for treating ammonia-containing waste water |
| KR1020037001863A KR100799049B1 (ko) | 2000-08-10 | 2001-03-30 | 암모니아 함유 배수(排水)의 처리방법 및 장치 |
| AU2001244686A AU2001244686A1 (en) | 2000-08-10 | 2001-03-30 | Process and apparatus for treating ammonia-containing waste water |
| CA2418307A CA2418307C (en) | 2000-08-10 | 2001-03-30 | Method and apparatus for treating ammonia-containing effluent |
| DE60120999T DE60120999T2 (de) | 2000-08-10 | 2001-03-30 | Verfahren und vorrichtung zur behandlung von ammoniakhaltigem abwasser |
| EP01917738A EP1314698B1 (en) | 2000-08-10 | 2001-03-30 | Process and apparatus for treating ammonia-containing waste water |
| US10/343,891 US20050047981A1 (en) | 2000-08-10 | 2001-03-30 | Process and apparatus for treating ammonia-containing waste water |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000243007A JP2002052380A (ja) | 2000-08-10 | 2000-08-10 | アンモニア含有排水の浄化方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002052380A true JP2002052380A (ja) | 2002-02-19 |
Family
ID=18733932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000243007A Withdrawn JP2002052380A (ja) | 2000-08-10 | 2000-08-10 | アンモニア含有排水の浄化方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002052380A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019030820A (ja) * | 2017-08-04 | 2019-02-28 | 株式会社オーイーエス | アンモニア含有排水処理装置および該処理装置を用いたアンモニア含有排水の処理方法 |
-
2000
- 2000-08-10 JP JP2000243007A patent/JP2002052380A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019030820A (ja) * | 2017-08-04 | 2019-02-28 | 株式会社オーイーエス | アンモニア含有排水処理装置および該処理装置を用いたアンモニア含有排水の処理方法 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041029 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20060605 |