JP2002050678A - Wafer carrier, wafer transport mechanism and method, and semiconductor manufacturing apparatus - Google Patents
Wafer carrier, wafer transport mechanism and method, and semiconductor manufacturing apparatusInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、半導体ウェーハの搬送機構に関
し、独立して設けられる搬送機構を使用することなくウ
ェーハキャリアから処理装置へのウェーハの搬送を可能
とするウェーハ搬送機構を提供することを課題とする。
【解決手段】 ウェーハ4を収容して搬送するウェーハ
搬送体は、各々がウェーハを保持する複数のウェーハホ
ルダ24と、ウェーハホルダを垂直方向に整列した状態
で収容するウェーハキャリア22とを有する。ウェーハ
キャリア22はウェーハキャリア移動機構30により垂
直方向に移動される。各ウェーハホルダ24はウェーハ
ホルダ移動機構40によりウェーハキャリア22から引
き出された位置に水平移動される。
(57) Abstract: The present invention relates to a semiconductor wafer transfer mechanism, and relates to a wafer transfer mechanism that enables transfer of a wafer from a wafer carrier to a processing apparatus without using an independently provided transfer mechanism. The task is to provide. SOLUTION: A wafer carrier accommodating and carrying a wafer 4 has a plurality of wafer holders 24 each holding a wafer, and a wafer carrier 22 accommodating the wafer holders in a vertically aligned state. The wafer carrier 22 is moved vertically by the wafer carrier moving mechanism 30. Each wafer holder 24 is horizontally moved by the wafer holder moving mechanism 40 to a position pulled out of the wafer carrier 22.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体製造装置に係
わり、特に、半導体装置を形成するためのウェーハを収
納し搬送するウェーハ搬送体、及びそのようなウェーハ
搬送体を用いたウェーハ搬送機構及び方法に関する。ま
た、本発明は、半導体製造用ウェーハを収納するウェ−
ハ搬送体を用いた半導体製造装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus and, more particularly, to a wafer carrier for accommodating and carrying a wafer for forming a semiconductor device, and a wafer carrier mechanism and method using such a wafer carrier. About. The present invention also relates to a wafer for accommodating a semiconductor manufacturing wafer.
The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus using a carrier.
【0002】近年、半導体製造工場において半導体製造
ラインを構築するには巨額の設備投資が必要となってい
る。設備投資に必要な費用は、製造する半導体装置の製
造コストに影響し、製造コスト上昇の一因となってい
る。したがって、製造ラインの設備投資額をいかに低く
抑えるかが、半導体装置の製造コスト削減にとって重要
課題となっている。[0002] In recent years, building a semiconductor manufacturing line in a semiconductor manufacturing factory requires huge capital investment. The cost required for the capital investment affects the manufacturing cost of the semiconductor device to be manufactured, and contributes to an increase in the manufacturing cost. Therefore, how to reduce the capital investment amount of the manufacturing line is an important issue for reducing the manufacturing cost of the semiconductor device.
【0003】[0003]
【従来の技術】一般的に、半導体装置はシリコンウェー
ハを用いて半導体素子を形成し、得られた半導体素子を
パッケージすることにより製造される。したがって、半
導体製造工程では、ウェーハを搬送する搬送工程が必要
である。通常、ウェーハはウェーハキャリアと称される
収納容器に収容されて各処理装置の間を搬送される。2. Description of the Related Art Generally, a semiconductor device is manufactured by forming a semiconductor element using a silicon wafer and packaging the obtained semiconductor element. Therefore, in the semiconductor manufacturing process, a transport process for transporting a wafer is required. Usually, wafers are housed in a storage container called a wafer carrier and transported between processing apparatuses.
【0004】図1は従来のウェーハキャリアの平面図で
あり、図2は図1に示すウェーハキャリアの正面図であ
る。図2に示すように、ウェーハキャリア2は、複数枚
のウェーハ4を収容できるように構成されている。ウェ
ーハキャリア2において、ウェーハ4は所定の間隔で垂
直方向に整列するよう配置される。通常、一つのウェー
ハキャリア2には、25枚程度のウェーハが収容される
が、図面の簡単化のために、図2では16枚のウェーハ
を収容する構成となっている。なお、図2は、ウェーハ
キャリア2の下側約半分にウェーハ4が収容された状態
を示している。FIG. 1 is a plan view of a conventional wafer carrier, and FIG. 2 is a front view of the wafer carrier shown in FIG. As shown in FIG. 2, the wafer carrier 2 is configured to accommodate a plurality of wafers 4. In the wafer carrier 2, the wafers 4 are arranged at predetermined intervals so as to be vertically aligned. Normally, about 25 wafers are accommodated in one wafer carrier 2, but for simplification of the drawing, FIG. 2 shows a configuration in which 16 wafers are accommodated. FIG. 2 shows a state in which the wafer 4 is accommodated in the lower half of the wafer carrier 2.
【0005】ウェーハキャリア2に収容されたウェーハ
4は、図1において2点鎖線で示すように配置される。
ウェーハキャリア2にはウェーハ4を支持するための溝
6が設けられている。図2において、溝6は簡略化して
示されており、詳細な形状は図3に示されている。The wafer 4 accommodated in the wafer carrier 2 is arranged as shown by a two-dot chain line in FIG.
The wafer carrier 2 is provided with a groove 6 for supporting the wafer 4. In FIG. 2, the groove 6 is shown in a simplified manner, and the detailed shape is shown in FIG.
【0006】図3は、ウェーハ4を支持する溝6を拡大
して示す図である。ウェーハ4の各々はその周囲部分が
溝6に挿入され、溝6の内壁により支持される。溝6は
ウェーハキャリア2の側面及び後面の一部にかけて形成
されており、ウェーハ4の周囲部分のみが係合するよう
になっている。ウェーハキャリア2の中央部分は空洞と
なっており、後述のように、収容されたウェーハ4の下
側にロボットのアームが挿入可能となっている。FIG. 3 is an enlarged view showing a groove 6 for supporting the wafer 4. Each of the wafers 4 has its peripheral portion inserted into the groove 6 and is supported by the inner wall of the groove 6. The groove 6 is formed over a part of the side surface and the rear surface of the wafer carrier 2 so that only the peripheral portion of the wafer 4 is engaged. The central portion of the wafer carrier 2 is hollow, and a robot arm can be inserted below the accommodated wafer 4 as described later.
【0007】図4及び図5は、ウェーハキャリア2に収
容されたウェーハ4を処理装置に搬送する動作を示す図
である。ウェーハ4は、ロボット8によりウェーハキャ
リア2から処理装置10へと搬送される。なお、ウェー
ハキャリア2は駆動機構(図示せず)により垂直方向に
移動可能である。FIGS. 4 and 5 are views showing the operation of transporting the wafer 4 stored in the wafer carrier 2 to a processing apparatus. The wafer 4 is transferred from the wafer carrier 2 to the processing apparatus 10 by the robot 8. The wafer carrier 2 can be moved in the vertical direction by a driving mechanism (not shown).
【0008】まず、図4に示すように、搬送すべきウェ
ーハ4の位置がロボット8のアーム8aの位置に一致す
るように、ウェーハキャリア2が駆動機構により垂直方
向に駆動される。そして、ロボット8のアーム8aがウ
ェーハ4の下側に挿入され、ウェーハ4はアーム8a上
に載置される。First, as shown in FIG. 4, the wafer carrier 2 is driven vertically by the driving mechanism so that the position of the wafer 4 to be transferred coincides with the position of the arm 8a of the robot 8. Then, the arm 8a of the robot 8 is inserted below the wafer 4, and the wafer 4 is placed on the arm 8a.
【0009】そして、図5に示すように、ウェーハ4は
ロボット8のアーム8aにより保持され、ウェーハキャ
リア2の外へ取り出される。その後、ロボット8は回転
運動することにより処理装置10の方向に向き、アーム
8aによりウェーハ4を処理装置10内のピン12の上
に載置する。これにより、ウェーハ4のウェーハキャリ
ア2から処理装置10への搬送が完了する。Then, as shown in FIG. 5, the wafer 4 is held by the arm 8a of the robot 8 and taken out of the wafer carrier 2. Thereafter, the robot 8 rotates and faces the processing apparatus 10 by rotating, and places the wafer 4 on the pins 12 in the processing apparatus 10 by the arm 8a. Thereby, the transfer of the wafer 4 from the wafer carrier 2 to the processing apparatus 10 is completed.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】以上のような構成の従
来のウェーハの搬送工程では、ウェーハ4をウェーハキ
ャリア2から処理装置10へと搬送するには、ウェーハ
キャリア2と処理装置10との間でウェーハ4を搬送す
るロボット8(搬送機構)が必要であった。したがっ
て、半導体製造設備には、ウェーハ搬送用の搬送機構を
設けなければならなかった。In the conventional wafer transfer process having the above-described structure, in order to transfer the wafer 4 from the wafer carrier 2 to the processing apparatus 10, the wafer 4 is transported between the wafer carrier 2 and the processing apparatus 10. Therefore, a robot 8 (transfer mechanism) for transporting the wafer 4 was required. Therefore, a transfer mechanism for transferring a wafer must be provided in the semiconductor manufacturing facility.
【0011】一般的に、このような搬送機構に費やされ
る費用は、半導体製造設備全体のコストの約10%であ
り、また、搬送機構が占める面積は、半導体製造設備の
全体の面積の約30%である。したがって、ウェーハの
搬送機構を設けるために、半導体製造設備のコストが上
昇し、且つ半導体製造設備の面積が増大するという問題
があった。Generally, the cost of such a transfer mechanism is about 10% of the cost of the entire semiconductor manufacturing facility, and the area occupied by the transfer mechanism is about 30% of the total area of the semiconductor manufacturing facility. %. Therefore, there is a problem that the cost of the semiconductor manufacturing equipment increases and the area of the semiconductor manufacturing equipment increases because the wafer transfer mechanism is provided.
【0012】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、独立して設けられるウェーハ搬送機構を使用する
ことなくウェーハキャリアから処理装置へのウェーハの
搬送を可能とするウェーハキャリア及びそのようなウェ
ーハキャリアを用いた搬送方法を提供することを目的と
する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and a wafer carrier capable of transferring a wafer from a wafer carrier to a processing apparatus without using an independently provided wafer transfer mechanism, and the like. An object of the present invention is to provide a transfer method using a simple wafer carrier.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明では、次に述べる各手段を講じたことを特徴
とするものである。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present invention is characterized by taking the following means.
【0014】請求項1記載の発明は、ウェーハを収容し
て搬送するウェーハ搬送体であって、各々がウェーハを
保持する複数のウェーハホルダと、該ウェーハホルダを
垂直方向に整列した状態で収容するウェーハキャリアと
よりなり、前記ウェーハホルダは前記ウェーハキャリア
から引き出された位置に水平移動可能であることを特徴
とするものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided a wafer carrier for accommodating and carrying a wafer, wherein each of the plurality of wafer holders holds a wafer, and the wafer holder is accommodated in a vertically aligned state. A wafer carrier, wherein the wafer holder is horizontally movable to a position pulled out of the wafer carrier.
【0015】請求項1記載の発明によれば、ウェーハホ
ルダがウェーハキャリアに対して水平方向に移動して、
ウェーハを搬送することができる。このため、ウェーハ
を別個の搬送機構に一度移動してから処理装置に搬送す
る必要がない。すなわち、ウェーハを保持したウェーハ
ホルダを水平移動してそのまま処理装置に挿入すること
ができる。したがって、ウェーハ搬送体と処理装置との
間に例えばロボットのような搬送機構を別個に設ける必
要はなく、搬送機構に費やされる費用及び搬送機構が占
める面積を低減することができる。According to the first aspect of the present invention, the wafer holder moves in the horizontal direction with respect to the wafer carrier,
The wafer can be transferred. Therefore, there is no need to move the wafer to a separate transfer mechanism once and then transfer the wafer to the processing apparatus. That is, the wafer holder holding the wafer can be horizontally moved and inserted into the processing apparatus as it is. Therefore, there is no need to separately provide a transfer mechanism such as a robot between the wafer transfer body and the processing apparatus, and the cost spent on the transfer mechanism and the area occupied by the transfer mechanism can be reduced.
【0016】請求項1記載のウェーハ搬送体において、
前記ウェーハホルダは、前記ウェーハホルダの平面内で
前記ウェーハホルダの移動方向に垂直な方向に突出する
係合片を有しており、該係合片を水平移動することによ
り前記ウェーハホルダを水平移動することとしてもよ
い。このように、ウェーハホルダに係合片を設けること
により、係合片を移動することによりウェーハホルダを
容易に移動することができる。The wafer carrier according to claim 1,
The wafer holder has an engaging piece projecting in a direction perpendicular to a moving direction of the wafer holder in a plane of the wafer holder, and horizontally moving the wafer holder by horizontally moving the engaging piece. You may do it. In this manner, by providing the engagement piece on the wafer holder, the wafer holder can be easily moved by moving the engagement piece.
【0017】また、前記ウェーハキャリアは、前記ウェ
ーハホルダが前記ウェーハキャリアから最大に引き出さ
れた位置で前記係合片に当接するスットッパ部を有する
こととしてもよい。これにより、ウェーハホルダが最大
に引き出された位置でストパ部によりウェーハホルダを
止めることができ、ウェーハホルダがウェーハキャリア
から外れてしまうことを防止できる。Further, the wafer carrier may have a stopper portion which comes into contact with the engaging piece at a position where the wafer holder is pulled out from the wafer carrier at a maximum. Thereby, the wafer holder can be stopped by the stopper at the position where the wafer holder is pulled out to the maximum, and the wafer holder can be prevented from coming off the wafer carrier.
【0018】また、前記ウェーハホルダのウェーハを支
持する支持面は、前記ウェーハホルダの上面より低い位
置にあり、前記支持面はウェーハが載置されときにウェ
ーハの中心に向かって徐々に低くなるように傾斜が設け
られることとしてもよい。このように構成することによ
り、ウェーハホルダに保持されたウェーハは自重により
所定の位置に配置され、ウェーハホルダが移動する際に
ウェーハがウェーハホルダ内で移動することが防止され
る。Further, the supporting surface of the wafer holder for supporting the wafer is located at a position lower than the upper surface of the wafer holder, and the supporting surface is gradually lowered toward the center of the wafer when the wafer is mounted. May be provided with an inclination. With this configuration, the wafer held by the wafer holder is placed at a predetermined position by its own weight, and when the wafer holder moves, the wafer is prevented from moving in the wafer holder.
【0019】さらに、前記ウェーハホルダの前記支持面
はウェーハの外周部を支持するように構成され、前記ウ
ェーハホルダの中央部分に空間が形成されることとして
もよい。ウェーハホルダに保持されたウェーハを中央部
分の空間を通じてウェーハホルダの下側から持ち上げる
ことにより、ウェーハをウェーハホルダから取り外すこ
とができる。Further, the support surface of the wafer holder may be configured to support an outer peripheral portion of the wafer, and a space may be formed in a central portion of the wafer holder. By lifting the wafer held by the wafer holder from the lower side of the wafer holder through the space of the central portion, the wafer can be removed from the wafer holder.
【0020】請求項2記載の発明は、ウェーハを処理装
置に搬送するウェーハ搬送機構であって、請求項1記載
のウェーハ搬送体と、前記ウェーハ搬送体を垂直方向に
移動する垂直移動機構と、前記ウェーハ搬送体に収容さ
れた前記ウェーハホルダを水平方向に移動する水平移動
機構とを有することを特徴とするものである。According to a second aspect of the present invention, there is provided a wafer transport mechanism for transporting a wafer to a processing apparatus, wherein the wafer transport body according to the first aspect, a vertical moving mechanism for vertically moving the wafer transport body, A horizontal moving mechanism for horizontally moving the wafer holder accommodated in the wafer carrier.
【0021】請求項2記載の発明によれば、ウェーハ搬
送体を垂直移動して処理すべきウェーハが保持されたウ
ェーハホルダを所定の位置に移動し、水平移動機構によ
りウェーハホルダをウェ−ハ搬送体から引き出して処理
装置に挿入することができる。したがって、ウェーハ搬
送体と処理装置との間に例えばロボットのような搬送機
構を別個に設ける必要はなく、搬送機構に費やされる費
用及び搬送機構が占める面積を低減することができる。According to the second aspect of the present invention, the wafer holder holding the wafer to be processed is moved to a predetermined position by vertically moving the wafer carrier, and the wafer holder is transported by the horizontal moving mechanism. It can be pulled out of the body and inserted into the processing device. Therefore, there is no need to separately provide a transfer mechanism such as a robot between the wafer transfer body and the processing apparatus, and the cost spent on the transfer mechanism and the area occupied by the transfer mechanism can be reduced.
【0022】請求項2記載の発明において、前記水平移
動機構は前記ウェーハホルダの前記係合片に係合する係
合部を有しており、該係合部はリニヤアクチュエータに
より水平方向に移動されることとしてもよい。このよう
に構成することにより、ウェーハホルダに係合部が設け
られているため、係合部を利用して容易にウェーハホル
ダを移動することができる。According to a second aspect of the present invention, the horizontal moving mechanism has an engaging portion that engages with the engaging piece of the wafer holder, and the engaging portion is moved in a horizontal direction by a linear actuator. It may be good. With this configuration, since the engagement portion is provided on the wafer holder, the wafer holder can be easily moved using the engagement portion.
【0023】また、前記係合部は、前記ウェーハホルダ
の前記係合片を受容する係合溝を有することとしてもよ
い。これにより、ウェーハホルダの係合片を水平移動機
構の係合溝に挿入するだけで容易にウェーハホルダを移
動することができる。Further, the engagement portion may have an engagement groove for receiving the engagement piece of the wafer holder. Thus, the wafer holder can be easily moved only by inserting the engagement piece of the wafer holder into the engagement groove of the horizontal movement mechanism.
【0024】また、前記垂直移動機構は、前記ウェーハ
搬送体が装着されるテーブルを有し、該テーブルはリニ
ヤアクチュエータにより垂直方向に移動されることとし
てもよい。これにより、ウェーハ搬送体をテーブルに装
着するだけで、ウェーハ搬送体を容易に垂直移動するこ
とができる。The vertical moving mechanism may have a table on which the wafer carrier is mounted, and the table may be moved in a vertical direction by a linear actuator. Thus, the wafer carrier can be easily vertically moved simply by mounting the wafer carrier on the table.
【0025】請求項3記載の発明は、ウェーハを処理装
置に搬送するための搬送方法であって、ウェーハを保持
したウェーハホルダが収容されたウェーハキャリアを垂
直方向に移動して、処理すべきウェーハが保持されてい
るウェーハホルダを所定の垂直方向位置に合わせる工程
と、所定の垂直位置に配置されたウェーハホルダを水平
方向に移動して、前記ウェーハキャリアから所定の距離
だけ引き出して前記処理装置内に配置する工程と、所定
の距離だけ引き出された前記ウェーハホルダに保持され
ていたウェーハを垂直方向に持ち上げて前記ウェーハホ
ルダから取り外す工程と、前記ウェーハホルダを水平方
向に移動して前記ウェーハキャリアに戻す工程とを有す
ることを特徴とするものである。According to a third aspect of the present invention, there is provided a transfer method for transferring a wafer to a processing apparatus, wherein a wafer carrier accommodating a wafer holder holding a wafer is moved in a vertical direction so as to process a wafer to be processed. A step of aligning the held wafer holder with a predetermined vertical position, and moving the wafer holder arranged at the predetermined vertical position in the horizontal direction, withdrawing the wafer holder by a predetermined distance from the wafer carrier, and within the processing apparatus. And a step of vertically lifting the wafer held by the wafer holder pulled out by a predetermined distance and removing it from the wafer holder, and moving the wafer holder horizontally to the wafer carrier. And a returning step.
【0026】請求項3記載の発明によれば、ウェーハ搬
送体を垂直移動して処理すべきウェーハが保持されたウ
ェーハホルダを所定の位置に移動し、水平移動機構によ
りウェーハホルダをウェ−ハ搬送体から引き出して処理
装置に挿入することができる。したがって、ウェーハ搬
送体と処理装置との間に例えばロボットのような搬送機
構を別個に設ける必要はなく、搬送機構に費やされる費
用及び搬送機構が占める面積を低減することができる。According to the third aspect of the present invention, the wafer holder holding the wafer to be processed is moved to a predetermined position by vertically moving the wafer carrier, and the wafer holder is transported by the horizontal moving mechanism. It can be pulled out of the body and inserted into the processing device. Therefore, there is no need to separately provide a transfer mechanism such as a robot between the wafer transfer body and the processing apparatus, and the cost spent on the transfer mechanism and the area occupied by the transfer mechanism can be reduced.
【0027】請求項10記載のウェーハ搬送方法は、前
記処理装置内でウェーハから取り外されたウェーハを垂
直方向に移動してウェーハを所定の処理位置に配置する
工程を更に有することとしてもよい。これにより、処理
装置内でウェーハを垂直方向に移動するだけで、ウェー
ハを容易に処理位置まで搬送することができる。[0027] The wafer transfer method according to claim 10 may further include a step of vertically moving the wafer removed from the wafer in the processing apparatus and disposing the wafer at a predetermined processing position. Thus, the wafer can be easily transported to the processing position only by moving the wafer in the processing apparatus in the vertical direction.
【0028】請求項4記載の発明は、ウェーハに処理を
施して半導体装置を形成する半導体製造装置であって、
ウェーハに処理を施す処理装置と、ウェーハを保持する
ウェーハホルダを移動可能に収容したウェーハキャリア
を有するウェーハ搬送体と、前記ウェーハ搬送体を垂直
方向に移動する垂直移動機構と、前記ウェーハホルダを
水平方向に移動する水平移動機構と、前記垂直移動機構
及び前記水平移動機構の動作を制御する制御部とを有す
ることを特徴とするものである。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor manufacturing apparatus for processing a wafer to form a semiconductor device,
A processing apparatus that performs processing on a wafer, a wafer carrier having a wafer carrier movably housing a wafer holder that holds the wafer, a vertical movement mechanism that vertically moves the wafer carrier, and horizontally moving the wafer holder. A horizontal movement mechanism that moves in a direction, and a control unit that controls operations of the vertical movement mechanism and the horizontal movement mechanism.
【0029】請求項4記載の発明によれば、ウェーハ搬
送体を垂直移動して処理すべきウェーハが保持されたウ
ェーハホルダを所定の位置に移動し、水平移動機構によ
りウェーハホルダをウェ−ハ搬送体から引き出して処理
装置に挿入することができる。垂直移動機構と水平移動
機構とは、互いに連動するように制御部により制御さ
れ、ウェーハ搬送体から処理装置へのウェーハの搬送を
容易に行うことができる。したがって、ウェーハ搬送体
と処理装置との間に例えばロボットのような搬送機構を
別個に設ける必要はなく、搬送機構に費やされる費用及
び搬送機構が占める面積を低減することができる。According to the fourth aspect of the present invention, the wafer holder holding the wafer to be processed is moved to a predetermined position by vertically moving the wafer carrier, and the wafer holder is transported by the horizontal moving mechanism. It can be pulled out of the body and inserted into the processing device. The vertical movement mechanism and the horizontal movement mechanism are controlled by the control unit so as to interlock with each other, and can easily transfer the wafer from the wafer transfer body to the processing apparatus. Therefore, there is no need to separately provide a transfer mechanism such as a robot between the wafer transfer body and the processing apparatus, and the cost spent on the transfer mechanism and the area occupied by the transfer mechanism can be reduced.
【0030】[0030]
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面と共に説明する。Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
【0031】図6は本発明の第1の実施の形態によるウ
ェーハ搬送機構20の全体を示す斜視図である。本発明
の第1の実施の形態によるウェーハ搬送機構20では、
従来のようにロボットを使用せずに簡単な構成でウェー
ハ4をウェ−ハキャリア22と処理装置10との間で搬
送することができる。なお、処理装置10はウェーハ上
に半導体回路を形成するための所定の処理を施す装置で
ある。処理装置10とウェーハ移動機構20とは、半導
体製造装置を構成する。FIG. 6 is a perspective view showing the entire wafer transfer mechanism 20 according to the first embodiment of the present invention. In the wafer transfer mechanism 20 according to the first embodiment of the present invention,
The wafer 4 can be transferred between the wafer carrier 22 and the processing apparatus 10 with a simple configuration without using a robot as in the related art. The processing apparatus 10 is an apparatus that performs a predetermined process for forming a semiconductor circuit on a wafer. The processing apparatus 10 and the wafer moving mechanism 20 constitute a semiconductor manufacturing apparatus.
【0032】ウェーハ搬送機構20は、ウェーハキャリ
ア22と、ウェーハキャリア移動機構30(垂直移動機
構)と、ウェーハホルダ移動機構40(水平移動機構)
とを有する。The wafer transport mechanism 20 includes a wafer carrier 22, a wafer carrier moving mechanism 30 (vertical moving mechanism), and a wafer holder moving mechanism 40 (horizontal moving mechanism).
And
【0033】ウェーハキャリア22は複数のウェーハ4
を多段に収容する容器である。後述のように、各ウェー
ハ4はウェーハホルダ24に保持された状態で、ウェー
ハホルダ24ごとウェーハキャリア22に収容される。
ウェーハヤリア22とウェーハホルダ24とはウェーハ
搬送体を構成する。図6に示すウェーハキャリア22は
概要を説明するために省略されたものであり、詳細な形
状は図8乃至図12に示されている。The wafer carrier 22 holds a plurality of wafers 4
Are containers to be stored in multiple stages. As will be described later, each wafer 4 is accommodated in a wafer carrier 22 together with the wafer holder 24 while being held by the wafer holder 24.
The wafer carrier 22 and the wafer holder 24 constitute a wafer carrier. The wafer carrier 22 shown in FIG. 6 has been omitted for the sake of overview, and the detailed shape is shown in FIGS.
【0034】ウェーハキャリア移動機構30は、リニヤ
アクチュエータ32により垂直方向に移動されるテーブ
ル34を有している。ウェーハキャリア22はテーブル
34上に装着され、処理装置10のウェーハ挿入口12
aに正面を向けた状態で、垂直方向に移動される。リニ
ヤアクチュエータ32は制御部50によりその動作が制
御される。すなわち、ウェーハキャリアテーブル34の
垂直方向の位置は、制御部50により制御される。な
お、リニヤアクチュエータ32としては、往復動シリン
ダやスライドモータなどの従来のリニヤアクチュエータ
を使用することができ、その説明は省略する。The wafer carrier moving mechanism 30 has a table 34 which is vertically moved by a linear actuator 32. The wafer carrier 22 is mounted on a table 34, and the wafer insertion port 12 of the processing apparatus 10 is
It is moved in the vertical direction with its front facing a. The operation of the linear actuator 32 is controlled by the control unit 50. That is, the vertical position of the wafer carrier table 34 is controlled by the control unit 50. As the linear actuator 32, a conventional linear actuator such as a reciprocating cylinder or a slide motor can be used, and the description is omitted.
【0035】ウェーハホルダ移動機構40は、リニヤア
クチュエータ42と、リニヤアクチュエータ42により
水平方向に移動される係合部44とを有する。係合部4
4は、後述するように、ウェーハキャリア22に収容さ
れたウェーハホルダ24を移動するために設けられてい
る。リニヤアクチュエータ42は制御部50によりその
動作が制御される。すなわち、係合部44の水平方向の
位置は、制御部50により制御される。なお、リニヤア
クチュエータ42としては、ロッドレスシリンダやスラ
イドモータなどの従来のリニヤアクチュエータを使用す
ることができ、その説明は省略する。The wafer holder moving mechanism 40 has a linear actuator 42 and an engaging portion 44 that is moved by the linear actuator 42 in the horizontal direction. Engaging part 4
Reference numeral 4 is provided for moving a wafer holder 24 housed in the wafer carrier 22 as described later. The operation of the linear actuator 42 is controlled by the control unit 50. That is, the horizontal position of the engagement portion 44 is controlled by the control unit 50. As the linear actuator 42, a conventional linear actuator such as a rodless cylinder or a slide motor can be used, and the description is omitted.
【0036】図7に示すように、係合部44の先端には
係合溝44aが形成されている。係合溝44aは、ウェ
ーハホルダ24に設けられた係合片24aに係合するよ
うな形状とされている。図6において、ウェーハホルダ
移動機構40はウェーハキャリア22から離れた位置に
示されているが、実際はウェーハキャリア22がウェー
ハテーブル34上に装着された状態において、ウェーハ
ホルダ24の係合片24aが係合部44の係合溝44a
にある程度の遊びを有して挿入された状態となる。ま
た、係合部の垂直方向の位置は、処理装置10のウェー
ハ挿入口10aの位置にほぼ一致している。As shown in FIG. 7, an engagement groove 44a is formed at the tip of the engagement portion 44. The engagement groove 44a is shaped to engage with an engagement piece 24a provided on the wafer holder 24. 6, the wafer holder moving mechanism 40 is shown at a position distant from the wafer carrier 22, but actually, the engagement piece 24a of the wafer holder 24 is engaged when the wafer carrier 22 is mounted on the wafer table 34. Engagement groove 44a of joint 44
Is inserted with some play. Further, the vertical position of the engaging portion substantially coincides with the position of the wafer insertion port 10a of the processing apparatus 10.
【0037】図8はウェーハキャリア22の平面図であ
り、図9はウェーハキャリア22の正面図である。ウェ
ーハキャリア22は、正面側が開口した箱型形状に形成
されている。ウェーハキャリア22の後面側の一つの角
部は切り落とされたような形状とされ、これにより、開
口部22bが形成されており、ウェーハホルダ24の1
4係合片24aはこの開口部22bからウェーハキャリ
ア22の外部へと延在する。また、ウェーハキャリア2
2の側面のうち、ウェーハホルダ24の係合片24aが
延在する側の側面も開口部22cとなっており、後述の
ように係合片24aが水平方向に移動可能となってい
る。FIG. 8 is a plan view of the wafer carrier 22, and FIG. 9 is a front view of the wafer carrier 22. The wafer carrier 22 is formed in a box shape with an open front side. One corner on the rear surface side of the wafer carrier 22 is shaped like a cut-off, whereby an opening 22 b is formed.
The four engaging pieces 24a extend from the opening 22b to the outside of the wafer carrier 22. In addition, wafer carrier 2
Of the two side surfaces, the side surface on which the engaging piece 24a of the wafer holder 24 extends also forms an opening 22c, and the engaging piece 24a can be moved in the horizontal direction as described later.
【0038】また、開口部22c側の正面側にはストッ
パ部22dが形成されている。ストッパ部22dは、ウ
ェーハホルダ24がウェーハキャリア22から引き出さ
れたときに、ウェーハホルダ24の係合片24aに当接
するように設けられる。したがって、ウェーハホルダ2
4の係合片24aがストッパ部22dに当接すると、ウ
ェーハホルダ24それ以上は引き出されない。A stopper 22d is formed on the front side of the opening 22c. The stopper portion 22d is provided so as to come into contact with the engaging piece 24a of the wafer holder 24 when the wafer holder 24 is pulled out from the wafer carrier 22. Therefore, the wafer holder 2
When the engagement piece 24a of No. 4 comes into contact with the stopper portion 22d, the wafer holder 24 and beyond are not pulled out.
【0039】図9に示すようにウェーハキャリア22に
は複数の溝部22eが設けられ、溝部22eの各々にウ
ェーハホルダ24が摺動可能に収容される。なお、図9
では溝部22eは簡略化して示されている。図10はウ
ェーハキャリア22に形成された溝部22eの拡大断面
図である。溝部22eには、ウェーハ4を収容するウェ
ーハホルダ24が摺動可能に配置される。溝部22eは
水平方向に延在しており、したがって、ウェーハホルダ
22eは溝部22eにえ案内されて水平方向に移動する
ことができる。複数の溝部22eの各々に対してウェー
ハホルダ24が配置されるため、ウェーハホルダ24は
各々独立に水平移動することができる。As shown in FIG. 9, a plurality of grooves 22e are provided in the wafer carrier 22, and a wafer holder 24 is slidably accommodated in each of the grooves 22e. Note that FIG.
Here, the groove 22e is shown in a simplified manner. FIG. 10 is an enlarged sectional view of the groove 22e formed in the wafer carrier 22. A wafer holder 24 that accommodates the wafer 4 is slidably disposed in the groove 22e. The groove 22e extends in the horizontal direction, so that the wafer holder 22e can move in the horizontal direction guided by the groove 22e. Since the wafer holder 24 is arranged for each of the plurality of grooves 22e, the wafer holder 24 can independently and horizontally move.
【0040】図11は、ウェーハキャリア22内に収容
された状態のウェーハホルダ24の平面図である。ウェ
ーハホルダ24がウェーハキャリア22内に収容された
状態では、ウェーハホルダ24の係合片24aはウェー
ハキャリア22の後面側に位置している。したがって、
係合片24aを保持して移動することにより、ウェーハ
ホルダ24はウェーハキャリア22の前面側に向かって
ストロークストSだけ水平移動することができる。FIG. 11 is a plan view of the wafer holder 24 housed in the wafer carrier 22. When the wafer holder 24 is accommodated in the wafer carrier 22, the engagement piece 24 a of the wafer holder 24 is located on the rear side of the wafer carrier 22. Therefore,
By holding and moving the engagement piece 24a, the wafer holder 24 can move horizontally by the stroke strike S toward the front side of the wafer carrier 22.
【0041】図12は、ウェーハホルダ24が水平方向
に移動して、ウェーハキャリア22から最大に引き出さ
れた状態を示す平面図である。ウェーハホルダ24が水
平方向に移動して、係合片24aがストッパ部に当接す
ると、ウェーハホルダ24はそれ以上移動できなくな
る。この位置が最大に引き出された位置となる。後述す
るように、この最大に引き出された位置において、ウェ
ーハホルダ24に保持されているウェーハ4は処理装置
10内の所定の位置に配置される。FIG. 12 is a plan view showing a state in which the wafer holder 24 has moved in the horizontal direction and has been pulled out from the wafer carrier 22 to the maximum. When the wafer holder 24 moves in the horizontal direction and the engaging piece 24a contacts the stopper, the wafer holder 24 cannot move any more. This position is the position that is pulled out to the maximum. As will be described later, the wafer 4 held by the wafer holder 24 is arranged at a predetermined position in the processing apparatus 10 at the position where the wafer 4 is maximally pulled out.
【0042】次に、上述のウェーハ搬送機構20による
ウェーハ搬送動作について、図13を参照しながら説明
する。ここでは、ウェーハ4をウェーハキャリア22か
ら処理装置10の所定の位置まで搬送する動作について
説明する。Next, the wafer transfer operation by the above-described wafer transfer mechanism 20 will be described with reference to FIG. Here, an operation of transporting the wafer 4 from the wafer carrier 22 to a predetermined position of the processing apparatus 10 will be described.
【0043】まず、ウェーハ4を保持したウェーハホル
ダ24が収容されたウェーハキャリア22をウェーハキ
ャリア移動機構30のテーブル34上に装着する。この
とき、ウェーハホルダ24の係合片24aは、ウェーハ
キャリア22の後面側(図11に示す位置)に垂直方向
に整列している。また、ウェーハホルダ移動機構40の
係合部44に設けられた係合溝44aは係合片24aの
整列した位置に一致している。First, the wafer carrier 22 accommodating the wafer holder 24 holding the wafer 4 is mounted on the table 34 of the wafer carrier moving mechanism 30. At this time, the engaging pieces 24a of the wafer holder 24 are vertically aligned on the rear surface side (the position shown in FIG. 11) of the wafer carrier 22. The engagement groove 44a provided in the engagement portion 44 of the wafer holder moving mechanism 40 coincides with the aligned position of the engagement piece 24a.
【0044】次に、テーブル34を垂直方向に移動し
て、処理すべきウェーハ4を保持しているウェーハホル
ダ24の係合片24aの垂直方向位置が、係合溝44a
の垂直方向位置に一致するように、ウェーハキャリア2
2を垂直方向に移動する。このウェーハキャリア22の
移動は、制御部50により制御されたリニヤアクチュエ
ータ32の作動により達成される。この状態では、係合
部44の係合溝44a内に、処理すべきウェーハ4を保
持しているウェーハホルダ24の係合片24aが挿入さ
れている。Next, the table 34 is moved in the vertical direction, and the vertical position of the engagement piece 24a of the wafer holder 24 holding the wafer 4 to be processed is determined by the engagement groove 44a.
Wafer carrier 2 so as to match the vertical position of
Move 2 vertically. The movement of the wafer carrier 22 is achieved by the operation of the linear actuator 32 controlled by the control unit 50. In this state, the engaging piece 24a of the wafer holder 24 holding the wafer 4 to be processed is inserted into the engaging groove 44a of the engaging portion 44.
【0045】次に、図13(a)に示すように、ウェー
ハホルダ移動機構40を作動して、ウェーハホルダ24
をウェーハキャリア22から引き出す。すなわち、リニ
ヤアクチュエータ42を駆動して係合部44を水平方向
に移動し、係合片24aを介してウェーハホルダ24を
処理装置10に向けて水平移動する。ウェーハホルダ2
4はウェーハキャリア22の溝部22eの内面に沿って
摺動する。Next, as shown in FIG. 13 (a), the wafer holder moving mechanism 40 is operated, and the wafer holder 24 is moved.
From the wafer carrier 22. That is, the linear actuator 42 is driven to move the engaging portion 44 in the horizontal direction, and the wafer holder 24 is horizontally moved toward the processing apparatus 10 via the engaging piece 24a. Wafer holder 2
4 slides along the inner surface of the groove 22e of the wafer carrier 22.
【0046】ウェーハホルダ24が移動される位置は、
処理装置10のウェーハ挿入口10aの位置に一致して
いる。ウェーハキャリア22から引き出されたウェーハ
ホルダ24は、ウェーハ挿入口10aを通じてウェーハ
4と共に処理装置10内に挿入され、係合片24aがス
トッパ部22dに当接する位置まで水平移動される。The position where the wafer holder 24 is moved is
The position matches the position of the wafer insertion port 10a of the processing apparatus 10. The wafer holder 24 pulled out from the wafer carrier 22 is inserted into the processing apparatus 10 together with the wafer 4 through the wafer insertion opening 10a, and is horizontally moved to a position where the engagement piece 24a contacts the stopper 22d.
【0047】ウェーハホルダ24が処理装置10内に挿
入されると、図13(b)に示すように、処理装置10
内のピン12が上昇し、ウェーハ4はピン1に載置され
た状態となる。ウェーハホルダ24は、図11及び12
に示すように、中央部分が取り除かれて空間が形成され
ている。処理装置のピン12は、この空間を通じてウェ
ーハホルダ24の下側からウェーハ4を押し上げる。し
たがって、ウェーハ4はウェーハホルダ4から僅かに上
昇した位置でピン12により保持される。When the wafer holder 24 is inserted into the processing apparatus 10, as shown in FIG.
The pins 12 in the inside rise, and the wafer 4 is placed on the pins 1. The wafer holder 24 is shown in FIGS.
As shown in the figure, a central portion is removed to form a space. The pins 12 of the processing apparatus push up the wafer 4 from below the wafer holder 24 through this space. Therefore, the wafer 4 is held by the pins 12 at a position slightly elevated from the wafer holder 4.
【0048】次に、図13(c)に示すように、リニヤ
アクチュエータ42を駆動して、ウェーハホルダ24を
ウェーハキャリア22に収容された位置に戻す。ウェー
ハ4はウェーハホルダ24から僅かに浮いた状態である
ため、ウェーハ4は処理装置10のピン12上に載置さ
れたままとなる。ウェーハホルダ24が、ウェーハキャ
リア22に戻った後、処理装置10内のピン12は下降
して、ウェーハ4を所定の処理位置まで移動する。Next, as shown in FIG. 13C, the linear actuator 42 is driven to return the wafer holder 24 to the position accommodated in the wafer carrier 22. Since the wafer 4 is slightly floating from the wafer holder 24, the wafer 4 remains mounted on the pins 12 of the processing apparatus 10. After the wafer holder 24 returns to the wafer carrier 22, the pins 12 in the processing apparatus 10 move down to move the wafer 4 to a predetermined processing position.
【0049】なお、上述のウェーハ搬送動作では、処理
装置10のピン12の上昇及び下降動作は、従来のウェ
ーハ搬送動作と同様である。また、ウェーハキャリア2
2の上昇及び下降動作、すなわち、テーブル34の上昇
及び下降動作も従来のウェーハ搬送動作と同様である。In the above-described wafer transfer operation, the operation of raising and lowering the pins 12 of the processing apparatus 10 is the same as the conventional wafer transfer operation. In addition, wafer carrier 2
The raising and lowering operations of the table 2, that is, the raising and lowering operations of the table 34 are the same as the conventional wafer transfer operation.
【0050】図14は、本実施の形態によるウェーハ搬
送機構20に使用されるウェーハホルダ24の一例を示
す斜視図であり、図15は図14に示すウェーハホルダ
24を矢印A方向から見た図である。FIG. 14 is a perspective view showing an example of the wafer holder 24 used in the wafer transfer mechanism 20 according to the present embodiment. FIG. 15 is a view of the wafer holder 24 shown in FIG. It is.
【0051】図15に明確に示すように、ウェーハホル
ダ24のウェーハ4を支持する支持面24bはウェーハ
4の中心に向かって低くなるように所定の角度αの傾斜
が設けられており、ホルダ内に保持されるウェーハ4が
その自重によりウェーハホルダ24の略中央である所定
の位置に保持されるようになっている。また、ウェーハ
ホルダ24が移動する際にウェーハ4がウェーハホルダ
24内で移動することが防止される。また、支持面24
bはウェーハホルダ24の上面24cから一段低い面と
なっており、上面24cと支持面24bとの間の面24
dにも角度βの傾斜が設けられている。これにより、ウ
ェーハ4をウェーハホルダ24に載置する際に、ウェー
ハ4を容易に支持面24b上に配置できるようになって
いる。As clearly shown in FIG. 15, the support surface 24b of the wafer holder 24 for supporting the wafer 4 is inclined at a predetermined angle α so as to become lower toward the center of the wafer 4, and is provided inside the holder. Is held at a predetermined position substantially at the center of the wafer holder 24 by its own weight. Further, when the wafer holder 24 moves, the wafer 4 is prevented from moving inside the wafer holder 24. Also, the support surface 24
b is a surface one step lower than the upper surface 24c of the wafer holder 24, and a surface 24 between the upper surface 24c and the support surface 24b.
d is also provided with an inclination of an angle β. Thus, when placing the wafer 4 on the wafer holder 24, the wafer 4 can be easily arranged on the support surface 24b.
【0052】以上説明したように、本実施の形態では、
従来のロボットによるウェーハ移動動作が不要となって
いる。すなわち、本実施の形態では、ロボットによるウ
ェーハのウェーハキャリアからの取り出し及び処理装置
への挿入動作を、ウェーハホルダ24の水平移動により
達成している。したがって、従来のウェーハ搬送機構の
ようにロボットを設ける必要がなく、ロボットの設置に
費やされる費用及び、ロボットが占有する面積を削減す
ることができる。As described above, in the present embodiment,
The wafer moving operation by the conventional robot is unnecessary. That is, in the present embodiment, the robot removes the wafer from the wafer carrier and inserts the wafer into the processing apparatus by the horizontal movement of the wafer holder 24. Therefore, there is no need to provide a robot as in the conventional wafer transfer mechanism, and the cost for installing the robot and the area occupied by the robot can be reduced.
【0053】これにより、半導体製造設備全体のコスト
が低減され、したがって、この半導体製造設備により製
造される半導体装置のコストを低減することができる。
また、半導体製造設備が設置されるクリーンルーム内の
空間に、ウェーハ搬送機構以外の半導体製機器をより高
密度に設置することができ、半導体装置の生産性を向上
することができる。As a result, the cost of the entire semiconductor manufacturing facility can be reduced, and therefore, the cost of the semiconductor device manufactured by the semiconductor manufacturing facility can be reduced.
Further, semiconductor devices other than the wafer transfer mechanism can be installed at a higher density in the space in the clean room where the semiconductor manufacturing equipment is installed, and the productivity of semiconductor devices can be improved.
【0054】また、ウェーハをウェーハホルダ24に保
持したまま搬送するため、従来のようにウェーハがウェ
ーハキャリア内の溝部を摺動するようなことはなく、摺
動による塵埃(パーティクル)の発生を低減することが
できる。また、ウェーハが搬送される距離が短いため、
搬送途中でのウェーハの損傷、塵埃の付着等を低減する
こともできる。Further, since the wafer is transferred while being held by the wafer holder 24, the wafer does not slide in the groove in the wafer carrier as in the conventional case, and the generation of dust (particles) due to the sliding is reduced. can do. In addition, because the distance over which the wafer is transported is short,
Damage to the wafer, adhesion of dust, and the like during the transfer can also be reduced.
【0055】以上説明したように、本発明は以下の発明
を含むものである。As described above, the present invention includes the following inventions.
【0056】(付記1) ウェーハを収容して搬送する
ウェーハ搬送体であって、各々がウェーハを保持する複
数のウェーハホルダと、該ウェーハホルダを垂直方向に
整列した状態で収容するウェーハキャリアとよりなり、
前記ウェーハホルダは前記ウェーハキャリアから引き出
された位置に水平移動可能であることを特徴とするウェ
ーハ搬送体。(Supplementary Note 1) A wafer carrier for accommodating and carrying a wafer, comprising a plurality of wafer holders each holding a wafer, and a wafer carrier accommodating the wafer holders in a vertically aligned state. Become
The wafer carrier, wherein the wafer holder is horizontally movable to a position where the wafer holder is pulled out of the wafer carrier.
【0057】(付記2) 付記1記載のウェーハ搬送体
であって、前記ウェーハホルダは、前記ウェーハホルダ
の平面内で前記ウェーハホルダの移動方向に垂直な方向
に突出する係合片を有しており、該係合片を水平移動す
ることにより前記ウェーハホルダを水平移動することを
特徴とするウェーハ搬送体。(Supplementary Note 2) The wafer carrier according to Supplementary Note 1, wherein the wafer holder has an engagement piece projecting in a direction perpendicular to a moving direction of the wafer holder in a plane of the wafer holder. And a wafer carrier that horizontally moves the wafer holder by horizontally moving the engagement piece.
【0058】(付記3) 付記2記載のウェーハ搬送体
であって、前記ウェーハキャリアは、前記ウェーハホル
ダが前記ウェーハキャリアから最大に引き出された位置
で前記係合片に当接するスットッパ部を有することを特
徴とするウェーハ搬送体。(Supplementary Note 3) The wafer carrier according to Supplementary Note 2, wherein the wafer carrier has a stopper portion that comes into contact with the engaging piece at a position where the wafer holder is drawn out of the wafer carrier to the maximum. A wafer carrier characterized by the above-mentioned.
【0059】(付記4) 付記1乃至3のうちいずれか
一項記載のウェーハ搬送体であって、前記ウェーハホル
ダのウェーハを支持する支持面は、前記ウェーハホルダ
の上面より低い位置にあり、前記支持面はウェーハが載
置されときにウェーハの中心に向かって徐々に低くなる
ように傾斜が設けられることを特徴とするウェーハ搬送
体。(Supplementary Note 4) In the wafer carrier according to any one of Supplementary Notes 1 to 3, wherein a support surface of the wafer holder for supporting a wafer is located at a position lower than an upper surface of the wafer holder. A wafer carrier, wherein the support surface is provided with an inclination so as to gradually decrease toward the center of the wafer when the wafer is mounted.
【0060】(付記5) 付記4記載のウェーハ搬送体
であって、前記ウェーハホルダの前記支持面はウェーハ
の外周部を支持するように構成され、前記ウェーハホル
ダの中央部分に空間が形成されていることを特徴とする
ウェーハ搬送体。(Supplementary Note 5) The wafer carrier according to supplementary note 4, wherein the support surface of the wafer holder is configured to support an outer peripheral portion of the wafer, and a space is formed in a central portion of the wafer holder. A wafer carrier.
【0061】(付記6) ウェーハを処理装置に搬送す
るウェーハ搬送機構であって、付記1乃至5のうちいず
れか一項記載のウェーハ搬送体と、前記ウェーハ搬送体
を垂直方向に移動する垂直移動機構と、前記ウェーハ搬
送体に収容された前記ウェーハホルダを水平方向に移動
する水平移動機構とを有することを特徴とするウェーハ
搬送機構。(Supplementary Note 6) A wafer transfer mechanism for transferring a wafer to a processing apparatus, wherein the wafer transfer body according to any one of Supplementary Notes 1 to 5, and a vertical movement that moves the wafer transfer body in a vertical direction. A wafer transfer mechanism, comprising: a mechanism; and a horizontal moving mechanism that horizontally moves the wafer holder accommodated in the wafer transfer body.
【0062】(付記7) 付記6記載のウェーハ搬送機
構であって、前記水平移動機構は前記ウェーハホルダの
前記係合片に係合する係合部を有しており、該係合部は
リニヤアクチュエータにより水平方向に移動されること
を特徴とするウェーハ搬送機構。(Supplementary note 7) The wafer transfer mechanism according to supplementary note 6, wherein the horizontal moving mechanism has an engaging portion that engages with the engaging piece of the wafer holder, and the engaging portion is linear. A wafer transfer mechanism that is moved in a horizontal direction by an actuator.
【0063】(付記8) 付記7記載のウェーハ搬送機
構であって、前記係合部は、前記ウェーハホルダの前記
係合片を受容する係合溝を有することを特徴とするウェ
ーハ搬送機構。(Supplementary Note 8) The wafer transfer mechanism according to supplementary note 7, wherein the engaging portion has an engaging groove for receiving the engaging piece of the wafer holder.
【0064】(付記9) 付記6乃至8のうちいずれか
一項記載のウェーハ搬送機構であって、前記垂直移動機
構は、前記ウェーハ搬送体が装着されるテーブルを有
し、該テーブルはリニヤアクチュエータにより垂直方向
に移動されることを特徴とするウェーハ搬送機構。(Supplementary Note 9) The wafer transfer mechanism according to any one of Supplementary Notes 6 to 8, wherein the vertical movement mechanism has a table on which the wafer transfer body is mounted, and the table is a linear actuator. A wafer transfer mechanism characterized in that the wafer transfer mechanism is moved in a vertical direction.
【0065】(付記10) ウェーハを処理装置に搬送
するための搬送方法であって、ウェーハを保持したウェ
ーハホルダが収容されたウェーハキャリアを垂直方向に
移動して、処理すべきウェーハが保持されているウェー
ハホルダを所定の垂直方向位置に合わせる工程と、所定
の垂直位置に配置されたウェーハホルダを水平方向に移
動して、前記ウェーハキャリアから所定の距離だけ引き
出して前記処理装置内に配置する工程と、所定の距離だ
け引き出された前記ウェーハホルダに保持されていたウ
ェーハを垂直方向に持ち上げて前記ウェーハホルダから
取り外す工程と、前記ウェーハホルダを水平方向に移動
して前記ウェーハキャリアに戻す工程とを有することを
特徴とするウェーハ搬送方法。(Supplementary Note 10) A transfer method for transferring a wafer to a processing apparatus, wherein a wafer carrier accommodating a wafer holder holding a wafer is moved vertically to hold a wafer to be processed. Aligning the wafer holder at a predetermined vertical position, and horizontally moving the wafer holder disposed at the predetermined vertical position, withdrawing the wafer holder a predetermined distance from the wafer carrier, and disposing the wafer holder in the processing apparatus. And a step of vertically lifting a wafer held by the wafer holder pulled out by a predetermined distance and removing the wafer from the wafer holder, and a step of moving the wafer holder horizontally and returning the wafer holder to the wafer carrier. A wafer transfer method, comprising:
【0066】(付記11) 付記10記載のウェーハ搬
送方法であって、前記処理装置内でウェーハから取り外
されたウェーハを垂直方向に移動してウェーハを所定の
処理位置に配置する工程を更に有することを特徴とする
ウェーハ搬送方法。(Supplementary Note 11) The wafer transfer method according to Supplementary Note 10, further comprising the step of vertically moving the wafer removed from the wafer in the processing apparatus and disposing the wafer at a predetermined processing position. A wafer transfer method characterized by the above-mentioned.
【0067】(付記12) ウェーハに処理を施して半
導体装置を形成する半導体製造装置であって、ウェーハ
に処理を施す処理装置と、ウェーハを保持するウェーハ
ホルダを移動可能に収容したウェーハキャリアを有する
ウェーハ搬送体と、前記ウェーハ搬送体を垂直方向に移
動する垂直移動機構と、前記ウェーハホルダを水平方向
に移動する水平移動機構と、前記垂直移動機構及び前記
水平移動機構の動作を制御する制御部とを有することを
特徴とする半導体製造装置。(Supplementary Note 12) A semiconductor manufacturing apparatus for processing a wafer to form a semiconductor device, comprising: a processing apparatus for processing a wafer; and a wafer carrier movably housing a wafer holder for holding the wafer. A wafer transfer body, a vertical movement mechanism that moves the wafer transfer body in a vertical direction, a horizontal movement mechanism that moves the wafer holder in a horizontal direction, and a control unit that controls operations of the vertical movement mechanism and the horizontal movement mechanism And a semiconductor manufacturing apparatus comprising:
【0068】[0068]
【発明の効果】上述の如く本発明によれば、次に述べる
種々の効果を実現することができる。請求項1記載の発
明によれば、ウェーハホルダがウェーハキャリアに対し
て水平方向に移動して、ウェーハを搬送することができ
る。このため、ウェーハを別個の搬送機構に一度移動し
てから処理装置に搬送する必要がない。すなわち、ウェ
ーハを保持したウェーハホルダを水平移動してそのまま
処理装置に挿入することができる。したがって、ウェー
ハ搬送体と処理装置との間に例えばロボットのような搬
送機構を別個に設ける必要はなく、搬送機構に費やされ
る費用及び搬送機構が占める面積を低減することができ
る。According to the present invention as described above, the following various effects can be realized. According to the first aspect of the present invention, the wafer holder can be moved in the horizontal direction with respect to the wafer carrier to transfer the wafer. Therefore, there is no need to move the wafer to a separate transfer mechanism once and then transfer the wafer to the processing apparatus. That is, the wafer holder holding the wafer can be horizontally moved and inserted into the processing apparatus as it is. Therefore, there is no need to separately provide a transfer mechanism such as a robot between the wafer transfer body and the processing apparatus, and the cost spent on the transfer mechanism and the area occupied by the transfer mechanism can be reduced.
【0069】上述の発明において、ウェーハホルダに係
合片を設けることにより、係合片を移動することにより
ウェーハホルダを容易に移動することができる。In the above-mentioned invention, by providing the engagement piece on the wafer holder, the wafer holder can be easily moved by moving the engagement piece.
【0070】また、ウェーハホルダが最大に引き出され
た位置でストパ部によりウェーハホルダの移動を止める
ことができる。これにより、ウェーハホルダがウェーハ
キャリアから外れてしまうことを防止できる。The movement of the wafer holder can be stopped by the stopper at the position where the wafer holder is pulled out to the maximum. This can prevent the wafer holder from coming off the wafer carrier.
【0071】また、ウェーハホルダに保持されたウェー
ハは自重により所定の位置に配置され、ウェーハホルダ
が移動する際にウェーハがウェーハホルダ内で移動する
ことが防止される。Further, the wafer held by the wafer holder is arranged at a predetermined position by its own weight, and when the wafer holder moves, the wafer is prevented from moving in the wafer holder.
【0072】さらに、ウェーハホルダに保持されたウェ
ーハを中央部分の空間を通じてウェーハホルダの下側か
ら持ち上げることにより、ウェーハをウェーハホルダか
ら取り外すことができる。Further, the wafer held by the wafer holder is lifted from the lower side of the wafer holder through the space of the central portion, so that the wafer can be removed from the wafer holder.
【0073】請求項2記載の発明によれば、ウェーハ搬
送体を垂直移動して処理すべきウェーハが保持されたウ
ェーハホルダを所定の位置に移動し、水平移動機構によ
りウェーハホルダをウェ−ハ搬送体から引き出して処理
装置に挿入することができる。したがって、ウェーハ搬
送体と処理装置との間に例えばロボットのような搬送機
構を別個に設ける必要はなく、搬送機構に費やされる費
用及び搬送機構が占める面積を低減することができる。According to the second aspect of the invention, the wafer holder holding the wafer to be processed is moved to a predetermined position by vertically moving the wafer carrier, and the wafer holder is transported by the horizontal moving mechanism. It can be pulled out of the body and inserted into the processing device. Therefore, there is no need to separately provide a transfer mechanism such as a robot between the wafer transfer body and the processing apparatus, and the cost spent on the transfer mechanism and the area occupied by the transfer mechanism can be reduced.
【0074】上述の発明において、ウェーハホルダに係
合部を設け、且つ係合部をリニヤアクチュエータに水平
方向に移動することにより、係合部を利用して容易にウ
ェーハホルダを移動することができる。In the above invention, by providing the engaging portion on the wafer holder and moving the engaging portion horizontally to the linear actuator, the wafer holder can be easily moved using the engaging portion. .
【0075】また、ウェーハホルダの係合片を水平移動
機構の係合溝に挿入するだけで容易にウェーハホルダを
移動することができる。Further, the wafer holder can be easily moved only by inserting the engaging piece of the wafer holder into the engaging groove of the horizontal moving mechanism.
【0076】さらに、ウェーハ搬送体をテーブルに装着
するだけで、ウェーハ搬送体を容易に垂直移動すること
ができる。Further, the wafer carrier can be easily vertically moved simply by mounting the wafer carrier on the table.
【0077】請求項3記載の発明によれば、ウェーハ搬
送体を垂直移動して処理すべきウェーハが保持されたウ
ェーハホルダを所定の位置に移動し、水平移動機構によ
りウェーハホルダをウェ−ハ搬送体から引き出して処理
装置に挿入することができる。したがって、ウェーハ搬
送体と処理装置との間に例えばロボットのような搬送機
構を別個に設ける必要はなく、搬送機構に費やされる費
用及び搬送機構が占める面積を低減することができる。According to the third aspect of the present invention, the wafer holder holding the wafer to be processed is moved to a predetermined position by vertically moving the wafer carrier, and the wafer holder is transported by the horizontal moving mechanism. It can be pulled out of the body and inserted into the processing device. Therefore, there is no need to separately provide a transfer mechanism such as a robot between the wafer transfer body and the processing apparatus, and the cost spent on the transfer mechanism and the area occupied by the transfer mechanism can be reduced.
【0078】また、処理装置内でウェーハを垂直方向に
移動して所定の位置に配置するだけで、ウェーハを容易
に処理位置まで搬送することができる。Further, the wafer can be easily transported to the processing position only by moving the wafer in the processing apparatus in the vertical direction and disposing the wafer at a predetermined position.
【0079】請求項4記載の発明によれば、ウェーハ搬
送体を垂直移動して処理すべきウェーハが保持されたウ
ェーハホルダを所定の位置に移動し、水平移動機構によ
りウェーハホルダをウェ−ハ搬送体から引き出して処理
装置に挿入することができる。垂直移動機構と水平移動
機構とは、互いに連動するように制御部により制御さ
れ、ウェーハ搬送体から処理装置へのウェーハの搬送を
容易に行うことができる。したがって、ウェーハ搬送体
と処理装置との間に例えばロボットのような搬送機構を
別個に設ける必要はなく、搬送機構に費やされる費用及
び搬送機構が占める面積を低減することができる。According to the fourth aspect of the present invention, the wafer holder holding the wafer to be processed is moved to a predetermined position by vertically moving the wafer carrier, and the wafer holder is transported by the horizontal moving mechanism. It can be pulled out of the body and inserted into the processing device. The vertical movement mechanism and the horizontal movement mechanism are controlled by the control unit so as to interlock with each other, and can easily transfer the wafer from the wafer transfer body to the processing apparatus. Therefore, there is no need to separately provide a transfer mechanism such as a robot between the wafer transfer body and the processing apparatus, and the cost spent on the transfer mechanism and the area occupied by the transfer mechanism can be reduced.
【図1】従来のウェーハキャリアの平面図である。FIG. 1 is a plan view of a conventional wafer carrier.
【図2】従来のウェーハジャリアの正面図である。FIG. 2 is a front view of a conventional wafer jalia.
【図3】従来のウェーハキャリアに設けられた溝部の拡
大断面図である。FIG. 3 is an enlarged sectional view of a groove provided in a conventional wafer carrier.
【図4】従来のウェーハ搬送機構の動作を説明するため
の図である。FIG. 4 is a view for explaining the operation of a conventional wafer transfer mechanism.
【図5】従来のウェーハ搬送機構の動作を説明するため
の図である。FIG. 5 is a diagram for explaining the operation of a conventional wafer transfer mechanism.
【図6】本発明の第1の実施の形態によるウェーハ搬送
機構の斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of the wafer transfer mechanism according to the first embodiment of the present invention.
【図7】ウェーハホルダ移動機構に設けられた係合部の
拡大斜視図である。FIG. 7 is an enlarged perspective view of an engaging portion provided in the wafer holder moving mechanism.
【図8】本発明の第1の実施の形態によるウェーハキャ
リアの平面図である。FIG. 8 is a plan view of the wafer carrier according to the first embodiment of the present invention.
【図9】本発明の第1の実施の形態によるウェーハキャ
リアの正面図である。FIG. 9 is a front view of the wafer carrier according to the first embodiment of the present invention.
【図10】ウェーハキャリア設けられた溝部の拡大断面
図である。FIG. 10 is an enlarged sectional view of a groove provided in a wafer carrier.
【図11】ウェーハホルダがウェーハキャリアに収容さ
れた状態を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing a state where the wafer holder is housed in a wafer carrier.
【図12】ウェーハホルダがウェーハキャリアから引き
出された状態を示す平面図である。FIG. 12 is a plan view showing a state where the wafer holder is pulled out of the wafer carrier.
【図13】ウェーハをウェーハキャリアから処理装置に
搬送する工程を説明するための図である。FIG. 13 is a view for explaining a step of transferring a wafer from a wafer carrier to a processing apparatus.
【図14】ウェーハホルダの一例の斜視図である。FIG. 14 is a perspective view of an example of a wafer holder.
【図15】図14に示すウェーハホルダの断面図であ
る。FIG. 15 is a sectional view of the wafer holder shown in FIG. 14;
4 ウェーハ 10 処理装置 12 ピン 20 ウェーハ搬送機構 22 ウェーハキャリア 22d ストッパ部 24 ウェーハホルダ 24a 係合片 30 ウェーハキャリア移動機構 32 リニヤアクチュエータ 34 テーブル 40 ウェーハホルダ移動機構 42 リニヤアクチュエータ、 44 係合部 44a 溝部 50 制御部 Reference Signs List 4 wafer 10 processing device 12 pin 20 wafer transfer mechanism 22 wafer carrier 22d stopper part 24 wafer holder 24a engagement piece 30 wafer carrier movement mechanism 32 linear actuator 34 table 40 wafer holder movement mechanism 42 linear actuator, 44 engagement part 44a groove part 50 Control unit
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B65G 49/07 B65G 49/07 C B65D 85/38 R (72)発明者 高橋 均 福島県会津若松市門田町工業団地6番 富 士通エイエムディセミコンダクタ株式会社 内 (72)発明者 伏見 雅英 福島県会津若松市門田町工業団地6番 富 士通エイエムディセミコンダクタ株式会社 内 (72)発明者 齋藤 天 福島県会津若松市門田町工業団地6番 富 士通エイエムディセミコンダクタ株式会社 内 Fターム(参考) 3E096 AA06 BA16 BB04 CA08 CB03 DA25 DC02 FA27 GA13 3F022 CC02 EE05 FF26 KK14 MM01 MM13 5F031 CA02 DA01 DA13 EA06 EA19 EA20 FA01 FA03 FA07 FA11 FA12 GA02 GA48 GA49 GA52 HA33 LA15 MA15 PA26 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B65G 49/07 B65G 49/07 C B65D 85/38 R (72) Inventor Hitoshi Takahashi Aizuwakamatsu, Aizu, Fukushima No. 6, Tamachi Industrial Park, Fujitsu AMD Semiconductor Co., Ltd. No. 6 Kadotacho Industrial Park, Aizuwakamatsu City Fujitsu AMD Semiconductor Co., Ltd. F term (reference) 3E096 AA06 BA16 BB04 CA08 CB03 DA25 DC02 FA27 GA13 3F022 CC02 EE05 FF26 KK14 MM01 MM13 5F031 CA02 DA01 DA13 EA06 FA03 FA11 FA12 GA02 GA48 GA49 GA52 HA33 LA15 MA15 PA26
Claims (4)
送体であって、 各々がウェーハを保持する複数のウェーハホルダと、 該ウェーハホルダを垂直方向に整列した状態で収容する
ウェーハキャリアとよりなり、 前記ウェーハホルダは前記ウェーハキャリアから引き出
された位置に水平移動可能であることを特徴とするウェ
ーハ搬送体。Claims: 1. A wafer carrier for accommodating and transporting a wafer, comprising: a plurality of wafer holders each holding a wafer; and a wafer carrier accommodating the wafer holder in a vertically aligned state. The wafer carrier, wherein the wafer holder is horizontally movable to a position where the wafer holder is pulled out of the wafer carrier.
搬送機構であって、 請求項1記載のウェーハ搬送体と、 前記ウェーハ搬送体を垂直方向に移動する垂直移動機構
と、 前記ウェーハ搬送体に収容された前記ウェーハホルダを
水平方向に移動する水平移動機構とを有することを特徴
とするウェーハ搬送機構。2. A wafer transfer mechanism for transferring a wafer to a processing apparatus, the wafer transfer body according to claim 1, a vertical movement mechanism for moving the wafer transfer body in a vertical direction, and housed in the wafer transfer body. And a horizontal moving mechanism for moving the wafer holder in a horizontal direction.
送方法であって、 ウェーハを保持したウェーハホルダが収容されたウェー
ハキャリアを垂直方向に移動して、処理すべきウェーハ
が保持されているウェーハホルダを所定の垂直方向位置
に合わせる工程と、 所定の垂直位置に配置されたウェーハホルダを水平方向
に移動して、前記ウェーハキャリアから所定の距離だけ
引き出して前記処理装置内に配置する工程と、 所定の距離だけ引き出された前記ウェーハホルダに保持
されていたウェーハを垂直方向に持ち上げて前記ウェー
ハホルダから取り外す工程と、 前記ウェーハホルダを水平方向に移動して前記ウェーハ
キャリアに戻す工程とを有することを特徴とするウェー
ハ搬送方法。3. A transfer method for transferring a wafer to a processing apparatus, wherein a wafer carrier containing a wafer holder holding a wafer is moved in a vertical direction to hold a wafer to be processed. Aligning the holder at a predetermined vertical position, moving the wafer holder arranged at the predetermined vertical position in the horizontal direction, extracting the wafer holder a predetermined distance from the wafer carrier, and disposing the wafer holder in the processing apparatus; A step of vertically lifting a wafer held by the wafer holder pulled out by a predetermined distance and removing it from the wafer holder; anda step of horizontally moving the wafer holder and returning the wafer holder to the wafer carrier. A wafer transfer method characterized by the above-mentioned.
成する半導体製造装置であって、 ウェーハに処理を施す処理装置と、 ウェーハを保持するウェーハホルダを移動可能に収容し
たウェーハキャリアを有するウェーハ搬送体と、 前記ウェーハ搬送体を垂直方向に移動する垂直移動機構
と、 前記ウェーハホルダを水平方向に移動する水平移動機構
と、 前記垂直移動機構及び前記水平移動機構の動作を制御す
る制御部とを有することを特徴とする半導体製造装置。4. A semiconductor manufacturing apparatus for processing a wafer to form a semiconductor device, comprising: a processing apparatus for processing a wafer; and a wafer carrier having a wafer carrier movably housing a wafer holder for holding the wafer. A vertical movement mechanism for vertically moving the wafer carrier, a horizontal movement mechanism for horizontally moving the wafer holder, and a control unit for controlling operations of the vertical movement mechanism and the horizontal movement mechanism. A semiconductor manufacturing apparatus comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000234851A JP2002050678A (en) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | Wafer carrier, wafer transport mechanism and method, and semiconductor manufacturing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000234851A JP2002050678A (en) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | Wafer carrier, wafer transport mechanism and method, and semiconductor manufacturing apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002050678A true JP2002050678A (en) | 2002-02-15 |
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ID=18727161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000234851A Pending JP2002050678A (en) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | Wafer carrier, wafer transport mechanism and method, and semiconductor manufacturing apparatus |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002050678A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015233038A (en) * | 2014-06-09 | 2015-12-24 | 株式会社荏原製作所 | Substrate attaching/detaching part for substrate holder, and wet-type substrate processing apparatus with the same |
| JP2019208019A (en) * | 2018-05-09 | 2019-12-05 | ゾライアー・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | Retainer for plurality of substrate processes and plurality of substrate housing, processing facility, and processing method |
| KR20210005983A (en) * | 2014-06-09 | 2021-01-15 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | Substrate detaching part for substrate holder, wet substrate processing device provided with the same, substrate processing device, and substrate conveying method |
-
2000
- 2000-08-02 JP JP2000234851A patent/JP2002050678A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2015233038A (en) * | 2014-06-09 | 2015-12-24 | 株式会社荏原製作所 | Substrate attaching/detaching part for substrate holder, and wet-type substrate processing apparatus with the same |
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| KR102337100B1 (en) | 2014-06-09 | 2021-12-08 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | Substrate detaching part for substrate holder, wet substrate processing device provided with the same, substrate processing device, and substrate conveying method |
| JP2019208019A (en) * | 2018-05-09 | 2019-12-05 | ゾライアー・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | Retainer for plurality of substrate processes and plurality of substrate housing, processing facility, and processing method |
| JP7442273B2 (en) | 2018-05-09 | 2024-03-04 | ゾライアー・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | Holding device for housing multiple substrates, processing equipment, and processing method for processing multiple substrates |
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