[go: up one dir, main page]

JP2002050289A - Plasma display panel and method of manufacturing the same - Google Patents

Plasma display panel and method of manufacturing the same

Info

Publication number
JP2002050289A
JP2002050289A JP2000237298A JP2000237298A JP2002050289A JP 2002050289 A JP2002050289 A JP 2002050289A JP 2000237298 A JP2000237298 A JP 2000237298A JP 2000237298 A JP2000237298 A JP 2000237298A JP 2002050289 A JP2002050289 A JP 2002050289A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sub
substrate
substrates
lead
boards
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000237298A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Osamu Toyoda
治 豊田
Keiichi Betsui
圭一 別井
Akira Tokai
章 渡海
Motonari Kibune
素成 木舩
Hitoshi Yamada
斉 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2000237298A priority Critical patent/JP2002050289A/en
Publication of JP2002050289A publication Critical patent/JP2002050289A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 現行技術で作製可能なサイズの基板を複数枚
組み合わせることにより、大型のPDPを作製する。 【解決手段】 矩形で一辺に引き出し端子を有する電極
を形成した複数のサブ背面基板を、引き出し端子のない
端面を突き合わせ、複数のサブ背面基板を接合状態で支
持する背面サポート基板上に配置し、サブ背面基板に対
向させて、矩形で一辺に引き出し端子を有する電極を形
成した複数のサブ前面基板を、引き出し端子のない端面
を突き合わせて配置し、その上に、複数のサブ前面基板
を接合状態で支持する前面サポート基板を配置する。
(57) Abstract: A large-sized PDP is manufactured by combining a plurality of substrates of a size that can be manufactured by the current technology. SOLUTION: A plurality of sub-back substrates each having a rectangular shape and having an electrode having a lead terminal on one side are arranged on a back support substrate which abuts end faces without lead terminals and supports the plurality of sub-back substrates in a joined state, A plurality of sub-front substrates, each having a rectangular electrode having a lead terminal on one side, are arranged facing the sub-back substrate, with the end faces having no lead terminals facing each other, and the plurality of sub-front substrates are bonded thereon. The front support substrate to be supported by is disposed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(PDP)及びその製造方法に関し、さらに
詳しくは、例えば120インチ級の大型PDP及びその
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel (PDP) and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a large-sized 120-inch class PDP and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】PDPは、一対の基板(通常はガラス基
板)を微少な間隔を設けて対向配置し、周囲を封止する
ことによって密封されたガス放電空間を形成した自己発
光型の表示パネルである。
2. Description of the Related Art A PDP is a self-luminous display panel in which a pair of substrates (usually, glass substrates) are opposed to each other with a small space therebetween, and a sealed gas discharge space is formed by sealing the periphery. It is.

【0003】従来技術としてAC型面放電PDPを例に
とり説明する。この種のPDPは、通常、前面側の基板
と背面側の基板により構成されている。前面側の基板の
内側には表示放電を発生させるための表示電極、誘電体
層、保護層が形成されており、背面側の基板の内側には
表示データを書き込むためのアドレス電極、放電空間を
仕切るための隔壁、および、蛍光体層が形成されてい
る。
[0003] An AC type surface discharge PDP will be described as an example of the prior art. This type of PDP is usually composed of a front substrate and a rear substrate. A display electrode, a dielectric layer, and a protective layer for generating a display discharge are formed inside the front substrate, and an address electrode for writing display data and a discharge space are formed inside the rear substrate. Partition walls for partitioning and phosphor layers are formed.

【0004】これらの構造物を基板に形成するには、通
常、電極はフォトプロセス、誘電体層および蛍光体層は
印刷法、隔壁はサンドブラスト法などが用いられる。表
示装置となるパネルは、これらの構造物を形成した前面
側の基板(前面側のパネルアセンブリ)と背面側の基板
(背面側のパネルアセンブリ)とを対向配置し、周辺を
低融点ガラスにより封着し、放電空間内に放電ガスを封
入して作製する。
In order to form these structures on a substrate, usually, a photo process is used for electrodes, a printing method is used for a dielectric layer and a phosphor layer, and a sand blast method is used for partition walls. In the panel to be a display device, a front substrate (front panel assembly) on which these structures are formed and a rear substrate (rear panel assembly) are arranged to face each other, and the periphery is sealed with low-melting glass. And a discharge gas is sealed in the discharge space.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】近年では、PDPは対
角40〜60インチ級の大型フラットパネルディスプレ
イまでの作製が可能である。しかし、パネルサイズが大
型になればなるほど製造設備コストの増加や作製歩留り
の低下が深刻な問題となる。さらに、60インチを越え
るものについては、フォト工程や印刷工程に使用しうる
製造設備は実質上存在せず、60インチ以上の大型のデ
ィスプレイを作製することは、技術上また経済上、極め
て困難であった。
In recent years, PDPs can be manufactured up to large flat panel displays with a diagonal of 40 to 60 inches. However, as the panel size becomes larger, the increase in manufacturing equipment cost and the decrease in production yield become more serious problems. Further, for those exceeding 60 inches, there is practically no manufacturing equipment that can be used in the photo process or the printing process, and it is extremely difficult from a technical and economical point of view to produce a large display of 60 inches or more. there were.

【0006】本発明は、このような事情を考慮してなさ
れたもので、現行技術で作製可能なサイズの基板を複数
枚組み合わせることにより、大型のPDPを作製するよ
うにしたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供
するものである。
The present invention has been made in view of such circumstances, and is intended to manufacture a plasma display panel in which a large-sized PDP is manufactured by combining a plurality of substrates of a size that can be manufactured by the current technology. It provides a method.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、矩形で少なく
とも一辺に引き出し端子を有する電極を形成した複数の
一方側のサブ基板を、引き出し端子のない端面を突き合
わせ、複数の一方側のサブ基板を接合状態で支持する第
1のサポート基板上に配置し、一方側のサブ基板に対向
させて、矩形で少なくとも一辺に引き出し端子を有する
電極を形成した複数の他方側のサブ基板を、引き出し端
子のない端面を突き合わせて配置し、その上に、複数の
他方側のサブ基板を接合状態で支持する第2のサポート
基板を配置する工程を含んでなるプラズマディスプレイ
パネルの製造方法である。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, a plurality of one-sided sub-boards are formed by abutting a plurality of one-sided sub-boards each having a rectangular electrode having at least one side with a drawn-out terminal on an end surface having no drawn-out terminal. Are disposed on a first support substrate that supports in a bonded state, and a plurality of sub-substrates on the other side in which a rectangular electrode having a lead-out terminal on at least one side is formed facing the one sub-substrate. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising the steps of arranging end faces without holes and abutting thereon, and arranging a second support substrate for supporting a plurality of other sub-boards in a joined state.

【0008】本発明によれば、複数の一方側のサブ基板
と複数の他方側のサブ基板を、第1のサポート基板と第
2のサポート基板で挟持して、1枚の大型のPDPとす
るので、現在実用化されている対角40〜60インチ級
の大部分の製造ラインをそのまま適用して、大型のPD
Pを作製することができる。例えば、基板を4枚ずつ使
用すれば、対角80〜120インチ級の大型PDPを比
較的容易に作製することができる。
According to the present invention, a plurality of one-sided sub-boards and a plurality of other-sided sub-boards are sandwiched between the first support substrate and the second support substrate to form one large PDP. Therefore, most of the production lines of 40-60 inch diagonal which are currently in practical use are applied as they are, and large PD
P can be produced. For example, if four substrates are used, a large PDP having a diagonal size of 80 to 120 inches can be relatively easily manufactured.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明において、一方側のサブ基
板および他方側のサブ基板としては、矩形で少なくとも
一辺に引き出し端子を有する電極を形成したガラス、石
英、セラミック等の絶縁性基板や、金属板の表面を絶縁
膜で被った基板、及びこれらの基板上に、絶縁膜、誘電
体層、保護膜等の所望の構成物を形成した基板が含まれ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present invention, as one of the sub-substrate and the other-side sub-substrate, an insulating substrate made of glass, quartz, ceramic, or the like having a rectangular electrode having at least one extraction terminal formed thereon, Substrates in which the surface of a metal plate is covered with an insulating film, and substrates on which desired components such as an insulating film, a dielectric layer, and a protective film are formed, are included.

【0010】電極は、少なくとも一辺に引き出し端子を
有していればよい。この電極は、特に限定されず、当該
分野で公知の電極材料及び形成方法をいずれも使用して
形成することができる。電極材料としては、例えば、I
TO、SnO2 、ZnO等の透明材料や、Ag、Au、
Al、Cu、Cr及びそれらの合金や、それらの積層体
(例えばCr/Cu/Crの積層構造)等の金属材料な
どを使用することができる。電極の形成方法としては、
蒸着法、スパッタ法等の成膜法とエッチング法を組み合
わせることにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で電
極を形成することができる。
The electrode only needs to have a lead terminal on at least one side. This electrode is not particularly limited, and can be formed using any electrode material and formation method known in the art. As the electrode material, for example, I
Transparent materials such as TO, SnO 2 , ZnO, Ag, Au,
Metal materials such as Al, Cu, Cr and alloys thereof, and a laminate thereof (for example, a laminate structure of Cr / Cu / Cr) can be used. As a method of forming the electrode,
By combining a film formation method such as a vapor deposition method or a sputtering method with an etching method, electrodes can be formed in a desired number, thickness, width, and interval.

【0011】第1のサポート基板および第2のサポート
基板としては、特に限定されず、当該分野で公知の平面
状のガラス基板やセラミック基板、金属板(背面基板の
み)をいずれも適用することができる。
The first support substrate and the second support substrate are not particularly limited, and any of a flat glass substrate, a ceramic substrate, and a metal plate (only a back substrate) known in the art can be applied. it can.

【0012】上記の構成において、複数の一方側のサブ
基板は、例えば2枚または4枚のサブ背面基板で構成す
ることができ、それに対応して、複数の他方側のサブ基
板も、例えば2枚または4枚のサブ前面基板で構成する
ことができる。2枚のサブ背面基板と2枚のサブ前面基
板で構成する場合、それらのサブ基板は、上下方向に接
合してもよいし左右方向に接合してもよい。また、サブ
背面基板とサブ前面基板とのいずれか一方を2枚にし、
他方を4枚にした構成としてもよい。
In the above configuration, the plurality of one-sided sub-boards can be composed of, for example, two or four sub-backed boards, and correspondingly, the plurality of the other-sided sub-boards are also composed of, for example, two. It can be composed of one or four sub-front substrates. In the case of a configuration including two sub-back substrates and two sub-front substrates, these sub-substrates may be joined in a vertical direction or in a left-right direction. In addition, one of the sub rear substrate and the sub front substrate is made into two sheets,
It is good also as composition which made the other four pieces.

【0013】なお、この構成は一例であって、サブ基板
の分割数はこれに限定されず、サブ背面基板ついていえ
ば、例えば上下方向に電極の引き出し端子が延出されて
いる基板であれば、上下方向については最大2分割であ
るが、左右方向については2分割以上、何分割された基
板であってもよい。また、サブ前面基板ついていえば、
例えば左右方向に電極の引き出し端子が延出されている
基板であれば、左右方向については最大2分割である
が、上下方向については2分割以上、何分割された基板
であってもよい。
This configuration is merely an example, and the number of divisions of the sub-substrate is not limited to this. For the sub-back substrate, for example, if the substrate has electrode lead terminals extending vertically, In the vertical direction, the substrate is divided into two at the maximum, but in the horizontal direction, the substrate may be divided into two or more parts. Also, regarding the sub front substrate,
For example, in the case of a substrate on which the lead-out terminals of the electrodes extend in the left-right direction, the substrate is divided into two at the maximum in the left-right direction, but may be two or more in the vertical direction.

【0014】サブ背面基板とサブ前面基板の枚数が同じ
で、それぞれ対向している場合、サブ背面基板とそれに
対向設置されたサブ前面基板とで構成されるサブ表示ユ
ニットは、独立しているため、その表示ユニットの1辺
又は2辺に形成された引き出し端子によって、独立した
ドライバで駆動することもできる。
When the number of the sub-back substrate and the number of the sub-front substrate are the same and oppose each other, the sub-display unit composed of the sub-back substrate and the sub-front substrate installed opposite thereto is independent. The display unit can be driven by an independent driver by a lead terminal formed on one or two sides of the display unit.

【0015】隣接するサブ表示ユニットどうしの境界部
は、非表示領域に設けることが望ましく、このように、
完成した大型PDPの表示に影響しない領域を境界部に
割り当てることにより、境界部による表示への影響をな
くすことができる。
It is desirable that a boundary between adjacent sub-display units is provided in a non-display area.
By allocating an area that does not affect the display of the completed large PDP to the boundary, it is possible to eliminate the influence of the boundary on the display.

【0016】第1のサポート基板と一方側のサブ基板と
の間、および第2のサポート基板と他方側のサブ基板と
の間の、いずれか一方または両方には、通気スペースを
設けておいてもよい。すなわち、原則的にサポート基板
は、サブ基板並の表面平滑性を持った基材であればよい
が、最終的にパネルを封着、封止した際に、サポート基
板とサブ基板との通気に問題が生じるような場合には、
ビーズなどのスペーサを介してサポート基板上にサブ基
板を並べ、通気コンダクタンスをとってやってもよい。
また、サンドブラストなどでサポート基板の表面をラッ
シングする方法も有効である。通気スペースを設けず
に、サポート基板上に耐熱接着材、または、軟化点がシ
ール材料程度の低融点ガラス焼成膜を製膜しておき、最
終的に大型PDPを封止する工程でサポート基板とサブ
基板を完全に接着してもよい。
A ventilation space is provided between one or both of the first support substrate and one of the sub-substrates and between the second support substrate and the other sub-substrate. Is also good. In other words, in principle, the support substrate may be a substrate having the same surface smoothness as the sub-substrate, but when the panel is finally sealed and sealed, the support substrate and the sub-substrate are ventilated. If you have any problems,
The sub-substrate may be arranged on the support substrate via a spacer such as a bead, and the ventilation conductance may be taken.
Also, a method of rushing the surface of the support substrate by sandblasting or the like is effective. Without providing a ventilation space, a heat-resistant adhesive or a low-melting glass fired film whose softening point is about the same as that of a sealing material is formed on the support substrate. The sub-substrate may be completely bonded.

【0017】また、前面、背面の各サブ基板の端子を取
り出す辺と直交し、かつ突き当てを行わない辺には、そ
れぞれのサブ基板と略等しい厚さの短冊状の板を押し当
て、サブ基板と各対向側のサポート基板との封止を行
い、同時に基板間の高さ出しと、突き当て部のリーク防
止を図っている。
Further, a strip-shaped plate having a thickness substantially equal to that of each sub-board is pressed against a side perpendicular to the side from which the terminals of each of the sub-boards on the front and back sides are taken out, and on the side where no contact is made. The substrate and the support substrate on each side are sealed, and at the same time, the height between the substrates is increased, and leakage of the abutting portion is prevented.

【0018】一方側のサブ基板どうしの突き合わせ面、
および他方側のサブ基板どうしの突き合わせ面には、そ
れぞれ接合孔を設け、一方側のサブ基板どうしを突き合
わせた後、および他方側のサブ基板どうしを突き合わせ
た後に、それらの接合孔に、それぞれシール材料を充填
することが望ましい。これにより、サブ基板の厚み方向
の機密性も確実に確保することができる。
An abutting surface between the sub-boards on one side;
A bonding hole is provided on the mating surface between the sub-boards on the other side, and after the sub-boards on the one side are mated, and after the sub-boards on the other side are mated, sealing holes are respectively formed in the bonding holes. It is desirable to fill the material. Thereby, the confidentiality in the thickness direction of the sub-substrate can be reliably ensured.

【0019】以下、本発明の実施の形態を実施例に基づ
き図面を参照して説明する。なお、これによって本発明
が限定されるものではない。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described based on examples with reference to the drawings. Note that the present invention is not limited by this.

【0020】まず、本発明の製造方法で製造されるPD
Pの基本的な構成を図1に示すPDPを例に挙げて説明
しておく。
First, the PD manufactured by the manufacturing method of the present invention
The basic configuration of P will be described using the PDP shown in FIG. 1 as an example.

【0021】図1はカラー表示用PDPとして代表的な
AC型3電極面放電形式のPDPを部分的に示す斜視図
である。なお、図の構成は一例であり、本発明の製造方
法はこの構成のPDPに限定されることなく、前面側の
基板と背面側の基板とで構成される表示パネルであれ
ば、どのような表示パネルであっても適用することがで
きる。
FIG. 1 is a perspective view partially showing a typical AC type three-electrode surface discharge type PDP as a color display PDP. It should be noted that the configuration shown in the drawing is an example, and the manufacturing method of the present invention is not limited to the PDP having this configuration, and any display panel including a front substrate and a rear substrate can be used. The present invention can be applied to a display panel.

【0022】PDP10は、前面側のパネルアセンブリ
と背面側のパネルアセンブリから構成されている。
The PDP 10 includes a front panel assembly and a rear panel assembly.

【0023】前面側のパネルアセンブリは、一般的に、
ガラスからなる前面側の基板11上に表示ラインL毎に
一対のストライプ状の表示(サスティン)電極X,Yが
横方向に平行に形成され、表示電極X,Yを覆うように
誘電体層17が形成され、誘電体層17上に保護膜18
が形成された構成となっている。
The front panel assembly is generally
A pair of stripe-shaped display (sustain) electrodes X and Y are formed on the front substrate 11 made of glass for each display line L in parallel in the horizontal direction, and a dielectric layer 17 is formed so as to cover the display electrodes X and Y. Is formed, and a protective film 18 is formed on the dielectric layer 17.
Is formed.

【0024】表示電極X,Yは、通常、ITO、SnO
2 などの透明電極12と、電極の抵抗を下げるための、
例えばAg、Au、Al、Cu、Cr及びそれらの積層
体(例えばCr/Cu/Crの積層構造)等からなる金
属製のバス電極13から構成される。表示電極X,Y
は、蒸着法、スパッタ法等の成膜法とエッチング法を組
み合わせることにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔
で形成することができる。表示電極X,Yの内、通常は
表示電極Yがスキャン電極として用いられる。
The display electrodes X and Y are usually made of ITO, SnO
2 to reduce the resistance of the transparent electrode 12 and the electrode,
For example, the bus electrodes 13 are made of metal such as Ag, Au, Al, Cu, Cr and a laminate thereof (for example, a laminate structure of Cr / Cu / Cr). Display electrodes X, Y
Can be formed in a desired number, thickness, width and interval by combining a film forming method such as a vapor deposition method and a sputtering method with an etching method. Of the display electrodes X and Y, the display electrode Y is usually used as a scan electrode.

【0025】誘電体層17は、PDPに通常使用されて
いる材料で形成される。具体的には、例えば低融点ガラ
ス粉末とバインダーとからなるペーストを基板上にスク
リーン印刷法などで塗布し、焼成することにより形成す
ることができる。
The dielectric layer 17 is formed of a material usually used for a PDP. Specifically, for example, it can be formed by applying a paste composed of a low-melting glass powder and a binder on a substrate by a screen printing method or the like, and firing the paste.

【0026】保護膜18は、表示の際の放電により生じ
るイオンの衝突による損傷から誘電体層17を保護する
ために設けられる。保護膜18は、例えば、MgO、C
aO、SrO、BaO等からなる。
The protective film 18 is provided to protect the dielectric layer 17 from damage caused by ion collisions caused by discharge during display. The protective film 18 is made of, for example, MgO, C
It is made of aO, SrO, BaO or the like.

【0027】背面側のパネルアセンブリは、一般的に、
ガラスからなる背面側の基板21上に複数本のストライ
プ状のアドレス(データ)電極Aが縦方向に平行に形成
され、アドレス電極Aを覆うように誘電体層24が形成
され、誘電体層24上に放電空間30を仕切るための複
数のストライプ状の隔壁29がアドレス電極A間に平行
に形成され、隔壁29間の溝内の底面と側面にストライ
プ状の蛍光体層28R,28G,28Bが形成された構
成となっている。
The back panel assembly is generally
A plurality of stripe-shaped address (data) electrodes A are formed in a vertical direction on a rear substrate 21 made of glass, and a dielectric layer 24 is formed so as to cover the address electrodes A. A plurality of stripe-shaped partitions 29 for partitioning the discharge space 30 are formed in parallel between the address electrodes A, and stripe-shaped phosphor layers 28R, 28G, 28B are formed on the bottom and side surfaces in the groove between the partitions 29. It has a formed configuration.

【0028】誘電体層24は、前面側の基板11上の誘
電体層17と同じ種類のものを使用することができる。
As the dielectric layer 24, the same type as the dielectric layer 17 on the front substrate 11 can be used.

【0029】アドレス電極Aは、例えばAg、Au、A
l、Cu、Cr及びそれらの積層体(例えばCr/Cu
/Crの積層構造)等から構成される。アドレス電極A
も表示電極X,Yと同様に、蒸着法、スパッタ法等の成
膜法とエッチング法を組み合わせることにより(Agの
場合は印刷法を用いる)、所望の本数、厚さ、幅及び間
隔で形成することができる。
The address electrodes A are, for example, Ag, Au, A
l, Cu, Cr and their laminates (eg Cr / Cu
/ Cr laminated structure). Address electrode A
Similarly to the display electrodes X and Y, a desired number, thickness, width and interval are formed by combining a film forming method such as a vapor deposition method and a sputtering method and an etching method (in the case of Ag, a printing method is used). can do.

【0030】隔壁29は、サンドブラスト法、印刷法、
フォトエッチング法等により形成することができる。例
えば、低融点ガラス粉末とバインダーとからなるペース
トを誘電体層24上に塗布して焼成した後、サンドブラ
スト法で切削することにより形成することができる。ま
た、バインダーに感光性の樹脂を使用し、マスクを用い
た露光及び現像の後、焼成することにより形成すること
も可能である。
The partition 29 is formed by a sand blast method, a printing method,
It can be formed by a photoetching method or the like. For example, it can be formed by applying a paste composed of a low-melting glass powder and a binder on the dielectric layer 24 and firing it, followed by cutting by a sand blast method. Alternatively, it can be formed by using a photosensitive resin as a binder, baking after exposure and development using a mask.

【0031】蛍光体層28R,28G,28Bは、蛍光
体粉末とバインダーとを含む蛍光体ペーストを隔壁29
間の溝内にスクリーン印刷、またはディスペンサーを用
いた方法などで塗布し、これを各色毎に繰り返した後、
焼成することにより形成することができる。また、この
蛍光体層28R,28G,28Bは、蛍光体粉末とバイ
ンダーとを含むシート状の蛍光体層材料(いわゆるグリ
ーンシート)を使用し、フォトリソ法で形成することも
できる。この場合、所望の色のシートを基板上の表示領
域全面に貼り付けて、露光、現像を行い、これを各色毎
に繰り返すことで、対応する隔壁間に各色の蛍光体層を
形成することができる。
The phosphor layers 28R, 28G, and 28B are formed by partitioning a phosphor paste containing phosphor powder and a binder.
In the groove between the screen printing, or applied by a method using a dispenser, etc., after repeating this for each color,
It can be formed by firing. The phosphor layers 28R, 28G, and 28B can be formed by a photolithography method using a sheet-like phosphor layer material (a so-called green sheet) containing a phosphor powder and a binder. In this case, a sheet of a desired color is attached to the entire display area on the substrate, exposure and development are performed, and this is repeated for each color, whereby a phosphor layer of each color can be formed between the corresponding partition walls. it can.

【0032】PDP10は、上記した前面側のパネルア
センブリと背面側のパネルアセンブリとを、表示電極
X,Yとアドレス電極Aとが直交するように対向配置
し、周囲を封止し、隔壁29で囲まれた放電空間30に
ネオン、キセノンなどの放電ガスを充填することにより
作製される。このPDP10では、一対の表示電極X,
Yとアドレス電極Aとの交差部の放電空間30が表示の
最小単位である1つのセル領域(単位発光領域)とな
る。
In the PDP 10, the above-mentioned front panel assembly and the rear panel assembly are arranged so as to face each other so that the display electrodes X and Y and the address electrodes A are orthogonal to each other. It is manufactured by filling the enclosed discharge space 30 with a discharge gas such as neon or xenon. In this PDP 10, a pair of display electrodes X,
The discharge space 30 at the intersection of Y and the address electrode A becomes one cell area (unit light emitting area) which is the minimum unit of display.

【0033】以下、上記のようなPDP10の製造に適
用される本発明のPDPの製造方法を説明する。本例で
は、対角120インチのVGA(640×480画素)
〜SXGA(1280×1024画素)対応用のPDP
について説明する。この場合の画素サイズは3mm角
(サブピクセルサイズは1×3mm)程度となる。
Hereinafter, a method of manufacturing the PDP of the present invention applied to the manufacturing of the PDP 10 as described above will be described. In this example, a 120 inch diagonal VGA (640 × 480 pixels)
PDP for SXGA (1280 x 1024 pixels)
Will be described. In this case, the pixel size is about 3 mm square (the sub-pixel size is 1 × 3 mm).

【0034】図2〜図4は本発明の製造方法の概要を示
す説明図であり、図2は背面サポート基板とサブ背面基
板を示し、図3はサブ前面基板を示し、図4は前面サポ
ート基板を示す。まず、簡単に本発明の製造方法を説明
しておくと、本発明の製造方法では、アドレス電極、誘
電体層、隔壁および蛍光体層を形成したサブ背面基板
と、表示電極、誘電体層および保護層を形成したサブ前
面基板とを従来工程で作製する。次に、大型PDPの筐
体、兼、気密用基板となる背面サポート基板31の上に
4枚のサブ背面基板32a,32b,32c,32dを
並べる(図2参照)。引き続き、その上に4枚のサブ前
面基板33a,33b,33c,33dを図のように配
置し(図3参照)、その上に前面サポート基板34を重
ねる(図4参照)。各基板は気密性を考慮し、適時気密
シールをおこなう。組み立て、シールが終わった後、パ
ネル内を排気し、放電ガスを封入して大型PDPを作製
する。
FIGS. 2 to 4 are explanatory views showing an outline of the manufacturing method of the present invention. FIG. 2 shows a back support substrate and a sub back substrate. FIG. 3 shows a sub front substrate. 1 shows a substrate. First, the manufacturing method of the present invention will be briefly described. In the manufacturing method of the present invention, a sub-back substrate on which an address electrode, a dielectric layer, a partition and a phosphor layer are formed, a display electrode, a dielectric layer and A sub-front substrate on which a protective layer is formed is manufactured by a conventional process. Next, four sub-back substrates 32a, 32b, 32c, and 32d are arranged on a back support substrate 31 which is a housing for a large PDP and also serves as an airtight substrate (see FIG. 2). Subsequently, the four sub front substrates 33a, 33b, 33c, 33d are arranged thereon as shown in FIG. 3 (see FIG. 3), and the front support substrate 34 is overlaid thereon (see FIG. 4). Each substrate is hermetically sealed in a timely manner in consideration of hermeticity. After assembling and sealing, the inside of the panel is evacuated and a discharge gas is sealed to produce a large PDP.

【0035】次に、本発明の製造方法の詳細を説明す
る。図5〜図26は本発明のPDPの製造方法の一実施
例を工程順に示す説明図である。これらの図において、
図6は図5のA−A′横断面、図7は図5のB−B′縦
断面を示す。図9は図8のA−A′横断面、図10は図
8のB−B′縦断面を示す。図12は図11のA−A′
横断面、図13は図11のB−B′縦断面を示す。図1
5は図14のA−A′横断面、図16は図14のB−
B′縦断面を示す。図18は図17のA−A′横断面、
図19は図17のB−B′縦断面を示す。図21は図2
0のA−A′横断面、図22は図20のB−B′縦断面
を示す。図24は図23のA−A′横断面、図25は図
23のC−C′横断面、図26は図23のB−B′縦断
面を示す。
Next, details of the manufacturing method of the present invention will be described. 5 to 26 are explanatory views showing one embodiment of a method of manufacturing a PDP according to the present invention in the order of steps. In these figures,
6 shows a cross section taken along the line AA 'in FIG. 5, and FIG. 7 shows a vertical cross section taken along the line BB' in FIG. 9 shows a cross section taken along line AA 'of FIG. 8, and FIG. 10 shows a vertical cross section taken along line BB' of FIG. FIG. 12 is a sectional view taken along line AA ′ of FIG.
FIG. 13 shows a cross section taken along a line BB 'in FIG. Figure 1
5 is a cross section taken along the line AA 'in FIG. 14, and FIG.
The B 'vertical section is shown. FIG. 18 is a cross section taken along the line AA ′ of FIG.
FIG. 19 shows a vertical section taken along line BB 'of FIG. FIG. 21 shows FIG.
FIG. 22 shows a vertical cross section taken along the line BB 'of FIG. 20. 24 shows a cross section taken along the line AA 'in FIG. 23, FIG. 25 shows a cross section taken along the line CC' in FIG. 23, and FIG. 26 shows a vertical cross section taken along the line BB 'in FIG.

【0036】まず、ガラス基板上に、アドレス電極、誘
電体層、隔壁および蛍光体層などの構造物を形成したサ
ブ背面基板を4枚作製する。ガラス基板は、同じ厚み
で、ほぼ同じ大きさのものを用いる。この4枚のサブ背
面基板は、左上用のサブ背面基板、右上用のサブ背面基
板、左下用のサブ背面基板、右下用のサブ背面基板であ
り、これらの4枚の基板の端面を突き合わせると1枚の
大きな背面側のパネルアセンブリとなるような基板であ
る。
First, four sub-back substrates having structures such as an address electrode, a dielectric layer, partition walls, and a phosphor layer formed on a glass substrate are manufactured. Glass substrates having the same thickness and substantially the same size are used. The four sub-sub boards are an upper left sub-rear board, an upper right sub-rear board, a lower left sub-sub board, and a lower right sub-back board, and the end faces of these four substrates are abutted. In this case, the substrate is one large rear panel assembly.

【0037】一方、ガラス基板上に、表示電極、誘電体
層および保護層などの構造物を形成したサブ前面基板を
4枚作製する。ガラス基板は、同じ厚みで、ほぼ同じ大
きさのものを用いる。この4枚のサブ前面基板も、左上
用のサブ前面基板、右上用のサブ前面基板、左下用のサ
ブ前面基板、右下用のサブ前面基板であり、これらの4
枚の基板の端面を突き合わせると1枚の大きな前面側の
パネルアセンブリとなるような基板である。
On the other hand, four sub-front substrates having structures such as a display electrode, a dielectric layer and a protective layer formed on a glass substrate are manufactured. Glass substrates having the same thickness and substantially the same size are used. These four sub-front boards are also an upper left sub-front board, an upper right sub-front board, a lower left sub-front board, and a lower right sub-front board.
The substrate is such that one large front panel assembly is obtained by abutting the end faces of the two substrates.

【0038】上記4枚のサブ背面基板と4枚のサブ前面
基板は、図1で説明した当該分野で公知の製造方法で作
製する。
The four sub rear substrates and the four sub front substrates are manufactured by the manufacturing method known in the art described with reference to FIG.

【0039】次に、図5〜図7に示すように、一枚の大
きな背面サポート基板31上に、左上用のサブ背面基板
32a、右上用のサブ背面基板32b、左下用のサブ背
面基板32c、右下用のサブ背面基板32dの4枚のサ
ブ背面基板を並べる。使用する背面サポート基板31
は、後のシール工程(シール材料を溶融させて接着する
工程)の際の熱サイクル(約450℃)に耐えうるもの
であれば良く、このサポート基板としては、たとえばガ
ラス基板、セラミクス基板、金属基板(例えばチタン)
などが挙げられる。なお、シール材料の作業点(接着さ
せるための温度)が低くてよい場合には、サポート基板
の耐熱温度はそれに応じて低くなる。
Next, as shown in FIGS. 5 to 7, on one large back support substrate 31, an upper left sub back substrate 32a, an upper right sub back substrate 32b, and a lower left sub back substrate 32c are provided. , Four sub-back substrates 32d for the lower right sub-back substrate 32d are arranged. Back support board 31 to be used
Any substrate can be used as long as it can withstand a heat cycle (about 450 ° C.) in a subsequent sealing step (a step of melting and bonding a sealing material). Examples of the support substrate include a glass substrate, a ceramic substrate, and a metal substrate. Substrate (for example, titanium)
And the like. If the working point (the temperature for bonding) of the sealing material may be low, the heat-resistant temperature of the support substrate is correspondingly lowered.

【0040】次に、図8〜図10に示すように、背面サ
ポート基板31上に乗ったサブ背面基板32a,32
b,32c,32dの周辺部にシール材料35をディス
ペンサ等で塗布した後、乾燥硬化(または紫外線硬化)
させる。シール材料35としては、たとえば低融点ガラ
スフリットにバインダー樹脂や溶剤などを加えたペース
トなどが挙げられる。
Next, as shown in FIGS. 8 to 10, the sub-back substrates 32a, 32
After applying the sealing material 35 to the peripheral portions of b, 32c, and 32d with a dispenser or the like, drying and curing (or ultraviolet curing)
Let it. Examples of the sealing material 35 include a paste obtained by adding a binder resin, a solvent, and the like to a low-melting glass frit.

【0041】この時、大型PDPが完成した際の機密性
をより確実にするために、次に述べる半月状の接合孔を
サブ背面基板に設けておく。
At this time, in order to further ensure the confidentiality when the large PDP is completed, a semi-lunar bonding hole described below is provided in the sub-back substrate.

【0042】図27はサブ背面基板に設けた接合孔を示
す説明図、図28は接合孔を有するサブ背面基板を接合
した状態を示す説明図、図29は接合孔の縦断面を示す
拡大図である。例えば、半月状の接合孔36をサブ背面
基板32aのエッジ(突き合わせ面)とサブ背面基板3
2bのエッジに加工しておき(図27参照)、2枚のサ
ブ背面基板32a,32bを並べておいた後(図28参
照)、その接合孔36にもシール材料35を注入すれば
(図29参照)、サブ背面基板の厚み方向の機密性も確
実に確保することができる。
FIG. 27 is an explanatory view showing a bonding hole provided in the sub-back substrate, FIG. 28 is an explanatory diagram showing a state where the sub-back substrate having the bonding hole is bonded, and FIG. 29 is an enlarged view showing a longitudinal section of the bonding hole. It is. For example, the semi-lunar bonding hole 36 is formed by connecting the edge (butting surface) of the sub-back substrate 32a to the sub-back substrate 3a.
After processing to the edge of 2b (see FIG. 27) and arranging the two sub-back substrates 32a and 32b (see FIG. 28), a sealing material 35 is injected into the joint hole 36 (FIG. 29). ), And confidentiality in the thickness direction of the sub-back substrate can also be ensured.

【0043】次に、図11〜図13に示すように、厚さ
がサブ背面基板程度の短冊状のガラス部材37の上下面
にあらかじめシール材料35を塗布したもの(またはそ
れを一度焼成したもの)を、背面サポート基板31上
の、サブ背面基板32a,32cの隣と、サブ背面基板
32b,32dの隣に置く。このガラス部材37は、背
面サポート基板31の短い側の2辺と、次手順で述べる
サブ前面基板33a〜33dの電極端子が配列されてい
る辺の、端子より内側の部分との間の封止を行い、同時
にサブ背面基板の上に後からサブ前面基板を置いた時の
高さ合わせと、サブ背面基板の突き当て部分でのリーク
を防止する役割を兼ねている。
Next, as shown in FIGS. 11 to 13, a sealing material 35 is applied in advance to the upper and lower surfaces of a strip-shaped glass member 37 having a thickness of about a sub-back substrate (or a material obtained by firing the sealing material once). ) Are placed on the back support substrate 31 next to the sub-back substrates 32a and 32c and next to the sub-back substrates 32b and 32d. The glass member 37 seals between two short sides of the back support substrate 31 and a portion of the side on which the electrode terminals of the sub front substrates 33a to 33d described below are arranged inside the terminals. And at the same time, also serves to adjust the height when the sub-front substrate is later placed on the sub-back substrate and to prevent leakage at the abutting portion of the sub-back substrate.

【0044】次に、図14〜図16に示すように、サブ
背面基板32a,32b,32c,32dの上にサブ前
面基板33a,33b,33c,33dを対向させて配
置する。サブ前面基板33a,33b,33c,33d
にも半月状の接合孔38を設けておく。
Next, as shown in FIGS. 14 to 16, the sub front substrates 33a, 33b, 33c, 33d are arranged on the sub rear substrates 32a, 32b, 32c, 32d so as to face each other. Sub front substrates 33a, 33b, 33c, 33d
Also, a semi-lunar joining hole 38 is provided.

【0045】次に、図17〜図19に示すように、サブ
前面基板33a,33b,33c,33d上、および、
サブ前面基板の接合孔38に、シール材料35をディス
ペンサ等で塗布し乾燥させる。
Next, as shown in FIGS. 17 to 19, on the sub front substrates 33a, 33b, 33c, 33d, and
The sealing material 35 is applied to the bonding holes 38 of the sub front substrate with a dispenser or the like and dried.

【0046】次に、図20〜図22に示すように、厚さ
がサブ前面基板程度の短冊状のガラス部材39の上下面
にあらかじめシール材料35を塗布したもの(またはそ
れを一度焼成したもの)を、サブ背面基板上の、サブ前
面基板33a,33bの隣と、サブ前面基板33c,3
3dの隣に置く。このガラス部材39は、次手順で述べ
る前面サポート基板の長い側の2辺と、サブ背面基板3
2a〜32dの電極端子が配列されている辺の、端子よ
り内側の部分との間の封止を行い、同時にサブ前面基板
とサブ背面基板との間の高さ合わせと、サブ前面基板の
突き当て部分でのリークを防止する役割を兼ねている。
そして、この大型PDPの四隅の部分ではガラス部材3
7とガラス部材39とが井桁状に重なりシールされるこ
とで、この部分での封止を強化している。
Next, as shown in FIGS. 20 to 22, the sealing material 35 is applied in advance to the upper and lower surfaces of a strip-shaped glass member 39 having a thickness of about the sub-front substrate (or a material obtained by firing it once). ) On the sub back substrate, next to the sub front substrates 33a, 33b, and the sub front substrates 33c, 3c.
Place next to 3d. The glass member 39 is provided between the two long sides of the front support substrate and the sub-back substrate 3 described in the next procedure.
Sealing is performed between the side on which the electrode terminals 2a to 32d are arranged and the portion inside the terminal, and at the same time, the height adjustment between the sub front substrate and the sub rear substrate and the protrusion of the sub front substrate are performed. It also serves to prevent leaks at the contact area.
The glass member 3 is located at the four corners of this large PDP.
7 and the glass member 39 are overlapped and sealed in a cross-girder shape, thereby strengthening the sealing at this portion.

【0047】最後に、図23〜図26に示すように、サ
ブ前面基板の上に前面サポート基板34を重ねて置く。
前面サポート基板34の大きさは、図の上下方向はガラ
ス部材39の外側端まで、左右方向はサブ前面基板に塗
布したシール材料35までの大きさである。また、前面
サポート基板としては、強化ガラス基板が使用できる。
Finally, as shown in FIGS. 23 to 26, the front support substrate 34 is placed on the sub front substrate.
The size of the front support substrate 34 is the size up to the outer end of the glass member 39 in the up-down direction and the size of the seal material 35 applied to the sub-front substrate in the left-right direction. Further, a tempered glass substrate can be used as the front support substrate.

【0048】そして、周囲をクリップで挟んで止め、封
止炉で、約450℃に加熱し、シール材料35を溶融さ
せてパネルを封着する。その後、パネル内を排気してか
ら放電ガスを充填し、背面サポート基板31に設けた排
気管(図示していない)をチップオフすることによって
パネルを完成させる。
Then, the periphery is clamped by clips and heated to about 450 ° C. in a sealing furnace to melt the sealing material 35 and seal the panel. After that, the inside of the panel is evacuated and then filled with a discharge gas, and the exhaust pipe (not shown) provided on the back support substrate 31 is chipped off to complete the panel.

【0049】以上の工程におけるサポート基板とサブ基
板との排気の関係、および接着について説明する。原則
的にサポート基板は、サブ基板並の表面平滑性を持った
基材であればよいが、最終的にパネルを封着、封止した
際に、サポート基板とサブ基板との排気に問題が生じる
ような場合には、ビーズなどのスペーサを介してサポー
ト基板上にサブ基板を並べ、排気コンダクタンスをとっ
てやってもよい。また、サンドブラスト、あるいは研磨
などでサポート基板の表面をラッシングする方法も有効
である。
The relationship between the exhaust of the support substrate and the sub-substrate and the bonding in the above steps will be described. In principle, the support substrate only needs to be a substrate having the same surface smoothness as the sub-substrate.However, when the panel is finally sealed and sealed, there is a problem in exhausting the support substrate and the sub-substrate. In such a case, the sub-substrate may be arranged on the support substrate via a spacer such as a bead, and the exhaust conductance may be taken. Further, a method of rushing the surface of the support substrate by sandblasting or polishing is also effective.

【0050】サポート基板上に耐熱接着材、または、軟
化点がシール材料程度の低融点ガラス焼成膜を製膜して
おき、最終的に大型PDPを封止する工程でサポート基
板とサブ基板を完全に接着してもよい。
A heat-resistant adhesive or a low-melting glass fired film having a softening point equivalent to that of a sealing material is formed on the support substrate, and the support substrate and the sub-substrate are completely completed in the process of finally sealing a large PDP. May be adhered to.

【0051】なお、上記の製造工程中、パネル内部の気
密を維持するため、シール材料を随所に用いたが、必要
に応じてシール箇所を追加する。
In the above-mentioned manufacturing process, a sealing material is used everywhere in order to keep the inside of the panel airtight. However, a sealing portion may be added if necessary.

【0052】また、基本的にサポート基板とサブ基板は
その周辺部のシール材料によってのみ固定されている
が、位置合わせ精度向上、排気コンダクタンスの改善を
行う際には、耐熱接着材、または、軟化点がシール材料
程度の低融点ガラス焼成膜を用いて、全面あるいは部分
領域を面接着してもよい。
Although the support substrate and the sub-substrate are basically fixed only by the sealing material at the periphery thereof, when the positioning accuracy is improved and the exhaust conductance is improved, a heat-resistant adhesive or a softened material is used. The whole surface or a partial region may be surface-bonded using a low-melting-point glass fired film whose point is about the same as a sealing material.

【0053】図30はサブ背面基板の詳細を示す説明図
である。使用するサブ背面基板は、アドレス電極、誘電
体層、隔壁および蛍光体層を形成したものであり、大半
の領域は従来と全く変わらない。特徴的なのは、各サブ
基板どうしの境界部(突き合わせた接合部)が非表示部
分となるような構造をとっていることである。
FIG. 30 is an explanatory diagram showing details of the sub-back substrate. The sub-back substrate used has an address electrode, a dielectric layer, barrier ribs, and a phosphor layer formed thereon, and most of the area is not different from the conventional one. Characteristically, the structure is such that a boundary portion (joined junction portion) between the sub-substrates is a non-display portion.

【0054】すなわち、図中、Y軸方向に沿ったサブ基
板の境界部Kyについては、その部分が隔壁の中心とな
るようにする。そのため、各サブ基板の端部に通常より
細い幅の隔壁29aを形成しておき、2枚のサブ基板を
ならべた場合に、細い幅の隔壁29a2本分で通常の幅
の隔壁29となるようにしておく。
That is, in the drawing, the boundary Ky of the sub-substrate along the Y-axis direction is made to be the center of the partition wall. Therefore, a partition wall 29a having a smaller width than usual is formed at an end of each sub-substrate, and when two sub-substrates are arranged, the partition wall 29 having a normal width is formed by two narrow partitions 29a. Keep it.

【0055】また、図中、X軸方向に沿ったサブ基板の
境界部Kxについては、その部分が非放電スリット(通
常、逆スリットと呼ばれる)となる表示電極対の相互間
に設定する。逆スリットでは、隔壁29およびアドレス
電極Aの有無は表示に無関係であるので、これにより、
サブ基板の境界部Kxに、隔壁29およびアドレス電極
Aの未接続部(断絶部)が形成されても、表示に影響を
与えることはない。
In the figure, a boundary portion Kx of the sub-substrate along the X-axis direction is set between display electrode pairs in which the portion becomes a non-discharge slit (usually called a reverse slit). In the reverse slit, the presence or absence of the partition wall 29 and the address electrode A is irrelevant to the display.
Even if an unconnected portion (cut portion) between the partition wall 29 and the address electrode A is formed at the boundary portion Kx of the sub-substrate, the display is not affected.

【0056】図31はサブ背面基板の境界部の詳細を示
す説明図、図32はその拡大図である。これらの図に示
すように、サブ背面基板の境界部Kyでは、細い幅の隔
壁2本分で通常の幅Wの隔壁となるようにしておく。具
体例を挙げれば、対角120インチ級のディスプレイに
おいては、画素サイズが3mm程度であるため、隔壁ピ
ッチも1mm程度が要求される。その際には、隔壁の幅
は240μm程度となる。
FIG. 31 is an explanatory view showing details of a boundary portion of the sub-back substrate, and FIG. 32 is an enlarged view thereof. As shown in these figures, at the boundary portion Ky of the sub-back substrate, two partitions having a small width are used as partitions having a normal width W. As a specific example, in a display with a diagonal size of 120 inches, the pixel size is about 3 mm, so that the partition wall pitch is also required to be about 1 mm. In that case, the width of the partition is about 240 μm.

【0057】したがって、サブ背面基板の端部から40
μmの距離Sだけ離れた位置に、ほぼ80μmの幅W1
の隔壁29aを形成しておく。これで、サブ背面基板の
境界部Kyでは、境界部Kyをまたいで合計240μm
の幅Wの隔壁ができることになり、サブ背面基板境界部
での隔壁の太さは実質240μm程度となる(図32参
照)。
Therefore, 40 degrees from the end of the sub rear substrate.
A width W1 of approximately 80 μm is set at a position separated by a distance S of μm.
Is formed in advance. As a result, the boundary Ky of the sub rear substrate is 240 μm in total across the boundary Ky.
Is formed, and the thickness of the partition wall at the sub-substrate boundary is substantially 240 μm (see FIG. 32).

【0058】この場合、サブ背面基板の端部の隔壁29
aは、たとえば幅を120μm程度にして、サブ背面基
板ギリギリまで形成してもよいが、サブ背面基板の作製
安定性と境界部の面だし精度を考慮すると、少し余裕を
あけて隔壁を形成しておいたほうがよい。
In this case, the partition 29 at the end of the sub rear substrate is used.
a may have a width of, for example, about 120 μm and may be formed to the last minute of the sub-back substrate. However, in consideration of the production stability of the sub-back substrate and the accuracy of exposing the boundary portion, the partition wall may be formed with a margin. It is better to keep it.

【0059】図33は4枚のサブ背面基板とそれに重ね
合わせるサブ前面基板の相対位置の関係を示す説明図で
ある。図では各4枚のサブ基板の境界部を拡大して示し
ており、サブ背面基板を4枚並べた中心位置と、サブ前
面基板を4枚並べた中心位置とは平面的に重なってい
る。表示電極X,Yはサブ前面基板上に、隔壁29およ
びアドレス電極Aはサブ背面基板上に設けられている。
FIG. 33 is an explanatory diagram showing the relationship between the relative positions of the four sub-back substrates and the sub-front substrate superimposed thereon. In the drawing, the boundary between the four sub-substrates is shown in an enlarged manner, and the center position where the four sub-back substrates are arranged and the center position where the four sub-front substrates are arranged are overlapped in a plane. The display electrodes X and Y are provided on the sub front substrate, and the partition walls 29 and the address electrodes A are provided on the sub back substrate.

【0060】この図に示すように、図中Y軸に沿ったサ
ブ基板の境界部Kyでは、隔壁が2本の細い隔壁29a
で構成されている。このため、境界部Kyは、隔壁に挟
まれた状態となっている。また、サブ前面基板の表示電
極X,Yには、境界部Kyの位置に未接続部(断絶部)
が形成されているが、この未接続部は隔壁の部分に位置
するようになっている。
As shown in this figure, at the boundary Ky of the sub-substrate along the Y-axis in the figure, there are two thin partitions 29a.
It is composed of For this reason, the boundary Ky is in a state of being sandwiched between the partition walls. Further, the display electrodes X and Y of the sub front substrate are not connected to each other (disconnected portions) at the position of the boundary Ky.
Is formed, but this unconnected portion is located at the partition wall portion.

【0061】図中X軸に沿ったサブ基板の境界部Kxで
は、隔壁29a,29、アドレス電極A、および蛍光体
層(図示していない)に未接続部(断絶部)が形成され
ているが、この未接続部は、表示ラインLと表示ライン
Lとの間の逆スリットNの領域に位置するようになって
いる。このように、境界部Kyと境界部Kxには、完成
した大型PDPの表示に影響しない領域が割り当てられ
ている。
At the boundary Kx of the sub-substrate along the X-axis in the figure, unconnected portions (disconnected portions) are formed in the partitions 29a, 29, the address electrodes A, and the phosphor layers (not shown). However, the unconnected portion is located in a region of the reverse slit N between the display lines L. As described above, areas that do not affect the display of the completed large PDP are allocated to the boundary Ky and the boundary Kx.

【0062】図34は完成した大型PDPの電極の接続
状態を示す説明図である。この図に示すように、本発明
の製造方法によって製造される大型PDPは、左上のサ
ブ背面基板32aと左上のサブ前面基板33aからなる
左上の表示ユニットaと、右上のサブ背面基板32bと
右上のサブ前面基板33bからなる右上の表示ユニット
bと、左下のサブ背面基板32cと左下のサブ前面基板
33cからなる左下の表示ユニットcと、右下のサブ背
面基板32dと右下のサブ前面基板33dからなる右下
の表示ユニットdとの、4組のサブ表示ユニットによっ
て構成される。そして、これらサブ表示ユニットの表示
電極X,Yとアドレス電極Aは、それぞれ独立してい
る。
FIG. 34 is an explanatory view showing the connection state of the electrodes of the completed large PDP. As shown in this figure, a large-sized PDP manufactured by the manufacturing method of the present invention includes a display unit a including an upper left sub rear substrate 32a and an upper left sub front substrate 33a, an upper right sub rear substrate 32b and an upper right sub rear substrate 32b. Upper right display unit b composed of a lower front sub substrate 33c, lower left display unit c composed of a lower left sub rear substrate 32c and lower left sub front substrate 33c, lower right sub rear substrate 32d and lower right sub front substrate It is composed of four sets of sub-display units including a lower right display unit d composed of 33d. The display electrodes X and Y and the address electrodes A of these sub-display units are independent of each other.

【0063】したがって、サブ表示ユニットaの表示電
極X,Yとサブ表示ユニットcの表示電極X,Yは、図
中左方向に引き出されてドライバに接続され、サブ表示
ユニットbの表示電極X,Yとサブ表示ユニットdの表
示電極X,Yは、図中右方向に引き出されてドライバに
接続される。
Accordingly, the display electrodes X and Y of the sub-display unit a and the display electrodes X and Y of the sub-display unit c are pulled out to the left in the drawing and connected to the driver, and the display electrodes X and Y of the sub-display unit b are connected. Y and the display electrodes X and Y of the sub display unit d are drawn rightward in the figure and connected to the driver.

【0064】また、サブ表示ユニットaのアドレス電極
Aとサブ表示ユニットbのアドレス電極Aは、図中上方
向に引き出されてドライバに接続され、サブ表示ユニッ
トcのアドレス電極Aとサブ表示ユニットdのアドレス
電極Aは、図中下方向に引き出されてドライバに接続さ
れる。
The address electrode A of the sub-display unit a and the address electrode A of the sub-display unit b are drawn upward in the figure and connected to a driver, and the address electrode A of the sub-display unit c and the sub-display unit d are connected. Address electrode A is drawn out downward in the figure and connected to the driver.

【0065】大型PDPを駆動するこれらのドライバ
は、大型PDP用のドライバを作製してもよいし、1つ
のサブ表示ユニットに対応するドライバがあるならば、
それを流用し、各ドライバを連動するようにしてもよ
い。
As these drivers for driving a large PDP, a driver for a large PDP may be manufactured, or if there is a driver corresponding to one sub-display unit,
It may be diverted and each driver may be linked.

【0066】なお、上記の実施例においては、4枚のサ
ブ背面基板と4枚のサブ前面基板とで大型PDPを製造
する例を説明したが、2枚のサブ背面基板と2枚のサブ
前面基板とで大型PDPを製造するようにしてもよい。
その場合、2枚のサブ基板は、上下方向に接合してもよ
いし左右方向に接合してもよく、いずれも上記の実施例
を応用することにより容易に製造可能である。また、サ
ブ背面基板とサブ前面基板とのいずれか一方を2枚に
し、他方を4枚にした構成とすることも可能である。
In the above embodiment, an example was described in which a large PDP was manufactured using four sub-back substrates and four sub-front substrates, but two sub-back substrates and two sub-front substrates were used. A large PDP may be manufactured with a substrate.
In this case, the two sub-substrates may be joined in the up-down direction or in the left-right direction, and both can be easily manufactured by applying the above embodiment. Further, it is also possible to adopt a configuration in which one of the sub rear substrate and the sub front substrate is made into two sheets and the other is made into four sheets.

【0067】[0067]

【発明の効果】本発明によれば、例えば、現行実用化さ
れている対角40〜60インチ級の基板を2枚または4
枚使用して、対角80〜120インチ級の大型PDPを
比較的容易に作製することができる。
According to the present invention, for example, two or four substrates having a diagonal of 40 to 60 inches which are currently in practical use are used.
A large-sized PDP having a diagonal size of 80 to 120 inches can be relatively easily manufactured by using a single PDP.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】AC型3電極面放電形式のPDPを部分的に示
す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view partially showing an AC type three-electrode surface discharge type PDP.

【図2】本発明の製造方法の背面サポート基板とサブ背
面基板を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory view showing a back support substrate and a sub back substrate in the manufacturing method of the present invention.

【図3】本発明の製造方法のサブ前面基板を示す説明図
である。
FIG. 3 is an explanatory view showing a sub front substrate in the manufacturing method of the present invention.

【図4】本発明の製造方法の前面サポート基板を示す説
明図である。
FIG. 4 is an explanatory view showing a front support substrate in the manufacturing method of the present invention.

【図5】本発明のPDPの製造方法の一実施例を工程順
に示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory view showing one embodiment of a method of manufacturing a PDP according to the present invention in the order of steps.

【図6】図5のA−A′横断面を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory view showing a cross section taken along line AA ′ of FIG. 5;

【図7】図5のB−B′縦断面を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory view showing a vertical section taken along the line BB ′ of FIG. 5;

【図8】本発明のPDPの製造方法の一実施例を工程順
に示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory view showing one embodiment of a method of manufacturing a PDP according to the present invention in the order of steps.

【図9】図8のA−A′横断面を示す説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram showing a cross section taken along line AA ′ of FIG. 8;

【図10】図8のB−B′縦断面を示す説明図である。FIG. 10 is an explanatory view showing a vertical section taken along line BB ′ of FIG. 8;

【図11】本発明のPDPの製造方法の一実施例を工程
順に示す説明図である。
FIG. 11 is an explanatory view showing one embodiment of a method of manufacturing a PDP of the present invention in the order of steps.

【図12】図11のA−A′横断面を示す説明図であ
る。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing a cross section taken along line AA ′ of FIG. 11;

【図13】図11のB−B′縦断面を示す説明図であ
る。
FIG. 13 is an explanatory view showing a vertical section taken along line BB ′ of FIG. 11;

【図14】本発明のPDPの製造方法の一実施例を工程
順に示す説明図である。
FIG. 14 is an explanatory view showing one embodiment of a method of manufacturing a PDP according to the present invention in the order of steps.

【図15】図14のA−A′横断面を示す説明図であ
る。
FIG. 15 is an explanatory view showing a cross section taken along line AA ′ of FIG. 14;

【図16】図14のB−B′縦断面を示す説明図であ
る。
FIG. 16 is an explanatory view showing a vertical section taken along line BB ′ of FIG. 14;

【図17】本発明のPDPの製造方法の一実施例を工程
順に示す説明図である。
FIG. 17 is an explanatory view showing one embodiment of the method of manufacturing a PDP of the present invention in the order of steps.

【図18】図17のA−A′横断面を示す説明図であ
る。
FIG. 18 is an explanatory diagram showing a cross section taken along line AA ′ of FIG. 17;

【図19】図17のB−B′縦断面を示す説明図であ
る。
FIG. 19 is an explanatory view showing a vertical section taken along line BB ′ of FIG. 17;

【図20】本発明のPDPの製造方法の一実施例を工程
順に示す説明図である。
FIG. 20 is an explanatory view showing one embodiment of the method of manufacturing a PDP of the present invention in the order of steps.

【図21】図20のA−A′横断面を示す説明図であ
る。
FIG. 21 is an explanatory view showing a cross section taken along the line AA ′ of FIG. 20;

【図22】図20のB−B′縦断面を示す説明図であ
る。
FIG. 22 is an explanatory view showing a vertical section taken along line BB ′ of FIG. 20;

【図23】本発明のPDPの製造方法の一実施例を工程
順に示す説明図である。
FIG. 23 is an explanatory view showing one embodiment of the method of manufacturing a PDP of the present invention in the order of steps.

【図24】図23のA−A′横断面を示す説明図であ
る。
FIG. 24 is an explanatory view showing a cross section taken along line AA ′ of FIG. 23;

【図25】図23のC−C′横断面を示す説明図であ
る。
FIG. 25 is an explanatory diagram showing a cross section taken along line CC ′ of FIG. 23;

【図26】図23のB−B′縦断面を示す説明図であ
る。
FIG. 26 is an explanatory view showing a vertical section taken along line BB ′ of FIG. 23;

【図27】実施例のサブ背面基板に設けた接合孔を示す
説明図である。
FIG. 27 is an explanatory diagram showing bonding holes provided in the sub back substrate of the example.

【図28】実施例の接合孔を有するサブ背面基板を接合
した状態を示す説明図である。
FIG. 28 is an explanatory diagram showing a state in which the sub-back substrates having the joining holes according to the embodiment are joined.

【図29】実施例の接合孔の縦断面を示す拡大図であ
る。
FIG. 29 is an enlarged view showing a vertical cross section of a joining hole of an example.

【図30】実施例のサブ背面基板の詳細を示す説明図で
ある。
FIG. 30 is an explanatory diagram showing details of a sub rear substrate of the example.

【図31】実施例のサブ背面基板の境界部の詳細を示す
説明図である。
FIG. 31 is an explanatory diagram showing details of a boundary portion of the sub-back substrate of the example.

【図32】実施例のサブ背面基板の境界部の詳細を示す
拡大図である。
FIG. 32 is an enlarged view showing details of a boundary portion of the sub rear substrate of the example.

【図33】実施例のサブ背面基板とサブ前面基板の相対
関係を示す説明図である。
FIG. 33 is an explanatory diagram showing a relative relationship between a sub-back substrate and a sub-front substrate in the example.

【図34】本発明の製造方法による大型PDPの電極の
接続状態を示す説明図である。
FIG. 34 is an explanatory diagram showing a connection state of electrodes of a large PDP according to the manufacturing method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 PDP 11 前面側の基板 12 透明電極 13 バス電極 17 誘電体層 18 保護膜 21 背面側の基板 24 誘電体層 28R,28G,28B 蛍光体層 29 隔壁 30 放電空間 31 背面サポート基板 32a,32b,32c,32d サブ背面基板 33a,33b,33c,33d サブ前面基板 34 前面サポート基板 35 シール材料 36,38 接合孔 37,39 ガラス部材 A アドレス電極 L 表示ライン X,Y 表示電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 PDP 11 Front side board 12 Transparent electrode 13 Bus electrode 17 Dielectric layer 18 Protective film 21 Back side substrate 24 Dielectric layer 28R, 28G, 28B Phosphor layer 29 Partition wall 30 Discharge space 31 Back support substrate 32a, 32b, 32c, 32d Sub rear substrate 33a, 33b, 33c, 33d Sub front substrate 34 Front support substrate 35 Seal material 36, 38 Bonding hole 37, 39 Glass member A Address electrode L Display line X, Y Display electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡海 章 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 木舩 素成 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 山田 斉 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 Fターム(参考) 5C012 AA09 BC03 5C040 FA01 GA10 GB03 GB14 HA01 MA25 5C058 AA11 AB06 BA23 5C094 AA14 AA43 BA31 EA05 EB02 5G435 AA00 AA17 BB06 KK05  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Akira Tomikai 4-1-1, Kamidadanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Motonari Kifune 4 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture 1-1, Fujitsu Limited (72) Inventor Hitoshi Yamada 4-1-1, Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa F-term within Fujitsu Limited (reference) 5C012 AA09 BC03 5C040 FA01 GA10 GB03 GB14 HA01 MA25 5C058 AA11 AB06 BA23 5C094 AA14 AA43 BA31 EA05 EB02 5G435 AA00 AA17 BB06 KK05

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 矩形で少なくとも一辺に引き出し端子を
有する電極を形成した複数の一方側のサブ基板を、引き
出し端子のない端面を突き合わせ、複数の一方側のサブ
基板を接合状態で支持する第1のサポート基板上に配置
し、 一方側のサブ基板に対向させて、矩形で少なくとも一辺
に引き出し端子を有する電極を形成した複数の他方側の
サブ基板を、引き出し端子のない端面を突き合わせて配
置し、 その上に、複数の他方側のサブ基板を接合状態で支持す
る第2のサポート基板を配置する工程を含んでなるプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。
1. A first method for supporting a plurality of one-sided sub-boards in a joined state, wherein a plurality of one-sided sub-boards each having a rectangular shape and having an electrode having a drawn-out terminal on at least one side are abutted on end surfaces having no drawn-out terminals. A plurality of rectangular sub-boards each having an electrode having a lead-out terminal on at least one side thereof are arranged on the support substrate, and the end faces without the lead-out terminals are arranged so as to face each other. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising a step of disposing a second support substrate that supports a plurality of other sub-substrates in a bonded state thereon.
【請求項2】 矩形で一辺に引き出し端子を有する電極
を形成した複数の一方側のサブ基板を、引き出し端子の
ない端面を突き合わせ、複数の一方側のサブ基板を接合
状態で支持する第1のサポート基板上に配置し、 前記一方側のサブ基板の引き出し端子の配列方向と直角
方向でかつ、突き合わせを行わない辺に、少なくとも一
つの面にシール材を形成した、前記一方側のサブ基板と
ほぼ同じ厚さの第1の短冊状の板を突き当て、 前記一方側のサブ基板に対向させて、矩形で一辺に引き
出し端子を有する電極を形成した複数の他方側のサブ基
板を、引き出し端子のない端面を突き合わせて配置し、 前記他方側のサブ基板の引き出し端子の配列方向と直角
方向でかつ、突き合わせを行わない辺に、少なくとも一
つの面にシール材を形成した、前記他方側のサブ基板と
ほぼ同じ厚さの第2の短冊状の板を突き当て、 前記複数の他方側のサブ基板の上に、それらの他方側の
サブ基板を接合状態で支持する第2のサポート基板を配
置する工程を含んでなるプラズマディスプレイパネルの
製造方法。
2. A first method for supporting a plurality of one-sided sub-boards, each of which has a rectangular electrode having a lead-out terminal on one side, with end faces having no lead-out terminals and supporting the plurality of one-sided sub-boards in a joined state. Disposed on a support substrate, in a direction perpendicular to the arrangement direction of the lead terminals of the one side sub-board, and on a side where no butting is performed, a sealing material is formed on at least one surface; A first strip-shaped plate having substantially the same thickness is abutted, and a plurality of rectangular sub-boards each having an electrode having a lead-out terminal formed on one side are opposed to the one sub-board. The sealing material is formed on at least one surface in a direction perpendicular to the arrangement direction of the lead terminals of the sub-substrate on the other side and on the side where the butting is not performed. A second strip-shaped plate having substantially the same thickness as the other-side sub-board is abutted, and the second sub-board is supported on the plurality of other-side sub-boards in a joined state. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising the step of disposing a support substrate.
【請求項3】 一方側のサブ基板どうしの突き合わせ
面、および他方側のサブ基板どうしの突き合わせ面に、
それぞれ接合孔を設け、一方側のサブ基板どうしを突き
合わせた後、および他方側のサブ基板どうしを突き合わ
せた後に、それらの接合孔に、それぞれシール材料を充
填する工程をさらに備えてなる請求項1又は2記載のプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法。
3. An abutting surface between sub-boards on one side and an abutting surface between sub-boards on the other side,
2. The method according to claim 1, further comprising the step of: providing a bonding hole, filling the bonding holes with a sealing material after the sub-substrates on one side and the sub-substrates on the other side are butted together. Or the method for manufacturing a plasma display panel according to 2.
【請求項4】 第1のサポート基板と、 第1のサポート基板上に配置され、矩形で一辺に引き出
し端子を有する電極が形成されるとともに、引き出し端
子のない端面が突き合わされて、第1のサポート基板上
で接合状態で支持された複数の一方側のサブ基板と、 一方側のサブ基板の引き出し端子の配列方向と直角方向
でかつ、突き合わせを行わない辺に当接して配置され、
少なくとも一つの面にシール材を形成した、一方側のサ
ブ基板とほぼ同じ厚さの第1の短冊状の板と、 一方側のサブ基板に対向して配置され、矩形で一辺に引
き出し端子を有する電極が形成されるとともに、引き出
し端子のない端面が突き合わされて配置された複数の他
方側のサブ基板と、 他方側のサブ基板の引き出し端子の配列方向と直角方向
でかつ、突き合わせを行わない辺に当接して配置され、
少なくとも一つの面にシール材を形成した、他方側のサ
ブ基板とほぼ同じ厚さの第2の短冊状の板と、 複数の他方側のサブ基板上に配置され、複数の他方側の
サブ基板を接合状態で支持する第2のサポート基板とを
備え、 接合状態で対向する複数の一方側サブ基板と複数の他方
側サブ基板間のシール材で囲まれた空間に放電ガスが封
入されてなるプラズマディスプレイパネル。
4. A first support substrate and an electrode disposed on the first support substrate and having a rectangular shape and having a lead-out terminal on one side are formed, and end faces having no lead-out terminal are brought into contact with each other to form a first support substrate. A plurality of one-sided sub-boards supported in a joined state on the support board, and arranged in a direction perpendicular to the arrangement direction of the lead-out terminals of the one-sided sub-board, and in contact with a side that does not abut,
A first strip-shaped plate having a seal material formed on at least one surface and having substantially the same thickness as the sub-substrate on one side; and a rectangular-shaped lead-out terminal disposed on one side of the sub-substrate. And a plurality of sub-boards on the other side, which are arranged with their end faces having no lead-out terminals abutted with each other, in a direction perpendicular to the arrangement direction of the lead-out terminals on the other side of the sub-board, and no butting is performed. Placed in contact with the side,
A second strip-like plate having a seal material formed on at least one surface and having substantially the same thickness as the other sub-substrate; and a plurality of other sub-substrates disposed on the other sub-substrate. And a second support substrate for supporting the substrates in a bonded state, wherein a discharge gas is sealed in a space surrounded by a seal material between the plurality of one-side sub-substrates and the plurality of other sub-substrates opposed to each other in the bonded state. Plasma display panel.
【請求項5】 隣接するサブ表示ユニットどうしの境界
部が非表示領域に設けられてなる請求項4記載のプラズ
マディスプレイパネル。
5. The plasma display panel according to claim 4, wherein a boundary between adjacent sub-display units is provided in a non-display area.
【請求項6】 サブ背面基板とそれに対向設置されたサ
ブ前面基板とで構成されるサブ表示ユニットが、その表
示ユニットの2辺に形成された引き出し端子によって、
独立したドライバで駆動される請求項4又は5記載のプ
ラズマディスプレイパネル。
6. A sub-display unit composed of a sub-back substrate and a sub-front substrate disposed opposite to the sub-rear substrate, is provided with lead terminals formed on two sides of the display unit.
The plasma display panel according to claim 4, wherein the plasma display panel is driven by an independent driver.
【請求項7】 第1のサポート基板と一方側のサブ基板
との間、および第2のサポート基板と他方側のサブ基板
との間に、通気スペースが設けられてなる請求項4記載
のプラズマディスプレイパネル。
7. The plasma according to claim 4, wherein ventilation spaces are provided between the first support substrate and the one-side sub-substrate and between the second support substrate and the other-side sub-substrate. Display panel.
JP2000237298A 2000-08-04 2000-08-04 Plasma display panel and method of manufacturing the same Pending JP2002050289A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000237298A JP2002050289A (en) 2000-08-04 2000-08-04 Plasma display panel and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000237298A JP2002050289A (en) 2000-08-04 2000-08-04 Plasma display panel and method of manufacturing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002050289A true JP2002050289A (en) 2002-02-15

Family

ID=18729187

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000237298A Pending JP2002050289A (en) 2000-08-04 2000-08-04 Plasma display panel and method of manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002050289A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004027812A1 (en) * 2002-09-20 2004-04-01 Sankyo Co., Ltd. Planar display
JP2007141655A (en) * 2005-11-18 2007-06-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacturing method of display panel
WO2007072552A1 (en) * 2005-12-20 2007-06-28 Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited Method of manufacturing barrier-rib substrate for plasma display panel
WO2008130128A1 (en) * 2007-04-20 2008-10-30 Orion Pdp Co., Ltd Plasma display panel for multi-screen and fabricating method for the same
US7518311B2 (en) 2004-09-21 2009-04-14 Samsung Sdi Co., Ltd. Plasma display panel and manufacturing method thereof
EP2178104A2 (en) 2008-10-20 2010-04-21 Samsung SDI Co., Ltd. Plasma display panel and fabrication method thereof
KR100980773B1 (en) * 2008-05-19 2010-09-10 시노다 프라즈마 가부시끼가이샤 Large display unit

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004027812A1 (en) * 2002-09-20 2004-04-01 Sankyo Co., Ltd. Planar display
US7518311B2 (en) 2004-09-21 2009-04-14 Samsung Sdi Co., Ltd. Plasma display panel and manufacturing method thereof
JP2007141655A (en) * 2005-11-18 2007-06-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacturing method of display panel
WO2007072552A1 (en) * 2005-12-20 2007-06-28 Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited Method of manufacturing barrier-rib substrate for plasma display panel
WO2008130128A1 (en) * 2007-04-20 2008-10-30 Orion Pdp Co., Ltd Plasma display panel for multi-screen and fabricating method for the same
CN101681775B (en) * 2007-04-20 2011-06-08 欧丽安等离子显示器株式会社 Plasma display panel for multi-screen and fabricating method for the same
US8410696B2 (en) 2007-04-20 2013-04-02 Orion Co. Ltd. Plasma display panel for multi-screen and fabricating method for the same
KR100980773B1 (en) * 2008-05-19 2010-09-10 시노다 프라즈마 가부시끼가이샤 Large display unit
EP2178104A2 (en) 2008-10-20 2010-04-21 Samsung SDI Co., Ltd. Plasma display panel and fabrication method thereof
EP2178104A3 (en) * 2008-10-20 2010-12-15 Samsung SDI Co., Ltd. Plasma display panel and fabrication method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100257278B1 (en) Plasma Display Panel And Method Of Manufacturing The Same
JPH08335440A (en) Gas discharge display device and manufacturing method thereof
JP2002050289A (en) Plasma display panel and method of manufacturing the same
KR100329565B1 (en) plasma display panel and the fabrication method thereof
KR20070110770A (en) Plasma Display Panel And Method Of Manufacturing The Same
JP3249576B2 (en) Surface discharge type plasma display panel
JP2010015925A (en) Plasma display panel, and manufacturing method thereof
JP4048909B2 (en) Plasma display panel and manufacturing method thereof
JP4752462B2 (en) Manufacturing method of display panel
JP3563497B2 (en) Gas discharge type display panel and image display device using the same
CN101208765A (en) Plasma display panel and manufacturing method thereof
JP2001236896A (en) Plasma display panel
EP1562215B1 (en) Plasma display panel
JP4070534B2 (en) Plasma display panel
JP2005158336A (en) Plasma display panel and its manufacturing method
JP4241201B2 (en) Plasma display panel
JP4265410B2 (en) Plasma display panel
JP2008091092A (en) Plasma display panel and manufacturing method therefor
JP2000149796A (en) Plasma display panel manufacturing method and plasma display panel
US20090302763A1 (en) Plasma display panel and method for manufacturing the same
KR100892826B1 (en) Plasma Display Panel And Method Of Manufacturing The Same
JP4835318B2 (en) Plasma display panel and manufacturing method thereof
KR101029146B1 (en) Plasma display panel
JP4760178B2 (en) Plasma display panel
JP2003142009A (en) Plasma display device

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20050720

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20050720

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20050915

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051206

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20051207