JP2002040230A - Color filter and manufacturing method thereof - Google Patents
Color filter and manufacturing method thereofInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 遮光部が設けられていないカラーフィルタに
おいて、印刷法でカラーフィルタを製造するに際して問
題となる精度を、印刷法と、表面の濡れ性を容易にパタ
ーン状に変化させることが可能な光触媒含有層とを組み
合わせることにより向上させ、精度の良好なカラーフィ
ルタを量産することが可能なカラーフィルタおよびその
製造法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】 透明基板と、この透明基板上に凸版、平
版、孔版もしくは凹版を用いた印刷方式により複数色を
所定のパターンで設けた画素部と、前記画素部を形成す
るために設けられた、少なくとも光触媒とバインダとか
らなり、かつエネルギーの照射により液体との接触角が
低下するように濡れ性が変化する光触媒含有層とを有す
ることを特徴とするカラーフィルタを提供することによ
り上記目的を達成する。
(57) [Problem] In a color filter having no light-shielding portion, the precision, which is a problem when a color filter is manufactured by a printing method, is easily changed into a pattern shape by the printing method and the surface wettability. It is an object of the present invention to provide a color filter which can be mass-produced with high accuracy by improving a combination with a photocatalyst-containing layer which can be produced, and a method of manufacturing the same. SOLUTION: A transparent substrate, a pixel portion in which a plurality of colors are provided in a predetermined pattern by a printing method using a relief printing plate, a lithographic printing plate, a stencil printing plate or an intaglio printing plate on the transparent substrate, and a pixel portion provided for forming the pixel portion. The above object is provided by providing a color filter comprising at least a photocatalyst and a binder, and a photocatalyst-containing layer in which wettability is changed so that a contact angle with a liquid is reduced by irradiation of energy. To achieve.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、画素部を凸版、平
版、孔版もしくは凹版を用いた印刷方式で着色すること
により得られる、カラー液晶ディスプレイに好適なカラ
ーフィルタおよびその製造法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter suitable for a color liquid crystal display, which is obtained by coloring a pixel portion by a printing method using letterpress, planographic, stencil or intaglio, and a method of manufacturing the same. .
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、パーソナルコンピューターの発
達、特に携帯用パーソナルコンピューターの発達に伴
い、液晶ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレ
イの需要が増加する傾向にある。しかしながら、このカ
ラー液晶ディスプレイが高価であることから、コストダ
ウンの要求が高まっており、特にコスト的に比重の高い
カラーフィルタに対するコストダウンの要求が高い。2. Description of the Related Art In recent years, with the development of personal computers, especially portable personal computers, the demand for liquid crystal displays, especially color liquid crystal displays, has been increasing. However, since the color liquid crystal display is expensive, there is an increasing demand for cost reduction, and in particular, there is a high demand for cost reduction for color filters having high specific gravity.
【0003】このようなカラーフィルタにおいては、通
常赤(R)、緑(G)、および青(B)の3原色の着色
パターンを備え、R、G、およびBのそれぞれの画素に
対応する電極をON、OFFさせることで液晶がシャッ
タとして作動し、R、G、およびBのそれぞれの画素を
光が通過してカラー表示が行われるものである。Such a color filter usually has three primary color patterns of red (R), green (G), and blue (B), and has electrodes corresponding to respective pixels of R, G, and B. Is turned on and off, the liquid crystal operates as a shutter, and light passes through each pixel of R, G, and B to perform color display.
【0004】従来より行われているカラーフィルタの製
造方法としては、例えば染色法が挙げられる。この染色
法は、まずガラス基板上に染色用の材料である水溶性の
高分子材料を形成し、これをフォトリソグラフィー工程
により所望の形状にパターニングした後、得られたパタ
ーンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。こ
れを3回繰り返すことによりR、G、およびBのカラー
フィルタ層を形成する。A conventional color filter manufacturing method includes, for example, a dyeing method. In this dyeing method, first, a water-soluble polymer material, which is a material for dyeing, is formed on a glass substrate, and this is patterned into a desired shape by a photolithography process, and the obtained pattern is immersed in a dyeing bath. To obtain a colored pattern. This is repeated three times to form R, G, and B color filter layers.
【0005】また、他の方法としては顔料分散法があ
る。この方法は、まず基板上に顔料を分散した感光性樹
脂層を形成し、これをパターニングすることにより単色
のパターンを得る。さらにこの工程を3回繰り返すこと
により、R、G、およびBのカラーフィルタ層を形成す
る。Another method is a pigment dispersion method. In this method, first, a photosensitive resin layer in which a pigment is dispersed is formed on a substrate, and a monochromatic pattern is obtained by patterning the photosensitive resin layer. This process is further repeated three times to form R, G, and B color filter layers.
【0006】さらに他の方法としては、電着法や、熱硬
化樹脂に顔料を分散させてR、G、およびBの3回印刷
を行った後、樹脂を熱硬化させる方法等を挙げることが
できる。しかしながら、いずれの方法も、R、G、およ
びBの3色を着色するために、同一の工程を3回繰り返
す必要があり、コスト高になるという問題や、工程を繰
り返すため歩留まりが低下するという問題がある。Still other methods include an electrodeposition method and a method of dispersing a pigment in a thermosetting resin, performing R, G, and B printing three times, and then thermosetting the resin. it can. However, in any of the methods, the same process must be repeated three times in order to color the three colors of R, G, and B, which increases the cost and reduces the yield due to the repeated processes. There's a problem.
【0007】一方、カラーフィルタを印刷法により製造
する試みが行われている。印刷法による製造は、量産に
は好適な方法ではあるが、印刷によって得られるカラー
フィルタは精度の面において、上述したフォトリソグラ
フィーを用いた方法に劣るという問題点があった。On the other hand, attempts have been made to manufacture color filters by a printing method. Although the production by the printing method is a method suitable for mass production, there is a problem that the color filter obtained by printing is inferior to the method using photolithography described above in terms of accuracy.
【0008】このようなカラーフィルタには、通常画素
部の境界部分に相当する部分にブラックマトリックスと
称される遮光部が形成されている。この遮光部は通常カ
ラーフィルタ側に形成されているが、液晶パネルとして
用いられた場合にこのカラーフィルタに対向するように
配置される基板側に設けられる場合もある。このように
対向する基板側に遮光部が形成された場合は、遮光部が
設けられていないカラーフィルタが製造される。上述し
た問題点は、遮光部が形成されたカラーフィルタのみな
らずこのような遮光部が設けられていないカラーフィル
タにおいても大きな問題点となっている。In such a color filter, a light-shielding portion called a black matrix is usually formed at a portion corresponding to a boundary portion of a pixel portion. This light-shielding portion is usually formed on the color filter side, but may be provided on the substrate side arranged to face this color filter when used as a liquid crystal panel. In the case where the light-shielding portion is formed on the opposite substrate side, a color filter without the light-shielding portion is manufactured. The above-described problem is a serious problem not only in a color filter having a light-shielding portion but also in a color filter without such a light-shielding portion.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑みてなされたもので、遮光部が設けられていないカ
ラーフィルタにおいて、印刷法でカラーフィルタを製造
するに際して問題となる精度を、印刷法と、表面の濡れ
性を容易にパターン状に変化させることが可能な光触媒
含有層とを組み合わせることにより向上させ、精度の良
好なカラーフィルタを量産することが可能なカラーフィ
ルタおよびその製造法を提供することを主目的とするも
のである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and in a color filter having no light-shielding portion, the accuracy which is a problem when manufacturing a color filter by a printing method is described. A color filter capable of mass-producing a color filter with improved accuracy by combining a printing method and a photocatalyst-containing layer capable of easily changing the surface wettability into a pattern, and a method for manufacturing the same The main purpose is to provide.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は請求項1において、透明基板と、この透明
基板上に凸版、平版、孔版もしくは凹版を用いた印刷方
式により複数色を所定のパターンで設けた画素部と、前
記画素部を形成するために設けられた、少なくとも光触
媒とバインダとからなり、かつエネルギーの照射により
液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する光触
媒含有層とを有することを特徴とするカラーフィルタを
提供する。In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided the present invention, wherein a transparent substrate and a plurality of colors are formed on the transparent substrate by a printing method using letterpress, planographic, stencil or intaglio. A pixel portion provided in a predetermined pattern, and provided for forming the pixel portion, at least a photocatalyst and a binder, and the wettability changes so that a contact angle with a liquid is reduced by irradiation of energy. A color filter comprising: a photocatalyst-containing layer.
【0011】このように、本発明は、画素部を印刷法で
形成し、さらにこの画素部を形成するために光触媒含有
層を形成したところに特徴を有するものである。したが
って、光触媒含有層の濡れ性の変化を利用することがで
きるので、印刷法を用いた場合でも画素部を精度良く形
成することができる。したがって、印刷法を用いた場合
でも、色抜けや色むら等の問題点の無い高品質のカラー
フィルタを提供することができる。As described above, the present invention is characterized in that a pixel portion is formed by a printing method, and a photocatalyst-containing layer is formed in order to form the pixel portion. Therefore, since the change in the wettability of the photocatalyst-containing layer can be used, the pixel portion can be accurately formed even when the printing method is used. Therefore, even when the printing method is used, it is possible to provide a high-quality color filter free from problems such as color omission and color unevenness.
【0012】この場合、請求項2に記載するように、上
記透明基板上に上記光触媒含有層が形成されており、こ
の光触媒含有層上に上記画素部が設けられているような
構成としてもよい。このような構成とすることにより、
予め画素部を設ける部分の光触媒含有層の濡れ性を液体
との接触角が小さい親インク性領域とし、他の部分の光
触媒含有層を液体との接触角が大きい撥インク性領域と
することができる。この画素部を設ける親インク性領域
の部分に各種印刷方式で着色することにより、液体との
接触角の小さい親インク性領域にのみインクが付着する
ため、画素部全体にインクが均一に行き渡り、画素部に
おいてインクの無い領域や、色むら等が生じることがな
く、他の撥インク性領域にインクが付着することがな
い。In this case, the photocatalyst-containing layer may be formed on the transparent substrate, and the pixel portion may be provided on the photocatalyst-containing layer. . With such a configuration,
The wettability of the photocatalyst-containing layer in the portion where the pixel portion is provided in advance may be an ink-philic region having a small contact angle with the liquid, and the photocatalyst-containing layer in the other portion may be an ink-repellent region with a large contact angle with the liquid. it can. By coloring the portion of the lipophilic region where the pixel portion is provided by various printing methods, the ink adheres only to the lipophilic region having a small contact angle with the liquid, so that the ink spreads uniformly over the entire pixel portion, There is no ink-free area or uneven color in the pixel portion, and no ink adheres to other ink-repellent areas.
【0013】さらに、請求項3に記載するように、上記
画素部間の距離が2μm以下であることが好ましい。本
発明のカラーフィルタは、ブラックマトリックス(遮光
部)が形成されていないタイプのものであるので、実際
に液晶フィルタとして用いるためには、バックライト側
の基板に設けられたブラックマトリックスと併用する必
要がある。この際、画素部間の距離が大きい場合は、ブ
ラックマトリックスが形成されたバックライト側の基板
との位置精度を高く保たなければ、バックライトが画素
部間を透過し、いわゆる色抜けが生じる可能性がある。
したがって、画素部間の距離は、なるべく小さい方が好
ましく、具体的には、2μm以下であることが好ましい
のである。また、このように画素部間の距離を小さくす
ることにより、画素部からなる着色層の平滑性を得るこ
とができる。Further, as described in claim 3, it is preferable that the distance between the pixel portions is 2 μm or less. Since the color filter of the present invention is of a type in which a black matrix (light shielding portion) is not formed, it is necessary to use the color filter in combination with a black matrix provided on a substrate on the backlight side in order to actually use the liquid crystal filter. There is. At this time, if the distance between the pixel units is large, unless the positional accuracy with the substrate on the backlight side on which the black matrix is formed is kept high, the backlight transmits between the pixel units and so-called color loss occurs. there is a possibility.
Therefore, the distance between the pixel portions is preferably as small as possible, and specifically, is preferably 2 μm or less. In addition, by reducing the distance between the pixel portions in this manner, it is possible to obtain smoothness of the coloring layer including the pixel portions.
【0014】また、請求項4に記載するように、上記画
素部の境界部分の上記光触媒含有層上に撥インク性凸部
が形成されていてもよい。このように、撥インク性凸部
を形成することにより、各種印刷方式でインクを付着さ
せ画素部を形成する際に、画素部の境界部分に撥インク
性凸部が形成されているため、着色に際してインクが混
ざる等の不具合が生じることがなく好ましいからであ
る。Further, as described in claim 4, an ink-repellent convex portion may be formed on the photocatalyst containing layer at a boundary portion of the pixel portion. By forming the ink-repellent convex portions as described above, when forming the pixel portions by applying ink by various printing methods, the ink-repellent convex portions are formed at the boundary portions of the pixel portions, so that the colored portions are colored. In this case, it is preferable because problems such as mixing of ink do not occur.
【0015】一方、本発明においては、請求項5に記載
するように、上記透明基板上に画素部が形成されてお
り、この画素部の境界部分に上記光触媒含有層が設けら
れていてもよい。On the other hand, in the present invention, as described in claim 5, a pixel portion may be formed on the transparent substrate, and the photocatalyst containing layer may be provided at a boundary portion of the pixel portion. .
【0016】この場合、画素部の境界部分の光触媒含有
層上の濡れ性を、液体との接触角が画素部が形成される
透明基板上の画素部形成部よりも大きい撥インク性領域
としておくことにより、画素部を設ける部分(画素部形
成部)に各種印刷方式で着色した際、撥インク性を有す
る画素部の境界部分を超えてインクが移動することは困
難であることから、インクの混色等の不具合のないカラ
ーフィルタを提供することができる。またその後、画素
部の境界部分の光触媒含有層を液体との接触角の小さい
親インク性領域とすることにより、全体に保護層を被覆
する際に問題となることがなく、品質の高いカラーフィ
ルタを得ることができるからである。In this case, the wettability of the boundary portion of the pixel portion on the photocatalyst-containing layer is set as an ink-repellent region having a contact angle with the liquid larger than that of the pixel portion forming portion on the transparent substrate on which the pixel portion is formed. This makes it difficult for the ink to move beyond the boundary of the pixel portion having ink repellency when the portion where the pixel portion is provided (pixel portion forming portion) is colored by various printing methods. A color filter free from inconvenience such as color mixing can be provided. Thereafter, the photocatalyst-containing layer at the boundary of the pixel portion is formed as an ink-philic region having a small contact angle with the liquid, so that there is no problem in covering the entire protective layer, and a high-quality color filter can be obtained. Is obtained.
【0017】この際、請求項6に記載するように、上記
透明基板上の濡れ性が、表面張力40mN/mの液体と
の接触角として10度未満であることが好ましい。透明
基板上の画素部形成部に各種印刷方式でインクを付着さ
せる際に、インクが画素部形成部内に均一に行き渡り、
色むら等の不具合が生じる可能性を抑えることができる
からである。In this case, it is preferable that the wettability on the transparent substrate is less than 10 degrees as a contact angle with a liquid having a surface tension of 40 mN / m. When ink is applied to the pixel portion forming portion on the transparent substrate by various printing methods, the ink is uniformly distributed in the pixel portion forming portion,
This is because it is possible to suppress the possibility of causing a problem such as uneven color.
【0018】上記請求項1から請求項6までのいずれか
の請求項に記載されたカラーフィルタにおいては、請求
項7に記載されているように、上記光触媒含有層がフッ
素を含み、上記光触媒含有層に対しエネルギーを照射し
た際に、上記光触媒の作用により上記光触媒含有層表面
のフッ素含有量がエネルギー照射前に比較して低下する
ように上記光触媒含有層が形成されていることが好まし
い。In the color filter according to any one of the first to sixth aspects, as described in the seventh aspect, the photocatalyst containing layer contains fluorine, and the photocatalyst containing layer contains fluorine. The photocatalyst-containing layer is preferably formed such that when the layer is irradiated with energy, the action of the photocatalyst causes the fluorine content on the surface of the photocatalyst-containing layer to be lower than before the energy irradiation.
【0019】このように、本発明のカラーフィルタは、
透明基板上に形成された光触媒含有層上のエネルギー照
射部分のフッ素含有量が低下するように構成されている
ので、エネルギーをパターン照射することにより、フッ
素含有量の低下した部分からなるパターンを形成するこ
とができる。フッ素含有量が低下するとその部分は、他
の部分と比較して親インク性の高い領域となるので、画
素部等が形成される部分のみ容易に親インク性領域とす
ることが可能となり、容易にカラーフィルタを製造する
ことができる。Thus, the color filter of the present invention is
Since the fluorine content of the energy-irradiated portion on the photocatalyst-containing layer formed on the transparent substrate is configured to decrease, a pattern consisting of the portion having a reduced fluorine content is formed by pattern irradiation with energy. can do. When the fluorine content is reduced, the portion becomes a region having higher ink affinity compared with other portions, so that only the portion where the pixel portion and the like are formed can be easily set as the ink affinity region. A color filter can be manufactured.
【0020】さらに、請求項7に記載するカラーフィル
タにおいては、請求項8に記載するように、上記光触媒
含有層上へのエネルギー照射を行い、フッ素含有量を低
下させた部位におけるフッ素含有量が、エネルギー照射
されていない部分のフッ素含有量を100とした場合に
10以下であることが好ましい。Further, in the color filter according to the seventh aspect, as described in the eighth aspect, energy irradiation onto the photocatalyst-containing layer is performed to reduce the fluorine content at the portion where the fluorine content is reduced. It is preferable that the fluorine content of the portion not irradiated with the energy is 100 or less, where 100 is the fluorine content.
【0021】このように、上記光触媒含有層上へのエネ
ルギー照射により形成されたフッ素含有量が低い部位に
おけるフッ素含有量が、エネルギー照射されていない部
分のフッ素含有量を100とした場合、重量基準で10
以下であると、エネルギー照射部分と未照射部分との親
インク性に大きな違いを生じさせることができる。した
がって、このようなパターンが形成された光触媒含有層
に画素部等を形成することにより、フッ素含有量が低下
した親インク性領域のみに正確に画素部等を形成するこ
とが可能となり、精度良くカラーフィルタを製造するこ
とができる。As described above, when the fluorine content in the portion having a low fluorine content formed by irradiating the energy on the photocatalyst-containing layer is 100, the fluorine content in the portion not irradiated with the energy is 100. At 10
If it is below, it is possible to cause a great difference in ink affinity between the energy irradiated portion and the non-irradiated portion. Therefore, by forming the pixel portions and the like in the photocatalyst containing layer on which such a pattern is formed, it becomes possible to accurately form the pixel portions and the like only in the ink-philic region where the fluorine content is reduced, and with high accuracy A color filter can be manufactured.
【0022】上記光触媒含有層に含有される光触媒とし
ては、請求項9に記載するように酸化チタン(Ti
O2)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)、チ
タン酸ストロンチウム(SrTiO3)、酸化タングス
テン(WO3)、酸化ビスマス(Bi2O3)、および酸
化鉄(Fe2O3)から選択される1種または2種以上の
物質であることが好ましい。中でも請求項10に記載す
るように酸化チタン(TiO 2)であることが好まし
い。これは、酸化チタンのバンドギャップエネルギーが
高いため光触媒として有効であり、かつ化学的にも安定
で毒性もなく、入手も容易だからである。The photocatalyst contained in the photocatalyst containing layer is
As described in claim 9, titanium oxide (Ti
OTwo), Zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO)Two), J
Strontium titanate (SrTiOThree), Oxidized tongue
Ten (WOThree), Bismuth oxide (Bi)TwoOThree), And acid
Iron fossil (FeTwoOThree) One or more selected from
Preferably, it is a substance. In particular, claim 10
Like titanium oxide (TiO Two)
No. This is because the band gap energy of titanium oxide is
Highly effective as a photocatalyst and chemically stable
Because it is non-toxic and readily available.
【0023】上記請求項10に記載された光触媒が酸化
チタンであるカラーフィルタの場合は、請求項11に記
載するように、上記光触媒含有層表面におけるエネルギ
ー未照射部分のフッ素の含有量を、X線光電子分光法で
分析して定量化すると、チタン元素を100とした場合
に、フッ素元素が500以上となる比率でフッ素元素が
光触媒含有層表面に含まれている光触媒含有層を有する
ことが好ましい。In the case where the photocatalyst described in claim 10 is a color filter in which the photocatalyst is titanium oxide, as described in claim 11, the content of fluorine in the unirradiated portion on the surface of the photocatalyst containing layer is X When analyzed and quantified by linear photoelectron spectroscopy, it is preferable to have a photocatalyst-containing layer in which the fluorine element is contained on the surface of the photocatalyst-containing layer at a ratio of 500 or more, when the titanium element is 100. .
【0024】この程度の量のフッ素(F)元素が含まれ
ていれば、エネルギー未照射部分の撥インク性が十分で
あり、エネルギーを照射してフッ素(F)元素含有量が
低下した部分のパターンを形成し、ここに画素部等を形
成する場合に画素部が形成される部分以外の部分にイン
ク等がはみ出すことがなく、より正確にカラーフィルタ
を製造することができるからである。When the fluorine (F) element in such an amount is contained, the ink repellency of the non-irradiated portion is sufficient, and the portion of the fluorine (F) element content reduced by the energy irradiation is reduced. This is because when a pattern is formed and a pixel portion or the like is formed here, the ink or the like does not protrude to a portion other than the portion where the pixel portion is formed, and a color filter can be manufactured more accurately.
【0025】一方、請求項1から請求項11までのいず
れかの請求項に記載されたカラーフィルタにおいて、光
触媒含有層を構成する他の成分であるバインダは、請求
項12に記載するように、フルオロアルキル基を有する
オルガノポリシロキサンであることが好ましい。On the other hand, in the color filter according to any one of the first to eleventh aspects, the binder which is another component constituting the photocatalyst containing layer is as described in the twelfth aspect. It is preferably an organopolysiloxane having a fluoroalkyl group.
【0026】本発明のカラーフィルタにおいて、光触媒
含有層中にフッ素元素を含有させる方法には種々の方法
を挙げることができるが、バインダとしてフルオロアル
キル基を有するオルガノポリシロキサンとすることによ
り、容易に光触媒含有層中にフッ素元素を含有させるこ
とができ、かつエネルギーの照射により、その含有量を
容易に低下させることができるからである。In the color filter of the present invention, various methods can be used as a method for containing a fluorine element in the photocatalyst-containing layer. However, by using an organopolysiloxane having a fluoroalkyl group as a binder, it can be easily prepared. This is because the fluorine element can be contained in the photocatalyst-containing layer, and the content can be easily reduced by irradiation with energy.
【0027】また、同様に請求項1から請求項11まで
のいずれかの請求項に記載されたカラーフィルタにおい
て、光触媒含有層を構成する他の成分であるバインダ
は、請求項13に記載するように、YnSiX(4-n)(こ
こで、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル
基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、X
はアルコキシル基またはハロゲンを示す。nは0〜3ま
での整数である。)で示される珪素化合物の1種または
2種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物で
あるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。[0027] Similarly, in the color filter described in any one of the first to eleventh aspects, the binder which is another component constituting the photocatalyst containing layer is as described in the thirteenth aspect. In the formula, Y n SiX (4-n) (where Y represents an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group, an amino group, a phenyl group or an epoxy group;
Represents an alkoxyl group or a halogen. n is an integer from 0 to 3. ) Is preferably an organopolysiloxane that is one or more hydrolytic condensates or cohydrolytic condensates of the silicon compound represented by the formula (1).
【0028】上記請求項13に記載されたカラーフィル
タにおいては、請求項14に記載されるように、上記オ
ルガノポリシロキサンを構成する前記珪素化合物の内、
フルオロアルキル基を含む珪素化合物が0.01モル%
以上含まれていることが好ましい。In the color filter according to the thirteenth aspect, as described in the fourteenth aspect, among the silicon compounds constituting the organopolysiloxane,
0.01 mol% of a silicon compound containing a fluoroalkyl group
It is preferable that the above is included.
【0029】このように、フルオロアルキル基を含む珪
素化合物が、0.01モル%以上含まれていれば、光触
媒含有層表面に十分にフッ素元素が含有されることにな
り、エネルギーが照射されフッ素元素の含有量が低下し
た光触媒含有層上の親インク性領域と、エネルギーが未
照射の光触媒含有層表面における撥インク性領域との濡
れ性の差異を大きくすることができることから、親イン
ク性領域に画素部等を形成するに際して、インク等が撥
インク性領域にはみ出すことなく正確に付着させること
ができ、品質の良好なカラーフィルタを製造することが
できるからである。As described above, when the silicon compound containing a fluoroalkyl group is contained in an amount of 0.01 mol% or more, the surface of the photocatalyst-containing layer contains a sufficient amount of elemental fluorine. Since the difference in wettability between the ink-philic region on the photocatalyst-containing layer in which the content of the element is reduced and the ink-repellent region on the surface of the photocatalyst-containing layer where energy has not been irradiated can be increased, the ink-philic region is This is because when forming a pixel portion or the like, ink or the like can be accurately adhered without protruding into the ink-repellent region, and a high-quality color filter can be manufactured.
【0030】本発明においては、上記光触媒含有層上に
おける表面張力40mN/mの液体との接触角が、エネ
ルギーが照射されていない部分において10度以上であ
り、エネルギーが照射された部分において10度未満で
あることが好ましい(請求項15および請求項31)。
エネルギーが照射されていない部分は、撥インク性が要
求される部分であることから、表面張力40mN/mの
液体との接触角が10度未満である場合は、撥インク性
が十分でなく、インク等が残存する可能性が生じるため
好ましくない。また、エネルギーが照射された部分の表
面張力40mN/mの液体との接触角が10度以上であ
る場合は、この部分でのインク等の広がりが劣る可能性
があり、画素部での色抜け等が生じる可能性があるから
である。In the present invention, the contact angle with a liquid having a surface tension of 40 mN / m on the photocatalyst-containing layer is 10 degrees or more in a part where energy is not irradiated, and 10 degrees in a part where energy is irradiated. It is preferably less than (claims 15 and 31).
Since the portion that is not irradiated with energy is a portion that requires ink repellency, if the contact angle with a liquid having a surface tension of 40 mN / m is less than 10 degrees, the ink repellency is not sufficient. It is not preferable because ink or the like may remain. If the contact angle with the liquid having a surface tension of 40 mN / m is 10 degrees or more, the spread of the ink or the like in this portion may be poor, and color loss in the pixel portion may occur. This is because the like may occur.
【0031】さらに上記請求項1から請求項15までの
いずれかの請求項に記載された発明においては、請求項
16(請求項33)に記載するように、前記画素部が前
記透明基板上に凹版を用いた印刷方式により複数色を所
定のパターンで設けた画素部であることが好ましい。用
いることが可能なインクの粘度との関係で、凹版を用い
た印刷方式により画素部を形成することが好ましいから
である。Further, in the invention described in any one of claims 1 to 15, as described in claim 16 (claim 33), the pixel portion is provided on the transparent substrate. It is preferable that the pixel portion is provided with a plurality of colors in a predetermined pattern by a printing method using an intaglio. This is because it is preferable to form the pixel portion by a printing method using an intaglio in relation to the viscosity of ink that can be used.
【0032】上記請求項16(請求項33)に記載され
た発明においては、請求項17(請求項34)に記載す
るように、上記印刷方式での着色に用いられるインクの
粘度が、0.1〜10ポイズの範囲内であることが好ま
しい。粘度が上記範囲より大きい場合は、画素部を形成
する親インク性領域内にインクを印刷した場合でも、イ
ンクが親インク性領域内に十分に広がることができず、
色抜け等の不具合の原因となる可能性があるからであ
り、粘度が上記範囲より小さい場合は、印刷性が劣る場
合があるからである。[0032] In the invention described in claim 16 (claim 33), as described in claim 17 (claim 34), the viscosity of the ink used for coloring in the printing system is 0.1. It is preferably in the range of 1 to 10 poise. If the viscosity is larger than the above range, even if the ink is printed in the ink-philic region forming the pixel portion, the ink cannot sufficiently spread in the ink-philic region,
This is because there is a possibility of causing a defect such as color missing or the like, and if the viscosity is smaller than the above range, the printability may be poor.
【0033】また、本発明においては、請求項18(請
求項35)に記載するように、上記印刷方式により着色
された画素部が、水性インクを用いた印刷方式により着
色された画素部であっても、請求項19(請求項36)
に記載するように、油性インクを用いた印刷方式により
着色された画素部であってもよい。油性インクを用いる
か、水性インクを用いるかは、印刷特性や、光触媒含有
層上の濡れ性との適性等を考慮して適宜決定されるもの
だからである。In the present invention, as described in claim 18 (claim 35), the pixel portion colored by the printing method is a pixel portion colored by a printing method using aqueous ink. Claim 19 (claim 36)
As described in above, the pixel portion may be colored by a printing method using oil-based ink. This is because whether to use oil-based ink or water-based ink is appropriately determined in consideration of printing characteristics, suitability for wettability on the photocatalyst-containing layer, and the like.
【0034】上記請求項18(請求項35)または請求
項19(請求項36)に記載された発明においては、請
求項20(請求項37)に記載するように、前記印刷方
式により着色された画素部が、UV硬化性インクを用い
た印刷方式により着色された画素部であることが好まし
い。本発明においては、上記印刷方式により着色された
画素部が、UV硬化性インクを用いた印刷方式により着
色された画素部であることが好ましい。UV硬化性イン
クを用いることにより、印刷方式により着色して画素部
を形成後、UVを照射することにより、素早くインクを
硬化させることができ、すぐに次の工程に送ることがで
き、効率面で好ましいからである。In the invention described in claim 18 (claim 35) or claim 19 (claim 36), as described in claim 20 (claim 37), coloring is performed by the printing method. It is preferable that the pixel portion is a pixel portion colored by a printing method using a UV curable ink. In the present invention, it is preferable that the pixel portion colored by the printing method is a pixel portion colored by a printing method using a UV curable ink. By using a UV-curable ink, after forming a pixel portion by coloring by a printing method, by irradiating UV, the ink can be quickly cured, and can be immediately sent to the next process. Is preferred.
【0035】上述したようなカラーフィルタと、これに
対向し、かつ遮光部が設けられた基板とを有し、両基板
間に液晶化合物を封入することにより得られる液晶パネ
ルは、上述したようなカラーフィルタの利点、すなわち
画素部の色抜けや色むらがなく、かつコスト的に有利で
あるという利点を有するものである(請求項38)。A liquid crystal panel having the above-described color filter and a substrate opposed thereto and provided with a light-shielding portion, and obtained by enclosing a liquid crystal compound between the two substrates, has a structure as described above. There is an advantage of the color filter, that is, there is no color omission or color unevenness in the pixel portion, and it is advantageous in terms of cost (claim 38).
【0036】さらに本発明は、上記目的を達成するため
に請求項21に記載するように、(1)透明基板上にエ
ネルギー照射により照射部分の濡れ性が液体との接触角
が低下する方向に変化する光触媒含有層を設ける工程
と、(2)前記透明基板上に設けられた光触媒含有層上
の画素部を形成する部位である画素部形成部に、エネル
ギーをパターン照射して画素部用露光部を形成する工程
と、(3)この画素部用露光部に凸版、平版、孔版もし
くは凹版を用いた印刷方式で着色し、画素部を形成する
工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造法
を提供する。Further, according to the present invention, in order to achieve the above-mentioned object, (1) the wettability of the irradiated portion by energy irradiation on the transparent substrate decreases in the direction in which the contact angle with the liquid decreases. Providing a changing photocatalyst-containing layer; and (2) exposing the pixel portion to a pixel portion forming portion, which is a portion on the photocatalyst-containing layer provided on the transparent substrate, which is a portion for forming a pixel portion, by applying energy in a pattern. Forming a pixel portion, and (3) forming a pixel portion by coloring the exposed portion for the pixel portion by a printing method using letterpress, lithographic, stencil, or intaglio. Provide a manufacturing method.
【0037】このように、本発明のカラーフィルタの製
造法においては、透明基板上に光触媒含有層を設け、こ
の光触媒含有層にエネルギーを照射することにより、エ
ネルギー照射部分の液体との接触角を低下させた画素部
用露光部を形成することができる。この画素部用露光部
に各種印刷方式で着色することにより容易に画素部を形
成することができる。したがって、遮光部が設けられて
いない透明基板上であっても、各種印刷方式を用いて低
コストで画素部を設けることが可能となる。As described above, in the method for producing a color filter of the present invention, a photocatalyst-containing layer is provided on a transparent substrate, and the photocatalyst-containing layer is irradiated with energy, so that the contact angle of the energy-irradiated portion with the liquid is reduced. A reduced exposure portion for a pixel portion can be formed. The pixel portion can be easily formed by coloring the exposed portion for the pixel portion by various printing methods. Therefore, even on a transparent substrate on which a light-shielding portion is not provided, a pixel portion can be provided at low cost by using various printing methods.
【0038】さらに、本発明は、請求項22に記載する
ように、上記画素部用露光部を形成した後、そこに凸
版、平版、孔版もしくは凹版を用いた印刷方式で着色し
て画素部を形成する工程が、(a)上記光触媒含有層上
の画素部を形成する部位である画素部形成部の一部にエ
ネルギーをパターン照射して第1画素部用露光部を形成
する工程と、(b)この第1画素部用露光部に凸版、平
版、孔版もしくは凹版を用いた印刷方式で着色し、第1
画素部を形成する工程と、(c)上記光触媒含有層上の
残りの画素部を形成する部位である画素部形成部に露光
して第2画素部用露光部を形成する工程と、(d)この
第2画素部用露光部に凸版、平版、孔版もしくは凹版を
用いた印刷方式で着色し、第2画素部を形成する工程を
含む工程であってもよい。Further, according to the present invention, as described in claim 22, after forming the above-mentioned pixel portion exposure portion, the pixel portion is colored by a printing method using a relief, planographic, stencil or intaglio plate to form a pixel portion. (A) forming a first pixel portion exposure portion by pattern-irradiating energy to a part of a pixel portion formation portion, which is a portion where the pixel portion on the photocatalyst-containing layer is formed, on the photocatalyst-containing layer; b) The first pixel portion exposure portion is colored by a printing method using a relief printing plate, a lithographic printing plate, a stencil printing plate or an intaglio printing plate.
Forming a pixel portion; and (c) forming a second pixel portion exposure portion by exposing the pixel portion formation portion on the photocatalyst-containing layer, which is a portion where the remaining pixel portion is formed, to (d) The second pixel portion exposure portion may be colored by a printing method using letterpress, planographic, stencil, or intaglio to form a second pixel portion.
【0039】透明基板上に遮光部が形成されていない状
態で画素部を形成する場合は、遮光部を画素部に着色す
る際の仕切として用いることができない。したがって、
エネルギー照射により親インク性領域とした画素部用露
光部を各種印刷方式で着色して画素部を形成する場合、
この画素部用露光部間の間隔が狭い場合、すなわち露光
されていない撥インク性領域の幅が狭い場合は、画素部
形成に際してこの撥インク性領域を越えて隣り合う画素
部のインクが混合する可能性が生じる。したがって、画
素部形成に際して、画素部同士がなるべく離れた状態で
形成することが望ましい。上述したように、まず、第1
画素部を形成した後、第2画素部を形成する方法をとれ
ば、例えば、第1画素部を形成する際に、画素部を一つ
おきに形成するようにエネルギーをパターン照射するこ
とが可能であり、一回目の画素部の形成に際して隣り合
う画素部同士を離れた状態とすることが可能となる。こ
のように、着色する領域の間に比較的広い撥インク性領
域を有する状態で第1画素部用露光部を形成して、ここ
に各種印刷方式で着色することにより、隣り合う画素部
のインクが混じり合うという不都合が生じる可能性がな
くなる。このようにして設けた第1画素部間に再度露光
して、第2画素部用露光部を形成し、ここに各種印刷方
式で着色することにより、インクが混合する等の不具合
の無いカラーフィルタを形成することができる。また、
遮光部が設けられていないカラーフィルタにおいては、
画素部間に間隙の無いものが要求される場合がある。こ
のような場合は、必然的に上述した画素部の形成を2回
に分けて行う方法を用いる必要がある。When the pixel portion is formed in a state where the light-shielding portion is not formed on the transparent substrate, the pixel portion cannot be used as a partition when coloring the pixel portion. Therefore,
In the case where the pixel portion is formed by coloring the exposed portion for the pixel portion, which is an ink-philic region by energy irradiation, by various printing methods,
In the case where the distance between the exposed portions for the pixel portion is small, that is, when the width of the ink-repellent region that has not been exposed is narrow, the ink of the pixel portion adjacent to and beyond the ink-repellent region is mixed at the time of forming the pixel portion. Possibilities arise. Therefore, when forming the pixel portion, it is desirable to form the pixel portion as far as possible from each other. As described above, first, the first
If the method of forming the second pixel portion after forming the pixel portion is adopted, for example, when forming the first pixel portion, it is possible to pattern-irradiate energy so that every other pixel portion is formed. Thus, adjacent pixel units can be separated from each other when the first pixel unit is formed. As described above, the first pixel portion exposure portion is formed in a state having a relatively wide ink-repellent region between the coloring regions, and the first pixel portion exposure portion is colored by various printing methods to form the ink of the adjacent pixel portion. This eliminates the possibility that the inconvenience of mixing is caused. Exposure is again performed between the first pixel portions provided in this manner to form an exposure portion for the second pixel portion, and by using a variety of printing methods to color the color portion, a color filter free from defects such as mixing of inks is formed. Can be formed. Also,
In a color filter without a light-shielding part,
In some cases, a pixel having no gap between pixel portions is required. In such a case, it is necessary to use a method in which the formation of the pixel portion described above is necessarily performed twice.
【0040】さらに、本発明においては、請求項23に
記載するように、上記画素部用露光部を形成する前に、
撥インク性凸部を形成するための凸部用露光部を形成
し、この凸部用露光部に樹脂組成物を用いて撥インク性
凸部を形成するようにしてもよい。このように、撥イン
ク性凸部を形成することにより、例えばこの撥インク性
凸部を画素部が形成される領域の周囲に形成した場合
は、カラーフィルタの周囲部分でインクが流れ出てしま
い正確に画素部を形成することができないといった不具
合を防止することが可能となる。本発明においては、特
に、請求項24に記載するように上記撥インク性凸部
を、上記画素部の間に形成することが好ましい。このよ
うにすることにより、上述した問題点、すなわち隣り合
う画素部のインクが混合してしまうといった問題点が生
じにくくなるからである。Further, in the present invention, as described in claim 23, before forming the exposure section for the pixel section,
A projection exposure section for forming the ink repellent projection may be formed, and the ink repellency projection may be formed in the exposure section for projection using a resin composition. By forming the ink-repellent convex portions in this way, for example, when the ink-repellent convex portions are formed around the region where the pixel portion is formed, the ink flows out around the color filter and the ink flows out accurately. This makes it possible to prevent such a problem that a pixel portion cannot be formed in a pixel. In the present invention, it is particularly preferable that the ink-repellent convex portion is formed between the pixel portions. By doing so, the problem described above, that is, the problem that the inks of the adjacent pixel portions are mixed, is less likely to occur.
【0041】さらに、本発明においては、請求項25に
記載するように、(1)透明基板上にエネルギー照射に
より照射部分の濡れ性が液体との接触角が低下する方向
に変化する光触媒含有層を、画素部が形成される部位で
ある画素部形成部の境界部分に設ける工程と、(2)上
記透明基板上の画素部形成部に凸版、平版、孔版もしく
は凹版を用いた印刷方式により画素部を形成する工程と
を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造法を提供
する。Furthermore, in the present invention, as described in claim 25, (1) a photocatalyst-containing layer in which the wettability of an irradiated portion is changed in a direction in which the contact angle with a liquid is reduced by irradiating energy on a transparent substrate. And (2) forming a pixel portion on the transparent substrate by a printing method using a relief, planographic, stencil, or intaglio plate at the boundary of the pixel portion forming portion, where the pixel portion is formed. Forming a portion, and a method of manufacturing a color filter.
【0042】この方法によれば、まず、光触媒含有層
を、透明基板上の画素部形成部の境界部分に設ける。こ
の光触媒含有層に、エネルギーの照射前の状態で透明基
板表面より液体との接触角が高い材料を用いた場合は、
この光触媒含有層が形成された境界部分より、その間の
画素部形成部の方が、液体との接触角の小さい親インク
性領域となり、画素部形成部との境界部分は撥インク性
領域となる。したがって、その次の工程である、凸版、
平版、孔版もしくは凹版を用いた印刷方式でインクを親
インク性領域である画素部形成部に付着させる際、付着
したインクが撥インク性領域である境界部分を越えて移
動することはない。よって、カラーフィルタの製造に際
して、インクの混色といった問題が生じにくい。According to this method, first, the photocatalyst-containing layer is provided on the transparent substrate at the boundary of the pixel portion forming portion. When a material having a higher contact angle with a liquid than the surface of the transparent substrate before irradiation with energy is used for the photocatalyst-containing layer,
The pixel portion forming portion between the photocatalyst containing layer and the pixel portion forming portion becomes an ink-philic region having a smaller contact angle with the liquid than the boundary portion where the photocatalyst containing layer is formed, and the boundary portion with the pixel portion forming portion becomes an ink-repellent region. . Therefore, the next step, letterpress,
When the ink is applied to the pixel portion forming portion, which is the ink-philic region, by a printing method using a lithographic plate, a stencil, or an intaglio, the attached ink does not move beyond the boundary portion, which is the ink-repellent region. Therefore, in the production of the color filter, problems such as color mixing of the inks hardly occur.
【0043】さらに、この場合、請求項26に記載する
ように、上記透明基板上の濡れ性が、表面張力40mN
/mの液体との接触角として10度未満であることが好
ましい。このように、透明基板上の濡れ性を親インク性
とすることにより、透明基板上に各種印刷方式でインク
を付着させた際に、インクが均一にかつ満遍なく行き渡
るので、色むらや色抜け等が生じず、品質の高いカラー
フィルタを提供することができるからである。Further, in this case, the wettability on the transparent substrate is set at a surface tension of 40 mN.
/ M of the liquid is preferably less than 10 degrees. In this way, by making the wettability on the transparent substrate ink-philic, the ink spreads evenly and evenly when the ink is applied on the transparent substrate by various printing methods, so that color unevenness and color omission are caused. Does not occur, and a high-quality color filter can be provided.
【0044】本発明においては、光触媒含有層に照射し
て露光させるためのエネルギーとしては、請求項27に
記載するように、通常は紫外光を含む光であるが、光描
画照射によるパターンの形成等を行う場合は、請求項2
8に記載するように、このエネルギーとして光触媒反応
開始エネルギーおよび反応速度増加エネルギーを用い、
上記光触媒反応開始エネルギーを照射した部分に前記反
応速度増加エネルギーを照射することにより、露光部分
を形成するようにしてもよい。In the present invention, the energy for irradiating and exposing the photocatalyst-containing layer to light is usually light including ultraviolet light as described in claim 27. Claim 2 when performing
As described in 8, the photocatalytic reaction initiation energy and the reaction rate increasing energy are used as the energy,
The exposed portion may be formed by irradiating the portion irradiated with the photocatalytic reaction initiation energy with the reaction speed increasing energy.
【0045】これは、光触媒含有層に対し、光触媒反応
開始エネルギーを加え、この光触媒反応開始エネルギー
が加えられた領域内に反応速度増加エネルギーをパター
ン状に加えることにより露光部分のパターンを形成する
ものである。すなわち、いままで発明者等によって提案
されてきた光描画照射によるパターンの形成は、上記紫
外線等の光触媒反応開始エネルギーを用いるものであっ
たため、装置が高価、取り扱いが困難、さらには連続出
力ができない等の問題を有する場合があった。しかしな
がら、この方法においては紫外線等の光触媒反応開始エ
ネルギーを加え、この光触媒反応開始エネルギーが加え
られた領域に対して赤外線等の反応速度増加エネルギー
を用いてパターンを形成するようにしたものであるの
で、パターン形成に際して、赤外線レーザ等の比較的安
価で取り扱いが容易である反応速度増加エネルギーを用
いることができるという利点を有するのである。In this method, a photocatalytic reaction initiation energy is applied to a photocatalyst-containing layer, and a reaction speed increasing energy is applied in a pattern in a region where the photocatalytic reaction initiation energy is applied to form a pattern of an exposed portion. It is. That is, since the formation of a pattern by photolithographic irradiation, which has been proposed by the inventors and the like, uses a photocatalytic reaction initiation energy such as the ultraviolet light, the apparatus is expensive, difficult to handle, and furthermore, cannot output continuously. In some cases. However, in this method, a photocatalytic reaction initiation energy such as ultraviolet rays is added, and a pattern is formed by using a reaction speed increasing energy such as infrared rays in a region where the photocatalytic reaction initiation energy is added. In forming a pattern, there is an advantage that a reaction speed increasing energy such as an infrared laser which is relatively inexpensive and easy to handle can be used.
【0046】本発明においては、このように光触媒反応
開始エネルギーおよび反応速度増加エネルギーの二つの
エネルギーを用いる場合は、請求項29に記載するよう
に、上記光触媒反応開始エネルギーが紫外光を含む光で
あり、上記反応速度増加エネルギーが熱エネルギーであ
ることが好ましい。これは、本発明においては二酸化チ
タンが光触媒として好適に用いられるのであるが、この
二酸化チタンのバンドギャップの関係から光触媒反応開
始エネルギーとしては紫外光が好ましいからである。ま
た、反応速度増加エネルギーが熱であることが好ましい
のであるが、請求項30に記載するように、この熱エネ
ルギーは赤外線レーザにより加えられることが好まし
い。赤外線レーザを用いる方法は、比較的安価でかつ取
り扱いが容易であるからである。In the present invention, when the two energies of the photocatalytic reaction initiation energy and the reaction rate increasing energy are used, as described in claim 29, the photocatalytic reaction initiation energy is light including ultraviolet light. It is preferable that the energy for increasing the reaction rate is heat energy. This is because, in the present invention, titanium dioxide is suitably used as a photocatalyst, but ultraviolet light is preferable as the photocatalytic reaction initiation energy in view of the band gap of the titanium dioxide. In addition, it is preferable that the energy for increasing the reaction rate is heat, and it is preferable that the heat energy is applied by an infrared laser. This is because the method using an infrared laser is relatively inexpensive and easy to handle.
【0047】本発明においては、請求項32に記載する
ように、前記印刷方式での着色に際して、形成される画
素部の幅より印刷方式により付着するインクの幅の方が
狭くなるように、凸版、平版、孔版または凹版のパター
ンが形成されていることが好ましい。付着する領域は、
画素部が形成される領域より小さくし、付着したインク
が親インク性領域を広がるように形成した方が精度面で
良好であるからである。In the present invention, as described in claim 32, in the case of coloring in the printing method, the relief printing is performed such that the width of the ink adhered by the printing method is smaller than the width of the pixel portion to be formed. , Planographic, stencil or intaglio patterns are preferably formed. The area to attach is
This is because it is better in terms of accuracy to make the area smaller than the area where the pixel portion is formed and to form so that the attached ink spreads over the ink-philic area.
【0048】[0048]
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
するが、まずカラーフィルタについて説明した後、カラ
ーフィルタの製造法について説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail. First, a color filter will be described, and then a method of manufacturing the color filter will be described.
【0049】A.カラーフィルタについて まず、本発明のカラーフィルタについて詳細に説明す
る。本発明のカラーフィルタは、透明基板と、この透明
基板上に凸版、平版、孔版もしくは凹版を用いた印刷方
式により複数色を所定のパターンで設けた画素部と、前
記画素部を形成するために設けられた、少なくとも光触
媒とバインダとからなり、かつエネルギーの照射により
液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する光触
媒含有層とを有することを特徴とするものである。 A. First, the color filter of the present invention will be described in detail. The color filter of the present invention is a transparent substrate, a relief plate, a lithographic plate, a pixel portion provided with a predetermined pattern of a plurality of colors by a printing method using a stencil or intaglio on the transparent substrate, and to form the pixel portion And a photocatalyst-containing layer provided at least comprising a photocatalyst and a binder, the wettability of which is changed so that a contact angle with a liquid is reduced by energy irradiation.
【0050】本発明は、このように画素部を形成するた
めに設けられた光触媒含有層を具備するところに特徴を
有するものである。したがって、光触媒含有層の濡れ性
を変化させることにより画素部を各種印刷方式により容
易に形成することができるので、高品質なカラーフィル
タを低コストで得ることができる。ここで、画素部を形
成するためとは、画素部を透明基板上で位置決めすると
の意味を含むものである。The present invention is characterized in that a photocatalyst containing layer provided for forming a pixel portion as described above is provided. Therefore, the pixel portion can be easily formed by various printing methods by changing the wettability of the photocatalyst-containing layer, so that a high-quality color filter can be obtained at low cost. Here, to form a pixel portion means to position the pixel portion on a transparent substrate.
【0051】以下、このような光触媒含有層を有する本
発明のカラーフィルタについて、実施態様を用いて詳細
に説明する。Hereinafter, the color filter of the present invention having such a photocatalyst-containing layer will be described in detail using embodiments.
【0052】1.第1実施態様について 本発明の第1実施態様は、上記透明基板上に上記光触媒
含有層が形成されており、この光触媒含有層上の所定の
部位に上記画素部が設けられているカラーフィルタであ
り、光触媒含有層により、画素部が位置決めされて形成
されたカラーフィルタの一例である。 1. First Embodiment The first embodiment of the present invention relates to a color filter in which the photocatalyst-containing layer is formed on the transparent substrate, and the pixel portion is provided at a predetermined position on the photocatalyst-containing layer. This is an example of a color filter formed by positioning a pixel portion with a photocatalyst-containing layer.
【0053】このように、本実施態様においては、遮光
部が設けられていないカラーフィルタにおいて、画素部
が濡れ性を変化させることができる光触媒含有層上に設
けられている。したがって、予め画素部を設ける部分の
濡れ性を液体との接触角が小さい親インク性領域とし、
他の部分を液体との接触角が大きい撥インク性領域とす
ることができる。この画素部を設ける画素部形成部に各
種印刷方式で着色することにより、液体との接触角の小
さい親インク性領域にのみインクが付着するため、遮光
部が形成されていない透明基板上であっても、画素部全
体にインクが均一に行き渡り、画素部においてインクの
無い領域や、色むら等が生じることがなく、他の撥イン
ク性領域にインクが付着することがない。As described above, in the present embodiment, in the color filter having no light-shielding portion, the pixel portion is provided on the photocatalyst-containing layer capable of changing the wettability. Therefore, the wettability of the portion where the pixel portion is provided in advance is set as the ink-philic region where the contact angle with the liquid is small,
The other portion can be an ink-repellent region having a large contact angle with the liquid. By coloring the pixel portion forming portion where the pixel portion is provided by various printing methods, the ink adheres only to the ink-philic region having a small contact angle with the liquid, so that the pixel portion is formed on the transparent substrate on which the light shielding portion is not formed. However, evenly, the ink spreads evenly over the entire pixel portion, and there is no ink-free area or color unevenness in the pixel portion, and the ink does not adhere to other ink-repellent areas.
【0054】このような第1実施態様のカラーフィルタ
の一例を図面を用いて説明する。An example of such a color filter of the first embodiment will be described with reference to the drawings.
【0055】図1は、本実施態様のカラーフィルタの一
例を示すものであり、このカラーフィルタ1は、透明基
板2上に設けられた光触媒含有層3、さらにこの光触媒
含有層3上に形成された赤(R)、緑(G)、および青
(B)の三色の画素部4からなるものである。本実施態
様のカラーフィルタにおいては、必要に応じてこの画素
部4上に保護層を設けてもよい。FIG. 1 shows an example of the color filter of this embodiment. The color filter 1 is formed on a photocatalyst containing layer 3 provided on a transparent substrate 2 and further on this photocatalyst containing layer 3. It is composed of three color pixel sections 4 of red (R), green (G), and blue (B). In the color filter of the present embodiment, a protective layer may be provided on the pixel portion 4 as necessary.
【0056】本実施態様のカラーフィルタにおいては、
上記画素部4の間の距離が少ないものが好ましい。これ
は、本発明のカラーフィルタがブラックマトリックス
(遮光部)が形成されていないタイプのものであるの
で、実際に液晶フィルタとして用いるためには、バック
ライト側の基板に設けられたブラックマトリックスと併
用する必要がある。この際、画素部間の距離が大きい場
合は、ブラックマトリックスが形成されたバックライト
側の基板との位置精度を高く保たなければ、バックライ
トが画素部間を透過し、いわゆる色抜けが生じる可能性
があり、好ましくないからである。In the color filter of this embodiment,
It is preferable that the distance between the pixel portions 4 is small. This is because the color filter of the present invention is of a type in which a black matrix (light-shielding portion) is not formed. Therefore, in order to actually use the liquid crystal filter, the color filter is used together with the black matrix provided on the substrate on the backlight side. There is a need to. At this time, if the distance between the pixel units is large, unless the positional accuracy with the substrate on the backlight side on which the black matrix is formed is kept high, the backlight transmits between the pixel units and so-called color loss occurs. It is possible and not preferable.
【0057】また、このように画素部間の距離を小さく
することにより、画素部からなる着色層の平滑性を得る
ことができるという利点もある。本実施態様において
は、具体的には画素部間の距離が2μm以下であること
が好ましく、特に好ましくは1μm以下とすることであ
り、必要であれば画素部間に隙間のないものであっても
よい。Further, by reducing the distance between the pixel portions as described above, there is an advantage that the smoothness of the colored layer formed of the pixel portions can be obtained. In the present embodiment, specifically, the distance between the pixel portions is preferably 2 μm or less, particularly preferably 1 μm or less. If necessary, there is no gap between the pixel portions. Is also good.
【0058】図2は、本実施態様のカラーフィルタの他
の例を示すものであり、図1に示す例と同様に、透明基
板2上に設けられた光触媒含有層3、さらにこの光触媒
含有層3上に形成された画素部4とからなり、この画素
部4の間には、撥インク性を有する撥インク性凸部5が
形成されている。このように、この例のカラーフィルタ
1には、撥インク性凸部5が形成されているので、画素
部形成部に各種印刷方式でインクを付着させる際に、こ
の撥インク凸部5を越えてインクが流れ出ることが無い
ことから、他の色のインクとの混色することのない画素
部を有するカラーフィルタとすることができる。FIG. 2 shows another example of the color filter of the present embodiment. As in the example shown in FIG. 1, the photocatalyst containing layer 3 provided on the transparent substrate 2 and the photocatalyst containing layer 3 and a pixel section 4 formed on the pixel section 3, and an ink-repellent convex section 5 having ink repellency is formed between the pixel sections 4. As described above, since the ink-repellent convex portions 5 are formed in the color filter 1 of this example, when the ink is adhered to the pixel portion forming portion by various printing methods, the ink-repellent convex portions 5 are formed. Since no ink flows out, a color filter having a pixel portion that does not mix with other color inks can be obtained.
【0059】以下、本実施態様のカラーフィルタを構成
する各部分についてそれぞれ説明する。Hereinafter, each part constituting the color filter of this embodiment will be described.
【0060】(光触媒含有層)光触媒含有層5は、エネ
ルギーの照射により液体との接触角が低下するように濡
れ性が変化する層である。このように、露光(本発明に
おいては、光が照射されたことのみならず、エネルギー
が照射されたことをも意味するものとする。)により液
体との接触角が低下するように濡れ性が変化する光触媒
含有層を設けることにより、エネルギーのパターン照射
等を行うことにより容易に濡れ性を変化させ、液体との
接触角の小さい親インク性領域のパターンを形成するこ
とができ、例えば画素部が形成される部分のみ容易に親
インク性領域とすることが可能となる。したがって、効
率的にカラーフィルタが製造でき、コスト的に有利とな
る。なお、この場合のエネルギーとしては、通常紫外光
を含む光が用いられる。(Photocatalyst-Containing Layer) The photocatalyst-containing layer 5 is a layer whose wettability changes so that the contact angle with a liquid is reduced by irradiation of energy. As described above, the wettability is reduced so that the contact angle with the liquid is reduced by the exposure (in the present invention, not only the irradiation of light but also the irradiation of energy). By providing a changing photocatalyst containing layer, it is possible to easily change the wettability by performing energy pattern irradiation or the like, and to form a pattern of an ink-philic region having a small contact angle with a liquid, for example, a pixel portion. Only the portion where is formed can be easily made the ink-philic region. Therefore, a color filter can be manufactured efficiently, which is advantageous in cost. In this case, as the energy in this case, light including ultraviolet light is usually used.
【0061】ここで、親インク性領域とは、液体との接
触角が小さい領域であり、各種印刷用インク等に対する
濡れ性の良好な領域をいうこととする。また、撥インク
性領域とは、液体との接触角が大きい領域であり、各種
印刷用インク等に対する濡れ性が悪い領域をいうことと
する。Here, the ink-philic region is a region where the contact angle with the liquid is small and has good wettability with various printing inks. Further, the ink-repellent region is a region having a large contact angle with a liquid and a region having poor wettability with various printing inks and the like.
【0062】上記光触媒含有層は、露光していない部分
においては、表面張力40mN/mの液体との接触角が
10度以上、好ましくは表面張力30mN/mの液体と
の接触角が10度以上、特に表面張力20mN/mの液
体との接触角が10度以上であることが好ましい。これ
は、露光していない部分は、本発明においては撥インク
性が要求される部分であることから、液体との接触角が
小さい場合は、撥インク性が十分でなく、インクが残存
する可能性が生じるため好ましくないからである。The photocatalyst-containing layer has a contact angle of not less than 10 degrees with a liquid having a surface tension of 40 mN / m, preferably a contact angle of not less than 10 degrees with a liquid having a surface tension of 30 mN / m in the unexposed portion. In particular, the contact angle with a liquid having a surface tension of 20 mN / m is preferably 10 degrees or more. This is because the unexposed portion is a portion that requires ink repellency in the present invention, so if the contact angle with the liquid is small, the ink repellency is not sufficient, and ink may remain. This is not preferable because the property is generated.
【0063】また、上記光触媒含有層は、露光すると液
体との接触角が低下して、表面張力40mN/mの液体
との接触角が10度未満、好ましくは表面張力50mN
/mの液体との接触角が10度以下、特に表面張力60
mN/mの液体との接触角が10度以下となるような層
であることが好ましい。露光した部分の液体との接触角
が高いと、この部分でのインクの広がりが劣る可能性が
あり、画素部での色抜け等が生じる可能性があるからで
ある。In the photocatalyst-containing layer, the contact angle with a liquid decreases when exposed to light, and the contact angle with a liquid having a surface tension of 40 mN / m is less than 10 degrees, preferably a surface tension of 50 mN / m.
/ M of liquid has a contact angle of 10 degrees or less, especially a surface tension of 60
It is preferable that the layer has a contact angle with the liquid of mN / m of 10 degrees or less. If the contact angle of the exposed portion with the liquid is high, the spread of the ink in this portion may be inferior, and color missing or the like may occur in the pixel portion.
【0064】なお、ここでいう液体との接触角は、種々
の表面張力を有する液体との接触角を接触角測定器(協
和界面科学(株)製CA−Z型)を用い、液滴を滴下し
た後、平衡状態に達した段階で測定し、その結果から、
もしくはその結果をグラフにして得たものである。ま
た、この測定に際して、種々の表面張力を有する液体と
しては、純正化学株式会社製のぬれ指数標準液を用い
た。Here, the contact angle with the liquid mentioned here is determined by measuring the contact angle with a liquid having various surface tensions using a contact angle measuring device (CA-Z type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). After dropping, measure when equilibrium is reached, and from the results,
Alternatively, the result is obtained as a graph. In this measurement, wetting index standard solutions manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd. were used as liquids having various surface tensions.
【0065】本発明の光触媒含有層は、少なくとも光触
媒とバインダとから構成されていることが好ましい。こ
のような層とすることにより、光照射によって光触媒の
作用で臨界表面張力を高くすることが可能となり、液体
との接触角を低くすることができる。The photocatalyst-containing layer of the present invention preferably comprises at least a photocatalyst and a binder. With such a layer, the critical surface tension can be increased by the action of a photocatalyst by light irradiation, and the contact angle with the liquid can be reduced.
【0066】このような光触媒含有層における、後述す
るような酸化チタンに代表される光触媒の作用機構は、
必ずしも明確なものではないが、光の照射によって生成
したキャリアが、近傍の化合物との直接反応、あるい
は、酸素、水の存在下で生じた活性酸素種によって、有
機物の化学構造に変化を及ぼすものと考えられている。The action mechanism of a photocatalyst represented by titanium oxide as described later in such a photocatalyst containing layer is as follows.
Although not always clear, carriers generated by light irradiation change the chemical structure of organic matter by direct reaction with nearby compounds or by active oxygen species generated in the presence of oxygen and water. It is believed that.
【0067】本発明に用いられる光触媒含有層におい
て、光触媒により、バインダの一部である有機基や添加
剤の酸化、分解等の作用を用いて、露光部の濡れ性を変
化させて親インク性とし、非露光部との濡れ性に大きな
差を生じさせることができる。よって、各種印刷用のイ
ンクとの受容性(親インク性)および反撥性(撥インク
性)を高めることによって、品質の良好でかつコスト的
にも有利なカラーフィルタを得ることができる。In the photocatalyst-containing layer used in the present invention, the photocatalyst changes the wettability of the exposed portion by utilizing the action of oxidation and decomposition of an organic group or an additive which is a part of the binder, thereby improving the ink affinity. Thus, a large difference in wettability with the non-exposed portion can be caused. Therefore, by improving the receptivity (ink-affinity) and repellency (ink-repellency) with various printing inks, it is possible to obtain a color filter of good quality and advantageous in cost.
【0068】また、本発明においてこのような光触媒含
有層を用いた場合、この光触媒含有層が少なくとも光触
媒とフッ素とを含有し、さらにこの光触媒含有層表面の
フッ素含有量が、光触媒含有層に対しエネルギーを照射
した際に、上記光触媒の作用によりエネルギー照射前に
比較して低下するように上記光触媒含有層が形成されて
いてもよい。When such a photocatalyst-containing layer is used in the present invention, the photocatalyst-containing layer contains at least a photocatalyst and fluorine, and the fluorine content on the surface of the photocatalyst-containing layer is more than that of the photocatalyst-containing layer. The photocatalyst-containing layer may be formed such that when the energy is irradiated, the photocatalyst-containing layer is reduced by the action of the photocatalyst as compared with before the energy irradiation.
【0069】このような特徴を有するカラーフィルタに
おいては、エネルギーをパターン照射することにより、
容易にフッ素の含有量の少ない部分からなるパターンを
形成することができる。ここで、フッ素は極めて低い表
面エネルギーを有するものであり、このためフッ素を多
く含有する物質の表面は、臨界表面張力がより小さくな
る。したがって、フッ素の含有量の多い部分の表面の臨
界表面張力に比較してフッ素の含有量の少ない部分の臨
界表面張力は大きくなる。これはすなわち、フッ素含有
量の少ない部分はフッ素含有量の多い部分に比較して親
インク性領域となっていることを意味する。よって、周
囲の表面に比較してフッ素含有量の少ない部分からなる
パターンを形成することは、撥インク性域内に親インク
性領域のパターンを形成することとなる。In a color filter having such a characteristic, by irradiating a pattern with energy,
It is possible to easily form a pattern composed of a portion having a low fluorine content. Here, fluorine has an extremely low surface energy, so that the surface of a substance containing a large amount of fluorine has a smaller critical surface tension. Therefore, the critical surface tension of the portion having a low fluorine content is larger than the critical surface tension of the portion having a high fluorine content. This means that a portion having a low fluorine content is an ink-philic region compared to a portion having a high fluorine content. Therefore, forming a pattern composed of a portion having a smaller fluorine content than the surrounding surface forms a pattern of the ink-philic region within the ink-repellent region.
【0070】したがって、このような光触媒含有層を用
いた場合は、エネルギーをパターン照射することによ
り、撥インク性領域内に親インク性領域のパターンを容
易に形成することができるので、この親インク性領域の
みに画素部等を形成することが容易に可能となり、品質
の良好なカラーフィルタとすることができる。Therefore, when such a photocatalyst-containing layer is used, the pattern of the ink-philic region can be easily formed in the ink-repellent region by irradiating the pattern with energy. It is possible to easily form a pixel portion or the like only in the active region, and a high-quality color filter can be obtained.
【0071】上述したような、フッ素を含む光触媒含有
層中に含まれるフッ素の含有量は、エネルギーが照射さ
れて形成されたフッ素含有量が低い親インク性領域にお
けるフッ素含有量が、エネルギー照射されていない部分
のフッ素含有量を100とした場合に10以下、好まし
くは5以下、特に好ましくは1以下であることが好まし
い。As described above, the content of fluorine contained in the fluorine-containing photocatalyst containing layer is determined by the fact that the fluorine content in the ink-philic region formed by irradiation with energy and having a low fluorine content is irradiated with energy. When the fluorine content of the unexposed portion is 100, it is preferably 10 or less, more preferably 5 or less, and particularly preferably 1 or less.
【0072】このような範囲内とすることにより、エネ
ルギー照射部分と未照射部分との親インク性に大きな違
いを生じさせることができる。したがって、このような
光触媒含有層に画素部等を形成することにより、フッ素
含有量が低下した親インク性領域のみに正確に画素部等
を形成することが可能となり、精度良くカラーフィルタ
を得ることができるからである。なお、この低下率は重
量を基準としたものである。By setting it within such a range, it is possible to cause a great difference in the ink affinity between the energy irradiated portion and the non-irradiated portion. Therefore, by forming a pixel portion or the like in such a photocatalyst containing layer, it becomes possible to accurately form a pixel portion or the like only in an ink-philic region having a reduced fluorine content, and to obtain a color filter with high accuracy. Because it can be. In addition, this reduction rate is based on weight.
【0073】このような光触媒含有層中のフッ素含有量
の測定は、一般的に行われている種々の方法を用いるこ
とが可能であり、例えばX線光電子分光法(X-ray Phot
oelectron Spectroscopy, ESCA(Electron Spectroscop
y for Chemical Analysis)とも称される。)、蛍光X線
分析法、質量分析法等の定量的に表面のフッ素の量を測
定できる方法であれば特に限定されるものではない。For the measurement of the fluorine content in the photocatalyst-containing layer, various commonly used methods can be used. For example, X-ray photoelectron spectroscopy (X-ray photoelectron spectroscopy) can be used.
oelectron Spectroscopy, ESCA (Electron Spectroscop
y for Chemical Analysis). ), Any method capable of quantitatively measuring the amount of fluorine on the surface, such as X-ray fluorescence analysis and mass spectrometry.
【0074】本発明で使用する光触媒としては、光半導
体として知られる例えば酸化チタン(TiO2)、酸化
亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)、チタン酸スト
ロンチウム(SrTiO3)、酸化タングステン(W
O3)、酸化ビスマス(Bi2O3)、および酸化鉄(F
e2O3)を挙げることができ、これらから選択して1種
または2種以上を混合して用いることができる。The photocatalyst used in the present invention includes, for example, titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), and tungsten oxide (W) which are known as optical semiconductors.
O 3 ), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), and iron oxide (F
e 2 O 3 ), and one or more of them may be used in combination.
【0075】本発明においては、特に酸化チタンが、バ
ンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定で毒性も
なく、入手も容易であることから好適に使用される。酸
化チタンには、アナターゼ型とルチル型があり本発明で
はいずれも使用することができるが、アナターゼ型の酸
化チタンが好ましい。アナターゼ型酸化チタンは励起波
長が380nm以下にある。In the present invention, titanium oxide is particularly preferably used because it has a high band gap energy, is chemically stable, has no toxicity, and is easily available. Titanium oxide includes anatase type and rutile type, and both can be used in the present invention, but anatase type titanium oxide is preferable. Anatase type titanium oxide has an excitation wavelength of 380 nm or less.
【0076】このようなアナターゼ型酸化チタンとして
は、例えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル
(石原産業(株)製STS−02(平均粒径7nm)、
石原産業(株)製ST−K01)、硝酸解膠型のアナタ
ーゼ型チタニアゾル(日産化学(株)製TA−15(平
均粒径12nm))等を挙げることができる。Examples of such anatase type titanium oxide include anatase type titania sol of peptized hydrochloric acid (STS-02 (average particle size: 7 nm) manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.)
ST-K01 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., anatase titania sol of nitric acid peptization type (TA-15 (average particle size: 12 nm) manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and the like can be mentioned.
【0077】光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効
果的に起こるので好ましく、平均粒径か50nm以下が
好ましく、20nm以下の光触媒を使用するのが特に好
ましい。また、光触媒の粒径が小さいほど、形成された
光触媒含有層の表面粗さが小さくなるので好ましく、光
触媒の粒径が100nmを越えると光触媒含有層の中心
線平均表面粗さが粗くなり、光触媒含有層の非露光部の
撥インク性が低下し、また露光部の親インク性の発現が
不十分となるため好ましくない。The smaller the particle size of the photocatalyst is, the more effective the photocatalytic reaction takes place. It is preferable that the average particle size is 50 nm or less, and it is particularly preferable to use a photocatalyst having a mean particle size of 20 nm or less. In addition, the smaller the particle size of the photocatalyst is, the smaller the surface roughness of the formed photocatalyst-containing layer is. It is preferable that the particle size of the photocatalyst exceeds 100 nm. It is not preferable because the ink repellency of the non-exposed portion of the containing layer is reduced, and the expression of ink affinity in the exposed portion is insufficient.
【0078】本発明のカラーフィルタは、上述したよう
に光触媒含有層表面にフッ素を含有させ、この光触媒含
有層表面にエネルギーをパターン照射することにより光
触媒含有層表面のフッ素含有量を低下させ、これにより
撥インク性領域中に親インク性領域のパターンを形成
し、ここに画素部等を形成して得られるカラーフィルタ
であってもよい。この場合であっても、光触媒として上
述したような二酸化チタンを用いることが好ましいが、
このように二酸化チタンを用いた場合の、光触媒含有層
中に含まれるフッ素の含有量としては、X線光電子分光
法で分析して定量化すると、チタン(Ti)元素を10
0とした場合に、フッ素(F)元素が500以上、この
ましくは800以上、特に好ましくは1200以上とな
る比率でフッ素(F)元素が光触媒含有層表面に含まれ
ていることが好ましい。As described above, the color filter of the present invention contains fluorine on the surface of the photocatalyst-containing layer, and the surface of the photocatalyst-containing layer is irradiated with energy in a pattern to reduce the fluorine content on the surface of the photocatalyst-containing layer. Thus, a color filter obtained by forming a pattern of an ink-philic region in the ink-repellent region and forming a pixel portion or the like on the pattern may be used. Even in this case, it is preferable to use titanium dioxide as described above as a photocatalyst,
When the content of fluorine contained in the photocatalyst containing layer when titanium dioxide is used is analyzed and quantified by X-ray photoelectron spectroscopy, the titanium (Ti) element is 10%.
When it is set to 0, it is preferable that the fluorine (F) element is contained on the surface of the photocatalyst containing layer at a ratio of 500 or more, preferably 800 or more, particularly preferably 1200 or more.
【0079】フッ素(F)が光触媒含有層にこの程度含
まれることにより、光触媒含有層上における臨界表面張
力を十分低くすることが可能となることから表面におけ
る撥インク性を確保でき、これによりエネルギーをパタ
ーン照射してフッ素含有量を減少させたパターン部分に
おける表面の親インク性領域との濡れ性の差異を大きく
することができ、最終的に得られるカラーフィルタの品
質を向上させることができるからである。When fluorine (F) is contained in the photocatalyst-containing layer to this extent, the critical surface tension on the photocatalyst-containing layer can be sufficiently reduced, so that the ink repellency on the surface can be ensured. Pattern, the fluorine content can be reduced, so that the difference in wettability with the ink-philic region on the surface in the pattern portion can be increased, and the quality of the finally obtained color filter can be improved. It is.
【0080】さらに、このようなカラーフィルタにおい
ては、エネルギーをパターン照射して形成される親イン
ク領域におけるフッ素含有量が、チタン(Ti)元素を
100とした場合にフッ素(F)元素が50以下、好ま
しくは20以下、特に好ましくは10以下となる比率で
含まれていることが好ましい。Further, in such a color filter, the fluorine content in the ink-affinity region formed by pattern irradiation of energy is such that the fluorine (F) element is 50 or less when the titanium (Ti) element is 100. , Preferably 20 or less, particularly preferably 10 or less.
【0081】光触媒含有層中のフッ素の含有率をこの程
度低減することができれば、画素部等を形成するために
は十分な親インク性を得ることができ、上記エネルギー
が未照射である部分の撥インク性との濡れ性の差異によ
り、画素部等を精度良く形成することが可能となり、品
質の良好なカラーフィルタを得ることができる。If the content of fluorine in the photocatalyst-containing layer can be reduced to this extent, sufficient ink-affinity for forming a pixel portion or the like can be obtained, and the above-mentioned portion of the energy-unirradiated portion can be obtained. Due to the difference in wettability from ink repellency, a pixel portion and the like can be formed with high accuracy, and a color filter with good quality can be obtained.
【0082】本発明において、光触媒含有層に使用する
バインダは、主骨格が上記の光触媒の光励起により分解
されないような高い結合エネルギーを有するものが好ま
しく、例えば、(1)ゾルゲル反応等によりクロロまた
はアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強
度を発揮するオルガノポリシロキサン、(2)撥水牲や
撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポ
リシロキサン等を挙げることができる。In the present invention, the binder used in the photocatalyst-containing layer preferably has a high binding energy such that the main skeleton is not decomposed by the photoexcitation of the photocatalyst. For example, (1) chloro or alkoxy by a sol-gel reaction or the like is used. Examples thereof include organopolysiloxanes that exhibit great strength by hydrolyzing and polycondensing silanes and the like, and (2) organopolysiloxanes obtained by crosslinking reactive silicones having excellent water repellency and oil repellency.
【0083】上記の(1)の場合、一般式: YnSiX(4-n) (ここで、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニ
ル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、
Xはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示
す。nは0〜3までの整数である。)で示される珪素化
合物の1種または2種以上の加水分解縮合物もしくは共
加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであるこ
とが好ましい。なお、ここでYで示される基の炭素数は
1〜20の範囲内であることが好ましく、また、Xで示
されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。In the case of the above (1), the general formula: Y n SiX (4-n) (where Y represents an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group, an amino group, a phenyl group or an epoxy group,
X represents an alkoxyl group, an acetyl group or a halogen. n is an integer from 0 to 3. ) Is preferably an organopolysiloxane that is one or more hydrolytic condensates or cohydrolytic condensates of the silicon compound represented by the formula (1). Here, the carbon number of the group represented by Y is preferably in the range of 1 to 20, and the alkoxy group represented by X is preferably a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or a butoxy group. preferable.
【0084】具体的には、メチルトリクロルシラン、メ
チルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシ
ラン、メチルトリt−ブトキシシラン;エチルトリクロ
ルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソ
プロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシシラン;n
−プロピルトリクロルシラン、n−プロピルトリブロム
シラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピ
ルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイソプロポキ
シシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシラン;n−
ヘキシルトリクロルシラン、n−へキシルトリブロムシ
ラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘキシル
トリエトキシシラン、n−へキシルトリイソプロポキシ
シラン、n−へキシルトリt−ブトキシシラン;n−デ
シルトリクロルシラン、n−デシルトリブロムシラン、
n−デシルトリメトキシシラン、n−デシルトリエトキ
シシラン、n−デシルトリイソプロポキシシラン、n−
デシルトリt−ブトキシシラン;n−オクタデシルトリ
クロルシラン、n−オクタデシルトリブロムシラン、n
−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オクタデシル
トリエトキシシラン、n−オクタデシルトリイソプロポ
キシシラン、n−オクタデシルトリt−ブトキシシラ
ン;フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェ
ニルトリt−ブトキシシラン;テトラクロルシラン、テ
トラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエト
キシシラン;ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロ
ムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエト
キシシラン;ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジ
ブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシラン;フェニルメチルジクロルシラン、
フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメト
キシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン;トリク
ロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメト
キシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイ
ソプロポキシヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシ
ラン;ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリt
−ブトキシシラン;トリフルオロプロピルトリクロルシ
ラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフ
ルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロ
ピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイ
ソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリt−ブ
トキシシラン;γ−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリt−ブトキシシラン;γ−
メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリt−ブトキシシラ
ン;γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキシシラン;
γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
t−ブトキシシラン;β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン;お
よび、それらの部分加水分解物;および、それらの混合
物を使用することができる。Specifically, methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-t-butoxysilane; ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrichlorosilane Methoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltri-t-butoxysilane; n
-Propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxysilane, n-propyltri-t-butoxysilane; n-
Hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-hexyltri-t-butoxysilane; n-decyltrichlorosilane, n-decyltribromosilane,
n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n-decyltriisopropoxysilane, n-
Decyltri-t-butoxysilane; n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n
-Octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltri-t-butoxysilane; phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyl Triisopropoxysilane, phenyltri-t-butoxysilane; tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethoxydiethoxysilane; dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane , Dimethyldiethoxysilane; diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane Phenyl methyldichlorosilane,
Phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane; trichlorohydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, triethoxyhydrosilane, triisopropoxyhydrosilane, tri-t-butoxyhydrosilane; vinyltrichlorosilane, vinyltribromo Silane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrit
-Butoxysilane; trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane; γ- Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ
Glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltri-t-butoxysilane; γ-
Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ
-Methacryloxypropylmethyldiethoxysilane,
γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ
-Methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-
Methacryloxypropyltriisopropoxysilane,
γ-methacryloxypropyltri-t-butoxysilane; γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltri-t-butoxysilane;
γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane; β- (3,4-epoxy Cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane; and their partial hydrolysates; and mixtures thereof, can be used.
【0085】また、バインダとして、特にフルオロアル
キル基を含有するポリシロキサンが好ましく用いること
ができ、具体的には、下記のフルオロアルキルシランの
1種または2種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合
物が挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤と
して知られたものを使用することができる。As the binder, a polysiloxane containing a fluoroalkyl group can be particularly preferably used. Specifically, one or more hydrocondensation products of the following fluoroalkylsilanes, co-hydrolysis Examples thereof include condensates, and those generally known as a fluorine-based silane coupling agent can be used.
【0086】CF3(CF2)3CH2CH2Si(OC
H3)3;CF3(CF2)5CH2CH2Si(OC
H3)3;CF3(CF2)7CH2CH2Si(OC
H3)3;CF3(CF2)9CH2CH2Si(OC
H3)3;(CF3)2CF(CF2)4CH2CH2Si(O
CH3)3;(CF3)2CF(CF2)6CH2CH2Si
(OCH3)3;(CF3)2CF(CF2)8CH2CH2S
i(OCH3)3;CF3(C6H4)C2H4Si(OC
H3)3;CF3(CF2)3(C6H4)C2H4Si(OC
H3)3;CF3(CF2)5(C6H4)C2H4Si(OC
H3)3;CF3(CF2)7(C6H4)C2H4Si(OC
H3)3;CF3(CF2)3CH2CH2SiCH3(OCH
3)2;CF3(CF2)5CH2CH2SiCH3(OC
H3)2;CF3(CF2)7CH2CH2SiCH3(OCH
3)2;CF3(CF2)9CH2CH2SiCH3(OC
H3)2;(CF3)2CF(CF2)4CH2CH2SiCH
3(OCH3)2;(CF3)2CF(CF2)6CH2CH2
SiCH3(OCH3)2;(CF3)2CF(CF2)8C
H2CH2SiCH3(OCH3)2;CF3(C6H4)C2
H4SiCH3(OCH3)2;CF3(CF2)3(C
6H4)C2H4SiCH3(OCH3)2;CF3(CF2)5
(C6H4)C2H4SiCH3(OCH3)2;CF3(CF
2)7(C6H4)C2H4SiCH3(OCH3)2;CF
3(CF2)3CH2CH2Si(OCH2CH3)3;CF3
(CF2)5CH2CH2Si(OCH2CH3)3;CF
3(CF2)7CH2CH2Si(OCH2CH3)3;CF3
(CF2)9CH2CH2Si(OCH2CH3)3;および
CF3(CF2)7SO2N(C2H5)C2H4CH2Si
(OCH3)3 CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3) 3; (CF 3 ) 2 CF (CF 2) 4 CH 2 CH 2 Si (O
CH 3 ) 3 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2 Si
(OCH 3 ) 3 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 CH 2 CH 2 S
i (OCH 3 ) 3 ; CF 3 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 Si (OC
H 3) 3; CF 3 ( CF 2) 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 5 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 Si (OC
H 3) 3; CF 3 ( CF 2) 7 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH
3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC
H 3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH
3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC
H 3 ) 2 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 SiCH
3 (OCH 3 ) 2 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2
SiCH 3 (OCH 3 ) 2 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 C
H 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2 ; CF 3 (C 6 H 4 ) C 2
H 4 SiCH 3 (OCH 3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 3 (C
6 H 4 ) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 5
(C 6 H 4 ) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3 ) 2 ; CF 3 (CF
2) 7 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2; CF
3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 ; CF 3
(CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 ; CF
3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 ; CF 3
(CF 2) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3; and CF 3 (CF 2) 7 SO 2 N (C 2 H 5) C 2 H 4 CH 2 Si
(OCH 3 ) 3
【0087】上記のようなフルオロアルキル基を含有す
るポリシロキサンをバインダとして用いることにより、
光触媒含有層の非露光部の撥インク性が大きく向上し、
各種印刷方式用インクの付着を妨げる機能を発現する。By using a polysiloxane having a fluoroalkyl group as described above as a binder,
The ink repellency of the non-exposed part of the photocatalyst containing layer is greatly improved,
It exhibits a function of preventing the adhesion of inks for various printing methods.
【0088】また、上記の(2)の反応性シリコーンと
しては、下記一般式で表される骨格をもつ化合物を挙げ
ることができる。The reactive silicone of the above (2) includes compounds having a skeleton represented by the following general formula.
【0089】[0089]
【化1】 Embedded image
【0090】ただし、nは2以上の整数であり、R1,
R2はそれぞれ炭素数1〜10の置換もしくは非置換の
アルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキ
ル基であり、モル比で全体の40%以下がビニル、フェ
ニル、ハロゲン化フェニルである。また、R1、R2がメ
チル基のものが表面エネルギーが最も小さくなるので好
ましく、モル比でメチル基が60%以上であることが好
ましい。また、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少
なくとも1個以上の水酸基等の反応性基を有する。Here, n is an integer of 2 or more, and R 1 ,
R 2 is a substituted or unsubstituted alkyl, alkenyl, aryl or cyanoalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and 40% or less of the whole is vinyl, phenyl or halogenated phenyl in a molar ratio. Further, those in which R 1 and R 2 are methyl groups are preferred because the surface energy is minimized, and the molar ratio of the methyl groups is preferably 60% or more. Further, the chain terminal or the side chain has at least one or more reactive group such as a hydroxyl group in the molecular chain.
【0091】また、上記のオルガノポリシロキサンとと
もに、ジメチルポリシロキサンのような架橋反応をしな
い安定なオルガノシリコン化合物をバインダに混合して
もよい。In addition, a stable organosilicon compound which does not undergo a cross-linking reaction such as dimethylpolysiloxane may be mixed with the above-mentioned organopolysiloxane in a binder.
【0092】本発明のカラーフィルタにおいては、この
ようにオルガノポリシロキサン等の種々のバインダを光
触媒含有層に用いることができる。本発明においては、
上述したように、このようなバインダおよび光触媒を含
む光触媒含有層にフッ素を含有させ、エネルギーをパタ
ーン照射することにより光触媒含有層表面のフッ素を低
減させ、これにより撥インク性領域内に親インク性領域
を形成するようにしてもよい。この際、光触媒含有層中
にフッ素を含有させる必要があるが、このようなバイン
ダを含む光触媒含有層にフッ素を含有させる方法として
は、通常高い結合エネルギーを有するバインダに対し、
フッ素化合物を比較的弱い結合エネルギーで結合させる
方法、比較的弱い結合エネルギーで結合されたフッ素化
合物を光触媒含有層に混入させる方法等を挙げることが
できる。このような方法でフッ素を導入することによ
り、エネルギーが照射された場合に、まず結合エネルギ
ーが比較的小さいフッ素結合部位が分解され、これによ
りフッ素を光触媒含有層中から除去することができるか
らである。In the color filter of the present invention, various binders such as organopolysiloxane can be used for the photocatalyst-containing layer. In the present invention,
As described above, fluorine is contained in the photocatalyst containing layer containing such a binder and a photocatalyst, and fluorine is reduced on the surface of the photocatalyst containing layer by irradiating energy with a pattern. A region may be formed. At this time, it is necessary to contain fluorine in the photocatalyst containing layer, but as a method of containing fluorine in the photocatalyst containing layer containing such a binder, for a binder having usually a high binding energy,
Examples thereof include a method of bonding a fluorine compound with a relatively weak binding energy, and a method of mixing a fluorine compound bonded with a relatively weak binding energy into a photocatalyst-containing layer. By introducing fluorine by such a method, when energy is irradiated, first, a fluorine bonding site having a relatively small binding energy is decomposed, and thereby fluorine can be removed from the photocatalyst containing layer. is there.
【0093】上記第1の方法、すなわち、高い結合エネ
ルギーを有するバインダに対し、フッ素化合物を比較的
弱い結合エネルギーで結合させる方法としては、上記オ
ルガノポリシロキサンにフルオロアルキル基を置換基と
して導入する方法等を挙げることができる。The first method, that is, a method of binding a fluorine compound to a binder having a high binding energy with a relatively weak binding energy, is a method of introducing a fluoroalkyl group as a substituent into the organopolysiloxane. And the like.
【0094】例えば、オルガノポリシロキサンを得る方
法として、上記(1)として記載したように、ゾルゲル
反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分
解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロ
キサンを得ることができる。ここで、この方法において
は、上述したように上記一般式: YnSiX(4-n) (ここで、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニ
ル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、
Xはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示
す。nは0〜3までの整数である。)で示される珪素化
合物の1種または2種以上を、加水分解縮合物もしくは
共加水分解縮合することによりオルガノポリシロキサン
を得るのであるが、この一般式において、置換基Yとし
てフルオロアルキル基を有する珪素化合物を用いて合成
することにより、フルオロアルキル基を置換基として有
するオルガノポリシロキサンを得ることができる。この
ようなフルオロアルキル基を置換基として有するオルガ
ノポリシロキサンをバインダとして用いた場合は、エネ
ルギーが照射された際、光触媒含有層中の光触媒の作用
により、フルオロアルキル基の炭素結合の部分が分解さ
れることから、光触媒含有層表面にエネルギーを照射し
た部分のフッ素含有量を低減させることができる。For example, as a method for obtaining an organopolysiloxane, as described in (1) above, chloro or alkoxysilane is hydrolyzed or polycondensed by a sol-gel reaction or the like to obtain an organopolysiloxane exhibiting a large strength. be able to. Here, in this method, the general formula as described above: Y n SiX (4-n ) ( wherein, Y represents an alkyl group, fluoroalkyl group, vinyl group, amino group, phenyl group or epoxy group ,
X represents an alkoxyl group, an acetyl group or a halogen. n is an integer from 0 to 3. ) Is obtained by subjecting one or more silicon compounds represented by the formula (1) to hydrolysis-condensation or co-hydrolysis condensation to obtain an organopolysiloxane. In this general formula, the organopolysiloxane has a fluoroalkyl group as a substituent Y. By synthesizing using a silicon compound, an organopolysiloxane having a fluoroalkyl group as a substituent can be obtained. When an organopolysiloxane having such a fluoroalkyl group as a substituent is used as a binder, a portion of carbon bonds of the fluoroalkyl group is decomposed by the action of the photocatalyst in the photocatalyst containing layer when energy is irradiated. Therefore, it is possible to reduce the fluorine content in the portion where the surface of the photocatalyst-containing layer is irradiated with energy.
【0095】この際用いられるフルオロアルキル基を有
する珪素化合物としては、フルオロアルキル基を有する
ものであれば特に限定されるものではないが、少なくと
も1個のフルオロアルキル基を有し、このフルオロアル
キル基の炭素数が4から30、好ましくは6から20、
特に好ましくは6から16である珪素化合物が好適に用
いられる。このような珪素化合物の具体例は上述した通
りであるが、中でも炭素数が6から8であるフルオロア
ルキル基を有する上記珪素化合物、すなわちフルオロア
ルキルシランが好ましい。The silicon compound having a fluoroalkyl group used at this time is not particularly limited as long as it has a fluoroalkyl group. However, the silicon compound having at least one fluoroalkyl group and Has a carbon number of 4 to 30, preferably 6 to 20,
Particularly preferably, a silicon compound having 6 to 16 is suitably used. Specific examples of such a silicon compound are as described above, and among them, the silicon compound having a fluoroalkyl group having 6 to 8 carbon atoms, that is, fluoroalkylsilane is preferable.
【0096】本発明においては、このようなフルオロア
ルキル基を有する珪素化合物を上述したフルオロアルキ
ル基を有さない珪素化合物と混合して用い、これらの共
加水分解縮合物を上記オルガノポリシロキサンとして用
いてもよいし、このようなフルオロアルキル基を有する
珪素化合物を1種または2種以上用い、これらの加水分
解縮合物、共加水分解縮合物を上記オルガノポリシロキ
サンとして用いてもよい。In the present invention, such a silicon compound having a fluoroalkyl group is mixed with the above-mentioned silicon compound having no fluoroalkyl group, and a co-hydrolyzed condensate thereof is used as the organopolysiloxane. Alternatively, one or more silicon compounds having such a fluoroalkyl group may be used, and a hydrolyzed condensate or co-hydrolyzed condensate thereof may be used as the organopolysiloxane.
【0097】このようにして得られるフルオロアルキル
基を有するオルガノポリシロキサンにおいては、このオ
ルガノポリシロキサンを構成する珪素化合物の内、上記
フルオロアルキル基を有する珪素化合物が0.01モル
%以上、好ましくは0.1モル%以上含まれていること
が好ましい。In the organopolysiloxane having a fluoroalkyl group thus obtained, the silicon compound having the fluoroalkyl group is present in an amount of 0.01 mol% or more, preferably, of the silicon compounds constituting the organopolysiloxane. Preferably, it is contained in an amount of 0.1 mol% or more.
【0098】フルオロアルキル基がこの程度含まれるこ
とにより、光触媒含有層上の撥インク性を高くすること
ができ、エネルギーを照射して親インク性領域とした部
分との濡れ性の差異を大きくすることができるからであ
る。When the fluoroalkyl group is contained to this extent, the ink repellency on the photocatalyst-containing layer can be increased, and the difference in wettability from the portion that has been made ink-philic by irradiation of energy can be increased. Because you can do it.
【0099】また、上記(2)に示す方法では、撥水牲
や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋することによ
りオルガノポリシロキサンを得るのであるが、この場合
も同様に、上述した一般式中のR1,R2のいずれかもし
くは両方をフルオロアルキル基等のフッ素を含有する置
換基とすることにより、光触媒含有層中にフッ素を含ま
せることが可能であり、またエネルギーが照射された場
合に、シロキサン結合より結合エネルギーの小さいフル
オロアルキル基の部分が分解されるため、エネルギー照
射により光触媒含有層表面におけるフッ素の含有量を低
下させることができる。In the method shown in the above (2), an organopolysiloxane is obtained by crosslinking a reactive silicone having excellent water repellency and oil repellency. By making one or both of R 1 and R 2 in the compound a fluorine-containing substituent such as a fluoroalkyl group, fluorine can be contained in the photocatalyst-containing layer, and energy irradiation is performed. In this case, the portion of the fluoroalkyl group having a lower binding energy than the siloxane bond is decomposed, so that the content of fluorine on the surface of the photocatalyst-containing layer can be reduced by energy irradiation.
【0100】一方、後者の例、すなわち、バインダの結
合エネルギーより弱いエネルギーで結合したフッ素化合
物を導入させる方法としては、例えば、低分子量のフッ
素化合物を導入させる場合は、例えばフッ素系の界面活
性剤を混入する方法等を挙げることができ、また高分子
量のフッ素化合物を導入させる方法としては、バインダ
樹脂との相溶性の高いフッ素樹脂を混合する等の方法を
挙げることができる。On the other hand, in the latter case, that is, as a method of introducing a fluorine compound bonded with energy lower than the binding energy of the binder, for example, when introducing a low molecular weight fluorine compound, for example, a fluorine-based surfactant is used. And a method of introducing a fluorine compound having a high molecular weight, such as a method of mixing a fluorine resin having high compatibility with the binder resin.
【0101】本発明において光触媒含有層には上記の光
触媒、バインダの他に、界面活性剤を含有させることが
できる。具体的には、日光ケミカルズ(株)製NIKK
OLBL、BC、BO、BBの各シリーズ等の炭化水素
系、デュポン社製ZONYL FSN、FSO、旭硝子
(株)製サーフロンS−141、145、大日本インキ
化学工業(株)製メガファックF−141、144、ネ
オス(株)製フタージェントF−200、F251、ダ
イキン工業(株)製ユニダインDS−401、402、
スリーエム(株)製フロラードFC−170、176等
のフッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界面活性剤
を挙げることかでき、また、カチオン系界面活性剤、ア
ニオン系界面活性剤、両性界面活性剤を用いることもで
きる。In the present invention, the photocatalyst-containing layer may contain a surfactant in addition to the above-mentioned photocatalyst and binder. More specifically, NIKK manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.
Hydrocarbons such as OLBL, BC, BO, and BB series, ZONYL FSN and FSO manufactured by DuPont, Surflon S-141 and 145 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., and Megafax F-141 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. 144, Neos Co., Ltd. manufactured by Fategent F-200, F251, Daikin Industries, Ltd. Unidyne DS-401, 402,
Examples include fluorine-based or silicone-based nonionic surfactants such as Florad FC-170 and 176 manufactured by 3M Co., Ltd., and a cationic surfactant, an anionic surfactant, and an amphoteric surfactant are used. You can also.
【0102】また、光触媒含有層には上記の界面活性剤
の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステ
ル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレー
ト、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポ
リカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイ
ミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポ
リプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸
ビニル、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイ
ミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリ
ン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマ
ー、ポリマー等を含有させることができる。Further, in addition to the above-mentioned surfactants, the photocatalyst-containing layer contains polyvinyl alcohol, unsaturated polyester, acrylic resin, polyethylene, diallyl phthalate, ethylene propylene diene monomer, epoxy resin, phenol resin, polyurethane, melamine resin. , Polycarbonate, polyvinyl chloride, polyamide, polyimide, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, polypropylene, polybutylene, polystyrene, polyvinyl acetate, polyester, polybutadiene, polybenzimidazole, polyacrylonitrile, oligomers such as epichlorohydrin, polysulfide, polyisoprene, A polymer or the like can be contained.
【0103】光触媒含有層中の光触媒の含有量は、5〜
60重量%、好ましくは20〜40重量%の範囲で設定
することができる。また、光触媒含有層の厚みは、0.
05〜10μmの範囲内が好ましく、特に好ましくは、
0.1〜0.2μmである。The content of the photocatalyst in the photocatalyst containing layer is 5 to 5.
It can be set in the range of 60% by weight, preferably 20 to 40% by weight. Further, the thickness of the photocatalyst-containing layer is 0.1 mm.
It is preferably in the range of 05 to 10 μm, particularly preferably,
It is 0.1 to 0.2 μm.
【0104】上記光触媒含有層は、光触媒とバインダを
必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布
液を調製し、この塗布液を塗布することにより形成する
ことができる。使用する溶剤としては、エタノール、イ
ソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が好まし
い。塗布はスピンコート、スプレーコート、ディッブコ
ート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法
により行うことができる。バインダとして紫外線硬化型
の成分を含有している場合、紫外線を照射して硬化処理
を行うことにより光触媒含有層を形成することかでき
る。The photocatalyst-containing layer can be formed by dispersing a photocatalyst and a binder, if necessary, in a solvent together with other additives to prepare a coating solution, and applying the coating solution. As the solvent to be used, alcohol-based organic solvents such as ethanol and isopropanol are preferable. The coating can be performed by a known coating method such as spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, and bead coating. When an ultraviolet-curable component is contained as a binder, the photocatalyst-containing layer can be formed by irradiating ultraviolet rays and performing a curing treatment.
【0105】(画素部)上記第1実施態様においては、
図1および図2に示すように光触媒含有層5上に画素部
6が設けられている。第1実施態様では、上記光触媒含
有層に対して露光され、液体との接触角が低い親インク
性領域に、各種印刷方式を用いて複数色のインクにより
所定のパターンで画素部が形成される。通常画素部は、
赤(R)、緑(G)、および青(B)の3色で形成され
る。この画素部における着色パターン、着色面積は任意
に設定することができる。(Pixel Section) In the first embodiment,
As shown in FIGS. 1 and 2, the pixel portion 6 is provided on the photocatalyst containing layer 5. In the first embodiment, the photocatalyst-containing layer is exposed to light, and a pixel portion is formed in a predetermined pattern using a plurality of colors of ink in various ink-philic regions in which the contact angle with the liquid is low. . Normally, the pixel part is
It is formed of three colors of red (R), green (G), and blue (B). The coloring pattern and the coloring area in this pixel portion can be set arbitrarily.
【0106】上記第1実施態様においては、図1および
図2に示すように光触媒含有層3上に画素部4が設けら
れたところに特徴を有するものである。本実施態様で
は、上記光触媒含有層において露光され、液体との接触
角が低い親インク性領域に、各種印刷方式により複数色
のインクにより所定のパターンで画素部が形成される。
通常画素部は、赤(R)、緑(G)、および青(B)の
3色で形成される。この画素部における着色パターン、
着色面積は任意に設定することができる。本発明のカラ
ーフィルタにおいては、画素部間に遮光部(ブラックマ
トリックス)が存在しない。したがって、この画素部間
には間隙が存在する場合と画素部が連続して設けられる
場合とが考えられるが、本実施態様においては、いずれ
のタイプでもよい。また、図2に示すように撥インク性
凸部が設けられたものであってもよい。The first embodiment is characterized in that the pixel section 4 is provided on the photocatalyst containing layer 3 as shown in FIGS. 1 and 2. In this embodiment, a pixel portion is formed in a predetermined pattern using a plurality of colors of ink by various printing methods in the ink-philic region exposed to light in the photocatalyst-containing layer and having a low contact angle with a liquid.
The normal pixel portion is formed with three colors of red (R), green (G), and blue (B). Coloring pattern in this pixel portion,
The coloring area can be set arbitrarily. In the color filter of the present invention, no light-shielding portion (black matrix) exists between the pixel portions. Therefore, it is considered that there is a case where a gap exists between the pixel portions and a case where the pixel portions are continuously provided. In the present embodiment, any type may be used. Further, as shown in FIG. 2, an ink repellent convex portion may be provided.
【0107】このような画素部を形成する各種印刷方式
のインクとしては、大きく水性、油性に分類されるが、
本発明においてはいずれのインクであっても用いること
ができる。また、乾燥機構別に、酸化重合型、蒸発乾燥
型、熱重合型、光・放射線重合等のインクを用いること
ができる。[0107] Inks of various printing methods for forming such a pixel portion are largely classified into aqueous and oily inks.
In the present invention, any ink can be used. Further, for each drying mechanism, an ink of an oxidation polymerization type, an evaporation drying type, a heat polymerization type, a light / radiation polymerization, or the like can be used.
【0108】本発明においては、中でもUV硬化性イン
クを用いることが好ましい。UV硬化性インクを用いる
ことにより、各種印刷方式により着色して画素部を形成
後、UVを照射することにより、素早くインクを硬化さ
せることができ、すぐに次の工程に送ることができる。
したがって、効率よくカラーフィルタを製造することが
できるからである。In the present invention, it is particularly preferable to use UV curable ink. By using a UV curable ink, after forming a pixel portion by coloring by various printing methods, by irradiating UV, the ink can be quickly cured and can be immediately sent to the next step.
Therefore, a color filter can be efficiently manufactured.
【0109】このようなUV硬化性インクは、プレポリ
マー、モノマー、光開始剤及び着色剤を主成分とするも
のである。プレポリマーとしては、ポリエステルアクリ
レート、ポリウレタンアクリレート、エポキシアクリレ
ート、ポリエーテルアクリレート、オリゴアクリレー
ト、アルキドアクリレート、ポリオールアクリレート、
シリコンアクリレート等のプレポリマーのいずれかを特
に限定することなく用いることができる。Such a UV-curable ink contains a prepolymer, a monomer, a photoinitiator and a colorant as main components. As the prepolymer, polyester acrylate, polyurethane acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, oligoacrylate, alkyd acrylate, polyol acrylate,
Any of prepolymers such as silicon acrylate can be used without any particular limitation.
【0110】モノマーとしては、スチレン、酢酸ビニル
等のビニルモノマー;n−ヘキシルアクリレート、フェ
ノキシエチルアクリレート等の単官能アクリルモノマ
ー;ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジアクリレート、ヒドロキシピペリン酸
エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリス
トールヘキサアクリレート等の多官能アクリルモノマー
を用いることができる。上記プレポリマー及びモノマー
は単独で用いても良いし、2種以上混含しても良い。Examples of the monomer include vinyl monomers such as styrene and vinyl acetate; monofunctional acrylic monomers such as n-hexyl acrylate and phenoxyethyl acrylate; diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, hydroxypiperate ester neopentyl Polyfunctional acrylic monomers such as glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, and dipentaerythrol hexaacrylate can be used. The above prepolymer and monomer may be used alone or in combination of two or more.
【0111】光重合開始剤は、イソブチルベンゾインエ
ーテル、イソプロピルベンゾインエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、1−フェ
ニル−l,2−プロパジオン−2−オキシム、2,2−
ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、ベンジル、
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジエトキシ
アセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フ
ェニルプロパン−1−オン、ベンゾフェノン、クロロチ
オキサントン、2−クロロチオキサントン、イソプロピ
ルチオキサントン、2−メチルチオキサントン、塩素置
換ベンゾフェノン、ハロゲン置換アルキル−アリルケト
ン等の中から所望の硬化特性、記録特性が得られるもの
を選択して用いることができる。その他必要に応じて脂
肪族アミン、芳香族アミン等の光開始助剤;チオキサン
ソン等の光鋭感剤等を添加しても良い。The photopolymerization initiators include isobutyl benzoin ether, isopropyl benzoin ether, benzoin ethyl ether, benzoin methyl ether, 1-phenyl-1,2-propadione-2-oxime, 2,2-
Dimethoxy-2-phenylacetophenone, benzyl,
Hydroxycyclohexylphenyl ketone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzophenone, chlorothioxanthone, 2-chlorothioxanthone, isopropylthioxanthone, 2-methylthioxanthone, chlorine-substituted benzophenone, halogen-substituted Those which can obtain desired curing characteristics and recording characteristics can be selected and used from alkyl-allyl ketones and the like. In addition, if necessary, a photoinitiating auxiliary such as an aliphatic amine or an aromatic amine; a photosensitizer such as thioxanthone may be added.
【0112】本発明においては、用いるインクの粘度と
の関係で、凹版を用いた印刷方式であることが好まし
い。これは、以下の理由によるものである。すなわち、
凹版を用いた印刷方式は、他の凸版、平版もしくは孔版
を用いた印刷方式と比較して、用いるインクの粘度が低
い。本発明のカラーフィルタは、インクを親インク性領
域内に均一に延び広がらせることにより、色抜けのない
高品質のカラーフィルタとするものであるので、インク
の粘度がある程度低い方が好ましい。したがって、本発
明においては、凹版を用いた印刷方式が好ましいのであ
る。In the present invention, a printing method using an intaglio is preferably used in consideration of the viscosity of the ink used. This is for the following reason. That is,
In the printing method using the intaglio, the viscosity of the ink used is lower than that in the printing method using other letterpress, lithographic or stencil printing. The color filter of the present invention is a high-quality color filter without color loss by uniformly extending and spreading the ink in the ink-philic region, and therefore it is preferable that the viscosity of the ink is somewhat low. Therefore, in the present invention, a printing method using an intaglio is preferable.
【0113】本発明においては、このような凹版を用い
た印刷方式に用いるインクの粘度が、0.1〜10ポイ
ズの範囲内、特に0.1〜5ポイズの範囲内、中でも
0.1〜1ポイズの範囲内であるインクを用いることが
好ましい。インクの粘度が上記範囲より大きい場合は、
親インク性領域に印刷方式によりインクを付着させた場
合に、この親インク性領域内にインクが伸び広がりにく
く、色抜け等の不具合が生じる可能性があることから好
ましくない。一方、上記範囲より粘度が低い場合は、印
刷性等に問題が生じるおそれがあるため好ましくない。In the present invention, the viscosity of the ink used in the printing method using such an intaglio is in the range of 0.1 to 10 poise, particularly in the range of 0.1 to 5 poise, and especially 0.1 to 10 poise. It is preferable to use an ink within the range of 1 poise. If the viscosity of the ink is larger than the above range,
When ink is attached to the ink-philic region by a printing method, it is not preferable because the ink hardly spreads and spreads in the ink-philic region and a problem such as color omission may occur. On the other hand, when the viscosity is lower than the above range, there is a possibility that a problem occurs in printability and the like, which is not preferable.
【0114】(透明基板)本発明の第1実施態様におい
ては、図1および図2に示すように、透明基板2上に光
触媒含有層3が設けられる。(Transparent Substrate) In the first embodiment of the present invention, a photocatalyst containing layer 3 is provided on a transparent substrate 2 as shown in FIGS.
【0115】この透明基板としては、従来よりカラーフ
ィルタに用いられているものであれば特に限定されるも
のではないが、例えば石英ガラス、パイレックス(登録
商標)ガラス、合成石英板等の可とう性のない透明なリ
ジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等
の可とう性を有する透明なフレキシブル材を用いること
ができる。この中で特にコーニング社製7059ガラス
は、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高温
加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアル
カリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、アク
ティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置用の
カラーフィルタに適している。本発明において、透明基
板は通常透明なものを用いるが、反射性の基板や白色に
着色した基板でも用いることは可能である。また、透明
基板は、必要に応じてアルカリ溶出防止用やガスバリア
性付与その他の目的の表面処理を施したものを用いても
よい。The transparent substrate is not particularly limited as long as it has been conventionally used for a color filter. For example, a flexible substrate such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, or a synthetic quartz plate is used. A transparent rigid material having no flexibility, or a transparent flexible material having flexibility such as a transparent resin film or an optical resin plate can be used. Of these, Corning 7059 glass is a material having a low coefficient of thermal expansion, excellent dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and is an alkali-free glass containing no alkali component in the glass. It is suitable for a color filter for a color liquid crystal display device according to the method. In the present invention, a transparent substrate is usually used as a transparent substrate, but a reflective substrate or a substrate colored white can also be used. Further, as the transparent substrate, a substrate which has been subjected to surface treatment for preventing alkali elution, imparting a gas barrier property or other purposes as necessary may be used.
【0116】(撥インク性凸部)本発明の第1実施態様
においては、図2に示すように、画素部4の間に撥イン
ク性凸部5を形成してもよい。このような撥インク性凸
部の組成は、撥インク性を有する樹脂組成物であれば、
特に限定されるものではない。また、特に透明である必
要はなく、着色されたものであってもよい。例えば、ブ
ラックマトリックス(遮光部)に用いられる樹脂材料で
あって、黒色の材料を混入しない材料等を用いることが
できる。具体的には、ポリアクリルアミド、ポリビニル
アルコール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の水性
樹脂を1種または2種以上混合した組成物や、O/Wエ
マルジョン型の樹脂組成物、例えば、反応性シリコーン
をエマルジョン化したもの等を挙げることができる。本
発明においては、取扱性および硬化が容易である点等の
理由から、光硬化性樹脂が好適に用いられる。また、こ
の撥インク性凸部は、撥インク性が強いほど好ましいの
で、その表面をシリコーン化合物や含フッ素化合物等の
撥インク処理剤で処理したものでもよい。(Ink-Repellent Convex Portions) In the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. The composition of such an ink-repellent convex portion is a resin composition having an ink-repellent property.
There is no particular limitation. It is not necessary to be particularly transparent, and it may be colored. For example, a resin material that is used for a black matrix (light shielding portion) and does not contain a black material can be used. Specifically, a composition in which one or more aqueous resins such as polyacrylamide, polyvinyl alcohol, gelatin, casein, and cellulose are mixed, or an O / W emulsion-type resin composition such as a reactive silicone And the like. In the present invention, a photocurable resin is preferably used for reasons such as easy handling and easy curing. Further, since the ink repellent projections are preferably as strong as the ink repellency, the surface thereof may be treated with an ink repellent such as a silicone compound or a fluorine-containing compound.
【0117】上記第1実施態様における撥インク性凸部
の高さは、上述したように各種印刷法により着色する際
に、インクの混色防止等のために設けられるものである
ことからある程度高いことが好ましいが、カラーフィル
タとした場合の全体の平坦性を考慮すると、画素部の厚
さに近い厚さであることが好ましい。具体的には、吹き
付けるインクの堆積量によっても異なるが、通常は0.
1〜2μmの範囲内であることが好ましい。The height of the ink-repellent convex portions in the first embodiment is somewhat high because it is provided for preventing color mixing of ink when coloring by various printing methods as described above. However, in consideration of the overall flatness when a color filter is used, the thickness is preferably close to the thickness of the pixel portion. More specifically, although it differs depending on the amount of ink to be sprayed, it is usually 0.
It is preferable that the thickness be in the range of 1 to 2 μm.
【0118】(保護層)図1および図2においては図示
されていないが、カラーフィルタ1の表面に必要に応じ
て保護層を形成してもよい。この保護層は、カラーフィ
ルタを平坦化するとともに、画素部、あるいは、画素部
と光触媒含有層に含有される成分の液晶層への溶出を防
止するために設けられるものである。(Protective Layer) Although not shown in FIGS. 1 and 2, a protective layer may be formed on the surface of the color filter 1 if necessary. This protective layer is provided to flatten the color filter and prevent the components contained in the pixel portion or the pixel portion and the photocatalyst containing layer from being eluted into the liquid crystal layer.
【0119】保護層の厚みは、使用される材料の光透過
率、カラーフィルタの表面状態等を考慮して設定するこ
とができ、例えば、0.1〜2.0μmの範囲で設定す
ることができる。保護層は、例えば、公知の透明感光性
樹脂、二液硬化型透明樹脂等の中から、透明保護層とし
て要求される光透過率等を有するものを用いて形成する
ことができる。The thickness of the protective layer can be set in consideration of the light transmittance of the material used, the surface condition of the color filter, and the like. For example, the thickness can be set in the range of 0.1 to 2.0 μm. it can. The protective layer can be formed using, for example, a known transparent photosensitive resin, a two-component curable transparent resin, or the like having a light transmittance required for the transparent protective layer.
【0120】(粘弾性層)本実施態様においては、上記
光触媒含有層と透明基板との間に粘弾性層を形成しても
よい。このように粘弾性層を形成することにより、印刷
方式で画素部を形成する際に、転写の精度が向上し、得
られるカラーフィルタの品質を向上させることが可能だ
からである。(Viscoelastic Layer) In this embodiment, a viscoelastic layer may be formed between the photocatalyst-containing layer and the transparent substrate. By forming the viscoelastic layer in this manner, when forming the pixel portion by the printing method, the transfer accuracy is improved, and the quality of the obtained color filter can be improved.
【0121】本実施態様に用いられる粘弾性層を形成す
る材料は、損失正接tanδが、0.01〜0.2の範
囲内であることが好ましい。損失正接tanδが上記範
囲より小さい場合は、弾性成分が増加するため、粘弾性
層が凹版等から離れた直後の復元力が大きく、印刷パタ
ーンの形状および寸法安定性は良好であるが、粘弾性層
の凹版等への追従性が低下するため、インキとの非接触
部が生じ、インクが正常に付着しない中抜け不良が生じ
やすいことから好ましくない。一方、損失正接tanδ
が上記範囲より大きい場合は、粘性成分が増加するた
め、損失正接tanδが小さい場合とは逆に、粘弾性層
が凹版等から離れた直後の復元力が小さいため中抜け不
良は生じ難いが、印刷パターンの形状および寸法安定性
が低下するため好ましくない。The material for forming the viscoelastic layer used in this embodiment preferably has a loss tangent tan δ in the range of 0.01 to 0.2. When the loss tangent tan δ is smaller than the above range, the elastic component increases, so that the restoring force immediately after the viscoelastic layer separates from the intaglio etc. is large, and the shape and dimensional stability of the printed pattern are good, but the viscoelasticity is good. Since the followability of the layer to the intaglio plate or the like is reduced, a non-contact portion with the ink is generated, which is not preferable because a hollow defect in which the ink does not normally adhere tends to occur. On the other hand, loss tangent tanδ
Is larger than the above range, the viscous component increases, contrary to the case where the loss tangent tan δ is small, in contrast to the case where the viscoelastic layer has a small restoring force immediately after leaving the intaglio etc. It is not preferable because the shape and dimensional stability of the print pattern are reduced.
【0122】また、上記粘弾性層の複素弾性率は、10
6〜107dyne/cm2であることが好ましい。複素
弾性率が上記範囲より小さい場合は、凹版等からのイン
クの受理性が低下し、印刷不良を生じやすくなる。一
方、複素弾性率が上記範囲より大きい場合は、インクの
受理速度が速くなるものの、凹版等へのインクの追従性
が低下し、中抜け不良が生じやすくなる。The complex elastic modulus of the viscoelastic layer is 10
It is preferably 6 to 10 7 dyne / cm 2 . If the complex elastic modulus is smaller than the above range, the acceptability of ink from an intaglio plate or the like is reduced, and printing failure is likely to occur. On the other hand, when the complex elastic modulus is larger than the above range, the ink receiving speed is increased, but the followability of the ink to the intaglio and the like is reduced, and the hollow defect is likely to occur.
【0123】このような粘弾性層を形成する材料は、上
記物性を有する材料であれば特に限定されるものではな
いが、アクリル系共重合体もしくはシリコーン系共重合
体を含む組成物であることが好ましい。The material for forming such a viscoelastic layer is not particularly limited as long as it is a material having the above-mentioned physical properties, but it is a composition containing an acrylic copolymer or a silicone copolymer. Is preferred.
【0124】粘弾性層に用いることが可能なアクリル系
共重合体としては、ステアリル(メタ)アクリレート、
n−ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)ア
クリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを挙げ
ることができる。なお、(メタ)アクリレートは、アク
リレートもしくはメタアクリレートの少なくとも一方を
含むものを意味する。これらのアクリル系共重合体の分
子量は、重量平均分子量で100,000〜800,0
00の範囲内であることが好ましい。Examples of the acrylic copolymer which can be used for the viscoelastic layer include stearyl (meth) acrylate,
Examples thereof include n-butyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. In addition, (meth) acrylate means one containing at least one of acrylate and methacrylate. The molecular weight of these acrylic copolymers is 100,000 to 800,0 in weight average molecular weight.
It is preferably within the range of 00.
【0125】一方、粘弾性層に用いることが可能なシリ
コーン系共重合体としては、ジメチルポリシロキサン
と、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレ
ート、ブチルメタクリレート、2−イソシアネートエチ
ル、あるいはメタクリレートから選択される少なくとも
1種の共重合体、あるいはジメチルポリシロキサン、メ
チルフェニルポリシロキサン、またはメチルフロロポリ
シロキサンを挙げることができる。これらのシリコーン
系共重合体の分子量は、重量平均分子量で100,00
0〜1,000,000の範囲内であることが好まし
い。On the other hand, the silicone copolymer which can be used for the viscoelastic layer is dimethylpolysiloxane and at least one selected from butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, butyl methacrylate, 2-isocyanatoethyl and methacrylate. One type of copolymer, dimethylpolysiloxane, methylphenylpolysiloxane, or methylfluoropolysiloxane can be used. The molecular weight of these silicone copolymers is 100,00 in terms of weight average molecular weight.
It is preferable that it is in the range of 0 to 1,000,000.
【0126】この粘弾性層は、特に印刷方式が凹版を用
いた印刷方式のときに好適である。また本実施態様にお
いては、光触媒含有層と透明基板との間に形成するよう
にしたが、後述する実施態様において、画素部が直接透
明基板上に形成される場合は、透明基板上に粘弾性層が
形成され、この上に各種印刷方式により画素部が形成さ
れるようにしてもよい。This viscoelastic layer is particularly suitable when the printing method is a printing method using an intaglio. Further, in this embodiment, the pixel portion is formed between the photocatalyst containing layer and the transparent substrate. However, in the embodiment described later, when the pixel portion is formed directly on the transparent substrate, the viscoelastic A layer may be formed, and a pixel portion may be formed thereon by various printing methods.
【0127】2.第2実施態様について 本発明の第2実施態様は、透明基板上に画素部が形成さ
れており、この画素部の境界部分に光触媒含有層が設け
られているカラーフィルタであり、光触媒含有層によ
り、画素部が位置決めされて形成されたカラーフィルタ
の他の例である。[0127] 2. Second Embodiment The second embodiment of the present invention is a color filter in which a pixel portion is formed on a transparent substrate, and a photocatalyst containing layer is provided at a boundary portion of the pixel portion. This is another example of a color filter formed by positioning a pixel portion.
【0128】図3は、第2実施態様の一例を示すもので
ある。このカラーフィルタ1は、透明基板2と、この透
明基板2上に設けられた画素部4と、この画素部4の間
に設けられた光触媒含有層3とを有するものであり、必
要に応じて図示略の保護層を画素部4および光触媒含有
層3上に形成してもよい。FIG. 3 shows an example of the second embodiment. The color filter 1 has a transparent substrate 2, a pixel portion 4 provided on the transparent substrate 2, and a photocatalyst containing layer 3 provided between the pixel portions 4, and if necessary. A protection layer (not shown) may be formed on the pixel portion 4 and the photocatalyst containing layer 3.
【0129】この実施態様の特徴は、透明基板2上に形
成された画素部4の境界部分にのみ光触媒含有層3が形
成されており、画素部4が直に透明板2上に形成されて
いる点にある。このように、第2実施態様においては、
画素部4の境界部分にのみ光触媒含有層3が形成されて
いるので、光触媒含有層3に刺激を加えて濡れ性を変化
させる際に、その刺激を全面にわたって加えればよく、
パターン状に刺激を加える必要性がない。したがって、
光触媒含有層形成後の工程を簡略化することができる等
の効果を有するものである。The feature of this embodiment is that the photocatalyst containing layer 3 is formed only at the boundary between the pixel portions 4 formed on the transparent substrate 2, and the pixel portions 4 are formed directly on the transparent plate 2. There is in the point. Thus, in the second embodiment,
Since the photocatalyst containing layer 3 is formed only at the boundary portion of the pixel portion 4, when stimulus is applied to the photocatalyst containing layer 3 to change wettability, the stimulus may be applied over the entire surface.
There is no need to stimulate in a pattern. Therefore,
This has the effect that the steps after the formation of the photocatalyst containing layer can be simplified.
【0130】この実施態様においては、上述したように
透明基板2上に直に画素部4が形成されているので、透
明基板2上は親インク性であることが好ましい。特に光
触媒含有層3をパターン状に形成した後、その間の画素
部形成部に画素部4を形成する場合は、濡れ性が変化す
る前の撥インク性領域である光触媒含有層3に対して透
明基板2上は親インク性領域としておくことが、画素部
4の形成上好ましい。したがって、第2実施態様におい
ては、透明基板2上の濡れ性が、表面張力40mN/m
の液体との接触角として10度未満であることが好まし
く、さらに好ましくは5度以下、特に好ましくは1度以
下であることである。In this embodiment, since the pixel portion 4 is formed directly on the transparent substrate 2 as described above, the transparent substrate 2 is preferably ink-philic. In particular, in the case where the photocatalyst containing layer 3 is formed in a pattern and then the pixel portion 4 is formed in the pixel portion forming portion therebetween, the photocatalyst containing layer 3 which is an ink-repellent region before the wettability changes is transparent. It is preferable that the pixel portion 4 is formed on the substrate 2 as an ink-philic region. Therefore, in the second embodiment, the wettability on the transparent substrate 2 is 40 mN / m in surface tension.
Is preferably less than 10 degrees, more preferably 5 degrees or less, particularly preferably 1 degree or less.
【0131】このように、表面が親インク性領域である
透明基板としては、親インク性の材料で形成したもの、
材料の表面を親インク性となるように表面処理したも
の、透明基板上に親インク性の層を形成したもの等があ
るが、本実施態様においては特に限定されるものではな
い。As described above, the transparent substrate whose surface is the ink-philic region is formed of a material having ink-philicity.
The surface of the material may be surface-treated so as to be ink-philic, or a material in which an ink-philic layer is formed on a transparent substrate. However, the present embodiment is not particularly limited.
【0132】材料の表面を親インク性となるように表面
処理した例としては、アルゴンや水などを利用したプラ
ズマ処理による親インク性表面処理が挙げられ、透明基
板上に設ける親インク性の層としては、例えばテトラエ
トキシシランのゾルゲル法によるシリカ膜等を挙げるこ
とができる。An example of the surface treatment of the material to be ink-philic is an ink-philic surface treatment by plasma treatment using argon, water, or the like. Examples thereof include a silica film formed by a sol-gel method of tetraethoxysilane.
【0133】また、この場合透明基板上に上記粘弾性層
が形成されていてもよく、その場合の粘弾性層表面の濡
れ性は、上記透明基板の濡れ性と同様の濡れ性であるこ
とが好ましい。In this case, the viscoelastic layer may be formed on a transparent substrate. In this case, the wettability of the surface of the viscoelastic layer may be similar to the wettability of the transparent substrate. preferable.
【0134】この実施態様で用いられる透明基板2以外
の材料、すなわち光触媒含有層3、画素部4、および保
護層、さらには粘弾性層等の材料等に関しては、上記第
1実施態様のものと同様であるので、ここでの説明を省
略する。The materials other than the transparent substrate 2 used in this embodiment, that is, the materials such as the photocatalyst containing layer 3, the pixel portion 4, the protective layer, and the viscoelastic layer are the same as those of the first embodiment. The description is omitted here because it is the same.
【0135】B.カラーフィルタの製造法について 次に、本発明のカラーフィルタの製造法について、以下
の実施態様を用いて説明する。 B. Next, a method of manufacturing a color filter will be described with reference to the following embodiments.
【0136】1.第3実施態様について 本発明の第3実施態様は、上記本発明における第1実施
態様であるカラーフィルタを製造するための製造法であ
り、(1)透明基板上にエネルギー照射により照射部分
の濡れ性が液体との接触角が低下する方向に変化する光
触媒含有層を設ける工程と、(2)前記透明基板上に設
けられた光触媒含有層上の画素部を形成する部位である
画素部形成部に、エネルギーをパターン照射して画素部
用露光部を形成する工程と、(3)この画素部用露光部
に凸版、平版、孔版もしくは凹版を用いた印刷方式で着
色し、画素部を形成する工程とを有するものである。[0136] 1. Third Embodiment The third embodiment of the present invention is a manufacturing method for manufacturing the color filter according to the first embodiment of the present invention. (1) Wetting of an irradiated portion on a transparent substrate by energy irradiation Providing a photocatalyst-containing layer whose properties change in a direction in which the contact angle with the liquid decreases; and (2) a pixel-portion-forming portion that is a portion for forming a pixel portion on the photocatalyst-containing layer provided on the transparent substrate. Forming an exposed portion for a pixel portion by pattern irradiation with energy, and (3) forming a pixel portion by coloring the exposed portion for a pixel portion by a printing method using a relief printing plate, a planographic printing plate, a stencil printing plate or an intaglio printing plate. And a process.
【0137】(各工程の説明)図4は、本発明の第3実
施態様を説明するためのものである。この例において
は、図4(A)に示すように、まず、透明基板2上に光
触媒含有層6を形成する。この光触媒含有層6の形成
は、上述したような光触媒とバインダとを必要に応じて
他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布液を調製し、
この塗布液を塗布した後、加水分解、重縮合反応を進行
させてバインダ中に光触媒を強固に固定することにより
形成される。使用する溶剤としては、エタノール、イソ
プロルパノール等のアルコール系の有機溶剤が好まし
く、塗布はスピンコート、スプレーコート、ディップコ
ート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法
により行うことかできる。(Explanation of Each Step) FIG. 4 is for explaining the third embodiment of the present invention. In this example, as shown in FIG. 4A, first, the photocatalyst containing layer 6 is formed on the transparent substrate 2. This photocatalyst containing layer 6 is formed by dispersing a photocatalyst and a binder as described above in a solvent together with other additives as necessary to prepare a coating solution,
After the application of the coating solution, the photocatalyst is firmly fixed in a binder by advancing hydrolysis and polycondensation reactions, thereby forming a coating. The solvent used is preferably an alcoholic organic solvent such as ethanol or isopropyl alcohol, and the coating can be performed by a known coating method such as spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, or bead coating.
【0138】次に、光触媒含有層6上の画素部形成部に
フォトマスク7を用いてエネルギーをパターン照射し、
画素部用露光部8を形成する。この画素部用露光部8
は、光触媒含有層6内の光触媒の作用により液体との接
触角を低くした部位であり、親インク性領域を形成する
ものである(図4(B))。Next, a pattern is irradiated with energy using a photomask 7 to the pixel portion forming portion on the photocatalyst containing layer 6.
The exposure unit 8 for the pixel unit is formed. This exposure unit 8 for the pixel unit
Is a portion of the photocatalyst containing layer 6 where the contact angle with the liquid is reduced by the action of the photocatalyst, and forms an ink-philic region (FIG. 4B).
【0139】このようにして形成された画素部用露光部
8内に、印刷装置、例えば凹版9等を用いて、エネルギ
ー照射により親インク性領域となった画素部用露光部8
内にインク10を付着させ、それぞれ赤、緑、および青
に着色する(図4(C))。この場合、画素部用露光部
8内は上述したようにエネルギーの照射により液体との
接触角の小さい親インク性領域となっているため、凹版
9により付着されたインク10は、画素部用露光部8内
に均一に広がる。また、露光が行われていない光触媒含
有層の領域は、撥インク性領域となっているため、イン
クはこの領域でははじかれて除去されることになる。Using the printing device, for example, an intaglio 9 or the like, the exposure portion 8 for the pixel portion, which has become the ink-philic region by the energy irradiation, is formed in the exposure portion 8 for the pixel portion thus formed.
The ink 10 is adhered to the inside and colored red, green, and blue, respectively (FIG. 4C). In this case, since the inside of the exposure unit 8 for the pixel portion is an ink-philic region having a small contact angle with the liquid due to the irradiation of energy as described above, the ink 10 attached by the intaglio 9 is exposed to the light for the pixel portion. It spreads uniformly in the part 8. In addition, since the region of the photocatalyst-containing layer that has not been exposed is an ink-repellent region, the ink is repelled and removed in this region.
【0140】本発明に用いられる印刷装置としては、特
に限定されるものではなく、版式としては凸版、平版、
孔版、もしくは凹版であっても、また転写法としてはじ
か刷りもしくはオフセットであっても、さらには加圧方
式が平圧、円圧、もしくは輪転であってもよい。The printing apparatus used in the present invention is not particularly limited.
The printing method may be stencil printing or intaglio printing, or the printing method may be direct printing or offset, and the pressing method may be flat pressure, circular pressure, or rotary printing.
【0141】ただし、上記カラーフィルタの項で説明し
たように、用いるインクの粘度がある程度低い方が、本
発明の利点を得るうえで好ましいことから、比較的低い
インクを用いる凹版を用いた印刷方式が好ましい。However, as described in the section of the color filter, it is preferable that the viscosity of the ink used is somewhat low in order to obtain the advantages of the present invention. Therefore, a printing method using an intaglio using a relatively low ink is preferred. Is preferred.
【0142】そして、このように凹版を用いた印刷方式
に用いられるインクの粘度としては、0.1〜10ポイ
ズの範囲内、特に0.1〜5ポイズの範囲内、中でも
0.1〜1ポイズの範囲内であることが好ましい。The viscosity of the ink used in the printing method using the intaglio is in the range of 0.1 to 10 poise, particularly in the range of 0.1 to 5 poise, and especially 0.1 to 1 poise. It is preferably within the range of poise.
【0143】また、このように印刷方式によりインク1
0を付着させる場合においては、前記インク10の幅
が、画素部4の幅、すなわち画素部露光部8の幅より狭
いことが好ましい。このように付着するインクの幅を狭
くすることにより、付着したインクが徐々に画素部用露
光部8内に広がり均一に画素部を形成することが可能で
あり、また幅を狭くすることにより印刷の位置決め精度
に余裕を持たせることができるからである。Further, as described above, the ink 1
When 0 is attached, it is preferable that the width of the ink 10 is smaller than the width of the pixel unit 4, that is, the width of the pixel unit exposure unit 8. By reducing the width of the ink adhered in this way, the adhered ink can be gradually spread in the pixel portion exposure unit 8 to form a uniform pixel portion, and by reducing the width, printing can be performed. This is because it is possible to allow a margin for the positioning accuracy.
【0144】このようにして画素部用露光部8内に付着
したインクを固化させることにより画素部4が形成され
る(図4(D))。本発明において、インクの固化は用
いるインクの種類により種々の方法により行われる。例
えば、水溶性のインクであれば加熱等することにより水
を除去して固化が行われる。Thus, the pixel portion 4 is formed by solidifying the ink adhered in the pixel portion exposure portion 8 (FIG. 4D). In the present invention, the solidification of the ink is performed by various methods depending on the type of the ink used. For example, in the case of a water-soluble ink, the water is removed by heating or the like to be solidified.
【0145】このインクの固化工程を考慮すると、本発
明に用いられるインクの種類としては、インクがUV硬
化性インクであることが好ましい。これは、UV硬化性
インクであればUVを照射することにより、素早くイン
クを固化することができるので、カラーフィルタの製造
時間を短縮することができるからである。In consideration of the ink solidification step, it is preferable that the ink used in the present invention is a UV curable ink. This is because the UV curable ink can quickly solidify the ink by irradiating the UV, so that the manufacturing time of the color filter can be shortened.
【0146】なお、本実施形態においては、上記カラー
フィルタの項で説明した粘弾性層を透明基板上に形成す
る工程をさらに設けてもよい。In this embodiment, a step of forming the viscoelastic layer described in the section of the color filter on the transparent substrate may be further provided.
【0147】上述したように、画素部用露光部8内のイ
ンクは均一に広がっているため、このようなインクを固
化して画素部4を形成した場合、色抜けや色むらのない
カラーフィルタを形成することができる。As described above, since the ink in the pixel portion exposure section 8 spreads uniformly, when the pixel portion 4 is formed by solidifying such ink, a color filter without color loss or color unevenness is obtained. Can be formed.
【0148】(画素部形成方法の他の例について)上述
した例においては、画素部4を一回のエネルギーの照射
と露光部へのインクの付着で形成してもよいが、上記第
3実施態様では、インクの付着に際してエネルギーが照
射された親インク性領域である画素部用露光部間の距離
が短い。したがって、画素部の形成に際してインクが混
ざる等の問題が生じる可能性がある。このような問題を
回避する方法として、以下の図5に示すようなエネルギ
ー照射および画素部の形成を少なくとも2回に分けて行
う方法を挙げることができる。(Another Example of Pixel Part Forming Method) In the above example, the pixel part 4 may be formed by one-time irradiation of energy and attachment of ink to the exposed part. In the aspect, the distance between the exposure units for the pixel units, which are the ink-philic regions irradiated with energy when the ink is applied, is short. Therefore, there is a possibility that a problem such as mixing of ink may occur when forming the pixel portion. As a method of avoiding such a problem, there is a method of performing energy irradiation and pixel formation at least twice as shown in FIG.
【0149】この方法においては、まず、上記第3実施
態様と同様に透明基板2上に光触媒含有層6を形成する
(図5(A))。次いで、同様にフォトマスクを用いて
エネルギーを照射するのであるが、上述した例では全て
の画素部に対応する画素部用露光部を形成するようにフ
ォトマスクが設計されるが、この例においては、画素部
が一つおきに形成されるようにフォトマスク7’が設計
され、このフォトマスク7’を用いて光触媒含有層6に
第1画素部用露光部11を形成する(図5(B))。そ
して、印刷装置、例えば凹版9により、エネルギー照射
により親インク性領域となった第1画素部用露光部11
内にインク10を付着させて着色し、これを硬化させて
第1画素部12とする(図5(C))。このエネルギー
照射および印刷装置を用いた画素部への着色は、フォト
マスク7’の形状を除いて第1の例と同様にして行われ
る。In this method, first, the photocatalyst-containing layer 6 is formed on the transparent substrate 2 as in the third embodiment (FIG. 5A). Next, energy is similarly irradiated using a photomask. In the above-described example, the photomask is designed so as to form the exposure portions for the pixel portions corresponding to all the pixel portions. The photomask 7 'is designed so that every other pixel portion is formed, and the first pixel portion exposure portion 11 is formed in the photocatalyst containing layer 6 using the photomask 7' (FIG. 5B )). Then, the exposure unit 11 for the first pixel unit, which has become the ink-philic region by the energy irradiation by the printing apparatus, for example, the intaglio 9,
The ink 10 is adhered to the inside and colored, and this is cured to form the first pixel portion 12 (FIG. 5C). The energy irradiation and coloring of the pixel portion using the printing apparatus are performed in the same manner as in the first example except for the shape of the photomask 7 '.
【0150】なお、ここで形成された第1画素部12
は、この画素部上に2回目の印刷装置によるインクの着
色を防止するため、画素部自体が撥インク性であること
が好ましく、またその表面をシリコーン化合物や含フッ
素化合物等の撥インク処理剤で処理するようにしてもよ
い。The first pixel portion 12 formed here is
It is preferable that the pixel portion itself be ink-repellent in order to prevent the second coloration of ink on the pixel portion by the printing device, and that the surface of the pixel portion be treated with an ink-repellent agent such as a silicone compound or a fluorine-containing compound. May be processed.
【0151】この第1画素部12が形成された透明基板
2を図6(A)に示す。例えば、赤(R)、緑(G)、
および青(B)の3色の画素部を形成する場合、図6
(A)に示すように、左から1番目の赤の画素部(R
1)が形成され、次に1番目の緑の画素部(G1)をと
ばして1番目の青の画素部(B1)が形成され、次に2
番目の赤の画素部(R2)をとばして2番目の緑の画素
部(G2)が形成されている。このように一つおきにま
ず第1画素部12が形成される。この際用いるフォトマ
スク7の例を図7(A−1)もしくは(B−1)に示
す。FIG. 6A shows the transparent substrate 2 on which the first pixel portion 12 is formed. For example, red (R), green (G),
In the case of forming pixel portions of three colors of blue and blue (B), FIG.
As shown in (A), the first red pixel portion (R
1) is formed, and then the first green pixel portion (G1) is skipped to form the first blue pixel portion (B1).
The second green pixel portion (G2) is formed by skipping the second red pixel portion (R2). As described above, the first pixel units 12 are formed every other first. An example of the photomask 7 used at this time is shown in FIG. 7 (A-1) or (B-1).
【0152】次いで、この第1画素部12が形成された
光触媒含有層6上に、全面にわたってエネルギーを再度
照射する。なお、このようにエネルギーを全面にわたっ
て照射してもよいし、再度フォトマスクを用いてエネル
ギーをパターン照射してもよい。このような2回目のエ
ネルギーのパターン照射のためのフォトマスクは、上記
第1画素部12の間に第2画素部用露光部13を形成す
るように設計されており、例えば図7(A−2)もしく
は(B−2)に示すようなフォトマスクが用いられる。Next, the entire surface of the photocatalyst containing layer 6 on which the first pixel portion 12 is formed is irradiated with energy again. Note that the energy may be irradiated over the entire surface as described above, or the energy may be pattern-irradiated again using a photomask. Such a photomask for the second irradiation of the energy pattern is designed so as to form the second pixel portion exposure portion 13 between the first pixel portions 12, for example, as shown in FIG. 2) or a photomask as shown in (B-2) is used.
【0153】このように全面にわたってエネルギー照射
をすることにより第1画素部用露光部11以外の部分も
エネルギー照射され、親インク性領域となる(図5
(D))。By irradiating the energy over the entire surface in this manner, energy is irradiated also on portions other than the first pixel portion exposure portion 11 to become ink-philic regions (FIG. 5).
(D)).
【0154】そして、凹版9等の印刷装置により、この
親インク性領域にインク10を付着させて着色し、これ
を硬化させて第2画素部14とする。この第2画素部1
4は、図面では第1画素部と距離をおいて形成されてい
るように描かれているが、実際には第1画素部12の間
を埋めるように形成される。この露光および印刷装置を
用いた画素部への着色も、上述した例と同様にして行わ
れる。Then, the ink 10 is adhered to the ink-philic region by a printing device such as an intaglio 9 and colored, and the ink 10 is cured to form the second pixel portion 14. This second pixel section 1
Although 4 is illustrated as being formed at a distance from the first pixel unit in the drawing, it is formed so as to actually fill the space between the first pixel units 12. The exposure and coloring of the pixel portion using the printing apparatus are performed in the same manner as in the above-described example.
【0155】このようにして第2画素部も形成された状
態を図6(B)に示す。第1画素部12の間を埋めるよ
うに第2画素部14を形成することにより、左から赤
(R)、緑(G)、青(B)順に並んだ3色の画素部が
形成される。FIG. 6B shows a state in which the second pixel portion is also formed as described above. By forming the second pixel portion 14 so as to fill the space between the first pixel portions 12, three color pixel portions arranged in the order of red (R), green (G), and blue (B) from the left are formed. .
【0156】そして、最後にこの画素部上に保護層を形
成することによりカラーフィルタが形成される。このよ
うに画素部の形成を2回に分けて行うのは、以下の理由
により好ましいといえる。[0156] Finally, a color filter is formed by forming a protective layer on the pixel portion. It can be said that it is preferable to form the pixel portion twice in this manner for the following reasons.
【0157】上述した例のように、透明基板上に遮光部
が形成されていない状態で画素部を形成する場合は、遮
光部を仕切として用いることができない。したがって、
エネルギー照射により親インク性領域とした画素部用露
光部を各種印刷方式で着色して画素部を形成する場合、
この画素部用露光部間の間隔が狭い場合、すなわちエネ
ルギー照射されていない撥インク性領域の幅が狭い場合
は、画素部形成に際してこの撥インク性領域を越えて隣
り合う画素部のインクが混合する可能性が生じる。した
がって、画素部形成に際して、画素部同士がなるべく離
れた状態で形成することが望ましい。上述した画素部の
形成方法においては、第1画素部12を形成する際に、
画素部を一つおきに形成するようにエネルギーのパター
ン照射を行っているため、一回目に形成する隣り合う画
素部同士を離れた状態とすることができる。このよう
に、間に比較的広い撥インク性領域を有する状態で第1
画素部用露光部11を形成することが可能であるので、
凹版9等印刷装置9で着色する際に、隣り合う画素部の
インク10が混じり合うという不都合が生じる可能性が
なくなる。次いで、第1画素部12間に再度エネルギー
を全面照射もしくはパターン照射して、その間を親イン
ク性領域とし、ここに凹版9等の印刷装置9により着色
することにより、インク10が混じりあうことがなく、
色むら等の不具合の無いカラーフィルタを形成すること
ができるのである。In the case where the pixel portion is formed in a state where the light-shielding portion is not formed on the transparent substrate as in the above-described example, the light-shielding portion cannot be used as a partition. Therefore,
In the case where the pixel portion is formed by coloring the exposed portion for the pixel portion, which is an ink-philic region by energy irradiation, by various printing methods,
When the distance between the exposure portions for the pixel portion is small, that is, when the width of the ink-repellent region that is not irradiated with the energy is narrow, the ink of the pixel portion adjacent to and beyond the ink-repellent region is mixed when forming the pixel portion. The possibility arises. Therefore, when forming the pixel portion, it is desirable to form the pixel portion as far as possible from each other. In the above-described method for forming the pixel portion, when the first pixel portion 12 is formed,
Since energy pattern irradiation is performed so that every other pixel portion is formed, adjacent pixel portions formed for the first time can be separated from each other. In this manner, the first region having a relatively large ink-repellent region between the first region is formed.
Since it is possible to form the exposure portion 11 for the pixel portion,
When coloring is performed by the printing device 9 such as the intaglio 9, there is no possibility that the inconvenience of mixing the inks 10 of the adjacent pixel portions occurs. Next, the entire surface or the pattern is irradiated again with energy between the first pixel portions 12, and a portion between the first pixel portions 12 is made ink-philic, and the ink is mixed with the printing device 9 such as the intaglio 9. Not
Thus, a color filter free from defects such as color unevenness can be formed.
【0158】さらに、この方法によれば、各画素部間の
距離を少なくするもしくは無くすことも可能であるの
で、平滑性に優れた着色層(画素部の集合体)を形成す
ることができる。なお、画素部を連続して設ける必要が
ある場合は、このような方法を用いる必要がある。Further, according to this method, the distance between the pixel portions can be reduced or eliminated, so that a colored layer (an aggregate of pixel portions) having excellent smoothness can be formed. Note that when a pixel portion needs to be provided continuously, it is necessary to use such a method.
【0159】上記画素部の形成方法において、2回目の
エネルギー照射をパターン照射とする場合に用いられる
フォトマスクは、図7(B−2)に示すように、第1画
素部が形成された領域全体を露光して第1画素部12間
の全ての撥インク性領域を親インク性領域とするもので
あってもよいし、図7(A−2)に示すような、第1画
素部の所定の部位を露光して第2画素部とするものであ
ってもよい。In the above-described method for forming a pixel portion, a photomask used when the second energy irradiation is pattern irradiation is, as shown in FIG. 7B-2, a region where the first pixel portion is formed. The whole may be exposed so that all the ink-repellent areas between the first pixel sections 12 are made ink-philic areas. Alternatively, as shown in FIG. A predetermined portion may be exposed to be a second pixel portion.
【0160】2回目のエネルギー照射に際して、全面に
照射するか、図7(B−2)に示すようなフォトマスク
を用いて照射した場合、得られる画素部は、図6(B)
に示すように、各画素部間に空隙が無く連続して形成さ
れたものとなる。また図7(A−2)に示すようなフォ
トマスクを用いた場合は、画素部間に撥インク性領域を
残すことも可能であるので、図5(E)に示すような画
素部間に空隙があるカラーフィルタを形成することがで
きる。本発明においては、いずれの方法であってもよ
く、また得られるカラーフィルタはいずれのタイプであ
ってもよい。In the second energy irradiation, when irradiation is performed on the entire surface or by using a photomask as shown in FIG. 7B-2, a pixel portion obtained is as shown in FIG.
As shown in (1), there is no gap between the pixel portions, and they are formed continuously. In the case where a photomask as shown in FIG. 7A-2 is used, an ink-repellent region can be left between pixel portions. A color filter having voids can be formed. In the present invention, any method may be used, and the obtained color filter may be any type.
【0161】なお、上述した方法では、一回目で形成す
る画素部6は一つおきとしたが、本発明はこれに限定さ
れるものではなく、最初に形成される画素部が隣接しな
いようにするのであれば、例えば千鳥状等、カラーフィ
ルタの画素部の形状によって変更してもよい。また、上
述した説明では、2回に分けて画素部を形成するように
したが、必要であれば、3回もしくはそれ以上の回数で
画素部を形成するようにしてもよい。In the above-described method, every other one of the pixel portions 6 is formed in the first time. However, the present invention is not limited to this. If so, it may be changed depending on the shape of the pixel portion of the color filter, such as a staggered shape. In the above description, the pixel portion is formed twice. However, if necessary, the pixel portion may be formed three or more times.
【0162】(撥インク性凸部の形成方法について)本
発明においては、画素部を形成する前に、撥インク性凸
部を形成してもよい。これは、例えばこの撥インク性凸
部を画素部が形成される画素部領域の周囲に形成した場
合は、カラーフィルタの周囲部分でインクが流れ出てし
まい正確に画素部を形成することができないといった不
具合を防止することが可能となるからである。(Regarding the method of forming the ink-repellent convex portions) In the present invention, the ink-repellent convex portions may be formed before forming the pixel portion. This is because, for example, when this ink-repellent convex portion is formed around the pixel portion region where the pixel portion is formed, the ink flows out around the color filter and the pixel portion cannot be formed accurately. This is because a failure can be prevented.
【0163】このような撥インク性凸部は、上記画素部
用露光部を形成する前に、撥インク性凸部を形成するた
めの凸部用露光部を形成し、この凸部用露光部に樹脂組
成物を用いて撥インク性凸部を形成することにより形成
される。このような凸部用露光部を形成するためのフォ
トマスクとしては、例えば図7(C−1)や(D−1)
に示すようなものを挙げることができる。これらのフォ
トマスクを用いて、光触媒含有層上を露光することによ
り、まず凸部用露光部を形成する。この凸部用露光部
は、上述した図7(C−1)のフォトマスクを用いた場
合は、画素部が形成される領域の上端辺と下端辺部分に
凸部用露光部が形成され、(D−1)に示されるフォト
マスクを用いた場合は画素部が形成される領域を囲うよ
うに凸部用露光部が形成される。次いで、この凸部用露
光部に、樹脂組成物を付着させ硬化させることにより、
撥インク性凸部を形成することができる。Such an ink-repellent convex portion is formed by forming a convex-portion exposed portion for forming an ink-repellent convex portion before forming the above-described pixel portion exposed portion. Is formed by forming an ink-repellent convex portion using a resin composition. As a photomask for forming such an exposed portion for a convex portion, for example, FIG. 7 (C-1) or (D-1)
The following can be mentioned. By exposing the photocatalyst-containing layer using these photomasks, first, an exposed portion for a convex portion is formed. In the case where the above-described photomask of FIG. 7 (C-1) is used, the exposing portion for a convex portion is formed with an exposing portion for a convex portion at an upper end side and a lower end side of a region where a pixel portion is formed. In the case where the photomask shown in (D-1) is used, a projection exposure portion is formed so as to surround a region where a pixel portion is formed. Next, by adhering and curing the resin composition on the exposed portion for the convex portion,
Ink-repellent convex portions can be formed.
【0164】このような撥インク性凸部を形成した後、
上述した画素部の形成方法(例えば図7(C−2)もし
くは(D−2))に示すフォトマスクを用いて第1画素
部を形成し、次いで(A−2)もしくは(B−2)に示
すフォトマスクにより、もしくは全面へのエネルギー照
射により第2画素部を形成する。)により、画素部を形
成し、カラーフィルタを形成する。After forming such ink-repellent convex portions,
A first pixel portion is formed using a photomask shown in the above-described method for forming a pixel portion (eg, FIG. 7C-2 or FIG. 7D-2), and then (A-2) or (B-2) The second pixel portion is formed by the photomask shown in FIG. ), A pixel portion is formed and a color filter is formed.
【0165】本発明において、上記撥インク性凸部が設
けられる領域は、上述した画素部領域上下端辺部や画素
部領域周囲に形成されてもよいが、上記撥インク性凸部
を、上記画素部の間に形成するようにしてもよい。In the present invention, the area in which the ink-repellent convex portions are provided may be formed on the upper and lower sides of the pixel portion region or around the pixel portion region. It may be formed between pixel portions.
【0166】このような撥インク性凸部を形成する工程
について、図8を用いて説明する。上述した図4に示す
第3実施態様と同様にして、透明基板2を覆うように光
触媒含有層6が形成された部材を調製し(図8
(A))、撥インク性凸部用マスク15を介してエネル
ギーを照射する。このように、撥インク性凸部用マスク
を介してエネルギーをパターン照射することにより、画
素部の境界部分上の光触媒含有層6に撥インク性凸部用
露光部16が形成される(図8(B))。A process for forming such an ink-repellent convex portion will be described with reference to FIG. A member having the photocatalyst containing layer 6 formed so as to cover the transparent substrate 2 is prepared in the same manner as in the third embodiment shown in FIG.
(A)), energy is irradiated through the ink-repellent convex portion mask 15. In this manner, by irradiating the pattern with the energy through the mask for the ink-repellent convex portion, the exposed portion 16 for the ink-repellent convex portion is formed on the photocatalyst containing layer 6 on the boundary portion of the pixel portion. (B)).
【0167】この撥インク性凸部用露光部16に、例え
ば凹版9等の印刷装置によりUV硬化性樹脂モノマー等
の撥インク性凸部用インク17を付着させる(図8
(C))。なお、この撥インク性凸部用インクの塗布方
法は、印刷装置による方法に限られるものでなく、例え
ばインクジェット装置を用いる方法やディップコート等
他の方法を用いることもできる。The ink-repellent convex portion ink 17 such as a UV-curable resin monomer is adhered to the ink-repellent convex portion exposure section 16 by a printing device such as an intaglio plate 9 (FIG. 8).
(C)). The method of applying the ink for the ink-repellent convex portions is not limited to a method using a printing apparatus, and for example, a method using an ink-jet device or another method such as dip coating can also be used.
【0168】そして、UV照射等により撥インク性凸部
用インク17を硬化させることにより、光触媒含有層6
表面に撥インク性凸部5が形成される(図8(C))。Then, the ink repellent convex ink 17 is cured by UV irradiation or the like, whereby the photocatalyst containing layer 6 is cured.
The ink-repellent convex portions 5 are formed on the surface (FIG. 8C).
【0169】このようにして光触媒含有層6上に撥イン
ク性凸部5が形成された部材に、光触媒含有層6側から
エネルギーを全面に照射、もしくはパターン照射するこ
とにより、撥インク性凸部5が形成された部位以外の全
ての部分、もしくは画素部形成部のみが露光されて、画
素部用露光部となり(図8(D))、その後は上述した
方法と同様にして、この部分に凹版9等の印刷装置を用
いてインク10を付着させ、硬化させることにより画素
部4が形成され、撥インク性凸部5が設けられたカラー
フィルタ1を製造することができる(図8(E))。By irradiating the entire surface or the pattern with energy from the photocatalyst containing layer 6 side to the member having the ink repellent protrusions 5 formed on the photocatalyst containing layer 6 in this manner, the ink repellent protrusions are formed. All the portions other than the portion where 5 is formed, or only the pixel portion forming portion is exposed to become a pixel portion exposing portion (FIG. 8D), and thereafter, in the same manner as described above, this portion is exposed. The pixel portion 4 is formed by depositing and curing the ink 10 using a printing device such as an intaglio 9 or the like, and the color filter 1 provided with the ink-repellent convex portion 5 can be manufactured (FIG. 8E )).
【0170】この方法では、画素部形成部間の光触媒含
有層にエネルギーをパターン照射して撥インク性凸部用
露光を設けるので、任意の幅で撥インク性凸部を形成す
ることができる。よって、撥インク性凸部用マスク15
の幅を調整することにより、画素部間の幅を調整するこ
とが可能である。According to this method, since the photocatalyst-containing layer between the pixel portions is irradiated with energy in a pattern to provide the exposure for the ink-repellent convex portions, the ink-repellent convex portions can be formed with an arbitrary width. Therefore, the mask 15 for the ink-repellent convex portions is used.
Can be adjusted to adjust the width between the pixel portions.
【0171】なお、本実施態様では、撥インク性凸部を
光触媒含有層の濡れ性の変化により形成しているが、本
発明においてはこれに限定されるものではなく、例えば
フォトリソ法等により撥インク性凸部を設けたものであ
ってもよい。In this embodiment, the ink-repellent convex portions are formed by changing the wettability of the photocatalyst-containing layer. However, the present invention is not limited to this. For example, the ink-repellent convex portions are formed by photolithography or the like. It may be provided with an ink convex portion.
【0172】(照射するエネルギーについて)本発明に
おいては、光触媒含有層に照射するエネルギーとして
は、紫外光を含む光を用いることができる。このような
紫外光を含む光源としては、例えば、水銀ランプ、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ等を挙げることがで
きる。この露光に用いる光の波長は400nm以下の範
囲、好ましくは380nm以下の範囲から設定すること
ができ、また、露光に際しての光の照射量は、露光され
た部位が光触媒の作用により親インク性を発現するのに
必要な照射量とすることができる。(Irradiation Energy) In the present invention, as the energy for irradiating the photocatalyst-containing layer, light including ultraviolet light can be used. As a light source including such ultraviolet light, for example, a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, and the like can be given. The wavelength of light used for this exposure can be set within a range of 400 nm or less, preferably 380 nm or less, and the irradiation amount of light at the time of exposure is such that the exposed portion becomes less ink-friendly due to the action of a photocatalyst. The irradiation dose required for expression can be set.
【0173】エネルギーの照射際してパターン照射が必
要な場合は、上述したような光源を用い、フォトマスク
を介したパターン照射により行うことができるが、他の
方法として、エキシマ、YAG等のレーザーを用いてパ
ターン状に描画照射する方法を用いることも可能であ
る。しかしながら、このような方法は、装置が高価、取
り扱いが困難、さらには連続出力ができない等の問題を
有する場合がある。When pattern irradiation is required when irradiating energy, it can be performed by pattern irradiation through a photomask using the above-described light source. Alternatively, a laser such as excimer or YAG may be used. It is also possible to use a method of drawing and irradiating in a pattern by using. However, such a method may have a problem that the apparatus is expensive, difficult to handle, and that continuous output cannot be performed.
【0174】したがって、本発明においては、光触媒含
有層に対し、光触媒反応開始エネルギーを加え、この光
触媒反応開始エネルギーが加えられた領域内に反応速度
増加エネルギーをパターン状に加えることにより親イン
ク性領域のパターンを形成するようにしてもよい。この
ようなエネルギーの照射方法を用いてパターンを形成す
ることにより、パターン形成に際して、赤外線レーザ等
の比較的安価で取り扱いが容易である反応速度増加エネ
ルギーを用いることができ、これにより上述したような
問題が生じないからである。Therefore, in the present invention, the photocatalytic reaction initiation energy is applied to the photocatalyst-containing layer, and the reaction speed increasing energy is applied in a pattern to the region where the photocatalytic reaction initiation energy is applied, thereby forming an ink-philic region. May be formed. By forming a pattern using such an energy irradiation method, it is possible to use a relatively inexpensive and easy-to-handle reaction speed increasing energy such as an infrared laser when forming a pattern, and thereby, as described above. This is because no problem occurs.
【0175】このようなエネルギーを加えることにより
濡れ性の変化した親インク性領域のパターンが形成でき
るのは、以下の理由による。すなわち、まずパターンを
形成する領域に対して光触媒反応開始エネルギーを加え
ることにより、光触媒含有層に対する光触媒の触媒反応
を開始させる。そして、この光触媒反応開始エネルギー
が加えられた領域内に、反応速度増加エネルギーを加え
る。このように反応速度増加エネルギーを加えることに
より、既に光触媒反応開始エネルギーが加えられ、光触
媒の触媒作用により反応が開始されている光触媒含有層
内の反応が、急激に促進される。そして所定の時間、反
応速度増加エネルギーを加えることにより、特性変化層
内の特性の変化を所望の範囲まで変化させ、反応速度増
加エネルギーが加えられたパターンを濡れ性の変化した
親インク性領域のパターンとすることができるのであ
る。The reason why the pattern of the ink-affinity region having changed wettability can be formed by applying such energy is as follows. That is, first, the photocatalytic reaction of the photocatalyst with the photocatalyst containing layer is started by applying the photocatalytic reaction start energy to the region where the pattern is formed. Then, the reaction rate increasing energy is added to the region where the photocatalytic reaction start energy is added. By adding the reaction rate increasing energy in this manner, the photocatalytic reaction start energy is already added, and the reaction in the photocatalyst-containing layer in which the reaction is started by the catalytic action of the photocatalyst is rapidly promoted. Then, by applying the reaction rate increasing energy for a predetermined time, the change in the property in the property changing layer is changed to a desired range, and the pattern to which the reaction rate increasing energy is added is changed to the wettability-changed ink-philic area. It can be a pattern.
【0176】a.光触媒反応開始エネルギーについて このエネルギー照射方法に用いられる光触媒反応開始エ
ネルギーとは、光触媒が光触媒含有層中の化合物に対し
て、その特性を変化させるための触媒反応を開始させる
エネルギーをいう。A. Regarding photocatalytic reaction initiation energy The photocatalytic reaction initiation energy used in this energy irradiation method refers to the energy at which a photocatalyst initiates a catalytic reaction for changing the characteristics of a compound in a photocatalyst-containing layer.
【0177】ここで加える光触媒反応開始エネルギーの
量は、光触媒含有層中の濡れ性の変化を急激に生じない
程度の量である。加えられる光触媒反応開始エネルギー
の量が少ない場合は、反応速度増加エネルギーを加えて
パターンを形成する際の感度が低下するため好ましくな
く、またこの量が多すぎると、光触媒反応開始エネルギ
ーを加えた光触媒含有層の特性の変化の度合いが大きく
なりすぎて、反応速度増加エネルギーを加えた領域との
差異が不明確となってしまうため好ましくない。この加
えるエネルギーの量に関しては、予めエネルギーを加え
る量と光触媒含有層中の濡れ性の変化量との予備実験等
を行うことにより決定される。[0177] The amount of the photocatalytic reaction initiation energy added here is an amount that does not cause a sudden change in wettability in the photocatalyst-containing layer. If the amount of photocatalytic reaction initiation energy added is small, it is not preferable because the sensitivity in forming a pattern by adding the reaction rate increasing energy is unfavorable. The degree of change in the properties of the containing layer becomes too large, and the difference from the region to which the reaction rate increasing energy is added becomes unclear, which is not preferable. The amount of energy to be added is determined by performing preliminary experiments and the like on the amount of energy to be added and the amount of change in wettability in the photocatalyst-containing layer in advance.
【0178】この方法における光触媒反応開始エネルギ
ーとしては、光触媒反応を開始させることができるエネ
ルギーであれば特に限定されるものではないが、中でも
光であることが好ましい。The photocatalytic reaction initiation energy in this method is not particularly limited as long as it is an energy capable of initiating the photocatalytic reaction, but light is particularly preferred.
【0179】本発明において用いられる光触媒は、その
バンドギャップによって触媒反応を開始する光の波長が
異なる。例えば、硫化カドニウムであれば496nm、
また酸化鉄であれば539nmの可視光であり、二酸化
チタンであれば388nmの紫外光である。したがっ
て、光であれば可視光であれ紫外光であれ本発明で用い
ることができる。しかしながら、上述したようにバンド
ギャップエネルギーが高いため光触媒として有効であ
り、かつ化学的にも安定で毒性もなく、入手も容易とい
った理由から光触媒としては二酸化チタンが好適に用い
られる関係上、この二酸化チタンの触媒反応を開始させ
る紫外光を含む光であることが好ましい。具体的には、
400nm以下の範囲、好ましくは380nm以下の範
囲の紫外光が含まれることが好ましい。In the photocatalyst used in the present invention, the wavelength of light for initiating a catalytic reaction differs depending on the band gap. For example, if cadmium sulfide is 496 nm,
In the case of iron oxide, visible light of 539 nm is used, and in the case of titanium dioxide, ultraviolet light of 388 nm is used. Therefore, any light, whether visible light or ultraviolet light, can be used in the present invention. However, as described above, since the bandgap energy is high, it is effective as a photocatalyst, and titanium dioxide is preferably used as a photocatalyst because it is chemically stable, has no toxicity, and is easily available. It is preferable that the light includes ultraviolet light that initiates a catalytic reaction of titanium. In particular,
It is preferable that ultraviolet light in a range of 400 nm or less, preferably 380 nm or less is included.
【0180】このような紫外光を含む光の光源として
は、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンラン
プ、エキシマランプ等の種々の紫外線光源を挙げること
ができる。Examples of the light source of light containing such ultraviolet light include various ultraviolet light sources such as a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, and an excimer lamp.
【0181】本発明においては、この光触媒反応開始エ
ネルギーが加えられる範囲は、光触媒含有層の一部分で
あってもよく、例えばこの光触媒反応開始エネルギーを
パターン状に加え、さらに後述する反応速度増加エネル
ギーもパターン状に加えることにより、濡れ性が変化し
た親インク性領域のパターンを形成することも可能であ
るが、工程の簡略化、単純化等の理由から、この光触媒
反応開始エネルギーをパターンを形成する領域全面にわ
たって加えることが好ましく、このように全面にわたっ
て光触媒反応開始エネルギーが加えられた領域に反応速
度増加エネルギーをパターン状に加えることにより、光
触媒含有層上に親インク性領域のパターンを形成するよ
うにすることが好ましい。In the present invention, the range in which the photocatalytic reaction initiation energy is applied may be a part of the photocatalyst containing layer. For example, the photocatalytic reaction initiation energy is applied in a pattern, and the reaction rate increasing energy described later is also increased. It is also possible to form a pattern of an ink-philic region in which wettability has been changed by adding it in a pattern. However, for reasons such as simplification and simplification of the process, this photocatalytic reaction initiation energy is used to form a pattern. It is preferable to apply the reaction speed increasing energy in a pattern to the region where the photocatalytic reaction initiation energy is applied over the entire surface in such a manner as to form a pattern of the ink-philic region on the photocatalyst containing layer. Is preferable.
【0182】b.反応速度増加エネルギーについて 次に、この方法に用いられる反応速度増加エネルギーに
ついて説明する。この方法に用いられる反応速度増加エ
ネルギーとは、上記光触媒反応開始エネルギーによって
開始された光触媒含有層の濡れ性を変化させる反応の反
応速度を増加させるためのエネルギーをいう。本発明に
おいては、このような作用を有するエネルギーであれば
いかなるエネルギーであっても用いることができるが、
中でも熱エネルギーを用いることが好ましい。B. Next, the reaction rate increasing energy used in this method will be described. The reaction rate increasing energy used in this method refers to energy for increasing the reaction rate of a reaction that changes the wettability of the photocatalyst-containing layer initiated by the photocatalytic reaction initiation energy. In the present invention, any energy can be used as long as it has such an effect,
Among them, it is preferable to use heat energy.
【0183】このような熱エネルギーをパターン状に光
触媒含有層に加える方法としては、光触媒含有層上に熱
によるパターンが形成できる方法であれば特に限定され
るものではないが、赤外線レーザによる方法や感熱ヘッ
ドによる方法等を挙げることができる。このような赤外
線レーザとしては、例えば指向性が強く、照射距離が長
いという利点を有する赤外線YAGレーザ(1064n
m)や、比較的安価であるという利点を有するダイオー
ドレーザ(LED;830nm、1064nm、110
0nm)等の他、半導体レーザ、He−Neレーザ、炭
酸ガスレーザ等を挙げることができる。The method for applying such thermal energy to the photocatalyst-containing layer in a pattern is not particularly limited as long as it can form a pattern by heat on the photocatalyst-containing layer. A method using a heat-sensitive head can be used. As such an infrared laser, for example, an infrared YAG laser (1064n) having an advantage of having high directivity and a long irradiation distance is used.
m) and a diode laser (LED; 830 nm, 1064 nm, 110) having an advantage of being relatively inexpensive.
0 nm), a semiconductor laser, a He-Ne laser, a carbon dioxide laser, and the like.
【0184】この方法においては、上述した光触媒反応
開始エネルギーを加えることにより、光触媒を活性化さ
せて光触媒含有層内の触媒反応による濡れ性の変化を開
始させ、この濡れ性の変化が生じた部分に反応速度増加
エネルギーを加えてその部分の触媒反応を促進させるこ
とにより、反応速度増加エネルギーが加えられた領域
と、加えられなかった領域との反応速度の差により、親
インク性領域のパターンを形成することができる。In this method, by applying the above-described photocatalytic reaction initiation energy, the photocatalyst is activated to start a change in wettability due to a catalytic reaction in the photocatalyst-containing layer, and a portion where the change in wettability occurs is generated. The reaction rate increase energy is added to the reaction area to promote the catalytic reaction, and the difference in the reaction rate between the region where the reaction speed increase energy is added and the region where the reaction speed increase energy is not added is used to change the pattern of the ink-philic region. Can be formed.
【0185】2.第4実施態様について 本発明の第4実施態様は、上記本発明における第2実施
態様であるカラーフィルタを製造するための製造法であ
り、(1)透明基板上にエネルギー照射により照射部分
の濡れ性が液体との接触角が低下する方向に変化する光
触媒含有層を、画素部が形成される部位である画素部形
成部の境界部分に設ける工程と、(2)前記透明基板上
の画素部形成部に凸版、平版、孔版または凹版を用いた
印刷方式により画素部を形成する工程とを含むことを特
徴とするカラーフィルタの製造法。を有するものであ
る。[0185] 2. Fourth Embodiment The fourth embodiment of the present invention is a manufacturing method for manufacturing the color filter according to the second embodiment of the present invention. (1) Wetting of an irradiated portion on a transparent substrate by energy irradiation Providing a photocatalyst-containing layer whose property changes in a direction in which the contact angle with the liquid decreases in a boundary portion of a pixel portion forming portion where a pixel portion is formed; and (2) a pixel portion on the transparent substrate Forming a pixel portion by a printing method using a relief printing plate, planographic printing plate, stencil printing plate, or intaglio printing plate in the formation portion. It has.
【0186】この方法について、図9を用いて説明す
る。まず、透明基板2上の画素部が形成される画素部形
成部の境界部分のみに光触媒含有層6がパターン状に形
成される(図9(A))。このように光触媒含有層をパ
ターン状に形成する方法としては、例えば感光性のゾル
ゲル溶液を用いて、フォトリソ法により形成する方法
や、印刷による方法等を挙げることができる。This method will be described with reference to FIG. First, the photocatalyst containing layer 6 is formed in a pattern only on the boundary portion of the pixel portion forming portion where the pixel portion is formed on the transparent substrate 2 (FIG. 9A). As a method of forming the photocatalyst-containing layer in a pattern as described above, for example, a method of forming a photolithographic method using a photosensitive sol-gel solution, a method of printing, and the like can be given.
【0187】このようにして形成した光触媒含有層6が
形成された透明基板2の、光触媒含有層6が形成されて
いない部分(画素部形成部)に、凹版9等の印刷装置を
用いてインク10を付着させる(図9(B))。この
際、透明基板2の表面の濡れ性は、光触媒含有層6表面
の濡れ性に比較して、親インク性とされている。したが
って、画素部6を形成する際に、撥インク性を示す光触
媒含有層上にインク10は付着せずに、透明基板2上の
画素部形成部にのみ付着して画素部が形成される。そし
て、付着させたインクを硬化させることにより、画素部
4が光触媒含有層6間に形成される(図9(C))。In the transparent substrate 2 on which the photocatalyst containing layer 6 formed as described above is formed, on the portion where the photocatalyst containing layer 6 is not formed (pixel portion forming portion), the ink is applied by using a printing device such as an intaglio 9 or the like. 10 (FIG. 9B). At this time, the wettability of the surface of the transparent substrate 2 is considered to be ink-philic compared to the wettability of the surface of the photocatalyst containing layer 6. Therefore, when forming the pixel portion 6, the pixel portion is formed by adhering only to the pixel portion forming portion on the transparent substrate 2 without adhering the ink 10 on the photocatalyst containing layer exhibiting ink repellency. Then, the pixel portion 4 is formed between the photocatalyst containing layers 6 by curing the attached ink (FIG. 9C).
【0188】このように、画素部4が形成された後、画
素部4が形成された側にエネルギーを照射することによ
り(図9(D))、光触媒含有層6が親インク性となる
ことから、必要に応じて設けられる図示略の保護層の形
成が容易となる。As described above, after the pixel section 4 is formed, the side on which the pixel section 4 is formed is irradiated with energy (FIG. 9D), whereby the photocatalyst containing layer 6 becomes ink-philic. This facilitates formation of a protective layer (not shown) provided as needed.
【0189】本実施態様においては、インク10が直接
透明基板2上に付着するので、上述したように透明基板
2上は親インク性領域であることが好ましく、具体的に
は、表面張力40mN/mの液体との接触角として10
度未満であることが好ましく、さらに好ましくは、表面
張力40mN/mの液体との接触角として5度以下、特
に好ましくは1度以下であることである。このように、
透明基板2上を親インク性領域とすることにより、イン
ク14が透明基板上に均一に行き渡り、色むら等の不具
合が生じないからである。In the present embodiment, since the ink 10 adheres directly to the transparent substrate 2, it is preferable that the transparent substrate 2 is an ink-philic region as described above. Specifically, the surface tension is 40 mN / m as the contact angle with the liquid
The contact angle with a liquid having a surface tension of 40 mN / m is preferably 5 degrees or less, more preferably 1 degree or less. in this way,
This is because, by making the transparent substrate 2 an ink-philic region, the ink 14 is uniformly distributed on the transparent substrate, and problems such as color unevenness do not occur.
【0190】なお、この場合も透明基板2上に上述した
粘弾性層を形成し、この粘弾性層上に印刷方式により画
素部を形成するようにしてもよい。In this case, the viscoelastic layer described above may be formed on the transparent substrate 2 and the pixel portion may be formed on the viscoelastic layer by a printing method.
【0191】この実施態様において、照射されるエネル
ギーや、印刷装置、各種インクに関しては、先に説明し
た第3実施態様と同様であるので、ここでは説明を省略
する。In this embodiment, the irradiation energy, the printing device, and the various inks are the same as those in the third embodiment described above, and the description thereof will be omitted.
【0192】C.カラー液晶パネルについて このようにして得られたカラーフィルタと、このカラー
フィルタに対向し、かつブラックマトリックス(遮光
部)を有する対向基板とを組み合わせ、この間に液晶化
合物を封入することによりカラー液晶パネルが形成され
る。このようにして得られるカラー液晶パネルは、本発
明のカラーフィルタが有する利点、すなわち、色抜けや
色落ちが無く、コスト的に有利であるという利点を有す
るものである。 C. A color liquid crystal panel is obtained by combining a color filter obtained in this manner with a counter substrate having a black matrix (light shielding portion) facing the color filter and sealing a liquid crystal compound therebetween. It is formed. The color liquid crystal panel obtained in this manner has the advantage of the color filter of the present invention, that is, the advantage that there is no color omission or color fading and the cost is advantageous.
【0193】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明
の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同
一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いか
なるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。Note that the present invention is not limited to the above embodiment. The above embodiment is an exemplification, and has substantially the same configuration as the technical idea described in the scope of the claims of the present invention. It is included in the technical scope of the invention.
【0194】[0194]
【実施例】以下、本発明について、実施例を通じてさら
に詳述する。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
【0195】[実施例1] 1.光触媒含有層の形成 イソプロピルアルコール30gとフルオロアルキルシラ
ンが主成分であるMF−160E(トーケムプロダクツ
(株)製)0.4gとトリメトキシメチルシラン(東芝
シリコーン(株)製、TSL8113)3gと、光触媒
である酸化チタン水分散体であるST−K01(石原産
業(株)製)20gとを混合し、100℃で20分間撹
拌した。これをイソプロピルアルコールにより3倍に希
釈し光触媒含有層用組成物とした。[Example 1] 1. Formation of Photocatalyst-Containing Layer 30 g of isopropyl alcohol and 0.4 g of MF-160E (manufactured by Tochem Products Inc.) whose main components are fluoroalkylsilane and 3 g of trimethoxymethylsilane (TSL8113 manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) 20 g of ST-K01 (produced by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), which is an aqueous dispersion of titanium oxide as a photocatalyst, was mixed and stirred at 100 ° C. for 20 minutes. This was diluted three times with isopropyl alcohol to obtain a photocatalyst-containing layer composition.
【0196】上記組成物をソーダガラス製の透明基板上
にスピンコーターにより塗布し、150℃で10分間の
乾燥処理を行うことにより、透明な光触媒含有層(厚み
0.2μm)を形成した。The above composition was applied on a transparent substrate made of soda glass by a spin coater and dried at 150 ° C. for 10 minutes to form a transparent photocatalyst-containing layer (thickness 0.2 μm).
【0197】2.露光による親インク性領域の形成の確
認 この光触媒含有層にマスクを介して水銀灯(波長365
nm)により70mW/cm2の照度で50秒間パター
ン露光を行い、露光部を形成し、非露光部及び露光部と
液体との接触角を測定した。非露光部においては、表面
張力30mN/mの液体(純正化学株式会社製、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル)との接触角を接触角
測定器(協和界面科学(株)製CA−Z型)を用いて測
定(マイクロシリンジから液滴を滴下して30秒後)し
た結果、30度であった。また露光部では、表面張力5
0mN/mの液体(純正化学株式会社製、ぬれ指数標準
液No.50)との接触角を同様にして測定した結果、
7度であった。このように、露光部が親インク性領域と
なり、露光部と非露光部との濡れ性の相違によるパター
ン形成が可能なことが確認された。[0197] 2. Confirmation of formation of ink-philic region by exposure A mercury lamp (wavelength 365) was applied to this photocatalyst-containing layer through a mask.
pattern exposure at 70 mW / cm 2 for 50 seconds to form an exposed portion, and the contact angle between the non-exposed portion and the exposed portion and the liquid was measured. In the non-exposed area, a contact angle with a liquid having a surface tension of 30 mN / m (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd., ethylene glycol monoethyl ether) was measured using a contact angle measuring device (CA-Z type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). As a result of measurement (30 seconds after the droplet was dropped from the micro syringe), it was 30 °. In the exposed portion, a surface tension of 5
As a result of similarly measuring the contact angle with a liquid of 0 mN / m (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd., wetting index standard solution No. 50),
7 degrees. As described above, it was confirmed that the exposed portion became the ink-philic region, and that pattern formation was possible due to the difference in wettability between the exposed portion and the non-exposed portion.
【0198】3.第1画素部の形成 次に、上記と同様にして同様の透明基板上に光触媒含有
層を形成した。(図5(A)に相当)この光触媒含有層
を、図7(B−1)に示す開ロパターンを設けたフォト
マスクを介して水銀灯(波長365nm)により露光
(70mW/cm 2の照度で50秒間)して、第1画素
部用露光部を親インク性領域(表面張力50mN/mの
液体との接触角に換算して7度以下)とした(図5
(B)に相当)。[0198] 3. Next, a photocatalyst containing a photocatalyst is formed on the same transparent substrate as described above.
A layer was formed. (Corresponding to FIG. 5A) This photocatalyst containing layer
From the photo provided with the open pattern shown in FIG. 7 (B-1).
Exposure with a mercury lamp (wavelength 365 nm) through a mask
(70mW / cm TwoIlluminance for 50 seconds) and the first pixel
The exposed part for the part is placed in the ink-philic area (with a surface tension of 50 mN / m).
(Converted to a contact angle with liquid of 7 degrees or less) (FIG. 5)
(Equivalent to (B)).
【0199】この第1画素部用露光部にグラビア印刷機
を用いて富士フィルムオーリン製のUV硬化型インクで
ある赤インク(カラーモザイクCR-7001)を付着させ
た。その後、90℃、5分でプリベークした後、キセノ
ンランプを用いて10mW/cm2(365nm)の照度でで
3秒UV露光し、次いで200℃、10分熱処理を行っ
た。同様に、緑インク(カラーモザイクCG-7001)、青
インク(青:カラーモザイクCB-7001)を付着させて第
1画素部を形成した。A red ink (color mosaic CR-7001), which is a UV curable ink manufactured by Fuji Film Ohlin, was applied to the exposed portion for the first pixel portion using a gravure printing machine. Then, after pre-baking at 90 ° C. for 5 minutes, UV exposure was performed for 3 seconds at 10 mW / cm 2 (365 nm) using a xenon lamp, followed by heat treatment at 200 ° C. for 10 minutes. Similarly, a first pixel portion was formed by adhering green ink (color mosaic CG-7001) and blue ink (blue: color mosaic CB-7001).
【0200】4.第2画素部の形成 次いで、図7(B−2)に示す開ロパターンを設けたフ
ォトマスクを介して水銀灯(波長365nm)により露
光(70mW/cm2の照度で50秒間)して、第2画
素部用露光部を親インク性領域(表面張力50mN/m
の液体との接触角に換算して7度以下)とした(図5
(D)に相当)。そして、第1画素部の形成と同様にし
て、第1画素部の間に第2画素部を形成した(図5
(E)、図6(B))。[0200] 4. Formation of Second Pixel Part Next, exposure was performed with a mercury lamp (wavelength 365 nm) (at an illuminance of 70 mW / cm 2 for 50 seconds) through a photomask provided with an opening pattern shown in FIG. The exposed portion for the two pixel portion is set in the ink-philic region (surface tension 50 mN / m
(Converted to a contact angle of 7 degrees or less with the liquid) (FIG. 5).
(Equivalent to (D)). Then, similarly to the formation of the first pixel portion, a second pixel portion was formed between the first pixel portions (FIG. 5).
(E), FIG. 6 (B)).
【0201】5.保護層の形成 保護層として、2液混合型熱硬化剤(日本合成ゴム
(株)製SS7265)をスピンコーターにより塗布
し、200℃、30分間の硬化処理を施し保護層を形成
し、カラーフィルタを得た。得られたカラーフィルタ
は、遮光部が無いにもかかわらず画素部の色ぬけや色む
らのない高品質のものであった。5. Formation of Protective Layer As a protective layer, a two-component mixed type thermosetting agent (SS7265 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) is applied by a spin coater and cured at 200 ° C. for 30 minutes to form a protective layer. I got The obtained color filter was of high quality with no color loss or uneven color in the pixel portion despite no light-shielding portion.
【0202】[実施例2]実施例1と同様にして光触媒
含有層を形成した。次いで、この光触媒含有層上に撥イ
ンク性凸部を以下のようにして形成した。Example 2 A photocatalyst-containing layer was formed in the same manner as in Example 1. Next, an ink-repellent convex portion was formed on the photocatalyst-containing layer as follows.
【0203】まず、UV硬化樹脂(エステルアクリレー
ト樹脂:荒川化学工業社製、商品名:AQ−11)10
g、硬化開始剤(チバスペシャリティーケミカルズ社
製、商品名:イルガキュア184)0.5g、および蒸
留水1.25gを3分間撹拌混合し、撥インク性凸部用
樹脂組成物を得た。First, a UV-curable resin (ester acrylate resin: manufactured by Arakawa Chemical Industries, trade name: AQ-11) 10
g, 0.5 g of a curing initiator (trade name: Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and 1.25 g of distilled water were stirred and mixed for 3 minutes to obtain an ink-repellent resin composition for convex portions.
【0204】次に、形成された光触媒含有層上に図7
(C−1)に示す開口パターンを設けたフォトマスクを
介して実施例1と同様にして露光し、濡れ性を変化させ
て凸部用露光部を得た。そして、この凸部用露光部に上
記撥インク性凸部用樹脂組成物をディップコーターによ
り5cm/sec.の速度で塗布した後、UV露光し、
厚さ1.7μmの撥インク性凸部を形成した。Next, FIG. 7 is formed on the formed photocatalyst-containing layer.
Exposure was performed in the same manner as in Example 1 through a photomask provided with the opening pattern shown in (C-1), and the wettability was changed to obtain an exposed portion for a convex portion. Then, the above-described resin composition for ink-repellent convex portions was applied to the exposed portion for convex portions by a dip coater at 5 cm / sec. After applying at the speed of, UV exposure,
A 1.7 μm thick ink-repellent convex portion was formed.
【0205】このように撥インク性凸部が形成された光
触媒含有層上に、図7(C−2)に示す開口パターンを
設けたフォトマスクを用いる以外は実施例1と同様にし
て第1画素部を形成した。A first photomask was prepared in the same manner as in Example 1 except that a photomask having an opening pattern shown in FIG. 7C-2 was used on the photocatalyst-containing layer on which the ink-repellent convex portions were formed. A pixel portion was formed.
【0206】次いで、図7(A−2)に示すような第1
画素部の間を露光する開口パターンを有するフォトマス
クを用いる以外は実施例1と同様にして第2画素部を形
成し、さらに実施例1と同様にして保護層を形成した。Next, as shown in FIG.
A second pixel portion was formed in the same manner as in Example 1 except that a photomask having an opening pattern for exposing between pixel portions was used, and a protective layer was formed in the same manner as in Example 1.
【0207】このようにして得られたカラーフィルタ
は、撥インク性凸部を有するので、カラーフィルタの周
囲部分でインクが流れ出てしまい正確に画素部を形成す
ることができないといった不具合がなく、かつ実施例1
同様に画素部の色ぬけや色むらのない高品質のものであ
った。Since the color filter thus obtained has the ink-repellent convex portions, there is no problem that ink flows out around the color filter and a pixel portion cannot be formed accurately. Example 1
Similarly, it was of high quality without color loss or uneven color in the pixel portion.
【0208】[実施例3] 1.光触媒含有層の形成 イソプロピルアルコール3g、フルオロアルキルシラン
(トーケムプロダクツ(株)製;MF−160E(商品
名)、N−[3−(トリメトキシシリル)プロピル]−N
−エチルパーフルオロオクタンスルホンアミドのイソプ
ロピルエーテル50重量%溶液)0.014g、酸化チ
タンゾル(石原産業(株)製;STS−01(商品
名))2g、シリカゾル(日本合成ゴム(株)製;グラ
スカHPC7002(商品名))0.6g、およびアル
キルアルコキシシラン(日本合成ゴム(株)製;HPC
402II(商品名))0.2gを混合し、100℃で2
0分間撹拌した。この溶液を厚さ0.7mmの無アルカ
リガラス基板上にスピンコーティング法によりコート
し、厚さ0.15μmの光触媒含有層を得た。[Embodiment 3] 1. Formation of Photocatalyst-Containing Layer 3 g of isopropyl alcohol, fluoroalkylsilane (manufactured by Tochem Products Ltd .; MF-160E (trade name), N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] -N
0.014 g of ethyl perfluorooctanesulfonamide in isopropyl ether (50% by weight), 2 g of titanium oxide sol (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd .; STS-01 (trade name)), silica sol (manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd .; Glasca) 0.6 g of HPC7002 (trade name) and alkylalkoxysilane (manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd .; HPC)
402II (trade name)) at 100 ° C.
Stirred for 0 minutes. This solution was coated on a 0.7 mm-thick non-alkali glass substrate by spin coating to obtain a 0.15 μm-thick photocatalyst-containing layer.
【0209】2.露光による親インク性領域の形成およ
びフッ素量の低減の確認 この光触媒含有層表面に格子状のフォトマスクを介して
超高圧水銀ランプにより70mW/cm2(365n
m)の照度で2分間紫外線照射を行い、n−オクタン
(表面張力21mN/m)に対する接触角を接触角測定
器(協和界面科学製CA−Z型)により測定した結果、
未露光部は52度であったのに対し、露光部は0度であ
った。[0209] 2. Confirmation of formation of ink-philic region by exposure and reduction of fluorine amount 70 mW / cm 2 (365 n) on the surface of this photocatalyst-containing layer by means of an ultra-high pressure mercury lamp through a lattice-shaped photomask.
m) by irradiating with ultraviolet light for 2 minutes, and measuring the contact angle with respect to n-octane (surface tension 21 mN / m) using a contact angle measuring device (CA-Z type manufactured by Kyowa Interface Science).
The unexposed part was 52 degrees, while the exposed part was 0 degrees.
【0210】未露光部および露光部をX線光電子分光装
置(V.G.Sientific社ESCALAB220-I-XL)により元素分析
を行った。シャリーのバッククラウンド補正、スコフィ
ールドの相対感度係数補正により定量計算を行い得られ
た結果をチタン(Ti)を100とした場合の重量によ
る相対値で示すと、未露光部はチタン(Ti)100に
対しフッ素(F)1279であるのに対し、露光部では
チタン(Ti)100に対しフッ素(F)6であった。The unexposed and exposed portions were subjected to elemental analysis using an X-ray photoelectron spectrometer (ESCALAB220-I-XL, manufactured by VGSientific). Quantitative calculation by Shary's back-round correction and Scofield's relative sensitivity coefficient correction shows the results obtained as relative values by weight when titanium (Ti) is 100, where the unexposed portion is titanium (Ti). Fluorine (F) 1279 with respect to 100, whereas fluorine (F) 6 with respect to titanium (Ti) 100 in the exposed portion.
【0211】これらの結果から、光触媒含有層を露光す
ることにより、光触媒含有層表面のフッ素の割合が減少
し、これにより表面が撥インク性から親インク性に変化
していることがわかった。From these results, it was found that the exposure of the photocatalyst-containing layer reduced the proportion of fluorine on the surface of the photocatalyst-containing layer, thereby changing the surface from ink-repellent to ink-philic.
【0212】[0212]
【発明の効果】本発明は、画素部を印刷法で形成し、さ
らにこの画素部を形成するために光触媒含有層を形成し
たところに特徴を有するものである。したがって、光触
媒含有層の濡れ性の変化を利用することができるので、
印刷法を用いた場合でも画素部を精度良く形成すること
ができる。よって、印刷法を用いた場合でも、色抜けや
色むら等の問題点の無い高品質のカラーフィルタを提供
することができる。The present invention is characterized in that a pixel portion is formed by a printing method, and a photocatalyst containing layer is formed to form the pixel portion. Therefore, the change in wettability of the photocatalyst-containing layer can be used,
Even when the printing method is used, the pixel portion can be formed with high accuracy. Therefore, even when the printing method is used, it is possible to provide a high-quality color filter free from problems such as color omission and color unevenness.
【図1】本発明の第1実施態様のカラーフィルタの一例
を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view illustrating an example of a color filter according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1実施態様のカラーフィルタの他の
例を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view illustrating another example of the color filter of the first embodiment of the present invention.
【図3】本発明の第2実施態様のカラーフィルタの一例
を示す概略断面図である。FIG. 3 is a schematic sectional view illustrating an example of a color filter according to a second embodiment of the present invention.
【図4】本発明の第3実施態様のカラーフィルタの製造
法を説明するための工程図である。FIG. 4 is a process chart for explaining a method of manufacturing a color filter according to a third embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第3実施態様のカラーフィルタの製造
法の他の例を説明するための工程図である。FIG. 5 is a process chart for explaining another example of the method for manufacturing a color filter according to the third embodiment of the present invention.
【図6】図5に示す製造法において、第1画素部および
第2画素部を示す概略平面図である。6 is a schematic plan view showing a first pixel portion and a second pixel portion in the manufacturing method shown in FIG.
【図7】本発明のカラーフィルタの製造法に用いられる
フォトマスクの例を示す概略平面図である。FIG. 7 is a schematic plan view showing an example of a photomask used in the method for manufacturing a color filter of the present invention.
【図8】本発明の第3実施態様のカラーフィルタの製造
法の他の例を説明するための工程図である。FIG. 8 is a process chart for explaining another example of the method of manufacturing the color filter according to the third embodiment of the present invention.
【図9】本発明の第4実施態様のカラーフィルタの製造
法を説明するための工程図である。FIG. 9 is a process chart for explaining a method of manufacturing a color filter according to a fourth embodiment of the present invention.
1…カラーフィルタ 2…透明基板 3…光触媒含有層 4…画素部 5…撥インク性凸部 6…光触媒含有層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Color filter 2 ... Transparent substrate 3 ... Photocatalyst containing layer 4 ... Pixel part 5 ... Ink-repellent convex part 6 ... Photocatalyst containing layer
─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成12年8月3日(2000.8.3)[Submission date] August 3, 2000 (2008.3.3)
【手続補正1】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図4[Correction target item name] Fig. 4
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図4】 FIG. 4
【手続補正2】[Procedure amendment 2]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図5[Correction target item name] Fig. 5
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図5】 FIG. 5
【手続補正3】[Procedure amendment 3]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図8[Correction target item name] Fig. 8
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図8】 FIG. 8
【手続補正4】[Procedure amendment 4]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図9[Correction target item name] Fig. 9
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図9】 FIG. 9
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 学 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 曽根原 章夫 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 田中 豊彦 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 2H048 BA02 BA11 BA58 BA60 BA66 BB02 BB07 BB14 BB24 BB44 2H091 FA02Y FB04 FB13 FC13 FC23 FD04 GA03 GA16 LA15 4F100 AA17C AA18C AA21C AA23C AA25C AA28C AG00 AK52C AR00A AR00C BA03 BA10A BA10B CC00B CC02B DD01C EH462 EJ542 GB41 HB31B JB05B JB05C JL08C JN01A ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) The inventor, Manabu Yamamoto 1-1-1, Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. No. 1 Inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Inventor Toyohiko Tanaka 1-1-1, Ichigaya Kagamachi, Shinjuku-ku, Tokyo F-term inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. 2H048 BA02 BA11 BA58 BA60 BA66 BB02 BB07 BB14 BB24 BB44 2H091 FA02Y FB04 FB13 FC13 FC23 FD04 GA03 GA16 LA15 4F100 AA17C AA18C AA21C AA23C AA25C AA28C AG00 AK52C AR00A AR00C BA03 BA10A BA10B CC00B CC02B DD01C EH462 EJ542 GB41B05B05B41B05B41BJB
Claims (38)
版、孔版もしくは凹版を用いた印刷方式により複数色を
所定のパターンで設けた画素部と、前記画素部を形成す
るために設けられた、少なくとも光触媒とバインダとか
らなり、かつエネルギーの照射により液体との接触角が
低下するように濡れ性が変化する光触媒含有層とを有す
ることを特徴とするカラーフィルタ。1. A transparent substrate, a pixel portion provided with a plurality of colors in a predetermined pattern on the transparent substrate by a printing method using letterpress, planographic, stencil, or intaglio, and a pixel portion provided for forming the pixel portion. And a photocatalyst-containing layer comprising at least a photocatalyst and a binder, and having a photocatalyst-containing layer whose wettability changes so that the contact angle with a liquid is reduced by energy irradiation.
成されており、この光触媒含有層上に前記画素部が設け
られていることを特徴とする請求項1記載のカラーフィ
ルタ。2. The color filter according to claim 1, wherein the photocatalyst-containing layer is formed on the transparent substrate, and the pixel portion is provided on the photocatalyst-containing layer.
ことを特徴とする請求項2記載のカラーフィルタ。3. The color filter according to claim 2, wherein a distance between the pixel units is 2 μm or less.
層上に撥インク性凸部が形成されていることを特徴とす
る請求項2記載のカラーフィルタ。4. The color filter according to claim 2, wherein an ink-repellent convex portion is formed on the photocatalyst containing layer at a boundary portion of the pixel portion.
り、この画素部の境界部分に前記光触媒含有層が設けら
れていることを特徴とする請求項1記載のカラーフィル
タ。5. The color filter according to claim 1, wherein a pixel portion is formed on said transparent substrate, and said photocatalyst containing layer is provided at a boundary portion of said pixel portion.
0mN/mの液体との接触角として10度未満であるこ
とを特徴とする請求項5記載のカラーフィルタ。6. The wettability on the transparent substrate has a surface tension of 4.
The color filter according to claim 5, wherein a contact angle with a liquid of 0 mN / m is less than 10 degrees.
光触媒含有層に対しエネルギーを照射した際に、前記光
触媒の作用により前記光触媒含有層表面のフッ素含有量
がエネルギー照射前に比較して低下するように前記光触
媒含有層が形成されていることを特徴とする請求項1か
ら請求項6までのいずれかの請求項に記載のカラーフィ
ルタ。7. The photocatalyst-containing layer contains fluorine, and when the photocatalyst-containing layer is irradiated with energy, the action of the photocatalyst lowers the fluorine content on the surface of the photocatalyst-containing layer as compared to before the energy irradiation. The color filter according to any one of claims 1 to 6, wherein the photocatalyst-containing layer is formed so as to perform the above operation.
を行い、フッ素含有量を低下させた部位におけるフッ素
含有量が、エネルギー照射されていない部分のフッ素含
有量を100とした場合に10以下であることを特徴と
する請求項7記載のカラーフィルタ。8. Irradiating energy on the photocatalyst-containing layer, the fluorine content in a portion where the fluorine content is reduced is 10 or less when the fluorine content in a portion not irradiated with energy is 100. The color filter according to claim 7, wherein the color filter is provided.
O2)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)、チ
タン酸ストロンチウム(SrTiO3)、酸化タングス
テン(WO3)、酸化ビスマス(Bi2O3)、および酸
化鉄(Fe2O3)から選択される1種または2種以上の
物質であることを特徴とする請求項1から請求項8まで
のいずれかの請求項に記載のカラーフィルタ。9. The method according to claim 1, wherein the photocatalyst is titanium oxide (Ti).
O 2 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), tungsten oxide (WO 3 ), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), and iron oxide (Fe 2 O 3 ) The color filter according to any one of claims 1 to 8, wherein the color filter is one or more substances selected from the group consisting of:
であることを特徴とする請求項9記載のカラーフィル
タ。10. The photocatalyst is titanium oxide (TiO 2 ).
The color filter according to claim 9, wherein
ギー未照射部分のフッ素の含有量を、X線光電子分光法
で分析して定量化すると、Ti元素を100とした場合
に、フッ素元素が500以上となる比率でフッ素元素が
光触媒含有層表面に含まれている光触媒含有層を有する
ことを特徴とする請求項10記載のカラーフィルタ。11. Quantifying the content of fluorine in an unirradiated portion of the surface of the photocatalyst-containing layer by X-ray photoelectron spectroscopy, when the Ti element is 100, the fluorine element is 500 or more. The color filter according to claim 10, further comprising a photocatalyst-containing layer in which the elemental fluorine is contained on the surface of the photocatalyst-containing layer at a certain ratio.
有するオルガノポリシロキサンであることを特徴とする
請求項1から請求項11までのいずれかの請求項に記載
のカラーフィルタ。12. The color filter according to claim 1, wherein the binder is an organopolysiloxane having a fluoroalkyl group.
こで、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル
基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、X
はアルコキシル基またはハロゲンを示す。nは0〜3ま
での整数である。)で示される珪素化合物の1種または
2種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物で
あるオルガノポリシロキサンであることを特徴とする請
求項1から請求項11までのいずれかの請求項に記載の
カラーフィルタ。13. The method according to claim 12, wherein the binder is Y n SiX (4-n) (where Y represents an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group, an amino group, a phenyl group or an epoxy group;
Represents an alkoxyl group or a halogen. n is an integer from 0 to 3. 12. An organopolysiloxane which is one or more hydrolytic condensates or co-hydrolytic condensates of the silicon compound represented by the formula (1). The color filter according to 1.
る前記珪素化合物の内、フルオロアルキル基を含む珪素
化合物が、0.01モル%以上含まれていることを特徴
とする請求項13記載のカラーフィルタ。14. The color filter according to claim 13, wherein 0.01% by mole or more of a silicon compound containing a fluoroalkyl group is contained in the silicon compound constituting the organopolysiloxane.
40mN/mの液体との接触角が、エネルギーが照射さ
れていない部分において10度以上であり、エネルギー
が照射された部分において10度未満であることを特徴
とする請求項1から請求項14までのいずれかの請求項
に記載のカラーフィルタ。15. A contact angle with a liquid having a surface tension of 40 mN / m on the photocatalyst-containing layer is 10 degrees or more in a portion not irradiated with energy and less than 10 degrees in a portion irradiated with energy. The color filter according to any one of claims 1 to 14, wherein:
を用いた印刷方式により複数色を所定のパターンで設け
た画素部であることを特徴とする請求項1から請求項1
5までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタ。16. The pixel unit according to claim 1, wherein the pixel unit is a pixel unit in which a plurality of colors are provided in a predetermined pattern on the transparent substrate by a printing method using an intaglio.
The color filter according to claim 5.
された画素部が、0.1〜10ポイズの範囲内の粘度の
インクにより形成された画素部であることを特徴とする
請求項16に記載のカラーフィルタ。17. The method according to claim 16, wherein the pixel portion formed by the printing method using the intaglio is a pixel portion formed by ink having a viscosity in a range of 0.1 to 10 poise. The color filter described.
が、水性インクを用いた印刷方式により着色された画素
部であることを特徴とする請求項1から請求項17まで
のいずれかの請求項に記載のカラーフィルタ。18. The pixel portion colored by the printing method, wherein the pixel portion is colored by a printing method using an aqueous ink. The color filter according to 1.
が、油性インクを用いた印刷方式により着色された画素
部であることを特徴とする請求項1から請求項17まで
のいずれかの請求項に記載のカラーフィルタ。19. The pixel portion colored by the printing method according to claim 1, wherein the pixel portion is colored by a printing method using oil-based ink. The color filter according to 1.
が、UV硬化性インクを用いた印刷方式により着色され
た画素部であることを特徴とする請求項18または請求
項19に記載のカラーフィルタ。20. The color filter according to claim 18, wherein the pixel portion colored by the printing method is a pixel portion colored by a printing method using a UV curable ink. .
より照射部分の濡れ性が液体との接触角が低下する方向
に変化する光触媒含有層を設ける工程と、(2)前記透
明基板上に設けられた光触媒含有層上の画素部を形成す
る部位である画素部形成部に、エネルギーをパターン照
射して画素部用露光部を形成する工程と、(3)この画
素部用露光部に凸版、平版、孔版もしくは凹版を用いた
印刷方式で着色し、画素部を形成する工程とを含むこと
を特徴とするカラーフィルタの製造法。21. A step of (1) providing a photocatalyst-containing layer on the transparent substrate, the wettability of an irradiated portion being changed by energy irradiation in a direction in which a contact angle with a liquid decreases, and (2) providing a photocatalyst-containing layer on the transparent substrate. A step of irradiating energy to the pixel portion forming portion, which is a portion for forming the pixel portion on the photocatalyst containing layer, to form an exposure portion for the pixel portion; and (3) a relief printing process for the exposure portion for the pixel portion; Coloring by a printing method using a lithographic plate, a stencil plate or an intaglio plate to form a pixel portion.
こに凸版、平版、孔版もしくは凹版を用いた印刷方式で
着色して画素部を形成する工程が、(a)前記光触媒含
有層上の画素部を形成する部位である画素部形成部の一
部にエネルギーをパターン照射して第1画素部用露光部
を形成する工程と、(b)この第1画素部用露光部に凸
版、平版、孔版もしくは凹版を用いた印刷方式で着色
し、第1画素部を形成する工程と、(c)前記光触媒含
有層上の残りの画素部を形成する部位である画素部形成
部に露光して第2画素部用露光部を形成する工程と、
(d)この第2画素部用露光部に凸版、平版、孔版もし
くは凹版を用いた印刷方式で着色し、第2画素部を形成
する工程とを含むことを特徴とする請求項21に記載の
カラーフィルタの製造法。22. After forming the exposure portion for the pixel portion, the step of forming a pixel portion by coloring the portion by a printing method using a relief printing plate, a lithographic printing plate, a stencil printing plate or an intaglio printing plate includes the steps of: (B) forming a first pixel portion exposure portion by irradiating energy to a part of the pixel portion formation portion, which is a portion forming the pixel portion, to form a first pixel portion exposure portion; A step of forming a first pixel portion by coloring using a lithographic, stencil, or intaglio printing method, and (c) exposing a pixel portion forming portion, which is a portion of the photocatalyst-containing layer, to form a remaining pixel portion. Forming an exposure part for the second pixel part by using
22. (d) coloring the exposed portion for the second pixel portion by a printing method using a relief printing plate, planographic printing plate, stencil printing plate, or intaglio printing to form a second pixel portion. Manufacturing method of color filter.
撥インク性凸部を形成するための凸部用露光部を形成
し、この凸部用露光部に樹脂組成物を用いて撥インク性
凸部を形成することを特徴とする請求項21または請求
項22に記載のカラーフィルタの製造法。23. Before forming the exposure portion for the pixel portion,
22. An ink-repellent convex portion for forming an ink-repellent convex portion, wherein a convex portion is formed by using a resin composition in the convex portion exposed portion. Item 23. The method for producing a color filter according to item 22.
間に形成することを特徴とする請求項23記載のカラー
フィルタの製造法。24. The method for manufacturing a color filter according to claim 23, wherein said ink-repellent convex portions are formed between said pixel portions.
より照射部分の濡れ性が液体との接触角が低下する方向
に変化する光触媒含有層を、画素部が形成される部位で
ある画素部形成部の境界部分に設ける工程と、(2)前
記透明基板上の画素部形成部に、凸版、平版、孔版もし
くは凹版を用いた印刷方式により画素部を形成する工程
とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造法。(1) A photocatalyst-containing layer whose wettability of an irradiated portion changes in a direction in which a contact angle with a liquid is reduced by energy irradiation on a transparent substrate is formed in a pixel portion where a pixel portion is formed. And (2) forming a pixel portion in the pixel portion forming portion on the transparent substrate by a printing method using letterpress, planographic, stencil, or intaglio. Manufacturing method of color filter.
40mN/mの液体との接触角として10度未満である
ことを特徴とする請求項25記載のカラーフィルタの製
造法。26. The method for producing a color filter according to claim 25, wherein the wettability on the transparent substrate is less than 10 degrees as a contact angle with a liquid having a surface tension of 40 mN / m.
ーが、紫外光を含む光であることを特徴とする請求項2
1から請求項26までのいずれかの請求項に記載のカラ
ーフィルタの製造法。27. The method according to claim 2, wherein the energy applied to the photocatalyst-containing layer is light including ultraviolet light.
The method for producing a color filter according to any one of claims 1 to 26.
ーが、光触媒反応開始エネルギーおよび反応速度増加エ
ネルギーであり、前記光触媒反応開始エネルギーを照射
した部分に前記反応速度増加エネルギーを照射すること
により、露光部分を形成することを特徴とする請求項2
1から請求項26までのいずれかの請求項に記載のカラ
ーフィルタの製造法。28. An energy applied to the photocatalyst-containing layer is a photocatalytic reaction start energy and a reaction speed increasing energy, and the portion irradiated with the photocatalytic reaction start energy is irradiated with the reaction speed increasing energy to thereby form an exposed portion. 3. The method of claim 2, wherein
The method for producing a color filter according to any one of claims 1 to 26.
光を含む光であり、前記反応速度増加エネルギーが熱エ
ネルギーであることを特徴とする請求項28記載のカラ
ーフィルタの製造法。29. The method according to claim 28, wherein the photocatalytic reaction initiation energy is light including ultraviolet light, and the reaction speed increasing energy is heat energy.
り加えられることを特徴とする請求項29記載のカラー
フィルタの製造法。30. The method according to claim 29, wherein the thermal energy is applied by an infrared laser.
40mN/mの液体との接触角が、エネルギーが照射さ
れていない部分において10度以上であり、エネルギー
が照射された部分において10度未満であることを特徴
とする請求項21から請求項30までのいずれかの請求
項に記載のカラーフィルタの製造法。31. A contact angle with a liquid having a surface tension of 40 mN / m on the photocatalyst-containing layer is 10 degrees or more in a portion not irradiated with energy and less than 10 degrees in a portion irradiated with energy. The method for manufacturing a color filter according to any one of claims 21 to 30, characterized in that:
される画素部の幅より印刷方式により付着するインクの
幅の方が狭くなるように、凸版、平版、孔版または凹版
のパターンが形成されていることを特徴とする請求項2
1から請求項31までのいずれかの請求項に記載のカラ
ーフィルタの製造法。32. A pattern of relief printing, planographic printing, stencil printing or intaglio printing is formed such that the width of the ink adhered by the printing method is smaller than the width of the pixel portion to be formed at the time of coloring by the printing method. 3. The method according to claim 2, wherein
The method for producing a color filter according to any one of claims 1 to 31.
色が、凹版を用いた印刷方式での着色であることを特徴
とする請求項21から請求項32までのいずれかの請求
項に記載のカラーフィルタの製造法。33. The method according to claim 21, wherein the coloring of the pixel portion forming portion by a printing method is coloring by a printing method using an intaglio. A method for producing the color filter as described above.
ンクの粘度が、0.1〜10ポイズの範囲内であること
を特徴とする請求項33に記載のカラーフィルタの製造
法。34. The method for producing a color filter according to claim 33, wherein the viscosity of the ink used for coloring in the printing method is in the range of 0.1 to 10 poise.
孔版もしくは凹版を用いた印刷方式での着色が、水性イ
ンクを用いた印刷方式による着色であることを特徴とす
る請求項21から請求項34までのいずれかの請求項に
記載のカラーフィルタの製造法。35. A relief printing plate, a lithographic printing plate,
35. The color filter according to any one of claims 21 to 34, wherein the coloring in a printing method using a stencil or an intaglio is a coloring in a printing method using an aqueous ink. Law.
孔版もしくは凹版を用いた印刷方式での着色が、油性イ
ンクを用いた印刷方式による着色であることを特徴とす
る請求項21から請求項34までのいずれかの請求項に
記載のカラーフィルタの製造法。36. A relief printing plate, a lithographic printing plate,
35. The color filter according to any one of claims 21 to 34, wherein the coloring in a printing method using a stencil or an intaglio is coloring by a printing method using an oil-based ink. Law.
孔版もしくは凹版を用いた印刷方式での着色が、UV硬
化性インクを用いた印刷方式による着色であることを特
徴とする請求項35または請求項36に記載のカラーフ
ィルタの製造法。37. A relief printing plate, a lithographic printing plate,
37. The method for producing a color filter according to claim 35, wherein the coloring in a printing method using a stencil or an intaglio is coloring by a printing method using a UV curable ink.
かの請求項に記載のカラーフィルタと、これに対向し、
かつ遮光部が設けられた基板とを有し、両基板間に液晶
化合物を封入してなることを特徴とする液晶パネル。38. A color filter according to any one of claims 1 to 20, wherein the color filter faces the color filter,
And a substrate provided with a light-shielding portion, wherein a liquid crystal compound is sealed between the two substrates.
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