JP2001508167A - デュアルゲートtft電磁放射線画像形成装置を動作させる方法及び装置 - Google Patents
デュアルゲートtft電磁放射線画像形成装置を動作させる方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
デュアルゲートTFT電磁放射線画像形成装置を動作させる方法と装置であり、各ピクセル上の電気的状態が、放射線への暴露後および測定中に比較される。ピクセル電荷電極は、ピクセルがその線形動作範囲を超えて動作できるよう、放射線暴露に先立って所定電圧レベルにプリセットされる。
Description
【発明の詳細な説明】
デュアルゲートTFT電磁放射線画像形成装置を動作させる方法
及び装置
発明の分野
本発明は、一般的には電磁放射線画像形成装置(electromagnetic radiation i
maging device)に関し、より詳細には、各ピクセルセンサーの線形範囲を超え
てX線画像形成装置を動作させるための方法と装置に関する。
発明の背景
放射線検知のために薄膜トランジスタの二次元アレイを使用することは、当該
技術においては公知である。L.E.Antonuk,J.Boudry,W.Huang,D.L.McSha
n,E.J.Morton,J.Yorkston,M.J.LongoおよびR.A.Streetが、Amorphas
Silicon Detector Array(MASDA),MEDPHYS 19,1455(1992)で述べているよう
に、ミシガン大学ではひとつの先行技術であるX線画像形成装置が当時開発され
ていた。先行技術であるこの検出器では、シンチレーション物質(例えば、蛍光
画面またはCsl)が、X線を直に光に変換する。次いで、この光は、a−Si:Hフ
ォトダイオードのアレイ上に衝突し、光強度に比例する電荷を生ずる。発生させ
られたこの電荷は、コンデンサ上に蓄えられて、各ラインがアドレスされると、
薄膜トランジスタ(TFT)を介して読み出される。
トロント大学では研究者により、別の先行技術である検出器が開発されており
、そこではX線が直に電荷に変換される。このシステムは、W.ZhaoとJ.S.Row
landsが、Selenium Active Matrix Universal Read-out Array Imager(SAMRAI)
,Medical Imaging VII:Physics of Medi
cal Imaging SPIE(1933)で述べている。先行技術であるこれら両方のMASDAとS
AMURAIのデバイスは、アレイのアドレスされた各列のために、線X強度に比例す
る電荷(または総合電流)を測定することが必要である。
放射線により発生される電荷を直に測定する代わりに、電界効果トランジスタ
のゲート上に電荷が堆積できるようにして、チャネルを通る電流を変調すること
が、当該技術では公知である。この取り組みは、電界効果トランジスタ固有の増
幅機能を利用しており、また、必然的に電荷を破壊することなく信号が測定され
ることを可能にする。放射線検知に対するこの先行技術の取り組みは、米国特許
第5,182,624号および第5,235,195号(Tran他)で開示されている。
この取り組みのビデオカメラ用途への変更態様も提案されている。(Z-S.Hua
ngおよびT.Ando著、IEEE Transactions on Electronic Devices,ED-37,1432
頁(1990年)と、F.Andoh,K.Taketoshi,J.Yamasaki,M.Sugawara,Y.Fuj
ita,K.Mitani,Y.Matuzawa,K.MiyataおよびS.Araki著、Proceedings of I
EEE International Solid State Circuits Conference,212頁(1990年)とを参
照のこと。)この変更態様において、各ピクセル配置には3つのトランジスタ回
路が使用されている。これらトランジスタのうちのひとつは、列選択のために使
用され、もうひとつは、放射線誘起電荷に比例する電流を変調するために使用さ
れ、第3のトランジスタは、次の列がアドレスされるとき、放射線誘起電荷をク
リアするために使用される。
このような先行技術のシステムのひとつの欠点は、ピクセルアレイがセンサー
の非線形性に煩わされ、よって、ピクセル相互間の整合と、寄生的キャパシタン
スの低減とを確保すべく、その製造プロセスで極めて
精確なフォトリソグラフィが必要とされる点である。更に、そのような先行技術
のデバイスは、各ピクセルの線形範囲での動作に制限され、よって、検出可能な
放射線誘起電荷の範囲を制限することになる。
発明の要約
本発明に従い、デュアルゲート薄膜トランジスタを使用して電磁放射線画像形
成装置を駆動するために、新しい方法と装置が提供される。先行技術を克服する
本発明によりもたらされる主要な利点は、ピクセルレベルでセンサーの非線形性
をなくすことである。この利点は、好ましくはバイアス電圧範囲にほぼ等しい前
記ピクセルの動作の範囲を選択することにより、かつ測定中にピクセルを複製し
て、放射線への暴露に由来するピクセルの電気的状態と比較することにより達成
される。ピクセル電荷電極は、ピクセルがその線形動作範囲を超えて動作させら
れることができるように、放射線暴露に先立ち所定の電圧レベルにプリセットさ
れる。本発明に従う画像形成装置は、センサーが線形範囲での動作に制限されな
いので、より広い検出範囲にわたって動作することが可能である。更に、本発明
に従う画像形成装置の実施は、ピクセル相互間の整合を必要としないので、先行
技術のシステムよりも、いっそう緩い製造設計標準によって簡易化される。
本発明に従う電磁放射線画像形成装置を駆動するための方法と装置は、内容が
引用されて本明細書中に組み込まれた、本出願人の国際特許出願番号PCT/CA94/0
0077,1994年2月11日出願、で述べられ、かつ請求されたデュアルゲート
薄膜トランジスタを用いて、電磁放射線画像形成装置において有利に利用できる
。
図面の簡単な説明
好ましい実施例の詳細な説明は、ここで単独の図面を参照して以下に記載する
。ここで、
1Aと1Bの両部分を含む図1は、好ましい実施例に従うデュアルゲートTF
T電磁放射線画像形成装置用の、寄生的なものの影響を受けない、広いダイナミ
ックレンジのドライバの概略ブロック図である。
好ましい実施例の詳細な説明
図1は、本発明に従う4×3ピクセルのイメージ・アレイを示す。各ピクセル
は、独立トップコンタクトTOに接続されるひとつの電極と、デュアルゲートT
FT T1の一方のゲートに接続され、更なるTFT T2のドレインに接続さ
れる対向電極と、を有する放射線−電荷変換器Xを備える。変換器Xは、電磁放
射線を電子ホール対に直に変換するためのアモルファスセレニウム、または任意
の他の適切な材料から製作することができる。各変換器X用のトップ電極TOは
、全ての変換器用の共通端子へ接続することができ、また用途に応じて個別に接
続することができる。
各ピクセルは、ふたつの入力ソースラインに接続される。第1のソースライン
SOは、DC電源1から、各TFT T1のソースに印加するためのDC電圧を
受け取る。DC電圧レベルは、電源1に与えられる制御信号VC1により設定さ
れる。他の入力ソースラインLNは、デジタル−アナログ(D/A)コンバータ
3から、各TFT T2のソースに印加するための制御された可変電圧を受け取
る。D/Aコンバータ3からのDC電圧出力は、デジタル入力値VC2により設
定される。
単一の信号出力検出ラインSEは、ピクセルの各コラムのために設け
られる。各TFT T1のドレインは、関連する出力検出ラインSEに接続され
、この出力検出ラインは、更に、関連する比較器COに接続される。
このようにして、図1から分かるように、ふたつの入力ソースライン(SOと
LN)は、平行する2列のピクセル間で共有されるが、検出ライン(SE)は独
立している。
TFT T1とT2の、別々の電圧源(すなわち、DC電源1およびD/Aコ
ンバータ3)への同時接続と同じく、TFT T1とT2の独立したスイッチン
グのために、各ピクセルは、2本のゲートライン(G1とG2)により制御され
る。
各検出ラインSEは、対である同一のコンデンサC1とC2の一方に、スイッ
チS1とS2の位置に依存して接続される。コンデンサC1とC2も、接地接続
されるとともに、スイッチS1とS2を介して関連する比較器COのそれぞれの
入力部に接続される。このように、スイッチS1とS2は、コンデンサC1とC
2を選択的に接地するように動作して、検出ラインSEを、コンデンサC1とC
2の一方に接続するとともに、コンデンサC1とC2を、比較器COのそれぞれ
の入力部に接続する。
動作においては、TFT T1のトップゲート電極が、先ず所定電圧V1に設
定され、ここでV1は、零ボルトまたは任意の他の所定値であり得る。このトッ
プ電極電圧をプリセットするために、D/Aコンバータ3が所要電圧V1を発生
し、TFT T2をイネーブル化するためにゲートラインG2にイネーブル電圧
が印加され、各電荷変換器XのトップコンタクトTOが接地される。
この動作に従い、TFT T1を動作させるために所定のセンサーー範囲が選
択される。このことは、上で検討したように、拡張された動作
範囲は、TFTバイアス電圧範囲よりも一般的にははるかに小さい(普通は1/
2以下)、ピクセルの通常動作線形範囲の外側にある。本発明の駆動構成により
提供されるこの拡張動作範囲は、バイアス電圧範囲とほぼ一致することが好まし
い。
次いで、TFTアレイが放射線(例えば、X線)に暴露されることにより、電
荷変換器X内に電子ホール対が発生する。放射線暴露中、トップコンタクトTO
は、常時は、高電圧源に接続されているが、トップゲートTFT T1に非零電
圧V1が印加されていた場合、交番する適切な電圧源に接続できる。
最後に、T1 TFTのトップ電極により獲得された電荷が、列毎のベースで
、以下のように測定される。
先ず、C1とC2のコンデンサが放電され、それぞれのスイッチS1とS2と
を介して接地する。次に、DC電源1は、所定の電圧V2を発生する。この電圧
V2は、使用されるTFT技術に依存する。選択された列のゲートラインG1は
、イネーブル化され、C1コンデンサは、T1 TFTのトップ電極上の電荷(
すなわち、ピクセル上の電荷に比例する電荷)がそれぞれのコンデンサC1上に
蓄えられるように、所定時間、対応する検出ラインSEに切り替えられる。次に
、選択された列のための第2のゲートラインG2がイネーブル化される。
最後に、D/Aコンバータ3からの出力電圧が、最低レベルから逐次増分され
、D/Aコンバータ3からの逐次的な各出力電圧に関して、各ソースラインのた
めに一連の動作が以下の通りなされる:
A)コンデンサC1を参照して上で検討した所定時間と同様の所定時間、検出
ラインSEにコンデンサC2を接続する。
B)関連する比較器COを介して、それぞれのコンデンサC1とC2
上の電荷を比較する。
C)コンデンサC2上の電圧が、それぞれのコンデンサC1での電圧よりも大
きい場合、その特定コラムのためのステップGに進む。
D)コンデンサC2を放電させる。(プロセス制御がステップGに分岐する場
合を除く)
E)D/Aコンバータ3の出力を増分する。(すなわち、そこへのデジタル入
力を増分することにより)
F)ステップAへ進む。
G)特定のピクセル上に存在する電荷量を示す、D/Aコンバータ3へのデジ
タル入力値を読む。
H)すべてのピクセル列上の電荷が検出されるまで、ステップAからHを継続
する。
要約すると、本発明の方法と装置は、電荷リーク、寄生的キャパシタンス、お
よびピクセルレベルでのセンサーの非線形性、の影響を有効になくし、その結果
、デュアルゲートTFTアレイを利用する放射線画像形成装置の容易な製造とと
もに、より広いピクセル検出範囲がもたらされる。
本発明を理解する者は、本明細書に付帯する請求の範囲により提供される範囲
から逸脱することなく、他の実施例あるいは変形例を考えつくことができる。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項
【提出日】平成9年6月20日(1997.6.20)
【補正内容】
【図1A】【手続補正書】特許法第184条の8第1項
【提出日】平成9年9月8日(1997.9.8)
【補正内容】
請求の範囲
1 a)第1と第2の制御ライン;
b)第1と第2の入力ソースライン;
c)出力検出ライン;
d)電荷を放射線に変換するための変換器であって、第1と第2のコンタクトを
有し、前記第1のコンタクトは、バイアス電圧のソースに接続される変換器;
e)前記第1の制御ラインに接続される第1の制御入力部と、前記変換器の前記
第2のコンタクトに接続される第2の制御入力部と、前記第1の入力ソースライ
ンに接続される第1の信号端子と、前記出力検出ラインに接続される第2の信号
端子とを有する第1のトランジスタデバイス;
f)前記第2の制御ラインに接続される制御入力部と、前記第2の入力ソースラ
インに接続される第1の信号端子と、前記第1のトランジスタの第2の制御入力
部に接続される第2の信号端子とを有する第2のトランジスタ;
g)前記第1の入力ソースラインに接続される、定電圧のソース;
h)前記第2の入力ソースラインに接続される、制御された可変電圧のソース;
i)接地と前記出力検出ラインとの間で切り替え可能な第1のコンデンサ;
j)接地と前記出力検出ラインとの間で切り替え可能な第2のコンデンサ;
k)前記第1と第2のコンデンサにそれぞれ接続される第1と第2の入
力部と、出力部とを有する比較器;
を備える電磁放射線イメージセンサー。
2 前記第1と第2のトランジスタが薄膜トランジスタである請求の範囲3のセ
ンサー。
3 前記定電圧のソースがDC電源回路である請求の範囲3のセンサー。
4 制御される可変電圧の前記ソースが、デジタル−アナログコンバータである
請求の範囲3のセンサー。
5 請求の範囲1の電磁放射線イメージセンサーを動作させネ方法であって:
i) 制御された可変電圧の前記ソースを介して、第1の所定電圧を発生するス
テツプ;
ii)前記第2の制御入力部を前記所定電圧にプリセットするステップ;
iii)前記変換器を放射線に暴露するステップ;
iv)前記第1と第2のコンデンサを放電するステップ;
v)前記第1のトランジスタをイネーブル化して、前記第1のコンデンサを前記
出力検出ラインに接続し、これにより、前記放射線を表す、前記第1のコンデン
サ上の電圧を蓄えるステップ;
vi)制御される可変電圧の前記ソースを介して逐次の更なる所定電圧を発生させ
るステップであって、前記逐次の更なる電圧のそれぞれは、前記逐次中の先行す
る電圧よりも大きいものであるステップ;
vii)前記第2のコンデンサ上に前記逐次の更なる電圧を逐次蓄えるステップ;
viii)前記更なるそれぞれの電圧のために、前記第2のコンデンサ上の電圧が前
記第1のコンデンサ上の電圧より大きいことを前記出力が示すまで、前記比較器
の前記出力を監視するとともに前記第2のコンデンサを放電し、これにより、制
御される可変電圧の前記ソースにより発生させられる電圧が前記変換器上の電荷
に対応することを表示するステップ;
からなる方法。
6 前記第2の制御入力を前記所定電圧にプリセットする前記ステップは、前記
第1のトランジスタをイネーブル化するために前記第2の制御ラインにイネーブ
ル電圧を印加し、それによって前記第2の入力ソースラインからの前記所定電圧
を、前記第2の制御入力部へ印加するステップと、前記変換器の前記第1の接点
を接地するステップとを更に有する請求の範囲5の方法。
7 前記第1のトランジスタをイネーブル化する前記ステップは、前記第1と第
2のコンデンサを放電するステップと、前記第1の制御ラインへイネーブル信号
を印加するステップとを有する請求の範囲5の方法。
8 前記逐次の更なる所定電圧を発生させる前記ステップと、前記逐次の更なる
所定電圧を前記第2のコンデンサ上に蓄えるステップと、前記比較器の前記出力
を監視するステップは、
A)前記第2のコンデンサを、前記出力検出ラインに接続するステップ;
B)前記第1と第2のコンデンサのそれぞれの上の電圧を比較するステツプ;
C)前記第1のコンデンサ上の電圧が、前記第2のコンデンサ上の電圧以上であ
る場合、前記第2のコンデンサを放電し、前記更なる所定電圧を増分して、ステ
ップAへ戻るステップ;
D)前記第2のコンデンサ上の電圧が、前記第1のコンデンサ上の電圧より大き
い場合、前記更なる所定電圧を、前記変換器上の電荷と等価であるとして識別す
るステップ;
を更に有する請求の範囲5の方法。
9 請求の範囲3の電磁放射線イメージセンサを動作させる方法であって:
i)制御される可変電圧の前記ソースを介して、第1の所定電圧を発生させるス
テップ;
ii)前記第2の制御ラインへイネーブル電圧を印加するステップ;
iii)前記変換器の前記第1のコンタクトを接地するステップ;
iv)前記変換器を、放射線に暴露するステップ;
v)前記第1と第2のコンデンサを放電するステップ;
vi)前記第1の制御ラインにイネーブル信号を印加するステップ;
vii)前記第1のコンデンサを、前記出力検出ラインに接続し、これにより、前
記放射線に比例する電荷を、前記第1のコンデンサ上へ蓄えるステップ;
viii)前記第2の制御ラインにイネーブル電圧を印加するステップ;
ix)制御された可変電圧の前記ソースを最低電圧に再設定するステップ;
x)逐次に、
A)前記第2のコンデンサを前記出力検出ラインに接続するステツプ;
B)前記第1と第2のコンデンサのそれぞれの上の電圧を比較するステッ
プ;
C)前記第1のコンデンサ上の電圧が、前記第2のコンデンサ上の電圧以
上である場合、前記第2のコンデンサを放電して、前記更なる所定電圧を増分し
、ステップA)へ戻るステップ:
D)前記第2のコンデンサ上の電圧が、前記第1のコンデンサ上の電圧よ
り大きい場合、前記更なる所定電圧が、前記変換器上の電荷と等価であるとして
識別するステップ;
からなる方法。
─────────────────────────────────────────────────────
【要約の続き】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 a)電磁放射線に暴露されていることに応答して、電荷を発生するための変 換器であって、前記電荷は前記放射線に比例する変換器; b)通常の線形動作範囲により特徴付けられるデュアルゲートスイッチングトラ ンジスタであって、前記電荷を信号電圧として蓄えるために前記電荷変換器に接 続される第1のゲートと、前記トランジスタがゲート電圧の印加に応答して前記 電荷を表す電流を導通することをイネーブル化するための第2のゲートとを含み 、前記トランジスタは、ゲート電圧のバイアス電圧範囲内で動作可能であり、前 記バイアス電圧範囲は、前記通常の線形動作範囲より大きいトランジスタ;及び c)前記通常の線形動作範囲の外側の前記バイアス電圧範囲内で前記トランジス タを動作させるために、前記変換器の前記電磁放射線への暴露に先立って、前記 第1のゲートを所定電圧にプリセットするための回路;を具備するイメージセン サー。 2 更に、d)それぞれの逐次デジタル入力信号を受け取ることに応答して、逐 次のDC電圧を発生させて、前記第1のゲートに印加し、これにより、前記トラ ンジスタが、前記DC電圧を表す逐次の更なる電流を導通させるデジタル−アナ ログコンバータ; e)前記電流を受け取り、交差する第1の比較電圧を創出するための第1のコン デンサ; f)前記逐次の更なる電流を受け取り、交差する逐次の更なる比較電圧を創出す るための第2のコンデンサ;及び、 g)前記第1の比較電圧を受け取って前記逐次の更なる比較電圧と比較 し、前記両比較電圧が等価の場合、出力信号を発生させ、よって、前記出力信号 が発生される時に発生されているデジタル信号が前記電荷を表す、比較回路;を 有する請求の範囲1のイメージセンサー。 3 a)第1と第2の制御ライン; b)第1と第2の入力ソースライン; c)出力検出ライン; d)電荷を放射線に変換するための変換器であって、第1と第2のコンタクトを 有し、前記第1のコンタクトは、バイアス電圧のソースに接続される変換器; e)前記第1の制御ラインに接続される第1の制御入力部と、前記変換器の前記 第2のコンタクトに接続される第2の制御入力部と、前記第1の入力ソースライ ンに接続される第1の信号端子と、前記出力検出ラインに接続される第2の信号 端子とを有する第1のスイッチングデバイス; f)前記第2の制御ラインに接続される制御入力部と、前記第2の入力ソースラ インに接続される第1の信号端子と、前記第1のスイッチングデバイスの第2の 制御入力部に接続される第2の信号端子とを有する第2のスイッチングデバイス ; g)前記第1の入力ソースラインに接続される定電圧のソース; h)前記第2の入力ソースラインに接続される、制御された可変電圧のソース; i)接地と前記出力検出ラインとの間で切り替え可能な第1のコンデンサ; j)接地と前記出力検出ラインとの間で切り替え可能な第2のコンデン サ; k)前記第1と第2のコンデンサにそれぞれ接続される第1と第2の入力部と、 出力部とを有する比較器; を備える電磁放射線イメージセンサー。 4 前記第1と第2のスイッチングデバイスが薄膜トランジスタである請求の範 囲3のセンサー。 5 前記定電圧のソースがDC電源回路である請求の範囲3のセンサー。 6 制御された可変電圧の前記ソースが、デジタル−アナログコンバータである 請求の範囲3のセンサー。 7 請求の範囲3の電磁放射線イメージセンサーを動作させる方法であって: i) 制御された可変電圧の前記ソースを介して、第1の所定電圧を発生するス テップ; ii)前記第2の制御入力部を前記所定電圧にプリセットするステップ; iii)前記変換器を放射線に暴露するステップ; iv)前記第1のスイッチングデバイスをイネーブル化して、前記第1のコンデン サを前記出力検出ラインに接続し、よって、前記放射線を表す、前記第1のコン デンサ上の電圧を蓄えるステップ; v)制御される可変電圧の前記ソースを介して逐次の更なる所定電圧を発生させ るステップであって、前記逐次の更なる電圧のそれぞれは、前 記逐次中の先行する電圧よりも大きく; vi)前記第2のコンデンサ上に前記逐次の更なる電圧を逐次蓄えるステップ; vii)前記更なるそれぞれの電圧のために、前記第2のコンデンサ上の電圧が前 記第1のコンデンサ上の電圧より大きいことを前記出力が示すまで、前記比較器 の前記出力を監視し、これにより、制御される可変電圧の前記ソースにより発生 させられる電圧が前記変換器上の電荷に対応することを表示するステップ; からなる方法。 8 前記第2の制御入力を前記所定電圧にプリセットする前記ステップは、前記 第1のスイッチングデバイスをイネーブル化するために前記第2の制御ラインに イネーブル電圧を印加し、それによって前記第2の入力ソースラインからの前記 所定電圧を、前記第2の制御入力部へ印加するステップと、前記変換器の前記第 1のコンタクトを接地するステップとを更に有する請求の範囲7の方法。 9 前記第1のスイッチングデバイスをイネーブル化する前記ステップは、前記 第1と第2のコンデンサを放電するステップと、前記第1の制御ラインへイネー ブル信号を印加するステップとを有する請求の範囲7の方法。 10 前記逐次の更なる所定電圧を発生させる前記ステップと、前記逐次の更な る所定電圧を前記第2のコンデンサ上に蓄えるステップと、前記比較器の前記出 力を監視するステップは、 A)前記第2のコンデンサを、前記出力検出ラインに接続するステップ; B)前記第1と第2のコンデンサのそれぞれの上の電圧を比較するステツプ; C)前記第1のコンデンサ上の電圧が、前記第2のコンデンサ上の電圧以上であ る場合、前記第2のコンデンサを放電し、前記更なる所定電圧を増分して、ステ ップAへ戻るステップ; D)前記第2のコンデンサ上の電圧が、前記第1のコンデンサ上の電圧より大き い場合、前記更なる所定電圧を、前記変換器上の電荷と等価であるとして識別す るステップ;を更に有する請求の範囲7の方法。 11 請求の範囲3の電磁放射線イメージセンサーを動作させる方法であって: i)制御された可変電圧の前記ソースを介して、第1の所定電圧を発生するステ ップ; ii)前記第2の制御ラインへイネーブル電圧を印加するステップ; iii)前記変換器の前記第1のコンタクトを接地するステップ; iv)前記変換器を放射線に暴露するステップ; v)前記第1と第2のコンデンサを放電するステップ; vi)前記第1の制御ラインにイネーブル信号を印加するステップ; vii)前記第1のコンデンサを、前記出力検出ラインに接続し、よって、前記放 射線に比例する電荷を、前記第1のコンデンサ上に蓄えるステップ; viii)前記第2の制御ラインにイネーブル電圧を印加するステップ; ix)制御される可変電圧の前記ソースを最低電圧に再設定するステップ; x)逐次に、 A)前記第2のコンデンサを前記出力検出ラインに接続するステツプ; B)前記第1と第2のコンデンサのそれぞれの上の電圧を比較するステッ プ; C)前記第1のコンデンサ上の電圧が、前記第2のコンデンサ上の電圧以 上である場合、前記第2のコンデンサを放電して、前記更なる所定電圧を増分し 、ステップA)へ戻るステップ; D)前記第2のコンデンサ上の電圧が、前記第1のコンデンサ上の電圧よ り大きい場合、前記更なる所定電圧が、前記変換器上の電荷と等価であるとして 識別するステップ; からなる方法。 12 a)電磁放射線に暴露されていることに応答して、電荷を発生するための 変換器であって、前記電荷は前記放射線に比例する変換器; b)前記電荷を信号電圧として蓄えるために前記電荷変換器に接続される第1の ゲートと、前記トランジスタをイネーブル化し、ゲート電圧の印加に応答して前 記電荷を表す第1の電流を導通させるための第2のゲートとを含むデュアルゲー トスイッチングトランジスタ; c) i)前記第1の電流を第1の比較電圧に変換し、 ii)逐次の測定電圧を発生させて、前記第1のゲートに印加し、 iii)前記逐次の測定電圧を表す逐次の電流を導通させるために、前記第2 のゲートを介して前記トランジスタを逐次イネーブル化し、 IV)前記逐次の電流を、逐次の更なる比較電圧にコンバートし、 V)前記第1の比較電圧を前記逐次の更なる比較電圧と比較し、 前記第1の比較電圧と、前記更なる比較電圧のうちのひとつとが対応すると、前 記更なる比較電圧の前記ひとつに対応する測定電圧を、前記電荷を表すとして選 択し、これにより、前記測定が、前記電荷の前記発生と蓄えと同一の電気的状態 の下でなされる; ことによって前記電荷を測定するための回路; を備えるイメージセンサー。 13 前記信号電圧を測定するための前記回路は:更に、 d)それぞれの逐次デジタル入力信号の受取に応答して、前記更なる測定電圧を 発生させて、前記第1のゲートに印加するためのデジタル−アナログコンバータ ; e)前記第1の比較信号を受け取り、前記逐次の更なる比較電圧と比較し、両電 圧の間が等価である場合に出力信号を発生し、よって、前記出力信号が発生され る時に発生されるデジタル信号が前記電荷の数字表示を形成する比較回路; を備える請求の範囲12のイメージセンサー。
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